JP2000273030A - ビスレゾルシニルトリアジン誘導体とベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有する化合物を含有する光保護用組成物 - Google Patents
ビスレゾルシニルトリアジン誘導体とベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有する化合物を含有する光保護用組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 良好な光保護力を有する化粧品用組成物を提
供する。 【解決手段】 化粧品として許容可能なビヒクル中に、
（ａ）第１の遮蔽剤として、少なくとも１つのビスレゾ
ルシニルトリアジン誘導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤とし
て、少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有する化合物
又は少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する化合
物の少なくとも１つとを含有せしめ、該第１及び第２の
遮蔽剤を、日光保護ファクターについて相乗活性を生じ
る割合にする。
供する。 【解決手段】 化粧品として許容可能なビヒクル中に、
（ａ）第１の遮蔽剤として、少なくとも１つのビスレゾ
ルシニルトリアジン誘導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤とし
て、少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有する化合物
又は少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する化合
物の少なくとも１つとを含有せしめ、該第１及び第２の
遮蔽剤を、日光保護ファクターについて相乗活性を生じ
る割合にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に、紫外線から
皮膚及び／又は毛髪を光保護することを意図し、局所的
に使用される新規の化粧品用組成物（以下、この組成物
を単に抗日光組成物と呼称する）、並びに上述した化粧
品用途におけるこれら組成物の使用に関する。さらに本
発明は、化粧品として許容可能なビヒクル中に、（ａ）
第１の遮蔽剤として、少なくとも１つのビスレゾルシニ
ルトリアジン誘導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤として、少
なくとも２つのベンゾアゾリル基を有する化合物又は少
なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する化合物の少
なくとも１つとを組合せて含有し、該第１及び第２の遮
蔽剤が、付与される日光保護ファクターについて相乗活
性を生じる割合で、該組成物中に存在している抗日光組
成物に関する。
皮膚及び／又は毛髪を光保護することを意図し、局所的
に使用される新規の化粧品用組成物（以下、この組成物
を単に抗日光組成物と呼称する）、並びに上述した化粧
品用途におけるこれら組成物の使用に関する。さらに本
発明は、化粧品として許容可能なビヒクル中に、（ａ）
第１の遮蔽剤として、少なくとも１つのビスレゾルシニ
ルトリアジン誘導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤として、少
なくとも２つのベンゾアゾリル基を有する化合物又は少
なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する化合物の少
なくとも１つとを組合せて含有し、該第１及び第２の遮
蔽剤が、付与される日光保護ファクターについて相乗活
性を生じる割合で、該組成物中に存在している抗日光組
成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】２８０
ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は
日焼けし、特にＵＶ−Ｂとして知られている２８０と３
２０ｎｍの間の波長の光線により、自然なサンタン状態
の形成に有害なサンバーン状態となったり紅斑を形成す
る；よって、このＵＶ−Ｂは遮蔽されなければならな
い。また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を持ち、
皮膚をサンタン状態にするＵＶ−Ａも皮膚に悪い変化を
誘発するおそれがあり、敏感肌又は頻繁に太陽光線にさ
らされている皮膚の場合は特にしかりである。ＵＶ−Ａ
は、特に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、
皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。Ｕ
Ｖ−Ａは紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個人におい
てはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応
の原因にもなりうる。よって、ＵＶ−Ａもまた遮蔽する
ことが望ましい。
ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は
日焼けし、特にＵＶ−Ｂとして知られている２８０と３
２０ｎｍの間の波長の光線により、自然なサンタン状態
の形成に有害なサンバーン状態となったり紅斑を形成す
る；よって、このＵＶ−Ｂは遮蔽されなければならな
い。また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を持ち、
皮膚をサンタン状態にするＵＶ−Ａも皮膚に悪い変化を
誘発するおそれがあり、敏感肌又は頻繁に太陽光線にさ
らされている皮膚の場合は特にしかりである。ＵＶ−Ａ
は、特に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、
皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。Ｕ
Ｖ−Ａは紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個人におい
てはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応
の原因にもなりうる。よって、ＵＶ−Ａもまた遮蔽する
ことが望ましい。
【０００３】皮膚の光（ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ）
保護を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提
供されている。これら抗日光組成物は、かなり多くの場
合、水中油型エマルション（すなわち、分散させる水性
連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品
として許容可能なビヒクル）の形態で提供されており、
有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の通常の
親油性及び／又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含
有してなるもので、これらの遮蔽剤（及びその量）は、
所望の保護ファクター［保護ファクター（ＰＦ）は、Ｕ
Ｖ遮蔽剤を用いた場合に紅斑が形成され始めるまでに必
要な照射時間の、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合に紅斑が形
成され始めるまでに必要な時間に対する比率を数学的に
表したものである］に従って選択される。
保護を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提
供されている。これら抗日光組成物は、かなり多くの場
合、水中油型エマルション（すなわち、分散させる水性
連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品
として許容可能なビヒクル）の形態で提供されており、
有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の通常の
親油性及び／又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含
有してなるもので、これらの遮蔽剤（及びその量）は、
所望の保護ファクター［保護ファクター（ＰＦ）は、Ｕ
Ｖ遮蔽剤を用いた場合に紅斑が形成され始めるまでに必
要な照射時間の、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合に紅斑が形
成され始めるまでに必要な時間に対する比率を数学的に
表したものである］に従って選択される。
【０００４】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】実
際、上述した光保護の分野において鋭意研究を行ったと
ころ、本出願人は、驚くべきことに、また予期しないこ
とに、従来から既に知られている２つの特定のサンスク
リーン剤を組合せると、顕著な相乗効果により、大幅に
改善された保護ファクターを有する抗日光組成物が得ら
れることを見いだした。この発見が本発明の基礎をな
す。
際、上述した光保護の分野において鋭意研究を行ったと
ころ、本出願人は、驚くべきことに、また予期しないこ
とに、従来から既に知られている２つの特定のサンスク
リーン剤を組合せると、顕著な相乗効果により、大幅に
改善された保護ファクターを有する抗日光組成物が得ら
れることを見いだした。この発見が本発明の基礎をな
す。
【０００５】よって、本発明の主題事項の一つは、化粧
品として許容可能なビヒクル中に、（ａ）第１の遮蔽剤
として、少なくとも１つのビスレゾルシニルトリアジン
誘導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤として、少なくとも２つ
のベンゾアゾリル基を有する化合物又は少なくとも１つ
のベンゾジアゾリル基を有する化合物の少なくとも１つ
を含有し、該第１及び第２の遮蔽剤が、付与される日光
保護ファクターについて相乗活性を生じる割合で該組成
物中に存在していることを本質的に特徴とする新規化粧
品用組成物、特に抗日光組成物を提供することにある。
品として許容可能なビヒクル中に、（ａ）第１の遮蔽剤
として、少なくとも１つのビスレゾルシニルトリアジン
誘導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤として、少なくとも２つ
のベンゾアゾリル基を有する化合物又は少なくとも１つ
のベンゾジアゾリル基を有する化合物の少なくとも１つ
を含有し、該第１及び第２の遮蔽剤が、付与される日光
