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JP2000269297A - 処理ユニット構築体 - Google Patents

処理ユニット構築体

Info

Publication number
JP2000269297A
JP2000269297A JP11069392A JP6939299A JP2000269297A JP 2000269297 A JP2000269297 A JP 2000269297A JP 11069392 A JP11069392 A JP 11069392A JP 6939299 A JP6939299 A JP 6939299A JP 2000269297 A JP2000269297 A JP 2000269297A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
unit
processing unit
utility
processing units
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11069392A
Other languages
English (en)
Inventor
Taiichiro Aoki
泰一郎 青木
Akihiko Nakamura
彰彦 中村
Kazumasa Teramoto
和真 寺本
Shigeru Kawada
茂 河田
Yasushi Sato
裕史 佐藤
Yasuyuki Sato
泰之 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Tatsumo KK
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Tatsumo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd, Tatsumo KK filed Critical Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority to JP11069392A priority Critical patent/JP2000269297A/ja
Publication of JP2000269297A publication Critical patent/JP2000269297A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の処理ユニットを連設した処理ユニット
構築体のメンテナンスを処理ユニットをスライドさせず
に行う。 【解決手段】 ユーティリティーユニット3は全体が処
理ブロックと同一の直方体をなすようにフレーム31に
て囲まれ、下部は重量物である電源ボックス32や配
管、配線用の空間とし、中段には隣接する処理ブロック
との間で半導体ウェーハ等の被処理物の受け渡しを行う
搬送ユニット33を配置し、更に搬送ユニット33の上
方には、薬液瓶や交換用の部品等を載置しておく棚34
を設け、メンテナンスの際には、処理ユニット2,2間
のスペースにユーティリティーユニット3を配置してい
ない側から作業員が入るようにしている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体ウェーハやガ
ラス基板等に一連の処理を施す処理ユニットが集合した
処理ユニット構築体に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェーハに集積回路を形成した
り、ガラス基板にTFT等の素子を形成するには、多く
の工程を必要とする。例えば、基板表面にエキシマレジ
スト膜を形成する工程の一例を挙げると、デハイドレー
ションベーク、BARC(ボトム・アンチ・リフレクシ
ョン・コーティング)塗布、ベーク、レジスト前処理、
レジスト塗布、プリベーク、露光、露光後ベーク(PE
B)、現像及びポストベークの工程を経るようにしてい
る。
【0003】従来にあっては、上記の如き工程を連続し
て行うため、各工程を行う装置を水平方向に離間してラ
イン状に工程順に配置している。このため、占有面積が
大きくなり、また工程の省略、追加が困難である。
【0004】そこで、本出願人は特開平10−1269
3号を提案している。提案の内容は、図7に示すよう
に、一対の処理ブロック101と、これら一対の処理ブ
ロック101の間に配置される移し換えロボット102
とから処理ユニット100を構成し、この処理ユニット
100を複数連設して処理装置を構成するというもので
ある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述した処理装置によ
れば、従来に比べ省スペースが図れ、また工程の削除及
び追加に対応しやすい。しかしながら、上述した処理装
置にあっては、配管、配線、電源ボックス等の配置スペ
ースがなく、また、奥まった位置にある移し換えロボッ
トは、外部から観察することができないので、故障に対
し迅速に対処できない。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明に係る処理ユニット構築体は、複数の処理ユニット
と処理ユニット間での板状被処理物の受け渡しを行う搬
送ユニットとユーティリティーユニットから構成され、
前記処理ユニットは複数の処理装置を上下方向に段積み
した一対の処理ブロックの間に移し換え装置を配置して
なり、また前記搬送ユニットと前記ユーティリティーユ
ニットは前記処理ユニットの間に配置された構成とし
た。
【0007】前記ユーティリティーユニットの配置箇所
としては、処理ユニット間の空間の一方に寄った位置ま
たは処理ユニット間の空間の全体を埋める位置が考えら
れ、前者の場合のユーティリティーユニットの寸法はほ
ぼ1つの処理ブロックに等しくし、後者の場合のユーテ
ィリティーユニットの寸法はほぼ1つの処理ユニットに
等しくする。
【0008】このような構成とすることで、ユーティリ
ティーユニットに配管、配線、電源ボックスや薬液瓶等
を収めることが可能になり、補助的な部品の配置スペー
スを確保することができる。また、本発明に係る処理ユ
ニット構築体は、前記した処理ユニットを連設して構成
され、各処理ユニットは処理ユニット構築体に対して増
減が可能となるように互いに独立している。
【0009】尚、処理ユニット間及び処理ユニットと移
し換え装置間での被処理物の受け渡しを行う搬送ユニッ
トについては、例えば各処理ユニットの最上部、中段
部、最下部等に組み込むことが考えられる。このような
構成とすることで、複数のユニットを連設しやすくな
る。特に、中段部に組み込むことで、処理ユニット構築
体に対するインターフェイスブロックとの受け渡しが効
率よく行える。また、一対の処理ブロック間に配置され
る移し換え装置間内で直接被処理物を受け渡しすること
も考えられる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。ここで、図1は本発明に係る
処理ユニット構築体の全体斜視図、図2は同処理ユニッ
