[go: up one dir, main page]

JP2000269035A - 平面磁気素子 - Google Patents

平面磁気素子

Info

Publication number
JP2000269035A
JP2000269035A JP11067806A JP6780699A JP2000269035A JP 2000269035 A JP2000269035 A JP 2000269035A JP 11067806 A JP11067806 A JP 11067806A JP 6780699 A JP6780699 A JP 6780699A JP 2000269035 A JP2000269035 A JP 2000269035A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coil
planar
magnetic
single spiral
inductance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11067806A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuo Inoue
哲夫 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP11067806A priority Critical patent/JP2000269035A/ja
Publication of JP2000269035A publication Critical patent/JP2000269035A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coils Or Transformers For Communication (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁性体の磁気飽和の影響を軽減できるととも
に直流重畳特性に優れた平面インダクタなどの平面磁気
素子を提供する。 【解決手段】 縦長のシングルスパイラルコイル13
1、132を長辺が平行になるように2つ並べたコイル
構造を有する平面型コイル13と、その平面型コイルの
上下を絶縁膜12、14を介して挟み込んだ1対の磁性
膜11、15とからなり、これら2つのシングルスパイ
ラルコイルの導体はコイル内を流れる電流の方向が互い
に逆になるように配置して平面磁気素子を構成する。こ
のコイルの磁化容易軸は長辺方向に形成されている。優
れた直流重畳特性と高いインダクタンス密度とを両立さ
せることができる。DC−DCコンバータやトランスな
どに用いられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁性受動素子に関
し、とくに平面型コイルを用いた平面磁気素子に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】近年、各種電子機器の小型化が盛んに進
められ、これに伴って各種デバイスが薄膜プロセスを用
いて作成されるようになった。この流れの中でインダク
タ、トランス、磁気ヘッドなどの磁気素子も従来のバル
ク磁性材料に巻線を施したものに対し、スパイラルやつ
づら折れパタ−ンを有する平面型コイルを磁性体で覆っ
た外鉄型の構造を有する平面インダクタが提案されてい
る(例えば、IEEETrans.,Magn.,MA
G−20,No.5,pp.1804−1806)。一
方、小型電子機器用のDC−DCコンバ−タの例に見ら
れるように、小型軽量化のためにMHz以上で動作させ
ようという要求が高まっている。この中で高周波インダ
クタは一つのキ−コンポ−ネントとなっているが、
(1)小型軽量であること、(2)周波数特性が良好で
あること、(3)適当な電力容量を有する等が要求され
ている。
【0003】
【発明が解決しようする課題】しかし、現状の高周波用
平面インダクタにおいては、周波数特性の改善に対して
改善が見られるものの、電力容量が小さいために要求さ
れた特性を満たしているとは言い難い。インダクタをチ
ョ−クコイルとして用いる場合、負荷電流に相当する直
