JP2000260191A - Method of writing and erasing data in semiconductor memory - Google Patents
Method of writing and erasing data in semiconductor memoryInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体メモリへのデータ書き込みにかかるト
ータル時間を効果的に短縮することができる半導体メモ
リへのデータ書き込み及び消去方法を提供する。
【解決手段】 電気的に書き込み消去可能な不揮発性半
導体メモリへのデータ書き込み及び消去方法において、
書き込み処理の初回に初期パルスを与えると共に、書き
込み処理の2回目以降に追加パルスを与えて書き込み判
定電圧レベルになるまでパルスを与え続けるメモリセル
へのデータ書き込み中に書き込み回数をカウントし、書
き込み終了後に、次のメモリセルに与えるパルス幅を前
記書き込み回数に応じて制御する書き込み及び消去方法
であって、次のセルに対する書き込みに当り、パルス幅
補正のために書き込み回数をカウントし測定しているメ
モリセルに対しても、追加パルスを回数に応じて増加補
正するようにしたものである。
[PROBLEMS] To provide a method of writing and erasing data in a semiconductor memory, which can effectively reduce the total time required for writing data to the semiconductor memory. A method for writing and erasing data in an electrically writable and erasable nonvolatile semiconductor memory includes:
An initial pulse is given at the first time of the write process, and an additional pulse is given at the second and subsequent write processes, and the pulse is continuously applied until the write determination voltage level is reached. A writing and erasing method for controlling the pulse width given to the next memory cell later according to the number of times of writing. In writing to the next cell, the number of times of writing is counted and measured for pulse width correction. The additional pulse is also corrected for the memory cell according to the number of times.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は不揮発性半導体メモ
リへのデータ書き込み及び消去方法、特に電気的に書き
込み及び消去可能な不揮発性半導体記憶装置(Electric
ally ErasableProgrammable ROM;EEPROMおよ
びフラッシュ型(一括消去型)EEPROM)へのデー
タ書き込み及び消去方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for writing and erasing data in a nonvolatile semiconductor memory, and more particularly to a nonvolatile semiconductor memory device (Electric) capable of electrically writing and erasing.
The present invention relates to a method for writing and erasing data to an ally erasable programmable ROM (EEPROM) and a flash type (batch erase type) EEPROM.
【0002】[0002]
【従来の技術】以下、図面を参照しながら不揮発性メモ
リへのデータ書き込み方法における基本的な書き込み制
御について説明する。図3は一般的な不揮発性メモリへ
のデータ書き込み装置の一例を示すブロック図、図4は
図3に示す装置におけるデータ書き込み手順のフローチ
ャート、図5は図3に示す装置における書き込み時間と
書き込み電圧レベルの関係を表したグラフ、図6は不揮
発性メモリチップのメモリセル毎の書き込み時間特性を
表したグラフ、図7は不揮発性メモリチップ毎の書き込
み時間特性を表したグラフである。2. Description of the Related Art Basic write control in a method of writing data to a nonvolatile memory will be described below with reference to the drawings. FIG. 3 is a block diagram showing an example of a general device for writing data to a nonvolatile memory, FIG. 4 is a flowchart of a data writing procedure in the device shown in FIG. 3, and FIG. 5 is a write time and write voltage in the device shown in FIG. FIG. 6 is a graph showing the relationship between levels, FIG. 6 is a graph showing the write time characteristics of each memory cell of the nonvolatile memory chip, and FIG. 7 is a graph showing the write time characteristics of each nonvolatile memory chip.
【0003】図3において、1は書込み消去パルス幅設
定回路、2は書込み消去パルス発生回路、3はメモリセ
ル、4はベリファイ回路であり、メモリセル3に対する
データ書き込みの手順は、まず、書き込み消去動作開始
後、書込み消去パルス幅設定回路1が書込み消去パルス
発生回路2に対しメモリセル3に与える書き込みパルス
幅を設定し、書込み消去パルス発生回路2はメモリセル
3に対し書き込みパルスを与える。その後、ベリファイ
回路4はデータが書き込み消去レベルに達したかどうか
を判断し、書き込み消去電圧レベルに達していない場合
は、再度、書き込み消去動作を繰り返す。ベリファイ回
路4にて、書き込みレベルに達していた場合のみ、書き
込み消去動作を終了する。In FIG. 3, 1 is a write / erase pulse width setting circuit, 2 is a write / erase pulse generation circuit, 3 is a memory cell, and 4 is a verify circuit. The procedure of writing data to the memory cell 3 is as follows. After the start of the operation, the write / erase pulse width setting circuit 1 sets the write pulse width given to the memory cell 3 to the write / erase pulse generator 2, and the write / erase pulse generator 2 gives the write pulse to the memory cell 3. Thereafter, the verify circuit 4 determines whether or not the data has reached the write / erase level, and if the data has not reached the write / erase voltage level, repeats the write / erase operation again. Only when the verify circuit 4 reaches the write level, the write / erase operation ends.