ト構築体の上面図、図3は同処理ユニット構築体の要部
の斜視図である。
【0009】処理ユニット構築体1は全体の形状を直方
体とし、この直方体の中に複数の処理ユニット2(図示
例では4台であるがこれに限定されない)を間隔を開け
て配置し、これら処理ユニット2間の空間で一方に寄っ
た位置にユーティリティーユニット3を配置している。
【0010】処理ユニット2は一対の処理ブロック4,
5とこれら処理ブロック4,5間に配置される移し換え
ロボット(R)から構成され、一対の処理ブロック4,
5は全体形状が同一で、前記ユーティリティーユニット
3の縦、横、高さ寸法も1つの処理ブロックとほぼ等し
くなっている。
【0011】前記処理ブロック4,5は複数の処理装置
4-1〜4-n,5-1〜5-nを上下方向に積み重ねて構成さ
れ、各処理装置は縦寸法と横寸法が同一で、段積み重ね
た場合に1つの直方体を構成する。
【0012】具体的には、処理ブロックは例えば、回転
カップ式塗布装置(RC)、オープンカップ式塗布装置
(SC)、減圧乾燥器(VD)、クールプレート(C
P)、ホットプレート(HP)、裏面洗浄装置(B
R)、アドヒージョン塗布装置(AD)、紫外線照射装
置(UV)、エアプロセッサー(AP)、現像装置(D
EV)、露光後ベーク装置(PB)等の処理装置を段積
み重ねて構成される。
【0013】また、処理ブロック4,5間に配置された
ロボット(R)は、各処理ブロックの処理装置の位置で
停止可能な昇降体10を備え、この昇降体10には前記
各段の処理装置に対し板状被処理物を出し入れするた
め、或いは隣接するロボットに対し被処理物の受け渡し
をするために水平面内で旋回或いは伸縮可能とされたア
ームを設けている。
【0014】一方、ユーティリティーユニット3は全体
が処理ブロックと同一の直方体をなすようにフレーム3
1にて囲まれ、下部は重量物である電源ボックス32や
配管、配線用の空間とし、中段には隣接する処理ブロッ
クとの間で半導体ウェーハ等の被処理物の受渡しを行う
搬送ユニット33を配置し、更に搬送ユニット33の上
方には、薬液瓶や交換用の部品等を載置しておく棚34
を設け、メンテナンスの際には、処理ユニット2,2間
のスペースSにユーティリティーユニット3を配置して
いない側から作業員が入るようにしている。尚、ユーテ
ィリティーユニット3を配置していない側にも搬送ユニ
ット33を配置しているので、作業員はこの搬送ユニッ
ト33をくぐるようにして処理ユニット2,2間のスペ
ースSに出入りできる。
【0015】以上の処理ユニット構築体1によって、半
導体ウェーハやガラス基板等の被処理体に所定の処理を
施すには、処理ユニット構築体1の一端部に配置した図
示しないインターフェイスユニットを介して被処理体を
1番目(例えば図1において左端)の処理ユニット2の
受取り位置に搬入する。すると、1番目の処理ユニット
2の移し換えロボットRが被処理体を把持して1番目の
処理ユニット2を構成する処理ブロック4,5の何れか
の処理装置4-1〜4-n,5-1〜5-nに被処理体を送り込
み所定の処理を行う。そして、特定の処理装置での処理
が終了したならば、移し換えロボットRにて処理後の被
処理体を受け取り、別の処理装置に送り込んで所定の処
理を行う。
【0016】以上の如くして1番目の処理ユニット2で
の処理が終了したならば、ユーティリティーユニット3
の搬送装置33或いは移し換えロボットRを介して、2
番目或いは3番目以降の処理ユニット2の所定の処理装
置4-1〜4-n,5-1〜5-nに被処理体を送り込み所定の
処理を行う。
【0017】図4乃至図6は別実施例に係る処理ユニッ
ト構築体を示し、このうち図4は同処理ユニット構築体
の全体斜視図、図5は同処理ユニット構築体の平面図、
図6はユーティリティーユニットの斜視図である。尚、
前記実施例と同一の部材については同一の符号を付し、
詳細な説明は省略する。
【0018】この実施例にあっては、ユーティリティー
ユニット3が処理ユニット2と同一の直方体をなすよう
にフレーム31にて囲まれ、下部には重量物である電源
ボックス32を収納し、上部の中央には隣接する処理ユ
ニット2との間で半導体ウェーハ等の被処理物の受け渡
しを行う搬送装置33を配置し、更に搬送装置33の左
右には、薬液瓶や交換用の部品等を載置しておく棚34
を設け、残りのスペースSを配管、配線用の空間とする
とともに、メンテナンスの際に作業員が入って作業する
ための空間にしている。
【0019】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
複数の処理ユニットとユーティリティーユニットから構
成される処理ユニット構築体において、前記ユーティリ
ティーユニットを前記処理ユニットの間に配置し、且つ
このユーティリティーユニットに隣接する処理ユニット
との間で被処理物の受け渡しを行う搬送ユニットを設け
たので、ユーティリティーユニットに配管、配線、電源
ボックスや薬液瓶等を収めることが可能になり、補助的
な部品の配置スペースを確保することができる。
【0020】また、本発明に係る処理ユニット構築体に
よれば、ユーティリティーユニットに、隣接する処理ユ
ニットのメンテナンスを行う際に作業員が入り込むため
のスペースを設けることができ、したがって、処理ユニ
ットをスライドさせなくとも処理ユニットのメンテナン
スを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る処理ユニット構築体の全体斜視図
【図2】同処理ユニット構築体の上面図
【図3】同処理ユニット構築体の要部の斜視図
【図4】別実施例に係る処理ユニット構築体の全体斜視
【図5】同処理ユニット構築体の平面図
【図6】ユーティリティーユニットの斜視図
【図7】従来の処理ユニット構築体の全体斜視図
【符号の説明】
1…処理ユニット構築体、2…処理ユニット、3…ユー
ティリティーユニット、4,5…処理ブロック、4-1〜
4-n,5-1〜5-n…処理装置、10…昇降体、11…ア
ーム、31…フレーム、32…電源ボックス、33…搬
送ユニット、34…棚、R…移し換え装置としてのロボ
ット、S…処理ユニット間のスペース。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 彰彦 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内 (72)発明者 寺本 和真 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内 (72)発明者 河田 茂 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内 (72)発明者 佐藤 裕史 岡山県井原市木之子町6186番地 タツモ株 式会社内 (72)発明者 佐藤 泰之 岡山県井原市木之子町6186番地 タツモ株 式会社内 Fターム(参考) 5F031 CA02 CA05 FA01 FA02 FA11 FA12 FA13 GA48 GA49 MA02 MA26 MA27 5F046 CD05 CD06 DA09 JA22 KA07 LA18

