JP2000241775A - Optical modulator, light source for optical communication and module for optical communication - Google Patents
Optical modulator, light source for optical communication and module for optical communicationInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光通信システムに
おいて重要なエレメントとなる光変調器及び光通信用光
源に関し、特に消光比が大きく良好な送信光変調波形を
発生させることの出来る電界吸収型の光変調器及びそれ
を用いた光通信用光源と光通信用モジュールに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical modulator and an optical communication light source, which are important elements in an optical communication system, and more particularly to an electric field absorption type having a large extinction ratio and capable of generating a good transmission light modulation waveform. And an optical communication light source and an optical communication module using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、光通信システムの高速・長距離化
に伴い、従来の半導体レーザによる直接変調方式の問題
点が顕在化しつつある。即ち、半導体レーザ直接変調方
式においては変調時に波長チャーピングが生じ、これに
よりファイバー伝送後の波形が劣化するが、この現象は
信号伝送速度が速い程、また伝送距離が長い程顕著にな
る。特に、既存の1.3μm零分散ファイバーを用いた
システムにおいてこの問題は深刻であり、ファイバー伝
搬損失の小さい波長1.55μm帯の光源を用いて伝送距離
を伸ばそうとしても、チャーピングに起因する分散制限
により伝送距離が制限される。この問題は、半導体レー
ザを一定の光出力で発光させておき、半導体レーザ出射
光を半導体レーザとは別の光変調器により変調する外部
変調方式を採用する事により改善できる。そのため、外
部光変調器の開発が活発化している。外部変調器として
は、LiNbO3 等の誘電体を用いたものと、InPや
GaAs等の半導体を用いたものとが考えられるが、半
導体レーザ、光アンプ等の他の光素子やFET等の電子
回路との集積化が可能で、小型化、低電圧化も容易なこ
とから半導体光変調器への期待が高まりつつある。2. Description of the Related Art In recent years, with the increase in speed and distance of an optical communication system, the problem of a conventional direct modulation method using a semiconductor laser is becoming apparent. That is, in the direct modulation method of the semiconductor laser, wavelength chirping occurs at the time of modulation, thereby deteriorating the waveform after fiber transmission. This phenomenon becomes more conspicuous as the signal transmission speed increases and the transmission distance increases. In particular, this problem is serious in a system using the existing 1.3 μm zero-dispersion fiber. Even if an attempt is made to extend the transmission distance by using a light source in the 1.55 μm wavelength band where the fiber propagation loss is small, the dispersion caused by chirping. The transmission distance is limited by the restriction. This problem can be remedied by causing the semiconductor laser to emit light at a constant light output and employing an external modulation method in which the light emitted from the semiconductor laser is modulated by an optical modulator different from the semiconductor laser. Therefore, the development of external optical modulators has been activated. As the external modulator, one using a dielectric material such as LiNbO 3 and one using a semiconductor such as InP or GaAs can be considered. Other optical devices such as a semiconductor laser and an optical amplifier and electronic devices such as FETs are considered. Expectations for semiconductor optical modulators are increasing because they can be integrated with circuits and can be easily reduced in size and voltage.
【0003】半導体光変調器としては、バルク半導体の
フランツケルディッシュ効果や多重量子井戸における量
子閉じこめシュタルク効果のように電界を印加する事に
より吸収端が長波側へシフトする効果を利用し、光吸収
係数を変えて強度変調を行う半導体電界吸収型光変調器
と、バルク半導体の電気光学効果(ポッケルス効果)や
量子閉じこめシュタルク効果によって生じる屈折率変化
を利用したマッハツェンダー型光変調器がある。A semiconductor optical modulator utilizes the effect of shifting the absorption edge to a longer wavelength side by applying an electric field, such as the Franz-Keldysh effect of a bulk semiconductor and the Stark effect of quantum confinement in a multiple quantum well. There are a semiconductor electroabsorption type optical modulator that modulates intensity by changing a coefficient, and a Mach-Zehnder type optical modulator that uses a refractive index change caused by an electro-optic effect (Pockels effect) or a quantum confined Stark effect of a bulk semiconductor.
【0004】マッハツェンダー型光変調器は原理的に屈
折率変化により光波の位相差を生じせしめて合波時の干
渉効果により出力光をON/OFFしている。実用的な
動作電圧で所定の屈折率変化を得るためには、LiNb
O3 等の誘電体で数cmから10cm程度の導波路長が
必要となる。また、半導体材料を用いた場合でも全体と
して1mmから1cm程度の素子長が必要となってく
る。しかしながら、マッハツェンダー型光変調器の印加
電圧に対する消光特性は、振幅印加電圧の半分で消光の
度合いも半分となり、NRZ信号電圧に対する光出力ア
イパターンのクロスポイントもほぼ中心に位置し、理想
的なアイパターンが得られる。A Mach-Zehnder optical modulator generates a phase difference between light waves due to a change in refractive index in principle, and turns on / off the output light by an interference effect at the time of multiplexing. In order to obtain a predetermined refractive index change at a practical operating voltage, LiNb
A waveguide length of several cm to about 10 cm is required for a dielectric such as O 3 . Even when a semiconductor material is used, an element length of about 1 mm to 1 cm is required as a whole. However, the extinction characteristic of the Mach-Zehnder optical modulator with respect to the applied voltage is such that the degree of extinction is also halved at half the amplitude applied voltage, and the cross point of the optical output eye pattern with respect to the NRZ signal voltage is also located substantially at the center. An eye pattern is obtained.
