JP2000267125A - Liquid crystal panel, method of manufacturing the same, and electronic device - Google Patents
Liquid crystal panel, method of manufacturing the same, and electronic deviceInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の樹脂モールドに変わる張出領域の表面
の保護構造を提供し、樹脂モールド工程を不要にすると
ともに張出領域の表面を支持面或いは位置決め面として
用いることができるようにする。
【解決手段】 シール剤13に囲まれた液晶封入領域内
から、電極層111を被覆するように形成された絶縁膜
112がシール剤13の下を通過して張出領域11aの
表面上に引き出された構造となっている。この絶縁膜1
12の張出領域11aの表面上に形成された絶縁膜11
2の延長形成部112aは、配線131を被覆してい
る。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a protection structure for a surface of an overhang area instead of a conventional resin mold so that a resin molding process is not required and the surface of the overhang area can be used as a support surface or a positioning surface. It can be so. SOLUTION: An insulating film 112 formed so as to cover an electrode layer 111 is drawn from a liquid crystal sealing region surrounded by a sealing agent 13 under the sealing agent 13 onto a surface of an overhang region 11a. Structure. This insulating film 1
Insulating film 11 formed on the surface of overhang region 11a
The second extension forming portion 112a covers the wiring 131.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は液晶パネル及びその
製造方法に関する。The present invention relates to a liquid crystal panel and a method for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、液晶パネルとしては、一対の透
明な基板をシール剤を介して貼り合わせ、基板間に液晶
封入領域を構成し、この液晶封入領域内に液晶が注入さ
れ、封止された構造を備えている。2. Description of the Related Art In general, as a liquid crystal panel, a pair of transparent substrates are bonded together via a sealant to form a liquid crystal sealing region between the substrates, and liquid crystal is injected into the liquid crystal sealing region and sealed. It has a unique structure.
【0003】このような液晶パネルの一例として、図7
にその概略構造を模式的に示す。この液晶パネル10
は、ガラス等からなる基板11と12をシール剤13を
介して貼り合わせ、基板11,12間に液晶14を封入
している。基板11の対向面上にはITOなどの透明導
電体からなる電極層111、絶縁膜112及び配向膜1
13が順次積層され、基板12の対向面上には電極層1
21、絶縁膜122及び配向膜123が順次積層されて
いる。電極層111,121は液晶14に対して電界を
与えるためのものである。絶縁膜112,122はオー
バーコート膜或いはトップコート膜などと呼ばれるもの
であって、基板11,12間の液晶封入領域内に導電性
の塵埃が混入したとき、この塵埃によって電極層111
と121とが短絡してしまうことを防止するための絶縁
手段である。配向膜113,123は液晶14を所定状
態に配向制御するためのものである。FIG. 7 shows an example of such a liquid crystal panel.
Fig. 1 schematically shows the structure. This liquid crystal panel 10
Has substrates 11 and 12 made of glass or the like bonded together via a sealant 13, and a liquid crystal 14 is sealed between the substrates 11 and 12. On the opposing surface of the substrate 11, an electrode layer 111 made of a transparent conductor such as ITO, an insulating film 112, and an alignment film 1
13 are sequentially laminated, and the electrode layer 1
21, an insulating film 122 and an alignment film 123 are sequentially stacked. The electrode layers 111 and 121 are for applying an electric field to the liquid crystal 14. The insulating films 112 and 122 are called an overcoat film or a top coat film, and when conductive dust enters the liquid crystal sealing region between the substrates 11 and 12, the dust causes the electrode layer 111 to enter.
And 121 are insulating means for preventing a short circuit. The alignment films 113 and 123 are for controlling the alignment of the liquid crystal 14 in a predetermined state.
【0004】基板11は基板12よりも一回り大きな面
積を有するものであって、その端部は基板12の端部よ
り外周側に張り出した張出領域11aとなっている。こ
の張出領域11aの表面上には、張出領域11aの表面
構造を示す平面図である図8に示すように、上記電極層
111,121に導電接続された複数の配線(例えば電
極層111,121と同じ透明導電体により形成され
る。)131が形成されている。配線131のうち電極
層111に導電接続されているものは液晶封入領域から
そのままシール剤13の下を通過して張出領域11aの
表面上に引き出されており、また、配線131のうち電
極層121に導電接続されているものは、図示しない上
下導通部を介して基板12の表面上から基板11の表面
上に移り、そこから張出領域11aの表面上に引き出さ
れている。[0004] The substrate 11 has an area slightly larger than the substrate 12, and an end of the substrate 11 is an overhang region 11 a that extends outward from the end of the substrate 12. As shown in FIG. 8, which is a plan view showing the surface structure of the overhang region 11a, a plurality of wirings (for example, the electrode layer 111) electrically connected to the electrode layers 111 and 121 are provided on the surface of the overhang region 11a. , 121) are formed. Of the wirings 131, those electrically conductively connected to the electrode layer 111 are drawn out of the liquid crystal sealed region as they are under the sealant 13 onto the surface of the overhang region 11 a. What is conductively connected to 121 is transferred from the surface of the substrate 12 to the surface of the substrate 11 via the vertical conduction portion (not shown), and is drawn out from there onto the surface of the overhang region 11a.
【0005】張出領域11aの表面上には、上記の配線
131上に、ACF(Anisotropic Conductive Film)な
どの異方性導電膜132を介して集積回路チップ133
の端子部が熱圧着などにより導電接続されている。ま
た、張出領域11aの表面上には上記配線131とは別
に複数の配線134が形成されており、これらの配線1
34もまた同様に異方性導電膜132を介して集積回路
チップ133の端子部に導電接続されている。これらの
配線134の他端は、上記と同様の異方性導電膜135
やヒートシールを介してフレキシブル配線基板136の
接続端子に導電接続されている。なお、液晶パネルのタ
イプは上記のようなCOG(Chip On Glass)構造を有す
るものの他に種々のものがあり、例えば、張出領域11
aの表面上に集積回路チップを実装することなく、配線
131に直接フレキシブル配線基板などの配線部材が導
電接続される場合、或いは、配線134に直接に異方性
導電ゴムなどからなる各種コネクタがコンタクトするよ
うに構成される場合もある。上記のように構成された張
出領域11aの表面上構造は、微細な形成ピッチで、微
細な線幅にて多数本が並列形成されている配線131の
電食を防止するために、シリコーン樹脂などの絶縁樹脂
137によって被覆される。なお、図8においては絶縁
樹脂137によって張出領域11aの表面上を被覆する
前の状態を示してある。[0005] On the surface of the overhang region 11a, an integrated circuit chip 133 is provided on the wiring 131 via an anisotropic conductive film 132 such as an ACF (Anisotropic Conductive Film).