保護ファクターについて相乗活性を生じる割合で該組成
物中に存在していることを本質的に特徴とする新規化粧
品用組成物、特に抗日光組成物を提供することにある。
【０００６】本発明の他の主題事項は、太陽光線等の紫
外線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した
化粧品用組成物の製造における、上記のような組成物の
使用にある。
外線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した
化粧品用組成物の製造における、上記のような組成物の
使用にある。
【０００７】また、本発明の他の主題事項は、本発明の
組成物を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用することか
ら本質的になる、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又
は毛髪を保護するために美容処理方法にある。
組成物を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用することか
ら本質的になる、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又
は毛髪を保護するために美容処理方法にある。
【０００８】本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下
の詳細な記載を読むことにより、明らかになるであろ
う。
の詳細な記載を読むことにより、明らかになるであろ
う。
【０００９】よって、本発明の主題事項の一つにおいて
は、化粧品として許容可能なビヒクル中に： （ａ）第１の遮蔽剤として、少なくとも１つのビスレゾ
ルシニルトリアジン誘導体と； （ｂ）第２の遮蔽剤として、１分子当たり少なくとも２
つのベンゾアゾリル基を有する化合物、又は１分子当た
り少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する化合物
の少なくとも１つ、を含有し、該第１及び第２の遮蔽剤
が、日光保護ファクターに関し、相乗活性が生じる割合
で存在していることを特徴とする、新規の化粧品用及び
／又は皮膚科学的組成物、特に抗日光組成物が提供され
る。
は、化粧品として許容可能なビヒクル中に： （ａ）第１の遮蔽剤として、少なくとも１つのビスレゾ
ルシニルトリアジン誘導体と； （ｂ）第２の遮蔽剤として、１分子当たり少なくとも２
つのベンゾアゾリル基を有する化合物、又は１分子当た
り少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する化合物
の少なくとも１つ、を含有し、該第１及び第２の遮蔽剤
が、日光保護ファクターに関し、相乗活性が生じる割合
で存在していることを特徴とする、新規の化粧品用及び
／又は皮膚科学的組成物、特に抗日光組成物が提供され
る。
【００１０】本明細書において「少なくとも２つのベン
ゾアゾリル基を有する」という用語は、１分子当たり、
ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル又はベンゾイミ
ダゾリル型の少なくとも２つの基を有するものと理解さ
れる。本明細書において「少なくとも１つのベンゾジア
ゾリル基を有する」という用語は、１分子当たり、ベン
ゾジオキサゾリル、ベンゾジチアゾリル又はベンゾジイ
ミダゾリル型の基を有するものと理解される。
ゾアゾリル基を有する」という用語は、１分子当たり、
ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル又はベンゾイミ
ダゾリル型の少なくとも２つの基を有するものと理解さ
れる。本明細書において「少なくとも１つのベンゾジア
ゾリル基を有する」という用語は、１分子当たり、ベン
ゾジオキサゾリル、ベンゾジチアゾリル又はベンゾジイ
ミダゾリル型の基を有するものと理解される。
【００１１】本発明に係るビスレゾルシニルトリアジン
誘導体は、好ましくは次の式：
誘導体は、好ましくは次の式：
【化２０】 ［上式中、 （ｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、Ｃ３−Ｃ１８アルキル基、Ｃ２−Ｃ１８アルケニル
基又は式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＴ１（こ
こで、Ｔ１は水素原子かＣ１−Ｃ８アルキル基である）
の残基を示し； （ｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、次の式（１）：
く、Ｃ３−Ｃ１８アルキル基、Ｃ２−Ｃ１８アルケニル
基又は式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＴ１（こ
こで、Ｔ１は水素原子かＣ１−Ｃ８アルキル基である）
の残基を示し； （ｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、次の式（１）：
【化２１】 ｛上式中、 − ｍ１は１〜３の数であり； − Ｒ３は、ヒドロキシル基；一又は複数のヒドロキシ
ル基で置換されるか非置換のＣ１−Ｃ５アルキル基；Ｃ
１−Ｃ５アルコキシ基；アミノ基；モノ−もしくはジ
（Ｃ１−Ｃ５）アルキルアミノ基；金属カチオンＭ；あ
るいは次の式（２）〜（７）：
ル基で置換されるか非置換のＣ１−Ｃ５アルキル基；Ｃ
１−Ｃ５アルコキシ基；アミノ基；モノ−もしくはジ
（Ｃ１−Ｃ５）アルキルアミノ基；金属カチオンＭ；あ
るいは次の式（２）〜（７）：
【化２２】 （上式中、 − Ｒ４、Ｒ５及びＲ６基は、同一でも異なっていても
よく、一又は複数のヒドロキシル基で置換されるか非置
換のＣ１−Ｃ１４アルキル基を表し；ｍ３は２〜１４の
数を表し； − Ｒ７は、水素原子、金属カチオンＭ、Ｃ１−Ｃ５ア
ルキル基又は式−（ＣＨ２）ｍ２−ＯＴ１（ここで、ｍ
２は１〜４の数でＴ１は上述と同じ意味を有する）の残
基を表す）の一つから選ばれる残基を示す｝ （ｉｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていても
よく、次の式（８）：
よく、一又は複数のヒドロキシル基で置換されるか非置
換のＣ１−Ｃ１４アルキル基を表し；ｍ３は２〜１４の
数を表し； − Ｒ７は、水素原子、金属カチオンＭ、Ｃ１−Ｃ５ア
ルキル基又は式−（ＣＨ２）ｍ２−ＯＴ１（ここで、ｍ
２は１〜４の数でＴ１は上述と同じ意味を有する）の残
基を表す）の一つから選ばれる残基を示す｝ （ｉｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていても
よく、次の式（８）：
【化２３】 （上式中、 − Ｒ８は、共有結合、直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ４
アルキル基又は式−Ｃｍ４Ｈ２ｍ４−もしくは−Ｃｍ４
Ｈ２ｍ４−Ｏ−（ここで、ｍ４は１〜４の数である）の
残基を表し； − ｐ１は０〜５の数であり； − Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１基は、同一でも異なってい
てもよく、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基、Ｃ１−Ｃ１８アル
コキシ基又は次の式：
アルキル基又は式−Ｃｍ４Ｈ２ｍ４−もしくは−Ｃｍ４
Ｈ２ｍ４−Ｏ−（ここで、ｍ４は１〜４の数である）の
残基を表し； − ｐ１は０〜５の数であり； − Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１基は、同一でも異なってい
てもよく、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基、Ｃ１−Ｃ１８アル
コキシ基又は次の式：
【化２４】 （上式中、Ｒ１２はＣ１−Ｃ５アルキル基である）の残
基を示す）の残基を示すことができ； − Ａ１は、次の式：
基を示す）の残基を示すことができ； − Ａ１は、次の式：
【化２５】 ［上式中、 − Ｒ７は上述のものと同じ意味を有し； − Ｒ１３は水素原子、Ｃ１−Ｃ１０アルキル基、式−
（ＣＨ２ＣＨＲ１６−Ｏ）ｎ１Ｒ７（ここでｎ１は１〜
１６の数であり、Ｒ１６は水素又はメチルか、Ｔ１が上
記と同じ意味を有する−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２
ＯＨＴ１の構造の残基である）の基を示し； − Ｑ１はＣ１−Ｃ１８アルキル基であり； − Ｒ１４は次の式（１）：
（ＣＨ２ＣＨＲ１６−Ｏ）ｎ１Ｒ７（ここでｎ１は１〜
１６の数であり、Ｒ１６は水素又はメチルか、Ｔ１が上
記と同じ意味を有する−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２
ＯＨＴ１の構造の残基である）の基を示し； − Ｑ１はＣ１−Ｃ１８アルキル基であり； − Ｒ１４は次の式（１）：
【化２６】 に相当する基である］の１つに対応する残基を示す］に
相当する化合物から好適には選択される。
相当する化合物から好適には選択される。
【００１２】上述の式（Ｉ）及び（１）〜（１２）にお
いて： − アルキル基は、直鎖状又は分枝状で、例えば、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アミル、イソ
アミル、ｔｅｒｔ−アミル、ヘプチル、オクチル、イソ
オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テ
トラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシ
ル又はオクタデシルから選択することができ； − Ｃ２−Ｃ１８アルケニル基は、例えば、アリル、メ
タリル、イソプロペニル、２−ブテニル、３−ブテニ
ル、イソブテニル、ｎ−ペンタ−２，４−ジエニル、３
−メチルブテ（ｍｅｔｈｙｌｂｕｔ）−２−エニル、ｎ
−オクテ（ｏｃｔ）−２−エニル、ｎ−ドデセ（ｄｏｄ
ｅｃ）−２−エニル、イソドデセニル又はｎ−オクタデ
セ−４−エニルから選択することができ； − アルコキシ基は直鎖状又は分枝状で、例えば、メト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ
−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、
アミルオキシ、イソアミルオキシ又はｔｅｒｔ−アミル
オキシから選択することができ； − モノ−もしくはジアルキルアミノ基は、例えば、メ
チルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ｎ−ブチ
ルアミノ、ｓｅｃ−ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルア
ミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、ジブチルアミノ又はメチルエチルアミノから選択す
ることができ； − 金属カチオンＭはアルカリ金属、アルカリ土類金
属、又は例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム、カ
ルシウム、マグネシウム、銅及び亜鉛から選択される金
属カチオンである。
いて： − アルキル基は、直鎖状又は分枝状で、例えば、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アミル、イソ
アミル、ｔｅｒｔ−アミル、ヘプチル、オクチル、イソ
オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テ
トラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシ
ル又はオクタデシルから選択することができ； − Ｃ２−Ｃ１８アルケニル基は、例えば、アリル、メ
タリル、イソプロペニル、２−ブテニル、３−ブテニ
ル、イソブテニル、ｎ−ペンタ−２，４−ジエニル、３
−メチルブテ（ｍｅｔｈｙｌｂｕｔ）−２−エニル、ｎ
−オクテ（ｏｃｔ）−２−エニル、ｎ−ドデセ（ｄｏｄ
ｅｃ）−２−エニル、イソドデセニル又はｎ−オクタデ
セ−４−エニルから選択することができ； − アルコキシ基は直鎖状又は分枝状で、例えば、メト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ
−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、
アミルオキシ、イソアミルオキシ又はｔｅｒｔ−アミル
オキシから選択することができ； − モノ−もしくはジアルキルアミノ基は、例えば、メ
チルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ｎ−ブチ
ルアミノ、ｓｅｃ−ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルア
ミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、ジブチルアミノ又はメチルエチルアミノから選択す
ることができ； − 金属カチオンＭはアルカリ金属、アルカリ土類金
属、又は例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム、カ
ルシウム、マグネシウム、銅及び亜鉛から選択される金
属カチオンである。
【００１３】本発明の式（Ｉ）のビスレゾルシニルトリ
アジン誘導体は、それ自体既に知られた遮蔽剤である。
それらは、欧州特許公開第０７７５６９８号及び同第０
８７８４６９号に開示され、そこで示された合成法に従
い調製される（これらは本明細書の内容の一体部分を形
成する）。
アジン誘導体は、それ自体既に知られた遮蔽剤である。
それらは、欧州特許公開第０７７５６９８号及び同第０
８７８４６９号に開示され、そこで示された合成法に従
い調製される（これらは本明細書の内容の一体部分を形
成する）。
【００１４】使用することができる式（Ｉ）のビスレゾ
ルシニルトリアジン化合物の例としては、Ａ１基がパラ
−メトキシフェニル又は４−エトキシフェニルを示し、
Ｒ１及びＲ２基が、同一でも異なっていてもよく、次の
構造：
ルシニルトリアジン化合物の例としては、Ａ１基がパラ
−メトキシフェニル又は４−エトキシフェニルを示し、
Ｒ１及びＲ２基が、同一でも異なっていてもよく、次の
構造：
【化２７】 ｛上式中、構造Ｒ３は、 − ｔｅｒｔ−ブチルオキシ； − ＯＨ； − ＯＭ（ここで、Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土類
金属カチオン又は銅、マグネシウム又は亜鉛から選択さ
れるカチオンである）； − 次の構造：
金属カチオン又は銅、マグネシウム又は亜鉛から選択さ
れるカチオンである）； − 次の構造：
【化２８】 の基； − 構造Ｏ−Ｎ＋（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）３の基； − 次の構造：
【化２９】 （ここで、ｎは２〜１６まで変わりうる）の基； − 次の構造：
【化３０】 の基； − 次の構造：
【化３１】 の基から選択される｝を持つ基を表す。
【００１５】また、Ａ１基がパラ−ヒドロキシフェニル
を示し、Ｒ１及びＲ２基が同時に次の構造：
を示し、Ｒ１及びＲ２基が同時に次の構造：
【化３２】 の基を表す式（Ｉ）に相当するビスレゾルシニルトリア
ジン化合物が挙げられる。
ジン化合物が挙げられる。
【００１６】使用することができる式（Ｉ）の化合物の
例として： − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン；− ２，４−
ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキシ）−２−ヒド
ロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−［４−（２−
メトキシエチルオキシカルボニル）フェニルアミノ］−
１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２”−メチルプロペニルオ
キシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メト
キシフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，
５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−
メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン； − ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキ
シ］フェニル｝−６−［４−（エトキシカルボニル）フ
ェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（１−メチル
ピロール−２−イル）−１，３，５−トリアジン；を挙
げることができる。
例として： − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン；− ２，４−
ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキシ）−２−ヒド
ロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−［４−（２−
メトキシエチルオキシカルボニル）フェニルアミノ］−
１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２”−メチルプロペニルオ
キシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メト
キシフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，
５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−
メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン； − ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキ
シ］フェニル｝−６−［４−（エトキシカルボニル）フ
ェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（１−メチル
ピロール−２−イル）−１，３，５−トリアジン；を挙
げることができる。
【００１７】本発明において特に好ましいビスレゾルシ
ニルトリアジンから誘導される化合物は、 − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン； − ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，
５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−
メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン；からなる群から選択される。
ニルトリアジンから誘導される化合物は、 − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン； − ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，
５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−
メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン；からなる群から選択される。
【００１８】ビスレゾルシニルトリアジン誘導体型のサ
ンスクリーン又はサンスクリーン類は、組成物の全重量
に対して、０．１〜１５重量％、好ましくは０．２〜１
０重量％の含有量で組成物中に存在する。
ンスクリーン又はサンスクリーン類は、組成物の全重量
に対して、０．１〜１５重量％、好ましくは０．２〜１
０重量％の含有量で組成物中に存在する。
【００１９】本発明の少なくとも２つのベンゾアゾリル
基を有する化合物として好ましく使用されるものは、次
の一般式（ＩＩ）：
基を有する化合物として好ましく使用されるものは、次
の一般式（ＩＩ）：
【化３３】 ［上式中： − Ｚ’は、角括弧内に記載された少なくとも２つのベ
ンゾアゾリル基の二重結合系を完結させ、完全に共役し
た単位を形成するように位置せしめられた一又は複数の
二重結合を有する（ｐ２＋ｎ２）価の有機残基を表し； − Ｘ’はＳ、Ｏ又はＮＲ６を示し； − Ｒ１は、水素、Ｃ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ４
アルコキシ、Ｃ５−Ｃ１５アリール、Ｃ２−Ｃ１８アシ
ルオキシ、ＳＯ３Ｙ’又はＣＯＯＹ’を示し； − Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５基は同一でも異なってい
てもよく、ニトロ基を示すか、又はＲ１と同一の意味を
有し； − Ｒ６は水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はＣ１−Ｃ４ヒ
ドロキシアルキルを示し； − Ｙ’は水素、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ４、１／２Ｃ
ａ、１／２Ｍｇ、１／３Ａ１又は窒素性有機塩基による
遊離の酸基の中和から得られるカチオンを示し； − ｍ５は０又は１であり； − ｎ２は２〜６の数であり； − ｐ２は１〜４の数であり； − 但し、ｐ２＋ｎ２は６を越えない］に対応するもの