【0005】一方、半導体電界吸収型光変調器は、素子
長が数百μmと小型で動作電圧もマッハツェンダー型光
変調器に比べて低いが、印加電圧に対して消光特性が非
線形的に変化し、振幅印加電圧の中心では、消光比がそ
の中心値から大きくずれることになる。これにより、N
RZ信号電圧に対する光出力アイパターンのクロスポイ
ントが大きく下方にずれ、良好な光出力アイパターンが
得られないこと、また、クロスポイントを上方にシフト
させるように印加電圧を調整すると、消光比が劣化する
というと言う問題点がある。更に、マッハツェンダー型
光変調器に比べて低電圧印加時の消光曲線が急峻である
ために変調電気信号の僅かなノイズが光信号に変換され
る段階で大きく増幅され、光出力アイパターンのマーク
レベルにジッター等のノイズが拡大した状態で重畳され
る問題が生じる。On the other hand, a semiconductor electroabsorption type optical modulator has a small element length of several hundred μm and a lower operating voltage than that of a Mach-Zehnder type optical modulator, but the extinction characteristic varies nonlinearly with applied voltage. However, at the center of the amplitude applied voltage, the extinction ratio greatly deviates from the center value. This gives N
The cross point of the light output eye pattern with respect to the RZ signal voltage is greatly shifted downward, and a good light output eye pattern cannot be obtained. In addition, if the applied voltage is adjusted to shift the cross point upward, the extinction ratio deteriorates. There is a problem that it does. Furthermore, since the extinction curve when a low voltage is applied is steeper than that of the Mach-Zehnder type optical modulator, the slight noise of the modulated electric signal is greatly amplified at the stage where it is converted into an optical signal, and the mark of the optical output eye pattern is obtained. There is a problem that noise such as jitter is superimposed on the level while the noise is enlarged.
【0006】この問題を解決する為に最近では、前述の
クロスポイント調整機能を有する駆動回路を内蔵し、電
界吸収型変調器を使用した光送信器なども研究されてい
る。この例としては、宇藤らにより1998年電子情報
通信学会通信ソサイエティ大会講演論文集、442頁
(講演番号B−10−120)に報告されたものがあ
る。この例では、入力された外部変調信号のデューティ
比を駆動回路で変化させて、電界吸収型変調器に変調電
圧信号を印加している。この例のように、半導体電界吸
収型光変調器を用いて良好な光出力波形を得るためには
複雑な外部駆動回路が必要となり送信システム構成の複
雑化、高コスト化を招くという問題点があった。In order to solve this problem, recently, an optical transmitter or the like using a built-in driving circuit having a cross-point adjusting function and using an electro-absorption modulator has been studied. An example of this is reported by Uto et al. In the 1998 IEICE Communications Society Conference Proceedings, p. 442 (Lecture No. B-10-120). In this example, the drive circuit changes the duty ratio of the input external modulation signal to apply a modulation voltage signal to the electroabsorption modulator. As in this example, in order to obtain a good optical output waveform using a semiconductor electro-absorption optical modulator, a complicated external drive circuit is required, and the transmission system configuration becomes complicated and cost increases. there were.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】以上のように、小型
化、低動作電圧化の点で半導体電界吸収型光変調器は有
利であるが、半導体電界吸収型光変調器では、前記した
ように電圧印加に対する消光特性の非線形性により光出
力アイパターンのクロスポイントが下方にずれ、アイパ
ターンのマークレベルに拡大された外部ノイズが重畳さ
れること、また、クロスポイントを上方にシフトさせる
ように印加電圧を調整すると、消光比が劣化するという
問題点がある。また、この問題点を改善するために提案
されている技術では、クロスポイント調整機能を有する
外部駆動回路等を用いなくてはならず、システム構成が
複雑になると言う問題点があった。As described above, the semiconductor electroabsorption optical modulator is advantageous in terms of miniaturization and low operating voltage. However, in the semiconductor electroabsorption optical modulator, as described above, The cross point of the light output eye pattern shifts downward due to the nonlinearity of the extinction characteristic with respect to the voltage application, and the external noise that is expanded to the mark level of the eye pattern is superimposed. Also, the cross point is applied so as to shift upward. When the voltage is adjusted, there is a problem that the extinction ratio deteriorates. Further, in the technology proposed to solve this problem, there is a problem that an external drive circuit or the like having a cross point adjusting function must be used, and the system configuration becomes complicated.
【0008】本発明の目的は、複雑な外部駆動回路等を
用いてのクロスポイント調整などをしなくても高消光比
を有する光出力アイパターンを発生させることの出来る
光変調器及び光通信用光源を提供することにある。An object of the present invention is to provide an optical modulator and an optical communication system which can generate an optical output eye pattern having a high extinction ratio without performing cross point adjustment using a complicated external drive circuit or the like. It is to provide a light source.
【0009】[0009]
【課題を解決する為の手段】本発明の光変調器は、入射
光導波路に入射され、分岐部において分岐された導波光
をそれぞれ光変調するための第一及び第二の各半導体電
界吸収型変調器部における吸収層の吸収端波長が互いに
異なり、これらの変調器部の出力光を合波部において合
波する構成とする。また、前記第一及び第二の各半導体
電界吸収型変調器部に同一の変調電圧を印加した時に、
各電界吸収型変調器部を伝播する2光波間の位相差がπ
[rad] となる様に、前記各半導体電界吸収型変調器部の
吸収層のう吸収端波長に違いを設ける構成とする。SUMMARY OF THE INVENTION An optical modulator according to the present invention comprises a first and a second semiconductor electroabsorption type for optically modulating guided light incident on an incident optical waveguide and branched at a branch portion. The absorption end wavelengths of the absorption layers in the modulator sections are different from each other, and the output lights of these modulator sections are multiplexed in the multiplexing section. When the same modulation voltage is applied to the first and second semiconductor electroabsorption modulators,
The phase difference between two light waves propagating through each electroabsorption modulator is π
In this case, a difference is provided in the absorption edge wavelength of the absorption layer of each of the semiconductor electroabsorption modulators so that [rad].