流電流と半導体スイッチのスイッチングによる交流電流
とが流れる。チョ−クコイルには大きな直流電流が重畳
された場合でもインダクタンスなどの電気的特性が一定
であるという直流重畳特性を要求される。しかし、直流
重畳電流が増大した場合、磁性体の動作点がB−H曲線
の飽和領域に達すると増分透磁界率が低下するのでイン
ダクタンスは急激に小さくなる。とくに平面インダクタ
は、単位面積当たり大きなインダクタンスを得るために
コイル導体と磁性体とが非常に接近しており、小さなコ
イル電流でも発生磁界は大きくなり、その結果磁性体が
磁気飽和を起こし易い。図10を参照して従来のメッキ
Cuを導体とするダブルスパイラル平面型コイルとその
両面に設けられた絶縁体層とそれらの両面に設けられた
磁性体層とで構成された平面インダクタについて説明す
る(INTELEC 96 Proceedings
p485−490 (1996)参照)。平面インダク
タ5は、長方形の第1のシングルスパイラルコイル3と
第2のシングルスパイラルコイル4を組み合わせて構成
されている。
【0004】第1のシングルスパイラルコイル3は、コ
イル中心に電極パッド1を有し、この電極パッド1から
4本のメッキ銅導体が導出され、反時計回りに巻回さ
れ、隣接する第2のシングルスパイラルコイル4に繋が
っている。このメッキ銅導体は、第1のシングルスパイ
ラルコイル3から第2のシングルスパイラルコイル4へ
外側から時計回りに中心へ巻回されて、中心にある電極
パッド2に繋がっている。つまり、2つのコイルは、互
いに反対方向に巻回されている。このシングルスパイラ
ルコイルを構成する導体は、幅35μm、厚さ50μ
m、導体間の間隔50μm、巻数片側3ターン(中央部
で6ターン)であり、例えば、ポリイミド、フッ素樹脂
などの有機材料からなる絶縁体層は、膜厚5μmであ
り、例えば、異方性フェライトなどの磁性体は、膜厚6
μm(1.5μm、4層積層、積層磁性膜間絶縁膜厚
0.4μm)、飽和磁束密度1.6T、透磁率1143
(平滑な磁性膜での測定値)である。この平面インダク
タ5の直流重畳特性は、図11に示す通りである。図1
1は、縦軸がインダクタンスL(μH)を表わし、横軸
は、直流重畳電流Idc(A)を表わす。インダクタンス
が5%低下する時の直流電流値を使用時の最大電流Im
axとすると、この場合の最大電流Imaxは、0.3
Aとなる。これは磁性体が磁気飽和し、有効な透磁率が
低下したことが原因で決定される。
【0005】直流重畳特性の問題は、チョークコイル用
インダクタの場合に限らずトランスの場合でも重要であ
る。例えば、フォワード型又はフライバック型DC−D
Cコンバータ用トランスでは1次コイルに片極性のパル
ス電圧が印可されるので磁気飽和によるインダクタンス
の急激な低下が問題になる。また、プッシュブル型DC
−CDコンバータではトランスに印可される電圧は原理
的には正負対称であるがスイッチングトランジスタ特性
のバラツキなどにより正負のオン時間が変動してトラン
スが偏磁するためやはり磁気飽和によるインダクタンス
の急激な低下が問題となっている。このような、平面型
インダクタやトランスの磁性体の磁気飽和の影響を軽減
できれば直流重畳特性を改善できる。本発明は、このよ
うな事情によりなされたものであり、磁性体の磁気飽和
の影響を軽減できるとともに直流重畳特性に優れた平面
インダクタなどの平面磁気素子を提供する。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、縦長のシング
ルスパイラルコイルを長辺が平行になるように2つ並べ
たコイル構造を有する平面型コイルと、その平面型コイ
ルの上下を絶縁膜を介して挟み込んだ1対の磁性膜とか
らなり、これら2つのシングルスパイラルコイルの導体
はコイル内を流れる電流の方向が互いに逆になるように
配置した平面磁気素子を有し、さらにこのコイルの磁化
容易軸は長辺方向に形成されることを特徴としている。
優れた直流重畳特性と高いインダクタンス密度とを両立
させることができる。本発明の平面磁気素子は、DC−
DCコンバータやトランスなどに用いられる。
【0007】すなわち、本発明の平面磁気素子は、平面
