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JP2000241640A - Optical element, its manufacture, and optical module - Google Patents

Optical element, its manufacture, and optical module

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Publication number
JP2000241640A
JP2000241640A JP11215074A JP21507499A JP2000241640A JP 2000241640 A JP2000241640 A JP 2000241640A JP 11215074 A JP11215074 A JP 11215074A JP 21507499 A JP21507499 A JP 21507499A JP 2000241640 A JP2000241640 A JP 2000241640A
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JP
Japan
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fluorine
bis
optical
dianhydride
resin
Prior art date
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Granted
Application number
JP11215074A
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Japanese (ja)
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JP3756701B2 (en
Inventor
Nobuo Miyadera
信生 宮寺
Toru Takahashi
亨 高橋
Yutaka Honda
裕 本田
Shigeru Koibuchi
滋 鯉渕
Tatsumi Ido
立身 井戸
Shinji Tsuji
伸二 辻
Takamitsu Nagara
高光 長良
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
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  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学装置用材料として用いられているフッ素
を含むポリイミド系樹脂被膜の基板に対する接着性を上
げることにより光学素子の信頼性を向上させる。 【解決手段】 基板表面上に、有機ジルコニウム化合物
の被膜を形成後に、フッ素を含まないポリイミド系樹脂
被膜を形成し、フッ素を含むポリイミド系樹脂被膜を形
成して光学素子を得る。
PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the reliability of an optical element by increasing the adhesion of a polyimide resin film containing fluorine used as a material for an optical device to a substrate. SOLUTION: An optical element is obtained by forming a coating of an organic zirconium compound on a substrate surface, forming a polyimide resin coating not containing fluorine, and forming a polyimide resin coating containing fluorine.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フッ素を含むポリ
イミド系樹脂を用いた光学素子、その製造法及び光モジ
ュールに関する。
The present invention relates to an optical element using a polyimide resin containing fluorine, a method of manufacturing the same, and an optical module.

【0002】[0002]

【従来の技術】フッ素を含むポリイミド系樹脂は、フッ
素を含まないものに比べ、光の透過性が高い、屈折率が
低いなどの特徴を有するために、光学装置に適用されて
いる。例えば、特開平4ー235506号公報には、表
面が酸化シリコン膜で被覆されたシリコン基板の上に屈
折率の異なる2種類のフッ素を含むポリイミド膜を形成
してパターニングを行い光導波路を作製し光学装置を製
造する方法が示されている。
2. Description of the Related Art Fluorine-containing polyimide resins have been applied to optical devices because they have characteristics such as higher light transmittance and lower refractive index than those containing no fluorine. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-235506 discloses that an optical waveguide is manufactured by forming a polyimide film containing two kinds of fluorines having different refractive indexes on a silicon substrate whose surface is covered with a silicon oxide film and patterning. A method for manufacturing an optical device is shown.

【0003】このようにフッ素を含むポリイミドを用い
ることにより、ガラスなどの無機材料を用いるものに比
べて簡便なプロセスで光学特性に優れた光学装置を得る
ことができる。しかしながら、フッ素を含むポリイミド
は、膜を形成する基板表面のガラス、石英、シリコン、
酸化シリコン、窒化シリコン、アルミニウム、酸化アル
ミニウム、窒化アルミニウム、酸化タンタル、ガリウム
ヒ素などに対する接着性が低く長時間の使用における信
頼性に問題があった。
[0003] By using a polyimide containing fluorine as described above, an optical device having excellent optical characteristics can be obtained by a simpler process than a device using an inorganic material such as glass. However, the polyimide containing fluorine is glass, quartz, silicon,
Adhesion to silicon oxide, silicon nitride, aluminum, aluminum oxide, aluminum nitride, tantalum oxide, gallium arsenide, and the like was low, and there was a problem in reliability in long-term use.

【0004】上記問題点を解決する試みとして、特開平
7ー174930号公報には、基板表面上に有機ジルコ
ニウム化合物の被膜を形成した上に、フッ素を含むポリ
イミド系樹脂被膜を形成する光学装置の製造法が示され
ている。
As an attempt to solve the above problem, Japanese Patent Application Laid-Open No. 174930/1995 discloses an optical device in which a coating of an organic zirconium compound is formed on the surface of a substrate and then a polyimide resin coating containing fluorine is formed. The manufacturing method is shown.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが,有機ジルコ
ニウム化合物の被膜のみの形成では,接着性が不足す
る。特に,光通信設備に用いられる光学装置のように長
期間にわたる信頼性が要求される用途では,プレッシャ
ークッカー試験(121℃、2気圧)などの加速試験で
200時間以上剥離しないことが必要であり,この場
合,接着性が不足する。また,接着性は,基板の種類,
フッ素を含むポリイミド系樹脂被膜の樹脂の種類によっ
ても異なり,例えば,基板とフッ素を含むポリイミド系
樹脂被膜との熱膨張係数の差が大きい場合,フッ素の含
量が多い樹脂被膜を用いた場合,樹脂被膜の全体の厚さ
が厚い場合などに接着性が不足する。本発明は、光学装
置用材料として用いられているフッ素を含むポリイミド
系樹脂被膜の基板に対する接着性を上げることにより信
頼性を向上させた光学素子、その製造法及び光モジュー
ルを提供するものである。
However, the formation of only a film of an organic zirconium compound results in insufficient adhesiveness. In particular, in applications that require long-term reliability, such as optical devices used in optical communication equipment, it is necessary to prevent peeling for more than 200 hours in accelerated tests such as a pressure cooker test (121 ° C, 2 atm). In this case, the adhesiveness is insufficient. The adhesiveness depends on the type of substrate,
It also depends on the type of resin of the fluorine-containing polyimide resin film. For example, when the difference in thermal expansion coefficient between the substrate and the fluorine-containing polyimide resin film is large, when a resin film containing a large amount of fluorine is used, Adhesion is insufficient when the overall thickness of the coating is large. An object of the present invention is to provide an optical element whose reliability is improved by improving the adhesion of a polyimide-based resin film containing fluorine used as a material for an optical device to a substrate, a method of manufacturing the same, and an optical module. .

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の光学素子は、基
板上に有機ジルコニウム化合物の被膜、フッ素を含まな
い樹脂の被膜及びフッ素を含むポリイミド系樹脂の被膜
が順次形成されているものである。本発明の光学素子の
製造法は、基板表面上に有機ジルコニウム化合物の被膜
を形成した上に、フッ素を含まない樹脂被膜を形成し、
フッ素を含むポリイミド系樹脂被膜を形成する工程を備
えることを特徴とする。フッ素を含まない樹脂の膜厚は
10μm以下であることが好ましく、1.0μm以下で
あることがさらに好ましい。本発明の光モジュールは、
基板上に有機ジルコニウム化合物層、フッ素を含まない
樹脂層及びフッ素を含むポリイミド系樹脂層が順次形成
されて成るポリマー光導波路を有し、該ポリマー光導波
路の一端若しくは両端にレーザ光源、受光素子または光
フアイバのいずれかを配置していることを特徴とする。
An optical element according to the present invention comprises a substrate, on which a coating of an organic zirconium compound, a coating of a resin containing no fluorine, and a coating of a polyimide resin containing fluorine are sequentially formed. . The method for producing an optical element of the present invention comprises forming a coating of an organic zirconium compound on a substrate surface, and then forming a fluorine-free resin coating.
A step of forming a polyimide resin film containing fluorine. The thickness of the resin containing no fluorine is preferably 10 μm or less, more preferably 1.0 μm or less. The optical module of the present invention
An organic zirconium compound layer, a fluorine-free resin layer and a fluorine-containing polyimide-based resin layer are sequentially formed on a substrate, and a polymer optical waveguide is formed, and a laser light source, a light receiving element or at one or both ends of the polymer optical waveguide It is characterized in that one of the optical fibers is arranged.

【0007】本発明は、基板,有機ジルコニウム化合物
の被膜,フッ素を含まない樹脂被膜,フッ素を含むポリ
イミド系樹脂被膜が順次配置された構成とすることで,
上記の問題点を解決し接着性に優れ、長時間使用しても
安定な光学素子を提供するものである。
According to the present invention, a substrate, a film of an organic zirconium compound, a resin film containing no fluorine, and a polyimide resin film containing fluorine are sequentially arranged.
An object of the present invention is to provide an optical element which solves the above problems, has excellent adhesiveness, and is stable even when used for a long time.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】本発明で光学素子とは、基板とし
て、ガラス、石英等の無機材料、シリコン、ガリウムヒ
素、アルミニウム、チタン等の半導体や金属材料、ポリ
イミド、ポリアミド等の高分子材料、またはこれらの材
料を複合化した材料を用いて、これら基板の上に、光導
波路、光合波器、光分波路、光減衰器、光回折器、光増
幅器、光干渉器、光フィルタ、光スイッチ、波長変換
器、発光素子、受光素子あるいはこれらが複合化された
ものなどを形成したものを指す。上記の基板上には、発
光ダイオード、フォトダイオード等の半導体装置や金属
膜が形成されることもあり、更に基板の保護や屈折率調
整などのために、基板上に酸化シリコン、窒化シリコ
ン、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化タンタ
ルなどの被膜が形成されることもある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, an optical element refers to a substrate made of an inorganic material such as glass or quartz, a semiconductor or metal material such as silicon, gallium arsenide, aluminum or titanium; a polymer material such as polyimide or polyamide; Alternatively, using a material obtained by combining these materials, an optical waveguide, an optical multiplexer, an optical demultiplexer, an optical attenuator, an optical diffractor, an optical amplifier, an optical interferometer, an optical filter, an optical switch are formed on these substrates. , A wavelength converter, a light-emitting element, a light-receiving element, or a combination thereof. A semiconductor device such as a light emitting diode or a photodiode or a metal film may be formed on the above-described substrate, and silicon oxide, silicon nitride, oxidized silicon, or the like may be formed on the substrate to further protect the substrate and adjust the refractive index. A coating such as aluminum, aluminum nitride, and tantalum oxide may be formed.

【0009】本発明で使用される有機ジルコニウム化合
物としては、ジルコニウムエステルおよびジルコニウム
キレート化合物が好ましい。
The organic zirconium compound used in the present invention is preferably a zirconium ester or a zirconium chelate compound.

【0010】ジルコニウムエステルとしては、テトラプ
ロピルジルコネート、テトラブチルジルコネートなどが
挙げられ、ジルコニウムキレート化合物としては、テト
ラキス(アセチルアセトネート)ジルコニウム、モノブ
トキシトリス(アセチルアセトネート)ジルコニウム、
ジブトキシビス(アセチルアセトネート)ジルコニウ
ム、トリブトキシアセチルアセトネートジルコニウム、
テトラ(エチルアセチルアセテート)ジルコニウム、モ
ノブトキシトリス(エチルアセチルアセテート)ジルコ
ニウム、ジブトキシビス(エチルアセチルアセテート)
ジルコニウム、トリブトキシエチルアセチルアセテー
ト、テトラキス(エチルラクトネート)ジルコニウム、
ビス(ビスアセチルアセトネート)ビス(エチルアセチ
ルアセトネート)ジルコニウム、モノアセチルアセトネ
ートトリス(エチルアセチルアセトネート)ジルコニウ
ム、モノブトキシモノアセチルアセトネートビス(エチ
ルアセチルアセトネート)ジルコニウムなどが挙げられ
る。ジルコニウムエステルおよびジルコニウムキレート
化合物のいずれの場合でも、被膜形成時に酸化ジルコニ
ウムを含むものであれば、これらの例示したものに限ら
れるものではない。上記の化合物は、単独または混合し
て使用することができる。
Examples of the zirconium ester include tetrapropyl zirconate and tetrabutyl zirconate. Examples of the zirconium chelate compound include tetrakis (acetylacetonate) zirconium, monobutoxytris (acetylacetonate) zirconium, and the like.
Zirconium dibutoxybis (acetylacetonate), zirconium tributoxyacetylacetonate,
Tetra (ethyl acetyl acetate) zirconium, monobutoxy tris (ethyl acetyl acetate) zirconium, dibutoxy bis (ethyl acetyl acetate)
Zirconium, tributoxyethyl acetyl acetate, tetrakis (ethyl lactonate) zirconium,
Bis (bisacetylacetonate) bis (ethylacetylacetonate) zirconium, monoacetylacetonate tris (ethylacetylacetonate) zirconium, monobutoxymonoacetylacetonatebis (ethylacetylacetonate) zirconium and the like can be mentioned. In any case of the zirconium ester and the zirconium chelate compound, those containing zirconium oxide at the time of film formation are not limited to those exemplified above. The above compounds can be used alone or in combination.