Are electrically connected by thermocompression bonding or the like. In addition, a plurality of wirings 134 are formed on the surface of the overhang region 11a in addition to the wirings 131.
34 is also conductively connected to the terminal of the integrated circuit chip 133 via the anisotropic conductive film 132. The other ends of these wirings 134 are connected to the same anisotropic conductive film 135 as described above.
It is electrically conductively connected to the connection terminal of the flexible wiring board 136 via a heat seal or the like. There are various types of liquid crystal panels other than those having a COG (Chip On Glass) structure as described above.
In the case where a wiring member such as a flexible wiring substrate is directly conductively connected to the wiring 131 without mounting the integrated circuit chip on the surface of a, or various connectors made of anisotropic conductive rubber or the like are directly connected to the wiring 134. It may be configured to make contact. The structure on the surface of the overhang region 11a configured as described above is formed of a silicone resin in order to prevent electrical erosion of a large number of wirings 131 formed in parallel with a fine formation pitch and a fine line width. And the like. FIG. 8 shows a state before the surface of the overhang region 11a is covered with the insulating resin 137.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な液晶パネル10を各種電子機器の内部に設置する場合
には、電子機器のフレームや回路基板上などの構成部材
に液晶パネル10を直接に取り付けたり、或いは、支持
(固定)枠、導光体その他の支持体に液晶パネル10を
位置決め固定し、この支持体を上記構成部材に取り付け
る必要がある。この場合、通常は、液晶パネル10の基
板11,12の端部を支持体に当接させるようにして支
持或いは位置決めを行うようにしている。When the above-described liquid crystal panel 10 is installed in various electronic devices, the liquid crystal panel 10 is directly mounted on a component such as a frame or a circuit board of the electronic device. It is necessary to mount or fix the liquid crystal panel 10 to a supporting (fixed) frame, a light guide, or another support, and to attach this support to the above-mentioned constituent members. In this case, usually, the ends of the substrates 11 and 12 of the liquid crystal panel 10 are supported or positioned so as to abut against the support.
【0007】しかし、近年の電子機器の小型化、薄型化
に伴って液晶パネル10自体にも薄型化が要請されるよ
うになってきており、ガラスなどからなる基板11,1
2の厚さを薄くすることによって上記要請に応えようと
する動きがある。このような状況において、基板11,
12が薄くなるとその強度も低下するため、支持部材に
当接支持されている基板11,12の端部に衝撃などに
よる応力が加わると、基板11,12が破損する可能性
がある。特に、上記のCOG構造を備えた液晶パネルで
は張出領域11aの張出長さが大きいため、基板11の
張出領域11aに割れが発生する可能性が高い。However, with the recent miniaturization and thinning of electronic equipment, the liquid crystal panel 10 itself has been required to be thinner, and the substrates 11, 1 made of glass or the like have been required.
There is a movement to meet the above-mentioned demand by reducing the thickness of No. 2. In such a situation, the substrate 11,
When the thickness of the substrate 12 decreases, the strength of the substrate 11 also decreases. Therefore, when a stress due to an impact or the like is applied to the ends of the substrates 11 and 12 abutted on the supporting member, the substrates 11 and 12 may be damaged. In particular, in the liquid crystal panel having the above-described COG structure, since the overhang length of the overhang region 11a is large, there is a high possibility that the overhang region 11a of the substrate 11 is cracked.
【0008】このような問題を解決するため、公知事項
ではないが、張出領域11aの表面の多くの部分を支持
部材に接触させることによって、支持面積を大きくし、
基板の強度不足を補おうとする提案がある。しかしなが
ら、上記のように液晶パネル10の張出領域11aの表
面上は絶縁樹脂137によって樹脂モールドされている
ため、張出領域11aの表面を支持面或いは位置決め面
として用いることができないという問題がある。In order to solve such a problem, it is not publicly known. However, by contacting a large part of the surface of the overhang region 11a with the support member, the support area is increased.
There are proposals to make up for insufficient strength of the substrate. However, since the surface of the overhang region 11a of the liquid crystal panel 10 is resin-molded with the insulating resin 137 as described above, there is a problem that the surface of the overhang region 11a cannot be used as a support surface or a positioning surface. .
【0009】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、従来の樹脂モールドに変わる張出
領域の表面の保護構造を提供し、樹脂モールド工程を不
要にするとともに張出領域の表面を支持面或いは位置決
め面として用いることができるようにすることにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a protection structure for a surface of an overhang area which is different from a conventional resin mold, thereby eliminating the need for a resin molding step and providing an overhang area. Is used as a support surface or a positioning surface.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の液晶パネルは、相互に貼り合わされた一対の
基板間に液晶を封入してなる液晶封入領域を有し、前記
基板の表面上には前記液晶に電界を与えるための電極及
び該電極を覆う絶縁膜が形成され、一方の前記基板には
他方の前記基板の端部よりも張り出した張出領域が設け
られ、該張出領域の表面上には前記液晶封入領域から引
き出され前記電極に接続された複数の配線が形成されて
いる液晶パネルであって、前記絶縁膜は前記液晶封入領
域内とともに前記張出領域の表面上にも形成され、前記
絶縁膜が前記張出領域の表面上の前記配線の少なくとも
一部を被覆していることを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, a liquid crystal panel according to the present invention has a liquid crystal sealing region in which liquid crystal is sealed between a pair of substrates bonded to each other. An electrode for applying an electric field to the liquid crystal and an insulating film covering the electrode are formed thereon, and one of the substrates is provided with an overhanging region that extends beyond an end of the other substrate. A liquid crystal panel in which a plurality of wirings drawn from the liquid crystal sealing region and connected to the electrodes are formed on a surface of the region, wherein the insulating film is formed on the surface of the projecting region together with the liquid crystal sealing region. Wherein the insulating film covers at least a part of the wiring on the surface of the overhang region.