【0004】このデータ書き込みの手順を図4のフロー
チャートを用いて詳細に説明する。なお、301以降の
符号はすべて何らかの処理ステップを表しているが、表
現の煩雑化を避けるためにステップという用語は省略し
機能表現のみで表記するものとする。図4において、ま
ず、パルス幅設定処理303で書き込みに与えるパルス
幅を設定する。次に、書き込み電圧切り換え処理305
にて書き込み用の電圧に切り換える。次に、書き込み消
去パルス発生処理306にてパルス幅設定処理303で
設定されたパルス幅の書き込みパルスをメモリセルに与
える。次に、ベリファイ電圧切り換え処理307でベリ
ファイ用の電圧に切り換える。そして、ベリファイ処理
308にて書き込みレベルに達しているかどうかを判断
し、書き込みレベルに達していれば、書き込み処理を終
了する。書き込みレベルに達していない場合は、再度パ
ルス幅設定処理303より一連の書き込み処理を繰り返
す。これを書き込み時間(パルス幅)と書き込み電圧レ
ベルの関係として表すと、図5に示すように、書き込み
時間が増えるにつれ、書き込み電圧レベルが上がってゆ
き、正常書き込み電圧レベルに達した時に書き込み処理
が終了することになる。The data writing procedure will be described in detail with reference to the flowchart of FIG. Note that reference numerals 301 and thereafter all denote some processing steps, but in order to avoid complication of the expression, the term “step” will be omitted and only the functional expression will be used. In FIG. 4, first, a pulse width to be given to writing is set in a pulse width setting process 303. Next, write voltage switching processing 305
To switch to the voltage for writing. Next, in a write / erase pulse generation process 306, a write pulse having the pulse width set in the pulse width setting process 303 is applied to the memory cell. Next, in a verify voltage switching process 307, the voltage is switched to a verify voltage. Then, it is determined in a verify process 308 whether or not the write level has been reached. If the write level has been reached, the write process is terminated. If the write level has not been reached, a series of write processing is repeated from the pulse width setting processing 303 again. If this is expressed as a relationship between the write time (pulse width) and the write voltage level, as shown in FIG. 5, as the write time increases, the write voltage level increases, and when the normal write voltage level is reached, the write processing is started. Will end.
【0005】一方、不揮発性メモリはメモリセル単体毎
に書き込み時間がばらつくという特徴を持っており、そ
の時間特性は図6に示す通りである。図6において縦軸
はセルの個数で横軸は書き込み時間である。この書き込
み時間特性でわかるように不揮発性メモリチップ内で書
き込み時間はばらつきを持っているばかりでなく、図7
に示すように、チップ毎にも書き込み時間特性は異なっ
ている。On the other hand, the nonvolatile memory has a feature that the writing time varies for each memory cell alone, and the time characteristic is as shown in FIG. In FIG. 6, the vertical axis represents the number of cells and the horizontal axis represents the writing time. As can be seen from the write time characteristics, the write time not only varies within the nonvolatile memory chip, but also in FIG.
As shown in FIG. 7, the writing time characteristic differs for each chip.
【0006】このように書き込み時間にばらつきを持っ
たメモリセルへのデータ書き込み方法は大きく分けて2
つの目的に分けられる。1つは、メモリセルの信頼性の
問題で、書き込みのトータル時間が長くなっても、メモ
リセルに対して過剰書き込み(正常な書き込みレベルを
超える書き込み時間を与える)を絶対行わない書き込み
方法である。もう1つは、過剰書き込みを多少行っても
メモリセルの信頼性には関係ないため、書き込みにかか
るトータル時間を短縮する書き込み方法である。As described above, the method of writing data into the memory cells having a variation in the writing time is roughly divided into two methods.
Can be divided into two purposes. One is a problem of reliability of a memory cell, and a writing method in which excessive writing (giving a writing time exceeding a normal writing level) to a memory cell is never performed even if the total writing time is long. . The other is a writing method in which the total time required for writing is reduced because the overwriting does not affect the reliability of the memory cell even if it is performed somewhat.
【0007】メモリセルに対して過剰書き込みを絶対行
わない書き込み方法は、通常書き込み時に与えるパルス
幅を細かくして書き込むのが普通であり、これに対し
て、書き込みにかかるトータル時間を短縮する書き込み
方法では、次のようないくつかの書き込み方法が提案さ
れている。In a writing method that does not absolutely overwrite a memory cell, writing is usually performed by narrowing a pulse width given during normal writing. On the other hand, a writing method that reduces the total time required for writing is used. Then, the following several writing methods are proposed.
