JP2000241804A

JP2000241804A - 表示装置製造用治具及びそれを用いた表示装置の製造方法

Info

Publication number: JP2000241804A
Application number: JP4484899A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiro Takeda; 和弘竹田
Original assignee: Nippon Electric Kagoshima Ltd; NEC Kagoshima Ltd
Current assignee: Nippon Electric Kagoshima Ltd; NEC Kagoshima Ltd
Priority date: 1999-02-23
Filing date: 1999-02-23
Publication date: 2000-09-08
Anticipated expiration: 2019-02-23
Also published as: JP3202718B2

Abstract

(57)【要約】【課題】ガラス基板が薄型化し、且つ大型化しても、ガ
ラス基板の強度を補強でき、製造工程でガラス基板が撓
んだり、割れてしまうことを防止する、表示装置製造用
治具及びそれを用いた表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基板を用いた表示装置の製造におけ
る、前記製品用のガラス基板を張り合わせて一体化し、
前記製品用のガラス基板の強度を補強して、前記表示装
置を製造する治具において、前記製造用治具が前記製品
と同材質のガラス基板を使用した補強用基板２と、前記
製品用のガラス基板１と前記補強用ガラス基板２の張り
合わせに用いるＯリング３とで構成されている。前記表
示装置製造用治具を用い、ガラス基板同士の静電吸着力
Ａ及び真空吸着力Ｂを利用して、製品用のガラス基板１
を補強用ガラス基板２に張り合わせて一体化し、製品用
のガラス基板１の強度を補強して、表示装置１０を製造
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置製造用治
具及びそれを用いた表示装置の製造方法に関し、特にガ
ラス基板を用いた液晶表示体（以下、ＬＣＤという、Ｌ
ｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌＤｉｓｐｌａｙ）又はＰ
ＤＰ（ＰｌａｓｍａＤｉｓｐｌａｙＰａｎｅｌ）の
製品用のガラス基板の強度を補強する表示装置製造用治
具及びそれを用いた表示装置の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】本発明を適用する、ＬＣＤ又はＰＤＰは
パソコンのモニターあるいはテレビの画面として使用さ
れている。

【０００３】一般に、このＬＣＤ又はＰＤＰの製造方法
は、ＬＣＤを例にすると、図７の工程図に示すように、
ＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ）
用ガラス基板１上にＴＦＴ駆動トランジスタ７を形成し
（実際のＴＦＴ駆動トランジスタの数量は例えば３００
万個程度である）、ＴＦＴ駆動トランジスタ７が形成さ
れているＴＦＴガラス基板１と光に色を付けるためのカ
ラーフィルター４をＡｇペースト５にて張り合わせ、こ
の間にＴＦＴ用ガラス基板１上のデバイス電界で光の透
過をコントロールできる液晶剤６を注入し挟み込みＡｇ
ペースト５にて封止する。そして、更にＴＦＴ駆動トラ
ンジスタ７を駆動する駆動ドライバー８及び光を発生す
る蛍光灯９を組み込み、カラー液晶ディスプレイ１０が
完成する。

【０００４】本発明は、このＬＣＤ又はＰＤＰの、ＴＦ
Ｔ用ガラス基板，カラーフィルター用ガラス基板又はＰ
ＤＰ用ガラス基板の強度を補強する製造用治具及びそれ
を用いたＬＣＤ又はＰＤＰの製造方法についてのもので
ある。

【０００５】従来のＬＣＤ又はＰＤＰの製造方法では、
ガラス基板は１枚の基板から製造されていた。しかし、
ガラス基板を取り巻く環境は次第に変化し、ＬＣＤを例
にすると、まず第１に、１枚のガラス基板から１つのＬ
ＣＤを製造していたのではコストが高くついていたの
で、価格競争の中で次第に１枚の基板から複数のＬＣＤ
を１度に製造するようになり、ガラス基板の大型化が進
んだ。また、ＬＣＤ自体の大きさも大型化して更に大型
化が進んだ。そして第２に、ノートパソコン等のＬＣＤ
はガラス基板の軽量化のニーズが要求されるようになっ
た。この２つの結果として、ガラス基板は大型且つ薄型
への要求を満足する必要に迫られてきた。

