JP2000267073A - Color liquid crystal display panel and its production - Google Patents
Color liquid crystal display panel and its productionInfo
- Publication number
- JP2000267073A JP2000267073A JP11075419A JP7541999A JP2000267073A JP 2000267073 A JP2000267073 A JP 2000267073A JP 11075419 A JP11075419 A JP 11075419A JP 7541999 A JP7541999 A JP 7541999A JP 2000267073 A JP2000267073 A JP 2000267073A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- crystal display
- plastic sheet
- display panel
- color liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 90
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 118
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 88
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims abstract description 71
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 50
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 49
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 31
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 31
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 13
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 10
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 9
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 8
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 7
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 7
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 claims description 5
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 claims description 5
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 5
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 5
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 claims description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 abstract description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 35
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 8
- 241000981595 Zoysia japonica Species 0.000 description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 229920002457 flexible plastic Polymers 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002964 rayon Substances 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はカラー液晶表示パネ
ルの構造及びその製造方法に関して、特に詳しくは、薄
型で軽量化が実現しうるカラー液晶表示パネルの構造及
びその製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a structure of a color liquid crystal display panel and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a structure of a color liquid crystal display panel capable of realizing a thin and light weight and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶表示パネルは、低消費電力・低電圧
動作・薄型・軽量などの特徴と、カラー化・高精細化・
大画面化などの技術革新により電卓、時計からノートパ
ソコン、モニター等さまざまな商品に使用されており、
今後も一層の用途拡大が期待されている。2. Description of the Related Art Liquid crystal display panels are characterized by low power consumption, low voltage operation, thinness and light weight, as well as colorization and high definition.
Due to technological innovations such as large screens, it is used for various products such as calculators, watches, notebook computers, monitors, etc.
Further expansion of applications is expected in the future.
【0003】なかでも携帯機器用の液晶表示パネルとし
て、最近では従来の液晶表示パネルより薄型・軽量化で
優れているプラスチック液晶表示パネルが開発され始め
ている。プラスチック液晶表示パネルとは、従来のガラ
ス基板の替わりにプラスチックシートあるいはフィルム
を基板として使用した液晶表示パネルのことを意味す
る。In particular, as a liquid crystal display panel for a portable device, a plastic liquid crystal display panel, which is thinner and lighter than a conventional liquid crystal display panel, has been recently developed. The plastic liquid crystal display panel means a liquid crystal display panel using a plastic sheet or film as a substrate instead of a conventional glass substrate.
【0004】しかしながら、プラスチック基板を用いた
液晶表示パネルとしては電卓や時計等で採用されている
に過ぎず、しかもSTN方式に限られておりノートパソ
コンやモニター等で広く採用されているTFT方式の液
晶表示パネルとしては実用化されるには至っていないの
が現状である。TFT方式の液晶表示パネルで実用化さ
れていない理由としては、対向基板側この場合プラスチ
ック基板上にカラーフィルタを形成しなければならない
ためである。However, a liquid crystal display panel using a plastic substrate is only used in calculators and watches, etc., and is limited to the STN type, and is widely used in notebook computers and monitors. At present, it has not been put to practical use as a liquid crystal display panel. The reason why the TFT type liquid crystal display panel has not been put to practical use is that a color filter must be formed on the counter substrate side, in this case, on a plastic substrate.
【0005】即ち、カラーフィルタを構成するものとし
ては、ブラックマトリクス及びRGBの各色フィルタ、
それに透明共通電極である。係るプラスチック基板上に
カラーフィルタを形成するためには、当該プラスチック
基板としては、まずブラックマトリクス及びRGBの色
フィルタをパターニングする過程でさらされるエッチン
グ液等の溶剤に対する耐性、それらを硬化させる際の熱
に対する耐性、さらには外部からの酸素や水蒸気による
吸湿を押さえるためのガスバリアー性等を有している必
要がある。[0005] That is, as a component of a color filter, black matrix and RGB color filters,
And a transparent common electrode. In order to form a color filter on such a plastic substrate, the plastic substrate must first be resistant to a solvent such as an etchant that is exposed in the process of patterning the black matrix and the RGB color filters, and must be heated when curing them. It is necessary to have resistance to water, gas barrier properties for suppressing moisture absorption by external oxygen and water vapor, and the like.
【0006】従って、従来のプラスチック基板に付加さ
れている機能は、耐溶剤性、耐PRプロセス性、耐熱
性、耐ガスバリアー性等である。 これらの機能を保持
させるために各種保護膜を基材であるプラスチックシー
トの表裏にコーティングしている。図10は、従来のプ
ラスチック基板の構成を示す断面図であり、図11はそ
のプラスチック基板を使用したTFT方式のカラー液晶
表示パネルの断面図である。Accordingly, functions added to the conventional plastic substrate include solvent resistance, PR process resistance, heat resistance, gas barrier resistance, and the like. In order to maintain these functions, various protective films are coated on the front and back of a plastic sheet as a base material. FIG. 10 is a sectional view showing a configuration of a conventional plastic substrate, and FIG. 11 is a sectional view of a TFT type color liquid crystal display panel using the plastic substrate.
【0007】まずプラスチック基板17の中央には基材
となるプラスチックシート18があり、その表裏には耐
ガスバリアー性を有する酸化珪素蒸着膜等のガスバリア
ー膜19が形成されている。さらにその表面には耐溶剤
性及び耐PRプロセス性を有する有機膜の積層構造から
なる耐溶剤膜28が形成されている。First, a plastic sheet 18 serving as a base material is provided at the center of a plastic substrate 17, and a gas barrier film 19 such as a silicon oxide vapor-deposited film having gas barrier resistance is formed on the front and back surfaces thereof. Further, a solvent-resistant film 28 having a laminated structure of an organic film having solvent resistance and PR process resistance is formed on the surface thereof.
【0008】このように複数の耐性膜が積層された構造
の場合、それら耐性膜の応力によりプラスチック基板が
変形してしまうという欠点があった。また生産性も悪く
歩留まり等へも悪影響を及ぼしていた。さらにはこのよ
うな積層膜からなるプラスチック基板を図11のように
TFT方式カラー液晶パネルの対向基板として使用した
場合も、パターニングされたブラックマトリクス9及び
RGBの各色フィルタ11、13(Gは図示せず)の応
力による基板の反り、変形等が生じ実用化されるには至
っていない。In the case of such a structure in which a plurality of resistant films are stacked, there is a disadvantage that the plastic substrate is deformed by the stress of the resistant films. In addition, the productivity was poor and the yield was adversely affected. Further, when a plastic substrate made of such a laminated film is used as a counter substrate of a TFT type color liquid crystal panel as shown in FIG. 11, the patterned black matrix 9 and RGB color filters 11, 13 (G is not shown). However, warpage, deformation and the like of the substrate due to the stress of (1) occur, and the substrate has not been put to practical use.
【0009】そこで、例えば特開昭60−130720
ではプラスチック基板の外側にカラー画素を印刷して形
成する技術が開示されている。この技術によれば、PR
プロセスは使用しないために耐溶剤膜の構成は簡素化で
きる。しかしながらプラスチック基板の外側にカラー画
素を形成するために、その表面に保護膜が必要となって
いる。For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-130720 discloses
Discloses a technique of printing and forming color pixels on the outside of a plastic substrate. According to this technology, PR
Since no process is used, the structure of the solvent-resistant film can be simplified. However, in order to form color pixels outside the plastic substrate, a protective film is required on the surface.
