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JP2000264724A - Dielectric ceramic composition and ceramic multilayered substrate - Google Patents

Dielectric ceramic composition and ceramic multilayered substrate

Info

Publication number
JP2000264724A
JP2000264724A JP11073962A JP7396299A JP2000264724A JP 2000264724 A JP2000264724 A JP 2000264724A JP 11073962 A JP11073962 A JP 11073962A JP 7396299 A JP7396299 A JP 7396299A JP 2000264724 A JP2000264724 A JP 2000264724A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ceramic
weight
dielectric
oxide
dielectric ceramic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11073962A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tatsuya Ueda
達也 上田
Kimihide Sugo
公英 須郷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP11073962A priority Critical patent/JP2000264724A/en
Publication of JP2000264724A publication Critical patent/JP2000264724A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C14/00Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
    • C03C14/004Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of particles or flakes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/14Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions

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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Inorganic Insulating Materials (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a ceramic multilayered substrate excellent in electrical characteristics, temperature characteristics, etc., and capable of being sintered at a relatively low temperature. SOLUTION: Insulating ceramic layers 3a and 3b having a low dielectric constant and a dielectric ceramic layer 2 having a high dielectric constant are laminated and sintered to obtain the objective ceramic multilayered substrate 1. The insulating ceramic layers 3a and 3b comprise a BaO-Al2O3-SiO2 ceramic composition sintered at a low temperature. the dielectric ceramic layer 2 comprises a dielectric ceramic composition obtained by mixing a dielectric ceramic component containing 85.0-90.0 wt.% barium titanate, 8.5-12.0 wt.% calcium zirconate, <=0.5 wt.% magnesium titanate, <=0.5 wt.% cerium oxide, 0.1-1.0 wt.% bismuth oxide and 0.1-1.0 wt.% tin oxide with a glass component prepared by mixing 10.0-65.0 mol% barium oxide, 1.0-55.0 mol% silicon dioxide and 10.0-75.0 mol% boron oxide.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高誘電率の誘電体
セラミック組成物、並びに、低誘電率の絶縁性セラミッ
ク層と高誘電率の誘電体セラミック層とを積層、焼結し
てなるセラミック多層基板に関するものである。
The present invention relates to a dielectric ceramic composition having a high dielectric constant, and a ceramic obtained by laminating and sintering a dielectric ceramic layer having a low dielectric constant and a dielectric ceramic layer having a high dielectric constant. The present invention relates to a multilayer substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、エレクトロニクス分野における電
子部品の性能向上は著しく、特に、情報化社会を支える
大型コンピュータ、移動通信端末、パーソナルコンピュ
ータ等に代表される情報処理装置では、情報処理速度の
高速化、装置の小型化、多機能化などが進められてい
る。このような情報処理装置の性能向上は、主として、
VLSI、ULSI等の半導体デバイスの高集積化、高
速化、高機能化によって実現されている。しかしなが
ら、半導体デバイスが高速化、高性能化しても、デバイ
スとデバイスとを接続する基板上での信号遅延やクロス
トーク、インピーダンスのミスマッチ、電源変動等によ
るノイズによって、システムとしての動作が制限される
ことがあった。
2. Description of the Related Art In recent years, the performance of electronic components has been remarkably improved in the field of electronics. In particular, in information processing apparatuses such as large computers, mobile communication terminals, and personal computers that support the information society, the information processing speed has been increased. In addition, miniaturization and multifunctionalization of devices have been promoted. The performance improvement of such an information processing device is mainly
It is realized by high integration, high speed, and high functionality of semiconductor devices such as VLSI and ULSI. However, even if the speed of the semiconductor device is increased and the performance thereof is improved, the operation as a system is limited by noise due to signal delay, crosstalk, impedance mismatch, power supply fluctuation, and the like on a substrate connecting the devices. There was something.

【0003】このため、高速かつ高性能な情報処理を行
う電子部品として、高性能の半導体デバイスをセラミッ
ク基板上に複数実装した、いわゆるマルチチップモジュ
ール(MCM)が実用化されている。このようなモジュ
ールにおいて、LSI等の実装密度を高め、各LSI間
を電気的に良好に接続するためには、線路導体を3次元
的に配したセラミック多層基板が有用であり、従来は、
セラミック多層基板用の材料としてアルミナを用いてい
た。
For this reason, so-called multi-chip modules (MCMs), in which a plurality of high-performance semiconductor devices are mounted on a ceramic substrate, have been put to practical use as electronic components for performing high-speed and high-performance information processing. In such a module, a ceramic multilayer substrate in which line conductors are three-dimensionally arranged is useful for increasing the packaging density of LSIs and the like and electrically connecting the LSIs satisfactorily.
Alumina has been used as a material for the ceramic multilayer substrate.

【0004】しかしながら、アルミナ単独では焼結温度
が1300℃以上と高いため、内層用の線路導体として
高融点金属のタングステンやモリブデンなどを使用する
必要があり、また、これら高融点金属の酸化防止の点か
ら、焼結を還元性雰囲気下で行う必要があった。また、
これら高融点金属は比抵抗が大きいため、高密度配線が
難しいといった問題がある。さらに、アルミナは誘電率
が約10と大きく、実装した半導体デバイスを高速で動
作させたときの信号遅延が大きくなったり、シリコンと
比べて熱膨張率が大きいため、半導体デバイスの実装時
には、熱サイクルによる信頼性の低下等が生じることも
あった。
However, since alumina alone has a high sintering temperature of 1300 ° C. or higher, it is necessary to use a refractory metal such as tungsten or molybdenum as a line conductor for the inner layer, and to prevent oxidation of the refractory metal. From this point, it was necessary to perform sintering in a reducing atmosphere. Also,
These refractory metals have a problem that high density wiring is difficult because of high specific resistance. Furthermore, alumina has a large dielectric constant of about 10, which causes a large signal delay when the mounted semiconductor device is operated at a high speed and a large thermal expansion coefficient as compared with silicon. In some cases, the reliability may be reduced.

【0005】そこで、これらの問題点を解決するため、
セラミック組成物とガラス成分との複合材料である低温
焼結セラミック組成物の研究が活発に行われており、多
層モジュールや多層デバイス用の基板として実用化が進
められている。低温焼結セラミック組成物は、母材とな
るセラミック成分にガラス成分を加えた組成物であり、
焼結温度を低下させ、材料物性や焼結温度に対する設計
の自由度を大幅に広げることが可能となった。特に、低
温焼結セラミック組成物は、比抵抗の小さな銀、銅等の
低融点金属を電極材料として同時焼結可能なことから、
高周波特性に優れたセラミック多層基板を形成できる。
Therefore, in order to solve these problems,
Research on a low-temperature sintered ceramic composition, which is a composite material of a ceramic composition and a glass component, is being actively conducted, and practical application as a substrate for a multilayer module or a multilayer device is in progress. Low-temperature sintered ceramic composition is a composition obtained by adding a glass component to a ceramic component serving as a base material,
By lowering the sintering temperature, the degree of freedom in designing the material properties and sintering temperature can be greatly expanded. In particular, a low-temperature sintered ceramic composition can be simultaneously sintered as a low-melting metal such as silver or copper having a low specific resistance as an electrode material.
A ceramic multilayer substrate excellent in high frequency characteristics can be formed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】また、近年、表面実装
部品(SMD:Surface Mounted Device)の一部構成素
子であったキャパシタやインダクタ等の受動素子をセラ
ミック多層基板内に取り込むことによって、さらにモジ
ュール全体を小型化しようとする試みがなされている。
セラミック多層基板内にこれらの素子を内蔵する場合、
基板表面に搭載されている実装部品の特性よりも内蔵し
た素子の特性が劣化したのでは素子を内蔵したときのメ
リットが半減してしまうため、内蔵した素子が基板上に
実装された素子と同等、或いはそれ以上の特性を有して
いることが求められる。
In recent years, a passive element such as a capacitor or an inductor, which has been a component of a surface mounted device (SMD), has been incorporated into a ceramic multilayer substrate to further increase the module. Attempts have been made to reduce the overall size.
When these elements are embedded in a ceramic multilayer substrate,
If the characteristics of the built-in element are deteriorated compared to the characteristics of the mounted components mounted on the board surface, the merit of incorporating the element is reduced by half, so the built-in element is equivalent to the element mounted on the board Or higher.