【0011】有機ジルコニウム化合物は、メタノール、
エタノール、ブタノール、ベンゼン、トルエン、N−メ
チル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、γ−ブチロラクトン等の有機溶剤、水などに溶解さ
れ、溶液としてスピン塗布法などにより基板表面上に塗
布され、70〜400℃で乾燥して被膜形成が行われ
る。有機ジルコニウム化合物の膜厚は、厚すぎると膜が
もろくなるため3000オングストローム以下が好まし
い。
The organic zirconium compound includes methanol,
Ethanol, butanol, benzene, toluene, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, organic solvents such as γ-butyrolactone, dissolved in water, etc., and applied as a solution on the substrate surface by spin coating etc. At 70 to 400 ° C. to form a film. When the thickness of the organic zirconium compound is too large, the film becomes brittle, so that the thickness is preferably 3000 Å or less.

【0012】本発明で用いられるフッ素を含まない樹脂
としては、ポリイミド系樹脂、シリコーン系樹脂、アク
リル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、フェノー
ル系樹脂等の種々の樹脂を用いることができる。基板と
の接着性のよい樹脂を用いる基板に応じて選択すればよ
い。素子の製造工程や使用環境などで耐熱性を要求され
る用途では、ポリイミド系樹脂、ポリキノリン系樹脂等
ご好ましい。フッ素を含まない樹脂としては、窒素を含
む樹脂が好ましい。
The fluorine-free resin used in the present invention includes various resins such as a polyimide resin, a silicone resin, an acrylic resin, a polycarbonate resin, an epoxy resin, a polyamide resin, a polyester resin, and a phenol resin. Resin can be used. What is necessary is just to select according to the board | substrate using the resin with good adhesiveness with a board | substrate. In applications where heat resistance is required in the manufacturing process of the element or the use environment, a polyimide resin, a polyquinoline resin, or the like is preferable. As the resin containing no fluorine, a resin containing nitrogen is preferable.

【0013】本発明で用いられるフッ素を含まないポリ
イミド系樹脂としては、ポリイミド樹脂、ポリ(イミド
・イソインドロキナゾリンジオンイミド)樹脂、ポリエ
ーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂,ポリエステ
ルイミド樹脂などが挙げられる。本発明で用いられるフ
ッ素を含まない樹脂は,フッ素原子を全く含まない樹脂
の替わりにフッ素含量がフッ素を含むポリイミド系樹脂
のフッ素含量に比べて十分低い樹脂を選択することがで
きる。この場合には,フッ素含量は,フッ素を含むポリ
イミド系樹脂で形成されたコアの半分以下であることが
好ましい。具体的には,フッ素含量が10wt%以下で
あることが好ましい。さらに,好ましくは,2wt%以
下であることが好ましい。
The fluorine-free polyimide resin used in the present invention includes polyimide resin, poly (imide / isoindoloquinazolinedionimide) resin, polyetherimide resin, polyamideimide resin and polyesterimide resin. . As the resin containing no fluorine used in the present invention, a resin whose fluorine content is sufficiently lower than the fluorine content of the polyimide resin containing fluorine can be selected instead of the resin containing no fluorine atom. In this case, the fluorine content is preferably not more than half of that of the core formed of the polyimide resin containing fluorine. Specifically, it is preferable that the fluorine content is 10 wt% or less. Further, it is preferable that the content be 2 wt% or less.

【0014】本発明で用いられるフッ素を含むポリイミ
ド系樹脂としては、フッ素を有するポリイミド樹脂、フ
ッ素を有するポリ(イミド・イソインドロキナゾリンジ
オンイミド)樹脂、フッ素を有するポリエーテルイミド
樹脂、フッ素を有するポリアミドイミド樹脂などが挙げ
られる。ポリアミドイミド樹脂を得る場合には、塩化無
水トリメリット酸などが用いられる。ポリイミド系樹脂
の前駆体溶液は、N−メチル−2−ピロリドン,N,N
−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、ジメチ
ルスルホキシドなどの極性溶媒中で、テトラカルボン酸
二無水物とジアミンの反応により得られる。フッ素を有
するテトラカルボン酸二無水物とジアミンとの反応によ
り,フッ素含むポリイミド系樹脂の前駆体溶液を製造す
ることができる。テトラカルボン酸二無水物とフッ素を
有するジアミンとの反応により,フッ素を含むポリイミ
ド系樹脂の前駆体溶液を製造することができる。テトラ
カルボン酸二無水物とジアミンのいづれもがフッ素を有
していない場合に,フッ素を含まないポリイミド系樹脂
の前駆体溶液を製造することができる。
The polyimide resin containing fluorine used in the present invention includes a polyimide resin having fluorine, a poly (imide / isoindoloquinazolinedionimide) resin having fluorine, a polyetherimide resin having fluorine, and a fluorine-containing polyimide resin. Polyamide imide resin and the like can be mentioned. When a polyamideimide resin is obtained, trimellitic anhydride chloride or the like is used. The precursor solution of the polyimide resin is N-methyl-2-pyrrolidone, N, N
-It is obtained by reacting tetracarboxylic dianhydride with diamine in a polar solvent such as dimethylacetamide, γ-butyrolactone, dimethylsulfoxide and the like. By reacting the fluorine-containing tetracarboxylic dianhydride with the diamine, a fluorine-containing polyimide resin precursor solution can be produced. By reacting tetracarboxylic dianhydride with a diamine having fluorine, a precursor solution of a polyimide resin containing fluorine can be produced. When neither the tetracarboxylic dianhydride nor the diamine has fluorine, a precursor solution of a fluorine-free polyimide resin can be produced.

【0015】フッ素を有するテトラカルボン酸二無水物
の例としては、(トリフルオロメチル)ピロメリット酸
二無水物、ジ(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二
無水物、ジ(ヘプタフルオロプロピル)ピロメリット酸
二無水物、ペンタフルオロエチルピロメリット酸二無水
物、ビス{3,5−ジ(トリフルオロメチル)フェノキ
シ}ピロメリット酸二無水物、2,2−ビス(3,4−
ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水
物、5,5′−ビス(トリフルオロメチル)−3,
3′,4, 4′−テトラカルボキシビフェニル二無水
物、2,2′,5,5′−テトラキス(トリフルオロメ
チル)−3,3′,4,4′−テトラカルボキシビフェ
ニル二無水物、5,5′−ビス(トリフルオロメチル)
−3,3′,4,4′−テトラカルボキシジフェニルエ
ーテル二無水物、5,5′−ビス(トリフルオロメチ
ル)−3,3′,4,4′−テトラカルボキシベンゾフ
ェノン二無水物、ビス{(トリフルオロメチル)ジカル
ボキシフェノキシ}ベンゼン二無水物、ビス{(トリフ
ルオロメチル)ジカルボキシフェノキシ}(トリフルオ
ロメチル)ベンゼン二無水物、ビス(ジカルボキシフェ
ノキシ)(トリフルオロメチル)ベンゼン二無水物、ビ
ス(ジカルボキシフェノキシ)ビス(トリフルオロメチ
ル)ベンゼン二無水物、ビス(ジカルボキシフェノキ
シ)テトラキス(トリフルオロメチル)ベンゼン二無水
物、2,2−ビス{(4−(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン二無水物、
ビス{(トリフルオロメチル)ジカルボキシフェノキ
シ}ビフェニル二無水物、ビス{(トリフルオロメチ
ル)ジカルボキシフェノキシ}ビス(トリフルオロメチ
ル)ビフェニル二無水物、ビス{(トリフルオロメチ
ル)ジカルボキシフェノキシ}ジフェニルエーテル二無
水物、ビス(ジカルボキシフェノキシ)ビス(トリフル
オロメチル)ビフェニル二無水物 1,4−ビス(2−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロ
ピル)ベンゼンビス(トリメリット酸無水物)、1,3
−ビス(2−ヒドロキシヘキサフルオロイソプロピル)
ベンゼンビス(トリメリット酸無水物)、などが挙げら
れ、2種類以上を混合して用いてもよい。
Examples of tetracarboxylic dianhydrides having fluorine include (trifluoromethyl) pyromellitic dianhydride, di (trifluoromethyl) pyromellitic dianhydride, and di (heptafluoropropyl) pyromellitic Acid dianhydride, pentafluoroethyl pyromellitic dianhydride, bis {3,5-di (trifluoromethyl) phenoxy} pyromellitic dianhydride, 2,2-bis (3,4-
Dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride, 5,5'-bis (trifluoromethyl) -3,
3 ', 4,4'-tetracarboxybiphenyl dianhydride, 2,2', 5,5'-tetrakis (trifluoromethyl) -3,3 ', 4,4'-tetracarboxybiphenyl dianhydride, , 5'-bis (trifluoromethyl)
-3,3 ', 4,4'-tetracarboxydiphenyl ether dianhydride, 5,5'-bis (trifluoromethyl) -3,3', 4,4'-tetracarboxybenzophenone dianhydride, bis {( Trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy {benzene dianhydride, bis {(trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy} (trifluoromethyl) benzene dianhydride, bis (dicarboxyphenoxy) (trifluoromethyl) benzene dianhydride, Bis (dicarboxyphenoxy) bis (trifluoromethyl) benzene dianhydride, bis (dicarboxyphenoxy) tetrakis (trifluoromethyl) benzene dianhydride, 2,2-bis {(4- (3,4-dicarboxy) Phenoxy) phenyl @ hexafluoropropane dianhydride,
Bis {(trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy} biphenyl dianhydride, bis {(trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy} bis (trifluoromethyl) biphenyl dianhydride, bis {(trifluoromethyl) dicarboxyphenoxy} diphenyl ether Dianhydride, bis (dicarboxyphenoxy) bis (trifluoromethyl) biphenyl dianhydride 1,4-bis (2-hydroxyhexafluoroisopropyl) benzenebis (trimellitic anhydride), 1,3
-Bis (2-hydroxyhexafluoroisopropyl)
Benzene bis (trimellitic anhydride) and the like may be used, and two or more kinds may be used as a mixture.