【0011】この発明によれば、液晶封入領域内に形成
される絶縁膜を張出領域の表面上にも配線を覆うように
形成することによって、樹脂モールド工程を不要にする
ことができるとともに新たな工程を発生させることなく
確実に配線を電触などから保護することができる。ま
た、張出領域の表面を平坦に形成することができるた
め、張出領域の表面を液晶パネルの支持面若しくは位置
決め面として用いることが可能になる。According to the present invention, by forming the insulating film formed in the liquid crystal sealing region so as to cover the wiring also on the surface of the overhanging region, the resin molding step can be made unnecessary and a new process can be performed. It is possible to reliably protect the wiring from electrical contact and the like without generating a complicated process. In addition, since the surface of the overhang region can be formed flat, the surface of the overhang region can be used as a support surface or a positioning surface of the liquid crystal panel.
【0012】ここで、絶縁膜は液晶封入領域から連続し
て張出領域の表面上に延長形成されていることが配線の
保護性能を高めるうえでより好ましい。また、絶縁膜と
しては液晶封入領域内に形成され、混入した塵埃等によ
る基板上に形成された電極間の短絡を防止するためのオ
ーバーコート層であることが望ましい。Here, it is more preferable that the insulating film is formed continuously on the surface of the overhang region continuously from the liquid crystal sealing region in order to enhance the protection performance of the wiring. Further, it is desirable that the insulating film is an overcoat layer formed in the liquid crystal sealing region and for preventing a short circuit between electrodes formed on the substrate due to mixed dust and the like.
【0013】この発明において、前記絶縁膜には、前記
配線の導電接続部を露出させる露出開口部が設けられて
いることが好ましい。In the present invention, it is preferable that the insulating film is provided with an exposure opening for exposing a conductive connection portion of the wiring.
【0014】この発明によれば、張出領域の表面上に形
成された配線の導電接続部を露出させる露出開口部が設
けられていることにより、後工程において開口処理を施
すことなく導電接続部に集積回路チップや配線部材など
を実装することができる。According to the present invention, since the exposure opening for exposing the conductive connection portion of the wiring formed on the surface of the overhang region is provided, the conductive connection portion is not subjected to an opening process in a later step. An integrated circuit chip, a wiring member, and the like can be mounted thereon.
【0015】この発明において、前記導電接続部は集積
回路若しくは配線部材に導電接続されていることが好ま
しい。In the present invention, it is preferable that the conductive connecting portion is conductively connected to an integrated circuit or a wiring member.
【0016】この場合において、前記導電接続部と、前
記集積回路若しくは前記配線部材との間に異方性導電膜
が介在していることが望ましい。In this case, it is desirable that an anisotropic conductive film is interposed between the conductive connecting portion and the integrated circuit or the wiring member.
【0017】この場合にはさらに、前記異方性導電膜は
前記露出開口部において露出した前記配線部分のうち少
なくとも保護する必要のある部分を全て被覆するように
配置されていることが望ましい。In this case, it is preferable that the anisotropic conductive film is arranged so as to cover at least all of the portions of the wiring exposed at the exposed opening, which need to be protected.
【0018】この発明によれば、露出開口部によって露
出された配線部分のうちの少なくとも保護する必要があ
る部分、例えば、配線ピッチや配線幅の小さい配線部分
が全て異方性導電膜によって被覆されていることによ
り、絶縁膜によって保護されていない部分を異方性導電
膜で保護することができるから、より保護性能を高める
ことができる。なお、上記の保護する必要が或る部分と
は、例えば、液晶封入領域から直接に引き出された配線
を意味し、保護する必要のない部分とは、例えば、液晶
封入領域から直接に引き出された配線が一旦、張出領域
上に実装される集積回路に接続される場合において、集
積回路にのみ接続された外部端子を構成するための配線
を言う。後者の配線は通常、配線ピッチや配線幅が前者
の配線よりも大きく形成される。According to the present invention, at least a portion of the wiring portion exposed by the exposure opening, which needs to be protected, for example, a wiring portion having a small wiring pitch and a small wiring width is covered with the anisotropic conductive film. By doing so, the portion not protected by the insulating film can be protected by the anisotropic conductive film, so that the protection performance can be further improved. In addition, the above-mentioned part which needs to be protected means, for example, a wiring directly drawn out of the liquid crystal sealed area, and the part which does not need to be protected is, for example, drawn directly from the liquid crystal sealed area. When the wiring is once connected to an integrated circuit mounted on the overhang region, it refers to a wiring for forming an external terminal connected only to the integrated circuit. The latter wiring is usually formed with a larger wiring pitch and wiring width than the former wiring.
【0019】また、前記異方性導電膜の縁部が前記絶縁
膜の縁部に対して重なっていることが好ましい。It is preferable that an edge of the anisotropic conductive film overlaps with an edge of the insulating film.
【0020】異方性導電膜の縁部が絶縁膜の端部に対し
て重なっていることにより、絶縁膜と異方性導電膜との
縁部間に隙間が形成されないため、配線をより確実に保
護することができるとともに、両端部の重なり幅の存在
により、製造工程時において絶縁膜の形成パターン位置
や異方性導電膜の被着位置に多少のずれが発生しても、
隙間が発生する恐れが低減される。Since the edge of the anisotropic conductive film overlaps with the edge of the insulating film, no gap is formed between the edges of the insulating film and the anisotropic conductive film. In addition, even if there is a slight shift in the formation pattern position of the insulating film or the deposition position of the anisotropic conductive film during the manufacturing process due to the presence of the overlapping width of both ends,
The risk of creating a gap is reduced.
【0021】次に、本発明の液晶パネルの製造方法とし
ては、相互に貼り合わされた一対の基板間に液晶を封入
してなる液晶封入領域を有し、一方の前記基板には他方
の前記基板の端部よりも張り出した張出領域が設けられ
た液晶パネルの製造方法において、一対の前記基板の表
面上にそれぞれ電極を形成するとともに、前記張出領域
に相当する一方の前記基板の表面上に前記電極に接続さ
れた配線を形成し、次に、一方の前記基板の表面上に前
記電極を覆う絶縁膜を形成するとともに、該絶縁膜によ
って前記張出領域に相当する前記基板の表面上に形成さ
れた前記配線のうちの少なくとも一部を覆い、しかる後
に、前記基板を相互に貼り合わせて前記液晶封入領域を
構成することを特徴とする。Next, as a method of manufacturing a liquid crystal panel of the present invention, there is provided a liquid crystal sealing region in which liquid crystal is sealed between a pair of substrates bonded to each other, and one of the substrates has the other substrate. In the method for manufacturing a liquid crystal panel provided with an overhanging region extending beyond the end of the liquid crystal panel, electrodes are formed on the surfaces of the pair of substrates, respectively, and on the surface of one of the substrates corresponding to the overhanging region. Forming an interconnect connected to the electrode, and then forming an insulating film covering the electrode on the surface of one of the substrates, and forming an insulating film on the surface of the substrate corresponding to the overhang region by the insulating film. And covering at least a part of the wirings formed on the substrate, and thereafter, the substrates are bonded to each other to form the liquid crystal sealing region.
