JP2000195665A

JP2000195665A - 有機膜の形成方法

Info

Publication number: JP2000195665A
Application number: JP10371502A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Yokoi; 正裕横井; Masanobu Senda; 昌伸千田
Original assignee: Toyota Motor Corp
Current assignee: Toyota Motor Corp
Priority date: 1998-12-25
Filing date: 1998-12-25
Publication date: 2000-07-14

Abstract

(57)【要約】【課題】転写を利用した新規な有機膜の形成方法を提供
する。【解決手段】基板５の被成膜面５０の上に有機膜８を形
成する方法である。有機系の膜形成物質３１を担持した
転写材３を用い、転写材３を基板５の被成膜面５０に対
面させて配置する。加熱手段２で膜形成物質３１を加熱
して膜形成物質３１を基板５の被成膜面５０に転写す
る。加熱手段２としてはホットプレート、レーザビー
ム、電子ビームを採用できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は有機膜の形成方法に
関する。本発明は、例えば、有機系のエレクトロルミネ
ッセンス（ＥＬ）素子における有機系の発光膜の形成に
利用できる。

【０００２】

【従来の技術】有機系のエレクトロルミネッセンス（Ｅ
Ｌ）素子における発光膜の形成を、例にとって、従来技
術について説明する。基板の被成膜面の上に有機系の発
光膜を形成するにあたっては、特開平９−２０４９８３
号公報などに開示されているように、膜形成物質を収容
したるつぼを成膜装置の真空蒸着室に配置するととも
に、基板の被成膜面を離した状態でるつぼに対面させ、
その状態で、るつぼ内の膜形成物質を加熱し、膜形成物
質の粒子を基板の被成膜面に向けて飛翔させ、これによ
り膜形成物質の粒子を基板の被成膜面に堆積させ、発光
膜を形成している。

【０００３】また、発光膜のパターン形状の精度を高め
る場合には、所定のパターンをもつマスクを透明基板の
被成膜面に接近させた状態で、マスク越しに蒸着を行な
うことにしている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した有機
膜の形成方法とは異なる新規な有機膜の形成方法を提供
することを課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の係る有機膜の形
成方法は、基板の被成膜面の上に有機膜を形成する方法
において、有機系の膜形成物質を担持した転写材を基板
の被成膜面に対面させて配置し、加熱手段で膜形成物質
を加熱して膜形成物質を基板の被成膜面に転写すること
を特徴とするものである。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明方法においては、有機系の
膜形成物質を担持した転写材を基板の被成膜面に対面さ
せて配置する。その状態で、加熱手段で膜形成物質を加
熱して、膜形成物質の粒子を基板の被成膜面に向けて飛
翔させ、これにより膜形成物質を基板の被成膜面に堆積
させ、以て有機膜を基板の被成膜面に転写する。

【０００７】本発明方法においては、転写材に担持され
ている膜形成物質を加熱するためには、転写材の後方側
から、つまり、転写材のうち膜形成物質が担持されてい
ない側から、加熱手段で加熱する方式を採用できる。本
発明方法によれば、基板の被成膜面と転写材との間にマ
スクを介在させた状態で、転写材の膜形成物質を基板の
被成膜面に転写する方式を採用できる。目標形状をもつ
開口部を備えたマスクを用いれば、マスクの開口部を粒
子が通過できるため、有機膜の目標形状の精度を確保で
きる。マスクは、熱膨張係数が小さい材料（インバー合
金など）で形成することが好ましい。

【０００８】本発明方法においては、加熱手段としての
発熱膜を転写材に設け、発熱膜に膜形成物質を被覆して
おき、転写材の発熱膜に通電してこれをジュール熱で発
熱させることにより、発熱膜上の膜形成物質を加熱する
方式を採用することもできる。また本発明方法によれ
ば、マスクを用いることなく、基板の被成膜面と転写材
とを対面させ、転写材の後方から加熱手段で膜形成物質
を加熱して膜形成物質を基板の被成膜面に転写する方式
を採用することもできる。

