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JP2000284399A - Heat developable photosensitive material - Google Patents

Heat developable photosensitive material

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Publication number
JP2000284399A
JP2000284399A JP11087297A JP8729799A JP2000284399A JP 2000284399 A JP2000284399 A JP 2000284399A JP 11087297 A JP11087297 A JP 11087297A JP 8729799 A JP8729799 A JP 8729799A JP 2000284399 A JP2000284399 A JP 2000284399A
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JP
Japan
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group
formula
salt
silver
heterocyclic
Prior art date
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Granted
Application number
JP11087297A
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Japanese (ja)
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JP3946901B2 (en
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Toshihide Ezoe
利秀 江副
Koji Kawato
孝ニ 河戸
Hiroyuki Suzuki
博幸 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP08729799A priority Critical patent/JP3946901B2/en
Publication of JP2000284399A publication Critical patent/JP2000284399A/en
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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure ultrahigh contrast, to suppress fog and to prevent the occurrence of black spots by incorporating a nucleating agent on the side of a substrate having photosensitive silver halide and specifying the content of formic acid or its salt to be a specific value or less. SOLUTION: The heat developable photosensitive material contains a nucleating agent on the side of the substrate having photosensitive silver halide and has <=5 mmol content of formic acid or its salt based on 1 mol silver. The nucleating agent preferably contains at least one compound selected from compounds of formulae I-III and a hydrazine derivative. In the formulae, R11-R13 are each H or a substituent, Z is an electron withdrawing group or silyl, R14 is a substituent, X and Y are each H or a substituent and A and B are each alkoxy, alkylthio, alkylamino, aryloxy, arylthio, anilino, heterocyclic oxy, heterocyclic thio or heterocyclic amino.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料、特
には写真製版用に適したスキャナー、イメージセッター
用熱現像感光材料、並びにその製造方法に関する。さら
に詳細には、本発明は、超硬調で、かぶりにくく、黒ポ
ツが発生せず、さらにはDmax(最高濃度)で網点品
質の良好な写真製版用途に最適な画像を得ることが可能
な写真製版用熱現像感光材料およびその製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photothermographic material, particularly to a photothermographic material suitable for photolithography, such as a scanner and an image setter, and a method for producing the same. More specifically, the present invention makes it possible to obtain an image which is super-high contrast, hardly fogged, does not generate black spots, and has a Dmax (maximum density) and a good halftone dot quality, which is optimal for photolithography. The present invention relates to a photothermographic material for photoengraving and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】支持体上に感光層を有し、画像露光する
ことで画像形成を行う感光材料は、数多く知られてい
る。それらの中でも、環境保全や画像形成手段が簡易化
できるシステムとして、熱現像により画像を形成する技
術が挙げられる。近年写真製版分野において環境保全、
省スペースの観点から処理廃液の減量が強く望まれてい
る。そこで、レーザー・スキャナーまたはレーザー・イ
メージセッターにより効率的に露光させることができ、
高解像度および鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成す
ることができる写真製版用途の熱現像感光材料に関する
技術が必要とされている。これら熱現像感光材料では、
溶液系処理化学薬品の使用をなくし、より簡単で環境を
損なわない熱現像処理システムを顧客に対して供給する
ことができる。
2. Description of the Related Art There are many known photosensitive materials having a photosensitive layer on a support and forming an image by exposing the image. Among them, a technique for forming an image by thermal development is a system that can simplify environmental preservation and image forming means. In recent years, environmental preservation in the photoengraving field,
From the viewpoint of space saving, it is strongly desired to reduce the amount of processing waste liquid. There, you can use a laser scanner or a laser imagesetter to make the exposure more efficient,
There is a need for a technique relating to a photothermographic material for photolithography capable of forming a sharp black image having high resolution and sharpness. In these photothermographic materials,
By eliminating the use of solution processing chemicals, it is possible to provide customers with a simpler and more environmentally friendly thermal development processing system.

【0003】熱現像により画像を形成する方法は、例え
ば米国特許第3,152,904号、同3,457,075号、およびD.
モーガン(Morgan)とB.シェリー(Shely)による
「熱によって処理される銀システム(Thermally Proces
sed Silver Systems)A」(イメージング・プロセッシ
ーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Processes and M
aterials)Neblette 第8版、スタージ(Sturge)、V.
ウォールワーズ(Walworth)、A.シェップ(Shepp)
編集、第2頁、1969年)に記載されている。このような
感光材料は、還元可能な非感光性の銀源(例えば有機銀
塩)、触媒活性量の光触媒(例えばハロゲン化銀)、お
よび銀の還元剤を通常有機バインダーマトリックス中に
分散した状態で含有している。感光材料は常温で安定で
あるが、露光後高温(例えば、80℃以上)に加熱した場
合に、還元可能な銀源(酸化剤として機能する)と還元
剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸
化還元反応は露光で発生した煎像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の還元可能な銀塩の反応によって
生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対
照をなし、画像の形成がなされる。
[0003] A method of forming an image by thermal development is described in, for example, US Patent Nos. 3,152,904 and 3,457,075, and
Morgan and B.A. "Thermal Proces Silver System (Thermally Proces)" by Shely
sed Silver Systems) A "(Imaging Processes and M
aterials) Neblette 8th edition, Sturge, V.E.
Walworth, A .; Shepp
Edited, page 2, 1969). Such photosensitive materials are prepared by dispersing a reducible non-photosensitive silver source (eg, an organic silver salt), a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), and a silver reducing agent, usually in an organic binder matrix. It is contained in. The photosensitive material is stable at room temperature, but when heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after exposure, silver is reduced through a redox reaction between a reducible silver source (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. Generate This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the image formed by the exposure. The silver formed by the reaction of the reducible silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image.

【0004】また、従来から前記熱現像感光材料は知ら
れているが、これらの多くはトルエン、メチルエチルケ
トン(MEK)、メタノールなどの有機溶剤を溶媒とす
る塗布液を塗布することにより感光層を形成している。
有機溶剤を溶媒として用いることは、製造工程での人体
への悪影響だけでなく溶剤の回収その他のためコスト上
も不利である。
Although the photothermographic materials have been conventionally known, most of these materials form a photosensitive layer by applying a coating solution using an organic solvent such as toluene, methyl ethyl ketone (MEK) or methanol as a solvent. are doing.
The use of an organic solvent as a solvent is disadvantageous not only in adverse effects on the human body in the manufacturing process but also in cost due to recovery of the solvent and the like.

【0005】そこでこのような心配のない水溶媒の塗布
液を用いて感光層(以降「水系感光層」ともいう。)を
形成する方法が考えられている。例えば特開昭49-52626
号、特開昭53-116144号などにはゼラチンをバインダー
とする例が記載されている。また特開昭50-151138号に
はポリビニルアルコールをバインダーとする例が記載さ
れている。さらに特開昭60-61747号にはゼラチンとポリ
ビニルアルコールを併用した例が記載されている。これ
以外の例として特開昭58-28737号には水溶性ポリビニル
アセタールをバインダーとする感光層の例が記載されて
いる。確かにこのようなバインダーを用いると水溶媒の
塗布液を用いて感光層を形成することができて環境面、
コスト面のメリットは大きい。しかしながら、ゼラチ
ン、ポリビニルアルコール、水溶性ポリアセタールなど
のポリマーをバインダーとして用いると、有機銀塩との
相溶性が悪く、塗布面質上実用に耐える塗布物が得られ
ないばかりでなく、現像部の銀色調が本来好ましいとさ
れる黒色からかけ離れた茶色や黄色になったり、露光部
の黒化濃度が低く未露光部の濃度が高い等商品価値の著
しく損なわれたものしか得られなかった。
Therefore, a method of forming a photosensitive layer (hereinafter, also referred to as "aqueous photosensitive layer") using a coating solution of a water solvent which does not have such a concern has been considered. For example, JP-A-49-52626
And JP-A-53-116144 describe examples using gelatin as a binder. Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-151138 discloses an example using polyvinyl alcohol as a binder. Further, JP-A-60-61747 describes an example in which gelatin and polyvinyl alcohol are used in combination. As another example, JP-A-58-28737 describes an example of a photosensitive layer using water-soluble polyvinyl acetal as a binder. Certainly, if such a binder is used, the photosensitive layer can be formed using a coating solution of a water solvent, and environmentally friendly,
The cost advantage is great. However, when a polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, or water-soluble polyacetal is used as a binder, the compatibility with an organic silver salt is poor, and not only a coated material that can be practically used on a coated surface cannot be obtained, but also the silver color of a developed portion Only those having a markedly impaired commercial value, such as brown or yellow whose tone is far from black which is originally preferable, and a low blackening density of an exposed portion and a high density of an unexposed portion were obtained.

【0006】欧州特許762,196号、特開平9-90550号公報
等に熱現像感光材料に用いる感光性ハロゲン化銀粒子に
第VII族またはVIII族の金属イオンまたは金属錯体イオ
ンを含有させること、および感光材料中にヒドラジン誘
導体を含有せしめて高コントラストな写真特性を得るこ
とができることが開示されている。しかし、前述の水溶
媒の塗布液で用いるバインダーとヒドラジンのような造
核剤を併用すると、高コントラストな画像を得ることが
できるが、全体的にDmin(かぶり)が高く、また造核剤
を用いた場合に特異的に発生する黒ポツと呼ばれる未露
光部に発生する砂状のカブリが多発する問題があった。
さらには、網点品質も満足できるものではなかった。
EP-A-762,196 and JP-A-9-90550 disclose that a photosensitive silver halide grain used for a photothermographic material contains a group VII or VIII metal ion or a metal complex ion. It is disclosed that high contrast photographic characteristics can be obtained by incorporating a hydrazine derivative into a material. However, when a nucleating agent such as hydrazine is used in combination with the binder used in the above-mentioned aqueous solvent coating solution, a high-contrast image can be obtained. When used, there is a problem that sand-like fog frequently occurs in unexposed areas called black spots which occur specifically.
Furthermore, the dot quality was not satisfactory.

【0007】また、EP809141号公報には、還元
可能な非感光性の銀源(例えば有機銀塩)、触媒活性量
の光触媒(例えばハロゲン化銀)、および銀の還元剤を
有機バインダーに分散し、塗布して得られた熱現像感光
材料において微量の蟻酸類がかぶり、黒ポツの発生を促
進することが記載されている。ただし、このこの感光材
料は造核剤を含有していないことにより、Dmax(最
高濃度)が高く網点品質の良好な写真製版用途に最適な
超硬調熱現像感光材料を得ることはできない。また、こ
の感光材料は沃化物を含有しているため、黒ポツが発生
しやすく、また網点品質も非常に悪かった。そこで、超
硬調でかぶりが低く、かつ黒ポツが発生せず、環境面・
コスト面で有利な熱現像感光材料、さらにはDmax
(最高濃度)が高く網点品質の良好な写真製版用途に最
適な熱現像感光材料を提供する技術が望まれていた。
[0007] EP 809141 discloses that a non-photosensitive reducible silver source (for example, organic silver salt), a catalytically active amount of a photocatalyst (for example, silver halide) and a silver reducing agent are dispersed in an organic binder. It describes that a small amount of formic acid is fogged in the photothermographic material obtained by coating to promote the generation of black spots. However, since this photographic material does not contain a nucleating agent, it is impossible to obtain a photothermographic material having a high Dmax (highest density) and a high halftone dot quality, which is optimal for photolithography. Further, since this light-sensitive material contained iodide, black spots were easily generated, and the dot quality was very poor. Therefore, the super hard tone, low fog, no black spots, and environmental
Cost-effective photothermographic material, and Dmax
There has been a demand for a technique for providing a photothermographic material having a high (highest density) and a good halftone dot quality, which is most suitable for photolithography.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明はこれらの従来
技術の問題点を解決することを課題とした。すなわち、
本発明は、特に写真製版用、特にスキャナー、イメージ
セッター用として、超硬調で、かぶりにくく、黒ポツが
発生せず、さらにはDmax(最高濃度)が高く網点品
質の良好な写真製版用途に最適な画像を得ることが可能
な熱現像感光材料を提供することを解決すべき課題の一
つした。さらに、本発明は、環境面・コスト面で有利な
水系塗布可能な熱現像感光材料を提供することも解決す
べき課題の一つとした。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve these problems of the prior art. That is,
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is particularly suitable for photolithography, particularly for scanners and imagesetters, for ultra-high contrast, less fogging, no black spots, high Dmax (maximum density) and good halftone dot quality. One of the problems to be solved is to provide a photothermographic material capable of obtaining an optimum image. Another object of the present invention is to provide a photothermographic material which can be applied in an aqueous system and is advantageous in terms of environment and cost.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討を重ねた結果、感光性ハロゲ
ン化銀を有する側の支持体面上に造核剤を含有せしめ、
同時に蟻酸あるいは蟻酸塩の含有量を銀1モル当たり5
ミリモル以下に設定することにより、所望の効果を奏す
る優れた熱現像感光材料を提供しうることを見出し、本
発明を提供するに至った。即ち、本発明の一側面によれ
ば、支持体上に非感光性銀塩、感光性ハロゲン化銀およ
びバインダーを有する熱現像感光材料において、感光性
ハロゲン化銀を有する側の支持体面上に造核剤が含まれ
且つ蟻酸あるいは蟻酸塩の含有量が銀1モル当たり5ミ
リモル以下であることを特徴とする熱現像感光材料が提
供される。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have incorporated a nucleating agent on the support having a photosensitive silver halide,
At the same time, the formic acid or formate content should be 5
It has been found that by setting the amount to be less than mmol, an excellent photothermographic material having desired effects can be provided, and the present invention has been provided. That is, according to one aspect of the present invention, in a photothermographic material having a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide and a binder on a support, the photothermographic material is formed on the support having a photosensitive silver halide. A photothermographic material comprising a nucleating agent and a content of formic acid or formate of 5 mmol or less per mole of silver is provided.

【0010】本発明において造核剤は好ましくは、下記
式(1)、式(2)または式(3)で表される化合物、
並びにヒドラジン誘導体から選ばれる少なくとも1種の
化合物を含む。
In the present invention, the nucleating agent is preferably a compound represented by the following formula (1), (2) or (3):
And at least one compound selected from hydrazine derivatives.

【化3】 [式(1)においてR11、R12、R13はそれぞれ独立に水
素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性基またはシ
リル基を表す。式(1)においてR11とZ、R12とR13
11とR12、及びR13とZは、互いに結合して環状構造
を形成していてもよい。式(2)においてR14は、置換基
を表す。式(3)においてX、Yはそれぞれ独立に水素原
子または置換基を表し、AおよびBはそれぞれ独立にア
ルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アリ
ールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ環
オキシ基、ヘテロ環チオ基またはヘテロ環アミノ基を表
す。式(3)において、XとY、およびAとBは、それぞ
れ互いに結合して環状構造を形成していてもよい。] 造核剤は特に好ましくは下記式(A)または式(B)で
表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を
含む。
Embedded image [In the formula (1), R 11 , R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group or a silyl group. In the formula (1), R 11 and Z, R 12 and R 13 ,
R 11 and R 12 , and R 13 and Z may combine with each other to form a cyclic structure. In the formula (2), R 14 represents a substituent. In the formula (3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic oxy group. A heterocyclic thio group or a heterocyclic amino group. In the formula (3), X and Y, and A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure. The nucleating agent particularly preferably contains at least one compound selected from the compounds represented by the following formula (A) or (B).

【化4】 [式(A)または式(B)においてZ1およびZ2は、各々こ
れらを含んで5員から7員の環構造を形成しうる非金属
原子団を表し、Y1およびY2は各々−C(=O)−基また
は−SO2−基を表し、X1およびX2は各々、ヒドロキ
シ基(もしくはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ヘテロ環オキシ基、メルカプト基(もしくはその
塩)、アルキルチオ基,アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、アミノ基、アルキルアミノ基,アリールアミノ基、
ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド
基、またはヘテロ環基を表す。Y3は水素原子または置
換基を表す。]
Embedded image [In the formula (A) or the formula (B), Z 1 and Z 2 each represent a nonmetallic atomic group that can form a 5- to 7-membered ring structure, and Y 1 and Y 2 each represent- Represents a C (= O) — group or a —SO 2 — group, and X 1 and X 2 are each a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, a mercapto group (or a salt thereof) ), An alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group,
Represents a heterocyclic amino group, an acylamino group, a sulfonamide group, or a heterocyclic group. Y 3 represents a hydrogen atom or a substituent. ]

【0011】本発明において好ましくは、熱現像感光材
料の感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有する
側の蟻酸あるいは蟻酸塩の含有量は銀1モル当たり1ミ
リモル以下である。本発明の熱現像感光材料は好ましく
は、沃化物を含有しない。
In the present invention, the content of formic acid or formate on the side of the photothermographic material having the image forming layer containing the photosensitive silver halide is preferably 1 mmol or less per mole of silver. The photothermographic material of the present invention preferably does not contain iodide.

【0012】本発明の別の側面によれば、蟻酸あるいは
蟻酸塩濃度が造核剤に対し10モル%以下である造核剤
溶液あるいは造核剤分散液を用いて造核剤を添加するこ
とを含む、本発明の熱現像感光材料の製造方法が提供さ
れる。
According to another aspect of the present invention, the nucleating agent is added using a nucleating agent solution or a nucleating agent dispersion having a formic acid or formate concentration of 10 mol% or less based on the nucleating agent. The method for producing a photothermographic material of the present invention, comprising:

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下において、本発明の熱現像感
光材料の実施態様および実施方法について詳細に説明す
る。本発明の熱現像感光材料は、支持体の少なくとも一
方の面上に、非感光性銀塩として有機銀塩、感光性ハロ
ゲン化銀およびバインダーを含有する画像形成層(即ち
感光性層)を有するものであり、この画像形成層側の層
に造核剤を含有し、かつ蟻酸あるいは蟻酸塩の含有量が
銀1モル当たり5ミリモル以下であることを特徴とする
熱現像感光材料である。これらの特徴の組み合わせによ
り、硬調、高Dmaxで、かぶりにくく、黒ポツの発生しに
くい網点品質の良好な熱現像感光材料が得られる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the following, embodiments and methods of the photothermographic material of the present invention will be described in detail. The photothermographic material of the present invention has, on at least one surface of a support, an image forming layer (that is, a photosensitive layer) containing an organic silver salt as a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide and a binder. And a nucleating agent is contained in the layer on the image forming layer side, and the content of formic acid or formate is 5 mmol or less per 1 mol of silver. By the combination of these features, a photothermographic material having a high contrast, high Dmax, low fogging, and good halftone dot quality with little black spots can be obtained.

【0014】本発明で使用する造核剤の種類は特に限定
されるものではないが、硬調性、Dmax、かぶり、黒ポ
ツ、網点品質の観点から本明細書に記載の式(1)〜式
(3)で表される化合物が好ましく、本明細書に記載の
式(A)、式(B)で表される化合物を用いることが最
も好ましい。
The type of the nucleating agent used in the present invention is not particularly limited, but from the viewpoint of high contrast, Dmax, fogging, black spots and halftone dot quality, the formulas (1) to (1) described in the present specification are used. The compound represented by the formula (3) is preferable, and the compound represented by the formula (A) or (B) described in the present specification is most preferably used.

【0015】また、本発明において蟻酸の含有量は、銀
1モル当たり5ミリモル以下であるが、特に好ましくは
かぶり、黒ポツ、網点品質の観点から銀1モル当たり1
ミリモル以下である。また、沃化物は黒ポツ、網点品質
を悪化させるため、含有しないことが好ましい。
In the present invention, the content of formic acid is 5 mmol or less per 1 mol of silver, but is particularly preferably 1 mol / mol of silver from the viewpoint of fog, black spots and halftone dot quality.
Mmol or less. It is preferable that iodide is not contained because it deteriorates black spots and halftone dot quality.

【0016】本発明の熱現像感光材料は、非感光性銀塩
を有する。本発明に用いることのできる有機銀塩は、光
に対して比較的安定であるが、露光された光触媒(感光
性ハロゲン化銀の煎像など)及び還元剤の存在下で、80
℃或いはそれ以上に加熱された場合に銀画像を形成する
銀塩である。有機銀塩は銀イオンを還元できる源を含む
任意の有機物質であってよい。有機酸の銀塩、特に(炭
素数が10〜30、好ましくは15〜28の)長鎖脂肪カルボン
酸の銀塩が好ましい。配位子が4.0〜10.0の範囲の錯安
定定数を有する有機または無機銀塩の錯体も好ましい。
銀供給物質は、好ましくは画像形成層の約5〜70重量%を
構成することができる。好ましい有機銀塩はカルボキシ
ル基を有する有機化合物の銀塩を含む。これらの例は、
脂肪族カルボン酸の銀塩および芳香族カルボン酸の銀塩
を含むがこれらに限定されることはない。脂肪族カルボ
ン酸の銀塩の好ましい例としては、ベヘン酸銀、アラキ
ジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸
銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、
マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石酸銀、リノール酸銀、
酪酸銀及び樟脳酸銀、これらの混合物などが挙げられ
る。
The photothermographic material of the present invention has a non-photosensitive silver salt. The organic silver salt that can be used in the present invention is relatively stable to light, but can be used in the presence of an exposed photocatalyst (such as a photosensitive silver halide image) and a reducing agent.
It is a silver salt that forms a silver image when heated to at least ℃. The organic silver salt can be any organic substance including a source capable of reducing silver ions. Silver salts of organic acids, in particular silver salts of long-chain fatty carboxylic acids (with 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Also preferred are organic or inorganic silver salt complexes in which the ligand has a complex stability constant in the range of 4.0 to 10.0.
The silver donor material can preferably comprise about 5-70% by weight of the imaging layer. Preferred organic silver salts include silver salts of organic compounds having a carboxyl group. These examples are
Including, but not limited to, silver salts of aliphatic carboxylic acids and silver salts of aromatic carboxylic acids. Preferred examples of the silver salt of an aliphatic carboxylic acid include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, and silver palmitate.
Silver maleate, silver fumarate, silver tartrate, silver linoleate,
Silver butyrate and silver camphorate, and mixtures thereof.

【0017】本発明においては、上記に挙げられる有機
酸銀ないしは有機酸銀の混合物の中でも、ベヘン酸銀含
有率75モル%以上の有機酸銀を用いることが好まし
く、85モル%以上がさらに好ましい。ここでベヘン酸
銀含有率とは、使用する有機酸銀に対するベヘン酸銀の
モル分率を示す。本発明に用いる有機酸銀中に含まれる
ベヘン酸銀以外の有機酸銀としては上記に挙げた物を好
ましく用いることができる。
In the present invention, it is preferable to use silver organic acid having a silver behenate content of 75 mol% or more, more preferably 85 mol% or more, of the above-mentioned organic silver salts or a mixture of the organic silver salts. . Here, the content of silver behenate indicates the molar fraction of silver behenate with respect to the organic acid silver used. As the organic acid silver other than silver behenate contained in the organic acid silver used in the present invention, those mentioned above can be preferably used.

【0018】本発明に好ましく用いられる有機酸銀は、
上記に示した有機酸のアルカリ金属塩(Na塩,K塩,
Li塩等が挙げられる)溶液または懸濁液と硝酸銀を反
応させることで調製される。本発明で用いる有機酸アル
カリ金属塩は、上記有機酸をアルカリ処理することによ
って得られる。本発明で用いる有機酸銀は任意の好適な
容器中で回分式でまたは連続式で行うことができる。反
応容器中の攪拌は粒子の要求される特性によって任意の
攪拌方法で攪拌することができる。有機酸銀の調製法と
しては、有機酸アルカリ金属塩溶液あるいは懸濁液の入
った反応容器に硝酸銀水溶液を徐々にあるいは急激に添
加する方法、硝酸銀水溶液の入った反応容器に予め調製
した有機酸アルカリ金属塩溶液あるいは懸濁液を徐々に
あるいは急激に添加する方法、予め調製した硝酸銀水溶
液および有機酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液を反応
容器中に同時に添加する方法のいずれもが好ましく用い
ることができる。
The organic silver salt preferably used in the present invention is:
Alkali metal salts of organic acids shown above (Na salt, K salt,
It is prepared by reacting silver nitrate with a solution or suspension. The alkali metal salt of an organic acid used in the present invention can be obtained by treating the above organic acid with an alkali. The organic silver salt used in the present invention can be carried out batchwise or continuously in any suitable vessel. The stirring in the reaction vessel can be performed by any stirring method depending on the required characteristics of the particles. The silver salt of an organic acid can be prepared by adding a silver nitrate aqueous solution gradually or rapidly to a reaction vessel containing an alkali metal salt solution or suspension of an organic acid, or by preparing an organic acid prepared beforehand in a reaction vessel containing a silver nitrate aqueous solution. Preferably, a method of gradually or rapidly adding an alkali metal salt solution or suspension, and a method of simultaneously adding a previously prepared aqueous solution of silver nitrate and a solution or suspension of an organic acid alkali metal salt into a reaction vessel are preferably used. Can be.

【0019】硝酸銀水溶液および有機酸アルカリ金属塩
溶液または懸濁液は調製する有機酸銀の粒子サイズの制
御のために任意の濃度の物を用いることができ、また任
意の添加速度で添加することができる。硝酸銀水溶液お
よび有機酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液の添加方法
としては、添加速度一定で添加する方法、任意の時間関
数による加速添加法あるいは減速添加法にて添加するこ
とができる。また反応液に対し、液面に添加してもよ
く、また液中に添加してもよい。予め調製した硝酸銀水
溶液および有機酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液を反
応容器中に同時に添加する方法の場合には、硝酸銀水溶
液あるいは有機酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液のい
ずれかを先行させて添加することもできるが、硝酸銀水
溶液を先行させて添加することが好ましい。先行度とし
ては総添加量の0から50vol%が好ましく、0から2
5vol%が特に好ましい。また特開平9-127643号公報等
に記載のように反応中の反応液のpHないしは銀電位を
制御しながら添加する方法も好ましく用いることができ
る。
The silver nitrate aqueous solution and the organic acid alkali metal salt solution or suspension may be of any concentration for controlling the particle size of the prepared organic acid silver, and may be added at any addition rate. Can be. The silver nitrate aqueous solution and the organic acid alkali metal salt solution or suspension can be added by a method of adding at a constant addition rate, an accelerated addition method by an arbitrary time function, or a deceleration addition method. Further, it may be added to the surface of the reaction solution or may be added to the reaction solution. In the case of a method in which a previously prepared aqueous silver nitrate solution and an organic acid alkali metal salt solution or suspension are simultaneously added to the reaction vessel, either the silver nitrate aqueous solution or the organic acid alkali metal salt solution or suspension is preceded. Although it can be added, it is preferable to add the silver nitrate aqueous solution in advance. The degree of precedence is preferably 0 to 50 vol% of the total amount added, and 0 to 2 vol%.
5 vol% is particularly preferred. As described in JP-A-9-127643, a method of adding while controlling the pH or silver potential of the reaction solution during the reaction can also be preferably used.

【0020】添加される硝酸銀水溶液や有機酸アルカリ
金属塩溶液または懸濁液は粒子の要求される特性により
pHを調整することができる。pH調整のために任意の
酸やアルカリを添加することができる。また、粒子の要
求される特性により、例えば調製する有機酸銀の粒子サ
イズの制御のため反応容器中の温度を任意に設定するこ
とができるが、添加される硝酸銀水溶液や有機酸アルカ
リ金属塩溶液または懸濁液も任意の温度に調整すること
ができる。有機酸アルカリ金属塩溶液または懸濁液は液
の流動性を確保するために、50℃以上に加熱保温する
ことが好ましい。
The pH of the silver nitrate aqueous solution or organic acid alkali metal salt solution or suspension to be added can be adjusted according to the required characteristics of the particles. An optional acid or alkali can be added for pH adjustment. In addition, depending on the required characteristics of the particles, for example, the temperature in the reaction vessel can be set arbitrarily for controlling the particle size of the prepared organic acid silver salt. Alternatively, the suspension can also be adjusted to any temperature. The organic acid alkali metal salt solution or suspension is preferably heated and kept at 50 ° C. or higher in order to ensure fluidity of the solution.

【0021】本発明に用いる有機酸銀は第3アルコール
の存在下で調製されることが好ましい。第3アルコール
としては好ましくは総炭素数15以下の物が好ましく、
10以下が特に好ましい。好ましい第3アルコールの例
としては、tert-ブタノール等が挙げられるが、本発明
はこれに限定されない。本発明に用いられる第3アルコ
ールの添加時期は有機酸銀調製時のいずれのタイミング
でも良いが、有機酸アルカリ金属塩の調製時に添加し
て、有機酸アルカリ金属塩を溶解して用いることが好ま
しい。また、第3アルコールの使用量は有機酸銀調製時
の溶媒としてのH2Oに対して重量比で0.01〜10の範囲
で任意に使用することができるが、0.03〜1の範囲が好
ましい。
The organic acid silver used in the present invention is preferably prepared in the presence of a tertiary alcohol. Preferably, the tertiary alcohol is one having a total carbon number of 15 or less,
Particularly preferred is 10 or less. Preferred examples of the tertiary alcohol include tert-butanol, but the present invention is not limited thereto. The tertiary alcohol used in the present invention may be added at any time during the preparation of the organic acid silver salt, but it is preferable to add the tertiary alcohol during the preparation of the organic acid alkali metal salt and dissolve the organic acid alkali metal salt before use. . The amount of the third alcohol can be used freely between 0.01 and 10 by weight ratio to of H 2 O as a solvent at the time of organic acid silver preparation, the range of 0.03 to 1 is preferred.

【0022】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状としては特に制限はないが、短軸と長軸を有する針状
結晶が好ましい。本発明においては短軸0.01μm以上0.2
0μm以下、長軸0.10μm以上5.0μm以下が好ましく、短
軸0.01μm以上0.15μm以下、長軸0.10μm以上4.0μm以
下がより好ましい。有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散
であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれ
の長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の10
0分率が好ましくは80%以下、より好ましくは50%以下、
更に好ましくは30%以下である。有機銀塩の形状の測定
方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より
求めることができる。単分散性を測定する別の方法とし
て、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方
法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動
係数)が好ましくは80%以下、より好ましくは50%以下、
更に好ましくは30%以下である。測定方法としては例え
ば液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その
散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求め
ることにより得られた粒子サイズ(体積加重平均直径)か
ら求めることができる。この測定法での平均粒子サイズ
としては0.05μm以上10.0μm以下の固体微粒子分散物
が好ましい。より好ましくは平均粒子サイズ0.1μm以
上5.0μm以下、更に好ましくは平均粒子サイズ0.1μm
以上2.0μm以下である。
The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, but a needle-like crystal having a short axis and a long axis is preferable. In the present invention, the minor axis is 0.01 μm or more and 0.2 μm or more.
0 μm or less, major axis of 0.10 μm or more and 5.0 μm or less, minor axis of 0.01 μm or more and 0.15 μm or less, and major axis of 0.10 μm or more and 4.0 μm or less are more preferred. The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodisperse is the standard deviation of the lengths of the minor and major axes divided by the minor and major axes, respectively.
0 fraction is preferably 80% or less, more preferably 50% or less,
It is more preferably at most 30%. The shape of the organic silver salt can be measured from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method of measuring the monodispersity, there is a method of obtaining the standard deviation of the volume-weighted average diameter of the organic silver salt, the percentage of the value divided by the volume-weighted average diameter (coefficient of variation) is preferably 80% or less, more Preferably 50% or less,
It is more preferably at most 30%. As a measuring method, for example, the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating a laser beam to an organic silver salt dispersed in a liquid and obtaining an autocorrelation function with respect to a time change of fluctuation of the scattered light is obtained. Can be. A solid fine particle dispersion having an average particle size of 0.05 μm or more and 10.0 μm or less in this measurement method is preferable. More preferably an average particle size of 0.1 μm or more and 5.0 μm or less, more preferably an average particle size of 0.1 μm
Not less than 2.0 μm.

【0023】本発明に用いることのできる有機銀塩は、
好ましくは脱塩をすることができる。脱塩を行う方法と
しては特に制限はなく公知の方法を用いることができる
が、遠心濾過、吸引濾過、限外濾過、凝集法によるフロ
ック形成水洗等の公知の濾過方法を好ましく用いること
ができる。
The organic silver salt that can be used in the present invention includes:
Preferably, desalting can be performed. The method for desalting is not particularly limited, and a known method can be used. A known filtration method such as centrifugal filtration, suction filtration, ultrafiltration, and floc-forming water washing by a coagulation method can be preferably used.

【0024】本発明では、高S/Nで、粒子サイズが小さ
く、凝集のない有機銀塩固体分散物を得る目的で、画像
形成媒体である有機銀塩を含み、かつ感光性銀塩を実質
的に含まない水分散液を高速流に変換した後、圧力降下
させる分散法を用いることが好ましい。そして、このよ
うな工程を経た後に、感光性銀塩水溶液と混合して感光
性画像形成媒体塗布液を製造する。このような塗布液を
用いて熱現像感光材料を作製するとヘイズが低く、低カ
ブリで高感度の熱現像感光材料が得られる。これに対
し、高圧、高速流に変換して分散する時に、感光性銀塩
を共存させると、カブリが上昇し、感度が著しく低下す
る。また、分散媒として水ではなく、有機溶剤を用いる
と、ヘイズが高くなり、カブリが上昇し、感度が低下し
やすくなる。一方、感光性銀塩水溶液を混合する方法に
かえて、分散液中の有機銀塩の一部を感光性銀塩に変換
するコンバージョン法を用いると感度が低下する。
In the present invention, in order to obtain an organic silver salt solid dispersion having a high S / N, a small particle size, and no aggregation, an organic silver salt which is an image forming medium and a photosensitive silver salt are substantially contained. It is preferable to use a dispersion method in which a water dispersion liquid which is not included in the liquid is converted into a high-speed stream and then the pressure is reduced. After passing through such a process, the mixture is mixed with a photosensitive silver salt aqueous solution to produce a photosensitive image forming medium coating solution. When a photothermographic material is prepared using such a coating solution, a haze is low, and a low-fogging, high-sensitivity photothermographic material can be obtained. On the other hand, when the photosensitive silver salt is coexistent when the light is converted into a high-pressure, high-speed flow and dispersed, the fog increases and the sensitivity is remarkably lowered. When an organic solvent is used instead of water as a dispersion medium, haze increases, fog increases, and sensitivity tends to decrease. On the other hand, when a conversion method for converting a part of the organic silver salt in the dispersion to the photosensitive silver salt is used instead of the method of mixing the aqueous solution of the photosensitive silver salt, the sensitivity is reduced.

【0025】上記において、高圧、高速化に変換して分
散される水分散液は、実質的に感光性銀塩を含まないも
のであり、その含水量は非感光性の有機銀塩に対して0.
1モル%以下であり、積極的な感光性銀塩の添加は行わな
いものである。
In the above, the aqueous dispersion which is dispersed by being converted to high pressure and high speed is substantially free of a photosensitive silver salt, and has a water content relative to that of a non-photosensitive organic silver salt. 0.
The content is 1 mol% or less, and the photosensitive silver salt is not positively added.

【0026】本発明において、上記のような分散法を実
施するのに用いられる固体分散装置およびその技術につ
いては、例えば『分散系レオロジーと分散化技術』(梶
内俊夫、薄井洋基 著、1991、信山社出版(株)、p357
〜p403)、『化学工学の進歩第24集』(社団法人 化学
工学会東海支部 編、1990、槙書店、p184〜p185)、
等に詳しいが、本発明での分散法は、少なくとも有機銀
塩を含む水分散物を高圧ポンプ等で加圧して配管内に送
入した後、配管内に設けられた細いスリットを通過さ
せ、この後に分散液に急激な圧力低下を生じさせること
により微細な分散を行う方法である。
In the present invention, the solid dispersion apparatus and the technique used for carrying out the dispersion method as described above are described in, for example, "Dispersion Rheology and Dispersion Technology" (Toshio Kajiuchi and Hiroki Usui, 1991, Shinzansha Publishing Co., Ltd., p357
-P403), "The 24th Progress of Chemical Engineering", edited by The Society of Chemical Engineers, Tokai Branch, 1990, Maki Shoten, p184-p185),
Although detailed in the dispersing method of the present invention, the aqueous dispersion containing at least an organic silver salt is pressurized by a high-pressure pump or the like and sent into a pipe, and then passed through a narrow slit provided in the pipe, Thereafter, the dispersion is finely dispersed by causing an abrupt pressure drop in the dispersion.

【0027】本発明が関連する高圧ホモジナイザーにつ
いては、一般には、(a)分散質が狭間隙を高圧、高速で
通過する際に生じる『剪断力』、(b)分散質が高圧下か
ら常圧に解放される際に生じる『キャビテーション
力』、等の分散力によって微細な粒子への分散が行われ
ると考えられている。この種の分散装置としては、古く
はゴーリンホモジナイザーが挙げられるが、この装置で
は高圧で送られた被分散液が円柱面上の狭い間隙で、高
速流に変換され、その勢いで周囲の壁面に衝突し、その
衝撃力で乳化・分散が行われる。使用圧力は一般には10
0〜600kg/cm2、流速は数m〜30m/秒の範囲であり、分散
効率を上げるために高流速部を鋸刃状にして衝突回数を
増やすなどの工夫を施したものも考案されている。これ
に対して、近年更に高圧、高流速での分散が可能となる
装置が開発されてきており、その代表例としてはマイク
ロフルイダイザー(マイクロフルイデックス・インター
ナショナル・コーポレーション社)、ナノマイザー(特
殊機化工業(株))などが挙げられる。
The high-pressure homogenizer to which the present invention relates is generally composed of (a) a "shearing force" generated when the dispersoid passes through a narrow gap at a high pressure and a high speed, and (b) a dispersoid is generated under a high pressure and a normal pressure. It is considered that the particles are dispersed into fine particles by a dispersing force such as “cavitation force” generated when the particles are released. As an example of this type of dispersing apparatus, a Gaulin homogenizer is mentioned in the past.In this apparatus, the liquid to be dispersed sent at a high pressure is converted into a high-speed flow through a narrow gap on a cylindrical surface, and the force is applied to the surrounding wall by the force. The particles collide and are emulsified and dispersed by the impact force. Working pressure is generally 10
0~600kg / cm 2, the flow rate is in the range of a few M~30m / sec, be devised that the high flow rate portion was devised such increasing the number collisions in the saw-toothed in order to increase the dispersion efficiency I have. On the other hand, in recent years, apparatuses capable of dispersing at higher pressure and higher flow rate have been developed, and typical examples thereof include a microfluidizer (Microfluidex International Corporation) and a nanomizer (specialized machine). Industrial Co., Ltd.).

【0028】本発明に適した分散装置としては、マイク
ロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーシ
ョン社製マイクロフルイダイザーM−110S−EH
(G10Zインターラクションチャンバー付き)、M−
110Y(H10Zインターラクションチャンバー付
き)、M−140K(G10Zインターラクションチャ
ンバー付き)、HC−5000(L30ZまたはH23
0Zインターラクションチャンバー付き),HC−80
00(E230ZまたはL30Zインターラクションチ
ャンバー付き)等が挙げられる。これらの装置を用い、
少なくとも有機銀塩を含む水分散液を高圧ポンプ等で加
圧して配管内に送入した後、配管内に設けられた細いス
リットを通過させることにより所望の圧力を印加し、こ
の後に配管内の圧力を大気圧に急速に戻す等の方法で分
散液に急激な圧力降下を生じさせることにより本発明に
最適な有機銀塩分散物を得ることが可能である。
As a dispersing apparatus suitable for the present invention, a microfluidizer M-110S-EH manufactured by Microfluidics International Corporation is used.
(With G10Z interaction chamber), M-
110Y (with H10Z interaction chamber), M-140K (with G10Z interaction chamber), HC-5000 (L30Z or H23
With 0Z interaction chamber), HC-80
00 (with an E230Z or L30Z interaction chamber) and the like. Using these devices,
After the aqueous dispersion containing at least the organic silver salt is pressurized by a high-pressure pump or the like and sent into the pipe, a desired pressure is applied by passing through a narrow slit provided in the pipe, and thereafter, the inside of the pipe is It is possible to obtain an optimal organic silver salt dispersion for the present invention by causing a rapid pressure drop in the dispersion by, for example, rapidly returning the pressure to the atmospheric pressure.

【0029】分散操作に先だって、原料液を予備分散す
ることが好ましい。予備分散する手段としては公知の分
散手段(例えば、高速ミキサー、ホモジナイザー、高速
衝撃ミル、バンバリーミキサー、ホモミキサー、ニーダ
ー、ボールミル、振動ボールミル、遊星ボールミル、ア
トライター、サンドミル、ビーズミル、コロイドミル、
ジェットミル、ローラーミル、トロンミル、高速ストー
ンミル)を用いることができる。機械的に分散する以外
にも、pHコントロールすることで溶媒中に粗分散し、そ
の後、分散助剤の存在下でpHを変化させて微粒子化させ
ても良い。このとき、粗分散に用いる溶媒として有機溶
媒を使用しても良く、通常有機溶媒は微粒子化終了後除
去される。
Prior to the dispersion operation, it is preferable to pre-disperse the raw material liquid. As means for preliminary dispersion, known dispersion means (e.g., high-speed mixer, homogenizer, high-speed impact mill, Banbury mixer, homomixer, kneader, ball mill, vibration ball mill, planetary ball mill, attritor, sand mill, bead mill, colloid mill,
Jet mill, roller mill, tron mill, high-speed stone mill) can be used. In addition to mechanical dispersion, the particles may be coarsely dispersed in a solvent by controlling the pH, and then finely divided by changing the pH in the presence of a dispersing aid. At this time, an organic solvent may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after completion of the fine particle formation.