【0010】ここで、前記した光変調器では、半導体電
界吸収型変調器部以外の光導波路が石英基板上に形成さ
れており、該石英基板上に形成された導波路の分岐部と
合波部との間にある2本の光導波路間に前記半導体電界
吸収型変調器部がハイブリッドに集積された構成とす
る。あるいは、半導体電界吸収型変調器部とそれ以外の
光導波路が共に半導体材料で形成された構成としてもよ
い。さらに、半導体電界吸収型変調器部の光吸収層とそ
れ以外の光導波路が途切れる事なく連続的に形成されて
おり、該半導体電界吸収型変調器の光吸収層の吸収端波
長とそれ以外の光導波路の吸収端波長が異なるように、
バンドギャップ制御選択MOVPE法により形成されて
いる構成とする。また、前記半導体電界吸収型変調器部
の光吸収層が多重量子井戸構造から構成される。In the above-mentioned optical modulator, an optical waveguide other than the semiconductor electroabsorption modulator is formed on a quartz substrate, and the optical waveguide is multiplexed with a branch portion of the waveguide formed on the quartz substrate. The semiconductor electroabsorption modulator section is integrated in a hybrid between two optical waveguides between the section and the optical waveguide. Alternatively, the semiconductor electro-absorption type modulator section and the other optical waveguides may both be formed of a semiconductor material. Furthermore, the light absorption layer of the semiconductor electroabsorption modulator and the other optical waveguides are continuously formed without interruption, and the absorption edge wavelength of the light absorption layer of the semiconductor electroabsorption modulator and other As the absorption edge wavelength of the optical waveguide is different,
The structure is formed by the band gap control selective MOVPE method. In addition, the light absorption layer of the semiconductor electroabsorption modulator section has a multiple quantum well structure.
【0011】また、本発明の光通信用光源は、前記本発
明の光変調器の入射光導波路部に光を入射するための発
光素子が該光変調器と同一基板上に形成或いは設置され
ていることを特徴とする。Further, in the light source for optical communication according to the present invention, a light emitting element for making light incident on the incident optical waveguide portion of the optical modulator according to the present invention is formed or installed on the same substrate as the optical modulator. It is characterized by being.
【0012】さらに、本発明の光通信用モジュールは、
本発明の光変調器の入射光導波路部に外部からの入力光
を光学的に結合させるための集光手段と、該光変調器の
出力光導波路からの出力光を外部の光ファイバーに光学
的に結合させるための集光手段を内臓した構成とする。
あるいは、本発明の光通信用光源の出力光導波路からの
出力光を外部の光ファイバーに光学的に結合させるため
の集光手段を内蔵した構成とする。Further, the optical communication module of the present invention comprises:
Condensing means for optically coupling external input light to an incident optical waveguide portion of the optical modulator of the present invention, and optically coupling output light from an output optical waveguide of the optical modulator to an external optical fiber. The light collecting means for coupling is built in.
Alternatively, the light source for optical communication according to the present invention is configured to include a built-in condensing means for optically coupling output light from an output optical waveguide to an external optical fiber.
【0013】本発明における光変調器では、入射された
外部光波は分岐部で2つの光波に分波され、それぞれ吸
収端波長の異なる第一及び第二の電界吸収型変調器部に
入射される。各電界吸収型変調器部に同位相の信号電圧
が印加されると、分波された光波はそれぞれ変調器部で
吸収されると共に、異なった大きさの位相変化を生じた
後に、合波部で合波され、出力光導波路へと伝播する事
になる。このとき、出力光は各電界吸収型変調器部での
吸収に加えて、合波部での干渉効果により印加電圧と共
に消光することになる。低電圧印加時では、干渉効果よ
りも電界吸収効果の方が大きくなり、各電界吸収型変調
器の消光特性に類似した形状となる。一方、印加電圧を
増加させた場合には、干渉効果が増大し、前述の電界吸
収型変調器部よりも大きな消光が得られる様になる。第
一及び第二の各電界吸収型変調器部の吸収端波長を適当
に設定する事により低電圧印加時に緩やかに消光し、所
定の印加電圧で大きな消光比を得ることが可能となる。
これにより、変調時の消光比を劣化させることなく良好
な光出力アイパターンを得る事ができる。In the optical modulator according to the present invention, the incident external light wave is split into two light waves at the branch part, and the light waves are incident on the first and second electro-absorption modulator parts having different absorption edge wavelengths. . When an in-phase signal voltage is applied to each of the electroabsorption modulators, the split lightwaves are absorbed by the modulators, respectively, and undergo phase changes of different magnitudes. And propagate to the output optical waveguide. At this time, the output light is extinguished together with the applied voltage due to the interference effect in the multiplexing part, in addition to the absorption in the respective electroabsorption modulators. When a low voltage is applied, the electric field absorption effect becomes larger than the interference effect, and the shape becomes similar to the extinction characteristic of each electroabsorption modulator. On the other hand, when the applied voltage is increased, the interference effect is increased, and a larger extinction can be obtained than in the electroabsorption modulator. By appropriately setting the absorption edge wavelength of each of the first and second electroabsorption modulators, the extinction is gradual when a low voltage is applied, and a large extinction ratio can be obtained with a predetermined applied voltage.
Thereby, a good light output eye pattern can be obtained without deteriorating the extinction ratio at the time of modulation.