型コイルと、前記平面型コイルの上下を絶縁膜を介して
挟む1対の磁性膜とを具備し、前記平面型コイルは、第
1及び第2の長方形のシングルスパイラルコイルをそれ
ぞれの長辺が対向するように並べ、且つ隣接する前記第
1のシングルスパイラルコイルの導体と前記第2のシン
グルスパイラルコイルの導体とはこれらを流れる電流の
方向が互いに逆になるように配置することを特徴として
いる。前記平面型コイルは、長辺方向に磁化容易軸が形
成されているようにしても良い。前記平面型コイル上に
前記絶縁膜を介して形成された前記磁性膜にはスリット
が形成され、このスリットは、前記第1及び第2のシン
グルスパイラルコイルの長辺方向に、それぞれの中心に
配置されているようにしても良い。前記第1及び第2の
シングルスパイラルコイルは、電極パッドを有し、この
平面型コイル上に積層された前記絶縁膜及び前記磁性膜
には、前記電極パッドを露出させる開口部が形成されて
いるようにしても良い。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して発明の実施
の形態を説明する。ここで本発明を説明する平面磁気素
子は、平面インダクタに関するものである。同じ平面磁
気素子の中でも平面トランスは、1次側コイル及び2次
側コイルの2つの平面型コイルを積層する以外は基本的
に平面インダクタと同じであり、本発明によって得られ
る効果も同じであるので説明を省略する。まず、図1乃
至図4を参照して第1の実施例を説明する。図1は、平
面インダクタの斜視図である。このインダクタは、角型
の平面型コイルの両表面を絶縁膜で挟み、こられ絶縁膜
をさらに磁性膜で挟み込み、上下の磁性膜には、一軸磁
気異方性が導入されている。
【0009】ガラス基板、セラミック基板、シリコンウ
ェーハなどからなる下地基板10の上には、例えば、N
i−Znフェライトなどからなる一軸磁気異方性の第1
のフェライト磁性膜11が形成されている。下地基板に
はジルコニウムや銅などの金属を用いることもできる
が、金属材料は磁性膜に拡散することがあるので表面を
酸化シリコンなどの拡散防止膜で被覆するのが良い。第
1のフェライト磁性膜11は、第1の絶縁膜12により
被覆されている。第1の絶縁膜12にはポリイミド、弗
素樹脂などの有機系絶縁材料やガラスを分散させたガラ
スペーストを焼成して得られる絶縁板やセラミック板な
どの無機系絶縁材料が用いられる。この絶縁膜12を介
して第1のフェライト磁性膜11の上には角型の平面型
コイル13が形成されている。平面型コイル13は、第
1及び第2の長方形のシングルスパイラルコイル13
1、132をそれぞれの長辺が対向するように並べ、且
つ隣接する第1のシングルスパイラルコイル131の導
体と前記第2のシングルスパイラルコイル132の導体
とがこれらを流れる電流の方向が互いに逆になるように
配置形成されている(以下、本発明の特徴であるこのよ
うな構成は、ツインスパイラルコイルと称する)。ツイ
ンスパイラルコイルと称するこの実施例の平面型コイル
13は、例えば、銅を材料として用いている。第1のシ
ングルスパイラルコイル131は、第1の電極パッド1
33を有し、第2のシングルスパイラルコイル132
は、第2の電極パッド134を備えている。
【0010】平面型コイル13は、第2の絶縁膜14に
より被覆されている。第2の絶縁膜14は、第1の絶縁
膜12と同じ材料でも良いし、材料を違えても良い。こ
の第2の絶縁膜14には開口部141が形成されてい
る。開口部141は、第2の絶縁膜14の下に形成され
ている電極パッド133、134を囲むように配置され
ている。第2の絶縁膜14の上には、例えば、Ni−Z
nフェライト、Mn−Znフェライト、Cu−Ni−Z
nフェライトなどからなる一軸磁気異方性の第2のフェ
ライト磁性膜15が形成されている。第2のフェライト
磁性膜15には開口部151が形成されている。開口部
151は、第2の絶縁膜14の開口部141と一致して
おり、内部に電極パッド133、134が露出してい
る。これらの開口部を介して電極パッドが外部の端子と
接続されている。第2のフェライト磁性膜15には、開
口部151を貫通するようにスリット152が形成され
ている。このスリット152は、第1及び第2のシング