【0010】しかも応力の問題は解決されておらず、こ
の方法においてもTFT方式のカラー液晶表示パネルは
実用化されていない。一方、特開平4−359223号
公報には、プラスチックフィルム基板にカラーフィルタ
とガスバリアー層と透明電極とが一体的に形成されたカ
ラー液晶表示用電極基板に関して記載されているが、プ
ラスチックフィルム基板に上記した多数の電極や薄膜を
形成することは、基板の耐熱性、耐溶剤性等に問題があ
り、又特性上大型の表示装置を製作出来ないという問題
もあって、実用化は全く成されていないのが実情であ
る。Furthermore, the problem of stress has not been solved, and even in this method, a TFT type color liquid crystal display panel has not been put to practical use. On the other hand, JP-A-4-359223 describes a color liquid crystal display electrode substrate in which a color filter, a gas barrier layer and a transparent electrode are integrally formed on a plastic film substrate. Forming a large number of electrodes and thin films as described above has problems in heat resistance, solvent resistance, etc. of the substrate, and there is also a problem that a large-sized display device cannot be manufactured due to its characteristics. It is not the fact.
【0011】更に、特開平8−6039号公報には、プ
ラスチック基板とガラス基板との間に光硬化型接合材を
挿入して両者を接合する液晶表示素子に関して記載され
ているが、当該公報には、単に当該プラスチック基板と
ガラス基板との間に液晶を挿入する構成が示されている
のみで、CFオンTFTパネルを使用する技術に関して
は何等記載されてはいない。Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. H8-6039 describes a liquid crystal display element in which a photo-curing type bonding material is inserted between a plastic substrate and a glass substrate to bond them together. Discloses only a configuration in which liquid crystal is inserted between the plastic substrate and the glass substrate, but does not disclose anything about a technique using a CF on TFT panel.
【0012】次に、特開平9−80420号公報及び特
開平10−161104号公報に於いては、二枚の透明
な可撓性を有するプラスチックフィルムの間に液晶が封
入されている液晶素子本体であって、当該プラスチック
フィルムの外表面にカラーフィルタを形成したカラー液
晶表示素子に関して記載されているが、特開昭60−1
30720号公報と同様に、プラスチック基板の外側に
カラー画素を印刷する事は、保護膜を必要とするなど、
工程の増加、コスト増大に繋がり、低コストで薄く軽量
なカラー液晶表示パネルを製造する事は不可能である。Next, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 9-80420 and 10-161104 disclose a liquid crystal element body in which liquid crystal is sealed between two transparent flexible plastic films. This publication describes a color liquid crystal display device in which a color filter is formed on the outer surface of the plastic film.
As in the case of Japanese Patent No. 30720, printing color pixels on the outside of a plastic substrate requires a protective film.
This leads to an increase in the number of steps and cost, and it is impossible to manufacture a low-cost, thin and lightweight color liquid crystal display panel.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、耐溶剤膜をなくし、プラスチックシート及びガスバ
リアー膜のみで構成されるプラスチック基板を使用した
TFT方式のカラー液晶表示パネルを提供すると共に、
その製造方法を提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a TFT type color liquid crystal display panel using a plastic substrate composed of only a plastic sheet and a gas barrier film without a solvent-resistant film. ,
An object of the present invention is to provide a manufacturing method thereof.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成する為、以下に示す様な基本的な技術構成を採用す
るものである。即ち、本発明に於ける第1の態様として
は、薄膜トランジスタが形成された基板上にカラーフィ
ルタを形成したパネル(以下CFオンTFTパネルと呼
ぶ)と、ガスバリアー膜が表面に形成されたプラスチッ
クシートからなる対向基板とで構成されたカラー液晶表
示パネルであり、又本発明に於ける第2の態様として
は、薄膜トランジスタが形成された基板上にカラーフィ
ルタを形成したパネルを下基板として使用し、ガスバリ
アー膜が表面に形成されたプラスチックシートからなる
当該下基板に対向する上基板として使用して、当該両基
板を合体させるカラー液晶表示パネルの製造方法であ
る。In order to achieve the above-mentioned object, the present invention employs the following basic technical structure. That is, as a first aspect of the present invention, a panel in which a color filter is formed on a substrate on which a thin film transistor is formed (hereinafter referred to as a CF on TFT panel) and a plastic sheet having a gas barrier film formed on the surface thereof A color liquid crystal display panel comprising: a counter substrate comprising a color filter formed on a substrate on which a thin film transistor is formed; and This is a method of manufacturing a color liquid crystal display panel in which a gas barrier film is used as an upper substrate facing a lower substrate made of a plastic sheet having a surface formed thereon and the two substrates are combined.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】本発明に係る当該カラー液晶表示
パネル及び当該カラー液晶表示パネルの製造方法は、上
記した様な技術構成を採用しているので、カラー液晶表
示パネルの薄膜フィルムトランジスタTFT(Thin Fil
m Transistor)基板上にカラーフィルタを形成したパネ
ル(以下CFオンTFTパネルと呼ぶ)において、対向
基板側をプラスチックシート及びガスバリアー膜からな
るプラスチック基板としたことである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The color liquid crystal display panel and the method of manufacturing the color liquid crystal display panel according to the present invention employ the above-described technical configuration. Thin Fil
m Transistor) In a panel in which a color filter is formed on a substrate (hereinafter referred to as a CF on TFT panel), a counter substrate side is a plastic substrate composed of a plastic sheet and a gas barrier film.
【0016】従って、本発明に於けるCFオンTFT構
造のパネルにおいては、対向基板側にはベタの透明共通
電極さえあれば良くクロム等のメタルのPRプロセスは
通らないため、対向基板としては耐薬品性・耐溶剤性を
考慮する必要がない。それ故、本発明のCFオンTFT
パネルのプラスチック基板の構成は、外部からのガスの
影響を遮断すると同時に内部から発生するガスも遮断す
るガスバリアー膜を表裏にコーティングしたプラスチッ
クシートからなる。Therefore, in the panel having a CF-on-TFT structure according to the present invention, only a solid transparent common electrode is required on the counter substrate side, and the PR process of metal such as chromium does not pass. There is no need to consider chemical and solvent resistance. Therefore, the CF-on TFT of the present invention
The plastic substrate of the panel consists of a plastic sheet coated on both sides with a gas barrier film that blocks the influence of gas from the outside and also blocks the gas generated from inside.
【0017】その結果、本発明に於ける効果としては、
プラスチック基板を用いることによるカラー液晶表示パ
ネルの薄型・軽量化。 また対向基板であるプラスチッ
ク基板の耐溶剤膜の削除が可能となる。また、プラスチ
ック基板の熱膨張を抑えるために、基板に凹部を設け正
常なパネルギャップを提供する事が可能となる。As a result, the effects of the present invention include:
Thin and lightweight color liquid crystal display panel by using plastic substrate. Also, the solvent-resistant film of the plastic substrate as the opposing substrate can be deleted. Further, in order to suppress the thermal expansion of the plastic substrate, it is possible to provide a concave portion in the substrate to provide a normal panel gap.
【0018】[0018]
【実施例】以下に、本発明に係る半導体装置及び半導体
装置の製造方法に関する一具体例の構成を図面を参照し
ながら詳細に説明する。即ち、図1は、本発明に係る当
該カラー液晶表示パネル構成の一具体例を示す断面図で
あり、図中、薄膜トランジスタが形成された基板1上に
カラーフィルタ11、13を形成したパネル50(以下
CFオンTFTパネルと呼ぶ)と、ガスバリアー膜1
9、19’が表面に形成されたプラスチックシート18
からなる対向基板17とで構成されたカラー液晶表示パ
ネル100が示されている。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view showing a semiconductor device according to the present invention. That is, FIG. 1 is a cross-sectional view showing a specific example of the configuration of the color liquid crystal display panel according to the present invention. In the drawing, a panel 50 (FIG. 1) in which color filters 11 and 13 are formed on a substrate 1 on which a thin film transistor is formed. (Hereinafter referred to as CF-on TFT panel) and gas barrier film 1
Plastic sheet 18 having surfaces 9 and 19 'formed thereon
1 shows a color liquid crystal display panel 100 including a counter substrate 17 made of a liquid crystal display.