【0016】フッ素を有しないテトラカルボン酸二無水
物の例としては、ピロメリット酸二無水物、ベンゼン−
1,2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、3,
3′,4,4′−ジフエニルテトラカルボン酸二無水
物、2,2′,3,3′−ジフエニルテトラカルボン酸
二無水物、2,3,3′,4′−ジフエニルテトラカル
ボン酸二無水物、p−ターフェニル−3,4,3″,
4″−テトラカルボン酸二無水物、m−ターフェニル−
3,4,3″,4″−テトラカルボン酸二無水物、1,
2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、
2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、1,2,4,5−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、2,6−ジクロルナフタレン−1,4,5,8
−テトラカルボン酸二無水物、2,7−ジクロルナフタ
レン−1,4,5,8,テトラカルボン酸二無水物、
2,3,6,7−テトラクロルナフタレン−1,4,
5,8−テトラカルボン酸二無水物、2,3,5,6−
ピリジンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10
−ペリレンテトラカルボン酸 二無水物、3,3′,
4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、
2,2′,3,3′−ベンゾフエノンテトラカルボン酸
二無水物、2,3,3′,4′−ベンゾフエノンテトラ
カルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニル
エーテルテトラカルボン酸二無水物、4,4′−スルホ
ニルジフタル酸二無水物、3,3′,4,4′−テトラ
フェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3′−
4,4′−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水
物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン二無水物、
1−(2,3−ジカルボキシフェニル)−3−(3,4
−ジカルボキシフェニル)−1,1,3,3−テトラメ
チルジシロキサン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジ
カルボキシフエニル)プロパン二無水物、2,2−ビス
(2,3−ジカルボキシフエニル)プロパン二無水物、
1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフエニル)エタン
二無水物、
Examples of tetracarboxylic dianhydrides having no fluorine include pyromellitic dianhydride, benzene-
1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 3,
3 ', 4,4'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ', 4'-diphenyltetracarboxylic Acid dianhydride, p-terphenyl-3,4,3 ″,
4 "-tetracarboxylic dianhydride, m-terphenyl-
3,4,3 ", 4" -tetracarboxylic dianhydride, 1,
2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride,
2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2, 6-dichloronaphthalene-1,4,5,8
-Tetracarboxylic dianhydride, 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,8, tetracarboxylic dianhydride,
2,3,6,7-tetrachloronaphthalene-1,4
5,8-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,5,6-
Pyridinetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10
-Perylenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ',
4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride,
2,2 ', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'- Biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 4,4'-sulfonyl diphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-tetraphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 3,3'-
4,4'-diphenylethertetracarboxylic dianhydride, 1,3-bis (3,4-dicarboxyphenyl)-
1,1,3,3-tetramethyldisiloxane dianhydride,
1- (2,3-dicarboxyphenyl) -3- (3,4
-Dicarboxyphenyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2 3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride,
1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride,

【0017】1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフエ
ニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフ
エニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシ
フエニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキ
シフエニル)スルホン二無水物、フエナンスレン−1,
8,9,10−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−
2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、チオフエ
ン−2,3,4,5−テトラカルボン酸二無水物、ビス
(3,4−ジカルボキシフエニル)ジメチルシラン二無
水物、ビス(3,4−ジカルボキシフエニル)メチルフ
エニルシラン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフ
エニル)ジフエニルシラン二無水物、1,4−ビス
(3,4−ジカルボキシフエニルジメチルシリル)ベン
ゼン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフ
エニル)−1,1,3,3−テトラメチルジシクロヘキ
サン二無水物、p−フエニルビス(トリメリツト酸モノ
エステル酸無水物) エチレングリコールビス(トリメリツト酸無水物)、プ
ロパンジオールビス(トリメリツト酸無水物)、ブタン
ジオールビス(トリメリツト酸無水物)、ペンタンジオ
ールビス(トリメリツト酸無水物)、ヘキサンジオール
ビス(トリメリツト酸無水物)、オクタンジオールビス
(トリメリツト酸無水物)、デカンジオールビス(トリ
メリツト酸無水物)、エチレンテトラカルボン酸二無水
物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水
物、デカヒドロナフタレン−1,4,5,8−テトラカ
ルボン酸二無水物、4,8−ジメチル−1,2,3,
5,6,7−ヘキサヒドロナフタレン−1,2,5,6
−テトラカルボン酸二無水物、シクロペンタン−1,
2,3,4−テトラカルボン酸二無水物、
1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) Methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, phenanthrene-1,
8,9,10-tetracarboxylic dianhydride, pyrazine-
2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) dimethylsilane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methylphenylsilane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) diphenylsilane dianhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxyphenyldimethylsilyl) ) Benzene dianhydride, 1,3-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,3,3-tetramethyldicyclohexane dianhydride, p-phenylbis (trimellitic acid monoester acid anhydride) Ethylene glycol bis (trimellitic anhydride), propanediol bis (trimellitic anhydride), butanediol bis (trimellitic anhydride), pentanedio Rubis (trimellitic anhydride), hexanediol bis (trimellitic anhydride), octanediol bis (trimellitic anhydride), decanediol bis (trimellitic anhydride), ethylene tetracarboxylic dianhydride, 1, 2, 3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, decahydronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,3,
5,6,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6
Tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane-1,
2,3,4-tetracarboxylic dianhydride,

【0018】ピロリジン−2,3,4,5−テトラカル
ボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラ
カルボン酸二無水物、ビス(エキソ−ビシクロ〔2,
2,1〕ヘプタン−2,3−ジカルボン酸無水物)スル
ホン ビシクロ−(2,2,2)−オクト(7)−エン−2,
3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、4,4′−ビ
ス(3,4−ジカルボキシフエノキシ)ジフエニルスル
フイド二無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ
フリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−
ジカルボン酸無水物、テトラヒドロフラン−2,3,
4,5−テトラカルボン酸二無水物、などが挙げられ、
2種類以上を混合して用いてもよい。
Pyrrolidine-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, bis (exo-bicyclo [2
2,1] heptane-2,3-dicarboxylic anhydride) sulfone bicyclo- (2,2,2) -oct (7) -ene-2,
3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenyl sulfide dianhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) ) -3-Methyl-3-cyclohexene-1,2-
Dicarboxylic anhydride, tetrahydrofuran-2,3
4,5-tetracarboxylic dianhydride, and the like,
Two or more types may be used as a mixture.

【0019】フッ素を有するジアミンの例としては、4
−(1H,1H,11H−エイコサフルオロウンデカノ
キシ)−1,3−ジアミノベンゼン、4−(1H,1H
−パ−フルオロ−1−ブタノキシ)−1,3−ジアミノ
ベンゼン、4−(1H,1H−パーフルオロ−1−ヘプ
タノキシ)−1,3−ジアミノベンゼン、4−(1H,
1H−パーフルオロ−1−オクタノキシ)−1,3−ジ
アミノベンゼン、4−ペンタフルオロフェノキシ−1,
3−ジアミノベンゼン、4−(2,3,5,6−テトラ
フルオロフェノキシ)−1,3−ジアミノベンゼン、4
−(4−フルオロフェノキシ)−1,3−ジアミノベン
ゼン、4−(1H,1H,2H,2H−パーフルオロ−
1−ヘキサノキシ)−1,3−ジアミノベンゼン、
Examples of diamines having fluorine include 4
-(1H, 1H, 11H-eicosafluoroundecanooxy) -1,3-diaminobenzene, 4- (1H, 1H
-Perfluoro-1-butanoxy) -1,3-diaminobenzene, 4- (1H, 1H-perfluoro-1-heptanoxy) -1,3-diaminobenzene, 4- (1H,
1H-perfluoro-1-octanoxy) -1,3-diaminobenzene, 4-pentafluorophenoxy-1,
3-diaminobenzene, 4- (2,3,5,6-tetrafluorophenoxy) -1,3-diaminobenzene, 4
-(4-fluorophenoxy) -1,3-diaminobenzene, 4- (1H, 1H, 2H, 2H-perfluoro-
1-hexanoxy) -1,3-diaminobenzene,

【0020】4−(1H,1H,2H,2H−パーフル
オロ−1−ドデカノキシ)−1,3−ジアミノベンゼ
ン、(2,5−)ジアミノベンゾトリフルオライド、ビ
ス(トリフルオロメチル)フェニレンジアミン、ジアミ
ノテトラ(トリフルオロメチル)ベンゼン、ジアミノ
(ペンタフルオロエチル)ベンゼン、2,5−ジアミノ
(パーフルオロヘキシル)ベンゼン、2,5−ジアミノ
(パーフルオロブチル)ベンゼン、1,4−ビス(4−
アミノフェニル)ベンゼン、p−ビス(4−アミノ−2
−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼン、ビス(ア
ミノフェノキシ)ビス(トリフルオロメチル)ベンゼ
ン、ビス(アミノフェノキシ)テトラキス(トリフルオ
ロメチル)ベンゼン、ビス{2−〔(アミノフェノキ
シ)フェニル〕ヘキサフルオロイソプロピル}ベンゼン
2,2′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジ
アミノビフェニル、3,3′−ビス(トリフルオロメチ
ル)−4,4′−ジアミノビフェニル、オクタフルオロ
ベンジジン、ビス{(トリフルオロメチル)アミノフェ
ノキシ}ビフェニル、4,4′−ビス(4−アミノ−2
−トリフルオロメチルフェノキシ)ビフェニル、4,
4′−ビス(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェ
ノキシ)ビフェニル、1,4−ビス(アニリノ)オクタ
フルオロブタン、1,5−ビス(アニリノ)デカフルオ
ロペンタン、1,7−ビス(アニリノ)テトラデカフル
オロヘプタン、3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジア
ミノジフェニルエーテル、3,3′,5,5′−テトフ
ルオロ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、2,
2′−ビス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、3,3′−ビス(トリフルオロ
メチル)−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、
4- (1H, 1H, 2H, 2H-perfluoro-1-dodecanoxy) -1,3-diaminobenzene, (2,5-) diaminobenzotrifluoride, bis (trifluoromethyl) phenylenediamine, diamino Tetra (trifluoromethyl) benzene, diamino (pentafluoroethyl) benzene, 2,5-diamino (perfluorohexyl) benzene, 2,5-diamino (perfluorobutyl) benzene, 1,4-bis (4-
Aminophenyl) benzene, p-bis (4-amino-2)
-Trifluoromethylphenoxy) benzene, bis (aminophenoxy) bis (trifluoromethyl) benzene, bis (aminophenoxy) tetrakis (trifluoromethyl) benzene, bis {2-[(aminophenoxy) phenyl] hexafluoroisopropyl} benzene 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, octafluorobenzidine, bis {(trifluoromethyl) ) Aminophenoxydibiphenyl, 4,4'-bis (4-amino-2
-Trifluoromethylphenoxy) biphenyl, 4,
4'-bis (4-amino-3-trifluoromethylphenoxy) biphenyl, 1,4-bis (anilino) octafluorobutane, 1,5-bis (anilino) decafluoropentane, 1,7-bis (anilino) Tetradecafluoroheptane, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ', 5,5'-tetofluoro-4,4'-diaminodiphenyl ether, 2,
2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl ether,