【０００６】このことを従来のガラス基板について具体
的に説明すると、図８の説明図に示すように、従来のガ
ラス基板ではガラス基板サイズは３００ｘ３５０ｘ１．
１ｔｍｍが標準であり、ガラス基板割れ不良率（以下、
基板割れ不良率という）は０．０２％であった。これ以
上ガラス基板を薄型化（軽量化）したり、大型化したり
すると、ガラス基板の撓みが大きくなり、製造歩留まり
を落としたり、最悪の場合ガラス基板が割れたりした。
ガラス基板サイズを３６０ｘ４６５ｘ０．７ｔｍｍに移
行した際は、基板割れ不良率は０．７％に増加し、更
に、ガラス基板サイズを３６０ｘ４６５ｘ０．６５ｔｍ
ｍに移行した際には、工程内製造装置の改造を施し対応
したが、基板割れ不良率は２．０％に増加した。そして
ついに、ガラス基板サイズが７００ｘ８００ｘ０．５ｔ
ｍｍでは、ガラス基板の撓み量が２０ｍｍ以上になり、
自重で割れてしまい現状での生産は無理であった。

【０００７】つまり、ガラス基板の強度は一定であるの
に、ＬＣＤやＰＤＰ製品の軽量化や、コスト低減で多面
取り（複数取り）する為に、ガラス基板は薄型化し、且
つ大型化してきている。その為、ガラス基板本来の強度
を越えてしまうと、ガラス基板は撓んだり、割れてしま
い、ガラス基板の基板割れ不良率が高くなり、場合によ
っては生産が出来ないという問題が有る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】そこでこの問題を解決
するために、例えば特開平９−１０５８９６号公報（従
来例１）、特開平８−８６９９３号公報（従来例２）及
び特開昭５８−５４３１６号公報（従来例３）には、図
９の模式図に示す、液晶表示素子製造用治具及びそれを
用いた液晶表示素子の製造方法（従来例１）、基板搬送
用治具及びそれを用いた液晶表示素子の製造方法（従来
例２）及び液晶表示装置の製造方法（従来例３）があ
る。これら各従来例は、製品用のガラス基板１１をガラ
ス基板やプラスチック基板である支持体（補強用基板）
１２に粘着剤１３で貼り付けして補強し、この貼り付け
補強した状態で液晶表示素子又は液晶表示装置の製造工
程を流す製造用治具，搬送用治具及びそれを用いた製造
方法が示されている。

【０００９】この各従来例は、製品用のガラス基板１１
をガラス基板やプラスチック基板である支持体（補強用
基板）１２に粘着剤１３で貼り付けして、ガラス基板１
１の強度を補強することにより、ガラス基板１１が薄型
化し、且つ大型化しても、液晶表示素子又は液晶表示装
置の製造工程でガラス基板１１が撓んだり、割れてしま
うことを防止する点において効果を奏している。

【００１０】しかしながら、この各従来例では２項目の
問題が生ずる。まず第１に、ガラス基板１１と支持体
（補強用基板）１２の貼り付けに粘着剤１３を使用する
ため、粘着剤１３は製造工程内でのパーティクル、放出
ガス、液中溶解による製造工程内汚染により液晶表示素
子又は液晶表示装置の製造歩留を落してしまう。また、
製造工程中の熱処理、真空処理、エッチング処理で粘着
剤１３が剥がれてしまうという問題が生ずる。そしてま
た第２に、支持体（補強用基板）１２としてプラスチッ
ク基板を使用した場合には、支持体（補強用基板）１２
が製造工程内で熱変形を起こしてしまうという問題が生
ずる。

【００１１】従って、本発明の目的は、ガラス基板が薄
型化し、且つ大型化しても、ガラス基板の強度を補強で
き、製造工程でガラス基板が撓んだり、割れてしまうこ
とを防止し、かつ各従来例のような粘着剤及び補強基板
としてプラスチック基板を使用した場合の問題を生じな
い表示装置製造用治具及びそれを用いた表示装置の製造
方法を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の表示装置製造用
治具は、ガラス基板を用いた表示装置の製造における、
前記製品用のガラス基板を張り合わせて一体化し、前記
製品用のガラス基板の強度を補強して、前記表示装置を
製造する治具において、前記製造用治具が前記製品と同
材質のガラス基板を使用した補強用基板と、前記製品用
のガラス基板と前記補強用ガラス基板の張り合わせに用
いるＯリングとで構成されていることを特徴とする。

