[go: up one dir, main page]

JP2000194090A - Production of heat developable photosensitive material - Google Patents

Production of heat developable photosensitive material

Info

Publication number
JP2000194090A
JP2000194090A JP10376544A JP37654498A JP2000194090A JP 2000194090 A JP2000194090 A JP 2000194090A JP 10376544 A JP10376544 A JP 10376544A JP 37654498 A JP37654498 A JP 37654498A JP 2000194090 A JP2000194090 A JP 2000194090A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
formula
silver
heterocyclic
compounds
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10376544A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihide Ezoe
利秀 江副
Katsuyuki Watanabe
克之 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP10376544A priority Critical patent/JP2000194090A/en
Publication of JP2000194090A publication Critical patent/JP2000194090A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of a photosensitive material having low fog and excellent aging stability of the coating liquid for emulsion layers by incorporating a specified compd. as a water dispersion into the coating liquid in the production method of a material having a specified antifog agent or the like. SOLUTION: When a photosensitive material containing an antifog agent or the like expressed by formula I is formed on one surface of a supporting body, at least one kind of compd. selected from compds. expressed by formulae II, III, IV or the like is incorporated. The selected compd. is added as a water dispersion to the coating liquid. In formula I, M is a hydrogen atom or k-valent cation, R is a substituent, n is an integer 1 to 4 and when n>=2, plural Rs may be same or different, k is an integer >=1, and when M is a hydrogen atom, k is 1. In formula II, each of R1, R2 and R3 is independently a hydrogen atom or substituent, and Z is an electron withdrawing group. In formula III, R4 is a substituent. In formula IV, each of X and Y is independently a hydrogen atom or substituent, and each of A and B is an alkoxy group or the like.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料の製
造方法に関するものであり、さらにはカブリ(Dmi
n)が極めて小さく、印刷製版用に適した熱現像超硬調
感光材料の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a photothermographic material, and more particularly, to fog (Dmi).
The present invention relates to a method for producing a heat-developable ultra-high contrast photosensitive material having a very small value of n) and suitable for printing plate making.

【0002】[0002]

【従来の技術】支持体上に感光性層を有し、画像露光す
ることで画像形成を行う感光材料は、数多く知られてい
る。それらの中でも、環境保全や画像形成手段が簡易化
できるシステムとして、熱現像により画像を形成する技
術が挙げられる。
2. Description of the Related Art There are many known photosensitive materials having a photosensitive layer on a support and forming an image by exposing the image. Among them, a technique for forming an image by thermal development is a system that can simplify environmental preservation and image forming means.

【0003】近年写真製版分野において環境保全、省ス
ペースの観点から処理廃液の減量が強く望まれている。
そこで、レーザー・スキャナーまたはレーザー・イメー
ジセッターにより効率的に露光させることができ、高解
像度および鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成するこ
とができる写真製版用途の感光性熱現像材料に関する技
術が必要とされている。これら感光性熱現像材料では、
溶液系処理化学薬品の使用をなくし、より簡単で環境を
損なわない熱現像処理システムを顧客に対して供給する
ことができる。
In recent years, in the field of photoengraving, it has been strongly desired to reduce the amount of processing waste liquid from the viewpoint of environmental protection and space saving.
Therefore, there is a need for a technology relating to a photothermographic material for photoengraving, which can be efficiently exposed by a laser scanner or a laser imagesetter and can form a clear black image having high resolution and sharpness. It has been. In these photosensitive heat developing materials,
By eliminating the use of solution processing chemicals, it is possible to provide customers with a simpler and more environmentally friendly thermal development processing system.

【0004】熱現像により画像を形成する方法は、例え
ば米国特許第3,152,904号、同3,457,075号、およびD.
モーガン(Morgan)とB.シェリー(Shely)による
「熱によって処理される銀システム(Thermally Proces
sed Silver Systems)A」(イメージング・プロセッシ
ーズ・アンド・マテリアルズ(Imaging Processes and M
aterials) Neblette 第8版、スタージ(Sturge)、
V.ウォールワーズ(Walworth)、A.シェップ(Shep
p) 編集、第2頁、1969年)に記載されている。このよ
うな感光材料は、還元可能な非感光性の銀源(例えば有
機銀塩)、触媒活性量の光触媒(例えばハロゲン化
銀)、および銀の還元剤を通常有機バインダーマトリッ
クス中に分散した状態で含有している。感光材料は常温
で安定であるが、露光後高温(例えば、80℃以上)に加
熱した場合に、還元可能な銀源(酸化剤として機能す
る)と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成す
る。この酸化還元反応は露光で発生した潜像の触媒作用
によって促進される。露光領域中の還元可能な銀塩の反
応によって生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露
光領域と対照をなし、画像の形成がなされる。
[0004] Methods of forming an image by thermal development are described in, for example, US Patent Nos. 3,152,904 and 3,457,075, and US Pat.
Morgan and B.A. "Thermal Proces Silver System (Thermally Proces)" by Shely
sed Silver Systems) A "(Imaging Processes and M
aterials) Neblette 8th edition, Sturge,
V. Walworth, A .; Shep
p) Edit, page 2, 1969). Such photosensitive materials are prepared by dispersing a reducible non-photosensitive silver source (eg, an organic silver salt), a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, silver halide), and a silver reducing agent, usually in an organic binder matrix. It is contained in. The photosensitive material is stable at room temperature, but when heated to a high temperature (for example, 80 ° C. or higher) after exposure, silver is reduced through a redox reaction between a reducible silver source (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. Generate This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image generated by the exposure. The silver formed by the reaction of the reducible silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image.

【0005】熱現像感光材料においてはカブリが大きな
問題である。熱写真用ハロゲン化銀感光材料のカブリ低
減に向け多くの検討がなされており、例えば、US358990
3号には水銀塩が開示されている。その他に、 US415216
0号にはベンゼン酸およびフタル酸等のカルボン酸、US4
784939号にはベンゾイルベンゼン酸化合物、US4569906
号にはインダンまたはテトラリンカルボン酸、US482061
7号にはジカルボン酸、US4626500号にはヘテロ芳香族カ
ルボン酸が開示されている。US4546075号、US4756999
号、US4452885号、US3874946号およびUS3955982号には
ハロゲン化化合物が開示されている。US5028523号には
ハロゲン分子またはヘテロ原子環と化合したハロゲン原
子が開示されている。US4103312号およびGB1502670号に
はパラジウム化合物、US4128428号には鉄類の金属、US4
123374号、US4129557号およびUS4125430号には置換トリ
アゾール類、US4213784号、US4245033号および特開昭51
-26019号には硫黄化合物、US4002479号にはチオウラシ
ル類、特開昭50-123331号にはスルフィン酸、US4125403
号、US4152160号、US4307187号にはチオスルホン酸の金
属塩、特開昭53-20923号および特開昭53-19825号にはチ
オスルホン酸の金属塩とスルフィン酸の併用、特公昭62
-50810号、特開平7-209797号および特開平9-43760号に
はチオスルホン酸エステル類が開示されている。また、
特開昭51−42529号、特公昭63−37368号
にジスルフィド化合物が開示されている。
Fog is a major problem in photothermographic materials. Many studies have been made to reduce fog of silver halide photosensitive materials for thermography. For example, US Pat.
No. 3 discloses a mercury salt. In addition, US415216
No. 0 includes carboxylic acids such as benzene acid and phthalic acid, US4
No. 784939 discloses a benzoylbenzene acid compound, US Pat.
No. indane or tetralin carboxylic acid, US482061
No. 7 discloses a dicarboxylic acid, and US Pat. No. 4,626,500 discloses a heteroaromatic carboxylic acid. US4546075, US4756999
Nos. 4,445,885, 3,874,946 and 3,955,982 disclose halogenated compounds. US5028523 discloses halogen atoms or halogen atoms combined with heteroatom rings. US4103312 and GB1502670 palladium compounds, US4128428 US iron metals, US4
123374, US4129557 and US4125430 include substituted triazoles, US4213784, US4245033 and JP
-26019 to sulfur compounds, US4002479 to thiouracils, JP-A-50-123331 to sulfinic acid, US4125403
No. 4,415,160, US Pat. No. 4,307,187, a metal salt of thiosulfonic acid, JP-A-53-20923 and JP-A-53-19825 describe a combination of a metal salt of thiosulfonic acid and sulfinic acid,
-50810, JP-A-7-209797 and JP-A-9-43760 disclose thiosulfonic acid esters. Also,
JP-A-51-42529 and JP-B-63-37368 disclose disulfide compounds.

【0006】しかし、これらの化合物のカブリ防止能は
十分でないか、あるいは添加量が多くなるとDmax
(最高濃度)が低下したり、処理後の画像保存安定性が
悪化するという欠点があり、新たなカブリ防止剤が望ま
れていた。
However, these compounds do not have sufficient fog-preventing ability, or if they are added in large amounts, Dmax
However, there is a drawback that the (highest density) decreases and the image storage stability after processing deteriorates, and a new antifoggant has been desired.

【0007】また、特開昭51−26019号、同57
−207244号、同60−207140号、US29
10377号、US3074809号、特開平2−25
1838号にはサリチル酸あるいはその誘導体が開示さ
れているが、超硬調なドライシルバー系における効果に
ついては何も記載されていない。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open Nos.
-207244, 60-207140, US29
10377, U.S. Pat. No. 3,074,809, JP-A-2-25
No. 1838 discloses salicylic acid or a derivative thereof, but does not disclose any effect in a super-hard dry silver system.

【0008】従来からこのタイプの熱現像感光材料は知
られているが、これらの感光材料の多くはトルエン、メ
チルエチルケトン(MEK)、メタノールなどの有機溶
剤を溶媒とする塗布液を塗布することにより感光性層を
形成している。
Conventionally, photothermographic materials of this type have been known, but most of these materials are exposed to light by applying a coating solution using an organic solvent such as toluene, methyl ethyl ketone (MEK) or methanol as a solvent. The active layer is formed.

【0009】また、水溶媒の塗布液を用いて感光性層
(以降「水系感光性層」ともいう。)を形成する方法も
提案されている。例えば特開昭49-52626号、特開昭53-1
16144号などにはゼラチンをバインダーとする例が記載
されている。また特開昭50-151138号にはポリビニルア
ルコールをバインダーとする例が記載されている。さら
に特開昭60-61747号にはゼラチンとポリビニルアルコー
ルを併用した例が記載されている。これ以外の例として
特開昭58-28737号には水溶性ポリビニルアセタールをバ
インダーとする感光性層の例が記載されている。
There has also been proposed a method of forming a photosensitive layer (hereinafter also referred to as "aqueous photosensitive layer") using a coating solution of an aqueous solvent. For example, JP-A-49-52626, JP-A-53-1
No. 16144 describes an example using gelatin as a binder. JP-A-50-151138 discloses an example in which polyvinyl alcohol is used as a binder. Further, JP-A-60-61747 describes an example in which gelatin and polyvinyl alcohol are used in combination. As another example, JP-A-58-28737 describes an example of a photosensitive layer using water-soluble polyvinyl acetal as a binder.

【0010】欧州特許762,196号、特開平9-90550号公報
等に熱現像画像記録材料に用いる感光性ハロゲン化銀粒
子に第VII族もしくはVIII族(第7〜10族)の金属イ
オンまたは金属錯体イオンを含有させること、および感
光材料中にヒドラジン誘導体を含有させて高コントラス
トな写真特性を得ることができることが開示されてい
る。
[0010] European Patent 762,196, JP-A-9-90550 and the like disclose photosensitive silver halide grains used in heat-developable image recording materials with metal ions or metal complexes of Group VII or VIII (Groups 7 to 10). It discloses that ions can be contained and that a hydrazine derivative can be contained in a photosensitive material to obtain high-contrast photographic characteristics.

【0011】上記のように熱現像感光材料でもヒドラジ
ン誘導体を用いることにより、写真製版用途に適した高
コントラストかつDmaxの高い性能が得られることが知
られているが、一方、乳剤層塗布液を経時することによ
り、カブリが増大し、かつ軟調化するという問題があっ
た。
As described above, it is known that the use of a hydrazine derivative in a photothermographic material can provide high contrast and high Dmax performance suitable for photolithography. There has been a problem that fogging increases and softens as time passes.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、カブリ(Dmin)が極めて小さく、かつ塗布液、
特に乳剤層塗布液の経時安定性の優れた熱現像感光材
料、特に熱現像超硬調感光材料の製造方法を提供するこ
とである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide an image forming apparatus which has an extremely small fog (Dmin),
In particular, it is an object of the present invention to provide a method for producing a photothermographic material having excellent stability over time in an emulsion layer coating solution, especially a photothermographic material having a super-high contrast.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記課題は、下記の手段
により達成できた。 (1) 支持体の少なくとも一方の面上に、(a)感光
性ハロゲン化銀、(b)還元可能な銀塩、(c)還元
剤、(d)バインダー、および(e)式(1)で表わさ
れるカブリ防止剤を有する熱現像感光材料の製造方法で
あって、式(A1)、式(A2)、式(A3)、および
式(H)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種
の化合物を含有させる際、前記化合物を水分散物として
塗布液に添加することを特徴とする熱現像感光材料の製
造方法。
The above object has been achieved by the following means. (1) On at least one surface of the support, (a) a photosensitive silver halide, (b) a reducible silver salt, (c) a reducing agent, (d) a binder, and (e) a formula (1) A method for producing a photothermographic material having an antifoggant represented by formula (A1), formula (A2), formula (A3), or a compound represented by formula (H) Wherein the compound is added as a water dispersion to the coating solution when the compound is contained.

【0014】[0014]

【化6】 Embedded image

【0015】[式(1)において、Mは水素原子または
k価の陽イオンを表し、Rは置換基を表す。nは1〜4
の整数で、n≧2の時、複数個あるRは、同一でも異な
っていてもよい。kは1以上の整数であり、Mが水素原
子の時k=1である。]
[In the formula (1), M represents a hydrogen atom or a k-valent cation, and R represents a substituent. n is 1 to 4
When n ≧ 2, a plurality of Rs may be the same or different. k is an integer of 1 or more, and when M is a hydrogen atom, k = 1. ]

【0016】[0016]

【化7】 Embedded image

【0017】[0017]

【化8】 Embedded image

【0018】[0018]

【化9】 Embedded image

【0019】[式(A1)において、R1、R2およびR3
は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Zは
電子吸引性基を表す。式(A1)において、R1とZ、R2
とR3、R1とR2、およびR3とZは、それぞれ互いに結
合して環状構造を形成していてもよい。式(A2)におい
て、R4は、置換基を表す。式(A3)において、Xおよ
びYは、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、
AおよびBは、それぞれ独立にアルコキシ基、アルキル
チオ基、アルキルアミノ基、アリールオキシ基、アリー
ルチオ基、アニリノ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チ
オ基、またはヘテロ環アミノ基を表す。式(A3)におい
て、XとYおよびAとBは、それぞれ互いに結合して環
状構造を形成していてもよい。]
[In the formula (A1), R 1 , R 2 and R 3
Each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group. In the formula (A1), R 1 and Z, R 2
And R 3 , R 1 and R 2 , and R 3 and Z may be mutually bonded to form a cyclic structure. In the formula (A2), R 4 represents a substituent. In the formula (A3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent,
A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, a heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic amino group. In the formula (A3), X and Y and A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure. ]

【0020】[0020]

【化10】 Embedded image

【0021】[式(H)において、R20は脂肪族基、芳
香族基、またはヘテロ環基を表し、R10は水素原子また
はブロック基を表し、G1は−CO−、−COCO−、
−C(=S)−、−SO2−、−SO−、−PO(R30)
−基(R30はR10に定義した基と同じ範囲内より選ば
れ、R10と異なっていてもよい。)、またはイミノメチ
レン基を表す。A1およびA2はそれぞれ水素原子、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはアシ
ル基を表し、A1およびA2のなかの少なくとも一方は水
素原子である。m1は0または1であり、m1が0の時、
10は脂肪族基、芳香族基、またはヘテロ環基を表
す。] (2) 式(A1)、式(A2)、および式(A3)で
表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物、
ならびに式(H)で表される少なくとも1種の化合物の
双方を水分散物として塗布液に添加する熱現像感光材料
の製造方法。 (3) 式(A1)、式(A2)、式(A3)、および
式(H)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種
の化合物が固体微粒子分散状態で水分散物中に含有され
る上記(1)または(2)の熱現像感光材料の製造方
法。 (4) 式(A1)、式(A2)、および式(A3)で
表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物、
ならびに式(H)で表される少なくとも1種の化合物の
双方が固体微粒子分散状態で水分散物中に含有される上
記(1)〜(3)のいずれかの熱現像感光材料の製造方
法。 (5) 感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成層を有
し、この画像形成層のバインダーの50重量%以上とし
てポリマーラテックスを用いており、溶媒の60重量%
以上が水である塗布液を用いて画像形成層を塗布し形成
する上記(1)〜(4)のいずれかの熱現像感光材料の
製造方法。
[In the formula (H), R 20 represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group, R 10 represents a hydrogen atom or a block group, and G 1 represents —CO—, —COCO—,
-C (= S) -, - SO 2 -, - SO -, - PO (R 30)
- group (. R 30 is selected from the same range as the groups defined in R 10, may be different from R 10), or an iminomethylene group. A 1 and A 2 each represent a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, or an acyl group, and at least one of A 1 and A 2 is a hydrogen atom. m 1 is 0 or 1, and when m 1 is 0,
R 10 represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group. (2) at least one compound selected from the compounds represented by the formulas (A1), (A2) and (A3);
And a method for producing a photothermographic material, wherein both of at least one compound represented by formula (H) are added to a coating solution as an aqueous dispersion. (3) At least one compound selected from the compounds represented by Formula (A1), Formula (A2), Formula (A3), and Formula (H) is contained in an aqueous dispersion in a solid fine particle dispersed state. The method for producing a photothermographic material according to the above (1) or (2). (4) at least one compound selected from compounds represented by formula (A1), formula (A2), and formula (A3);
In addition, the method for producing a photothermographic material according to any one of the above (1) to (3), wherein both the at least one compound represented by the formula (H) is contained in the aqueous dispersion in the form of solid fine particles dispersed therein. (5) An image forming layer containing a photosensitive silver halide, wherein a polymer latex is used as 50% by weight or more of a binder of the image forming layer, and 60% by weight of a solvent
The method for producing a photothermographic material according to any one of the above (1) to (4), wherein the image forming layer is formed by applying a coating solution comprising water as described above.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において、熱現像感光材料は、式(1)で表され
るカブリ防止剤を含有し、かつ式(A1)、(A2)、
(A3)、(H)で表される化合物を含有するものであ
るが、式(A1)、(A2)、(A3)、(H)で表さ
れる化合物を水分散物として添加した塗布液を用いて製
造しているため、経時させた後の塗布液を用いても非画
像部の熱カブリを抑制することができ、かつ硬調性を保
持することができる。従って、本発明によって得られる
熱現像感光材料は、カブリ(Dmin)が極めて小さ
く、Dminの低い印刷製版用に適した熱現像超硬調感
光材料である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present invention, the photothermographic material contains the antifoggant represented by the formula (1), and comprises the formulas (A1), (A2),
(A3) A coating solution containing a compound represented by (H), but containing a compound represented by formula (A1), (A2), (A3) or (H) as an aqueous dispersion. Therefore, even if the coating solution that has been aged is used, heat fogging in the non-image area can be suppressed, and high contrast can be maintained. Therefore, the photothermographic material obtained by the present invention is a heat-developable ultra-high contrast photothermographic material having extremely small fog (Dmin) and suitable for printing plate making having a low Dmin.

【0023】特に、感光性ハロゲン化銀を含有する画像
形成層(乳剤層)を有し、この画像形成層のバインダー
の50重量%以上としてポリマーラテックスを用い、溶
媒の60重量%以上が水である水系塗布により画像形成
層を形成する場合に効果が大きく、なかでもこのような
画像形成層塗布液に式(A1)〜式(A3)、式(H)
で表される化合物を添加する場合に有効である。まず、
本発明に用いられる式(1)について、詳細に説明す
る。式(1)を下記に示す。
In particular, it has an image forming layer (emulsion layer) containing a photosensitive silver halide, a polymer latex is used as 50% by weight or more of the binder of the image forming layer, and 60% by weight or more of the solvent is water. The effect is great when the image forming layer is formed by a certain aqueous coating. Particularly, such an image forming layer coating solution is applied to the formulas (A1) to (A3) and the formula (H).
This is effective when a compound represented by the following formula is added. First,
Formula (1) used in the present invention will be described in detail. Equation (1) is shown below.

【0024】[0024]

【化11】 Embedded image

【0025】式(1)において、Mは水素原子またはk
価の陽イオン(例えば、ナトリウムイオン、カリウムイ
オン、カルシウムイオン、バリウムイオン、亜鉛イオン
等の金属イオン、テトラメチルアンモニウムイオン、テ
トラブチルアンモニウムイオン等のアンモニウムイオン
等)を表わす。kは例示されるイオンが示すように1以
上の整数であり、通常1または2である。また、Mが水
素原子の時k=1である。
In the formula (1), M is a hydrogen atom or k
It represents a valent cation (eg, a metal ion such as a sodium ion, a potassium ion, a calcium ion, a barium ion, and a zinc ion, and an ammonium ion such as a tetramethylammonium ion and a tetrabutylammonium ion). k is an integer of 1 or more as shown by the exemplified ion, and is usually 1 or 2. When M is a hydrogen atom, k = 1.

【0026】式(1)において、Rは置換基を表わし、
例えば直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは
炭素数1〜20、より好ましくは1〜12、特に好ましくは
1〜8であり、例えば、メチル、エチル、iso−プロ
ピル、t−ブチル、n−オクチル、1,1,3,3−テ
トラメチルブチル、t−アミル、シクロヘキシルなどが
挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜
20、より好ましくは2〜12、特に好ましくは2〜8であ
り、例えば、ビニル、アリル、2-ブテニル、3-ペンテニ
ルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭
素数2〜20、より好ましくは2〜12、特に好ましくは2
〜8であり、例えば、プロパルギル、3-ペンチニルなど
が挙げられる。)、アラルキル基(好ましくは炭素数7
〜30、より好ましくは7〜20、特に好ましくは7〜
16であり、例えば、ベンジル、α−メチルベンジル、
α−エチルベンジル、ジフェニルメチル、ナフチルメチ
ル、ナフチルフェニルメチルなどが挙げられる。)、ア
リール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは6
〜20、 特に好ましくは6〜12であり、例えば、フェニ
ル、p-メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられ
る。)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ま
しくは0〜10、更に好ましくは0〜6であり、例えば、
アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。)、アルコキ
シ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜1
2、特に好ましくは1〜8であり、例えば、メトキシ、
エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。)、アリールオ
キシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは6〜
16、特に好ましくは6〜12であり、例えば、フェニルオ
キシ、2-ナフチルオキシなどが挙げられる。)、アシル
基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、
特に好ましくは1〜12であり、例えば、アセチル、ベン
ゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、
アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、よ
り好ましくは2〜16、特に好ましくは2〜12であり、例
えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが
挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好まし
くは炭素数7〜20、より好ましくは7〜16、特に好まし
くは7〜10であり、例えば、フェノキシカルボニルなど
が挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数
1〜20、より好ましくは2〜16、特に好ましくは2〜10
であり、例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシなどが
挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数1
〜20、より好ましくは2〜16、特に好ましくは2〜10で
あり、例えば、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノなど
が挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好
ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、特に好
ましくは2〜12であり、例えば、メトキシカルボニルア
ミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル
アミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは7
〜16、特に好ましくは7〜12であり、例えば、フェニル
オキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホ
ニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましく
は1〜16、特に好ましくは1〜12であり、例えば、メタ
ンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが
挙げられる。)、スルファモイル基(好ましくは炭素数
0〜20、より好ましくは0〜16、特に好ましくは0〜12
であり、例えば、スルファモイル、メチルスルファモイ
ル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル
などが挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭
素数0〜20、より好ましくは0〜16、特に好ましくは0
〜12であり、例えば、カルバモイル、ジエチルカルバモ
イル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、ウ
レイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは1
〜16、特に好ましくは1〜12であり、例えば、ウレイ
ド、メチルウレイド、フェニルウレイなどが挙げられ
る。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、よ
り好ましくは1〜16、特に好ましくは1〜12であり、例
えば、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、
アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好まし
くは6〜16、特に好ましくは6〜12であり、例えば、フ
ェニルチオなどが挙げられる。)、スルホニル基(好ま
しくは炭素数1〜20、より好ましくは1〜16、特に好ま
しくは1〜12であり、例えば、メシル、トシルなどが挙
げられる。)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜
20、より好ましくは1〜16、特に好ましくは1〜12であ
り、例えば、メタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニ
ルなどが挙げられる。)、燐酸アミド基(好ましくは炭
素数1〜20、より好ましくは1〜16、特に好ましくは1
〜12であり、例えば、ジエチル燐酸アミド、フェニル燐
酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカ
プト基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カ
ルボキシ基、ニトロ基、ヒドロキサム基、スルフィノ
基、ヒドラジノ基、スルホニルチオ基、チオスルホニル
基、ヘテロ環基(例えば、イミダゾリル、ピリジル、フ
リル、ピペリジル、モリホリルなどが挙げられる。)、
ジスルフィド基などが挙げられる。
In the formula (1), R represents a substituent,
For example, a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 20, more preferably 1 to 12, particularly preferably 1 to 8, for example, methyl, ethyl, iso-propyl, t-butyl, n -Octyl, 1,1,3,3-tetramethylbutyl, t-amyl, cyclohexyl, etc.), alkenyl group (preferably having 2 to 2 carbon atoms)
20, more preferably 2 to 12, particularly preferably 2 to 8, for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl and the like. ), An alkynyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 12 carbon atoms).
To 8, for example, propargyl, 3-pentynyl and the like. ), An aralkyl group (preferably having 7 carbon atoms)
~ 30, more preferably 7 ~ 20, particularly preferably 7 ~
16, for example, benzyl, α-methylbenzyl,
α-ethylbenzyl, diphenylmethyl, naphthylmethyl, naphthylphenylmethyl and the like. ), An aryl group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 carbon atoms)
-20, particularly preferably 6-12, for example, phenyl, p-methylphenyl, naphthyl and the like. ), An amino group (preferably having 0 to 20, more preferably 0 to 10, and still more preferably 0 to 6, for example,
Amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino and the like can be mentioned. ), An alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 1 carbon atoms)
2, particularly preferably 1 to 8, for example, methoxy,
Ethoxy, butoxy and the like can be mentioned. ), An aryloxy group (preferably having 6 to 20 carbon atoms, more preferably having 6 to 20 carbon atoms)
16, particularly preferably 6 to 12, for example, phenyloxy, 2-naphthyloxy and the like. ), An acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16,
Particularly preferred is 1 to 12, for example, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl and the like. ),
An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), an aryloxycarbonyl group (preferably carbon The number is 7 to 20, more preferably 7 to 16, particularly preferably 7 to 10, and examples thereof include phenoxycarbonyl and the like, and an acyloxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms). Particularly preferably, 2 to 10
And examples thereof include acetoxy and benzoyloxy. ), An acylamino group (preferably having 1 carbon atom)
-20, more preferably 2-16, particularly preferably 2-10, for example, acetylamino, benzoylamino and the like. ), An alkoxycarbonylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino, etc.), and an aryloxycarbonylamino group (preferably Has 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 carbon atoms
To 16, particularly preferably 7 to 12, and examples include phenyloxycarbonylamino. ), A sulfonylamino group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, etc.), a sulfamoyl group (preferably Has 0 to 20, more preferably 0 to 16, and particularly preferably 0 to 12 carbon atoms.
And include, for example, sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl and the like. ), A carbamoyl group (preferably having 0 to 20, more preferably 0 to 16, particularly preferably 0 to 16 carbon atoms)
To 12, for example, carbamoyl, diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl and the like. ), A ureido group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1
To 16, particularly preferably 1 to 12, and examples thereof include ureido, methylureide, and phenylurey. ), An alkylthio group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, for example, methylthio, ethylthio, etc.),
An arylthio group (preferably having 6 to 20, more preferably 6 to 16, particularly preferably 6 to 12, and examples thereof include phenylthio, etc.), a sulfonyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably Is 1 to 16, particularly preferably 1 to 12, and examples thereof include mesyl and tosyl.) And a sulfinyl group (preferably having 1 to 1 carbon atoms)
20, more preferably 1 to 16, particularly preferably 1 to 12, for example, methanesulfinyl, benzenesulfinyl and the like. ), A phosphoramide group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 16 carbon atoms).
To 12, for example, diethylphosphoramide, phenylphosphoramide and the like. ), Hydroxy group, mercapto group, halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxy group, nitro group, hydroxam group, sulfino group, hydrazino group, sulfonylthio group Thiosulfonyl group, heterocyclic group (for example, imidazolyl, pyridyl, furyl, piperidyl, morpholinyl, etc.),
And a disulfide group.

【0027】これらの置換基は、更に、置換されていて
も良く、塩形成が可能な基である場合は塩を形成してい
ても良い。また、nは1〜4の整数であるが、置換基が
2つ以上ある場合、即ちn≧の2場合は、同じでも異な
っていても良い。nは1〜3が好ましく、2が最も好ま
しい。
These substituents may be further substituted and, if the group is capable of forming a salt, may form a salt. Further, n is an integer of 1 to 4, but when there are two or more substituents, that is, when n ≧ 2, they may be the same or different. n is preferably 1 to 3, and most preferably 2.

【0028】また、これらの置換基は互いに結合して5
員ないし7員環の非芳香族または芳香族の炭素環(例え
ばベンゼン環)を形成しても良い。さらに、この環は他
の置換基(例えばハロゲン原子、カルボキシ基)で置換
されていても良い。
These substituents are bonded to each other to form 5
A non-aromatic or aromatic carbon ring (for example, a benzene ring) having a 7 to 7-membered ring may be formed. Further, this ring may be substituted with another substituent (eg, a halogen atom, a carboxy group).

【0029】Rで表わされる置換基として好ましくは、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル
基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミ
ノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミ
ノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド
基、アルキルチオ基、スルホニル基、ヒドロキシ基、メ
ルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カル
ボキシ基、ニトロ基、ヘテロ環基であり、さらに好まし
くは、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アミ
ノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、
メルカプト基、ハロゲン原子、スルホ基、カルボキシ基
である。
The substituent represented by R is preferably
Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group, aryl group, amino group, alkoxy group, acyl group,
Alkoxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, alkylthio group, sulfonyl group, hydroxy group, mercapto group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxy Group, a nitro group, a heterocyclic group, more preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an amino group, an alkoxy group, an alkylthio group, a hydroxy group,
A mercapto group, a halogen atom, a sulfo group, and a carboxy group.

【0030】さらに、式(1)において、水酸基のオル
ト位および/またはパラ位にアルキル基(アラルキル基
を含む)が置換することが特に好ましい。
Further, in the formula (1), it is particularly preferred that an alkyl group (including an aralkyl group) is substituted at the ortho position and / or the para position of the hydroxyl group.

【0031】また、式(1)の化合物が一つの炭素を介
して結合したビスフェノール構造もより好ましい。
Further, a bisphenol structure in which the compound of the formula (1) is bonded via one carbon is more preferable.

