JP2000267121A - Liquid crystal display - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】表示性能を向上できる液晶表示装置を提供する
ことを目的とする。
【解決手段】この反射型液晶表示装置では、画素電極1
51を構成する金属製の反射膜は、光吸収性の第1有機
絶縁膜191の上に、さらに透明な第2有機絶縁膜19
2を積層した少なくとも2層の絶縁膜上に形成されてい
る。このため、画素電極151の下地としての絶縁膜が
1層のみの場合と比較して、絶縁膜の表面を平滑化する
ことができる。
(57) [Problem] To provide a liquid crystal display device capable of improving display performance. In a reflection type liquid crystal display device, a pixel electrode is provided.
The metal reflective film constituting the first organic insulating film 51 is further provided on the first organic insulating film 191 having a light-absorbing property.
2 are formed on at least two layers of insulating films. For this reason, the surface of the insulating film can be smoothed as compared with the case where the insulating film as the base of the pixel electrode 151 has only one layer.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置に
係り、特に、反射型の画素電極を備えた反射型液晶表示
装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display, and more particularly to a reflection type liquid crystal display having a reflection type pixel electrode.
【0002】[0002]
【従来の技術】反射型液晶表示装置は、一主面上に形成
されたスイッチング素子及び金属製の反射膜によって形
成された画素電極を有するアレイ基板と、透明な導電性
部材、例えばインジウム−ティン−オキサイドすなわち
ITOによって形成された対向電極を有する対向電極
と、これら基板に挟持された液晶組成物とを備えてい
る。これら基板は、その周囲に液晶封入口を除いて印刷
されたシール材によって固定され、液晶封入口は、封止
剤によって封止されている。また、これらの基板の周囲
には、アレイ基板から対向基板へ電圧を印加するための
電極転移材すなわちトランスファとしての銀ペーストが
配置されている。2. Description of the Related Art A reflection type liquid crystal display device comprises an array substrate having a switching element formed on one main surface and a pixel electrode formed by a metal reflection film, and a transparent conductive member such as indium tin. A counter electrode having a counter electrode formed of oxide, ie, ITO, and a liquid crystal composition sandwiched between these substrates. These substrates are fixed around the periphery thereof by a sealing material printed except for a liquid crystal sealing opening, and the liquid crystal sealing opening is sealed with a sealing agent. Further, around these substrates, an electrode transfer material for applying a voltage from the array substrate to the opposite substrate, that is, a silver paste as a transfer is arranged.
【0003】また、カラー表示用の反射型液晶表示装置
は、アレイ基板または対向基板に、レッド、グリーン、
ブルーの三原色か、シアン、マゼンタ、イエローの三原
色に着色されたカラーフィルタを備えている。[0003] A reflective liquid crystal display device for color display is provided with a red, green, or blue color on an array substrate or a counter substrate.
It has a color filter that is colored in the three primary colors of blue or cyan, magenta, and yellow.
【0004】画素電極は、スイッチング素子上に形成さ
れた有機絶縁膜上に形成され、有機絶縁膜に形成された
スルーホールを介してスイッチング素子に電気的に接続
されている。The pixel electrode is formed on an organic insulating film formed on the switching element, and is electrically connected to the switching element via a through hole formed in the organic insulating film.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上述したような反射型
液晶表示装置では、反射膜としての画素電極を単層の有
機絶縁膜上に直接形成するため、下地となる有機絶縁膜
の凹凸により、画素電極の表面を平滑化することが困難
となる。反射型液晶表示装置では、反射膜としての画素
電極の表面に凹凸が形成されると、対向電極側から入射
した光を乱反射させてしまう。これにより、隣接する画
素に乱反射した光が入射して色のにじみなどの表示不良
を生じさせたり、各画素の輝度の低下を招くといった問
題が発生する。In the above-mentioned reflection type liquid crystal display device, since the pixel electrode as the reflection film is formed directly on the single-layer organic insulating film, the unevenness of the underlying organic insulating film causes It becomes difficult to smooth the surface of the pixel electrode. In a reflection type liquid crystal display device, when irregularities are formed on the surface of a pixel electrode as a reflection film, light incident from the counter electrode side is irregularly reflected. As a result, light irregularly reflected on adjacent pixels may cause a display defect such as color bleeding, or may cause a problem of lowering the brightness of each pixel.