【００１３】また、前記表示装置が、液晶表示体又はＰ
ＤＰである。

【００１４】また、前記Ｏリングが、前記補強用ガラス
基板に印刷あるいはパターンニングされたフッ素系高温
硬化樹脂である。

【００１５】本発明の表示装置の製造方法は、ガラス基
板を用いた表示装置の製造方法において、前記製品と同
材質のガラス基板を使用した補強用基板と、前記製品用
のガラス基板と前記補強用ガラス基板の張り合わせに用
いるＯリングとを用い、ガラス基板同士の静電吸着力及
び真空吸着力を利用して、前記製品用のガラス基板を前
記補強用ガラス基板に張り合わせて一体化し、前記製品
用のガラス基板の強度を補強して、前記製品用のガラス
基板を用いた表示装置を製造することを特徴とする。

【００１６】また、前記表示装置が、液晶表示体又はＰ
ＤＰである。

【００１７】また、前記補強用ガラス基板として前記製
品用のガラス基板を使用し、前記製品用のガラス基板同
士を張り合わせ、張り合わせた前記製品用のガラス基板
の両表面で、製品を両面に製造する。

【００１８】また、複数枚の前記製品用のガラス基板を
前記補強用ガラス基板の片面または両面に配置し、前記
製品用のガラス基板を前記補強用ガラス基板に各々張り
合わせて、複数の製品を製造する。

【００１９】このような本発明によれば、補強用ガラス
基板を用いることにより、製品用のガラス基板が薄型化
し、且つ大型化しても、製品用のガラス基板の強度を補
強でき、液晶表示体またはＰＤＰの製造工程で製品用の
ガラス基板が撓んだり、割れてしまうことを防止でき
る。

【００２０】

【発明の実施の形態】次に、本発明の表示装置製造用治
具及びそれを用いた表示装置の製造方法の第１の実施の
形態について図面を参照して詳細に説明する。ここでは
ＬＣＤの製造について説明する。図１は本発明の第１の
実施形態を製造工程順に説明する工程図、図２は図１の
第１の実施形態の一部製造工程を工程順に説明する概略
図である。図１に於ける（ａ）〜（ｉ）および図２に於
ける（ａ）〜（ｄ）は各製造工程を示し、図１に於ける
（ａ）〜（ｄ）と図２に於ける（ａ）〜（ｄ）は同じ製
造工程を示し、以下説明における（ａ）等はその各製造
工程を示している。

【００２１】図１及び従来技術を示す図７に示すよう
に、本実施形態のＬＣＤであるカラー液晶ディスプレイ
１０は、製品用のＴＦＴ用ガラス基板１、ＴＦＴ用ガラ
ス基板１に張り合わせて強度を補強する補強用ガラス基
板２、ＴＦＴ用ガラス基板１と補強用ガラス基板２を張
り合わせるために用いるＯリング３、ＴＦＴ用ガラス基
板１上に形成されるＴＦＴ駆動トランジスタ７、光に色
を付ける為のカラーフィルター４、ＴＦＴ用ガラス基板
１とカラーフィルター４を張り合わせて封止するＡｇペ
ースト５、張り合わせたＴＦＴ用ガラス基板１とカラー
フィルター４の間に注入し挟み込みＴＦＴ用ガラス基板
１上のデバイス電界で光の透過をコントロールできる液
晶剤６、ＴＦＴ駆動トランジスタ７を駆動する駆動ドラ
イバー８及び光を発生する蛍光灯９から構成されてい
る。

【００２２】そして、本実施形態の構成の一部を成し、
表示装置製造用治具を構成し、従来例の構成とは相違す
る、補強用ガラス基板２及びＯリング３について、更に
説明する。

