JP2000112132A

JP2000112132A - 光重合性平版印刷版

Info

Publication number: JP2000112132A
Application number: JP29915398A
Authority: JP
Inventors: Shigeo Koizumi; 滋夫小泉; Seiji Uno; 誠次宇野; Mitsuhiro Imaizumi; 充弘今泉
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1998-10-06
Filing date: 1998-10-06
Publication date: 2000-04-21

Abstract

(57)【要約】【課題】耐刷性に優れ、非画像部の汚れが少ない光重
合性平版印刷版を提供する。【解決手段】陽極酸化被膜を設けた後、珪酸塩処理を
施したアルミニウムまたはアルミニウム合金で形成され
た基板上に、酸基を有する構成成分およびオニウム基を
有する構成成分を用いて得られた高分子化合物を含む中
間層を有し、この中間層上に、活性光線により重合可能
な少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する化合
物と、線状有機高分子重合体と、光重合開始剤とを含有
する光重合性感光層を有する光重合性平版印刷版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光重合性平版印刷版
に関するものである。更に詳しくは、アルゴンレーザー
（４８８、５１４．５nm）、半導体レーザーの第２高調
波（ＳＨＧ−ＬＤ、３５０〜６００nm）、ＳＨＧ−ＹＡ
Ｇレーザー（５３２nm）等によりフィルム原稿を用いず
に直接製版可能なネガ型平版印刷版に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】往来より、ネガ型平版印刷版は広く知ら
れており種々の感光層がある。ジアゾ樹脂含有型、光重
合型、光架橋型等がある。このような平版印刷版を作成
するには、これらの平版印刷版上に透明のネガフィルム
原稿をのせ、紫外線を用いて画像露光するのが一般的で
あり作業に手間暇がかかっていた。

【０００３】そこで感光層にある種の高感度な光重合層
を用いることで、細くビームを絞ったレーザー光をその
版面上に走査させ、文字原稿、画像原稿などを直接版面
上に形成させ、フィルム原稿を用いず直接製版可能とな
る。

【０００４】しかしながら、従来こうした高感度光重合
性の平版印刷版は、印刷版として使用する時の条件にも
よるが、光重合性感光層と親水性支持体の密着力を十分
得ることが難しく、大部数の印刷を行う際に、画像の欠
落が生じ、耐刷不足が生じ易かった。

【０００５】親水性支持体と光重合性感光層間の接着性
を高める技術として、例えば特開平４−１６１９５７号
には特定構造のシランカップリング剤を感光層中に含有
させることが開示されているが、この方法では感光性平
版印刷材料を長期保存すると、保存中に、シランカップ
リング剤の反応により、非画像部の現像液溶解性が低下
し、印刷時に非画像部が著しく汚れてしまう。特開平７
−１５９９８３号にはラジカル付加重合可能な官能基を
有するシリコーン化合物を含む層を親水性支持体上に設
け、さらにその上に光重合性感光層を設ける技術が開示
されている。このようなシリコーン化合物層による感光
層と親水性支持体との接着は、画像露光により感光層中
に生じるラジカル重合反応により、ラジカル付加重合可
能な官能基を有するシリコーン化合物との間に共有結合
を生じるために向上すると考えられ、これにより画像部
感光層は親水性支持体に強く接着する。一方非画像部で
はこのようなラジカル反応が起こらないため、接着力は
増大しない。しかし、上記のようなラジカル反応性基は
有機基であるため、官能基を有するシリコーン化合物
が、非画像部親水性表面上に多量に残留するとインキ受
容性が高まり、非画像部に印刷汚れを生じる。

【０００６】従って親水性支持体とラジカル反応性基を
有するシリコーン化合物との間の接着力はあまり大きく
することはできない。

【０００７】また、このような平版印刷版において、印
刷時汚れが生じると印刷機上で版面をプレートクリーナ
ーで拭き、インキを除去するが、親水性支持体表面とシ
リコーン化合物との間の接着力はそれほど大きくないた
め、プレートクリーナーで拭くことにより、ハイライト
の小網点や細線の画像が徐々に飛ぶという問題があっ
た。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、強固な感光層と支持体の密着力によって、プレート
クリーナーで版面のインキを除去しても、また多量の印
刷を行ってもハイライトが飛ばず、シャドー再現性にも
優れ、耐刷性のあるレーザー書き込みが可能であり、さ
らに経時保存後においても支持体と感光層の密着力が変
化しにくく、印刷汚れが生じない光重合性平版印刷版を
提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、下記光重合性平版印刷版により上記の目的を解決
するに至った。（１）陽極酸化被膜を設けた後、ケイ酸塩（珪酸塩）
処理を施したアルミニウムまたはアルミニウム合金で形
成された基板上に、酸基を有する構成成分およびオニウ
ム基を有する構成成分を用いて得られた高分子化合物を
含む中間層を有し、この中間層上に、活性光線により重
合可能な少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有す
る化合物と、線状有機高分子重合体と、光重合開始剤と
を含有する光重合性感光層を有する光重合性平版印刷
版。

【００１０】従来、珪酸塩処理等により親水化処理を施
したアルミニウム支持体上に感光層を設けると密着性が
低く、耐刷性能が著しく低かったが、本発明において
は、酸基を有する構成成分とオニウム基を有する構成成
分とを重合してなる高分子化合物を含む中間層を設ける
ことにより、密着力が向上し、耐刷性能が著しく向上し
た。また、このような密着力は経時劣化しにくく、印刷
汚れが生じにくい。