【0022】この発明において、前記張出領域に相当す
る一方の前記基板の表面上には、前記配線の導電接続部
を露出させる露出開口部を前記絶縁膜に設けることが好
ましい。In the present invention, it is preferable that an exposed opening for exposing a conductive connection portion of the wiring is provided in the insulating film on a surface of the one substrate corresponding to the overhang region.
【0023】また、前記露出開口部によって露出された
前記導電接続部を集積回路若しくは配線部材に導電接続
することが望ましい。It is preferable that the conductive connection portion exposed by the exposure opening is conductively connected to an integrated circuit or a wiring member.
【0024】さらに、前記導電接続部上に異方性導電膜
を被着し、該異方性導電膜を介して前記導電接続部と前
記集積回路若しくは前記配線部材とを導電接続すること
が好ましい。Further, it is preferable that an anisotropic conductive film is applied on the conductive connection portion, and the conductive connection portion and the integrated circuit or the wiring member are conductively connected via the anisotropic conductive film. .
【0025】そして、前記異方性導電膜を前記露出開口
部によって露出された前記配線のうち少なくとも保護す
る必要のある部分を全て覆うように被着することが好ま
しい。It is preferable that the anisotropic conductive film is applied so as to cover at least a portion of the wiring exposed by the exposure opening that needs to be protected.
【0026】また、前記異方性導電膜の縁部を前記絶縁
膜の縁部に対して重ねるように被着することが好まし
い。Preferably, the edge of the anisotropic conductive film is attached so as to overlap the edge of the insulating film.
【0027】ここで、前記絶縁膜の縁部を位置決めする
ための第1位置決め部と、前記異方性導電膜の縁部を位
置決めするための第2位置決め部とを設けることが望ま
しい。Here, it is preferable to provide a first positioning portion for positioning the edge of the insulating film and a second positioning portion for positioning the edge of the anisotropic conductive film.
【0028】この場合、前記第1位置決め部及び前記第
2位置決め部を共通の位置決めマークの周縁部の異なる
部分によって構成することができる。In this case, the first positioning portion and the second positioning portion can be constituted by different portions of the peripheral portion of the common positioning mark.
【0029】上記各発明の液晶パネルは、各種の電子機
器に設置される。この場合、電子機器内の回路基板など
の構成部材に対して液晶パネルが設置される。このと
き、液晶パネルの支持若しくは位置決めを上記の張出領
域の表面(集積回路などが実装される場合には当該実装
部分を除いた表面部)を支持面若しくは位置決め面とし
て用いることができる。この張出領域の表面は、上記構
成部材に直接に当接する場合もあり、或いはまた、液晶
パネルの支持体に対して当接するように構成される場合
もある。The liquid crystal panel of each of the above inventions is installed in various electronic devices. In this case, the liquid crystal panel is installed on a component such as a circuit board in the electronic device. At this time, for supporting or positioning the liquid crystal panel, the surface of the above-mentioned overhanging region (the surface portion excluding the mounting portion when an integrated circuit or the like is mounted) can be used as a support surface or a positioning surface. The surface of the overhang region may directly contact the above-mentioned constituent member, or may be configured to contact the support of the liquid crystal panel.
【0030】[0030]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る液晶パネル及
びその製造方法の実施形態について詳細に説明する。図
1は本実施形態の液晶パネルの構造を模式的に示す概略
断面図である。この構造は基本的に上述の従来の液晶パ
ネルと同様であり、基板11,12、シール剤13、液
晶14、電極層111,121、絶縁膜112,12
2、配向膜113,123、配線131,134、異方
性導電膜132、集積回路チップ133は図7及び図8
に示すものと同様のものである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a liquid crystal panel and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail. FIG. 1 is a schematic sectional view schematically showing the structure of the liquid crystal panel of the present embodiment. This structure is basically the same as the above-described conventional liquid crystal panel. Substrates 11 and 12, sealant 13, liquid crystal 14, electrode layers 111 and 121, insulating films 112 and 12 are provided.
2, alignment films 113 and 123, wirings 131 and 134, anisotropic conductive film 132, and integrated circuit chip 133 are shown in FIGS.
Are similar to those shown in FIG.
【0031】本実施形態においては、シール剤13に囲
まれた液晶封入領域内から、電極層111を被覆するよ
うに形成された絶縁膜112がシール剤13の下を通過
して張出領域11aの表面上に引き出された構造となっ
ている。この絶縁膜112の張出領域11aの表面上に
形成された絶縁膜112の延長形成部112aは、配線
131を被覆している。In the present embodiment, an insulating film 112 formed so as to cover the electrode layer 111 passes under the sealant 13 from the liquid crystal sealed area surrounded by the sealant 13 to protrude from the overhanging area 11a. It is a structure drawn out on the surface of. The extension forming portion 112 a of the insulating film 112 formed on the surface of the overhang region 11 a of the insulating film 112 covers the wiring 131.