【0006】そこで、この発明は、上述した問題点に鑑
みなされたものであって、その目的は、表示性能を向上
できる液晶表示装置を提供することにある。Accordingly, the present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of improving display performance.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、請求項1に記載の液晶表示装置は、一
主面上の行方向に配列された走査線、これら走査線に直
交するように列方向に配列された信号線、前記走査線と
信号線との交差部に配置されたスイッチング素子、及
び、前記スイッチング素子に電気的に接続された反射型
の画素電極を有する第1基板と、一主面上に配置された
対向電極を有する第2基板と、前記第1基板と第2基板
との間に挟持された液晶組成物と、を備えた液晶表示装
置において、前記画素電極は、前記第1基板の一主面上
に形成された光吸収性の第1有機絶縁膜と、この第1有
機絶縁膜上に形成された透明な第2有機絶縁膜との上層
に形成されたことを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems and to achieve the object, a liquid crystal display device according to the first aspect of the present invention comprises a scanning line arranged in a row direction on one main surface, and a plurality of scanning lines. A signal line arranged in a column direction so as to be orthogonal, a switching element arranged at an intersection of the scanning line and the signal line, and a reflective pixel electrode electrically connected to the switching element. A liquid crystal display device comprising: one substrate; a second substrate having a counter electrode disposed on one main surface; and a liquid crystal composition sandwiched between the first substrate and the second substrate. The pixel electrode is formed on a light absorbing first organic insulating film formed on one main surface of the first substrate and a transparent second organic insulating film formed on the first organic insulating film. It is characterized by being formed.
【0008】この発明の液晶表示装置によれば、画素電
極は、光吸収性の第1有機絶縁膜の上に、さらに透明な
第2有機絶縁膜を積層した少なくとも2層の絶縁膜上に
形成されている。このため、画素電極の下地としての絶
縁膜が1層のみの場合と比較して、2層の絶縁膜の表面
を平滑化することができる。According to the liquid crystal display device of the present invention, the pixel electrode is formed on at least two layers of the light absorbing first organic insulating film and on the transparent second organic insulating film. Have been. Therefore, the surface of the two-layer insulating film can be smoothed as compared with the case where the insulating film as the base of the pixel electrode has only one layer.
【0009】したがって、絶縁膜上に形成された反射膜
の表面を平滑化することが可能となり、対向電極側から
入射した光を指向性よく反射率の低下を招くことなく反
射することが可能となる。これにより、表示不良の発生
や、輝度の低下を招くといった問題を解消し、表示性能
を向上できる液晶表示装置を提供することが可能とな
る。Therefore, the surface of the reflective film formed on the insulating film can be smoothed, and the light incident from the counter electrode can be reflected with good directivity without causing a decrease in reflectance. Become. As a result, it is possible to provide a liquid crystal display device which can solve the problems such as the occurrence of display defects and the decrease in luminance and can improve the display performance.
【0010】また、画素電極の下地となる絶縁膜の表面
を平滑化することにより、反射膜をパターニングする際
に生じうるパターン不良を低減できる。[0010] Further, by smoothing the surface of the insulating film serving as the base of the pixel electrode, pattern defects that may occur when patterning the reflective film can be reduced.
【0011】さらに、絶縁膜を2層構造とすることによ
り、絶縁膜形成時に生じうるピンホールが減少し、信頼
性を向上することが可能となる。Further, when the insulating film has a two-layer structure, pinholes which may be generated when the insulating film is formed are reduced, and the reliability can be improved.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、この発明の液晶表示装置の
実施の形態について図面を参照して説明する。Embodiments of a liquid crystal display device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0013】図1は、この発明の液晶表示装置に適用さ
れる液晶表示パネルの一例を概略的に示す斜視図であ
る。FIG. 1 is a perspective view schematically showing one example of a liquid crystal display panel applied to the liquid crystal display device of the present invention.
【0014】この発明の一実施の形態に係る液晶表示装
置は、アクティブマトリクスタイプの反射型液晶表示装
置であって、図1に示すような液晶表示パネル10を備
えている。A liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention is a reflection type liquid crystal display device of an active matrix type, and includes a liquid crystal display panel 10 as shown in FIG.
【0015】液晶表示パネル10は、図1に示すよう
に、第1基板としてのアレイ基板100と、このアレイ
基板100に対向配置された第2基板としての対向基板
200と、アレイ基板100と対向基板200との間に
配置された液晶組成物とを備えている。このような液晶
表示パネル10において、画像を表示する表示エリア1
02は、アレイ基板100と対向基板200とを貼り合
わせるシール材106によって囲まれた領域内に形成さ
れ、表示エリア102内から引出された各種配線パター
ンを有する周辺エリア104は、シール材106の外側
の領域に形成されている。As shown in FIG. 1, the liquid crystal display panel 10 has an array substrate 100 as a first substrate, an opposing substrate 200 as a second substrate disposed opposite to the array substrate 100, and an opposing substrate. A liquid crystal composition disposed between the substrate and the substrate. In such a liquid crystal display panel 10, a display area 1 for displaying an image is provided.
Numeral 02 is formed in a region surrounded by a seal material 106 for bonding the array substrate 100 and the counter substrate 200, and a peripheral area 104 having various wiring patterns drawn from the display area 102 is located outside the seal material 106. Area.