【0032】次に本発明のカブリ防止剤の具体例を示す
が、本発明はこれに限定されるものではない。
Next, specific examples of the antifoggant of the present invention are shown, but the present invention is not limited thereto.

【0033】[0033]

【化12】 Embedded image

【0034】[0034]

【化13】 Embedded image

【0035】[0035]

【化14】 Embedded image

【0036】[0036]

【化15】 Embedded image

【0037】[0037]

【化16】 Embedded image

【0038】[0038]

【化17】 Embedded image

【0039】本発明の式(1)のカブリ防止剤は、市販
のものを用いても良く、また、例えば、特開平2-251838
号に開示されている方法やJ.Med.Chem.,34,342(1991)に
記載のサリチル酸とカルボニル化合物との酸触媒縮合反
応等によって容易に合成できる。
As the antifoggant of the formula (1) of the present invention, a commercially available one may be used.
And the acid-catalyzed condensation reaction of salicylic acid with a carbonyl compound described in J. Med. Chem., 34, 342 (1991).

【0040】本発明の式(1)のカブリ防止剤は、水あ
るいは適当な有機溶媒、例えばアルコール類(メタノー
ル、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコー
ル)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセル
ソルブなどに溶解して用いることができる。
The antifoggant of the formula (1) of the present invention may be water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl It can be used by dissolving it in sulfoxide, methylcellosolve and the like.

【0041】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、粉末を水の中にボールミ
ル、コロイドミル、サンドグラインダーミル、マントン
ゴーリン、マイクロフルイダイザーあるいは超音波によ
って分散し用いることができる。
Further, by a well-known emulsification and dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone is used for dissolution and mechanical dissolution. An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, the powder can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, a sand grinder mill, a Manton-Gaulin, a microfluidizer, or an ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method.

【0042】本発明の式(1)のカブリ防止剤は、支持
体に対して画像形成層側の層、即ち画像形成層あるいは
この層側の他のどの層に添加してもよいが、画像形成層
あるいはそれに隣接する層に添加することが好ましい。
画像形成層は還元可能な銀塩(有機銀塩)を含有する層
であり、好ましくはさらに感光性ハロゲン化銀を含有す
る感光性層であることが好ましい。
The antifoggant of the formula (1) of the present invention may be added to the layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, the image forming layer or any other layer on the layer side. It is preferably added to the forming layer or a layer adjacent thereto.
The image forming layer is a layer containing a reducible silver salt (organic silver salt), and is preferably a photosensitive layer further containing a photosensitive silver halide.

【0043】本発明の式(1)のカブリ防止剤の添加量
は、Ag 1molに対するmol量mol/molAg)で示して、好
ましくは1×10-5〜5×10-1mol/molAg、より好ま
しくは、5×10-5〜1×10-1mol/molAg、更に好ま
しくは、1×10-4〜5×10-2mol/molAgである。こ
れらは1種のみを用いても2種以上を併用しても良い。
The addition amount of the antifoggant of the formula (1) of the present invention is represented by mol / mol Ag per mol of Ag), preferably from 1 × 10 −5 to 5 × 10 −1 mol / mol Ag. Preferably, it is 5 × 10 -5 to 1 × 10 -1 mol / molAg, and more preferably, 1 × 10 -4 to 5 × 10 -2 mol / molAg. These may be used alone or in combination of two or more.

【0044】本発明の熱現像感光材料には硬調化剤とし
て、式(A1)〜式(A3)で表される置換アルケン誘導
体,置換イソオキサゾール誘導体,および特定のアセタ
ール化合物、あるいは式(H)で表されるヒドラジン誘
導体を含有する。硬調化剤としては式(A1)〜式(A3)
で表される化合物がより好ましく用いられる。式(A
1)、式(A2)、および式(A3)について説明する。
In the photothermographic material of the present invention, a substituted alkene derivative represented by the formula (A1) to formula (A3), a substituted isoxazole derivative and a specific acetal compound represented by the formula (H) A hydrazine derivative represented by the formula: Formulas (A1) to (A3) as the high contrast agent
The compound represented by is more preferably used. The formula (A
1), Formula (A2), and Formula (A3) will be described.

【0045】[0045]

【化18】 Embedded image

【0046】式(A1)においてR1、R2、R3は、それ
ぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引
性基を表す。式(A1)においてR1とZ、R2とR3、R1
とR2、或いはR3とZは、互いに結合して環状構造を形
成していてもよい。式(A2)においてR4は、置換基を
表す。式(A3)においてX,Yはそれぞれ独立に水素原
子または置換基を表し、A,Bはそれぞれ独立に、アル
コキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アリー
ルオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ環オ
キシ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環アミノ基を表
す。式(A3)においてXとY、あるいはAとBは、互い
に結合して環状構造を形成していてもよい。
In the formula (A1), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group. In the formula (A1), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1
And R 2 or R 3 and Z may combine with each other to form a cyclic structure. In the formula (A2), R 4 represents a substituent. In formula (A3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group, or a heterocyclic group. Represents an oxy group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic amino group. In the formula (A3), X and Y or A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure.

【0047】式(A1)で表される化合物について詳しく
説明する。式(A1)においてR1、R2、R3は、それぞ
れ独立に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性
基を表す。式(A1)においてR1とZ、R2とR3、R1
2、或いはR3とZは、互いに結合して環状構造を形成
していてもよい。
The compound represented by the formula (A1) will be described in detail. In the formula (A1), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group. In the formula (A1), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1 and R 2 , or R 3 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure.

【0048】R1、R2、R3が置換基を表す時、置換基
の例としては、例えばハロゲン原子(フッ素原子、クロ
ル原子、臭素原子、または沃素原子)、アルキル基(ア
ラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含
む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテ
ロ環基(N−置換の含窒素ヘテロ環基を含む)、4級化
された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ
基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基また
はその塩、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオ
カルボニル基、スルホニルカルバモイル基、アシルカル
バモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾ
イル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、チ
オカルバモイル基、ヒドロキシ基またはその塩、アルコ
キシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基
単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしく
はアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキ
ル,アリール,またはヘテロ環)アミノ基、アシルアミ
ノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド
基、イソチオウレイド基、イミド基、(アルコキシもし
くはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモ
イルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド
基、ヒドラジノ基、4級のアンモニオ基、オキサモイル
アミノ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウ
レイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルア
ミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル,アリー
ル,またはヘテロ環)チオ基、アシルチオ基、(アルキ
ルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはア
リール)スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スル
ファモイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルス
ルファモイル基またはその塩、ホスホリル基、リン酸ア
ミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、シリル基、
スタニル基等が挙げられる。これら置換基は、これら置
換基でさらに置換されていてもよい。
When R 1 , R 2 and R 3 represent a substituent, examples of the substituent include, for example, a halogen atom (a fluorine atom, a chloro atom, a bromine atom or an iodine atom), an alkyl group (an aralkyl group and a cycloalkyl group). An alkyl group, an active methine group, etc.), an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group (including an N-substituted nitrogen-containing heterocyclic group), and a heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom ( For example, a pyridinio group), an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a carboxy group or a salt thereof, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a thiocarbonyl group, a sulfonylcarbamoyl group, an acylcarbamoyl group, Famoylcarbamoyl group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, thiocarbamoyl group, A droxy group or a salt thereof, an alkoxy group (including a group repeatedly containing an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group unit), an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an acyloxy group, an (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, and a carbamoyloxy group , A sulfonyloxy group, an amino group, an (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, an acylamino group, a sulfonamide group, a ureido group, a thioureido group, an isothioureido group, an imide group, an (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, Famoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonio group, oxamoylamino group, (alkyl or aryl) sulfonyluureido group, acylureido group, acylsulfur Amoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, acylthio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, acyl A sulfamoyl group, a sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, a phosphoryl group, a group containing a phosphate amide or a phosphate ester structure, a silyl group,
And a stannyl group. These substituents may be further substituted with these substituents.

【0049】式(A1)においてZで表される電子吸引性
基とは、ハメットの置換基定数σpが正の値を取りうる
置換基のことであり、具体的には、シアノ基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバ
モイル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオ
カルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、ニトロ基、ハロゲン原子、
パーフルオロアルキル基、パーフルオロアルカンアミド
基、スルホンアミド基、アシル基、ホルミル基、ホスホ
リル基、カルボキシ基、スルホ基(またはその塩)、ヘ
テロ環基、アルケニル基、アルキニル基、アシルオキシ
基、アシルチオ基、スルホニルオキシ基、またはこれら
電子吸引性基で置換されたアリール基等である。ここに
ヘテロ環基とは、芳香族もしくは非芳香族の、飽和もし
くは不飽和のヘテロ環基で、例えばピリジル基、キノリ
ル基、キノキサリニル基、ピラジニル基、ベンゾトリア
ゾリル基、イミダゾリル基、ベンツイミダゾリル基、ヒ
ダントイン−1−イル基、ウラゾール−1−イル基、ス
クシンイミド基、フタルイミド基等がその例として挙げ
られる。式(A1)においてZで表される電子吸引性基
は、さらに置換基を有していてもよく、その置換基とし
ては、式(A1)のR1、R2、R3が置換基を表す時に有
していてもよい置換基と同じものが挙げられる。
The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (A1) is a substituent whose Hammett's substituent constant σp can take a positive value, specifically, a cyano group, an alkoxycarbonyl Group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, halogen atom,
Perfluoroalkyl group, perfluoroalkaneamide group, sulfonamide group, acyl group, formyl group, phosphoryl group, carboxy group, sulfo group (or salt thereof), heterocyclic group, alkenyl group, alkynyl group, acyloxy group, acylthio group , A sulfonyloxy group, or an aryl group substituted with these electron-withdrawing groups. Here, the heterocyclic group is an aromatic or non-aromatic, saturated or unsaturated heterocyclic group, for example, a pyridyl group, a quinolyl group, a quinoxalinyl group, a pyrazinyl group, a benzotriazolyl group, an imidazolyl group, a benzimidazolyl group. Groups, hydantoin-1-yl group, urazol-1-yl group, succinimide group, phthalimide group and the like. The electron-withdrawing group represented by Z in the formula (A1) may further have a substituent. As the substituent, R 1 , R 2 , and R 3 in the formula (A1) are the same. The same substituents as the substituents which may be present at the time of expression are exemplified.

【0050】式(A1)においてR1とZ、R2とR3、R1
とR2、或いはR3とZは、互いに結合して環状構造を形
成していてもよいが、この時形成される環状構造とは、
非芳香族の炭素環もしくは非芳香族のヘテロ環である。
In the formula (A1), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1
And R 2 , or R 3 and Z may be bonded to each other to form a cyclic structure.
It is a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring.

【0051】次に式(A1)で表される化合物の好ましい
範囲について述べる。式(A1)においてZで表される電
子吸引性基として好ましくは、総炭素数0〜30の以下
の基、即ち、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、カルバモイル基、チオカルボ
ニル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、スルフ
ァモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニ
ル基、ニトロ基、パーフルオロアルキル基、アシル基、
ホルミル基、ホスホリル基、アシルオキシ基、アシルチ
オ基、または任意の電子吸引性基で置換されたフェニル
基等であり、さらに好ましくは、シアノ基、アルコキシ
カルボニル基、カルバモイル基、チオカルボニル基、イ
ミノ基、N原子で置換したイミノ基、スルファモイル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
シル基、ホルミル基、ホスホリル基、トリフルオロメチ
ル基、または任意の電子吸引性基で置換されたフェニル
基等であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカル
ボニル基、カルバモイル基、イミノ基、N原子で置換し
たイミノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニ
ル基、アシル基、またはホルミル基である。
Next, the preferred range of the compound represented by the formula (A1) will be described. As the electron-withdrawing group represented by Z in the formula (A1), preferably the following groups having a total carbon number of 0 to 30, that is, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, a thiocarbonyl group, Imino group, imino group substituted by N atom, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, perfluoroalkyl group, acyl group,
A formyl group, a phosphoryl group, an acyloxy group, an acylthio group, or a phenyl group substituted with any electron-withdrawing group, and more preferably a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a thiocarbonyl group, an imino group, An imino group substituted with an N atom, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyl group, a formyl group, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, or a phenyl group substituted with any electron-withdrawing group; Particularly preferred are a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyl group, and a formyl group.

【0052】式(A1)においてR1で表される置換基と
して好ましくは、総炭素数0〜30の基で、具体的には
上述の式(A1)のZで表される電子吸引性基と同義の
基、およびアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アル
キルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、
ウレイド基、アシルアミノ基、シリル基、または置換も
しくは無置換のアリール基等が挙げられる。
In the formula (A1), the substituent represented by R 1 is preferably a group having a total carbon number of 0 to 30, specifically, an electron-withdrawing group represented by Z in the above formula (A1). And an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group,
Aryloxy group, heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, amino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group,
Examples include a ureido group, an acylamino group, a silyl group, and a substituted or unsubstituted aryl group.

【0053】さらに式(A1)においてR1は、好ましく
は上述の式(A1)のZで表される電子吸引性基と同義の
基、水素原子、置換もしくは無置換のアリール基、アル
ケニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキ
シ基、シリル基、またはアシルアミノ基である。
In the formula (A1), R 1 is preferably a group having the same meaning as the electron-withdrawing group represented by Z in the above formula (A1), a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted aryl group, an alkenyl group, It is an alkylthio group, an arylthio group, an alkoxy group, a silyl group, or an acylamino group.

【0054】式(A1)においてR1は、より好ましく
は、電子吸引性基、アリール基、アルケニル基、または
アシルアミノ基を表す時である。
In formula (A1), R 1 is more preferably an electron-withdrawing group, an aryl group, an alkenyl group or an acylamino group.

【0055】R1が電子吸引性基を表す時、好ましくは
総炭素数0〜30の以下の基、即ち、シアノ基、ニトロ
基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、チオカルボニル基、イミ
ノ基、N原子で置換したイミノ基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、スルファ
モイル基、パーフルオロアルキル基、ホスホリル基、カ
ルボキシ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、またはヘ
テロ環基であり、さらにシアノ基、アシル基、ホルミル
基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミノ
基、N原子で置換したイミノ基、スルファモイル基、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシルオ
キシ基、アシルチオ基、またはヘテロ環基が好ましい。
特に好ましくはシアノ基、ホルミル基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、カルバモイル基、アシルオキシ
基、アシルチオ基、またはヘテロ環基である。
When R 1 represents an electron-withdrawing group, the following groups having preferably 0 to 30 carbon atoms in total, ie, a cyano group, a nitro group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group,
Aryloxycarbonyl group, thiocarbonyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, perfluoroalkyl group, phosphoryl group, carboxy group, acyloxy group, acylthio group Or a heterocyclic group, and further a cyano group, an acyl group, a formyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an acyloxy group, An acylthio group or a heterocyclic group is preferred.
Particularly preferred are a cyano group, formyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, acyloxy group, acylthio group, and heterocyclic group.

【0056】式(A1)においてR2およびR3で表される
置換基として好ましくは、具体的に、上述の式(A1)の
Zで表される電子吸引性基と同義の基、アルキル基、ヒ
ドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(またはその
塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキ
シ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、ヘテロ
環アミノ基、アシルアミノ基、置換もしくは無置換のフ
ェニル基等である。
In the formula (A1), the substituents represented by R 2 and R 3 are preferably, specifically, groups having the same meaning as the electron-withdrawing group represented by Z in the above-mentioned formula (A1), and alkyl groups. , A hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, an alkylamino group, an anilino group, Examples include a heterocyclic amino group, an acylamino group, and a substituted or unsubstituted phenyl group.

【0057】式(A1)においてR2およびR3は、さらに
好ましくは、どちらか一方が水素原子で、他方が置換基
を表す時である。その置換基として好ましくは、アルキ
ル基、ヒドロキシ基(またはその塩)、メルカプト基(ま
たはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテ
ロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテ
ロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ
基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基(特にパーフル
オロアルカンアミド基)、スルホンアミド基、置換もし
くは無置換のフェニル基、またはヘテロ環基等であり、
さらに好ましくはヒドロキシ基(またはその塩)、メルカ
プト基(またはその塩)、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、またはヘテロ環基であ
り、特に好ましくはヒドロキシ基(またはその塩)、アル
コキシ基、またはヘテロ環基である。
In formula (A1), R 2 and R 3 are more preferably one of which is a hydrogen atom and the other is a substituent. Preferably as the substituent, an alkyl group, a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group Group, an alkylamino group, an anilino group, a heterocyclic amino group, an acylamino group (particularly a perfluoroalkaneamide group), a sulfonamide group, a substituted or unsubstituted phenyl group, or a heterocyclic group,
More preferably a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, or a heterocyclic group. And particularly preferably a hydroxy group (or a salt thereof), an alkoxy group, or a heterocyclic group.

【0058】式(A1)においてZとR1、或いはまたR2
とR3とが環状構造を形成する場合もまた好ましい。こ
の場合に形成される環状構造は、非芳香族の炭素環もし
くは非芳香族のヘテロ環であり、好ましくは5員〜7員
の環状構造で、置換基を含めたその総炭素数は1〜4
0、さらには3〜35が好ましい。
In the formula (A1), Z and R 1 , or R 2
It is also preferred that and R 3 form a cyclic structure. The cyclic structure formed in this case is a non-aromatic carbocyclic or non-aromatic heterocyclic ring, preferably a 5- to 7-membered cyclic structure having a total carbon number including a substituent of 1 to 7. 4
0, more preferably 3 to 35.

【0059】式(A1)で表される化合物の中で、より好
ましいものの1つは、Zがシアノ基、ホルミル基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、イミノ基、またはカル
バモイル基を表し、R1が電子吸引性基を表し、R2また
はR3のどちらか一方が水素原子で、他方がヒドロキシ
基(またはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、アル
コキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ
基、またはヘテロ環基を表す化合物である。
[0059] Among the compounds represented by formula (A1), more One of preferred, Z is a cyano group, a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an imino group or a carbamoyl group,, R 1 is Represents an electron-withdrawing group, and one of R 2 and R 3 is a hydrogen atom, and the other is a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group , An alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an amino group, or a heterocyclic group.

【0060】さらにまた式(A1)で表される化合物の中
でより好ましいものの1つは、ZとR1とが連結して非
芳香族の5員〜7員の環状構造を形成していて、R2
たはR3のどちらか一方が水素原子で、他方がヒドロキ
シ基(またはその塩)、メルカプト基(またはその塩)、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アミ
ノ基、またはヘテロ環基を表す化合物である。
One of the more preferable compounds represented by the formula (A1) is a compound in which Z and R 1 are linked to form a non-aromatic 5- to 7-membered cyclic structure. , R 2 or R 3 is a hydrogen atom and the other is a hydroxy group (or a salt thereof), a mercapto group (or a salt thereof), an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an alkylthio group, an arylthio group , A heterocyclic thio group, an amino group, or a heterocyclic group.

【0061】ここでZとR1とが形成する非芳香族の5
員〜7員の環状構造とは具体的に、インダン−1,3−
ジオン環、ピロリジン−2,4−ジオン環、ピラゾリジ
ン−3,5−ジオン環、オキサゾリジン−2,4−ジオ
ン環、5−ピラゾロン環、イミダゾリジン−2,4−ジ
オン環、チアゾリジン−2,4−ジオン環、オキソラン
−2,4−ジオン環、チオラン−2,4−ジオン環、
1,3−ジオキサン−4,6−ジオン環、シクロヘキサ
ン−1,3−ジオン環、1,2,3,4−テトラヒドロ
キノリン−2,4−ジオン環、シクロペンタン−1,3
−ジオン環、イソオキサゾリジン−3,5−ジオン環、
バルビツール酸環、2,3−ジヒドロベンゾフラン−3
−オン環、ピラゾロトリアゾール環(例えば7H−ピラ
ゾロ[1,5−b][1,2,4]トリアゾール,7H
−ピラゾロ[5,1−c][1,2,4]トリアゾー
ル,7H−ピラゾロ[1,5−a]ベンズイミダゾール
等)、ピロロトリアゾール環(例えば5H−ピロロ
[1,2−b][1,2,4]トリアゾール,5H−ピ
ロロ[2,1−c][1,2,4]トリアゾール等)、
2−シクロペンテン−1,4−ジオン環、2,3−ジヒ
ドロベンゾチオフェン−3−オン−1,1−ジオキシド
環、クロマン−2,4−ジオン環、2−オキサゾリン−
5−オン環、2−イミダゾリン−5−オン環、2−チア
ゾリン−5−オン環、1−ピロリン−4−オン環、5−
オキソチアゾリジン−2−チオン環、4−オキソチアゾ
リジン−2−チオン環、ピロロピリミジノン環、1,3
−ジチオラン環、チアゾリジン環、1,3−ジチエタン
環、1,3−ジオキソラン環等が挙げられ、中でもイン
ダン−1,3−ジオン環、ピロリジン−2,4−ジオン
環、ピラゾリジン−3,5−ジオン環、5−ピラゾロン
環、バルビツール酸環、2−オキサゾリン−5−オン環
等が好ましい。
Here, the non-aromatic 5 formed by Z and R 1
The 7-membered to 7-membered cyclic structure is specifically indane-1,3-
Dione ring, pyrrolidine-2,4-dione ring, pyrazolidine-3,5-dione ring, oxazolidine-2,4-dione ring, 5-pyrazolone ring, imidazolidine-2,4-dione ring, thiazolidine-2,4 A dione ring, an oxolane-2,4-dione ring, a thiolane-2,4-dione ring,
1,3-dioxane-4,6-dione ring, cyclohexane-1,3-dione ring, 1,2,3,4-tetrahydroquinoline-2,4-dione ring, cyclopentane-1,3
A dione ring, an isoxazolidine-3,5-dione ring,
Barbituric acid ring, 2,3-dihydrobenzofuran-3
-One ring, pyrazolotriazole ring (for example, 7H-pyrazolo [1,5-b] [1,2,4] triazole, 7H
-Pyrazolo [5,1-c] [1,2,4] triazole, 7H-pyrazolo [1,5-a] benzimidazole and the like, pyrrolotriazole ring (for example, 5H-pyrrolo [1,2-b] [1 , 2,4] triazole, 5H-pyrrolo [2,1-c] [1,2,4] triazole and the like),
2-cyclopentene-1,4-dione ring, 2,3-dihydrobenzothiophen-3-one-1,1-dioxide ring, chroman-2,4-dione ring, 2-oxazoline-
5-one ring, 2-imidazolin-5-one ring, 2-thiazolin-5-one ring, 1-pyrrolin-4-one ring, 5-
Oxothiazolidine-2-thione ring, 4-oxothiazolidine-2-thione ring, pyrrolopyrimidinone ring, 1,3
-Dithiolane ring, thiazolidine ring, 1,3-dithiethane ring, 1,3-dioxolane ring and the like, among which indane-1,3-dione ring, pyrrolidine-2,4-dione ring, pyrazolidine-3,5- A dione ring, 5-pyrazolone ring, barbituric acid ring, 2-oxazolin-5-one ring and the like are preferable.

【0062】次に式(A2)で表される化合物について説
明する。式(A2)においてR4は置換基を表す。式(A
2)においてR4で表される置換基の例としては、式(A
1)のR1〜R3の置換基について説明したものと同じも
のが挙げられる。
Next, the compound represented by the formula (A2) will be described. In the formula (A2), R 4 represents a substituent. The formula (A
Examples of the substituent represented by R 4 in 2) include a compound represented by the formula (A)
The same substituents as those described for the substituents of R 1 to R 3 in 1) can be mentioned.

【0063】式(A2)においてR4で表される置換基
は、好ましくは電子吸引性基またはアリール基である。
4が電子吸引性基を表す時、好ましくは、総炭素数0
〜30の以下の基、即ち、シアノ基、ニトロ基、アシル
基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、パー
フルオロアルキル基、ホスホリル基、イミノ基、スルホ
ンアミド基、またはヘテロ環基であり、さらにシアノ
基、アシル基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、
カルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、スルホンアミド基、ヘテ
ロ環基が好ましい。
The substituent represented by R 4 in the formula (A2) is preferably an electron-withdrawing group or an aryl group.
When R 4 represents an electron-withdrawing group, it preferably has a total carbon number of 0.
To 30 or less of the following groups: cyano group, nitro group, acyl group, formyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, perfluoroalkyl group, phosphoryl Group, imino group, sulfonamide group, or heterocyclic group, further cyano group, acyl group, formyl group, alkoxycarbonyl group,
A carbamoyl group, a sulfamoyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfonamide group, and a heterocyclic group are preferred.

【0064】R4がアリール基を表す時、好ましくは総
炭素数0〜30の、置換もしくは無置換のフェニル基で
あり、置換基としては、式(A1)のR1、R2、R3が置
換基を表す時にその置換基として説明したものと同じも
のが挙げられるが、電子吸引性基が好ましい。
When R 4 represents an aryl group, it is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group having a total of 0 to 30 carbon atoms, and the substituent is represented by R 1 , R 2 , R 3 of the formula (A1). When represents a substituent, the same as those described as the substituent can be mentioned, but an electron-withdrawing group is preferable.

【0065】次に式(A3)で表される化合物について詳
しく説明する。式(A3)においてX,Yはそれぞれ独立
に水素原子または置換基を表し、A,Bはそれぞれ独立
に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ
基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、
ヘテロ環チオ基、ヘテロ環オキシ基、またはヘテロ環ア
ミノ基を表す。XとY、あるいはAとBは、互いに結合
して環状構造を形成していてもよい。
Next, the compound represented by formula (A3) will be described in detail. In the formula (A3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group,
Represents a heterocyclic thio group, a heterocyclic oxy group, or a heterocyclic amino group. X and Y or A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure.

【0066】式(A3)においてX,Yで表される置換基
としては、式(A1)のR1〜R3の置換基について説明し
たものと同じものが挙げられる。具体的には、アルキル
基(パーフルオロアルキル基、トリクロロメチル基等を
含む)、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シア
ノ基、ニトロ基、アルケニル基、アルキニル基、アシル
基、ホルミル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、イミノ基、N原子で置換したイミノ
基、カルバモイル基、チオカルボニル基、アシルオキシ
基、アシルチオ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、ホス
ホリル基、カルボキシ基(またはその塩)、スルホ基
(またはその塩)、ヒドロキシ基(またはその塩)、メ
ルカプト基(またはその塩)、アルコキシ基、アリール
オキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、ヘテロ環チオ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、シリル基等が挙げ
られる。
As the substituents represented by X and Y in the formula (A3), the same substituents as described for the substituents R 1 to R 3 in the formula (A1) can be mentioned. Specifically, alkyl groups (including perfluoroalkyl groups, trichloromethyl groups, etc.), aryl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, cyano groups, nitro groups, alkenyl groups, alkynyl groups, acyl groups, formyl groups, alkoxy groups Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, imino group, imino group substituted with an N atom, carbamoyl group, thiocarbonyl group, acyloxy group, acylthio group, acylamino group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group, phosphoryl group, carboxy Group (or its salt), sulfo group (or its salt), hydroxy group (or its salt), mercapto group (or its salt), alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, alkylthio group, arylthio group, hetero group Ring thio group, amino group, alkylami Group, anilino group, heterocyclic amino group, a silyl group, and the like.

【0067】これらの基はさらに置換基を有していても
よい。またXとYは、互いに結合して環状構造を形成し
ていてもよく、この場合に形成される環状構造として
は、非芳香族の炭素環でも、非芳香族のヘテロ環であっ
てもよい。
These groups may further have a substituent. X and Y may be bonded to each other to form a cyclic structure, and the cyclic structure formed in this case may be a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. .

【0068】式(A3)においてX,Yで表される置換基
は、好ましくは総炭素数1〜40の、より好ましくは総
炭素数1〜30の基であり、シアノ基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、イミノ基、N原子で置換したイミノ基、チオカルボ
ニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、ニトロ基、パーフルオロアルキル
基、アシル基、ホルミル基、ホスホリル基、アシルアミ
ノ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、ヘテロ環基、ア
ルキルチオ基、アルコキシ基、またはアリール基等が好
ましい。
The substituent represented by X and Y in the formula (A3) is preferably a group having a total of 1 to 40 carbon atoms, more preferably a group having a total of 1 to 30 carbon atoms, and is a cyano group, an alkoxycarbonyl group, Aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, imino group, imino group substituted with N atom, thiocarbonyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, nitro group, perfluoroalkyl group, acyl group, formyl group, phosphoryl group , An acylamino group, an acyloxy group, an acylthio group, a heterocyclic group, an alkylthio group, an alkoxy group, or an aryl group.

【0069】式(A3)においてX,Yは、より好ましく
はシアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カル
バモイル基、アシル基、ホルミル基、アシルチオ基、ア
シルアミノ基、チオカルボニル基、スルファモイル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、イミノ
基、N原子で置換したイミノ基、ホスホリル基、トリフ
ルオロメチル基、ヘテロ環基、または置換されたフェニ
ル基等であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、アシル基、アシルチオ基、アシ
ルアミノ基、チオカルボニル基、ホルミル基、イミノ
基、N原子で置換したイミノ基、ヘテロ環基、または任
意の電子吸引性基で置換されたフェニル基等である。
In the formula (A3), X and Y are more preferably a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an acyl group, a formyl group, an acylthio group, an acylamino group, a thiocarbonyl group, a sulfamoyl group,
An alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a phosphoryl group, a trifluoromethyl group, a heterocyclic group, or a substituted phenyl group, and particularly preferably a cyano group or an alkoxycarbonyl group , A carbamoyl group, an alkylsulfonyl group,
An arylsulfonyl group, an acyl group, an acylthio group, an acylamino group, a thiocarbonyl group, a formyl group, an imino group, an imino group substituted with an N atom, a heterocyclic group, or a phenyl group substituted with any electron-withdrawing group; is there.

【0070】XとYが、互いに結合して非芳香族の炭素
環、または非芳香族のヘテロ環を形成している場合もま
た好ましい。この時、形成される環は5員〜7員環が好
ましく、具体的には式(A1)のZとR1とが互いに結合
して形成しうる非芳香族の5員〜7員環の例と同じもの
が挙げられ、その好ましい範囲もまた同じである。これ
らの環はさらに置換基を有していても良く、その総炭素
数は1〜40、さらには3〜35が好ましい。
It is also preferable that X and Y combine with each other to form a non-aromatic carbon ring or a non-aromatic hetero ring. At this time, the formed ring is preferably a 5- to 7-membered ring, and specifically, a non-aromatic 5- to 7-membered ring which can be formed by bonding Z and R 1 of the formula (A1) to each other. The same examples are given, and their preferred ranges are also the same. These rings may further have a substituent, and the total number of carbon atoms is preferably 1 to 40, more preferably 3 to 35.

【0071】式(A3)においてA,Bはそれぞれ独立
に、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ
基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、
ヘテロ環チオ基、ヘテロ環オキシ基、またはヘテロ環ア
ミノ基を表し、これらは互いに結合して環状構造を形成
していてもよい。
In the formula (A3), A and B each independently represent an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group, an anilino group,
Represents a heterocyclic thio group, a heterocyclic oxy group, or a heterocyclic amino group, which may be bonded to each other to form a cyclic structure.