【0030】有機銀塩分散においては、流速、圧力降下
時の差圧と処理回数の調節によって所望の粒子サイズに
分散することが可能であるが、写真特性と粒子サイズの
点から、流速が200m/秒〜600m/秒、圧力降下時の差圧が
900〜3000kg/cm2の範囲が好ましく、流速が300m/秒〜60
0m/秒、圧力降下時の差圧が1500〜3000kg/cm2の範囲で
あることが更に好ましい。分散処理回数は必要に応じて
選択できるが、通常は1回〜10回の処理回数が選ばれる
が、生産性の点からは1回〜3回程度の処理回数が選ばれ
る。高圧下でこのような水分散液を高温にすることは、
分散性、写真特性の点から好ましくなく、90℃を越える
ような高温では粒子サイズが大きくなりやすくなると共
に、カブリが高くなる傾向がある。従って、本発明では
前記の高圧、高流速に変換する前の工程もしくは、圧力
降下させた後の工程、あるいはこれらの両工程に冷却工
程を含み、このような水分散の温度が冷却工程により5
〜90℃の範囲に保たれていることが好ましく、更に好ま
しくは5〜80℃の範囲、特に5〜65℃の範囲に保たれてい
ることが好ましい。特に、1500〜3000kg/cm2の範囲の高
圧の分散時には前記の冷却工程を設置することが有効で
ある。冷却器は、その所要熱交換量に応じて、二重管や
二重管にスタチックミキサーを使用したもの、多管式熱
交換器、蛇管式熱交換器等を適宜選択することができ
る。また、熱交換の効率を上げるために、使用圧力を考
慮して、管の太さ、肉厚や材質など好適なものを選べば
よい。冷却器に使用する冷媒は、熱交換量から、20℃の
井水や冷凍機で処理した5〜10℃の冷水、また必要に応
じて-30℃のエチレングリコール/水等の冷媒を使用する
こともできる。
In the dispersion of an organic silver salt, it is possible to disperse the particles in a desired particle size by adjusting the flow rate, the differential pressure at the time of pressure drop, and the number of treatments. / Sec to 600m / sec, the differential pressure during pressure drop
Is preferably in the range of 900~3000kg / cm 2, the flow rate is 300 meters / sec to 60
More preferably, the pressure difference at the time of 0 m / sec and the pressure drop is in the range of 1500 to 3000 kg / cm 2 . The number of times of dispersion processing can be selected as needed, but usually 1 to 10 times is selected, but from the viewpoint of productivity, about 1 to 3 times is selected. Elevating such an aqueous dispersion under high pressure is
At a high temperature exceeding 90 ° C., the particle size tends to increase and fog tends to increase. Therefore, in the present invention, the step before the conversion to the high pressure and high flow rate, the step after the pressure is reduced, or both of these steps include a cooling step, and the temperature of such water dispersion is reduced by the cooling step.
The temperature is preferably maintained in the range of 90 to 90 ° C, more preferably in the range of 5 to 80 ° C, particularly preferably in the range of 5 to 65 ° C. In particular, it is effective to provide the above cooling step at the time of high-pressure dispersion in the range of 1500 to 3000 kg / cm 2 . As the cooler, a double tube, a double tube using a static mixer, a multi-tube heat exchanger, a coiled tube heat exchanger, or the like can be appropriately selected according to the required heat exchange amount. Further, in order to increase the efficiency of heat exchange, it is sufficient to select a suitable one such as a pipe thickness, a wall thickness and a material in consideration of a working pressure. The refrigerant used for the cooler should be 20 ° C well water, 5-10 ° C cold water treated by a refrigerator, and, if necessary, -30 ° C ethylene glycol / water refrigerant, etc. You can also.

【0031】分散操作では、水性溶媒可溶な分散剤(分
散助剤)の存在下で有機銀塩を分散することが好まし
い。分散助剤としては、例えば、ポリアクリル酸、アク
リル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、マレイン酸モ
ノエステル共重合体、アクリロメチルプロパンスルホン
酸共重合体などの合成アニオンポリマー、カルボキシメ
チルデンプン、カルボキシメチルセルロースなどの半合
成アニオンポリマー、アルギン酸、ペクチン酸などのア
ニオン性ポリマー、特開平7-350753号に記載の化合物、
あるいは公知のアニオン性、ノニオン性、カチオン性界
面活性剤やその他のポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシ
プロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロ
ース等の公知のポリマー、或いはゼラチン等の自然界に
存在する高分子化合物を適宜選択して用いることができ
るが、ポリビニルアルコール類、水溶性のセルロース誘
導体が特に好ましい。
In the dispersion operation, it is preferable to disperse the organic silver salt in the presence of an aqueous solvent-soluble dispersant (dispersion aid). Examples of the dispersing agent include polyacrylic acid, a copolymer of acrylic acid, a maleic acid copolymer, a maleic acid monoester copolymer, a synthetic anionic polymer such as an acrylomethylpropanesulfonic acid copolymer, and carboxymethyl. Starch, semi-synthetic anionic polymers such as carboxymethyl cellulose, alginic acid, anionic polymers such as pectic acid, the compound described in JP-A-7-350753,
Alternatively, known anionic, nonionic, cationic surfactants and other known polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, and hydroxypropylmethylcellulose, or naturally occurring polymer compounds such as gelatin Can be appropriately selected and used, but polyvinyl alcohols and water-soluble cellulose derivatives are particularly preferred.

【0032】分散助剤は、分散前に有機銀塩の粉末また
はウェットケーキ状態の有機銀塩と混合し、スラリーと
して分散機に送り込むのは一般的な方法であるが、予め
有機銀塩と混ぜ合わせた状態で熱処理や溶媒による処理
を施して有機銀塩粉末またはウェットケーキとしても良
い。分散前後または分散中に適当なpH調整剤によりpHコ
ントロールしても良い。機械的に分散する以外にも、pH
コントロールすることで溶媒中に粗分散し、その後、分
散助剤の存在下でpHを変化させて微粒子化させても良
い。このとき、粗分散に用いる溶媒として有機溶媒を使
用しても良く、通常有機溶媒は微粒子化終了後除去され
る。調製された分散物は、保存時の微粒子の沈降を抑え
る目的で撹拌しながら保存したり、親水性コロイドによ
り粘性の高い状態(例えば、ゼラチンを使用しゼリー状
にした状態)で保存したりすることもできる。また、保
存時の雑菌などの繁殖を防止する目的で防腐剤を添加す
ることもできる。
It is a general method to mix a dispersion aid with an organic silver salt powder or an organic silver salt in a wet cake state before dispersion and to send the mixture as a slurry to a dispersing machine. Heat treatment or treatment with a solvent may be performed in the combined state to obtain an organic silver salt powder or a wet cake. The pH may be controlled by a suitable pH adjuster before, during or after dispersion. In addition to mechanical dispersion, pH
By performing control, the particles may be roughly dispersed in a solvent, and then the pH may be changed in the presence of a dispersing agent to form fine particles. At this time, an organic solvent may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after completion of the fine particle formation. The prepared dispersion is stored with stirring for the purpose of suppressing sedimentation of fine particles during storage, or stored in a highly viscous state by a hydrophilic colloid (for example, in a jelly state using gelatin). You can also. Further, a preservative can be added for the purpose of preventing the propagation of various bacteria during storage.

【0033】本発明に用いる有機銀塩固体微粒子分散物
は、少なくとも有機銀塩と水から成るものである。有機
銀塩と水との割合は特に限定されるものではないが、有
機銀塩の全体に占める割合は5〜50重量%であること
が好ましく、特に10〜30重量%の範囲が好ましい。
前述の分散助剤を用いることは好ましいが、粒子サイス゛を
最小にするのに適した範囲で最少量使用するのが好まし
く、有機銀塩に対して0.5〜30重量%、特に1〜1
5重量%の範囲が好ましい。本発明では有機銀塩水分散
液と感光性銀塩水分散液を混合して感光材料を製造する
ことが可能であるが、有機銀塩と感光性銀塩の混合比率
は目的に応じて選べるが、有機銀塩に対する感光性銀塩
の割合は1〜30モル%の範囲が好ましく、更に3〜20モ
ル%、特に5〜15モル%の範囲が好ましい。混合する際に
2種以上の有機銀塩水分散液と2種以上の感光性銀塩水
分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ま
しく用いられる方法である。有機銀塩は所望の量で使用
できるが、銀量として0.1〜5g/m2が好ましく、さらに好
ましくは1〜3g/m2である。
The organic silver salt solid fine particle dispersion used in the present invention comprises at least an organic silver salt and water. The ratio of the organic silver salt to water is not particularly limited, but the ratio of the organic silver salt to the whole is preferably 5 to 50% by weight, and more preferably 10 to 30% by weight.
It is preferable to use the above-mentioned dispersing aid, but it is preferable to use the dispersing aid in a minimum amount within a range suitable for minimizing the particle size.
A range of 5% by weight is preferred. In the present invention, it is possible to produce a photosensitive material by mixing the organic silver salt aqueous dispersion and the photosensitive silver salt aqueous dispersion, the mixing ratio of the organic silver salt and the photosensitive silver salt can be selected according to the purpose, The ratio of the photosensitive silver salt to the organic silver salt is preferably in the range of 1 to 30 mol%, more preferably 3 to 20 mol%, particularly preferably 5 to 15 mol%. Mixing two or more aqueous dispersions of organic silver salts with two or more aqueous dispersions of photosensitive silver salts during mixing is a method preferably used for adjusting photographic characteristics. Organic silver salts can be used in a desired amount, preferably 0.1-5 g / m 2 as silver amount, more preferably from 1 to 3 g / m 2.

【0034】本発明においては沃化物、特にNaI、K
Iに代表される金属沃化物を感光材料中に含有しないこ
とが好ましい。沃化物は、増感効果を有するが、黒ポツ
の発生を促進し、また網点品質を劣化させる効果を有す
るからである。
In the present invention, iodides, especially NaI, K
It is preferable that the light-sensitive material does not contain a metal iodide represented by I. This is because iodide has a sensitizing effect, but also has an effect of accelerating the generation of black spots and deteriorating dot quality.

【0035】本発明の熱現像感光材料には、Ca、M
g、Zn及びAgから選ばれる金属イオンを非感光性有
機銀塩へ添加することが好ましい。Ca、Mg、Zn及
びAgから選ばれる金属イオンの非感光性有機銀塩への
添加については、ハロゲン化物でない、水溶性の金属塩
の形で添加することが好ましく、具体的には硝酸塩や硫
酸塩などの形で添加することが好ましい。ハロゲン化物
での添加は処理後の感光材料の光(室内光や太陽光な
ど)による画像保存性、いわゆるプリントアウト性を悪
化させるので好ましくない。このため、本発明では前述
のハロゲン化物でない、水溶性の金属塩の形で添加する
ことが好ましい。Ca、Mg、Zn及びAgから選ばれ
る金属イオンを添加する場合の、その添加時期として
は、該非感光性有機銀塩の粒子形成後の、粒子形成直
後、分散前、分散後及び塗布液調製前後など塗布直前ま
でであればいずれの時期でもよく、好ましくは分散後、
塗布液調製前後である。本発明におけるCa、Mg、Z
n及びAgから選ばれる金属イオンの添加量としては、
非感光性有機銀1モルあたり10-3〜10-1モルが好まし
く、特に5×10-3〜5×10-2モルが好ましい。
The photothermographic material of the present invention includes Ca, M
It is preferable to add a metal ion selected from g, Zn and Ag to the non-photosensitive organic silver salt. Regarding the addition of a metal ion selected from Ca, Mg, Zn and Ag to the non-photosensitive organic silver salt, it is preferable to add it in the form of a water-soluble metal salt which is not a halide. It is preferably added in the form of a salt or the like. The addition of a halide is not preferred because it deteriorates the image storability of the processed photosensitive material due to light (such as room light or sunlight), that is, the so-called printout property. For this reason, in the present invention, it is preferable to add in the form of a water-soluble metal salt which is not the above-mentioned halide. When a metal ion selected from Ca, Mg, Zn and Ag is added, the timing of addition is as follows: after the particles of the non-photosensitive organic silver salt are formed, immediately after the particles are formed, before the dispersion, after the dispersion and before and after the preparation of the coating solution. It may be at any time as long as immediately before application, preferably after dispersion,
Before and after preparation of the coating solution. Ca, Mg, Z in the present invention
As the addition amount of the metal ion selected from n and Ag,
It is preferably from 10 -3 to 10 -1 mol, particularly preferably from 5 × 10 -3 to 5 × 10 -2 mol, per 1 mol of non-photosensitive organic silver.

【0036】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀
は、ハロゲン組成として特に制限はなく、塩化銀、塩臭
化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀を用いること
ができる。粒子内におけるハロゲン組成の分布は均一で
あってもよく、ハロゲン組成がステップ状に変化したも
のでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。ま
た、コア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子を好ま
しく用いることができる。構造としては好ましくは2〜
5重構造、より好ましくは2〜4重構造のコア/シェル
粒子を用いることができる。また塩化銀または塩臭化銀
粒子の表面に臭化銀を局在させる技術も好ましく用いる
ことができる。但し、黒ポツ、網点品質の観点から、ヨ
ウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀は好ましくない。
The photosensitive silver halide used in the present invention is not particularly limited as a halogen composition, and silver chloride, silver chlorobromide, silver bromide, silver iodobromide, and silver iodochlorobromide can be used. . The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may change stepwise, or may change continuously. Further, silver halide grains having a core / shell structure can be preferably used. The structure is preferably 2-
Core / shell particles having a quintuple structure, more preferably a quaternary structure, can be used. A technique for localizing silver bromide on the surface of silver chloride or silver chlorobromide grains can also be preferably used. However, silver iodobromide and silver iodochlorobromide are not preferred in terms of black spots and halftone dot quality.

【0037】感光性ハロゲン化銀の形成方法は当業界で
はよく知られており例えば、リサーチディスクロージャ
ー1978年6月の第17029号、および米国特許第3,700,458
号に記載されている方法を用いることができるが、具体
的にはゼラチンあるいは他のポリマー溶液中に銀供給化
合物及びハロゲン供給化合物を添加することにより感光
性ハロゲン化銀を調製し、その後で有機銀塩と混合する
方法を用いる。感光性ハロゲン化銀の粒子サイズは、画
像形成後の白濁を低く抑える目的のために小さいことが
好ましく具体的には0.20μm以下、より好ましくは0.01
μm以上0.15μm以下、更に好ましくは0.02μm以上0.12
μm以下がよい。ここでいう粒子サイズとは、ハロゲン
化銀粒子が立方体あるいは八面体のいわゆる正常晶であ
る場合にはハロゲン化銀粒子の稜の長さをいう。また、
ハロゲン化銀粒子が平板状粒子である場合には主表面の
投影面積と同面積の円像に換算したときの直径をいう。
その他正常晶でない場合、たとえば球状粒子、棒状粒子
等の場合には、ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考
えたときの直径をいう。
Methods for forming photosensitive silver halide are well known in the art, for example, Research Disclosure No. 17029, June 1978, and US Pat. No. 3,700,458.
Can be used.Specifically, a photosensitive silver halide is prepared by adding a silver-supplying compound and a halogen-supplying compound to a gelatin or other polymer solution, and thereafter, an organic compound is prepared. A method of mixing with a silver salt is used. The grain size of the photosensitive silver halide is preferably small for the purpose of suppressing white turbidity after image formation, specifically, 0.20 μm or less, more preferably 0.01 μm or less.
μm or more and 0.15 μm or less, more preferably 0.02 μm or more and 0.12
μm or less is preferred. The grain size as used herein refers to the length of the edge of the silver halide grain when the silver halide grain is a cubic or octahedral so-called normal crystal. Also,
When the silver halide grains are tabular grains, the diameter refers to the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface.
In the case of other than normal crystals, for example, in the case of spherical grains, rod-like grains, etc., it refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains.

【0038】ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、
八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ
状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特
に立方体状粒子、平板状粒子が好ましい。平板状ハロゲ
ン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は好ましく
は100:1〜2:1、より好ましくは50:1〜3:1がよい。更
に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ま
しく用いることができる。感光性ハロゲン化銀粒子の外
表面の面指数(ミラー指数)については特に制限はない
が、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い
[100]面の占める割合が高いことが好ましい。その割合
としては50%以上が好ましく、65%以上がより好ましく、
80%以上が更に好ましい。ミラー指数[100]面の比率は増
感色素の吸着における[111]面と[100]面との吸着依存性
を利用したT.Tani;J.Imaging Sci.,29、165(1985年)に記
載の方法により求めることができる。
The shape of the silver halide grains is cubic,
Octahedral, tabular particles, spherical particles, rod-like particles, potato-like particles and the like can be mentioned. In the present invention, cubic particles and tabular particles are particularly preferable. When tabular silver halide grains are used, the average aspect ratio is preferably 100: 1 to 2: 1, more preferably 50: 1 to 3: 1. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (mirror index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grains is not particularly limited, but the spectral sensitizing efficiency when a spectral sensitizing dye is adsorbed is high.
The proportion occupied by the [100] plane is preferably high. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more,
80% or more is more preferable. The Miller index [100] plane ratio was determined by T. Tani; J. Imaging Sci., 29, 165 (1985), which utilizes the adsorption dependence of [111] and [100] planes on the adsorption of sensitizing dyes. It can be determined by the method described.

【0039】本発明で用いる感光性ハロゲン化銀粒子
は、周期律表の第VII族あるいは第VIII族の金属または
金属錯体を含有する。周期律表の第VII族あるいは第VII
I族の金属または金属錯体の中心金属として好ましくは
ロジウム、レニウム、ルテニウム、オスニウム、イリジ
ウムである。これら金属錯体は1種類でもよいし、同種
金属及び異種金属の錯体を2種以上併用してもよい。好
ましい含有率は銀1モルに対し1×10-9モルから1×
10-3モルの範囲が好ましく、1×10-8モルから1×
10-4モルの範囲がより好ましい。具体的な金属錯体の
構造としては特開平7-225449号等に記載された構造の金
属錯体を用いることができる。
The photosensitive silver halide grains used in the present invention contain a metal or a metal complex of Group VII or VIII of the periodic table. Group VII or VII of the periodic table
Rhodium, rhenium, ruthenium, osnium and iridium are preferred as the group I metal or the central metal of the metal complex. One kind of these metal complexes may be used, or two or more kinds of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is from 1 × 10 −9 mol to 1 × per mol of silver.
The range of 10 −3 mol is preferred, and 1 × 10 −8 mol to 1 ×
A range of 10 -4 mole is more preferred. As a specific structure of the metal complex, a metal complex having a structure described in JP-A-7-225449 or the like can be used.

【0040】本発明に用いられるロジウム化合物として
は、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。たと
えば、ハロゲン化ロジウム(III)化合物、またはロジ
ウム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オキザラ
ト等を持つもの、たとえば、ヘキサクロロロジウム(II
I)錯塩、ペンタクロロアコロジウム(III)錯塩、テト
ラクロロジアコロジウム(III)錯塩、ヘキサブロモロ
ジウム(III)錯塩、ヘキサアンミンロジウム(III)錯
塩、トリオキザラトロジウム(III)錯塩等が挙げられ
る。これらのロジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒
に溶解して用いられるが、ロジウム化合物の溶液を安定
化させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハ
ロゲン化水素水溶液(たとえば塩酸、臭酸、フッ酸
等)、あるいはハロゲン化アルカリ(たとえばKCl、NaC
l、KBr、NaBr等)を添加する方法を用いることができ
る。水溶性ロジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製
時に、あらかじめロジウムをドープしてある別のハロゲ
ン化銀粒子を添加して溶解させることも可能である。
As the rhodium compound used in the present invention, a water-soluble rhodium compound can be used. For example, a rhodium (III) halide compound or a rhodium complex salt having a ligand such as halogen, amines, oxalato, etc., for example, hexachlororhodium (II)
I) Complex salts, pentachloroacolodium (III) complex salts, tetrachlorodiachodium (III) complex salts, hexabromorhodium (III) complex salts, hexaamminerhodium (III) complex salts, trioxalathrodium (III) complex salts, and the like. Can be These rhodium compounds are used by dissolving them in water or a suitable solvent. A method generally used for stabilizing a solution of the rhodium compound is generally used, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (eg, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid) Etc.) or alkali halides (eg KCl, NaC
l, KBr, NaBr, etc.). Instead of using water-soluble rhodium, it is also possible to add and dissolve other silver halide grains doped with rhodium during the preparation of silver halide.

【0041】これらのロジウム化合物の添加量はハロゲ
ン化銀1モル当り1×10-8モル〜5×10-4モルの範
囲が好ましく、特に好ましくは5×10-8モル〜1×1
-5モルである。これらの化合物の添加は、ハロゲン化
銀乳剤粒子の製造時および乳剤を塗布する前の各段階に
おいて適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加
し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好まし
い。本発明に用いられるレニウム、ルテニウム、オスミ
ウムは特開昭63-2042号、特開平1-285941号、同2-20852
号、同2-20855号等に記載された水溶性錯塩の形で添加さ
れる。特に好ましいものとして、以下の式で示される六
配位錯体が挙げられる。 [ML6n- ここでMはRu、Re、またはOsを表し、Lは配位子
を表し、nは0、1、2、3または4を表す。この場
合、対イオンは重要性を持たず、アンモニウムもしくは
アルカリ金属イオンが用いられる。
The addition amount of these rhodium compounds is preferably in the range of 1 × 10 -8 mol to 5 × 10 -4 mol, and particularly preferably in the range of 5 × 10 -8 mol to 1 × 1 mol per mol of silver halide.
0 -5 mol. These compounds can be appropriately added at the time of production of silver halide emulsion grains and at each stage before coating the emulsion, but it is particularly preferable to add them at the time of emulsion formation and to incorporate them into silver halide grains. . Rhenium, ruthenium and osmium used in the present invention are disclosed in JP-A-63-2042, JP-A-1-285941, JP-A-2-20852.
And 2-20855 in the form of a water-soluble complex salt. Particularly preferred are hexacoordinate complexes represented by the following formula. [ML 6 ] n -where M represents Ru, Re, or Os, L represents a ligand, and n represents 0, 1, 2, 3, or 4. In this case, the counter ion is not important and ammonium or alkali metal ions are used.

【0042】また好ましい配位子としてはハロゲン化物
配位子、シアン化物配位子、シアン酸化物配位子、ニト
ロシル配位子、チオニトロシル配位子等が挙げられる。
以下に本発明に用いられる具体的錯体の例を示すが、本
発明はこれに限定されるものではない。 [ReCl6]3- [ReBr6]3- [ReCl5(NO)]2- [Re(NS)Br5]2- [Re(NO)(CN)5]2- [Re(O)2(CN)4]3- [RuCl6]3- [RuCl4(H2O)2]- [RuCl5(H2O)]2- [RuCl5(NO)]2- [RuBr5(NS)]2- [Ru(CO)3Cl3]2- [Ru(CO)Cl5]2- [Ru(CO)Br5]2- [OsCl6]3- [OsCl5(NO)]2- [Os(NO)(CN)5]2- [Os(NS)Br5]2- [Os(O)2(CN)4]4-
Preferred ligands include halide ligands, cyanide ligands, cyanide ligands, nitrosyl ligands, thionitrosyl ligands and the like.
Examples of specific complexes used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto. [ReCl 6 ] 3- [ReBr 6 ] 3- [ReCl 5 (NO)] 2- [Re (NS) Br 5 ] 2- [Re (NO) (CN) 5 ] 2- [Re (O) 2 ( CN) 4 ] 3- [RuCl 6 ] 3- [RuCl 4 (H 2 O) 2 ] - [RuCl 5 (H 2 O)] 2- [RuCl 5 (NO)] 2- [RuBr 5 (NS)] 2- [Ru (CO) 3 Cl 3] 2- [Ru (CO) Cl 5] 2- [Ru (CO) Br 5] 2- [OsCl 6] 3- [OsCl 5 (NO)] 2- [Os (NO) (CN) 5 ] 2- [Os (NS) Br 5 ] 2- [Os (O) 2 (CN) 4 ] 4-

【0043】これらの化合物の添加量はハロゲン化銀1
モル当り1×10-9モル〜1×10 -4モルの範囲が好ま
しく、特に好ましくは1×10-8モル〜1×10-5モル
である。これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳剤粒
子の製造時および乳剤を塗布する前の各段階において適
宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、ハロ
ゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。
The addition amount of these compounds is 1
1 × 10 per mole-9Mol ~ 1 x 10 -FourMolar range preferred
And particularly preferably 1 × 10-8Mol ~ 1 x 10-FiveMole
It is. The addition of these compounds was
Suitable during the manufacture of the emulsion and at each stage before the application of the emulsion.
However, it may be added at the time of forming an emulsion,
It is preferably incorporated into silver gemide grains.

【0044】これらの化合物をハロゲン化銀の粒子形成
中に添加してハロゲン化銀粒子中に組み込むには、金属
錯体の粉末もしくはNaCl、KClと一緒に溶解した水溶液
を、粒子形成中の水溶性塩または水溶性ハライド溶液中
に添加しておく方法、あるいは銀塩とハライド溶液が同
時に混合されるとき第3の溶液として添加し、3液同時
混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、あるい
は粒子形成中に必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に
投入する方法などがある。特に粉末もしくはNaCl、KCl
と一緒に溶解した水溶液を、水溶性ハライド溶液に添加
する方法が好ましい。粒子表面に添加するには、粒子形
成直後または物理熟成時途中もしくは終了時または化学
熟成時に必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に投入す
ることもできる。
In order to add these compounds during silver halide grain formation and incorporate them into silver halide grains, a powder of a metal complex or an aqueous solution dissolved together with NaCl and KCl is added to the aqueous solution during grain formation. A method in which silver halide grains are added to a salt or a water-soluble halide solution, or as a third solution when a silver salt and a halide solution are mixed at the same time, and a three-solution simultaneous mixing method is used, Alternatively, there is a method in which a required amount of an aqueous solution of a metal complex is charged into a reaction vessel during particle formation. Especially powder or NaCl, KCl
Is preferable to add an aqueous solution dissolved together with the above to a water-soluble halide solution. For the addition to the particle surface, a required amount of an aqueous solution of a metal complex can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particles, during or at the end of physical ripening, or at the time of chemical ripening.

【0045】本発明で用いられるイリジウム化合物とし
ては種々のものを使用できるが、例えばヘキサクロロイ
リジウム、ヘキサアンミンイリジウム、トリオキザラト
イリジウム、ヘキサシアノイリジウム、ペンタクロロニ
トロシルイリジウム等が挙げられる。これらのイリジウ
ム化合物は、水あるいは適当な溶媒に溶解して用いられ
るが、イリジウム化合物の溶液を安定化させるために一
般によく行われる方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶
液(例えば塩酸、臭酸、フッ酸等)、あるいは沃化物を
除くハロゲン化アルカリ(例えばKCl、NaCl、KBr、NaBr
等)を添加する方法を用いることができる。水溶性イリ
ジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらか
じめイリジウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子
を添加して溶解させることも可能である。
Various compounds can be used as the iridium compound used in the present invention, and examples thereof include hexachloroiridium, hexaammineiridium, trioxalatoiridium, hexacyanoiridium, and pentachloronitrosyliridium. These iridium compounds are used after being dissolved in water or an appropriate solvent. However, a method generally used to stabilize the solution of the iridium compound, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid) is used. Etc.) or alkali halides excluding iodide (eg, KCl, NaCl, KBr, NaBr
Etc.) can be used. Instead of using water-soluble iridium, it is also possible to add and dissolve another silver halide grain doped with iridium in advance during the preparation of silver halide.

【0046】さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒
子に、コバルト、鉄、ニッケル、クロム、パラジウム、
白金、金、タリウム、銅、鉛、等の金属原子を含有して
もよい。コバルト、鉄、クロム、さらにルテニウムの化
合物については六シアノ金属錯体を好ましく用いること
ができる。具体例としては、フェリシアン酸イオン、フ
ェロシアン酸イオン、ヘキサシアノコバルト酸イオン、
ヘキサシアノクロム酸イオン、ヘキサシアノルテニウム
酸イオンなどが挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。ハロゲン化銀中の金属錯体の含有相は均一で
も、コア部に高濃度に含有させてもよく、あるいはシェ
ル部に高濃度に含有させてもよく特に制限はない。上記
金属はハロゲン化銀1モルあたり1×10-9〜1×10
-4モルが好ましい。また、上記金属を含有せしめるには
単塩、複塩、または錯塩の形の金属塩にして粒子調製時
に添加することができる。感光性ハロゲン化銀粒子はヌ
ードル法、フロキュレーション法等、当業界で知られて
いる方法の水洗により脱塩することができるが本発明に
おいては脱塩してもしなくてもよい。
Further, the silver halide grains used in the present invention may contain cobalt, iron, nickel, chromium, palladium,
It may contain metal atoms such as platinum, gold, thallium, copper and lead. For compounds of cobalt, iron, chromium and ruthenium, hexacyano metal complexes can be preferably used. Specific examples include ferricyanate ion, ferrocyanate ion, hexacyanocobaltate ion,
Examples include, but are not limited to, hexacyanochromate ions and hexacyanoruthenate ions. The phase containing the metal complex in the silver halide may be uniform, may be contained in the core at a high concentration, or may be contained in the shell at a high concentration, and there is no particular limitation. The metal is 1 × 10 -9 to 1 × 10 per mol of silver halide.
-4 mol is preferred. In addition, in order to incorporate the metal, a metal salt in the form of a single salt, a double salt, or a complex salt can be added at the time of preparing particles. The photosensitive silver halide grains can be desalted by washing with a method known in the art, such as a noodle method or flocculation method, but in the present invention, it may or may not be desalted.

【0047】ハロゲン化銀乳剤に金増感を施す場合に用
いられる金増感剤としては、金の酸化数が+1価でも+
3価でもよく、金増感剤として通常用いられる金化合物
を用いることができる。代表的な例としては塩化金酸、
カリウムクロロオーレート、オーリックトリクロライ
ド、カリウムオーリックチオシアネート、カリウムヨー
ドオーレート、テトラシアノオーリックアシド、アンモ
ニウムオーロチオシアネート、ピリジルトリクロロゴー
ルドなどがあげられる。金増感剤の添加量は種々の条件
により異なるが、目安としてはハロゲン化銀1モル当り
10-7モル以上10-3モル以下、より好ましくは10-6
モル以上5×10-4以下である。ハロゲン化銀乳剤は金
増感と他の化学増感とを併用することが好ましい。他の
化学増感の方法としては、硫黄増感法、セレン増感法、
テルル増感法、貴金属増感法などの知られている方法を
用いることができる。金増感法と組み合わせて使用する
場合には、例えば、硫黄増感法と金増感法、セレン増感
法と金増感法、硫黄増感法とセレン増感法と金増感法、
硫黄増感法とテルル増感法と金増感法、硫黄増感法とセ
レン増感法とテルル増感法と金増感法などが好ましい。
As a gold sensitizer used for sensitizing a silver halide emulsion with gold, an oxidation number of gold of +1 or +
It may be trivalent, and a gold compound usually used as a gold sensitizer can be used. Typical examples are chloroauric acid,
Examples include potassium chloroaurate, auric trichloride, potassium auric thiocyanate, potassium iodoaurate, tetracyano auric acid, ammonium aurothiocyanate, and pyridyl trichlorogold. Although the amount of the gold sensitizer to be added varies depending on various conditions, it is generally about 10 -7 mol to 10 -3 mol, more preferably 10 -6 mol, per mol of silver halide.
The molar ratio is not less than 5 × 10 −4 . The silver halide emulsion is preferably used in combination with gold sensitization and another chemical sensitization. Other chemical sensitization methods include sulfur sensitization, selenium sensitization,
Known methods such as tellurium sensitization and noble metal sensitization can be used. When used in combination with gold sensitization, for example, sulfur sensitization and gold sensitization, selenium sensitization and gold sensitization, sulfur sensitization and selenium sensitization and gold sensitization,
Sulfur sensitization, tellurium sensitization, and gold sensitization, and sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization, and gold sensitization are preferable.

【0048】本発明に好ましく用いられる硫黄増感は、
通常、硫黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤
を一定時間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤と
しては公知の化合物を使用することができ、例えば、ゼ
ラチン中に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合
物、例えばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ロ
ーダニン類等を用いることができる。好ましい硫黄化合
物は、チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤
の添加量は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン化銀粒
子の大きさなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲ
ン化銀1モル当り10-7〜10-2モルであり、より好ま
しくは10-5〜10-3モルである。
The sulfur sensitization preferably used in the present invention is
Usually, a sulfur sensitizer is added and the emulsion is stirred at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain period of time. As the sulfur sensitizer, known compounds can be used.For example, in addition to sulfur compounds contained in gelatin, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, thiazoles, rhodanines and the like are used. be able to. Preferred sulfur compounds are thiosulfates and thiourea compounds. The addition amount of the sulfur sensitizer, pH during the chemical ripening, the temperature, but varies depending on various conditions such as the size of the silver halide grains, 10 -7 to 10 -2 mol per mol of silver halide And more preferably 10 -5 to 10 -3 mol.

【0049】本発明に用いられるセレン増感剤として
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および/または非不安定型セレン化
合物を添加して40℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭44-15748号、同43-13489号、特開平4-25832号、同
4-109240号、同3-121798号等に記載の化合物を用いるこ
とができる。特に特開平4-324855号中の一般式(VIII)お
よび(IX)で示される化合物を用いることが好ましい。本
発明に用いられるテルル増感剤は、ハロゲン化銀粒子表
面または内部に、増感核になると推定されるテルル化銀
を生成させる化合物である。ハロゲン化銀乳剤中のテル
ル化銀生成速度については特開平5-313284号に記載の方
法で試験することができる。テルル増感剤としては例え
ばジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)テルリ
ド類、ビス(カルバモイル)テルリド類、ジアシルテルリ
ド類、ビス(オキシカルボニル)ジテルリド類、ビス(カ
ルバモイル)ジテルリド類、P=Te結合を有する化合物、
テルロカルボン酸塩類、Te−オルガニルテルロカルボ
ン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリド類、テルリド類、テ
ルロール類、テルロアセタール類、テルロスルホナート
類、P-Te結合を有する化合物、含Teヘテロ環類、テル
ロカルボニル化合物、無機テルル化合物、コロイド状テ
ルルなどを用いることができる。具体的には、米国特許
第1,623,499号、同第3,320,069号、同第3,772,031号、英国
特許第235,211号、同第1,121,496号、同第1,295,462号、同
第1,396,696号、カナダ特許第800,958号、特開平4-20464
0号、同3-53693号、同3-131598号、同4-129787号、ジャー
ナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・ケミカル・コ
ミュニケーション(J.Chem.Soc.Chem.Commun.)635(198
0),ibid 1102(1979),ibid 645(1979)、ジャーナル・オ
ブ・ケミカル・ソサイアティー・パーキン・トランザク
ション(J.Chem.Soc.Perkin.Trans.) 1,2191(1980)、S.
パタイ(S.Patai)編、ザ・ケミストリー・オブ・オーガ
ニック・セレニウム・アンド・テルリウム・カンパウン
ズ(The Chemistry of Organic Serenium and Telluniu
m Compounds),Vol 1(1986)、同 Vol 2(1987)に記載の化
合物を用いることができる。特に特開平5-313284号中の
一般式(II),(III),(IV)で示される化合物が好まし
い。
As the selenium sensitizer used in the present invention, known selenium compounds can be used. That is, it is usually carried out by adding an unstable and / or non-unstable selenium compound and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain time. As unstable selenium compounds, JP-B-44-15748, JP-B-43-13489, JP-A-4-25832,
The compounds described in JP-A Nos. 4-109240, 3-21798 and the like can be used. In particular, it is preferable to use the compounds represented by formulas (VIII) and (IX) in JP-A-4-324855. The tellurium sensitizer used in the present invention is a compound which forms silver telluride which is presumed to be a sensitizing nucleus on the surface or inside of silver halide grains. The formation rate of silver telluride in the silver halide emulsion can be tested by the method described in JP-A-5-313284. Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) tellurides, bis (carbamoyl) tellurides, diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) ditellurides, bis (carbamoyl) ditellurides, P = Te A compound having a bond,
Tellurocarboxylates, Te-organyltellurocarboxylates, di (poly) tellurides, tellurides, tellurols, telluroacetals, tellurosulfonates, compounds having a P-Te bond, Te-containing heterocycles, Tellurocarbonyl compounds, inorganic tellurium compounds, colloidal tellurium, and the like can be used. Specifically, U.S. Patent Nos. 4-20464
No. 0, No. 3-53693, No. 3-31598, No. 4-129787, Journal of Chemical Society Chemical Communication (J. Chem. Soc. Chem. Commun.) 635 (198
0), ibid 1102 (1979), ibid 645 (1979), Journal of Chemical Society Parkin Transaction (J. Chem. Soc. Perkin. Trans.) 1, 2191 (1980), S.
The Chemistry of Organic Serenium and Telluniu, edited by S. Patai
m Compounds), Vol 1 (1986) and Vol. 2 (1987). Particularly, compounds represented by formulas (II), (III) and (IV) in JP-A-5-313284 are preferred.

【0050】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当
たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3
ル程度を用いる。本発明における化学増感の条件として
は特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとし
ては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度として
は40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。
The amount of the selenium and tellurium sensitizers used in the present invention, the silver halide grains to be used, but the chemical ripening condition and the like and, generally, per mol of silver halide 10 -8 to 10 -2 mol, Preferably, about 10 -7 to 10 -3 mol is used. The conditions of the chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, preferably 7 to 10, and the temperature is 40 to 95 ° C, preferably 45 to 45 ° C. 85 ° C.

【0051】本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロ
ゲン化銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカド
ミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させ
てもよい。本発明においては、還元増感を用いることが
できる。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコル
ビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一スズ、
アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、
ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用
いることができる。また、乳剤のpHを7以上またはpAgを
8.3以下に保持して熟成することにより還元増感するこ
とができる。また、粒子形成中に銀イオンのシングルア
ディション部分を導入することにより還元増感すること
ができる。本発明で用いるハロゲン化銀乳剤には、欧州
特293,917号に示される方法により、チオスルホン酸化
合物を添加してもよい。
In the silver halide emulsion used in the present invention, a cadmium salt, a sulfite, a lead salt, a thallium salt and the like may be coexistent during the formation of silver halide grains or physical ripening. In the present invention, reduction sensitization can be used. Specific compounds of the reduction sensitization method include, as well as ascorbic acid, thiourea dioxide, for example, stannous chloride,
Aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives,
Borane compounds, silane compounds, polyamine compounds and the like can be used. Also, adjust the pH of the emulsion to 7 or more or pAg.
Reduction sensitization can be achieved by ripening while keeping the temperature at 8.3 or less. Further, reduction sensitization can be achieved by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation. A thiosulfonic acid compound may be added to the silver halide emulsion used in the present invention by the method described in European Patent Publication No. 293,917.

【0052】本発明に用いられる感光材料中のハロゲン
化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例えば、
平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるも
の、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの)
併用してもよい。感光性ハロゲン化銀の使用量としては
有機銀塩1モルに対して感光性ハロゲン化銀0.01モル以
上0.5モル以下が好ましく、0.02モル以上0.3モル以下が
より好ましく、0.03モル以上0.25モル以下が特に好まし
い。別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混
合方法及び混合条件については、それぞれ調製終了した
ハロゲン化銀粒子と有機銀塩を高速撹拌機やボールミ
ル、サンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモジナイ
ザー等で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製中の
いずれかのタイミングで調製終了した感光性ハロゲン化
銀を混合して有機銀塩を調製する方法等があるが、本発
明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限はな
い。
The silver halide emulsion in the light-sensitive material used in the present invention may be only one kind or two or more kinds (for example,
Those with different average grain sizes, different halogen compositions, different crystal habits, different chemical sensitization conditions)
You may use together. The amount of the photosensitive silver halide is preferably 0.01 to 0.5 mol, more preferably 0.02 to 0.3 mol, more preferably 0.03 to 0.25 mol, per mol of the organic silver salt. preferable. Regarding the mixing method and mixing conditions of the separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the prepared silver halide particles and organic silver salt were mixed with a high-speed stirrer, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc. And the like, or a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt. There is no particular limitation as long as it appears in.

【0053】次に、本発明に用いられる造核剤について
説明する。本発明で用いる造核剤の種類は特に限定され
ないが、好ましい造核剤の例としては、式(1)〜
(3)で表される置換アルケン誘導体、置換イソオキサ
ゾール誘導体および特定のアセタール化合物、並びにヒ
ドラジン誘導体が挙げられる。式(1)〜(3)で表さ
れる化合物のさらに好ましい例としては、式(A)また
は式(B)で表される環状化合物が挙げられる。また、
これら造核剤を複数併用してもよい。
Next, the nucleating agent used in the present invention will be described. Although the type of the nucleating agent used in the present invention is not particularly limited, examples of preferred nucleating agents include those represented by formulas (1) to (1).
The substituted alkene derivative, the substituted isoxazole derivative and the specific acetal compound represented by (3), and the hydrazine derivative are mentioned. More preferred examples of the compounds represented by the formulas (1) to (3) include a cyclic compound represented by the formula (A) or the formula (B). Also,
A plurality of these nucleating agents may be used in combination.

【0054】先ず、本発明で用いることができるヒドラ
ジン誘導体について説明する。本発明で使用できるヒド
ラジン誘導体の種類は特に限定されないが、好ましくは
下記式(H)で表されるヒドラジン誘導体が用いられ
る。
First, the hydrazine derivative that can be used in the present invention will be described. The type of the hydrazine derivative that can be used in the present invention is not particularly limited, but a hydrazine derivative represented by the following formula (H) is preferably used.

【0055】[0055]

【化5】 Embedded image

【0056】式(H)において、R2は脂肪族基、芳香
族基、またはヘテロ環基を表し、R1は水素原子または
ブロック基を表し、G1は−CO−,−COCO−,−
C=S−,−SO2−,−SO−,−PO(R3)−基(R
3はR1に定義した基と同じ範囲内より選ばれ、R1と異
なっていてもよい。),またはイミノメチレン基を表
す。A1、A2はともに水素原子、あるいは一方が水素原
子で他方が置換もしくは無置換の、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、またはアシル基を表す。m
1は0または1であり、m1が0の時、R1は脂肪族基、
芳香族基、またはヘテロ環基を表す。
In the formula (H), R 2 represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group, R 1 represents a hydrogen atom or a block group, and G 1 represents —CO—, —COCO—, —.
C = S -, - SO 2 -, - SO -, - PO (R 3) - group (R
3 is selected from the same range as the groups defined in R 1, may be different from R 1. ) Or iminomethylene group. A 1 and A 2 each represent a hydrogen atom, or an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, or an acyl group, one of which is a hydrogen atom and the other is substituted or unsubstituted. m
1 is 0 or 1, and when m 1 is 0, R 1 is an aliphatic group,
Represents an aromatic group or a heterocyclic group.

【0057】式(H)によって表されるヒドラジン誘導
体について詳細に説明する。式(H)においてR2で表
される脂肪族基とは、好ましくは炭素数1〜30の置換
もしくは無置換の、直鎖、分岐または環状のアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基である。式(H)にお
けるR2で表される芳香族基とは単環もしくは縮合環の
アリール基で、例えばベンゼン環、ナフタレン環が挙げ
られる。R2で表されるヘテロ環基とは、単環または縮
合環の、飽和もしくは不飽和の、芳香族または非芳香族
のヘテロ環基で、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、
イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、イソキノ
リン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ピペリジン環、トリアジン環、モルホリ
ン環、ピペリジン環、ピペラジン環等が挙げられる。R
2は任意の置換基で置換されていてもよい。式(H)に
おけるR2として好ましいものはアリール基、アルキル
基、または芳香族ヘテロ環基であり、さらに好ましく
は、置換もしくは無置換のフェニル基、炭素数1〜3の
置換アルキル基、または芳香族ヘテロ環基である。
The hydrazine derivative represented by the formula (H) will be described in detail. In formula (H), the aliphatic group represented by R 2 is preferably a substituted or unsubstituted, linear, branched or cyclic alkyl, alkenyl, or alkynyl group having 1 to 30 carbon atoms. The aromatic group represented by R 2 in the formula (H) is a monocyclic or condensed-ring aryl group, such as a benzene ring and a naphthalene ring. The heterocyclic group represented by R 2 is a monocyclic or condensed, saturated or unsaturated, aromatic or non-aromatic heterocyclic group, for example, a pyridine ring, a pyrimidine ring,
Examples include an imidazole ring, a pyrazole ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a benzimidazole ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a piperidine ring, a triazine ring, a morpholine ring, a piperidine ring, and a piperazine ring. R
2 may be substituted with any substituent. R 2 in the formula (H) is preferably an aryl group, an alkyl group, or an aromatic heterocyclic group, and more preferably a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or an aromatic group. Group heterocyclic group.