【０００９】本発明方法で用いる膜形成物質は有機系で
ある。膜形成物質は、有機系のエレクトロルミネッセン
ス（ＥＬ）素子における発光膜を構成する物質を採用で
きる。エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子における
発光膜は、通常、正孔輸送膜と、電子輸送膜と、正孔輸
送膜及び電子輸送膜で挟まれる発光体膜とを備えてい
る。従って、膜形成物質としては、正孔輸送膜を構成す
る物質、電子輸送膜を構成する物質、発光体膜を構成す
る物質の少なくとも１種を採用できる。正孔輸送膜を構
成する物質としては、従来と同様に、トリフェニルジア
ミン誘導体等のアミン誘導体、（ジ）スチリルベンゼン
誘導体等のジ（トリ）アゾール誘導体、ナフタセン誘導
体等を採用できる。電子輸送膜を構成する物質として
は、従来と同様に、ポリシラン、アルミキノリノール錯
体等がある。発光膜を構成する物質としては、従来と同
様に、ジスチリルビフェニル誘導体、アルミキノリノー
ル錯体等を採用できる。

【００１０】本発明方法で用いる代表的な基板としては
ガラス基板を採用できる。加熱手段としては、熱伝導で
加熱する方式でも、熱輻射で加熱する方式でも、高エネ
ルギビームで加熱する方式でも良く、要するに、転写材
の膜形成物質を加熱できる機能をもつものであればよ
い。従って加熱手段としては、電熱ヒータを内蔵したホ
ットプレート、高エネルギビーム照射装置、透磁率が良
い強磁性体を誘導加熱する誘導加熱装置等を採用でき
る。

【００１１】ホットプレートは、一般的には、転写材が
載せられる保持盤と、保持盤を加熱する電熱ヒータとで
構成できる。代表的な高エネルギビーム照射装置として
は、レーザビーム照射装置、電子ビーム照射装置があげ
られる。本発明方法の好ましい形態によれば、転写材
は、長さ方向の連続して延びるフィルム状の担持体と、
フィルム状の担持体の少なくとも一部に担持された膜形
成物質とで構成できる。膜形成物質を担持体に担持させ
るにあたっては、基板の被成膜面に形成する有機膜の目
標パターン形状に相応するパターン形状を膜形成物質が
もつように、膜形成物質を担持体に担持することができ
る。あるいは、担持体に膜形成物質を連続膜状に担持す
ることもできる。

【００１２】フィルムとしては、金属製フィルム（例え
ばアルミ、ステンレス鋼、チタン、炭素鋼、銅等）、樹
脂製フィルムなどを採用できる。フィルムの厚みはフィ
ルムの材質などによっても相違するものの、一般的に
は、１０〜１００μｍにできる。また本発明方法で用い
る転写材は、剛性に富む所要厚みをもつ板状の担持体
と、板状の担持体の表面の少なくとも一部に担持された
膜形成物質とで構成することもできる。板状の担持体と
しては、ガラス板、樹脂板、金属板を採用できる。上記
した担持体が樹脂製である場合には、樹脂としては、耐
熱性等が良好な材料、例えばポリイミド、ポリアミドイ
ミド、ポリエーテルケトンなどを例示できる。

【００１３】あるいは、本発明方法で用いる転写材とし
ては、連続的にのびる金属ワイヤやガラス繊維などの長
尺状の担持体と、その担持体の少なくとも一部に被覆さ
れた膜形成物質とで構成することもできる。本発明方法
によれば前述したように、有機系の膜形成物質を担持し
た転写材を基板の被成膜面に対面させて配置した状態
で、加熱手段で膜形成物質を加熱して、膜形成物質の粒
子を基板の被成膜面に向けて飛翔させ、これにより膜形
成物質を基板の被成膜面に堆積させ、以て有機膜を透明
基盤の被成膜面に転写する。そのため転写材の膜形成物
質を全部またはほとんど全部を基板の被成膜面に転写す
ることにすれば、基板の被成膜面に形成される有機膜の
厚みが規定される。故に、基板の被成膜面に形成する有
機膜の厚みの制御を簡便化または廃止するのに有利とな
る。

【００１４】本発明方法においては、基板の被成膜面と
転写材とを非接触にできるが、場合によっては接触させ
ても良い。本発明によれば、従来の蒸着法で得られる膜
質と同等の膜質を得ることができる。