【0019】本発明に於て使用される当該プラスチック
シート18は、ガラスと同等の光透過性を有し、且つ当
該ガスバリアー膜19、19’の形成材料に対する溶剤
に対して耐性を有する材料で構成されている事が望まし
い。又、本発明に於ける当該プラスチックシート18
は、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテル
スルホン、環状非晶質ポリオレフィンなどの非晶性の熱
可塑性樹脂や多官能アクリレート、多官能ポリオレフィ
ン、不飽和ポリエステル、エポキシ樹脂などの熱硬化性
樹脂等から選択された一つのプラスチック材料が使用さ
れる事が望ましい。The plastic sheet 18 used in the present invention is a material having the same light transmittance as glass and having resistance to a solvent for the material for forming the gas barrier films 19 and 19 '. It is desirable to be configured. Further, the plastic sheet 18 according to the present invention.
Is selected from amorphous thermoplastic resins such as polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, and cyclic amorphous polyolefin, and thermosetting resins such as polyfunctional acrylate, polyfunctional polyolefin, unsaturated polyester, and epoxy resin. Preferably, only one plastic material is used.
【0020】更に、本発明に於ける当該ガスバリアー膜
19、19’の形成材料は、ポリビニルアルコール、ポ
リアクリロニトリル、酸化珪素蒸着膜から選択された一
つの材料である事が望ましい。一方、本発明に於ては、
当該プラスチックシート18の少なくとも片面に当該ガ
スバリアー膜19が形成されていれば良いが、好ましい
態様としては、当該プラスチックシート18の両面に当
該ガスバリアー膜19、19’が形成されている事が好
ましい。Further, the material for forming the gas barrier films 19 and 19 'in the present invention is desirably one material selected from polyvinyl alcohol, polyacrylonitrile, and a silicon oxide vapor-deposited film. On the other hand, in the present invention,
As long as the gas barrier film 19 is formed on at least one surface of the plastic sheet 18, it is preferable that the gas barrier films 19 and 19 ′ be formed on both surfaces of the plastic sheet 18. .
【0021】又、本発明に係る当該カラー液晶表示パネ
ル100のより具体的な構成としては、例えば、当該プ
ラスチックシート18の当該CFオンTFTパネル50
側に於ける当該ガスバリアー膜19’上に、透明共通電
極20及び配向膜21が形成され、当該プラスチックシ
ート18の反対側のガスバリアー膜19上に偏光板25
が形成されているカラー液晶表示パネル100である。A more specific configuration of the color liquid crystal display panel 100 according to the present invention is, for example, the CF-on TFT panel 50 of the plastic sheet 18.
A transparent common electrode 20 and an alignment film 21 are formed on the gas barrier film 19 ′ on the side of the plastic sheet 18, and a polarizing plate 25 is formed on the gas barrier film 19 on the opposite side of the plastic sheet 18.
Is formed on the color liquid crystal display panel 100.
【0022】又、本発明に係る当該カラー液晶表示パネ
ル100に於いて、当該プラスチックシートからなる上
側プラスチック基板17の少なくとも一部に適宜の大き
さの凹部27が設けられている事も望ましい。次に、本
発明に係るカラー液晶表示パネル100のより詳細な具
体例を図面を参照しながら説明する。In the color liquid crystal display panel 100 according to the present invention, it is preferable that at least a part of the upper plastic substrate 17 made of the plastic sheet is provided with a recess 27 of an appropriate size. Next, a more specific example of the color liquid crystal display panel 100 according to the present invention will be described with reference to the drawings.
【0023】図1は本発明のCFオンTFTパネルを使
用したカラー液晶表示素子の断面図であり、図2は、本
発明に於けるCFオンTFT構造を有するパネルの全体
図であり、図3はその画素部の平面図であり、本発明の
特徴を詳しく説明する図1は図3のP−P‘領域からパ
ネル端部までの断面図である。また図4及び図5には実
施例1の工程フローを示す。FIG. 1 is a sectional view of a color liquid crystal display device using the CF on TFT panel of the present invention. FIG. 2 is an overall view of a panel having a CF on TFT structure of the present invention. FIG. 1 is a plan view of the pixel portion, and FIG. 1 is a cross-sectional view from the PP ′ region of FIG. 4 and 5 show a process flow of the first embodiment.
【0024】まず本発明に於て使用されるCFオンTF
Tパネル50である下地TFT基板の構成及び製造方法
について述べる。まず、TFT側ガラス基板1上にアル
ミニウム(Al)、モリブデン(Mo)、クロム(C
r)等からなるゲート電極2及びV側端子3を100〜
400nmの厚さで形成する。First, CF on TF used in the present invention
The configuration and manufacturing method of the base TFT substrate that is the T panel 50 will be described. First, aluminum (Al), molybdenum (Mo), chromium (C
r) and the V-side terminal 3 of 100 to
It is formed with a thickness of 400 nm.
【0025】次にシリコン窒化膜などからなるゲート絶
縁膜4とアモルファスシリコンからなる半導体層5をそ
れぞれ400nm、300nmの厚さでパターニングす
る。次にMo、Crなどによりソース電極6、ドレイン
電極7及びデータ端子部であるH側端子8を形成する。
次にプラズマCVDによりシリコン窒化膜などの無機膜
からなるパッシベーション膜90を100〜200nm
の厚さで成膜する。Next, a gate insulating film 4 made of a silicon nitride film or the like and a semiconductor layer 5 made of amorphous silicon are patterned to a thickness of 400 nm and 300 nm, respectively. Next, a source electrode 6, a drain electrode 7, and an H-side terminal 8 as a data terminal portion are formed of Mo, Cr, or the like.
Next, a passivation film 90 made of an inorganic film such as a silicon nitride film is formed to a thickness of 100 to 200 nm by plasma CVD.
Is formed with a thickness of
【0026】次に下地TFT基板50上に形成するカラ
ーフィルタ11、13、の構成及び製造方法について述
べる。まず、TFTの半導体層5の上に遮光膜としての
ブラックマトリクス9をパターニングする。ブラックマ
トリクス9としてはアクリル系樹脂にカーボンあるいは
複数の顔料を分散させたネガ型感光性レジストを用い
る。Next, the structure and manufacturing method of the color filters 11, 13 formed on the base TFT substrate 50 will be described. First, a black matrix 9 as a light-shielding film is patterned on the semiconductor layer 5 of the TFT. As the black matrix 9, a negative photosensitive resist in which carbon or a plurality of pigments is dispersed in an acrylic resin is used.
【0027】膜厚は1.0〜1.5μmで、光学濃度
(OD値)は2〜3とする。またこのとき同時にパネル
周辺部の額縁ブラックマトリクス10についてもパター
ニングを行う。次に赤色顔料をアクリル系樹脂に分散さ
せたネガ型感光性レジストをPR工程により1.0〜
1.5μmの厚さになるように形成し赤色カラーフィル
タ11とする。The film thickness is 1.0-1.5 μm, and the optical density (OD value) is 2-3. At the same time, patterning is also performed on the frame black matrix 10 around the panel. Next, a negative photosensitive resist in which a red pigment is dispersed in an acrylic resin is subjected to a PR process in a range of 1.0 to 1.0.
The red color filter 11 is formed to have a thickness of 1.5 μm.
【0028】カラーフィルタのパターンは図3に示すよ
うにストライプ形状とする。同様に緑色カラーフィルタ
12、青色カラーフィルタ13も同様にパターニングす
る。このときコンタクトホール14上にはカラーフィル
タは設けないようにしておく。次にオーバーコート15
をパターニングすることにより下地の平坦化を行う。The color filter pattern has a stripe shape as shown in FIG. Similarly, the green color filter 12 and the blue color filter 13 are similarly patterned. At this time, no color filter is provided on the contact hole 14. Next, overcoat 15
Is flattened by patterning.