【0072】式(A3)においてA,Bで表される基は、
さらに置換基を有していてもよく、好ましくは総炭素数
1〜40の、より好ましくは総炭素数1〜30の基であ
る。
In the formula (A3), the groups represented by A and B are
Further, it may have a substituent, and is preferably a group having 1 to 40 carbon atoms in total, more preferably a group having 1 to 30 carbon atoms in total.

【0073】式(A3)においてA,Bは、これらが互い
に結合して環状構造を形成している場合がより好まし
い。この時形成される環状構造は5員〜7員環の非芳香
族のヘテロ環が好ましく、その総炭素数は1〜40、さ
らには3〜30が好ましい。この場合に、A,Bが連結
した例(−A−B−)を挙げれば、例えば−O−(C
22−O−,−O−(CH23−O−,−S−(CH
22−S−,−S−(CH23−S−,−S−ph−S
−,−N(CH3)−(CH22−O−,−N(CH3
−(CH22−S−,−O−(CH22−S−,−O−
(CH23−S−,−N(CH3)−ph−O−,−N
(CH3)−ph−S−,−N(ph)−(CH22
S−等である。
In the formula (A3), A and B more preferably combine with each other to form a cyclic structure. The cyclic structure formed at this time is preferably a 5- to 7-membered non-aromatic hetero ring, and preferably has a total carbon number of 1 to 40, and more preferably 3 to 30. In this case, an example in which A and B are linked (-AB-) is, for example, -O- (C
H 2) 2 -O -, - O- (CH 2) 3 -O -, - S- (CH
2) 2 -S -, - S- (CH 2) 3 -S -, - S-ph-S
-, - N (CH 3) - (CH 2) 2 -O -, - N (CH 3)
- (CH 2) 2 -S - , - O- (CH 2) 2 -S -, - O-
(CH 2) 3 -S -, - N (CH 3) -ph-O -, - N
(CH 3 ) -ph-S-, -N (ph)-(CH 2 ) 2-
S- and so on.

【0074】本発明の式(A1)〜式(A3)で表される化
合物は、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が組
み込まれていてもよい。こうした吸着基としては、アル
キルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、チオアミド
基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米国特
許第4,385,108号、同4,459,347号、
特開昭59−195233号、同59−200231
号、同59−201045号、同59−201046
号、同59−201047号、同59−201048
号、同59−201049号、特開昭61−17073
3号、同61−270744号、同62−948号、同
63−234244号、同63−234245号、同6
3−234246号に記載された基が挙げられる。また
これらハロゲン化銀への吸着基は、プレカーサー化され
ていてもよい。その様なプレカーサーとしては、特開平
2−285344号に記載された基が挙げられる。
The compounds represented by the formulas (A1) to (A3) of the present invention may have incorporated therein an adsorptive group that adsorbs to silver halide. Examples of such adsorbing groups include U.S. Pat. Nos. 4,385,108 and 4,459,347 such as alkylthio, arylthio, thiourea, thioamide, mercapto heterocyclic, and triazole groups.
JP-A-59-195233 and JP-A-59-200231.
Nos. 59-201045 and 59-201046
Nos. 59-201047 and 59-201048
No. 59-201049, JP-A-61-17073.
Nos. 3, 61-270744, 62-948, 63-234244, 63-234245, and 6
The group described in 3-234246 is mentioned. These adsorbing groups to silver halide may be precursors. Examples of such a precursor include groups described in JP-A-2-285344.

【0075】本発明の式(A1)〜式(A3)で表される化
合物は、その中にカプラー等の不動性写真用添加剤にお
いて常用されているバラスト基またはポリマーが組み込
まれているものでもよい。特にバラスト基が組み込まれ
ているものは本発明の好ましい例の1つである。バラス
ト基は8以上の炭素数を有する、写真性に対して比較的
不活性な基であり、例えばアルキル基、アラルキル基、
アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェ
ノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶこと
ができる。またポリマーとしては、例えば特開平1−1
00530号に記載のものが挙げられる。
The compounds represented by the formulas (A1) to (A3) of the present invention may be those having a ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers incorporated therein. Good. Particularly, those incorporating a ballast group are one of preferred examples of the present invention. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and relatively inactive to photographic properties, such as an alkyl group, an aralkyl group,
It can be selected from an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group, an alkylphenoxy group and the like. Examples of the polymer include, for example,
No. 00530.

【0076】本発明の式(A1)〜式(A3)で表される化
合物は、その中にカチオン性基(具体的には、4級のア
ンモニオ基を含む基、または4級化された窒素原子を含
む含窒素ヘテロ環基等)、エチレンオキシ基もしくはプ
ロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、(アルキ
ル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、あるいは塩基
により解離しうる解離性基(カルボキシ基、スルホ基、
アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモイル
基等)が含まれていてもよい。特にエチレンオキシ基も
しくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、あ
るいは(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基
が含まれているものは、本発明の好ましい例の1つであ
る。これらの基の具体例としては、例えば特開平7ー2
34471号、特開平5−333466号、特開平6−
19032号、特開平6−19031号、特開平5−4
5761号、米国特許4994365号、米国特許49
88604号、特開平73−259240号、特開平7
−5610号、特開平7−244348号、独国特許4
006032号等に記載の化合物が挙げられる。
The compounds represented by the formulas (A1) to (A3) of the present invention contain a cationic group (specifically, a group containing a quaternary ammonium group, or a quaternized nitrogen). A nitrogen-containing heterocyclic group containing an atom), a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, an (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, or a dissociable group (carboxy group, Sulfo group,
Acylsulfamoyl group, carbamoylsulfamoyl group, etc.). Particularly, a group containing a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group or a group containing an (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group is one of preferred examples of the present invention. Specific examples of these groups include, for example, JP-A-7-2
No. 34471, JP-A-5-333466, JP-A-6-633
19032, JP-A-6-19031, JP-A-5-4
No. 5761, U.S. Pat. No. 4,994,365, U.S. Pat.
88604, JP-A-73-259240, JP-A-7-259240
No. 5610, JP-A-7-244348, German Patent 4
No. 006032 and the like.

【0077】次に本発明の式(A1)〜式(A3)で表され
る化合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明は以下
の化合物に限定されるものではない。
Next, specific examples of the compounds represented by formulas (A1) to (A3) of the present invention are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0078】[0078]

【化19】 Embedded image

【0079】[0079]

【化20】 Embedded image

【0080】[0080]

【化21】 Embedded image

【0081】[0081]

【化22】 Embedded image

【0082】式(A1)〜式(A3)で表される化合物は公
知の方法により容易に合成することができるが、例え
ば、米国特許5545515号、米国特許563533
9号、米国特許5654130号、国際特許WO−97
/34196号、或いは特願平9−354107号、特
願平9−309813号、特願平9−272002号に
記載の方法を参考に合成することができる。
The compounds represented by the formulas (A1) to (A3) can be easily synthesized by known methods. For example, US Pat. No. 5,545,515 and US Pat.
No. 9, U.S. Pat. No. 5,654,130, International Patent WO-97
/ 34196, Japanese Patent Application No. 9-354107, Japanese Patent Application No. 9-309813, and the method described in Japanese Patent Application No. 9-272002.

【0083】次に本発明に用いられる下記式(H)によ
って表わされるヒドラジン誘導体について説明する。本
発明においてヒドラジン誘導体は硬調化剤あるいは現像
促進剤として用いられる。
Next, the hydrazine derivative represented by the following formula (H) used in the present invention will be described. In the present invention, the hydrazine derivative is used as a high contrast agent or a development accelerator.

【0084】[0084]

【化23】 Embedded image

【0085】式(H)中、R20は脂肪族基、芳香族基、
またはヘテロ環基を表し、R10は水素原子またはブロッ
ク基を表し、G1は−CO−,−COCO−,−C(=
S)−,−SO2−,−SO−,−PO(R30)−基(R
30はR10に定義した基と同じ範囲内より選ばれ、R10
異なっていてもよい。),またはイミノメチレン基を表
す。A1、A2はともに水素原子、あるいは一方が水素原
子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル
基、または置換もしくは無置換のアリールスルホニル
基、または置換もしくは無置換のアシル基を表す。m1
は0または1であり、m1が0の時、R10は脂肪族基、
芳香族基、またはヘテロ環基を表す。
In the formula (H), R 20 is an aliphatic group, an aromatic group,
Or a heterocyclic group, R 10 represents a hydrogen atom or a block group, and G 1 represents —CO—, —COCO—, —C (=
S) -, - SO 2 - , - SO -, - PO (R 30) - group (R
30 is selected from the same range as the groups defined in R 10, may be different from R 10. ) Or iminomethylene group. A 1 and A 2 each represent a hydrogen atom, or one of them represents a hydrogen atom and the other represents a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group. m 1
Is 0 or 1, and when m 1 is 0, R 10 is an aliphatic group,
Represents an aromatic group or a heterocyclic group.

【0086】式(H)において、R20で表わされる脂肪
族基は好ましくは炭素数1〜30の置換もしくは無置換
の、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基である。
In the formula (H), the aliphatic group represented by R 20 is preferably a substituted or unsubstituted, linear, branched or cyclic alkyl, alkenyl or alkynyl group having 1 to 30 carbon atoms.

【0087】式(H)において、R20で表わされる芳香
族基は単環もしくは縮合環のアリール基で、例えばベン
ゼン環、ナフタレン環から誘導されるフェニル基、ナフ
チル基が挙げられる。R20で表わされるヘテロ環基とし
ては、単環または縮合環の、飽和もしくは不飽和の、芳
香族または非芳香族のヘテロ環基で、これらの基中のヘ
テロ環としては、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、
イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、イソキノ
リン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、チオフェン環、トリアジン環、モルホリ
ン環、ピペリジン環、ピペラジン環、ベンゾ[1,3]
ジオキソール環等が挙げられる。
In the formula (H), the aromatic group represented by R 20 is a monocyclic or condensed-ring aryl group, such as a phenyl group or a naphthyl group derived from a benzene ring or a naphthalene ring. The heterocyclic group represented by R 20 is a monocyclic or condensed, saturated or unsaturated, aromatic or non-aromatic heterocyclic group, and the heterocyclic ring in these groups is, for example, a pyridine ring , A pyrimidine ring,
Imidazole ring, pyrazole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, benzimidazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, thiophene ring, triazine ring, morpholine ring, piperidine ring, piperazine ring, benzo [1,3]
And a dioxole ring.

【0088】R20として好ましいものはアリール基、ア
ルキル基、または芳香族ヘテロ環基である。
Preferred as R 20 is an aryl group, an alkyl group, or an aromatic heterocyclic group.

【0089】R20は置換されていてもよく、代表的な置
換基としては例えばハロゲン原子(フッ素原子、クロル
原子、臭素原子、または沃素原子)、アルキル基(アラ
ルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含
む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテ
ロ環基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例え
ばピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カ
ルボキシ基またはその塩、スルホニルカルバモイル基、
アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル
基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、
シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基
単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしく
はアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、(アルコキシもしくはアリール)スルホニル
オキシ基、アミノ基、(アルキル,アリール,またはヘ
テロ環)アミノ基、N−置換の含窒素ヘテロ環基、アシ
ルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレ
イド基、イソチオウレイド基、イミド基、(アルコキシ
もしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルフ
ァモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバ
ジド基、ヒドラジノ基、4級のアンモニオ基、オキサモ
イルアミノ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニ
ルウレイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイ
ルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル,ア
リール,またはヘテロ環)チオ基、(アルキルまたはア
リール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)ス
ルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル
基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイ
ル基またはその塩、リン酸アミドもしくはリン酸エステ
ル構造を含む基、シリル基、スタニル基等が挙げられ
る。これら置換基は、これら置換基でさらに置換されて
いてもよい。
R 20 may be substituted. Representative substituents include, for example, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom), an alkyl group (an aralkyl group, a cycloalkyl group, an active methine group). Alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group, heterocyclic group containing a quaternized nitrogen atom (eg, pyridinio group), acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl Group, carboxy group or salt thereof, sulfonylcarbamoyl group,
Acyl carbamoyl group, sulfamoyl carbamoyl group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group,
Cyano group, thiocarbamoyl group, hydroxy group, alkoxy group (including groups containing repeating ethyleneoxy or propyleneoxy group units), aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group Carbamoyloxy group, (alkoxy or aryl) sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group, N-substituted nitrogen-containing heterocyclic group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido Group, isothioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, quaternary ammonium group, oxamoylamino group, (Alkyl or aryl) sulfonyluureido, acylureido, acylsulfamoylamino, nitro, mercapto, (alkyl, aryl, or heterocycle) thio, (alkyl or aryl) sulfonyl, (alkyl or aryl) sulfinyl Group, a sulfo group or a salt thereof, a sulfamoyl group, an acylsulfamoyl group, a sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, a group having a phosphoric acid amide or a phosphoric ester structure, a silyl group, a stanyl group, and the like. These substituents may be further substituted with these substituents.

【0090】R20が有していてもよい置換基として好ま
しいものは、R20が芳香族基またはヘテロ環基を表す場
合、アルキル基(活性メチレン基を含む)、アラルキル
基、ヘテロ環基、置換アミノ基、アシルアミノ基、スル
ホンアミド基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、
イミド基、チオウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキ
シ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基(その
塩を含む)、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)
チオ基、スルホ基(その塩を含む)、スルファモイル
基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等が挙げられ
る。
[0090] Preferred examples of the substituent which may be R 20 optionally has, when R 20 represents an aromatic group or a heterocyclic group, (including an active methylene group) alkyl group, an aralkyl group, a heterocyclic group, Substituted amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, sulfamoylamino group,
Imide group, thioureido group, phosphoric amide group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group (including its salt), (alkyl , Aryl, or heterocycle)
Examples thereof include a thio group, a sulfo group (including a salt thereof), a sulfamoyl group, a halogen atom, a cyano group, and a nitro group.

【0091】またR20が脂肪族基を表す場合は、アルキ
ル基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、アシルアミ
ノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、スルファモイル
アミノ基、イミド基、チオウレイド基、リン酸アミド
基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボ
キシ基(その塩を含む)、(アルキル,アリール,また
はヘテロ環)チオ基、スルホ基(その塩を含む)、スル
ファモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等が
好ましい。
When R 20 represents an aliphatic group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an amino group, an acylamino group, a sulfonamide group, a ureido group, a sulfamoylamino group, an imide group, a thioureido group, Phosphoric acid amide group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group,
Acyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group,
Aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group (including its salt), (alkyl, aryl, or heterocycle) thio group, sulfo group (including its salt), sulfamoyl group, halogen atom, cyano group, nitro group, etc. Is preferred.

【0092】式(H)において、R10は水素原子または
ブロック基を表すが、ブロック基とは具体的に、脂肪族
基(具体的にはアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基)、芳香族基(単環もしくは縮合環のアリール基)、
ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、置換も
しくは無置換のアミノ基またはヒドラジノ基を表す。
In the formula (H), R 10 represents a hydrogen atom or a block group, and the block group specifically refers to an aliphatic group (specifically, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group) or an aromatic group. (Monocyclic or condensed-ring aryl group),
Represents a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a substituted or unsubstituted amino group or a hydrazino group.

【0093】R10で表わされるアルキル基として好まし
くは、炭素数1〜10の置換もしくは無置換のアルキル
基であり、例えばメチル基、エチル基、トリフルオロメ
チル基、ジフルオロメチル基,2−カルボキシテトラフ
ルオロエチル基,ピリジニオメチル基、ジフルオロメト
キシメチル基、ジフルオロ(メチルチオ)メチル基、ジ
フルオロカルボキシメチル基、3−ヒドロキシプロピル
基、ヒドロキシメチル基、メタンスルホンアミドメチル
基、3−メタンスルホンアミドプロピル基、ベンゼンス
ルホンアミドメチル基、トリフルオロアセチルメチル
基、トリフルオロメタンスルホンアミド基、ジメチルア
ミノメチル基、フェニルスルホニルメチル基、o−ヒド
ロキシベンジル基、メトキシメチル基、フェノキシメチ
ル基、4−エチルフェノキシメチル基、フェニルチオメ
チル基、t−ブチル基、ジシアノメチル基、ジフェニル
メチル基、トリフェニルメチル基、メトキシカルボニル
ジフェニルメチル基、シアノジフェニルメチル基、メチ
ルチオジフェニルメチル基などが挙げられる。アルケニ
ル基として好ましくは炭素数1〜10のアルケニル基で
あり、例えばビニル基、2−エトキシカルボニルビニル
基、2−トリフルオロ−2−メトキシカルボニルビニル
基、2,2−ジシアノビニル基、2−シアノ−2−メト
キシカルボニルビニル基、2−シアノ−2−エトキシカ
ルボニルビニル基等が挙げられる。アルキニル基として
好ましくは炭素数1〜10のアルキニル基であり、例え
ばエチニル基、2−メトキシカルボニルエチニル基等が
挙げられる。アリール基としては単環もしくは縮合環の
アリール基が好ましく、ベンゼン環を含むものが特に好
ましい。例えばフェニル基、パ−フルオロフェニル基、
3,5−ジクロロフェニル基、2−メタンスルホンアミ
ドフェニル基、2−カルバモイルフェニル基、4,5−
ジシアノフェニル基、2−ヒドロキシメチルフェニル
基、2,6−ジクロロ−4−シアノフェニル基、2−ク
ロロ−5−オクチルスルファモイルフェニル基などが挙
げられる。
The alkyl group represented by R 10 is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, such as methyl, ethyl, trifluoromethyl, difluoromethyl, 2-carboxytetra. Fluoroethyl group, pyridiniomethyl group, difluoromethoxymethyl group, difluoro (methylthio) methyl group, difluorocarboxymethyl group, 3-hydroxypropyl group, hydroxymethyl group, methanesulfonamidomethyl group, 3-methanesulfonamidopropyl group, benzenesulfone Amidomethyl group, trifluoroacetylmethyl group, trifluoromethanesulfonamide group, dimethylaminomethyl group, phenylsulfonylmethyl group, o-hydroxybenzyl group, methoxymethyl group, phenoxymethyl group, 4-ethylphenyl Nokishimechiru group, phenylthiomethyl group, t- butyl group, dicyanomethyl group, diphenylmethyl group, triphenylmethyl group, a methoxycarbonyl diphenylmethyl group, a cyano diphenylmethyl group, and a methylthio diphenylmethyl group. The alkenyl group is preferably an alkenyl group having 1 to 10 carbon atoms, for example, a vinyl group, a 2-ethoxycarbonylvinyl group, a 2-trifluoro-2-methoxycarbonylvinyl group, a 2,2-dicyanovinyl group, a 2-cyano group -2-methoxycarbonylvinyl group, 2-cyano-2-ethoxycarbonylvinyl group and the like. The alkynyl group is preferably an alkynyl group having 1 to 10 carbon atoms, such as an ethynyl group and a 2-methoxycarbonylethynyl group. As the aryl group, a monocyclic or condensed-ring aryl group is preferable, and an aryl group containing a benzene ring is particularly preferable. For example, a phenyl group, a perfluorophenyl group,
3,5-dichlorophenyl group, 2-methanesulfonamidophenyl group, 2-carbamoylphenyl group, 4,5-
Examples include a dicyanophenyl group, a 2-hydroxymethylphenyl group, a 2,6-dichloro-4-cyanophenyl group, and a 2-chloro-5-octylsulfamoylphenyl group.

【0094】ヘテロ環基として好ましくは、少なくとも
1つの窒素、酸素、および硫黄原子を含む5〜6員の、
飽和もしくは不飽和の、単環もしくは縮合環のヘテロ環
基で、例えばモルホリノ基、ピペリジノ基(N−置換)、
イミダゾリル基、インダゾリル基(4−ニトロインダゾ
リル基等)、ピラゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾイ
ミダゾリル基、テトラゾリル基、ピリジル基、ピリジニ
オ基(N−メチル−3−ピリジニオ基等)、キノリニオ
基、キノリル基、ヒダントイル基、イミダゾリジニル基
などがある。
Preferably, the heterocyclic group is a 5- to 6-membered group containing at least one nitrogen, oxygen and sulfur atom.
Saturated or unsaturated, monocyclic or condensed-ring heterocyclic group such as morpholino group, piperidino group (N-substituted),
Imidazolyl group, indazolyl group (such as 4-nitroindazolyl group), pyrazolyl group, triazolyl group, benzimidazolyl group, tetrazolyl group, pyridyl group, pyridinio group (such as N-methyl-3-pyridinio group), quinolinio group, and quinolyl group , A hydantoyl group and an imidazolidinyl group.

【0095】アルコキシ基としては炭素数1〜8のアル
コキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、
2−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基、t−ブ
トキシ基等が挙げられる。アリールオキシ基としては置
換もしくは無置換のフェノキシ基が好ましく、アミノ基
としては無置換アミノ基、および炭素数1〜10のアル
キルアミノ基、アリールアミノ基、または飽和もしくは
不飽和のヘテロ環アミノ基(4級化された窒素原子を含
む含窒素ヘテロ環アミノ基を含む)が好ましい。置換も
しくは無置換のアミノ基の例としては、2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−4−イルアミノ基、プロピ
ルアミノ基、2−ヒドロキシエチルアミノ基、3−ヒド
ロキシプロピルアミノ基、アニリノ基,o−ヒドロキシ
アニリノ基、5−ベンゾトリアゾリルアミノ基、N−ベ
ンジル−3−ピリジニオアミノ基等が挙げられる。ヒド
ラジノ基としては置換もしくは無置換のヒドラジノ基、
または置換もしくは無置換のフェニルヒドラジノ基(4
−ベンゼンスルホンアミドフェニルヒドラジノ基など)
が特に好ましい。
The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, for example, a methoxy group, an ethoxy group,
Examples include a 2-hydroxyethoxy group, a benzyloxy group, and a t-butoxy group. As the aryloxy group, a substituted or unsubstituted phenoxy group is preferable, and as the amino group, an unsubstituted amino group, an alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms, an arylamino group, or a saturated or unsaturated heterocyclic amino group ( (Including a nitrogen-containing heterocyclic amino group containing a quaternized nitrogen atom). Examples of substituted or unsubstituted amino groups include 2,2,6,6
-Tetramethylpiperidin-4-ylamino group, propylamino group, 2-hydroxyethylamino group, 3-hydroxypropylamino group, anilino group, o-hydroxyanilino group, 5-benzotriazolylamino group, N-benzyl -3-pyridinioamino group and the like. As the hydrazino group, a substituted or unsubstituted hydrazino group,
Or a substituted or unsubstituted phenylhydrazino group (4
-Benzenesulfonamidophenylhydrazino group, etc.)
Is particularly preferred.

【0096】R10で表される基は置換されていても良
く、その置換基の例としては、R20の置換基として例示
したものがあてはまる。
The group represented by R 10 may be substituted, and examples of the substituent include those exemplified as the substituent of R 20 .

【0097】式(H)においてR10はG1−R10の部分
を残余分子から分裂させ、−G1−R10部分の原子を含
む環式構造を生成させる環化反応を生起するようなもの
であってもよく、その例としては、例えば特開昭63−
29751号などに記載のものが挙げられる。
In the formula (H), R 10 is such as to cause a cyclization reaction which cleaves the G 1 -R 10 moiety from the residual molecule to form a cyclic structure containing atoms of the -G 1 -R 10 moiety. And examples thereof include, for example,
No. 29751 and the like.

【0098】式(H)で表されるヒドラジン誘導体は、
ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が組み込まれ
ていてもよい。こうした吸着基としては、アルキルチオ
基、アリールチオ基、チオ尿素基、チオアミド基、メル
カプト複素環基、トリアゾ−ル基などの米国特許第4,
385,108号、同4,459,347号、特開昭5
9−195233号、同59−200231号、同59
−201045号、同59−201046号、同59−
201047号、同59−201048号、同59−2
01049号、特開昭61−170733号、同61−
270744号、同62−948号、同63−2342
44号、同63−234245号、同63−23424
6号に記載された基が挙げられる。またこれらハロゲン
化銀への吸着基は、プレカ−サ−化されていてもよい。
その様なプレカ−サ−としては、特開平2−28534
4号に記載された基が挙げられる。
The hydrazine derivative represented by the formula (H) is
An adsorptive group that adsorbs to silver halide may be incorporated. Examples of such adsorptive groups include U.S. Pat. Nos. 4,643,086, such as alkylthio, arylthio, thiourea, thioamide, mercaptoheterocyclic, and triazole groups.
385,108 and 4,459,347, JP-A-5
Nos. 9-195233, 59-200231 and 59
No.-201045, No.59-201046, No.59-
No. 201047, No. 59-201048, No. 59-2
01049, JP-A-61-170733, and 61-170733.
Nos. 270744, 62-948, 63-2342
No. 44, No. 63-234245, No. 63-23424
The groups described in No. 6 are exemplified. These adsorbing groups to silver halide may be precursors.
Such a precursor is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 28534/1990.
The groups described in No. 4 are exemplified.

【0099】式(H)のR10またはR20はその中にカプ
ラ−等の不動性写真用添加剤において常用されているバ
ラスト基またはポリマ−が組み込まれているものでもよ
い。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写真性に対
して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アラ
ルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニ
ル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中か
ら選ぶことができる。またポリマ−としては、例えば特
開平1−100530号に記載のものが挙げられる。
R 10 or R 20 in the formula (H) may have a ballast group or polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers incorporated therein. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and relatively inactive to photographic properties, such as an alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group, and an alkylphenoxy group. You can choose from. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.

【0100】式(H)のR10またはR20は、置換基とし
てヒドラジノ基を複数個含んでいてもよく、この時式
(H)で表される化合物は、ヒドラジノ基に関しての多
量体を表し、具体的には例えば特開昭64−86134号、特
開平4−16938号、特開平5−197091号、WO95−32
452号、WO95−32453号、特開平9-235264
号、特開平9-235265号、特開平9-235266号、特開平9-23
5267号、特開平9-179229号等に記載された化合物が挙げ
られる。
R 10 or R 20 in the formula (H) may contain a plurality of hydrazino groups as substituents. At this time, the compound represented by the formula (H) represents a polymer with respect to the hydrazino group. Specifically, for example, JP-A-64-86134, JP-A-4-16938, JP-A-5-197091, WO95-32
No. 452, WO95-32453, JP-A-9-235264
No., JP-A-9-235265, JP-A-9-235266, JP-A-9-23
No. 5,267, and compounds described in JP-A-9-179229.

【0101】式(H)のR10またはR20は、その中にカ
チオン性基(具体的には、4級のアンモニオ基を含む
基、または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環
基等)、エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基
の繰り返し単位を含む基、(アルキル,アリール,また
はヘテロ環)チオ基、あるいは塩基により解離しうる解
離性基(カルボキシ基、スルホ基、アシルスルファモイ
ル基、カルバモイルスルファモイル基等)が含まれてい
てもよい。これらの基が含まれる例としては、例えば特
開平7−234471号、特開平5−333466号、
特開平6−19032号、特開平6−19031号、特
開平5−45761号、米国特許4994365号、米
国特許4988604号、特開平73−259240
号、特開平7−5610号、特開平7−244348
号、独国特許4006032号等に記載の化合物が挙げ
られる。
R 10 or R 20 in the formula (H) represents a cationic group (specifically, a group containing a quaternary ammonium group, or a nitrogen-containing heterocyclic ring containing a quaternized nitrogen atom). Group), a group containing a repeating unit of an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, a (alkyl, aryl, or heterocyclic) thio group, or a dissociable group (carboxy group, sulfo group, acylsulfamoyl) dissociable by a base A carbamoylsulfamoyl group). Examples of these groups include, for example, JP-A-7-234471, JP-A-5-333466,
JP-A-6-19032, JP-A-6-19031, JP-A-5-45761, US Pat. No. 4,994,365, US Pat. No. 4,988,604, JP-A-73-259240
JP-A-7-5610, JP-A-7-244348
And the compounds described in German Patent No. 4006032.

【0102】式(H)においてA1、A2は水素原子、炭
素数20以下のアルキルまたはアリールスルホニル基
(好ましくはフェニルスルホニル基、またはハメットの
置換基定数の和が−0.5以上となるように置換された
フェニルスルホニル基)、炭素数20以下のアシル基
(好ましくはベンゾイル基、またはハメットの置換基定
数の和が−0.5以上となるように置換されたベンゾイ
ル基、あるいは直鎖、分岐、もしくは環状の置換または
無置換の脂肪族アシル基(ここに置換基としては、例え
ばハロゲン原子、エ−テル基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基
等が挙げられる))である。A1、A2としては水素原子
が最も好ましい。
In the formula (H), A 1 and A 2 represent a hydrogen atom, an alkyl or arylsulfonyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a phenylsulfonyl group or a Hammett substituent having a sum of -0.5 or more. Phenylsulfonyl group), an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group, or a benzoyl group substituted so that the sum of Hammett's substituent constants becomes -0.5 or more, or a linear group. A branched or cyclic substituted or unsubstituted aliphatic acyl group (here, examples of the substituent include a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxy group, a carboxy group, and a sulfo group. )). A 1 and A 2 are most preferably hydrogen atoms.

【0103】次に本発明の式(H)で表されるヒドラジ
ン誘導体の好ましい範囲について述べる。式(H)にお
いてR20はフェニル基、炭素数1〜3の置換アルキル
基、または芳香族ヘテロ環基が好ましい。
Next, the preferred range of the hydrazine derivative represented by the formula (H) of the present invention will be described. In the formula (H), R 20 is preferably a phenyl group, a substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or an aromatic heterocyclic group.

【0104】R20がフェニル基または芳香族ヘテロ環基
を表す時、その好ましい置換基としては、ニトロ基、シ
アノ基、アルコキシ基、アルキル基、アシルアミノ基、
ウレイド基、スルホンアミド基、チオウレイド基、カル
バモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、カルボ
キシ基(またはその塩)、スルホ基(またはその塩)、アル
コキシカルボニル基、またはクロル原子が挙げられる。
When R 20 represents a phenyl group or an aromatic heterocyclic group, preferred substituents are a nitro group, a cyano group, an alkoxy group, an alkyl group, an acylamino group,
Examples thereof include a ureido group, a sulfonamide group, a thioureido group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a sulfonyl group, a carboxy group (or a salt thereof), a sulfo group (or a salt thereof), an alkoxycarbonyl group, and a chloro atom.

【0105】R20が炭素数1〜3の置換アルキル基を表
す時、R20はより好ましくは置換メチル基であり、さら
には、二置換メチル基もしくは三置換メチル基が好まし
く、その置換基としては具体的に、メチル基、フェニル
基、シアノ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ
環)チオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、クロル
原子、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル
基、アミノ基、アシルアミノ基、またはスルホンアミド
基が好ましく、特に置換もしくは無置換のフェニル基が
好ましい。
[0105] When R 20 represents a substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 20 is more preferably a substituted methyl group, more preferably a disubstituted methyl group or trisubstituted methyl group, as a substituent Are specifically a methyl group, a phenyl group, a cyano group, an (alkyl, aryl or heterocycle) thio group, an alkoxy group, an aryloxy group, a chloro atom, a heterocyclic group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl A group, a sulfamoyl group, an amino group, an acylamino group, or a sulfonamide group is preferred, and a substituted or unsubstituted phenyl group is particularly preferred.