【００１５】

【実施例】以下、本発明の各実施例を図面を参照して説
明する。（実施例１）実施例１を図１〜図４に示す。成膜装置１
の容器１０の真空室１１には、フィルム状の転写材３が
設けられている。フィルム状の転写材３を矢印Ｘ１方向
に走行させる駆動系１２、基板ホルダ１３、ホットプレ
ート２が真空室１１に配置されている。駆動系１２は、
駆動ローラ１２ａ、従動ローラ１２ｂ、案内ローラ１２
ｃ，１２ｄを備えている。

【００１６】ホットプレート２は加熱手段として機能す
るものであり、平滑な保持面２０をもつ熱伝達率が良い
材料（一般的には金属）で形成された保持盤２１と、保
持盤２１を加熱する第１ヒータ２１とをもつ。フィルム
状の転写材３は、金属（例えばステンレス）または樹脂
（例えばポリイミド）を基材として長く連続して延びる
フィルム状の担持体３０（横断方向の幅：３０ｍｍ）
と、担持体３０の片面である上面に所定のパターン形状
で担持された膜形成物質３１とで形成されている。転写
材３に担持されている膜形成物質３１の厚みは、適宜選
択できるが、例えば４００〜６００オングストローム
（５００オングストローム）にできるが、これに限定さ
れるものではない。

【００１７】本実施例においては、膜形成物質３１は、
所定のパターン形状（文字、模様、図形など）を描くよ
うに、担持体３０に担持されていても良い。このパター
ン形状は、透明基板５に形成される有機膜８の目標パタ
ーン形状に相応するものである。また本実施例において
は、図２に示すように、膜形成物質３１は、隔壁３７
（例えば耐熱性をもつ樹脂,具体的にはポリイミド等）
で区画するように、所定のピッチで断続的に担持体３０
に担持されていても良い。この膜形成物質３１は、赤色
発光用の物質３１Ｒと、緑色発光用の物質３１Ｇと、青
色発光用の物質３１Ｂとの組み合わせで構成されてい
る。隔壁３７の高さは膜形成物質３１よりも高くでき
る。なお隔壁３７が形成されていなくても良い。

【００１８】図３は膜形成物質３１のパターン形状の一
例を示す。このパターン形状は文字を形成しており、透
明基板５に形成される有機膜８の目標パターン形状に相
応するものである。本実施例においては、膜形成物質３
１を担持体３０に担持する方式としては、蒸着法（物理
的蒸着法、化学的蒸着法を含む）、浸漬法、スピンコー
ト法、スプレー法、インクジェットプリント法などの公
知の被覆手段を適宜採用できる。

【００１９】実施に際しては、まず、透明ガラスで形成
された平板状をなす透明基板５を用い、透明基板５を基
板ホルダ１３に設置する。透明基板５の平坦且つ平滑な
被成膜面５０を下向きとする。この被成膜面５０は、ホ
ットプレート２の保持盤２１の保持面２０と実質的に平
行となる。その状態で、真空ポンプ１４を駆動させて成
膜装置１の真空室１１を高真空雰囲気（１０^-3〜１０^-5
Ｐａ）にする。その状態で駆動系１２によりフィルム状
の転写材３を緊張させつつ矢印Ｘ１方向に走行させ、フ
ィルム状の転写材３を保持盤２１の保持面２０に載せ
る。これによりフィルム状の転写材３上の膜形成物質３
１を、透明基板５の被成膜面５０の所定部位に位置決め
して対面させる。

【００２０】その後、ホットプレート２の保持盤２１を
第１ヒータ２１で加熱する。すると、フィルム状の転写
材３上の膜形成物質３１は加熱されて蒸着粒子となり、
透明基板５の被成膜面５０に向かい、被成膜面５０に堆
積する。これにより透明基板５の被成膜面５０に有機膜
８が転写される。有機膜８の厚みは適宜選択できるもの
の、例えば５０〜１０００オングストロームにできる。

【００２１】本実施例においては、転写にあたり、フィ
ルム状の転写材３に所要の引張力を付与して緊張させ
る。このようにすれば転写精度の確保に有利となる。引
張力は駆動系１２により作用させ得る。また別途、フィ
ルム状の転写材３を引張手段で引張って緊張させること
もできる。本実施例においては、ホットプレート２上の
フィルム状の転写材３の膜形成物質３１が透明基板５の
被成膜面５０に全て蒸着されるようにすれば、格別の膜
厚制御を実行ぜずとも、透明基板５の被成膜面５０に転
写された有機膜８の厚みを目標厚みに設定するのに有利
となる。