【0007】このため、セラミック多層基板の構成層に
は、内蔵される各素子の電気特性が十分に発揮されるよ
うな材料を選択するのが通常であり、例えば、キャパシ
タを形成する層には高誘電率の誘電体セラミック材料
を、その他の層には低誘電率の絶縁性セラミック材料
(特に低温焼結セラミック組成物)をそれぞれ選択して
なるセラミック多層基板が開発されている。
For this reason, it is usual to select a material for the constituent layers of the ceramic multilayer substrate so as to sufficiently exhibit the electrical characteristics of each of the elements contained therein. A ceramic multilayer substrate has been developed in which a dielectric ceramic material having a high dielectric constant is selected and an insulating ceramic material having a low dielectric constant (particularly, a low-temperature sintered ceramic composition) is selected for other layers.

【0008】ここで、低誘電率の絶縁性セラミック層に
用いる材料としては、内蔵されるキャパシタやインダク
タ等の素子間に発生する浮遊容量、配線間の結合容量な
どの電気特性を劣化させる要因を少なく抑える必要があ
るため、また、高周波用途で用いる場合は比誘電率εr
が低いほど有利であるため、εr≦10の材料を用いる
のが一般的である。
Here, as a material used for the low dielectric constant insulating ceramic layer, factors deteriorating electrical characteristics such as stray capacitance generated between elements such as built-in capacitors and inductors and coupling capacitance between wirings are used. Since it is necessary to keep it low, and when used in high frequency applications, the relative dielectric constant εr
It is generally advantageous to use a material satisfying εr ≦ 10 because the lower the

【0009】一方、積層コンデンサ等に用いる高誘電率
の誘電体材料として、本出願人は、特公昭60−317
93号公報において、チタン酸バリウムを85.0〜9
0.0重量%、ジルコニウム酸カルシウムを8.5〜1
2.0重量%、チタン酸マグネシウムを0.5重量%以
下、酸化セリウムを0.5重量%以下、酸化ビスマスを
0.1〜1.0重量%、酸化スズを0.1〜1.0重量
%、それぞれ含有してなる誘電体セラミック組成物を提
案している。この誘電体セラミック組成物は、比誘電率
εrが高いと共に、誘電損失tanδが小さく、さらに、
誘電率の温度特性に優れた誘電体セラミック組成物とし
て有用である。
On the other hand, as a dielectric material having a high dielectric constant used for a multilayer capacitor or the like, the present applicant has disclosed Japanese Patent Publication No. 60-317.
No. 93, barium titanate is used in an amount of 85.0-9.
0.0% by weight, calcium zirconate 8.5 to 1
2.0% by weight, 0.5% by weight or less of magnesium titanate, 0.5% by weight or less of cerium oxide, 0.1 to 1.0% by weight of bismuth oxide, and 0.1 to 1.0% of tin oxide Proposal of a dielectric ceramic composition containing each wt%. This dielectric ceramic composition has a high relative permittivity εr, a small dielectric loss tanδ, and
It is useful as a dielectric ceramic composition having excellent temperature characteristics of dielectric constant.

【0010】しかしながら、この誘電体セラミック組成
物は比較的焼成温度が低いものの、そのままでは、銅や
銀等の比抵抗の小さな低融点金属と同時焼結が困難であ
り、また、絶縁性セラミック層(特に低温焼結セラミッ
ク基板)との接着性に乏しいので、これを用いてセラミ
ック多層基板を作製した場合、得られたセラミック多層
基板の強度が低下することがある。さらに、高誘電率の
誘電体セラミック層と低誘電率の絶縁性セラミック層と
の間で構成成分の相互拡散が生じて基板特性に変動をき
たすことがある。
However, although this dielectric ceramic composition has a relatively low firing temperature, it is difficult to sinter simultaneously with a low-melting-point metal such as copper or silver having a low specific resistance. (Especially, low-temperature sintered ceramic substrate) has poor adhesiveness, and when a ceramic multilayer substrate is manufactured using this, the strength of the obtained ceramic multilayer substrate may decrease. Further, inter-diffusion of components may occur between a dielectric ceramic layer having a high dielectric constant and an insulating ceramic layer having a low dielectric constant, which may cause fluctuations in substrate characteristics.

【0011】また、焼結温度を低下させる目的で、前述
の誘電体セラミック組成物にガラス成分を添加すると、
ガラス成分の種類や含有量によっては、アルミナ基板等
と比較して著しく基板強度が低くなったり、基板強度が
高くても電気特性や温度特性等の基板特性が低下するこ
とがあった。特に、基板強度を重視した場合は、その比
誘電率が小さくなって基板内に大きな容量を持つキャパ
シタを内蔵することが難しくなり、また、内蔵できたと
しても、キャパシタの占める電極面積が大きくなって、
基板の小型化、高密度実装化に対して不利であった。一
方、電気特性や温度特性を重視した場合は、基板強度が
低くなってしまい、半導体IC等の電子部品を搭載する
実装基板として不適当になることがあった。
Further, when a glass component is added to the above dielectric ceramic composition for the purpose of lowering the sintering temperature,
Depending on the type and content of the glass component, the substrate strength may be significantly lower than that of an alumina substrate or the like, or the substrate characteristics such as electrical characteristics and temperature characteristics may be reduced even if the substrate strength is high. In particular, when emphasis is placed on the strength of the substrate, its relative dielectric constant is reduced, making it difficult to incorporate a capacitor having a large capacity in the substrate. Even if it can be incorporated, the electrode area occupied by the capacitor increases. hand,
This is disadvantageous for miniaturization of the substrate and high-density mounting. On the other hand, when importance is placed on the electrical characteristics and the temperature characteristics, the strength of the substrate is reduced, and it may be unsuitable as a mounting substrate on which electronic components such as semiconductor ICs are mounted.

【0012】本発明は、上述した従来の問題点を解決す
るものであり、その目的は、電気特性や温度特性に優
れ、比較的低温で焼結可能な誘電体セラミック組成物、
並びに、基板強度が高く、電気特性や温度特性の基板特
性に優れ、比較的低温で焼結可能なセラミック多層基板
を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to provide a dielectric ceramic composition which is excellent in electric characteristics and temperature characteristics and can be sintered at a relatively low temperature.
Another object of the present invention is to provide a ceramic multilayer substrate having high substrate strength, excellent substrate characteristics such as electric characteristics and temperature characteristics, and sinterable at a relatively low temperature.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、チタン
酸バリウムを85.0〜90.0重量%、ジルコニウム
酸カルシウムを8.5〜12.0重量%、チタン酸マグ
ネシウムを0.5重量%以下、酸化セリウムを0.5重
量%以下、酸化ビスマスを0.1〜1.0重量%、酸化
スズを0.1〜1.0重量%、それぞれ含有してなる誘
電体セラミック成分に、酸化バリウム、酸化ケイ素及び
酸化ホウ素からなるガラス成分を混合してなることを特
徴とする誘電体セラミック組成物に係るものである。
That is, according to the present invention, 85.0% to 90.0% by weight of barium titanate, 8.5% to 12.0% by weight of calcium zirconate and 0.5% by weight of magnesium titanate are used. % By weight, 0.5% by weight or less of cerium oxide, 0.1 to 1.0% by weight of bismuth oxide, and 0.1 to 1.0% by weight of tin oxide. , A glass component comprising barium oxide, silicon oxide and boron oxide.

【0014】また、本発明の誘電体セラミック組成物に
おいて、前記ガラス成分は、酸化バリウムを15.0〜
65.0モル%、酸化ケイ素を5.0〜55.0モル
%、酸化ホウ素を10.0〜75.0モル%、それぞれ
混合してなることを特徴とする。
Further, in the dielectric ceramic composition of the present invention, the glass component may include barium oxide of 15.0 to 15.0.
65.0 mol%, 5.0 to 55.0 mol% of silicon oxide, and 10.0 to 75.0 mol% of boron oxide are mixed, respectively.

【0015】また、本発明の誘電体セラミック組成物
は、前記ガラス成分の含有量を、前記誘電体セラミック
成分に対して、5.0〜35.0重量%とすることを特
徴とする。
Further, the dielectric ceramic composition of the present invention is characterized in that the content of the glass component is 5.0 to 35.0% by weight based on the dielectric ceramic component.