ルスパイラルコイル131、132の長辺方向の中心に
重なっている。
【0011】図2は、図1に示す平面インダクタの平面
型コイル13にコイル電流を流したときのフェライト磁
性膜11上での発生磁界の方向を矢印で示している。平
面型コイル13を構成する第1のシングルスパイラルコ
イル131及び第2のシングルスパイラルコイル132
は、いずれも長方形であり縦長のシングルスパイラルコ
イルを長辺が平行になるように配置されたコイル構造を
有している。第1のシングルスパイラルコイル131
は、中心から反時計回りにコイルが巻回され、第2のシ
ングルスパイラルコイル132は、中心から時計回りに
巻回されている。したがって、電極パッド133、13
4間に電流を流すと、隣接する第1のシングルスパイラ
ルコイル131の導体と第2のシングルスパイラルコイ
ル132の導体とはこれらを流れる電流の方向が互いに
逆になっている。平面型コイル13は磁化容易軸が矢印
のように長辺方向にあり、磁化困難軸が短辺方向にあ
る。図2の平面型コイルにおいて、短辺に沿って形成さ
れた磁性膜11の領域Aでは矢印で示されるコイル電流
による発生磁界の方向と、一軸磁気異方性の容易軸方向
とが平行になる。一方領域A以外の領域である磁性膜1
1の領域Bではコイル電流による発生磁界の方向と、一
軸磁気異方性の容易軸方向とが垂直になっている。
【0012】図3は、一軸磁気異方性を有する磁性膜の
磁化容易軸方向と磁化困難軸方向のB−H曲線を示す特
性図である。磁化容易軸方向では透磁率が非常に高い反
面、飽和し易く、磁化困難軸方向では飽和し難い。した
がって、図2に示す領域Aは飽和し易いが、領域Bは飽
和し難い。図4は、本発明のツインスパイラルコイルの
磁化容易軸方向励磁(曲線A)と磁化困難軸励磁(曲線
B)を行ったときのそれぞれのインダクタンスの直流重
畳特性を示す特性図である。これはMHzより低い周波
数で励磁した時のものであり、さらに高周波で動作させ
る場合には、磁化容易軸方向励磁の場合のインダクタン
ス値は周波数とともに急激に減少する。従来のダブルス
パイラルコイル(図10参照)の磁化困難軸励磁を行っ
たときのインダクタンスの直流重畳特性は、曲線Cに示
すようにインダクタンス特性が良くても直流重畳特性が
低下する。本発明においては平面型コイルの構造を縦長
のシングルスパイラルコイルを2つ横にならべるツイン
スパイラルコイルもしくはツインコイルを用いているの
でインダクタンス密度と直流重畳特性の両方を良好にす
る。
【0013】次に、図5、図6、図8及び図9を参照し
て第2の実施例を説明する。図5は、本発明の平面型コ
イル(ツインスパイラルコイルもしくはツインコイル)
の平面図である。平面型コイル20は、各第1及び第2
の長方形のシングルスパイラルコイル21、22をそれ
ぞれの長辺が対向するように並べ、且つ隣接する第1の
シングルスパイラルコイル21の導体と第2のシングル
スパイラルコイル22の導体とがこれらを流れる電流の
方向が互いに逆になるように配置形成されている。これ
らシングルスパイラルコイル21、22は、それぞれ電
極パッド23、24を備えている。この平面型コイル2
0を構成する導体は、幅35μm、厚さ50μm、導体
間間隔50μm、巻数片側8ターン(中央部で16ター
ン)であり、平面型コイル20を挟む絶縁膜(図示せ
ず)は、膜厚5μm、絶縁膜を介して平面型コイル20
を挟む磁性膜(図示せず)は、膜厚6μm(1.5μ
m、4層積層、積層磁性膜間絶縁膜厚0.4μm)、飽
和磁束密度1.6T、透磁率850である。電極パッド
23、24は、幅455μmである。
【0014】この時の直流電流使用時の最大電流Ima
xは0.63Aであり、インダクタンスは幅4.05m
mのデバイス単位長さ当たり0.38μHであり、実デ
バイス単位面積当たりのインダクタンス密度は、0.0
94μH/mm2 である。同様に平面型コイル(ツイン
スパイラルコイル)20を用い、巻数を片側6ターン
(中央部で12ターン)としたときは、前記最大電流I
maxは0.87Aであり、インダクタンスは幅3.3
7mmのデバイス単位長さ当たり0.21μHであり、
実デバイス単位面積当たりのインダクタンス密度は0.