【0106】R20が置換メチル基を表す時、より好まし
い具体例としては、t−ブチル基、ジシアノメチル基、
ジシアノフェニルメチル基、トリフェニルメチル基(ト
リチル基)、ジフェニルメチル基、メトキシカルボニル
ジフェニルメチル基、シアノジフェニルメチル基、メチ
ルチオジフェニルメチル基、シクロプロピルジフェニル
メチル基などが挙げられるが、中でもトリチル基が最も
好ましい。
When R 20 represents a substituted methyl group, more preferred specific examples include a t-butyl group, a dicyanomethyl group,
Dicyanophenylmethyl, triphenylmethyl (trityl), diphenylmethyl, methoxycarbonyldiphenylmethyl, cyanodiphenylmethyl, methylthiodiphenylmethyl, cyclopropyldiphenylmethyl, etc. preferable.

【0107】R20が芳香族ヘテロ環基を表す時、より好
ましくは、R20がピリジン環、キノリン環、ピリミジン
環、トリアジン環、ベンゾチアゾ−ル環、ベンズイミダ
ゾ−ル環、チオフェン環等を表す時である。式(H)にお
いてR20は、最も好ましくは置換もしくは無置換のフェ
ニル基である。
When R 20 represents an aromatic heterocyclic group, more preferably, R 20 represents a pyridine ring, a quinoline ring, a pyrimidine ring, a triazine ring, a benzothiazole ring, a benzimidazole ring, a thiophene ring or the like. It is time. In the formula (H), R 20 is most preferably a substituted or unsubstituted phenyl group.

【0108】式(H)においてm1は1または0を表す
が、m1が0の時、R10は脂肪族基、芳香族基、または
ヘテロ環基を表す。m1が0の時、R10は特に好ましく
はフェニル基、炭素数1〜3の置換アルキル基、または
アルケニル基であり、これらのうちフェニル基および炭
素数1〜3の置換アルキル基については、その好ましい
範囲は先に説明したR20の好ましい範囲と同じである。
10がアルケニル基の時、好ましくはR10はビニル基で
あり、以下の置換基、即ち、シアノ基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、ニトロ基、トリフルオロメチル
基、カルバモイル基等から選ばれる置換基を、1つない
しは2つ有するビニル基が特に好ましい。具体的には、
2,2−ジシアノビニル基、2−シアノ−2−メトキシ
カルボニルビニル基、2−シアノ−2−エトキシカルボ
ニルビニル基、2−アセチル−2−エトキシカルボニル
ビニル基等が挙げられる。m1は、好ましくは1であ
る。
In the formula (H), m 1 represents 1 or 0. When m 1 is 0, R 10 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. When m 1 is 0, R 10 is particularly preferably a phenyl group, a substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or an alkenyl group. Of these, for the phenyl group and the substituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, its preferred range is the same as the preferable ranges of R 20 as described above.
When R 10 is an alkenyl group, preferably R 10 is a vinyl group, and is a substituent selected from the following substituents: a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a carbamoyl group and the like. Vinyl groups having one or two groups are particularly preferred. In particular,
Examples thereof include a 2,2-dicyanovinyl group, a 2-cyano-2-methoxycarbonylvinyl group, a 2-cyano-2-ethoxycarbonylvinyl group, and a 2-acetyl-2-ethoxycarbonylvinyl group. m 1 is preferably 1.

【0109】R10で表わされる基のうち好ましいもの
は、R20がフェニル基ないしは芳香族ヘテロ環基を表
し、かつG1が−CO−基の場合には、水素原子、アル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ま
たはヘテロ環基であり、さらに好ましくは水素原子、ア
ルキル基、アリール基であり、最も好ましくは水素原子
またはアルキル基である。ここでR10がアルキル基を表
す時、その置換基としてはハロゲン原子、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヒドロキシ基、スルホンアミド基、アミノ基、アシ
ルアミノ基、カルボキシ基が特に好ましい。
Among the groups represented by R 10 , preferred are a hydrogen atom, an alkyl group and an alkenyl group when R 20 represents a phenyl group or an aromatic heterocyclic group and G 1 is a —CO— group. , An alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and most preferably a hydrogen atom or an alkyl group. When R 10 represents an alkyl group, the substituent is preferably a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a hydroxy group, a sulfonamide group, an amino group, an acylamino group, or a carboxy group. .

【0110】R20が置換メチル基を表し、かつG1 が−
CO−基の場合には、R10は好ましくは水素原子、アル
キル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アミ
ノ基(無置換アミノ基、アルキルアミノ基、アリールア
ミノ基、ヘテロ環アミノ基)であり、さらに好ましくは
水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アル
コキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテ
ロ環アミノ基である。
R 20 represents a substituted methyl group, and G 1 represents-
In the case of a CO- group, R 10 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an amino group (unsubstituted amino group, alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group) And more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an alkylamino group, an arylamino group, and a heterocyclic amino group.

【0111】G1 が−COCO−基の場合には、R20
関わらず、R10はアルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ミノ基が好ましく、特に置換アミノ基、詳しくはアルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基、または飽和もしくは不
飽和のヘテロ環アミノ基が好ましい。
When G 1 is a —COCO— group, irrespective of R 20 , R 10 is preferably an alkoxy group, an aryloxy group or an amino group, particularly a substituted amino group, more specifically an alkylamino group or an arylamino group. Or a saturated or unsaturated heterocyclic amino group.

【0112】またG1 が−SO2 −基の場合には、R20
に関わらず、R10はアルキル基、アリール基または置換
アミノ基が好ましい。
When G 1 is a —SO 2 — group, R 20
Regardless, R 10 is preferably an alkyl group, an aryl group or a substituted amino group.

【0113】式(H)においてG1は、好ましくは−C
O−基または−COCO−基であり、特に好ましくは−
CO−基である。
In the formula (H), G 1 is preferably -C
O- or -COCO-, particularly preferably-
CO- group.

【0114】次に式(H)で示される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物に限定され
るものではない。
Next, specific examples of the compound represented by the formula (H) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

【0115】[0115]

【表1】 [Table 1]

【0116】[0116]

【表2】 [Table 2]

【0117】[0117]

【表3】 [Table 3]

【0118】[0118]

【表4】 [Table 4]

【0119】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、
上記のものの他に、下記のヒドラジン誘導体も好ましく
用いられる。(場合によっては組み合わせて用いること
もできる。)本発明に用いられるヒドラジン誘導体はま
た、下記の特許に記載された種々の方法により、合成す
ることができる。
The hydrazine derivative used in the present invention is
In addition to the above, the following hydrazine derivatives are also preferably used. (In some cases, they can be used in combination.) The hydrazine derivative used in the present invention can also be synthesized by various methods described in the following patents.

【0120】即ち、特開平10−10672号、特開平
10−161270号、特開平10−62898号、特
開平9−304870号、特開平9−304872号、
特開平9−304871号、特開平10−31282
号、米国特許5496695号、欧州特許741320
A号に記載のすべてのヒドラジン誘導体。
That is, JP-A-10-10672, JP-A-10-161270, JP-A-10-62898, JP-A-9-304870, JP-A-9-304872,
JP-A-9-304871, JP-A-10-31282
No. 5,496,695, European Patent 714320
All the hydrazine derivatives described in A.

【0121】特公平6−77138号に記載の(化1)
で表される化合物で、具体的には同公報3頁、4頁に記
載の化合物。特公平6−93082号に記載の式(I)
で表される化合物で、具体的には同公報8頁〜18頁に
記載の1〜38の化合物。特開平6−230497号に
記載の式(4)、式(5)および式(6)で表される化
合物で、具体的には同公報25頁、26頁に記載の化合
物4−1〜化合物4−10、28頁〜36頁に記載の化
合物5−1〜5−42、および39頁、40頁に記載の
化合物6−1〜化合物6−7。特開平6−289520
号に記載の式(1)および式(2)で表される化合物
で、具体的には同公報5頁〜7頁に記載の化合物1−
1)〜1−17)および2−1)。特開平6−3139
36号に記載の(化2)および(化3)で表される化合
物で、具体的には同公報6頁〜19頁に記載の化合物。
特開平6−313951号に記載の(化1)で表される
化合物で、具体的には同公報3頁〜5頁に記載の化合
物。特開平7−5610号に記載の式(I)で表される
化合物で、具体的には同公報5頁〜10頁に記載の化合
物I−1〜I−38。特開平7−77783号に記載の
式(II)で表される化合物で、具体的には同公報10頁
〜27頁に記載の化合物II−1〜II−102。特開平7
−104426号に記載の式(H)および式(Ha)で
表される化合物で、具体的には同公報8頁〜15頁に記
載の化合物H−1〜H−44。EP−713131A号
に記載の,ヒドラジン基の近傍にアニオン性基またはヒ
ドラジンの水素原子と分子内水素結合を形成するノニオ
ン性基を有することを特徴とする化合物で、特に式
(A),式(B),式(C),式(D),式(E),式
(F)で表される化合物で,具体的には同公報に記載の
化合物N−1〜N−30。EP−713131A号に記
載の式(1)で表される化合物で、具体的には同公報に
記載の化合物D−1〜D−55。
(Formula 1) described in JP-B-6-77138
And specifically the compounds described on pages 3 and 4 of the same publication. Formula (I) described in JP-B-6-93082
And specifically, compounds 1 to 38 described on pages 8 to 18 of the publication. Compounds represented by formulas (4), (5) and (6) described in JP-A-6-230497, specifically, Compounds 4-1 to 4-1 described on pages 25 and 26 of the same publication 4-10, compounds 5-1 to 5-42 described on pages 28 to 36, and compounds 6-1 to 6-7 described on pages 39 and 40. JP-A-6-289520
Compounds represented by formulas (1) and (2) described in the above publication, specifically, compounds 1-
1) to 1-17) and 2-1). JP-A-6-3139
Compounds represented by (Chemical Formula 2) and (Chemical Formula 3) described in No. 36, specifically, compounds described on pages 6 to 19 of the same publication.
Compounds represented by (Chemical Formula 1) described in JP-A-6-313951, specifically, compounds described on pages 3 to 5 of the same. Compounds represented by formula (I) described in JP-A-7-5610, specifically, compounds I-1 to I-38 described on pages 5 to 10 of the same. Compounds represented by formula (II) described in JP-A-7-77783, specifically, compounds II-1 to II-102 described on pages 10 to 27 of the same publication. JP 7
Compounds represented by formulas (H) and (Ha) described in JP-A-104426, specifically, compounds H-1 to H-44 described on pages 8 to 15 of the same publication. A compound described in EP-713131A, which has an anionic group or a nonionic group that forms an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine in the vicinity of a hydrazine group. B), compounds represented by formula (C), formula (D), formula (E), and formula (F), specifically, compounds N-1 to N-30 described in the publication. Compounds represented by formula (1) described in EP-713131A, specifically, compounds D-1 to D-55 described in the publication.

【0122】さらに1991年3月22日発行の「公知技術(1〜
207頁)」(アズテック社刊)の25頁から34頁に記載の
種々のヒドラジン誘導体。特開昭62−86354号
(6頁〜7頁)の化合物D−2およびD−39。
Further, “Known Techniques (1 to
207) ”(Aztec Co., Ltd.), pp. 25-34. Compounds D-2 and D-39 of JP-A-62-86354 (pages 6 to 7).

【0123】本発明の式(A1)〜式(A3)、および式
(H)で表される化合物は、水分散物として塗布液に添加
される。有機溶媒は含有しない方が好ましいが、10体
積%以下のアルコール類(メタノール、エタノール、プ
ロパノール、フッ素化アルコール等)を含有してもい。
Formulas (A1) to (A3) of the present invention, and
The compound represented by (H) is added to the coating solution as an aqueous dispersion. It is preferable not to contain an organic solvent, but it may contain 10% by volume or less of alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol, etc.).

【0124】本発明の分散操作では、水性溶媒可溶な分
散剤(分散助剤)の存在下で式(A1)〜式(A3)、お
よび式(H)で表される化合物を分散することが好まし
い。分散助剤としては、例えば、ポリアクリル酸、アク
リル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、マレイン酸モ
ノエステル共重合体、アクリロメチルプロパンスルホン
酸共重合体などの合成アニオンポリマー、カルボキシメ
チルデンプン、カルボキシメチルセルロースなどの半合
成アニオンポリマー、アルギン酸、ペクチン酸などのア
ニオン性ポリマー、特開平7-350753号に記載の化合物、
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の公知のポ
リマー、あるいはゼラチン等の自然界に存在する高分子
化合物を適宜選択して用いることができる。
In the dispersion operation of the present invention, the compounds represented by the formulas (A1) to (A3) and (H) are dispersed in the presence of an aqueous solvent-soluble dispersant (dispersion aid). Is preferred. Examples of the dispersing agent include polyacrylic acid, a copolymer of acrylic acid, a maleic acid copolymer, a maleic acid monoester copolymer, a synthetic anionic polymer such as an acrylomethylpropanesulfonic acid copolymer, and carboxymethyl. Starch, semi-synthetic anionic polymer such as carboxymethyl cellulose, alginic acid, anionic polymer such as pectic acid, the compound described in JP-A-7-350753,
Known polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, and hydroxypropylmethylcellulose, or naturally occurring polymer compounds such as gelatin can be appropriately selected and used.

【0125】また、分散助剤としてノニオン系、アニオ
ン系、カチオン系、フッ素系などいかなる界面活性剤も
適宜用いられる。アニオン性、ノニオン性、両性の界面
活性剤が好ましく、特にアニオン性および/またはノニ
オン性界面活性剤の使用が好ましい。具体的には、特開
昭62-170950号、米国特許5,380,644号などに記載のフッ
素系高分子界面活性剤、特開昭60-244945号、特開昭63-
188135号などに記載のフッ素系界面活性剤、米国特許3,
885,965号などに記載のポリシロキサン系界面活性剤、
特開平6-301140号などに記載のポリアルキレンオキサイ
ドやアニオン系界面活性剤などが挙げられる。
Any surfactant such as a nonionic, anionic, cationic, or fluorine-based dispersing agent may be appropriately used. Anionic, nonionic and amphoteric surfactants are preferred, and the use of anionic and / or nonionic surfactants is particularly preferred. Specifically, JP-A-62-170950, fluorinated polymer surfactants described in U.S. Patent No. 5,380,644, JP-A-60-244945, JP-A-63-170945
188135 No. fluorinated surfactants described in U.S. Pat.
Polysiloxane surfactants described in 885,965 and the like,
Examples thereof include polyalkylene oxides and anionic surfactants described in JP-A-6-301140.

【0126】分散助剤は、分散前に式(A1)〜式(A
3)、および式(H)で表される化合物の粉末またはウ
ェットケーキ状態のこれらの化合物と混合し、スラリー
として分散機に送り込むのは一般的な方法であるが、予
めこれらの化合物と分散助剤を混ぜ合わせた状態で熱処
理や溶媒による処理を施して粉末またはウェットケーキ
としても良い。分散前後または分散中に適当なpH調整剤
によりpHコントロールしても良い。
Prior to dispersion, the dispersing aids may be prepared according to the formulas (A1) to (A)
It is a general method to mix these compounds in the form of a powder or a wet cake with the compound represented by formula (H) or 3) and feed the mixture as a slurry to a dispersing machine. Heat treatment or treatment with a solvent may be performed in a state in which the agents are mixed to form a powder or a wet cake. The pH may be controlled by a suitable pH adjuster before, during or after dispersion.

【0127】本発明の式(A1)〜式(A3)、および式
(H)で表される化合物は、好ましくは微粉末(微結晶粒
子)の固体分散物として感光材料に添加されることが好
ましい。これらの化合物の微(結晶)粒子固体分散物
は、所望により前述のような水を主成分とする適当な溶
媒(水を主成分とし、アルコールなどを含んでもよ
い。)を用い、分散剤の存在下で公知の微細化手段(例
えば、ボールミル、振動ボールミル、遊星ボールミル、
サンドミル、コロイドミル、ジェットミル、ローラーミ
ル、マイクロフルイダイザー)を用い機械的に調製する
ことができる。
Formulas (A1) to (A3) of the present invention, and
The compound represented by (H) is preferably added to the photosensitive material as a solid dispersion of fine powder (fine crystal particles). A fine (crystalline) particle solid dispersion of these compounds may be used as a dispersant by using an appropriate solvent containing water as a main component as described above (water may be used as a main component and alcohol may be contained). Known micronizing means in the presence (eg, ball mill, vibrating ball mill, planetary ball mill,
It can be prepared mechanically using a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, a microfluidizer).

【0128】また、これらの化合物の微(結晶)粒子
は、分散用界面活性剤を用いて、これらの化合物を適当
な溶媒中で溶解させた後、これらの化合物の貧溶媒に添
加して微結晶を析出させる方法や、pHをコントロール
させることによってまずこれらの化合物を溶解させ、そ
の後pHを変化させて微結晶化する方法などを利用して
得ることができる。このとき、粗分散に用いる溶媒とし
て10体積%以下の有機溶媒を使用しても良く、通常有
機溶媒は微粒子化終了後除去される。
The fine (crystalline) particles of these compounds are dispersed in a suitable solvent using a dispersing surfactant and then added to a poor solvent for these compounds to form fine particles. It can be obtained by a method of precipitating crystals or a method of first dissolving these compounds by controlling the pH and then changing the pH to perform microcrystallization. At this time, an organic solvent of 10% by volume or less may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after completion of the fine particle formation.

【0129】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して、水分散物として用いることができる。
Further, by a well-known emulsification and dispersion method, an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone is used to dissolve the compound. An emulsified dispersion can be prepared and used as an aqueous dispersion.

【0130】式(A1)〜式(A3)、および式(H)で表
される化合物の微粒子は、平均粒子径0.005μm 〜
30μm 、好ましくは0.01μm 〜10μm 、更に好
ましくは0.02μm 〜2μm である。
The fine particles of the compounds represented by the formulas (A1) to (A3) and (H) have an average particle diameter of 0.005 μm to 0.005 μm.
The thickness is 30 μm, preferably 0.01 μm to 10 μm, more preferably 0.02 μm to 2 μm.

【0131】調製された分散物は、保存時の微粒子の沈
降を抑える目的で攪拌しながら保存したり、親水性コロ
イドにより粘性の高い状態(例えば、ゼラチンを使用し
ゼリー状にした状態)で保存したりすることもできる。
また、保存時の雑菌などの繁殖を防止する目的で防腐剤
を添加することもできる。
The prepared dispersion may be stored with stirring for the purpose of suppressing sedimentation of fine particles during storage, or stored in a highly viscous state (for example, in a jelly state using gelatin) with a hydrophilic colloid. You can also do.
Further, a preservative can be added for the purpose of preventing the propagation of various bacteria during storage.

【0132】本発明の式(A1)〜式(A3)、および式
(H)で表される化合物は、支持体に対して画像形成層側
の層、即ち画像形成層あるいはこの層側の他のバインダ
ー層のどの層に添加してもよいが、画像形成層あるいは
それに隣接するバインダー層に添加することが好まし
い。
Formulas (A1) to (A3) of the present invention, and
The compound represented by (H) may be added to the layer on the image forming layer side with respect to the support, that is, any layer of the image forming layer or another binder layer on the layer side. It is preferable to add it to the binder layer adjacent thereto.

【0133】本発明の式(A1)〜式(A3)、および式
(H)で表される化合物の添加量は、銀1モルに対し1×
10-6〜1モルが好ましく、1×10-5〜5×10-1
ルがより好ましく、2×10-5〜2×10-1モルが最も
好ましい。
Formulas (A1) to (A3) of the present invention, and
The amount of the compound represented by (H) was 1 × with respect to 1 mol of silver.
It is preferably from 10 -6 to 1 mol, more preferably from 1 x 10 -5 to 5 x 10 -1 mol, most preferably from 2 x 10 -5 to 2 x 10 -1 mol.

【0134】本発明では、式(1)〜式(3)で表され
る化合物を硬調化剤として用い、式(H)で表される化
合物を硬調化剤あるいは現像促進剤として用いることが
好ましい。両者を併用することにより硬調化剤の添加量
を大幅に減らすことができるため、感材コストを下げる
ことができて好ましい。
In the present invention, the compounds represented by the formulas (1) to (3) are preferably used as a contrast agent, and the compound represented by the formula (H) is preferably used as a contrast agent or a development accelerator. . When both are used in combination, the addition amount of the high contrast agent can be greatly reduced, so that the cost of the light-sensitive material can be reduced, which is preferable.

【0135】式(1),式(2),および式(3)で表される
硬調化剤と式(H)で表される化合物の添加量のモル比
は、100:1〜1:10の範囲が好ましく、10:1
〜1:5の範囲がさらに好ましい。
The molar ratio of the toning agent represented by the formulas (1), (2) and (3) to the compound represented by the formula (H) is 100: 1 to 1:10. Is preferably in the range of 10: 1
The range of 1 : 1: 5 is more preferable.

【0136】本発明に用いられる式(A1)〜式(A
3)、および式(H)で表される化合物は、1種のみ用い
ても、2種以上を併用しても良い。また上記のものの他
に、米国特許5545515号、米国特許563533
9号、米国特許5654130号、国際特許WO−97
/34196号、米国特許5686228号に記載の化
合物、あるいはまた特願平8−279962号、特願平
9−228881号、特願平9−273935号、特願
平9−354107号、特願平9−309813号、特
願平9−296174号、特願平9−282564号、
特願平9−272002号、特願平9−272003
号、特願平9−332388号に記載された化合物を併
用して用いても良い。
Formulas (A1) to (A) used in the present invention
3) and the compound represented by the formula (H) may be used alone or in combination of two or more. In addition to the above, US Pat. No. 5,545,515 and US Pat.
No. 9, U.S. Pat. No. 5,654,130, International Patent WO-97
No./34196, U.S. Pat. No. 5,686,228, or compounds disclosed in Japanese Patent Application Nos. 8-279962, 9-228888, 9-273935, 9-354107, and 9-354107. 9-309813, Japanese Patent Application No. 9-296174, Japanese Patent Application No. 9-282564,
Japanese Patent Application Nos. 9-272002 and 9-272003
And the compounds described in Japanese Patent Application No. 9-332388 may be used in combination.

【0137】また、本発明は超硬調画像形成のために、
前記の硬調化剤とともに硬調化促進剤を併用することが
できる。例えば、米国特許第5,545,505号に記載のアミ
ン化合物、具体的にはAM-1〜AM-5、同5,545,507号
に記載のヒドロキサム酸類、具体的にはHA-1〜HA-1
1、同5,558,983号に記載のヒドラジン化合物、具体的に
はCA-1〜CA-6、日本特許特願平8-132836号に記載の
オニュ−ム塩類、具体的にはA-1〜A-42、B-1〜B-2
7、C-1〜C-14などを用いることができる。
Further, the present invention provides a method for forming a super-high contrast image.
A high contrast accelerator can be used in combination with the above-mentioned high contrast agent. For example, amine compounds described in U.S. Pat. No. 5,545,505, specifically, AM-1 to AM-5, and hydroxamic acids described in 5,545,507, specifically, HA-1 to HA-1
1, hydrazine compounds described in 5,558,983, specifically CA-1 to CA-6, onium salts described in Japanese Patent Application No. 8-132836, specifically A-1 to A- 42, B-1 to B-2
7, C-1 to C-14 and the like can be used.

【0138】前記の硬調化剤、およびこれらの硬調化促
進剤の合成方法、添加方法、添加量等は、それぞれの前
記引用特許に記載されているように行うことができる。
The methods for synthesizing, adding, and adding the above-mentioned high contrast agents and these high contrast accelerators can be carried out as described in each of the cited patents.

【0139】本発明の熱現像感光材料には有機銀塩のた
めの還元剤を含む。有機銀塩のための還元剤は、銀イオ
ンを金属銀に還元する任意の物質、好ましくは有機物質
であってよい。フェニドン、ハイドロキノンおよびカテ
コールなどの従来の写真現像剤は有用であるが、ヒンダ
ードフェノール還元剤が好ましい。還元剤は、画像形成
層を有する面の銀1モルに対して5〜50モル%含まれるこ
とが好ましく、10〜40モル%で含まれることがさらに好
ましい。還元剤の添加層は画像形成層を有する面のいか
なる層でも良い。画像形成層以外の層に添加する場合は
銀1モルに対して10〜50モル%と多めに使用することが好
ましい。また、還元剤は現像時のみ有効に機能を持つよ
うに誘導化されたいわゆるプレカーサーであってもよ
い。
The photothermographic material of the present invention contains a reducing agent for an organic silver salt. The reducing agent for the organic silver salt may be any substance that reduces silver ions to metallic silver, preferably an organic substance. Conventional photographic developers such as phenidone, hydroquinone and catechol are useful, but hindered phenol reducing agents are preferred. The reducing agent is preferably contained in an amount of 5 to 50 mol%, more preferably 10 to 40 mol%, per 1 mol of silver on the surface having the image forming layer. The layer to which the reducing agent is added may be any layer on the side having the image forming layer. When it is added to a layer other than the image forming layer, it is preferable to use a relatively large amount of 10 to 50 mol% with respect to 1 mol of silver. Further, the reducing agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development.

【0140】有機銀塩を利用した熱現像感光材料におい
ては広範囲の還元剤が特開昭46-6074号、同47-1238号、
同47-33621号、同49-46427号、同49-115540号、同50-14
334号、同50-36110号、同50-147711号、同51-32632号、
同51-1023721号、同51-32324号、同51-51933号、同52-8
4727号、同55-108654号、同56-146133号、同57-82828
号、同57-82829号、特開平6-3793号、米国特許3,667,95
86号、同3,679,426号、同3,751,252号、同3,751,255
号、同3,761,270号、同3,782,949号、同3,839,048号、
同3,928,686号、同5,464,738号、独国特許2321328号、
欧州特許692732号などに開示されている。例えば、フェ
ニルアミドオキシム、2-チエニルアミドオキシムおよび
p-フェノキシフェニルアミドオキシムなどのアミドオキ
シム;例えば4-ヒドロキシ-3,5-ジメトキシベンズアル
デヒドアジンなどのアジン;2,2'-ビス(ヒドロキシメチ
ル)プロピオニル-β-フェニルヒドラジンとアスコルビ
ン酸との組合せのような脂肪族カルボン酸アリールヒド
ラジドとアスコルビン酸との組合せ;ポリヒドロキシベ
ンゼンと、ヒドロキシルアミン、レダクトンおよび/ま
たはヒドラジンの組合せ(例えばハイドロキノンと、ビ
ス(エトキシエチル)ヒドロキシルアミン、ピペリジノヘ
キソースレダクトンまたはホルミル-4-メチルフェニル
ヒドラジンの組合せなど);フェニルヒドロキサム酸、p
-ヒドロキシフェニルヒドロキサム酸およびβ-アリニン
ヒドロキサム酸などのヒドロキサム酸;アジンとスルホ
ンアミドフェノールとの組合せ(例えば、フェノチアジ
ンと2,6-ジクロロ-4-ベンゼンスルホンアミドフェノー
ルなど);エチル-α-シアノ-2-メチルフェニルアセテー
ト、エチル-α-シアノフェニルアセテートなどのα-シ
アノフェニル酢酸誘導体;2,2'-ジヒドロキシ-1,1'-ビ
ナフチル、6,6'-ジブロモ-2,2'-ジヒドロキシ-1,1'-ビ
ナフチルおよびビス(2-ヒドロキシ-1-ナフチル)メタン
に例示されるようなビス-β-ナフトール;ビス-β-ナフ
トールと1,3-ジヒドロキシベンゼン誘導体(例えば、2,4
-ジヒドロキシベンゾフェノンまたは2',4'-ジヒドロキ
シアセトフェノンなど)の組合せ;3-メチル-1-フェニル
-5-ピラゾロンなどの、5-ピラゾロン;ジメチルアミノ
ヘキソースレダクトン、アンヒドロジヒドロアミノヘキ
ソースレダクトンおよびアンヒドロジヒドロピペリドン
ヘキソースレダクトンに例示されるようなレダクトン;
2,6-ジクロロ-4-ベンゼンスルホンアミドフェノールお
よびp-ベンゼンスルホンアミドフェノールなどのスルホ
ンアミドフェノール還元剤;2-フェニルインダン-1,3-
ジオンなど; 2,2-ジメチル-7-t-ブチル-6-ヒドロキシ
クロマンなどのクロマン;2,6-ジメトキシ-3,5-ジカル
ボエトキシ-1,4-ジヒドロピリジンなどの1,4-ジヒドロ
ピリジン;ビスフェノール(例えば、ビス(2-ヒドロキシ
-3-t-ブチル-5-メチルフェニル)メタン、2,2-ビス(4-ヒ
ドロキシ-3-メチルフェニル)プロパン、4,4-エチリデン
-ビス(2-t-ブチル-6-メチルフェノール) 、1,1-ビス(2-
ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチル
ヘキサンおよび2,2-ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフ
ェニル)プロパンなど);アスコルビン酸誘導体(例え
ば、パルミチン酸1-アスコルビル、ステアリン酸アスコ
ルビルなど);ならびにベンジルおよびビアセチルなど
のアルデヒドおよびケトン;3-ピラゾリドンおよびある
種のインダン-1,3-ジオン;クロマノール(トコフェロー
ルなど)などがある。
In photothermographic materials utilizing organic silver salts, a wide range of reducing agents are disclosed in JP-A-46-6074 and JP-A-47-1238.
47-33621, 49-46427, 49-115540, 50-14
No. 334, No. 50-36110, No. 50-147711, No. 51-32632,
No. 51-1023721, No. 51-32324, No. 51-51933, No. 52-8
4727, 55-108654, 56-146133, 57-82828
No. 57-82829, JP-A-6-3793, U.S. Pat.
No. 86, No. 3,679,426, No. 3,751,252, No. 3,751,255
Nos. 3,761,270, 3,782,949, 3,839,048,
3,928,686, 5,464,738, German patent 2321328,
It is disclosed in European Patent No. 692732 and the like. For example, phenylamide oxime, 2-thienylamide oxime and
Amide oximes such as p-phenoxyphenylamide oxime; azines such as 4-hydroxy-3,5-dimethoxybenzaldehyde azine; combinations of 2,2′-bis (hydroxymethyl) propionyl-β-phenylhydrazine with ascorbic acid A combination of such an aliphatic carboxylic acid aryl hydrazide and ascorbic acid; a combination of polyhydroxybenzene and hydroxylamine, reductone and / or hydrazine (eg, hydroquinone and bis (ethoxyethyl) hydroxylamine, piperidinohexose reductone Or a combination of formyl-4-methylphenylhydrazine, etc.); phenylhydroxamic acid, p
Hydroxamic acids such as -hydroxyphenylhydroxamic acid and β-alinine hydroxamic acid; combinations of azines with sulfonamidophenols (eg, phenothiazine and 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol); ethyl-α-cyano Α-cyanophenylacetic acid derivatives such as 2-methylphenylacetate and ethyl-α-cyanophenylacetate; 2,2′-dihydroxy-1,1′-binaphthyl, 6,6′-dibromo-2,2′-dihydroxy Bis-β-naphthol as exemplified by -1,1′-binaphthyl and bis (2-hydroxy-1-naphthyl) methane; bis-β-naphthol and 1,3-dihydroxybenzene derivatives (eg, 2,4
-Dihydroxybenzophenone or 2 ', 4'-dihydroxyacetophenone); 3-methyl-1-phenyl
5-pyrazolone, such as -5-pyrazolone; reductones as exemplified by dimethylaminohexose reductone, anhydrodihydroaminohexose reductone and anhydrodihydropiperidone hexose reductone;
Sulfonamidophenol reducing agents such as 2,6-dichloro-4-benzenesulfonamidophenol and p-benzenesulfonamidophenol; 2-phenylindane-1,3-
A dione or the like; a chroman such as 2,2-dimethyl-7-t-butyl-6-hydroxychroman; a 1,4-dihydropyridine such as 2,6-dimethoxy-3,5-dicarboethoxy-1,4-dihydropyridine; Bisphenols (e.g., bis (2-hydroxy
-3-t-butyl-5-methylphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 4,4-ethylidene
-Bis (2-t-butyl-6-methylphenol), 1,1-bis (2-
Hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane and 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, etc.); ascorbic acid derivatives (for example, 1-palmitic acid) And aldehydes and ketones such as benzyl and biacetyl; 3-pyrazolidones and certain indan-1,3-diones; chromanols (such as tocopherols).