【0014】この構造を実現するために、選択MOVP
E結晶成長法によるバンドギャップ制御法を用いる。こ
れは、光吸収層が形成される半導体基板上の空隙部の両
側の誘電体マスクの幅が部分的に変化していると、それ
に従って吸収端波長が変化することを利用したものであ
る。この結晶成長法を用いる事により、吸収端波長の異
なる光導波路部と電界吸収型変調器部の光導波層を一回
の成長で形成することが可能となり、エッチングと結晶
成長を分割して繰り返す必要がない。このため、均一
性、再現性、制御性よく前述の光変調器を形成すること
ができる。In order to realize this structure, select MOVP
A band gap control method based on the E crystal growth method is used. This is based on the fact that if the width of the dielectric mask on both sides of the gap on the semiconductor substrate on which the light absorption layer is formed is partially changed, the absorption edge wavelength changes accordingly. By using this crystal growth method, it is possible to form an optical waveguide portion having different absorption edge wavelengths and an optical waveguide layer of an electroabsorption modulator portion in a single growth, and to repeat etching and crystal growth separately. No need. Therefore, the above-described optical modulator can be formed with good uniformity, reproducibility, and controllability.
【0015】また、本発明の前記光変調器、光通信用光
源、光通信用モジュールを送信手段に組み込み、これに
この送信手段からの出力光を外部に導波するための導波
手段と、この導波手段からの出力光を受信するための受
信手段とを設けることにより、光通信システムを構築す
ることが容易となる。Also, the optical modulator, the optical communication light source, and the optical communication module of the present invention are incorporated in transmitting means, and waveguide means for guiding output light from the transmitting means to the outside, The provision of the receiving means for receiving the output light from the waveguide means facilitates the construction of the optical communication system.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態を図面を
参照して説明する。 (第1の実施形態)図1は本発明を光変調器に適用した
第1の実施形態としてInP系多重量子井戸(MQW)
電界吸収型光変調器に適用した実施形態の斜視図であ
る。また、図2(a),(b)はそれぞれ図1のA−A
線、B−B線の拡大断面図である。(100)面方位の
n−InP基板100上にn−InPバッファ層(キャ
リア濃度2×1017cm-3)110が積層され、その上
部に選択バンドギャップ制御MOVPE結晶成長法を用
いて選択的に、入射光導波路部600、分岐部500、
第一電界吸収型変調器部400A、第二電界吸収型変調
器部400B、合波部300、出力光導波路部200が
それぞれ形成されている。Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. (First Embodiment) FIG. 1 shows an InP-based multiple quantum well (MQW) as a first embodiment in which the present invention is applied to an optical modulator.
It is a perspective view of an embodiment applied to an electroabsorption type optical modulator. FIGS. 2A and 2B respectively show AA in FIG.
It is an expanded sectional view of a line and a BB line. An n-InP buffer layer (carrier concentration: 2 × 10 17 cm −3 ) 110 is laminated on an (100) -oriented n-InP substrate 100, and a selective band gap control MOVPE crystal growth method is selectively formed thereon. The incident optical waveguide section 600, the branch section 500,
A first electroabsorption modulator section 400A, a second electroabsorption modulator section 400B, a multiplexing section 300, and an output optical waveguide section 200 are formed respectively.
【0017】前記n−InPバッファ層110上の前記
第一及び第二の各電界吸収型変調器部400A,400
Bを除く前記各光導波路部の領域では、図2(a)のよ
うに、n−InPクラッド層120(キャリア濃度5×
1017cm-3)、光導波路MQWコア層130(吸収端
波長1.350μm)、p−InPクラッド層140が
選択MOVPE成長により選択的に積層されており、更
にこれらの層を取り囲むようにp−InP埋め込み層1
50が選択MOVPE成長により選択的に形成された構
造となっている。The first and second electroabsorption modulator sections 400A, 400 on the n-InP buffer layer 110
As shown in FIG. 2A, the n-InP cladding layer 120 (carrier concentration 5 ×
10 17 cm −3 ), an optical waveguide MQW core layer 130 (absorption edge wavelength: 1.350 μm), and a p-InP cladding layer 140 are selectively laminated by selective MOVPE growth, and p is further surrounded by these layers. -InP buried layer 1
Reference numeral 50 denotes a structure selectively formed by selective MOVPE growth.
【0018】一方、前記第一及び第二の各電界吸収型変
調器部400A,400Bは、図2(b)のように、n
−InPバッファ層110上に選択的にn−InP層7
20及び710、光吸収層721及び711、p−In
P層722及び712がそれぞれ順次積層される。この
とき選択バンドギャップ制御MOVPE結晶成長法を用
いる事により、前記第一及び第二の各電界吸収型変調器
部400A,400Bの各光吸収層721及び711の
光吸収端波長はそれぞれ1.495μm、1.510μ
mとなるように設定されている。更に、これらの層を囲
むようにp−Inp埋め込み層703が形成され、その
上部にp−InGaAsコンタクト層702(キャリア
ー濃度1×1019cm-3)、Ti/Au電極(p側電
極)701が順次積層され、また、素子裏面にはTi/
Au電極(n側電極)512が形成された構造となって
いる。なお、前記p側電極701に接続されたパッド電
極511が形成されており、このパッド電極511の下
部には、前記バッファ層110との間に素子容量を低減
して高速動作を実現するためにポリイミド膜410が埋
め込まれている。On the other hand, as shown in FIG. 2B, the first and second electroabsorption modulator sections 400A and 400B
-N-InP layer 7 selectively on InP buffer layer 110
20 and 710, light absorbing layers 721 and 711, p-In
P layers 722 and 712 are sequentially stacked, respectively. At this time, the light absorption edge wavelength of each of the light absorption layers 721 and 711 of the first and second electroabsorption modulator sections 400A and 400B is 1.495 μm by using the selective band gap control MOVPE crystal growth method. , 1.510μ
m. Further, a p-Inp buried layer 703 is formed so as to surround these layers, and a p-InGaAs contact layer 702 (carrier concentration of 1 × 10 19 cm −3 ) and a Ti / Au electrode (p-side electrode) 701 are formed thereon. Are sequentially laminated, and Ti /
The structure is such that an Au electrode (n-side electrode) 512 is formed. A pad electrode 511 connected to the p-side electrode 701 is formed. Under the pad electrode 511, in order to realize a high-speed operation by reducing the element capacitance between the pad electrode 511 and the buffer layer 110. A polyimide film 410 is embedded.