【0008】すなわち、図4で説明した書き込み処理の
フローチャートにおいて、書き込み消去パルス発生処理
306で実際に書き込みパルスを与える処理にかかる時
間をハード処理と呼び、また、パルス幅設定処理30
3,書き込み電圧切り換え処理305,ベリファイ電圧
切り換え処理307,ベリファイ処理308の書き込み
パルスを与える処理以外の処理をソフト処理と呼ぶが、
メモリセルに与える書き込みパルスが実際の書き込みレ
ベルに達するまでの時間より短く設定されている場合に
は、追加書き込み処理が増大し(ハード処理増大)、そ
の結果、ソフト処理が増大し、書き込みにかかるトータ
ルの時間が長くなるという問題がある。That is, in the write processing flowchart described with reference to FIG. 4, the time required for the processing for actually applying a write pulse in the write / erase pulse generation processing 306 is called a hardware processing.
3. The processes other than the process of giving a write pulse in the write voltage switching process 305, the verify voltage switching process 307, and the verify process 308 are called software processes.
If the write pulse applied to the memory cell is set to be shorter than the time required to reach the actual write level, additional write processing increases (hard processing increases), and as a result, software processing increases and it takes longer to write. There is a problem that the total time is long.
【0009】このような問題を解決するため、従来のデ
ータ書き込み方法においては、書き込み時に与えるパル
スを2種類に分けて制御している。1つは、同一セルの
書き込み処理の初回に与えるパルス(以下初期パルスと
いう)であり、もう1つは、同一セルの書き込み処理の
2回目以降に与えるパルス(以下追加パルスという)で
ある。In order to solve such a problem, in a conventional data writing method, a pulse applied at the time of writing is divided into two types and controlled. One is a pulse (hereinafter referred to as an initial pulse) applied at the first time of the writing process of the same cell, and the other is a pulse (hereinafter, referred to as an additional pulse) applied at the second and subsequent times of the writing process of the same cell.
【0010】従来の方法では、チップ内のメモリセルの
書き込み特性に合わせて、初期パルスと追加パルスを補
正する方法が考えられており、これらのパルス幅の補正
方法は、現在、書き込みを行っているメモリセルに対
し、実際に書き込みを行いながら書き込み時間の測定を
行い、その結果を基に、次のメモリセルに反映させるよ
うに書き込み時に与えるパルス幅を補正するものであ
る。なお、この書き込みパルスの補正方法において、書
き込み時間を測定しているメモリセルを以下測定セルと
いい、補正したパルス幅を使用して書き込むメモリセル
を以下補正実施セルという。In a conventional method, a method of correcting an initial pulse and an additional pulse in accordance with the write characteristics of a memory cell in a chip has been considered. These pulse width correction methods are currently performed by performing a write operation. The writing time is measured while actually writing data to the memory cell in which it is written, and based on the measurement result, the pulse width given at the time of writing is corrected so as to be reflected in the next memory cell. In this write pulse correction method, a memory cell for which the write time is measured is hereinafter referred to as a measurement cell, and a memory cell to be written using the corrected pulse width is hereinafter referred to as a correction execution cell.
【0011】従来のこの種方法の具体例、例えば特開平
9−147590号公報に示されるものでは、初期パル
スのみを補正し、書き込みにかかるトータル時間を短縮
した書き込み方法が考えられており、その他色々の方法
が考えられているが、その代表的な例として特開平9−
147590号公報に示される書き込み方法について図
面を参照しながら説明する。図8は従来のデータ書き込
み手順のフローチャートであり、まず、書き込み回数N
=1処理301で書き込み回数カウンタNを“1”と
し、書き込み回数の初期化を行う。In a specific example of this type of conventional method, for example, disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-147590, a writing method in which only the initial pulse is corrected to reduce the total time required for writing is considered. Various methods have been considered, and a typical example is disclosed in
The writing method disclosed in Japanese Patent No. 147590 will be described with reference to the drawings. FIG. 8 is a flowchart of a conventional data write procedure.
= 1 In the process 301, the number-of-writes counter N is set to "1", and the number of writes is initialized.