【0029】オーバーコート15としては、アクリル系
の感光性レジストを使用し膜厚は2〜3μmとする。こ
の際もコンタクトホール14上には設けないようにして
おく。 つまりコンタクトホール上に開口を有するパタ
ーン形状とする。さらに下地TFT基板50のパッシベ
ーション膜90をエッチングすることでコンタクトホー
ル14が完成する。The overcoat 15 is made of an acrylic photosensitive resist and has a thickness of 2 to 3 μm. At this time, it is not provided on the contact hole 14. That is, a pattern shape having an opening on the contact hole is used. Further, by etching the passivation film 90 of the base TFT substrate 50, the contact hole 14 is completed.
【0030】次にコンタクトホール14から露出したド
レイン電極7上に画素電極を16を成膜しパターニング
を行う。画素電極16としてはITO(Indium Tin Oxi
de)等の透明電極を用い膜厚は加工性等を考慮すると約
100nmが適当である。次に対向基板側17の構成及
び製造方法について述べる。Next, a pixel electrode 16 is formed on the drain electrode 7 exposed from the contact hole 14 and patterned. The pixel electrode 16 is made of ITO (Indium Tin Oxi
A transparent electrode such as de) is used, and the film thickness is suitably about 100 nm in consideration of workability and the like. Next, the configuration and manufacturing method of the counter substrate side 17 will be described.
【0031】図6に本発明の対向基板側17の層構造を
示す。対向側プラスチック基板17は中央に基材となる
プラスチックシート18があり、その表裏にガスバリア
ー膜19、19’を有した構造となっている。プラスチ
ックシート18としては、偏光板の内側で使用するため
に光学的に異方性がなく等方であること、着色のないこ
と、液晶の配向を均一に行うために表面の平坦性が良い
ことなどが特に要求されている。FIG. 6 shows a layer structure on the counter substrate side 17 of the present invention. The opposite side plastic substrate 17 has a structure in which a plastic sheet 18 serving as a base material is provided at the center, and gas barrier films 19 and 19 'are provided on the front and back sides. The plastic sheet 18 should be optically anisotropic and isotropic without being anisotropic because it is used inside a polarizing plate, should not be colored, and should have good surface flatness to uniformly align liquid crystals. Are particularly required.
【0032】これらの要求特性を満たすプラスチックシ
ート材料としては、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリエーテルスルホン、環状非晶質ポリオレフィン
などの非晶性の熱可塑性樹脂や多官能アクリレート、多
官能ポリオレフィン、不飽和ポリエステル、エポキシ樹
脂などの熱硬化性樹脂があげられる。本発明のプラスチ
ック基板17で用いたプラスチックシート18は、耐熱
性、熱膨張、光透過率等の特性を考慮してポリエーテル
スルホン材料とした。 プラスチックシート18の製造
方法としては、一般的な溶融押し出し製膜法よりも平坦
性に優れている溶液製膜法いわゆるキャスト法を用い
た。Plastic sheet materials satisfying these required properties include amorphous thermoplastic resins such as polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, and cyclic amorphous polyolefin, polyfunctional acrylates, polyfunctional polyolefins, and unsaturated polyesters. And thermosetting resins such as epoxy resins. The plastic sheet 18 used for the plastic substrate 17 of the present invention was made of a polyether sulfone material in consideration of characteristics such as heat resistance, thermal expansion, and light transmittance. As a method for producing the plastic sheet 18, a solution film forming method, which is more excellent in flatness than a general melt extrusion film forming method, a so-called cast method was used.
【0033】膜厚は0.2〜0.5mmとしガラス基板
の代替えを目指した。次にプラスチックシート18を挟
み込む形で表裏にガスバリアー膜19を形成する。プラ
スチックシート18の場合、酸素及び水蒸気のバリアー
性が良くなく、液晶パネルの基板として使用するにはそ
れらの特性を改良するためのガスバリアー膜のコーティ
ングが必要になってくる。これらバリアー膜の材料とし
てはポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、酸
化珪素蒸着膜なとが有効である。The thickness was set to 0.2 to 0.5 mm to aim for a glass substrate. Next, a gas barrier film 19 is formed on the front and back sides with the plastic sheet 18 interposed therebetween. In the case of the plastic sheet 18, the barrier properties against oxygen and water vapor are not good, and when used as a substrate for a liquid crystal panel, it is necessary to coat a gas barrier film to improve those properties. Effective materials for these barrier films include polyvinyl alcohol, polyacrylonitrile, and a silicon oxide deposited film.
【0034】本発明で用いたガスバリアー膜19はポリ
ビニルアルコールあるいはポリビニルアルコールと酸化
珪素の組合せとした。ガスバリアー膜の形成方法として
は、生産性及びコスト等を考慮して湿式のコーティング
方法を用いた。プラスチックシート18上にポリビニル
アルコール及び酸化珪素を含む溶液をオフセット印刷、
スピンコーティングあるいはバーコート印刷し、その後
キュアすることにより溶液中に含まれる溶剤を蒸発さ
せ、ガスバリアー膜を硬化形成させた。The gas barrier film 19 used in the present invention was made of polyvinyl alcohol or a combination of polyvinyl alcohol and silicon oxide. As a method of forming the gas barrier film, a wet coating method was used in consideration of productivity, cost, and the like. Offset printing of a solution containing polyvinyl alcohol and silicon oxide on the plastic sheet 18,
The solvent contained in the solution was evaporated by spin coating or bar coat printing, and then cured to form a gas barrier film by curing.
【0035】次にCFオンTFT基板と重ね合わせる側
の面に対向側透明共通電極20を形成する。透明電極と
してはITOをマスクスパッタリングすることで所望の
形状にパターニングする。このときプラスチックシート
の耐熱性の問題があるため常温スパッタでおこなった。
膜厚は約100nm程度とした。Next, a transparent common electrode 20 on the opposite side is formed on the surface to be overlapped with the CF on TFT substrate. As a transparent electrode, ITO is patterned into a desired shape by mask sputtering. At this time, since there was a problem with the heat resistance of the plastic sheet, spattering was performed at room temperature.
The film thickness was about 100 nm.
【0036】次に、上述の説明のように製造したCFオ
ンTFT基板50と、対向側プラスチック基板17を貼
り合わせて作製したCFオンTFTパネルの構成及び製
造方法を述べる。本発明のプラスチックシートは、ガラ
ス転移温度が220℃のポリエーテルスルホン材を使用
しているため、パネル工程で使用する温度はそれ以下に
する必要がある。Next, the structure and manufacturing method of a CF on TFT panel manufactured by bonding the CF on TFT substrate 50 manufactured as described above and the opposing plastic substrate 17 will be described. Since the plastic sheet of the present invention uses a polyether sulfone material having a glass transition temperature of 220 ° C., the temperature used in the panel process needs to be lower than that.
【0037】従って、液晶配向を制御する配向膜21は
焼成温度が200℃以下の低温焼成タイプのもの、例え
ばJSR株式会社製のオプトマーALシリーズを用い
た。形成方法はオフセット印刷方式等の転写法により所
望の形状にパターニングした。配向膜21を熱処理する
ことで硬化させた後、レーヨン等を巻き付けたラビング
ロールにより配向処理を行った。Therefore, as the alignment film 21 for controlling the liquid crystal alignment, a low-temperature firing type having a firing temperature of 200 ° C. or less, for example, Optmer AL series manufactured by JSR Corporation was used. As a forming method, patterning was performed into a desired shape by a transfer method such as an offset printing method. After the alignment film 21 was cured by heat treatment, an alignment treatment was performed using a rubbing roll wound with rayon or the like.
【0038】その後、CFオンTFT基板側にはシール
材22をスクリーン印刷により形成する。シール材とし
てはパネルギャップを保持するために6.0μmの棒状
スペーサを分散させたエポキシ系樹脂を用い、その硬化
焼成温度は180℃とした。一方対向基板側には粒径
4.5μmの球状面内スペーサ23を面内均一に分散さ
せている。Thereafter, a sealing material 22 is formed on the CF-on TFT substrate side by screen printing. As a sealing material, an epoxy resin in which 6.0 μm rod-shaped spacers were dispersed to maintain a panel gap was used, and the curing and firing temperature was 180 ° C. On the other hand, on the counter substrate side, spherical in-plane spacers 23 having a particle size of 4.5 μm are uniformly dispersed in the plane.