【００２３】補強用ガラス基板２は、製品用のＴＦＴ用
ガラス基板１に張り合わせて１枚の基板にするため、２
つの条件を満足する様にした。１つ目は補強用ガラス基
板２の材質をＴＦＴ用ガラス基板１と同一材質にし、膨
張係数、誘電率、透磁率等を合わせ、製造工程での熱ス
トレス、成膜装置内でのプラズマの影響をガラス基板１
枚の時とより条件を同じにし、且つガラス基板同士が製
造工程内で擦った時に傷が着かないようにした。２つ目
は補強用ガラス基板２の長さと幅をＴＦＴ用ガラス基板
１に揃え、張り合わせた後のガラス基板端部の欠け等を
防止するようにした。尚、各従来例では補強用ガラス基
板の材質は製品用のガラス基板と同一ではなく、従来例
１では研磨ガラスでなく安価なものを、従来例２ではソ
ーダガラスを、そして従来例３ではガラス基板を充分支
持し得る形状でかつ平坦な板材例えばフロートガラスが
用いられている。

【００２４】また、ガラス基板を張り合わせる際の２つ
の条件をも満足する様にした。ＴＦＴ用ガラス基板１と
補強用ガラス基板２を張り合わせる際は、張り合わせる
面に異物が混入しないように洗浄、乾燥しておく。この
ことにより、１つ目は後で張り合わせたガラス基板を剥
がす時に、異物がＴＦＴ用ガラス基板１に付着していな
いようにした。そして、２つ目は真空中の成膜装置内で
混入した異物が不純物ガスを発生させたり、製造工程を
汚染することがないようにした。

【００２５】Ｏリング３は、ＴＦＴ用ガラス基板１と補
強用ガラス基板２を張り合わせるために用いるが、Ｏリ
ング３は、ガラス基板と同様に、張り合わせる際の２つ
の条件を満足するものを用いる。１つ目は後で張り合わ
せたガラス基板を剥がす時に、Ｏリング３の粘着剤等の
屑が異物としてＴＦＴ用ガラス基板１に付着しないも
の。２つ目は真空中の成膜装置内でＯリング３が不純物
ガスを発生させたり、製造工程を汚染することがないも
のである。具体的には例えばＯリング３として、真空装
置で使用するバーフロロエラストマー（高分子材料）で
あるデュポン社の商品名カルレッツを用い、厚さは２０
μｍ以下のものを用いる。このカルレッツのＯリング３
は、ＬＣＤの製造工程での成膜やドライエッチングを真
空装置で行う際、スパッタ（ＰＶＤ）やＣＶＤの真空度
０．１Ｐａの装置中で不純物ガスの放出が無いものであ
る。またＯリング３の厚さの２０μｍ以下は、製造工程
内で最も撓みに弱い露光装置が製品基板（ＴＦＴ用ガラ
ス基板１）に要求する最大の撓みが２０μｍであり、そ
こから決めている。尚、Ｏリング３は張り合わせたＴＦ
Ｔ用ガラス基板１と補強用ガラス基板２間に、製造工程
内での不純物ガスや汚染物質やパーティクルが入り込ま
ないようにするためにも用いているものである。

【００２６】ここで本実施形態のＬＣＤの製造方法は、
まず、図１及び図２に示すように、例えば２酸化硅素で
あるガラス基板を２枚用い、１枚は製品用のＴＦＴ用ガ
ラス基板１、他の１枚はそのＴＦＴ用ガラス基板１の強
度補強用の補強用ガラス基板２である。

【００２７】そしてまず、ＴＦＴ用ガラス基板１と補強
用ガラス基板２を、張り合わせたガラス基板の間に異物
が付着しないように、洗浄し乾燥する。

【００２８】そして、（ａ）（ｂ）補強用ガラス基板２
上に、補強用ガラス基板２端に合わせた大きさに加工さ
れたＯリング３を載せる。この時図２の（ｂ）乃至
（ｄ）に示すように、Ｏリング３は補強用ガラス基板２
周辺部に且つ張り合わせ後にはみ出さないように、そし
て且つ捻じれ、弛みが無いように配置する。これは、Ｏ
リング３を補強用ガラス基板２の内側に載せてしまう
と、その分張り合わせたＴＦＴ用ガラス基板１と補強用
ガラス基板２の端部の基板間に隙間ができ、製造工程中
のレジストやエッチング液等といった後工程で他製造装
置を汚染してしまう物質が挟まってしまうからである。
また逆に補強用ガラス基板２からＯリング３がはみ出す
と、Ｏリング３が製造工程内で擦られ、それ自体がパー
ティクルの元になるからである。