【００１１】

【発明の実施の形憑〕以下、本発明を詳細
に説明する。本発明の光重合性平版印刷版は、所定の親
水化処理が施されたアルミニウム等の支持体と、光重合
性感光層との間に中間層が設けられたものである。【００１２】［（Ａ）中間層］本発明の中間層形成に用
いられる高分子化合物について詳しく説明する。本発明
の高分子化合物は、少なくとも酸基を有する構成成分と
少なくともオニウム基を有する構成成分とを重合してな
る高分子化合物である。ここで、酸基として好ましいも
のは酸解離定数（ｐＫａ）が７以下の酸基が好ましく、
より好ましくは−ＣＯＯＨ，−ＳＯ₃Ｈ，−ＯＳＯ₃Ｈ，
−ＰＯ₃Ｈ₂，−ＯＰＯ₃Ｈ₂，−ＣＯＮＨＳＯ₂−，−Ｓ
Ｏ₂ＮＨＳＯ₂−であり、特に好ましくは−ＣＯＯＨであ
る。また、オニウム基として好ましいものは、周期律表
第５Ｂ（１５族）あるいは第６Ｂ族（１６族）の原子か
らなるオニウム基であり、より好ましくは窒素原子、リ
ン原子あるいはイオウ原子からなるオニウム基であり、
特に好ましくは窒素原子からなるオニウム基である。

【００１３】本発明の高分子化合物の中で、好ましく
は、この高分子化合物の主鎖横造がアクリル樹脂やメタ
クリル樹脂やポリスチレンのようなビニル系ポリマーあ
るいはウレタン樹脂あるいはポリエステルあるいはポリ
アミドであることを特徴とするポリマーである。

【００１４】より好ましくは、この高分子化合物の主鎖
構造がアクリル樹脂やメタクリル樹脂やポリスチレンの
ようなビニル系ポリマーであることを特徴とするポリマ
ーである。

【００１５】特に好ましくは、酸基を有する構成成分が
下記の式（１）あるいは式（２）で表される重合可能な
化合物であり、オニウム基を有する構成成分が下記の式
（３）、式（４）あるいは式（５）で表されることを特
徴とするポリマーである。

【００１６】

【化１】

【００１７】式中、Ａは２価の連結基を表す。Ｂは２価
の芳香族基あるいは置換芳香族基を表す。ＤおよびＥは
それぞれ独立して２価の連結基を表す。Ｇは３価の連結
基を表す。ＸおよびＸ′はそれぞれ独立してｐＫａが７
以下の酸基あるいはそのアルカリ金属塩あるいはアンモ
ニウム塩を表す。Ｒ₁は水素原子、アルキル基またはハ
ロゲン原子を表す。ａ，ｂ，ｄ，ｅはそれぞれ独立して
０または１を表す。ｔは１〜３の整数である。

【００１８】酸基を有する構成成分の中でより好ましく
は、Ａは−ＣＯＯ−または−ＣＯＮＨ−を表し、Ｂはフ
ェニレン基あるいは置換フェニレン基を表し、その置換
基は水酸基、ハロゲン原子あるいはアルキル基である。
ＤおよびＥはそれぞれ独立してアルキレン基あるいは分
子式がＣ_nＨ_2nＯ、Ｃ_nＨ_2nＳあるいはＣ_nＨ_2n+1Ｎで表
される２価の連結基を表す。Ｇは分子式がＣ_nＨ_2n-1、
Ｃ_nＨ_2n-1Ｏ、Ｃ_nＨ_2n- ₁ＳあるいはＣ_nＨ_2nＮで表され
る３価の連結基を表す。但し、ここでｎは１〜１２の整
数を表す。ＸおよびＸ′はそれぞれ独立してカルボン
酸、スルホン酸、ホスホン酸、硫酸モノエステルあるい
は燐酸モノエステルを表す。Ｒ₁は水素原子またはアル
キル基を表す。ａ，ｂ，ｄ，ｅはそれぞれ独立して０ま
たは１を表すが、ａとｂは同時に０ではない。

【００１９】酸基を有する構成成分の中で特に好ましく
は式（１）で示す化合物であり、Ｂはフェニレン基ある
いは置換フェニレン基を表し、その置換基は水酸基ある
いは炭素数１〜３のアルキル基である。ＤおよびＥはそ
れぞれ独立して炭素数１〜２のアルキレン基あるいは酸
素原子で連結した炭素数１〜２のアルキレン基を表す。
Ｒ₁は水素原子あるいはメチル基を表す。Ｘはカルボン
酸基を表す。ａは０であり、ｂは１である。

【００２０】酸基を有する構成成分の具体例を以下に示
す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるものでは
ない。

【００２１】（酸基を有する構成成分の具体例）アクリ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イ
タコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸

【００２２】

【化２】

【００２３】

【化３】

【００２４】

【化４】

【００２５】次に、オニウム基を有する構成成分として
用いられる式（３）、（４）、（５）で表される重合可
能な化合物について説明する。

【００２６】

【化５】

【００２７】式中、Ｊは２価の連結基を表す。Ｋは芳香
族基あるいは置換芳香族基を表す。Ｍはそれぞれ独立し
て２価の連結基を表す。Ｙ₁は周期律表第５Ｂ族（１５
族）の原子を表し、Ｙ₂は周期律表第６Ｂ族（１６族）
の原子群を表す。Ｚ^-は対アニオンを表す。Ｒ₂は水素原
子、アルキル基またはハロゲン原子を表す。Ｒ₃，Ｒ₄，
Ｒ₅，Ｒ₇はそれぞれ独立して水素原子あるいは場合によ
っては置換基が結合してもよいアルキル基、芳香族基、
アラルキル基を表し、Ｒ₆はアルキリジン基あるいは置
換アルキリジンを表すが、Ｒ₃とＲ₄あるいはＲ₆とＲ₇は
それぞれ結合して環を形成してもよい。ｊ，ｋ，ｍはそ
れぞれ独立して０または１を表す。ｕは１〜３の整数を
表す。

【００２８】オニウム基を有する構成成分の中でより好
ましくは、Ｊは−ＣＯＯ−または−ＣＯＮＨ−を表し、
Ｋはフェニレン基あるいは置換フェニレン基を表し、そ
の置換基は水酸基、ハロゲン原子あるいはアルキル基で
ある。Ｍはアルキレン基あるいは分子式がＣ_nＨ_2nＯ、
Ｃ_nＨ_2nＳあるいはＣ_nＨ２_n+1Ｎで表される２価の連結
基を表す。但し、ここでｎは１〜１２の整数を表す。Ｙ
₁は窒素原子またはリン原子を表し、Ｙ₂はイオウ原子を
表す。Ｚ^-はハロゲンイオン、ＰＦ₆ ^-、ＢＦ₄ ^-あるいは
Ｒ₈ＳＯ₃ ^-（ここでＲ₈はアルキル基、アリール基等を表
す。）Ｒ₂は水素原子またはアルキル基を表す。Ｒ₃，Ｒ
₄，Ｒ₅，Ｒ₇はそれぞれ独立して水素原子あるいは場合
によっては置換基が結合してもよい炭素数１〜１０のア
ルキル基、芳香族基、アラルキル基を表し、Ｒ₆は炭素
数１〜１０のアルキリジン基あるいは置換アルキリジン
を表すが、Ｒ₃とＲ₄あるいはＲ₆とＲ₇はそれぞれ結合し
て環を形成してもよい。ｊ，ｋ，ｍはそれぞれ独立して
０または１を表すが、ｊとｋは同時に０ではない。オニ
ウム基を有する構成成分の中で特に好ましくは、Ｋはフ
ェニレン基あるいは置換フェニレン基を表し、その置換
基は水酸基あるいは炭素数１〜３のアルキル基である。
Ｍは炭素数１〜２のアルキレン基あるいは酸素原子で連
結した炭素数１〜２のアルキレン基を表す。Ｚ^-は塩素
イオンあるいはＲ₈ＳＯ₃ ^-を表す。Ｒ₂は水素原子あるい
はメチル基を表す。ｊは０であり、ｋは１である。

【００２９】オニウム基を有する構成成分の具体例を以
下に示す。ただし、本発明はこの具体例に限定されるも
のではない。

【００３０】

【化６】

【００３１】

【化７】

【００３２】なお、ここで使用する高分子化合物には酸
基を有する構成成分を２０モル％以上、好ましくは４０
モル％以上含み、オニウム基を有する構成成分を１０モ
ル％以上８０モル％以下、好ましくは１５モル％以上７
０モル％以下含むことが望ましい。酸基を有する構成成
分が２０モル％以上含まれると、アルカリ現像時の溶解
除去が一層促進され、オニウム基を有する構成成分が１
０モル％以上含まれると酸基との相乗効果により密着性
が一層向上するが、８０モル％をこえて含まれると非画
像部に汚れが発生しやすくなる。

【００３３】また、酸基を有する構成成分は１種類ある
いは２種類以上組み合わせても良く、また、オニウム基
を有する構成成分も１種類あるいは２種類以上組み合わ
せても良い。更に、当該発明に係る高分子化合物は、構
成成分あるいは組成比あるいは分子量の異なるものを２
種類以上混合して用いてもよい。

【００３４】次に、本発明に用いられる高分子化合物の
代表的な例を以下に示す。なお、ポリマー構造の組成比
はモル百分率を表す。

【００３５】

【化８】

【００３６】

【化９】

【００３７】

【化１０】

【００３８】

【化１１】

【００３９】本発明に係る高分子化合物は、一般には、
ラジカル連鎖重合法を用いて製造することができる（"T
extbook of Polymer Science" 3rd ed.,(1984)F.W.Bill
meyer,A Wiley-Interscience Publication参照）。

【００４０】本発明に係る高分子化合物の分子量は広範
囲であってもよいが、光散乱法を用いて測定した時、重
量平均分子量（Ｍｗ）が500〜2,000,000であることが好
ましく、また2,000〜600,000の範囲であることが更に好
ましい。また、この高分子化合物中に含まれる未反応モ
ノマー量は広範囲であってもよいが、２０wt%以下であ
ることが好ましく、また１０wt%以下であることが更に
好ましい。