【0021】3,3′,5,5′−テトラキス(トリフ
ルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフェ
ニルメタン、3,3′−ジ(トリフルオロメチル)−
4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,
5′−テトラフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニル
メタン、3,3′,5,5′−テトラキス(トリフルオ
ロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、
3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニル
プロパン、3,3′,5,5′−テトラフルオロ−4,
4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′−ビス
(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニ
ルプロパン、3,3′,5,5′−テトラ(トリフルオ
ロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、
3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニル
スルホン、3,3′,5,5′−テトラフルオロ−4,
4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ビス
(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニ
ルスルホン、3,3′,5,5′−テトラキス(トリフ
ルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルスルホ
ン、4,4′−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメ
チルフェノキシ)ジフェニルスルホン、4,4′−ビス
(3−アミノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)ジ
フェニルスルホン、3,3′−ジフルオロ−4,4′−
ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′,5,5′−
テトラフルオロ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフ
ィド、3,3′−ビス(トリフルオロメチル)−4,
4′−ジアミノジフェニルスルフィド、
3,3 ', 5,5'-Tetrakis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-di ( Trifluoromethyl)-
4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5
5'-tetrafluoro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetrakis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenylmethane,
3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3 ', 5,5'-tetrafluoro-4,
4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3 ', 5,5'-tetra (trifluoromethyl) -4,4'- Diaminodiphenylpropane,
3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 ', 5,5'-tetrafluoro-4,
4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 ', 5,5'-tetrakis (trifluoromethyl) -4,4'- Diaminodiphenylsulfone, 4,4'-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) diphenylsulfone, 4,4'-bis (3-amino-5-trifluoromethylphenoxy) diphenylsulfone, 3,3 '-Difluoro-4,4'-
Diaminodiphenyl sulfide, 3,3 ', 5,5'-
Tetrafluoro-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-bis (trifluoromethyl) -4,
4'-diaminodiphenyl sulfide,

【0022】3,3′,5,5′−テトラキス(トリフ
ルオロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルスルフ
ィド、3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノベン
ゾフェノン、3,3′,5,5′−テトラフロオロ−
4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ビス
(トリフルオロメチル)−4,4′−ジアミノベンゾフ
ェノン、3,3′,5,5′−テトラ(トリフルオロメ
チル)−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4,4′
−ジアミノ−p−テルフェニル、3,3′−ジメチル−
4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパ
ン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェ
ニルヘキサフルオロプロパン、3,3′−ジエトキシ−
4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパ
ン、3,3′−ジフルオロ−4,4′−ジアミノジフェ
ニルヘキサフルオロプロパン、3,3′−ジクロロ−
4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパ
ン、3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフェニ
ルヘキサフルオロプロパン、3,3′,5,5′−テト
ラメチル−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオ
ロプロパン、3,3′,5,5′−テトラメトキシ−
4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパ
ン、3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−
ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,
3′,5,5′−テトラフロオロ−4,4′−ジアミノ
ジフェニルヘキサフルオロプロパン、3,3′,5,
5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルヘ
キサフルオロプロパン、3,3′,5,5′−テトラブ
ロモ−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプ
ロパン、3,3′,5,5′−テトラキス(トリフルオ
ロメチル)−4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフル
オロプロパン、
3,3 ', 5,5'-tetrakis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3', 5 , 5'-Tetrafluoro-
4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobenzophenone, 3,3 ', 5,5'-tetra (trifluoromethyl) -4,4'- Diaminobenzophenone, 4,4 '
-Diamino-p-terphenyl, 3,3'-dimethyl-
4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3'-diethoxy-
4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3'-difluoro-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3'-dichloro-
4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylhexa Fluoropropane, 3,3 ', 5,5'-tetramethoxy-
4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,4'-
Diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,
3 ', 5,5'-tetrafluoro-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3', 5
5'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3 ', 5,5'-tetrabromo-4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 3,3', 5,5'- Tetrakis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane,

【0023】3,3′−ビス(トリフルオロメチル)−
4,4′−ジアミノジフェニルヘキサフルオロプロパ
ン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、1,3−ビス(アニリノ)ヘキサフルオロ
プロパン、2,2−ビス{4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス
{4−(3−アミノフェノキシ)フェニル}ヘキサフル
オロプロパン、2,2−ビス{4−(2−アミノフェノ
キシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビ
ス{4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジメチル
フェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス{4
−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジトリフルオロ
メチルフェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビ
ス{4−(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェノ
キシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、ビス
〔{(トリフルオロメチル)アミノフェノキシ}フェニ
ル〕ヘキサフルオロプロパン、1,3−ジアミノ−5−
(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジ
アミノ−4−メチル−5−(パーフルオロノネニルオキ
シ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−メトキシ−5−
(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジ
アミノ−2,4,6−トリフルオロ−5−(パーフルオ
ロノネニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−
クロロ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼ
ン、1,3−ジアミノ−4−ブロモ−5−(パーフルオ
ロノネニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−4−
(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、
3,3'-bis (trifluoromethyl)-
4,4'-diaminodiphenylhexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 1,3-bis (anilino) hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (4-amino Phenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (3-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (2-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2, 2-bis {4- (4-aminophenoxy) -3,5-dimethylphenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis {4
-(4-aminophenoxy) -3,5-ditrifluoromethylphenyl {hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (4-amino-3-trifluoromethylphenoxy) phenyl} hexafluoropropane, bis [{ (Trifluoromethyl) aminophenoxydiphenyl] hexafluoropropane, 1,3-diamino-5-
(Perfluorononenyloxy) benzene, 1,3-diamino-4-methyl-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,3-diamino-4-methoxy-5
(Perfluorononenyloxy) benzene, 1,3-diamino-2,4,6-trifluoro-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,3-diamino-4-
Chloro-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,3-diamino-4-bromo-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,2-diamino-4-
(Perfluorononenyloxy) benzene,

【0024】1,2−ジアミノ−4−メチル−5−(パ
ーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミ
ノ−4−メトキシ−5−(パーフルオロノネニルオキ
シ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−3,4,6−トリフ
ルオロ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼ
ン、1,2−ジアミノ−4−クロロ−5−(パーフルオ
ロノネニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−4−
ブロモ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼ
ン、1,4−ジアミノ−3−(パーフルオロノネニルオ
キシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2−メチル−5−
(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジ
アミノ−2−メトキシ−5−(パーフルオロノネニルオ
キシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2,3,6−トリ
フルオロ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼ
ン、1,4−ジアミノ−2−クロロ−5−(パーフルオ
ロノネニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2−
ブロモ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)ベンゼ
ン、1,3−ジアミノ−5−(パーフルオロヘキセニル
オキシ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−メチル−5
−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,3
−ジアミノ−4−メトキシ−5−(パーフルオロヘキセ
ニルオキシ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−2,4,6
−トリフルオロ−5−(パーフルオロヘキセニルオキ
シ)ベンゼン、1,3−ジアミノ−4−クロロ−5−
(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,3−
ジアミノ−4−ブロモ−5−(パーフルオロヘキセニル
オキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−4−(パーフル
オロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−
4−メチル−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベ
ンゼン、
1,2-diamino-4-methyl-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,2-diamino-4-methoxy-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,2-diamino -3,4,6-trifluoro-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,2-diamino-4-chloro-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,2-diamino-4-
Bromo-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,4-diamino-3- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2-methyl-5-
(Perfluorononenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2-methoxy-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2,3,6-trifluoro-5- (perfluoro Nonenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2-chloro-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2-
Bromo-5- (perfluorononenyloxy) benzene, 1,3-diamino-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,3-diamino-4-methyl-5
-(Perfluorohexenyloxy) benzene, 1,3
-Diamino-4-methoxy-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,3-diamino-2,4,6
-Trifluoro-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,3-diamino-4-chloro-5-
(Perfluorohexenyloxy) benzene, 1,3-
Diamino-4-bromo-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,2-diamino-4- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,2-diamino-
4-methyl-5- (perfluorohexenyloxy) benzene,

【0025】1,2−ジアミノ−4−メトキシ−5−
(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,2−
ジアミノ−3,4,6−トリフルオロ−5−(パーフル
オロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,2−ジアミノ−
4−クロロ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベ
ンゼン、1,2−ジアミノ−4−ブロモ−5−(パーフ
ルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ
−3−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、
1,4−ジアミノ−2−メチル−5−(パーフルオロヘ
キセニルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2−メ
トキシ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼ
ン、1,4−ジアミノ−2,3,6−トリフルオロ−5
−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼン、1,4
−ジアミノ−2−クロロ−5−(パーフルオロヘキセニ
ルオキシ)ベンゼン、1,4−ジアミノ−2−ブロモ−
5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)ベンゼンなどが
挙げられ、2種類以上を混合して用いてもよい。
1,2-diamino-4-methoxy-5
(Perfluorohexenyloxy) benzene, 1,2-
Diamino-3,4,6-trifluoro-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,2-diamino-
4-chloro-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,2-diamino-4-bromo-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,4-diamino-3- (perfluorohexenyloxy) benzene,
1,4-diamino-2-methyl-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2-methoxy-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2,3 6-trifluoro-5
-(Perfluorohexenyloxy) benzene, 1,4
-Diamino-2-chloro-5- (perfluorohexenyloxy) benzene, 1,4-diamino-2-bromo-
5- (perfluorohexenyloxy) benzene and the like may be mentioned, and two or more kinds may be used as a mixture.

【0026】フッ素を有しないジアミンの例としては、
p−フエニレンジアミン、m−フエニレンジアミン、
2,6−ジアミノピリジン、1,5−ジアミノナフタレ
ン、2,6−ジアミノナフタレン、ベンジジン、3,
3′−ジメチルベンジジン、3,3′−ジメトキシベン
ジジン、3,3′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′
−ジメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,
3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノベンゾフェノ
ン、3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノベンゾ
フェノン、3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノベ
ンゾフェノン、3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミ
ノベンゾフェノン、3,3′,5,5′−テトラメチル
−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′,5,
5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノベンゾフェ
ノン、3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′
−ジアミノベンゾフェノン、3,3′,5,5′−テト
ラクロロ−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,
3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノベ
ンゾフェノン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,4′−ジアミノジフエニルエーテル、3,3′
−ジアミノジフエニルエーテル、3,3′−ジメチル−
4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジ
イソプロピル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフェ
ニルエーテル、3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジア
ミノジフェニルエーテル、3,3′−ジクロロ−4,
4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジブロ
モ−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,
3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミノジ
フェニルエーテル、3,3′,5,5′−テトラエチル
−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′,
5,5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノジフェ
ニルエーテル、3,3′,5,5′−テトラエトキシ−
4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′,
5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフェニ
ルエーテル、3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,
4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,3′−ジイソ
プロピル−5,5′−ジメチル−4,4′−ジアミノジ
フェニルエーテル、
Examples of diamines having no fluorine include:
p-phenylenediamine, m-phenylenediamine,
2,6-diaminopyridine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene, benzidine, 3,
3'-dimethylbenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, 3,3'-diaminobenzophenone, 3,3 '
-Dimethyl-4,4'-diaminobenzophenone, 3,
3'-dimethoxy-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diethoxy-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-dibromo- 4,4'-diaminobenzophenone, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3', 5
5'-tetramethoxy-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,4'
-Diaminobenzophenone, 3,3 ', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminobenzophenone, 3,
3 ', 5,5'-tetrabromo-4,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'
-Diaminodiphenyl ether, 3,3'-dimethyl-
4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diisopropyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diethoxy-4,4'- Diaminodiphenyl ether, 3,3'-dichloro-4,
4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,
3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3', 5,5'-tetraethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ',
5,5'-tetramethoxy-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-
4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ',
5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 ', 5,5'-tetrabromo-4,
4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diisopropyl-5,5'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether,