である。
ンゾアゾリル基の二重結合系を完結させ、完全に共役し
た単位を形成するように位置せしめられた一又は複数の
二重結合を有する（ｐ２＋ｎ２）価の有機残基を表し； − Ｘ’はＳ、Ｏ又はＮＲ６を示し； − Ｒ１は、水素、Ｃ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ４
アルコキシ、Ｃ５−Ｃ１５アリール、Ｃ２−Ｃ１８アシ
ルオキシ、ＳＯ３Ｙ’又はＣＯＯＹ’を示し； − Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５基は同一でも異なってい
てもよく、ニトロ基を示すか、又はＲ１と同一の意味を
有し； − Ｒ６は水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はＣ１−Ｃ４ヒ
ドロキシアルキルを示し； − Ｙ’は水素、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ４、１／２Ｃ
ａ、１／２Ｍｇ、１／３Ａ１又は窒素性有機塩基による
遊離の酸基の中和から得られるカチオンを示し； − ｍ５は０又は１であり； − ｎ２は２〜６の数であり； − ｐ２は１〜４の数であり； − 但し、ｐ２＋ｎ２は６を越えない］に対応するもの
である。
【００２０】本発明の式（ＩＩ）の化合物は、欧州特許
公開第０６６９３２３号において既に公知の水溶性のＵ
Ｖ−Ａ遮蔽剤である。それらは米国特許第２４６３２６
４号及び欧州特許公開第０６６９３２３号に開示され、
そこで示された合成法に従い調製される（これら２つの
公報は本明細書の内容の一体部分を形成する）。
公開第０６６９３２３号において既に公知の水溶性のＵ
Ｖ−Ａ遮蔽剤である。それらは米国特許第２４６３２６
４号及び欧州特許公開第０６６９３２３号に開示され、
そこで示された合成法に従い調製される（これら２つの
公報は本明細書の内容の一体部分を形成する）。
【００２１】本発明の式（ＩＩ）の化合物として好まし
くは、Ｚ’基が： （ａ）例えば： −ＣＨ＝ＣＨ−、 −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、又は次の式：
くは、Ｚ’基が： （ａ）例えば： −ＣＨ＝ＣＨ−、 −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、又は次の式：
【化３４】 等の、Ｃ５−Ｃ１２アリール基又はＣ４−Ｃ１０ヘテロ
アリールが挿入され得る不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２−
Ｃ６炭化水素性（ｈｙｄｒｏｃａｒｂｏｎａｃｅｏｕ
ｓ）基； （ｂ）例えば、以下の式：
アリールが挿入され得る不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２−
Ｃ６炭化水素性（ｈｙｄｒｏｃａｒｂｏｎａｃｅｏｕ
ｓ）基； （ｂ）例えば、以下の式：
【化３５】 の基等の、不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２−Ｃ６炭化水素
性基が挿入され得るＣ５−Ｃ１５アリール基； （ｃ）例えば、次の式：
性基が挿入され得るＣ５−Ｃ１５アリール基； （ｃ）例えば、次の式：
【化３６】 ［上式中、Ｒ６は上述した同一の意味を有する］の基等
の、Ｃ３−Ｃ１０ヘテロアリール残基；から選択され、
（ａ）項、（ｂ）項及び（ｃ）項で定義された上記Ｚ’
基が、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、フ
ェノキシ、ヒドロキシル、メチレンジオキシ又はアミノ
基で置換可能で、アミノ基が一又は二のＣ１−Ｃ５アル
キル基で置換されていてもよいものを挙げることができ
る。
の、Ｃ３−Ｃ１０ヘテロアリール残基；から選択され、
（ａ）項、（ｂ）項及び（ｃ）項で定義された上記Ｚ’
基が、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、フ
ェノキシ、ヒドロキシル、メチレンジオキシ又はアミノ
基で置換可能で、アミノ基が一又は二のＣ１−Ｃ５アル
キル基で置換されていてもよいものを挙げることができ
る。
【００２２】使用可能な式（ＩＩ）の化合物の例とし
て、次の構造を有するもの：
て、次の構造を有するもの：
【化３７】 及びその塩類を挙げることができる。
【００２３】これら全ての化合物の中で、特に好ましい
ものは、次の構造を有する１，４−ビス（ベンゾイミダ
ゾリル）フェニレン−３，３’，５，５’−テトラスル
ホン酸（化合物４）：
ものは、次の構造を有する１，４−ビス（ベンゾイミダ
ゾリル）フェニレン−３，３’，５，５’−テトラスル
ホン酸（化合物４）：
【化３８】 及びその塩類である。少なくとも２つのベンゾアゾリル
基を有する化合物の他の例としては、次の化合物：
基を有する化合物の他の例としては、次の化合物：
【化３９】 及びその塩類を挙げることができる。
【００２４】本発明で使用可能な少なくとも１つのベン
ゾジアゾリル基を有する化合物の例としては、次の化合
物：
ゾジアゾリル基を有する化合物の例としては、次の化合
物：
【化４０】 及びその塩類を挙げることができる。
【００２５】本発明のベンゾアゾリル又はベンゾジアゾ
リル基を有する化合物又は化合物類は、組成物の全重量
に対して０．１〜１５重量％、好ましくは０．２〜１０
重量％の濃度で、本発明の組成物中に存在する。
リル基を有する化合物又は化合物類は、組成物の全重量
に対して０．１〜１５重量％、好ましくは０．２〜１０
重量％の濃度で、本発明の組成物中に存在する。
【００２６】上述したように、本発明の必須の特徴によ
れば、２種類のサンスクリーン剤が、組合せた結果付与
される保護ファクターについて顕著かつ大幅で有意な相
乗効果が得られるような各割合で最終組成物中に存在す
るのが好ましい。
れば、２種類のサンスクリーン剤が、組合せた結果付与
される保護ファクターについて顕著かつ大幅で有意な相
乗効果が得られるような各割合で最終組成物中に存在す
るのが好ましい。
【００２７】さらに一般的には、上述したビスレゾルシ
ニルトリアジン誘導体及びベンゾアゾリル又はベンゾジ
アゾリル基を有する化合物の濃度及び比率は、最終組成
物の日光保護ファクターが好ましくは少なくとも２にな
るように選択される。
ニルトリアジン誘導体及びベンゾアゾリル又はベンゾジ
アゾリル基を有する化合物の濃度及び比率は、最終組成
物の日光保護ファクターが好ましくは少なくとも２にな
るように選択される。
【００２８】さらに、本発明の好ましい実施態様におい
て、様々な種類の遮蔽剤が存在する化粧品として許容可
能なビヒクルは、水中油型エマルションである。
て、様々な種類の遮蔽剤が存在する化粧品として許容可
能なビヒクルは、水中油型エマルションである。
【００２９】もちろん、本発明の抗日光化粧品用組成物
は、上述した２つの遮蔽剤以外にも、ＵＶ−Ａ及び／又
はＵＶ−Ｂ領域に対して活性のある、一又は複数の付加
的な親水性又は親油性のサンスクリーン剤（吸収剤）を
含有してもよい。これらの付加的な遮蔽剤は、特に、ケ
イ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、
上記のもの以外のトリアジン誘導体、例えば欧州特許出
願第８６３１４５号、同第５１７１０４号、同第５７０
８３８号、同第７９６８５１号、同第７７５６９８号及
び同第８７８４６９号に開示されているもの、ベンゾフ
ェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、β，β’−
ジフェニルアクリラート誘導体、上記のもの以外のベン
ゾイミダゾール誘導体、ｐ−アミノ安息香酸誘導体、又
は遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン、例えば国際公開９
３／０４６６５号に開示されているものから選択され
る。
は、上述した２つの遮蔽剤以外にも、ＵＶ−Ａ及び／又
はＵＶ−Ｂ領域に対して活性のある、一又は複数の付加
的な親水性又は親油性のサンスクリーン剤（吸収剤）を
含有してもよい。これらの付加的な遮蔽剤は、特に、ケ
イ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、
上記のもの以外のトリアジン誘導体、例えば欧州特許出
願第８６３１４５号、同第５１７１０４号、同第５７０
８３８号、同第７９６８５１号、同第７７５６９８号及
び同第８７８４６９号に開示されているもの、ベンゾフ
ェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、β，β’−
ジフェニルアクリラート誘導体、上記のもの以外のベン
ゾイミダゾール誘導体、ｐ−アミノ安息香酸誘導体、又
は遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン、例えば国際公開９
３／０４６６５号に開示されているものから選択され
る。
【００３０】ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ領域に活性の
ある付加的なサンスクリーン剤の例としては：ｐ−アミ
ノ安息香酸、オキシエチレン化（２５モル）ｐ−アミノ
ベンゾアート、２−エチルヘキシル−ｐ−ジメチルアミ
ノベンゾアート、Ｎ−オキシプロピレン化ｐ−アミノ安
息香酸エチル、グリセロール−ｐ−アミノベンゾアー
ト、ホモメンチルサリチラート、２−エチルヘキシルサ
リチラート、トリエタノールアミンサリチラート、４−
イソプロピルベンジルサリチラート、４−ｔｅｒｔ−ブ
チル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、４−イソプ
ロピルジベンゾイルメタン、２−エチルヘキシル−４−
メトキシシンナマート、ジイソプロピルケイ皮酸メチ
ル、４−メトキシケイ皮酸イソアミル、４−メトキシケ
イ皮酸ジエタノールアミン、アントラニル酸メンチル、
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニル
アクリラート、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリ
ル酸エチル、２−フェニルベンゾイミダゾール−５−ス
ルホン酸及びその塩類、３−（４’−トリメチルアンモ
ニオ）ベンジリデンボルナン−２−オン−メチルスルフ
ァート、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５
−スルホナート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（ｎ−オクトキ
シ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−
４’−メチルベンゾフェノン、α−（２−オキソボルン
−３−イリデン）トルエン−４−スルホン酸及びその塩
類、３−（４’−スルホベンジリデン）ボルナン−２−