【0016】アレイ基板100の表示エリア102は、
図2及び図3に示すように、透明な絶縁性基板、例えば
厚さが0.7mmのガラス基板上にマトリクス状に配置
されたmxn個の画素電極151、これら画素電極15
1の行方向に沿って形成されたm本の走査線Y1〜Y
m、これら画素電極151の列方向に沿って形成された
n本の信号線X1〜Xn、mxn個の画素電極151に
対応して走査線Y1〜Ymおよび信号線X1〜Xnの交
差位置近傍に非線形スイッチング素子として配置された
mxn個の薄膜トランジスタすなわちTFT121、走
査線Y1〜Ymを駆動する走査線駆動回路18、これら
信号線X1〜Xnを駆動する信号線駆動回路19を有し
ている。The display area 102 of the array substrate 100 is
As shown in FIGS. 2 and 3, mxn pixel electrodes 151 are arranged in a matrix on a transparent insulating substrate, for example, a glass substrate having a thickness of 0.7 mm.
M scanning lines Y1 to Y formed along one row direction
m, n signal lines X1 to Xn formed along the column direction of these pixel electrodes 151, and near the intersection of the scanning lines Y1 to Ym and the signal lines X1 to Xn corresponding to the mxn pixel electrodes 151. It has mxn thin film transistors or TFTs 121 arranged as non-linear switching elements, a scanning line driving circuit 18 for driving the scanning lines Y1 to Ym, and a signal line driving circuit 19 for driving these signal lines X1 to Xn.
【0017】走査線は、アルミニウムやモリブデン−タ
ングステン合金などの低抵抗材料によって形成されてい
る。信号線は、アルミニウムなどの低抵抗材料によって
形成されているとともに、ガラス基板101上に形成さ
れた酸化シリコンと窒化シリコンとの多層膜からなる絶
縁膜113を介して配設されている。The scanning lines are formed of a low-resistance material such as aluminum or a molybdenum-tungsten alloy. The signal line is formed of a low-resistance material such as aluminum, and is provided via an insulating film 113 formed on the glass substrate 101 and formed of a multilayer film of silicon oxide and silicon nitride.
【0018】画素電極151は、アルミニウムなどの金
属製の反射膜によって形成されている。The pixel electrode 151 is formed of a reflective film made of metal such as aluminum.
【0019】TFT121は、図3に示すように、走査
線から突出した部分をゲート電極112とし、この上に
積層されたゲート絶縁膜113を有している。このゲー
ト絶縁膜113上には、アモルファスシリコン膜すなわ
ちa−Si:H膜によって形成された半導体膜115が
積層されている。As shown in FIG. 3, the TFT 121 has a portion protruding from the scanning line as a gate electrode 112, and has a gate insulating film 113 laminated thereon. On the gate insulating film 113, a semiconductor film 115 formed of an amorphous silicon film, that is, an a-Si: H film is laminated.
【0020】半導体膜115は、ソース電極131を介
して画素電極151に電気的に接続されている。また、
半導体膜115は、信号線から延出されたドレイン電極
132に電気的に接続されている。TFT121は、窒
化シリコン膜等の絶縁膜からなるパッシベーション膜1
71によって覆われている。The semiconductor film 115 is electrically connected to the pixel electrode 151 via the source electrode 131. Also,
The semiconductor film 115 is electrically connected to the drain electrode 132 extending from the signal line. The TFT 121 has a passivation film 1 made of an insulating film such as a silicon nitride film.
71.
【0021】パッシベーション膜171上には、第1有
機絶縁膜として機能する遮光膜191が設けられてい
る。この遮光膜191上には、第2有機絶縁膜としての
透明な絶縁膜192が設けられている。On the passivation film 171, a light shielding film 191 functioning as a first organic insulating film is provided. On this light-shielding film 191, a transparent insulating film 192 as a second organic insulating film is provided.
【0022】画素電極151を構成する反射膜は、透明
な第2有機絶縁膜上に設けられている。この画素電極1
51は、パッシベーション膜171、第1有機絶縁膜1
91、および第2有機絶縁膜192を貫通するスルーホ
ール195を介してTFT121のソース電極131に
電気的に接続されている。The reflection film constituting the pixel electrode 151 is provided on the transparent second organic insulating film. This pixel electrode 1
51 denotes a passivation film 171, a first organic insulating film 1
It is electrically connected to the source electrode 131 of the TFT 121 via a through hole 195 penetrating the second organic insulating film 192 and the second organic insulating film 192.
【0023】このように、画素電極151として機能す
る反射膜は、光吸収性の第1有機絶縁膜191の上に、
さらに透明な第2有機絶縁膜192を積層した少なくと
も2層の絶縁膜上に形成されているため、画素電極15
1の下地としての絶縁膜が1層のみの場合と比較して、
絶縁膜の表面を平滑化することができる。As described above, the reflection film functioning as the pixel electrode 151 is formed on the light absorbing first organic insulating film 191.
Further, since the pixel electrode 15 is formed on at least two layers of the transparent second organic insulating film 192, the pixel electrode 15
Compared to a case where only one insulating film is used as a base,
The surface of the insulating film can be smoothed.