【0027】3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジ
エチル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジアミノ
ジフエニルメタン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジ
アミノジフェニルメタン、3,3′−ジエチル−4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジメトキ
シ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−
ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、
3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルメ
タン、3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフェ
ニルメタン、3,3′,5,5′−テトラメチル−4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,5′
−テトライソプロピル−4,4′−ジアミノジフェニル
メタン、3,3′,5,5′−テトラメトキシ−4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′,5,5′
−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルメタ
ン、3,3′,5,5′−テトラクロロ−4,4′−ジ
アミノジフェニルメタン、3,3′,5,5′−テトラ
ブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,
3′,5,5′−テトライソプロピル−4,4′−ジア
ミノジフェニルメタン、3,3′−ジイソプロピル−
5,5′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルメ
タン、3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジエチル
−4,4′−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−ジ
アミノジフェニルプロパン、3,3′−ジアミノジフェ
ニルプロパン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミ
ノジフェニルプロパン、
3,3'-diisopropyl-5,5'-diethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,
4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diethyl-4,
4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-
Diethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane,
3,3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,
4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'
-Tetraisopropyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetramethoxy-4,
4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'
-Tetraethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3 ', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3', 5,5'-tetrabromo-4,4'- Diaminodiphenylmethane, 3,
3 ', 5,5'-tetraisopropyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diisopropyl-
5,5'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diisopropyl-5,5'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3 ' -Diaminodiphenylpropane, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylpropane,

【0028】3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミ
ノジフェニルプロパン、3,3′−ジエトキシ−4,
4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′−ジクロ
ロ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′
−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、
3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミ
ノジフェニルプロパン、3,3′,5,5′−テトラメ
トキシ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,
3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジアミノ
ジフェニルプロパン、3,3′,5,5′−テトラクロ
ロ−4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,
3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミノジ
フェニルプロパン、3,3′−ジイソプロピル−5,
5′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルプロパ
ン、3,3′−ジイソプロピル−5,5′−ジエチル−
4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、4,4′−ジ
アミノジフェニルスルホン、3,3′−ジアミノジフェ
ニルスルホン、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミ
ノジフェニルスルホン、3,3′−ジメトキシ−4,
4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジエト
キシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,
3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルスルホ
ン、3,3′−ジブロモ−4,4′−ジアミノジフェニ
ルスルホン、3,3′,5,5′−テトラメチル−4,
4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′,5,
5′−テトラメトキシ−4,4′−ジアミノジフェニル
スルホン、3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,
4′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′,5,
5′−テトラクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルス
ルホン、3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′
−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′−ジイソプロ
ピル−5,5′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェ
ニルスルホン、3,3′−ジイソプロピル−5,5′−
ジエチル−4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、
3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-diethoxy-4,
4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3 '
-Dibromo-4,4'-diaminodiphenylpropane,
3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3', 5,5'-tetramethoxy-4,4'-diaminodiphenylpropane,
3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,
3 ', 5,5'-tetrabromo-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-diisopropyl-5,
5'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-diisopropyl-5,5'-diethyl-
4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-dimethoxy- 4,
4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diethoxy-4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,
3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-dibromo-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,
4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3 ', 5
5'-tetramethoxy-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,
4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3 ', 5
5'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 ', 5,5'-tetrabromo-4,4'
-Diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diisopropyl-5,5'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diisopropyl-5,5'-
Diethyl-4,4'-diaminodiphenylsulfone,

【0029】4,4′−ジアミノジフェニルスルフィ
ド、3,3′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,
3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルスルフ
ィド、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミノジフ
ェニルスルフィド、3,3′−ジエトキシ−4,4′−
ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′−ジクロロ−
4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3′−
ジブロモ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、
3,3′,5,5′−テトラメチル−4,4′−ジアミ
ノジフェニルスルフィド、3,3′,5,5′−テトラ
メトキシ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、
3,3′,5,5′−テトラエトキシ−4,4′−ジア
ミノジフェニルスルフィド、3,3′,5,5′−テト
ラクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルスルフィド、
3,3′,5,5′−テトラブロモ−4,4′−ジアミ
ノジフェニルスルフィド、1,4−ビス−(4−アミノ
フェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス−(4−アミノフ
ェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス−(4−アミノフェ
ノキシフェニル)プロパン、ビス−(4−アミノフェノ
キシフェニル)スルホン、ビス−(4−アミノフェノキ
シフェニル)スルフィド、ビス−(4−アミノフェノキ
シフェニル)ビフェニル、4,4′−ジアミノジフェニ
ルエーテル−3−スルホンアミド、3,4′−ジアミノ
ジフェニルエーテル−4−スルホンアミド、3,4′−
ジアミノジフェニルエーテル−3′−スルホンアミド、
3,3′−ジアミノジフェニルエーテル−4−スルホン
アミド、4,4′−ジアミノジフェニルメタン−3−ス
ルホンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルメタン−
4−スルホンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルメ
タン−3′−スルホンアミド、
4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 3,
3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diethoxy-4,4'-
Diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-dichloro-
4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-
Dibromo-4,4'-diaminodiphenyl sulfide,
3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3', 5,5'-tetramethoxy-4,4'-diaminodiphenyl sulfide,
3,3 ', 5,5'-tetraethoxy-4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3', 5,5'-tetrachloro-4,4'-diaminodiphenyl sulfide,
3,3 ', 5,5'-tetrabromo-4,4'-diaminodiphenylsulfide, 1,4-bis- (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis- (4-aminophenoxy) benzene, , 2-bis- (4-aminophenoxyphenyl) propane, bis- (4-aminophenoxyphenyl) sulfone, bis- (4-aminophenoxyphenyl) sulfide, bis- (4-aminophenoxyphenyl) biphenyl, 4,4 '-Diaminodiphenyl ether-3-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenyl ether-4-sulfonamide, 3,4'-
Diaminodiphenyl ether-3'-sulfonamide,
3,3'-diaminodiphenylether-4-sulfonamide, 4,4'-diaminodiphenylmethane-3-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenylmethane-
4-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenylmethane-3'-sulfonamide,

【0030】3,3′−ジアミノジフェニルメタン−4
−スルホンアミド、4,4′−ジアミノジフェニルスル
ホン−3−スルホンアミド、3,4′−ジアミノジフェ
ニルスルホン−4−スルホンアミド、3,4′−ジアミ
ノジフェニルスルホン−3′−スルホンアミド、3,
3′−ジアミノジフェニルスルホン−4−スルホンアミ
ド、4,4′−ジアミノジフェニルサルファイド−3−
スルホンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルサルフ
ァイド−4−スルホンアミド、3,3′−ジアミノジフ
ェニルサルファイド−4−スルホンアミド、3,4′−
ジアミノジフェニルサルファイド−3′−スルホンアミ
ド、1,4−ジアミノベンゼン−2−スルホンアミド、
4,4′−ジアミノジフェニルエーテル−3−カルボン
アミド、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル−4−
カルボンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル−3′−カルボンアミド、3,3′−ジアミノジフェ
ニルエーテル−4−カルボンアミド、4,4′−ジアミ
ノジフェニルメタン−3−カルボンアミド、3,4′−
ジアミノジフェニルメタン−4−カルボンアミド、3,
4′−ジアミノジフェニルメタン−3′−カルボンアミ
ド、3,3′−ジアミノジフェニルメタン−4−カルボ
ンアミド、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン−3
−カルボンアミド、3,4′−ジアミノジフェニルスル
ホン−4−カルボンアミド、3,4′−ジアミノジフェ
ニルスルホン−3′−カルボンアミド、3,3′−ジア
ミノジフェニルスルホン−4−カルボンアミド、4,
4′−ジアミノジフェニルサルファイド−3−カルボン
アミド、3,4′−ジアミノジフェニルサルファイド−
4−カルボンアミド、3,3′−ジアミノジフェニルサ
ルファイド−4−カルボンアミド、3,4′−ジアミノ
ジフェニルサルファイド−3′−カルボンアミド、1,
4−ジアミノベンゼン−2−カルボンアミド、4−アミ
ノフエニル−3−アミノ安息香酸、
3,3'-diaminodiphenylmethane-4
-Sulfonamide, 4,4'-diaminodiphenylsulfone-3-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenylsulfone-4-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenylsulfone-3'-sulfonamide, 3,
3'-diaminodiphenylsulfone-4-sulfonamide, 4,4'-diaminodiphenylsulfide-3-
Sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenylsulfide-4-sulfonamide, 3,3'-diaminodiphenylsulfide-4-sulfonamide, 3,4'-
Diaminodiphenyl sulfide-3'-sulfonamide, 1,4-diaminobenzene-2-sulfonamide,
4,4'-diaminodiphenylether-3-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenylether-4-
Carbonamide, 3,4'-diaminodiphenylether-3'-carbonamide, 3,3'-diaminodiphenylether-4-carbonamide, 4,4'-diaminodiphenylmethane-3-carbonamide, 3,4'-
Diaminodiphenylmethane-4-carbonamide, 3,
4'-diaminodiphenylmethane-3'-carbonamide, 3,3'-diaminodiphenylmethane-4-carbonamide, 4,4'-diaminodiphenylsulfone-3
-Carbonamide, 3,4'-diaminodiphenylsulfone-4-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenylsulfone-3'-carbonamide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone-4-carbonamide, 4,
4'-diaminodiphenylsulfide-3-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenylsulfide-
4-carbonamide, 3,3'-diaminodiphenylsulfide-4-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenylsulfide-3'-carbonamide, 1,
4-diaminobenzene-2-carbonamide, 4-aminophenyl-3-aminobenzoic acid,

【0031】2,2−ビス(4−アミノフエニル)プロ
パン、ビス−(4−アミノフエニル)ジエチルシラン、
ビス−(4−アミノフエニル)ジフエニルシラン、ビス
−(4−アミノフエニル)エチルホスフインオキサイ
ド、ビス−(4−アミノフエニル)−N−ブチルアミ
ン、ビス−(4−アミノフエニル)−N−メチルアミ
ン、N−(3−アミノフエニル)−4−アミノベンズア
ミド、2,4−ビス−(β−アミノ−t−ブチル)トル
エン、ビス−(p−β−アミノ−t−ブチル−フエニ
ル)エーテル、ビス−(p−β−メチル−γ−アミノ−
ペンチル)ベンゼン、ビス−p−(1,1−ジメチル−
5−アミノペンチル)ベンゼン、ヘキサメチレンジアミ
ン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミ
ン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、テ
トラメチレンジアミン、プロピレンジアミン、3−メチ
ルヘプタメチレンジアミン、4,4′−ジメチルヘプタ
メチレンジアミン、2,11−ジアミノドデカン、1,
2−ビス−(3−アミノプロポキシ)エタン、2,2−
ジメチルプロピレンジアミン、3−メトキシ−ヘキサメ
チレンジアミン、2,5−ジメチルヘキサメチレンジア
ミン、2,5−ジメチルヘプタメチレンジアミン、5−
メチルノナメチレンジアミン、2,17−ジアミノアイ
コサデカン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,1
0−ジアミノ−1,10−ジメチルデカン、1,12−
ジアミノオクタデカン、などが挙げられ、2種類以上を
混合して用いてもよい。
2,2-bis (4-aminophenyl) propane, bis- (4-aminophenyl) diethylsilane,
Bis- (4-aminophenyl) diphenylsilane, bis- (4-aminophenyl) ethylphosphine oxide, bis- (4-aminophenyl) -N-butylamine, bis- (4-aminophenyl) -N-methylamine, N- (3 -Aminophenyl) -4-aminobenzamide, 2,4-bis- (β-amino-t-butyl) toluene, bis- (p-β-amino-t-butyl-phenyl) ether, bis- (p-β- Methyl-γ-amino-
Pentyl) benzene, bis-p- (1,1-dimethyl-
5-aminopentyl) benzene, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, tetramethylenediamine, propylenediamine, 3-methylheptamethylenediamine, 4,4'-dimethylheptamethylenediamine , 2,11-diaminododecane, 1,
2-bis- (3-aminopropoxy) ethane, 2,2-
Dimethylpropylenediamine, 3-methoxy-hexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, 2,5-dimethylheptamethylenediamine, 5-
Methylnonamethylenediamine, 2,17-diaminoicosadecane, 1,4-diaminocyclohexane, 1,1
0-diamino-1,10-dimethyldecane, 1,12-
Diaminooctadecane, etc., and two or more kinds may be used as a mixture.