062μH/mm 2 である。さらに巻数を片側10ター
ン(中央部で20ターン)としたときは、前記最大電流
Imaxは0.55Aであり、インダクタンスは幅4.
73mmのデバイス単位長さ当たり0.59μHであ
り、実デバイス単位面積当たりのインダクタンス密度は
0.12μH/mm2 である。図6は、第2の実施例の
平面型コイルの特性値を示す特性図であり、横軸をイン
ダクタンス密度(μH/mm2 )、縦軸を直流電流使用
時の最大電流Imax(A)として表示する。この実施
例の特性曲線は、特性曲線Aで表わされる。
【0015】これに対し、図8に示す従来のダブルスパ
イラルコイルを用いた平面型コイルは、同様のコイル諸
元、絶縁膜厚、磁性膜磁気特性で得られる前記最大電流
Imaxは0.34Aであり、インダクタンスは幅4.
05mmのデバイス単位長さ当たり0.61μHであ
り、実デバイス単位面積当たりのインダクタンス密度は
0.15μH/mm2 である。この図8に示すダブルス
パイラルコイルの特性曲線は、特性曲線Bで表わされ
る。この様にダブルスパイラルコイルを用いた場合はイ
ンダクタンス密度は大きくなるが、最大電流Imaxは
小さくなる。同様にダブルスパイラルコイルを用い、巻
数を片側6ターン(中央部で12ターン)としたとき
は、最大電流Imaxは0.40Aであり、インダクタ
ンスは幅3.37mmのデバイス単位長さ当たり0.3
8μHであり、実デバイス単位面積当たりのインダクタ
ンス密度は0.11μH/mm2 である。さらに、巻数
を片側4ターン(中央部で8ターン)としたときは、最
大電流Imaxは0.54Aであり、インダクタンスは
幅2.69mmのデバイス単位長さ当たり0.19μH
であり、実デバイス単位面積当たりのインダクタンス密
度は0.07μH/mm2である。
【0016】図8の従来のダブルスパイラルコイルを用
いた平面型コイルは、平面型コイル5′は、各第1及び
第2の長方形のシングルスパイラルコイル3′、4′を
それぞれの長辺が対向するように並べ、且つ隣接する第
1のシングルスパイラルコイル3′の導体と第2のシン
グルスパイラルコイル4′の導体とがこれらを流れる電
流の方向が同じになるように配置形成されている。これ
らシングルスパイラルコイル3′、4′は、それぞれ電
極パッド1′、2′を備えている。一方、図9に示す従
来のシングルスパイラルコイルを用いた平面型コイル
5″は、同様のコイル諸元、絶縁膜厚、磁性膜磁気特性
で得られる直流電流使用時の最大電流Imaxが0.6
6Aであり、インダクタンスが幅2.59mmのデバイ
ス単位長さ当たり0.18μHであり、実デバイス単位
面積当たりのインダクタンス密度が0.070μH/m
2 である。同様にしてシングルスパイラルコイルを用
い、巻数を片側6ターン(中央部で12ターン)とした
平面型コイル5″は、前記最大電流Imaxが0.93
Aであり、インダクタンスが幅2.25mmのデバイス
単位長さ当たり0.28μHであり、実デバイス単位面
積当たりのインダクタンス密度が0.043μH/mm
2 である。
【0017】さらに、巻数を片側10ターン(中央部で
20ターン)とした平面型コイル5″は、前記最大電流
Imaxが0.52Aであり、インダクタンスが幅2.