【００２２】本実施例においては、図１に示すように、
フィルム状の転写材３の膜形成物質３１の上面と透明基
板５の被成膜面５０との間に、微小隙間３ｘを形成して
おき、転写材３の膜形成物質３１の上面と透明基板５の
被成膜面５０とを非接触にする。微小隙間３ｘの隙間幅
Ｋ１は適宜選択できるものの、例えば５μｍ〜１ｍｍに
できる。

【００２３】図４は転写材３の異なる形態を示す。この
場合には、フィルム状の転写材３は、フィルム状の担持
体３０と、担持体３０の片面（上面）に担持された膜形
成物質３１とを備えている。膜形成物質３１は、正孔輸
送膜を構成する物質を並べた第１群３１ａ、発光体膜を
構成する物質を並べた第２群３１ｃ、電子輸送膜を構成
する物質を並べた第３群３１ｅとが長さ方向に沿って直
列状態に並設されている。

【００２４】なお第１群３１ａの膜は、図示簡略化のた
め３個とされているが、実際は数が多いものである。第
２群３１ｃ、第３群３１ｅも同様である。図４に示すフ
ィルム状の転写材３を設けた場合には、第１成膜工程
で、転写材３の第１群３１ａを透明基板５に対面させた
状態で、第１群３１ａをホットプレート２で加熱蒸着
し、透明基板５の正極となる透明電極膜上に正孔輸送膜
３１ａｏを積層する。

【００２５】次の第２成膜工程では、転写材３を矢印Ｘ
１方向に移動させることにより、転写材３の第２群３１
ｃを、透明基板５に形成された正孔輸送膜３１ａｏに対
面させる。その状態で第２群３１ｃをホットプレート２
で加熱蒸着して、正孔輸送膜３１ａｏの上に発光体膜３
１ｃｏを積層する。次の第３成膜工程では、転写材３を
矢印Ｘ１方向に更に移動させることにより、転写材３の
第３群３１ｅを、透明基板５に形成されている発光体膜
３１ｃｏに対面させる。その状態で第３群３１ｅをホッ
トプレート２で加熱蒸着して、発光体膜３１ｃｏの上に
電子輸送膜３１ｅｏを積層する。

【００２６】（実施例２）実施例２を図５に示す。本実
施例は前記した実施例１と基本的には同様の構成であ
り、基本的には同様の作用効果を奏する。以下、実施例
１と相違する部分を中心として説明する。本実施例にお
いては、透明基板５の被成膜面５０とフィルム状の転写
材３との間に、マスク７が配置されている。マスク７
は、透明基板５の被成膜面５０に密着または接近されて
いる。マスク７は、被成膜面５０を覆う遮蔽部７０と、
被成膜面５０に対して連通する開口部７１とをもつ。こ
の開口部７１は、透明基板５に形成される有機膜８の目
標パターン形状に相応する開口形状をもつように、形成
されている。この開口部７１を蒸着粒子が通過して、透
明基板５の被成膜面５０に堆積し、有機膜８が透明基板
５の被成膜面５０に真空室１１内で転写される。

【００２７】この場合には、マスク７により、有機膜８
のパターン形状の精度が確保される。マスク７の下面と
転写材３の膜形成物質３１の上面との間には、微小隙間
３ｙが形成されている。微小隙間３ｙの隙間幅Ｋ５は適
宜選択できるものの、例えば５μｍ〜１ｍｍにできる。（実施例３）実施例３を図６に示す。本実施例は前記し
た実施例１と基本的には同様の構成であり、基本的には
同様の作用効果を奏する。以下、実施例１と相違する部
分を中心として説明する。本実施例においては、フィル
ム状の転写材３の片面の全面に連続膜状に膜形成物質３
１がほぼ均等厚みで担持されている。

【００２８】本実施例においても、透明基板５の被成膜
面５０とフィルム状の転写材３との間には、マスク７が
配置されている。マスク７は、透明基板５の被成膜面５
０に密着または接近されている。マスク７は遮蔽部７０
と開口部７１とをもつ。本実施例においては、フィルム
状の転写材３の片面の全面に膜形成物質３１が連続的に
担持されている。そのため膜形成物質３１が広い面積で
蒸発する。しかし蒸着粒子はマスク７の開口部７１を通
過するものの、蒸着粒子の通過が遮蔽部７０で遮蔽され
るため、有機膜８の目標パターン形状の精度が確保され
る。