【0032】図2は、本実施形態の張出領域11aの表
面構造を示す平面図である。この図において、絶縁膜1
12の延長形成部112aは図示右上方向に伸びる斜線
が施された部分であり、配線131の多くの部分を被覆
している。この延長形成部112aは集積回路チップ1
33が実装される部分近傍を避けるように形成されてい
る。すなわち、配線131のそれぞれと集積回路チップ
133のバンプ電極133aとが導電接続されるように
この接続部分の周辺は絶縁膜112で覆われていない。
また、配線131のそれぞれと集積回路チップ133の
バンプ電極133aとの導電接続は異方性導電膜(例え
ば、熱可塑性樹脂中に微細な導電性粒子(金メッキされ
た樹脂球など)を分散させたもの)132によっておこ
なわれ、集積回路チップ133の下の図示左上方向に伸
びる斜線が施された部分に被着されている。ここで、異
方性導電膜132の端部が延長形成部112aの端部に
重なり合うようにして被着されている。FIG. 2 is a plan view showing the surface structure of the overhang region 11a of the present embodiment. In this figure, the insulating film 1
The twelve extension forming portions 112a are hatched portions extending in the upper right direction in the figure, and cover many portions of the wiring 131. This extension forming part 112a is integrated circuit chip 1
33 is formed so as to avoid the vicinity of the portion where the mounting is performed. That is, the periphery of the connection portion is not covered with the insulating film 112 so that each of the wirings 131 is electrically connected to the bump electrode 133a of the integrated circuit chip 133.
The conductive connection between each of the wirings 131 and the bump electrodes 133a of the integrated circuit chip 133 is made by dispersing fine conductive particles (such as a gold-plated resin ball) in a thermoplastic resin. ), And is attached to a hatched portion extending below and to the upper left of the integrated circuit chip 133 in the figure. Here, the end of the anisotropic conductive film 132 is attached so as to overlap with the end of the extension forming portion 112a.
【0033】配線134は、前述のとおり配線131に
較べると比較的大きな線幅で且つ配線131等に比べ端
子数も少なく形成されているために電食による影響も少
ないため、そのまま露出した状態になっている。また、
本実施形態では配線134が図示しない異方性導電ゴム
などからなるコネクタに圧接されるように構成されてい
るので導通接続を可能とするためそのまま露出した状態
になっている。この場合、上述のように配線134に異
方性導電膜を介してフレキシブル配線基板などの配線部
材を導電接続させてもよい。As described above, the wiring 134 has a relatively large line width as compared with the wiring 131 and has a smaller number of terminals than the wiring 131 and the like. Has become. Also,
In the present embodiment, the wiring 134 is configured to be pressed into contact with a connector made of anisotropic conductive rubber or the like (not shown). In this case, a wiring member such as a flexible wiring substrate may be conductively connected to the wiring 134 via the anisotropic conductive film as described above.
【0034】次に、上記構造の製造過程について図3及
び図4を参照して説明する。まず、基板11の表面上に
は、透明導電体、例えばITO(インジウム錫酸化物)
を蒸着、スパッタリングなどのPVD法によって被着
し、公知のフォトリソグラフィ法などを用いてパターニ
ングすることによって、図1に示す電極層111及び配
線131,134が形成される。また、これらを遮蔽マ
スクを用いて選択的にPVD法によって形成してもよ
い。なお、図3には基板11の表面上のうち張出領域1
1a(になるべき領域)の表面のみを図示している。ま
た、この工程においては、上記の電極層111及び配線
131,134とともに、これらと同じ材料及び製法に
より位置決めマーク137,138,139が形成され
る。位置決めマーク137は絶縁膜112の延長形成部
112aの縁部の位置を既定するものであり、位置決め
マーク138は異方性導電膜132の縁部の位置を既定
するものであり、位置決めマーク139は集積回路チッ
プ133の外縁部の位置を既定するものである。また、
配線131の絶縁膜の延長形成部112a(斜線部)で
覆われない先端部は集積回路チップ133のバンプ電極
133aと異方性導電膜132によって導電接続される
の接続端子部131aとされている。Next, the manufacturing process of the above structure will be described with reference to FIGS. First, a transparent conductor, for example, ITO (indium tin oxide) is formed on the surface of the substrate 11.
Is deposited by a PVD method such as evaporation or sputtering, and is patterned using a known photolithography method or the like, whereby the electrode layer 111 and the wirings 131 and 134 shown in FIG. 1 are formed. Alternatively, these may be selectively formed by a PVD method using a shielding mask. FIG. 3 shows the overhang region 1 on the surface of the substrate 11.
Only the surface of 1a (the area to be formed) is shown. In this step, the positioning marks 137, 138, and 139 are formed by the same material and the same method as those described above, together with the electrode layer 111 and the wirings 131 and 134. The positioning mark 137 defines the position of the edge of the extension forming portion 112a of the insulating film 112, the positioning mark 138 defines the position of the edge of the anisotropic conductive film 132, and the positioning mark 139 defines The position of the outer edge of the integrated circuit chip 133 is determined. Also,
The distal end of the wiring 131 which is not covered with the extension forming portion 112a (hatched portion) of the insulating film is a connection terminal portion 131a which is conductively connected to the bump electrode 133a of the integrated circuit chip 133 by the anisotropic conductive film 132. .
【0035】次に、基板11の液晶封入領域内に絶縁膜
112を形成する。絶縁膜112は上述のように張出領
域11aの表面上にも延長形成部112aとして同時に
形成される。絶縁膜112はSiO2、TiO2などを
スパッタリング法や酸化法などによって形成するもので
ある。この絶縁膜112についてもパターニングを行っ
たり、或いは、遮蔽マスクを用いて選択形成することに
よって基板11の表面上に所定のパターンにて形成され
る。このとき、パターニング時或いは選択形成時の延長
形成部112aの縁部を位置決めマーク137に合わせ
るようにして位置決めを行う。図3に示す例において
は、位置決めマーク137は集積回路チップ133の実
装領域に臨む延長形成部112aの縁部を位置決めする
ために用いられる。この位置決めは、基板11の表面画
像をカメラなどによって取り込み、表面画像中の位置決
めマーク137の位置を公知の画像処理技術などにより
検出してパターニング時の露光マスクや選択形成時の遮
蔽マスクの位置合わせを行うことによって実施される。Next, an insulating film 112 is formed in the liquid crystal sealing region of the substrate 11. As described above, the insulating film 112 is simultaneously formed on the surface of the overhang region 11a as the extension forming portion 112a. The insulating film 112 is formed of SiO 2 , TiO 2, or the like by a sputtering method, an oxidation method, or the like. The insulating film 112 is also formed in a predetermined pattern on the surface of the substrate 11 by performing patterning or selectively forming the insulating film 112 using a shielding mask. At this time, the positioning is performed so that the edge of the extension forming portion 112a is aligned with the positioning mark 137 during patterning or selective formation. In the example shown in FIG. 3, the positioning mark 137 is used to position the edge of the extension forming portion 112a facing the mounting region of the integrated circuit chip 133. This positioning is performed by capturing the surface image of the substrate 11 with a camera or the like, detecting the position of the positioning mark 137 in the surface image by a known image processing technique or the like, and aligning an exposure mask during patterning or a shielding mask during selective formation. Is carried out.