【0032】ジアミンの一部としては、シリコンジアミ
ンを使用してもよい。シリコンジアミンとしては、1,
3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,1−テトラ
フェニルジシロキサン、1,3−ビス(3−アミノプロ
ピル)−1,1,1−テトラメチルジシロキサン、1,
3−ビス(4−アミノブチル)−1,1,1−テトラメ
チルジシロキサンなどがある。シリコンジアミンを使用
するときは、これらは、ジアミンの総量に対して、0.
1〜10モル%使用するのが好ましい。上記のテトラカ
ルボン酸二無水物およびジアミンは二種以上を併用して
もよい。ポリイミド系樹脂の前駆体溶液として、感光性
を有するものを使用することもできる。
As a part of the diamine, silicon diamine may be used. As silicon diamine, 1,
3-bis (3-aminopropyl) -1,1,1-tetraphenyldisiloxane, 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,1-tetramethyldisiloxane, 1,
3-bis (4-aminobutyl) -1,1,1-tetramethyldisiloxane and the like. When silicon diamines are used, they may be present in an amount of 0.
It is preferable to use 1 to 10 mol%. The above tetracarboxylic dianhydride and diamine may be used in combination of two or more. A photosensitive solution may be used as the precursor solution of the polyimide resin.

【0033】ポリイミド前駆体溶液は、スピナあるいは
印刷などによる方法により基板表面上に塗布され、最終
温度200〜400℃で熱処理し硬化されてフッ素を含
まないポリイミド系樹脂被膜とされる。フッ素を含まな
いポリイミド系樹脂被膜の厚さは,ポリイミド前駆体溶
液の濃度,粘度,スピナの回転数などを変えることによ
り所定の厚さに制御する。
The polyimide precursor solution is applied on the substrate surface by a method such as spinner or printing, and is heat-treated at a final temperature of 200 to 400 ° C. to be cured to form a fluorine-free polyimide resin film. The thickness of the polyimide resin film containing no fluorine is controlled to a predetermined thickness by changing the concentration, viscosity, rotation speed of the spinner, and the like of the polyimide precursor solution.

【0034】フッ素を含まないポリイミド系樹脂被膜の
厚さは、10μm以下であることが好ましい。10μm
を超えると、フッ素を含まない樹脂被膜及びフッ素を含
むポリイミド系樹脂被膜の樹脂皮膜全体の厚みが大とな
り、基板との膨張係数の差に基づく応力によるそりが発
生しやすくなる。また樹脂皮膜全体の厚みの均一性が達
成されにくくなる。フッ素を含まないポリイミド系樹脂
被膜の厚さは,1.0μm以下であることがより好まし
い。フッ素を含まないポリイミド系樹脂被膜の厚さは,
その上に形成されるフッ素を含むポリイミド系樹脂被膜
を用いて製造された光導波路の構成によって最適に選択
されなければならない。すなわち,フッ素を含まないポ
リイミド系樹脂被膜の上が直接コア(光導波層)となる
ような光導波路を形成する場合や,フッ素を含まないポ
リイミド系樹脂被膜とコアとが近接して構成された光導
波路を形成する場合(フッ素を含まないポリイミド系樹
脂被膜とコアとの間に位置するクラッド層の厚さが薄い
場合)などは,フッ素を含まないポリイミド系樹脂被膜
が光損失増大の要因となるため,フッ素を含まないポリ
イミド系樹脂被膜の厚さを薄くすることが好ましい。具
体的な厚さは,基板,フッ素を含まないポリイミド系樹
脂被膜,フッ素を含むポリイミド系樹脂被膜で形成され
たクラッド,コアの屈折率,及び,それぞれの高さ,幅
などを考慮して決定されるべきであるが,一般には伝送
路である光ファイバとの整合性を考慮し、フッ素を含む
ポリイミド系樹脂皮膜からなる光導波路のコアのサイズ
は10μm前後とすることが多く、同導波路を伝播する
光に対しての損失を十分に低減するためには、フッ素を
含まないポリイミド系樹脂被膜の厚さは、コア層の1/
10以下にすることが望ましく、先の例の場合には1.
0μm以下とすることがより好ましい。さらにより好ま
しくは、0.5μmである。
The thickness of the polyimide resin film containing no fluorine is preferably 10 μm or less. 10 μm
When the value exceeds, the entire thickness of the resin film containing no fluorine and the polyimide-based resin film containing fluorine becomes large, and warpage due to stress based on the difference in expansion coefficient from the substrate is likely to occur. In addition, uniformity of the thickness of the entire resin film is hardly achieved. More preferably, the thickness of the fluorine-containing polyimide resin film is 1.0 μm or less. The thickness of the fluorine-containing polyimide resin coating is
It must be optimally selected depending on the configuration of the optical waveguide manufactured using the fluorine-containing polyimide resin film formed thereon. That is, when an optical waveguide is formed such that a core (optical waveguide layer) is directly formed on a polyimide resin film containing no fluorine, or when the polyimide resin film containing no fluorine and the core are arranged close to each other. In the case of forming an optical waveguide (when the thickness of the cladding layer located between the fluorine-free polyimide resin coating and the core is small), the fluorine-free polyimide resin coating may cause an increase in light loss. Therefore, it is preferable to reduce the thickness of the polyimide resin film containing no fluorine. The specific thickness is determined in consideration of the substrate, the polyimide resin film containing no fluorine, the cladding formed of the polyimide resin film containing fluorine, the refractive index of the core, and the height and width of each. In general, the size of the core of an optical waveguide made of a polyimide-based resin film containing fluorine is often about 10 μm in consideration of compatibility with an optical fiber as a transmission line. In order to sufficiently reduce the loss to light propagating through the core layer, the thickness of the polyimide-based resin film containing no fluorine should be 1/1 of the core layer.
It is desirable to set it to 10 or less, and in the case of the above example, 1.
More preferably, it is 0 μm or less. Even more preferably, it is 0.5 μm.

【0035】ポリイミド前駆体溶液は、スピナあるいは
印刷などによる方法により基板表面上に塗布され、最終
温度200〜400℃で熱処理し硬化されてフッ素を含
むポリイミド系樹脂被膜とされる。フッ素を含むポリイ
ミド系樹脂被膜は,必要に応じて公知の方法により,エ
ッチング,あるいは,光を含む電磁波や電子線を含む粒
子線の照射によって光導波路を形成することができる。
光導波路を形成するにあったては,公知の方法により,
フッ素を含むポリイミド系樹脂被膜が屈折率の異なる複
数の被膜から構成された光導波路とすることができる。
The polyimide precursor solution is applied on the substrate surface by a method such as spinner or printing, and is heat-treated at a final temperature of 200 to 400 ° C. to be cured to obtain a fluorine-containing polyimide resin film. The polyimide-based resin film containing fluorine can form an optical waveguide by etching or irradiation of a particle beam including an electron beam or an electromagnetic wave including light by a known method as necessary.
In forming an optical waveguide, a known method is used.
An optical waveguide in which a polyimide-based resin film containing fluorine is composed of a plurality of films having different refractive indices can be provided.

【0036】[0036]

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例によって限定されるもの
ではない。 実施例1 (有機ジルコニウム化合物溶液の調製)有機ジルコニウ
ム化合物溶液として、トリブトキシアセチルアセトネー
トジルコニウムをブタノールに溶解して、1重量%の溶
液を調合した。 (フッ素を含まないポリイミド前駆体溶液の調製)フッ
素を含まないポリイミド前駆体溶液は、4,4’ージア
ミノジフェニルエーテル35.33g及び4,4’ージ
アミノジフェニルエーテルー3ーカルボンアミド4.7
7gをNーメチルー2ーピロリドン528.3gに溶解
した後に、3,3’,4,4’ーベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物31.69g及びピロメリット酸二
無水物21.44gを添加し、室温で6時間撹拌するこ
とにより得た。 (フッ素を含むポリイミド前駆体溶液の調製)フッ素を
含むポリイミド前駆体溶液は、2,2ービス(4?アミ
ノフェニル)ヘキサフルオロプロパン21.47gを
N,Nージメチルアセトアミド450gに溶解した後
に、2,2′ービス(3,4?ジカルボキシフェニルヘ
キサフルオロプロパン酸二無水物28.53gを添加
し、室温で20時間撹拌することにより得た。 (有機ジルコニウム化合物の被膜の形成)基板は、表面
に2μm厚のSiO2膜を形成した5インチのシリコン
ウエハを使用した。基板上に上記の有機ジルコニウム化
合物溶液を滴下しスピン塗布(3000rpm/30
秒)を行った後にホットプレート(200℃/5分)で
乾燥して有機ジルコニウム化合物の被膜(膜厚約200
Å)を形成した。 (フッ素を含まないポリイミド系樹脂被膜の形成)その
上に上記フッ素を含まないポリイミド前駆体溶液を滴下
しスピン塗布(2000rpm/30秒)を行った後に
オーブン(100℃/30分+200℃/30分+35
0℃/60分)で硬化してフッ素を含まないポリイミド
膜を形成した。 (フッ素を含むポリイミド系樹脂被膜の形成)次に,そ
の上に上記フッ素を含むポリイミド前駆体溶液を滴下し
スピン塗布(2000rpm/30秒)を行った後にオ
ーブン(100℃/30分+200℃/30分+350
℃/60分)で硬化してフッ素を含むポリイミド膜を形
成した。
EXAMPLES The present invention will now be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 (Preparation of an organic zirconium compound solution) As an organic zirconium compound solution, tributoxyacetylacetonate zirconium was dissolved in butanol to prepare a 1% by weight solution. (Preparation of Fluorine-Free Polyimide Precursor Solution) A fluorine-free polyimide precursor solution was prepared by preparing 35.33 g of 4,4'-diaminodiphenyl ether and 4.7 of 4,4'-diaminodiphenyl ether-3-carbonamide.
After dissolving 7 g in 528.3 g of N-methyl-2-pyrrolidone, 31.69 g of 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and 21.44 g of pyromellitic dianhydride were added, and the mixture was added at room temperature. Obtained by stirring for 6 hours. (Preparation of Polyimide Precursor Solution Containing Fluorine) A polyimide precursor solution containing fluorine was prepared by dissolving 21.47 g of 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane in 450 g of N, N-dimethylacetamide. 28.53 g of 2,2'-bis (3,4-dicarboxyphenylhexafluoropropanoic acid dianhydride was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 20 hours to obtain an organic zirconium compound. The silicon zirconium compound solution was dropped on the substrate and spin-coated (3000 rpm / 30 rpm).
Second) and dried on a hot plate (200 ° C./5 minutes) to form a film of an organic zirconium compound (film thickness of about 200
Å) formed. (Formation of a polyimide-based resin film containing no fluorine) The above-mentioned polyimide precursor solution containing no fluorine was dropped and spin-coated (2000 rpm / 30 seconds), and then oven (100 ° C./30 minutes + 200 ° C./30). Min + 35
(0 ° C./60 minutes) to form a fluorine-free polyimide film. (Formation of Fluorine-Containing Polyimide Resin Coating) Next, the above-mentioned fluorine-containing polyimide precursor solution was dropped thereon, spin-coated (2000 rpm / 30 seconds), and then oven (100 ° C./30 minutes + 200 ° C./200° C.) 30 minutes + 350
(° C./60 minutes) to form a polyimide film containing fluorine.