【0024】したがって、第2有機絶縁膜192上に形
成された画素電極151の表面を平滑化することが可能
となり、対向基板200側から入射した光を指向性よ
く、反射率の低下を招くことなく反射することが可能と
なる。これにより、表示不良の発生や、輝度の低下を招
くといった問題を解消し、表示性能を向上できる。Therefore, the surface of the pixel electrode 151 formed on the second organic insulating film 192 can be smoothed, and the light incident from the counter substrate 200 can be made highly directional and the reflectivity can be reduced. It becomes possible to reflect without. As a result, problems such as occurrence of display defects and reduction in luminance can be solved, and display performance can be improved.
【0025】また、画素電極151の下地となる絶縁膜
192の表面を平滑化することにより、画素電極151
をパターニングする際に生じうるパターン不良を低減で
きる。Further, by smoothing the surface of the insulating film 192 as a base of the pixel electrode 151,
Pattern defects that can occur when patterning the substrate can be reduced.
【0026】さらに、絶縁膜を2層構造とすることによ
り、絶縁膜形成時に生じうるピンホールが減少し、信頼
性を向上することが可能となる。Further, by forming the insulating film into a two-layer structure, pinholes that may be generated when the insulating film is formed are reduced, and the reliability can be improved.
【0027】画素電極151の表面は、対向基板200
との間に介在される液晶組成物300を配向させるため
の配向膜141によって覆われている。The surface of the pixel electrode 151 is
Are covered with an alignment film 141 for aligning the liquid crystal composition 300 interposed between the liquid crystal composition 300 and the liquid crystal composition 300.
【0028】各薄膜トランジスタ121は、対応走査線
が走査線駆動回路18によって駆動されることにより対
応行の画素電極151が選択されたときに信号線駆動回
路19によって駆動される信号線X1〜Xnの電位をこ
れら対応行の画素電極151に印加するスイッチング素
子として用いられる。Each of the thin film transistors 121 has a corresponding one of the signal lines X1 to Xn driven by the signal line driving circuit 19 when the corresponding scanning line is driven by the scanning line driving circuit 18 to select the pixel electrode 151 in the corresponding row. It is used as a switching element for applying a potential to the pixel electrodes 151 in the corresponding rows.
【0029】走査線駆動回路18は、水平走査周期で順
次走査線Y1〜Ymに走査電圧を供給し、信号線駆動回
路19は、各水平走査周期において画素信号電圧を信号
線X1〜Xnに供給する。The scanning line driving circuit 18 supplies a scanning voltage to the scanning lines Y1 to Ym sequentially in a horizontal scanning cycle, and the signal line driving circuit 19 supplies a pixel signal voltage to the signal lines X1 to Xn in each horizontal scanning cycle. I do.
【0030】この液晶表示パネル10では、図1に示し
たように、液晶表示装置の外形寸法、特に額縁サイズを
小さく構成するために、詳細に図示しないが、信号線
は、アレイ基板100の周辺エリア104Xの第1端辺
100X側にのみ引き出され、この第1端辺100X側
で信号線に映像データを供給する信号線駆動回路19な
どを含むX制御回路基板421にX−TAB401−
1、401−2、401−3、401−4を介して接続
されている。In the liquid crystal display panel 10, as shown in FIG. 1, although not shown in detail in order to reduce the external dimensions of the liquid crystal display device, particularly, the frame size, signal lines are formed around the array substrate 100. The X-TAB 401-is pulled out only to the first end side 100X side of the area 104X and is connected to the X control circuit board 421 including the signal line driving circuit 19 for supplying video data to the signal lines on the first end side 100X side.
1, 401-2, 401-3, and 401-4.
【0031】また、走査線も、アレイ基板の周辺エリア
104Xにおける第1端辺100Xと直交する第2端辺
100Y側にのみ引き出され、この第2端辺100Y側
で走査線に走査パルスを供給する走査線駆動回路18な
どを含むY制御回路基板431にY−TAB411−
1、411−2を介して接続されている。The scanning lines are also drawn out only to the second side 100Y of the peripheral area 104X of the array substrate which is orthogonal to the first side 100X, and a scanning pulse is supplied to the scanning lines at the second side 100Y. The Y-TAB 411- is mounted on the Y control circuit board 431 including the scanning line driving circuit 18 and the like.
1, 411-2.
【0032】また、アレイ基板100の表示エリア10
2及び周辺エリア104(X、Y)における非画素部、
すなわち信号線103及び走査線111などの配線パタ
ーン、TFT121、画素電極151、周辺額縁部など
の上には、図3に示すように、アレイ基板100と対向
基板200と間に所定幅のギャップを形成するためのス
ペーサ400が配置されている。このスペーサ400
は、10μm角の柱状の単一層の樹脂によって形成さ
れ、5μmの高さを有している。The display area 10 of the array substrate 100
2 and non-pixel portions in the peripheral area 104 (X, Y),
That is, as shown in FIG. 3, a gap having a predetermined width is formed between the array substrate 100 and the counter substrate 200 on the wiring patterns such as the signal lines 103 and the scanning lines 111, the TFT 121, the pixel electrode 151, the peripheral frame portion, and the like. A spacer 400 to be formed is arranged. This spacer 400
Has a height of 5 μm and is formed of a single layer of resin having a column shape of 10 μm square.