【0036】次に、基板11の表面上に図1に示す配向
膜113を形成し、公知の配向処理を施した後に、この
基板11を、同様に電極層121、絶縁膜122、配向
膜123を形成した基板12に対して図1に示すシール
剤13を介して貼り合わせ、液晶14を注入し、封止す
ることによって液晶セルを完成させる。そして、図4に
示す張出領域11aの表面上に、位置決めマーク138
を用いて異方性導電膜132を被着する。このとき、上
記の位置決めマーク137,138の位置関係によっ
て、異方性導電膜132の外縁132bは、絶縁膜の延
長形成部112aの外縁112bよりも異方性導電膜1
32の中心より外側に配置されるようになっており、そ
の結果、異方性導電膜132の縁部は絶縁膜の延長形成
部112aの縁部と重なるようになっている。Next, an orientation film 113 shown in FIG. 1 is formed on the surface of the substrate 11 and subjected to a known orientation treatment. Then, the substrate 11 is similarly treated with an electrode layer 121, an insulating film 122 and an orientation film 123. A liquid crystal cell is completed by bonding the substrate 12 on which is formed via the sealant 13 shown in FIG. 1 and injecting and sealing a liquid crystal 14. Then, the positioning mark 138 is provided on the surface of the overhang region 11a shown in FIG.
Is used to deposit the anisotropic conductive film 132. At this time, due to the positional relationship between the positioning marks 137 and 138, the outer edge 132b of the anisotropic conductive film 132 is larger than the outer edge 112b of the extended portion 112a of the insulating film.
As a result, the edge of the anisotropic conductive film 132 overlaps with the edge of the extension forming portion 112a of the insulating film.
【0037】図5には、位置決めマーク137,138
と延長形成部112a及び異方性導電膜132の縁部と
の関係を模式的に示す。ここで、位置決めマーク137
の図示左側の周縁部137aが延長形成部112aの外
縁112bの位置を既定する基準として設定されてお
り、また、位置決めマーク138の図示左側の周縁部1
38aが異方性導電膜132の外縁132bの位置を既
定する基準として設定されている。したがって、延長形
成部112aの縁部と異方性導電膜132の縁部とは設
計上は周縁部137aと138aの間の幅dだけ重なる
ように構成されている。この幅dは、絶縁膜112の形
成時のパターン精度と、異方性導電膜132の被着精度
とを考慮して設定されており、パターンずれや被着ずれ
が発生しても延長形成部112aと異方性導電膜132
との間に隙間が生じないように設計されている。FIG. 5 shows the positioning marks 137 and 138.
And the relationship between the extension forming portion 112a and the edge of the anisotropic conductive film 132. Here, the positioning mark 137
Is set as a reference for setting the position of the outer edge 112b of the extension forming portion 112a, and the left edge 137a of the positioning mark 138 is set as the reference.
Reference numeral 38a is set as a reference for determining the position of the outer edge 132b of the anisotropic conductive film 132. Therefore, the edge of the extension forming portion 112a and the edge of the anisotropic conductive film 132 are designed to overlap by a width d between the peripheral portions 137a and 138a in design. The width d is set in consideration of the pattern accuracy at the time of forming the insulating film 112 and the deposition accuracy of the anisotropic conductive film 132. 112a and anisotropic conductive film 132
It is designed so that there is no gap between them.
【0038】図6は別の位置決めマークの形成例を示す
ものである。この図には位置決めマーク137’が形成
されていて、この位置決めマーク137’の図示左側の
周縁部137’aが延長形成部112aの外縁112b
の位置を既定し、図示右側の周縁部137’bが異方性
導電膜132の外縁132bの位置を既定するように設
計されている。FIG. 6 shows another example of forming a positioning mark. In this drawing, a positioning mark 137 'is formed, and a peripheral portion 137'a on the left side of the positioning mark 137' in the drawing is formed on an outer edge 112b of the extension forming portion 112a.
Is designed so that the peripheral portion 137 ′ b on the right side in the figure defines the position of the outer edge 132 b of the anisotropic conductive film 132.
【0039】上記のようにして異方性導電膜132が被
着された後に、この異方性導電膜132の上から図2に
示す集積回路チップ133が搭載され、集積回路チップ
133の複数のバンプ電極133aが異方性導電膜13
2を介して張出領域11aの表面上の配線131の接続
端子部131aに対応するように設定される。そして、
図示しない熱圧着装置によって、集積回路チップ133
と張出領域11aとが相互に相手側に対して加圧され、
同時に加熱される。加熱によって軟化した異方性導電膜
132の基材樹脂は加圧力によって押しつぶされ、基材
樹脂中に分散されている導電性粒子が集積回路チップ1
31の端子部と配線131の接続端子部131aとを導
通させる。After the anisotropic conductive film 132 is deposited as described above, the integrated circuit chip 133 shown in FIG. The bump electrode 133a is made of an anisotropic conductive film 13.
2 is set so as to correspond to the connection terminal portion 131a of the wiring 131 on the surface of the overhang region 11a via the second terminal 2a. And
The integrated circuit chip 133 is connected by a thermocompression bonding device (not shown).
And the overhang area 11a are mutually pressurized against each other,
Heated at the same time. The base resin of the anisotropic conductive film 132 softened by the heating is crushed by the pressing force, and the conductive particles dispersed in the base resin become the integrated circuit chip 1.
The terminal 31 is electrically connected to the connection terminal 131a of the wiring 131.
【0040】なお、このような異方性導電膜を用いた導
電接続構造及び熱圧着法は、図8に示すように配線13
4に配線部材であるフレキシブル配線基板136を導電
接続する場合や、上記のCOG構造の場合に限らず、配
線131に直接に配線部材を導電接続する場合にも全く
同様である。The conductive connection structure using such an anisotropic conductive film and the thermocompression bonding method employ the wiring 13 as shown in FIG.
This is not limited to the case where the flexible wiring board 136 as the wiring member is conductively connected to the wiring 4 or the case of the above-described COG structure.