93mmのデバイス単位長さ当たり0.28μHであ
り、実デバイス単位面積当たりのインダクタンス密度が
0.097μH/mm2 である。この特性曲線は、特性
線Cで表される。図9の従来のシングルスパイラルコイ
ルを用いた平面型コイル5″は、長方形のシングルスパ
イラルコイルから構成され、コイル導体の両端に電極パ
ッド1″、2″が設けられている。このように3種類の
コイル構造を比較すると、本発明のツインスパイラル構
造(特性線A)は、従来のダブルスパイラル構造(特性
線B)及びシングルスパイラル構造(特性線C)に比べ
て最大電流Imax、インダクタンス密度の両者を共に
大きくすることができる。
【0018】これは以下のように説明できる。ダブルス
パイラルコイルは、例えば、図12のような磁束密度分
布を示す。図12は、横軸に磁性膜の面内位置を表わ
し、縦軸に磁束密度を表わす。この磁束密度は、図1に
示す磁気素子の磁性膜のL−L′線に沿う部分の面内方
向成分のの磁束密度分布を示したものである。横軸は、
コイルの磁化困難軸方向と平行である磁性膜の左端
(L)及び右端(L′)を表わしている。ダブルスパイ
ラルコイルでは中央部のコイルは、第1及び第2のスパ
イラルコイルの電流方向が一致するので、磁束密度の絶
対値は大きくなる。これに対し、右側及び左側のコイル
近傍の磁束密度は、中央部のように大きくはならない。
このためインダクタンスはあまり大きくならないが直流
重畳特性は良くなる。これに対し、ツインスパイラルコ
イルは図13のような磁束密度分布を示す。図13は、
横軸に磁性膜の面内位置を表わし、縦軸に磁束密度を表
わす。この磁束密度は、図1に示す磁気素子の磁性膜の
L−L′線に沿う部分の面内方向成分のの磁束密度分布
を示したものである。横軸は、コイルの磁化困難軸方向
と平行である磁性膜の左端(L)及び右端(L′)を表
わしている。ツインスパイラルコイルでは中央部のコイ
ルも右側及び左側のコイルと同様の磁束密度分布(但
し、符号、方向は逆である)を示すので、インダクタン
スとともに直流重畳特性も良くなる。また、シングルス
パイラルコイルではパッドの数がツインスパイラルコイ
ルの場合の倍になるのでインダクタンス密度は小さくな
る。
【0019】次に、図6及び図7を参照して第3の実施
例を説明する。本発明の平面型コイルはツインスパイラ
ルコイルもしくはツインコイルから構成され、各第1及
び第2の長方形のシングルスパイラルコイルをそれぞれ
の長辺が対向するように並べ、且つ隣接する第1のシン
グルスパイラルコイルの導体と第2のシングルスパイラ
ルコイルの導体とがこれらを流れる電流の方向が互いに
逆になるように配置形成されている。これらシングルス
パイラルコイルは、それぞれ電極パッドを備えている。
平面型コイルを構成する導体は、幅90μm、厚さ60
μm、導体間間隔30μm、巻数片側8ターン(中央部
で16ターン)であり、メッキ銅から構成されている。
平面型コイルを挟む絶縁膜は、膜厚5μm、絶縁膜を介
して平面型コイルを挟む磁性膜は、膜厚6μm(1.5
μm、4層積層、積層磁性膜間絶縁膜厚0.4μm)、
飽和磁束密度1.6Tの特性を有するFeCoBC系ア
モルファス磁性膜を使用する。電極パッドは、幅480
μmである。この平面型コイルを用いて形成される平面
インダクタの外形は、5.48×5.8mmである。
【0020】図7は、この平面インダクタの直流電流重
畳特性を示す特性図である。直流電流が0Aの時のイン
ダクタンスは1.27μHであり、5%インダクタンス
低下時の直流電流は0.62Aである。この時、コイル
が直線状に並びコイル電流が磁性膜の磁化容易軸方向と
一致する領域におけるインダクタンスは、単位長さ当た
り0.337μH/mmとなる。導体幅35μm/導体
間間隔50μmに換算したインダクタ幅は3.97mm
であり、単位面積当たりのインダクタンス密度は008
5μH/mm2 である。これは図6に示す点Dであり、
従来のシングルスパイラルコイル、ダブルスパイラルコ
イルの得られなかったインダクタンス密度、直流重畳特
性の組み合わせが得られる。
【0021】
【発明の効果】直流重畳特性、インダクタンス密度を両
方とも大きく維持することができるので、本発明のコイ
ル構造を用いた磁気素子を用いるると小型で直流重畳特
性に優れた磁気素子が得られる。この磁気素子は、DC
−DCコンバータやトランスなどに適用される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の磁気素子の斜視図。
【図2】本発明の磁気素子においてコイル電流により発
生する磁界及び一軸異方性の方向の関係を説明する平面
図。
【図3】容易軸方向及び困難軸方向の磁界履歴曲線を示
す特性図。
【図4】容易軸方向及び困難軸方向を主な励磁方向とし
た場合の磁気素子の直流重畳特性図。
【図5】本発明のツインスパイラルコイルのコイル構造
平面図。