【0012】次に、書き込み回数判断処理302で書き
込み回数の判断を行う。書き込み回数判断処理302で
書き込み回数が1の場合は初期パルス幅設定処理303
で初期パルス幅を設定し、書き込み回数が2以上の時は
追加パルス幅設定処理304で追加パルス幅を設定す
る。次に、書き込み電圧切り換え処理305にてデータ
書き込み用の電圧に切り換え、書き込み消去パルス発生
処理306で書き込みパルスを発生する。Next, the number of times of writing is determined in the number of times of writing determination process 302. If the number of times of writing is 1 in the number-of-times-of-writing determination processing 302, the initial pulse width setting processing 303
, An initial pulse width is set. When the number of times of writing is 2 or more, an additional pulse width is set in an additional pulse width setting process 304. Next, the voltage is switched to a data write voltage in a write voltage switching process 305, and a write pulse is generated in a write / erase pulse generation process 306.
【0013】次に、ベリファイ電圧切り換え処理307
でベリファイ用の電圧に切り換え、ベリファイ処理30
8で書き込み判定レベルでベリファイを行う。ベリファ
イでフェイルした場合は、書き込み回数の判断処理30
9にて書き込み回数の判断を行う。書き込み回数が1の
場合は何も行わず、書き込み回数が2以上の場合は初期
パルス幅補正処理310で初期パルスを増加させる。そ
の後、書き込み回数カウントアップ処理311により書
き込み回数カウンタを1加算し再度書き込み回数判断処
理302の処理から繰り返す。ベリファイ処理308に
てパスした場合のみ書き込み回数判断処理312にて書
き込み回数の判断を行う。書き込み回数が1の場合は初
期パルスを減少させ、書き込み回数が2以上の場合は何
も行わない。その後、書き込み消去処理を終了する。Next, verify voltage switching processing 307
Is switched to the voltage for verification, and the verify processing 30
In step 8, verify is performed at the write determination level. If the verification fails, the number of times of writing 30
In step 9, the number of write operations is determined. If the number of times of writing is 1, nothing is performed, and if the number of times of writing is two or more, the initial pulse width correction processing 310 increases the number of initial pulses. After that, the number-of-writes counter is incremented by 1 in the number-of-writes count-up process 311, and the process from the number-of-writes determination process 302 is repeated again. Only when the verification process 308 is passed, the number of write times is determined in the number-of-writes determination process 312. When the number of times of writing is 1, the initial pulse is decreased, and when the number of times of writing is 2 or more, nothing is performed. After that, the write / erase processing ends.
【0014】この方法の他にも上記初期パルスを補正す
る方法に加え、測定セルの書き込み回数に応じて追加パ
ルスも補正し、補正実施セルに対して書き込みを行う書
き込み方法も考えられている。In addition to this method, in addition to the above-described method of correcting the initial pulse, a writing method of correcting an additional pulse in accordance with the number of times of writing of the measurement cell and writing data to the correction execution cell is also considered.
【0015】[0015]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなデータ書き込み及び消去方法では、初期パルスや追
加パルスの設定に当り、個々のチップの特性を勘案して
設定するものではなく、すべての不揮発性メモリチップ
に共通のプログラムとして用意され、すべての不揮発性
メモリチップの書き込み特性を測定した例えば平均値と
して、1つの初期パルス,追加パルスの初期値を決定し
ているので、測定セルへの書き込みにおいて問題が発生
する。例えば、測定セルへの書き込みにおいて、初期パ
ルスで与えたパルスと書き込みレベルに達する書き込み
時間に大きな差がある場合、追加パルスの初期値が短い
場合は、追加パルスを多く発生してしまうことになる。However, in such a data writing and erasing method, the initial pulse and the additional pulse are not set in consideration of the characteristics of each chip, but are set in all non-volatile memories. Since the initial values of one initial pulse and an additional pulse are determined as, for example, an average value obtained by measuring the write characteristics of all the non-volatile memory chips as a common program prepared in the memory chip, Problems arise. For example, in writing to a measurement cell, if there is a large difference between the pulse given as the initial pulse and the writing time to reach the writing level, and if the initial value of the additional pulse is short, many additional pulses will be generated. .
【0016】図9(a)は従来のデータ書き込み手順の
タイムチャートを示す。図9(a)のタイムチャートに
おいて、測定セルに対して初期パルス幅で書き込みを行
うが、書き込みレベルに達しておらず、追加書き込みを
実行する。初期パルスで与えた時間から書き込みレベル
に達する時間までが追加パルスで与える時間となるが、
追加パルスが固定値の上、短いパルス幅が設定されてい
る場合は、追加パルスを多く発生させることになり大き
な問題点となる。FIG. 9A shows a time chart of a conventional data writing procedure. In the time chart of FIG. 9A, writing is performed on the measurement cell with the initial pulse width, but the writing level has not been reached, and additional writing is performed. The time from the time given by the initial pulse to the time to reach the write level is the time given by the additional pulse.