【0058】式(H)におけるR2が炭素数1〜3の置
換アルキル基を表す時、R2はより好ましくは置換メチ
ル基であり、さらには二置換メチル基もしくは三置換メ
チル基が好ましい。式(H)におけるR2が置換メチル
基を表す時、好ましい具体例としては、t−ブチル基、
ジシアノメチル基、ジシアノフェニルメチル基、トリフ
ェニルメチル基(トリチル基)、ジフェニルメチル基、メ
トキシカルボニルジフェニルメチル基、シアノジフェニ
ルメチル基、メチルチオジフェニルメチル基、シクロプ
ロピルジフェニルメチル基などが挙げられるが、中でも
トリチル基が最も好ましい。式(H)におけるR2が芳
香族ヘテロ環基を表す時、好ましいヘテロ環としてピリ
ジン環、キノリン環、ピリミジン環、トリアジン環、ベ
ンゾチアゾ−ル環、ベンズイミダゾ−ル環、チオフェン
環等が挙げられる。式(H)に於いてR2は、最も好ま
しくは置換もしくは無置換のフェニル基である。
When R 2 in the formula (H) represents a substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 2 is more preferably a substituted methyl group, and further preferably a di- or tri-substituted methyl group. When R 2 in the formula (H) represents a substituted methyl group, preferred specific examples include a t-butyl group,
Dicyanomethyl group, dicyanophenylmethyl group, triphenylmethyl group (trityl group), diphenylmethyl group, methoxycarbonyldiphenylmethyl group, cyanodiphenylmethyl group, methylthiodiphenylmethyl group, cyclopropyldiphenylmethyl group, and the like. Trityl groups are most preferred. When R 2 in the formula (H) represents an aromatic heterocyclic group, preferred hetero rings include a pyridine ring, a quinoline ring, a pyrimidine ring, a triazine ring, a benzothiazole ring, a benzimidazole ring, a thiophene ring and the like. . In the formula (H), R 2 is most preferably a substituted or unsubstituted phenyl group.

【0059】式(H)においてR1は水素原子またはブ
ロック基を表すが、ブロック基とは具体的に脂肪族基
(具体的にはアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基)、芳香族基(単環もしくは縮合環のアリール基)、
ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、置換も
しくは無置換のアミノ基またはヒドラジノ基を表す。式
(H)におけるR1として好ましくは、アルキル基(炭
素数1〜10の置換もしくは無置換のアルキル基で、例
えばメチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、ジフ
ルオロメチル基,2−カルボキシテトラフルオロエチル
基,ピリジニオメチル基、ジフルオロメトキシメチル
基、ジフルオロカルボキシメチル基、ヒドロキシメチル
基、ベンゼンスルホンアミドメチル基、トリフルオロア
セチルメチル基、ジメチルアミノメチル基、フェニルス
ルホニルメチル基、o−ヒドロキシベンジル基、メトキ
シメチル基、フェノキシメチル基、4−エチルフェノキ
シメチル基、フェニルチオメチル基、t−ブチル基、ジ
シアノメチル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメ
チル基、メトキシカルボニルジフェニルメチル基、シア
ノジフェニルメチル基、メチルチオジフェニルメチル基
等)、アルケニル基(炭素数1から10のアルケニル基
で、例えばビニル基、2−エトキシカルボニルビニル
基、2−トリフルオロ−2−メトキシカルボニルビニル
基、2,2−ジシアノビニル基、2−シアノ−2−メト
キシカルボニルビニル基等)、アリール基(単環もしく
は縮合環のアリール基で、ベンゼン環を含むものが特に
好ましく、例えばフェニル基、パ−フルオロフェニル
基、3,5−ジクロロフェニル基、2−メタンスルホン
アミドフェニル基、2−カルバモイルフェニル基、4,
5−ジシアノフェニル基、2−ヒドロキシメチルフェニ
ル基、2、6−ジクロロ−4−シアノフェニル基、2−
クロロ−5−オクチルスルファモイルフェニル基)、ヘ
テロ環基(少なくとも1つの窒素、酸素、および硫黄原
子を含む5〜6員の、飽和もしくは不飽和の、単環もし
くは縮合環のヘテロ環基で、例えばモルホリノ基、ピペ
リジノ基(N−置換)、イミダゾリル基、インダゾリル
基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾイミダゾリ
ル基、テトラゾリル基、ピリジル基、ピリジニオ基、キ
ノリニオ基、キノリル基、ヒダントイル基、イミダゾリ
ジニル基等)、アルコキシ基(炭素数1〜8のアルコキ
シ基が好ましく、例えばメトキシ基、2−ヒドロキシエ
トキシ基、ベンジルオキシ基、t−ブトキシ基等)、ア
ミノ基(無置換アミノ基、及び炭素数1〜10のアルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基、または飽和もしくは不
飽和のヘテロ環アミノ基(4級化された窒素原子を含む
含窒素ヘテロ環アミノ基を含む)が好ましく、例えば
2、2、6、6−テトラメチルピペリジン−4−イルア
ミノ基、プロピルアミノ基、2−ヒドロキシエチルアミ
ノ基、アニリノ基,o−ヒドロキシアニリノ基、5−ベ
ンゾトリアゾリルアミノ基、N−ベンジル−3−ピリジ
ニオアミノ基等)である。R1で表される基は任意の置
換基で置換されていてもよい。
In the formula (H), R 1 represents a hydrogen atom or a blocking group, and the blocking group is specifically an aliphatic group (specifically, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group) or an aromatic group (a single group). Ring or fused ring aryl group),
Represents a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a substituted or unsubstituted amino group or a hydrazino group. R 1 in the formula (H) is preferably an alkyl group (a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a 2-carboxytetrafluoro group). Ethyl group, pyridiniomethyl group, difluoromethoxymethyl group, difluorocarboxymethyl group, hydroxymethyl group, benzenesulfonamidomethyl group, trifluoroacetylmethyl group, dimethylaminomethyl group, phenylsulfonylmethyl group, o-hydroxybenzyl group, methoxymethyl Group, phenoxymethyl group, 4-ethylphenoxymethyl group, phenylthiomethyl group, t-butyl group, dicyanomethyl group, diphenylmethyl group, triphenylmethyl group, methoxycarbonyldiphenylmethyl group, cyanodiphenylmethyl , A methylthiodiphenylmethyl group), an alkenyl group (an alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms, for example, a vinyl group, a 2-ethoxycarbonylvinyl group, a 2-trifluoro-2-methoxycarbonylvinyl group, a 2,2-dicyanovinyl) Group, 2-cyano-2-methoxycarbonylvinyl group, etc.) and aryl group (monocyclic or condensed-ring aryl group containing a benzene ring, particularly preferred are, for example, phenyl group, perfluorophenyl group, 3,5 -Dichlorophenyl group, 2-methanesulfonamidophenyl group, 2-carbamoylphenyl group, 4,
5-dicyanophenyl group, 2-hydroxymethylphenyl group, 2,6-dichloro-4-cyanophenyl group, 2-
A chloro-5-octylsulfamoylphenyl group), a heterocyclic group (a 5- to 6-membered, saturated or unsaturated, monocyclic or condensed heterocyclic group containing at least one nitrogen, oxygen, and sulfur atom) For example, morpholino group, piperidino group (N-substituted), imidazolyl group, indazolyl group, pyrazolyl group, triazolyl group, benzimidazolyl group, tetrazolyl group, pyridyl group, pyridinio group, quinolinio group, quinolyl group, hydantoyl group, imidazolidinyl group and the like) An alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, for example, a methoxy group, a 2-hydroxyethoxy group, a benzyloxy group, a t-butoxy group, etc.), an amino group (an unsubstituted amino group, and a 1 to 10 carbon atoms). An alkylamino group, an arylamino group, or a saturated or unsaturated heterocyclic amino (Including a nitrogen-containing heterocyclic amino group containing a quaternized nitrogen atom), for example, a 2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-ylamino group, a propylamino group, a 2-hydroxyethylamino group , Anilino group, o-hydroxyanilino group, 5-benzotriazolylamino group, N-benzyl-3-pyridinioamino group, etc.). The group represented by R 1 may be substituted with any substituent.

【0060】式(H)におけるR1で表される基のうち
好ましいものは、R2がフェニル基ないしは芳香族ヘテ
ロ環基を表し、かつG1が−CO−基の場合には、水素
原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基、またはヘテロ環基であり、さらに好ましくは水
素原子、アルキル基、アリール基であり、最も好ましく
は水素原子またはアルキル基である。ここでR1がアル
キル基を表す時、その置換基としてはハロゲン原子、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、ヒドロキシ基、スルホンアミド基、アミノ
基、アシルアミノ基、カルボキシ基が特に好ましい。式
(H)におけるR2が置換メチル基を表し、かつG1が
−CO−基の場合には、R1は好ましくは水素原子、ア
ルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、ア
ミノ基(無置換アミノ基、アルキルアミノ基、アリール
アミノ基、ヘテロ環アミノ基)であり、さらに好ましく
は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ア
ルコキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘ
テロ環アミノ基である。G1が−COCO−基の場合に
は、R2に関わらず、式(H)におけるR1はアルコキシ
基、アリールオキシ基、アミノ基が好ましく、特に置換
アミノ基、詳しくはアルキルアミノ基、アリールアミノ
基、または飽和もしくは不飽和のヘテロ環アミノ基が好
ましい。またG1が−SO2−基の場合には、R2に関わ
らず、式(H)におけるR1はアルキル基、アリール基
または置換アミノ基が好ましい。
Among the groups represented by R 1 in the formula (H), preferred are those wherein when R 2 represents a phenyl group or an aromatic heterocyclic group and G 1 is a —CO— group, a hydrogen atom, It is an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and most preferably a hydrogen atom or an alkyl group. When R 1 represents an alkyl group, the substituent is preferably a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a hydroxy group, a sulfonamide group, an amino group, an acylamino group, or a carboxy group. . When R 2 in the formula (H) represents a substituted methyl group and G 1 is a —CO— group, R 1 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an amino group ( Unsubstituted amino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group), more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic group. It is an amino group. In the case of G1 is -COCO- group, regardless of R 2, R 1 is an alkoxy group in formula (H), an aryloxy group, an amino group preferably, a substituted amino group, specifically an alkylamino group, an arylamino Groups or saturated or unsaturated heterocyclic amino groups are preferred. G1 is -SO 2 also - group, regardless of R 2, R 1 in formula (H) is an alkyl group, an aryl group or a substituted amino group.

【0061】式(H)に於いてG1は好ましくは−CO
−基または−COCO−基であり、特に好ましくは−C
O−基である。式(H)に於いてA1、A2は水素原子、
炭素数20以下のアルキルまたはアリールスルホニル基
(好ましくはフェニルスルホニル基、又はハメットの置
換基定数の和が−0.5以上となるように置換されたフ
ェニルスルホニル基)、炭素数20以下のアシル基(好
ましくはベンゾイル基、又はハメットの置換基定数の和
が−0.5以上となるように置換されたベンゾイル基、
あるいは直鎖、分岐、又は環状の置換もしくは無置換の
脂肪族アシル基である。A1、A2としては水素原子が最
も好ましい。
In the formula (H), G1 is preferably -CO
Or a -COCO- group, particularly preferably -C
O- group. In the formula (H), A 1 and A 2 are hydrogen atoms,
An alkyl or arylsulfonyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a phenylsulfonyl group or a phenylsulfonyl group substituted so that the sum of Hammett's substituent constants becomes -0.5 or more), an acyl group having 20 or less carbon atoms (Preferably a benzoyl group, or a benzoyl group substituted such that the sum of Hammett's substituent constants is -0.5 or more,
Alternatively, it is a linear, branched, or cyclic substituted or unsubstituted aliphatic acyl group. A 1 and A 2 are most preferably hydrogen atoms.

【0062】式(H)に於いてm1は1または0を表す
が、m1が0の時、R1は脂肪族基、芳香族基、または
ヘテロ環基を表す。m1が0の時、R1は特に好ましく
はフェニル基、炭素数1〜3の置換アルキル基、または
アルケニル基であり、これらのうちフェニル基および炭
素数1〜3の置換アルキル基については、その好ましい
範囲は先に説明したR2の好ましい範囲と同じである。
式(H)におけるR1がアルケニル基の時、好ましくは
1はビニル基であり、以下の置換基、即ち、シアノ
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、ト
リフルオロメチル基、カルバモイル基等から選ばれる置
換基を、1つないしは2つ有するビニル基が特に好まし
い。具体的には、2,2−ジシアノビニル基、2−シア
ノ−2−メトキシカルボニルビニル基、2−アセチル−
2−エトキシカルボニルビニル基等が挙げられる。m1
は好ましくは1である。
[0062] represents a m1 is 1 or 0 In the formula (H), when m1 is 0, R 1 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. When m1 is 0, R 1 is particularly preferably a phenyl group, a substituted alkyl group or alkenyl group, having 1 to 3 carbon atoms, for a phenyl group and a substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms among these, the The preferred range is the same as the preferred range of R 2 described above.
When R 1 in the formula (H) is an alkenyl group, preferably R 1 is a vinyl group, and the following substituents: a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a carbamoyl group A vinyl group having one or two substituents selected from the above is particularly preferred. Specifically, a 2,2-dicyanovinyl group, a 2-cyano-2-methoxycarbonylvinyl group, a 2-acetyl-
And a 2-ethoxycarbonylvinyl group. m1
Is preferably 1.

【0063】式(H)に於いてR1はG1−R1の部分を
残余分子から分裂させ、−G1−R 1部分の原子を含む
環式構造を生成させる環化反応を生起するようなもので
あってもよく、また式(H)で表されるヒドラジン誘導
体には、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が組
み込まれていてもよい。式(H)のR1またはR2にはそ
の中に、カプラ−等の不動性写真用添加剤において常用
されているバラスト基またはポリマ−が組み込まれてい
るものでもよく、また式(H)のR1またはR2は、置換
基としてヒドラジノ基を複数個含んでいてもよく、この
時式(H)で表される化合物は、ヒドラジノ基に関して
の多量体を表す。さらに式(H)のR1またはR2は、そ
の中にカチオン性基(具体的には、4級のアンモニオ基
を含む基、または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘ
テロ環基等)、エチレンオキシ基もしくはプロピレンオ
キシ基の繰り返し単位を含む基、(アルキル,アリー
ル,またはヘテロ環)チオ基、あるいは塩基により解離
しうる解離性基(カルボキシ基、スルホ基、アシルスル
ファモイル基、カルバモイルスルファモイル基等)が含
まれていてもよい。これらの例としては、例えば特開昭
63−29751号、米国特許第4,385,108
号、同4,459,347号、特開昭59−19523
3号、同59−200231号、同59−201045
号、同59−201046号、同59−201047
号、同59−201048号、同59−201049
号、特開昭61−170733号、同61−27074
4号、同62−948号、同63−234244号、同
63−234245号、同63−234246号、特開
平2−285344号、特開平1−100530号、特
開昭64−86134号、特開平4−16938号、特開平5−197091
号、WO95/32452号、WO95/32453
号、特開平9-235264号、特開平9-235265号、特開平9-23
5266号、特開平9-235267号、特開平9-179229号、特開平
7−234471号、特開平5−333466号、特開
平6−19032号、特開平6−19031号、特開平
5−45761号、米国特許4,994,365号、米
国特許4,988,604号、特開平73−25924
0号、特開平7−5610号、特開平7−244348
号、独特許4006032号等に記載の化合物が挙げら
れる。
In the formula (H), R1Is G1-R1Part of
Split from the remaining molecules, -G1-R 1Including partial atoms
It is a kind of cyclization reaction that produces a cyclic structure
Hydrazine derivative represented by the formula (H)
The body contains a group of adsorptive groups that adsorb to silver halide.
It may be embedded. R of formula (H)1Or RTwoNisso
Is commonly used in immobile photographic additives such as couplers
Embedded ballast groups or polymers
And R of formula (H)1Or RTwoReplace
It may contain a plurality of hydrazino groups as a group.
The compound represented by the formula (H) has a hydrazino group
Represents a multimer. Further, R of the formula (H)1Or RTwoIs
A cationic group (specifically, a quaternary ammonium group)
Or a nitrogen-containing group containing a quaternized nitrogen atom.
Terrorist ring), ethyleneoxy or propylene
A group containing a repeating unit of an xyl group, (alkyl, aryl
Or heterocycle) dissociated by thio group or base
Possible dissociable groups (carboxy, sulfo, acylsul
Famoyl group, carbamoylsulfamoyl group, etc.)
It may be rare. Examples of these include, for example,
No. 63-29751, U.S. Pat. No. 4,385,108
No. 4,459,347, JP-A-59-19523.
No. 3, No. 59-200231, No. 59-201045
Nos. 59-201046 and 59-201047
Nos. 59-201048 and 59-201049
And JP-A-61-170733 and 61-27074.
No. 4, No. 62-948, No. 63-234244, No.
63-234245, 63-234246, JP
JP-A-2-285344, JP-A-1-100530,
Kaikai 64-86134, JP-A-4-16938, JP-A-5-197091
No., WO95 / 32452, WO95 / 32453
No., JP-A-9-235264, JP-A-9-235265, JP-A-9-23
No. 5266, JP-A-9-235267, JP-A-9-179229, JP-A
7-234471, JP-A-5-333466, JP-A-5-333466
JP-A-6-19032, JP-A-6-19031, JP-A-6-19031
5-45761, U.S. Pat. No. 4,994,365, U.S.A.
Japanese Patent No. 4,988,604, JP-A-73-25924
No. 0, JP-A-7-5610, JP-A-7-244348
And compounds described in German Patent No. 4006032 and the like.
It is.

【0064】次に式(H)で示される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物に限定され
るものではない。
Next, specific examples of the compound represented by the formula (H) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0065】[0065]

【表1】 [Table 1]

【0066】[0066]

【表2】 [Table 2]

【0067】[0067]

【表3】 [Table 3]

【0068】[0068]

【表4】 [Table 4]

【0069】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は2
種以上を併用しても良い。また上記のものの他に、下記
のヒドラジン誘導体も用いることができる(場合によっ
ては組み合わせて用いることもできる。)。本発明で用
いられるヒドラジン誘導体はまた、下記の特許に記載さ
れた種々の方法により、合成することができる。即ち、
特開平10−10672号、特開平10−161270
号、特開平10−62898号、特開平9−30487
0号、特開平9−304872号、特開平9−3048
71号、特開平10−31282号、米国特許5496
695号、欧州特許741320A号に記載のすべての
ヒドラジン誘導体。
The hydrazine derivative used in the present invention is 2
More than one species may be used in combination. In addition to the above, the following hydrazine derivatives can be used (in some cases, they can be used in combination). The hydrazine derivative used in the present invention can also be synthesized by various methods described in the following patents. That is,
JP-A-10-10672, JP-A-10-161270
JP-A-10-62898, JP-A-9-30487
0, JP-A-9-304872, JP-A-9-3048
No. 71, JP-A-10-31282, U.S. Pat.
695, all hydrazine derivatives described in EP 714320A.

【0070】ヒドラジン誘導体は、水または適当な有機
溶媒、例えばアルコ−ル類(メタノ−ル、エタノ−ル、
プロパノ−ル、フッ素化アルコ−ル)、ケトン類(アセ
トン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解し
て用いることができる。また、既によく知られている乳
化分散法によって、ジブチルフタレ−ト、トリクレジル
フォスフェ−ト、グリセリルトリアセテ−トあるいはジ
エチルフタレ−トなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘ
キサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化
分散物を作製して用いることができる。あるいは固体分
散法として知られている方法によって、ヒドラジン誘導
体の粉末を水等の適当な溶媒中にボ−ルミル、コロイド
ミル、あるいは超音波によって分散し用いることができ
る。ヒドラジン誘導体は、支持体に対して画像記録層側
の該画像記録層あるいは他のどの層に添加してもよい
が、該画像記録層あるいはそれに隣接する層に添加する
ことが好まい。ヒドラジン誘導体の添加量は銀1モルに
対し1×10-6〜1モルが好ましく、1×10-5〜5×
10-1モルがより好ましく、2×10-5〜2×10-1
ルが最も好ましい。
The hydrazine derivative can be prepared by using water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol,
Propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide,
It can be used by dissolving it in dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve or the like. In addition, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone is dissolved by a well-known emulsification dispersion method. Then, an emulsified dispersion can be prepared and used mechanically. Alternatively, the hydrazine derivative powder can be dispersed in a suitable solvent such as water using a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method and used. The hydrazine derivative may be added to the image recording layer or any other layer on the image recording layer side with respect to the support, but is preferably added to the image recording layer or a layer adjacent thereto. The amount of the hydrazine derivative to be added is preferably 1 × 10 -6 to 1 mol per 1 mol of silver, and 1 × 10 -5 to 5 ×.
10 -1 mol is more preferable, and 2 x 10 -5 to 2 x 10 -1 mol is most preferable.

【0071】本発明において造核剤として好ましく用い
られる式(1)で表される置換アルケン誘導体、式
(2)で表される置換イソオキサゾール誘導体、および
式(3)で表される特定のアセタール化合物について説
明する。
In the present invention, a substituted alkene derivative represented by the formula (1), a substituted isoxazole derivative represented by the formula (2), and a specific acetal represented by the formula (3) are preferably used as a nucleating agent. The compound will be described.

【0072】[0072]

【化6】 Embedded image

【0073】式(1)においてR11、R12、R13は、それ
ぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引
性基またはシリル基を表す。式(1)においてR11とZ、
12とR13、R11とR12、或いはR13とZは、互いに結
合して環状構造を形成していてもよい。式(2)において
14は、置換基を表す。式(3)に於いてX、Yはそれぞ
れ独立に水素原子または置換基を表し、A、Bはそれぞ
れ独立に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルア
ミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ
基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ
環アミノ基を表す。式(3)においてXとY、あるいはA
とBは、互いに結合して環状構造を形成していてもよ
い。
In the formula (1), R 11 , R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group or a silyl group. In the formula (1), R 11 and Z,
R 12 and R 13 , R 11 and R 12 , or R 13 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure. In the formula (2), R 14 represents a substituent. In the formula (3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, Represents a heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic amino group. In equation (3), X and Y or A
And B may combine with each other to form a cyclic structure.

【0074】式(1)で表される化合物について詳しく説
明する。式(1)においてR11、R12、R13は、それぞれ
独立に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性基
またはシリル基を表す。式(1)においてR11とZ、R12
とR13、R11とR12、或いはR13とZは、互いに結合し
て環状構造を形成していてもよい。R11、R12、R13
置換基を表す時、置換基の例としては、例えばハロゲン
原子(フッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃素
原子)、アルキル基(アラルキル基、シクロアルキル
基、活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリール基、ヘテロ環基(N−置換の含窒素ヘテ
ロ環基を含む)、4級化された窒素原子を含むヘテロ環
基(例えばピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、カルボキシ基またはその塩、イミノ基、N原子で置
換したイミノ基、チオカルボニル基、スルホニルカルバ
モイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカル
バモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモ
イル基、シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基
またはその塩、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしく
はプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、
アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ
基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニル
オキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ
基、アミノ基、(アルキル、アリール、またはヘテロ
環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウ
レイド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシも
しくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファ
モイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジ
ド基、ヒドラジノ基、4級のアンモニオ基、オキサモイ
ルアミノ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニル
ウレイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイル
アミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル、アリ
ール、またはヘテロ環)チオ基、アシルチオ基、(アル
キルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたは
アリール)スルフィニル基、スルホ基またはその塩、ス
ルファモイル基、アシルスルファモイル基、スルホニル
スルファモイル基またはその塩、ホスホリル基、リン酸
アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、シリル
基、スタニル基等が挙げられる。これら置換基は、これ
ら置換基でさらに置換されていてもよい。
The compound represented by the formula (1) will be described in detail. In the formula (1), R 11 , R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group or a silyl group. In the formula (1), R 11 and Z, R 12
And R 13 , R 11 and R 12 , or R 13 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure. When R 11 , R 12 and R 13 represent a substituent, examples of the substituent include, for example, a halogen atom (a fluorine atom, a chloro atom, a bromine atom or an iodine atom), an alkyl group (an aralkyl group, a cycloalkyl group, Active methine group, etc.), alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group (including N-substituted nitrogen-containing heterocyclic group), heterocyclic group containing quaternized nitrogen atom (eg, pyridinio group) ), Acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or a salt thereof, imino group, imino group substituted with N atom, thiocarbonyl group, sulfonylcarbamoyl group, acylcarbamoyl group, sulfamoylcarbamoyl Group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, thiocarbamoyl group, hydroxy Or a salt thereof, an alkoxy group (including a group containing repeating ethyleneoxy group or propyleneoxy group units),
Aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide Group, ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonium group, oxamoylamino group, (alkyl Or aryl) sulfonyluureido, acylureido, acylsulfamoylamino, nitro, mercapto, (alkyl, aryl or heterocycle) thio, acylthio, (alkyl or aryl) s A honyl group, an (alkyl or aryl) sulfinyl group, a sulfo group or a salt thereof, a sulfamoyl group, an acylsulfamoyl group, a sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, a phosphoryl group, a group containing a phosphoric acid amide or a phosphate ester structure, Examples thereof include a silyl group and a stannyl group. These substituents may be further substituted with these substituents.

【0075】式(1)においてZで表される電子吸引性基
とは、ハメットの置換基定数σpが正の値を取りうる置
換基のことであり、具体的には、シアノ基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモ
イル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオカ
ルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、ニトロ基、ハロゲン原子、
パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルカンアミド
基、スルホンアミド基、アシル基、ホルミル基、ホスホ
リル基、カルボキシ基(またはその塩)、スルホ基(ま
たはその塩)、ヘテロ環基、アルケニル基、アルキニル
基、アシルオキシ基、アシルチオ基、スルホニルオキシ
基、またはこれら電子吸引性基で置換されたアリール基
等である。ここにヘテロ環基としては、飽和もしくは不
飽和のヘテロ環基で、例えばピリジル基、キノリル基、
ピラジニル基、キノキサリニル基、ベンゾトリアゾリル
基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、ヒダント
イン−1−イル基、スクシンイミド基、フタルイミド基
等がその例として挙げられる。式(1)においてZで表さ
れる電子吸引性基は、さらに置換基を有していてもよ
く、その置換基としては、式(1)のR11、R12、R13
置換基を表す時に有していてもよい置換基と同じものが
挙げられる。式(1)においてR11とZ、R12とR13、R
11とR12、あるいはR13とZは、互いに結合して環状構
造を形成していてもよいが、この時形成される環状構造
とは、非芳香族の炭素環もしくは非芳香族のヘテロ環で
ある。
The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (1) is a substituent whose Hammett's substituent constant σ p can take a positive value. Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, halogen atom,
Perfluoroalkyl group, perfluoroalkaneamide group, sulfonamide group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, carboxy group (or salt thereof), sulfo group (or salt thereof), heterocyclic group, alkenyl group, alkynyl group, Examples include an acyloxy group, an acylthio group, a sulfonyloxy group, and an aryl group substituted with these electron-withdrawing groups. Here, the heterocyclic group is a saturated or unsaturated heterocyclic group, for example, a pyridyl group, a quinolyl group,
Examples thereof include a pyrazinyl group, a quinoxalinyl group, a benzotriazolyl group, an imidazolyl group, a benzimidazolyl group, a hydantoin-1-yl group, a succinimide group, and a phthalimido group. The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (1) may further have a substituent, and as the substituent, R 11 , R 12 , and R 13 in the formula (1) represent a substituent. The same substituents as the substituents which may be present at the time of expression are exemplified. In the formula (1), R 11 and Z, R 12 and R 13 , R
11 and R 12 , or R 13 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure. The cyclic structure formed at this time is a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. It is.

【0076】次に式(1)で表される化合物の好ましい範
囲について述べる。式(1)に於いてZで表されるシリル
基として好ましくは、具体的にトリメチルシリル基、t
−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル
基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、
トリメチルシリルジメチルシリル基等である。式(1)に
おいてZで表される電子吸引性基として好ましくは、総
炭素数0〜30の以下の基、即ち、シアノ基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバ
モイル基、チオカルボニル基、イミノ基、N原子で置換
したイミノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロア
ルキル基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、アシ
ルオキシ基、アシルチオ基、または任意の電子吸引性基
で置換されたフェニル基等であり、さらに好ましくは、
シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、
イミノ基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、アシル基、ホルミル基、ホスホ
リル基、トリフルオロメチル基、または任意の電子吸引
性基で置換されたフェニル基等であり、特に好ましくは
シアノ基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基、イミノ基またはカルバモイル基である。式(1)に
おいてZで表される基は、電子吸引性基がより好まし
い。
Next, the preferred range of the compound represented by the formula (1) will be described. The silyl group represented by Z in the formula (1) is preferably a trimethylsilyl group, t
-Butyldimethylsilyl group, phenyldimethylsilyl group, triethylsilyl group, triisopropylsilyl group,
And a trimethylsilyldimethylsilyl group. The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (1) is preferably a group having a total number of carbon atoms of 0 to 30, that is, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a thiocarbonyl group, Imino group, imino group substituted by N atom, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, perfluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, acyloxy group, acylthio group, or any electron withdrawing A phenyl group substituted with a functional group, and more preferably,
Cyano group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group,
Imino group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group,
An arylsulfonyl group, an acyl group, a formyl group, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, or a phenyl group substituted with any electron-withdrawing group, and particularly preferably a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group , An imino group or a carbamoyl group. The group represented by Z in the formula (1) is more preferably an electron-withdrawing group.

【0077】式(1)においてR11、R12、およびR13
表される置換基として好ましくは、総炭素数0〜30の
基で、具体的には上述の式(1)のZで表される電子吸引
性基と同義の基、およびアルキル基、ヒドロキシ基(ま
たはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ
基、ウレイド基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
または置換もしくは無置換のアリール基等が挙げられ
る。
The substituent represented by R 11 , R 12 and R 13 in the formula (1) is preferably a group having a total carbon number of 0 to 30, specifically, Z in the above formula (1). A group having the same meaning as the electron-withdrawing group represented, and an alkyl group, a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, Heterocyclic thio group, amino group,
Alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, ureido group, acylamino group, sulfonamide group,
Or a substituted or unsubstituted aryl group.

【0078】さらに式(1)においてR11は、好ましくは
電子吸引性基、アリール基、アルキルチオ基、アルコキ
シ基、またはアシルアミノ基、水素原子、またはシリル
基である。R11が電子吸引性基を表す時、好ましくは総
炭素数0〜30の以下の基、即ち、シアノ基、ニトロ
基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、チオカルボニル基、イミ
ノ基、N原子で置換したイミノ基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、スルファ
モイル基、トリフルオロメチル基、ホスホリル基、カル
ボキシ基(またはその塩)、または飽和もしくは不飽和
のヘテロ環基であり、さらにシアノ基、アシル基、ホル
ミル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イ
ミノ基、N原子で置換したイミノ基、スルファモイル
基、カルボキシ基(またはその塩)、または飽和もしく
は不飽和のヘテロ環基が好ましい。特に好ましくはシア
ノ基、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、または飽和もしくは不飽和のヘテ
ロ環基である。
Further, in the formula (1), R 11 is preferably an electron-withdrawing group, an aryl group, an alkylthio group, an alkoxy group, or an acylamino group, a hydrogen atom, or a silyl group. When R 11 represents an electron withdrawing group, preferably the following groups having a total carbon number of 0 to 30, that is, a cyano group, a nitro group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group,
An aryloxycarbonyl group, a thiocarbonyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a phosphoryl group, a carboxy group (or a salt thereof), Or a saturated or unsaturated heterocyclic group, and a cyano group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a sulfamoyl group, a carboxy group (or a salt thereof) Or a saturated or unsaturated heterocyclic group. Particularly preferred are a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and a saturated or unsaturated heterocyclic group.

【0079】R11がアリール基を表す時、好ましくは総
炭素数6〜30の、置換もしくは無置換のフェニル基で
あり、置換基としては、任意の置換基が挙げられるが、
中でも電子吸引性の置換基が好ましい。式(1)において
11は、より好ましくは、電子吸引性基またはアリール
基を表す時である。式(1)においてR12およびR13で表
される置換基として好ましくは、具体的に、上述の式
(1)のZで表される電子吸引性基と同義の基、アルキル
基、ヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(また
はその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ
環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ
環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、
ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、置換もしくは無置
換のフェニル基等である。
When R 11 represents an aryl group, it is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 30 carbon atoms, and the substituent may be any substituent.
Among them, an electron-withdrawing substituent is preferable. In formula (1), R 11 more preferably represents an electron-withdrawing group or an aryl group. In the formula (1), the substituents represented by R 12 and R 13 are preferably, specifically,
(1) a group having the same meaning as the electron-withdrawing group represented by Z, an alkyl group, a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group; Group, arylthio group, heterocyclic thio group, amino group, alkylamino group, anilino group,
Examples include a heterocyclic amino group, an acylamino group, and a substituted or unsubstituted phenyl group.

【0080】式(1)においてR12およびR13は、さらに
好ましくは、どちらか一方が水素原子で、他方が置換基
を表す時である。その置換基として好ましくは、アルキ
ル基、ヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(ま
たはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテ
ロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテ
ロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ
基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基(特にパーフル
オロアルカンアミド基)、スルホンアミド基、置換もし
くは無置換のフェニル基、またはヘテロ環基等であり、
さらに好ましくはヒドロキシ基(またはその塩)、メルカ
プト基(またはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環基であり、特に好
ましくはヒドロキシ基(またはその塩)、アルコキシ基、
またはヘテロ環基である。式(1)においてZとR11、或
いはまたR12とR13とが環状構造を形成する場合もまた
好ましい。この場合に形成される環状構造は、非芳香族
の炭素環もしくは非芳香族のヘテロ環であり、好ましく
は5員〜7員の環状構造で、置換基を含めたその総炭素
数は1〜40、さらには3〜30が好ましい。
In formula (1), R 12 and R 13 are more preferably when one of them is a hydrogen atom and the other is a substituent. Preferably as the substituent, an alkyl group, a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group Group, an alkylamino group, an anilino group, a heterocyclic amino group, an acylamino group (particularly a perfluoroalkaneamide group), a sulfonamide group, a substituted or unsubstituted phenyl group, or a heterocyclic group,
More preferably a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic group, Preferably a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group,
Or a heterocyclic group. In the formula (1), it is also preferable that Z and R 11 , or R 12 and R 13 form a cyclic structure. The cyclic structure formed in this case is a non-aromatic carbocyclic or non-aromatic heterocyclic ring, preferably a 5- to 7-membered cyclic structure having a total carbon number including a substituent of 1 to 40, more preferably 3 to 30.

【0081】式(1)で表される化合物の中で、より好ま
しいものの1つは、Zがシアノ基、ホルミル基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、イミノ基、またはカルバ
モイル基を表し、R11が電子吸引性基またはアリール基
を表し、R12またはR13のどちらか一方が水素原子で、
他方がヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(ま
たはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテ
ロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテ
ロ環チオ基、またはヘテロ環基を表す化合物である。さ
らにまた一般式(1)で表される化合物の中で特に好まし
いものの1つは、ZとR11とが非芳香族の5員〜7員の
環状構造を形成していて、R12またはR 13のどちらか一
方が水素原子で、他方がヒドロキシ基(またはその塩)、
メルカプト基(またはその塩)、アルコキシ基、アリール
オキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環基を表す化
合物である。この時、R11と共に非芳香族の環状構造を
形成するZとしては、アシル基、カルバモイル基、オキ
シカルボニル基、チオカルボニル基、スルホニル基等が
好ましく、またR11としては、アシル基、カルバモイル
基、オキシカルボニル基、チオカルボニル基、スルホニ
ル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、アシルア
ミノ基、カルボニルチオ基等が好ましい。
Among the compounds represented by the formula (1), more preferred
One of the most desirable is that Z is a cyano group, a formyl group, an acyl group.
Group, alkoxycarbonyl group, imino group, or carb
Represents a moyl group;11Is an electron-withdrawing group or an aryl group
And R12Or R13One of them is a hydrogen atom,
The other is a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or
Or its salt), an alkoxy group, an aryloxy group,
Ring oxy, alkylthio, arylthio, hete
It is a compound that represents a rocyclic thio group or a heterocyclic group. Sa
Further, among the compounds represented by the general formula (1), they are particularly preferred.
One of the things is Z and R11Is a non-aromatic 5- to 7-member
Forming a ring structure,12Or R 13Either one
Is a hydrogen atom, the other is a hydroxy group (or a salt thereof),
Mercapto group (or salt thereof), alkoxy group, aryl
Oxy group, heterocyclic oxy group, alkylthio group, aryl
A compound representing a luthio group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic group
It is a compound. At this time, R11Together with a non-aromatic cyclic structure
As Z to be formed, an acyl group, a carbamoyl group,
A cyclocarbonyl group, a thiocarbonyl group, a sulfonyl group, etc.
Preferred and R11Represents an acyl group, carbamoyl
Group, oxycarbonyl group, thiocarbonyl group, sulfoni
Group, imino group, imino group substituted by N atom, acyl group
A mino group and a carbonylthio group are preferred.

【0082】次に式(2)で表される化合物について説明
する。式(2)においてR14は置換基を表す。R14で表さ
れる置換基としては、式(1)のR11〜R13の置換基につ
いて説明したものと同じものが挙げられる。R14で表さ
れる置換基は、好ましくは電子吸引性基またはアリール
基である。R14が電子吸引性基を表す時、好ましくは、
総炭素数0〜30の以下の基、即ち、シアノ基、ニトロ
基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、カルバモイル基、スルファモイ
ル基、トリフルオロメチル基、ホスホリル基、イミノ
基、または飽和もしくは不飽和のヘテロ環基であり、さ
らにシアノ基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカル
ボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロ環基が
好ましい。特に好ましくはシアノ基、ホルミル基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、また
はヘテロ環基である。
Next, the compound represented by the formula (2) will be described. In the formula (2), R 14 represents a substituent. Examples of the substituent represented by R 14 include the same as those described for the substituents of R 11 to R 13 in the formula (1). The substituent represented by R 14 is preferably an electron-withdrawing group or an aryl group. When R 14 represents an electron withdrawing group, preferably
The following groups having a total carbon number of 0 to 30, namely, a cyano group, a nitro group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group,
Aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group,
Arylsulfonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, trifluoromethyl group, phosphoryl group, imino group, or a saturated or unsaturated heterocyclic group, further cyano group, acyl group, formyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, Sulfamoyl, alkylsulfonyl, arylsulfonyl, and heterocyclic groups are preferred. Particularly preferred are a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, and a heterocyclic group.

【0083】R14がアリール基を表す時、好ましくは総
炭素数0〜30の、置換もしくは無置換のフェニル基で
あり、置換基としては、式(1)のR11,R12,R13が置
換基を表す時にその置換基として説明したものと同じも
のが挙げられる。R14は、特に好ましくはシアノ基、ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヘテロ環基、
または置換もしくは無置換のフェニル基であり、最も好
ましくはシアノ基、ヘテロ環基、またはアルコキシカル
ボニル基である。
When R 14 represents an aryl group, it is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group having a total of 0 to 30 carbon atoms, and the substituent is represented by R 11 , R 12 , R 13 of the formula (1). When represents a substituent, the same as those described as the substituent can be mentioned. R 14 is particularly preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a heterocyclic group,
Or a substituted or unsubstituted phenyl group, most preferably a cyano group, a heterocyclic group, or an alkoxycarbonyl group.

【0084】次に式(3)で表される化合物について詳し
く説明する。式(3)においてX、Yはそれぞれ独立に水
素原子または置換基を表し、A、Bはそれぞれ独立に、
アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ア
リールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ
環チオ基、ヘテロ環オキシ基、またはヘテロ環アミノ基
を表す。XとY、あるいはAとBは、互いに結合して環
状構造を形成していてもよい。式(3)においてX、Yで
表される置換基としては、式(1)のR11〜R13の置換基
について説明したものと同じものが挙げられる。具体的
には、アルキル基(パーフルオロアルキル基、トリクロ
ロメチル基等を含む)、アリール基、ヘテロ環基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、イミノ基、N原子で
置換したイミノ基、カルバモイル基、チオカルボニル
基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルフ
ァモイル基、ホスホリル基、カルボキシ基(またはその
塩)、スルホ基(またはその塩)、ヒドロキシ基(また
はその塩)、メルカプト基(またはその塩)、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、
アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、シ
リル基等が挙げられる。これらの基はさらに置換基を有
していてもよい。またXとYは、互いに結合して環状構
造を形成していてもよく、この場合に形成される環状構
造としては、非芳香族の炭素環でも、非芳香族のヘテロ
環であってもよい。
Next, the compound represented by the formula (3) will be described in detail. In the formula (3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent:
Represents an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic thio group, a heterocyclic oxy group, or a heterocyclic amino group. X and Y or A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure. As the substituents represented by X and Y in the formula (3), the same substituents as described for the substituents of R 11 to R 13 in the formula (1) can be mentioned. Specifically, alkyl groups (including perfluoroalkyl groups, trichloromethyl groups, etc.), aryl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, cyano groups, nitro groups, alkenyl groups, alkynyl groups, acyl groups, formyl groups, alkoxy groups Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, carbamoyl group, thiocarbonyl group, acyloxy group, acylthio group, acylamino group,
Alkylsulfonyl, arylsulfonyl, sulfamoyl, phosphoryl, carboxy (or salt thereof), sulfo (or salt thereof), hydroxy (or salt thereof), mercapto (or salt thereof), alkoxy, aryl Oxy group, heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, amino group,
Examples thereof include an alkylamino group, an anilino group, a heterocyclic amino group, and a silyl group. These groups may further have a substituent. X and Y may be bonded to each other to form a cyclic structure, and the cyclic structure formed in this case may be a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. .