【００２９】次に、（ｃ）補強用ガラス基板２に位置を
合わせてＴＦＴ用ガラス基板１を置くと、元々ガラス基
板同士は静電吸着力で引っ付き易いので、この置いただ
けの状態ですぐにガラス基板同士は静電吸着力Ａにより
中央部から次第に張り合さって行き、例えば３０秒ほど
でＯリング３の近傍まで吸着する。この時点で常圧下で
はＴＦＴ用ガラス基板１と補強用ガラス基板２は一体化
して剥がれることは無く、搬送可能な状態になる。

【００３０】そして、張り合わせ一体化したＴＦＴ用ガ
ラス基板１と補強用ガラス基板２の両基板を製造工程に
流す。（ｄ）ＴＦＴ駆動トランジスタ製造工程の第１層
成膜のＣｒスパッタ装置に入ると、１ｘ１０−３Ｐａに
まで減圧された真空状態の装置内で、Ｏリング３内側に
有るガス（空気）の為ＴＦＴ用ガラス基板１と補強用ガ
ラス基板２のガラス基板間が陽圧になり、ガラス基板間
のガスは排気されて行き自然にガラス基板間は高真空状
態になっていく。そして、限りなく２枚のガラス基板は
真空吸着力Ｂにより引っ付き合う。これで、張り合わせ
は更に強固になる。つまりＯリング３は、ガラス基板間
に他製造装置の汚染物質が入り込むのを防止するのみで
なく、ガラス基板間を真空排気しより吸着力を増す効果
も有る。これ以降の製造工程でも同様の効果が有る。

【００３１】この状態で２枚のＴＦＴ用ガラス基板１と
補強用ガラス基板２は１枚のＴＦＴ用ガラス基板１とし
て扱うことができる。（ｅ）ＴＦＴ駆動トランジスタ製
造工程を流しＴＦＴ用ガラス基板１上にＴＦＴ駆動トラ
ンジスタ７を形成する。（ｆ）ＴＦＴ用ガラス基板１と
カラーフィルター４をＡｇペースト５にて張り合わせ
る。そしてＴＦＴ駆動トランジスタ７が形成されている
ＴＦＴガラス基板１とカラーフィルター４の間に液晶剤
６を注入し挟み込み、Ａｇペースト５にて封止する。

【００３２】ここで、ＴＦＴ用ガラス基板１と補強用ガ
ラス基板２は同じ材質であり、互いに同等の硬度を有す
ることで傷つかず、且つ製造工程で同様の膨張係数、誘
電率、透磁率を有することで、製造装置への適応性や製
品デバイス特性への影響は全く問題無い。

【００３３】そしてここで、ＴＦＴ用ガラス基板１にカ
ラーフィルター４を張り合わせると、ＴＦＴ用ガラス基
板１の強度は強化される。ここで補強用ガラス基板２は
不要となるので、（ｇ）ＴＦＴガラス基板１とカラーフ
ィルター４の間に液晶剤６を注入後、製品基板であるＴ
ＦＴ用ガラス基板１の表示特性に影響が無く、且つＯリ
ング３の内側に達するようにＣ部にて一部を切断し、ま
ず真空状態を解除する。そしてＴＦＴ用ガラス基板１と
補強用ガラス基板２の静電吸着を剥がす方向に０．５Ｋ
ｇ／ｃｍ² 程度の弱い力で引きつつ、補強用ガラス基板
２の裏面の上下いずれか片方からドライヤー等で熱を加
えると補強用ガラス基板２の膨張に伴い少しずつ剥がれ
る。

【００３４】（ｈ）剥がしたＴＦＴ用ガラス基板１等半
製品は次工程に送り、（ｉ）残った補強用ガラス基板２
とＯリング３は製造工程での破損が無ければ再利用す
る。

【００３５】そして最後に、従来のＬＣＤの製造方法と
同様に図７に示すように、剥がしたＴＦＴ用ガラス基板
１等半製品に、更に駆動ドライバー８及び蛍光灯９を組
み込み、カラー液晶ディスプレイ１０が完成する。

【００３６】また、本実施形態では、ＴＦＴ用ガラス基
板１と補強用ガラス基板２の静電吸着を剥がすのに、
０．５Ｋｇ／ｃｍ² 程度の弱い力で引きつつ、補強用ガ
ラス基板２の裏面の上下いずれか片方からドライヤー等
で熱を加え補強用ガラス基板２の膨張に伴い少しずつ剥
がしたが、これに限定されず、静電吸着しているガラス
基板間に乾燥空気や窒素ガスを吹き付けながら、補強用
ガラス基板２を徐々に剥がしても良い。