If the additional pulse has a fixed value and a short pulse width is set, many additional pulses are generated, which is a major problem.
【0017】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
であり、半導体メモリへのデータ書き込みにかかるトー
タル時間を効果的に短縮することができる半導体メモリ
へのデータ書き込み及び消去方法を提供することを目的
とする。An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and to provide a method of writing and erasing data in a semiconductor memory which can effectively reduce the total time required for writing data to the semiconductor memory. With the goal.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】本発明の半導体メモリへ
のデータ書き込み及び消去方法は、電気的に書き込み消
去可能な不揮発性半導体メモリへのデータ書き込み及び
消去方法において、書き込み処理の初回に初期パルスを
与えると共に、書き込み処理の2回目以降に追加パルス
を与えて書き込み判定電圧レベルになるまでパルスを与
え続けるメモリセルへのデータ書き込み中に書き込み回
数をカウントし、書き込み終了後に、次のメモリセルに
与えるパルス幅を前記書き込み回数に応じて、書き込み
回数が1回の場合は追加パルスを変化させずに初期パル
スを減らし、書き込み回数が2回の場合は追加パルスを
減らして初期パルスを増やし、書き込み回数が2回以上
の場合は追加パルスを増やして初期パルスを増やすよう
に制御する書き込み及び消去方法であって、次のセルに
対し、パルス幅補正のために書き込み回数をカウントし
測定しているメモリセルに対しても、追加パルスを回数
に応じて増加補正するようにしたものである。According to the present invention, there is provided a method for writing and erasing data in a semiconductor memory according to the present invention. The number of times of writing is counted during the data writing to the memory cell which continues to apply the pulse until the write determination voltage level is obtained by applying an additional pulse after the second time of the writing process. According to the number of times of writing, the pulse width to be given is reduced when the number of times of writing is one, and the initial pulse is reduced without changing the additional pulse. When the number of times of writing is two, the number of additional pulses is reduced and the number of initial pulses is increased. If the number of times is 2 or more, write to control to increase the initial pulse by increasing the additional pulse And an erasing method, in which, for a memory cell which counts and measures the number of times of writing for the next cell for pulse width correction, an additional pulse is increased and corrected according to the number of times. is there.
【0019】この発明によれば、半導体メモリへのデー
タ書き込みにかかるトータル時間を効果的に短縮するこ
とができる。According to the present invention, the total time required for writing data to the semiconductor memory can be effectively reduced.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】本発明は従来の補正実施セルに対
するパルス幅補正に加えて、測定セルに対しての書き込
みにおいても、基本パルス幅の補正処理に加え、追加パ
ルスも補正するように処理を追加したものであり、実際
には追加パルス幅を記憶しておく場所を2箇所設け、1
つは補正実施セル用に追加パルスを補正するもので補正
パルスAとし、もう1つは測定パルス用に追加パルスを
補正するもので追加パルスBとすると、補正パルスAは
補正実施セルに使用するための追加パルス幅であるた
め、測定パルスの書き込みが終了した時にパルスの補正
処理が実行され、また、追加パルスBは測定セルへの書
き込み処理に使用されるパルス幅で、ベリファイ処理が
終了し、追加書き込みを要する時にパルス幅が補正され
るように構成されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention provides a process for correcting an additional pulse in addition to a basic pulse width correction process in writing to a measurement cell in addition to the conventional pulse width correction for a correction cell. In practice, two places for storing the additional pulse width are provided.
If one is to correct an additional pulse for the correction execution cell and is a correction pulse A, and the other is to correct an additional pulse for the measurement pulse and is an additional pulse B, the correction pulse A is used for the correction execution cell. When the writing of the measurement pulse is completed, the pulse correction processing is executed. Further, the additional pulse B is a pulse width used for the writing processing to the measurement cell, and the verification processing is completed. The pulse width is corrected when additional writing is required.
【0021】以下、本発明の実施の形態について図面を
参照しながら説明する。なお、前記従来のものと同一の
部分については同一の符号を用いるものとする。図1は
本発明の半導体メモリへのデータ書き込み及び消去方法
の一実施の形態における処理の流れを示すフローチャー
ト、図2は図1の処理の流れにおけるデータ書き込み手
順のタイムチャートである。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the same reference numerals are used for the same parts as those of the conventional one. FIG. 1 is a flowchart showing a flow of processing in an embodiment of a method for writing and erasing data to a semiconductor memory according to the present invention, and FIG. 2 is a time chart of a data writing procedure in the flow of processing in FIG.