【0019】次に、前記第1の実施形態の光変調器の動
作を説明する。入射光導波路600に入射された光波
(波長1.55μm)は、分岐部500で分波され、第
一電界吸収型変調器部400Aと第二電界吸収型変調器
部400Bにそれぞれ入射され、パッド電極511に印
加された変調電圧により強度変調と位相変調を受け、合
波部300で合波されて出力導波路200から出力され
る。図3は、第一電界吸収型変調器部400Aによる電
圧―消光特性D3、第二電界吸収型変調器部400Bに
よる電圧―消光特性D2、合波出力光に対する電圧―消
光特性D1を示している。また、図4は第一電界吸収型
変調器部400Aによる電圧―位相変化特性ΔΦ1、第
二電界吸収型変調器部400Bによる電圧―位相変化特
性ΔΦ2を示しており、図5は両電界吸収型変調器部4
00A,400Bにおける位相差の電圧依存性を示して
いる。低電圧印加時には、両電界吸収型変調器部400
A,400Bの位相差が小さいために干渉効果も小さく
なり、出力光の電圧―消光特性は両電界吸収型変調器部
400A,400Bの消光特性に接近しているが、印加
電圧が増大するに従い両変調器部400A,400Bの
位相差が増大して干渉効果が大きくなり、両電界吸収型
変調器部400A,400Bの消光比よりも大きな消光
比が得られる。Next, the operation of the optical modulator according to the first embodiment will be described. The light wave (wavelength: 1.55 μm) incident on the incident optical waveguide 600 is split by the branching section 500 and is incident on the first electroabsorption modulator section 400A and the second electroabsorption modulator section 400B, respectively. The light is subjected to intensity modulation and phase modulation by the modulation voltage applied to the electrode 511, multiplexed by the multiplexing unit 300, and output from the output waveguide 200. FIG. 3 shows a voltage-extinction characteristic D3 of the first electroabsorption modulator 400A, a voltage-extinction characteristic D2 of the second electroabsorption modulator 400B, and a voltage-extinction characteristic D1 of the combined output light. . FIG. 4 shows a voltage-phase change characteristic ΔΦ1 by the first electroabsorption modulator 400A and a voltage-phase change characteristic ΔΦ2 by the second electroabsorption modulator 400B. FIG. 5 shows both electroabsorption modulators. Modulator section 4
The voltage dependence of the phase difference at 00A and 400B is shown. When a low voltage is applied, both electroabsorption modulator sections 400
Since the phase difference between A and 400B is small, the interference effect is also small, and the voltage-extinction characteristic of the output light is close to the extinction characteristic of both electroabsorption modulator sections 400A and 400B, but as the applied voltage increases, The phase difference between the two modulator sections 400A and 400B increases, and the interference effect increases, and an extinction ratio larger than the extinction ratio of the two electroabsorption modulator sections 400A and 400B is obtained.
【0020】以上のように、本発明の光変調器では、吸
収層の吸収端波長がそれぞれ異なる第一の電界吸収型変
調器部400Aと第二の電界吸収型変調器部400Bと
を備えており、入射光を分岐した上でそれぞれ第一及び
第二の電界吸収型変調器部400A,400Bを通し、
かつ各変調器部の出力を合波して出力することにより、
単一の電界吸収型変調器部で構成される光変調器に比べ
て低電圧印加時の消光特性を維持したまま、高電圧印加
時の消光比を増大することが可能であり、良好な光変調
波形及び高消光比を実現することが出来る。As described above, the optical modulator of the present invention includes the first electroabsorption modulator section 400A and the second electroabsorption modulator section 400B having different absorption edge wavelengths of the absorption layer. After splitting the incident light, it passes through the first and second electroabsorption modulator sections 400A and 400B, respectively.
And by combining and outputting the output of each modulator section,
Compared to an optical modulator composed of a single electroabsorption modulator, it is possible to increase the extinction ratio when a high voltage is applied while maintaining the extinction characteristics when a low voltage is applied. A modulation waveform and a high extinction ratio can be realized.
【0021】尚、本発明の光変調器は、前記第1の実施
形態に限定されるものではない。すなわち、前記実施形
態では光導波路として多重量子井戸構造を取り上げた
が、これに限るものではなく、バルク半導体を光導波路
層とする光変調器においても有効であり、また前記実施
形態で示した素子形状や各導波層の吸収端波長、ドーピ
ング濃度等限定されるものではないことは言うまでもな
い。The optical modulator of the present invention is not limited to the first embodiment. That is, in the above embodiment, the multiple quantum well structure is taken as the optical waveguide. However, the present invention is not limited to this, and is also effective in an optical modulator using a bulk semiconductor as an optical waveguide layer. It goes without saying that the shape, the absorption edge wavelength of each waveguide layer, the doping concentration and the like are not limited.
【0022】(第2の実施形態)図6は、本発明を光通
信用光源として構成した第2の実施形態の斜視図であ
り、第1の実施形態の光変調器にDFBレーザをモノリ
ッシクに集積した光通信用光源の例である。すなわち、
第1の実施形態と同一部分には同一符号を付してあり、
その説明は省略する。ここでは、第1の実施形態の構成
に加えて、DFBレーザ部625が選択バンドギャップ
制御MOVPE結晶成長法により選択的に形成された構
造となっている。図7は、図6におけるC−C線での断
面構造を示している。n型基板100上のDFBレーザ
部625領域のみに部分的にグレーティング領域113
が形成されており、その上にn層110が積層されてい
る。更にその上部に選択的にn型InP層313(ドー
ピング濃度5×1017cm-3)、活性層314(バンド
ギャップ波長1.548nm)、p型InP層315
(ドーピング濃度5×1017cm-3)が順次積層されお
り、これらの層を取り囲むようにp型InP埋め込み層
316が形成されており、その上にp型InPコンタク
ト層318(ドーピング濃度1×1018cm-3)、p型
Ti/Au電極722が積層された構造となっている。
また、前記p型Ti/Au電極724には、下部領域が
ポリイミド樹脂410で充填されたパッド電極723が
接続されている。(Second Embodiment) FIG. 6 is a perspective view of a second embodiment in which the present invention is configured as a light source for optical communication. A DFB laser is monolithically applied to the optical modulator of the first embodiment. It is an example of an integrated light source for optical communication. That is,
The same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals,
The description is omitted. Here, in addition to the configuration of the first embodiment, the DFB laser unit 625 has a structure selectively formed by the selective band gap control MOVPE crystal growth method. FIG. 7 shows a cross-sectional structure taken along line CC in FIG. The grating region 113 is partially formed only in the DFB laser portion 625 on the n-type substrate 100.