【図6】本発明のツインスパイラルコイルを用いた磁気
素子のインダクタンス密度とImaxの関係を示す特性
図。
【図7】本発明の平面インダクタの直流電流重畳特性を
示す特性図。
【図8】従来のダブルスパイラルコイルのコイル構造平
面図。
【図9】従来のシングルスパイラルコイルのコイル構造
平面図。
【図10】従来のインダクタを構成するコイル構造の平
面図。
【図11】インダクタの直流重畳特性を示す特性図。
【図12】従来磁気素子における磁性膜の面内位置の磁
束密度分布を示す特性図。
【図13】本発明の磁気素子における磁性膜の面内位置
の磁束密度分布を示す特性図。
【符号の説明】
1、1′、1″、2、2′、2″、23、24、13
3、134・・・電極パッド、 3、3′、21、131・・・第1のシングルスパイラ
ルコイル、 4、4′、22、132・・・第2のシングルスパイラ
ルコイル、 5、5′、5″、13・・・平面型コイル、 10・
・・下地基板、 11・・・第1のフェライト磁性膜、 12・・・第
1の絶縁膜、 14・・・第2の絶縁膜、 15・・・第2のフェラ
イト磁性膜、 141、151・・・開口部、 152・・・スリッ
ト。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平面型コイルと、前記平面型コイルの上
    下を絶縁膜を介して挟む1対の磁性膜とを具備し、前記
    平面型コイルは、第1及び第2の長方形のシングルスパ
    イラルコイルをそれぞれの長辺が対向するように並べ、
    且つ隣接する前記第1のシングルスパイラルコイルの導
    体と前記第2のシングルスパイラルコイルの導体とはこ
    れらを流れる電流の方向が互いに逆になるように配置し
    てなることを特徴とする平面磁気素子。
  2. 【請求項2】 前記平面型コイルは、長辺方向に磁化容
    易軸が形成されていることを特徴とする請求項1に記載
    の平面磁気素子。
  3. 【請求項3】 前記平面型コイル上に前記絶縁膜を介し
    て形成された前記磁性膜にはスリットが形成され、この
    スリットは、前記第1及び第2のシングルスパイラルコ
    イルの長辺方向に、それぞれの中心に配置されているこ
    とを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の平面磁気
    素子。
  4. 【請求項4】 前記第1及び第2のシングルスパイラル
    コイルは、電極パッドを有し、この平面型コイル上に積
    層された前記絶縁膜及び前記磁性膜には、前記電極パッ
    ドを露出させる開口部が形成されていることを特徴とす
    る請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の平面磁気素
    子。
JP11067806A 1999-03-15 1999-03-15 平面磁気素子 Pending JP2000269035A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11067806A JP2000269035A (ja) 1999-03-15 1999-03-15 平面磁気素子

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11067806A JP2000269035A (ja) 1999-03-15 1999-03-15 平面磁気素子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000269035A true JP2000269035A (ja) 2000-09-29

Family

ID=13355572

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11067806A Pending JP2000269035A (ja) 1999-03-15 1999-03-15 平面磁気素子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000269035A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007294882A (ja) * 2006-03-31 2007-11-08 Tdk Corp 薄膜磁気デバイスおよびその製造方法
JP2007294880A (ja) * 2006-03-31 2007-11-08 Tdk Corp 薄膜磁気デバイス
JP2010212468A (ja) * 2009-03-11 2010-09-24 Shinko Electric Ind Co Ltd インダクタ装置及びその製造方法