【0037】比較例1 比較例として、有機ジルコニウム化合物の被膜並びにフ
ッ素を含まないポリイミド系樹脂被膜を形成しないで,
基板上に直接フッ素を含むポリイミド被膜を同じ条件で
形成した試料を作製した(図9)。
Comparative Example 1 As a comparative example, an organic zirconium compound film and a fluorine-free polyimide resin film were not formed.
A sample in which a polyimide film containing fluorine was directly formed on a substrate under the same conditions was produced (FIG. 9).

【0038】比較例2 比較例として、有機ジルコニウム化合物の被膜を形成し
ないで、基板上にフッ素を含まないポリイミド系樹脂被
膜のみを形成し,次に,フッ素を含むポリイミド被膜を
同じ条件で形成した試料を作製した(図10)。
Comparative Example 2 As a comparative example, only a polyimide-based resin film containing no fluorine was formed on a substrate without forming a film of an organic zirconium compound, and then a polyimide film containing fluorine was formed under the same conditions. A sample was prepared (FIG. 10).

【0039】比較例3 比較例として,基板上に有機ジルコニウム化合物の被膜
のみを形成した後,フッ素を含まないポリイミド系樹脂
被膜を形成せずに,直接フッ素を含むポリイミド被膜を
同じ条件で形成した試料を作製した(図11)。
COMPARATIVE EXAMPLE 3 As a comparative example, after forming only a coating of an organic zirconium compound on a substrate, a polyimide coating containing fluorine was directly formed under the same conditions without forming a polyimide resin coating containing no fluorine. A sample was prepared (FIG. 11).

【0040】(接着性評価)接着性の試験は、JISK
5400の碁盤目試験法に準じて、ポリイミド膜をカッ
ターナイフにより1×1mmの正方形100個に切りそ
の部分にセロハンテープを密着させた後に引き剥がし、
テープ剥離後の接着残数により評価した。また、水分に
よる接着性の低下を調べるために、プレッシャークッカ
ー試験(121℃、2気圧)を行った。接着性評価結果
を図1に示す。実施例においては何れの比較例に比べて
も接着性が向上することが示される。
(Evaluation of Adhesion) The adhesion test was performed according to JISK.
According to the cross-cut test method of 5400, the polyimide film was cut into 100 1 × 1 mm squares with a cutter knife, and a cellophane tape was adhered to the portion, and then peeled off.
Evaluation was made based on the number of remaining adhesives after the tape was peeled off. In addition, a pressure cooker test (121 ° C., 2 atm) was performed to examine a decrease in adhesion due to moisture. FIG. 1 shows the results of the evaluation of the adhesiveness. The examples show that the adhesiveness is improved as compared with any of the comparative examples.

【0041】第2図に本発明の他の実施例に係る埋込型
のポリマー光導波路を示す。本発明の光導波路は、基板
1とクラッド層2の間に有機ジルコニウム化合物の被膜
4とフッ素を含まない樹脂層5を有している。フッ素を
含まない樹脂層5には、基板と密着性の高い任意のポリ
マーを使用することができる。例えばクラッド層2にフ
ッ素化ポリイミド樹脂を用いた場合には、フッ素を含ま
ない樹脂層5にはフッ素を含まないポリイミドを用いれ
ば基板との密着性が向上する。分子構造中にSi原子を
有してシリコンやSiO2と強い自己接着性を持つポリ
イミドシリコーン樹脂をフッ素を含まない樹脂層5に用
いても良い。また、フッ素を含有しないアクリル系樹脂
や、フッ素を含有していないポリカーボネート系樹脂を
フッ素を含まない樹脂層5に用いても良い。
FIG. 2 shows a buried polymer optical waveguide according to another embodiment of the present invention. The optical waveguide of the present invention has an organic zirconium compound coating 4 and a fluorine-free resin layer 5 between a substrate 1 and a cladding layer 2. For the resin layer 5 not containing fluorine, any polymer having high adhesion to the substrate can be used. For example, when a fluorinated polyimide resin is used for the cladding layer 2, the adhesion to the substrate is improved by using a fluorine-free polyimide for the resin layer 5 containing no fluorine. A polyimide silicone resin having Si atoms in the molecular structure and having a strong self-adhesive property to silicon or SiO 2 may be used for the fluorine-free resin layer 5. Alternatively, an acrylic resin containing no fluorine or a polycarbonate resin containing no fluorine may be used for the resin layer 5 containing no fluorine.

【0042】次に、第2図を用いて本発明の具体的な実
施方法について説明する。まず、シリコン基板1上に有
機ジルコニウム化合物の被膜4を形成し、次に、ポリイ
ミドシリコーン樹脂の前駆体であるポリアミド酸のN,
N−ジメチルアセトアミド溶液をスピンナーにより塗布
・ベークしてポリイミドシリコーン樹脂からなるフッ素
を含まない樹脂層5(厚さ1.5μm)を形成する。ポ
リイミドシリコーン樹脂として、ここでは構造式
Next, a specific embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. First, a coating 4 of an organic zirconium compound is formed on a silicon substrate 1, and then N and N of polyamic acid, which is a precursor of a polyimide silicone resin, are formed.
An N-dimethylacetamide solution is applied and baked with a spinner to form a fluorine-free resin layer 5 (1.5 μm thick) made of a polyimide silicone resin. As polyimide silicone resin, here the structural formula

【0043】[0043]

【化1】 で示されるベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
(BTDA)とメチレンジアニリン(MDA)及びビス
−γ−アミノプロピルテトラメチルジシロキサン(GA
PD)との重合生成物を使用した。更に2種類のフッ素
化ポリイミド樹脂A,Bの前駆体でポリアミド酸のN,
N−ジメチルアセトアミド溶液をそれぞれ塗布・ベーク
して、ポリイミドAからなるクラッド層2(厚さ10μ
m)とコア層3(厚さ7μm)を形成する。フッ素化ポ
リイミドAは構造式
Embedded image Benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA), methylene dianiline (MDA) and bis-γ-aminopropyltetramethyldisiloxane (GA)
Polymerized product with PD) was used. Further, two kinds of precursors of fluorinated polyimide resins A and B are used to form N,
An N-dimethylacetamide solution was applied and baked to form a cladding layer 2 made of polyimide A (with a thickness of 10 μm).
m) and a core layer 3 (7 μm in thickness). Fluorinated polyimide A has the structural formula

【0044】[0044]

【化2】 で表される2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−
4,4’−ジアミノビフェニル(TFDB)と2,2’
−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン二無水物(6FDA)との重合生成物であ
る。また、フッ素化ポリイミド樹脂Bは構造式
Embedded image 2,2'-bis (trifluoromethyl)-represented by
4,4'-diaminobiphenyl (TFDB) and 2,2 '
-A polymerization product with bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride (6FDA). The fluorinated polyimide resin B has the structural formula

【0045】[0045]

【化3】 で表されるTFDBと6FDA及びピロメリット酸二無
水物(PMDA)との重合生成物であり、コア層3の屈
折率がクラッド層2の屈折率より約0.3%大きくなる
ように6FDAとPMDAの割合(すなわちmとnの割
合)を4:1とした。次に、酸素の反応性イオンエッチ
ングによってコア層3の一部を除去して導波路パターン
を形成し、フッ素化ポリイミド樹脂Aの前駆体であるポ
リアミド酸のN,N−ジメチルアセトアミド溶液を塗布
・ベークして更にクラッド層(厚さ10μm)を設け
た。作製した光導波路の伝搬損失は、波長1.3μmに
おいて、0.3dB/cmであった。これは、同じフッ
素化ポリイミド樹脂を用いて作製した従来の光導波路
(図9)と同等の小さな値である。作製した光導波路の
プレッシャークッカー試験を行ったところ、従来の光導
波路(第9図)、フッ素を含まない樹脂層のみを有する
光導波路(第10図)、有機ジルコニウム化合物の被覆
のみを有する光導波路(第11図)では、クラッド層2
と基板1との間で剥離を生じたのに対して、本発明の有
機ジルコニウム化合物の被膜とフッ素を含まない樹脂層
とを有する素子では剥離が見られず、密着性の向上及び
長期信頼性の向上が確認できた。上記説明は、特に埋込
型の光導波路をエッチングを用いて作製する場合につい
て説明したが、本発明は上部クラッド層の無いリッジ型
の光導波路についても第3図に示すように同様に実施す
ることができる。また、コア層に感光性のポリマーを用
いてその一部に光を照射して屈折率を小さくすることを
用いて作製する埋込型の光導波路についても図4に示す
ように同様に実施できる。また、コア層に前記とは異な
る感光性のポリマーを用いてその一部に光を照射して屈
折率を大きくすることを用いて作製する埋込型の光導波
路についても第5図に示すように同様に実施できる。更
に、基板及び基板の表面の材質はSiO2、石英、Si
x等の他のいかなる無機材料であっても同様の効果が
期待できる。
Embedded image Is a polymerization product of TFDB, 6FDA and pyromellitic dianhydride (PMDA) represented by the following formula: 6FDA and 6FDA such that the refractive index of the core layer 3 is about 0.3% larger than that of the cladding layer 2. The ratio of PMDA (that is, the ratio of m and n) was 4: 1. Next, a part of the core layer 3 is removed by reactive ion etching of oxygen to form a waveguide pattern, and an N, N-dimethylacetamide solution of polyamic acid, which is a precursor of the fluorinated polyimide resin A, is applied. Baking was performed to further provide a clad layer (thickness: 10 μm). The propagation loss of the manufactured optical waveguide was 0.3 dB / cm at a wavelength of 1.3 μm. This is a small value equivalent to the conventional optical waveguide (FIG. 9) manufactured using the same fluorinated polyimide resin. When a pressure cooker test was performed on the manufactured optical waveguide, a conventional optical waveguide (FIG. 9), an optical waveguide having only a resin layer containing no fluorine (FIG. 10), and an optical waveguide having only an organic zirconium compound coating were used. (FIG. 11) shows the clad layer 2
Although peeling occurred between the substrate and the substrate 1, no peeling was observed in the element having the organic zirconium compound coating film of the present invention and the fluorine-free resin layer, and the adhesion was improved and the long-term reliability was improved. Improvement was confirmed. In the above description, the case where a buried optical waveguide is manufactured by etching is particularly described. However, the present invention is similarly applied to a ridge optical waveguide having no upper cladding layer as shown in FIG. be able to. Also, a buried optical waveguide manufactured by using a photosensitive polymer for the core layer and irradiating a part thereof with light to reduce the refractive index can be similarly implemented as shown in FIG. . FIG. 5 also shows a buried optical waveguide manufactured by using a photosensitive polymer different from the above for the core layer and irradiating a part thereof with light to increase the refractive index. Can be similarly implemented. Further, the material of the substrate and the surface of the substrate is SiO 2 , quartz, Si
It is any other inorganic material such as N x the same effect can be expected.