【００４１】次に、本発明に係る高分子化合物の合成例
を示す。〔合成例〕ｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモ
ニウムクロリドとの共重合体（No.１）の合成ｐ−ビニル安息香酸［北興化学工業（株）製］１４６．
９ｇ（０．９９mol）、ビニルベンジルトリメチルアン
モニウムクロリド４４．２ｇ（０．２１mol）および２
−メトキシエタノール４４６ｇを１Ｌ（リットル）の３
口フラスコに取り、窒素気流下撹拌しながら、加熱し７
５℃に保った。次に２，２−アゾビス（イソ酪酸）ジメ
チル２．７６ｇ（１２mmol）を加え、撹拌を続けた。２
時間後、２，２−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル２．７
６ｇ（１２mmol）を追加した。更に、２時間後、２，２
−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル２．７６ｇ（１２mmo
l）を追加した。２時間撹拌した後、室温まで放冷し
た。この反応液を撹拌下１２Ｌの酢酸エチル中に注い
だ。析出する固体を濾取し、乾燥した。その収量は１８
９．５ｇであった。得られた固体は光散乱法で分子量測
定を行った結果、重量平均分子量（Ｍｗ）は３．２万で
あった。

【００４２】本発明に係る他の高分子化合物も同様の方
法で合成される。

【００４３】本発明に係る高分子化合物の中間層は、後
述する親水化処理を施したアルミニウム板上に種々の方
法により塗布して設けられる。

【００４４】この層は次のような方法で設けることがで
きる。

【００４５】メタノール、エタノール、メチルエチルケ
トンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤あるいは
これら有機溶剤と水との混合溶剤に本発明に係る高分子
化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾
燥して設ける方法と、メタノール、エタノール、メチル
エチルケトンなどの有機溶剤あるいはこれら有機溶剤と
水との混合溶剤もしくはそれらの混合溶剤に本発明の高
分子化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬
して高分子化合物を吸着させ、その後、水などによって
洗浄、乾燥して有機中間層を設ける方法である。前者の
方法では、上記高分子化合物の０．００５〜１０重量％
の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バー
コーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布
などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法で
は、溶液の濃度は０．０１〜２０重量％、好ましくは
０．０５〜５重量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、
好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜
２０分、好ましくは２秒〜１分である。

【００４６】上記の溶液は、アンモニア、トリエチルア
ミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン
酸、硫酸、硝酸などの無機酸、ニトロベンゼンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸などの有機スルホン酸、フェ
ニルスルホン酸などの有機ホスホン酸、安息香酸、クマ
ル酸、リンゴ酸などの有機カルボン酸など種々の有機酸
性物質、ナフタレンスルホニルクロライド、ベンゼンス
ルホニルクロライドなどの有機クロライド等によりｐＨ
を調整し、ｐＨ＝０〜１２、より好ましくはｐＨ＝０〜
５、の範囲で使用することもできる。また、光重合性平
版印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加する
こともできる。

【００４７】本発明の高分子化合物の乾燥後の被覆量は
平版印刷版１m²当たりで示して、２〜１００mg/m²が適
当であり、好ましくは５〜５０mg/m²である。上記被覆
量が少ないと、十分な効果が得られない。また、多くて
も同様である。

【００４８】［（Ｂ）光重合性感光層］本発明で用いら
れる光重合性感光層の主な成分は、付加重合可能なエチ
レン性二重結合を含む化合物、光重合開始剤、有機高分
子結合剤等であり、必要に応じ、着色剤、可塑剤、熱重
合禁止剤等の種々の化合物が添加される。

【００４９】付加重合可能な二重結合を含む化合物は、
末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましく
は２個以上有する化合物の中から任意に選択することが
できる。

【００５０】例えばモノマー、プレポリマー、すなわち
２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合
物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもっも
のである。

【００５１】モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのア
ミド等があげられる。

【００５２】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレト、１，４−シクロヘキサンジオー
ルジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリ
レート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオ
キシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。

【００５３】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

【００５４】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。

【００５５】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。

【００５６】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。

【００５７】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。

【００５８】さらに、前述のエステルモノマーの混合物
も挙げることができる。

【００５９】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。

【００６０】その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている１分子中に２個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の式（６）で示される水酸基を含有するビニルモノ
マーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基
を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。

【００６１】ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ¹²）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ¹³）ＯＨ（６）（ただし、Ｒ¹²およびＲ¹³は、ＨあるいはＣＨ₃を示
す。）

【００６２】また、特開昭５１−３７１９３号に記載さ
れているようなウレタンアクリレート類、特開昭４８−
６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２
−３０４９０号各公報に記載されているようなポリエス
テルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル
酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のア
クリレートやメタクリレートをあげることができる。さ
らに日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ（19
84年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。なお、これら
の使用量は、全成分に対して５〜７０重量％（以下％と
も略称する。）、好ましくは１０〜５０％である。

【００６３】光重合開始剤としては、使用する光源の波
長により、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、
あるいは２種以上の光開始剤の併用系（光開始系）を適
宜選択して使用することができる。

【００６４】例えば４００nm付近の光を光源として用い
る場合、ベンジル、ベンゾインエーテル、ミヒラーズケ
トン、アントラキノン、チオキサントン、アクリジン、
フェナジン、ベンゾフェノン等が広く使用されている。