【0016】さらに、本発明は、低誘電率の絶縁性セラ
ミック層と高誘電率の誘電体セラミック層とを積層、焼
成してなるセラミック多層基板において、前記絶縁性セ
ラミック層は、ガラス成分を含む低温焼結セラミック組
成物からなり、前記誘電体セラミック層は、チタン酸バ
リウムを85.0〜90.0重量%、ジルコニウム酸カ
ルシウムを8.5〜12.0重量%、チタン酸マグネシ
ウムを0.5重量%以下、酸化セリウムを0.5重量%
以下、酸化ビスマスを0.1〜1.0重量%、酸化スズ
を0.1〜1.0重量%、それぞれ含有してなる誘電体
セラミック成分に、前記ガラス成分とほぼ同組成のガラ
ス成分を混合してなる誘電体セラミック組成物からなる
ことを特徴とするセラミック多層基板を提供するもので
ある。
Further, the present invention provides a ceramic multilayer substrate obtained by laminating and firing a low dielectric constant insulating ceramic layer and a high dielectric constant dielectric ceramic layer, wherein the insulating ceramic layer contains a glass component. The dielectric ceramic layer comprises a low-temperature sintered ceramic composition, wherein the dielectric ceramic layer contains 85.0 to 90.0% by weight of barium titanate, 8.5 to 12.0% by weight of calcium zirconate, and 0.1 to 0.2% by weight of magnesium titanate. 5% by weight or less, 0.5% by weight of cerium oxide
Hereinafter, a glass component having substantially the same composition as the above glass component is added to a dielectric ceramic component containing bismuth oxide in an amount of 0.1 to 1.0% by weight and tin oxide in an amount of 0.1 to 1.0% by weight. An object of the present invention is to provide a ceramic multilayer substrate comprising a mixed dielectric ceramic composition.

【0017】また、本発明のセラミック多層基板は、前
記誘電体セラミック組成物におけるガラス成分として、
酸化バリウムを15.0〜65.0モル%、酸化ケイ素
を5.0〜55.0モル%、酸化ホウ素を10.0〜7
5.0モル%、それぞれ混合してなることを特徴とす
る。
Further, the ceramic multi-layer substrate of the present invention comprises, as the glass component in the dielectric ceramic composition,
15.0 to 65.0 mol% of barium oxide, 5.0 to 55.0 mol% of silicon oxide, and 10.0 to 7 mol% of boron oxide
It is characterized by being mixed with 5.0 mol% each.

【0018】また、本発明のセラミック多層基板は、前
記誘電体セラミック組成物におけるガラス成分の含有量
を、前記誘電体セラミック成分に対して、5.0〜3
5.0重量%とすることを特徴とする。
Further, in the ceramic multi-layer substrate of the present invention, the content of the glass component in the dielectric ceramic composition may be adjusted to 5.0 to 3 with respect to the dielectric ceramic component.
It is characterized by being 5.0% by weight.

【0019】また、本発明のセラミック多層基板は、前
記低温焼結セラミック材料をBaO−Al23−SiO
2系のガラス複合材料とすることを特徴とする。
Further, in the ceramic multilayer substrate of the present invention, the low-temperature sintered ceramic material is made of BaO—Al 2 O 3 —SiO
It is characterized by a two- system glass composite material.

【0020】本発明の誘電体セラミック組成物によれ
ば、チタン酸バリウムを85.0〜90.0重量%、ジ
ルコニウム酸カルシウムを8.5〜12.0重量%、チ
タン酸マグネシウムを0.5重量%以下、酸化セリウム
を0.5重量%以下、酸化ビスマスを0.1〜1.0重
量%、酸化スズを0.1〜1.0重量%、それぞれ含有
してなる誘電体セラミック成分に、酸化バリウム、酸化
ケイ素及び酸化ホウ素からなるガラス成分を混合してな
るので、前記誘電体セラミック成分の優れた電気特性や
温度特性が保持され、かつ、焼結温度が低く、焼結後の
強度が高い誘電体セラミック組成物が得られる。
According to the dielectric ceramic composition of the present invention, 85.0 to 90.0% by weight of barium titanate, 8.5 to 12.0% by weight of calcium zirconate, and 0.5% by weight of magnesium titanate are used. % By weight, 0.5% by weight or less of cerium oxide, 0.1 to 1.0% by weight of bismuth oxide, and 0.1 to 1.0% by weight of tin oxide. , Barium oxide, silicon oxide, and a glass component consisting of boron oxide are mixed, so that the dielectric ceramic component retains excellent electrical and temperature characteristics, and has a low sintering temperature and strength after sintering. , A dielectric ceramic composition having a high value is obtained.

【0021】また、本発明のセラミック多層基板によれ
ば、前記誘電体セラミック層は、チタン酸バリウムを8
5.0〜90.0重量%、ジルコニウム酸カルシウムを
8.5〜12.0重量%、チタン酸マグネシウムを0.
5重量%以下、酸化セリウムを0.5重量%以下、酸化
ビスマスを0.1〜1.0重量%、酸化スズを0.1〜
1.0重量%、それぞれ含有してなる誘電体セラミック
成分に、前記ガラス成分とほぼ同組成のガラス成分を混
合してなる誘電体セラミック組成物からなるので、前記
絶縁性セラミック層と前記誘電体セラミック層との接合
性が良好であって、また、前記誘電体セラミック層の高
い誘電率や優れた温度特性が保持され、比較的低い温度
で焼結可能であって焼結後の強度も大きく、高周波特性
や安定性に優れたセラミック多層基板が得られる。
Further, according to the ceramic multi-layer substrate of the present invention, the dielectric ceramic layer is made of barium titanate.
5.0 to 90.0% by weight, calcium zirconate 8.5 to 12.0% by weight, and magnesium titanate 0.1% by weight.
5 wt% or less, cerium oxide 0.5 wt% or less, bismuth oxide 0.1-1.0 wt%, tin oxide 0.1-1.0
The insulating ceramic layer and the dielectric material are made of a dielectric ceramic composition in which a glass component having substantially the same composition as the glass component is mixed with a dielectric ceramic component containing 1.0% by weight of the dielectric ceramic component. The bondability with the ceramic layer is good, and the dielectric constant and excellent temperature characteristics of the dielectric ceramic layer are retained, and sintering can be performed at a relatively low temperature, and the strength after sintering is large. Thus, a ceramic multilayer substrate excellent in high frequency characteristics and stability can be obtained.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】まず、本発明のセラミック多層基
板を実施の形態例に従い説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, a ceramic multilayer substrate according to the present invention will be described in accordance with an embodiment.

【0023】第1の実施の形態 図1に示すように、本実施の形態によるセラミック多層
基板1は、一方主面に厚膜抵抗体6、半導体ICやチッ
プコンデンサ等の実装部品7を搭載してなり、本発明の
誘電体セラミック組成物を焼結してなる誘電体セラミッ
ク層2が、BaO−Al23−SiO2(BAS)材料
等からなる絶縁性セラミック層3a及び3bの間に設け
られている。
First Embodiment As shown in FIG. 1, a ceramic multilayer substrate 1 according to the present embodiment has a thick film resistor 6 and a mounting component 7 such as a semiconductor IC or a chip capacitor mounted on one main surface. Te becomes, the dielectric ceramic composition of the present invention the dielectric ceramic layers 2 formed by sintering during the BaO-Al 2 O 3 -SiO 2 (BAS) made of a material such as an insulating ceramic layer 3a and 3b Is provided.

【0024】そして、誘電体セラミック層2には、電極
4a、電極4b及び電極4cからなるコンデンサが形成
されている。電極4aと電極4cとはビアホール5bを
介して接続されており、電極4aと電極4bとの間、電
極4bと電極4cとの間でそれぞれ所定の容量が形成さ
れて、これらの容量の和がコンデンサ全体の容量となっ
ている。そして、このコンデンサは、ビアホール5a及
び5cを介して厚膜抵抗体6に接続されている。
Further, on the dielectric ceramic layer 2, a capacitor composed of the electrodes 4a, 4b and 4c is formed. The electrodes 4a and 4c are connected via via holes 5b, and predetermined capacitances are formed between the electrodes 4a and 4b and between the electrodes 4b and 4c, respectively. It is the capacity of the entire capacitor. This capacitor is connected to the thick film resistor 6 via the via holes 5a and 5c.

【0025】同様に、誘電体セラミック層2には、電極
4d、電極4e及び電極4fからなるコンデンサが形成
されている。電極4dと電極4fとはビアホール5fを
介して接続されており、電極4dと電極4eとの間、電
極4eと電極4fとの間でそれぞれ所定の容量が形成さ
れ、これらの容量の和がコンデンサの全体としての容量
となっている。そして、このコンデンサは、ビアホール
5d及び5eを介して実装部品7に接続されている。
Similarly, on the dielectric ceramic layer 2, a capacitor composed of the electrodes 4d, 4e and 4f is formed. The electrode 4d and the electrode 4f are connected via a via hole 5f, and a predetermined capacitance is formed between the electrode 4d and the electrode 4e and between the electrode 4e and the electrode 4f, respectively. Is the capacity of the whole. This capacitor is connected to the mounted component 7 via the via holes 5d and 5e.