【0141】本発明の還元剤は、溶液、粉末、固体微粒
子分散物などいかなる方法で添加してもよい。固体微粒
子分散は公知の微細化手段(例えば、ボールミル、振動
ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミ
ル、ローラーミルなど)で行われる。また、固体微粒子
分散する際に分散助剤を用いてもよい。
The reducing agent of the present invention may be added by any method such as a solution, a powder, and a solid fine particle dispersion. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.

【0142】次に本発明に用いられる感光性ハロゲン化
銀について詳細に説明する。本発明に用いられる感光性
ハロゲン化銀は、ハロゲン組成として特に制限はなく、
塩化銀、塩臭化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀
を用いることができる。粒子内におけるハロゲン組成の
分布は均一であってもよく、ハロゲン組成がステップ状
に変化したものでもよく、あるいは連続的に変化したも
のでもよい。また、コア/シェル構造を有するハロゲン
化銀粒子を好ましく用いることができる。構造としては
好ましくは2〜5重構造、より好ましくは2〜4重構造
のコア/シェル粒子を用いることができる。また塩化銀
または塩臭化銀粒子の表面に臭化銀を局在させる技術も
好ましく用いることができる。
Next, the photosensitive silver halide used in the present invention will be described in detail. The photosensitive silver halide used in the present invention is not particularly limited as a halogen composition,
Silver chloride, silver chlorobromide, silver bromide, silver iodobromide, silver iodochlorobromide can be used. The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or may be changed continuously. Further, silver halide grains having a core / shell structure can be preferably used. As the structure, core / shell particles having preferably a 2- to 5-layer structure, more preferably a 2- to 4-layer structure, can be used. A technique for localizing silver bromide on the surface of silver chloride or silver chlorobromide grains can also be preferably used.

【0143】本発明における感光性ハロゲン化銀の形成
方法は当業界ではよく知られており、例えばリサーチデ
ィスクロージャー1978年6月の第17029号、および米国特
許第3,700,458号に記載されている方法を用いることが
できる。本発明で用いることのできる具体的な方法とし
ては、調製された有機銀塩中にハロゲン含有化合物を添
加することにより有機銀塩の銀の一部を感光性ハロゲン
化銀に変換する方法、ゼラチンあるいは他のポリマー溶
液の中に銀供給化合物およびハロゲン供給化合物を添加
することにより感光性ハロゲン化銀粒子を調製し有機銀
塩と混合する方法を用いることができる。本発明におい
て好ましくは後者の方法を用いることができる。感光性
ハロゲン化銀の粒子サイズは、画像形成後の白濁を低く
抑える目的のために小さいことが好ましく具体的には0.
20μm以下、より好ましくは0.01μm以上0.15μm以下、
更に好ましくは0.02μm以上0.12μm以下がよい。ここ
でいう粒子サイズとは、ハロゲン化銀粒子が立方体ある
いは八面体のいわゆる正常晶である場合にはハロゲン化
銀粒子の稜の長さをいう。また、ハロゲン化銀粒子が平
板状粒子である場合には主表面の投影面積と同面積の円
像に換算したときの直径をいう。その他正常晶でない場
合、例えば球状粒子、棒状粒子等の場合には、ハロゲン
化銀粒子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。
The method for forming the photosensitive silver halide in the present invention is well known in the art, and uses, for example, the methods described in Research Disclosure No. 17029, June 1978, and US Pat. No. 3,700,458. be able to. Specific methods that can be used in the present invention include a method of converting a part of the silver of the organic silver salt to a photosensitive silver halide by adding a halogen-containing compound to the prepared organic silver salt, gelatin. Alternatively, a method in which a silver supply compound and a halogen supply compound are added to another polymer solution to prepare photosensitive silver halide grains and mixed with an organic silver salt can be used. In the present invention, the latter method can be preferably used. The particle size of the photosensitive silver halide is preferably small for the purpose of suppressing the white turbidity after image formation to be low.
20 μm or less, more preferably 0.01 μm or more and 0.15 μm or less,
More preferably, the thickness is 0.02 μm or more and 0.12 μm or less. Here, the grain size means the length of the edge of the silver halide grain when the silver halide grain is a cubic or octahedral so-called normal crystal. In the case where the silver halide grains are tabular grains, the diameter refers to the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface. In the case of other than normal crystals, for example, in the case of spherical grains, rod-shaped grains, etc., it refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains.

【0144】ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、
八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ
状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特
に立方体状粒子、平板状粒子が好ましい。平板状ハロゲ
ン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は好ましく
は100:1〜2:1、より好ましくは50:1〜3:1がよい。更
に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ま
しく用いることができる。感光性ハロゲン化銀粒子の外
表面の面指数(ミラー指数)については特に制限はない
が、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い
{100}面の占める割合が高いことが好ましい。その割合
としては50%以上が好ましく、65%以上がより好ましく、
80%以上が更に好ましい。ミラー指数{100}面の比率は増
感色素の吸着における{111}面と{100}面との吸着依存性
を利用したT.Tani;J.Imaging Sci.,29、165(1985年)に記
載の方法により求めることができる。
The shape of the silver halide grains is cubic,
Octahedral, tabular particles, spherical particles, rod-like particles, potato-like particles and the like can be mentioned. In the present invention, cubic particles and tabular particles are particularly preferable. When tabular silver halide grains are used, the average aspect ratio is preferably 100: 1 to 2: 1, more preferably 50: 1 to 3: 1. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (mirror index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grains is not particularly limited, but the spectral sensitizing efficiency when a spectral sensitizing dye is adsorbed is high.
The proportion occupied by the {100} plane is preferably high. The ratio is preferably 50% or more, more preferably 65% or more,
80% or more is more preferable. The Miller index ratio of {100} plane was determined by T. Tani; J. Imaging Sci., 29, 165 (1985) using the dependence of the adsorption of sensitizing dye on the {111} and {100} planes. It can be determined by the method described.

【0145】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀粒
子は、周期律表の第VII族あるいは第VIII族(第7族〜
第10族)の金属または金属錯体を含有することが好ま
しい。周期律表の第VII族あるいは第VIII族の金属また
は金属錯体の中心金属として好ましくはロジウム、レニ
ウム、ルテニウム、オスミウム、イリジウムである。こ
れら金属錯体は1種類でもよいし、同種金属および異種
金属の錯体を2種以上併用してもよい。好ましい含有率
は銀1モルに対し10-9モル〜10-2モルの範囲が好ま
しく、10-8モル〜10-4モルの範囲がより好ましい。
具体的な金属錯体の構造としては特開平7-225449号等に
記載された構造の金属錯体を用いることができる。
The light-sensitive silver halide grains used in the present invention are selected from the group VII or VIII of the periodic table (groups 7 to 8).
It preferably contains a metal of Group 10) or a metal complex. Rhodium, rhenium, ruthenium, osmium and iridium are preferred as the metal of Group VII or VIII of the periodic table or the central metal of the metal complex. One type of these metal complexes may be used, or two or more types of complexes of the same metal and different metals may be used in combination. The preferred content is in the range of 10 -9 mol to 10 -2 mol, preferably 10 -8 mol to 10 -4 mol, per mol of silver.
As a specific structure of the metal complex, a metal complex having a structure described in JP-A-7-225449 or the like can be used.

【0146】本発明に好ましく用いられるロジウム化合
物としては、水溶性ロジウム化合物を用いることができ
る。例えば、ハロゲン化ロジウム(III)化合物、また
はロジウム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オ
キザラト等を持つもの、例えば、ヘキサクロロロジウム
(III)錯塩、ペンタクロロアコロジウム(III)錯塩、
テトラクロロジアコロジウム(III)錯塩、ヘキサブロ
モロジウム(III)錯塩、ヘキサアンミンロジウム(II
I)錯塩、トリザラトロジウム(III)錯塩等が挙げられ
る。これらのロジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒
に溶解して用いられるが、ロジウム化合物の溶液を安定
化させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハ
ロゲン化水素水溶液(例えば塩酸、臭酸、フッ化水素酸
等)、あるいはハロゲン化アルカリ(例えばKCl、NaC
l、KBr、NaBr等)を添加する方法を用いることができ
る。水溶性ロジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製
時に、あらかじめロジウムをドープしてある別のハロゲ
ン化銀粒子を添加して溶解させることも可能である。
As the rhodium compound preferably used in the present invention, a water-soluble rhodium compound can be used. For example, a rhodium (III) halide compound or a rhodium complex salt having a ligand such as halogen, amines, oxalate, etc., for example, hexachlororhodium (III) complex salt, pentachloroacolodium (III) complex salt,
Tetrachlorodiachodium (III) complex salt, hexabromorhodium (III) complex salt, hexaamminerhodium (II)
I) complex salts and trizalatrodium (III) complex salts. These rhodium compounds are used by dissolving them in water or a suitable solvent. A method generally used for stabilizing a solution of the rhodium compound, that is, a hydrogen halide aqueous solution (for example, hydrochloric acid, bromic acid, fluoride, etc.) Hydrogen acid, etc.) or alkali halides (eg KCl, NaC
l, KBr, NaBr, etc.) can be used. Instead of using water-soluble rhodium, it is also possible to add and dissolve other silver halide grains doped with rhodium during the preparation of silver halide.

【0147】これらのロジウム化合物の添加量はハロゲ
ン化銀1モル当たり1×10-8モル〜5×10-6モルの
範囲が好ましく、特に好ましくは5×10-8モル〜1×
10-6モルである。
The addition amount of these rhodium compounds is preferably in the range of 1 × 10 −8 mol to 5 × 10 −6 mol per mol of silver halide, and particularly preferably in the range of 5 × 10 −8 mol to 1 × 10 mol.
10 -6 mol.

【0148】これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳
剤粒子の製造時および乳剤を塗布する前の各段階におい
て適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、
ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。
These compounds can be appropriately added at the time of production of silver halide emulsion grains and at each stage before coating the emulsion.
It is preferably incorporated into silver halide grains.

【0149】本発明に好ましく用いられるレニウム、ル
テニウム、オスミウムは特開昭63-2042号、特開平1-2859
41号、同2-20852号、同2-20855号等に記載された水溶性錯
塩の形で添加される。特に好ましいものとして、以下の
式で示される六配位錯体が挙げられる。[ML6n-
こでMはRu、Re、またはOsを表し、Lは配位子を
表し、nは0、1、2、3または4を表す。
Rhenium, ruthenium and osmium preferably used in the present invention are described in JP-A-63-2042 and JP-A-1-2859.
It is added in the form of a water-soluble complex salt described in JP-A Nos. 41, 2-20852, 2-20855 and the like. Particularly preferred is a six-coordinate complex represented by the following formula. [ML 6 ] n -where M represents Ru, Re, or Os, L represents a ligand, and n represents 0, 1, 2, 3, or 4.

【0150】この場合、対イオンは重要性を持たず、ア
ンモニウムもしくはアルカリ金属イオンが用いられる。
In this case, the counter ion is not important, and an ammonium or alkali metal ion is used.

【0151】また好ましい配位子としてはハロゲン化物
配位子、シアン化物配位子、シアン酸化物配位子、ニト
ロシル配位子、チオニトロシル配位子等が挙げられる。
以下に本発明に用いられる具体的錯体の例を示すが、本
発明はこれに限定されるものではない。
Preferred ligands include halide ligands, cyanide ligands, cyanide ligands, nitrosyl ligands, thionitrosyl ligands and the like.
Examples of specific complexes used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0152】 [ReCl6]3- [ReBr6]3- [ReCl5(NO)]2- [Re(NS)Br5]2- [Re(NO)(CN)5]2- [Re(O)2(CN)4]3- [RuCl6]3- [RuCl4(H2O)2]- [RuCl5(H2O)]2- [RuCl5(NO)]2- [RuBr5(NS)]2- [Ru(CO)3Cl3]2- [Ru(CO)Cl5]2- [Ru(CO)Br5]2- [OsCl6]3- [OsCl5(NO)]2- [Os(NO)(CN)5]2- [Os(NS)Br5]2- [Os(O)2(CN)4]4- [ReCl 6 ] 3- [ReBr 6 ] 3- [ReCl 5 (NO)] 2- [Re (NS) Br 5 ] 2- [Re (NO) (CN) 5 ] 2- [Re (O ) 2 (CN) 4 ] 3- [RuCl 6 ] 3- [RuCl 4 (H 2 O) 2 ] - [RuCl 5 (H 2 O)] 2- [RuCl 5 (NO)] 2- [RuBr 5 ( NS)] 2- [Ru (CO) 3 Cl 3 ] 2- [Ru (CO) Cl 5 ] 2- [Ru (CO) Br 5 ] 2- [OsCl 6 ] 3- [OsCl 5 (NO)] 2 - [Os (NO) (CN) 5 ] 2- [Os (NS) Br 5 ] 2- [Os (O) 2 (CN) 4 ] 4-

【0153】これらの化合物の添加量はハロゲン化銀1
モル当たり1×10-9モル〜1×10-5モルの範囲が好
ましく、特に好ましくは1×10-8モル〜1×10-6
ルである。
The addition amount of these compounds is as follows.
It is preferably in the range of 1 × 10 −9 mol to 1 × 10 −5 mol per mol, particularly preferably 1 × 10 −8 mol to 1 × 10 −6 mol.

【0154】これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳
剤粒子の製造時および乳剤を塗布する前の各段階におい
て適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、
ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。
These compounds can be appropriately added at the time of preparing silver halide emulsion grains and at each stage before coating the emulsion.
It is preferably incorporated into silver halide grains.

【0155】これらの化合物をハロゲン化銀の粒子形成
中に添加してハロゲン化銀粒子中に組み込むには、金属
錯体の粉末もしくはNaCl、KClと一緒に溶解した水溶液
を、粒子形成中の水溶性塩または水溶性ハライド溶液中
に添加しておく方法、あるいは銀塩とハライド溶液が同
時に混合されるとき第3の溶液として添加し、3液同時
混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製する方法、あるい
は粒子形成中に必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に
投入する方法などがある。特に粉末もしくはNaCl、KCl
と一緒に溶解した水溶液を、水溶性ハライド溶液に添加
する方法が好ましい。
In order to add these compounds during silver halide grain formation and incorporate them into silver halide grains, a metal complex powder or an aqueous solution dissolved together with NaCl and KCl is added to the aqueous solution during grain formation. A method in which silver halide grains are added to a salt or a water-soluble halide solution, or as a third solution when a silver salt and a halide solution are mixed at the same time, and a three-liquid simultaneous mixing method is used, Alternatively, there is a method in which a required amount of an aqueous solution of a metal complex is charged into a reaction vessel during particle formation. Especially powder or NaCl, KCl
Is preferable to add an aqueous solution dissolved together with the above to a water-soluble halide solution.

【0156】粒子表面に添加するには、粒子形成直後ま
たは物理熟成時途中もしくは終了時または化学熟成時に
必要量の金属錯体の水溶液を反応容器に投入することも
できる。
For the addition to the particle surface, a necessary amount of an aqueous solution of a metal complex can be charged into the reaction vessel immediately after the formation of the particles, during or during physical ripening, or at the time of chemical ripening.

【0157】本発明に好ましく用いられるイリジウム化
合物としては種々のものを使用できるが、例えばヘキサ
クロロイリジウム、ヘキサアンミンイリジウム、トリオ
キザラトイリジウム、ヘキサシアノイリジウム、ペンタ
クロロニトロシルイリジウム等が挙げられる。これらの
イリジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒に溶解して
用いられるが、イリジウム化合物の溶液を安定化させる
ために一般によく行われる方法、すなわち、ハロゲン化
水素水溶液(例えば塩酸、臭酸、フッ酸等)、あるいは
ハロゲン化アルカリ(例えばKCl、NaCl、KBr、NaBr等)
を添加する方法を用いることができる。水溶性イリジウ
ムを用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめ
イリジウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添
加して溶解させることも可能である。
As the iridium compound preferably used in the present invention, various compounds can be used. Examples thereof include hexachloroiridium, hexaammineiridium, trioxalatoiridium, hexacyanoiridium, and pentachloronitrosyliridium. These iridium compounds are used after being dissolved in water or a suitable solvent. However, a method generally used for stabilizing a solution of the iridium compound, that is, an aqueous solution of hydrogen halide (for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydrofluoric acid) is used. Etc.) or alkali halides (eg KCl, NaCl, KBr, NaBr, etc.)
Can be used. Instead of using water-soluble iridium, it is also possible to add and dissolve another iridium-doped silver halide grain during silver halide preparation.

【0158】さらに本発明に用いられるハロゲン化銀粒
子に、コバルト、鉄、ニッケル、クロム、パラジウム、
白金、金、タリウム、銅、鉛、等の金属原子を含有して
もよい。コバルト、鉄、クロム、さらにルテニウムの化
合物については六シアノ金属錯体を好ましく用いること
ができる。具体例としては、フェリシアン酸イオン、フ
ェロシアン酸イオン、ヘキサシアノコバルト酸イオン、
ヘキサシアノクロム酸イオン、ヘキサシアノルテニウム
酸イオンなどが挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。ハロゲン化銀中の金属錯体は均一に含有させ
ても、コア部に高濃度に含有させてもよく、あるいはシ
ェル部に高濃度に含有させてもよく特に制限はない。
The silver halide grains used in the present invention may further include cobalt, iron, nickel, chromium, palladium,
It may contain metal atoms such as platinum, gold, thallium, copper and lead. For compounds of cobalt, iron, chromium and ruthenium, hexacyano metal complexes can be preferably used. Specific examples include ferricyanate ion, ferrocyanate ion, hexacyanocobaltate ion,
Examples include, but are not limited to, hexacyanochromate ions, hexacyanoruthenate ions, and the like. The metal complex in the silver halide may be contained uniformly, may be contained in the core portion at a high concentration, or may be contained in the shell portion at a high concentration, and there is no particular limitation.

【0159】上記金属はハロゲン化銀1モル当たり1×
10-9〜1×10-4モルが好ましい。また、上記金属を
含有させるには単塩、複塩、または錯塩の形の金属塩に
して粒子調製時に添加することができる。
The above metal is 1 × per mole of silver halide.
It is preferably from 10 -9 to 1 × 10 -4 mol. Further, in order to contain the above-mentioned metal, a metal salt in the form of a single salt, a double salt or a complex salt can be added at the time of preparing particles.

【0160】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが本発明においては脱塩
してもしなくてもよい。
The photosensitive silver halide grains can be desalted by washing with water by a method known in the art such as a noodle method and a flocculation method, but in the present invention, it may or may not be desalted. .

【0161】本発明のハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ることが好ましい。化学増感の方法としては、硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、貴金属増感法などの
知られている方法を用いることができ、単独または組み
合わせて用いられる。組み合わせて使用する場合には、
例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増
感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感
法、硫黄増感法とセレン増感法とテルル増感法と金増感
法などが好ましい。
The silver halide emulsion of the present invention is preferably chemically sensitized. As the method of chemical sensitization, known methods such as a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, a tellurium sensitization method, and a noble metal sensitization method can be used, and these are used alone or in combination. When used in combination,
For example, sulfur sensitization and gold sensitization, sulfur sensitization and selenium sensitization and gold sensitization, sulfur sensitization and tellurium sensitization and gold sensitization, and sulfur sensitization and selenium sensitization Method, tellurium sensitization method, gold sensitization method and the like are preferable.

【0162】本発明に用いられる硫黄増感は、通常、硫
黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤を一定時
間撹拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公
知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、例え
ばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニン
類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、チ
オ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加量
は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン化銀粒子の大き
さなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲン化銀1
モル当たり10-7〜10-2モルであり、より好ましくは
10-5〜10-3モルである。
The sulfur sensitization used in the present invention is usually carried out by adding a sulfur sensitizer and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain time. As the sulfur sensitizer, known compounds can be used.For example, in addition to sulfur compounds contained in gelatin, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, thiazoles, rhodanines and the like are used. be able to. Preferred sulfur compounds are thiosulfates and thiourea compounds. The amount of the sulfur sensitizer to be added varies under various conditions such as the pH during chemical ripening, the temperature, and the size of silver halide grains.
It is 10 -7 to 10 -2 mol per mol, more preferably 10 -5 to 10 -3 mol.

【0163】本発明に用いられるセレン増感剤として
は、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわ
ち、通常、不安定型および/または非不安定型セレン化
合物を添加して40℃以上の高温で乳剤を一定時間撹拌
することにより行われる。不安定型セレン化合物として
は特公昭44-15748号、同43-13489号、特開平4-25832号、同
4-109240号、同4-324855号等に記載の化合物を用いるこ
とができる。特に特開平4-324855号中の式(VIII) およ
び(IX)で示される化合物を用いることが好ましい。
As the selenium sensitizer used in the present invention, known selenium compounds can be used. That is, it is usually carried out by adding an unstable and / or non-unstable selenium compound and stirring the emulsion at a high temperature of 40 ° C. or higher for a certain time. As unstable selenium compounds, JP-B-44-15748, JP-B-43-13489, JP-A-4-25832,
The compounds described in JP-A Nos. 4-109240 and 4-324855 can be used. In particular, it is preferable to use the compounds represented by formulas (VIII) and (IX) in JP-A-4-324855.

【0164】本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロ
ゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定さ
れるテルル化銀を生成させる化合物である。ハロゲン化
銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特開平5-3132
84号に記載の方法で試験することができる。テルル増感
剤としては例えばジアシルテルリド類、ビス(オキシカ
ルボニル)テルリド類、ビス(カルバモイル)テルリド
類、ジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)ジテ
ルリド類、ビス(カルバモイル)ジテルリド類、P=Te結合
を有する化合物、テルロカルボン酸塩類、Te−オルガ
ニルテルロカルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリド
類、テルリド類、テルロール類、テルロアセタール類、
テルロスルホナート類、P-Te結合を有する化合物、含T
eヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機テルル化
合物、コロイド状テルルなどを用いることができる。具
体的には、米国特許第1,623,499号、同第3,320,069号、同
第3,772,031号、英国特許第235,211号、同第1,121,496号、
同第1,295,462号、同第1,396,696号、カナダ特許第800,9
58号、特開平4-204640号、特願平3-53693号、同3-131598
号、同4-129787号、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサ
イアティー・ケミカル・コミュニケーション(J.Chem.S
oc.Chem.Commun.) 635(1980),ibid 1102(1979),ibid 64
5(1979)、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティ
ー・パーキン・トランザクション(J.Chem.Soc.Perkin.
Trans.) 1,2191(1980)、S.パタイ(S.Patai)編、ザ・ケ
ミストリー・オブ・オーガニック・セレニウム・アンド
・テルリウム・カンパウンズ(The Chemistry of Organ
ic Serenium and Tellunium Compounds),Vol.1(198
6)、同 Vol.2(1987)に記載の化合物を用いることがで
きる。特に特開平5-313284号中の式(II),(III),(IV)
で示される化合物が好ましい。
The tellurium sensitizer used in the present invention is a compound which forms silver telluride which is presumed to be a sensitizing nucleus on the surface or inside of silver halide grains. The formation rate of silver telluride in a silver halide emulsion is described in JP-A-5-3132.
It can be tested by the method described in No. 84. Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) tellurides, bis (carbamoyl) tellurides, diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) ditellurides, bis (carbamoyl) ditellurides, P = Te Compounds having a bond, tellurocarboxylates, Te-organyltellurocarboxylates, di (poly) tellurides, tellurides, tellurols, telluroacetals,
Tellurosulfonates, compounds having a P-Te bond, containing T
e Heterocycles, tellurocarbonyl compounds, inorganic tellurium compounds, colloidal tellurium, and the like can be used. Specifically, U.S. Patent Nos. 1,623,499, 3,320,069, 3,772,031, UK Patent 235,211 and 1,121,496,
No. 1,295,462, No. 1,396,696, Canadian Patent 800,9
No. 58, JP-A-4-204640, JP-A-3-53693, JP-A-3-31598
No. 4-129787, Journal of Chemical Society Chemical Communication (J. Chem.S.
oc.Chem.Commun.) 635 (1980), ibid 1102 (1979), ibid 64
5 (1979), Journal of Chemical Society Perkin Transaction (J. Chem. Soc. Perkin.
Trans.) 1,2191 (1980), edited by S. Patai, The Chemistry of Organ, Selenium and Tellurium Campounds
ic Serenium and Tellunium Compounds), Vol. 1 (198
6), Vol. 2 (1987). In particular, formulas (II), (III) and (IV) in JP-A-5-313284
Are preferred.

【0165】本発明で用いられるセレンおよびテルル増
感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成
条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当
たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3
ル程度を用いる。本発明における化学増感の条件として
は特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとし
ては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度として
は40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。
[0165] The amount of the selenium and tellurium sensitizers used in the present invention, the silver halide grains to be used, but the chemical ripening condition and the like and, generally, per mol of silver halide 10 -8 to 10 -2 mol, Preferably about 10 -7 to 10 -3 mol is used. The conditions of the chemical sensitization in the present invention are not particularly limited, but the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, preferably 7 to 10, and the temperature is 40 to 95 ° C, preferably 45 to 45 ° C. 85 ° C.

【0166】本発明に用いられる貴金属増感剤として
は、金、白金、パラジウム、イリジウム等が挙げられる
が、特に金増感が好ましい。本発明に用いられる金増感
剤としては具体的には、塩化金酸、カリウムクロロオー
レート、カリウムオーリチオシアネート、硫化金などが
挙げられ、ハロゲン化銀1モル当たり10-7〜10-2
ル程度を用いることができる。
The noble metal sensitizer used in the present invention includes gold, platinum, palladium, iridium and the like, and gold sensitization is particularly preferable. Specific examples of the gold sensitizer used in the present invention include chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, and gold sulfide, and 10 -7 to 10 -2 mol per mol of silver halide. Degrees can be used.

【0167】本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロ
ゲン化銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカド
ミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させ
てもよい。
In the silver halide emulsion used in the present invention, a cadmium salt, a sulfite, a lead salt, a thallium salt and the like may coexist in the process of forming silver halide grains or physical ripening.

【0168】本発明においては、還元増感を用いること
ができる。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコ
ルビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一ス
ズ、アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導
体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等
を用いることができる。また、乳剤のpHを7以上またはp
Agを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感す
ることができる。また、粒子形成中に銀イオンのシング
ルアディション部分を導入することにより還元増感する
ことができる。
In the present invention, reduction sensitization can be used. As specific compounds of the reduction sensitization method, in addition to ascorbic acid and thiourea dioxide, for example, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds and the like can be used. . Also, when the pH of the emulsion is 7 or more or p
Reduction sensitization can be achieved by aging while keeping Ag at 8.3 or less. Further, reduction sensitization can be achieved by introducing a single addition portion of silver ion during grain formation.

【0169】本発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州公開特
許EP293,917号に示される方法により、チオスルホン酸
化合物を添加してもよい。
A thiosulfonic acid compound may be added to the silver halide emulsion of the present invention according to the method described in EP 293,917.

【0170】本発明に用いられる感光材料中のハロゲン
化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例えば、
平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるも
の、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの)
併用してもよい。
The silver halide emulsion in the light-sensitive material used in the present invention may be only one kind or two or more kinds (for example,
Those with different average grain sizes, different halogen compositions, different crystal habits, different chemical sensitization conditions)
You may use together.

【0171】本発明の感光性ハロゲン化銀の使用量とし
ては有機銀塩1モルに対して感光性ハロゲン化銀0.01モ
ル以上0.5モル以下が好ましく、0.02モル以上0.3モル以
下がより好ましく、0.03モル以上0.25モル以下が特に好
ましい。別々に調製した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩
の混合方法および混合条件については、それぞれ調製終
了したハロゲン化銀粒子と有機銀塩を高速攪拌機やボー
ルミル、サンドミル、コロイドミル、振動ミル、ホモジ
ナイザー等で混合する方法や、あるいは有機銀塩の調製
中のいずれかのタイミングで調製終了した感光性ハロゲ
ン化銀を混合して有機銀塩を調製する方法等があるが、
本発明の効果が十分に現れる限りにおいては特に制限は
ない。
The amount of the photosensitive silver halide used in the present invention is preferably 0.01 mol to 0.5 mol, more preferably 0.02 mol to 0.3 mol, and more preferably 0.03 mol to 1 mol of the organic silver salt. It is particularly preferably at least 0.25 mol. Regarding the mixing method and the mixing conditions of the separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the prepared silver halide particles and organic silver salt are mixed with a high-speed stirrer, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc. There is a method of mixing, or a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt,
There is no particular limitation as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited.

【0172】本発明に還元可能な銀塩として用いること
のできる有機銀塩は、光に対して比較的安定であるが、
露光された光触媒(感光性ハロゲン化銀の潜像など)お
よび還元剤の存在下で、80℃あるいはそれ以上に加熱さ
れた場合に銀画像を形成する銀塩である。有機銀塩は銀
イオンを還元できる源を含む任意の有機物質であってよ
い。有機酸の銀塩、特に(炭素数が10〜30、好ましくは1
5〜28の)長鎖脂肪カルボン酸の銀塩が好ましい。配位子
が4.0〜10.0の範囲の錯安定度定数を有する有機または
無機銀塩の錯体も好ましい。銀供給物質は、好ましくは
画像形成層の約5〜70重量%を構成することができる。好
ましい有機銀塩はカルボキシル基を有する有機化合物の
銀塩を含む。これらの例は、脂肪族カルボン酸の銀塩お
よび芳香族カルボン酸の銀塩を含むがこれらに限定され
ることはない。脂肪族カルボン酸の銀塩の好ましい例と
しては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸
銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリ
スチン酸銀、パルミチン酸銀、マレイン酸銀、フマル酸
銀、酒石酸銀、リノール酸銀、酪酸銀および樟脳酸銀、
これらの混合物などを含む。
The organic silver salt which can be used as the reducible silver salt in the present invention is relatively stable to light,
A silver salt that forms a silver image when heated to 80 ° C. or higher in the presence of an exposed photocatalyst (such as a latent image of a photosensitive silver halide) and a reducing agent. The organic silver salt can be any organic substance including a source capable of reducing silver ions. Silver salts of organic acids, especially (C 10-30, preferably 1
Silver salts of long chain fatty carboxylic acids (5-28) are preferred. Complexes of organic or inorganic silver salts wherein the ligand has a complex stability constant in the range of 4.0 to 10.0 are also preferred. The silver donor material can preferably make up about 5-70% by weight of the imaging layer. Preferred organic silver salts include silver salts of organic compounds having a carboxyl group. Examples of these include, but are not limited to, silver salts of aliphatic carboxylic acids and silver salts of aromatic carboxylic acids. Preferred examples of the silver salt of the aliphatic carboxylic acid include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, silver maleate, and silver maleate. Silver acid, silver tartrate, silver linoleate, silver butyrate and silver camphorate,
And mixtures thereof.