【００６５】また、４００nm以上の可視光線、Ａｒレー
ザー、半導体レーザーの第２高調波、ＳＨＧ−ＹＡＧレ
ーザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案さ
れており、例えば、米国特許第２８５０４４５号に記載
のある種の感光性染料、染料とアミンの複合開始系（特
公昭４４−２０１８９号）、ヘキサアリールビイミダゾ
ールとラジカル発生剤と染料との併用系（特公昭４５−
３７３７７号）、ヘキサアリールビイミダゾールとｐ−
ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系（特公昭４７
−２５２８号、特開昭５４−１５５２９２号）、環状シ
ス−α−ジカルボニル化合物と染料の系（特開昭４８−
８４１８３号）、環状トリアジンとメロシアニン色素の
系（特開昭５４−１５１０２４号）、３−ケトクマリン
と活性剤の系（特開昭５２−１１２６８１号、特開昭５
８−１５５０３号）、ビイミダゾール、スチレン誘導
体、チオールの系（特開昭５９−１４０２０３号）、有
機過酸化物と色素の系（特開昭５９−１４０２０３号、
特開昭５９−１８９３４０号）、ローダニン骨格の色素
とラジカル発生剤の系（特開平２−２４４０５０号）、
チタノセンと３−ケトクマリン色素の系（特開昭６３−
２２１１１０号）、チタノセンとキサンテン色素、さら
にアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能なエ
チレン性不飽和化合物を組み合わせた系（特開平４−２
２１９５８号、特開平４−２１９７５６号）、チタノセ
ンと特定のメロシアニン色素の系（特開平６−２９５０
６１号）等を挙げることができる。

【００６６】これらの光重合開始剤の使用量は、エチレ
ン性不飽和化合物１００重量部に対し、０．０５〜１０
０重量部、好ましくは０．１〜７０重量部、更に好まし
くは０．２〜５０重量部の範囲で用いることができる。

【００６７】光重合性組成物は、通常、バインダーとし
て線状有機高分子重合体を含有するが、このような有機
高分子重合体としては、光重合可能なェチレン性不飽和
化合物と相溶性を有している有機高分子重合体である限
り、どれを使用してもかまわない。好ましくは水現像あ
るいは弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アル
カリ水可溶性または膨潤性である有機高分子重合体が選
択される。有機高分子重合体は、光重合性組成物の皮膜
形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有
機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例
えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可
能になる。このような有機高分子重合体としては、側鎖
にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭５９
−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５
８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭
５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開
昭５９−７１０４８号に記載されているもの、すなわ
ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。

【００６８】また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸
性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する付
加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用で
ある。特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アクリレー
ト／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマー〕共重合体および〔アリル（メタ）
アクリレート（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他
の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。
この他に水溶性有機高分子として、ポリビニルピロリド
ンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化
皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミド
や２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパ
ンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用であ
る。これらの有機高分子重合体は全組成中に任意な量を
混和させることができる。しかし、９０重量％を超える
場合には形成される画像強度等の点で好ましい結果を与
えない。好ましくは３０〜８５重量％である。また光重
合可能なエチレン性不飽和化合物と有機高分子重合体
は、重量比で１／９〜９／１の範囲とするのが好まし
い。より好ましい範囲は２／８〜８／２であり、更に好
ましくは３／７〜７／３である。

【００６９】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合禁止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合禁止剤としてはハロイドキノン、ｐ−
メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩等があげられる。熱重合
禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約０．０１
％〜約５％が好ましい。また必要に応じて、酸素による
重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドの
ような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の
過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘
導体の添加量は、全組成物の約０．５重量％〜約１０重
量％が好ましい。

【００７０】更に感光層の着色を目的として、着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタ
ンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオ
レット、アゾ染料、アントラキノン系染料、シアニン系
染料がある。染料および顔料の添加量は全組成物の約
０．５重量％〜約５重量％が好ましい。

【００７１】加えて、硬化皮膜の物性を改良するため
に、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタ
レート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加
剤を加えてもよい。

【００７２】これらの添加量は全組成物の１０重量％以
下が好ましい。

【００７３】本発明の光重合性組成物を支持体上（本発
明では中間層の上）に塗布する際には種々の有機溶剤
（溶媒）に溶かして使用に供される。ここで使用する溶
媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒ
ドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エ
チレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエ
チルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、
ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテ
ルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエ
ーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート、３−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエ
タノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエー
テルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，ジメチルスルホキシ
ド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなど
がある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用す
ることができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度
は、１〜５０重量％が適当である。

【００７４】本発明における光重合性組成物には、塗布
面質を向上するために界面活性剤を添加することができ
る。

【００７５】その被覆量は乾燥後の重量で約０．１g/m²
〜約１０g/m²の範囲が適当である。より好ましくは０．
３〜５g/m²である。更に好ましくは０．７〜３g/m²であ
る。

【００７６】［（Ｃ）支持体］以下に本発明の光重合性
平版印刷版に使用される支持体およびその処理に関して
説明する。

【００７７】（アルミニウム板）本発明において用いら
れるアルミニウム板は、純アルミニウムまたはアルミニ
ウムを主成分とし微量の異原子を含むアルミニウム合金
の板状体である。この異原子には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタン等がある。合金組成としては、１０重量％
以下の異原子含有率のものである。本発明に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは、精錬技術上製造が困難であるため、でき
るだけ異原子を含まないものがよい。また、上述した程
度の異原子含有率のアルミニウム合金であれば、本発明
に使用し得る素材ということができる。このように本発
明に使用されるアルミニウム板は、その組成が特に限定
されるものではなく、従来公知、公用の素材のものを適
宜利用することができる。好ましい素材としては、ＪＩ
ＳＡ１０５０、同１１００、同１２００、同３００
３、同３１０３、同３００５材が含まれる。本発明にお
いて用いられるアルミニウム板の厚さは、約０．１mm〜
０．６mm程度である。アルミニウム板を粗面化処理する
に先立ち、表面の圧廷油を除去するための、例えば界面
活性剤またはアルカリ性水溶液で処理する脱脂処理が必
要に応じて行われる。