Is formed, and an n-layer 110 is stacked thereon. Further thereon, an n-type InP layer 313 (doping concentration 5 × 10 17 cm −3 ), an active layer 314 (bandgap wavelength 1.548 nm), and a p-type InP layer 315 are selectively formed.
(A doping concentration of 5 × 10 17 cm −3 ) are sequentially stacked, a p-type InP buried layer 316 is formed so as to surround these layers, and a p-type InP contact layer 318 (a doping concentration of 1 × 10 17 cm −3 ) is formed thereon. 10 18 cm −3 ), and a structure in which p-type Ti / Au electrodes 722 are stacked.
Further, a pad electrode 723 whose lower region is filled with a polyimide resin 410 is connected to the p-type Ti / Au electrode 724.
【0023】この構成の光通信用光源では、DFBレー
ザ部625から出射された光波は入射光導波路600に
結合し、第1の実施形態と同様の過程を経て変調され、
出力導波路200から出射される。この構成では、DF
Bレーザ部が第1の実施形態の光変調器と選択バンドギ
ャップ制御MOVPE結晶成長法によりモノリシックに
集積されており、小型で低コストの光通信用光源が実現
できる。In the light source for optical communication having this configuration, the light wave emitted from the DFB laser section 625 is coupled to the incident optical waveguide 600 and modulated through the same process as in the first embodiment.
The light is emitted from the output waveguide 200. In this configuration, the DF
Since the B laser unit is monolithically integrated with the optical modulator of the first embodiment by the selective band gap control MOVPE crystal growth method, a small and low-cost light source for optical communication can be realized.
【0024】以上の第1の実施形態の光変調器、第2の
実施形態の光通信用光源を用いることにより、光通信用
モジュールを構成することが可能である。例えば、図8
は、サブマウント17上に第1の実施形態の光変調器1
9を搭載し、前記光変調器19の入力側と出力側のそれ
ぞれの光軸上に非球面レンズ12A,12Bを介して光
ファイバー13A,13Bを固定した光通信用変調器モ
ジュール18である。本モジュールを用いれば高消光比
で良好な光変調送信波形を容易に作り出すことが出来
る。同様に、図示は省略するが、第2実施形態の光通信
光源をサブマウントに搭載し、その光出力側に非球面レ
ンズを介して光ファイバーを固定することにより、光通
信用光源モジュールを構成することが可能となる。この
ようにモジュール化することで、光変調器及び光通信用
光源を光通信システムに適用することが可能となる。By using the optical modulator of the first embodiment and the optical communication light source of the second embodiment, it is possible to configure an optical communication module. For example, FIG.
The optical modulator 1 according to the first embodiment is mounted on a submount 17.
9 is an optical communication modulator module 18 in which optical fibers 13A and 13B are fixed on the optical axes on the input side and output side of the optical modulator 19 via aspheric lenses 12A and 12B, respectively. With this module, a good optical modulation transmission waveform with a high extinction ratio can be easily created. Similarly, although not shown, the optical communication light source module of the second embodiment is mounted on a submount, and an optical fiber is fixed to an optical output side of the optical mount via an aspheric lens, thereby forming an optical communication light source module. It becomes possible. By modularizing in this way, the optical modulator and the light source for optical communication can be applied to an optical communication system.
【0025】例えば、図9は前記した光通信用モジュー
ルとして、図8に示した光通信用変調器モジュール18
を用いた幹線系光通信システムの構成図である。送信装
置20は光通信用変調器モジュール18に光を入力する
ための光源21と、この変調器モジュール及び光源を駆
動するための駆動系22とを有する。光源21からの光
は光通信用変調器モジュール18で光信号に変換され、
光ファイバー23を通って受信装置24内の受光部25
で検出される。この構成の光通信システムによれば受信
感度に優れた長距離の非再生光伝送が容易に実現でき
る。これは、本実施形態の光通信システムに使用されて
いる光通信用光変調器モジュール18での送信光変調波
形が良好でかつ高消光比を得ることが出来ることに基づ
く。同様に、前記光通信用変調器モジュールに代えて、
光通信用光源モジュールを光通信システムに適用するこ
とも可能であり、その場合には前記光源21は省略する
ことが可能である。For example, FIG. 9 shows the optical communication module 18 shown in FIG.
FIG. 1 is a configuration diagram of a trunk optical communication system that uses an optical communication system. The transmission device 20 includes a light source 21 for inputting light to the optical communication modulator module 18 and a drive system 22 for driving the modulator module and the light source. The light from the light source 21 is converted into an optical signal by the optical communication modulator module 18,
Light receiving section 25 in receiving device 24 through optical fiber 23
Is detected by According to the optical communication system having this configuration, long-distance non-reproducing optical transmission with excellent reception sensitivity can be easily realized. This is based on the fact that the transmission light modulation waveform in the optical communication optical modulator module 18 used in the optical communication system of the present embodiment is good and a high extinction ratio can be obtained. Similarly, instead of the optical communication modulator module,
The light source module for optical communication can be applied to an optical communication system, in which case the light source 21 can be omitted.