【0173】メルカプト基またはチオン基を含む化合物
の銀塩およびこれらの誘導体を使用することもできる。
これらの化合物の好ましい例としては、3-メルカプト-4
-フェニル-1,2,4-トリアゾールの銀塩、2-メルカプトベ
ンズイミダゾールの銀塩、2-メルカプト-5-アミノチア
ジアゾールの銀塩、2-(エチルグリコールアミド)ベン
ゾチアゾールの銀塩、S-アルキルチオグリコール酸(こ
こでアルキル基の炭素数は12〜22である)の銀塩などの
チオグリコール酸の銀塩、ジチオ酢酸の銀塩などのジチ
オカルボン酸の銀塩、チオアミドの銀塩、5-カルボキシ
ル-1-メチル-2-フェニル-4-チオピリジンの銀塩、メル
カプトトリアジンの銀塩、2-メルカプトベンズオキサゾ
ールの銀塩、米国特許第4,123,274号に記載の銀塩、例
えば3-アミノ-5-ベンジルチオ-1,2,4-チアゾールの銀塩
などの1,2,4-メルカプトチアゾール誘導体の銀塩、米国
特許第3,301,678号に記載の3-(3-カルボキシエチル)-4-
メチル-4-チアゾリン-2-チオンの銀塩などのチオン化合
物の銀塩を含む。さらに、イミノ基を含む化合物も使用
することができる。これらの化合物の好ましい例として
は、ベンゾトリアゾールの銀塩およびそれらの誘導体、
例えばメチルベンゾトリアゾール銀などのベンゾトリア
ゾールの銀塩、5-クロロベンゾトリアゾール銀などのハ
ロゲン置換ベンゾトリアゾールの銀塩、米国特許第4,22
0,709号に記載のような1,2,4-トリアゾールまたは1-H-
テトラゾールの銀塩、イミダゾールおよびイミダゾール
誘導体の銀塩などを含む。例えば、米国特許第4,761,36
1号および同第4,775,613号に記載のような種々の銀アセ
チリド化合物をも使用することもできる。
Silver salts of compounds containing a mercapto group or a thione group and derivatives thereof can also be used.
Preferred examples of these compounds include 3-mercapto-4
-Phenyl-1,2,4-triazole silver salt, 2-mercaptobenzimidazole silver salt, 2-mercapto-5-aminothiadiazole silver salt, 2- (ethylglycolamide) benzothiazole silver salt, S- Silver salts of thioglycolic acid such as silver salts of alkylthioglycolic acid (where the alkyl group has 12 to 22 carbon atoms), silver salts of dithiocarboxylic acids such as silver salts of dithioacetic acid, silver salts of thioamides, 5 Silver salt of -carboxyl-1-methyl-2-phenyl-4-thiopyridine, silver salt of mercaptotriazine, silver salt of 2-mercaptobenzoxazole, silver salt described in U.S. Pat.No. 4,123,274, for example, 3-amino-5 Silver salts of 1,2,4-mercaptothiazole derivatives such as -benzylthio-1,2,4-thiazole silver salt, 3- (3-carboxyethyl) -4- described in U.S. Pat.No. 3,301,678
Includes silver salts of thione compounds such as silver salt of methyl-4-thiazoline-2-thione. Further, compounds containing an imino group can also be used. Preferred examples of these compounds include silver salts of benzotriazole and derivatives thereof,
For example, silver salts of benzotriazole such as silver methylbenzotriazole, silver salts of halogen-substituted benzotriazole such as silver 5-chlorobenzotriazole, U.S. Pat.
0,709, 1,2,4-triazole or 1-H-
Includes silver salts of tetrazole, silver salts of imidazole and imidazole derivatives, and the like. For example, U.S. Pat.
Various silver acetylide compounds as described in No. 1 and 4,775,613 can also be used.

【0174】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状としては特に制限はないが、短軸と長軸を有する針状
結晶が好ましい。本発明においては短軸0.01μm以上0.2
0μm以下、長軸0.10μm以上5.0μm以下が好ましく、短
軸0.01μm以上0.15μm以下、長軸0.10μm以上4.0μm以
下がより好ましい。有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散
であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれ
の長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の百
分率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、
更に好ましくは50%以下である。有機銀塩の形状の測定
方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より
求めることができる。単分散性を測定する別の方法とし
て、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方
法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動
係数)が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、
更に好ましくは50%以下である。測定方法としては例え
ば液中に分散した有機銀塩にレーザー光を照射し、その
散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求め
ることにより得られた粒子サイズ(体積加重平均直径)か
ら求めることができる。
The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, but needle crystals having a short axis and a long axis are preferred. In the present invention, the minor axis is 0.01 μm or more and 0.2 μm or more.
0 μm or less, major axis of 0.10 μm or more and 5.0 μm or less, minor axis of 0.01 μm or more and 0.15 μm or less, and major axis of 0.10 μm or more and 4.0 μm or less are more preferred. The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodisperse and the minor axis, the percentage of the value obtained by dividing the standard deviation of the length of each major axis by each minor axis, major axis is preferably 100% or less, more preferably 80% or less,
More preferably, it is 50% or less. The shape of the organic silver salt can be measured from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method of measuring the monodispersity, there is a method of determining the standard deviation of the volume-weighted average diameter of the organic silver salt, the percentage of the value divided by the volume-weighted average diameter (coefficient of variation) is preferably 100% or less, more Preferably 80% or less,
More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating a laser beam to an organic silver salt dispersed in a liquid and obtaining an autocorrelation function with respect to a time change of fluctuation of the scattered light is obtained. Can be.

【0175】本発明に用いることのできる有機銀塩は、
好ましくは脱塩をすることができる。脱塩を行う方法と
しては特に制限はなく公知の方法を用いることができる
が、遠心濾過、吸引濾過、限外濾過、凝集法によるフロ
ック形成水洗等の公知の濾過方法を好ましく用いること
ができる。
The organic silver salt which can be used in the present invention includes:
Preferably, desalting can be performed. The desalting method is not particularly limited, and a known method can be used. A known filtration method such as centrifugal filtration, suction filtration, ultrafiltration, or floc-forming water washing by a coagulation method can be preferably used.

【0176】本発明では、高S/Nで、粒子サイズが小さ
く、凝集のない有機銀塩固体分散物を得る目的で、画像
形成媒体である有機銀塩を含み、かつ感光性銀塩を実質
的に含まない水分散液を高速流に変換した後、圧力降下
させる分散法を用いることが好ましい。
In the present invention, in order to obtain an organic silver salt solid dispersion having a high S / N, a small particle size, and no aggregation, an organic silver salt which is an image forming medium and a photosensitive silver salt are substantially contained. It is preferable to use a dispersion method in which a water dispersion liquid which is not included in the liquid is converted into a high-speed flow and then the pressure is reduced.

【0177】そして、このような工程を経た後に、感光
性銀塩水溶液と混合して感光性画像形成媒体塗布液を製
造する。このような塗布液を用いて熱現像感光材料を作
製するとヘイズが低く、低カブリで高感度の熱現像感光
材料が得られる。これに対し、高圧、高速流に変換して
分散する時に、感光性銀塩を共存させると、カブリが上
昇し、感度が著しく低下しやすくなる。また、分散媒と
して水ではなく、有機溶剤を用いると、ヘイズが高くな
り、カブリが上昇し、感度が低下しやすくなる。一方、
感光性銀塩水溶液を混合する方法にかえて、分散液中の
有機銀塩の一部を感光性銀塩に変換するコンバージョン
法を用いると感度が低下しやすくなる。
After passing through these steps, the mixture is mixed with a photosensitive silver salt aqueous solution to prepare a photosensitive image forming medium coating solution. When a photothermographic material is prepared using such a coating solution, a haze is low, and a low-fogging, high-sensitivity photothermographic material can be obtained. On the other hand, when the photosensitive silver salt is coexistent when the light is converted into a high-pressure and high-speed flow and dispersed, the fog increases and the sensitivity is liable to decrease remarkably. When an organic solvent is used instead of water as a dispersion medium, haze increases, fog increases, and sensitivity tends to decrease. on the other hand,
When a conversion method for converting a part of the organic silver salt in the dispersion liquid into the photosensitive silver salt is used instead of the method of mixing the aqueous solution of the photosensitive silver salt, the sensitivity tends to be lowered.

【0178】上記において、高圧、高速化に変換して分
散される水分散液は、実質的に感光性銀塩を含まないも
のであり、その含有量は非感光性の有機銀塩に対して0.
1モル%以下であり、積極的な感光性銀塩の添加は行わな
いものである。
In the above, the aqueous dispersion converted and converted to high pressure and high speed is substantially free of a photosensitive silver salt, and its content is relative to that of a non-photosensitive organic silver salt. 0.
The content is 1 mol% or less, and the photosensitive silver salt is not positively added.

【0179】本発明において、上記のような分散法を実
施するのに用いられる固体分散装置およびその技術につ
いては、例えば『分散系レオロジーと分散化技術』(梶
内俊夫、薄井洋基 著、1991、信山社出版(株)、p357
〜p403)、『化学工学の進歩第24集』(社団法人 化学
工学会東海支部 編、1990、槙書店、p184〜p185)、
等に詳しいが、本発明での分散法は、少なくとも有機銀
塩を含む水分散物を高圧ポンプ等で加圧して配管内に送
入した後、配管内に設けられた細いスリットを通過さ
せ、この後に分散液に急激な圧力低下を生じさせること
により微細な分散を行う方法である。
In the present invention, the solid dispersion apparatus and the technique used for carrying out the dispersion method as described above are described in, for example, “Dispersion Rheology and Dispersion Technique” (Toshio Kajiuchi and Hiroki Usui, 1991, Shinzansha Publishing Co., Ltd., p357
-P403), "The 24th Progress of Chemical Engineering", edited by The Society of Chemical Engineers, Tokai Branch, 1990, Maki Shoten, p184-p185),
Although detailed in the dispersing method of the present invention, the aqueous dispersion containing at least an organic silver salt is pressurized by a high-pressure pump or the like and sent into a pipe, and then passed through a narrow slit provided in the pipe, Thereafter, the dispersion is finely dispersed by causing an abrupt pressure drop in the dispersion.

【0180】本発明が関連する高圧ホモジナイザーにつ
いては、一般には、(a)分散質が狭間隙を高圧、高速で
通過する際に生じる『剪断力』、(b)分散質が高圧下か
ら常圧に解放される際に生じる『キャビテーション
力』、等の分散力によって微細な粒子への分散が行われ
ると考えられている。この種の分散装置としては、古く
はゴーリンホモジナイザーが挙げられるが、この装置で
は高圧で送られた被分散液が円柱面上の狭い間隙で、高
速流に変換され、その勢いで周囲の壁面に衝突し、その
衝撃力で乳化・分散が行われる。使用圧力は一般には10
0〜600kg/cm2、流速は数m〜30m/秒の範囲であり、分散
効率を上げるために高流速部を鋸刃状にして衝突回数を
増やすなどの工夫を施したものも考案されている。これ
に対して、近年更に高圧、高流速での分散が可能となる
装置が開発されてきており、その代表例としてはマイク
ロフルイダイザー(マイクロフルイデックス・インター
ナショナル・コーポレーション社)、ナノマイザー(特
殊機化工業(株))などが挙げられる。
As for the high-pressure homogenizer to which the present invention relates, generally, (a) "shearing force" generated when a dispersoid passes through a narrow gap at high pressure and high speed; It is considered that the particles are dispersed into fine particles by a dispersing force such as “cavitation force” generated when the particles are released. As an example of this type of dispersing apparatus, a Gaulin homogenizer is mentioned in the past.In this apparatus, the liquid to be dispersed sent at a high pressure is converted into a high-speed flow through a narrow gap on a cylindrical surface, and the force is applied to the surrounding wall by the force. The particles collide and are emulsified and dispersed by the impact force. Working pressure is generally 10
0~600kg / cm 2, the flow rate is in the range of a few M~30m / sec, be devised that the high flow rate portion was devised such increasing the number collisions in the saw-toothed in order to increase the dispersion efficiency I have. On the other hand, in recent years, apparatuses capable of dispersing at higher pressure and higher flow rate have been developed, and typical examples thereof include a microfluidizer (Microfluidex International Corporation) and a nanomizer (specialized machine). Industrial Co., Ltd.).

【0181】本発明に適した分散装置としては、マイク
ロフルイデックス・インターナショナル・コーポレーシ
ョン社製マイクロフルイダイザーM−110S−EH
(G10Zインターラクションチャンバー付き)、M−
110Y(H10Zインターラクションチャンバー付
き)、M−140K(G10Zインターラクションチャ
ンバー付き)、HC−5000(L30ZまたはH23
0Zインターラクションチャンバー付き),HC−80
00(E230ZまたはL30Zインターラクションチ
ャンバー付き)等が挙げられる。
As a dispersing apparatus suitable for the present invention, a microfluidizer M-110S-EH manufactured by Microfluidics International Corporation is used.
(G 1 0Z with interaction chamber), M-
110Y (with H10Z interaction chamber), M-140K (G 1 0Z with interaction chamber), HC-5000 (L30Z or H23
With 0Z interaction chamber), HC-80
00 (with an E230Z or L30Z interaction chamber) and the like.

【0182】これらの装置を用い、少なくとも有機銀塩
を含む水分散液を高圧ポンプ等で加圧して配管内に送入
した後、配管内に設けられた細いスリットを通過させる
ことにより所望の圧力を印加し、この後に配管内の圧力
を大気圧に急速に戻す等の方法で分散液に急激な圧力降
下を生じさせることにより本発明に最適な有機銀塩分散
物を得ることが可能である。
Using these devices, an aqueous dispersion containing at least an organic silver salt is pressurized by a high-pressure pump or the like and fed into a pipe, and then passed through a narrow slit provided in the pipe to obtain a desired pressure. Is applied, and thereafter, the pressure in the pipe is rapidly returned to the atmospheric pressure, for example, by causing a rapid pressure drop in the dispersion liquid, thereby making it possible to obtain an optimal organic silver salt dispersion for the present invention. .

【0183】本発明の有機銀塩分散においては、流速、
圧力降下時の差圧と処理回数の調節によって所望の粒子
サイズに分散することが可能であるが、写真特性と粒子
サイズの点から、流速が200m/秒〜600m/秒、圧力降下時
の差圧が900〜3000kg/cm2の範囲が好ましく、流速が300
m/秒〜600m/秒、圧力降下時の差圧が1500〜3000kg/cm2
の範囲であることが更に好ましい。分散処理回数は必要
に応じて選択でき、通常は1回〜10回の処理回数が選ば
れるが、生産性の点からは1回〜3回程度の処理回数が選
ばれる。高圧下でこのような水分散液を高温にすること
は、分散性、写真特性の点から好ましくなく、90℃を越
えるような高温では粒子サイズが大きくなりやすくなる
と共に、カブリが高くなる傾向がある。従って、本発明
では前記の高圧、高流速に変換する前の工程もしくは、
圧力降下させた後の工程、あるいはこれらの両工程に冷
却工程を含み、このような水分散の温度が冷却工程によ
り5〜90℃の範囲に保たれていることが好ましく、更に
好ましくは5〜80℃の範囲、特に5〜65℃の範囲に保たれ
ていることが好ましい。特に、1500〜3000kg/cm2の範囲
の高圧の分散時には前記の冷却工程を設置することが有
効である。冷却器は、その所要熱交換量に応じて、二重
管や二重管にスタチックミキサーを使用したもの、多管
式熱交換器、蛇管式熱交換器等を適宜選択することがで
きる。また、熱交換の効率を上げるために、使用圧力を
考慮して、管の太さ、肉厚や材質など好適なものを選べ
ばよい。冷却器に使用する冷媒は、熱交換量から、20℃
の井水や冷凍機で処理した5〜10℃の冷水、また必要に
応じて-30℃のエチレングリコール/水等の冷媒を使用す
ることもできる。
In the organic silver salt dispersion of the present invention, the flow rate,
It is possible to disperse to the desired particle size by adjusting the pressure difference during pressure drop and the number of treatments.However, from the viewpoint of photographic characteristics and particle size, the flow rate is 200 m / sec to 600 m / sec, is preferably in the range pressure is 900~3000kg / cm 2, flow rate 300
m / sec ~600M / sec, the pressure difference at the pressure drop 1500~3000kg / cm 2
More preferably, it is within the range. The number of times of the dispersion processing can be selected as needed, and usually 1 to 10 times is selected, but from the viewpoint of productivity, about 1 to 3 times is selected. It is not preferable to raise the temperature of such an aqueous dispersion under high pressure from the viewpoint of dispersibility and photographic characteristics.At a temperature higher than 90 ° C., the particle size tends to increase, and the fog tends to increase. is there. Therefore, in the present invention, the high pressure, the step before converting to a high flow rate, or
The step after the pressure is reduced, or both of these steps include a cooling step, and the temperature of such aqueous dispersion is preferably kept in the range of 5 to 90 ° C. by the cooling step, and more preferably 5 to 90 ° C. It is preferred that the temperature be kept in the range of 80 ° C, particularly in the range of 5 to 65 ° C. In particular, it is effective to provide the above cooling step at the time of high-pressure dispersion in the range of 1500 to 3000 kg / cm 2 . As the cooler, a double tube, a double tube using a static mixer, a multi-tube heat exchanger, a coiled tube heat exchanger, or the like can be appropriately selected according to the required heat exchange amount. Further, in order to increase the efficiency of heat exchange, it is sufficient to select a suitable one such as a pipe thickness, a wall thickness and a material in consideration of a working pressure. The refrigerant used for the cooler is 20 ° C based on the heat exchange amount.
Well water or cold water of 5 to 10 ° C treated by a refrigerator, or, if necessary, a refrigerant such as ethylene glycol / water at -30 ° C can also be used.

【0184】本発明の分散操作では、水性溶媒可溶な分
散剤(分散助剤)の存在下で有機銀塩を分散することが
好ましい。分散助剤としては、例えば、ポリアクリル
酸、アクリル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、マレ
イン酸モノエステル共重合体、アクリロメチルプロパン
スルホン酸共重合体などの合成アニオンポリマー、カル
ボキシメチルデンプン、カルボキシメチルセルロースな
どの半合成アニオンポリマー、アルギン酸、ペクチン酸
などのアニオン性ポリマー、特開平7-350753号に記載の
化合物、あるいは公知のアニオン性、ノニオン性、カチ
オン性界面活性剤やその他のポリビニルアルコール、ポ
リビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロース、ヒ
ドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチ
ルセルロース等の公知のポリマー、あるいはゼラチン等
の自然界に存在する高分子化合物を適宜選択して用いる
ことができるが、ポリビニルアルコール類、水溶性のセ
ルロース誘導体が特に好ましい。
In the dispersion operation of the present invention, it is preferable to disperse the organic silver salt in the presence of an aqueous solvent-soluble dispersant (dispersion aid). Examples of the dispersing agent include polyacrylic acid, a copolymer of acrylic acid, a maleic acid copolymer, a maleic acid monoester copolymer, a synthetic anionic polymer such as an acrylomethylpropanesulfonic acid copolymer, and carboxymethyl. Starch, semi-synthetic anionic polymers such as carboxymethyl cellulose, alginic acid, anionic polymers such as pectic acid, the compounds described in JP-A-7-350753, or known anionic, nonionic, cationic surfactants and other polyvinyl Known polymers such as alcohol, polyvinylpyrrolidone, carboxymethylcellulose, hydroxypropylcellulose, and hydroxypropylmethylcellulose, and naturally occurring high molecular compounds such as gelatin can be appropriately selected and used. Lumpur acids, particularly preferred water-soluble cellulose derivatives.

【0185】分散助剤は、分散前に有機銀塩の粉末また
はウェットケーキ状態の有機銀塩と混合し、スラリーと
して分散機に送り込むのは一般的な方法であるが、予め
有機銀塩と混ぜ合わせた状態で熱処理や溶媒による処理
を施して有機銀塩粉末またはウェットケーキとしても良
い。分散前後または分散中に適当なpH調整剤によりpHコ
ントロールしても良い。
It is a general method to mix a dispersion aid with an organic silver salt powder or an organic silver salt in a wet cake state before dispersion, and to send it as a slurry to a dispersing machine. Heat treatment or treatment with a solvent may be performed in the combined state to form an organic silver salt powder or a wet cake. The pH may be controlled by a suitable pH adjuster before, during or after dispersion.

【0186】機械的に分散する以外にも、pHコントロー
ルすることで溶媒中に粗分散し、その後、分散助剤の存
在下でpHを変化させて微粒子化させても良い。このと
き、粗分散に用いる溶媒として有機溶媒を使用しても良
く、通常有機溶媒は微粒子化終了後除去される。
In addition to the mechanical dispersion, the particles may be roughly dispersed in a solvent by controlling the pH, and then the pH may be changed in the presence of a dispersing aid to form fine particles. At this time, an organic solvent may be used as a solvent used for the coarse dispersion, and the organic solvent is usually removed after the completion of the fine particle formation.

【0187】調製された分散物は、保存時の微粒子の沈
降を抑える目的で攪拌しながら保存したり、親水性コロ
イドにより粘性の高い状態(例えば、ゼラチンを使用し
ゼリー状にした状態)で保存したりすることもできる。
また、保存時の雑菌などの繁殖を防止する目的で防腐剤
を添加することもできる。
The prepared dispersion is stored with stirring for the purpose of suppressing sedimentation of fine particles during storage, or stored in a highly viscous state (for example, in a jelly state using gelatin) with a hydrophilic colloid. You can also.
Further, a preservative can be added for the purpose of preventing the propagation of various bacteria during storage.

【0188】本発明の有機銀塩は所望の量で使用できる
が、感光材料1m2当たりの塗布量で示して、銀量として
0.1〜5g/m2が好ましく、さらに好ましくは1〜3g/m2であ
る。
[0188] While the organic silver salt according to the invention can be used in a desired amount, show a coating amount per the photosensitive material 1 m 2, as silver
Preferably 0.1-5 g / m 2, more preferably from 1 to 3 g / m 2.

【0189】画像を向上させる「色調剤」として知られ
る添加剤を含むと光学濃度が高くなることがある。ま
た、色調剤は黒色銀画像を形成させる上でも有利になる
ことがある。色調剤は画像形成層を有する面に銀1モル
当たりの0.1〜50%(モル)の量含まれることが好まし
く、0.5〜20%(モル)含まれることがさらに好ましい。
また、色調剤は現像時のみ有効に機能を持つように誘導
化されたいわゆるプレカーサーであってもよい。
When an additive known as a “toning agent” for improving an image is contained, the optical density may be increased. Toning agents may also be advantageous in forming black silver images. The toning agent is preferably contained in an amount of 0.1 to 50% (mole) per mole of silver on the surface having the image forming layer, and more preferably 0.5 to 20% (mole).
Further, the color tone agent may be a so-called precursor which is derivatized so as to have a function effectively only during development.

【0190】有機銀塩を利用した熱現像感光材料におい
ては広範囲の色調剤が特開昭46-6077号、同47-10282
号、同49-5019号、同49-5020号、同49-91215号、同49-9
1215号、同50-2524号、同50-32927号、同50-67132号、
同50-67641号、同50-114217号、同51-3223号、同51-279
23号、同52-14788号、同52-99813号、同53-1020号、同5
3-76020号、同54-156524号、同54-156525号、同61-1836
42号、特開平4-56848号、特公昭49-10727号、同54-2033
3号、米国特許3,080,254号、同3,446,648号、同3,782,9
41号、同4,123,282号、同4,510,236号、英国特許138079
5号、ベルギー特許841910号などに開示されている。色
調剤の例は、フタルイミドおよびN-ヒドロキシフタルイ
ミド;スクシンイミド、ピラゾリン-5-オン、ならびに
キナゾリノン、3-フェニル-2-ピラゾリン-5-オン、1-フ
ェニルウラゾール、キナゾリンおよび2,4-チアゾリジン
ジオンのような環状イミド;ナフタルイミド(例えば、N
-ヒドロキシ-1,8-ナフタルイミド);コバルト錯体(例え
ば、コバルトヘキサミントリフルオロアセテート);3-
メルカプト-1,2,4-トリアゾール、2,4-ジメルカプトピ
リミジン、3-メルカプト-4,5-ジフェニル-1,2,4-トリア
ゾールおよび2,5-ジメルカプト-1,3,4-チアジアゾール
に例示されるメルカプタン;N-(アミノメチル)アリール
ジカルボキシイミド、(例えば、(N,N-ジメチルアミノメ
チル)フタルイミドおよびN,N-(ジメチルアミノメチル)-
ナフタレン-2,3-ジカルボキシイミド);ならびにブロッ
ク化ピラゾール、イソチウロニウム誘導体およびある種
の光退色剤(例えば、N,N'-ヘキサメチレンビス(1-カル
バモイル-3,5-ジメチルピラゾール)、1,8-(3,6-ジアザ
オクタン)ビス(イソチウロニウムトリフルオロアセテー
ト)および2-トリブロモメチルスルホニル)-(ベンゾチア
ゾール));ならびに3-エチル-5[(3-エチル-2-ベンゾチ
アゾリニリデン)-1-メチルエチリデン]-2-チオ-2,4-オ
キサゾリジンジオン;フタラジノン、フタラジノン誘導
体もしくは金属塩、または4-(1-ナフチル)フタラジノ
ン、6-クロロフタラジノン、5,7-ジメトキシフタラジノ
ンおよび2,3-ジヒドロ-1,4-フタラジンジオンなどの誘
導体;フタラジノンとフタル酸誘導体(例えば、フタル
酸、4-メチルフタル酸、4-ニトロフタル酸およびテトラ
クロロ無水フタル酸など)との組合せ;フタラジン、フ
タラジン誘導体(例えば、4-(1-ナフチル)フタラジン、6
-クロロフタラジン、5,7-ジメトキシフタラジン、6-iso
-ブチルフタラジン、6-tert-ブチルフタラジン、5,7-ジ
メチルフタラジン、および2,3-ジヒドロフタラジンなど
の誘導体)もしくは金属塩、;フタラジンおよびその誘
導体とフタル酸誘導体(例えば、フタル酸、4-メチルフ
タル酸、4-ニトロフタル酸およびテトラクロロ無水フタ
ル酸など)との組合せ;キナゾリンジオン、ベンズオキ
サジンまたはナフトオキサジン誘導体;色調調節剤とし
てだけでなくその場でハロゲン化銀生成のためのハライ
ドイオンの源としても機能するロジウム錯体、例えばヘ
キサクロロロジウム(III)酸アンモニウム、臭化ロジウ
ム、硝酸ロジウムおよびヘキサクロロロジウム(III)酸
カリウムなど;無機過酸化物および過硫酸塩、例えば、
過酸化二硫化アンモニウムおよび過酸化水素;1,3-ベン
ズオキサジン-2,4-ジオン、8-メチル-1,3-ベンズオキ
サジン-2,4-ジオンおよび6-ニトロ-1,3-ベンズオキサジ
ン-2,4-ジオンなどのベンズオキサジン-2,4-ジオン;ピ
リミジンおよび不斉-トリアジン(例えば、2,4-ジヒドロ
キシピリミジン、2-ヒドロキシ-4-アミノピリミジンな
ど)、アザウラシル、およびテトラアザペンタレン誘導
体(例えば、3,6-ジメルカプト-1,4-ジフェニル-1H,4H-
2,3a,5,6a-テトラアザペンタレン、および1,4-ジ(o-ク
ロロフェニル)-3,6-ジメルカプト-1H,4H-2,3a,5,6a-テ
トラアザペンタレン)などがある。
In a photothermographic material using an organic silver salt, a wide range of color toning agents are disclosed in JP-A-46-6077 and JP-A-47-10282.
Nos. 49-5019, 49-5020, 49-91215, 49-9
No. 1215, No. 50-2524, No. 50-32927, No. 50-67132,
No. 50-67641, No. 50-114217, No. 51-3223, No. 51-279
No. 23, No. 52-14788, No. 52-99813, No. 53-1020, No. 5
3-76020, 54-156524, 54-156525, 61-1836
No. 42, JP-A-4-56848, JP-B-49-10727, 54-2033
No. 3, U.S. Pat.Nos. 3,080,254, 3,446,648, 3,782,9
No. 41, No. 4,123,282, No. 4,510,236, British Patent 138079
No. 5, Belgian Patent No. 841910 and the like. Examples of toning agents are phthalimide and N-hydroxyphthalimide; succinimide, pyrazolin-5-one and quinazolinone, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline and 2,4-thiazolidinedione Cyclic imides such as; naphthalimides (eg, N
-Hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (eg, cobalt hexamine trifluoroacetate); 3-
Mercapto-1,2,4-triazole, 2,4-dimercaptopyrimidine, 3-mercapto-4,5-diphenyl-1,2,4-triazole and 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole Illustrative mercaptans; N- (aminomethyl) aryldicarboximides, such as (N, N-dimethylaminomethyl) phthalimide and N, N- (dimethylaminomethyl)-
Naphthalene-2,3-dicarboximide); and blocked pyrazoles, isothiuronium derivatives and certain photobleaching agents (eg, N, N′-hexamethylenebis (1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1 , 8- (3,6-diazaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2-tribromomethylsulfonyl)-(benzothiazole)); and 3-ethyl-5 [(3-ethyl-2-benzothia) Zolinylidene) -1-methylethylidene] -2-thio-2,4-oxazolidinedione; phthalazinone, phthalazinone derivative or metal salt, or 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7- Derivatives such as dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione; phthalazinone and phthalic acid derivatives (for example, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic acid) Combination of anhydride such as phthalic acid); phthalazine, phthalazine derivatives (e.g., 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6
-Chlorophthalazine, 5,7-dimethoxyphthalazine, 6-iso
Derivatives such as -butylphthalazine, 6-tert-butylphthalazine, 5,7-dimethylphthalazine, and 2,3-dihydrophthalazine) or metal salts; phthalazine and its derivatives and phthalic acid derivatives (for example, phthalic acid) Acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride, etc.); quinazolinedione, benzoxazine or naphthooxazine derivatives; Rhodium complexes that also function as sources of halide ions, such as ammonium hexachlororhodate (III), rhodium bromide, rhodium nitrate and potassium hexachlororhodate (III); inorganic peroxides and persulfates, such as
Ammonium disulfide and hydrogen peroxide; 1,3-benzoxazine-2,4-dione, 8-methyl-1,3-benzoxazine-2,4-dione and 6-nitro-1,3-benzoxazine Benzoxazine-2,4-dione such as -2,4-dione; pyrimidine and asymmetric triazines (eg, 2,4-dihydroxypyrimidine, 2-hydroxy-4-aminopyrimidine, etc.), azauracil, and tetraazapentane Ren derivatives (e.g., 3,6-dimercapto-1,4-diphenyl-1H, 4H-
2,3a, 5,6a-tetraazapentalene and 1,4-di (o-chlorophenyl) -3,6-dimercapto-1H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene) is there.