【0033】これにより、アレイ基板100と対向基板
200との間のギャップは、約5μmに設定されてい
る。As a result, the gap between the array substrate 100 and the counter substrate 200 is set to about 5 μm.
【0034】対向基板200の表示エリア102は、図
3に示すように、透明な絶縁性基板、例えば厚さが0.
7mmのガラス基板201上に配設されたカラーフィル
タ203を備えている。このカラーフィルタ203は、
対向基板200の画素電極151に対向する領域であっ
て、赤画素(R)領域、緑画素(G)領域、青画素
(B)領域のそれぞれに対応する領域に配置されてい
る。このカラーフィルタ203は、例えば、各色成分の
顔料を分散させた樹脂によって形成されている。As shown in FIG. 3, the display area 102 of the counter substrate 200 has a transparent insulating substrate, for example, having a thickness of 0.1 mm.
A color filter 203 is provided on a 7 mm glass substrate 201. This color filter 203
It is a region facing the pixel electrode 151 of the counter substrate 200, and is arranged in a region corresponding to each of a red pixel (R) region, a green pixel (G) region, and a blue pixel (B) region. The color filter 203 is formed of, for example, a resin in which pigments of each color component are dispersed.
【0035】このカラーフィルタ203の表面は、画素
電極151との間で電位差を形成する透明導電性部材、
例えばインジウム−ティン−オキサイドすなわちITO
によって形成された対向電極204によって覆われてい
る。また、この対向電極204の表面は、アレイ基板1
00との間に介在される液晶組成物300を配向させる
ための配向膜205によって覆われている。The surface of the color filter 203 is formed of a transparent conductive member which forms a potential difference with the pixel electrode 151,
For example, indium-tin-oxide or ITO
Is covered by the counter electrode 204 formed by the above. The surface of the counter electrode 204 is
00 is covered with an alignment film 205 for aligning the liquid crystal composition 300 interposed therebetween.
【0036】対向電極204は、複数の画素電極151
に対向して基準電位に設定される。基板の周囲に配置さ
れた電極転移材すなわちトランスファとしての銀ペース
トは、アレイ基板100から対向基板200へ電圧を供
給するために設けられ、対向電極204は、トランスフ
ァを介して接続された対向電極駆動回路20により駆動
される。The counter electrode 204 includes a plurality of pixel electrodes 151.
Are set to the reference potential. An electrode transfer material, that is, a silver paste as a transfer, disposed around the substrate is provided to supply a voltage from the array substrate 100 to the counter substrate 200, and the counter electrode 204 is connected to the counter electrode drive connected via the transfer. Driven by the circuit 20.
【0037】画素電極151と、対向電極204との間
に挟持された液晶層300により、液晶容量CLを形成
する。The liquid crystal capacitance CL is formed by the liquid crystal layer 300 sandwiched between the pixel electrode 151 and the counter electrode 204.
【0038】アレイ基板100は、液晶容量CLと電気
的に並列に補助容量CSを形成するための一対の電極を
備えている。すなわち、補助容量CSは、画素電極15
1と同電位の補助容量電極61と、所定の電位に設定さ
れた補助容量線52との間に形成される電位差によって
形成される。The array substrate 100 includes a pair of electrodes for forming an auxiliary capacitance CS electrically in parallel with the liquid crystal capacitance CL. That is, the storage capacitor CS is connected to the pixel electrode 15
1 is formed by a potential difference formed between the storage capacitor electrode 61 having the same potential as 1 and the storage capacitor line 52 set to a predetermined potential.
【0039】この液晶表示パネル10の表裏面、すなわ
ちガラス基板201の外面には、液晶表示装置の表示モ
ードや、液晶組成物のツイスト角などに応じて偏向面が
選択された偏光板が必要に応じて配設されている。On the front and back surfaces of the liquid crystal display panel 10, that is, on the outer surface of the glass substrate 201, a polarizing plate having a deflecting surface selected according to the display mode of the liquid crystal display device and the twist angle of the liquid crystal composition is required. It is arranged according to.
【0040】次に、図3に示した液晶表示装置の製造方
法について説明する。Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device shown in FIG. 3 will be described.
【0041】すなわち、厚さ0.7mmのコーニング社
製の#1737ガラス基板101上に、走査線Y及びT
FT121のゲート電極112を形成するアルミニウム
やモリブデン−タングステン合金、ゲート絶縁膜113
を形成する酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜の多層
膜、TFT121の半導体膜としてのアモルファスシリ
コン膜115、信号線X、ソース電極131及びドレイ
ン電極132を形成するアルミニウム、パッシベーショ
ン膜171を形成する窒化シリコン膜などを、それぞれ
成膜し、パターニングする。That is, the scanning lines Y and T are placed on a 0.7 mm thick # 1737 glass substrate 101 manufactured by Corning.
Aluminum, molybdenum-tungsten alloy, gate insulating film 113 for forming gate electrode 112 of FT 121
, A multilayer film of a silicon oxide film and a silicon nitride film, an amorphous silicon film 115 as a semiconductor film of the TFT 121, aluminum for forming the signal line X, the source electrode 131 and the drain electrode 132, and a silicon nitride film for forming the passivation film 171. Are formed and patterned.