【0026】このように、セラミック多層基板1におい
ては、セラミック多層基板1内にコンデンサが形成され
ているので基板の小型化が達成されており、また、コン
デンサを形成する電極間に高誘電率の誘電体セラミック
層2が挟み込まれているので比較的小さな電極パターン
で容量の大きなコンデンサが形成できる。
As described above, in the ceramic multilayer substrate 1, since the capacitor is formed in the ceramic multilayer substrate 1, the size of the substrate can be reduced, and the high dielectric constant between the electrodes forming the capacitor can be achieved. Since the dielectric ceramic layer 2 is interposed, a capacitor having a large capacitance can be formed with a relatively small electrode pattern.

【0027】さらに、誘電体セラミック層2の構成材料
が、絶縁性セラミック層3a及び3bにおけるガラス成
分とほぼ同組成のガラス成分を含んた本発明の誘電体セ
ラミック組成物であるから、絶縁性セラミック層3a及
び3bと誘電体セラミック層2との接着強度が高く、ま
た、構成成分の相互拡散による基板特性の変動が抑えら
れる。さらに、誘電体セラミック材料の高い誘電率や優
れた温度特性が保持されて、高い基板強度と優れた基板
特性を両立したセラミック多層基板1が形成される。
Further, since the constituent material of the dielectric ceramic layer 2 is the dielectric ceramic composition of the present invention containing a glass component having substantially the same composition as the glass components in the insulating ceramic layers 3a and 3b, The adhesive strength between the layers 3a and 3b and the dielectric ceramic layer 2 is high, and fluctuations in substrate characteristics due to mutual diffusion of constituent components are suppressed. Furthermore, the high dielectric constant and excellent temperature characteristics of the dielectric ceramic material are maintained, and the ceramic multilayer substrate 1 having both high substrate strength and excellent substrate characteristics is formed.

【0028】第2の実施の形態 次に、図2を参照に、本発明による第2の実施の形態を
説明する。
Second Embodiment Next, a second embodiment according to the present invention will be described with reference to FIG.

【0029】セラミック多層基板11は、一方主面にチ
ップ抵抗体や半導体IC等の実装部品7を搭載してな
り、本発明の誘電体セラミック組成物を焼結してなる誘
電体セラミック層12a及び12bが、例えばBAS材
料等からなる絶縁性セラミック層13内に設けられた電
極14aと電極14bとの間、及び、電極14cと電極
14dとの間に、厚膜印刷法等によってそれぞれ設けら
れている。
The ceramic multilayer substrate 11 has mounted thereon mounting components 7 such as a chip resistor and a semiconductor IC on one main surface, and a dielectric ceramic layer 12a and a dielectric ceramic layer 12a formed by sintering the dielectric ceramic composition of the present invention. 12b are provided between the electrodes 14a and 14b and between the electrodes 14c and 14d provided in the insulating ceramic layer 13 made of, for example, a BAS material or the like by a thick film printing method or the like. I have.

【0030】そして、電極14a、電極14b、及び、
これらの電極間に設けられた誘電体セラミック層12a
によって所定の容量が形成されており、同様に、電極1
4c、電極14d、及び、誘電体セラミック層12bに
よって所定の容量が形成されている。そして、電極14
a及び電極14bによって形成されるコンデンサは、一
方で、ビアホール15aを介して実装部品7に接続さ
れ、他方で、ビアホール15bを介して、ストリップラ
イン18に接続されている。また、電極14c及び電極
14dによって形成されるコンデンサは、一方で、ビア
ホール15c及び線路導体16を介して実装部品7に接
続されており、他方で、ビアホール15dを介してグラ
ンド導体17に接続されている。
The electrodes 14a, 14b, and
Dielectric ceramic layer 12a provided between these electrodes
A predetermined capacitance is formed by the
A predetermined capacitance is formed by 4c, the electrode 14d, and the dielectric ceramic layer 12b. And the electrode 14
The capacitor formed by a and the electrode 14b is connected to the mounting component 7 via the via hole 15a on the one hand, and is connected to the strip line 18 via the via hole 15b on the other hand. The capacitor formed by the electrode 14c and the electrode 14d is connected to the mounting component 7 via the via hole 15c and the line conductor 16 on the one hand, and is connected to the ground conductor 17 via the via hole 15d on the other hand. I have.

【0031】このように、セラミック多層基板11にお
いては、セラミック多層基板内にコンデンサが形成され
ているので基板の小型化が達成されており、また、コン
デンサを形成する電極間に高誘電率の誘電体セラミック
層12a及び12bが挟み込まれているので、比較的小
さな電極パターンで容量の大きなコンデンサが形成され
ている。
As described above, in the ceramic multilayer substrate 11, since the capacitor is formed in the ceramic multilayer substrate, the size of the substrate can be reduced, and a dielectric having a high dielectric constant can be provided between the electrodes forming the capacitor. Since the body ceramic layers 12a and 12b are sandwiched, a capacitor having a large capacitance is formed with a relatively small electrode pattern.

【0032】さらに、誘電体セラミック層12a及び1
2bの構成材料が、絶縁性セラミック層13におけるガ
ラス成分とほぼ同組成のガラス成分を含んだ本発明の誘
電体セラミック組成物であるので、絶縁性セラミック層
13と誘電体セラミック層12a及び12bとの接着強
度が高く、また、構成成分の相互拡散による基板特性の
変動が抑制される。さらに、誘電体セラミック材料の優
れた電気特性や温度特性が保持されて、高い基板強度と
優れた基板特性の両立したセラミック多層基板11が得
られる。
Further, the dielectric ceramic layers 12a and 1a
Since the constituent material 2b is the dielectric ceramic composition of the present invention containing a glass component having substantially the same composition as the glass component in the insulating ceramic layer 13, the insulating ceramic layer 13 and the dielectric ceramic layers 12a and 12b Has a high adhesive strength, and fluctuations in substrate characteristics due to interdiffusion of constituent components are suppressed. Further, the excellent electrical and temperature characteristics of the dielectric ceramic material are maintained, and the ceramic multilayer substrate 11 having both high substrate strength and excellent substrate characteristics is obtained.

【0033】次に、上述した第1の実施の形態によるセ
ラミック多層基板の作製方法例を説明する。
Next, an example of a method for manufacturing the ceramic multilayer substrate according to the first embodiment will be described.

【0034】まず、絶縁性セラミック層用の材料とし
て、アルミナを主成分とするセラミック原料粉末と、B
aO、SiO2を主原料とするガラス成分とを用意した
後、アルミナ100重量部に対してガラス成分20〜3
0重量部を添加し、これを混合する。必要に応じて、混
合前の前記主原料を800〜1100℃程度で仮焼して
よい。
First, as a material for an insulating ceramic layer, a ceramic raw material powder containing alumina as a main component;
aO-, after preparing a glass component SiO 2 as a main raw material, the glass component with respect to 100 parts by weight of alumina 20-3
0 parts by weight are added and mixed. If necessary, the main raw material before mixing may be calcined at about 800 to 1100 ° C.

【0035】なお、絶縁性セラミック層用の材料は、例
えば、Mg2SiO4、CaZrO3、BaAl2Si28
などにBaOやSiO2等のガラス成分を添加したもの
や、BaO、Al23、SiO2を主成分としたものを
用いてもよい。例えば、B23−BaO−Al23−S
iO2を主成分とするセラミック原料粉末を使用する場
合は、これを混合した後、800〜1000℃で仮焼す
る。
The material for the insulating ceramic layer is, for example, Mg 2 SiO 4 , CaZrO 3 , BaAl 2 Si 2 O 8
For example, a material obtained by adding a glass component such as BaO or SiO 2 or a material containing BaO, Al 2 O 3 , or SiO 2 as a main component may be used. For example, B 2 O 3 -BaO-Al 2 O 3 -S
When using the ceramic raw material powder for the iO 2 as a main component, after mixing them, calcined at 800 to 1000 ° C..