【００２９】（実施例４）実施例４を図７に示す。本実
施例は基本的には前記した実施例１と同様の構成であ
り、基本的には同様の作用効果を奏する。同一機能を奏
する部位には同一の符号を付して説明する。以下、実施
例１と相違する部分を中心として説明する。本実施例に
おいては、蒸着を補助する蒸着ヘッド６が真空室１１に
設けられている。蒸着ヘッド６は、噴出口６０（口径：
０．５ｍｍ）をもつるつぼ６１と、るつぼ６１を加熱す
る第２ヒータ６２と、断熱カバー６３とをもつ。

【００３０】透明基板５の被成膜面５０と噴出口６０と
の間には、微小隙間３ｘが形成されている。微小隙間３
ｘの隙間幅Ｋ７は適宜選択できるものの、例えば１００
μｍ〜１ｍｍにできる。蒸着の際には、フィルム状の転
写材３上の膜形成物質３１を透明基板５の被成膜面５０
の所定部位に位置決めして対面させる。その状態におい
て、ホットプレート２の保持盤２１を第１ヒータ２２で
加熱する。すると、フィルム状の転写材３上の膜形成物
質３１は加熱されて蒸着粒子となり、透明基板５の被成
膜面５０に堆積し、透明基板５の被成膜面５０に有機膜
８が転写される。

【００３１】本実施例においては、蒸着の際には蒸着粒
子は、るつぼ６１の内壁面により透明基板５の被成膜面
５０の側に案内される。第２ヒータ６２によりるつぼ６
１を加熱するため、るつぼ６１の内面に蒸着粒子が付着
することは抑えられる。第２ヒータ６２による加熱温度
をＴ１とし、第１ヒータ２１によるホットプレート２の
加熱温度をＴ２としたとき、Ｔ１はＴ２よりも高温また
は等温とされている。

【００３２】本実施例では、透明基板５及び蒸着ヘッド
６の少なくとも一方を移動させる駆動部（図示せず）を
設け、駆動部により、透明基板５を蒸着ヘッド６の噴出
口６０に対して、矢印Ｘ１方向またはこれと反対の方向
に相対移動させ、転写位置を変化させることもできる。（実施例５）実施例５を図８に示す。本実施例は基本的
には前記した実施例４と同様の構成であり、基本的には
同様の作用効果を奏する。同一機能を奏する部位には同
一の符号を付して説明する。本実施例においても蒸着ヘ
ッド６が真空室１１に設けられている。蒸着ヘッド６
は、噴出口６０をもつ窒化ボロン（ＢＮ）製のるつぼ６
１と、るつぼ６１を加熱する第２ヒータ６２と、断熱カ
バー６３とをもつ。

【００３３】本実施例においては、転写材３Ｂは、剛性
をもつ比較的厚めのガラスや金属（アルミ、チタン、ス
テンレス鋼など）等で形成された平板状の板体３３と、
板体３３の平滑な上面に担持された膜形成物質３１とで
構成されている。多数個の転写材３Ｂを真空室１１内の
待機ホルダ３５に待機させておく。そして待機ホルダ３
５に待機している一個の転写材３Ｂをホットプレート２
の保持盤２１の保持面２０の上に設置する。ホットプレ
ート２を加熱してホットプレート２上の転写材３Ｂの膜
形成物質３１を加熱し、透明基板５の被成膜面５０に有
機膜８を真空室１１で転写する。転写が終了した転写材
３Ｂを矢印Ｂ２方向に移動させてホットプレート２から
排出する。

【００３４】次に、待機ホルダ３５に待機している他の
転写材３Ｂをホットプレート２の保持盤２１の保持面２
０の上に設置する。再び、ホットプレート２を加熱して
透明基板５の被成膜面５０に有機膜８を転写する。転写
が終了した転写材３Ｂを矢印Ｂ２方向に移動させてホッ
トプレート２から排出する。以下、このような操作を繰
り返して行い、待機ホルダ３５に待機している多数個の
転写材３Ｂにより有機膜８の転写を行う。