【0042】これにより、ガラス基板101の一主面上
の行方向に配列された複数の走査線Y、これら走査線Y
に直交するように行方向に配列された信号線X、走査線
Yと信号線Xとの交差部に配置されたスイッチング素子
121、及びこれらを覆うパッシベーション膜171を
形成する。As a result, a plurality of scanning lines Y arranged in a row direction on one main surface of the glass substrate 101, and the scanning lines Y
The signal lines X, the switching elements 121 arranged at the intersections of the scanning lines Y and the signal lines X, and the passivation film 171 covering these are formed.
【0043】続いて、パッシベーション膜171に、T
FT121のソース電極131に貫通するスルーホール
195を形成する。Subsequently, the passivation film 171 has T
A through hole 195 penetrating through the source electrode 131 of the FT 121 is formed.
【0044】続いて、パッシベーション膜171上に、
光吸収性の第1有機絶縁膜191を成膜する。すなわ
ち、アレイ基板100の一主面上に、有機顔料を含む感
光性のカーボンレス黒色樹脂をスピンナーを用いて2.
0μmの膜厚で塗布し、90℃で10分間乾燥する。そ
の後、この感光性樹脂を、所定のパターン形状のフォト
マスクを用いて365nmの波長で、300mJ/cm
2 の露光量で露光したあと、pH11.5のアルカリ水
溶液によって現像する。そして、200℃で60分間焼
成することにより、膜厚2.0μmの遮光膜としての第
1有機絶縁膜191を形成する。Subsequently, on the passivation film 171,
A light absorbing first organic insulating film 191 is formed. That is, a photosensitive carbonless black resin containing an organic pigment is coated on one main surface of the array substrate 100 by using a spinner.
Coat with a thickness of 0 μm and dry at 90 ° C. for 10 minutes. Thereafter, the photosensitive resin was applied at a wavelength of 365 nm to 300 mJ / cm using a photomask having a predetermined pattern shape.
After the exposure with the exposure amount of 2 , development is performed with an aqueous alkaline solution having a pH of 11.5. Then, by baking at 200 ° C. for 60 minutes, a first organic insulating film 191 as a light-shielding film having a thickness of 2.0 μm is formed.
【0045】このとき、同時に、TFT121のソース
電極131に貫通するスルーホール195を形成する。At this time, a through hole 195 penetrating through the source electrode 131 of the TFT 121 is formed at the same time.
【0046】なお、この実施の形態では、第1有機絶縁
膜191として黒色の感光性樹脂を用いたが、光吸収性
が十分であれば、青色であってもよい。In this embodiment, the first organic insulating film 191 is made of a black photosensitive resin, but may be blue as long as the light absorbing property is sufficient.
【0047】続いて、第1有機絶縁膜191上に、透明
な第2有機絶縁膜192を成膜する。すなわち、アレイ
基板100の一主面上に、感光性の透明樹脂をスピンナ
ーを用いて2.0μmの膜厚で塗布し、80℃で2分間
乾燥する。その後、この感光性樹脂を、所定のパターン
形状のフォトマスクを用いて365nmの波長で、50
0mJ/cm2 の露光量で露光したあと、pH11.5
のアルカリ水溶液によって現像する。そして、200℃
で60分間焼成することにより、膜厚1.5μmの透明
な絶縁膜としての第2有機絶縁膜192を形成する。Subsequently, a transparent second organic insulating film 192 is formed on the first organic insulating film 191. That is, a photosensitive transparent resin is applied on one main surface of the array substrate 100 with a thickness of 2.0 μm using a spinner, and dried at 80 ° C. for 2 minutes. After that, the photosensitive resin is coated with a photomask having a predetermined pattern at a wavelength of 365 nm and a thickness of 50 nm.
After exposure at an exposure of 0 mJ / cm 2 , pH 11.5
Develop with an aqueous alkali solution. And 200 ° C
For 60 minutes to form a second organic insulating film 192 as a transparent insulating film having a thickness of 1.5 μm.
【0048】このとき、同時に、TFT121のソース
電極131に貫通するスルーホール195を形成する。At this time, a through hole 195 penetrating through the source electrode 131 of the TFT 121 is formed at the same time.
【0049】続いて、第2有機絶縁膜192上に、金属
製の反射膜すなわち画素電極151を成膜する。すなわ
ち、アレイ基板100の一主面上に、アルミニウムをス
パッタリング法により成膜する。このとき、スルーホー
ル195にもアルミニウムを充填し、TFT121のソ
ース電極131に電気的に接続する。その後、このアル
ミニウム薄膜を、所定の画素電極形状にパターニングす
る。これより、反射型の画素電極151を形成する。Subsequently, a metal reflection film, that is, a pixel electrode 151 is formed on the second organic insulating film 192. That is, aluminum is formed on one main surface of the array substrate 100 by a sputtering method. At this time, the through hole 195 is also filled with aluminum, and is electrically connected to the source electrode 131 of the TFT 121. Thereafter, the aluminum thin film is patterned into a predetermined pixel electrode shape. Thus, a reflective pixel electrode 151 is formed.