【0022】図1において、まず、書き込み回数N=1
処理301で書き込み回数カウンタNを“1”とし、書
き込み回数の初期化を行う。次に、追加パルス幅B(=
追加パルス幅A)初期設定処理314にて前メモリセル
で補正された追加パルスを現メモリセル(測定セル)の
追加パルスにする。次に、書き込み回数判断処理302
で書き込み回数の判断を行い、書き込み回数が1の場合
は初期パルス幅設定処理303により初期パルス幅を設
定し、書き込み回数が2以上の時は追加パルス幅設定処
理304により追加パルス幅Bを設定する。次に、書き
込み電圧切り換え処理305にてデータ書き込み用の電
圧に切り換え、書き込み消去パルス発生処理306で書
き込みパルスを発生する。次に、ベリファイ電圧切り換
え処理307でベリファイ用の電圧に切り換え、ベリフ
ァイ処理308で書き込み判定レベルでベリファイを行
う。ベリファイでフェイルした場合は、書き込み回数判
断処理309にて書き込み回数の判断を行う。書き込み
回数が1の場合は何も行わず、書き込み回数が2以上の
場合は初期パルス幅補正処理310と追加パルスB補正
処理315により初期パルス幅と追加パルス幅Bを増加
させる。その後、書き込み回数カウントアップ処理31
1により書き込み回数カウンタを1加算し、再度、書き
込み回数判断処理302の処理から繰り返す。ベリファ
イ処理308にてパスした場合のみ書き込み回数判断処
理312にて書き込み回数の判断を行う。書き込み回数
が1の場合は初期パルス幅を減少させる。In FIG. 1, first, the number of times of writing N = 1
In process 301, the number-of-writes counter N is set to "1", and the number of writes is initialized. Next, the additional pulse width B (=
Additional pulse width A) The additional pulse corrected in the previous memory cell in the initial setting process 314 is used as an additional pulse in the current memory cell (measurement cell). Next, the write number determination process 302
The number of write operations is determined. If the number of write operations is 1, the initial pulse width is set by the initial pulse width setting process 303. If the number of write operations is 2 or more, the additional pulse width B is set by the additional pulse width setting process 304. I do. Next, the voltage is switched to a data write voltage in a write voltage switching process 305, and a write pulse is generated in a write / erase pulse generation process 306. Next, the voltage is switched to a voltage for verification in a verify voltage switching process 307, and verification is performed at a write determination level in a verify process 308. If the verification fails, the number of times of writing is determined in the number of times of writing determination processing 309. When the number of times of writing is 1, nothing is performed, and when the number of times of writing is 2 or more, the initial pulse width and the additional pulse width B are increased by the initial pulse width correction processing 310 and the additional pulse B correction processing 315. Thereafter, the number-of-writes count-up process 31
The count of the number-of-writes counter is incremented by 1, and the process from the number-of-times-of-write determination process 302 is repeated. Only when the verification process 308 is passed, the number of write times is determined in the number-of-writes determination process 312. When the number of times of writing is 1, the initial pulse width is reduced.
【0023】次に、書き込み回数判断処理316にて書
き込み回数の判断を行い、書き込み回数が2の場合は追
加パルス幅A補正処理318により追加パルス幅Aを減
少させ、書き込み回数が3以上の場合は追加パルス幅A
補正処理317により追加パルス幅Aを増加させる。そ
の後、書き込み消去処理を終了する。書き込み回数が2
回の時に関しては、追加パルス幅を変化させない方法も
考えられるが、追加パルス幅を減少させる機構が入って
いない場合、追加パルスは増加する方向にしか動作しな
いため、追加パルス幅は大きくなり過ぎてしまうので、
本実施の形態においては、書き込み回数が2回の時に追
加パルス幅を減少させる機構を採用しており、次にその
処理の流れを図2のタイムチャートで説明する。Next, the number of times of writing is determined in the number-of-times-of-writing determination process 316. If the number of times of writing is 2, the additional pulse width A is reduced by the additional pulse width A correction process 318. Is the additional pulse width A
The additional pulse width A is increased by the correction process 317. After that, the write / erase processing ends. Write count is 2
Regarding the number of times, a method that does not change the additional pulse width is conceivable, but if there is no mechanism to reduce the additional pulse width, the additional pulse width will be too large because the additional pulse operates only in the increasing direction. Because
In the present embodiment, a mechanism for reducing the additional pulse width when the number of times of writing is two is adopted. Next, the flow of the processing will be described with reference to the time chart of FIG.