JP2011193093A (ja) * 2010-03-12 2011-09-29 Institute Of National Colleges Of Technology Japan 磁性薄膜を用いた伝送線路デバイス
US20160300661A1 (en) * 2015-04-10 2016-10-13 Broadcom Corporation Embedded Substrate Core Spiral Inductor
WO2019027265A1 (ko) * 2017-08-03 2019-02-07 이주열 듀얼 코어 평면 트랜스포머

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007294882A (ja) * 2006-03-31 2007-11-08 Tdk Corp 薄膜磁気デバイスおよびその製造方法
JP2007294880A (ja) * 2006-03-31 2007-11-08 Tdk Corp 薄膜磁気デバイス
JP2010212468A (ja) * 2009-03-11 2010-09-24 Shinko Electric Ind Co Ltd インダクタ装置及びその製造方法
JP2011193093A (ja) * 2010-03-12 2011-09-29 Institute Of National Colleges Of Technology Japan 磁性薄膜を用いた伝送線路デバイス
US20160300661A1 (en) * 2015-04-10 2016-10-13 Broadcom Corporation Embedded Substrate Core Spiral Inductor
US10128037B2 (en) * 2015-04-10 2018-11-13 Avago Technologies International Sales Pte. Limited Embedded substrate core spiral inductor
WO2019027265A1 (ko) * 2017-08-03 2019-02-07 이주열 듀얼 코어 평면 트랜스포머

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6404317B1 (en) Planar magnetic element
US9679958B2 (en) Methods for manufacturing integrated multi-layer magnetic films
JP3441082B2 (ja) 平面型磁気素子
US10431371B2 (en) Manufacturing methods for magnetic core inductors with biased permeability
KR100279544B1 (ko) 평면형 자기 소자
US9337251B2 (en) Integrated magnetic core inductors with interleaved windings
US20060152325A1 (en) Magnetic core type laminated inductor
JPH0799727B2 (ja) 電磁装置および電磁コア構造
US12334239B2 (en) Patterned magnetic cores
US10629357B2 (en) Apparatus and methods for magnetic core inductors with biased permeability
JP4009142B2 (ja) 磁心型積層インダクタ
US20030234436A1 (en) Semiconductor device with a spiral inductor and magnetic material
JP3540733B2 (ja) 平面型磁気素子及びそれを用いた半導体装置
JP3382215B2 (ja) 平面型磁気素子及びその製造方法並びに平面型磁気素子を備えた半導体装置
JP2000269035A (ja) 平面磁気素子
JP2020155733A (ja) 薄膜磁気デバイス
JPH06124843A (ja) 高周波用薄膜トランス
JP2000243637A (ja) 薄型インダクタ及びこれを用いた薄型dc−dcコンバータ
US11302469B2 (en) Method for fabricating inductors with deposition-induced magnetically-anisotropic cores
JP3195106B2 (ja) 平面型磁気素子の製造方法
JP3050330B2 (ja) 薄膜型トランス
JPH0479305A (ja) インダクタンス素子
JP3033262B2 (ja) 平面インダクタンス部品
JP2002025824A (ja) 平面型磁気素子及びその装置
CN119626722A (zh) 矩阵变压器