【００７８】（粗面化処理および陽極酸化処理）アルミ
ニウム板の表面を粗面化処理する方法としては、機械的
に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する
方法および化学的に表面を選択溶解させる方法がある。
機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブ
ラスト研磨法、バフ研磨法などと称せられる公知の方法
を用いることが出来る。また、電気化学的な粗面化法と
しては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により
行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報
に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用
することが出来る。

【００７９】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処
理された後、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽
極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理
に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形成する
ものならばいかなるものでも使用することができ、一般
には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混
酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類
によって適宜決められる。

【００８０】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一既に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が１〜８０％溶液、液温は５〜７０℃、電流密
度５〜６０A/dm²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒
〜５分の範囲にあれば適当である。

【００８１】陽極酸化皮膜の量は１．０g/m²以上が好適
であるが、より好ましくは２．０〜６．０g/m²の範囲で
ある。陽極酸化皮膜が１．０g/m²未満であると耐刷性が
不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易
くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆ
る「傷汚れ」が生じ易くなる。

【００８２】尚、このような陽極酸化処理は平版印刷版
の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏
回りにより、裏面にも０．０１〜３g/m²の陽極酸化皮膜
が形成されるのが一般的である。

【００８３】（珪酸塩処理）珪酸塩処理は、上述の処理
を施した後に用いられる親水化処理の１つであり、具体
的には、米国特許第２７１４０６６号、同３１８１４６
１号、同３２８０７３４号、同３９０２７３４号に開示
されているようなアルカリ金属珪酸盤（例えば珪酸ナト
リウム水溶液）法がある。この方法においては、支持体
が珪酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理されるか、または
電解処理される。

【００８４】珪酸塩処理について以下に説明する。

【００８５】上述のように処理を施したアルミニウム板
の陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が０．１〜３０
重量％、好ましくは０．５〜１０重量％であり、２５℃
でのｐＨが１０〜１３である水溶液に、例えば１５〜８
０℃で０．５〜１２０秒浸漬する。アルカリ金属珪酸塩
水溶液のｐＨが１０より低いと液はゲル化し１３．０よ
り高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用いら
れるアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪
酸カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ
金属珪酸塩水溶液のｐＨを高くするために使用される水
酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカ
リ土類金属塩もしくは第IVＢ族（４Ａ族、すなわち４
族）金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩とし
ては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグ
ネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩
酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩などの水溶性
の塩があげられる。第IVＢ族金属塩として、四塩化チタ
ン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタン
カリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジル
コニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウ
ム、四塩化ジルコニウムなどをあげることができる。ア
ルカリ土類金属塩もしくは、第IVＢ族金属塩は単独また
は２以上組み合わせて使用することができる。これらの
金属塩の好ましい範囲は０．０１〜１０重量％であり、
更に好ましい範囲は０．０５〜５．０重量％である。

【００８６】珪酸塩処理により、アルミニウム板表面上
の親水性が一層改善されるため、印刷の際、インクが非
画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が向上する。

【００８７】（バックコート）支持体の裏面には、必要
に応じてバックコートが設けられる。こうしたバックコ
ートとしては、特開平５−４５８８５号公報記載の有機
高分子化合物および特開平６−３５１７４号公報記載の
有機または無機金属化合物を加水分解および重縮合させ
て得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いら
れる。

【００８８】これらの被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₄、Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｓｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₄、Ｓｉ
（ＯＣ₄Ｈ₉）₄などの珪素のアルコキシ化合物が安価で
入手し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐
現像性に優れており特に好ましい。

【００８９】［（Ｄ）酸素遮断性保護層］本発明の
（Ｂ）光重合性感光層上に必要ならば、更に（Ｄ）酸素
遮断性保護層を設けてもかまわない。（Ｄ）酸素遮断性
保護層に含まれる水溶性ビニル重合体としては、ポリビ
ニルアルコール、およびその部分エステル、エーテル、
およびアセタール、またはそれらに必要な水溶性を付与
するような実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含
有するその共重合体があげられる。ポリビニルアルコー
ルとしては、７１〜１００％加水分解され、重合度が３
００〜２４００の範囲のものがあげられる。具体的には
株式会社クラレ製ＰＶＡ−１０５，ＰＶＡ−１１０，Ｐ
ＶＡ−１１７，ＰＶＡ−１１７Ｈ，ＰＶＡ−１２０，Ｐ
ＶＡ−１２４，ＰＶＡ−１２４Ｈ，ＰＶＡ−ＣＳ，ＰＶ
Ａ−ＣＳＴ，ＰＶＡ−ＨＣ，ＰＶＡ−２０３，ＰＶＡ−
２０４，ＰＶＡ−２０５，ＰＶＡ−２１０，ＰＶＡ−２
１７，ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４，ＰＶＡ−２１
７ＥＥ，ＰＶＡ−２１７Ｅ，ＰＶＡ−２２０Ｅ，ＰＶＡ
−２２４Ｅ，ＰＶＡ−４０５，ＰＶＡ−４２０，ＰＶＡ
−６１３，Ｌ−８等があげられる。上記の共重合体とし
ては、８８〜１００％加水分解されたポリビニルアセテ
ートクロロアセテートまたはプロピオネート、ポリビニ
ルホルマールおよびポリビニルアセタールおよびそれら
の共重合体があげられる。その他有用な重合体としては
ポリビニルピロリドン、ゼラチンおよびアラビアゴム等
があげられ、これらは単独または、併用して用いても良
い。