【0085】式(3)においてX、Yで表される置換基
は、好ましくは総炭素数1〜40の、より好ましくは総
炭素数1〜30の基であり、シアノ基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオカルボ
ニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロアルキル
基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、アシルアミ
ノ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ヘテロ環基、ア
ルキルチオ基、アルコキシ基、またはアリール基等が挙
げられる。式(3)においてX、Yは、より好ましくはシ
アノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カルバモ
イル基、アシル基、ホルミル基、アシルチオ基、アシル
アミノ基、チオカルボニル基、スルファモイル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、イミノ基、
N原子で置換したイミノ基、ホスホリル基、トリフルオ
ロメチル基、ヘテロ環基、または置換されたフェニル基
等であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、アシル基、アシルチオ基、アシルア
ミノ基、チオカルボニル基、ホルミル基、イミノ基、N
原子で置換したイミノ基、ヘテロ環基、または任意の電
子吸引性基で置換されたフェニル基等である。
The substituents represented by X and Y in the formula (3) are preferably groups having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, and include a cyano group, an alkoxycarbonyl group, Aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, imino group, imino group substituted with N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, perfluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group , An acylamino group, an acyloxy group, an acylthio group, a heterocyclic group, an alkylthio group, an alkoxy group, or an aryl group. In the formula (3), X and Y are more preferably cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, acyl group, formyl group, acylthio group, acylamino group, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, aryl Sulfonyl group, imino group,
An imino group, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, a heterocyclic group, or a substituted phenyl group substituted with an N atom, particularly preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group , Acyl group, acylthio group, acylamino group, thiocarbonyl group, formyl group, imino group, N
Examples include an imino group substituted with an atom, a heterocyclic group, and a phenyl group substituted with an arbitrary electron-withdrawing group.

【0086】XとYが、互いに結合して非芳香族の炭素
環、または非芳香族のヘテロ環を形成している場合もま
た好ましい。この時、形成される環状構造は5員〜7員
環が好ましく、その総炭素数は1〜40、さらには3〜
30が好ましい。環状構造を形成するXおよびYとして
は、アシル基、カルバモイル基、オキシカルボニル基、
チオカルボニル基、スルホニル基、イミノ基、N原子で
置換したイミノ基、アシルアミノ基、カルボニルチオ基
等が好ましい。式(3)においてA、Bはそれぞれ独立
に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ
基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、
ヘテロ環チオ基、ヘテロ環オキシ基、またはヘテロ環ア
ミノ基を表し、これらは互いに結合して環状構造を形成
していてもよい。式(3)に於いてA、Bで表される基
は、好ましくは総炭素数1〜40の、より好ましくは総
炭素数1〜30の基であり、さらに置換基を有していて
もよい。
It is also preferable that X and Y combine with each other to form a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. At this time, the cyclic structure to be formed is preferably a 5- to 7-membered ring, and has a total carbon number of 1 to 40, more preferably 3 to 7 members.
30 is preferred. X and Y forming a cyclic structure include an acyl group, a carbamoyl group, an oxycarbonyl group,
Preferred are a thiocarbonyl group, a sulfonyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, an acylamino group, a carbonylthio group and the like. In the formula (3), A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group,
Represents a heterocyclic thio group, a heterocyclic oxy group, or a heterocyclic amino group, which may be bonded to each other to form a cyclic structure. In the formula (3), the groups represented by A and B are preferably groups having a total carbon number of 1 to 40, more preferably groups having a total number of carbon atoms of 1 to 30, and may further have a substituent. Good.

【0087】式(3)においてA、Bは、これらが互いに
結合して環状構造を形成している場合がより好ましい。
この時形成される環状構造は5員〜7員環の非芳香族の
ヘテロ環が好ましく、その総炭素数は1〜40、さらに
は3〜30が好ましい。この場合に、A,Bが連結した
例(−A−B−)を挙げれば、例えば-O-(CH2)2-O-、-O-
(CH2)3-O-、-S-(CH2)2-S-、-S-(CH2)3-S-、-S-ph-S-、-
N(CH3)-(CH2)2-O-、-N(CH3)-(CH2)2-S-、-O-(CH2)2-S
-、-O-(CH2)3-S-、-N(CH3)-ph-O-、-N(CH3)-ph-S-、-N
(ph)-(CH2)2-S-等である。
In the formula (3), A and B more preferably combine with each other to form a cyclic structure.
The cyclic structure formed at this time is preferably a 5- to 7-membered non-aromatic hetero ring, and preferably has a total carbon number of 1 to 40, and more preferably 3 to 30. In this case, A, by way of example in which B is linked (-A-B-), for example -O- (CH 2) 2 -O - , - O-
(CH 2 ) 3 -O-, -S- (CH 2 ) 2 -S-, -S- (CH 2 ) 3 -S-, -S-ph-S-,-
N (CH 3 )-(CH 2 ) 2 -O-, -N (CH 3 )-(CH 2 ) 2 -S-, -O- (CH 2 ) 2 -S
-, - O- (CH 2) 3 -S -, - N (CH 3) -ph-O -, - N (CH 3) -ph-S -, - N
(ph)-(CH 2 ) 2 -S- and the like.

【0088】本発明では、造核剤として下記式(A)お
よび式(B)で表される環状化合物が最も好ましく用い
られる。
In the present invention, cyclic compounds represented by the following formulas (A) and (B) are most preferably used as nucleating agents.

【0089】[0089]

【化7】 Embedded image

【0090】式(A)においてZ1は、−Y1−C(=C
H−X1)−C(=O)−と共に5員〜7員の環構造を形成
しうる非金属原子団を表す。Z1は好ましくは、炭素原
子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、および水素原子か
ら選ばれる原子団で、これらの中から選ばれる数個の原
子が、互いに単結合ないしは2重結合によって連結され
て、−Y1−C(=CH−X1)−C(=O)−と共に5員〜
7員の環構造を形成する。Z1は置換基を有していても
よく、またZ1自体が、芳香族もしくは非芳香族の炭素
環、或いは芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環の一部で
あってもよく、この場合、Z1が−Y1−C(=CH−
1)−C(=O)−と共に形成する5員〜7員の環構造
は、縮環構造を形成することになる。式(B)において
2は、−Y2−C(=CH−X2)―C(Y3)=N−と共に
5員〜7員の環構造を形成しうる非金属原子団を表す。
2は好ましくは、炭素原子、酸素原子、硫黄原子、窒
素原子、および水素原子から選ばれる原子団で、これら
の中から選ばれる数個の原子が、互いに単結合ないしは
2重結合によって連結されて、−Y2−C(=CH−X2)
―C(Y3)=N−と共に5員〜7員の環構造を形成す
る。Z2は置換基を有していてもよく、またZ2自体が、
芳香族もしくは非芳香族の炭素環、或いは芳香族もしく
は非芳香族のヘテロ環の一部であってもよく、この場
合、Z2が−Y2−C(=CH−X2)―C(Y3)=N−と共
に形成する5員〜7員の環構造は、縮環構造を形成する
ことになる。
In the formula (A), Z 1 is -Y 1 -C (= C
Represents a nonmetallic atomic group capable of forming a 5- to 7-membered ring structure together with H—X 1 ) —C (= O) —. Z 1 is preferably an atomic group selected from a carbon atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a hydrogen atom, and several atoms selected from these are connected to each other by a single bond or a double bond. And -Y 1 -C (= CH-X 1 ) -C (= O)-
Form a 7-membered ring structure. Z 1 may have a substituent, and Z 1 itself may be a part of an aromatic or non-aromatic carbocycle or an aromatic or non-aromatic hetero ring. , Z 1 is -Y 1 -C (= CH-
The 5- to 7-membered ring structure formed together with X 1 ) —C (= O) — forms a fused ring structure. Z 2 in the formula (B) represents -Y 2 -C (= CH-X 2) -C (Y 3) = non-metallic atomic group capable to form a 5-membered to 7-membered ring structure with N-.
Z 2 is preferably an atomic group selected from a carbon atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and a hydrogen atom, and several atoms selected from these are connected to each other by a single bond or a double bond. And -Y 2 -C (= CH-X 2 )
-C (Y 3) = to form a 5- to 7-membered ring structure with N-. Z 2 may have a substituent, and Z 2 itself is
It may be part of an aromatic or non-aromatic carbocycle or part of an aromatic or non-aromatic heterocycle, in which case Z 2 is —Y 2 —C (= CH—X 2 ) —C ( ring structure of Y 3) = 5-membered to 7-membered formed together with N- will form a condensed ring structure.

【0091】Z1およびZ2が置換基を有する場合、その
置換基の例としては、以下に挙げたものの中から選ばれ
る。即ち、代表的な置換基としては、例えばハロゲン原
子(フッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃素原
子)、アルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、
活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、複素環基、4級化された窒素原子を含
むヘテロ環基(例えばピリジニオ基)、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、スルホニル
カルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイ
ルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オ
キサモイル基、シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロ
キシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロ
ピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリー
ルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(ア
ルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ
基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミ
ノ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)アミノ
基、N−置換の含窒素ヘテロ環基、アシルアミノ基、ス
ルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド
基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニル
アミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド
基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、4級のアン
モニオ基、オキサモイルアミノ基、(アルキルもしくは
アリール)スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、
アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト
基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、
(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキル
またはアリール)スルフィニル基、スルホ基またはその
塩、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、スル
ホニルスルファモイル基またはその塩、リン酸アミドも
しくはリン酸エステル構造を含む基、シリル基、スタニ
ル基等が挙げられる。これら置換基は、これら置換基で
さらに置換されていてもよい。
When Z 1 and Z 2 have a substituent, examples of the substituent are selected from the following. That is, typical substituents include, for example, a halogen atom (fluorine atom, chloro atom, bromine atom or iodine atom), an alkyl group (aralkyl group, cycloalkyl group,
Active methine group, etc.), alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group, heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom (eg, pyridinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group Carbamoyl group, carboxy group or salt thereof, sulfonylcarbamoyl group, acylcarbamoyl group, sulfamoylcarbamoyl group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, thiocarbamoyl group, hydroxy group, alkoxy group (ethyleneoxy group or Propyleneoxy group unit), aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, Or heterocyclic) amino group, N-substituted nitrogen-containing heterocyclic group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino Group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonio group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonyluureido group, acylureido group,
Acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group,
Including (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or salt thereof, sulfamoyl group, acylsulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or salt thereof, phosphoric acid amide or phosphate ester structure Group, silyl group, stannyl group and the like. These substituents may be further substituted with these substituents.

【0092】次に式(B)のY3について説明する。式
(B)においてY3は水素原子または置換基を表すが、
3が置換基を表すとき、その置換基としては、具体的
に以下の基が挙げられる。即ち、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基、シアノ基、アシル基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、アミノ基、(アルキル、アリール、もしくはヘテロ
環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウ
レイド基、チオウレイド基、イミド基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、(アルキル、アリール、もしくはヘ
テロ環)チオ基等である。これら置換基は任意の置換基
で置換されていてもよく、具体的にはZ1またはZ2が有
していてもよい置換基の例が挙げられる。
Next, Y 3 in the formula (B) will be described. In the formula (B), Y 3 represents a hydrogen atom or a substituent,
When Y 3 represents a substituent, examples of the substituent include the following groups. That is, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, cyano group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, amino group, (alkyl, aryl or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide Group, ureido group, thioureido group, imide group, alkoxy group,
An aryloxy group, an (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group. These substituents may be substituted with any substituents, and specific examples include the substituents that Z 1 or Z 2 may have.

【0093】式(A)または式(B)において、X1
よびX2は、ヒドロキシ基(もしくはその塩)、アルコキ
シ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
イソプロポキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ
基、セチルオキシ基、t−ブトキシ基等)、アリールオ
キシ基(例えばフェノキシ基、p−t−オクチルフェノ
キシ基等)、ヘテロ環オキシ基(例えばベンゾトリアゾ
リル−5―オキシ基、ピリジニル−3―オキシ基等)、
メルカプト基(もしくはその塩)、アルキルチオ基(例え
ばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基、ドデシ
ルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ
基、p−ドデシルフェニルチオ基等)、ヘテロ環チオ基
(例えば1−フェニルテトラゾイル−5−チオ基、メル
カプトチアジアゾリルチオ基等)、アミノ基、アルキル
アミノ基(例えばメチルアミノ基、プロピルアミノ基、
オクチルアミノ基、ジメチルアミノ基等)、アリールア
ミノ基(例えばアニリノ基、ナフチルアミノ基等)、ヘ
テロ環アミノ基(例えばピリジルアミノ基、ベンゾトリ
アゾール−5−イルアミノ基等)、アシルアミノ基(例
えばアセトアミド基、オクタノイルアミノ基、ベンゾイ
ルアミノ基、トリフルオロアセチルアミノ基等)、スル
ホンアミド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼ
ンスルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基等)、
またはヘテロ環基を表す。
In the formula (A) or (B), X 1 and X 2 represent a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group (for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group,
Isopropoxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, cetyloxy group, t-butoxy group, etc., aryloxy group (eg, phenoxy group, pt-octylphenoxy group, etc.), heterocyclic oxy group (eg, benzotriazolyl) -5-oxy group, pyridinyl-3-oxy group, etc.),
Mercapto group (or salt thereof), alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, butylthio group, dodecylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, p-dodecylphenylthio group, etc.), heterocyclic thio group (eg, 1- Phenyltetrazoyl-5-thio group, mercaptothiadiazolylthio group, etc.), amino group, alkylamino group (for example, methylamino group, propylamino group,
Octylamino group, dimethylamino group, etc.), arylamino group (eg, anilino group, naphthylamino group, etc.), heterocyclic amino group (eg, pyridylamino group, benzotriazol-5-ylamino group, etc.), acylamino group (eg, acetamido group, Octanoylamino group, benzoylamino group, trifluoroacetylamino group, etc.), sulfonamide group (for example, methanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, dodecylsulfonamide group, etc.),
Or a heterocyclic group.

【0094】ここでヘテロ環基とは、窒素原子で連結す
る含窒素ヘテロ環基で、芳香族または非芳香族の、飽和
もしくは不飽和の、単環もしくは縮合環の、置換もしく
は無置換の含窒素ヘテロ環基で、例えばN−メチルヒダ
ントイル基、スクシンイミド基、フタルイミド基、N,
N'−ジメチルウラゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾ
トリアゾリル基、インダゾリル基、モルホリノ基、4,
4−ジメチル−2、5−ジオキソ−オキサゾリル基等が
挙げられる。またここで塩とはアルカリ金属(ナトリウ
ム、カリウム、リチウム)もしくはアルカリ土類金属
(マグネシウム、カルシウム)の塩、銀塩、あるいはま
た4級アンモニウム塩(テトラエチルアンモニウム塩、
ジメチルセチルベンジルアンモニウム塩等)、4級ホス
ホニウム塩等を表す。式(A)および式(B)において
1およびY2は、−C(=O)−基または−SO2−基を
表す。
Here, the heterocyclic group is a nitrogen-containing heterocyclic group linked by a nitrogen atom, and is a substituted or unsubstituted aromatic or non-aromatic, saturated or unsaturated, monocyclic or condensed ring. A nitrogen heterocyclic group such as N-methylhydantoyl group, succinimide group, phthalimide group, N,
N′-dimethylurazolyl group, imidazolyl group, benzotriazolyl group, indazolyl group, morpholino group, 4,
4-dimethyl-2,5-dioxo-oxazolyl group and the like. Here, the salt means a salt of an alkali metal (sodium, potassium, lithium) or an alkaline earth metal (magnesium, calcium), a silver salt, or a quaternary ammonium salt (tetraethylammonium salt,
Dimethylcetylbenzylammonium salt) and quaternary phosphonium salts. In the formulas (A) and (B), Y 1 and Y 2 represent a —C (= O) — group or a —SO 2 — group.

【0095】次に式(A)または式(B)で表される化
合物の好ましい範囲について説明する。式(A)または
式(B)において、Y1およびY2は好ましくは−C(=
O)−基である。式(A)または式(B)において、X1
およびX2は、好ましくはヒドロキシ基(もしくはその
塩)、アルコキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルアミノ
基、メルカプト基(もしくはその塩)、アルキルチオ基、
アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキル
アミノ基、スルホンアミド基、またはヘテロ環基であ
り、さらに好ましくはヒドロキシ基(もしくはその塩)、
アルコキシ基、メルカプト基(もしくはその塩)、アルキ
ルチオ基、またはヘテロ環基であり、特に好ましくはヒ
ドロキシ基(もしくはその塩)、メルカプト基(もしくは
その塩)、アルコキシ基、またはヘテロ環基であり、最
も好ましくはヒドロキシ基(もしくはその塩)、またはア
ルコキシ基である。式(A)または式(B)において、
1およびX2がアルコキシ基を表す時、その総炭素数は
1〜18が好ましく、さらに1〜12が好ましく、特に
好ましくは1〜5である。式(A)または式(B)にお
いて、X1およびX2がヘテロ環基を表す時、その総炭
素数は2〜20が好ましく、さらに2〜16が好まし
い。
Next, the preferred range of the compound represented by the formula (A) or (B) will be described. In the formula (A) or the formula (B), Y 1 and Y 2 are preferably -C (=
O)-group. In the formula (A) or the formula (B), X 1
And X 2 are preferably a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group, a heterocyclic oxy group, an acylamino group, a mercapto group (or a salt thereof), an alkylthio group,
An arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, a sulfonamide group, or a heterocyclic group, more preferably a hydroxy group (or a salt thereof),
An alkoxy group, a mercapto group (or a salt thereof), an alkylthio group, or a heterocyclic group, particularly preferably a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, or a heterocyclic group, Most preferably, it is a hydroxy group (or a salt thereof) or an alkoxy group. In the formula (A) or the formula (B),
When X 1 and X 2 represent an alkoxy group, the total carbon number is preferably 1 to 18, more preferably 1 to 12, and particularly preferably 1 to 5. In the formula (A) or the formula (B), when X 1 and X 2 represent a heterocyclic group, the total carbon number is preferably 2 to 20, and more preferably 2 to 16.

【0096】式(A)において、Z1は好ましくは、5
員もしくは6員の環状構造を形成しうる原子団であり、
その具体的な例としては、窒素原子、炭素原子、硫黄原
子もしくは酸素原子から選ばれる原子団、例えば、−N
−N−,−N−C−,−O−C−,−C−C−,−C=
C−,−S−C−,−C=C−N−,−C=C−O−,
−N−C−N−,−N=C−N−,−C−C−C−,−
C=C−C−,−O−C−O−等が、さらに水素原子も
しくは置換基を有している場合が挙げられる。Z1はよ
り好ましくは、−N−N−,−N−C−,−O−C−,
−C−C−,−C=C−,−S−C−,−N−C−N
−,−C=C−N−等の原子団が、さらに水素原子もし
くは置換基を有している場合であり、特に好ましくは、
−N−N−,−N−C−,−C=C−等の原子団が、さ
らに水素原子もしくは置換基を有している場合である。
1がこれ自体、芳香族もしくは非芳香族の炭素環、或
いは芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環の一部となっ
て、Z1が−Y1−C(=CH−X1)−C(=O)−と共に
形成する5員〜7員の環構造に対して縮環構造を形成す
る場合もまた好ましい。この場合の芳香族もしくは非芳
香族の炭素環、或いは芳香族もしくは非芳香族のヘテロ
環の例としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、
ピリジン環、シクロヘキサン環、ピペリジン環、ピラゾ
リジン環、ピロリジン環、1,2―ピペラジン環、1,
4―ピペラジン環、オキサン環、オキソラン環、チアン
環、チオラン環等が挙げられる。中でもベンゼン環、ピ
ペリジン環、1,2―ピペラジン環が好ましく、ベンゼ
ン環が最も好ましい。
In the formula (A), Z 1 is preferably 5
Group that can form a six- or six-membered cyclic structure,
Specific examples thereof include an atomic group selected from a nitrogen atom, a carbon atom, a sulfur atom and an oxygen atom, for example, -N
-N-, -NC-, -OC-, -CC-, -C =
C-, -S-C-, -C = C-N-, -C = C-O-,
-N-C-N-, -N = C-N-, -C-C-C-,-
C = C—C—, —O—C—O— and the like further have a hydrogen atom or a substituent. Z 1 is more preferably -NN-, -NC-, -OC-,
-CC-, -C = C-, -S-C-, -N-C-N
-, -C = C-N- or the like further has a hydrogen atom or a substituent, and particularly preferably,
This is a case where an atomic group such as -NN-, -NC-, -C = C- or the like further has a hydrogen atom or a substituent.
Z 1 itself forms part of an aromatic or non-aromatic carbocycle or an aromatic or non-aromatic heterocycle, and Z 1 is represented by —Y 1 —C ((CH—X 1 ) —C It is also preferable to form a condensed ring structure with a 5- to 7-membered ring structure formed together with (= O)-. Examples of the aromatic or non-aromatic carbon ring or the aromatic or non-aromatic hetero ring in this case include, for example, a benzene ring, a naphthalene ring,
Pyridine ring, cyclohexane ring, piperidine ring, pyrazolidine ring, pyrrolidine ring, 1,2-piperazine ring, 1,
Examples thereof include a 4-piperazine ring, an oxane ring, an oxolan ring, a thiane ring, and a thiolan ring. Among them, a benzene ring, a piperidine ring and a 1,2-piperazine ring are preferred, and a benzene ring is most preferred.

【0097】式(B)において、Z2は好ましくは、5
員もしくは6員の環状構造を形成しうる原子団であり、
その具体的な例としては、窒素原子、炭素原子、硫黄原
子もしくは酸素原子から選ばれる原子団、例えば、−N
−,−O−,−S−,−C−,−C=C−,−C−C
−,−N−C−,−N=C−,−O−C−,−S−C−
等の原子団が、可能な場合はさらに水素原子もしくは置
換基を有している場合である。Z2がこれ自体、芳香族
もしくは非芳香族の炭素環、或いは芳香族もしくは非芳
香族のヘテロ環の一部となって、−Y2−C(=CH−X
2)―C(Y3)=N−と共に形成する5員〜7員の環構造
に対して縮環構造を形成する場合もまた好ましい。この
場合の芳香族もしくは非芳香族の炭素環、或いは芳香族
もしくは非芳香族のヘテロ環の例としては、例えば、ベ
ンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、シクロヘキサン
環、ピペリジン環、ピラゾリジン環、ピロリジン環、
1,2―ピペラジン環、1,4―ピペラジン環、オキサ
ン環、オキソラン環、チアン環、チオラン環等が挙げら
れる。式(B)において、Z2はより好ましくは−N
−,−O−,−S−,−C−,−C=C−等の原子団
が、可能な場合はさらに水素原子もしくは置換基を有し
ている場合であり、特に好ましくは−N−,−O−等の
原子団が、可能な場合はさらに水素原子もしくは置換基
を有している場合である。
In the formula (B), Z 2 is preferably 5
Group that can form a six- or six-membered cyclic structure,
Specific examples thereof include an atomic group selected from a nitrogen atom, a carbon atom, a sulfur atom and an oxygen atom, for example, -N
-, -O-, -S-, -C-, -C = C-, -CC
-, -NC-, -N = C-, -OC-, -S-C-
And the like have a hydrogen atom or a substituent when possible. Z 2 itself forms part of an aromatic or non-aromatic carbocyclic ring or an aromatic or non-aromatic heterocyclic ring, and forms —Y 2 —C (= CH—X
2 ) It is also preferable to form a condensed ring structure with a 5- to 7-membered ring structure formed together with —C (Y 3 ) = N—. Examples of the aromatic or non-aromatic carbon ring or the aromatic or non-aromatic hetero ring in this case include, for example, a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a cyclohexane ring, a piperidine ring, a pyrazolidine ring, and a pyrrolidine ring. ,
Examples thereof include a 1,2-piperazine ring, a 1,4-piperazine ring, an oxane ring, an oxolan ring, a thiane ring, and a thiolan ring. In the formula (B), Z 2 is more preferably -N
-, -O-, -S-, -C-, -C = C-, and the like, when possible, further having a hydrogen atom or a substituent, particularly preferably -N-. , —O—, etc., when possible, further have a hydrogen atom or a substituent.

【0098】式(A)および式(B)において、Z1
たはZ2が有する置換基として好ましくは、アルキル
基、アリール基、ハロゲン原子、ヘテロ環基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、ス
ルホニルカルバモイル基、シアノ基、ヒドロキシ基、ア
シルオキシ基、アルコキシ基、アミノ基、(アルキル,
アリール,またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、
イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カル
ボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ニトロ基、
メルカプト基、(アルキル,アリール,またはヘテロ
環)チオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル
基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基等が挙げ
られる。またZ1およびZ2が、これ自体、芳香族もしく
は非芳香族の炭素環、或いは芳香族もしくは非芳香族の
ヘテロ環の一部となって、縮環構造を形成する場合に、
その芳香族もしくは非芳香族の炭素環、或いは芳香族も
しくは非芳香族のヘテロ環は置換基を有していてもよ
く、その置換基としては、上記と同じ範囲から選ばれる
置換基が好ましい。
In the formulas (A) and (B), the substituent of Z 1 or Z 2 is preferably an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, a heterocyclic group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group. Group, carbamoyl group, carboxy group or a salt thereof, sulfonylcarbamoyl group, cyano group, hydroxy group, acyloxy group, alkoxy group, amino group, (alkyl,
Aryl, or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group,
Imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, nitro group,
Examples include a mercapto group, an (alkyl, aryl, or heterocycle) thio group, an (alkyl or aryl) sulfonyl group, a sulfo group or a salt thereof, and a sulfamoyl group. When Z 1 and Z 2 themselves are part of an aromatic or non-aromatic carbon ring or an aromatic or non-aromatic hetero ring to form a condensed ring structure,
The aromatic or non-aromatic carbon ring or the aromatic or non-aromatic hetero ring may have a substituent, and the substituent is preferably a substituent selected from the same range as described above.

【0099】式(B)においてY3は好ましくは水素原
子または以下の置換基である。即ち、アルキル基、アリ
ール基(特にフェニル基、ナフチル基)、ヘテロ環基、
シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバ
モイル基、(アルキル、アリール、もしくはヘテロ環)
アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイ
ド基、イミド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
(アルキル、アリール、もしくはヘテロ環)チオ基等で
ある。式(B)においてY3はさらに好ましくは置換基
を表す時であり、具体的にはアルキル基、フェニル基、
アミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、カルバモイル基が好ましい。こ
れら置換基はさらに置換基を有していてもよいが、総炭
素数1〜30が好ましく、さらには1〜21が好まし
い。
In the formula (B), Y 3 is preferably a hydrogen atom or the following substituent. That is, an alkyl group, an aryl group (particularly, a phenyl group or a naphthyl group), a heterocyclic group,
Cyano group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, (alkyl, aryl or heterocycle)
Amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, imide group, alkoxy group, aryloxy group,
(Alkyl, aryl, or heterocycle) thio group. In the formula (B), Y 3 is more preferably a substituent. Specifically, an alkyl group, a phenyl group,
An amino group, anilino group, acylamino group, alkoxy group, aryloxy group, and carbamoyl group are preferred. These substituents may further have a substituent, but preferably have a total carbon number of 1 to 30, more preferably 1 to 21.

【0100】式(A)で表される化合物は、その総炭素数
が6以上であることが好ましく、また式(B)で表され
る化合物は、その総炭素数が12以上であることが好ま
しい。総炭素数の上限には特に制約はないが、式(A)
で表される化合物は40以下が好ましく、32以下がさ
らに好ましい。式(B)で表される化合物は40以下が
好ましく、32以下がさらに好ましい。式(A)におい
てZ1は、その置換基を含めて、総炭素数2以上である
ことが好ましく、さらに3以上であることがより好まし
い。式(B)においてZ2は、その置換基を含めて、こ
れとY3との総炭素数の和が、8以上であることが好ま
しい。式(A)においてZ1は、その置換基を含めて、
総炭素数3以上で40以下であることがさらに好まし
く、6以上で30以下であることが特に好ましい。式
(B)においてZ2は、その置換基を含めて、これとY3
との総炭素数の和が、8以上で40以下であることがさ
らに好ましく、さらには8以上で30以下であることが
特に好ましい。
The compound represented by the formula (A) preferably has a total carbon number of 6 or more, and the compound represented by the formula (B) preferably has a total carbon number of 12 or more. preferable. Although the upper limit of the total carbon number is not particularly limited, the formula (A)
The compound represented by is preferably 40 or less, more preferably 32 or less. The compound represented by the formula (B) is preferably at most 40, more preferably at most 32. In the formula (A), Z 1 , including its substituents, preferably has a total carbon number of 2 or more, and more preferably 3 or more. In the formula (B), Z 2 , including its substituents, preferably has a sum of the total number of carbon atoms of Y 3 to 8 or more. In the formula (A), Z 1 includes a substituent thereof,
The total number of carbon atoms is more preferably 3 or more and 40 or less, and particularly preferably 6 or more and 30 or less. Z 2 in the formula (B), including the substituent, which the Y 3
Is more preferably 8 or more and 40 or less, particularly preferably 8 or more and 30 or less.

【0101】式(A)で表される化合物のうち特に好ま
しい化合物は、式(A)において、Y 1がカルボニル基を
表し、Z1が−Y1−C(=CH−X1)−C(=O)−と共
にインダンジオン環、ピロリジンジオン環、もしくはピ
ラゾリジンジオン環を形成する化合物である。中でもピ
ラゾリジンジオン環を形成する化合物が最も好ましい。
式(B)で表される化合物のうち特に好ましい化合物は、
式(B)において、Y2がカルボニル基を表し、Z2が−Y
2−C(=CH−X2)―C(Y3)=N−と共に5−ピラゾ
ロン環を形成する化合物である。
Particularly preferred among the compounds represented by the formula (A)
A new compound is represented by the formula (A) 1Is a carbonyl group
Represents, Z1Is -Y1-C (= CH-X1) -C (= O)-
An indandione ring, a pyrrolidinedione ring, or a
It is a compound that forms a lazolidinedione ring. Above all
Compounds that form lazolidinedione rings are most preferred.
Particularly preferred compounds among the compounds represented by the formula (B) are
In the formula (B), YTwoRepresents a carbonyl group;TwoIs -Y
Two-C (= CH-XTwo) -C (YThree) = 5-pyrazo with N-
It is a compound that forms a ron ring.

【0102】式(1)〜式(3)、式(A)、式(B)で表
される化合物は、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性
の基が組み込まれていてもよい。こうした吸着基として
は、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、チ
オアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基など
の米国特許第4,385,108号、同4,459,3
47号、特開昭59−195233号、同59−200
231号、同59−201045号、同59−2010
46号、同59−201047号、同59−20104
8号、同59−201049号、特開昭61−1707
33号、同61−270744号、同62−948号、
同63−234244号、同63−234245号、同
63−234246号に記載された基があげられる。ま
たこれらハロゲン化銀への吸着基は、プレカーサー化さ
れていてもよい。その様なプレカーサーとしては、特開
平2ー285344号に記載された基が挙げられる。
The compounds represented by the formulas (1) to (3), (A) and (B) may have incorporated therein an adsorptive group that adsorbs to silver halide. Examples of such adsorbing groups include alkylthio, arylthio, thiourea, thioamide, mercapto heterocyclic, and triazole groups.
No. 47, JP-A-59-195233 and JP-A-59-200.
No. 231, 59-201045, 59-2010
No. 46, No. 59-201047, No. 59-20104
No. 8, No. 59-201049, JP-A-61-1707.
No. 33, No. 61-270744, No. 62-948,
The groups described in JP-A-63-234244, JP-A-63-234245, and JP-A-63-234246 are exemplified. These adsorbing groups to silver halide may be precursors. Examples of such a precursor include groups described in JP-A-2-285344.

【0103】式(1)〜式(3)、式(A)、式(B)で表
される化合物は、その中にカプラー等の不動性写真用添
加剤において常用されているバラスト基またはポリマー
が組み込まれているものでもよい。特にバラスト基が組
み込まれているものは本発明の好ましい例の1つであ
る。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写真性に対
して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アラ
ルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニ
ル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中か
ら選ぶことができる。またポリマーとしては、例えば特
開平1−100530号に記載のものが挙げられる。
The compounds represented by the formulas (1) to (3), (A) and (B) include a ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers. May be incorporated. Particularly, those incorporating a ballast group are one of preferred examples of the present invention. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and relatively inert to photographic properties, such as an alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group, and an alkylphenoxy group. You can choose from. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.

【0104】式(1)〜式(3)、式(A)、式(B)で表
される化合物は、その中にカチオン性基(具体的には、
4級のアンモニオ基を含む基、または4級化された窒素
原子を含む含窒素ヘテロ環基等)、エチレンオキシ基も
しくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、
(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、ある
いは塩基により解離しうる解離性基(カルボキシ基、ス
ルホ基、アシルスルファモイル基、カルバモイルスルフ
ァモイル基等)が含まれていてもよい。特にエチレンオ
キシ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含
む基、あるいは(アルキル,アリール,またはヘテロ
環)チオ基が含まれているものは、本発明の好ましい例
の1つである。これらの基の具体例としては、例えば特
開平7−234471号、特開平5−333466号、
特開平6−19032号、特開平6−19031号、特
開平5−45761号、米国特許4994365号、米
国特許4988604号、特開平3−259240号、
特開平7−5610号、特開平7−244348号、独
国特許4006032号等に記載の化合物が挙げられ
る。次に式(1)〜式(3)、式(A)、式(B)で表され
る化合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明は以下
の化合物に限定されるものではない。
The compounds represented by the formulas (1) to (3), (A) and (B) contain a cationic group (specifically,
A group containing a quaternary ammonium group, or a nitrogen-containing heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom), a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group,
(Alkyl, aryl, or heterocyclic) thio groups, or a dissociable group (such as a carboxy group, a sulfo group, an acylsulfamoyl group, or a carbamoylsulfamoyl group) that can be dissociated by a base. Particularly, a group containing a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group or a group containing an (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group is one of preferred examples of the present invention. Specific examples of these groups include, for example, JP-A-7-234471, JP-A-5-333466,
JP-A-6-19032, JP-A-6-19031, JP-A-5-45761, U.S. Patent No. 4,994,365, U.S. Patent No. 4,988,604, JP-A-3-259240,
Compounds described in JP-A-7-5610, JP-A-7-244348, German Patent 4006032, and the like can be mentioned. Next, specific examples of the compounds represented by Formulas (1) to (3), Formula (A), and Formula (B) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0105】[0105]

【化8】 Embedded image

【0106】[0106]

【化9】 Embedded image

【0107】[0107]

【化10】 Embedded image

【0108】[0108]

【化11】 Embedded image

【0109】[0109]

【化12】 Embedded image

【0110】式(1)〜式(3)、式(A)、式(B)で表
される化合物は、水または適当な有機溶媒、例えばアル
コール類(メタノール、エタノール、プロパノール、フ
ッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチ
ルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、メチルセルソルブなどに溶解して用いることがで
きる。また、既によく知られている乳化分散法によっ
て、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェー
ト、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレ
ートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなど
の補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製
して用いることができる。あるいは固体分散法として知
られている方法によって、化合物の粉末を水等の適当な
溶媒中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波に
よって分散し用いることができる。
The compounds represented by the formulas (1) to (3), (A) and (B) may be prepared from water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol). And ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethylsulfoxide, methylcellosolve and the like. Also, by an already well-known emulsification dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are dissolved and mechanically emulsified and dispersed. A product can be prepared and used. Alternatively, the compound powder can be dispersed and used in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method.

【0111】式(1)〜式(3)で、式(A)、式(B)表
される化合物は、支持体に対して画像記録層側の層、即
ち画像形成層あるいは他のどの層に添加してもよいが、
画像形成層あるいはそれに隣接する層に添加することが
好ましい。式(1)〜式(3)、式(A)、式(B)で表さ
れる化合物の添加量は、銀1モルに対し1×10-6〜1
モルが好ましく、1×10-5〜5×10-1モルがより好
ましく、2×10-5〜2×10-1モルが最も好ましい。
式(1)〜式(3)、式(A)、式(B)で表される化合物
は公知の方法により容易に合成することができるが、例
えば、米国特許5,545,515号、米国特許5,6
35,339号、米国特許5,654,130号、国際
公開WO97/34196号、或いは特願平9−309
813号、特願平9−272002号に記載の方法を参
考に合成することができる。式(1)〜式(3)、式
(A)、式(B)で表される化合物は、1種のみ用いて
も、2種以上を併用しても良い。また上記のものの他
に、米国特許5,545,515号、米国特許5,63
5,339号、米国特許5,654,130号、国際公
開WO97/34196号、米国特許5,686,22
8号に記載の化合物、或いはまた特願平9−22888
1号、特願平9−273935号、特願平9−3098
13号、特願平9−296174号、特願平9−282
564号、特願平9−272002号、特願平9−27
2003号、特願平9−332388号に記載された化
合物を併用して用いても良い。
In the formulas (1) to (3), the compounds represented by the formulas (A) and (B) are used on the image recording layer side of the support, that is, the image forming layer or any other layer. May be added to
It is preferably added to the image forming layer or a layer adjacent thereto. The amount of the compound represented by the formulas (1) to (3), (A) and (B) is 1 × 10 −6 to 1 mol per 1 mol of silver.
Mol, more preferably from 1 × 10 -5 ~5 × 10 -1 mol, 2 × 10 -5 ~2 × 10 -1 mol is most preferred.
The compounds represented by the formulas (1) to (3), (A) and (B) can be easily synthesized by a known method. For example, US Pat. No. 5,545,515, US Pat. Patent 5,6
No. 35,339, U.S. Pat. No. 5,654,130, International Publication WO97 / 34196, or Japanese Patent Application No. 9-309.
No. 813 and Japanese Patent Application No. 9-272002 can be synthesized. The compounds represented by the formulas (1) to (3), (A) and (B) may be used alone or in combination of two or more. In addition to the above, US Pat. No. 5,545,515 and US Pat.
5,339, U.S. Patent 5,654,130, International Publication WO 97/34196, U.S. Patent 5,686,22
No. 8 or Japanese Patent Application No. 9-22888.
No. 1, Japanese Patent Application No. 9-273935, Japanese Patent Application No. 9-3098
No. 13, Japanese Patent Application No. 9-296174, Japanese Patent Application No. 9-282
564, Japanese Patent Application No. 9-272002, Japanese Patent Application No. 9-27
The compounds described in Japanese Patent Application No. 2003 and Japanese Patent Application No. 9-332388 may be used in combination.

【0112】本発明では、熱現像感光材料の感光性ハロ
ゲン化銀を含有する画像形成層を有する側の蟻酸あるい
は蟻酸塩の含有量が銀1モル当たり5ミリモル以下であ
り、より好ましくは1ミリモル以下である。また、造核
剤溶液、あるいは造核剤分散液中の蟻酸あるいは蟻酸塩
濃度は造核剤に対し10モル%以下に抑えることが好ま
しく、2モル%以下に抑えることが最も好ましい。その
ためには、造核剤原末中の蟻酸あるいは蟻酸塩量、造核
剤分散時の分散条件あるいは溶解条件(温度、撹拌条件
等)、造核剤溶液あるいは分散液の保管条件をコントロ
ールする必要がある。
In the present invention, the content of formic acid or formate on the side of the photothermographic material having the image forming layer containing the photosensitive silver halide is 5 mmol or less, more preferably 1 mmol, per 1 mol of silver. It is as follows. Further, the concentration of formic acid or formate in the nucleating agent solution or the nucleating agent dispersion is preferably controlled to 10 mol% or less, and most preferably to 2 mol% or less based on the nucleating agent. For this purpose, it is necessary to control the amount of formic acid or formate in the bulk nucleating agent, the dispersing or dissolving conditions (temperature, stirring conditions, etc.) when dispersing the nucleating agent, and the storage conditions of the nucleating agent solution or dispersion. There is.

【0113】非感光性銀塩、感光性ハロゲン化銀および
バインダーを有する熱現像感光材料において、特に造核
剤を含有する場合には、蟻酸あるいは蟻酸塩は強いかぶ
らせ物質となる。また、蟻酸あるいは蟻酸塩は網点品質
の劣化、黒ポツの発生を引き起こす。蟻酸あるいは蟻酸
塩は、下記構造を有する化合物の加水分解により生成す
る場合、あるいはそれら化合物の合成の際に原料として
使用され、感光材料中に混入してくる場合がある。
In a photothermographic material having a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide and a binder, particularly when a nucleating agent is contained, formic acid or formate is a strong fogging substance. Further, formic acid or formate causes deterioration of dot quality and generation of black spots. Formic acid or formate may be formed by hydrolysis of a compound having the following structure, or may be used as a raw material in synthesizing such a compound and may be mixed into a photosensitive material.

【0114】[0114]

【化13】 Embedded image

【0115】特に本発明において造核剤として使用され
る式(H)で表されるヒドラジン誘導体、式(1)で表
される置換アルケン誘導体、式(2)で表される置換イ
ソオキサゾール誘導体、および式(3)で表される特定
のアセタール化合物、式(A)および式(B)で表され
る環状化合物の中には、上記構造を有する化合物が多数
あり、感光材料中の蟻酸あるいは蟻酸塩量をコントロー
ルすることは、かぶりを抑える上で重要である。その
他、あらゆる有機化合物から蟻酸あるいは蟻酸塩が持ち
込まれる可能性があることは言うまでもない。
Particularly, a hydrazine derivative represented by the formula (H), a substituted alkene derivative represented by the formula (1), a substituted isoxazole derivative represented by the formula (2) used as a nucleating agent in the present invention, Among the specific acetal compounds represented by the formula (3) and the cyclic compounds represented by the formulas (A) and (B), there are many compounds having the above structure, and formic acid or formic acid Controlling the amount of salt is important in controlling fogging. In addition, it goes without saying that formic acid or formate may be brought in from any organic compound.

【0116】また、本発明は超硬調画像形成のために、
前記の造核剤とともに硬調化促進剤を併用することがで
きる。例えば、米国特許第5,545,505号に記載のアミン
化合物、具体的にはAM-1〜AM-5、同5,545,507に記
載のヒドロキサム酸類、具体的にはHA-1〜HA-11、
同5,545,507に記載のアクリロニトリル類、具体的には
CN-1〜CN-13、同5,558,983に記載のヒドラジン化合
物、具体的にはCA-1〜CA-6、特開平9−29736
8号に記載のオニュ−ム塩類、具体的にはA-1〜A-4
2、B-1〜B-27、C-1〜C-14などを用いることができ
る。これらの硬調化促進剤の合成方法、添加方法、添加
量等は、それぞれの前記引用特許に記載されているよう
に行うことができる。
Further, the present invention provides a method for forming a super-high contrast image.
A high contrast accelerator can be used in combination with the nucleating agent. For example, the amine compounds described in U.S. Pat.
Acrylonitrile described in 5,545,507, specifically CN-1 to CN-13, hydrazine compounds described in 5,558,983, specifically CA-1 to CA-6, JP-A-9-29736
No. 8, onium salts, specifically A-1 to A-4
2, B-1 to B-27, C-1 to C-14 and the like can be used. The synthesis method, addition method, addition amount and the like of these high contrast enhancement agents can be carried out as described in each of the cited patents.