【0039】この様にして作製したCFオンTFTパネ
ルの中には、液晶24を封入してある。対向側プラスチ
ック基板17の外側表面には対向側偏光板25を、TF
T側ガラス基板1の外側表面にはTFT側偏光板26を
貼り付けてある。次に、このようにして作製した本発明
に係るCFオンTFTパネルを使用した当該カラー液晶
表示パネルの効果について述べる。The liquid crystal 24 is sealed in the CF-on TFT panel manufactured as described above. On the outer surface of the opposing plastic substrate 17, an opposing polarizing plate 25 is provided.
A TFT-side polarizing plate 26 is attached to the outer surface of the T-side glass substrate 1. Next, the effect of the color liquid crystal display panel using the CF-on TFT panel according to the present invention thus manufactured will be described.
【0040】即ち、本発明に於いては、プラスチック基
板17の構成が簡略化できる。その理由は、CFオンT
FT構造のパネル50の場合、対向基板側17に必要と
される機能は透明共通電極のみであり、その他のメタル
のパターニングは不要であるため、メタルのPRプロセ
スで使用するエッチング液等の溶剤に対する耐溶剤膜が
不要となる。That is, in the present invention, the configuration of the plastic substrate 17 can be simplified. The reason is CF on T
In the case of the panel 50 having the FT structure, the function required on the counter substrate side 17 is only the transparent common electrode, and patterning of other metals is unnecessary. The need for a solvent-resistant film is eliminated.
【0041】従って、プラスチック基板の基材であるプ
ラスチックシート18を保護する膜はガスバリアー膜1
9、19’のみでよいことになり、プラスチック基板の
構成が簡略化できる。更には、本発明によって、プラス
チック基板17を用いたTFT方式のカラー液晶表示パ
ネルが可能となる。Therefore, the film for protecting the plastic sheet 18 which is the base material of the plastic substrate is the gas barrier film 1
Only 9 and 19 'are required, and the configuration of the plastic substrate can be simplified. Further, according to the present invention, a TFT type color liquid crystal display panel using the plastic substrate 17 can be provided.
【0042】その理由は、従来対向基板17として用い
られてきたカラーフィルタの機能をTFT基板上に集約
させることで、対向側の機能は透明共通電極のみでよい
ことになり、プラスチック基板の構成が簡略化できたた
めである。又、本発明に於いては、TFT方式のカラー
液晶表示パネルの薄型・軽量化が可能。The reason is that the function of the color filter, which has been conventionally used as the counter substrate 17, is concentrated on the TFT substrate, so that the function on the counter side only needs to be the transparent common electrode. This is because it was simplified. Further, according to the present invention, it is possible to reduce the thickness and weight of the TFT type color liquid crystal display panel.
【0043】その理由は、従来使用されているガラス基
板と比較すると、ガラス基板では板厚が0.5mm付近
が限界であるのに対してプラスチック基板では0.2m
mまで可能であること、また材料の比重がガラスの3分
の1であることから、薄型・軽量化が容易である。即
ち、本発明に係るカラー液晶表示パネルは、当該カラー
液晶表示パネルのTFT(Thin Film Transistor)基板
上にカラーフィルタを形成したパネル(以下CFオンT
FTパネルと呼ぶ)において、対向基板側をプラスチッ
クシート及びガスバリアー膜からなるプラスチック基板
としたことである。The reason is that, compared with a conventionally used glass substrate, the thickness of the glass substrate is limited to around 0.5 mm, whereas the thickness of the plastic substrate is 0.2 m.
m, and the specific gravity of the material is one-third that of glass, so that it is easy to reduce the thickness and weight. That is, the color liquid crystal display panel according to the present invention is a panel in which a color filter is formed on a TFT (Thin Film Transistor) substrate of the color liquid crystal display panel (hereinafter referred to as CF ON T).
(Referred to as FT panel), the opposite substrate side is a plastic substrate composed of a plastic sheet and a gas barrier film.
【0044】その結果、図1に示すように、本発明によ
るCFオンTFTパネル50においては、対向基板側1
7をプラスチック基板としている。このプラスチック基
板17は、ガスバリアー膜19のみでコーティングされ
たプラスチックシート18からなる。CFオンTFT構
造のパネルにおいては、対向基板側にはベタの透明共通
電極さえあれば良くクロム等のメタルのPRプロセスは
通らないため、対向基板としては耐薬品性・耐溶剤性を
考慮する必要がない。As a result, as shown in FIG. 1, in the CF on TFT panel 50 according to the present invention, the counter substrate side 1
7 is a plastic substrate. This plastic substrate 17 is composed of a plastic sheet 18 coated only with a gas barrier film 19. In a panel with a CF on TFT structure, only a solid transparent common electrode is required on the counter substrate side, and the PR process of metal such as chromium does not pass. Therefore, it is necessary to consider chemical resistance and solvent resistance for the counter substrate. There is no.
【0045】次に、本発明に係る当該カラー液晶表示パ
ネル100の他の具体例に付いて説明する。図7には、
本発明に係るカラー液晶表示パネル100の第2の具体
例を示す。CFオンTFT基板50の構成及び製造方法
については、上記した具体例1と同じである。Next, another specific example of the color liquid crystal display panel 100 according to the present invention will be described. In FIG.
2 shows a second specific example of the color liquid crystal display panel 100 according to the present invention. The configuration and manufacturing method of the CF-on TFT substrate 50 are the same as those of the above-described specific example 1.
【0046】本具体例に於て特徴となるのは、対向側プ
ラスチック基板17の形状についてであり、材料及び層
構造についても上記具体例1と同じである。まずプラス
チック基板18が、当該カラー液晶表示パネルの端縁部
に設けられたシール材22と接する位置の内側あるいは
外側に凹部27を設ける。この凹部27は、例えば、プ
ラスチックシート18に切り込みを入れることで形成す
る。The feature of this embodiment is the shape of the opposing plastic substrate 17, and the material and the layer structure are the same as those of the first embodiment. First, a concave portion 27 is provided inside or outside the position where the plastic substrate 18 contacts the sealing material 22 provided at the edge of the color liquid crystal display panel. The recess 27 is formed, for example, by making a cut in the plastic sheet 18.
【0047】当該凹部27の深さはプラスチックシート
の3分の1程度、幅は100〜200μmとする。又、
当該凹部27の形成位置は、特に限定されないが、好ま
しくは、当該シール22の極近傍に設けるものである。
この凹部27が、配向膜焼成及びシール材硬化焼成時に
加わる熱によるプラスチック基板の熱膨張を吸収するた
めに、プラスチック基板の膨らみが抑制され、正常なパ
ネルギャップを提供することができる。The depth of the recess 27 is about one third of the plastic sheet, and the width is 100 to 200 μm. or,
The position at which the concave portion 27 is formed is not particularly limited, but is preferably provided very close to the seal 22.
Since the concave portion 27 absorbs thermal expansion of the plastic substrate due to heat applied during firing of the alignment film and curing of the sealing material, expansion of the plastic substrate is suppressed, and a normal panel gap can be provided.
【0048】即ち、本具体例に於いては、当該プラスチ
ックシート18で構成される上側基板17の少なくとも
一部に、適宜の凹部27を設けるものであり、より好ま
しくは、当該プラスチックシート18に於ける当該CF
オンTFTパネル50と対向する面の少なくとも一部
に、少なくとも一つの凹部27を設ける事が望ましい。
更に、本発明に於いては、当該凹部27は、当該プラス
チックシート18からなる上側基板17の周辺部に設け
られたシール材22と対応する部分或いはその近傍部に
設けられているもので有っても良い。That is, in this embodiment, at least a part of the upper substrate 17 composed of the plastic sheet 18 is provided with a suitable concave portion 27, and more preferably, the plastic sheet 18 The CF
It is desirable to provide at least one recess 27 on at least a part of the surface facing the on-TFT panel 50.