【００３７】図３は、本発明の第２の実施形態を示す工
程図であり、第１の実施形態に於けるＯリング３の代わ
りに、フッ素系高温硬化樹脂１１を補強用ガラス基板２
に印刷あるいはパターンニングして使用するものであ
る。これにより、フッ素系高温硬化樹脂１１をＯリング
３に比べ正確にガラス基板に配置可能であるため、ガラ
ス基板外形に対する吸着した真空領域が増大し、ガラス
基板端部の張り合わせたガラス基板間の隙間が減少す
る。この結果、この箇所に堆積、付着するパーティクル
や不純物は減少する。また、フッ素系高温硬化樹脂１１
の厚さを均一に１〜２μｍでできるので、ガラス基板同
士を張り合わせた後のガラス基板のソリを、Ｏリング３
を使用した場合と比較して、減少させることができる。

【００３８】ここで、フッ素系高温硬化樹脂１１のパタ
ーンニングによる製造方法は、図３に示すように、補強
用ガラス基板２に液化したフッ素系高温硬化樹脂１１を
滴下し、補強用ガラス基板２を回転させ遠心力を利用し
均一に広げる。そして、補強用ガラス基板２を高温処理
し、フッ素系高温硬化樹脂１１を硬化させる。次に、硬
化したフッ素系高温硬化樹脂１１上に感光性レジスト材
１２を均一に塗布し、パターンマスク（図示せず）を用
いて露光する。そして、感光性レジスト材１２を現像
し、Ｏリング３に対応する部分だけ残す。そして次に、
不要なフッ素系高温硬化樹脂１１をエッチングする。そ
して、最後に残した感光性レジスト材１２を剥離し、Ｏ
リング３に対応する部分に必要なフッ素系高温硬化樹脂
１１だけが残る。この工程以外のＬＣＤの製造方法は第
１の実施形態と同じで有る。

【００３９】図４は、本発明の第３の実施形態を示す概
略図であり、１度にＴＦＴ用ガラス基板１両面の製造を
行うものである。まず、ガラス基板両面を１度に製造可
能なラインを構築し、補強用ガラス基板２として製品用
のＴＦＴ用ガラス基板１を使用する。そして、第１の実
施形態または第２の実施形態で示した製造方法で張り合
わせたＴＦＴ用ガラス基板１を２枚使用し、張り合わせ
たＴＦＴ用ガラス基板１、２枚の両表面（張り合わせて
いない２つの面）で製品を製造し、１度にＴＦＴ用ガラ
ス基板１両面の製造を行う。

【００４０】図５は、本発明の第４の実施形態を示す概
略図であり、製品用のＴＦＴ用ガラス基板１の多面取り
（複数取り）を行うものである。新規ラインで大型ガラ
ス基板の多面取りを行う場合、補強用ガラス基板２のみ
大型化し、その基板サイズで製造工程を構築する。そし
て、従来サイズの製品用のＴＦＴ用ガラス基板１を複数
枚補強用ガラス基板２の上に配置し、第１の実施形態ま
たは第２の実施形態で示した製造方法でＴＦＴ用ガラス
基板１を補強用ガラス基板２に各々張り合わせ、製造工
程を流す。これにより、製品用のＴＦＴ用ガラス基板１
の多面取りを行うことができる。そして、製品用のＴＦ
Ｔ用ガラス基板１の大きさまたは厚さ等変化する市場ニ
ーズに対応して、製造工程を新たに構築したりまたは変
更する必要は無くなる。