【0117】本発明の熱現像感光材料には五酸化二リン
が水和してできる酸またはその塩を造核剤と併用して用
いることが好ましい。五酸化二リンが水和してできる酸
またはその塩としては、メタリン酸(塩)、ピロリン酸
(塩)、オルトリン酸(塩)、三リン酸(塩)、四リン
酸(塩)、ヘキサメタリン酸(塩)などである。特に好
ましく用いられる五酸化二リンが水和してできる酸また
はその塩としてはオルトリン酸(塩)、ヘキサメタリン
酸(塩)であり、具体的な塩としてはオルトリン酸ナト
リウム、オルトリン酸二水素ナトリウム、ヘキサメタリ
ン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸アンモニウムなどが
ある。本発明において好ましく用いることができる五酸
化二リンが水和してできる酸またはその塩は、少量で所
望の効果を発現するという点から画像形成層あるいはそ
れに隣接するバインダー層に添加する。五酸化二リンが
水和してできる酸またはその塩の使用量(感光材料1m
2あたりの塗布量)としては感度やカブリなどの性能に
合わせて所望の量でよいが、0.1〜500mg/m2好まし
く、0.5〜100mg/m2がより好ましい。
In the photothermographic material of the present invention, an acid or a salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide is preferably used in combination with a nucleating agent. Acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include metaphosphoric acid (salt), pyrophosphoric acid (salt), orthophosphoric acid (salt), triphosphoric acid (salt), tetraphosphoric acid (salt), hexametaline Acids (salts); Particularly preferred acids or salts thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide include orthophosphoric acid (salt) and hexametaphosphoric acid (salt). Specific salts include sodium orthophosphate, sodium dihydrogen orthophosphate, Examples include sodium hexametaphosphate and ammonium hexametaphosphate. The acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide, which can be preferably used in the present invention, is added to the image forming layer or the binder layer adjacent thereto in that a desired effect is exhibited in a small amount. The amount of acid or salt thereof formed by hydration of diphosphorus pentoxide (1m
The per 2 coating weight) may be desired amount depending on the performance such as sensitivity and fog, but, 0.1 to 500 mg / m 2 Preferably, 0.5 to 100 mg / m 2 is more preferable.

【0118】本発明の熱現像感光材料は好ましくは、有
機銀塩のための還元剤を含む。有機銀塩のための還元剤
は、銀イオンを金属銀に還元する任意の物質、好ましく
は有機物質であってよい。フェニドン、ハイドロキノン
およびカテコールなどの従来の写真現像剤は有用である
が、ヒンダードフェノール還元剤が好ましい。還元剤
は、画像形成層を有する面の銀1モルに対して5〜50モル
%含まれることが好ましく、10〜40モル%で含まれること
がさらに好ましい。還元剤の添加層は画像形成層を有す
る面のいかなる層でも良い。画像形成層以外の層に添加
する場合は銀1モルに対して10〜50モル%と多めに使用す
ることが好ましい。また、還元剤は現像時のみ有効に機
能を持つように誘導化されたいわゆるプレカーサーであ
ってもよい。
The photothermographic material of the present invention preferably contains a reducing agent for an organic silver salt. The reducing agent for the organic silver salt may be any substance that reduces silver ions to metallic silver, preferably an organic substance. Conventional photographic developers such as phenidone, hydroquinone and catechol are useful, but hindered phenol reducing agents are preferred. The reducing agent is used in an amount of 5 to 50 mol based on 1 mol of silver on the surface having the image forming layer.
%, More preferably 10 to 40 mol%. The layer to which the reducing agent is added may be any layer on the side having the image forming layer. When it is added to a layer other than the image forming layer, it is preferable to use a relatively large amount of 10 to 50 mol% with respect to 1 mol of silver. Further, the reducing agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development.

【0119】有機銀塩を利用した熱現像感光材料におい
ては広範囲の還元剤が特開昭46-6074号、同47-1238号、
同47-33621号、同49-46427号、同49-115540号、同50-14
334号、同50-36110号、同50-147711号、同51-32632号、
同51-1023721号、同51-32324号、同51-51933号、同52-8
4727号、同55-108654号、同56-146133号、同57-82828
号、同57-82829号、特開平6-3793号、米国特許3,679,42
6号、同3,751,252号、同3,751,255号、同3,761,270号、
同3,782,949号、同3,839,048号、同3,928,686号、同5,4
64,738号、独国特許2321328号、欧州特許692732号など
に開示されている。例えば、フェニルアミドオキシム、
2-チエニルアミドオキシムおよびp-フェノキシフェニル
アミドオキシムなどのアミドオキシム;例えば4-ヒドロ
キシ-3,5-ジメトキシベンズアルデヒドアジンなどのア
ジン;2,2'-ビス(ヒドロキシメチル)プロピオニル-β-
フェニルヒドラジンとアスコルビン酸との組合せのよう
な脂肪族カルボン酸アリールヒドラジドとアスコルビン
酸との組合せ;ポリヒドロキシベンゼンと、ヒドロキシ
ルアミン、レダクトンおよび/またはヒドラジンの組合
せ(例えばハイドロキノンと、ビス(エトキシエチル)ヒ
ドロキシルアミン、ピペリジノヘキソースレダクトンま
たはホルミル-4-メチルフェニルヒドラジンの組合せな
ど);フェニルヒドロキサム酸、p-ヒドロキシフェニル
ヒドロキサム酸およびβ-アリニンヒドロキサム酸など
のヒドロキサム酸;アジンとスルホンアミドフェノール
との組合せ(例えば、フェノチアジンと2,6-ジクロロ-4-
ベンゼンスルホンアミドフェノールなど);エチル-α-
シアノ-2-メチルフェニルアセテート、エチル-α-シア
ノフェニルアセテートなどのα-シアノフェニル酢酸誘
導体;2,2'-ジヒドロキシ-1,1'-ビナフチル、6,6'-ジブ
ロモ-2,2'-ジヒドロキシ-1,1'-ビナフチルおよびビス(2
-ヒドロキシ-1-ナフチル)メタンに例示されるようなビ
ス-β-ナフトール;ビス-β-ナフトールと1,3-ジヒドロ
キシベンゼン誘導体(例えば、2,4-ジヒドロキシベンゾ
フェノンまたは2',4'-ジヒドロキシアセトフェノンな
ど)の組合せ;3-メチル-1-フェニル-5-ピラゾロンなど
の、5-ピラゾロン;ジメチルアミノヘキソースレダクト
ン、アンヒドロジヒドロアミノヘキソースレダクトンお
よびアンヒドロジヒドロピペリドンヘキソースレダクト
ンに例示されるようなレダクトン;2,6-ジクロロ-4-ベ
ンゼンスルホンアミドフェノールおよびp-ベンゼンスル
ホンアミドフェノールなどのスルホンアミドフェノール
還元剤;2-フェニルインダン-1,3-ジオンなど;2,2-ジ
メチル-7-t-ブチル-6-ヒドロキシクロマンなどのクロマ
ン;2,6-ジメトキシ-3,5-ジカルボエトキシ-1,4-ジヒド
ロピリジンなどの1,4-ジヒドロピリジン;ビスフェノー
ル(例えば、ビス(2-ヒドロキシ-3-t-ブチル-5-メチルフ
ェニル)メタン、2,2-ビス(4-ヒドロキシ-3-メチルフェ
ニル)プロパン、4,4-エチリデン-ビス(2-t-ブチル-6-メ
チルフェノール)、1,1,-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチ
ルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサンおよび2,2-ビス
(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパンなど);
アスコルビン酸誘導体(例えば、パルミチン酸1-アスコ
ルビル、ステアリン酸アスコルビルなど);ならびにベ
ンジルおよびビアセチルなどのアルデヒドおよびケト
ン;3-ピラゾリドンおよびある種のインダン-1,3-ジオ
ン;クロマノール(トコフェロールなど)などがある。特
に好ましい還元剤としては、ビスフェノール、クロマノ
ールである。
In photothermographic materials utilizing organic silver salts, a wide range of reducing agents are disclosed in JP-A-46-6074 and JP-A-47-1238.
47-33621, 49-46427, 49-115540, 50-14
No. 334, No. 50-36110, No. 50-147711, No. 51-32632,
No. 51-1023721, No. 51-32324, No. 51-51933, No. 52-8
4727, 55-108654, 56-146133, 57-82828
No. 57-82829, JP-A-6-3793, U.S. Pat.
No. 6, 3,751,252, 3,751,255, 3,761,270,
3,782,949, 3,839,048, 3,928,686, 5,4
64,738, German Patent 2321328, European Patent 692732 and the like. For example, phenylamide oxime,
Amidoximes such as 2-thienylamidooxime and p-phenoxyphenylamidooxime; azines such as 4-hydroxy-3,5-dimethoxybenzaldehyde azine; 2,2′-bis (hydroxymethyl) propionyl-β-
A combination of an aliphatic carboxylic acid aryl hydrazide such as a combination of phenylhydrazine and ascorbic acid with ascorbic acid; a combination of polyhydroxybenzene with hydroxylamine, reductone and / or hydrazine (eg, hydroquinone and bis (ethoxyethyl) hydroxyl Amines, piperidinohexose reductone or a combination of formyl-4-methylphenylhydrazine); hydroxamic acids such as phenylhydroxamic acid, p-hydroxyphenylhydroxamic acid and β-alinine hydroxamic acid; azine and sulfonamide phenol (E.g., phenothiazine and 2,6-dichloro-4-
Benzenesulfonamidophenol); ethyl-α-
Α-cyanophenylacetic acid derivatives such as cyano-2-methylphenylacetate and ethyl-α-cyanophenylacetate; 2,2′-dihydroxy-1,1′-binaphthyl, 6,6′-dibromo-2,2′- Dihydroxy-1,1'-binaphthyl and bis (2
Bis-β-naphthol as exemplified by -hydroxy-1-naphthyl) methane; bis-β-naphthol and 1,3-dihydroxybenzene derivatives (eg, 2,4-dihydroxybenzophenone or 2 ′, 4′-dihydroxy Acetophenone); 5-pyrazolone, such as 3-methyl-1-phenyl-5-pyrazolone; dimethylaminohexose reductone, anhydrodihydroaminohexose reductone and anhydrodihydropiperidone hexose reductone. Reductones as exemplified; sulfonamide phenol reducing agents such as 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol and p-benzenesulfonamidophenol; 2-phenylindane-1,3-dione and the like; 2,2- Chromanes such as dimethyl-7-t-butyl-6-hydroxychroman; 2,6-dimethoxy-3,5-dicarboethoxy-1,4-dihydrogen 1,4-dihydropyridine such as pyridine; bisphenol (for example, bis (2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 4 2,4-ethylidene-bis (2-t-butyl-6-methylphenol), 1,1, -bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane and 2,2 -Screw
(3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, etc.);
Ascorbic acid derivatives (eg, 1-ascorbyl palmitate, ascorbyl stearate, etc.); and aldehydes and ketones, such as benzyl and biacetyl; 3-pyrazolidone and certain indan-1,3-diones; chromanol, such as tocopherol is there. Particularly preferred reducing agents are bisphenol and chromanol.

【0120】本発明で還元剤を用いる場合、それは、溶
液、粉末、固体微粒子分散物などいかなる方法で添加し
てもよい。固体微粒子分散は公知の微細化手段(例え
ば、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、コロイ
ドミル、ジェットミル、ローラーミルなど)で行われ
る。また、固体微粒子分散する際に分散助剤を用いても
よい。
When a reducing agent is used in the present invention, it may be added by any method such as a solution, a powder and a dispersion of solid fine particles. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.

【0121】画像を向上させる「色調剤」として知られ
る添加剤を含むと光学濃度が高くなることがある。ま
た、色調剤は黒色銀画像を形成させるうえでも有利にな
ることがある。色調剤は画像形成層を有する面に銀1モ
ルあたりの0.1〜50%モルの量含まれることが好ましく、
0.5〜20%モル含まれることがさらに好ましい。また、色
調剤は現像時のみ有効に機能を持つように誘導化された
いわゆるプレカーサーであってもよい。有機銀塩を利用
した熱現像感光材料においては広範囲の色調剤が特開昭
46-6077号、同47-10282号、同49-5019号、同49-5020
号、同49-91215号、同49-91215号、同50-2524号、同50-
32927号、同50-67132号、同50-67641号、同50-114217
号、同51-3223号、同51-27923号、同52-14788号、同52-
99813号、同53-1020号、同53-76020号、同54-156524
号、同54-156525号、同61-183642号、特開平4-56848
号、特公昭49-10727号、同54-20333号、米国特許3,080,
254号、同3,446,648号、同3,782,941号、同4,123,282
号、同4,510,236号、英国特許1380795号、ベルギー特許
841910号などに開示されている。色調剤の例は、フタル
イミドおよびN-ヒドロキシフタルイミド;スクシンイミ
ド、ピラゾリン-5-オン、ならびにキナゾリノン、3-フ
ェニル-2-ピラゾリン-5-オン、1-フェニルウラゾール、
キナゾリンおよび2,4-チアゾリジンジオンのような環状
イミド;ナフタルイミド(例えば、N-ヒドロキシ-1,8-ナ
フタルイミド);コバルト錯体(例えば、コバルトヘキサ
ミントリフルオロアセテート);3-メルカプト-1,2,4-ト
リアゾール、2,4-ジメルカプトピリミジン、3-メルカプ
ト-4,5-ジフェニル-1,2,4-トリアゾールおよび2,5-ジメ
ルカプト-1,3,4-チアジアゾールに例示されるメルカプ
タン;N-(アミノメチル)アリールジカルボキシイミド、
(例えば、(N,N-ジメチルアミノメチル)フタルイミドお
よびN,N-(ジメチルアミノメチル)-ナフタレン-2,3-ジカ
ルボキシイミド);ならびにブロック化ピラゾール、イ
ソチウロニウム誘導体およびある種の光退色剤(例え
ば、N,N'-ヘキサメチレンビス(1-カルバモイル-3,5-ジ
メチルピラゾール)、1,8-(3,6-ジアザオクタン)ビス(イ
ソチウロニウムトリフルオロアセテート)および2-トリ
ブロモメチルスルホニル)-(ベンゾチアゾール));なら
びに3-エチル-5-[(3-エチル-2-ベンゾチアゾリニリデ
ン)-1-メチルエチリデン]-2-チオ-2,4-オキサゾリジン
ジオン;フタラジノン、フタラジノン誘導体もしくは金
属塩、または4-(1-ナフチル)フタラジノン、6-クロロフ
タラジノン、5,7-ジメトキシフタラジノンおよび2,3-ジ
ヒドロ-1,4-フタラジンジオンなどの誘導体;フタラジ
ノンとフタル酸誘導体(例えば、フタル酸、4-メチルフ
タル酸、4-ニトロフタル酸およびテトラクロロ無水フタ
ル酸など)との組合せ;フタラジン、フタラジン誘導体
(たとえば、4-(1-ナフチル)フタラジン、6-クロロフタ
ラジン、5,7-ジメトキシフタラジン、6-iso-ブチルフタ
ラジン、6-tert-ブチルフタラジン、5,7-ジメチルフタ
ラジン、および2,3-ジヒドロフタラジンなどの誘導体)
もしくは金属塩、;フタラジンおよびその誘導体とフタ
ル酸誘導体(例えば、フタル酸、4-メチルフタル酸、4-
ニトロフタル酸およびテトラクロロ無水フタル酸など)
との組合せ;キナゾリンジオン、ベンズオキサジンまた
はナフトオキサジン誘導体;色調調節剤としてだけでな
くその場でハロゲン化銀生成のためのハライドイオンの
源としても機能するロジウム錯体、例えばヘキサクロロ
ロジウム(III)酸アンモニウム、臭化ロジウム、硝酸ロ
ジウムおよびヘキサクロロロジウム(III)酸カリウムな
ど;無機過酸化物および過硫酸塩、例えば、過酸化二硫
化アンモニウムおよび過酸化水素;1,3-ベンズオキサジ
ン-2,4-ジオン、8-メチル-1,3-ベンズオキサジン-2,4-
ジオンおよび6-ニトロ-1,3-ベンズオキサジン-2,4-ジオ
ンなどのベンズオキサジン-2,4-ジオン;ピリミジンお
よび不斉-トリアジン(例えば、2,4-ジヒドロキシピリミ
ジン、2-ヒドロキシ-4-アミノピリミジンなど)、アザウ
ラシル、およびテトラアザペンタレン誘導体(例えば、
3,6-ジメルカプト-1,4-ジフェニル-1H,4H-2,3a,5,6a-テ
トラアザペンタレン、および1,4-ジ(o-クロロフェニル)
-3,6-ジメルカプト-1H,4H-2,3a,5,6a-テトラアザペンタ
レン)などがある。
When an additive known as a "toning agent" for improving an image is contained, the optical density may be increased. The toning agent may also be advantageous in forming a black silver image. The toning agent is preferably contained in an amount of 0.1 to 50% mol per mol of silver on the surface having the image forming layer,
More preferably, it is contained in an amount of 0.5 to 20% by mole. Further, the toning agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development. For photothermographic materials using organic silver salts, a wide range of color
46-6077, 47-10282, 49-5019, 49-5020
Nos. 49-91215, 49-91215, 50-2524, 50-
32927, 50-67132, 50-67641, 50-114217
No. 51-3223, No. 51-27923, No. 52-14788, No. 52-
99813, 53-1020, 53-76020, 54-156524
No. 54-156525, No. 61-183642, JP-A-4-56848
No., JP-B-49-10727, JP-B-54-20333, U.S. Pat.
No. 254, No. 3,446,648, No. 3,782,941, No. 4,123,282
No. 4,510,236, UK Patent 1380795, Belgium Patent
No. 841910 and the like. Examples of toning agents are phthalimide and N-hydroxyphthalimide; succinimide, pyrazolin-5-one, and quinazolinone, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole,
Cyclic imides such as quinazoline and 2,4-thiazolidinedione; naphthalimide (eg, N-hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complex (eg, cobalt hexamine trifluoroacetate); 3-mercapto-1,2 Mercaptans exemplified by 2,4-triazole, 2,4-dimercaptopyrimidine, 3-mercapto-4,5-diphenyl-1,2,4-triazole and 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole; N- (aminomethyl) aryldicarboximide,
(E.g., (N, N-dimethylaminomethyl) phthalimide and N, N- (dimethylaminomethyl) -naphthalene-2,3-dicarboximide); and blocked pyrazoles, isothiuronium derivatives and certain photobleaching agents ( For example, N, N'-hexamethylenebis (1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1,8- (3,6-diazaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2-tribromomethylsulfonyl )-(Benzothiazole)); and 3-ethyl-5-[(3-ethyl-2-benzothiazolinylidene) -1-methylethylidene] -2-thio-2,4-oxazolidinedione; phthalazinone, phthalazinone Derivatives or metal salts, or derivatives such as 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione; phthalazinone and phthalate Combination with acid derivatives such as phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride; phthalazine, phthalazine derivatives
(E.g., 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6-chlorophthalazine, 5,7-dimethoxyphthalazine, 6-iso-butylphthalazine, 6-tert-butylphthalazine, 5,7-dimethylphthalazine, And derivatives such as 2,3-dihydrophthalazine)
Or a metal salt; phthalazine and its derivatives and phthalic acid derivatives (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid,
(Nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride, etc.)
Quinazolinedione, benzoxazine or naphthoxazine derivatives; rhodium complexes that function not only as color-toning agents but also in-situ as halide ion sources for silver halide formation, such as ammonium hexachlororhodate (III) , Rhodium bromide, rhodium nitrate and potassium hexachlororhodate (III); inorganic peroxides and persulfates, such as ammonium disulfide and hydrogen peroxide; 1,3-benzoxazine-2,4-dione , 8-Methyl-1,3-benzoxazine-2,4-
Benzoxazine-2,4-diones such as dione and 6-nitro-1,3-benzoxazine-2,4-dione; pyrimidine and asymmetric-triazines (eg, 2,4-dihydroxypyrimidine, 2-hydroxy-4 -Aminopyrimidine, etc.), azauracil, and tetraazapentalene derivatives (e.g.,
3,6-dimercapto-1,4-diphenyl-1H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene, and 1,4-di (o-chlorophenyl)
-3,6-dimercapto-1H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene).

【0122】本発明で色調剤を用いる場合、それは、溶
液、粉末、固体微粒子分散物などいかなる方法で添加し
てもよい。固体微粒子分散は公知の微細化手段(例え
ば、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、コロイ
ドミル、ジェットミル、ローラーミルなど)で行われ
る。また、固体微粒子分散する際に分散助剤を用いても
よい。本発明の熱現像感光材料の熱現像処理前の膜面p
Hは6.0以下であることが好ましく、さらに好ましく
は5.5以下である。その下限には特に制限はないが、
3程度である。
When a toning agent is used in the present invention, it may be added by any method such as a solution, a powder and a dispersion of solid fine particles. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used. The film surface p of the photothermographic material of the present invention before the heat development processing
H is preferably 6.0 or less, and more preferably 5.5 or less. There is no particular lower limit,
It is about 3.

【0123】膜面pHの調節はフタル酸誘導体などの有
機酸や硫酸などの不揮発性の酸、アンモニアなどの揮発
性の塩基を用いることが、膜面pHを低減させるという
観点から好ましい。特にアンモニアは揮発しやすく、塗
布する工程や熱現像される前に除去できることから低膜
面pHを達成する上で好ましい。なお、本発明の熱現像
感光材料の膜面pHを測定する場合には、熱現像処理前
の熱現像感光材料2.5cm×2.5cmを舟形に折
り、その画像形成層側に300μlの蒸留水を滴下し、
30分静置した後に、その滴下液をpH BOY−P2
(新電元工業株式会社製、半導体方式のpH計)にて1
分間測定することが好ましい。
For adjusting the film surface pH, it is preferable to use an organic acid such as a phthalic acid derivative, a nonvolatile acid such as sulfuric acid, or a volatile base such as ammonia from the viewpoint of reducing the film surface pH. In particular, ammonia is preferable for achieving a low film surface pH since ammonia is easily volatilized and can be removed before the application step and the heat development. When measuring the film surface pH of the photothermographic material of the present invention, the photothermographic material 2.5 cm × 2.5 cm before the photothermographic processing was folded into a boat shape, and 300 μl of distilled water was deposited on the image forming layer side. Dripping water,
After standing for 30 minutes, the dropping solution was added to pH BOY-P2.
(Shindengen Kogyo Co., Ltd., semiconductor type pH meter) 1
It is preferable to measure for minutes.

【0124】バインダーとしては以下に述べるポリマー
ラテックスを用いることが好ましい。本発明の熱現像感
光材料の感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層のう
ち少なくとも1層は以下に述べるポリマーラテックスを
全バインダーの50重量%以上として用いた画像形成層で
あることが好ましい。(以降この画像形成層を「本発明
における画像形成層」、バインダーに用いるポリマーラ
テックスを「本発明で用いるポリマーラテックス」と表
す。)また、ポリマーラテックスは画像形成層だけでは
なく、保護層やバック層に用いてもよく、特に寸法変化
が問題となる印刷用途に本発明の熱現像感光材料を用い
る場合には、保護層やバック層にもポリマーラテックス
を用いることが好ましい。ただしここで言う「ポリマー
ラテックス」とは水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子
として水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状
態としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、
乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいは
ポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自
身が分子状分散したものなどいずれでもよい。なお本発
明のポリマーラテックスについては「合成樹脂エマルジ
ョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行(197
8))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片岡靖男、
鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(199
3))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子刊
行会発行(1970))」などに記載されている。分散粒子の
平均粒径は1〜50000nm、より好ましくは5〜1000nm程度
の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特に
制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒径
分布を持つものでもよい。
As the binder, it is preferable to use the polymer latex described below. At least one of the image forming layers containing the photosensitive silver halide of the photothermographic material of the present invention is preferably an image forming layer using the polymer latex described below as 50% by weight or more of the total binder. (Hereinafter, this image forming layer is referred to as "image forming layer in the present invention", and the polymer latex used for the binder is referred to as "polymer latex used in the present invention.") When the photothermographic material of the present invention is used for printing in which dimensional change is a problem, it is preferable to use a polymer latex for the protective layer and the back layer. However, the "polymer latex" referred to here is a water-insoluble hydrophobic polymer dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. As a dispersion state, a polymer is emulsified in a dispersion medium,
Emulsion polymerization, micellar dispersion, or a polymer having a partially hydrophilic structure in a polymer molecule and molecular chains themselves molecularly dispersed may be used. The polymer latex of the present invention is described in "Synthetic Resin Emulsion (Edited by Tadashi Okuda and Hiroshi Inagaki, published by Kobunshi Kankokai (197
8))), `` Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Yasuo Kataoka,
Edited by Souichi Suzuki and Keiji Kasahara, published by The Polymer Publishing Association (199
3)) "and" Synthesis of Synthetic Latex (Souichi Muroi, published by Kobunshi Kankokai (1970)) "and the like. The average particle size of the dispersed particles is preferably in the range of 1 to 50,000 nm, more preferably about 5 to 1000 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.

【0125】本発明で用いるポリマーラテックスとして
は通常の均一構造のポリマーラテックス以外、いわゆる
コア/シェル型のラテックスでもよい。この場合コアと
シェルはガラス転移温度を変えると好ましい場合があ
る。本発明においてバインダーとして好ましく用いるポ
リマーラテックスのガラス転移温度(Tg)は保護層、
バック層と画像形成層とでは好ましい範囲が異なる。画
像形成層にあっては熱現像時に写真有用素材の拡散を促
すため、-30〜40℃であることが好ましい。保護層やバ
ック層に用いる場合には種々の機器と接触するために25
〜70℃のガラス転移温度が好ましい。本発明で用いるポ
リマーラテックスの最低造膜温度(MFT)は-30℃〜90℃、
より好ましくは0℃〜70℃程度が好ましい。最低造膜温
度をコントロールするために造膜助剤を添加してもよ
い。造膜助剤は可塑剤ともよばれポリマーラテックスの
最低造膜温度を低下させる有機化合物(通常有機溶剤)
で、例えば前述の「合成ラテックスの化学(室井宗一
著、高分子刊行会発行(1970))」に記載されている。
The polymer latex used in the present invention may be a so-called core / shell type latex other than the polymer latex having a normal uniform structure. In this case, it may be preferable to change the glass transition temperature of the core and the shell. The glass transition temperature (Tg) of the polymer latex preferably used as a binder in the present invention is as follows:
The preferred range differs between the back layer and the image forming layer. In the image forming layer, the temperature is preferably -30 to 40 ° C. in order to promote diffusion of the photographically useful material during thermal development. When used for a protective layer or a back layer, contact with various devices
Glass transition temperatures of ~ 70 ° C are preferred. The minimum film forming temperature (MFT) of the polymer latex used in the present invention is -30 ° C to 90 ° C,
More preferably, about 0 ° C to 70 ° C. A film-forming aid may be added to control the minimum film-forming temperature. An organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film forming temperature of a polymer latex, also called a plasticizer
For example, it is described in the above-mentioned "Synthetic Latex Chemistry (Souichi Muroi, published by Kobunshi Kankokai (1970))".

【0126】本発明で用いるポリマーラテックスに用い
られるポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹
脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフ
ィン樹脂、またはこれらの共重合体などがある。ポリマ
ーとしては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーで
も、また架橋されたポリマーでも良い。またポリマーと
しては単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマー
でも良いし、2種以上のモノマーが重合したコポリマー
でも良い。コポリマーの場合はランダムコポリマーでも
ブロックコポリマーでも良い。ポリマーの分子量は数平
均分子量で5000〜1000000、好ましくは10000〜100000程
度が好ましい。分子量が小さすぎるものは画像形成層の
力学強度が不十分であり、大きすぎるものは製膜性が悪
く好ましくない。
The polymer species used in the polymer latex used in the present invention include acrylic resin, vinyl acetate resin, polyester resin, polyurethane resin, rubber resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, polyolefin resin, and copolymers thereof. and so on. The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer. Further, the polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of the polymer is preferably from 5000 to 100000, more preferably from about 10,000 to 100,000 in number average molecular weight. If the molecular weight is too small, the mechanical strength of the image forming layer is insufficient, and if it is too large, the film-forming properties are poor, which is not preferable.

【0127】本発明の熱現像感光材料の画像形成層のバ
インダーとして用いられるポリマーラテックスの具体例
としては以下のようなものがある。メチルメタクリレー
ト/エチルアクリレート/メタクリル酸コポリマーのラ
テックス、メチルメタクリレート/2−エチルヘキシル
アクリレート/スチレン/アクリル酸コポリマーのラテ
ックス、スチレン/ブタジエン/アクリル酸コポリマー
のラテックス、スチレン/ブタジエン/ジビニルベンゼ
ン/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタ
クリレート/塩化ビニル/アクリル酸コポリマーのラテ
ックス、塩化ビニリデン/エチルアクリレート/アクリ
ロニトリル/メタクリル酸コポリマーのラテックスな
ど。また、このようなポリマーは市販もされていて、以
下のようなポリマーが利用できる。例えばアクリル樹脂
の例として、セビアンA-4635,46583、4601(以上ダイセ
ル化学工業(株)製)、Nipol Lx811、814、821、820、8
57(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリエステル樹脂と
しては、FINETEX ES650、611、675、850(以上大日本イ
ンキ化学(株)製)、WD-size、WMS(以上イーストマンケ
ミカル製)など、ポリウレタン樹脂としてはHYDRAN AP1
0、20、30、40(以上大日本インキ化学(株)製)など、
ゴム系樹脂としてはLACSTAR 7310K、3307B、4700H、713
2C(以上大日本インキ化学(株)製)、Nipol Lx416、41
0、438C、2507、(以上日本ゼオン(株)製)など、塩化
ビニル樹脂としてはG351、G576(以上日本ゼオン(株)
製)など、塩化ビニリデン樹脂としてはL502、L513(以上
旭化成工業(株)製)、アロンD7020、D504、D5071(以上
三井東圧(株)製)など、オレフィン樹脂としてはケミパ
ールS120、SA100(以上三井石油化学(株)製)などを挙
げることができる。これらのポリマーは単独で用いても
よいし、必要に応じて2種以上ブレンドして用いても良
い。
Specific examples of the polymer latex used as a binder in the image forming layer of the photothermographic material of the present invention include the following. Latex of methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, latex of methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / styrene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer Latex of methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, latex of vinylidene chloride / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymer, and the like. Such polymers are also commercially available, and the following polymers can be used. For example, as examples of acrylic resin, Sebian A-4635,46583,4601 (all manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811,814,821,820,8
Polyester resins include FINETEX ES650, 611, 675, and 850 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), WD-size, WMS (all manufactured by Eastman Chemical) , HYDRAN AP1 as polyurethane resin
0, 20, 30, 40 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, 713 as rubber resin
2C (Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.), Nipol Lx416, 41
0, 438C, 2507, (Nippon Zeon Co., Ltd.) and other vinyl chloride resins such as G351 and G576 (Nippon Zeon Co., Ltd.)
L502, L513 (manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.), Aron D7020, D504, D5071 (manufactured by Mitsui Toatsu Co., Ltd.) Mitsui Petrochemical Co., Ltd.). These polymers may be used alone or as a blend of two or more as necessary.

【0128】本発明の熱現像感光材料における画像形成
層は全バインダーの50重量%以上として上記ポリマーラ
テックスが好ましく用いられるが、70重量%以上として
上記ポリマーラテックスが用いられることがさらに好ま
しい。本発明の熱現像感光材料中の画像形成層には必要
に応じて全バインダーの50重量%以下の範囲でゼラチ
ン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロ
キシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセルロースなどの親水性
ポリマーを添加しても良い。これらの親水性ポリマーの
添加量は画像形成層の全バインダーの30重量%以下、さ
らには15重量%以下が好ましい。
In the image forming layer of the photothermographic material of the present invention, the polymer latex is preferably used in an amount of 50% by weight or more of the total binder, and more preferably 70% by weight or more. The image forming layer in the photothermographic material of the present invention may contain a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose, or hydroxypropylmethylcellulose in the range of 50% by weight or less of the entire binder, if necessary. May be added. The amount of the hydrophilic polymer to be added is preferably 30% by weight or less, more preferably 15% by weight or less of the total binder in the image forming layer.

【0129】本発明の熱現像感光材料中の画像形成層は
水系の塗布液を塗布後乾燥して調製することが好まし
い。ただし、ここで言う「水系」とは塗布液の溶媒(分
散媒)の60重量%以上が水であることをいう。塗布液の水
以外の成分はメチルアルコール、エチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセル
ソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチルなどの水混
和性の有機溶媒を用いることができる。具体的な溶媒組
成の例としては以下のようなものがある。水/メタノー
ル=90/10、水/メタノール=70/30、水/エタノール=9
0/10、水/イソプロパノール=90/10、水/ジメチルホ
ルムアミド=95/5、水/メタノール/ジメチルホルムア
ミド=80/15/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミ
ド=90/5/5。(ただし数字は重量%を表す。)
The image forming layer in the photothermographic material of the present invention is preferably prepared by applying an aqueous coating solution and then drying. However, the term “aqueous” as used herein means that 60% by weight or more of the solvent (dispersion medium) of the coating liquid is water. As components other than water of the coating solution, water-miscible organic solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate can be used. Specific examples of the solvent composition include the following. Water / methanol = 90/10, water / methanol = 70/30, water / ethanol = 9
0/10, water / isopropanol = 90/10, water / dimethylformamide = 95/5, water / methanol / dimethylformamide = 80/15/5, water / methanol / dimethylformamide = 90/5/5. (However, the numbers represent% by weight.)

【0130】本発明の熱現像感光材料中の画像形成層の
全バインダー量は0.2〜30g/m2、より好ましくは1〜15g
/m2の範囲が好ましい。画像形成層には架橋のための架
橋剤、塗布性改良のための界面活性剤などを添加しても
よい。本発明で用いる増感色素としてはハロゲン化銀粒
子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀粒子を
分光増感できるもので有ればいかなるものでも良い。増
感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色素、コ
ンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニ
ン色素、ホロホーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘ
ミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール
色素等を用いることができる。本発明で使用される有用
な増感色素は例えばRESEARCH DISCLOSURE Item17643IV-
A項(1978年12月p.23)、同Item1831X項(1979年8月p.437)
に記載もしくは引用された文献に記載されている。特に
各種レーザーイメージャー、スキャナー、イメージセッ
ターや製版カメラの光源の分光特性に適した分光感度を
有する増感色素を有利に選択することができる。
The total amount of the binder in the image forming layer in the photothermographic material of the present invention is 0.2 to 30 g / m 2 , more preferably 1 to 15 g.
/ M 2 is preferred. A crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like may be added to the image forming layer. As the sensitizing dye used in the present invention, any dye can be used as long as it can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength range when adsorbed on silver halide grains. As the sensitizing dye, a cyanine dye, a merocyanine dye, a complex cyanine dye, a complex merocyanine dye, a holo-holerocyanine dye, a styryl dye, a hemicyanine dye, an oxonol dye, a hemioxonol dye, and the like can be used. Useful sensitizing dyes for use in the present invention include, for example, RESEARCH DISCLOSURE Item17643IV-
Item A (December 1978, p.23), Item 1831X (August 1979, p.437)
Or in the literature cited or cited. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the light source of various laser imagers, scanners, imagesetters and plate making cameras can be advantageously selected.

【0131】赤色光への分光増感の例としては、He-Ne
レーザー、赤色半導体レーザーやLEDなどのいわゆる赤
色光源に対しては、特開昭54-18726号に記載のI-1から
I-38の化合物、特開平6-75322号に記載のI-1からI-3
5の化合物および特開平7-287338号に記載のI-1からI-
34の化合物、特公昭55-39818号に記載の色素1から20、
特開昭62-284343号に記載のI-1からI-37の化合物およ
び特開平7-287338号に記載のI-1からI-34の化合物な
どが有利に選択される。750〜1400nmの波長領域の半導
体レーザー光源に対しては、シアニン、メロシアニン、
スチリル、ヘミシアニン、オキソノール、ヘミオキソノ
ールおよびキサンテン色素を含む種々の既知の色素によ
り、スペクトル的に有利に増感させることができる。有
用なシアニン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾ
リン核、ピロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チ
アゾール核、セレナゾール核およびイミダゾール核など
の塩基性核を有するシアニン色素である。有用なメロシ
アニン染料で好ましいものは、上記の塩基性核に加え
て、チオヒダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジ
ンジオン核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、
チアゾリノン核、マロノニトリル核およびピラゾロン核
などの酸性核も含む。上記のシアニンおよびメロシアニ
ン色素において、イミノ基またはカルボキシル基を有す
るものが特に効果的である。例えば、米国特許3,761,27
9号、同3,719,495号、同3,877,943号、英国特許1,466,2
01号、同1,469,117号、同1,422,057号、特公平3-10391
号、同6-52387号、特開平5-341432号、同6-194781号、
同6-301141号に記載されたような既知の色素から適当に
選択してよい。
Examples of spectral sensitization to red light include He-Ne
For a so-called red light source such as a laser, a red semiconductor laser or an LED, a compound of I-1 to I-38 described in JP-A-54-18726, and a compound of I-1 described in JP-A-6-75322. I-3
5 and the compounds I-1 to I- described in JP-A-7-287338.
34 compounds, dyes 1 to 20 described in JP-B-55-39818,
The compounds I-1 to I-37 described in JP-A-62-284343 and the compounds I-1 to I-34 described in JP-A-7-287338 are advantageously selected. For a semiconductor laser light source in the wavelength range of 750 to 1400 nm, cyanine, merocyanine,
Various known dyes, including styryl, hemicyanine, oxonol, hemioxonol and xanthene dyes, can be spectrally sensitized advantageously. Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having a basic nucleus, such as a thiazoline nucleus, an oxazoline nucleus, a pyrroline nucleus, a pyridine nucleus, an oxazole nucleus, a thiazole nucleus, a selenazole nucleus and an imidazole nucleus. Preferred useful merocyanine dyes include, in addition to the above basic nuclei, a thiohydantoin nucleus, a rhodanine nucleus, an oxazolidinedione nucleus, a thiazolinedione nucleus, a barbituric acid nucleus,
Also includes acidic nuclei such as thiazolinone nuclei, malononitrile nuclei and pyrazolone nuclei. Among the above-mentioned cyanine and merocyanine dyes, those having an imino group or a carboxyl group are particularly effective. For example, U.S. Pat.
9, 3,719,495, 3,877,943, UK Patent 1,466,2
No. 01, No. 1,469,117, No. 1,422,057, Tokuhei 3-10391
No. 6-52387, JP-A-5-341432, 6-94781,
The dye may be appropriately selected from known dyes as described in JP-A-6-301141.

【0132】本発明に用いられる色素の構造として特に
好ましいものは、チオエーテル結合含有置換基を有する
シアニン色素(例としては特開昭62-58239号、同3-13863
8号、同3-138642号、同4-255840号、同5-72659号、同5-
72661号、同6-222491号、同2-230506号、同6-258757
号、同6-317868号、同6-324425号、特表平7-500926号、
米国特許5,541,054号に記載された色素)、カルボン酸基
を有する色素(例としては特開平3-163440号、6-301141
号、米国特許5,441,899号に記載された色素)、メロシア
ニン色素、多核メロシアニン色素や多核シアニン色素
(特開昭47-6329号、同49-105524号、同51-127719号、同
52-80829号、同54-61517号、同59-214846号、同60-6750
号、同63-159841号、特開平6-35109号、同6-59381号、
同7-146537号、同7-146537号、特表平55-50111号、英国
特許1,467,638号、米国特許5,281,515号に記載された色
素)が挙げられる。また、J-bandを形成する色素とし
て、米国特許5,510,236号、同3,871,887号の実施例5に
記載の色素、特開平2-96131号、特開昭59-48753号に開
示されている色素があり、これらの色素を本発明に好ま
しく用いることができる。
Particularly preferred as the structure of the dye used in the present invention is a cyanine dye having a thioether bond-containing substituent (for example, JP-A-62-58239 and JP-A-3-13863).
No.8, No.3-138642, No.4-255840, No.5-72659, No.5-
No. 72661, No. 6-222491, No. 2-230506, No. 6-258757
No., 6-317868, 6-324425, Tokuyohei 7-500926,
U.S. Pat.No. 5,541,054), a dye having a carboxylic acid group (for example, JP-A-3-163440, 6-301141).
No. 5,441,899), merocyanine dyes, polynuclear merocyanine dyes and polynuclear cyanine dyes
(JP 47-6329, JP 49-105524, JP 51-127719, JP
52-80829, 54-61517, 59-214846, 60-6750
No., 63-159841, JP-A-6-35109, 6-59381,
And the dyes described in JP-A-7-146537, JP-A-7-146537, JP-T-55-50111, British Patent 1,467,638, and US Patent 5,281,515. Further, as a dye forming a J-band, U.S. Pat.No. 5,510,236, the dye described in Example 5 of 3,871,887, JP-A-2-96131, and dyes disclosed in JP-A-59-48753 include These dyes can be preferably used in the present invention.

【0133】これらの増感色素は単独に用いてもよく、
2種以上組合せて用いてもよい。増感色素の組合せは特
に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素と
ともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは
可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を
示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色素、強
色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質はRe
search Disclosure 176巻17643(1978年12月発行)第23頁
IVのJ項、あるいは特公昭49-25500号、同43-4933号、特
開昭59-19032号、同59-192242号等に記載されている。
増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加させるには、それ
らを直接乳剤中に分散してもよいし、あるいは水、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、アセトン、メチル
セルソルブ、2,2,3,3-テトラフルオロプロパノール、2,
2,2-トリフルオロエタノール、3-メトキシ-1-プロパノ
ール、3-メトキシ-1-ブタノール、1-メトキシ-2-プロパ
ノール、N,N-ジメチルホルムアミド等の溶媒の単独もし
くは混合溶媒に溶解して乳剤に添加してもよい。
These sensitizing dyes may be used alone.
Two or more kinds may be used in combination. In particular, combinations of sensitizing dyes are frequently used for supersensitization. Along with the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization. Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization and substances exhibiting supersensitization are Re.
search Disclosure Volume 176, 17643 (Issued December 1978) p. 23
IV, J, or JP-B-49-25500, JP-B-43-4933, JP-A-59-19032, JP-A-59-192242, and the like.
The sensitizing dyes may be added to the silver halide emulsion by dispersing them directly in the emulsion or by adding water, methanol, ethanol, propanol, acetone, methylcellosolve, 2,2,3,3. -Tetrafluoropropanol, 2,
2,2-trifluoroethanol, 3-methoxy-1-propanol, 3-methoxy-1-butanol, 1-methoxy-2-propanol, N, dissolved in a solvent alone or a mixture of solvents such as N-dimethylformamide It may be added to the emulsion.