オン及びその塩類、３−（４’−メチルベンジリデン）
−ｄ，ｌ−ショウノウ、３−ベンジリデン−ｄ，ｌ−シ
ョウノウ、ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１
０−ショウノウスルホン酸）及びその塩類、ウロカニン
酸、２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチルヘキシル
−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−
トリアジン、２−［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）ア
ニリノ］−４，６−ビス［ｐ−（２’−エチルヘキシル
−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−
トリアジン、Ｎ−［（２−及び４−）［（２−オキソボ
ロン−３−イリデン）メチル］ベンジル］アクリルアミ
ドのポリマー、ドロメトリゾールトリシロキサン（ＩＮ
ＣＩ名）、マロナート官能基を有するポリオルガノシロ
キサン類、を挙げることができる。
ある付加的なサンスクリーン剤の例としては：ｐ−アミ
ノ安息香酸、オキシエチレン化（２５モル）ｐ−アミノ
ベンゾアート、２−エチルヘキシル−ｐ−ジメチルアミ
ノベンゾアート、Ｎ−オキシプロピレン化ｐ−アミノ安
息香酸エチル、グリセロール−ｐ−アミノベンゾアー
ト、ホモメンチルサリチラート、２−エチルヘキシルサ
リチラート、トリエタノールアミンサリチラート、４−
イソプロピルベンジルサリチラート、４−ｔｅｒｔ−ブ
チル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、４−イソプ
ロピルジベンゾイルメタン、２−エチルヘキシル−４−
メトキシシンナマート、ジイソプロピルケイ皮酸メチ
ル、４−メトキシケイ皮酸イソアミル、４−メトキシケ
イ皮酸ジエタノールアミン、アントラニル酸メンチル、
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニル
アクリラート、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリ
ル酸エチル、２−フェニルベンゾイミダゾール−５−ス
ルホン酸及びその塩類、３−（４’−トリメチルアンモ
ニオ）ベンジリデンボルナン−２−オン−メチルスルフ
ァート、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５
−スルホナート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェ
ノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（ｎ−オクトキ
シ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−
４’−メチルベンゾフェノン、α−（２−オキソボルン
−３−イリデン）トルエン−４−スルホン酸及びその塩
類、３−（４’−スルホベンジリデン）ボルナン−２−
オン及びその塩類、３−（４’−メチルベンジリデン）
−ｄ，ｌ−ショウノウ、３−ベンジリデン−ｄ，ｌ−シ
ョウノウ、ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１
０−ショウノウスルホン酸）及びその塩類、ウロカニン
酸、２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチルヘキシル
−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−
トリアジン、２−［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）ア
ニリノ］−４，６−ビス［ｐ−（２’−エチルヘキシル
−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−
トリアジン、Ｎ−［（２−及び４−）［（２−オキソボ
ロン−３−イリデン）メチル］ベンジル］アクリルアミ
ドのポリマー、ドロメトリゾールトリシロキサン（ＩＮ
ＣＩ名）、マロナート官能基を有するポリオルガノシロ
キサン類、を挙げることができる。
【００３１】また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を
日焼けした状態にする、及び／又は褐色にするための薬
剤（自己サンタン剤）、例えばジヒドロキシアセトン
（ＤＨＡ）をさらに含有してもよい。
日焼けした状態にする、及び／又は褐色にするための薬
剤（自己サンタン剤）、例えばジヒドロキシアセトン
（ＤＨＡ）をさらに含有してもよい。
【００３２】さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又
は非被覆金属酸化物からなる顔料又はナノ顔料類（一次
粒子の平均粒径：一般的に、５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ま
しくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ）、例えば、それ自体ＵＶ光
保護剤としてよく知られている、酸化チタン（アモルフ
ァス、又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶）、酸
化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムの
ナノ顔料類をさらに含有してもよい。また、アルミナ及
び／又はステアリン酸アルミニウムは常套的なコーティ
ング剤である。このような被覆又は非被覆金属酸化物の
ナノ顔料類としては、特に、欧州特許公開第０５１８７
７２号及び欧州特許公開第０５１８７７３号に開示され
ているものがある。
は非被覆金属酸化物からなる顔料又はナノ顔料類（一次
粒子の平均粒径：一般的に、５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ま
しくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ）、例えば、それ自体ＵＶ光
保護剤としてよく知られている、酸化チタン（アモルフ
ァス、又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶）、酸
化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムの
ナノ顔料類をさらに含有してもよい。また、アルミナ及
び／又はステアリン酸アルミニウムは常套的なコーティ
ング剤である。このような被覆又は非被覆金属酸化物の
ナノ顔料類としては、特に、欧州特許公開第０５１８７
７２号及び欧州特許公開第０５１８７７３号に開示され
ているものがある。
【００３３】また、本発明の組成物は、特に、脂肪物
質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、
安定剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿
剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラ
ー、金属イオン封鎖剤、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、
染料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗日光組
成物の製造に通常使用されている任意の他の成分から選
択される従来からの化粧品用アジュバントをさらに含有
してもよい。
質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、
安定剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿
剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラ
ー、金属イオン封鎖剤、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、
染料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗日光組
成物の製造に通常使用されている任意の他の成分から選
択される従来からの化粧品用アジュバントをさらに含有
してもよい。
【００３４】脂肪物質類は、油又はロウ又はそれらの混
合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコー
ル及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、
植物性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、
流動パラフィン、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、
イソパラフィン類、ポリ−α−オレフィン類、又はフッ
化及び過フッ化油類から選択することができる。同様
に、ロウは、それ自体公知である動物性ロウ、化石ロ
ウ、植物性ロウ、鉱物性ロウ、又は合成ロウから選択す
ることができる。
合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコー
ル及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、
植物性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、
流動パラフィン、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、
イソパラフィン類、ポリ−α−オレフィン類、又はフッ
化及び過フッ化油類から選択することができる。同様
に、ロウは、それ自体公知である動物性ロウ、化石ロ
ウ、植物性ロウ、鉱物性ロウ、又は合成ロウから選択す
ることができる。
【００３５】有機溶媒としては低級アルコール類及びポ
リオール類を挙げることができる。増粘剤は、特に、架
橋したアクリル酸ホモポリマー、変性又は未変性のグア
ーガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化
グアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチル
セルロースから選択することができる。
リオール類を挙げることができる。増粘剤は、特に、架
橋したアクリル酸ホモポリマー、変性又は未変性のグア
ーガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化
グアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチル
セルロースから選択することができる。
【００３６】もちろん、当業者であれば、本発明の遮蔽
剤の３つの組合せに固有の有利な特性、特に日光保護レ
ベルが、考慮される添加において、全く又は実質的に悪
影響を受けないように留意して、これら任意の付加的な
化合物及び／又はそれらの量を選択するであろう。
剤の３つの組合せに固有の有利な特性、特に日光保護レ
ベルが、考慮される添加において、全く又は実質的に悪
影響を受けないように留意して、これら任意の付加的な
化合物及び／又はそれらの量を選択するであろう。
【００３７】本発明の組成物は、当業者によく知られた
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製を意図した技術により調製することができる。
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製を意図した技術により調製することができる。
【００３８】この組成物は、特に単一又は複合エマルシ
ョン（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）、
例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム−ゲル、パ
ウダー又はチューブ状固体の形態で提供することもで
き、エアゾールとして包装されてもよく、またフォーム
又はスプレーの形態で提供することもできる。
ョン（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）、
例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム−ゲル、パ
ウダー又はチューブ状固体の形態で提供することもで
き、エアゾールとして包装されてもよく、またフォーム
又はスプレーの形態で提供することもできる。
【００３９】エマルションの場合、エマルションの水相
は、公知の方法［バングハム（Ｂａｎｇｈａｍ）、スタ
ンディッシュ（Ｓｔａｎｄｉｓｈ）及びワトキンス（Ｗ
ａｔｋｉｎｓ）の、Ｊ．Ｍｏｌ．Ｂｉｏｌ．，１３，２
３８（１９６５）、仏国特許第２３１５９９１号及び仏
国特許第２４１６００８号］により調製される非イオン
性の小胞体分散液を含有してもよい。
は、公知の方法［バングハム（Ｂａｎｇｈａｍ）、スタ
ンディッシュ（Ｓｔａｎｄｉｓｈ）及びワトキンス（Ｗ
ａｔｋｉｎｓ）の、Ｊ．Ｍｏｌ．Ｂｉｏｌ．，１３，２
３８（１９６５）、仏国特許第２３１５９９１号及び仏
国特許第２４１６００８号］により調製される非イオン
性の小胞体分散液を含有してもよい。
【００４０】本発明の化粧品用組成物は、抗日光組成物
又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表
皮又は毛髪を保護するための組成物として使用すること
ができる。
又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表
皮又は毛髪を保護するための組成物として使用すること
ができる。
【００４１】本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒ
トの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として
使用される場合、それは、脂肪物質又は溶媒に分散又は
懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又は
エマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、パウダー、チューブ状固体、棒状体、エアゾ
ールフォーム又はスプレーの形態で提供することができ
る。
トの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として
使用される場合、それは、脂肪物質又は溶媒に分散又は
懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又は
エマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、パウダー、チューブ状固体、棒状体、エアゾ
ールフォーム又はスプレーの形態で提供することができ
る。
【００４２】本発明の化粧品用組成物が、毛髪の保護用
に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、
ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形
態として提供することができ、また、例えばシャンプー
の前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウ
エーブ又は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適
用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリート
メント用のローションもしくはスタイリング又はトリー
トメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のロ
ーション又はゲル、パーマネントウエーブ又は毛髪のス
トレート化、染色又は脱色用の組成物を構成することも
できる。
に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、
ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形
態として提供することができ、また、例えばシャンプー
の前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウ
エーブ又は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適
用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリート
メント用のローションもしくはスタイリング又はトリー
トメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のロ
ーション又はゲル、パーマネントウエーブ又は毛髪のス
トレート化、染色又は脱色用の組成物を構成することも
できる。
【００４３】組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚のメーク
アップ用製品、例えば、表皮のトリートメントクリー
ム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャド
ウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとし
て使用される場合、それは、無水又は水性、固体状又は
ペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエ
マルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とし
て提供することができる。
アップ用製品、例えば、表皮のトリートメントクリー
ム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャド
ウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとし
て使用される場合、それは、無水又は水性、固体状又は
ペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエ
マルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とし
て提供することができる。
【００４４】目安を示すと、水中油型エマルション型の
ビヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相
（特に親水性の遮蔽剤を含有する）は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相（特に親油性の遮蔽剤を含有する）は、全
組成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０
重量％、（共）乳化剤（類）は、全組成物に対して０．
５〜２０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
ビヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相
（特に親水性の遮蔽剤を含有する）は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相（特に親油性の遮蔽剤を含有する）は、全
組成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０
重量％、（共）乳化剤（類）は、全組成物に対して０．
５〜２０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
【００４５】本明細書の最初に示したように、本発明の
他の主題事項は、上述した化粧品用組成物の有効量を皮
膚又は毛髪に適用することからなる、紫外線の影響から
それらを保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処
理方法にある。
他の主題事項は、上述した化粧品用組成物の有効量を皮
膚又は毛髪に適用することからなる、紫外線の影響から
それらを保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処
理方法にある。
【００４６】
【実施例】次に本発明の実施例を例証するが、これらは
本発明の範囲を限定するものではない。 実施例１ 組成 セテアリールアルコールとオキシエチレン化 （３３ＥＯ）されたセテアリールアルコールの ８０／２０の混合物 ［シンノワックス（Ｓｉｎｎｏｗａｘ）ＡＯ、ヘンケル社 （Ｈｅｎｋｅｌ）］ ７ｇ グリセロールモノ−及びジステアラートの混合 物 ［セラシント（Ｃｅｒａｓｙｎｔ）ＳＤ−Ｖ、ＩＳＰ社］ ２ｇ セチルアルコール １．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ）２００フルイド、 ダウ・コーニング社］ １ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート ［ウィトコノール（Ｗｉｔｃｏｎｏｌ）ＴＮ、ウィトコ（Ｗ ｉｔｃｏ）社］ １５ｇ ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）− ２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフ ェニル）−１，３，５−トリアジン ２ｇ グリセロール １５ｇ １，４−ビス（ベンゾイミダゾリル）フェニレン −３，３’，５，５’−テトラスルホン酸 ２ｇ トリエタノールアミン ｐＨを７にする量 防腐剤 適量 脱塩水 全体を１００ｇにする量