【0041】上記実施形態では、液晶封入領域内に形成
した絶縁膜112を張出領域11a上に延長形成してい
る、すなわち、液晶封入領域内の絶縁膜112の部分と
延長形成部112aとが相互に繋がった状態に形成し、
これによって絶縁膜による配線の電食防止その他の保護
状態を高めている、しかし、本発明においては、絶縁膜
112を液晶封入領域内に形成された部分と、張出領域
11aの表面上の延長形成部112aとが相互に分離し
た状態で形成されていてもよい。In the above-described embodiment, the insulating film 112 formed in the liquid crystal sealing region is formed to extend on the overhang region 11a, that is, the portion of the insulating film 112 in the liquid crystal sealing region and the extension forming portion 112a are formed. Formed in an interconnected state,
This enhances the protection of the wiring from electrical erosion and other protection by the insulating film. However, in the present invention, the insulating film 112 is extended over the surface formed in the liquid crystal enclosing region and over the surface of the overhang region 11a. The formation part 112a may be formed in a state separated from each other.
【0042】また、上記実施形態では液晶パネルの短絡
不良を防止するためのオーバーコート層としての絶縁膜
112を張出領域11aの表面上に形成しているが、オ
ーバーコート層でなく、他の絶縁膜を張出領域11aの
表面上に形成しても同様に効果的である。また、上述の
配向膜113もまた絶縁性を有するので、上記延長形成
部112aの代わりに配向膜113を張出領域11aの
表面上に形成してもよい。In the above embodiment, the insulating film 112 as an overcoat layer for preventing a short circuit failure of the liquid crystal panel is formed on the surface of the overhang region 11a. It is similarly effective to form an insulating film on the surface of the overhang region 11a. Further, since the above-described alignment film 113 also has an insulating property, the alignment film 113 may be formed on the surface of the overhang region 11a instead of the extension forming portion 112a.
【0043】さらに、上記実施形態では、張出領域11
aの表面上であって延長形成部112aにて被覆されて
いない領域に形成されている配線131,134のう
ち、保護する必要のある配線131のみを異方性導電膜
132によって完全に被覆されるように構成してある
が、図2に点線で示すように、異方性導電膜132を配
線134についても完全に被覆するように被着しても構
わない。すなわち、図8の異方性導電膜135と異方性
導電膜132とが一体的に形成された状態を示すもの
で、これにより異方性導電膜によって完全に被覆され
る。Further, in the above embodiment, the overhang area 11
Of the wirings 131 and 134 formed in the area of the surface a of FIG. 1A and not covered by the extension forming portion 112a, only the wiring 131 that needs to be protected is completely covered with the anisotropic conductive film 132. However, as shown by the dotted line in FIG. 2, the anisotropic conductive film 132 may be applied so as to completely cover the wiring 134 as well. That is, this shows a state in which the anisotropic conductive film 135 and the anisotropic conductive film 132 in FIG. 8 are integrally formed, whereby the anisotropic conductive film is completely covered by the anisotropic conductive film.
【0044】尚、本発明の液晶パネルは、上述の図示例
にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱し
ない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であ
る。It should be noted that the liquid crystal panel of the present invention is not limited to the above-described illustrated examples, and it is needless to say that various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.
【0045】[0045]
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
液晶封入領域内に形成される絶縁膜を張出領域の表面上
にも配線を覆うように形成することによって、樹脂モー
ルド工程を不要にすることができるとともに新たな工程
を発生させることなく確実に配線を電触などから保護す
ることができる。また、張出領域の表面を平坦に形成す
ることができるため、張出領域の表面を液晶パネルの支
持面若しくは位置決め面として用いることが可能にな
る。As described above, according to the present invention,
By forming the insulating film formed in the liquid crystal enclosing area so as to cover the wiring on the surface of the overhanging area, the resin molding step can be made unnecessary and the new step can be surely performed without generating a new step. Wiring can be protected from electric contact and the like. In addition, since the surface of the overhang region can be formed flat, the surface of the overhang region can be used as a support surface or a positioning surface of the liquid crystal panel.
【図1】本発明に係る液晶パネルの実施形態の概略構造
を模式的に示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view schematically showing a schematic structure of an embodiment of a liquid crystal panel according to the present invention.
【図2】同実施形態の張出領域の表面構造を示す概略拡
大平面図である。FIG. 2 is a schematic enlarged plan view showing a surface structure of an overhang region of the embodiment.
【図3】同実施形態における張出領域の表面上に絶縁膜
を形成した状態を示す概略拡大平面図である。FIG. 3 is a schematic enlarged plan view showing a state in which an insulating film is formed on a surface of an overhang region in the embodiment.
【図4】同実施形態における張出領域の表面上に異方性
導電膜を被着した状態を示す概略拡大平面図である。FIG. 4 is a schematic enlarged plan view showing a state in which an anisotropic conductive film is applied on the surface of the overhang region in the same embodiment.
【図5】同実施形態における位置決めマークの配置を示
す拡大説明図である。FIG. 5 is an enlarged explanatory view showing an arrangement of positioning marks in the embodiment.
【図6】同実施形態の位置決めマークの変形例を示す拡
大説明図である。FIG. 6 is an enlarged explanatory view showing a modified example of the positioning mark of the embodiment.
【図7】従来の液晶パネルの概略構造を示す概略拡大平
面図である。FIG. 7 is a schematic enlarged plan view showing a schematic structure of a conventional liquid crystal panel.
【図8】従来の液晶パネルの張出領域の表面構造を示す
概略拡大平面図である。FIG. 8 is a schematic enlarged plan view showing a surface structure of an overhang region of a conventional liquid crystal panel.