【0036】次いで、得られたセラミック原料粉末に、
バインダー、分散剤、可塑剤、有機溶媒等を適量添加
し、これらを混合することによって、有機スラリーを調
製する。これを、ドクターブレード法等によってシート
状に成形すれば、BaO−Al23−SiO2系のガラ
ス複合材料からなる絶縁体セラミック層用グリーンシー
トが得られる。
Next, to the obtained ceramic raw material powder,
An organic slurry is prepared by adding an appropriate amount of a binder, a dispersant, a plasticizer, an organic solvent and the like and mixing them. This, if formed into a sheet by a doctor blade method or the like, a green sheet is obtained insulating ceramic layer made of BaO-Al 2 O 3 -SiO 2 based glass composite material.

【0037】次いで、これとは別に、高誘電率の誘電体
セラミック層の材料として、チタン酸バリウムを85.
0〜90.0重量%、ジルコニウム酸カルシウムを8.
5〜12.0重量%、チタン酸マグネシウムを0.5重
量%以下、酸化セリウムを0.5重量%以下、酸化ビス
マスを0.1〜1.0重量%、酸化スズを0.1〜1.
0重量%、それぞれ混合してなる誘電体セラミック粉末
を用意し、還元性雰囲気中で1000℃、1時間以上仮
焼する。
Next, separately from this, barium titanate was used as a material for the dielectric ceramic layer having a high dielectric constant.
7. 0 to 90.0% by weight of calcium zirconate.
5 to 12.0% by weight, 0.5% by weight or less of magnesium titanate, 0.5% by weight or less of cerium oxide, 0.1 to 1.0% by weight of bismuth oxide, and 0.1 to 1% of tin oxide .
Dielectric ceramic powders, each of which is mixed at 0% by weight, are prepared and calcined in a reducing atmosphere at 1000 ° C. for 1 hour or more.

【0038】引き続いて、得られた仮焼原料を粉砕した
後、例えば、酸化バリウムを10.0〜65.0モル
%、酸化ケイ素を1.0〜55.0モル%、酸化ホウ素
を10.0〜75.0モル%、それぞれ混合してなるガ
ラス成分5.0〜35.0重量%と共に混合した後、有
機ビヒクル、分散剤、可塑剤、有機溶媒等を適量添加
し、これらを混合することにより、有機スラリーを調製
する。これをドクターブレード法等によってシート状に
成形すれば、誘電体セラミック層用グリーンシートが得
られる。
Subsequently, after the obtained calcined raw material is pulverized, for example, 10.0 to 65.0 mol% of barium oxide, 1.0 to 55.0 mol% of silicon oxide, and 10. After mixing with 0 to 75.0 mol%, and 5.0 to 35.0% by weight of the glass components mixed respectively, an appropriate amount of an organic vehicle, a dispersant, a plasticizer, an organic solvent and the like are added, and these are mixed. Thereby, an organic slurry is prepared. If this is formed into a sheet by a doctor blade method or the like, a green sheet for a dielectric ceramic layer can be obtained.

【0039】このようにして得られた絶縁体セラミック
層用グリーンシートと誘電体セラミック層用グリーンシ
ートとに必要に応じてビアホール用孔を開け、電極ペー
ストや電極粉を充填してビアホールを形成した後、各グ
リーンシートに所定パターンのコンデンサが形成される
ように電極ペーストを印刷して、誘電体セラミック層用
グリーンシートと絶縁体セラミック層用グリーンシート
とを積み重ねる。
The thus obtained green sheet for the insulating ceramic layer and the green sheet for the dielectric ceramic layer were formed with holes for via holes as necessary, and filled with electrode paste or electrode powder to form via holes. Thereafter, an electrode paste is printed so that a capacitor having a predetermined pattern is formed on each green sheet, and the green sheet for the dielectric ceramic layer and the green sheet for the insulating ceramic layer are stacked.

【0040】この後、積み重ねたグリーンシートをプレ
スし、ブロックを形成する。必要に応じて、作製したブ
ロックを適当な大きさに切断したり、溝を形成したりし
てもよい。そして、得られたブロックを1000℃以下
で焼結することにより、図1に示したようなコンデンサ
を内蔵したセラミック多層基板を得る。
Thereafter, the stacked green sheets are pressed to form blocks. If necessary, the produced block may be cut into an appropriate size or a groove may be formed. Then, the obtained block is sintered at 1000 ° C. or lower to obtain a ceramic multilayer substrate having a built-in capacitor as shown in FIG.

【0041】なお、誘電体セラミック層用の材料は、上
述したように、グリーンシートに成形し、これをセラミ
ック多層基板に内蔵してもよいが、誘電体セラミック層
用の原料粉体を有機ビヒクル、有機溶剤、可塑剤等に混
合することによってペースト化し、得られた誘電体ペー
ストを必要な部分に厚膜印刷することによって、誘電体
セラミック層を形成してもよい(図2参照)。この場合
も、誘電体セラミック層の形成後に、グリーンシートを
積み重ね、プレス、カット、焼結等の工程を経てセラミ
ック多層基板を作製できる。
As described above, the material for the dielectric ceramic layer may be formed into a green sheet and embedded in a ceramic multilayer substrate, but the raw material powder for the dielectric ceramic layer may be formed in an organic vehicle. Alternatively, a dielectric ceramic layer may be formed by mixing the mixture with an organic solvent, a plasticizer, or the like, forming a paste, and printing the obtained dielectric paste on a necessary portion in a thick film (see FIG. 2). Also in this case, after the formation of the dielectric ceramic layers, the green sheets are stacked, and a ceramic multilayer substrate can be manufactured through processes such as pressing, cutting, and sintering.

【0042】次に、本発明の誘電体セラミック組成物及
び本発明のセラミック多層基板をさらに詳細に説明する
本発明のセラミック多層基板においては、前記ガラス成
分として、酸化バリウム、酸化ケイ素及び酸化ホウ素を
混合してなるガラス成分を用いることにより、前記誘電
体セラミック成分の特性を良好に維持したまま、低温焼
結可能で、基板特性が高く、電気特性や温度特性等の基
板特性にも優れたセラミック多層基板が得られる。
Next, the dielectric ceramic composition of the present invention and the ceramic multilayer substrate of the present invention will be described in more detail. In the ceramic multilayer substrate of the present invention, barium oxide, silicon oxide and boron oxide are used as the glass components. By using a glass component obtained by mixing, ceramics that can be sintered at a low temperature, have high substrate characteristics, and have excellent substrate characteristics such as electrical characteristics and temperature characteristics, while maintaining the characteristics of the dielectric ceramic component well. A multilayer substrate is obtained.

【0043】また、酸化バリウム、酸化ケイ素及び酸化
ホウ素を混合してなる前記ガラス成分は、例えばBaO
−Al23−SiO2等の低温焼結セラミック材料を構
成するガラス成分とほぼ同組成であるので、絶縁性セラ
ミック材料からなる絶縁性セラミック基板と誘電体セラ
ミック材料からなる誘電体セラミック層とが良好に接合
し、高い基板強度を有するセラミック多層基板が得られ
る。
The glass component obtained by mixing barium oxide, silicon oxide and boron oxide is, for example, BaO
-Al 2 O 3- SiO 2 and other low-temperature sintered ceramic materials have almost the same composition as glass components, so that an insulating ceramic substrate made of an insulating ceramic material and a dielectric ceramic layer made of a dielectric ceramic material And a ceramic multilayer substrate having high substrate strength can be obtained.

【0044】特に、本発明のセラミック多層基板及び本
発明の誘電体セラミック組成物において、酸化バリウム
(BaO)を10.0〜65.0モル%、酸化ケイ素
(SiO2)を1.0〜55.0モル%、酸化ホウ素
(B23)を10.0〜75.0モル%混合してなるガ
ラス成分を前記誘電体セラミック組成物に用いれば、例
えば、比誘電率εrが4000〜5500、誘電損失ta
nδが0.5以下の優れた電気特性が達成されると共
に、安定した誘電率の温度係数Tccを有し、優れた温
度特性も達成できる。
In particular, in the ceramic multilayer substrate of the present invention and the dielectric ceramic composition of the present invention, 10.0 to 65.0 mol% of barium oxide (BaO) and 1.0 to 55 mol% of silicon oxide (SiO 2 ) are used. When a glass component obtained by mixing 10.0 to 75.0 mol% of boron oxide (B 2 O 3 ) with the dielectric ceramic composition is used in the dielectric ceramic composition, for example, the relative dielectric constant εr is 4000 to 5500. , Dielectric loss ta
Excellent electrical characteristics with nδ of 0.5 or less are achieved, and a stable temperature coefficient Tcc of dielectric constant is achieved, and excellent temperature characteristics can also be achieved.