【0134】また、米国特許3,469,987号明細書等に開
示されているように、色素を輝発性の有機溶剤に溶解
し、この溶液を水または親水性コロイド中に分散し、こ
の分散物を乳剤中へ添加する方法、特公昭44-23389号、
同44-27555号、同57-22091号等に開示されているよう
に、色素を酸に溶解し、この溶液を乳剤中に添加した
り、酸または塩基を共存させて水溶液として乳剤中へ添
加する方法、米国特許3,822,135号、同4,006,025号明細
書等に開示されているように界面活性剤を共存させて水
溶液あるいはコロイド分散物としたものを乳剤中に添加
する方法、特開昭53-102733号、同58-105141号に開示さ
れているように親水性コロイド中に色素を直接分散さ
せ、その分散物を乳剤中に添加する方法、特開昭51-746
24号に開示されているように、レッドシフトさせる化合
物を用いて色素を溶解し、この溶液を乳剤中へ添加する
方法を用いることもできる。また、溶解に超音波を用い
ることもできる。
As disclosed in US Pat. No. 3,469,987, a dye is dissolved in a luminescent organic solvent, and this solution is dispersed in water or a hydrophilic colloid. Method of adding into the inside, Japanese Patent Publication No. 44-23389,
As disclosed in JP-A-44-27555 and JP-A-57-22091, the dye is dissolved in an acid and this solution is added to the emulsion, or an acid or base is added to the emulsion as an aqueous solution in the presence of an acid or base. A method of adding an aqueous solution or a colloidal dispersion in the presence of a surfactant to an emulsion as disclosed in U.S. Pat. JP-A-51-746, a method in which a dye is directly dispersed in a hydrophilic colloid and the dispersion is added to an emulsion as disclosed in JP-A-58-105141.
As disclosed in No. 24, a method of dissolving a dye using a compound that causes red shift and adding this solution to an emulsion can also be used. Also, ultrasonic waves can be used for dissolution.

【0135】本発明に用いる増感色素をハロゲン化銀乳
剤中に添加する時期は、これまで有用であることが認め
られている乳剤調製のいかなる工程中であってもよい。
例えば米国特許2,735,766号、同3,628,960号、同4,183,
756号、同4,225,666号、特開昭58-184142号、同60-1967
49号等の明細書に開示されているように、ハロゲン化銀
の粒子形成工程または/および脱塩前の時期、脱塩工程
中および/または脱塩後から化学熟成の開始前までの時
期、特開昭58-113920号等の明細書に開示されているよ
うに、化学熟成の直前または工程中の時期、化学熟成
後、塗布までの時期の乳剤が塗布される前ならばいかな
る時期、工程において添加されてもよい。また、米国特
許4,225,666号、特開昭58-7629号等の明細書に開示され
ているように、同一化合物を単独で、または異種構造の
化合物と組み合わせて、例えば粒子形成工程中と化学熟
成工程中または化学熟成完了後とに分けたり、化学熟成
の前または工程中と完了後とに分けるなどして分割して
添加してもよく、分割して添加する化合物および化合物
の組み合わせの種類を変えて添加してもよい。本発明に
おける増感色素の使用量としては感度やカブリなどの性
能に合わせて所望の量でよいが、感光性層のハロゲン化
銀1モル当たり10-6〜1モルが好ましく、10-4〜10-1モル
がさらに好ましい。
The sensitizing dye used in the present invention may be added to the silver halide emulsion at any stage of the emulsion preparation which has been recognized as being useful.
For example, U.S. Pat.Nos. 2,735,766, 3,628,960, 4,183,
No. 756, 4,225,666, JP-A-58-184142, 60-1967
As disclosed in the specification of No. 49, etc., the stage before silver halide grain formation step and / or before desalting, during the desalting step and / or after desalting and before the start of chemical ripening, As disclosed in the specification of JP-A-58-113920 and the like, at any time during the process immediately before or during chemical ripening, any time after chemical ripening and before coating until the emulsion is coated. May be added. Also, as disclosed in the specification of U.S. Pat. The compound may be added separately during or after chemical ripening, or before or after chemical ripening, or may be added separately. May be added. The amount of the sensitizing dye used in the present invention may be a desired amount in accordance with the performance such as sensitivity and fog, but is preferably 10 -6 to 1 mol, more preferably 10 -4 to 1 mol per mol of silver halide in the photosensitive layer. 10 -1 mol is more preferred.

【0136】本発明におけるハロゲン化銀乳剤または/
および有機銀塩は、カブリ防止剤、安定剤および安定剤
前駆体によって、付加的なかぶりの生成に対して更に保
護され、在庫貯蔵中における感度の低下に対して安定化
することができる。単独または組合せて使用することが
できる適当なカブリ防止剤、安定剤および安定剤前駆体
は、米国特許第2,131,038号および同第2,694,716号に記
載のチアゾニウム塩、米国特許第2,886,437号および同
第2,444,605号に記載のアザインデン、米国特許第2,72
8,663号に記載の水銀塩、米国特許第3,287,135号に記載
のウラゾール、米国特許第3,235,652号に記載のスルホ
カテコール、英国特許第623,448号に記載のオキシム、
ニトロン、ニトロインダゾール、米国特許第2,839,405
号に記載の多価金属塩、米国特許第3,220,839号に記載
のチウロニウム塩、ならびに米国特許第2,566,263号お
よび同第2,597,915号に記載のパラジウム、白金および
金塩、米国特許第4,108,665号および同第4,442,202号に
記載のハロゲン置換有機化合物、米国特許第4,128,557
号および同第4,137,079号、第4,138,365号および同第4,
459,350号に記載のトリアジンならびに米国特許第4,41
1,985号に記載のリン化合物などがある。
The silver halide emulsion according to the present invention or /
And the organic silver salts can be further protected against the formation of additional fog by antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors, and can be stabilized against reduced sensitivity during stock storage. Suitable antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors that can be used alone or in combination are the thiazonium salts described in U.S. Pat.Nos. 2,131,038 and 2,694,716, U.S. Pat. Azaindene, U.S. Pat.
8,663 mercury salt, U.S. Pat.No. 3,287,135 urazole, U.S. Pat.No. 3,235,652 sulfocatechol, British Patent 623,448 oxime,
Nitron, nitroindazole, U.S. Patent No. 2,839,405
No. 3,220,839, thiuronium salts, and U.S. Pat.Nos. 2,566,263 and 2,597,915, palladium, platinum and gold salts, U.S. Pat.Nos. 4,108,665 and 4,442,202 No. 4,128,557
Nos. 4,137,079 and 4,138,365 and 4,
No. 4,59,350 and U.S. Pat.
And the phosphorus compounds described in 1,985.

【0137】本発明に好ましく用いられるかぶり防止剤
としては有機ハロゲン化物であり、例えば、特開昭50-1
19624号、同50-120328号、同51-121332号、同54-58022
号、同56-70543号、同56-99335号、同59-90842号、同61
-129642号、同62-129845号、特開平6-208191号、同7-56
21号、同7-2781号、同8-15809号、米国特許第5,340,712
号、同5,369,000号、同5,464,737号に開示されているよ
うな化合物が挙げられる。また、下記式(P)で表され
る有機ハロゲン化物がかぶり防止剤として好ましく用い
られる。
The antifoggant preferably used in the present invention is an organic halide.
19624, 50-120328, 51-121332, 54-58022
Nos. 56-70543, 56-99335, 59-90842, 61
No. -129642, No. 62-129845, JP-A-6-208191, No. 7-56
No. 21, 7-2781, 8-15809, U.S. Pat.No. 5,340,712
Nos. 5,369,000 and 5,464,737. Further, an organic halide represented by the following formula (P) is preferably used as an antifoggant.

【0138】[0138]

【化14】 Embedded image

【0139】式(P)において、Z1およびZ2はそれぞ
れ独立にハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)
を表すが、Z1およびZ2は両方とも臭素原子であること
が最も好ましい。
In the formula (P), Z 1 and Z 2 are each independently a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, iodine)
It is most preferred that both Z 1 and Z 2 are bromine atoms.

【0140】式(P)において、Xは水素原子または電
子吸引性基である。ここで言う電子吸引性基とは、ハメ
ットの置換基定数σpが正の値を取りうる置換基のこと
であり、具体的には、シアノ基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、ス
ルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスル
ホニル基、ハロゲン原子、アシル基、ヘテロ環基等を表
す。式(P)において、Xは水素原子またはハロゲン原
子であることが好ましく、最も好ましいのは臭素原子で
ある。式(P)のYは−CO−または−SO2−であ
り、好ましくは−SO2−である。式(P)において、
Qはアリール基またはヘテロ環基を表す。
In the formula (P), X is a hydrogen atom or an electron-withdrawing group. The electron-withdrawing group referred to herein is a substituent whose Hammett's substituent constant σ p can take a positive value. Specifically, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group , A sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a halogen atom, an acyl group, a heterocyclic group and the like. In the formula (P), X is preferably a hydrogen atom or a halogen atom, and most preferably a bromine atom. Y of formula (P) is -CO- or -SO 2 -, preferably -SO 2 - is. In equation (P),
Q represents an aryl group or a heterocyclic group.

【0141】式(P)のQで表されるアリール基とは、
好ましくは炭素数6〜30の単環または縮環のアリール基
であり、より好ましくは6〜20の単環または縮環のアリ
ール基であり、例えば、フェニル、ナフチル等が挙げら
れ、特に好ましくはフェニル基である。Qで表されるア
リール基は置換基を有していてもよく、置換基としては
写真性能に悪影響を及ぼさない置換基であればどのよう
な基でも構わないが、例えばハロゲン原子(フッ素原
子、クロル原子、臭素原子、またはヨウ素原子)、アル
キル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン
基等を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、ヘテロ環基(N−置換の含窒素ヘテロ環基を含
む)、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えば
ピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボ
キシ基またはその塩、イミノ基、N原子で置換したイミ
ノ基、チオカルボニル基、カルバゾイル基、シアノ基、
チオカルバモイル基、アルコキシ基(エチレンオキシ基
もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含
む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオ
キシ基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)、カル
バモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、
イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カル
ボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバ
ジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、4級の
アンモニオ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニ
ルウレイド基、ニトロ基、(アルキル,アリール,また
はヘテロ環)チオ基、アシルチオ基、(アルキルまたは
アリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)
スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイ
ル基、ホスホリル基、リン酸アミドもしくはリン酸エス
テル構造を含む基、シリル基等が挙げられる。これら置
換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。
式(P)のQで表されるアリール基の置換基として特に
好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、ハロゲン、シアノ基、カルボキシル基またはその
塩、スルホ基の塩、リン酸基である。
The aryl group represented by Q in the formula (P) is
It is preferably a monocyclic or condensed aryl group having 6 to 30 carbon atoms, more preferably a monocyclic or condensed aryl group having 6 to 20 carbon atoms, such as phenyl and naphthyl. It is a phenyl group. The aryl group represented by Q may have a substituent, and any substituent may be used as long as it does not adversely affect photographic performance. Examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, A chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom), an alkyl group (including an aralkyl group, a cycloalkyl group and an active methine group), an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, and a heterocyclic group (an N-substituted nitrogen-containing heterocyclic ring) A heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom (eg, a pyridinio group), an acyl group, an alkoxycarbonyl group,
An aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a carboxy group or a salt thereof, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a thiocarbonyl group, a carbazoyl group, a cyano group,
A thiocarbamoyl group, an alkoxy group (including a group repeatedly containing an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group unit), an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an acyloxy group, (alkoxy or aryloxy), a carbamoyloxy group, a sulfonyloxy group, Acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group,
Imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonium group, (alkyl or aryl) sulfonyluureide group, nitro group, (alkyl, (Aryl or heterocycle) thio, acylthio, (alkyl or aryl) sulfonyl, (alkyl or aryl)
Examples include a sulfinyl group, a sulfo group or a salt thereof, a sulfamoyl group, a phosphoryl group, a group having a phosphoric acid amide or a phosphoric ester structure, and a silyl group. These substituents may be further substituted with these substituents.
Particularly preferred as the substituent of the aryl group represented by Q in the formula (P) is an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen, a cyano group, a carboxyl group or a salt thereof, a salt of a sulfo group, a phosphate group. is there.

【0142】式(P)において、Qで表されるヘテロ環
基は、N、OまたはSの原子を少なくとも1つ含む5な
いし7員の飽和または不飽和のヘテロ環であり、これら
は単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成し
ていてもよい。Qで表されるヘテロ環基としては例え
ば、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジル基、ベンゾ
チアゾール基、ベンツイミダゾール基、チアジアゾリル
基、キノリル基、イソキノリル基等が挙げられる。これ
らは置換基を有していてもよく、例えば、Qで表される
アリール基の置換基と同様の基が挙げられる。式(P)
のQは好ましくはアリール基であり、特に好ましくはフ
ェニル基である。
In the formula (P), the heterocyclic group represented by Q is a 5- to 7-membered saturated or unsaturated heterocyclic ring containing at least one atom of N, O or S. Or a condensed ring with another ring may be formed. Examples of the heterocyclic group represented by Q include a pyridyl group, a pyrazinyl group, a pyrimidyl group, a benzothiazole group, a benzimidazole group, a thiadiazolyl group, a quinolyl group, and an isoquinolyl group. These may have a substituent, and examples thereof include the same groups as the substituents of the aryl group represented by Q. Formula (P)
Q in is preferably an aryl group, particularly preferably a phenyl group.

【0143】式(P)のLは連結基を表し、例えばアル
キレン基(好ましくは炭素数1〜30であり、さらに好
ましくは炭素数1〜20であり、特に好ましくは炭素数
1〜10である。)、アリーレン基(好ましくは炭素数
6〜30であり、さらに好ましくは炭素数6〜20であ
り、特に好ましくは炭素数6〜10である。)、アルケ
ニレン基(好ましくは炭素数2〜30であり、さらに好
ましくは炭素数2〜20であり、特に好ましくは炭素数
2〜10である。)、アルキニレン基(好ましくは炭素
数2〜30であり、さらに好ましくは炭素数2〜20で
あり、特に好ましくは炭素数2〜10である。)、複素
環基(好ましくは炭素数1〜30であり、さらに好まし
くは炭素数1〜20であり、特に好ましくは炭素数1〜
10である。)、−O−基、−NR−基、−CO−基、
−COO−基、−OCOO−基、−NRCO−基、−N
RCONR−基、−OCONR−基、−S−基、−SO
−基、−SO2−基、−SO2NR−基、リン原子を含む
基や、これらを組み合わせることによって形成される基
等が挙げられる(ここでRで表される基は水素原子また
は置換基を有しても良いアルキル基または置換基を有し
ても良いアリール基である)。
L in the formula (P) represents a linking group, for example, an alkylene group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably having 1 to 20 carbon atoms, and particularly preferably having 1 to 10 carbon atoms. ), An arylene group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably having 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably having 6 to 10 carbon atoms), and an alkenylene group (preferably having 2 to 30 carbon atoms). , More preferably having 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably having 2 to 10 carbon atoms), and an alkynylene group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably having 2 to 20 carbon atoms). , Particularly preferably 2 to 10 carbon atoms), heterocyclic group (preferably 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 1 carbon atoms).
It is 10. ), -O- group, -NR- group, -CO- group,
-COO- group, -OCOO- group, -NRCO- group, -N
RCONR- group, -OCONR- group, -S- group, -SO
Group, a —SO 2 — group, a —SO 2 NR— group, a group containing a phosphorus atom, a group formed by combining these, and the like (here, the group represented by R is a hydrogen atom or a substituted An alkyl group which may have a group or an aryl group which may have a substituent).

【0144】式(P)のLで表される連結基は置換基を
有していても良く、例えば、Qで表されるアリール基の
置換基と同様のものが挙げられる。式(P)のLで表さ
れる連結基は好ましくはアルキレン基、−O−基、−N
RCO−基、−SO2NR−基およびこれらを組み合わ
せることによって形成される基である。
The linking group represented by L in the formula (P) may have a substituent, and examples thereof include the same substituents as those of the aryl group represented by Q. The linking group represented by L in the formula (P) is preferably an alkylene group, a -O- group, a -N
RCO- group, a group formed by combining -SO 2 NR- group, and their.

【0145】式(P)のWはカルボキシル基またはその
塩(Na、K、アンモニウム塩等)、スルホ基またはそ
の塩(Na、K、アンモニウム塩等)、リン酸基または
その塩(Na、K、アンモニウム塩等)、水酸基、4級
アンモニウム基(例えばテトラブチルアンモニウム、ト
リメチルベンジルアンモニウム等)、ポリエチレンオキ
シ基を表す。Wは好ましくはカルボキシル基またはその
塩、スルホ基の塩、水酸基である。式(P)で表される
化合物の具体例を示すが本発明はこれに限定されるもの
ではない。
In the formula (P), W represents a carboxyl group or a salt thereof (Na, K, ammonium salt, etc.), a sulfo group or a salt thereof (Na, K, ammonium salt, etc.), a phosphate group or a salt thereof (Na, K, etc.). , Ammonium salts, etc.), a hydroxyl group, a quaternary ammonium group (eg, tetrabutylammonium, trimethylbenzylammonium, etc.), and a polyethyleneoxy group. W is preferably a carboxyl group or a salt thereof, a salt of a sulfo group, or a hydroxyl group. Specific examples of the compound represented by the formula (P) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0146】[0146]

【化15】 Embedded image

【0147】[0147]

【化16】 Embedded image

【0148】[0148]

【化17】 Embedded image

【0149】[0149]

【化18】 Embedded image

【0150】[0150]

【化19】 Embedded image

【0151】[0151]

【化20】 Embedded image

【0152】[0152]

【化21】 Embedded image

【0153】[0153]

【化22】 Embedded image

【0154】[0154]

【化23】 Embedded image

【0155】[0155]

【化24】 Embedded image

【0156】[0156]

【化25】 Embedded image

【0157】[0157]

【化26】 Embedded image

【0158】[0158]

【化27】 Embedded image

【0159】式(P)で表される化合物は通常の有機合
成反応によって容易に合成することができる。以下に代
表的合成例を示す。
The compound represented by the formula (P) can be easily synthesized by a usual organic synthesis reaction. A typical synthesis example is shown below.

【化28】 Embedded image

【0160】合成例1.例示化合物(P−60)の合成 (1)中間体(B)の合成 市販されている化合物(A)93g、水酸化ナトリウム
43g、クロロ酢酸ナトリウム123gおよびヨウ化カ
リウム10gを水300mlに溶解させ、80℃で2時
間攪拌した。内温を30℃まで下げた後、濃塩酸50m
lを添加し、しばらく攪拌すると結晶が析出した。結晶
を吸引ろ過し、乾燥した結果、中間体(B)を80g得
た。白色結晶。 (2)例示化合物(P−60)の合成 NaOH57g、水500mlの溶液に室温で臭素33
mlを滴下し、その後、中間体(B)24g、NaOH
8g、水100mlの水溶液を室温で滴下した。析出し
た結晶を濾過し、得られた結晶を希塩酸に添加し濾過し
た。水で十分に洗浄し乾燥した結果、例示化合物(P−
60)が30g得られた。白色結晶。
Synthesis Example 1 Synthesis of Exemplified Compound (P-60) (1) Synthesis of Intermediate (B) 93 g of a commercially available compound (A), 43 g of sodium hydroxide, 123 g of sodium chloroacetate and 10 g of potassium iodide were dissolved in 300 ml of water. Stirred at 80 ° C. for 2 hours. After lowering the internal temperature to 30 ° C, concentrated hydrochloric acid 50m
l was added and stirred for a while to precipitate crystals. The crystals were subjected to suction filtration and dried, and as a result, 80 g of an intermediate (B) was obtained. White crystals. (2) Synthesis of Exemplified Compound (P-60) Bromine 33 was added to a solution of 57 g of NaOH and 500 ml of water at room temperature.
ml, then 24 g of intermediate (B), NaOH
An aqueous solution of 8 g and 100 ml of water was added dropwise at room temperature. The precipitated crystals were filtered, and the obtained crystals were added to dilute hydrochloric acid and filtered. As a result of sufficiently washing with water and drying, the exemplified compound (P-
60) was obtained in an amount of 30 g. White crystals.

【0161】合成例2.例示化合物(P−7)の合成 (1)中間体(C)の合成 例示化合物(P−60)30gおよびDMF1mlを塩
化チオニル100mlに溶解し、70℃で30分間攪拌
した。その後過剰の塩化チオニルを減圧留去した結果、
中間体(C)が31g得られた。白色結晶。 (2)例示化合物(P−7)の合成 ジエタノールアミン4.7g、メタノール50mlの溶
液を氷冷し、中間体(C)4.1gを添加した。5分攪
拌した後に、水を50ml添加すると、白色結晶が析出
した。これを濾過し、少量のDMAcに溶解し、メタノ
ールを少しづつ加えると結晶が析出した。これを濾過し
乾燥した結果、例示化合物(P−7)が4.0g得られ
た。白色結晶。
Synthesis Example 2 Synthesis of Exemplified Compound (P-7) (1) Synthesis of Intermediate (C) 30 g of Exemplified Compound (P-60) and 1 ml of DMF were dissolved in 100 ml of thionyl chloride and stirred at 70 ° C for 30 minutes. Thereafter, excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure,
31 g of intermediate (C) were obtained. White crystals. (2) Synthesis of Exemplified Compound (P-7) A solution of 4.7 g of diethanolamine and 50 ml of methanol was ice-cooled, and 4.1 g of the intermediate (C) was added. After stirring for 5 minutes, 50 ml of water was added, and white crystals precipitated. This was filtered, dissolved in a small amount of DMAc, and methanol was added little by little to precipitate crystals. As a result of filtering and drying, 4.0 g of Exemplified Compound (P-7) was obtained. White crystals.

【0162】合成例3.例示化合物(P−6)の合成 グリシン15g、NaHCO317g、水100ml、
THF100mlの溶液に中間体(C)20gを加え、
室温で5分間攪拌した。反応液に希塩酸を加え中和した
後に、水200mlを添加し析出した結晶を濾過した。
得られた粗結晶を少量のDMAcに溶解し、メタノール
を結晶が析出するまで添加した。結晶を濾過し乾燥した
結果、例示化合物(P−6)が22g得られた。白色結
晶。式(P)で表される化合物は、水あるいは適当な有
機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノー
ル、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。
また、酸性基が結合した化合物は当量のアルカリで中和
し、塩として添加しても良い。また、既によく知られて
いる乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリク
レジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートある
いはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシ
クロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的
に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは
固体分散法として知られている方法によって、粉末を水
の中にボールミル、コロイドミル、サンドグラインダー
ミル、マントンゴーリン、マイクロフルイダイザーある
いは超音波によって分散し用いることができる。式
(P)で表される化合物は、支持体に対して画像形成層
側の層、即ち画像形成層あるいはこの層側の他のどの層
に添加してもよいが、画像形成層あるいはそれに隣接す
る層に添加することが好ましい。また、本発明では式
(Z)で表される化合物がかぶり防止剤として好ましく
用いられる。式(Z)で表される化合物について、詳細
に説明する。
Synthesis Example 3 Synthesis of Exemplified Compound (P-6) 15 g of glycine, 17 g of NaHCO 3 , 100 ml of water,
20 g of the intermediate (C) was added to a solution of 100 ml of THF,
Stirred at room temperature for 5 minutes. After diluting hydrochloric acid to neutralize the reaction solution, 200 ml of water was added and the precipitated crystals were filtered.
The obtained crude crystals were dissolved in a small amount of DMAc, and methanol was added until crystals precipitated. As a result of filtering and drying the crystals, 22 g of Exemplified Compound (P-6) was obtained. White crystals. Compounds represented by the formula (P) include water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), dimethylformamide, and dimethyl sulfoxide. ,
It can be used by dissolving it in methylcellosolve or the like.
Further, the compound to which the acidic group is bonded may be neutralized with an equivalent amount of alkali and added as a salt. Also, by an already well-known emulsification dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are dissolved and mechanically emulsified and dispersed. A product can be prepared and used. Alternatively, the powder can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, a sand grinder mill, a Manton-Gaulin, a microfluidizer, or an ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method. The compound represented by the formula (P) may be added to the layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, the image forming layer or any other layer on the layer side. It is preferable to add it to the layer to be formed. In the present invention, the compound represented by the formula (Z) is preferably used as an antifoggant. The compound represented by the formula (Z) will be described in detail.

【0163】[0163]

【化29】 Embedded image

【0164】一般式(Z)において、Mは水素原子また
はk価の陽イオン(例えば、ナトリウムイオン、カリウ
ムイオン、カルシウムイオン、バリウムイオン、亜鉛イ
オン等の金属イオン、テトラメチルアンモニウムイオ
ン、テトラブチルアンモニウムイオン等のアンモニウム
イオン等)を表す。kは例示されるイオンが示すように
1以上の整数であり、通常1または2である。また、M
が水素原子の時k=1である。一般式(Z)において、
Rは置換基を表し、例えば直鎖、分岐または環状のアル
キル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜
12、特に好ましくは1〜8であり、例えば、メチル、エ
チル、iso−プロピル、t−ブチル、n−オクチル、
1,1,3,3−テトラメチルブチル、t−アミル、シ
クロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好
ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜12、特に好
ましくは2〜8であり、例えば、ビニル、アリル、2-ブ
テニル、3-ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニ
ル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜1
2、特に好ましくは2〜8であり、例えば、プロパルギ
ル、3-ペンチニルなどが挙げられる。)、アラルキル基
(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは7〜2
0、特に好ましくは7〜16であり、例えば、ベンジ
ル、α−メチルベンジル、α−エチルベンジル、ジフェ
ニルメチル、ナフチルメチル、ナフチルフェニルメチル
などが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数
6〜30、より好ましくは6〜20、特に好ましくは6〜12
であり、例えば、フェニル、p-メチルフェニル、ナフチ
ルなどが挙げられる。)、アミノ基(好ましくは炭素数
0〜20、より好ましくは0〜10、更に好ましくは0〜6
であり、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられ
る。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より
好ましくは1〜12、特に好ましくは1〜8であり、例え
ば、メトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられ
る。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、
より好ましくは6〜16、特に好ましくは6〜12であり、
例えば、フェニルオキシ、2-ナフチルオキシなどが挙げ
られる。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より
好ましくは1〜16、特に好ましくは1〜12であり、例え
ば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなど
が挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましく
は炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、特に好ましく
は2〜12であり、例えば、メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカ
ルボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは
7〜16、特に好ましくは7〜10であり、例えば、フェノ
キシカルボニルなどが挙げられる。)、アシルオキシ基
(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは2〜16、特
に好ましくは2〜10であり、例えば、アセトキシ、ベン
ゾイルオキシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基
(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは2〜16、特
に好ましくは2〜10であり、例えば、アセチルアミノ、
ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシカ
ルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ま
しくは2〜16、特に好ましくは2〜12であり、例えば、
メトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリ
ールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜
20、より好ましくは7〜16、特に好ましくは7〜12であ
り、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノなどが挙
げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数
1〜20、より好ましくは1〜16、特に好ましくは1〜12
であり、例えば、メタンスルホニルアミノ、ベンゼンス
ルホニルアミノなどが挙げられる。)、スルファモイル
基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは0〜16、
特に好ましくは0〜12であり、例えば、スルファモイ
ル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、
フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、カルバ
モイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは0
〜16、特に好ましくは0〜12であり、例えば、カルバモ
イル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルな
どが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1
〜20、より好ましくは1〜16、特に好ましくは1〜12で
あり、例えば、ウレイド、メチルウレイド、フェニルウ
レイなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましく
は炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、特に好ましく
は1〜12であり、例えば、メチルチオ、エチルチオなど
が挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数
6〜20、より好ましくは6〜16、特に好ましくは6〜12
であり、例えば、フェニルチオなどが挙げられる。)、
スルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましく
は1〜16、特に好ましくは1〜12であり、例えば、メシ
ル、トシルなどが挙げられる。)、スルフィニル基(好
ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、特に好
ましくは1〜12であり、例えば、メタンスルフィニル、
ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、燐酸アミ
ド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜1
6、特に好ましくは1〜12であり、例えば、ジエチル燐
酸アミド、フェニル燐酸アミドなどが挙げられる。)、
ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えば、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シア
ノ基、スルホ基、カルボキシ基、ニトロ基、ヒドロキサ
ム基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、スルホニルチオ
基、チオスルホニル基、ヘテロ環基(例えば、イミダゾ
リル、ピリジル、フリル、ピペリジル、モリホリルなど
が挙げられる。)、ジスルフィド基などが挙げられる。
In the general formula (Z), M is a hydrogen atom or a k-valent cation (eg, a metal ion such as a sodium ion, a potassium ion, a calcium ion, a barium ion, a zinc ion, a tetramethylammonium ion, a tetrabutylammonium ion). Ion, etc.). k is an integer of 1 or more as shown by the exemplified ion, and is usually 1 or 2. Also, M
Is a hydrogen atom, k = 1. In the general formula (Z),
R represents a substituent, for example, a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms)
12, particularly preferably 1 to 8, for example, methyl, ethyl, iso-propyl, t-butyl, n-octyl,
1,1,3,3-tetramethylbutyl, t-amyl, cyclohexyl and the like. ), Alkenyl groups (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl and the like), alkynyl Groups (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 1
2, particularly preferably 2 to 8, for example, propargyl, 3-pentynyl and the like. ), Aralkyl group (preferably having 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 2 carbon atoms)
0, particularly preferably 7 to 16, for example, benzyl, α-methylbenzyl, α-ethylbenzyl, diphenylmethyl, naphthylmethyl, naphthylphenylmethyl and the like. ), An aryl group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms).
And examples thereof include phenyl, p-methylphenyl, naphthyl and the like. ), An amino group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 10, more preferably 0 to 6 carbon atoms).
And examples include amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino and the like. ), An alkoxy group (preferably having 1 to 20, more preferably 1 to 12, and particularly preferably 1 to 8; examples thereof include methoxy, ethoxy, and butoxy), and an aryloxy group (preferably, carbon Numbers 6 to 20,
More preferably 6 to 16, particularly preferably 6 to 12,
For example, phenyloxy, 2-naphthyloxy and the like can be mentioned. ), An acyl group (preferably having 1 to 20, more preferably 1 to 16, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms such as acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl, etc.), and an alkoxycarbonyl group (preferably Has 2 to 20, more preferably 2 to 16, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl and the like.), An aryloxycarbonyl group (preferably 7 to 20 carbon atoms, It is more preferably from 7 to 16, particularly preferably from 7 to 10, for example, phenoxycarbonyl and the like.), An acyloxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 2 carbon atoms). 10, for example, acetoxy, benzoyloxy, etc.), an acylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably Ku is 2 to 16, particularly preferably 2 to 10, e.g., acetylamino,
Benzoylamino and the like. ), An alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 20, more preferably 2 to 16, particularly preferably 2 to 12, for example,
Methoxycarbonylamino and the like. ), An aryloxycarbonylamino group (preferably having 7 to 7 carbon atoms)
20, more preferably 7 to 16, particularly preferably 7 to 12, and examples include phenyloxycarbonylamino. ), A sulfonylamino group (preferably having 1 to 20, more preferably 1 to 16, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms)
And examples thereof include methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino and the like. ), A sulfamoyl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16,
Particularly preferred is 0 to 12, for example, sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl,
Phenylsulfamoyl and the like. ), A carbamoyl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0
To 16, particularly preferably 0 to 12, and examples include carbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl and the like. ), A ureido group (preferably having 1 carbon atom)
-20, more preferably 1-16, particularly preferably 1-12, for example, ureide, methylureide, phenylurey and the like. ), An alkylthio group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms such as methylthio and ethylthio, etc.), and an arylthio group (preferably having 6 to carbon atoms). 20, more preferably 6 to 16, particularly preferably 6 to 12
And, for example, phenylthio and the like. ),
A sulfonyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, mesyl, tosyl, etc.) and a sulfinyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms; More preferably 1 to 16, particularly preferably 1 to 12, for example, methanesulfinyl,
Benzenesulfinyl and the like. ), A phosphoric amide group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 1
6, particularly preferably 1 to 12, for example, diethylphosphoramide, phenylphosphoramide and the like. ),
Hydroxy group, mercapto group, halogen atom (for example,
Fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxy group, nitro group, hydroxam group, sulfino group, hydrazino group, sulfonylthio group, thiosulfonyl group, heterocyclic group (for example, imidazolyl, Pyridyl, furyl, piperidyl, morpholinyl, etc.), disulfide groups and the like.

【0165】これらの置換基は、更に、置換されていて
も良く、塩形成が可能な基である場合は塩を形成してい
ても良い。また、nは1〜4の整数であるが、置換基が
2つ以上ある場合、即ちn≧の2場合は、同じでも異な
っていても良い。nは1〜3が好ましく、2が最も好ま
しい。
These substituents may be further substituted, and if the group is capable of forming a salt, may form a salt. Further, n is an integer of 1 to 4, but when there are two or more substituents, that is, when n ≧ 2, they may be the same or different. n is preferably 1 to 3, and most preferably 2.

【0166】また、これらの置換基は互いに結合して5
員ないし7員環の非芳香族または芳香族の炭素環(例え
ばベンゼン環)を形成しても良い。さらに、この環は他
の置換基(例えばハロゲン原子、カルボキシ基)で置換
されていても良い。Rで表される置換基として好ましく
は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラル
キル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル
アミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニル
アミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイ
ド基、アルキルチオ基、スルホニル基、ヒドロキシ基、
メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カ
ルボキシ基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、さらに好ま
しくは、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、ア
ミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ
基、メルカプト基、ハロゲン原子、スルホ基、カルボキ
シ基である。
These substituents are bonded to each other to form 5
It may form a non-aromatic or aromatic carbon ring (for example, a benzene ring) having 7 to 7 members. Further, this ring may be substituted with another substituent (eg, a halogen atom, a carboxy group). Preferably, the substituent represented by R is an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aralkyl group, an aryl group, an amino group, an alkoxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, an acylamino group, an alkoxycarbonylamino group, Sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, alkylthio group, sulfonyl group, hydroxy group,
A mercapto group, a halogen atom, a cyano group, a sulfo group, a carboxy group, a nitro group, and a heterocyclic group, and more preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an amino group, an alkoxy group, an alkylthio group, a hydroxy group, and a mercapto group. Group, halogen atom, sulfo group and carboxy group.

【0167】さらに、一般式(Z)において、水酸基の
オルト位および/またはパラ位にアルキル基が置換する
ことが特に好ましい。また、一般式(Z)の化合物が一
つの炭素を介して結合したビスフェノール構造もより好
ましい。次に式(Z)で表されるかぶり防止剤の具体例
を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
Further, in the general formula (Z), it is particularly preferable that the hydroxyl group is substituted with an alkyl group at the ortho position and / or the para position. Further, a bisphenol structure in which the compound of the general formula (Z) is bonded through one carbon is more preferable. Next, specific examples of the antifoggant represented by the formula (Z) are shown, but the present invention is not limited thereto.

【0168】[0168]

【化30】 Embedded image

【0169】[0169]

【化31】 Embedded image

【0170】[0170]

【化32】 Embedded image

【0171】[0171]

【化33】 Embedded image

【0172】[0172]

【化34】 Embedded image

【0173】[0173]

【化35】 Embedded image

【0174】一般式(Z)のカブリ防止剤は、市販のも
のを用いても良く、また、例えば、特開平2-251838号に
開示されている方法やJ.Med.Chem.,34,342(1991)に記載
のサリチル酸とカルボニル化合物との酸触媒縮合反応等
によって容易に合成できる。一般式(Z)のカブリ防止
剤は、水あるいは適当な有機溶媒、例えばアルコール類
(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化ア
ルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケト
ン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。
また、既によく知られている乳化分散法によって、ジブ
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどの
オイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒
を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製して用いる
ことができる。あるいは固体分散法として知られている
方法によって、粉末を水の中にボールミル、コロイドミ
ル、サンドグラインダーミル、マントンゴーリン、マイ
クロフルイダイザーあるいは超音波によって分散し用い
ることができる。
As the antifoggant of the general formula (Z), a commercially available one may be used. For example, the method disclosed in JP-A-2-51838 or the method disclosed in J. Med. Chem., 34, 342 (1991) )) Can be easily synthesized by an acid-catalyzed condensation reaction of salicylic acid and a carbonyl compound. The antifoggant of the general formula (Z) may be water or a suitable organic solvent such as an alcohol.
(Methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide,
It can be used by dissolving it in methylcellosolve or the like.
Also, by an already well-known emulsification dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are dissolved and mechanically emulsified and dispersed. A product can be prepared and used. Alternatively, the powder can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, a sand grinder mill, a Manton-Gaulin, a microfluidizer, or an ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method.

【0175】一般式(Z)のカブリ防止剤は、支持体に
対して画像形成層側の層、即ち画像形成層あるいはこの
層側の他のどの層に添加してもよいが、画像形成層ある
いはそれに隣接する層に添加することが好ましい。画像
形成層は還元可能な銀塩(有機銀塩)を含有する層であ
り、好ましくはさらに感光性ハロゲン化銀を含有する感
光性層であることが好ましい。式(Z)で表されるかぶ
り防止剤の添加量は、Ag1molに対するmol量(mol/mo
lAg)で示して、好ましくは1×10-5〜5×10-1mol
/molAg、より好ましくは、5×10-5〜1×10-1mol
/molAg、更に好ましくは、1×10-4〜5×10-2mol/
molAgである。これらは1種のみを用いても2種以上を
併用しても良い。式(Z)で表されるかぶり防止剤は、
溶液、粉末、固体微粒子分散物などいかなる方法で添加
してもよい。固体微粒子分散は公知の微細化手段(例え
ば、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、コロイ
ドミル、ジェットミル、ローラーミルなど)で行われ
る。また、固体微粒子分散する際に分散助剤を用いても
よい。
The antifoggant of the general formula (Z) may be added to the layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, the image forming layer or any other layer on the layer side. Alternatively, it is preferably added to a layer adjacent thereto. The image forming layer is a layer containing a reducible silver salt (organic silver salt), and is preferably a photosensitive layer further containing a photosensitive silver halide. The addition amount of the antifoggant represented by the formula (Z) is a mol amount (mol / mo
lAg), preferably 1 × 10 -5 to 5 × 10 -1 mol
/ MolAg, more preferably 5 × 10 -5 to 1 × 10 -1 mol
/ MolAg, more preferably 1 × 10 −4 to 5 × 10 −2 mol /
molAg. These may be used alone or in combination of two or more. The antifoggant represented by the formula (Z) is
It may be added by any method such as a solution, a powder, and a dispersion of solid fine particles. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.

【0176】本発明を実施するために必要ではないが、
乳剤層にカブリ防止剤として水銀(II)塩を加えることが
有利なことがある。この目的に好ましい水銀(II)塩は、
酢酸水銀および臭化水銀である。本発明に使用する水銀
の添加量としては、塗布された銀1モル当たり好ましく
は1×10-9モル〜1×10-3モル、さらに好ましくは1×10
-8モル〜1×10-4モルの範囲である。本発明の熱現像感
光材料は、高感度化やカブリ防止を目的として安息香酸
類を含有しても良い。本発明で用いる安息香酸類はいか
なる安息香酸誘導体でもよいが、好ましい構造の例とし
ては、米国特許4,784,939号、同4,152,160号、特開平9
-329863号、同9−329864号、同9−28
1637号などに記載の化合物が挙げられる。安息香酸
類は感光材料のいかなる部位に添加しても良いが、添加
層としては感光性層を有する面の層に添加することが好
ましく、有機銀塩含有層に添加することがさらに好まし
い。安息香酸類の添加時期としては塗布液調製のいかな
る工程で行ってもよく、有機銀塩含有層に添加する場合
は有機銀塩調製時から塗布液調製時のいかなる工程でも
よいが有機銀塩調製後から塗布直前が好ましい。安息香
酸類の添加法としては粉末、溶液、微粒子分散物などい
かなる方法で行っても良い。また、増感色素、還元剤、
色調剤など他の添加物と混合した溶液として添加しても
良い。安息香酸類の添加量としてはいかなる量でも良い
が、銀1モル当たり1×10-6モル以上2モル以下が好まし
く、1×10-3モル以上0.5モル以下がさらに好ましい。
Although not required to practice the present invention,
Mercury (II) salt can be added to the emulsion layer as an antifoggant
It may be advantageous. Preferred mercury (II) salts for this purpose are
Mercury acetate and mercury bromide. Mercury used in the present invention
Is preferably added per mol of the applied silver.
Is 1 × 10-9Mol ~ 1 x 10-3Mole, more preferably 1 × 10
-8Mol ~ 1 x 10-FourRange of moles. Thermal development feeling of the present invention
Optical materials use benzoic acid for the purpose of increasing sensitivity and preventing fog.
May be contained. What is benzoic acid used in the present invention
Although a benzoic acid derivative may be
U.S. Pat. Nos. 4,784,939 and 4,152,160;
-329,863, 9-329864, 9-28
1637 and the like. benzoic acid
May be added to any part of the photosensitive material.
The layer is preferably added to the layer having the photosensitive layer.
More preferably, it is added to the organic silver salt-containing layer.
No. The timing of addition of benzoic acid
When adding to the organic silver salt-containing layer
Can be used in any process from preparation of organic silver salt to preparation of coating solution.
Although good, it is preferable after the preparation of the organic silver salt and immediately before the coating. Benzo
Powders, solutions, fine particle dispersions, etc.
It may be performed in such a manner. Also, sensitizing dyes, reducing agents,
Even if added as a solution mixed with other additives such as color toning agents
good. Any amount of benzoic acid may be added
But 1 × 10 per mole of silver-6More than 2 moles and less is preferred
, 1 × 10-3More preferably, the molar ratio is from 0.5 mol to 0.5 mol.