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウェーハやガラス基板等の板状被
    処理物に対し一連の処理を行う処理ユニット構築体であ
    って、この処理ユニット構築体は複数の処理ユニットと
    処理ユニット間での板状被処理物の受け渡しを行う搬送
    ユニットとユーティリティーユニットから構成され、前
    記処理ユニットは複数の処理装置を上下方向に段積みし
    た一対の処理ブロックの間に移し換え装置を配置してな
    り、また前記搬送ユニットと前記ユーティリティーユニ
    ットは前記処理ユニットの間に配置されていることを特
    徴とする処理ユニット構築体。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の処理ユニット構築体に
    おいて、前記ユーティリティーユニットは処理ユニット
    間の空間の一方に寄った位置に配置され、その寸法は、
    ほぼ1つの処理ブロックに等しいことを特徴とする処理
    ユニット構築体。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の処理ユニット構築体に
    おいて、前記ユーティリティーユニットは処理ユニット
    間の空間の全体を埋めるように配置され、その寸法は、
    ほぼ1つの処理ユニットに等しいことを特徴とする処理
    ユニット構築体。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載
    の処理ユニット構築体において、前記搬送ユニットは処
    理ユニットの中段に相当する高さ位置に配置されている
    ことを特徴とする処理ユニット構築体。
JP11069392A 1999-03-16 1999-03-16 処理ユニット構築体 Pending JP2000269297A (ja)

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