【0191】本発明の色調剤は、溶液、粉末、固体微粒
子分散物などいかなる方法で添加してもよい。固体微粒
子分散は公知の微細化手段(例えば、ボールミル、振動
ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミ
ル、ローラーミルなど)で行われる。また、固体微粒子
分散する際に分散助剤を用いてもよい。
The color tone agent of the present invention may be added by any method such as a solution, a powder, and a solid fine particle dispersion. The dispersion of the solid fine particles is carried out by a known means for making fine (for example, a ball mill, a vibration ball mill, a sand mill, a colloid mill, a jet mill, a roller mill, etc.). When dispersing the solid fine particles, a dispersing aid may be used.

【0192】本発明における画像形成層(感光性層、乳
剤層)のバインダーとしては、よく知られている天然ま
たは合成樹脂、例えば、ゼラチン、ポリビニルアセター
ル、ポリビニルクロリド、ポリビニルアセテート、セル
ロースアセテート、ポリオレフィン、ポリエステル、ポ
リスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート
などから任意のものを選択することができる。当然なが
ら、コポリマーおよびターポリマーも含まれる。好まし
いポリマーは、ポリビニルブチラール、ブチルエチルセ
ルロース、メタクリレートコポリマー、無水マレイン酸
エステルコポリマー、ポリスチレンおよびブタジエン-
スチレンコポリマーである。必要に応じて、これらのポ
リマーを2種またはそれ以上組合せて使用することがで
きる。そのようなポリマーは、成分をその中に保持する
のに十分な量で使用される。すなわち、バインダーとし
て機能するのに効果的な範囲で使用される。効果的な範
囲は、当業者が適切に決定することができる。少なくと
も有機銀塩を保持する場合の目安として、バインダー対
有機銀塩の割合は、15:1〜1:2、特に8:1〜1:1の範
囲が好ましい。
As the binder for the image forming layer (photosensitive layer, emulsion layer) in the present invention, well-known natural or synthetic resins such as gelatin, polyvinyl acetal, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, cellulose acetate, polyolefin, Any material can be selected from polyester, polystyrene, polyacrylonitrile, polycarbonate and the like. Of course, copolymers and terpolymers are also included. Preferred polymers are polyvinyl butyral, butyl ethyl cellulose, methacrylate copolymer, maleic anhydride copolymer, polystyrene and butadiene-
It is a styrene copolymer. If necessary, two or more of these polymers can be used in combination. Such a polymer is used in an amount sufficient to hold the components therein. That is, it is used in a range effective to function as a binder. The effective range can be appropriately determined by those skilled in the art. As a guide when at least the organic silver salt is retained, the ratio of the binder to the organic silver salt is preferably 15: 1 to 1: 2, particularly preferably 8: 1 to 1: 1.

【0193】本発明の画像形成層のうち少なくとも1層
は以下に述べるポリマーラテックスを全バインダーの50
wt%以上用いた画像形成層であることが好ましい。(以降
この画像形成層を「本発明の画像形成層」、バインダー
に用いるポリマーラテックスを「本発明のポリマーラテ
ックス」と表す。)また、ポリマーラテックスは画 像形
成層だけではなく、保護層やバック層に用いてもよく、
特に寸法変化が問題となる印刷用途に本発明の熱現像感
光材料を用いる場合には、保護層やバック層にもポリマ
ーラテックスを用いる必要がある。ただしここで言う
「ポリマーラテックス」とは水不溶な疎水性ポリマーが
微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したものであ
る。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳化されて
いるもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたも
の、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を
持ち分子鎖自身が分子状分散したものなどいずれでもよ
い。なお本発明のポリマーラテックスについては「合成
樹脂エマルジョン(奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会
発行(1978))」、「合成ラテックスの応用(杉村孝明、片
岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行(1
993))」、「合成ラテックスの化学(室井宗一著、高分子
刊行会発行(1970))」などに記載されている。分散粒子
の平均粒径は1〜50000nm、より好ましくは5〜1000nm程
度の範囲が好ましい。分散粒子の粒径分布に関しては特
に制限は無く、広い粒径分布を持つものでも単分散の粒
径分布を持つものでもよい。
At least one of the image forming layers of the present invention comprises the polymer latex described below in 50% of the total binder.
It is preferable that the image forming layer contains at least wt%. (Hereinafter, this image forming layer is referred to as “the image forming layer of the present invention” and the polymer latex used for the binder is referred to as the “polymer latex of the present invention.” May be used for layers,
In particular, when the photothermographic material of the present invention is used for printing in which dimensional change is a problem, it is necessary to use a polymer latex for the protective layer and the back layer. However, the "polymer latex" referred to here is a water-insoluble hydrophobic polymer dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. The dispersion state is such that the polymer is emulsified in a dispersion medium, emulsion-polymerized, micelle-dispersed, or partially dispersed in polymer molecules and molecular chains themselves are molecularly dispersed. Any of them may be used. For the polymer latex of the present invention, `` Synthetic resin emulsion (Hiroshi Okuda, edited by Hiroshi Inagaki, published by the Society of Polymer Publishing (1978)) '', `` Application of synthetic latex (Takaaki Sugimura, Yasuo Kataoka, Soichi Suzuki, edited by Keiji Kasahara, Published by Polymer Publishing Association (1
993)) "," Synthesis of Synthetic Latex (Souichi Muroi, published by Kobunshi Kankokai (1970)) "and the like. The average particle size of the dispersed particles is preferably in the range of 1 to 50,000 nm, more preferably about 5 to 1000 nm. There is no particular limitation on the particle size distribution of the dispersed particles, and those having a wide particle size distribution or those having a monodispersed particle size distribution may be used.

【0194】本発明のポリマーラテックスとしては通常
の均一構造のポリマーラテックス以外、いわゆるコア/
シェル型のラテックスでもよい。この場合コアとシェル
はガラス転移温度を変えると好ましい場合がある。
As the polymer latex of the present invention, other than a polymer latex having a normal uniform structure, a so-called core / polymer latex may be used.
Shell type latex may be used. In this case, it may be preferable to change the glass transition temperature of the core and the shell.

【0195】本発明のバインダーに用いるポリマーラテ
ックスのポリマーのガラス転移温度(Tg)は保護層、
バック層と画像形成層とでは好ましい範囲が異なる。画
像形成層にあっては熱現像時に写真有用素材の拡散を促
すため、40℃以下であり、さらには-30〜40℃が好まし
い。保護層やバック層に用いる場合には種々の機器と接
触するために25〜70℃のガラス転移温度が好ましい。
The glass transition temperature (Tg) of the polymer of the polymer latex used for the binder of the present invention is as follows:
The preferred range differs between the back layer and the image forming layer. In the image forming layer, the temperature is preferably 40 ° C. or lower, more preferably -30 to 40 ° C., in order to promote diffusion of the photographically useful material during thermal development. When used for the protective layer or the back layer, a glass transition temperature of 25 to 70 ° C. is preferable for contacting various devices.

【0196】本発明のポリマーラテックスの最低造膜温
度(MFT)は-30℃〜90℃、より好ましくは0℃〜70℃程度
が好ましい。最低造膜温度をコントロールするために造
膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は可塑剤ともよばれ
ポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化
合物(通常有機溶剤)で、例えば前述の「合成ラテックス
の化学(室井宗一著、高分子刊行会発行(1970))」に記載
されている。
The minimum film forming temperature (MFT) of the polymer latex of the present invention is preferably from -30 ° C to 90 ° C, more preferably from about 0 ° C to 70 ° C. A film-forming auxiliary may be added to control the minimum film-forming temperature. The film-forming aid is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film-forming temperature of the polymer latex, also called a plasticizer, and is described in, for example, `` Synthesis of Synthetic Latex (Souichi Muroi, published by Polymer Publishing Association (1970) )"It is described in.

【0197】本発明のポリマーラテックスに用いられる
ポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポ
リエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化
ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹
脂、またはこれらの共重合体などがある。ポリマーとし
ては直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでも、ま
た架橋されたポリマーでも良い。またポリマーとしては
単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーでも良
いし、2種以上のモノマーが重合したコポリマーでも良
い。コポリマーの場合はランダムコポリマーでもブロッ
クコポリマーでも良い。ポリマーの分子量は数平均分子
量で5000〜1000000、好ましくは10000〜100000程度が好
ましい。分子量が小さすぎるものは画像形成層の力学強
度が不十分であり、大きすぎるものは製膜性が悪く好ま
しくない。
Examples of the polymer used in the polymer latex of the present invention include acrylic resin, vinyl acetate resin, polyester resin, polyurethane resin, rubber resin, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, polyolefin resin, and copolymers thereof. There is. The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer. The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized, or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of the polymer is preferably from 5000 to 100000, more preferably from about 10,000 to 100,000 in number average molecular weight. If the molecular weight is too small, the mechanical strength of the image forming layer is insufficient, and if it is too large, the film-forming property is poor, which is not preferable.

【0198】本発明の熱現像感光材料の画像形成層のバ
インダーとして用いられるポリマーラテックスの具体例
としては以下のようなものがある。メチルメタクリレー
ト/エチルアクリレート/メタクリル酸コポリマーのラ
テックス、メチルメタクリレート/2エチルヘキシルア
クリレート/スチレン/アクリル酸コポリマーのラテッ
クス、スチレン/ブタジエン/アクリル酸コポリマーの
ラテックス、スチレン/ブタジエン/ジビニルベンゼン
/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタク
リレート/塩化ビニル/アクリル酸コポリマーのラテッ
クス、塩化ビニリデン/エチルアクリレート/アクリロ
ニトリル/メタクリル酸コポリマーのラテックスなど。
また、このようなポリマーは市販もされていて、以下の
ようなポリマーが利用できる。例えばアクリル樹脂の例
として、セビアンA-4635,46583、4601(以上ダイセル化
学工業(株)製)、Nipol Lx811、814、821、820、857
(以上日本ゼオン(株)製)など、ポリエステル樹脂とし
ては、FINETEX ES650、611、675、850(以上大日本イン
キ化学(株)製)、WD-size、WMS(以上イーストマンケミ
カル製)など、ポリウレタン樹脂としてはHYDRAN AP10、
20、30、40(以上大日本インキ化学(株)製)など、ゴム
系樹脂としてはLACSTAR 7310K、3307B、4700H、7132C
(以上大日本インキ化学(株)製)、Nipol Lx416、410、
438C、2507(以上日本ゼオン(株)製)など、塩化ビニル
樹脂としてはG351、G576(以上日本ゼオン(株)製)な
ど、塩化ビニリデン樹脂としてはL502、L513(以上旭化
成工業(株)製)、アロンD7020、D504、D5071(以上三井
東圧(株)製)など、オレフィン樹脂としてはケミパールS
120、SA100(以上三井石油化学(株)製)などを挙げるこ
とができる。これらのポリマーは単独で用いてもよい
し、必要に応じて2種以上ブレンドして用いても良い。
Specific examples of the polymer latex used as a binder in the image forming layer of the photothermographic material of the present invention include the following. Latex of methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, latex of methyl methacrylate / 2 ethylhexyl acrylate / styrene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / acrylic acid copolymer, latex of styrene / butadiene / divinylbenzene / methacrylic acid copolymer, Latex of methyl methacrylate / vinyl chloride / acrylic acid copolymer, latex of vinylidene chloride / ethyl acrylate / acrylonitrile / methacrylic acid copolymer and the like.
Such polymers are also commercially available, and the following polymers can be used. For example, as examples of acrylic resin, Sebian A-4635,46583,4601 (all manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Nipol Lx811,814,821,820,857
(Nippon Zeon Co., Ltd.) and other polyester resins, such as FINETEX ES650, 611, 675, 850 (Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.), WD-size, WMS (Eastman Chemical Co., Ltd.), etc. HYDRAN AP10 as polyurethane resin,
LACSTAR 7310K, 3307B, 4700H, 7132C as rubber resins such as 20, 30, 40 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
(Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.), Nipol Lx416, 410,
438C, 2507 (Nippon Zeon Co., Ltd.), etc., vinyl chloride resins such as G351 and G576 (Nippon Zeon Co., Ltd.), etc., and vinylidene chloride resins L502, L513 (Nippon Zeon Co., Ltd.) , Alon D7020, D504, D5071 (Mitsui Toatsu Co., Ltd.) and other olefin resins such as Chemipearl S
120 and SA100 (all manufactured by Mitsui Petrochemical Co., Ltd.). These polymers may be used alone or as a blend of two or more as necessary.

【0199】本発明の画像形成層は全バインダーの50重
量%以上として上記ポリマーラテックスを用いることが
好ましいが、70重量%以上として上記ポリマーラテック
スを用いることがより好ましい。
In the image forming layer of the present invention, it is preferable to use the polymer latex as 50% by weight or more of the total binder, and it is more preferable to use the polymer latex as 70% by weight or more.

【0200】本発明の画像形成層には必要に応じて全バ
インダーの50重量%以下の範囲でゼラチン、ポリビニル
アルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添加し
ても良い。これらの親水性ポリマーの添加量は画像形成
層の全バインダーの30重量%以下、さらには15重量%以下
が好ましい。
In the image forming layer of the present invention, if necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose or the like is added in an amount of 50% by weight or less of the whole binder. May be. The amount of the hydrophilic polymer to be added is preferably 30% by weight or less, more preferably 15% by weight or less of the total binder in the image forming layer.

【0201】本発明の画像形成層は水系の塗布液を塗布
後乾燥して調製することが好ましい。ただし、ここで言
う「水系」とは塗布液の溶媒(分散媒)の60重量%以上が
水であることをいう。塗布液の水以外の成分はメチルア
ルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコー
ル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ジメチルホ
ルムアミド、酢酸エチルなどの水混和性の有機溶媒を用
いることができる。具体的な溶媒組成の例としては、水
のほか、以下のようなものがある。水/メタノール=90
/10、水/メタノール=70/30、水/エタノール=90/1
0、水/イソプロパノール=90/10、水/ジメチルホルム
アミド=95/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミド
=80/15/5、水/メタノール/ジメチルホルムアミド=9
0/5/5。(ただし数字は重量%を表す。)
The image forming layer of the present invention is preferably prepared by applying an aqueous coating solution and then drying. However, the term “aqueous” as used herein means that 60% by weight or more of the solvent (dispersion medium) of the coating liquid is water. As components other than water of the coating solution, water-miscible organic solvents such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethylformamide, and ethyl acetate can be used. Specific examples of the solvent composition include the following in addition to water. Water / methanol = 90
/ 10, water / methanol = 70/30, water / ethanol = 90/1
0, water / isopropanol = 90/10, water / dimethylformamide = 95/5, water / methanol / dimethylformamide
= 80/15/5, water / methanol / dimethylformamide = 9
0/5/5. (However, the numbers represent% by weight.)

【0202】本発明の画像形成層の全バインダー量は0.
2〜30g/m2、より好ましくは1〜15g/m2の範囲が好まし
い。本発明の画像形成層には架橋のための架橋剤、塗布
性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。
The total amount of binder in the image forming layer of the present invention is 0.1.
The range is preferably 2 to 30 g / m 2 , more preferably 1 to 15 g / m 2 . A crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like may be added to the image forming layer of the invention.

【0203】本発明における増感色素としてはハロゲン
化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀
粒子を分光増感できるもので有ればいかなるものでも良
い。増感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色
素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロ
シアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色
素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソ
ノール色素等を用いることができる。本発明に使用され
る有用な増感色素は例えばRESEARCH DISCLOSURE Item17
643IV-A項(1978年12月p.23)、同Item1831X項(1979年8月
p.437)に記載もしくは引用された文献に記載されてい
る。特に各種レーザーイメージャー、スキャナー、イメ
ージセッターや製版カメラの光源の分光特性に適した分
光感度を有する増感色素を有利に選択することができ
る。
As the sensitizing dye in the present invention, any dye can be used as long as it can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on silver halide grains. As the sensitizing dye, a cyanine dye, a merocyanine dye, a complex cyanine dye, a complex merocyanine dye, a holopolar cyanine dye, a styryl dye, a hemicyanine dye, an oxonol dye, a hemioxonol dye, and the like can be used. Useful sensitizing dyes for use in the present invention include, for example, RESEARCH DISCLOSURE Item 17
Item 643IV-A (p.23, December 1978), Item 1831X (August 1979)
p.437) or in the literature cited. In particular, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the light source of various laser imagers, scanners, imagesetters and plate making cameras can be advantageously selected.

【0204】赤色光への分光増感の例としては、He-Ne
レーザー、赤色半導体レーザーやLEDなどのいわゆる赤
色光源に対しては、特開昭54-18726号に記載のI-1から
I-38の化合物、特開平6-75322号に記載のI-1からI-3
5の化合物および特開平7-287338号に記載のI-1からI-
34の化合物、特公昭55-39818号に記載の色素1から20、
特開昭62-284343号に記載のI-1からI-37の化合物およ
び特開平7-287338号に記載のI-1からI-34の化合物な
どが有利に選択される。
As an example of spectral sensitization to red light, He-Ne
For a so-called red light source such as a laser, a red semiconductor laser or an LED, a compound of I-1 to I-38 described in JP-A-54-18726, and a compound of I-1 described in JP-A-6-75322. I-3
5 and the compounds I-1 to I- described in JP-A-7-287338.
34 compounds, dyes 1 to 20 described in JP-B-55-39818,
The compounds I-1 to I-37 described in JP-A-62-284343 and the compounds I-1 to I-34 described in JP-A-7-287338 are advantageously selected.

【0205】750〜1400nmの波長領域の半導体レーザー
光源に対しては、シアニン、メロシアニン、スチリル、
ヘミシアニン、オキソノール、ヘミオキソノールおよび
キサンテン色素を含む種々の既知の色素により、スペク
トル的に有利に増感させることができる。有用なシアニ
ン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾリン核、ピ
ロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール
核、セレナゾール核およびイミダゾール核などの塩基性
核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン染
料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒ
ダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン
核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリ
ノン核、マロノニトリル核およびピラゾロン核などの酸
性核も含む。上記のシアニンおよびメロシアニン色素に
おいて、イミノ基またはカルボキシル基を有するものが
特に効果的である。例えば、米国特許3,761,279号、同
3,719,495号、同3,877,943号、英国特許1,466,201号、
同1,469,117号、同1,422,057号、特公平3-10391号、同6
-52387号、特開平5-341432号、同6-194781号、同6-3011
41号に記載されたような既知の色素から適当に選択して
よい。
For a semiconductor laser light source in the wavelength region of 750 to 1400 nm, cyanine, merocyanine, styryl,
A variety of known dyes, including hemicyanine, oxonol, hemioxonol and xanthene dyes, can be spectrally sensitized favorably. Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having a basic nucleus, such as a thiazoline nucleus, an oxazoline nucleus, a pyrroline nucleus, a pyridine nucleus, an oxazole nucleus, a thiazole nucleus, a selenazole nucleus and an imidazole nucleus. Preferred useful merocyanine dyes include, in addition to the above basic nuclei, acidic nuclei such as thiohydantoin nucleus, rhodanine nucleus, oxazolidinedione nucleus, thiazolinedione nucleus, barbituric acid nucleus, thiazolinone nucleus, malononitrile nucleus and pyrazolone nucleus. Including. Among the above-mentioned cyanine and merocyanine dyes, those having an imino group or a carboxyl group are particularly effective. For example, U.S. Pat.
3,719,495, 3,877,943, British Patent 1,466,201,
No. 1,469,117, No. 1,422,057, No. 3-10391, No. 6
-52387, JP-A-5-341432, JP-A-6-94781, JP-A-6-3011
The dye may be appropriately selected from known dyes as described in No. 41.

【0206】本発明に用いられる色素の構造として特に
好ましいものは、チオエーテル結合含有置換基を有する
シアニン色素(例としては特開昭62-58239号、同3-13863
8号、同3-138642号、同4-255840号、同5-72659号、同5-
72661号、同6-222491号、同2-230506号、同6-258757
号、同6-317868号、同6-324425号、特表平7-500926号、
米国特許5,541,054号に記載された色素) 、カルボン酸
基を有する色素(例としては特開平3-163440号、同6-301
141号、米国特許5,441,899号に記載された色素)、メロ
シアニン色素、多核メロシアニン色素や多核シアニン色
素(特開昭47-6329号、同49-105524号、同51-127719号、
同52-80829号、同54-61517号、同59-214846号、同60-67
50号、同63-159841号、特開平6-35109号、同6-59381
号、同7-146537号、同7-146537号、特表平55-50111号、
英国特許1,467,638号、米国特許5,281,515号に記載され
た色素)が挙げられる。
Particularly preferred as the structure of the dye used in the present invention is a cyanine dye having a thioether bond-containing substituent (for example, JP-A-62-58239 and JP-A-3-13863).
No.8, No.3-138642, No.4-255840, No.5-72659, No.5-
No. 72661, No. 6-222491, No. 2-230506, No. 6-258757
No., 6-317868, 6-324425, Tokuyohei 7-500926,
Dyes described in U.S. Pat.
No. 141, dyes described in U.S. Patent No.
No. 52-80829, No. 54-61517, No. 59-214846, No. 60-67
No. 50, 63-159841, JP-A-6-35109, 6-59381
No., 77-146537, 77-146537, Tokuyohei 55-50111,
Dyes described in British Patent 1,467,638 and US Patent 5,281,515).

【0207】また、J-bandを形成する色素として米国特
許5,510,236号、同3,871,887号の実施例5記載の色素、
特開平2-96131号、特開昭59-48753号が開示されてお
り、本発明に好ましく用いることができる。
Further, dyes described in Example 5 of US Pat. Nos. 5,510,236 and 3,871,887 as dyes forming a J-band,
JP-A-2-96131 and JP-A-59-48753 are disclosed and can be preferably used in the present invention.

【0208】これらの増感色素は単独に用いてもよく、
2種以上組合せて用いてもよい。増感色素の組合せは特
に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素と
ともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは
可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を
示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色素、強
色増感を示す色素の組合せおよび強色増感を示す物質は
Research Disclosure176巻17643(1978年12月発行)第23
頁IVのJ項、あるいは特公昭49-25500号、同43-4933号、
特開昭59-19032号、同59-192242号等に記載されてい
る。
These sensitizing dyes may be used alone.
Two or more kinds may be used in combination. Combinations of sensitizing dyes are often used, especially for supersensitization. In addition to the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization. Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization and substances exhibiting supersensitization are
Research Disclosure Volume 176, 17643 (Issued December 1978) No. 23
Section IV on page IV, or JP-B-49-25500, 43-43933,
These are described in JP-A-59-19032 and JP-A-59-192242.

【0209】増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加させ
るには、それらを直接乳剤中に分散してもよいし、ある
いは水、メタノール、エタノール、プロパノール、アセ
トン、メチルセルソルブ、2,2,3,3-テトラフルオロプロ
パノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、3-メトキシ
-1-プロパノール、3-メトキシ-1-ブタノール、1-メトキ
シ-2-プロパノール、N,N-ジメチルホルムアミド等の溶
媒の単独もしくは混合溶媒に溶解して乳剤に添加しても
よい。
The sensitizing dyes may be added to the silver halide emulsion by dispersing them directly in the emulsion or by adding water, methanol, ethanol, propanol, acetone, methylcellosolve, 2,2, 3,3-tetrafluoropropanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 3-methoxy
It may be added to the emulsion by dissolving it in a solvent such as 1-propanol, 3-methoxy-1-butanol, 1-methoxy-2-propanol, N, N-dimethylformamide, alone or in a mixed solvent.

【0210】また、米国特許3,469,987号明細書等に開
示されているように、色素を揮発性の有機溶剤に溶解
し、この溶液を水または親水性コロイド中に分散し、こ
の分散物を乳剤中へ添加する方法、特公昭44-23389号、
同44-27555号、同57-22091号等に開示されているよう
に、色素を酸に溶解し、この溶液を乳剤中に添加した
り、酸または塩基を共存させて水溶液として乳剤中へ添
加する方法、米国特許3,822,135号、同4,006,025号明細
書等に開示されているように界面活性剤を共存させて水
溶液あるいはコロイド分散物としたものを乳剤中に添加
する方法、特開昭53-102733号、同58-105141号に開示さ
れているように親水性コロイド中に色素を直接分散さ
せ、その分散物を乳剤中に添加する方法、特開昭51-746
24号に開示されているように、レッドシフトさせる化合
物を用いて色素を溶解し、この溶液を乳剤中へ添加する
方法を用いることもできる。また、溶解に超音波を用い
ることもできる。
As disclosed in US Pat. No. 3,469,987, a dye is dissolved in a volatile organic solvent, this solution is dispersed in water or a hydrophilic colloid, and this dispersion is dispersed in an emulsion. To Japanese Patent Publication No. 44-23389,
As disclosed in JP-A-44-27555 and JP-A-57-22091, the dye is dissolved in an acid and this solution is added to the emulsion, or an acid or base is added to the emulsion as an aqueous solution in the presence of an acid or base. A method of adding an aqueous solution or a colloidal dispersion in the presence of a surfactant to an emulsion, as disclosed in U.S. Patent Nos. 3,822,135 and 4,006,025, JP-A-53-102733. JP-A-51-746, a method in which a dye is directly dispersed in a hydrophilic colloid and the dispersion is added to an emulsion as disclosed in JP-A-58-105141.
As disclosed in Japanese Patent No. 24, a method in which a dye is dissolved using a compound that causes a red shift, and this solution is added to an emulsion can also be used. Also, ultrasonic waves can be used for dissolution.

【0211】本発明に用いる増感色素を本発明のハロゲ
ン化銀乳剤中に添加する時期は、これまで有用であるこ
とが認められている乳剤調製のいかなる工程中であって
もよい。例えば米国特許2,735,766号、同3,628,960号、
同4,183,756号、同4,225,666号、特開昭58-184142号、
同60-196749号等の明細書に開示されているように、ハ
ロゲン化銀の粒子形成工程または/および脱塩前の時
期、脱塩工程中および/または脱塩後から化学熟成の開
始前までの時期、特開昭58-113920号等の明細書に開示
されているように、化学熟成の直前または工程中の時
期、化学熟成後、塗布までの時期の乳剤が塗布される前
ならばいかなる時期、工程において添加されてもよい。
また、米国特許4,225,666号、特開昭58-7629号等の明
細書に開示されているように、同一化合物を単独で、ま
たは異種構造の化合物と組み合わせて、例えば粒子形成
工程中と化学熟成工程中または化学熟成完了後とに分け
たり、化学熟成の前または工程中と完了後とに分けるな
どして分割して添加してもよく、分割して添加する化合
物および化合物の組み合わせの種類を変えて添加しても
よい。
The sensitizing dye to be used in the present invention may be added to the silver halide emulsion of the present invention at any time during the preparation of the emulsion which has been found to be useful. For example, U.S. Patents 2,735,766 and 3,628,960,
No. 4,183,756, No. 4,225,666, JP-A-58-184142,
As disclosed in the specification of JP-A-60-196749 and the like, the timing before silver halide grain forming step and / or desalting, during and / or after desalting and before the start of chemical ripening. As disclosed in the specification such as JP-A-58-113920, any time immediately before chemical ripening or during the process, after chemical ripening, and before coating the emulsion before coating It may be added at the time and in the process.
Also, as disclosed in the specification of U.S. Pat. No. 4,225,666, JP-A-58-7629, etc., the same compound may be used alone or in combination with a compound having a different structure, for example, during the particle forming step. The compound may be added separately during the ripening step or after the completion of the chemical ripening, or may be added separately before or during the chemical ripening or after the completion of the chemical ripening. May be added.

【0212】本発明における増感色素の使用量としては
感度やカブリなどの性能に合わせて所望の量でよいが、
感光性層のハロゲン化銀1モル当たり10-6〜1モルが好ま
しく、10-4〜10-1モルがさらに好ましい。
The amount of the sensitizing dye used in the present invention may be a desired amount in accordance with the performance such as sensitivity and fog.
The amount is preferably from 10 -6 to 1 mol, more preferably from 10 -4 to 10 -1 mol, per mol of silver halide in the photosensitive layer.

【0213】本発明には現像を抑制あるいは促進させ現
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができる。
In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound and a thione compound are contained in order to control development by suppressing or accelerating development, to improve spectral sensitization efficiency, and to improve storage stability before and after development. be able to.

【0214】本発明にメルカプト化合物を使用する場
合、いかなる構造のものでも良いが、Ar-SM0、Ar-S-S-A
rで表されるものが好ましい。式中、M0は水素原子また
はアルカリ金属原子であり、Arは1個以上の窒素、イオ
ウ、酸素、セレニウムもしくはテルリウム原子を有する
芳香環基または縮合芳香環基である。好ましくは、これ
らの基中の複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフスイ
ミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベ
ンズオキサゾール、ナフスオキサゾール、ベンゾセレナ
ゾール、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾ
ール、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、テ
トラゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピ
ラジン、ピリジン、プリン、キノリンまたはキナゾリノ
ンである。この複素芳香環は、例えば、ハロゲン(例え
ば、BrおよびCl)、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、
アルキル(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1〜4
個の炭素原子を有するもの)、アルコキシ(例えば、1個
以上の炭素原子、好ましくは1〜4個の炭素原子を有す
るもの)およびアリール(置換基を有していてもよい)
からなる置換基群から選択されるものを有してもよい。
メルカプト置換複素芳香族化合物をとしては、2-メルカ
プトベンズイミダゾール、2-メルカプトベンズオキサゾ
ール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプト-5
-メチルベンズイミダゾール、6-エトキシ-2-メルカプト
ベンゾチアゾール、2,2'-ジチオビス-ベンゾチアゾー
ル、3-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、4,5-ジフェニ
ル-2-イミダゾールチオール、2-メルカプトイミダゾー
ル、1-エチル-2-メルカプトベンズイミダゾール、2-メ
ルカプトキノリン、8-メルカプトプリン、2-メルカプト
-4(3H)-キナゾリノン、7-トリフルオロメチル-4-キノリ
ンチオール、2,3,5,6-テトラクロロ-4-ピリジンチオー
ル、4-アミノ-6-ヒドロキシ-2-メルカプトピリミジンモ
ノヒドレート、2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジア
ゾール、3-アミノ-5-メルカプト-1,2,4-トリアゾール、
4-ヒドキロシ-2-メルカプトピリミジン、2-メルカプト
ピリミジン、4,6-ジアミノ-2-メルカプトピリミジン、2
-メルカプト-4-メチルピリミジンヒドロクロリド、3-メ
ルカプト-5-フェニル-1,2,4-トリアゾール、1-フェニル
-5-メルカプトテトラゾール、3-(5-メルカプトテトラゾ
ール)-ベンゼンスルフォン酸ナトリウム、N-メチル-N'-
{3-(5-メルカプトテトラゾリル)フェニル}ウレア、2-メ
ルカプト-4-フェニルオキサゾールなどが挙げられる
が、本発明はこれらに限定されない。
When a mercapto compound is used in the present invention, it may have any structure, but may be any of Ar-SM 0 , Ar-SSA
Those represented by r are preferred. In the formula, M 0 is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic ring group or a condensed aromatic ring group having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms. Preferably, the heteroaromatic ring in these groups is benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotellurazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, thiadiazole, tetrazole, Triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, pyridine, purine, quinoline or quinazolinone. The heteroaromatic ring includes, for example, halogens (e.g., Br and Cl), hydroxy, amino, carboxy,
Alkyl (e.g. one or more carbon atoms, preferably 1-4
Having one carbon atom), alkoxy (eg, having one or more carbon atoms, preferably 1-4 carbon atoms) and aryl (optionally having substituents)
And a substituent selected from the group consisting of:
As mercapto-substituted heteroaromatic compounds, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-5
-Methylbenzimidazole, 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole, 2,2'-dithiobis-benzothiazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 4,5-diphenyl-2-imidazolethiol, 2- Mercaptoimidazole, 1-ethyl-2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptoquinoline, 8-mercaptopurine, 2-mercapto
-4 (3H) -quinazolinone, 7-trifluoromethyl-4-quinolinethiol, 2,3,5,6-tetrachloro-4-pyridinethiol, 4-amino-6-hydroxy-2-mercaptopyrimidine monohydrate , 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazole,
4-Hydrocyr-2-mercaptopyrimidine, 2-mercaptopyrimidine, 4,6-diamino-2-mercaptopyrimidine, 2
-Mercapto-4-methylpyrimidine hydrochloride, 3-mercapto-5-phenyl-1,2,4-triazole, 1-phenyl
-5-mercaptotetrazole, 3- (5-mercaptotetrazole) -sodium benzenesulfonate, N-methyl-N'-
Examples thereof include {3- (5-mercaptotetrazolyl) phenyl} urea and 2-mercapto-4-phenyloxazole, but the present invention is not limited thereto.