【００３５】（実施例６）実施例６を図９に示す。本実
施例は基本的には前記した実施例５と同様の構成であ
り、基本的には同様の作用効果を奏する。同一機能を奏
する部位には同一の符号を付して説明する。本実施例に
おいては、真空室１１に配置された透明基板５の下向き
の被成膜面５０には、隔壁５３（高さ：約１〜１０μ
ｍ）が形成されている。隔壁５３は、有機膜８を形成す
る部位の回りに適数組（図９においては１組のみ図示）
形成されている。透明基板５の被成膜面５０に堆積する
蒸着粒子が広がることは、隔壁５３により抑制される。
故に有機膜８の転写精度を確保するのに有利となる。

【００３６】（実施例７）実施例７を図１０に示す。本
実施例は基本的には前記した実施例５と同様の構成であ
り、基本的には同様の作用効果を奏する。同一機能を奏
する部位には同一の符号を付して説明する。本実施例に
おいては、マスク７の開口部７１は多数個設けられてい
る。蒸着粒子はマスク７の開口部７１を通るため、開口
部７１の形状、サイズに対応した有機膜８が形成され
る。

【００３７】（実施例８）実施例８を図１１に示す。本
実施例は、基本的には前記した実施例４と同様の構成で
あり、基本的には同様の作用効果を奏する。同一機能を
奏する部位には同一の符号を付して説明する。本実施例
においても、マスク７の開口部７１は多数個設けられて
いる。加熱手段として機能できるレーザビーム照射装置
８０が真空室１１に設けられている。レーザビーム照射
装置８０は高エネルギビーム照射手段として機能できる
ものであり、レーザビームを発振する発振器８１と、回
転ミラーをもつスキャナー８２とを備えている。スキャ
ナー８２により、レーザビーム８０ｐは、転写材３の長
さ方向及び幅方向に走査される。転写材３は、フィルム
状の担持体３０と、担持体３０に所定間隔で断続的に担
持された膜形成物質３１とで構成されている。

【００３８】マスク７の下面と転写材３の膜形成物質３
１の上面との間には、微小隙間３ｘが形成されている。
微小隙間３ｘの隙間幅Ｋ１１は適宜選択できるものの、
例えば５μｍ〜１ｍｍにできる。但しこれに限定される
ものではない。レーザビーム照射装置８０からのレーザ
ビーム８０ｐは、フィルム状の転写材３にこれの後方か
ら、つまり、フィルム状の転写材３のうち膜形成物質３
１が形成されていない側から照射される。レーザビーム
８０ｐが照射されると、フィルム状の転写材３上の膜形
成物質３１が加熱される。その蒸着粒子はフィルム状の
転写材３の被成膜面５０に向けて飛翔し、そこに堆積さ
れる。

【００３９】（実施例９）実施例９を図１２に示す。本
実施例は、基本的には前記した実施例８と同様の構成で
あり、基本的には同様の作用効果を奏する。同一機能を
奏する部位には同一の符号を付して説明する。本実施例
においても、加熱手段として機能するレーザビーム照射
装置８０が設けられている。これは、レーザビームを発
振する発振器８１と、レーザビームを走査するミラーを
もつスキャナー８２とを備えている。フィルム状の転写
材３は、フィルム状の担持体３０と、担持体３０に連続
的に膜状に担持された膜形成物質３１とで構成されてい
る。

【００４０】図１２から理解できるように、レーザビー
ム照射装置８０からのレーザビーム８０ｐは、フィルム
状の転写材３にこれの後方から、つまり、フィルム状の
転写材３のうち膜形成物質３１が形成されていない側か
ら照射される。照射されると、フィルム状の転写材３上
の膜形成物質３１が加熱される。その蒸着粒子は透明基
板５に堆積され、有機膜８の転写が真空室１１で行われ
る。

【００４１】本実施例においては、フィルム状の転写材
３の片面（上面）の全域にわたり膜形成物質３１がほぼ
均等厚みで被覆されている。マスク７は使用されていな
い。レーザビーム８０ｐを所定のパターンで走査すれ
ば、その走査パターンに相応するパターンでフィルム状
の転写材３上の膜形成物質３１が局部的に加熱される。
故に、局部的に加熱された膜形成物質３１が蒸着粒子と
なり飛翔し、透明基板５の被成膜面５０に堆積し、有機
膜８が形成される。有機膜８は、レーザビーム８０ｐの
走査パターンに相応するパターン形状をもつ。