Further, in the present invention, the concave portion 27 is provided in a portion corresponding to the sealing material 22 provided in the peripheral portion of the upper substrate 17 made of the plastic sheet 18 or in the vicinity thereof. May be.
【0049】図8には、本発明に係る当該カラー液晶表
示パネル100の第3の具体例が示されている。即ち、
第3の具体例の特徴は凹部27をシール材22の真下に
形成したことである。 これにより第2の具体例と同様
の効果が得られる。更に図9には、本発明に係る当該カ
ラー液晶表示パネル100の第4の具体例が示されてお
り、図中、当該凹部27がシール材22の内側、外側及
びシール真下の3箇所に設けられている例が示されてい
る。 これにより上記具体例と同様の効果が得られる。FIG. 8 shows a third specific example of the color liquid crystal display panel 100 according to the present invention. That is,
The feature of the third specific example is that the concave portion 27 is formed directly below the sealing material 22. Thereby, the same effect as in the second specific example can be obtained. Further, FIG. 9 shows a fourth specific example of the color liquid crystal display panel 100 according to the present invention. In the figure, the concave portions 27 are provided at three places inside, outside, and immediately below the seal material 22. An example is shown. Thereby, the same effect as in the above specific example can be obtained.
【0050】上記した説明から明らかな様に、本発明に
係る当該カラー液晶表示パネル100の製造方法として
は、例えば、薄膜トランジスタが形成された基板上にカ
ラーフィルタを形成したパネル(以下CFオンTFTパ
ネルと呼ぶ)を下基板として使用し、ガスバリアー膜が
表面に形成されたプラスチックシートからなる当該下基
板に対向する上基板として使用して、当該両基板を合体
させる様に構成されているものであり、又、当該プラス
チックシートとして、ガラスと同等の光透過性を有し、
且つ当該ガスバリアー膜の形成材料に対する溶剤に対し
て耐性を有する材料を選択する様に構成されているもの
である。As is clear from the above description, the method for manufacturing the color liquid crystal display panel 100 according to the present invention includes, for example, a panel in which a color filter is formed on a substrate on which a thin film transistor is formed (hereinafter referred to as a CF on TFT panel). ) Is used as a lower substrate, and a gas barrier film is used as an upper substrate opposed to the lower substrate made of a plastic sheet formed on the surface, so that the two substrates are combined. Yes, and as the plastic sheet, has the same light transmittance as glass,
In addition, a material having resistance to a solvent for the material for forming the gas barrier film is selected.
【0051】又、本発明に係る当該カラー液晶表示パネ
ルの製造方法に於いては、当該プラスチックシートは、
ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルスル
ホン、環状非晶質ポリオレフィンなどの非晶性の熱可塑
性樹脂や多官能アクリレート、多官能ポリオレフィン、
不飽和ポリエステル、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂
等から選択された一つのプラスチック材料を使用する様
に構成されているものであり、又、当該ガスバリアー膜
の形成材料は、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニ
トリル、酸化珪素蒸着膜から選択された一つの材料を使
用する様に構成されているものである。In the method for manufacturing a color liquid crystal display panel according to the present invention, the plastic sheet is
Amorphous thermoplastic resins such as polycarbonate, polyarylate, polyethersulfone, and cyclic amorphous polyolefin, and polyfunctional acrylates and polyfunctional polyolefins,
It is configured to use one plastic material selected from thermosetting resins such as unsaturated polyester and epoxy resin, and the material for forming the gas barrier film is polyvinyl alcohol, polyacrylonitrile And one material selected from a silicon oxide deposited film.
【0052】本発明に於ける当該カラー液晶表示パネル
の製造方法に於ては、当該プラスチックシートの両面に
当該ガスバリアー膜を形成する様に構成されているもの
で有っても良い。更には、本発明に係る当該カラー液晶
表示パネルの製造方法に於いては、当該プラスチックシ
ートの当該CFオンTFTパネル側に於ける当該ガスバ
リアー膜上に、透明共通電極及び配向膜を形成すると共
に、当該プラスチックシートの反対側のガスバリアー膜
上に偏光板を形成する様に構成されているもので有って
も良い。In the method of manufacturing a color liquid crystal display panel according to the present invention, the gas barrier film may be formed on both surfaces of the plastic sheet. Further, in the method for manufacturing a color liquid crystal display panel according to the present invention, a transparent common electrode and an alignment film are formed on the gas barrier film on the CF on TFT panel side of the plastic sheet. Alternatively, the polarizing plate may be formed on the gas barrier film on the opposite side of the plastic sheet.
【0053】又、上記した様に、本発明に於ける当該カ
ラー液晶表示パネルの製造方法に於いては、当該プラス
チックシートの少なくとも当該CFオンTFTパネルと
対向する面に於ける少なくとも一部に、少なくとも一つ
の凹部を設ける様にする事も望ましい。その場合、当該
凹部は、当該プラスチックシートに於ける周辺部に設け
られたシール材と対応する部分或いはその近傍部に設け
る事も望ましい。As described above, in the method of manufacturing a color liquid crystal display panel according to the present invention, at least a part of the plastic sheet at least on a surface facing the CF on TFT panel is provided. It is also desirable to provide at least one recess. In this case, it is preferable that the concave portion is provided at a portion corresponding to a sealing material provided at a peripheral portion of the plastic sheet or at a portion in the vicinity thereof.
【0054】[0054]
【発明の効果】本発明に係る当該カラー液晶表示パネル
及びその製造方法は、上記した様な技術構成を採用して
いるので、従来のガラス基板を使用しているカラー液晶
表示パネルに対して、プラスチック基板を用いることに
よるカラー液晶表示パネルの薄型・軽量化が可能であ
り、コストダウンが実現する。The color liquid crystal display panel and the method of manufacturing the same according to the present invention employ the above-mentioned technical structure, and therefore, are more effective than the conventional color liquid crystal display panel using a glass substrate. By using a plastic substrate, the color liquid crystal display panel can be made thinner and lighter, and the cost can be reduced.
【0055】また対向基板であるプラスチック基板に於
ける耐溶剤膜の削除が可能となるので、製造工程が短縮
化されるので、一層コストダウンに寄与する事が出来
る。また、プラスチック基板の熱膨張を抑えるために、
基板に凹部を設け正常なパネルギャップを提供する事も
可能となる。Further, since the solvent-resistant film on the plastic substrate as the opposing substrate can be eliminated, the manufacturing process can be shortened, and the cost can be further reduced. Also, to suppress the thermal expansion of the plastic substrate,
It is also possible to provide a recess in the substrate to provide a normal panel gap.
【図1】図1は、本発明に係るカラー液晶表示パネルの
一具体例の構成を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a specific example of a color liquid crystal display panel according to the present invention.
【図2】図2は、本発明に係るカラー液晶表示パネルの
一具体例に於ける平面図である。FIG. 2 is a plan view of a specific example of a color liquid crystal display panel according to the present invention.
【図3】図3は、本発明に係るカラー液晶表示パネルの
一具体例に於ける画素部分の構成を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a configuration of a pixel portion in a specific example of the color liquid crystal display panel according to the present invention.
【図4】図4は、本発明に係るカラー液晶表示パネルの
製造方法の一具体例に於ける要部工程に於ける構成を示
す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a configuration in a main step in a specific example of a method for manufacturing a color liquid crystal display panel according to the present invention.
【図5】図5は、本発明に係るカラー液晶表示パネルの
製造方法の一具体例に於ける要部工程に於ける構成を示
す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a configuration of a main step in a specific example of a method for manufacturing a color liquid crystal display panel according to the present invention.
【図6】図6は、本発明に係るカラー液晶表示パネルに
使用される対向側(上側)基板の構成を一例を示す断面
図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of a configuration of an opposing (upper) substrate used in the color liquid crystal display panel according to the present invention.
【図7】図7は、本発明に係るカラー液晶表示パネルの
他の具体例に於ける構成を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a configuration of another specific example of the color liquid crystal display panel according to the present invention.