【００９０】本発明の酸素遮断性保護層を塗布する際用
いる溶媒としては、純水が好ましいが、メタノール、エ
タノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトンなどのケトン類を純水と混合しても良い。そして
塗布溶液中の固形分の濃度は１〜２０重量％が適当であ
る。

【００９１】本発明の酸素遮断性保護層にはさらに塗布
性を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良す
るための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えても良
い。水溶性の可塑剤としては例えばポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、プロピオンアミド、
シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等
がある。また、水溶性の（メタ）アクリル系ポリマーな
どを添加しても良い。

【００９２】その被覆量は乾燥後の重量で０．１〜１５
g/m²の範囲が適当である。好ましくは０．５〜１０g/m²
である。更に好ましくは１〜５g/m²である。

【００９３】こうして得られた感光性平版印刷版は、Ａ
ｒレーザー（４８８nm、５１４．５nm）、半導体レーザ
ーの第２高調波（ＳＨＧ−ＬＤ、３５０〜６００nm）、
ＹＡＧ−ＳＨＧレーザ（５３２nm）等により直接露光さ
れた後、現像処理される。

【００９４】現像処理に使用される現像液としては従来
より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第ニリン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニ
ウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ
剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルア
ミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチル
アミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、
ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−
ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールア
ミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エ
チレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用い
られる。

【００９５】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。上記のアルカリ水溶液の
内、本発明による効果が一段と発揮される現像液はアル
カリ金属ケイ酸塩を含有するｐＨ１２以上の水溶液であ
る。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分で
ある酸化ケイ素ＳｉＯ₂とアルカリ金属酸化物Ｍ₂Ｏの比
率（一般に〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ₂Ｏ〕のモル比で表す）と
濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開
昭５４−６２００４号公報に開示されているような、Ｓ
ｉＯ₂／Ｎａ₂Ｏのモル比が１．０〜１．５（即ち〔Ｓｉ
Ｏ₂〕／〔Ｎａ₂Ｏ〕が１．０〜１．５であって、ＳｉＯ
₂の含有量が１〜４重量％のケイ酸ナトリウムの水溶液
や、特公昭５７−７４２７号公報に記載されているよう
な、〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ〕が０．５〜０．７５（即ち
〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ₂Ｏ〕が１．０〜１．５）であって、
ＳｉＯ₂の濃度が１〜４重量％であり、かつこの現像液
がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準
にして少なくとも２０％のカリウムを含有していること
とからなるアルカリ金属ケイ酸塩が好適に用いられる。

【００９６】更に、自動現像機を用いて、光重合性平版
印刷版を現像する場合に、現像液よりもアルカリ強度の
高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによって、
長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量
の光重合性平版印刷版を処理することができることが知
られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく
適用される。例えば、特開昭５４−６２００４号公報に
開示されているような現像液の〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｎａ
₂Ｏ〕のモル比が１．０〜１．５（即ち〔ＳｉＯ₂〕／
〔Ｎａ₂Ｏ〕が１．０〜１．５）であってＳｉＯ₂の含有
量が１〜４重量％のケイ酸ナトリウムの水溶液を使用
し、しかも光重合性平版印刷版の処理量に応じて連続的
または断続的にＳｉＯ₂／Ｎａ₂Ｏのモル比が０．５〜
１．５（即ち〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｎａ₂Ｏ〕が０．５〜１．
５）のケイ酸ナトリウム水溶液（補充液）を現像液に加
える方法、更には、特公昭５７−７４２７号公報に開示
されている、〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ〕が０．５〜０．７５
（即ち、〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ₂Ｏ〕が１．０〜１．５）で
あって、ＳｉＯ₂の濃度が１〜４重量％であるアルカリ
金属ケイ酸塩の現像液を用い、補充液として用いるアル
カリ金属ケイ酸塩の〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ〕が０．２５〜
０．７５（即ち〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ₂Ｏ〕が０．５〜１．
５）であり、かつこのような現像液および補充液のいず
れもがその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を
基準にして少なくとも２０％のカリウムを含有している
こととからなる現像方法が好適に用いられる。

【００９７】このようにして現像処理された光重合性平
版印刷版は特開昭５４−８００２号、同５５−１１５０
４５号、同５９−５８４３１号等の各公報に記載されて
いるように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後
処理される。本発明の光重合性平版印刷版の後処理には
これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。

【００９８】このような処理によって得られた平版印刷
版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用い
られる。

【００９９】印刷時、版上の汚れ除去のため使用するプ
レートクリーナーとしては、従来より知られているＰＳ
版用プレートクリーナーが使用され、例えば、ＣＬ−
１，ＣＬ−２，ＣＰ，ＣＮ−４，ＣＮ，ＣＧ−１，ＰＣ
−１，ＳＲ，ＩＣ（富士写真フイルム株式会社製）等が
挙げられる。

【０１００】

【実施例】次に、太発明の実施例を比較例とともに示
し、詳細に説明する。なお、下記実施例および比較例に
おけるパーセントは、他に指定のない限り、すべて重量
％である。