【００４２】図１３に示す実施例１０では、フィルム状
の転写材３は、長さ方向に沿って連続するフィルム状の
担持体３０と、担持体３０の片面（上面）に担持された
膜形成物質３１と、担持体３０の他の片面に被覆された
レーザビーム吸収膜３２とで構成されている。レーザビ
ーム吸収膜３２は、レーザビーム８０ｐの吸収性を高め
るものであり、レーザビーム吸収率が高い材料（例えば
炭素系、樹脂系）を主要成分とする膜である。このよう
に転写材３のうちレーザビームを受光する受光側にレー
ザビーム吸収膜３２を形成すれば、担持体３０自体が高
いレーザビーム反射率をもつ場合であっても、転写材３
に担持されている膜形成物質３１を効率よく局部加熱で
きる。従って、高いレーザビーム反射率をもつものの強
度の面で優れた金属系で、担持体３０を形成することも
できる。

【００４３】（実施例１１）実施例１１を図１４に示
す。本実施例は、基本的には前記した実施例８と同様の
構成であり、基本的には同様の作用効果を奏する。同一
機能を奏する部位には同一の符号を付して説明する。本
実施例においては、転写材３を加熱する加熱手段として
機能できる電子ビーム照射装置８５が真空室１１に設け
られている。電子ビーム照射装置８５は高エネルギビー
ム照射手段として機能できるものであり、電子ビーム８
５ｐを発生する電子銃８６と、電子ビーム８５ｐを集束
させるリング状の集束コイル８７と、集束コイル８７の
電源８８とを備えている。

【００４４】電子ビーム照射装置８５からの電子ビーム
８５ｐは、フィルム状の転写材３にこれの後方から、つ
まり、フィルム状の転写材３のうち膜形成物質３１が形
成されていない側から真空室１１において照射される。
照射されると、フィルム状の転写材３上の膜形成物質３
１が加熱される。その蒸着粒子はフィルム状の転写材３
の被成膜面５０に堆積され、有機膜８の転写が真空室１
１で行われる。

【００４５】（実施例１２）実施例１２を図１５に示
す。本実施例においては、転写材３は、ガラス板状の担
持体３０と、担持体３０に積層した膜状の発熱膜３８
と、発熱膜３８の上に被覆された膜形成物質３１とを備
えている。発熱膜３８は所定のパターン形状を描くよう
に導電発熱材料で形成されている。導電発熱材料として
はアルミ、ＩＴＯを採用できる。

【００４６】発熱膜３８は給電装置３９に電気的に接続
されており、給電装置３９からの給電に伴い発熱膜３８
は発熱する。このように発熱すると、発熱膜３８の上の
膜形成物質３１は加熱されて真空室１１で蒸着粒子とな
り、微小隙間３ｘ（隙間幅：Ｋ１５）を介して対面する
透明基板５の被成膜面５０に堆積する。故に、有機膜８
が透明基板５の被成膜面５０に真空室１１で形成され
る。

【００４７】（適用例）図１６は、有機系ＥＬ素子に適
用した適用例を示す。図１６に示すように、有機系ＥＬ
素子は、ＩＴＯで形成された透明電極膜１０１をもつ透
明基板１００と、透明電極膜１０１に積層された正孔輸
送膜１０２と、正孔輸送膜１０２に積層された発光体膜
１０３と、発光体膜１０３に積層された電子輸送膜１０
４と、背面電極膜１０５とを備えている。

【００４８】正孔輸送膜１０２、発光体膜１０３、電子
輸送膜１０４で発光層２００が形成されている。上記し
た正孔輸送膜１０２、発光体膜１０３、電子輸送膜１０
４の主要成分は有機系物質であり、上記した各実施例に
係る製造方法に基づいて成膜されている。そのほか本発
明は上記し且つ図面に示した実施例のみに限定されるも
のではなく、例えば、寸法は上記した数値に限定される
ものではなく、また安定化と効率化のためにＥＬ素子が
透明電極膜と正孔輸送膜との間に有機系の正孔注入膜を
もつ場合には、正孔注入膜も上記した転写方法で形成で
きるなど、要旨を逸脱しない範囲内で、必要に応じて適
宜選択できるものである。