【0045】また、前記ガラス成分の含有量が誘電体セ
ラミック材料に対して5.0〜35.0重量%の範囲内
であれば、比誘電率εrや誘電損失tanδ等の電気特性
と誘電率の温度係数Tcc等の温度特性とのバランスが
優れたものとなる。なお、ガラス成分の含有量が5.0
重量%未満であると、焼結温度が高くなる傾向にあり、
他方、ガラス成分の含有量が35.0重量%を超える
と、基板強度(抗折強度)が小さくなる傾向にある。
If the content of the glass component is in the range of 5.0 to 35.0% by weight with respect to the dielectric ceramic material, the electrical characteristics such as the relative dielectric constant εr and the dielectric loss tan δ and the dielectric constant The balance with temperature characteristics such as the temperature coefficient Tcc is excellent. The content of the glass component was 5.0.
If it is less than 10% by weight, the sintering temperature tends to increase,
On the other hand, when the content of the glass component exceeds 35.0% by weight, the substrate strength (flexural strength) tends to decrease.

【0046】また、絶縁体セラミック層に、BaO−A
23−SiO2系のガラス複合材料からなる低温焼結
セラミック材料を用いれば、セラミック多層基板内に比
抵抗の小さな銀、銀−パラジウム、銅、金等の低融点金
属(又は合金)を電極材料として配し、同時焼結するこ
とが可能なことから、高周波特性に優れたセラミック多
層基板を形成できる。特に、この低温焼結セラミック材
料は、前述した酸化バリウム、酸化ケイ素及び酸化ホウ
素を混合してなるガラス成分とほぼ同組成であるので相
性がよく、従って、前述の誘電体セラミック層との接着
強度が高く、また、基板特性の変動が少ない。
Further, BaO-A is used for the insulating ceramic layer.
Using the l 2 O 3 -SiO 2 based low-temperature co-fired ceramic material made of a glass composite material, small silver resistivity in the ceramic multilayer substrate, a silver - palladium, copper, low-melting-point metal such as gold (or alloy) Can be disposed as an electrode material and can be simultaneously sintered, so that a ceramic multilayer substrate excellent in high-frequency characteristics can be formed. In particular, since the low-temperature sintered ceramic material has substantially the same composition as the glass component obtained by mixing barium oxide, silicon oxide and boron oxide, the compatibility is good, and therefore, the adhesive strength with the dielectric ceramic layer described above. And variations in substrate characteristics are small.

【0047】以上、本発明を実施の形態に従い説明した
が、本発明はこれらの実施の形態に限定されるものでは
ない。
As described above, the present invention has been described in accordance with the embodiments. However, the present invention is not limited to these embodiments.

【0048】例えば、低温焼結セラミック基板の材料は
BAS材料に限定されるものではなく、例えば、BaO
−SrO−SiO2、BaO−SiO2−Li2O等の低
温焼結セラミック材料を用いることも可能である。これ
らの低温焼結セラミック材料は、前述したBaO、Si
2及びB23からなるガラス成分とほぼ同組成のガラ
ス成分を含む材料である。
For example, the material of the low-temperature sintered ceramic substrate is not limited to the BAS material.
It is also possible to use -SrO-SiO 2, BaO-SiO 2 -Li 2 O low-temperature co-fired ceramic material, such as. These low-temperature sintering ceramic materials are made of BaO, Si
It is a material containing a glass component having substantially the same composition as the glass component composed of O 2 and B 2 O 3 .

【0049】また、本発明のセラミック多層基板は、半
導体IC等の電子部品を搭載するセラミック基板として
利用するのみではなく、マイクロ波用の誘電体共振器や
LCフィルタ等の電子部品用材料、さらにはセラミック
パッケージ等として用いることも可能である。また、セ
ラミック多層基板上、或いはその裏面に抵抗を形成する
ことで、若しくは、絶縁性セラミック基板内又は誘電体
セラミック層内にチョークコイルやストリップラインを
形成することで、さらに基板形状の小型化が達成でき
る。
The ceramic multilayer substrate of the present invention is used not only as a ceramic substrate on which electronic components such as semiconductor ICs are mounted, but also as a material for electronic components such as a dielectric resonator for microwaves and an LC filter. Can be used as a ceramic package or the like. Further, by forming a resistor on or on the back surface of the ceramic multilayer substrate, or by forming a choke coil or a strip line in the insulating ceramic substrate or the dielectric ceramic layer, the size of the substrate can be further reduced. Can be achieved.

【0050】[0050]

【実施例】以下、本発明を具体的な実施例について説明
する。
The present invention will be described below with reference to specific examples.

【0051】まず、チタン酸バリウム(BaTi
3)、ジルコニウム酸カルシウム(CaZrO3)、チ
タン酸マグネシウム(MgTiO3)、酸化セリウム
(CeO2)、酸化ビスマス(Bi23)、酸化スズ
(SnO2)を、下記表1に示した所定量混合し、空気
中、1000℃以上、1時間以上で仮焼した。引き続い
て、仮焼後のセラミック原料粉末を粉砕した後、下記表
1に示す比率で混合したBaO、SiO2及びB23から
なるガラス成分を所定量加え、さらにバインダー、分散
材、可塑剤、有機溶媒を適量添加、混合して、誘電体セ
ラミック層用の有機スラリーを作製した。
First, barium titanate (BaTi
O 3 ), calcium zirconate (CaZrO 3 ), magnesium titanate (MgTiO 3 ), cerium oxide (CeO 2 ), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), and tin oxide (SnO 2 ) are shown in Table 1 below. A predetermined amount was mixed and calcined in air at 1000 ° C. or more for 1 hour or more. Then, after crushing the ceramic material powder after calcination,
A glass component composed of BaO, SiO 2 and B 2 O 3 mixed in the ratio shown in 1 is added in a predetermined amount, and further, an appropriate amount of a binder, a dispersant, a plasticizer, and an organic solvent are added and mixed to form a dielectric ceramic layer. An organic slurry was prepared.

【0052】[0052]

【表1】 [Table 1]

【0053】次いで、これをドクターブレード法に基づ
いてシート状に成形して誘電体セラミック層用グリーン
シートを作製した後、このグリーンシートを必要な厚さ
になる分だけ積み重ね、これをプレスし、適当な形状に
カットした。そして、これを還元性雰囲気中、1000
℃以下で焼結した。そして、得られたシート状の誘電体
セラミックの両面に電極を付与し、比誘電率εr、誘電
損失tanδ、並びに、−25℃のときの誘電率の温度係
数Tcc、85℃のときの誘電率の温度係数Tccをそ
れぞれ測定した。測定結果を下記表2に示す。
Next, this was formed into a sheet shape based on the doctor blade method to produce a green sheet for a dielectric ceramic layer. Then, the green sheets were stacked by a required thickness and pressed. It was cut into an appropriate shape. Then, this is placed in a reducing atmosphere at 1000
Sintered below ℃. Electrodes are applied to both surfaces of the obtained sheet-shaped dielectric ceramic, and the relative permittivity εr, the dielectric loss tanδ, the temperature coefficient Tcc of the permittivity at −25 ° C., and the permittivity at 85 ° C. Were measured respectively. The measurement results are shown in Table 2 below.

【0054】また、BAS材料からなる低温焼結セラミ
ック材料をシート状に成形して作製したグリーンシート
と、前述した誘電体セラミック用グリーンシートとを積
み重ね、図1に示したようなセラミック多層基板を作製
し、その基板強度及び焼結温度を測定した。基板強度及
び焼結温度の測定結果を下記表2に併せて示す。なお、
表2における焼結温度は、最も密度の高くなる温度を示
した。
Also, a green sheet prepared by molding a low-temperature sintered ceramic material made of a BAS material into a sheet and the above-described green sheet for a dielectric ceramic are stacked to form a ceramic multilayer substrate as shown in FIG. It was fabricated and its substrate strength and sintering temperature were measured. The measurement results of the substrate strength and the sintering temperature are also shown in Table 2 below. In addition,
The sintering temperature in Table 2 indicates the temperature at which the density becomes highest.