【0024】まず、測定セル(アドレスN)への書き込
みにおいて、初期パルスを与えるが、書き込みレベルに
達していないため、前メモリセルで補正された追加パル
スを与える。追加パルス幅を与えた時点で再度、書き込
みレベルに達したか判断するが、まだ達していないた
め、今度は、初期パルス幅と追加パルス幅を増加補正す
る。次に、増加補正された追加パルス幅で書き込みを行
う。書き込みレベルに達したかどうか判断すると書き込
みレベルに達しているため、書き込みは終了する。次の
セルに与えるパルス幅の補正は、書き込み回数が3回で
あるため、初期パルス幅と追加パルス幅Bが増加補正さ
れる。この結果、全体としては図9(b)に示すよう
に、測定セルに対して追加パルス幅を増加補正すること
により、追加パルスを与える回数が減少し、その結果、
ソフト処理が短縮できるため、書き込みにかかるトータ
ルの時間を短縮することができる。First, in writing to the measurement cell (address N), an initial pulse is given, but since the writing level has not been reached, an additional pulse corrected in the previous memory cell is given. When the additional pulse width is given, it is determined again whether the writing level has been reached. However, since the writing level has not been reached yet, the initial pulse width and the additional pulse width are increased and corrected this time. Next, writing is performed with the additional pulse width corrected for increase. When it is determined whether or not the writing level has been reached, the writing has been reached, and thus the writing is terminated. In the correction of the pulse width given to the next cell, the initial pulse width and the additional pulse width B are corrected to be increased because the number of times of writing is three. As a result, as shown in FIG. 9B, by increasing and correcting the additional pulse width for the measurement cell as a whole, the number of times of providing the additional pulse decreases, and as a result,
Since the software processing can be reduced, the total time required for writing can be reduced.
【0025】なお、測定セルに対する補正方法には、本
実施の形態における追加パルス幅を増加させる方法の他
に減少させる方法も考えられるが、減少させると追加書
き込み回数が増える可能性が高くなるため、ソフト処理
が増大するので、追加パルス幅を増加させる補正方法を
採用した。As a correction method for the measurement cell, a method of decreasing the additional pulse width in addition to the method of increasing the additional pulse width in the present embodiment is conceivable. However, when the decrease is performed, the possibility of increasing the number of additional write operations increases. Since the software processing increases, a correction method for increasing the additional pulse width is adopted.
【0026】以上のように、本実施の形態によれば、測
定セルに対して追加パルス幅を増加補正することによ
り、追加パルスを与える回数が減少し、その結果、ソフ
ト処理が短縮できるため、書き込みにかかるトータルの
時間を短縮することができる。As described above, according to the present embodiment, by increasing and correcting the additional pulse width with respect to the measurement cell, the number of times of providing the additional pulse decreases, and as a result, the software processing can be shortened. The total time required for writing can be reduced.
【0027】[0027]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、測定セル
に対して追加パルス幅を増加補正することにより、追加
パルスを与える回数が減少し、その結果、ソフトウェア
時間が短縮できるため、書き込みにかかるトータルの時
間を短縮することができるという有利な効果が得られ
る。As described above, according to the present invention, by increasing and correcting the additional pulse width for the measurement cell, the number of times of applying the additional pulse is reduced, and as a result, the software time can be shortened. Has the advantageous effect of being able to reduce the total time required for.
【図1】本発明の半導体メモリへのデータ書き込み及び
消去方法の一実施の形態における処理の流れを示すフロ
ーチャートFIG. 1 is a flowchart showing a processing flow in an embodiment of a method for writing and erasing data in a semiconductor memory according to the present invention;
【図2】図1の処理の流れにおけるデータ書き込み手順
のタイムチャートFIG. 2 is a time chart of a data writing procedure in the processing flow of FIG. 1;
【図3】一般的な不揮発性メモリへのデータ書き込み装
置の一例を示すブロック図FIG. 3 is a block diagram illustrating an example of a general device for writing data to a nonvolatile memory;
【図4】図3に示す装置におけるデータ書き込み手順の
フローチャート4 is a flowchart of a data writing procedure in the device shown in FIG.
【図5】図3に示す装置における書き込み時間と書き込
み電圧レベルの関係を表したグラフ5 is a graph showing a relationship between a writing time and a writing voltage level in the device shown in FIG.
【図6】不揮発性メモリチップのメモリセル毎の書き込
み時間特性を表したグラフFIG. 6 is a graph showing a write time characteristic of each memory cell of the nonvolatile memory chip;
【図7】不揮発性メモリチップ毎の書き込み時間特性を
表したグラフFIG. 7 is a graph showing write time characteristics of each nonvolatile memory chip;
【図8】従来のデータ書き込み手順のフローチャートFIG. 8 is a flowchart of a conventional data writing procedure.
【図9】従来及び本発明のデータ書き込み手順のタイム
チャートFIG. 9 is a time chart of a data writing procedure according to the related art and the present invention.