【0177】本発明の熱現像感光材料には現像を抑制あ
るいは促進させ現像を制御するため、分光増感効率を向
上させるため、現像前後の保存性を向上させるためなど
にメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チオン化合
物を含有させることができる。本発明にメルカプト化合
物を使用する場合、いかなる構造のものでも良いが、Ar
-SM、Ar-S-S-Arで表されるものが好ましい。式中、Mは
水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは1個以上
の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたはテルリウム原
子を有する芳香環または縮合芳香環である。好ましく
は、複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフスイミダゾ
ール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオ
キサゾール、ナフスオキサゾール、ベンゾセレナゾー
ル、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾー
ル、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、テト
ラゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラ
ジン、ピリジン、プリン、キノリンまたはキナゾリノン
である。この複素芳香環は、例えば、ハロゲン(例え
ば、BrおよびCl)、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、
アルキル(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1
〜4個の炭素原子を有するもの)、アルコキシ(例えば、
1個以上の炭素原子、好ましくは1〜4個の炭素原子を
有するもの)およびアリール(置換基を有していてもよ
い)からなる置換基群から選択されるものを有してもよ
い。メルカプト置換複素芳香族化合物をとしては、2-メ
ルカプトベンズイミダゾール、2-メルカプトベンズオキ
サゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプ
ト-5-メチルベンズイミダゾール、6-エトキシ-2-メルカ
プトベンゾチアゾール、2,2'-ジチオビス-(ベンゾチア
ゾール)、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、4,5-ジフ
ェニル-2-イミダゾールチオール、2-メルカプトイミダ
ゾール、1-エチル-2-メルカプトベンズイミダゾール、2
-メルカプトキノリン、8-メルカプトプリン、2-メルカ
プト-4(3H)-キナゾリノン、7-トリフルオロメチル-4-キ
ノリンチオール、2,3,5,6-テトラクロロ-4-ピリジンチ
オール、4-アミノ-6-ヒドロキシ-2-メルカプトピリミジ
ンモノヒドレート、2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チア
ジアゾール、3-アミノ-5-メルカプト-1,2,4-トリアゾー
ル、4-ヒドキロシ-2-メルカプトピリミジン、2-メルカ
プトピリミジン、4,6-ジアミノ-2-メルカプトピリミジ
ン、2-メルカプト-4-メチルピリミジンヒドロクロリ
ド、3-メルカプト-5-フェニル-1,2,4-トリアゾール、1-
フェニル-5-メルカプトテトラゾール、3-(5-メルカプト
テトラゾール)-ベンゼンスルフォン酸ナトリウム、N-メ
チル-N'-[3-(5-メルカプトテトラゾリル)フェニル]ウレ
ア、2-メルカプト-4-フェニルオキサゾールなどが挙げ
られるが、本発明はこれらに限定されない。これらのメ
ルカプト化合物の添加量としては乳剤層中に銀1モル当
たり0.0001〜1.0モルの範囲が好ましく、さらに好まし
くは、銀の1モル当たり0.001〜0.3モルの量である。
In the photothermographic material of the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, A thione compound can be contained. When a mercapto compound is used in the present invention, any structure may be used.
-SM and Ar-SS-Ar are preferred. Wherein M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic or fused aromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms. Preferably, the heteroaromatic ring is benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotellurazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, thiadiazole, tetrazole, triazine, pyrimidine, pyridazine , Pyrazine, pyridine, purine, quinoline or quinazolinone. The heteroaromatic ring includes, for example, halogens (e.g., Br and Cl), hydroxy, amino, carboxy,
Alkyl (eg one or more carbon atoms, preferably 1
Having 4 to 4 carbon atoms), alkoxy (e.g.,
It may have a substituent selected from the group consisting of one or more carbon atoms, preferably those having 1 to 4 carbon atoms) and aryl (which may have a substituent). As mercapto-substituted heteroaromatic compounds, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-5-methylbenzimidazole, 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole, 2, 2'-dithiobis- (benzothiazole), 3-mercapto-1,2,4-triazole, 4,5-diphenyl-2-imidazolethiol, 2-mercaptoimidazole, 1-ethyl-2-mercaptobenzimidazole, 2
-Mercaptoquinoline, 8-mercaptopurine, 2-mercapto-4 (3H) -quinazolinone, 7-trifluoromethyl-4-quinolinethiol, 2,3,5,6-tetrachloro-4-pyridinethiol, 4-amino -6-Hydroxy-2-mercaptopyrimidine monohydrate, 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazole, 4-hydrocyanic-2 -Mercaptopyrimidine, 2-mercaptopyrimidine, 4,6-diamino-2-mercaptopyrimidine, 2-mercapto-4-methylpyrimidine hydrochloride, 3-mercapto-5-phenyl-1,2,4-triazole, 1-
Phenyl-5-mercaptotetrazole, sodium 3- (5-mercaptotetrazole) -benzenesulfonate, N-methyl-N '-[3- (5-mercaptotetrazolyl) phenyl] urea, 2-mercapto-4-phenyl Oxazole and the like can be mentioned, but the present invention is not limited to these. The addition amount of these mercapto compounds is preferably in the range of 0.0001 to 1.0 mol per mol of silver in the emulsion layer, more preferably 0.001 to 0.3 mol per mol of silver.

【0178】本発明の熱現像感光材料における感光性層
には、可塑剤および潤滑剤として多価アルコール(例え
ば、米国特許第2,960,404号に記載された種類のグリセ
リンおよびジオール)、米国特許第2,588,765号および同
第3,121,060号に記載の脂肪酸またはエステル、英国特
許第955,061号に記載のシリコーン樹脂などを用いるこ
とができる。本発明においては、画像形成上に保護層を
設けることが好ましく、保護層のバインダーとしては、
前述のように、ガラス転移温度が25℃以上70℃以下のポ
リマーのラテックスを用いることが好ましい。この場合
保護層の全バインダーの50重量%以上、好ましくは70重
量%以上として前述のポリマーラテックスを用いること
が好ましい。本発明ではこのような保護層を少なくとも
1層設けることが好ましい。このような保護層のバイン
ダー構成や塗設方法等については画像形成層と同様であ
る。保護層用のポリマーラテックスとしてはアクリル
系、スチレン系、アクリル/スチレン系、塩化ビニル
系、塩化ビニリデン系のポリマーラテックスが好ましく
用いられ、具体的にはアクリル樹脂系のVONCORT R337
0、4280、NipolLx857、メチルアクリレート/2−エチ
ルヘキシル(メタ)アクリレート/ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート/スチレン/(メタ)アクリル酸
コポリマー、塩化ビニル樹脂のNipol G576、塩化ビニリ
デン樹脂のアロンD5071が好ましく用いられる。本発明
に用いられる保護層用の全バインダー量は0.2〜5.0g/
2、より好ましくは0.5〜4.0g/m2の範囲である。
In the photosensitive layer of the photothermographic material of the present invention, a polyhydric alcohol (for example, glycerin and diol of the type described in US Pat. No. 2,960,404) as a plasticizer and a lubricant, and US Pat. No. 2,588,765. And fatty acids or esters described in US Pat. No. 3,121,060, and silicone resins described in UK Patent No. 955,061 can be used. In the present invention, it is preferable to provide a protective layer on the image formation, as a binder of the protective layer,
As described above, it is preferable to use a polymer latex having a glass transition temperature of 25 ° C. or more and 70 ° C. or less. In this case, it is preferable to use the polymer latex described above in an amount of 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more of the total binder of the protective layer. In the present invention, at least such a protective layer is provided.
It is preferable to provide one layer. The binder configuration and coating method of such a protective layer are the same as those of the image forming layer. As the polymer latex for the protective layer, acrylic, styrene, acryl / styrene, vinyl chloride, and vinylidene chloride polymer latexes are preferably used. Specifically, acrylic resin-based VONCORT R337
0, 4280, NipolLx857, methyl acrylate / 2-ethylhexyl (meth) acrylate / hydroxyethyl (meth) acrylate / styrene / (meth) acrylic acid copolymer, Nipol G576 vinyl chloride resin, and Aron D5071 vinylidene chloride resin are preferably used. . The total amount of the binder for the protective layer used in the present invention is 0.2 to 5.0 g /
m 2 , more preferably in the range of 0.5 to 4.0 g / m 2 .

【0179】表面保護層としては、いかなる付着防止材
料を使用してもよい。付着防止材料の例としては、ワッ
クス、シリカ粒子、スチレン含有エラストマー性ブロッ
クコポリマー(例えば、スチレン-ブタジエン-スチレ
ン、スチレン-イソプレン-スチレン)、酢酸セルロー
ス、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロ
ピオネートやこれらの混合物などがある。また、表面保
護層には架橋のための架橋剤、塗布性改良のための界面
活性剤などを添加してもよい。
As the surface protective layer, any anti-adhesion material may be used. Examples of anti-adhesion materials include wax, silica particles, styrene-containing elastomeric block copolymers (e.g., styrene-butadiene-styrene, styrene-isoprene-styrene), cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate and the like. And mixtures. Further, a crosslinking agent for crosslinking and a surfactant for improving coating properties may be added to the surface protective layer.

【0180】本発明の熱現像感光材料における画像形成
層もしくは画像形成層の保護層には、米国特許第3,253,
921号、同第2,274,782号、同第2,527,583号および同第
2,956,879号に記載されているような光吸収物質および
フィルター染料を含む写真要素において使用することが
できる。また、例えば米国特許第3,282,699号に記載の
ように染料を媒染することができる。フィルター染料の
使用量としては露光波長での吸光度が0.1〜3が好まし
く、0.2〜1.5が特に好ましい。
The image forming layer or the protective layer of the image forming layer in the photothermographic material of the present invention may be any of those described in US Pat.
Nos. 921, 2,274,782, 2,527,583 and
It can be used in photographic elements containing light absorbing materials and filter dyes as described in 2,956,879. Further, a dye can be mordant as described in, for example, US Pat. No. 3,282,699. The amount of the filter dye used is preferably such that the absorbance at the exposure wavelength is 0.1 to 3, and particularly preferably 0.2 to 1.5.

【0181】本発明の熱現像感光材料の感光性層には色
調改良、イラジエーション防止の観点から各種染料や顔
料を用いることができる。感光性層に用いる染料および
顔料はいかなるものでもよいが、例えばカラーインデッ
クス記載の顔料や染料があり、具体的にはピラゾロアゾ
ール染料、アントラキノン染料、アゾ染料、アゾメチン
染料、オキソノール染料、カルボシアニン染料、スチリ
ル染料、トリフェニルメタン染料、インドアニリン染
料、インドフェノール染料、フタロシアニンをはじめと
する有機顔料、無機顔料などが挙げられる。本発明に用
いられる好ましい染料としてはアントラキノン染料(例
えば特開平5-341441号記載の化合物1〜9、特開平5-1651
47号記載の化合物3-6〜18および3-23〜38など)、アゾメ
チン染料(特開平5-341441号記載の化合物17〜47など)、
インドアニリン染料(例えば特開平5-289227号記載の化
合物11〜19、特開平5-341441号記載の化合物47、特開平
5-165147号記載の化合物2-10〜11など)およびアゾ染料
(特開平5-341441号記載の化合物10〜16)が挙げられる。
これらの染料の添加法としては、溶液、乳化物、固体微
粒子分散物、高分子媒染剤に媒染された状態などいかな
る方法でも良い。これらの化合物の使用量は目的の吸収
量によって決められるが、一般的に1m2当たり1×10-6g
以上1g以下の範囲で用いることが好ましい。
Various dyes and pigments can be used in the photosensitive layer of the photothermographic material of the present invention from the viewpoint of improving color tone and preventing irradiation. Dyes and pigments used in the photosensitive layer may be any, for example, pigments and dyes described in Color Index, specifically, pyrazoloazole dye, anthraquinone dye, azo dye, azomethine dye, oxonol dye, carbocyanine dye , Styryl dyes, triphenylmethane dyes, indoaniline dyes, indophenol dyes, organic pigments such as phthalocyanine, and inorganic pigments. Preferred dyes used in the present invention include anthraquinone dyes (e.g., compounds 1 to 9 described in JP-A-5-341441, JP-A-5-1651).
No. 47, such as compounds 3-6 to 18 and 3-23 to 38), azomethine dyes (such as compounds 17 to 47 described in JP-A-5-341441),
Indoaniline dyes (e.g., compounds 11 to 19 described in JP-A-5-289227, compound 47 described in JP-A-5-341441,
5-165147 No. 2-10 to 11) and azo dyes
(Compounds 10 to 16 described in JP-A-5-341441).
As a method for adding these dyes, any method such as a solution, an emulsion, a solid fine particle dispersion, and a state in which the dye is mordanted with a polymer mordant may be used. The amount of these compounds used depends on the desired absorption, but generally 1 × 10 −6 g per m 2
It is preferable to use it in a range of not less than 1 g and not more than 1 g.

【0182】本発明の熱現像感光材料は、支持体の一方
の側に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤を含む感光性
層を有し、他方の側にバック層を有する、いわゆる片面
感光材料であることが好ましい。本発明においてバック
層は、所望の範囲での最大吸収が約0.3以上2.0以下であ
ることが好ましい。所望の範囲が750〜1400nmである場
合には、750〜360nmにおいての光学濃度が0.005以上0.5
未満であることが好ましく、さらに好ましくは0.001以
上0.3未満の光学濃度を有するハレーション防止層であ
ることが好ましい。所望の範囲が750nm以下である場合
には、画像形成前の所望範囲の最大吸収が0.3以上2.0以
下であり、さらに画像形成後の360〜750nmの光学濃度が
0.005以上0.3未満になるようなハレーション防止層であ
ることが好ましい。画像形成後の光学濃度を上記の範囲
に下げる方法としては特に制限はないが、例えばベルギ
ー特許第733,706号に記載されたように染料による濃度
を加熱による消色で低下させる方法、特開昭54-17833号
に記載の光照射による消色で濃度を低下させる方法等が
挙げられる。
The photothermographic material of the present invention is a so-called single-sided photosensitive material having at least one photosensitive layer containing a silver halide emulsion on one side of a support and a back layer on the other side. Preferably, there is. In the present invention, the back layer preferably has a maximum absorption in a desired range of about 0.3 or more and 2.0 or less. When the desired range is 750 to 1400 nm, the optical density at 750 to 360 nm is 0.005 or more and 0.5
It is preferable that the antihalation layer has an optical density of 0.001 or more and less than 0.3. When the desired range is 750 nm or less, the maximum absorption in the desired range before image formation is 0.3 or more and 2.0 or less, and the optical density of 360 to 750 nm after image formation is
It is preferable that the antihalation layer has a thickness of 0.005 or more and less than 0.3. The method for lowering the optical density after image formation to the above range is not particularly limited. For example, as described in Belgian Patent No. 733,706, a method in which the density of a dye is reduced by decolorization by heating, And a method of decreasing the density by decoloring by light irradiation described in JP-A-17833.

【0183】本発明でハレーション防止染料を使用する
場合、該染料は所望の範囲で目的の吸収を有し、処理後
に可視領域での吸収が充分少なく、上記バック層の好ま
しい吸光度スペクトルの形状が得られればいかなる化合
物でも良い。例えば以下に挙げるものが開示されている
が本発明はこれに限定されるものではない。単独の染料
としては特開昭59-56458号、特開平2-216140号、同7-13
295号、同7-11432号、米国特許5,380,635号記載、特開
平2-68539号公報第13頁左下欄1行目から同第14頁左下欄
9行目、同3-24539号公報第14頁左下欄から同第16頁右下
欄記載の化合物があり、処理で消色する染料としては特
開昭52-139136号、同53-132334号、同56-501480号、同5
7-16060号、同57-68831号、同57-101835号、同59-18243
6号、特開平7-36145号、同7-199409号、特公昭48-33692
号、同50-16648号、特公平2-41734号、米国特許4,088,4
97号、同4,283,487号、同4,548,896号、同5,187,049号
がある。
When an antihalation dye is used in the present invention, the dye has a desired absorption in a desired range, has a sufficiently low absorption in the visible region after treatment, and has a desirable absorbance spectrum shape of the back layer. Any compound can be used as long as it is possible. For example, the following are disclosed, but the present invention is not limited thereto. As a single dye, JP-A-59-56458, JP-A-2-216140, 7-13
No. 295, No. 7-11432, U.S. Pat.
On the ninth line, the same compound as described in JP-A-3-24539, from page 14 lower left column to page 16 lower right column, dyes which can be decolorized by the processing are described in JP-A-52-139136 and JP-A-53-132334. , 56-501480, 5
7-16060, 57-68831, 57-101835, 59-18243
6, JP-A-7-36145, JP-A-7-199409, JP-B-48-33692
No. 50-16648, Japanese Patent Publication No. 2-41734, U.S. Patent 4,088,4
Nos. 97, 4,283,487, 4,548,896, and 5,187,049.

【0184】本発明においてバック層の好適なバインダ
ーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマ
ー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルム
を形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロース、
セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレー
ト、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプン、ポ
リ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル酸)、ポリ(塩
化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コポリ(スチレン-無
水マレイン酸)、コポリ(スチレン-アクリロニトリル)、
コポリ(スチレン-ブタジエン)、ポリ(ビニルアセター
ル)類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニ
ルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタン)
類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エ
ポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセ
テート)、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類があ
る。バインダーは水又は有機溶媒またはエマルションか
ら被覆形成してもよい。
In the present invention, suitable binders for the back layer are transparent or translucent, generally colorless, and include natural polymer synthetic resins, polymers and copolymers, and other film-forming media such as gelatin, gum arabic, and poly (vinyl). Alcohol), hydroxyethyl cellulose,
Cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid), copoly (styrene-maleic anhydride) ), Copoly (styrene-acrylonitrile),
Copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal) s (e.g., poly (vinyl formal) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (urethane)
, Phenoxy resin, poly (vinylidene chloride), poly (epoxide) s, poly (carbonate) s, poly (vinyl acetate), cellulose esters, and poly (amide) s. The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.

【0185】本発明が片面感光材料の場合、それには、
搬送性改良のために感光性乳剤層の表面保護層及び/ま
たはバック層またはバック層の表面保護層にマット剤を
添加しても良い。マット剤は、一般に水に不溶性の有機
または無機化合物の微粒子である。マット剤としては任
意のものを使用でき、例えば米国特許第1,939,213号、
同2,701,245号、同2,322,037号、同3,262,782号、同3,5
39,344号、同3,767,448号等の各明細書に記載の有機マ
ット剤、同1,260,772号、同2,192,241号、同3,257,206
号、同3,370,951号、同3,523,022号、同3,769,020号等
の各明細書に記載の無機マット剤など当業界で良く知ら
れたものを用いることができる。例えば具体的にはマッ
ト剤として用いることのできる有機化合物の例として
は、水分散性ビニル重合体の例としてポリメチルアクリ
レート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニト
リル、アクリロニトリル-α-メチルスチレン共重合体、
ポリスチレン、スチレン-ジビニルベンゼン共重合体、
ポリビニルアセテート、ポリエチレンカーボネート、ポ
リテトラフルオロエチレンなど、セルロース誘導体の例
としてはメチルセルロース、セルロースアセテート、セ
ルロースアセテートプロピオネートなど、澱粉誘導体の
例としてカルボキシ澱粉、カルボキシニトロフェニル澱
粉、尿素−ホルムアルデヒド−澱粉反応物など、公知の
硬化剤で硬化したゼラチンおよびコアセルベート硬化し
て微少カプセル中空粒体とした硬化ゼラチンなどを好ま
しく用いることができる。無機化合物の例としては二酸
化珪素、二酸化チタン、二酸化マグネシウム、酸化アル
ミニウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、公知の方法
で減感した塩化銀、同じく臭化銀、ガラス、珪藻土など
を好ましく用いることができる。上記のマット剤は必要
に応じて異なる種類の物質を混合して用いることができ
る。マット剤の大きさ、形状に特に限定はなく、任意の
粒径のものを用いることができる。本発明の実施に際し
ては0.1μm〜30μmの粒径のものを用いるのが好まし
い。また、マット剤の粒径分布は狭くても広くてもよ
い。一方、マット剤は感光材料のヘイズ、表面光沢に大
きく影響することから、マット剤作製時あるいは複数の
マット剤の混合により、粒径、形状および粒径分布を必
要に応じた状態にすることが好ましい。
When the present invention is a single-sided photosensitive material, it includes:
For improving the transportability, a matting agent may be added to the surface protective layer of the photosensitive emulsion layer and / or the back layer or the surface protective layer of the back layer. The matting agent is generally fine particles of an organic or inorganic compound insoluble in water. Any matting agent can be used, for example, U.S. Patent No. 1,939,213,
2,701,245, 2,322,037, 3,262,782, 3,5
Nos. 39,344 and 3,767,448, etc., and organic matting agents described in the respective specifications, such as 1,260,772, 2,192,241, and 3,257,206
No. 3,370,951, 3,523,022, 3,769,020, etc., inorganic matting agents well-known in the art such as the inorganic matting agents described in the respective specifications can be used. For example, specifically, examples of organic compounds that can be used as a matting agent include, as examples of a water-dispersible vinyl polymer, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, acrylonitrile-α-methylstyrene copolymer,
Polystyrene, styrene-divinylbenzene copolymer,
Examples of cellulose derivatives, such as polyvinyl acetate, polyethylene carbonate, and polytetrafluoroethylene, such as methyl cellulose, cellulose acetate, and cellulose acetate propionate; examples of starch derivatives such as carboxy starch, carboxynitrophenyl starch, and urea-formaldehyde-starch reactant For example, gelatin hardened with a known hardener and hardened gelatin obtained by coacervate hardening to form hollow microcapsules can be preferably used. As examples of the inorganic compound, silicon dioxide, titanium dioxide, magnesium dioxide, aluminum oxide, barium sulfate, calcium carbonate, silver chloride desensitized by a known method, silver bromide, glass, and diatomaceous earth can be preferably used. The above matting agents can be used by mixing different types of substances as necessary. The size and shape of the matting agent are not particularly limited, and those having an arbitrary particle size can be used. In practicing the present invention, it is preferable to use one having a particle size of 0.1 μm to 30 μm. Further, the particle size distribution of the matting agent may be narrow or wide. On the other hand, since the matting agent greatly affects the haze and surface gloss of the photosensitive material, the particle size, shape, and particle size distribution can be adjusted as needed during the preparation of the matting agent or by mixing a plurality of matting agents. preferable.

【0186】本発明においては、バック層にマット剤を
添加するのは好ましい態様であり、バック層のマット度
としてはベック平滑度が1200秒以下50秒以上が好まし
く、さらに好ましくは700秒以下100秒以上である。本発
明において、マット剤は感光材料の最外表面層もしくは
最外表面層として機能する層、あるいは外表面に近い層
に含有されるのが好ましく、またいわゆる保護層として
作用する層に含有されることが好ましい。また、乳剤面
保護層のマット度は星屑故障が生じなければいかようで
もよいが、ベック平滑度が300秒以上5,000秒以下が好ま
しく、特に500秒以上2,000秒以下が好ましい。
In the present invention, it is a preferred embodiment to add a matting agent to the backing layer. The matting degree of the backing layer is preferably such that the Bekk smoothness is not more than 1200 seconds and not less than 50 seconds, more preferably not more than 700 seconds and not more than 100 seconds. Seconds or more. In the present invention, the matting agent is preferably contained in the layer functioning as the outermost surface layer or the outermost surface layer of the light-sensitive material, or in a layer close to the outer surface, and is contained in a layer acting as a so-called protective layer. Is preferred. The matte degree of the emulsion surface protective layer may be any value as long as stardust failure does not occur, but the Beck smoothness is preferably 300 seconds or more and 5,000 seconds or less, particularly preferably 500 seconds or more and 2,000 seconds or less.

【0187】本発明に用いる熱現像写真用乳剤は、支持
体上に一層またはそれ以上の層で構成される。一層の構
成は有機銀塩、ハロゲン化銀、現像剤およびバインダ
ー、ならびに色調剤、被覆助剤および他の補助剤などの
所望による追加の材料を含まなければならない。二層の
構成は、第1乳剤層(通常は基材に隣接した層)中に有機
銀塩およびハロゲン化銀を含み、第2層または両層中に
いくつかの他の成分を含まなければならない。しかし、
全ての成分を含む単一乳剤層および保護トップコートを
含んでなる二層の構成も考えられる。多色感光性熱現像
写真材料の構成は、各色についてこれらの二層の組合せ
を含んでよく、また、米国特許第4,708,928号に記載さ
れているように単一層内に全ての成分を含んでいてもよ
い。多染料多色感光性熱現像写真材料の場合、各乳剤層
は、一般に、米国特許第4,460,681号に記載されている
ように、各感光層の間に官能性もしくは非官能性のバリ
アー層を使用することにより、互いに区別されて保持さ
れる。米国特許第4,460,681号および同第4,374,921号に
示されるような裏面抵抗性加熱層(backside resistive
heating layer)を感光性熱現像写真画像系に使用するこ
ともできる。
The heat-developable photographic emulsion used in the present invention comprises one or more layers on a support. One layer must contain additional optional materials such as organic silver salts, silver halides, developers and binders, and toning agents, coating aids and other auxiliaries. The two-layer construction is that the first emulsion layer (usually the layer adjacent to the base) contains an organic silver salt and silver halide, and the second layer or both layers do not contain some other components. No. But,
A two-layer construction comprising a single emulsion layer containing all components and a protective topcoat is also contemplated. The construction of a multicolor photothermographic material may include a combination of these two layers for each color, or may include all components in a single layer as described in U.S. Pat.No.4,708,928. Is also good. In the case of a multi-dye, multi-color photosensitive heat-developable photographic material, each emulsion layer generally uses a functional or non-functional barrier layer between the respective light-sensitive layers, as described in U.S. Patent No. 4,460,681. By doing so, they are kept distinct from each other. U.S. Pat.Nos. 4,460,681 and 4,374,921 as shown in US
heating layer) can also be used in a photosensitive heat-developable photographic image system.

【0188】本発明の熱現像感光材料における感光性
層、保護層、バック層など各層には硬膜剤を用いても良
い。硬膜剤の例としては、米国特許4,281,060号、特開
平6-208193号などに記載されているポリイソシアネート
類、米国特許4,791,042号などに記載されているエポキ
シ化合物類、特開昭62-89048号などに記載されているビ
ニルスルホン系化合物類などが用いられる。本発明の熱
現像感光材料には塗布性、帯電改良などを目的として界
面活性剤を用いてもよい。界面活性剤の例としては、ノ
ニオン系、アニオン系、カチオン系、フッ素系などいか
なるものも適宜用いられる。具体的には、特開昭62-170
950号、米国特許5,380,644号などに記載のフッ素系高分
子界面活性剤、特開昭60-244945号、特開昭63-188135号
などに記載のフッ素系界面活性剤、米国特許3,885,965
号などに記載のポリシロキサン系界面活性剤、特開平6-
301140号などに記載のポリアルキレンオキサイドやアニ
オン系界面活性剤などが挙げられる。
A hardener may be used for each layer such as a photosensitive layer, a protective layer and a back layer in the photothermographic material of the present invention. Examples of hardeners include U.S. Pat. For example, vinyl sulfone compounds described in US Pat. A surfactant may be used in the photothermographic material of the present invention for the purpose of improving coating properties and charging. As the surfactant, any surfactant such as nonionic, anionic, cationic, and fluorine can be used as appropriate. Specifically, JP-A-62-170
No. 950, U.S. Pat.
Polysiloxane surfactants described in
Examples include polyalkylene oxides and anionic surfactants described in No. 301140.

【0189】本発明における熱現像用写真乳剤は、一般
的には種々の支持体上に被覆させることができる。典型
的な支持体は、ポリエステルフィルム、下塗りポリエス
テルフィルム、ポリ(エチレンテレフタレート)フィル
ム、ポリエチレンナフタレートフィルム、硝酸セルロー
スフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリ(ビニ
ルアセタール)フィルム、ポリカーボネートフィルムお
よび関連するまたは樹脂状の材料、ならびにガラス、
紙、金属などを含む。可撓性基材、特に、部分的にアセ
チル化された、もしくはバライタおよび/またはα-オ
レフィンポリマー、特にポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン−ブテンコポリマーなどの炭素数2〜10の
α-オレフィンのポリマーによりコートされた紙支持体
が、典型的に用いられる。該支持体は透明であっても不
透明であってもよいが、透明であることが好ましい。こ
れらのうちでも75〜200μm程度の2軸延伸したポリエチ
レンテレフタレートが特に好ましい。一方、プラスチッ
クフィルムを80℃以上の処理の熱現像機に通すと一般に
フィルムの寸法が伸縮する。処理後の材料を印刷製版用
途として使用する場合、この伸縮は精密多色印刷を行う
時に重大な問題となる。よって、本発明では二軸延伸時
にフィルム中に残存する内部歪みを緩和させ、熱現像中
に発生する熱収縮歪みをなくす工夫をした、寸法変化の
小さいフィルムを用いることが好ましい。例えば、熱現
像用写真乳剤を塗布する前に100℃〜210℃の範囲で熱処
理したポリエチレンテレフタレートなどが好ましく用い
られる。ガラス転移点の高いものも好ましく、ポリエー
テルエチルケトン、ポリスチレン、ポリスルフォン、ポ
リエーテルスルフォン、ポリアリレート、ポリカーボネ
ート等が使用できる。
The photographic emulsion for thermal development in the present invention can be generally coated on various supports. Typical supports include polyester films, primed polyester films, poly (ethylene terephthalate) films, polyethylene naphthalate films, cellulose nitrate films, cellulose ester films, poly (vinyl acetal) films, polycarbonate films and related or resinous Materials, as well as glass,
Including paper, metal, etc. Flexible substrates, especially coated with partially acetylated or baryta and / or α-olefin polymers, especially polymers of C 2-10 α-olefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-butene copolymers A coated paper support is typically used. The support may be transparent or opaque, but is preferably transparent. Among them, polyethylene terephthalate biaxially stretched to about 75 to 200 μm is particularly preferred. On the other hand, when a plastic film is passed through a heat developing machine at a temperature of 80 ° C. or higher, the dimensions of the film generally expand and contract. When the processed material is used for printing plate making, this expansion and contraction becomes a serious problem when performing precision multicolor printing. Therefore, in the present invention, it is preferable to use a film having a small dimensional change, which is devised so as to alleviate the internal strain remaining in the film at the time of biaxial stretching and to eliminate the heat shrinkage distortion generated during thermal development. For example, polyethylene terephthalate, which is heat-treated at 100 to 210 ° C. before coating the photographic emulsion for thermal development, is preferably used. Those having a high glass transition point are also preferable, and polyether ethyl ketone, polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polycarbonate and the like can be used.

【0190】本発明の熱現像感光材料は、帯電防止のた
め、例えば、可溶性塩(例えば塩化物、硝酸塩など)、
蒸着金属層、米国特許第2,861,056号および同第3,206,3
12号に記載のようなイオン性ポリマーまたは米国特許第
3,428,451号に記載のような不溶性無機塩、特開昭60-25
2349号、同57-104931号に記載されている酸化スズ微粒
子などを含む層を有してもよい。本発明の熱現像感光材
料を用いてカラー画像を得る方法としては特開平7-1329
5号10頁左欄43行目から11左欄40行目に記載の方法があ
る。また、カラー染料画像の安定剤としては英国特許第
1,326,889号、米国特許第3,432,300号、同第3,698,909
号、同第3,574,627号、同第3,573,050号、同第3,764,33
7号および同第4,042,394号に例示されている。
The photothermographic material of the present invention may contain, for example, a soluble salt (eg, chloride, nitrate, etc.) for preventing electrification.
Evaporated metal layers, U.S. Pat.Nos. 2,861,056 and 3,206,3
No. 12 ionic polymer or U.S. Pat.
Insoluble inorganic salts as described in 3,428,451, JP-A-60-25
It may have a layer containing tin oxide fine particles described in JP-A Nos. 2349 and 57-104931. A method for obtaining a color image by using the photothermographic material of the present invention is described in JP-A-7-1329.
No. 5, page 10, left column, line 43 to 11 left column, line 40. In addition, as a stabilizer for color dye images, UK Patent No.
No. 1,326,889, U.S. Pat.Nos. 3,432,300, 3,698,909
No. 3,574,627, No. 3,573,050, No. 3,764,33
No. 7 and No. 4,042,394.

【0191】本発明における熱現像写真乳剤は、浸漬コ
ーティング、エアナイフコーティング、フローコーティ
ングまたは、米国特許第2,681,294号に記載の種類のホ
ッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコーティ
ング操作により被覆することができる。所望により、米
国特許第2,761,791号および英国特許第837,095号に記載
の方法により2層またはそれ以上の層を同時に被覆する
ことができる。本発明の熱現像感光材料の中に追加の
層、例えば移動染料画像を受容するための染料受容層、
反射印刷が望まれる場合の不透明化層、保護トップコー
ト層および光熱写真技術において既知のプライマー層な
どを含むことができる。本発明の感光材料はその感光材
料一枚のみで画像形成できることが好ましく、受像層等
の画像形成に必要な機能性層が別の感光材料とならない
ことが好ましい。
The photothermographic emulsion of the present invention can be coated by various coating operations including dip coating, air knife coating, flow coating or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. If desired, two or more layers can be coated simultaneously by the methods described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095. Additional layers in the photothermographic material of the present invention, for example, a dye-receiving layer for receiving a transfer dye image,
If reflective printing is desired, it can include an opacifying layer, a protective topcoat layer, a primer layer known in the photothermographic art, and the like. The light-sensitive material of the present invention is preferably capable of forming an image with only one light-sensitive material, and it is preferable that a functional layer required for image formation such as an image receiving layer does not become another light-sensitive material.

【0192】本発明において、像様露光に用いられる露
光装置は露光時間が10-7秒未満の露光が可能な装置で
あればいずれでもよいが、一般的にはLaser Diode(L
D)、Light Emitting Diode(LED)を光源に使用
した露光装置が好ましく用いられる。特に、LDは高出
力、高解像度の点でより好ましい。これらの光源は目的
波長範囲の電磁波スペクトルの光を発生することができ
るものであればいずれでもよい。例えばLDであれば、
色素レーザー、ガスレーザー、固体レーザー、半導体レ
ーザーなどを用いることができる。露光は光源の光ビー
ムをオーバーラップさせて露光し、オーバーラップとは
副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オー
バーラップとは例えば、ビーム径をビーム強度の半値幅
(FWHM)で表したときFWHM/副走査ピッチ幅
(オーバーラップ係数)で定量的に表現することができ
る。本発明ではこのオーバラップ係数が0.2以上であ
ることが好ましい。
In the present invention, the exposure apparatus used for the imagewise exposure may be any apparatus capable of performing an exposure with an exposure time of less than 10 -7 seconds.
D), an exposure apparatus using a Light Emitting Diode (LED) as a light source is preferably used. In particular, LD is more preferable in terms of high output and high resolution. Any of these light sources may be used as long as it can generate light of an electromagnetic wave spectrum in a target wavelength range. For example, for LD,
Dye lasers, gas lasers, solid-state lasers, semiconductor lasers, and the like can be used. The exposure is performed by overlapping the light beams of the light source, and the overlap means that the sub-scanning pitch width is smaller than the beam diameter. For example, the overlap can be quantitatively represented by FWHM / sub-scanning pitch width (overlap coefficient) when the beam diameter is represented by a half width of beam intensity (FWHM). In the present invention, the overlap coefficient is preferably 0.2 or more.

【0193】本発明に使用する露光装置の光源の走査方
式は特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査
方式、平面走査方式などを用いることができる。また、
光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネル
でもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネル
が好ましく用いられる。本発明の熱現像感光材料は露光
時のヘイズが低く、干渉縞が発生しやすい傾向にある。
この干渉縞発生防止技術としては、特開平5-113548号な
どに開示されているレーザー光を感光材料に対して斜め
に入光させる技術や、国際公開WO95/31754号などに開
示されているマルチモードレーザーを利用する方法が知
られており、これらの技術を用いることが好ましい。
The scanning method of the light source of the exposure apparatus used in the present invention is not particularly limited, and a cylinder outer surface scanning method, a cylinder inner surface scanning method, a plane scanning method, or the like can be used. Also,
The channel of the light source may be a single channel or a multi-channel, but in the case of a cylindrical outer surface type, a multi-channel is preferably used. The photothermographic material of the present invention has a low haze at the time of exposure and tends to cause interference fringes.
Examples of this interference fringe prevention technology include a technology disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 5-113548 and the like, in which a laser beam is obliquely incident on a photosensitive material, and a technology disclosed in International Publication WO95 / 31754 and the like. Methods using a mode laser are known, and it is preferable to use these techniques.

【0194】本発明の熱現像感光材料を用いた画像形成
方法の加熱現像工程はいかなる方法で現像されてもよい
が、通常イメージワイズに露光した感光材料を昇温して
現像される。用いられる熱現像機の好ましい態様として
は、熱現像感光材料をヒートローラーやヒートドラムな
どの熱源に接触させるタイプとして特公平5-56499号、
特許公報第684453号、特開平9-292695号、特開平9-2973
85号および国際公開WO95/30934号に記載の熱現像機、
非接触型のタイプとして特開平7-13294号、国際公開W
O97/28489号、同97/28488号および同97/28487号に記載
の熱現像機がある。特に好ましい態様としては非接触型
の熱現像機である。好ましい現像温度としては80〜250
℃であり、さらに好ましくは100〜140℃である。現像時
間としては1〜180秒が好ましく、10〜90秒がさらに好ま
しい。本発明の熱現像感光材料の熱現像時の寸法変化に
よる処理ムラを防止する方法として、80℃以上115℃未
満の温度で画像が出ないようにして5秒以上加熱した
後、110℃以上140℃以下で熱現像して画像形成させる方
法(いわゆる多段階加熱方法)が有効である。
In the heat development step of the image forming method using the photothermographic material of the present invention, any method may be used for development, but usually the imagewise exposed photosensitive material is heated to develop. As a preferred embodiment of the thermal developing machine used, JP-B 5-56499 as a type in which the photothermographic material is brought into contact with a heat source such as a heat roller or a heat drum,
Patent publication No. 684453, JP-A-9-292695, JP-A-9-2973
No. 85 and the thermal developing machine described in International Publication WO95 / 30934,
Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-13294, International Publication W as a non-contact type
There are thermal developing machines described in O97 / 28489, 97/28488 and 97/28487. A particularly preferred embodiment is a non-contact type thermal developing machine. A preferred development temperature is 80 to 250
° C, more preferably 100-140 ° C. The development time is preferably from 1 to 180 seconds, more preferably from 10 to 90 seconds. As a method for preventing processing unevenness due to dimensional change during thermal development of the photothermographic material of the present invention, after heating for 5 seconds or more so that an image does not appear at a temperature of 80 ° C or more and less than 115 ° C, 110 ° C or more and 140 ° C or more. A method in which an image is formed by heat development at a temperature of not more than ° C (a so-called multi-stage heating method) is effective.

【0195】本発明の熱現像感光材料の熱現像処理に用
いられる熱現像機の一構成例を図1に示す。図1は熱現
像機の側面図を示したものである。図1の熱現像機は熱
現像感光材料10を平面状に矯正及び予備加熱しながら
加熱部に搬入する搬入ローラー対11(下部ローラーが
ヒートローラー)と熱現像後の熱現像後の熱現像感光材
料10を平面状に矯正しながら加熱部から搬出する搬出
ローラー対12を有する。熱現像感光材料10は搬入ロ
ーラー対11から搬出ローラー対12へと搬送される間
に熱現像される。この熱現像中の熱現像感光材料10を
搬送する搬送手段は画像形成層を有する面が接触する側
に複数のローラー13が設置され、その反対側のバック
面が接触する側には不織布(たとえばポリフェニレンサ
ルファイトやテフロンから成る)等が貼り合わされた平
滑面14が設置される。熱現像感光材料10は画像形成
層を有する面に接触する複数のローラー13の駆動によ
り、バック面は平滑面14の上を滑って搬送される。加
熱手段はローラー13の上部及び平滑面14の下部に熱
現像感光材料10の両面から加熱されるように加熱ヒー
ター15が設置される。この場合の加熱手段としては板
状ヒーター等が挙げられる。ローラー13と平滑面14
とのクリアランスは平滑面の部材により異なるが、熱現
像感光材料10が搬送できるクリアランスに適宜調整さ
れる。好ましくは0〜1mmである。
FIG. 1 shows an example of the configuration of a heat developing machine used in the heat developing process of the photothermographic material of the present invention. FIG. 1 is a side view of the heat developing machine. The thermal developing machine shown in FIG. 1 is a pair of carry-in rollers 11 (a lower roller is a heat roller) for carrying the thermal development photosensitive material 10 into a heating unit while correcting and preheating the thermal development photosensitive material 10 in a plane, and a photothermographic material after thermal development after thermal development. It has an unloading roller pair 12 that unloads the material 10 from the heating unit while correcting it into a flat shape. The photothermographic material 10 is thermally developed while being transported from the carry-in roller pair 11 to the carry-out roller pair 12. In the transporting means for transporting the photothermographic material 10 during the thermal development, a plurality of rollers 13 are provided on the side in contact with the surface having the image forming layer, and the non-woven fabric (for example, A smooth surface 14 on which polyphenylene sulfite or Teflon) is attached is installed. The back surface of the photothermographic material 10 is conveyed by sliding a back surface on a smooth surface 14 by driving a plurality of rollers 13 in contact with the surface having the image forming layer. As the heating means, a heater 15 is provided at an upper portion of the roller 13 and a lower portion of the smooth surface 14 so as to be heated from both sides of the photothermographic material 10. As a heating means in this case, a plate heater or the like can be used. Roller 13 and smooth surface 14
Is different depending on the member having a smooth surface, but is appropriately adjusted so that the photothermographic material 10 can be conveyed. Preferably it is 0 to 1 mm.

【0196】ローラー13の表面の材質及び平滑面14
の部材は、高温耐久性があり、熱現像感光材料10の搬
送に支障がなければ何でもよいが、ローラー表面の材質
はシリコンゴム、平滑面の部材は芳香族ポリアミドまた
はテフロン(PTFE)製の不織布が好ましい。加熱手
段としては複数のヒーターを用い、それぞれ加熱温度を
自由に設定することが好ましい。なお、熱現像処理部の
上流の予備加熱部は、熱現像温度よりも低く(例えば1
0〜30℃程度低く)、熱現像感光材料中の水分量を蒸
発させるのに十分な温度および時間に設定することが望
ましく、熱現像感光材料10の支持体のガラス転移温度
(Tg)よりも高い温度で、現像ムラが出ないように設
定することが好ましい。また、熱現像処理部の下流には
ガイド板16が設置され、さらに、徐冷部が設置され
る。ガイド板は熱伝導率の低い素材が好ましく、熱現像
感光材料に変形が起こらないようにするために冷却は徐
々に行うのが好ましい。
The surface material of the roller 13 and the smooth surface 14
May be any material as long as it has high-temperature durability and does not hinder the conveyance of the photothermographic material 10. The material of the roller surface is silicon rubber, and the material of the smooth surface is a nonwoven fabric made of aromatic polyamide or Teflon (PTFE). Is preferred. It is preferable that a plurality of heaters be used as the heating means, and that the heating temperature be set freely. The preliminary heating section upstream of the thermal development processing section is lower than the thermal development temperature (for example, 1
It is desirable to set the temperature and time to be sufficient to evaporate the amount of water in the photothermographic material, which is lower than the glass transition temperature (Tg) of the support of the photothermographic material 10. It is preferable to set at a high temperature so that uneven development is not caused. Further, a guide plate 16 is provided downstream of the thermal development processing section, and a slow cooling section is further provided. The guide plate is preferably made of a material having a low thermal conductivity, and is preferably cooled gradually to prevent deformation of the photothermographic material.

【0197】以上、図示例に従って説明したが、これに
限らず、例えば特開平7-13294号に記載のものなど、本
発明に用いられる熱現像機は種々の構成のものであって
もよい。また、本発明において好ましく用いられる多段
加熱方法の場合は、上述のような装置において、加熱温
度の異なる熱源を2個以上設置し、連続的に異なる温度
で加熱するようにすればよい。
Although the above has been described with reference to the illustrated examples, the invention is not limited to this. For example, the thermal developing machine used in the present invention, such as that described in JP-A-7-13294, may have various structures. In the case of the multi-stage heating method preferably used in the present invention, two or more heat sources having different heating temperatures may be provided in the above-described apparatus, and heating may be performed continuously at different temperatures.