【0055】[0055]

【表2】 [Table 2]

【0056】表1及び表2に示したように、例1〜例9
から、BaO、SiO2及びB23からなるガラス成分
の組成比に関して、図3の三成分図に示すように、Ba
Oが10.0〜65.0モル%、SiO2が1.0〜5
5.0モル%、B23が10.0〜75.0モル%のと
きは、高い比誘電率εrを有し、かつ、tanδ及び誘電
率の温度係数Tccに優れた値を示していると共に、基
板強度(抗折強度)が高く、焼結温度が低いといった利
点を有していることが分かる。
As shown in Tables 1 and 2, Examples 1 to 9
As shown in the three-component diagram of FIG. 3, the composition ratio of the glass component consisting of BaO, SiO 2 and B 2 O 3
O is 10.0 to 65.0 mol%, SiO 2 is 1.0 to 5
When 5.0 mol% and B 2 O 3 are 10.0 to 75.0 mol%, they have a high relative dielectric constant εr, and exhibit excellent values of tan δ and temperature coefficient of dielectric constant Tcc. In addition, it can be seen that there are advantages such as high substrate strength (flexural strength) and low sintering temperature.

【0057】また、例1、例16〜例18に関し、基板
強度と焼結温度とのバランスを考慮すると、誘電体セラ
ミック成分に対するガラス成分の含有量は5.0〜3
5.0重量%が望ましいことが分かる。
In Examples 1, 16 to 18, when the balance between the substrate strength and the sintering temperature is considered, the content of the glass component with respect to the dielectric ceramic component is 5.0 to 3
It turns out that 5.0 weight% is desirable.

【0058】特に、例1〜例9、例17から、BaO、
SiO2及びB23からなるガラス成分の組成比が、B
aOが10.0〜65.0モル%、SiO2が1.0〜
55.0モル%、B23が10.0〜75.0モル%で
あって、かつ、誘電体セラミック成分に対するガラス成
分の含有量が5.0〜35.0重量%のとき、比誘電率
εrが4000〜5500、tanδが0.5以下の優れ
た電気特性を示し、かつ、静電容量の温度係数Tcc
が、−25℃、+85℃のいずれにおいても、±50%
以内の優れた温度特性を示していることが分かる。ま
た、これらは、焼結温度が1000℃以下と低いので、
BASからなる絶縁性セラミック基板及び低融点金属と
同時焼結でき、かつ、基板強度にも優れていることが分
かる。
In particular, from Examples 1 to 9 and Example 17, BaO,
When the composition ratio of the glass component composed of SiO 2 and B 2 O 3 is B
aO is 10.0 to 65.0 mol%, SiO 2 is 1.0
55.0 mol%, a B 2 O 3 is from 10.0 to 75.0 mol%, and, when the content of the glass component to the dielectric ceramic component is 5.0 to 35.0 wt%, the ratio It shows excellent electrical characteristics with a dielectric constant εr of 4000 to 5500 and a tan δ of 0.5 or less, and has a temperature coefficient of capacitance Tcc
Is ± 50% at both -25 ° C. and + 85 ° C.
It can be seen that excellent temperature characteristics are shown. In addition, since the sintering temperature is as low as 1000 ° C. or less,
It can be seen that the insulating ceramic substrate made of BAS and the low melting point metal can be simultaneously sintered, and the substrate strength is excellent.

【0059】これに対して、例10のように、ガラス成
分におけるBaOの組成比が15.0モル%以下である
と、焼結温度が高くなりすぎ、Q値が低下する傾向にあ
る。また、例11のように、ガラス成分におけるBaO
の組成比が65.0モル%を超えると、上述した温度特
性が劣化する傾向にある。
On the other hand, when the composition ratio of BaO in the glass component is 15.0 mol% or less as in Example 10, the sintering temperature becomes too high, and the Q value tends to decrease. Also, as in Example 11, BaO in the glass component
If the composition ratio exceeds 65.0 mol%, the above-mentioned temperature characteristics tend to deteriorate.

【0060】また、例12のように、ガラス成分におけ
るSiO2の組成比が5.0モル%を下回ると、抗折強
度が低下して、基板としての使用が困難になる。他方、
例13のように、SiO2の組成比が55.0モル%を
上回ると、焼結温度が高くなってCuの焼結温度以上に
なり、Cuからなる電極がダメージを受けることがあ
る。
Further, when the composition ratio of SiO 2 in the glass component is less than 5.0 mol% as in Example 12, the flexural strength is reduced, and it is difficult to use as a substrate. On the other hand,
As in Example 13, when the composition ratio of SiO 2 exceeds 55.0 mol%, the sintering temperature becomes higher than the sintering temperature of Cu, and the electrode made of Cu may be damaged.

【0061】また、例14のように、ガラス成分におけ
るB23の組成比が10.0モル%を下回ると、焼結温
度が高いためにCuの焼結温度以上でセラミックを焼成
する必要があり、Cuからなる電極がダメージを受ける
ことがある。他方、例15から分かるように、B23
組成比が75.0モル%を上回ると、焼結温度が低くな
り、同時焼成するCuからなる電極の焼結が困難にな
る。
Further, as in Example 14, when the composition ratio of B 2 O 3 in the glass component is less than 10.0 mol%, the sintering temperature is high and the ceramic must be fired at a temperature higher than the sintering temperature of Cu. And the electrode made of Cu may be damaged. On the other hand, as can be seen from Example 15, when the composition ratio of B 2 O 3 exceeds 75.0 mol%, the sintering temperature is lowered, and sintering of the electrode made of Cu to be co-fired becomes difficult.

【0062】さらに、誘電体セラミック成分に対するガ
ラス成分の添加量に関し、例16から、5.0重量%未
満であると焼結温度が上昇してしまい、例18から、3
5.0重量%を超えると基板強度が低下してしまう傾向
にあることが分かった。
Further, with respect to the amount of the glass component to be added to the dielectric ceramic component, the sintering temperature is increased if the content is less than 5.0% by weight from Example 16, and from Example 18, the sintering temperature is increased.
It has been found that when the content exceeds 5.0% by weight, the substrate strength tends to decrease.

【0063】以上、本実施例によれば、浮遊容量が発生
すると特性上不利になると思われる部分に誘電率の低い
セラミック組成物を用い、大きな容量を必要とする部分
に誘電率の高い誘電体セラミック組成物を用いること
で、大容量のコンデンサを内蔵することができ、セラミ
ック多層基板の大幅な小型化、低背化が達成される。
As described above, according to the present embodiment, a ceramic composition having a low dielectric constant is used for a portion that is considered to be disadvantageous in terms of characteristics when a stray capacitance is generated, and a dielectric material having a high dielectric constant is used for a portion requiring a large capacitance. By using the ceramic composition, a large-capacity capacitor can be built in, and the ceramic multilayer substrate is significantly reduced in size and height.

【0064】同時に、必要な部分にのみ誘電率の高い誘
電体セラミック層を内蔵しているので、電極間や配線間
の浮遊容量を最小限に抑えることができる。また、高誘
電率の誘電体セラミック層部分をグリーンシート等にし
て内蔵する場合、例えば、コンデンサ間の誘電体膜厚を
一定にすることができるため、非常に精度の高い大容量
のコンデンサを、必ずしもトリミングを行う必要なく、
形成できる。
At the same time, since a dielectric ceramic layer having a high dielectric constant is built only in necessary portions, stray capacitance between electrodes and between wirings can be minimized. In addition, when the dielectric ceramic layer portion having a high dielectric constant is built in as a green sheet or the like, for example, since the dielectric film thickness between the capacitors can be made constant, a very high-precision large-capacity capacitor is used. There is no need to trim
Can be formed.

【0065】さらに、低誘電率の絶縁性セラミック層と
高誘電率の誘電体セラミック層とがほぼ同組成のガラス
成分を含んでいるため、これらの接合が適切に働き、絶
縁性セラミック層と誘電体セラミック層との接着強度が
非常に大きくなって基板強度が大幅に向上する。
Further, since the low-permittivity insulating ceramic layer and the high-permittivity dielectric ceramic layer contain glass components having substantially the same composition, their joining works properly, and the insulating ceramic layer and the dielectric ceramic layer have a high dielectric constant. The bonding strength with the body ceramic layer is very large, and the strength of the substrate is greatly improved.

【0066】[0066]

【発明の効果】本発明の誘電体セラミック組成物は、チ
タン酸バリウムを85.0〜90.0重量%、ジルコニ
ウム酸カルシウムを8.5〜12.0重量%、チタン酸
マグネシウムを0.5重量%以下、酸化セリウムを0.
5重量%以下、酸化ビスマスを0.1〜1.0重量%、
酸化スズを0.1〜1.0重量%、それぞれ含有してな
る誘電体セラミック成分の比誘電率ε、誘電損失tanδ
などの電気特性と、誘電率の温度係数Tccなどの温度
特性とをバランス良く保持し、比較的低温で焼結可能で
あって、焼結後の強度が高い誘電体セラミック組成物で
ある。
The dielectric ceramic composition of the present invention has a barium titanate content of 85.0 to 90.0% by weight, a calcium zirconate content of 8.5 to 12.0% by weight, and a magnesium titanate content of 0.5%. Weight% or less, and cerium oxide in an amount of 0.
5% by weight or less, bismuth oxide 0.1 to 1.0% by weight,
0.1 to 1.0% by weight of tin oxide, relative dielectric constant ε and dielectric loss tanδ of dielectric ceramic components each containing tin oxide
It is a dielectric ceramic composition that maintains good electrical characteristics such as temperature coefficient of dielectric constant such as temperature coefficient Tcc in a well-balanced manner, can be sintered at a relatively low temperature, and has high strength after sintering.