【0026】[0026]
【発明の効果】以上述べたように本発明の光変調器は、
入射光導波路に入射され、分岐部において分岐された導
波光をそれぞれ光変調するための第一及び第二の各半導
体電界吸収型変調器部における吸収層の吸収端波長が互
いに異なり、あるいは、第一及び第二の各半導体電界吸
収型変調器部に同一の変調電圧を印加した時に、各電界
吸収型変調器部を伝播する2光波間の位相差がπ[rad]
となる様に、前記各半導体電界吸収型変調器部の吸収層
の吸収端波長に違いを設けることにより、高消光比で良
好な光送信波形を発生する事が出来る。更に、本発明の
光変調器により、長距離伝送に適した光通信用光源、及
び光通信モジュールが構成でき、さらにはこれらを用い
た光通信システムを構築することも可能となる。As described above, the optical modulator of the present invention has the following features.
The absorption edge wavelengths of the absorption layers in the first and second semiconductor electroabsorption modulators for optically modulating the guided light that is incident on the incident optical waveguide and branched in the branching unit are different from each other, or When the same modulation voltage is applied to the first and second semiconductor electroabsorption modulators, the phase difference between the two light waves propagating through each electroabsorption modulator is π [rad].
Thus, by providing a difference in the absorption edge wavelength of the absorption layer of each of the semiconductor electroabsorption modulator sections, a good optical transmission waveform with a high extinction ratio can be generated. Further, with the optical modulator of the present invention, a light source for optical communication and an optical communication module suitable for long-distance transmission can be configured, and further, an optical communication system using these can be constructed.
【図1】本発明を光変調器に適用した第1の実施形態の
InP系多重量子井戸構造を用いた光変調器の斜視図で
ある。FIG. 1 is a perspective view of an optical modulator using an InP-based multiple quantum well structure according to a first embodiment in which the present invention is applied to an optical modulator.
【図2】図1のAA線、BB線の各拡大断面図である。FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along line AA and line BB in FIG. 1;
【図3】第1の実施形態の光変調器の電圧―消光特性を
示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating voltage-quenching characteristics of the optical modulator according to the first embodiment.
【図4】第1の実施形態の電界吸収型変調器部の電圧―
位相変化特性を示す図である。FIG. 4 shows the voltage of the electro-absorption modulator of the first embodiment.
FIG. 4 is a diagram illustrating a phase change characteristic.
【図5】第1の実施形態の2つの電界吸収型変調器部の
位相差に対する電圧依存性を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating voltage dependence on a phase difference between two electroabsorption modulator units according to the first embodiment.
【図6】本発明を光通信用光源に適用した第2の実施形
態のDFBレーザをモノリシックに集積した光通信用光
源の斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of a light source for optical communication in which a DFB laser according to a second embodiment in which the present invention is applied to the light source for optical communication is monolithically integrated.
【図7】図6のCC線の拡大断面図である。FIG. 7 is an enlarged sectional view taken along line CC of FIG. 6;
【図8】本発明の光変調器を搭載した光通信用モジュー
ルの模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram of an optical communication module equipped with the optical modulator of the present invention.
【図9】本発明の光通信用モジュールを光通信システム
の模式図である。FIG. 9 is a schematic diagram of an optical communication system using the optical communication module of the present invention.
100 n−InP基板 200 出力光導波路部 300 合波部 400A 第一電界吸収型変調器部 400B 第二電界吸収型変調器部 500 分岐部 600 入力光導波路部 110 n−InPバッファ層 113 グレーティング領域 120 n−InPクラッド層 130 光導波路MQWコア層 140 P−InPクラッド層 150 P−InP埋め込み層 313 n−InPクラッド層 314 活性層 315 p−InPクラッド層 316 p−InP埋め込み層 318 p−InGaAsコンタクト層 410 ポリイミド膜 511 パッド電極 512 n側Ti/Au電極 625 DFBレーザ部 701 p側Ti/Au電極 702 p−InGaAsコンタクト層 703 p―InP埋め込み層 710,720 n−InPクラッド層 711,721 多重量子井戸吸収層 712,722 p−InPクラッド層 723 パッド電極 724 Ti/Au電極 12A,12B 非球面レンズ 13A,13B 光ファイバー 17 サブマウント 18 光通信用モジュール 19 光変調器 20 送信装置 21 光源 22 駆動回路 23 光ファイバー 24 受信装置 25 受光器 REFERENCE SIGNS LIST 100 n-InP substrate 200 output optical waveguide section 300 multiplexing section 400A first electroabsorption modulator section 400B second electroabsorption modulator section 500 branch section 600 input optical waveguide section 110 n-InP buffer layer 113 grating area 120 n-InP clad layer 130 optical waveguide MQW core layer 140 P-InP clad layer 150 P-InP buried layer 313 n-InP clad layer 314 active layer 315 p-InP clad layer 316 p-InP buried layer 318 p-InGaAs contact layer 410 Polyimide film 511 Pad electrode 512 n-side Ti / Au electrode 625 DFB laser part 701 p-side Ti / Au electrode 702 p-InGaAs contact layer 703 p-InP buried layer 710,720 n-InP clad layer 711,721 Multiple quantum well absorption layer 712, 722 p-InP cladding layer 723 Pad electrode 724 Ti / Au electrode 12A, 12B Aspheric lens 13A, 13B Optical fiber 17 Submount 18 Optical communication module 19 Optical modulator 20 Transmitter 21 Light source 22 Drive Circuit 23 Optical fiber 24 Receiver 25 Receiver
Claims (9)
路と、前記入射光導波路を導波される導波光を2本の導
波路へ分配する分岐部と、前記分岐部で分岐された2本
の導波路のそれぞれに設けられた半導体電界吸収型変調
器部と、前記2本の導波路の出力光を合波する合波部
と、前記合波部からの合波光を導波する出力光導波路と
を形成してなる光変調器であって、前記2本の導波路に
設けられた各半導体電界吸収型変調器部における吸収層
の吸収端波長が互いに異なることを特徴とする光変調
器。1. An incident optical waveguide that guides incident light on a substrate, a branch portion that distributes guided light guided through the incident optical waveguide to two waveguides, and a branch portion that branches at the branch portion. A semiconductor electroabsorption modulator provided in each of the two waveguides, a multiplexing unit for multiplexing the output lights of the two waveguides, and a multiplexed light from the multiplexing unit. An optical modulator comprising an output optical waveguide and a semiconductor optical absorption modulator provided in the two waveguides, wherein the absorption end wavelengths of the absorption layers of the semiconductor electro-absorption modulators are different from each other. Light modulator.