【図8】図8は、本発明に係るカラー液晶表示パネルの
別の具体例に於ける構成を示す断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing a configuration of another specific example of the color liquid crystal display panel according to the present invention.
【図9】図9は、本発明に係るカラー液晶表示パネルの
更に他の具体例に於ける構成を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a configuration of still another specific example of the color liquid crystal display panel according to the present invention.
【図10】図10は、従来のカラー液晶表示パネルに於
て使用されている対向側(上側)基板の構成を一例を示
す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing an example of a configuration of an opposing (upper) substrate used in a conventional color liquid crystal display panel.
【図11】図11は、従来に於けるCFオンTFTパネ
ルを使用したカラー液晶表示パネルの構成例を示す断面
図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a configuration example of a conventional color liquid crystal display panel using a CF on TFT panel.
1…基板 2…ゲート電極 3…V側端子 4…ゲート絶縁膜 5…半導体層 6…ソース電極 7…ドレイン電極 8…H側端子 9…ブラックマトリクス 10…額縁ブラックマトリクス 11…赤色カラーフィルタ 12…緑色カラーフィルタ 13…青色カラーフィルタ 14…コンタクトホール 15…オーバーコート 16…画素電極 18…プラスチックシート 17…対向基板、上側基板、上側プラスチック基板 19、19’…ガスバリアー膜 20…透明共通電極 21…配向膜 22…シール材 23…球状面内スペーサ 24…液晶 25…対向側偏光板 26…TFT側偏光板 27…凹部 50…CFオンTFTパネル 90…パッシベーション膜 100…カラー液晶表示パネル DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate 2 ... Gate electrode 3 ... V side terminal 4 ... Gate insulating film 5 ... Semiconductor layer 6 ... Source electrode 7 ... Drain electrode 8 ... H side terminal 9 ... Black matrix 10 ... Frame black matrix 11 ... Red color filter 12 ... Green color filter 13 Blue color filter 14 Contact hole 15 Overcoat 16 Pixel electrode 18 Plastic sheet 17 Counter substrate, upper substrate, upper plastic substrate 19, 19 ′ Gas barrier film 20 Transparent common electrode 21 Alignment film 22 ... Sealing material 23 ... Spherical in-plane spacer 24 ... Liquid crystal 25 ... Opposite polarizing plate 26 ... TFT side polarizing plate 27 ... Recess 50 ... CF on TFT panel 90 ... Passivation film 100 ... Color liquid crystal display panel
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂本 道昭 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 中田 慎一 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 渡邊 貴彦 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 吉川 周憲 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 井原 浩史 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気株 式会社内 Fターム(参考) 2H089 LA07 QA11 TA01 TA09 TA12 TA15 2H090 JB03 JC07 JD08 JD11 LA04 LA15 5C094 AA15 BA03 BA43 CA19 CA24 EB02 ED03 GB01 HA02 HA03 HA08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Michiaki Sakamoto, Inventor 5-7-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo Inside NEC Corporation (72) Inventor Shinichi Nakata 5-7-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo Japan Inside Electric Co., Ltd. (72) Inventor Takahiko Watanabe 5-7-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo NEC Corporation (72) Inventor Shuken Yoshikawa 5-7-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo NEC (72) Inventor Hiroshi Ihara 5-7-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo NEC F Company (Reference) 2H089 LA07 QA11 TA01 TA09 TA12 TA15 2H090 JB03 JC07 JD08 JD11 LA04 LA15 5C094 AA15 BA03 BA43 CA19 CA24 EB02 ED03 GB01 HA02 HA03 HA08
Claims (16)
カラーフィルタを形成したパネル(以下CFオンTFT
パネルと呼ぶ)と、ガスバリアー膜が表面に形成された
プラスチックシートからなる対向基板とで構成されたカ
ラー液晶表示パネル。A panel in which a color filter is formed on a substrate on which a thin film transistor is formed (hereinafter referred to as a CF on TFT).
And a counter substrate made of a plastic sheet having a gas barrier film formed on the surface thereof.
等の光透過性を有し、且つ当該ガスバリアー膜の形成材
料に対する溶剤に対して耐性を有する材料で構成されて
いる事を特徴とする請求項1記載のカラー液晶表示パネ
ル。2. The plastic sheet according to claim 1, wherein the plastic sheet is made of a material having light transmittance equivalent to that of glass and having resistance to a solvent for a material for forming the gas barrier film. 2. The color liquid crystal display panel according to 1.
ネート、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、環状
非晶質ポリオレフィンなどの非晶性の熱可塑性樹脂や多
官能アクリレート、多官能ポリオレフィン、不飽和ポリ
エステル、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂等から選択
された一つのプラスチック材料が使用される事を特徴と
する請求項2記載のカラー液晶表示パネル。3. The plastic sheet is made of an amorphous thermoplastic resin such as polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, or cyclic amorphous polyolefin, or a polyfunctional acrylate, polyfunctional polyolefin, unsaturated polyester, epoxy resin, or the like. 3. The color liquid crystal display panel according to claim 2, wherein one plastic material selected from a thermosetting resin or the like is used.
ビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、酸化珪素蒸
着膜から選択された一つの材料である事を特徴とする請
求項1又は2に記載のカラー液晶表示パネル。4. The color liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the material for forming the gas barrier film is one material selected from polyvinyl alcohol, polyacrylonitrile, and a silicon oxide deposition film. .
スバリアー膜が形成されている事を特徴とする請求項1
乃至4の何れかに記載のカラー液晶表示パネル。5. The plastic sheet according to claim 1, wherein said gas barrier films are formed on both sides of said plastic sheet.
A color liquid crystal display panel according to any one of claims 1 to 4.
TFTパネル側に於ける当該ガスバリアー膜上に、透明
共通電極及び配向膜が形成され、当該プラスチックシー
トの反対側のガスバリアー膜上に偏光板が形成されてい
る事を特徴とする請求項1乃至5に記載のカラー液晶表
示パネル。6. A transparent common electrode and an alignment film are formed on the gas barrier film on the CF on TFT panel side of the plastic sheet, and a polarizing plate is formed on the gas barrier film on the opposite side of the plastic sheet. The color liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the color liquid crystal display panel is formed.
該CFオンTFTパネルと対向する面に於ける少なくと
も一部に、少なくとも一つの凹部が設けられている事を
特徴とする請求項1乃至6の何れかに記載のカラー液晶
表示パネル。7. The plastic sheet according to claim 1, wherein at least a part of a surface of the plastic sheet facing the CF-on TFT panel is provided with at least one concave portion. The described color liquid crystal display panel.
於ける周辺部に設けられたシール材と対応する部分或い
はその近傍部に設けられている事を特徴とする請求項7
記載のカラー液晶表示パネル。8. The plastic sheet according to claim 7, wherein the concave portion is provided at a portion corresponding to a sealing material provided at a peripheral portion of the plastic sheet or at a portion in the vicinity thereof.
The described color liquid crystal display panel.
カラーフィルタを形成したパネル(以下CFオンTFT
パネルと呼ぶ)を下基板として使用し、ガスバリアー膜
が表面に形成されたプラスチックシートからなる当該下
基板に対向する上基板として使用して、当該両基板を合
体させる事を特徴とするカラー液晶表示パネルの製造方
法。9. A panel in which a color filter is formed on a substrate on which a thin film transistor is formed (hereinafter referred to as a CF on TFT).
A liquid crystal panel, wherein the lower substrate is used as a lower substrate, and a gas barrier film is used as an upper substrate opposed to the lower substrate made of a plastic sheet having a surface formed thereon. Display panel manufacturing method.
スと同等の光透過性を有し、且つ当該ガスバリアー膜の
形成材料に対する溶剤に対して耐性を有する材料を選択
する事を特徴とする請求項9記載のカラー液晶表示パネ
ルの製造方法。10. The plastic sheet is made of a material having the same light transmittance as glass and having a resistance to a solvent for a material for forming the gas barrier film. Method for manufacturing a color liquid crystal display panel.