【0067】本発明のセラミック多層基板によれば、絶
縁性セラミック層と誘電体セラミック層とが良好に接合
すると共に、誘電体セラミック層の比誘電率ε、誘電損
失tanδなどの電気特性と、誘電率の温度係数Tccな
どの温度特性とのバランスに優れ、焼結後の強度が高く
低温焼結可能であるので、安定性に優れ、高周波特性に
優れたセラミック多層基板が得られる。
According to the ceramic multi-layer substrate of the present invention, the insulating ceramic layer and the dielectric ceramic layer are satisfactorily joined together, and the dielectric ceramic layer has electrical characteristics such as relative permittivity ε and dielectric loss tan δ, It is excellent in balance with temperature characteristics such as the temperature coefficient Tcc of the ratio, and has high strength after sintering and can be sintered at low temperature, so that a ceramic multilayer substrate excellent in stability and high frequency characteristics can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態によるセラミック多
層基板の概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a ceramic multilayer substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施の形態によるセラミック多
層基板の概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view of a ceramic multilayer substrate according to a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の誘電体セラミック組成物におけるガラ
ス成分の組成範囲を示す三成分図である。
FIG. 3 is a three-component diagram showing a composition range of a glass component in the dielectric ceramic composition of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…セラミック多層基板、 2…誘電体セラミック層、 3a、3b…絶縁性セラミック層、 4a、4b、4c、4d、4e、4f…電極、 5a、5b、5c、5d、5e、5f…ビアホール、 6、7…表面実装部品 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Ceramic multilayer substrate, 2 ... Dielectric ceramic layer, 3a, 3b ... Insulating ceramic layer, 4a, 4b, 4c, 4d, 4e, 4f ... Electrode, 5a, 5b, 5c, 5d, 5e, 5f ... Via hole, 6,7 ... Surface mount components

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4G031 AA03 AA04 AA06 AA07 AA11 AA12 AA28 AA30 AA31 AA35 BA09 CA03 5E346 AA12 AA13 AA15 AA23 AA36 BB01 BB20 CC18 DD02 DD13 DD34 EE24 EE29 FF45 GG03 GG06 GG09 HH06 HH11 5G303 AA05 AB06 AB07 AB11 AB12 AB15 BA06 BA12 CA03 CB02 CB03 CB05 CB06 CB08 CB17 CB30 CB31 CB35 CB39  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page F term (reference) 4G031 AA03 AA04 AA06 AA07 AA11 AA12 AA28 AA30 AA31 AA35 BA09 CA03 5E346 AA12 AA13 AA15 AA23 AA36 BB01 BB20 CC18 DD02 DD13 DD34 EE24 EE29 FF45 GG03 AB06 AB12 AB15 BA06 BA12 CA03 CB02 CB03 CB05 CB06 CB08 CB17 CB30 CB31 CB35 CB39

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 チタン酸バリウムを85.0〜90.0
重量%、ジルコニウム酸カルシウムを8.5〜12.0
重量%、チタン酸マグネシウムを0.5重量%以下、酸
化セリウムを0.5重量%以下、酸化ビスマスを0.1
〜1.0重量%、酸化スズを0.1〜1.0重量%、そ
れぞれ含有してなる誘電体セラミック成分に、 酸化バリウム、酸化ケイ素及び酸化ホウ素からなるガラ
ス成分を混合してなることを特徴とする、誘電体セラミ
ック組成物。
1. The method according to claim 1, wherein the barium titanate is from 85.0 to 90.0.
Weight%, calcium zirconate 8.5 to 12.0
Weight%, magnesium titanate 0.5% by weight or less, cerium oxide 0.5% by weight or less, bismuth oxide 0.1%
To 1.0% by weight and 0.1 to 1.0% by weight of tin oxide, respectively, and a glass component comprising barium oxide, silicon oxide and boron oxide mixed with a dielectric ceramic component. A dielectric ceramic composition, characterized by:
【請求項2】 前記ガラス成分は、酸化バリウムを1
5.0〜65.0モル%、酸化ケイ素を5.0〜55.
0モル%、酸化ホウ素を10.0〜75.0モル%、そ
れぞれ混合してなることを特徴とする、請求項1に記載
の誘電体セラミック組成物。
2. The glass component according to claim 1, wherein the glass component is barium oxide.
5.0-65.0 mol%, silicon oxide is 5.0-55.
The dielectric ceramic composition according to claim 1, wherein 0 mol% and boron oxide are mixed at 10.0 to 75.0 mol%, respectively.
【請求項3】 前記ガラス成分の含有量を、前記誘電体
セラミック成分に対して、5.0〜35.0重量%とす
ることを特徴とする、請求項1又は2に記載の誘電体セ
ラミック組成物。
3. The dielectric ceramic according to claim 1, wherein the content of the glass component is 5.0 to 35.0% by weight based on the dielectric ceramic component. Composition.
【請求項4】 低誘電率の絶縁性セラミック層と高誘電
率の誘電体セラミック層とを積層、焼成してなるセラミ
ック多層基板において、 前記絶縁性セラミック層は、ガラス成分を含む低温焼結
セラミック組成物からなり、 前記誘電体セラミック層は、チタン酸バリウムを85.
0〜90.0重量%、ジルコニウム酸カルシウムを8.
5〜12.0重量%、チタン酸マグネシウムを0.5重
量%以下、酸化セリウムを0.5重量%以下、酸化ビス
マスを0.1〜1.0重量%、酸化スズを0.1〜1.
0重量%、それぞれ含有してなる誘電体セラミック成分
に、前記ガラス成分とほぼ同組成のガラス成分を混合し
てなる誘電体セラミック組成物からなることを特徴とす
る、セラミック多層基板。
4. A ceramic multilayer substrate obtained by laminating and firing a low dielectric constant insulating ceramic layer and a high dielectric constant dielectric ceramic layer, wherein the insulating ceramic layer is a low-temperature sintered ceramic containing a glass component. The dielectric ceramic layer comprises barium titanate.
7. 0 to 90.0% by weight of calcium zirconate.
5 to 12.0% by weight, 0.5% by weight or less of magnesium titanate, 0.5% by weight or less of cerium oxide, 0.1 to 1.0% by weight of bismuth oxide, and 0.1 to 1% of tin oxide .
A ceramic multilayer substrate comprising a dielectric ceramic composition obtained by mixing 0% by weight of a dielectric ceramic component and a glass component having substantially the same composition as the glass component.
【請求項5】 前記誘電体セラミック組成物におけるガ
ラス成分は、酸化バリウムを15.0〜65.0モル
%、酸化ケイ素を5.0〜55.0モル%、酸化ホウ素
を10.0〜75.0モル%、それぞれ混合してなるこ
とを特徴とする、請求項4に記載のセラミック多層基
板。
5. The glass component in the dielectric ceramic composition is 15.0 to 65.0 mol% of barium oxide, 5.0 to 55.0 mol% of silicon oxide, and 10.0 to 75 mol% of boron oxide. 5. The ceramic multilayer substrate according to claim 4, wherein each of the ceramic multilayer substrates is mixed with each other.
【請求項6】 前記誘電体セラミック組成物におけるガ
ラス成分の含有量を、前記誘電体セラミック成分に対し
て、5.0〜35.0重量%とすることを特徴とする、
請求項4又は5に記載のセラミック多層基板。
6. The dielectric ceramic composition, wherein the content of the glass component is 5.0 to 35.0% by weight based on the dielectric ceramic component.
The ceramic multilayer substrate according to claim 4.
【請求項7】 前記低温焼結セラミック材料をBaO−
Al23−SiO2系のガラス複合材料とすることを特
徴とする、請求項4に記載のセラミック多層基板。
7. The low-temperature sintered ceramic material is BaO-
Characterized in that the Al 2 O 3 -SiO 2 -based glass composite material, a ceramic multilayer substrate according to claim 4.
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