【0198】[0198]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、
操作等は、本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更す
ることができる。したがって、本発明の範囲は以下に示
す具体例に制限されるものではない。1.ハロゲン化銀乳剤の調製(乳剤A) 水700mlにアルカリ処理ゼラチン(カルシウム含有量と
して2700ppm以下)11gおよび臭化カリウム30mg、ベンゼ
ンチオスルホン酸ナトリウム10mgを溶解して温度40℃に
てpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.6gを含む水溶液159m
lと臭化カリウムを1モル/リットル(NH42RhCl5
(H2O)を5×10-6モル/リットル及びK3IrCl6
2×10-5モル/リットルで含む水溶液をpAg7.7に保ちな
がらコントロールダブルジェット法で6分30秒間かけて
添加した。ついで、硝酸銀55.5gを含む水溶液476mlと臭
化カリウムを1モル/リットル及びK3IrCl6を2×10
-5モル/リットルで含むハロゲン塩水溶液をpAg7.7に保
ちながらコントロールダブルジェット法で28分30秒間か
けて添加した。その後pHを下げて凝集沈降させて脱塩処
理をし、化合物Aを0.17g、平均分子量1万5千の低分
子量ゼラチン(カルシウム含有量として20ppm以下)51.
1g加え、pH5.9、pAg8.0に調製した。得られた粒子は平
均粒子サイズ0.08μm、投影面積変動係数9%、(100)面比
率90%の立方体粒子であった。こうして得たハロゲン化
銀粒子を60℃に昇温して銀1モル当たりベンゼンチオス
ルホン酸ナトリウム76μモルを添加し、3分後にトリエ
チルチオ尿素71μモルを添加して、100分熟成し、4−
ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザ
インデンを5×10-4モル加えた後、40℃に降温させた。
その後、40℃に温度を保ち、ハロゲン化銀1モルに対し
て12.8×10-4モルの下記増感色素A、6.4×10-3モルの
化合物Bを攪拌しながら添加し、20分後に30℃に急冷し
てハロゲン化銀乳剤Aの調製を終了した。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts, proportions,
Operations and the like can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the following specific examples. 1. Preparation of silver halide emulsion (Emulsion A) Dissolve 11 g of alkali-treated gelatin (2700 ppm or less as calcium content), 30 mg of potassium bromide, and 10 mg of sodium benzenethiosulfonate in 700 ml of water and adjust the pH to 5.0 at a temperature of 40 ° C. After combining, 159m of aqueous solution containing 18.6g of silver nitrate
l and potassium bromide at 1 mol / l (NH 4 ) 2 RhCl 5
(H 2 O) at 5 × 10 −6 mol / L and K 3 IrCl 6
An aqueous solution containing 2 × 10 −5 mol / l was added over 6 minutes and 30 seconds by the control double jet method while maintaining the pAg at 7.7. Then, 476 ml of an aqueous solution containing 55.5 g of silver nitrate, 1 mol / l of potassium bromide and 2 × 10 3 of K 3 IrCl 6 were added.
An aqueous solution of a halogen salt containing -5 mol / l was added over 28 minutes and 30 seconds by a control double jet method while maintaining the pAg at 7.7. Thereafter, the pH was lowered to cause coagulation and sedimentation, followed by desalting treatment. 0.17 g of compound A, low molecular weight gelatin having an average molecular weight of 15,000 (calcium content: 20 ppm or less) 51.
The solution was adjusted to pH 5.9 and pAg 8.0 by adding 1 g. The obtained particles were cubic particles having an average particle size of 0.08 μm, a projected area variation coefficient of 9%, and a (100) plane ratio of 90%. The silver halide grains thus obtained were heated to 60 ° C., and 76 μmol of sodium benzenethiosulfonate was added per 1 mol of silver, and 3 minutes later, 71 μmol of triethylthiourea was added, followed by aging for 100 minutes.
After adding 5 × 10 −4 mol of hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene, the temperature was lowered to 40 ° C.
Thereafter, the temperature was maintained at 40 ° C., and 12.8 × 10 −4 mol of the following sensitizing dye A and 6.4 × 10 −3 mol of compound B were added to 1 mol of silver halide with stirring. The mixture was rapidly cooled to ° C. to complete the preparation of silver halide emulsion A.

【0199】[0199]

【化36】 Embedded image

【0200】2.有機酸銀分散物の調製(有機酸銀A) ヘンケル社製ベヘン酸(製品名EdenorC22-85R)8
7.6g、蒸留水423ml、5N−NaOH水溶液49.2ml、tert−ブ
チルアルコール120mlを混合し、75℃にて1時間攪拌し反
応させ、ベヘン酸ナトリウム溶液を得た。別に、硝酸銀
40.4gの水溶液206.2mlを用意し、10℃にて保温した。63
5mlの蒸留水と30mlのtert-ブチルアルコールを入れた反
応容器を30℃に保温し、攪拌しながら先のベヘン酸ナト
リウム溶液の全量と硝酸銀水溶液の全量を流量一定でそ
れぞれ62分10秒と60分かけて添加した。この時、硝酸銀
水溶液添加開始後7分20秒間は硝酸銀水溶液のみが添加
されるようにし、そのあとベヘン酸ナトリウム溶液を添
加開始し、硝酸銀水溶液添加終了後9分30秒間はベヘン
酸ナトリウム溶液のみが添加されるようにした。このと
き、反応容器内の温度は30℃とし、液温度が上がらない
ようにコントロールした。また、ベヘン酸ナトリウム溶
液の添加系の配管は、スチームトレースにより保温し、
添加ノズル先端の出口の液温度が75℃になるようにスチ
ーム量をコントロールした。また、硝酸銀水溶液の添加
系の配管は、2重管の外側に冷水を循環させることによ
り保温した。ベヘン酸ナトリウム溶液の添加位置と硝酸
銀水溶液の添加位置は攪拌軸を中心として対称的な配置
とし、また反応液に接触しないような高さに調節した。
[0200] 2. Preparation of Organic Acid Silver Dispersion (Organic Acid A)
A mixture of 7.6 g, 423 ml of distilled water, 49.2 ml of 5N-NaOH aqueous solution and 120 ml of tert-butyl alcohol was stirred and reacted at 75 ° C. for 1 hour to obtain a sodium behenate solution. Separately, silver nitrate
206.2 ml of a 40.4 g aqueous solution was prepared and kept at 10 ° C. 63
A reaction vessel containing 5 ml of distilled water and 30 ml of tert-butyl alcohol was kept at 30 ° C., and while stirring, the entire amount of the sodium behenate solution and the entire amount of the silver nitrate aqueous solution were kept at a constant flow rate for 62 minutes, 10 seconds and 60 minutes, respectively. Added over minutes. At this time, only the aqueous solution of silver nitrate was added for 7 minutes and 20 seconds after the start of the aqueous solution of silver nitrate, and then the addition of the sodium behenate solution was started. It was made to be added. At this time, the temperature in the reaction vessel was set at 30 ° C., and the liquid temperature was controlled so as not to rise. In addition, the piping of the addition system of the sodium behenate solution is kept warm by steam tracing,
The amount of steam was controlled so that the liquid temperature at the outlet at the tip of the addition nozzle became 75 ° C. The piping of the silver nitrate aqueous solution addition system was kept warm by circulating cold water outside the double tube. The addition position of the sodium behenate solution and the addition position of the aqueous silver nitrate solution were arranged symmetrically with respect to the stirring axis, and were adjusted to a height such that they did not come into contact with the reaction solution.

【0201】ベヘン酸ナトリウム溶液を添加終了後、そ
のままの温度で20分間攪拌放置し、25℃に降温した。そ
の後、吸引濾過で固形分を濾別し、固形分を濾水の伝導
度が30μS/cmになるまで水洗した。こうして得られた固
形分は、乾燥させないでウエットケーキとして保管し
た。得られたベヘン酸銀の粒子の形態を電子顕微鏡撮影
により評価したところ、平均投影面積径0.52μm、平均
粒子厚み0.14μm、平均球相当径の変動係数15%の鱗片
状の結晶であった。つぎに、以下の方法でベヘン酸銀の
分散物を作成した。乾燥固形分100g相当のウエットケ
ーキに対し、ポリビニルアルコール(商品名:PVA-217,
平均重合度:約1700)7.4gおよび水を添加し、全体量を
385gとしてからホモミキサーにて予備分散した。次に
予備分散済みの原液を分散機(商品名:マイクロフルイ
ダイザーM−110S−EH、マイクロフルイデックス
・インターナショナル・コーポレーション製、G10Z
インタラクションチャンバー使用)の圧力を1750kg/
cm2に調節して、三回処理し、ベヘン酸銀分散物を得
た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャ
ンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節すること
で所望の分散温度に設定した。こうして得たベヘン酸銀
分散物に含まれるベヘン酸銀粒子は体積加重平均直径0.
52μm、変動係数15%の粒子であった。粒子サイス゛の測定
は、Malvern Instruments Ltd.製MasterSizerXにて行っ
た。また電子顕微鏡撮影により評価すると、長辺と短辺
の比が1.5、粒子厚み0.14μm、平均アスペクト比(粒子
の投影面積の円相当径と粒子厚みの比)が5.1であっ
た。
After the addition of the sodium behenate solution was completed, the mixture was left to stir at the same temperature for 20 minutes, and the temperature was lowered to 25 ° C. Thereafter, the solid content was separated by suction filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of the filtrate became 30 μS / cm. The solid thus obtained was stored as a wet cake without drying. The morphology of the obtained silver behenate particles was evaluated by electron microscopic photographing. As a result, it was found to be flaky crystals having an average projected area diameter of 0.52 μm, an average particle thickness of 0.14 μm, and a variation coefficient of the average equivalent spherical diameter of 15%. Next, a dispersion of silver behenate was prepared by the following method. For a wet cake equivalent to 100 g of dry solids, polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217,
(Average degree of polymerization: about 1700)
After 385 g, it was predispersed with a homomixer. Next, the pre-dispersed undiluted solution is dispersed in a dispersing machine (trade name: Microfluidizer M-110S-EH, manufactured by Microfluidics International Corporation, G10Z).
Pressure of 1750 kg /
Adjusted to cm 2 and processed three times to obtain a silver behenate dispersion. In the cooling operation, a coiled heat exchanger was mounted before and after the interaction chamber, and the temperature of the refrigerant was adjusted to a desired dispersion temperature. The silver behenate particles contained in the silver behenate dispersion thus obtained have a volume-weighted average diameter of 0.
The particles had a particle diameter of 52 μm and a variation coefficient of 15%. The particle size was measured by using MasterSizerX manufactured by Malvern Instruments Ltd. When evaluated by electron microscopy, the ratio of the long side to the short side was 1.5, the grain thickness was 0.14 μm, and the average aspect ratio (the ratio of the projected area of the grain to the circle equivalent diameter and the grain thickness) was 5.1.

【0202】3.1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチル
フェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン:還元剤固体微粒
子分散物の調製 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-
トリメチルヘキサン25gに対してクラレ(株)製MPポリ
マーのMP-203の20wt%水溶液を25g、日信化学(株)製サ
フィノール104Eを0.1g、メタノール2gと水48ml添加して
よく撹拌して、スラリーとして3時間放置した。その
後、1mmのジルコニアビーズを360g用意してスラリーと
一緒にベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグライン
ダーミル:アイメックス(株)製)にて3時間分散し還元
剤固体微粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の80wt
%が0.3μm以上1.0μm以下であった。
3. 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethyl
Phenyl) -3,5,5-trimethylhexane: Reducing agent solid fine particles
Preparation of child dispersion 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-
To 25 g of trimethylhexane, 25 g of a 20 wt% aqueous solution of MP-203 of Kuraray Co., Ltd., 0.1 g of Safinol 104E manufactured by Nissin Chemical Co., Ltd., 2 g of methanol and 48 ml of water were added, and the mixture was stirred well. The slurry was left for 3 hours. Thereafter, 360 g of 1 mm zirconia beads were prepared, put into a vessel together with the slurry, and dispersed for 3 hours with a disperser (1 / 4G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) to prepare a dispersion of solid fine particles of a reducing agent. . Particle size is 80wt of particle
% Was 0.3 μm or more and 1.0 μm or less.

【0203】4.ポリハロゲン化合物の固体微粒子分散
物の調製 ポリハロゲン化合物−Aの30gに対してクラレ(株)製
MPポリマーのMP-203を4g、化合物C0.25gと、水66gを
添加しよく撹拌し、その後0.5mmのジルコニアシリケー
トビーズを200g用意してスラリーと一緒にベッセルに入
れ、分散機(1/16Gサンドグラインダーミル:アイメッ
クス(株)製)にて5時間分散し、固体微粒子分散物を
調製した。粒子径は、粒子の80wt%が0.3μm以上1.0μm
以下であった。ポリハロゲン化合物−Bについてもポリ
ハロゲン化合物−Aと同様に固体微粒子分散物を調製
し、同様な粒子径となった。
[0203] 4. Solid fine particle dispersion of polyhalogen compound
Preparation of product To 30 g of the polyhalogen compound-A, add 4 g of MP-203 of MP polymer manufactured by Kuraray Co., Ltd., 0.25 g of compound C, and 66 g of water, stir well, and then add 0.5 mm zirconia silicate beads. 200 g of the slurry was put into a vessel together with the slurry, and dispersed in a dispersing machine (1 / 16G sand grinder mill: manufactured by Imex Co., Ltd.) for 5 hours to prepare a solid fine particle dispersion. Particle size, 80% by weight of particles is 0.3μm or more and 1.0μm
It was below. Regarding polyhalogen compound-B, a solid fine particle dispersion was prepared in the same manner as polyhalogen compound-A, and had the same particle diameter.

【0204】5.造核剤の固体微粒子分散物の調製 造核剤の原末は再結晶精製を行ったものと、行わなかっ
たものを用意した。次に、表5に記載の造核剤(化合物
No.39,43,46,50,59,62,63,67,69)10gに対して、ポリビ
ニルアルコール(クラレ製PVA-217)2.5g、水87.5gを添
加しよく攪拌してスラリーとして3時間放置した。その
後、0.5mmのジルコニアビーズを240g用意してスラリー
と一緒にベッセルに入れ、分散機(1/16Gサンドグライ
ンダーミル:アイメックス(株)製)にて10時間分散
し、固体微粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の80
wt%が0.1μm以上1.0μm以下で、平均粒径0.5μmであ
った。また、分散物の一部を調製後、50℃、30日間経時
した。H1−NMRを用いて測定した分散物中の蟻酸濃
度を表5に示す。
[0204] 5. Preparation of solid fine particle dispersion of nucleating agent The raw powder of the nucleating agent was prepared after recrystallization purification and not. Next, the nucleating agents (compounds) shown in Table 5
No. 39, 43, 46, 50, 59, 62, 63, 67, 69) To 10 g, add 2.5 g of polyvinyl alcohol (Kuraray PVA-217) and 87.5 g of water, and mix well to obtain a slurry. Left for hours. Thereafter, 240 g of 0.5 mm zirconia beads were prepared, put into a vessel together with the slurry, and dispersed for 10 hours with a dispersing machine (1 / 16G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) to prepare a solid fine particle dispersion. . Particle size is 80
wt% was 0.1 μm or more and 1.0 μm or less, and the average particle size was 0.5 μm. After preparing a part of the dispersion, the dispersion was aged at 50 ° C. for 30 days. Table 5 shows the formic acid concentration in the dispersion measured using H 1 -NMR.

【0205】6.造核剤のメタノール溶液の調製 造核剤の原末は再結晶精製を行ったものと、行わなかっ
たものを用意した。次に、表5に記載の造核剤(化合物
No.1a,2)2gをメタノールを100mlで溶解した。また、溶
液の一部を調製後、50℃、30日間経時した。H1−NM
Rを用いて測定した溶液中の蟻酸濃度を表5に示す。
[0205] 6. Preparation of methanol solution of nucleating agent The raw powder of the nucleating agent was prepared after recrystallization purification and not. Next, the nucleating agents (compounds) shown in Table 5
No. 1a, 2) 2 g of methanol was dissolved in 100 ml. After preparing a part of the solution, the solution was aged at 50 ° C. for 30 days. H 1 -NM
Table 5 shows the formic acid concentration in the solution measured using R.

【0206】7.式(Z)のかぶり防止剤の固体微粒子
分散物の調製 式(Z)のかぶり防止剤の30gに対して、クラレ(株)
製MPポリマーのMP-203を3gと水87ml添加してよく攪拌
して、スラリーとして3時間放置した。その後、上記還
元剤固体微粒子分散物の調製と同様にして、式(Z)の
かぶり防止剤の固体微粒子分散物を調製した。粒子径
は、粒子の80wt%が0.3μm以上1.0μm以下であった。
[0206] 7. Solid fine particles of antifoggant of formula (Z)
Against 30g antifoggants Preparation formula of the dispersion (Z), Kuraray Co.
3 g of MP-203 made of MP polymer and 87 ml of water were added, and the mixture was stirred well and left as a slurry for 3 hours. Thereafter, a solid fine particle dispersion of the antifoggant of formula (Z) was prepared in the same manner as in the preparation of the reducing agent solid fine particle dispersion. As for the particle diameter, 80 wt% of the particles were 0.3 μm or more and 1.0 μm or less.

【0207】8.乳剤層塗布液の調製 上記で作成した有機酸銀微結晶分散物の銀1モルに対し
て、以下のバインダー、素材、およびハロゲン化銀乳剤
Aを添加して、水を加えて、乳剤層塗布液とした。
[0207] 8. Preparation of Emulsion Layer Coating Solution The following binder, material, and silver halide emulsion A were added to 1 mol of silver of the organic acid silver microcrystal dispersion prepared above, and water was added. Liquid.

【0208】 NaI 表5に記載の量 バインダー;ラックスター3307B 固形分として 397g (大日本インキ化学工業(株)製;SBRラテックスでガラス転移温度17℃) 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン 固形分として 100g ポリハロゲン化合物-A 固形分として 0.06モル 造核剤 表5に記載の種類および量 式(P)の有機ハロゲン化合物P-61 固形分として 0.03モル ポリハロゲン化合物-B 固形分として 0.06モル エチルチオスルホン酸ナトリウム 0.30g ベンゾトリアゾール 1.04g ポリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA-235) 10.8g 6-iso-プロピルフタラジン 15.0g オルトりん酸二水素ナトリウム・2水和物 0.37g 式(Z)のかぶり防止剤A-26 固形分として 0.02モル 化合物W 固形分として 5.0g 染料A 783nmの光学濃度が0.3になる塗布量(目安として0.37g) ハロゲン化銀乳剤A Ag量として0.06モルNaI Amount shown in Table 5 Binder; Luckstar 3307B 397 g as solids (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated; glass transition temperature of 17 ° C. with SBR latex) 1,1-bis (2-hydroxy-3 , 5-Dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane 100 g as solid content Polyhalogen compound-A 0.06 mol as solid content Nucleating agent Kind and amount shown in Table 5 Organic halogen compound P- of formula (P) 61 0.03 mol as a solid content Polyhalogen compound-B 0.06 mol as a solid content Sodium ethylthiosulfonate 0.30 g Benzotriazole 1.04 g Polyvinyl alcohol (PVA-235 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 10.8 g 6-iso-propylphthalazine 15.0 g Sodium dihydrogen orthophosphate dihydrate 0.37 g Antifoggant A-26 of the formula (Z) 0.02 mol as solids Compound W 5.0 g as solids Dye A 0.06 mol of 0.37 g) silver halide emulsion A Ag amount as safe

【0209】[0209]

【化37】 Embedded image

【0210】[0210]

【化38】 Embedded image

【0211】9.乳剤面下層保護層塗布液の調製 メチルメタクリレート/スチレン/2-エチルヘキシルア
クリレート/2-ヒドロキシエチルメタクリレート/アク
リル酸=58.9/8.6/25.4/5.1/2(wt%)の粒子径120
nmのポリマーラテックス溶液(共重合体でガラス転移温
度57℃、固形分濃度として21.5wt%、造膜助剤として化
合物Dをラテックスの固形分に対して15wt%含有)956g
にH2Oを加え、化合物E1.62g、マット剤(ポリスチレン
粒子、平均粒径7μm)1.98gおよびポリビニルアルコー
ル(クラレ(株)製,PVA-235)23.6gを加え、さらにH2O
を加えて、塗布液を調製とした。
[0211] 9. Preparation of Coating Solution for Lower Protective Layer on Emulsion Surface Methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 58.9 / 8.6 / 25.4 / 5.1 / 2 (wt%) particle size 120
956 g of a polymer latex solution having a glass transition temperature of 57 ° C., a solid content of 21.5 wt% as a copolymer, and 15 wt% of a compound D as a film-forming aid based on the solid content of the latex.
Of H 2 O was added to the compound E1.62G, matting agent (polystyrene particles, average particle size 7 [mu] m) 1.98 g of polyvinyl alcohol (Kuraray Co., Ltd., PVA-235) and 23.6g was added further H 2 O
Was added to prepare a coating solution.

【0212】10.乳剤面上層保護層塗布液の調製 メチルメタクリレート/スチレン/2-エチルヘキシルア
クリレート/2-ヒドロキシエチルメタクリレート/アク
リル酸=58.9/8.6/25.4/5.1/2(wt%)の粒子径70n
mのポリマーラテックス溶液(共重合体でガラス転移温
度54℃、固形分濃度として21.5wt%、造膜助剤として化
合物Dをラテックスの固形分に対して15wt%含有)630g
にH2Oを加え、カルナヴァワックス(中京油脂(株)
製、セロゾール524)30wt%溶液6.30g、化合物E0.72g、
化合物F7.95g、マット剤(ポリスチレン粒子、平均粒
径7μm)1.18gおよびポリビニルアルコール(クラレ
(株)製,PVA-235)8.30gを加え、さらに乳剤層の銀1モル
に対し化合物Sを10mmol、さらにH2Oを加えて、塗布液
を調製とした。
[0212] 10. Preparation of Coating Solution for Upper Protective Layer on Emulsion Surface Methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 58.9 / 8.6 / 25.4 / 5.1 / 2 (wt%) particle size 70n
630 g of a polymer latex solution having a glass transition temperature of 54 ° C., a solid content of 21.5 wt% as a copolymer, and a compound D as a film-forming aid containing 15 wt% based on the solid content of the latex.
Of H 2 O was added to the carnauba wax (Chukyo Yushi Co.,
Cellosol 524) 30 wt% solution 6.30 g, compound E 0.72 g,
7.95 g of compound F, 1.18 g of matting agent (polystyrene particles, average particle size 7 μm) and polyvinyl alcohol (Kuraray
8.30 g of PVA-235 (manufactured by Co., Ltd.) was added, and 10 mmol of compound S and further H 2 O were added to 1 mol of silver in the emulsion layer to prepare a coating solution.

【0213】[0213]

【化39】 Embedded image

【0214】[0214]

【化40】 Embedded image

【0215】11.バック/下塗り層のついたPET支持
体の作製 (1)支持体 テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従
い、IV(固有粘度)=0.66(フェノール/テトラクロル
エタン=6/4(重量比)中25℃で測定)のPETを得
た。これをペレット化した後、130℃で4時間乾燥した
後、300℃で溶融後T型ダイから押し出した後急冷し、
熱固定後の膜厚が120μmになるような厚みの未延伸フ
イルムを作製した。これを周速の異なるロールを用い、
3.3倍に縦延伸、ついでテンターで4.5倍に横延伸を実施
した。このときの温度はそれぞれ、110℃、130℃であっ
た。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で
横方向に4%緩和した。この後、テンターのチャック部を
スリットした後、両端にナール加工を行い、4.8kg/cm2
で巻きとった。このようにして、幅2.4m、長さ3500m、
厚み120μmのロールを得た。
[0215] 11. PET support with back / undercoat layer
Preparation of body (1) Support Using a terephthalic acid and ethylene glycol, a PET having an IV (intrinsic viscosity) of 0.66 (measured at 25 ° C. in phenol / tetrachloroethane = 6/4 (weight ratio)) was obtained according to a conventional method. Obtained. After pelletizing this, it was dried at 130 ° C for 4 hours, melted at 300 ° C, extruded from a T-die, and quenched,
An unstretched film having a thickness of 120 μm after heat setting was produced. Using rolls with different peripheral speeds,
The film was stretched longitudinally by a factor of 3.3 and then stretched laterally by a factor of 4.5 with a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. After that, it was heat-set at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed 4% in the lateral direction at the same temperature. Then, after slitting the chuck part of the tenter, knurling is performed on both ends, and 4.8 kg / cm 2
Rolled up. In this way, width 2.4m, length 3500m,
A roll having a thickness of 120 μm was obtained.

【0216】 (2)下塗り層(a) ポリマーラテックス-(1)(コア部90wt%、シェル部10wt%のコアシェルタイ プのラテックスで、コア部:塩化ビニリデン/メチルアクリレート/メチルメタ クリレート/アクリロニトリル/アクリル酸=93/3/3/0.9/0.1(wt%)、シェル 部:塩化ビニリデン/メチルアクリレート/メチルメタクリレート/アクリロニ トリル/アクリル酸=88/3/3/3/3(wt%)から成る重量平均分子量38000のポリマ ーラテックス) 固形分量として 3.0g/m2 2,4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-s-トリアジン 23mg/m2 マット剤(ポリスチレン、平均粒子径2.4μm) 1.5mg/m2 (2) Undercoat layer (a) Polymer latex- (1) (a core-shell type latex having a core portion of 90 wt% and a shell portion of 10 wt%, core portion: vinylidene chloride / methyl acrylate / methyl methacrylate / acrylonitrile / acrylic) Acid = 93/3/3 / 0.9 / 0.1 (wt%), shell: weight consisting of vinylidene chloride / methyl acrylate / methyl methacrylate / acrylonitrile / acrylic acid = 88/3/3/3/3 (wt%) Polymer latex having an average molecular weight of 38000) As solid content 3.0 g / m 2 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine 23 mg / m 2 Matting agent (polystyrene, average particle size 2.4 μm) 1.5 mg / m 2

【0217】 (3)下塗り層(b) 脱イオン処理ゼラチン (Ca2+含量0.6ppm、ゼリー強度230g) 50mg/m2 (4)導電層 ジュリマーET-410(日本純薬(株)製) 96mg/m2 アルカリ処理ゼラチン(分子量約10000、Ca2+含量30ppm ) 42mg/m2 脱イオン処理ゼラチン(Ca2+含量0.6ppm) 8mg/m2 化合物A 0.2mg/m2 ポリオキシエチレンフェニルエーテル 10mg/m2 スミテックスレジンM-3 (水溶性メラミン化合物、住友化学工業(株)製) 18mg/m2 染料A 783nmの光学濃度が1.2になる塗布量 SnO2/Sb(9/1重量比、針状微粒子、長軸/短軸=20〜30、 石原産業(株)製) 160mg/m2 マット剤(ポリメチルメタクリレート、平均粒子径5μm) 7mg/m2 (3) Undercoat layer (b) Deionized gelatin (Ca 2+ content 0.6 ppm, jelly strength 230 g) 50 mg / m 2 (4) Conductive layer Julimer ET-410 (manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 96 mg / m 2 alkali-treated gelatin (molecular weight about 10,000, Ca 2+ content 30 ppm) 42 mg / m 2 deionized gelatin (Ca 2+ content 0.6 ppm) 8 mg / m 2 Compound A 0.2 mg / m 2 polyoxyethylene phenyl ether 10 mg / m 2 Sumitex Resin M-3 (Water-soluble melamine compound, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 18 mg / m 2 Dye A Coating amount to give an optical density of 783 nm of 1.2 SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, needle shape Fine particles, major axis / minor axis = 20-30, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 160 mg / m 2 matting agent (polymethyl methacrylate, average particle diameter 5 μm) 7 mg / m 2

【0218】 (5)保護層 ポリマーラテックス−(2) (メチルメタクリレート/スチレン/2−エチルヘキシルアクリレート/ 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸 =59/9/26/5/1(重量%の共重合体)) 固形分量として 1000mg/m2 ポリスチレンスルホン酸塩(分子量1000〜5000) 2.6mg/m2 セロゾール524(中京油脂(株)) 25mg/m2 スミテックスレジンM-3 (水溶性メラミン化合物、住友化学工業(株)製) 218 mg/m2 (6)バック/下塗り層のついたPET支持体の作製 支持体(ベース)の両面に下塗り層(a)と下塗り層(b)を
順次塗布し、それぞれ180℃、4分間乾燥した。つい
で、下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布した上の一方の側
の面に導電層と保護層を順次塗布し、それぞれ180℃、4
分間乾燥して、バック/下塗り層のついたPET支持体を
作製した。下塗り層(a)の乾燥厚みは2.0μmであっ
た。
(5) Protective Layer Polymer Latex- (2) (Methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 59/9/26/5/1 (weight% copolymer) )) 1000mg / m 2 polystyrenesulfonate solid basis (molecular weight 1000~5000) 2.6mg / m 2 Cellosol 524 (Chukyo Yushi (Co.)) 25mg / m 2 Sumitex resin M-3 (water-soluble melamine compound, Sumitomo chemical Co., Ltd.) 218 mg / m 2 (6) both sides undercoat layer prepared support of the back / subbing layers marked with PET support (base) (a) and undercoat layer (b) applied sequentially to the Each was dried at 180 ° C. for 4 minutes. Then, the undercoat layer (a) and the undercoat layer (b) were applied, and a conductive layer and a protective layer were sequentially applied to one surface on one side.
After drying for minutes, a PET support with a back / subbing layer was prepared. The dry thickness of the undercoat layer (a) was 2.0 μm.

【0219】(7)搬送熱処理 (7-1)熱処理 このようにして作製したバック/下塗り層のついたPET
支持体を160℃設定した全長200m熱処理ゾーンに入れ、
張力3kg/cm2、搬送速度20m/分で搬送した。 (7-2)後熱処理 上記熱処理に引き続き、40℃のゾーンに15秒間通して後
熱処理を行い、巻き取った。この時の巻き取り張力は10
kg/cm2であった。
(7) Heat treatment for transport (7-1) Heat treatment PET with back / undercoat layer produced in this way
Place the support in a heat treatment zone with a total length of 200 m set at 160 ° C,
It was transported at a tension of 3 kg / cm 2 and a transport speed of 20 m / min. (7-2) Post heat treatment After the heat treatment, post heat treatment was carried out by passing through a zone at 40 ° C for 15 seconds, and the film was wound. The winding tension at this time is 10
kg / cm 2 .

【0220】[0220]

【化41】 Embedded image

【0221】12.熱現像感光材料の作製 前記下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布した側のPET支持
体の下塗り層の上に前記の乳剤層塗布液を塗布銀量1.6g
/m2になるように塗布した。さらにその上に、前記乳剤
面下層保護層塗布液をポリマーラテックスの固形分塗布
量が1.31g/m2になるように乳剤塗布液と共に同時重層塗
布した。その後でその上に前記乳剤面上層保護層塗布液
をポリマーラテックスの固形分塗布量が3.02g/m2になる
ように塗布し、熱現像感光材料を作製した。得られた熱
現像感光材料の画像形成側の膜面pHは5.1であり、
ベック平滑度は660秒であり、反対側の膜面pHは5.9、
ベック平滑度は560であった。
[0221] 12. Preparation of photothermographic material The above-mentioned undercoat layer (a) and the undercoat layer on the side of the PET support coated with the undercoat layer (b) were coated with the emulsion layer coating solution described above in an amount of 1.6 g of silver.
/ m 2 . Further, the emulsion layer lower layer protective layer coating solution was coated simultaneously with the emulsion coating solution so that the solid content of the polymer latex was 1.31 g / m 2 . Thereafter, the coating solution for the upper protective layer on the emulsion surface was applied thereon so that the coating amount of the solid content of the polymer latex was 3.02 g / m 2 , to produce a photothermographic material. The film surface pH on the image forming side of the obtained photothermographic material was 5.1,
The Beck smoothness is 660 seconds, the pH of the opposite film surface is 5.9,
Beck smoothness was 560.

【0222】13.写真性能の評価 (露光処理)得られた熱現像感光材料を、ビーム径(ビー
ム強度の1/2のFWHM)12.56μm、レーザー出力50m
W、出力波長783nmの半導体レーザーを搭載した単チャン
ネル円筒内面方式のレーザー露光装置を使用し、ミラー
の回転数を変化させることにより露光時間を、出力値を
変えることにより露光量を調整し、2×10-8秒で露光し
た。この時のオーバーラップ係数0.449にした。 (熱現像処理)露光済みの熱現像感光材料を図1の熱現像
機を用いて、熱現像処理部のローラー表面材質はシリコ
ンゴム、平滑面はテフロン(登録商標)不織布にして、
搬送の線速度20mm/秒で予備加熱部90〜110℃で15秒(予
備加熱部と熱現像処理部の駆動系は独立しており、熱現
像部との速度差は-0.5%〜-1%に設定)、熱現像処理部12
0℃で22秒、徐冷部15秒で熱現像処理を行った。なお、
幅方向の温度精度は±1℃であった。
13. Evaluation of photographic performance (exposure processing) The obtained photothermographic material was subjected to a beam diameter (FWHM of 1/2 of beam intensity) of 12.56 μm and a laser output of 50 m.
W, using a single-channel cylindrical inner surface type laser exposure device equipped with a semiconductor laser with an output wavelength of 783 nm, adjust the exposure time by changing the number of rotations of the mirror, adjust the exposure amount by changing the output value, 2 Exposure was performed in × 10 −8 seconds. The overlap coefficient at this time was set to 0.449. (Heat development processing) The exposed photothermographic material was heated using the thermal developing machine shown in FIG.
Preliminary heating unit 90 to 110 ° C for 15 seconds at a linear velocity of 20mm / sec %), Heat development processing unit 12
A heat development process was performed at 0 ° C. for 22 seconds and a slow cooling section for 15 seconds. In addition,
Temperature accuracy in the width direction was ± 1 ° C.

【0223】(写真性能の評価)得られた画像の評価をマ
クベスTD904濃度計(可視濃度)により行った。測定の結
果は、Dmax、Dmin(かぶり)、γ(コントラスト)で評
価した。γは露光量の対数を横軸として、Dmin部分を差
し引いた濃度0.3と3.0の点を結ぶ直線の傾きで表した。
Dmaxは実用的には3.5以上が必要で、4.0以上が好まし
く、γは実用的には10以上が必要で、15以上が好まし
い。また、熱現像処理部の温度を123℃にすること以外
は、上記と同様に露光、現像を行い、発生した黒ポツを
目視評価した。「5」が最も良く、「1」が最も悪い品
質を表す。「3」が実用限界である。また、上記の露光
方法で、黒化面積50%の平網サンプルを作成し、上記の
標準条件で熱現像処理を行い、網点品質を目視評価し
た。「5」が最も良く、「1」が最も悪い品質を表す。
「3」が実用限界である。各熱現像感光材料について上
記評価を実施した結果を表5に示す。
(Evaluation of Photographic Performance) The obtained images were evaluated using a Macbeth TD904 densitometer (visible density). The measurement results were evaluated in terms of Dmax, Dmin (fog), and γ (contrast). γ is represented by the slope of a straight line connecting the points of density 0.3 and 3.0 excluding the Dmin part, with the logarithm of the exposure amount as the horizontal axis.
Dmax is practically required to be 3.5 or more, preferably 4.0 or more, and γ is practically required to be 10 or more, and preferably 15 or more. In addition, exposure and development were carried out in the same manner as described above except that the temperature of the heat development processing section was set to 123 ° C., and the generated black pot was visually evaluated. “5” represents the best quality and “1” represents the worst quality. "3" is the practical limit. Further, a flat screen sample having a blackening area of 50% was prepared by the above-mentioned exposure method, subjected to a heat development treatment under the above standard conditions, and visually evaluated for dot quality. “5” represents the best quality and “1” represents the worst quality.
"3" is the practical limit. Table 5 shows the results of the above evaluations performed on each photothermographic material.

【0224】[0224]

【表5】 [Table 5]

【0225】上記結果から、本発明の熱現像感光材料で
は、超硬調、高Dmaxでかぶりにくく、かつ黒ポツが発生
しにくく、網点品質の良好な性能が得られることがわか
る。また、造核剤を含有した感光材料では、沃化物が黒
ポツ、かぶりに悪影響を及ぼすことがわかる。本発明で
は、造核剤を含有した超硬調感光材料において蟻酸の効
果を明らかにした。本実施例では、特に造核剤に起因す
る蟻酸が問題になる例を示したが、他の素材から混入す
る蟻酸についても、当然ながら本明細書で規定した範囲
内の蟻酸含量になるように制御する必要が有る。
From the above results, it can be seen that the photothermographic material of the present invention has a very high contrast, a high Dmax, is hardly fogged, hardly generates black spots, and has excellent halftone dot quality. Further, in the photosensitive material containing a nucleating agent, it is found that iodide has an adverse effect on black spots and fog. The present invention has clarified the effect of formic acid on a super-high contrast photosensitive material containing a nucleating agent. In this embodiment, an example in which formic acid caused by a nucleating agent is particularly problematic was shown.However, formic acid mixed from other materials is naturally set to have a formic acid content within the range specified in the present specification. It needs to be controlled.

【0226】[0226]

【発明の効果】本発明により、特に写真製版用、特にス
キャナー、イメージセッター用として、超硬調で、かぶ
りにくく、黒ポツが発生せず、さらにはDmax(最高
濃度)で網点品質の良好な写真製版用途に最適な画像を
得ることが可能な熱現像感光材料を提供することが可能
になった。
According to the present invention, especially for photoengraving, especially for scanners and imagesetters, it is super-hard, hard to fog, does not generate black spots, and has good Dmax (maximum density) and halftone dot quality. It has become possible to provide a photothermographic material capable of obtaining an optimum image for photolithography.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】熱現像機の一構成例を示す側面図である。FIG. 1 is a side view illustrating a configuration example of a heat developing machine.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 熱現像感光材料 11 搬入ローラー対 12 搬出ローラー対 13 ローラー 14 平滑面 15 加熱ヒーター 16 ガイド板 A 予備加熱部 B 熱現像処理部 C 徐冷部 REFERENCE SIGNS LIST 10 heat-developable photosensitive material 11 carry-in roller pair 12 carry-out roller pair 13 roller 14 smooth surface 15 heating heater 16 guide plate A preheating section B heat development processing section C slow cooling section

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 博幸 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社足柄研究所内 Fターム(参考) 2H123 AB00 AB03 AB23 AB25 BB00 BB03 BB31 BB33 CB00 CB03 DA06 EA07  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Hiroyuki Suzuki 210 Nakanakanuma, Minamiashigara-shi, Kanagawa Fuji Photo F-term in Ashigara Research Laboratory, Film Co., Ltd. 2H123 AB00 AB03 AB23 AB25 BB00 BB03 BB31 BB33 CB00 CB03 DA06 EA07

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に非感光性銀塩、感光性ハロゲ
ン化銀およびバインダーを有する熱現像感光材料におい
て、感光性ハロゲン化銀を有する側の支持体面上に造核
剤が含まれ且つ蟻酸あるいは蟻酸塩の含有量が銀1モル
当たり5ミリモル以下であることを特徴とする熱現像感
光材料。
1. A photothermographic material having a non-photosensitive silver salt, a photosensitive silver halide and a binder on a support, wherein a nucleating agent is contained on the side of the support having the photosensitive silver halide, and A photothermographic material characterized in that the content of formic acid or formate is not more than 5 mmol per mol of silver.
【請求項2】 造核剤が下記式(1)、式(2)または
式(3)で表される化合物、並びにヒドラジン誘導体か
ら選ばれる少なくとも1種の化合物を含むことを特徴と
する、請求項1の熱現像感光材料。 【化1】 [式(1)においてR11、R12、R13はそれぞれ独立に水
素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性基またはシ
リル基を表す。式(1)においてR11とZ、R12とR13
11とR12、及びR13とZは、互いに結合して環状構造
を形成していてもよい。式(2)においてR14は、置換基
を表す。式(3)においてX、Yはそれぞれ独立に水素原
子または置換基を表し、AおよびBはそれぞれ独立にア
ルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アリ
ールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ環
オキシ基、ヘテロ環チオ基またはヘテロ環アミノ基を表
す。式(3)において、XとY、およびAとBは、それぞ
れ互いに結合して環状構造を形成していてもよい。]
2. The nucleating agent contains at least one compound selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (1), (2) or (3) and a hydrazine derivative. Item 6. The photothermographic material according to item 1. Embedded image [In the formula (1), R 11 , R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group or a silyl group. In the formula (1), R 11 and Z, R 12 and R 13 ,
R 11 and R 12 , and R 13 and Z may combine with each other to form a cyclic structure. In the formula (2), R 14 represents a substituent. In the formula (3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic oxy group. A heterocyclic thio group or a heterocyclic amino group. In the formula (3), X and Y, and A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure. ]
【請求項3】 造核剤が下記式(A)または式(B)で
表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物を
含むことを特徴とする、請求項2の熱現像感光材料。 【化2】 [式(A)または式(B)においてZ1およびZ2は、各々こ
れらを含んで5員から7員の環構造を形成しうる非金属
原子団を表し、Y1およびY2は各々−C(=O)−基また
は−SO2−基を表し、X1およびX2は各々、ヒドロキ
シ基もしくはその塩、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ヘテロ環オキシ基、メルカプト基もしくはその塩、
アルキルチオ基,アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基,アリールアミノ基、ヘテロ
環アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、また
はヘテロ環基を表す。Y3は水素原子または置換基を表
す。]
3. The photothermographic material according to claim 2, wherein the nucleating agent contains at least one compound selected from the compounds represented by the following formulas (A) and (B). Embedded image [In the formula (A) or the formula (B), Z 1 and Z 2 each represent a nonmetallic atomic group that can form a 5- to 7-membered ring structure, and Y 1 and Y 2 each represent- X represents a C (= O) — group or —SO 2 — group, and X 1 and X 2 are each a hydroxy group or a salt thereof, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, a mercapto group or a salt thereof,
Represents an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, an acylamino group, a sulfonamide group, or a heterocyclic group. Y 3 represents a hydrogen atom or a substituent. ]
【請求項4】 感光性ハロゲン化銀を有する側の支持体
面上における蟻酸あるいは蟻酸塩の含有量が銀1モル当
たり1ミリモル以下であることを特徴とする、請求項1
〜3のいずれかに記載の熱現像感光材料。
4. The method according to claim 1, wherein the content of formic acid or formate on the support having the photosensitive silver halide is not more than 1 mmol per mol of silver.
4. The photothermographic material according to any one of items 1 to 3,
【請求項5】 沃化物を含有しないことを特徴とする請
求項1〜4のいずれかに記載の熱現像感光材料。
5. The photothermographic material according to claim 1, which does not contain iodide.
【請求項6】 造核剤に対する蟻酸あるいは蟻酸塩濃度
が10モル%以下である造核剤溶液あるいは造核剤分散
液を用いて造核剤を添加することを含む、請求項1〜5
のいずれかに記載の熱現像感光材料を製造する方法。
6. The method according to claim 1, further comprising adding a nucleating agent using a nucleating agent solution or a nucleating agent dispersion having a formic acid or formate concentration of 10 mol% or less based on the nucleating agent.
A method for producing the photothermographic material according to any one of the above.
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