ボネート、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、環
状非晶質ポリオレフィンなどの非晶性の熱可塑性樹脂や
多官能アクリレート、多官能ポリオレフィン、不飽和ポ
リエステル、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂等から選
択された一つのプラスチック材料を使用する事を特徴と
する請求項9又は10に記載のカラー液晶表示パネルの
製造方法。11. The plastic sheet is made of an amorphous thermoplastic resin such as polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, or cyclic amorphous polyolefin, or a polyfunctional acrylate, polyfunctional polyolefin, unsaturated polyester, epoxy resin, or the like. The method for manufacturing a color liquid crystal display panel according to claim 9, wherein one plastic material selected from a thermosetting resin or the like is used.
リビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、酸化珪素
蒸着膜から選択された一つの材料を使用する事を特徴と
する請求項9乃至11の何れかに記載のカラー液晶表示
パネルの製造方法。12. The gas barrier film according to claim 9, wherein a material selected from the group consisting of polyvinyl alcohol, polyacrylonitrile, and a silicon oxide deposited film is used. A method for manufacturing a color liquid crystal display panel.
ガスバリアー膜を形成する事を特徴とする請求項9乃至
12の何れかに記載のカラー液晶表示パネルの製造方
法。13. The method for manufacturing a color liquid crystal display panel according to claim 9, wherein said gas barrier film is formed on both surfaces of said plastic sheet.
ンTFTパネル側に於ける当該ガスバリアー膜上に、透
明共通電極及び配向膜を形成すると共に、当該プラスチ
ックシートの反対側のガスバリアー膜上に偏光板を形成
する事を特徴とする請求項9乃至13に記載のカラー液
晶表示パネルの製造方法。14. A transparent common electrode and an alignment film are formed on the gas barrier film on the CF on TFT panel side of the plastic sheet, and a polarizing plate is formed on the gas barrier film on the opposite side of the plastic sheet. 14. The method of manufacturing a color liquid crystal display panel according to claim 9, wherein:
当該CFオンTFTパネルと対向する面に於ける少なく
とも一部に、少なくとも一つの凹部を設ける事を特徴と
する請求項9乃至14の何れかに記載のカラー液晶表示
パネルの製造方法。15. The color according to claim 9, wherein at least one recess is provided in at least a part of a surface of the plastic sheet facing the CF on TFT panel. A method for manufacturing a liquid crystal display panel.
に於ける周辺部に設けられたシール材と対応する部分或
いはその近傍部に設ける事を特徴とする請求項15記載
のカラー液晶表示パネルの製造方法。16. The method for manufacturing a color liquid crystal display panel according to claim 15, wherein the concave portion is provided at a portion corresponding to a sealing material provided at a peripheral portion of the plastic sheet or at a portion in the vicinity thereof. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11075419A JP2000267073A (en) | 1999-03-19 | 1999-03-19 | Color liquid crystal display panel and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11075419A JP2000267073A (en) | 1999-03-19 | 1999-03-19 | Color liquid crystal display panel and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000267073A true JP2000267073A (en) | 2000-09-29 |
Family
ID=13575662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11075419A Pending JP2000267073A (en) | 1999-03-19 | 1999-03-19 | Color liquid crystal display panel and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000267073A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002350816A (en) * | 2001-05-28 | 2002-12-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
| US7145619B2 (en) | 2001-06-29 | 2006-12-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate for liquid crystal display,liquid crystal display having the same,and having pixel aperture geometry of slits and finer slits |
| US7342247B2 (en) | 2004-10-15 | 2008-03-11 | Samsung Electronics, Co., Ltd. | Organic semiconductor transistor with banks confining the semiconductor |
| JP2010072529A (en) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Hitachi Displays Ltd | Liquid crystal display device and method for manufacturing the same |
| JP2011227261A (en) * | 2010-04-19 | 2011-11-10 | Toshiba Mobile Display Co Ltd | Display device |
| WO2015129537A1 (en) * | 2014-02-26 | 2015-09-03 | シャープ株式会社 | Display device |
-
1999
- 1999-03-19 JP JP11075419A patent/JP2000267073A/en active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002350816A (en) * | 2001-05-28 | 2002-12-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
| US8493534B2 (en) | 2001-06-29 | 2013-07-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate for liquid crystal display, liquid crystal display having the same and method of manufacturing the same |
| US7145619B2 (en) | 2001-06-29 | 2006-12-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate for liquid crystal display,liquid crystal display having the same,and having pixel aperture geometry of slits and finer slits |
| US7826027B2 (en) | 2001-06-29 | 2010-11-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate for liquid crystal display, liquid crystal display having the same and method of manufacturing the same |
| US9069221B2 (en) | 2001-06-29 | 2015-06-30 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
| US8228473B2 (en) | 2001-06-29 | 2012-07-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Substrate for liquid crystal display, liquid crystal display having the same and method of manufacturing the same |
| US7342247B2 (en) | 2004-10-15 | 2008-03-11 | Samsung Electronics, Co., Ltd. | Organic semiconductor transistor with banks confining the semiconductor |
| US7842538B2 (en) | 2004-10-15 | 2010-11-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Organic thin film transistor array and manufacturing method thereof |
| JP2010072529A (en) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Hitachi Displays Ltd | Liquid crystal display device and method for manufacturing the same |
| JP2011227261A (en) * | 2010-04-19 | 2011-11-10 | Toshiba Mobile Display Co Ltd | Display device |
| WO2015129537A1 (en) * | 2014-02-26 | 2015-09-03 | シャープ株式会社 | Display device |
| CN106030397A (en) * | 2014-02-26 | 2016-10-12 | 夏普株式会社 | Display device |
| JPWO2015129537A1 (en) * | 2014-02-26 | 2017-03-30 | シャープ株式会社 | Display device |
| US10001676B2 (en) | 2014-02-26 | 2018-06-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103293802B (en) | Liquid crystal display device and manufacture method thereof | |
| EP0772071B1 (en) | Liquid crystal display element and fabrication process thereof | |
| JP3512665B2 (en) | Color liquid crystal panel and manufacturing method thereof | |
| JP2001100217A (en) | Color liquid crystal display device and method for manufacturing the same | |
| US6198520B1 (en) | Color liquid crystal display | |
| JPH11258584A (en) | Plastic liquid crystal display | |
| JP2005266011A (en) | Color filter substrate and display device using the same | |
| WO2011004521A1 (en) | Display panel | |
| JP4776915B2 (en) | Display panel, manufacturing method thereof, and liquid crystal display device having the same | |
| US7196754B2 (en) | Liquid crystal display apparatus and manufacturing method of same | |
| US20050057717A1 (en) | Substrate assemblys, methods of manufacturing the substrate assembly, display devices having the substrate assembly, and methods of manufacturing display device having the substrate assembly | |
| JP2000267073A (en) | Color liquid crystal display panel and its production | |
| JP3229789B2 (en) | Method for manufacturing reflective liquid crystal display device | |
| JPH03167524A (en) | color liquid crystal display device | |
| JP2000284111A (en) | Color filter and its production | |
| CN100412636C (en) | Active element array substrate, color filter and manufacturing method thereof | |
| WO2010079540A1 (en) | Liquid-crystal display panel | |
| KR100983578B1 (en) | Transverse electric field type liquid crystal display device and manufacturing method thereof | |
| JP3895447B2 (en) | Liquid crystal display element and manufacturing method thereof | |
| JP2999117B2 (en) | Liquid crystal device and method of manufacturing the same | |
| JPS6043631A (en) | Display panel | |
| JP2010169888A (en) | Display panel | |
| KR20050001952A (en) | Liquid crystal display device of in-plane switching and method for fabricating the same | |
| JPH05134108A (en) | Color filter | |
| JP2558920B2 (en) | Method for manufacturing color liquid crystal display |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20031125 |