10 液晶パネル 11,12 基板 111,121 電極層 112,122 絶縁膜 113,123 配向膜 131,134 配線 132,135 異方性導電膜 133 集積回路チップ 136 フレキシブル配線基板 Reference Signs List 10 liquid crystal panel 11, 12 substrate 111, 121 electrode layer 112, 122 insulating film 113, 123 alignment film 131, 134 wiring 132, 135 anisotropic conductive film 133 integrated circuit chip 136 flexible wiring substrate
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Claims (15)
晶を封入してなる液晶封入領域を有し、前記基板の表面
上には前記液晶に電界を与えるための電極及び該電極を
覆う絶縁膜が形成され、一方の前記基板には他方の前記
基板の端部よりも張り出した張出領域が設けられ、該張
出領域の表面上には前記液晶封入領域から引き出され前
記電極に接続された複数の配線が形成されている液晶パ
ネルであって、前記絶縁膜は前記液晶封入領域内ととも
に前記張出領域の表面上にも形成され、前記絶縁膜が前
記張出領域の表面上の前記配線の少なくとも一部を被覆
していることを特徴とする液晶パネル。1. A liquid crystal enclosing region in which liquid crystal is sealed between a pair of substrates bonded to each other, and an electrode for applying an electric field to the liquid crystal and an insulating material covering the electrode are provided on a surface of the substrate. A film is formed, and one of the substrates is provided with an overhang region extending beyond the edge of the other substrate, and the surface of the overhang region is pulled out of the liquid crystal sealing region and connected to the electrode. A liquid crystal panel on which a plurality of wirings are formed, wherein the insulating film is formed on the surface of the overhang region together with the inside of the liquid crystal sealing region, and the insulating film is formed on the surface of the overhang region. A liquid crystal panel which covers at least a part of a wiring.
記配線の導電接続部を露出させる露出開口部が設けられ
ていることを特徴とする液晶パネル。2. The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the insulating film is provided with an exposure opening for exposing a conductive connection portion of the wiring.
積回路若しくは配線部材に導電接続されていることを特
徴とする液晶パネル。3. The liquid crystal panel according to claim 2, wherein the conductive connection portion is conductively connected to an integrated circuit or a wiring member.
前記集積回路若しくは前記配線部材との間に異方性導電
膜が介在していることを特徴とする液晶パネル。4. The conductive connection according to claim 3, wherein:
A liquid crystal panel, wherein an anisotropic conductive film is interposed between the integrated circuit and the wiring member.
前記露出開口部において露出した配線部分のうち少なく
とも保護する必要のある部分を全て被覆するように配置
されていることを特徴とする液晶パネル。5. The semiconductor device according to claim 4, wherein the anisotropic conductive film is disposed so as to cover at least all of the portions of the wiring exposed at the exposed opening that need to be protected. LCD panel.
縁部が前記絶縁膜の縁部に対して重なっていることを特
徴とする液晶パネル。6. The liquid crystal panel according to claim 4, wherein an edge of the anisotropic conductive film overlaps an edge of the insulating film.
晶を封入してなる液晶封入領域を有し、一方の前記基板
には他方の前記基板の端部よりも張り出した張出領域が
設けられた液晶パネルの製造方法において、 一対の前記基板の表面上にそれぞれ電極を形成するとと
もに、前記張出領域に相当する一方の前記基板の表面上
に前記電極に接続された配線を形成し、次に、一方の前
記基板の表面上に前記電極を覆う絶縁膜を形成するとと
もに、該絶縁膜によって前記張出領域に相当する前記基
板の表面上に形成された前記配線のうちの少なくとも一
部を覆い、しかる後に、前記基板を相互に貼り合わせて
前記液晶封入領域を構成することを特徴とする液晶パネ
ルの製造方法。7. A liquid crystal sealing area in which liquid crystal is sealed between a pair of substrates bonded to each other, and one of the substrates is provided with an overhanging area that extends beyond an end of the other substrate. In the method for manufacturing a liquid crystal panel, an electrode is formed on each of the surfaces of the pair of substrates, and a wiring connected to the electrode is formed on a surface of the one substrate corresponding to the overhang region, Next, an insulating film covering the electrode is formed on the surface of one of the substrates, and at least a part of the wiring formed on the surface of the substrate corresponding to the overhang region by the insulating film. And thereafter, bonding the substrates to each other to form the liquid crystal enclosing region.
する一方の前記基板の表面上には、前記配線の導電接続
部を露出させる露出開口部を前記絶縁膜に設けることを
特徴とする液晶パネルの製造方法。8. The insulating film according to claim 7, wherein an exposed opening for exposing a conductive connection portion of the wiring is provided on a surface of the one substrate corresponding to the overhang region. Liquid crystal panel manufacturing method.
って露出された前記導電接続部を集積回路若しくは配線
部材に導電接続することを特徴とする液晶パネルの製造
方法。9. The method for manufacturing a liquid crystal panel according to claim 8, wherein the conductive connection portion exposed by the exposure opening is conductively connected to an integrated circuit or a wiring member.
に異方性導電膜を被着し、該異方性導電膜を介して前記
導電接続部と前記集積回路若しくは前記配線部材とを導
電接続することを特徴とする液晶パネルの製造方法。10. The conductive connection portion according to claim 9, wherein an anisotropic conductive film is applied on the conductive connection portion, and the conductive connection portion and the integrated circuit or the wiring member are electrically connected via the anisotropic conductive film. A method for manufacturing a liquid crystal panel, comprising connecting.
膜を前記露出開口部によって露出された配線部分のうち
少なくとも保護する必要のある部分を全て覆うように被
着することを特徴とする液晶パネルの製造方法。11. The liquid crystal according to claim 10, wherein the anisotropic conductive film is applied so as to cover at least all of the portions of the wiring exposed by the exposure opening that need to be protected. Panel manufacturing method.
膜の縁部を前記絶縁膜の縁部に対して重ねるように被着
することを特徴とする液晶パネルの製造方法。12. The method for manufacturing a liquid crystal panel according to claim 10, wherein the edge of the anisotropic conductive film is attached so as to overlap the edge of the insulating film.
部を位置決めするための第1位置決め部と、前記異方性
導電膜の縁部を位置決めするための第2位置決め部とを
設けることを特徴とする液晶パネルの製造方法。13. The method according to claim 12, wherein a first positioning portion for positioning an edge of the insulating film and a second positioning portion for positioning an edge of the anisotropic conductive film are provided. Characteristic liquid crystal panel manufacturing method.
め部及び前記第2位置決め部を共通の位置決めマークの
周縁部の異なる部分によって構成することを特徴とする
液晶パネル。14. The liquid crystal panel according to claim 13, wherein said first positioning portion and said second positioning portion are formed by different portions of a peripheral portion of a common positioning mark.
1項に記載された液晶パネルを備えた電子機器。15. An electronic device comprising the liquid crystal panel according to claim 1. Description:
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|---|---|---|---|---|
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