【００４９】

【発明の効果】本発明方法によれば、有機系の膜形成物
質を担持した転写材を用い、転写材を基板の被成膜面に
対面させて配置し、転写材の膜形成物質を加熱手段で加
熱して膜形成物質を基板の被成膜面に転写する。このよ
うな本発明方法によれば、新規な有機膜の形成方法を提
供できる。

【００５０】本発明方法によれば、基板の被成膜面と転
写材との間にマスクを介在させ、マスク越して転写を行
う場合には、基板に形成される有機膜のパターン形状は
マスクにより規定されるため、転写材に担持した膜形成
物質のパターン形状の高精度化をあまり考慮する必要が
ない。従って転写材に膜形成物質を担持させる操作が簡
単化する。また、転写材のうち基板の被成膜面に対向す
る側の全面に、膜形成物質を担持しておくこともでき
る。

【００５１】本発明方法によれば、転写材の担持体が長
さ方向に連続するフィルム状である場合には、フィルム
状の担持体に膜形成物質をその長さ方向に沿って連続的
に担持させておけば、有機膜を連続的に形成することが
できる。例えば、同種の膜形成物質をフィルム状の担持
体に連続的に担持しておけば、基板を交換すれば、多数
個の基板の被成膜面に、それぞれ同種の膜形成物質を堆
積させて同種の有機膜を形成することができる。

【００５２】またＥＬ素子に適用する場合には、正孔注
入膜を構成する物質、正孔輸送膜を構成する物質、発光
体膜を構成する物質、電子輸送膜を構成する物質を担持
体に担持しておけば、1個の基板の被成膜面に、正孔輸
送膜、発光体膜、電子輸送膜を順に積層することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例に係り、有機膜を透明基板に転写す
る過程を示す構成図である。

【図２】転写材の他の形態を示す断面図である。

【図３】転写材の別の他の形態を示す平面図である。

【図４】転写材の更に他の形態を示す側面図である。

【図５】第２実施例に係り、有機膜を透明基板に転写す
る過程を示す構成図である。

【図６】第３実施例に係り、有機膜を透明基板に転写す
る過程を示す構成図である。

【図７】第４実施例に係り、有機膜を透明基板に転写す
る過程を示す構成図である。

【図８】第５実施例に係り、有機膜を透明基板に転写す
る過程を示す構成図である。

【図９】第６実施例に係り、有機膜を透明基板に転写す
る過程を示す構成図である。

【図１０】第７実施例に係り、有機膜を透明基板に転写
する過程を示す構成図である。

【図１１】第８実施例に係り、レーザビームを用いて有
機膜を透明基板に転写する過程を示す構成図である。

【図１２】第９実施例に係り、レーザビームを用いて有
機膜を透明基板に転写する過程を示す構成図である。

【図１３】第１０実施例に係り、転写材の断面図であ
る。

【図１４】第１１実施例に係り、電子ビームを用いて有
機膜を透明基板に転写する過程を示す構成図である。

【図１５】第１２実施例に係り、転写材に設けた発熱膜
を用いて有機膜を透明基板に転写する過程を示す構成図
である。

【図１６】適用例に係り、有機系ＥＬ素子の概略断面図
である。

【符号の説明】

図中、１は成膜装置、２はホットプレート（加熱手
段）、３,３Ｂは転写材、３０は担持体、３１は膜形成
物質、５は透明基板（基板）、５０は被成膜面、７はマ
スク、８は有機膜、３８は発熱膜（加熱手段）、８０は
レーザビーム照射装置（加熱手段）、８５は電子ビーム
照射装置（加熱手段）を示す。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板の被成膜面の上に有機膜を形成する方
法において、有機系の膜形成物質を担持した転写材を前記基板の被成
膜面に対面させて配置し、加熱手段で前記膜形成物質を
加熱して前記膜形成物質を前記基板の被成膜面に転写す
ることを特徴とする有機膜の形成方法。
【請求項２】請求項１において、前記基板の被成膜面と
前記転写材との間にマスクを介在させ、その状態で、前
記転写材の膜形成物質を前記基板の被成膜面に転写する
ことを特徴とする有機膜の形成方法。
【請求項３】請求項１または２において、前記転写材
は、長さ方向に連続するフィルム状の担持体と、フィル
ム状の担持体に担持された有機系の膜形成物質とを備え
ていることを特徴とする有機膜の形成方法。