【０１０１】（実施例１〜３、比較例１）厚さ０．２４
mmのＪＩＳＡ１０５０アルミニウム板の表面をナイロ
ンブラシと４００メッシュのパミストンの水懸濁液を用
い砂目立てした後、よく水で洗浄した。１０％水酸化ナ
トリウム水溶液に７０℃で６０秒間浸漬してエッチング
した後、流水で水洗後、２０％ＨＮＯ₃で中和洗浄、水
洗した。これをＶ_A＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交
番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で２６０クーロン
／dm²の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その
表面粗さを測定したところ０．４５μm （Ｒａ表示）で
あった。ひきつづいて３０％のＨ₂ＳＯ₄水溶液中に浸漬
し、５５℃で２分間デスマットした後、３３℃２０％Ｈ
₂ＳＯ₄水溶液中で電流密度５A/dm²、陽極酸化皮膜量が
２．５g/m²相当になるように陽極酸化し、水洗して基板
［Ａ］を作成した。

【０１０２】基板［Ａ］を珪酸ナトリウム２．５重量％
水溶液で７０℃で１０秒処理し、水洗して基板［Ｂ］を
作成した。

【０１０３】このようにして処理された基板［Ｂ］の表
面に表１に示した本発明の高分子化合物を塗布し、８０
℃で１５秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は、１５mg/m²
であった。

【０１０４】表１の高分子化合物０．３ｇメタノール１００ｇ水１ｇ

【０１０５】このようにして、用いた高分子化合物No.
２、８、１１に応じて基板Ｂ−１、Ｂ−２、Ｂ−３を作
成した。また、高分子化合物の中間層を設けない基板Ｂ
−４を作成した。

【０１０６】このように処理された基板上に、下記組成
の光重合性組成物１を乾燥塗布重量が１．４g/m²となる
ように塗布し、８０℃で２分間乾燥させ、光重合性感光
層を形成した。

【０１０７】［光重合性組成物１］トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル１．５g アリルメタアクリレート／メタクリル酸（８０／２０重量比）の線状有機高分子重合体Ｍｗ＝４万（Ｂ₁）２．０g 下記増感剤（Ｃ₁）（λmax THF（テトラヒドロフラン）４７２nm，ε＝７．４ ×１０⁴）０．１３g 下記光開始剤（Ｄ₁）０．０９g 下記チオ化合物（Ｅ₁）０．０８g フッ素系ノニオン界面活性剤０．０３g メチルエチルケトン２０．０g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２０．０g

【０１０８】

【化１２】

【０１０９】

【化１３】

【０１１０】

【化１４】

【０１１１】この感光層上にポリビニルアルコール（ケ
ン化度８６．５〜８９モル％、重合度１０００）の３重
量％の水溶液を乾燥塗布重量が２g/m²となるように塗布
し、１００℃で２分間乾燥させ、光重合性平版印刷版を
得た。その印刷版を６０℃の場所に３日間保存した。

【０１１２】これらの版をオプトロニクス社製ＸＬＰ４
０００高精細レーザープロッター（空冷Ａｒレーザー２
００mW、４８８nm）を用い種々のエネルギーで、４００
０ｄｐｉ、１７５線／インチの条件で網点およびベタ部
を露光した。更に膜硬化度を高める目的でその後１１０
℃に１２秒間の後加熱処理を施した。現像は、富士写真
フイルム（株）ＬＰ−Ｄ現像液を水で１０倍に希釈した
液をその液１リットルに対しあらかじめ上記の印刷版を
１０m²現像処理した現像液を用いて、同社製８５０ＮＸ
自動現像機により３０℃で、１５秒間浸漬して行った。

【０１１３】耐刷性評価には印刷機としてハイデルベル
グ社製ＳＯＲ−ＫＺを使用し、湿し水はアンカー社エメ
ラルドプレミアムＭＸＥ２％希釈液を用い、インキとし
ては大日本インキ社製ＧＥＯＳ−Ｇ（Ｎ）を使用した。
５０００枚毎に印刷物を抜き取り、１７５線／インチの
２％の網点を評価し、実用上許容レベルにあるとされる
枚数を調べた結果を表１に示す。

【０１１４】また、非画像部の汚れ性を目視で１０段階
評価した。１０点が最も汚れず、１点が最も汚れやすい
ものである。６点が実用上許容レベルとされる。結果を
表１に示す。

【０１１５】

【表１】

【０１１６】本発明の化合物を用いるとハイライト耐刷
および汚れ性も良好なネガ型重合性平版印刷版が得られ
た。

【０１１７】

【発明の効果】本発明によれば、耐刷性に優れ、かつ非
画像部の汚れが少ない光重合性平版印刷版が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者今泉充弘静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地富士写真フイルム株式会社内Ｆターム(参考） 2H025 AA12 AA14 AB03 AC08 AD01 BC31 CA00 CB00 DA18 DA21 DA35 FA10 2H096 AA06 BA05 BA16 CA01 CA02 CA05 EA04

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】陽極酸化被膜を設けた後、ケイ酸塩処理
を施したアルミニウムまたはアルミニウム合金で形成さ
れた基板上に、酸基を有する構成成分およびオニウム基
を有する構成成分を用いて得られた高分子化合物を含む
中間層を有し、この中間層上に、活性光線により重合可
能な少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する化
合物と、線状有機高分子重合体と、光重合開始剤とを含
有する光重合性感光層を有する光重合性平版印刷版。