本発明の範囲を限定するものではない。 実施例１ 組成 セテアリールアルコールとオキシエチレン化 （３３ＥＯ）されたセテアリールアルコールの ８０／２０の混合物 ［シンノワックス（Ｓｉｎｎｏｗａｘ）ＡＯ、ヘンケル社 （Ｈｅｎｋｅｌ）］ ７ｇ グリセロールモノ−及びジステアラートの混合 物 ［セラシント（Ｃｅｒａｓｙｎｔ）ＳＤ−Ｖ、ＩＳＰ社］ ２ｇ セチルアルコール １．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ）２００フルイド、 ダウ・コーニング社］ １ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート ［ウィトコノール（Ｗｉｔｃｏｎｏｌ）ＴＮ、ウィトコ（Ｗ ｉｔｃｏ）社］ １５ｇ ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）− ２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフ ェニル）−１，３，５−トリアジン ２ｇ グリセロール １５ｇ １，４−ビス（ベンゾイミダゾリル）フェニレン −３，３’，５，５’−テトラスルホン酸 ２ｇ トリエタノールアミン ｐＨを７にする量 防腐剤 適量 脱塩水 全体を１００ｇにする量
【００４７】 実施例２ 組成 グリセロール−モノ／ジステアラート／ポリエ チレングリコール（１００ＥＯ）ステアラート混合物 ［アルラセル（Ａｒｌａｃｅｌ）１６５ＦＬ、ＩＣＩ社］ ２ｇ ステアリルアルコール ［ラネット（Ｌａｎｅｔｔｅ）１８、ヘンケル社］ １ｇ パーム油ステアリン酸 ［ステアリン（Ｓｔｅａｒｉｎｅ）ＴＰ、ステアリネリー ・デュボア社（Ｓｔｅａｒｉｎｅｒｉｅ Ｄｕｂｏｉｓ）］ ２．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング２００フルイド、ダウ・コーニ ング社］ ０．５ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート ［ウィトコノールＴＮ、ウィトコ社］ ２０ｇ トリエタノールアミン ０．５ｇ ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキシ） シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリ アジン ２．５ｇ グリセロール ５ｇ ヘキサデシルホスファート、カリウム塩 ［アンフィソール（Ａｍｐｈｉｓｏｌ）Ｋ、ホフマン−ラ ロシュ社（Ｈｏｆｆｍａｎ−Ｌａｒｏｓｈｅ）］ １ｇ ポリアクリル酸 ［シンタレン（Ｓｙｎｔｈａｌｅｎ）Ｋ、３Ｖ社］ ０．３ｇ ヒドロキシプロピルメチルセルロース ［メトセル（Ｍｅｔｈｏｃｅｌ）Ｆ４Ｍ、ダウ・ケミカル社 （Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）］ ０．１ｇ １，４−ビス（ベンゾイミダゾリル）フェニレン −３，３’，５，５’−テトラスルホン酸 １．５ｇ トリエタノールアミン ｐＨを７にする量 防腐剤 適量 脱塩水 全体を１００ｇにする量
【００４８】 実施例３ 組成 セテアリールアルコールとオキシエチレン化 （３３ＥＯ）されたセテアリールアルコールの ８０／２０の混合物 ［シンノワックス（Ｓｉｎｎｏｗａｘ）ＡＯ、ヘンケル社 （Ｈｅｎｋｅｌ）］ ７ｇ グリセロールモノ−及びジステアラートの混合 物 ［セラシント（Ｃｅｒａｓｙｎｔ）ＳＤ−Ｖ、ＩＳＰ社］ ２ｇ セチルアルコール １．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ）２００フルイド、 ダウ・コーニング社］ １ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート ［ウィトコノール（Ｗｉｔｃｏｎｏｌ）ＴＮ、ウィトコ社 （Ｗｉｔｃｏ）］ １５ｇ ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，５’，５’， ５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−メチルプ ロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６− （４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン ２ｇ グリセロール １５ｇ １，４−ビス（ベンゾイミダゾリル）フェニレン −３，３’，５，５’−テトラスルホン酸 １．５ｇ トリエタノールアミン ｐＨを７にする量 防腐剤 適量 脱塩水 全体を１００ｇにする量
Claims (28)
- 【請求項１】 化粧品として許容可能なビヒクル中に： （ａ）第１の遮蔽剤として、少なくとも１つのビスレゾ
ルシニルトリアジン誘導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤とし
て、１分子当たり少なくとも２つのベンゾアゾリル基を
有する化合物、及び／又は１分子当たり少なくとも１つ
のベンゾジアゾリル基を有する化合物の少なくとも１つ
と、を含有し、該第１及び第２の遮蔽剤が、日光保護フ
ァクターに関し、相乗活性が生じる割合で存在している
ことを特徴とする、特に皮膚及び／又は毛髪の光保護の
ための、局所的に使用される化粧品用組成物。 - 【請求項２】 ビスレゾルシニルトリアジン誘導体が、
次の式： 【化１】 ［上式中、 （ｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、Ｃ３−Ｃ１８アルキル基、Ｃ２−Ｃ１８アルケニル
基又は式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＴ１（こ
こで、Ｔ１は水素原子かＣ１−Ｃ８アルキル基である）
の残基を示し； （ｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、次の式（１）： 【化２】 ｛上式中、 − ｍ１は１〜３の数であり； − Ｒ３は、ヒドロキシル基；一又は複数のヒドロキシ
ル基で置換されるか非置換のＣ１−Ｃ５アルキル基；Ｃ
１−Ｃ５アルコキシ基；アミノ基；モノ−もしくはジ
（Ｃ１−Ｃ５）アルキルアミノ基；金属カチオンＭ；あ
るいは次の式（２）〜（７）： 【化３】 （上式中、 − Ｒ４、Ｒ５及びＲ６基は、同一でも異なっていても
よく、一又は複数のヒドロキシル基で置換されるか非置
換のＣ１−Ｃ１４アルキル基を表し；ｍ３は２〜１４の
数を表し； − Ｒ７は、水素原子、金属カチオンＭ、Ｃ１−Ｃ５ア
ルキル基又は式−（ＣＨ２）ｍ２−ＯＴ１（ここで、ｍ
２は１〜４の数でＴ１は上述と同じ意味を有する）の残
基を表す）の一つから選ばれる残基を示す｝ （ｉｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていても
よく、次の式（８）： 【化４】 （上式中、 − Ｒ８は、共有結合、直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ４
アルキル基又は式−Ｃｍ４Ｈ２ｍ４−もしくは−Ｃｍ４
Ｈ２ｍ４−Ｏ−（ここで、ｍ４は１〜４の数である）の
残基を表し； − Ｐ１は０〜５の数であり； − Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１基は、同一でも異なってい
てもよく、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基、Ｃ１−Ｃ１８アル
コキシ基又は次の式： 【化５】 （上式中、Ｒ１２はＣ１−Ｃ５アルキル基である）の残
基を示す）の残基を示すことができ； − Ａ１は、次の式： 【化６】 ［上式中、 − Ｒ７は上述のものと同じ意味を有し； − Ｒ１３は水素原子、Ｃ１−Ｃ１０アルキル基、式−
（ＣＨ２ＣＨＲ１６−Ｏ）ｎ１Ｒ７（ここでｎ１は１〜
１６の数であり、Ｒ１６は水素又はメチルか、Ｔ１が上
記と同じ意味を有する−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２
ＯＴ１の構造の残基である）の基を示し； − Ｑ１はＣ１−Ｃ１８アルキル基であり； − Ｒ１４は次の式（１）： 【化７】 に相当する基である］の１つに対応する残基を示す］に
相当する請求項１に記載の組成物。 - 【請求項３】式（Ｉ）の化合物が、 （１）Ａ１基がパラ−メトキシフェニル又はパラ−エト
キシフェニルを示し、Ｒ１及びＲ２基が、同一でも異な
っていてもよく、次の構造： 【化８】 ｛上式中、構造Ｒ３は、 − ｔｅｒｔ−ブチルオキシ； − ＯＨ； − ＯＭ（ここで、Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土類
金属カチオン又は銅、マグネシウム又は亜鉛から選択さ
れるカチオンである）； − 次の構造： 【化９】 の基； − 構造Ｏ−Ｎ＋（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）３の基； − 次の構造： 【化１０】 （ここで、ｎは２〜１６まで変わりうる）の基； − 次の構造： 【化１１】 の基； − 次の構造： 【化１２】 の基から選択される｝を持つ基を表すもの； （２）Ａ１基がパラ−ヒドロキシフェニルを示し、Ｒ１
及びＲ２基が同時に次の構造： 【化１３】 の基を表す式（Ｉ）に相当するビスレゾルシニルトリア
ジン化合物；から選択されることを特徴とする請求項２
に記載の組成物。 - 【請求項４】 式（Ｉ）の化合物が、 − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン；− ２，４−
ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキシ）−２−ヒド
ロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−［４−（２−
メトキシエチルオキシカルボニル）フェニルアミノ］−
１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２”−メチルプロペニルオ
キシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メト
キシフェニル）−１，３，５−トリアジン；− ２，４
−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，５’，
５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−メチル
プロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−