【0050】続いて、アレイ基板100の一主面上にア
クリル系のネガ型レジストを塗布し、所定のパターン形
状のフォトマスクを介して、365nmの波長で、10
0mJ/cm2 の露光量で露光したあと、TMAH、す
なわちテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水
溶液によって50秒間現像し、焼成することにより、所
定位置に柱状のスペーサ400を形成する。Subsequently, an acrylic negative resist is applied on one main surface of the array substrate 100, and is applied with a wavelength of 365 nm at a wavelength of 365 nm through a photomask having a predetermined pattern shape.
After exposure at an exposure amount of 0 mJ / cm 2 , development is performed with TMAH, that is, an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide for 50 seconds, and baking is performed to form a columnar spacer 400 at a predetermined position.
【0051】続いて、配向膜材料として、ポリイミドを
全面に塗布し、ラビング処理を行うことにより、配向膜
141を形成する。Subsequently, an alignment film 141 is formed by applying polyimide as an alignment film material over the entire surface and performing a rubbing process.
【0052】一方、厚さ0.7mmのコーニング社製の
#1737ガラス基板201上に、カラーフィルタ20
3、対向電極204、及び配向膜205をそれぞれ形成
し、対向基板200を形成する。On the other hand, a color filter 20 was placed on a Corning # 1737 glass substrate 201 having a thickness of 0.7 mm.
3. The counter electrode 204 and the alignment film 205 are respectively formed, and the counter substrate 200 is formed.
【0053】なお、この実施の形態では、対向基板20
0側にカラーフィルタ203を設けたが、アレイ基板1
00側に設けても良い。In this embodiment, the counter substrate 20
Although the color filter 203 is provided on the 0 side, the array substrate 1
It may be provided on the 00 side.
【0054】続いて、対向基板200の配向膜205周
辺に沿って、液晶注入口を除いて、シール材106を印
刷する。さらに、アレイ基板100側から対向基板20
0側の対向電極204に電圧を供給するための電極転移
材を、シール材106周辺の電極転移電極上に形成す
る。Subsequently, the sealing material 106 is printed along the periphery of the alignment film 205 of the counter substrate 200 except for the liquid crystal injection port. Further, from the array substrate 100 side, the counter substrate 20
An electrode transfer material for supplying a voltage to the 0-side counter electrode 204 is formed on the electrode transfer electrode around the seal member 106.
【0055】続いて、配向膜141及び205が互いに
対向するようにガラス基板101及び201を配置し、
加熱してシール材106を硬化させ、2枚の基板を貼り
合せる。Subsequently, the glass substrates 101 and 201 are arranged so that the alignment films 141 and 205 face each other.
Heat is applied to cure the sealing material 106, and the two substrates are bonded to each other.
【0056】続いて、液晶注入口から、液晶組成物30
0としてZLI−1565(E.メルク社製)にカイラ
ル剤S811を0.1wt%添加したしたものを注入
し、液晶注入口を紫外線硬化樹脂で封止することによ
り、反射型液晶表示装置を形成する。Subsequently, the liquid crystal composition 30 was injected through the liquid crystal injection port.
A reflection type liquid crystal display device is formed by injecting a mixture obtained by adding 0.1 wt% of chiral agent S811 to ZLI-1565 (manufactured by E. Merck) as 0, and sealing the liquid crystal injection port with an ultraviolet curing resin. I do.
【0057】このようにして製造された反射型液晶表示
装置は、反射型の画素電極の下地となる絶縁膜を光吸収
性の有機絶縁膜と透明な有機絶縁膜からなる少なくとも
2層の絶縁膜によって形成したことにより、絶縁膜表面
を平滑化することが可能となり、画素電極自体の表面を
平滑化することが可能となる。したがって、対向電極側
から入射した光を指向性よく、反射率の低下を招くこと
なく反射することが可能となる。In the reflection type liquid crystal display device manufactured as described above, the insulating film serving as the base of the reflective pixel electrode is formed of at least two insulating films made of a light absorbing organic insulating film and a transparent organic insulating film. Thus, the surface of the insulating film can be smoothed, and the surface of the pixel electrode itself can be smoothed. Therefore, it is possible to reflect light incident from the counter electrode side with good directivity and without lowering the reflectance.
【0058】また、反射型の画素電極間に形成される間
隙は、光吸収性の有機絶縁膜によって遮光されているた
め、画素間の光の漏れを防止し、常時黒表示することが
可能となる。Further, since the gap formed between the reflective pixel electrodes is shielded from light by the light-absorbing organic insulating film, it is possible to prevent light from leaking between the pixels and always perform black display. Become.
【0059】これにより、表示不良の発生や、輝度の低
下を招くといった問題を解消し、表示性能を向上できる
液晶表示装置を提供することが可能となる。As a result, it is possible to provide a liquid crystal display device which can solve the problems such as the occurrence of display defects and the decrease in luminance and can improve the display performance.