【００４１】図６は、本発明の第５の実施形態を示す概
略図であり、補強用ガラス基板２を介して、補強用ガラ
ス基板２両面で製品用のＴＦＴ用ガラス基板１の多面取
り（複数取り）の大量生産を行うものである。これは、
図４に示す第３の実施形態のようなガラス基板両面の製
造工程で、且つ図５に示す第４の実施形態のような補強
用ガラス基板２のみ大型化した製造工程を構築し、製品
用のＴＦＴ用ガラス基板１の多面取りを行うものであ
る。そしてこれは、従来サイズの製品用のＴＦＴ用ガラ
ス基板１を複数枚ずつ、補強用ガラス基板２の両面に各
々の製品の製造面が表になるように配置し、第１の実施
形態または第２の実施形態で示した製造方法で両面のＴ
ＦＴ用ガラス基板１を補強用ガラス基板２に各々張り合
わせ、製造工程を流す。これにより、補強用ガラス基板
２を介して、両面で製品用のＴＦＴ用ガラス基板１の多
面取りの大量生産を行うことができる。

【００４２】以上、本発明の実施の形態として、ここで
はＬＣＤの製造特にＴＦＴ用ガラス基板の強度を補強し
た製造用治具及びそれを用いた製造方法について説明し
たが、ＬＣＤのカラーフィルター用ガラス基板又はＰＤ
ＰのＰＤＰ用ガラス基板についても、その製造用治具及
びそれを用いた製造方法は同様である。

【００４３】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、従
来例との製造方法の相違点は、まず第１に、これら従来
例は全て製品用のガラス基板と補強用基板との貼り付け
に粘着剤を使用しているのに対し粘着剤等は使用してい
ないことであり、第２に補強用基板は製品と同材質のガ
ラス基板を使用し、ガラス基板同士が引っ付く静電吸着
力及び真空吸着力を利用して張り合わせていることであ
る。このことにより、次の効果が得られる。

【００４４】第１の効果は、補強用基板を用いることに
より、製品用のガラス基板の強度を補強でき、製造工程
で製品用のガラス基板が撓んだり、割れてしまうことを
防止でき、製品用のガラス基板の薄型化、且つ大型化に
対応できる。

【００４５】第２の効果は、補強用基板と製品用のガラ
ス基板は同一材質であり、補強用基板を用いても互いに
同等の硬度を有することで傷つかず、且つ製造工程で同
様の膨張係数、誘電率、透磁率を有することで、製造装
置への適応性や製品のデバイス特性への影響は全く問題
無い。

【００４６】第３の効果は、補強用基板と製品用のガラ
ス基板の張り合わせにＯリングを用い、従来例のように
粘着剤を使用しないので、製造工程内でのパーティクル
発生による不良発生と製造工程内の汚染を防止できる。
また、真空装置内での不純物ガスの放出が無いので、成
膜装置を汚染し膜質を悪化させることを防止できる。

【００４７】第４の効果は、従来例の如く補強用基板と
して製品用のガラス基板と違う材質の基板あるいはフィ
ルムを粘着剤で貼り付けしている場合、熱膨張係数の違
いが生じ、製品用のガラス基板と補強用基板の間に空間
が生じ、熱を加えたり真空中に入れるとこの空間が膨張
し、かえって製品用のガラス基板の割れ欠けや製造工程
内での貼り付けした基板分離の原因となるが、本発明で
は補強用基板と製品用のガラス基板とは同一材質であ
り、且つ真空で吸着しているので、この問題が生じな
い。

【００４８】第５の効果は、補強用ガラス基板と製品用
のガラス基板のガラス基板同士を張り合わせているの
で、補強用ガラス基板に製品用のガラス基板を使用すれ
ば、ガラス基板両表面で製品を両面に製造することがで
きる。

【００４９】第６の効果は、大型基板で多面取り（複数
取り）の大量生産をする場合、補強用基板のみを大型化
すれば、製品用のガラス基板は従来サイズの基板をその
まま使用し、補強用基板の上に複数枚配置し各々張り合
わせることで生産できる。そして、製品用のガラス基板
の大きさまたは厚さ等変化する市場ニーズに対応して、
製造工程を新たに構築したりまたは変更する必要は無
い。

【００５０】第７の効果は、大型基板で更に両面に製品
を製造する場合、大型化した補強用基板の両面に、従来
サイズの製品用のガラス基板を複数枚ずつ配置し各々張
り合わせることで、多面取り且つ両面の大量生産ができ
る。

【００５１】第８の効果は、補強用基板およびＯリング
は再利用できるので、コストは上昇せずコスト的リスク
が無い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態を製造工程順に説明す
る工程図である。