路と、前記入射光導波路を導波される導波光を2本の導
波路へ分配する分岐部と、前記分岐部で分岐された2本
の導波路のそれぞれに設けられた半導体電界吸収型変調
器部と、前記2本の導波路の出力光を合波する合波部
と、前記合波部からの合波光を導波する出力光導波路と
を形成してなる光変調器であって、前記2本の導波路に
設けられた各半導体電界吸収型変調器部に同一の変調電
圧を印加した時に、該電界吸収型変調器部を伝播する2
光波間の位相差がπ[rad] となる様に、前記2つの半導
体電界吸収型変調器部の吸収層の吸収端波長に違いを設
けることを特徴とする請求項1記載の光変調器。2. An incident optical waveguide that guides incident light on a substrate, a branch portion that distributes guided light guided through the incident optical waveguide to two waveguides, and a branch portion that branches at the branch portion. A semiconductor electroabsorption modulator provided in each of the two waveguides, a multiplexing unit for multiplexing the output lights of the two waveguides, and a multiplexed light from the multiplexing unit. And an output optical waveguide that forms an output optical waveguide, wherein when the same modulation voltage is applied to each of the semiconductor electro-absorption modulator sections provided in the two waveguides, the electro-absorption modulation is performed. Propagating the body 2
2. The optical modulator according to claim 1, wherein a difference is provided between the absorption edge wavelengths of the absorption layers of the two semiconductor electroabsorption modulators so that the phase difference between the light waves becomes π [rad].
導波路が石英基板上に形成されており、該石英基板上に
形成された導波路の分岐部と合波部との間にある2本の
光導波路間に前記半導体電界吸収型変調器部がハイブリ
ッドに集積されたことを特徴とする請求項1又は2記載
の光変調器。3. An optical waveguide other than the semiconductor electroabsorption modulator section is formed on a quartz substrate, and an optical waveguide is provided between a branch section and a multiplexing section of the waveguide formed on the quartz substrate. 3. The optical modulator according to claim 1, wherein the semiconductor electro-absorption modulator section is integrated in a hybrid between the optical waveguides.
外の光導波路が共に半導体材料で形成されていることを
特徴とする請求項1又は2記載の光変調器。4. The optical modulator according to claim 1, wherein both the semiconductor electro-absorption modulator and the other optical waveguide are formed of a semiconductor material.
層とそれ以外の光導波路が途切れる事なく連続的に形成
されており、該半導体電界吸収型変調器部の光吸収層の
吸収端波長とそれ以外の光導波路の吸収端波長が異なる
ように、バンドギャップ制御選択MOVPE法により形
成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の
光変調器。5. The light absorption layer of the semiconductor electro-absorption modulator section and the other optical waveguide are continuously formed without interruption, and the absorption end of the light absorption layer of the semiconductor electro-absorption modulator section is provided. 3. The optical modulator according to claim 1, wherein the optical modulator is formed by a band gap control selective MOVPE method so that the wavelength and the absorption edge wavelength of the other optical waveguides are different.
層が多重量子井戸構造からなる事を特徴とする請求項1
から請求項5のいずれかに記載の光変調器。6. The light absorption layer of the semiconductor electroabsorption modulator section has a multiple quantum well structure.
An optical modulator according to any one of claims 1 to 5.
入射光導波路部に光を入射するための発光素子が該光変
調器と同一基板上に形成或いは設置されていることを特
徴とする光通信用光源。7. A light-emitting element for making light incident on an incident optical waveguide portion of the optical modulator according to claim 1, wherein the light-emitting element is formed or installed on the same substrate as the optical modulator. Light source for optical communication.
入射光導波路部に外部からの入力光を光学的に結合させ
るための集光手段と、該光変調器の出力光導波路からの
出力光を外部の光ファイバーに光学的に結合させるため
の集光手段を内臓したことを特徴とする光通信用モジュ
ール。8. A condensing means for optically coupling an input light from the outside to an incident optical waveguide portion of the optical modulator according to claim 1, and from an output optical waveguide of the optical modulator. A light condensing means for optically coupling the output light to an external optical fiber.
波路からの出力光を外部の光ファイバーに光学的に結合
させるための集光手段を内蔵したことを特徴とする光通
信用モジュール。9. An optical communication module comprising a light collecting means for optically coupling output light from an output optical waveguide of the optical communication light source according to claim 7 to an external optical fiber.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP4650699A JP2000241775A (en) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | Optical modulator, light source for optical communication and module for optical communication |
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|---|---|
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Cited By (3)
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| KR101184907B1 (en) * | 2007-11-23 | 2012-09-20 | 주식회사 케이티 | Electroabsorption modulator, electroabsorption transceiver and radio antenna unit including the same |
| CN116529657A (en) * | 2020-12-08 | 2023-08-01 | 三菱电机株式会社 | Laser light source device |
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- 1999-02-24 JP JP4650699A patent/JP2000241775A/en active Pending
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