【0060】[0060]
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、表示性能を向上できる液晶表示装置を提供すること
ができる。As described above, according to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal display device capable of improving display performance.
【図1】図1は、この発明の液晶表示装置に適用される
液晶表示パネルの一例を概略的に示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view schematically showing an example of a liquid crystal display panel applied to a liquid crystal display device of the present invention.
【図2】図2は、この発明の液晶表示装置の構成を概略
的に示す図である。FIG. 2 is a diagram schematically showing a configuration of a liquid crystal display device of the present invention.
【図3】図3は、この発明の液晶表示装置の構造を概略
的に示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view schematically showing a structure of the liquid crystal display device of the present invention.
10…液晶パネル 100…アレイ基板 121…薄膜トランジスタ 151…画素電極 191…第1有機絶縁膜 192…第2有機絶縁膜 195…スルーホール 200…対向基板 204…対向電極 300…液晶組成物 400…スペーサ Reference Signs List 10 liquid crystal panel 100 array substrate 121 thin film transistor 151 pixel electrode 191 first organic insulating film 192 second organic insulating film 195 through hole 200 counter substrate 204 counter electrode 300 liquid crystal composition 400 spacer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H092 JA26 JA29 JA35 JA36 JA38 JA42 JA44 JA46 JB13 JB23 JB32 JB33 JB38 JB52 JB57 JB63 JB69 KA05 KA07 KA12 KA16 KA18 KB25 MA05 MA08 MA14 MA15 MA16 MA18 MA19 MA20 MA27 MA32 MA35 MA37 MA41 NA01 NA19 NA25 NA29 PA12 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H092 JA26 JA29 JA35 JA36 JA38 JA42 JA44 JA46 JB13 JB23 JB32 JB33 JB38 JB52 JB57 JB63 JB69 KA05 KA07 KA12 KA16 KA18 KB25 MA05 MA08 MA14 MA15 MA16 MA18 MA19 MA35 MA32 NA19 NA25 NA29 PA12
Claims (8)
れら走査線に直交するように列方向に配列された信号
線、前記走査線と信号線との交差部に配置されたスイッ
チング素子、及び、前記スイッチング素子に電気的に接
続された反射型の画素電極を有する第1基板と、 一主面上に配置された対向電極を有する第2基板と、 前記第1基板と第2基板との間に挟持された液晶組成物
と、を備えた液晶表示装置において、 前記画素電極は、前記第1基板の一主面上に形成された
光吸収性の第1有機絶縁膜と、この第1有機絶縁膜上に
形成された第2有機絶縁膜との上層に形成されたことを
特徴とする液晶表示装置。1. A scanning line arranged in a row direction on one main surface, a signal line arranged in a column direction orthogonal to these scanning lines, and arranged at an intersection of the scanning line and the signal line. A first substrate having a switching element and a reflective pixel electrode electrically connected to the switching element; a second substrate having a counter electrode disposed on one principal surface; A liquid crystal composition sandwiched between two substrates, wherein the pixel electrode comprises: a light-absorbing first organic insulating film formed on one main surface of the first substrate; A liquid crystal display device formed above the first organic insulating film and the second organic insulating film.
いることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first organic insulating film contains an organic pigment.
特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first organic insulating film is black.
特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first organic insulating film is blue.
徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。5. The liquid crystal display according to claim 1, wherein the first organic insulating film is transparent.
ラーフィルタを備えたことを特徴とする請求項1に記載
の液晶表示装置。6. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the second substrate includes a color filter formed on one main surface.
れたカラーフィルタを備えたことを特徴とする請求項1
に記載の液晶表示装置。7. The device according to claim 1, wherein the first substrate includes a color filter formed on the pixel electrode.
3. The liquid crystal display device according to 1.
基板との間に所定間隔の間隙を形成するための柱状のス
ペーサを備えたことを特徴とする請求項1に記載の液晶
表示装置。8. The liquid crystal display device, wherein the first substrate and the second substrate
2. The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a columnar spacer for forming a predetermined gap between the substrate and the substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11071601A JP2000267121A (en) | 1999-03-17 | 1999-03-17 | Liquid crystal display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11071601A JP2000267121A (en) | 1999-03-17 | 1999-03-17 | Liquid crystal display |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000267121A true JP2000267121A (en) | 2000-09-29 |
Family
ID=13465353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11071601A Pending JP2000267121A (en) | 1999-03-17 | 1999-03-17 | Liquid crystal display |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000267121A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100778985B1 (en) | 2005-01-19 | 2007-11-22 | 샤프 가부시키가이샤 | Liquid crystal display |
-
1999
- 1999-03-17 JP JP11071601A patent/JP2000267121A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100778985B1 (en) | 2005-01-19 | 2007-11-22 | 샤프 가부시키가이샤 | Liquid crystal display |
| US7463327B2 (en) | 2005-01-19 | 2008-12-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display |
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