【符号の説明】 1 書込み消去パルス幅設定回路 2 書込み消去パルス発生回路 3 メモリセル 4 ベリファイ回路 301 書き込み回数カウンタN=1処理 302 書き込み回数判断処理 303 初期パルス幅設定処理 304 追加パルス幅設定処理 305 書き込み電圧切り換え処理 306 書き込み消去パルス設定処理 307 ベリファイ電圧切り換え処理 308 ベリファイ処理 309 書き込み回数判断処理 310 初期パルス幅補正処理(増加) 311 書き込み回数カウントアップ処理 312 書き込み回数判断処理 313 初期パルス幅補正処理(減少) 314 追加パルス幅B初期設定処理 315 追加パルス幅B補正処理(増加) 316 書き込み回数判断処理 317 追加パルス幅A補正処理(増加) 318 追加パルス幅A補正処理(減少)[Description of Signs] 1 Write / erase pulse width setting circuit 2 Write / erase pulse generation circuit 3 Memory cell 4 Verify circuit 301 Write number counter N = 1 processing 302 Write number determination processing 303 Initial pulse width setting processing 304 Additional pulse width setting processing 305 Write voltage switching processing 306 Write / erase pulse setting processing 307 Verify voltage switching processing 308 Verify processing 309 Writing frequency determination processing 310 Initial pulse width correction processing (increase) 311 Writing frequency count up processing 312 Writing frequency determination processing 313 Initial pulse width correction processing ( Decrease) 314 Additional pulse width B initial setting processing 315 Additional pulse width B correction processing (increase) 316 Writing frequency judgment processing 317 Additional pulse width A correction processing (increase) 318 Additional pulse width A correction processing (Decrease)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5B025 AA00 AB00 AC00 AD04 AD08 AE05 5F001 AE02 AE08 AH07 5F083 ER22 GA01 GA17 LA10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5B025 AA00 AB00 AC00 AD04 AD08 AE05 5F001 AE02 AE08 AH07 5F083 ER22 GA01 GA17 LA10
Claims (1)
導体メモリへのデータ書き込み及び消去方法において、
書き込み処理の初回に初期パルスを与えると共に、書き
込み処理の2回目以降に追加パルスを与えて書き込み判
定電圧レベルになるまでパルスを与え続けるメモリセル
へのデータ書き込み中に書き込み回数をカウントし、書
き込み終了後に、次のメモリセルに与えるパルス幅を前
記書き込み回数に応じて、書き込み回数が1回の場合は
追加パルスを変化させずに初期パルスを減らし、書き込
み回数が2回の場合は追加パルスを減らして初期パルス
を増やし、書き込み回数が2回以上の場合は追加パルス
を増やして初期パルスを増やすように制御する書き込み
及び消去方法であって、次のセルに対し、パルス幅補正
のために書き込み回数をカウントし測定しているメモリ
セルに対しても、追加パルスを回数に応じて増加補正す
ることを特徴とする半導体メモリへのデータ書き込み及
び消去方法。1. A method for writing and erasing data to and from an electrically writable and erasable nonvolatile semiconductor memory,
An initial pulse is given at the first time of the write process, and an additional pulse is given at the second and subsequent write processes, and the pulse is continuously applied until the write determination voltage level is reached. After that, the pulse width given to the next memory cell is reduced according to the number of write times, the initial pulse is reduced without changing the additional pulse when the number of write times is one, and the additional pulse is reduced when the number of write times is two. This is a writing and erasing method in which the initial pulse is increased, and if the number of writing is two or more, the additional pulse is increased to increase the initial pulse. The additional pulse is also increased and corrected according to the number of times even for the memory cells that are counting and measuring Data writing and erasing method of the semiconductor memory.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6500599A JP2000260191A (en) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | Method of writing and erasing data in semiconductor memory |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6500599A JP2000260191A (en) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | Method of writing and erasing data in semiconductor memory |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000260191A true JP2000260191A (en) | 2000-09-22 |
Family
ID=13274457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6500599A Pending JP2000260191A (en) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | Method of writing and erasing data in semiconductor memory |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000260191A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100550789B1 (en) * | 2002-07-18 | 2006-02-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | Program / erase voltage supply circuit for flash memory devices |
| JP2009301616A (en) * | 2008-06-11 | 2009-12-24 | Toshiba Corp | Nonvolatile semiconductor storage device |
-
1999
- 1999-03-11 JP JP6500599A patent/JP2000260191A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100550789B1 (en) * | 2002-07-18 | 2006-02-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | Program / erase voltage supply circuit for flash memory devices |
| JP2009301616A (en) * | 2008-06-11 | 2009-12-24 | Toshiba Corp | Nonvolatile semiconductor storage device |
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