（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキ
シ］フェニル｝−６−［４−（エトキシカルボニル）フ
ェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（１−メチル
ピロール−２−イル）−１，３，５−トリアジン；から
選択されることを特徴とする請求項２に記載の組成物。 - 【請求項５】 式（Ｉ）の化合物が、 − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン；− ２，４−
ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキシ）シリルプ
ロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−
（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，
５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−
メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン；からなる群から選択されることを特徴とする請求
項４に記載の組成物。 - 【請求項６】 ビスレゾルシニルトリアジン誘導体の濃
度が組成物の全重量に対して０．１〜１５重量％である
ことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記
載の組成物。 - 【請求項７】 前記濃度が組成物の全重量に対して０．
２〜１０重量％であることを特徴とする請求項６に記載
の組成物。 - 【請求項８】 少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有
する化合物が、次の一般式（ＩＩ）： 【化１４】 ［上式中： − Ｚ’は、角括弧内に記載された少なくとも２つのベ
ンゾアゾリル基の二重結合系を完結させ、完全に共役し
た単位を形成するように位置せしめられた一又は複数の
二重結合を有する（ｐ２＋ｎ２）価の有機残基を表し； − Ｘ’はＳ、Ｏ又はＮＲ６を示し； − Ｒ１は、水素、Ｃ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ４
アルコキシ、Ｃ５−Ｃ１５アリール、Ｃ２−Ｃ１８アシ
ルオキシ、ＳＯ３Ｙ’又はＣＯＯＹ’を示し； − Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５基は同一でも異なってい
てもよく、ニトロ基を示すか、又はＲ１と同一の意味を
有し； − Ｒ６は水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はＣ１−Ｃ４ヒ
ドロキシアルキルを示し； − Ｙ’は水素、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ４、１／２Ｃ
ａ、１／２Ｍｇ、１／３Ａ１又は窒素性有機塩基により
遊離の酸基を中和した結果得られるカチオンを示し； − ｍ５は０又は１であり； − ｎ２は２〜６の数であり； − ｐ２は１〜４の数であり； − 但し、ｐ２＋ｎ２は６を越えない］に相当するもの
であることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１
項に記載の組成物。 - 【請求項９】 Ｚ’基が： （ａ）Ｃ５−Ｃ１２アリール基又はＣ４−Ｃ１０ヘテロ
アリールが挿入され得る不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２−
Ｃ６炭化水素性基； （ｂ）不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２−Ｃ６炭化水素性基
が挿入され得るＣ５−Ｃ１５アリール基； （ｃ）Ｃ３−Ｃ１０ヘテロアリール残基；から選択さ
れ、 該Ｚ’基が、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキ
シ、フェノキシ、ヒドロキシル、メチレンジオキシ又は
アミノ基で置換可能で、アミノ基が一又は二のＣ１−Ｃ
５アルキル基で置換されていてもよいものであることを
特徴とする請求項８に記載の組成物。 - 【請求項１０】 Ｚ’基が次の基： −ＣＨ＝ＣＨ−、 −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、 次の式： 【化１５】 ［上式中、Ｒ６は請求項８に記載したものと同一の意味
を有する］からなる群から選択されることを特徴とする
請求項８又は９に記載の組成物。 - 【請求項１１】 式（ＩＩ）の化合物が次の化合物： 【化１６】 又はその塩類から選択されることを特徴とする請求項８
ないし１０のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項１２】 式（ＩＩ）の化合物が、次の構造： 【化１７】 を有するフェニレン−１，４−ビスベンゾイミダゾール
−３，３’，５，５’−テトラスルホン酸又はその塩類
の１つであることを特徴とする請求項８ないし１１のい
ずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項１３】 少なくとも２つのベンゾアゾリル基を
有する化合物が、次の化合物： 【化１８】 又はその塩類から選択されることを特徴とする請求項１
ないし７のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項１４】 少なくとも１つのベンゾジアゾリル基
を有する化合物が次の化合物： 【化１９】 又はその塩類から選択されることを特徴とする請求項１
ないし７のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項１５】 ベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル
基を有する化合物又は化合物類が、組成物の全重量に対
して０．１〜１５重量％の濃度で存在していることを特
徴とする請求項１ないし１４のいずれか１項に記載の組
成物。 - 【請求項１６】 該濃度が、組成物の全重量に対して
０．２〜１０重量％であることを特徴とする請求項１５
に記載の組成物。 - 【請求項１７】 前記化粧品として許容可能なビヒクル
が、水中油型エマルションの形態で提供されることを特
徴とする請求項１ないし１６のいずれか１項に記載の組
成物。 - 【請求項１８】 前記第１及び第２の遮蔽剤以外の、Ｕ
Ｖ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ領域に活性のある一又は複数
の付加的な親水性又は親油性の有機遮蔽剤をさらに含有
していることを特徴とする請求項１ないし１７のいずれ
か１項に記載の組成物。 - 【請求項１９】 前記付加的な有機遮蔽剤が、ケイ皮酸
誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、トリア
ジン誘導体、請求項１ないし１８のいずれか１項に記載
の組成物に記載されたもの以外のベンゾイミダゾール誘
導体、ベンゾフェノン誘導体類、ジベンゾイルメタン誘
導体、β，β’−ジフェニルアクリラート誘導体、ｐ−
アミノ安息香酸誘導体、又は遮蔽ポリマー及び遮蔽シリ
コーンから選択されることを特徴とする請求項１８に記
載の組成物。 - 【請求項２０】 付加的なＵＶ光保護剤として、被覆又
は非被覆金属酸化物により形成される顔料又はナノ顔料
をさらに含有することを特徴とする請求項１ないし１９
のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項２１】 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非
被覆酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム
又は酸化セリウム、及びそれらの混合物から選択される
ことを特徴とする請求項２０に記載の組成物。 - 【請求項２２】 皮膚を人工的にサンタン状態にする、
及び／又は褐色にする少なくとも１つの薬剤をさらに含
有していることを特徴とする請求項１ないし２１のいず
れか１項に記載の組成物。 - 【請求項２３】 脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟
剤、酸化防止剤、乳白剤、安定化剤、エモリエント、ヒ
ドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐
剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマ
ー類、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、又は染料から選択
される少なくとも１つのアジュバントをさらに含有して
いることを特徴とする請求項１ないし２２のいずれか１
項に記載の組成物。 - 【請求項２４】 ヒトの表皮の保護用組成物又は抗日光
組成物であって、非イオン性の小胞体分散液、水中油型
エマルション等のエマルション、クリーム、ミルク、ゲ
ル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、チュー
ブ状固体、フォーム又はスプレーの形態で提供されるも
のであることを特徴とする請求項１ないし２３のいずれ
か１項に記載の組成物。 - 【請求項２５】 分散液、懸濁液又はエマルションのペ
ースト状又は固体状、水性又は無水の形態で提供され、
睫毛、眉毛又は皮膚のメークアップ用組成物であること
を特徴とする請求項１ないし２４のいずれか１項に記載
の組成物。 - 【請求項２６】 紫外線からの毛髪の保護を意図した組
成物において、該組成物がシャンプー、ローション、ゲ
ル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態
で提供されるものであることを特徴とする請求項１ない
し２４のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項２７】 太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又
は毛髪を保護することを意図した化粧品用組成物の製造
における、請求項１ないし２４のいずれか１項に記載の
組成物の使用。 - 【請求項２８】 請求項１ないし２６のいずれか１項に
記載の組成物を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用する
ことからなることを特徴とする、太陽光線等の紫外線か
ら皮膚及び／又は毛髪を保護するための美容処理方法。
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