【0046】本発明の実施例に係るポリマー光集積回路
の一例である光スイッチを図6(a)(b)に示す。本
1×4光スイッチは、導波路上に薄膜ヒータ電極10を
有し、該ヒータにより導波路を加熱して屈折率を変化さ
せることによって光路の切り替えを行う。本光スイッチ
は以下のプロセスで作製した。まず、前実施例と同様に
シリコン基板1上に有機ジルコニウム化合物の被膜4を
形成し、次に、ポリイミドシリコーン樹脂前駆体のポリ
アミド酸のN,N−ジメチルアセトアミド溶液、及び、
フッ素化ポリイミド樹脂A,Bの前駆体ポリアミド酸の
N,N−ジメチルアセトアミド溶液をそれぞれ順次塗布
・ベークすることによりポリイミドシリコーン樹脂から
なるフッ素を含まない樹脂層5(厚さ1.5μm)、フ
ッ素化ポリイミド樹脂Aからなる下部クラッド層2(厚
さ10μm)、フッ素化ポリイミド樹脂Bからなるコア
層3(厚さ7μm)を積層する。次に酸素の反応性イオ
ンエッチングを用いてコア層の一部を除去して、導波路
パターン(分岐構造を含む)を形成する。次に、フッ素
化ポリイミド樹脂Aの前駆体であるアミド酸溶液を塗布
・ベークしてフッ素化ポリイミド樹脂Aからなる上部ク
ラッド層2’を形成し、Cr薄膜ヒータ10を設ける。
最後に素子端面に光を入出力するための光ファイバ11
(計5本)を接着した。作製した光スイッチの挿入損失
は約4dBであり、各ヒータに約40mWの電力を与え
ることにより、消光比20dB以上でスイッチングし
た。また、ヒータ電流のON・OFFを1万回以上繰り
返しても、ポリマーが基板から剥がれることは無かっ
た。これに対して、有機ジルコニウム化合物の被膜及び
フッ素を含まない樹脂層を有しない従来の素子ではヒー
タ電流のON・OFFにより、ポリマー導波路が基板か
ら剥離した。作製した1×4光スイッチを組み合わせて
4×4光スイッチ(図7)を構成した。
FIGS. 6A and 6B show an optical switch as an example of a polymer optical integrated circuit according to an embodiment of the present invention. This 1 × 4 optical switch has a thin film heater electrode 10 on a waveguide, and switches the optical path by heating the waveguide by the heater to change the refractive index. This optical switch was manufactured by the following process. First, a coating film 4 of an organic zirconium compound is formed on a silicon substrate 1 in the same manner as in the previous embodiment, and then a N, N-dimethylacetamide solution of a polyamic acid as a polyimide silicone resin precursor, and
A fluorine-free resin layer 5 (1.5 μm thick) made of a polyimide silicone resin is formed by sequentially applying and baking N, N-dimethylacetamide solutions of the precursor polyamic acid of the fluorinated polyimide resins A and B, respectively. A lower clad layer 2 (thickness 10 μm) made of fluorinated polyimide resin A and a core layer 3 (thickness 7 μm) made of fluorinated polyimide resin B are laminated. Next, a part of the core layer is removed by using oxygen reactive ion etching to form a waveguide pattern (including a branch structure). Next, an amide acid solution, which is a precursor of the fluorinated polyimide resin A, is applied and baked to form an upper clad layer 2 'made of the fluorinated polyimide resin A, and a Cr thin film heater 10 is provided.
Finally, an optical fiber 11 for inputting and outputting light to and from the element end face
(Total of 5) were adhered. The insertion loss of the manufactured optical switch was about 4 dB, and switching was performed at an extinction ratio of 20 dB or more by supplying about 40 mW of power to each heater. Further, even when the heater current was repeatedly turned ON / OFF 10,000 times or more, the polymer did not peel off from the substrate. On the other hand, in a conventional device having no organic zirconium compound coating and no fluorine-containing resin layer, the polymer waveguide was separated from the substrate by turning on / off the heater current. A 4 × 4 optical switch (FIG. 7) was configured by combining the produced 1 × 4 optical switches.

【0047】この4×4の光スイッチを各局に設置して
光通信装置を構成した(図8)。本光通信装置は、通
常、局Aと局B、局Bと局C、局Cと局Aがそれぞれ再
短距離の光ファイバ1本を用いて通信を行っている。し
かし、例えば局Aと局Bの間で光ファイバが断線した場
合には、各局の光スイッチを切り替えることにより局A
と局Bの間の通信を、局Aと局Cの間のファイバ、局C
の光スイッチ、局Cと局Bの間のファイバを介して行う
ことができる。本来光通信装置は長期に渡って正常に動
作した。
An optical communication device was constructed by installing the 4 × 4 optical switches in each station (FIG. 8). In the present optical communication apparatus, the stations A and B, the stations B and C, and the stations C and A usually communicate with each other using one short-distance optical fiber. However, for example, when the optical fiber is disconnected between the stations A and B, the station A is switched by switching the optical switch of each station.
Communication between station A and station B, fiber between station A and station C, station C
, An optical switch between stations C and B. Originally, the optical communication device operated normally for a long time.

【0048】以上の実施例により、基板との密着性が高
く信頼性が高いポリマー光導波路、光集積回路、光モジ
ュールを提供できる。また、それらを用いて光通信装置
を構成することにより信頼性の高い光通信装置を提供で
きる。本発明の実施例では、基板との密着性が高く信頼
性が高いポリマー光導波路、光集積回路、光モジュール
を提供できる。また、それらを用いて光通信装置を構成
することにより信頼性の高い光通信装置を提供できるの
で、産業上の利用価値はきわめて大きい。
According to the above embodiments, it is possible to provide a polymer optical waveguide, an optical integrated circuit, and an optical module having high adhesion to a substrate and high reliability. In addition, a highly reliable optical communication device can be provided by forming an optical communication device using them. According to the embodiment of the present invention, it is possible to provide a polymer optical waveguide, an optical integrated circuit, and an optical module having high adhesion to a substrate and high reliability. Further, since a highly reliable optical communication device can be provided by configuring the optical communication device using them, the industrial use value is extremely large.

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明によれば、基板に対するフッ素を
含むポリイミド膜の接着性を上げ、光学素子の信頼性を
向上させることができ、基板との密着性が高く信頼性が
高いポリマー光導波路、光集積回路、光モジュールを提
供できる。それらを用いて光通信装置を構成することに
より信頼性の高い光通信装置を提供することができる。
According to the present invention, the adhesion of a polyimide film containing fluorine to a substrate can be improved, the reliability of an optical element can be improved, and a polymer optical waveguide having high adhesion to a substrate and high reliability can be obtained. , An optical integrated circuit, and an optical module. By configuring an optical communication device using them, a highly reliable optical communication device can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例および比較例の接着性試験の結
果を示すグラフ。
FIG. 1 is a graph showing the results of an adhesion test of Examples and Comparative Examples of the present invention.

【図2】本発明の他の実施例に係る埋込型のポリマー光
導波路の斜視図。
FIG. 2 is a perspective view of a buried polymer optical waveguide according to another embodiment of the present invention.

【図3】上部クラッド層の無いリッジ型の光導波路の斜
視図。
FIG. 3 is a perspective view of a ridge-type optical waveguide without an upper cladding layer.

【図4】埋込型の光導波路の斜視図。FIG. 4 is a perspective view of a buried optical waveguide.

【図5】他の埋込型の光導波路の斜視図。FIG. 5 is a perspective view of another embedded optical waveguide.

【図6】ポリマー光集積回路の一例である光スイッチの
平面図及びAーA’断面図。
6A and 6B are a plan view and an AA ′ cross-sectional view of an optical switch which is an example of a polymer optical integrated circuit.

【図7】光スイッチの構成を説明する平面図。FIG. 7 is a plan view illustrating a configuration of an optical switch.

【図8】光通信装置の構成を説明する平面図。FIG. 8 is a plan view illustrating a configuration of an optical communication device.

【図9】従来の光導波路の斜視図。FIG. 9 is a perspective view of a conventional optical waveguide.

【図10】フッ素を含まない樹脂層のみを有する光導波
路の斜視図。
FIG. 10 is a perspective view of an optical waveguide having only a resin layer containing no fluorine.

【図11】有機ジルコニウム化合物の被覆のみを有する
光導波路の斜視図。
FIG. 11 is a perspective view of an optical waveguide having only a coating of an organic zirconium compound.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 亨 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 (72)発明者 本田 裕 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 (72)発明者 鯉渕 滋 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎事業所内 (72)発明者 井戸 立身 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 辻 伸二 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 長良 高光 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 日立超LSIエンジニアリング株式会社内 Fターム(参考) 2H047 KA04 KA05 KA12 LA00 LA12 PA02 PA21 PA24 PA28 QA05 QA07 RA00 TA00 2K002 AA02 AB04 BA13 CA06 CA30 DA08 EA04 GA10 HA11 2K009 BB01 CC32 DD01 EE00  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Tohru Takahashi 48 Wadai, Tsukuba, Ibaraki Prefecture Within Hitachi Chemical Co., Ltd. In-house (72) Inventor Shigeru Koibuchi 4-3-1-1, Higashicho, Hitachi City, Ibaraki Pref.Hitachi Chemical Industry Co., Ltd. In-house (72) Inventor Shinji Tsuji 1-280 Higashi Koikekubo, Kokubunji-shi, Tokyo Inside the Hitachi, Ltd.Central Research Laboratory Co., Ltd. Reference) 2H047 KA04 KA05 KA12 LA00 LA12 PA02 PA21 PA24 PA28 QA05 QA07 RA00 TA 00 2K002 AA02 AB04 BA13 CA06 CA30 DA08 EA04 GA10 HA11 2K009 BB01 CC32 DD01 EE00

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に有機ジルコニウム化合物の被膜、
フッ素を含まない樹脂の被膜及びフッ素を含むポリイミ
ド系樹脂の被膜が順次形成されていることを特徴とする
光学素子。
An organic zirconium compound coating on a substrate,
An optical element, wherein a film of a resin containing no fluorine and a film of a polyimide-based resin containing fluorine are sequentially formed.
【請求項2】基板表面上に有機ジルコニウム化合物の被
膜を形成した上に、フッ素を含まない樹脂被膜を形成
し、フッ素を含むポリイミド系樹脂被膜を形成する工程
を備えることを特徴とする光学素子の製造法。
2. An optical element comprising the steps of: forming a fluorine-containing resin coating on a surface of an organic zirconium compound on a substrate surface; and forming a fluorine-containing polyimide resin coating. Manufacturing method.
【請求項3】フッ素を含まない樹脂の膜厚が10μm以
下である請求項1乃至2のいずれか一に記載の光学素子
または光学素子の製造法。
3. The optical element or the method for producing an optical element according to claim 1, wherein the film thickness of the resin containing no fluorine is 10 μm or less.
【請求項4】フッ素を含まない樹脂の膜厚が1.0μm
以下である請求項1乃至2のいずれか一に記載の光学素
子または光学素子の製造法。
4. The film thickness of the resin containing no fluorine is 1.0 μm.
The optical element or the method for manufacturing an optical element according to claim 1, wherein:
【請求項5】基板上に有機ジルコニウム化合物層、フッ
素を含まない樹脂層及びフッ素を含むポリイミド系樹脂
層が順次形成されて成るポリマー光導波路を有し、該ポ
リマー光導波路の一端若しくは両端にレーザ光源、受光
素子または光フアイバのいずれかを配置していることを
特徴とする光モジュール。
5. A polymer optical waveguide in which an organic zirconium compound layer, a fluorine-free resin layer and a fluorine-containing polyimide resin layer are sequentially formed on a substrate, and a laser is provided at one or both ends of the polymer optical waveguide. An optical module comprising any one of a light source, a light receiving element, and an optical fiber.
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