【図２】図１の第１の実施形態の一部製造工程を工程順
に説明する概略図である。

【図３】本発明の第２の実施形態を示す工程図である。

【図４】本発明の第３の実施形態を示す概略図である。

【図５】本発明の第４の実施形態を示す概略図である。

【図６】本発明の第５の実施形態を示す概略図である。

【図７】従来技術を説明する工程図である。

【図８】図７の従来技術を説明する説明図である。

【図９】他の従来技術を説明する模式図である。

【符号の説明】

１ＴＦＴ用ガラス基板２補強用ガラス基板３Ｏリング４カラーフィルター５Ａｇペースト６液晶剤７ＴＦＴ駆動トランジスタ８駆動ドライバー９蛍光灯１０カラー液晶ディスプレイ１１フッ素系高温硬化樹脂１２感光性レジスト材Ａ静電吸着力Ｂ真空吸着力

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H088 EA02 FA01 FA06 FA17 FA24 FA28 FA30 HA01 HA08 KA01 MA20 2H089 LA02 MA04X NA05 NA14 QA04 QA16 TA01 TA09 2H090 HC18 JA04 JA09 JB02 JB03 JC01 JC11 JD13 LA02 LA04 5C040 GC19 GD09 GE09 GF19 HA01 HA04 JA31 JA38 LA17 MA09 MA10 MA23 5G435 AA00 AA09 AA12 AA17 BB06 BB12 CC12 EE26 EE37 FF00 GG12 GG24 HH02 HH12 KK05 KK10 LL04 LL06 LL08

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガラス基板を用いた表示装置の製造にお
ける、前記製品用のガラス基板を張り合わせて一体化
し、前記製品用のガラス基板の強度を補強して、前記表
示装置を製造する治具において、前記製造用治具が前記
製品と同材質のガラス基板を使用した補強用基板と、前
記製品用のガラス基板と前記補強用ガラス基板の張り合
わせに用いるＯリングとで構成されていることを特徴と
する表示装置製造用治具。
【請求項２】前記表示装置が、液晶表示体又はＰＤＰ
である請求項１記載の表示装置製造用治具。
【請求項３】前記Ｏリングが、前記補強用ガラス基板
に印刷あるいはパターンニングされたフッ素系高温硬化
樹脂である請求項１記載の表示装置製造用治具。
【請求項４】ガラス基板を用いた表示装置の製造方法
において、前記製品と同材質のガラス基板を使用した補
強用基板と、前記製品用のガラス基板と前記補強用ガラ
ス基板の張り合わせに用いるＯリングとを用い、ガラス
基板同士の静電吸着力を利用して、前記製品用のガラス
基板を前記補強用ガラス基板に張り合わせて一体化し、
前記製品用のガラス基板の強度を補強して、前記製品用
のガラス基板を用いた表示装置を製造することを特徴と
する表示装置の製造方法。
【請求項５】ガラス基板を用いた表示装置の製造方法
において、前記製品と同材質のガラス基板を使用した補
強用基板と、前記製品用のガラス基板と前記補強用ガラ
ス基板の張り合わせに用いるＯリングとを用い、ガラス
基板同士の真空吸着力を利用して、前記製品用のガラス
基板を前記補強用ガラス基板に張り合わせて一体化し、
前記製品用のガラス基板の強度を補強して、前記製品用
のガラス基板を用いた表示装置を製造することを特徴と
する表示装置の製造方法。
【請求項６】前記表示装置が、液晶表示体又はＰＤＰ
である請求項４または５記載の表示装置の製造方法。
【請求項７】前記補強用ガラス基板として前記製品用
のガラス基板を使用し、前記製品用のガラス基板同士を
張り合わせ、張り合わせた前記製品用のガラス基板の両
表面で、製品を両面に製造する請求項４または５記載の
表示装置の製造方法。
【請求項８】複数枚の前記製品用のガラス基板を前記
補強用ガラス基板の片面に配置し、前記製品用のガラス
基板を前記補強用ガラス基板に各々張り合わせて、複数
の製品を製造する請求項４または５記載の表示装置の製
造方法。
【請求項９】複数枚ずつの前記製品用のガラス基板を
前記補強用ガラス基板の両面に配置し、前記製品用のガ
ラス基板を前記補強用ガラス基板に各々張り合わせて、
複数の製品を製造する請求項４または５記載の表示装置
の製造方法。