【0215】これらのメルカプト化合物の添加量として
は乳剤層(画像形成層)中に銀1モル当たり0.0001〜1
モルの範囲が好ましく、さらに好ましくは、銀の1モル
当たり0.001〜0.3モルの量である。
The addition amount of these mercapto compounds is 0.0001 to 1 per mol of silver in the emulsion layer (image forming layer).
A molar range is preferred, more preferably an amount of 0.001 to 0.3 mole per mole of silver.

【0216】本発明における画像形成層(感光性層)に
は、可塑剤および潤滑剤として多価アルコール(例え
ば、米国特許第2,960,404号に記載された種類のグリセ
リンおよびジオール)、米国特許第2,588,765号および同
第3,121,060号に記載の脂肪酸またはエステル、英国特
許第955,061号に記載のシリコーン樹脂などを用いるこ
とができる。
In the image forming layer (photosensitive layer) in the present invention, a polyhydric alcohol (for example, glycerin and diol of the type described in US Pat. No. 2,960,404) as a plasticizer and a lubricant, and US Pat. No. 2,588,765 are used. And fatty acids or esters described in US Pat. No. 3,121,060, and silicone resins described in UK Patent No. 955,061 can be used.

【0217】本発明における熱現像感光材料は画像形成
層の付着防止などの目的で表面保護層を設けることがで
きる。
The photothermographic material according to the invention may be provided with a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer.

【0218】本発明の表面保護層のバインダーとしては
いかなるポリマーでもよいが、カルボン酸残基を有する
ポリマーを100mg/m2以上5g/m2以下含むことが好まし
い。ここでいうカルボキシル残基を有するポリマーとし
ては天然高分子(ゼラチン、アルギン酸など)、変性天然
高分子(カルボキシメチルセルロース、フタル化ゼラチ
ンなど)、合成高分子(ポリメタクリレート、ポリアクリ
レート、ポリアルキルメタクリレート/アクリレート共
重合体、ポリスチレン/ポリメタクリレート共重合体な
ど)などが挙げられる。このようなポリマーのカルボキ
シ残基の含有量としてはポリマー100g当たり10mmol以上
1.4mol以下であることが好ましい。また、カルボン酸残
基はアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、有
機カチオンなどと塩を形成してもよい。
The binder for the surface protective layer of the present invention may be any polymer, but preferably contains a polymer having a carboxylic acid residue in an amount of from 100 mg / m 2 to 5 g / m 2 . Examples of the polymer having a carboxyl residue include natural polymers (gelatin, alginic acid, etc.), modified natural polymers (carboxymethylcellulose, phthalated gelatin, etc.), and synthetic polymers (polymethacrylate, polyacrylate, polyalkylmethacrylate / acrylate). Copolymer, polystyrene / polymethacrylate copolymer, etc.). The carboxy residue content of such a polymer should be 10 mmol or more per 100 g of the polymer.
It is preferably at most 1.4 mol. Further, the carboxylic acid residue may form a salt with an alkali metal ion, an alkaline earth metal ion, an organic cation, or the like.

【0219】本発明の表面保護層としては、いかなる付
着防止材料を使用してもよい。付着防止材料の例として
は、ワックス、シリカ粒子、スチレン含有エラストマー
性ブロックコポリマー(例えば、スチレン-ブタジエン-
スチレン、スチレン-イソプレン-スチレン)、酢酸セル
ロース、セルロースアセテートブチレート、セルロース
プロピオネートやこれらの混合物などがある。また、表
面保護層には架橋のための架橋剤、塗布性改良のための
界面活性剤などを添加してもよい。
As the surface protective layer of the present invention, any anti-adhesion material may be used. Examples of anti-adhesion materials include waxes, silica particles, styrene-containing elastomeric block copolymers (e.g., styrene-butadiene-
Styrene, styrene-isoprene-styrene), cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate, and mixtures thereof. Further, a crosslinking agent for crosslinking, a surfactant for improving coating properties, and the like may be added to the surface protective layer.

【0220】本発明における画像形成層もしくは画像形
成層の保護層には、米国特許第3,253,921号、同第2,27
4,782号、同第2,527,583号および同第2,956,879号に記
載されているような光吸収物質およびフィルター染料を
使用することができる。また、例えば米国特許第3,282,
699号に記載のように染料を媒染することができる。フ
ィルター染料の使用量としては露光波長での吸光度が0.
1〜3が好ましく、0.2〜1.5が特に好ましい。
In the present invention, the image forming layer or the protective layer of the image forming layer is described in US Pat. No. 3,253,921 and US Pat.
Light absorbing substances and filter dyes as described in 4,782, 2,527,583 and 2,956,879 can be used. Also, for example, U.S. Pat.
The dye can be mordanted as described in US Pat. As the amount of filter dye used, the absorbance at the exposure wavelength is 0.
1-3 are preferable, and 0.2-1.5 are particularly preferable.

【0221】本発明の感光性層には色調改良、イラジエ
ーション防止の観点から各種染料や顔料を用いることが
できる。本発明の感光性層に用いる染料および顔料はい
かなるものでもよいが、例えばカラーインデックス記載
の顔料や染料があり、具体的にはピラゾロアゾール染
料、アントラキノン染料、アゾ染料、アゾメチン染料、
オキソノール染料、カルボシアニン染料、スチリル染
料、トリフェニルメタン染料、インドアニリン染料、イ
ンドフェノール染料、フタロシアニンをはじめとする有
機顔料、無機顔料などが挙げられる。本発明に用いられ
る好ましい染料としてはアントラキノン染料(例えば特
開平5-341441号記載の化合物1〜9、特開平5-165147号記
載の化合物3-6〜18および3-23〜38など)、アゾメチン染
料(特開平5-341441号記載の化合物17〜47など)、インド
アニリン染料(例えば特開平5-289227号記載の化合物11
〜19、特開平5-341441号記載の化合物47、特開平5-1651
47号記載の化合物2-10〜11など)およびアゾ染料(特開平
5-341441号記載の化合物10〜16)が挙げられる。これら
の染料の添加法としては、溶液、乳化物、固体微粒子分
散物、高分子媒染剤に媒染された状態などいかなる方法
でも良い。これらの化合物の使用量は目的の吸収量によ
って決められるが、一般的に感光材料1m2当たり1μg以
上1g以下の範囲で用いることが好ましい。
In the photosensitive layer of the present invention, various dyes and pigments can be used from the viewpoint of improving color tone and preventing irradiation. Dyes and pigments used in the photosensitive layer of the present invention may be any, for example, there are pigments and dyes described in the color index, specifically pyrazoloazole dye, anthraquinone dye, azo dye, azomethine dye,
Oxonol dyes, carbocyanine dyes, styryl dyes, triphenylmethane dyes, indoaniline dyes, indophenol dyes, organic pigments including phthalocyanine, and inorganic pigments. Preferred dyes used in the present invention include anthraquinone dyes (e.g., compounds 1 to 9 described in JP-A-5-341441, compounds 3-6 to 18 and 3-23 to 38 described in JP-A-5-165147), azomethine Dyes (e.g., compounds 17 to 47 described in JP-A-5-341441) and indoaniline dyes (e.g., compound 11 described in JP-A-5-289227).
To 19, compound 47 described in JP-A-5-341441, JP-A-5-1651
No. 47, compounds 2-10 to 11) and azo dyes (JP-A No.
Compounds 10 to 16) described in 5-341441 are exemplified. As a method for adding these dyes, any method such as a solution, an emulsion, a solid fine particle dispersion, and a state in which the dye is mordanted with a polymer mordant may be used. The amount of these compounds to be used is determined depending on the desired absorption amount, but it is generally preferable to use them in an amount of 1 μg or more and 1 g or less per 1 m 2 of the photographic material.

【0222】本発明における熱現像感光材料は、支持体
の一方の側に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤を含む
感光性層(画像形成層)を有し、他方の側にバック層を
有する、いわゆる片面感光材料であることが好ましい。
The photothermographic material of the present invention has at least one light-sensitive layer (image-forming layer) containing a silver halide emulsion on one side of a support, and has a back layer on the other side. It is preferably a so-called one-sided photosensitive material.

【0223】本発明においてバック層は、所望の範囲で
の最大吸収が約0.3以上2.0以下であることが好ましい。
所望の範囲が750〜1400nmである場合には、750〜360nm
においての光学濃度が0.005以上0.5未満であることが好
ましく、さらに好ましくは0.001以上0.3未満の光学濃度
を有するハレーション防止層であることが好ましい。所
望の範囲が750nm以下である場合には、画像形成前の所
望範囲の最大吸収が0.3以上2.0以下であり、さらに画像
形成後の360〜750nmの光学濃度が0.005以上0.3未満にな
るようなハレーション防止層であることが好ましい。画
像形成後の光学濃度を上記の範囲に下げる方法としては
特に制限はないが、例えばベルギー特許第733,706号に
記載されたように染料による濃度を加熱による消色で低
下させる方法、特開昭54-17833号に記載の光照射による
消色で濃度を低下させる方法等が挙げられる。
In the present invention, the back layer preferably has a maximum absorption in a desired range of about 0.3 or more and 2.0 or less.
750-360nm if the desired range is 750-1400nm
Is preferably 0.005 or more and less than 0.5, more preferably an antihalation layer having an optical density of 0.001 or more and less than 0.3. When the desired range is 750 nm or less, the halation is such that the maximum absorption in the desired range before image formation is 0.3 or more and 2.0 or less, and the optical density at 360-750 nm after image formation is 0.005 or more and less than 0.3. Preferably, it is a prevention layer. The method for lowering the optical density after image formation to the above range is not particularly limited. For example, as described in Belgian Patent No. 733,706, a method in which the density of a dye is reduced by decolorization by heating, And a method of decreasing the density by decoloring by light irradiation described in JP-A-17833.

【0224】本発明でハレーション防止染料を使用する
場合、こうした染料は所望の範囲で目的の吸収を有し、
処理後に可視領域での吸収が充分少なく、上記バック層
の好ましい吸光度スペクトルの形状が得られればいかな
る化合物でも良い。例えば以下に挙げるものが開示され
ているが本発明はこれに限定されるものではない。単独
の染料としては特開昭59-56458号、特開平2-216140号、
同7-13295号、同7-11432号、米国特許5,380,635号記
載、特開平2-68539号公報第13頁左下欄1行目から同第14
頁左下欄9行目、同3-24539号公報第14頁左下欄から同第
16頁右下欄記載の化合物があり、処理で消色する染料と
しては特開昭52-139136号、同53-132334号、同56-50148
0号、同57-16060号、同57-68831号、同57-101835号、同
59-182436号、特開平7-36145号、同7-199409号、特公昭
48-33692号、同50-16648号、特公平2-41734号、米国特
許4,088,497号、同4,283,487号、同4,548,896号、同5,1
87,049号がある。
When antihalation dyes are used in the present invention, such dyes have the desired absorption in the desired range,
Any compound may be used as long as it has a sufficiently low absorption in the visible region after the treatment and a preferable absorbance spectrum of the back layer is obtained. For example, the following are disclosed, but the present invention is not limited thereto. As a single dye, JP-A-59-56458, JP-A-2-216140,
No. 7-13295, No. 7-11432, U.S. Pat.No.5,380,635, JP-A-2-688539, page 13, lower left column, line 1 to line 14,
The lower left column of the page, line 9, from the lower left column of page 14 of JP-A-3-24539
There are compounds described in the lower right column of page 16, and as dyes which can be decolorized by treatment, JP-A Nos. 52-139136, 53-132334, 56-50148.
No. 0, No. 57-16060, No. 57-68831, No. 57-101835, No.
No. 59-182436, JP-A-7-36145, 7-199409
No. 48-33692, No. 50-16648, Japanese Patent Publication No. 2-41734, U.S. Pat.Nos. 4,088,497, 4,283,487, 4,548,896, 5,1
There is 87,049.

【0225】本発明においてバック層の好適なバインダ
ーは透明または半透明で、一般に無色であり、天然ポリ
マー合成樹脂やポリマーおよびコポリマー、その他フィ
ルムを形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセルロ
ース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブ
チレート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デンプ
ン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル酸)、ポ
リ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コポリ(スチレ
ン-無水マレイン酸)、コポリ(スチレン-アクリロニトリ
ル)、コポリ(スチレン-ブタジエン)、ポリ(ビニルアセ
タール)類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)およびポリ
(ビニルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタ
ン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ
(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニル
アセテート)、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類
がある。バインダーは水または有機溶媒またはエマルジ
ョンから被覆形成してもよい。
In the present invention, a suitable binder for the back layer is transparent or translucent, generally colorless, and includes natural polymer synthetic resins, polymers and copolymers, and other film-forming media such as: gelatin, gum arabic, and poly (vinyl). (Alcohol), hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinyl pyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methyl methacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid), copoly (Styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinylacetal) s (e.g., poly (vinylformal) and poly (vinylformal)).
(Vinyl butyral)), poly (ester) s, poly (urethanes), phenoxy resin, poly (vinylidene chloride), poly (vinylidene chloride)
(Epoxides), poly (carbonates), poly (vinyl acetate), cellulose esters, and poly (amides). The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.

【0226】本発明において片面感光材料は、搬送性改
良のために感光性乳剤層(画像形成層)の表面保護層お
よび/またはバック層またはバック層の表面保護層にマ
ット剤を添加しても良い。マット剤は、一般に水に不溶
性の有機または無機化合物の微粒子である。マット剤と
しては任意のものを使用でき、例えば米国特許第1,939,
213号、同2,701,245号、同2,322,037号、同3,262,782
号、同3,539,344号、同3,767,448号等の各明細書に記載
の有機マット剤、同1,260,772号、同2,192,241号、同3,
257,206号、同3,370,951号、同3,523,022号、同3,769,0
20号等の各明細書に記載の無機マット剤など当業界で良
く知られたものを用いることができる。例えば具体的に
はマット剤として用いることのできる有機化合物の例と
しては、水分散性ビニル重合体の例としてポリメチルア
クリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロ
ニトリル、アクリロニトリル-α-メチルスチレン共重合
体、ポリスチレン、スチレン-ジビニルベンゼン共重合
体、ポリビニルアセテート、ポリエチレンカーボネー
ト、ポリテトラフルオロエチレンなど、セルロース誘導
体の例としてはメチルセルロース、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネートなど、澱粉誘
導体の例としてカルボキシ澱粉、カルボキシニトロフェ
ニル澱粉、尿素-ホルムアルデヒド-澱粉反応物など、公
知の硬化剤で硬化したゼラチンおよびコアセルベート硬
化して微少カプセル中空粒体とした硬化ゼラチンなど好
ましく用いることができる。無機化合物の例としては二
酸化珪素、二酸化チタン、二酸化マグネシウム、酸化ア
ルミニウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、公知の方
法で減感した塩化銀、同じく臭化銀、ガラス、珪藻土な
どを好ましく用いることができる。上記のマット剤は必
要に応じて異なる種類の物質を混合して用いることがで
きる。マット剤の大きさ、形状に特に限定はなく、任意
の粒径のものを用いることができる。本発明の実施に際
しては0.1μm〜30μmの粒径のものを用いるのが好まし
い。また、マット剤の粒径分布は狭くても広くても良
い。一方、マット剤は感光材料のヘイズ、表面光沢に大
きく影響することから、マット剤作製時あるいは複数の
マット剤の混合により、粒径、形状および粒径分布を必
要に応じた状態にすることが好ましい。
In the present invention, the single-sided photosensitive material may be prepared by adding a matting agent to the surface protective layer of the photosensitive emulsion layer (image forming layer) and / or the back layer or the surface protective layer of the back layer in order to improve transportability. good. The matting agent is generally fine particles of an organic or inorganic compound insoluble in water. Any matting agent can be used, for example, U.S. Pat.
No. 213, No. 2,701,245, No. 2,322,037, No. 3,262,782
Nos. 3,539,344, 3,767,448, etc., the organic matting agents described in each specification, 1,260,772, 2,192,241, 3,3
257,206, 3,370,951, 3,523,022, 3,769,0
Those well known in the art, such as an inorganic matting agent described in each specification such as No. 20, can be used. For example, specifically, examples of organic compounds that can be used as a matting agent include, as examples of water-dispersible vinyl polymers, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, acrylonitrile-α-methylstyrene copolymer, and polystyrene. , Styrene-divinylbenzene copolymer, polyvinyl acetate, polyethylene carbonate, polytetrafluoroethylene, etc., examples of cellulose derivatives such as methylcellulose, cellulose acetate, cellulose acetate propionate, etc., and starch derivatives such as carboxy starch, carboxynitrophenyl Gelatin hardened with a known hardener such as starch, urea-formaldehyde-starch reactant, and hardened gelatin formed into microcapsule hollow granules by coacervate hardening are preferably used. Can be. As examples of the inorganic compound, silicon dioxide, titanium dioxide, magnesium dioxide, aluminum oxide, barium sulfate, calcium carbonate, silver chloride desensitized by a known method, silver bromide, glass, and diatomaceous earth can be preferably used. The above matting agents can be used by mixing different types of substances as necessary. The size and shape of the matting agent are not particularly limited, and those having an arbitrary particle size can be used. In practicing the present invention, it is preferable to use one having a particle size of 0.1 μm to 30 μm. Further, the particle size distribution of the matting agent may be narrow or wide. On the other hand, since the matting agent greatly affects the haze and surface gloss of the photosensitive material, the particle size, shape, and particle size distribution can be adjusted as needed during the preparation of the matting agent or by mixing a plurality of matting agents. preferable.

【0227】本発明においてバック層にマット剤を添加
するのは好ましい態様であり、バック層のマット度とし
てはベック平滑度が1200秒以下10秒以上が好ましく、さ
らに好ましくは700秒以下50秒以上である。
In the present invention, it is a preferred embodiment to add a matting agent to the backing layer. The matting degree of the backing layer is preferably a Beck smoothness of 1200 seconds or less and 10 seconds or more, more preferably 700 seconds or less and 50 seconds or more. It is.

【0228】本発明において、マット剤は感光材料の最
外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あるい
は外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわ
ゆる保護層として作用する層に含有されることが好まし
い。また、乳剤面保護層のマット度は星屑故障が生じな
ければいかようでも良いが、ベック平滑度が500秒以上1
0,000秒以下が好ましく、特に500秒以上2,000秒以下が
好ましい。
In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the light-sensitive material, a layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface. Preferably, it is contained. The matte degree of the emulsion surface protective layer may be any value as long as no stardust failure occurs, but the Beck smoothness is 500 seconds or more.
It is preferably at most 000 seconds, particularly preferably at least 500 seconds and at most 2,000 seconds.

【0229】本発明の熱現像写真用乳剤は、支持体上に
一またはそれ以上の層を構成する。一層の構成は有機銀
塩、ハロゲン化銀、現像剤およびバインダー、ならびに
色調剤、被覆助剤および他の補助剤などの所望による追
加の材料を含まなければならない。二層の構成は、第1
乳剤層(通常は支持体に隣接した層)中に有機銀塩および
ハロゲン化銀を含み、第2層または両層中にいくつかの
他の成分を含まなければならない。しかし、全ての成分
を含む単一乳剤層および保護トップコートを含んでなる
二層の構成も考えられる。多色感光性熱現像写真材料の
構成は、各色についてこれらの二層の組合せを含んでよ
く、また、米国特許第4,708,928号に記載されているよ
うに単一層内に全ての成分を含んでいてもよい。多染料
多色感光性熱現像写真材料の場合、各乳剤層は、一般
に、米国特許第4,460,681号に記載されているように、
各乳剤層(感光性層)の間に官能性もしくは非官能性の
バリアー層を使用することにより、互いに区別されて保
持される。
The heat-developable photographic emulsion of the present invention comprises one or more layers on a support. One layer must contain additional optional materials such as organic silver salts, silver halides, developers and binders, and toning agents, coating aids and other auxiliaries. The two-layer configuration is the first
It must contain the organic silver salt and silver halide in the emulsion layer (usually the layer adjacent to the support) and some other components in the second or both layers. However, a two-layer construction comprising a single emulsion layer containing all components and a protective topcoat is also contemplated. The construction of a multicolor photothermographic material may include a combination of these two layers for each color, and may include all components in a single layer as described in U.S. Pat.No. 4,708,928. Is also good. In the case of a multi-dye, multi-color photosensitive heat-developable photographic material, each emulsion layer is generally, as described in U.S. Pat.
By using a functional or non-functional barrier layer between each emulsion layer (photosensitive layer), it is kept distinct from each other.

【0230】米国特許第4,460,681号および同第4,374,9
21号に示されるような裏面抵抗性加熱層(backside resi
stive heating layer)を感光性熱現像写真画像系に使用
することもできる。
US Pat. Nos. 4,460,681 and 4,374,9
Backside resistive heating layer as shown in No. 21
stive heating layer) can also be used in a photosensitive heat developed photographic image system.

【0231】本発明の画像形成層(感光性層)、保護
層、バック層など各層には硬膜剤を用いても良い。硬膜
剤の例としては、米国特許4,281,060号、特開平6-20819
3号などに記載されているポリイソシアネート類、米国
特許4,791,042号などに記載されているエポキシ化合物
類、特開昭62-89048号などに記載されているビニルスル
ホン系化合物類などが用いられる。
A hardener may be used in each of the layers such as the image forming layer (photosensitive layer), the protective layer, and the back layer according to the invention. Examples of hardeners include U.S. Pat.No. 4,281,060 and JP-A-6-20819.
For example, polyisocyanates described in No. 3, etc., epoxy compounds described in US Pat. No. 4,791,042, vinyl sulfone compounds described in JP-A-62-89048 and the like are used.

【0232】本発明には塗布性、帯電改良などを目的と
して界面活性剤を用いても良い。界面活性剤の例として
は、ノニオン系、アニオン系、カチオン系、フッ素系な
どいかなるものも適宜用いられる。具体的には、特開昭
62-170950号、米国特許5,380,644号などに記載のフッ素
系高分子界面活性剤、特開昭60-244945号、特開昭63-18
8135号などに記載のフッ素系界面活性剤、米国特許3,88
5,965号などに記載のポリシロキサン系界面活性剤、特
開平6-301140号などに記載のポリアルキレンオキサイド
やアニオン系界面活性剤などが挙げられる。
In the present invention, a surfactant may be used for the purpose of improving coating properties and charging. As the surfactant, any surfactant such as nonionic, anionic, cationic, and fluorine can be used as appropriate. Specifically,
No. 62-170950, Fluoropolymer surfactants described in U.S. Pat.No.5,380,644, JP-A-60-244945, JP-A-63-18
8135 No. fluorinated surfactants described in U.S. Pat.
Examples thereof include polysiloxane surfactants described in JP-A-5,965 and the like, polyalkylene oxides and anionic surfactants described in JP-A-6-301140 and the like.

【0233】本発明における熱現像用写真乳剤は、一般
的には種々の支持体上に被覆させることができる。典型
的な支持体は、ポリエステルフィルム、下塗りポリエス
テルフィルム、ポリ(エチレンテレフタレート)フィル
ム、ポリエチレンナフタレートフィルム、硝酸セルロー
スフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリ(ビニ
ルアセタール)フィルム、ポリカーボネートフィルムお
よび関連するまたは樹脂状の材料、ならびにガラス、
紙、金属などを含む。可撓性基材、特に、バライタおよ
び/または部分的にアセチル化されたα-オレフィンポ
リマー、特にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン
−ブテンコポリマーなどの炭素数2〜10のα-オレフィン
のポリマーによりコートされた紙支持体が、典型的に用
いられる。このような支持体は透明であっても不透明で
あってもよいが、透明であることが好ましい。これらの
うちでも75〜200μm程度の2軸延伸したポリエチレンテ
レフタレート(PET)が特に好ましい。
The heat-developable photographic emulsion of the present invention can be generally coated on various supports. Typical supports include polyester films, primed polyester films, poly (ethylene terephthalate) films, polyethylene naphthalate films, cellulose nitrate films, cellulose ester films, poly (vinyl acetal) films, polycarbonate films and related or resinous Materials, as well as glass,
Including paper, metal, etc. Flexible substrates, particularly coated with baryta and / or partially acetylated α-olefin polymers, especially polymers of C 2-10 α-olefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-butene copolymers A paper support is typically used. Such a support may be transparent or opaque, but is preferably transparent. Among them, biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) of about 75 to 200 μm is particularly preferred.

【0234】一方、プラスチックフィルムを80℃以上の
処理の熱現像機に通すと一般にフィルムの寸法が伸縮す
る。処理後の材料を印刷製版用途として使用する場合、
この伸縮は精密多色印刷を行う時に重大な問題となる。
よって、本発明では二軸延伸時にフィルム中に残存する
内部歪みを緩和させ、熱現像中に発生する熱収縮歪みを
なくす工夫をした、寸法変化の小さいフィルムを用いる
ことが好ましい。例えば、熱現像用写真乳剤を塗布する
前に100℃〜210℃の範囲で熱処理したポリエチレンテレ
フタレートなどが好ましく用いられる。ガラス転移温度
の高いものも好ましく、ポリエーテルエチルケトン、ポ
リスチレン、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォ
ン、ポリアリレート、ポリカーボネート等が使用でき
る。
On the other hand, when a plastic film is passed through a heat developing machine at a temperature of 80 ° C. or more, the dimensions of the film generally expand and contract. If the processed material is used for printing plate making,
This expansion and contraction is a serious problem when performing precision multicolor printing.
Therefore, in the present invention, it is preferable to use a film having a small dimensional change, which is designed to reduce internal strain remaining in the film at the time of biaxial stretching and eliminate thermal shrinkage distortion generated during thermal development. For example, polyethylene terephthalate, which is heat-treated at 100 to 210 ° C. before coating the photographic emulsion for thermal development, is preferably used. Those having a high glass transition temperature are also preferable, and polyether ethyl ketone, polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polycarbonate and the like can be used.

【0235】本発明における熱現像感光材料は、帯電防
止のため、例えば、可溶性塩(例えば塩化物、硝酸塩な
ど)、蒸着金属層、米国特許第2,861,056号および同第3,
206,312号に記載のようなイオン性ポリマーまたは米国
特許第3,428,451号に記載のような不溶性無機塩、特開
昭60-252349号、同57-104931号に記載されている酸化ス
ズ微粒子などを含む層を有してもよい。
The photothermographic material of the present invention may contain, for example, a soluble salt (for example, chloride or nitrate), a vapor-deposited metal layer, US Pat. No. 2,861,056 and US Pat.
No. 206,312 or a layer containing an insoluble inorganic salt as described in U.S. Pat. May be provided.

【0236】本発明における熱現像感光材料を用いてカ
ラー画像を得る方法としては特開平7-13295号10頁左欄4
3行目から11左欄40行目に記載の方法がある。また、カ
ラー染料画像の安定剤としては英国特許第1,326,889
号、米国特許第3,432,300号、同第3,698,909号、同第3,
574,627号、同第3,573,050号、同第3,764,337号および
同第4,042,394号に例示されている。
A method for obtaining a color image using the photothermographic material of the present invention is described in JP-A-7-13295, page 10, left column 4
There is a method described from the third line to the 11th left column, 40th line. Further, as a stabilizer for color dye images, UK Patent No. 1,326,889
No. 3,432,300, U.S. Pat.No. 3,698,909, U.S. Pat.
Nos. 574,627, 3,573,050, 3,764,337 and 4,042,394.

【0237】本発明における熱現像写真乳剤は、浸漬コ
ーティング、エアナイフコーティング、フローコーティ
ングまたは、米国特許第2,681,294号に記載の種類のホ
ッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコーティ
ング操作により被覆することができる。所望により、米
国特許第2,761,791号および英国特許第837,095号に記載
の方法により2層またはそれ以上の層を同時に被覆する
ことができる。
The photothermographic emulsion of the present invention can be coated by various coating operations including dip coating, air knife coating, flow coating or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. If desired, two or more layers can be coated simultaneously by the methods described in US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 837,095.

【0238】本発明における熱現像感光材料の中に追加
の層、例えば移動染料画像を受容するための染料受容
層、反射印刷が望まれる場合の不透明化層、保護トップ
コート層および光熱写真技術において既知のプライマー
層などを含むことができる。本発明の感光材料はその感
光材料一枚のみで画像形成できることが好ましく、受像
層等の画像形成に必要な機能性層が別の感光材料となら
ないことが好ましい。
Additional layers in the photothermographic material of the present invention, such as a dye-receiving layer for receiving a moving dye image, an opaque layer if reflective printing is desired, a protective topcoat layer and photothermographic techniques A known primer layer or the like can be included. The light-sensitive material of the present invention is preferably capable of forming an image with only one light-sensitive material, and it is preferable that a functional layer required for image formation such as an image receiving layer does not become another light-sensitive material.

【0239】本発明の熱現像感光材料はいかなる方法で
現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した感
光材料を昇温して現像される。用いられる熱現像機の好
ましい態様としては、熱現像感光材料をヒートローラー
やヒートドラムなどの熱源に接触させるタイプとして特
公平5-56499号、特許公報第684453号、特開平9-292695
号、特開平9-297385号および国際特許WO95/30934号に
記載の熱現像機、非接触型のタイプとして特開平7-1329
4号、国際特許WO97/28489号、同97/28488号および同9
7/28487号に記載の熱現像機がある。特に好ましい態様
としては非接触型の熱現像機である。好ましい現像温度
としては80〜250℃であり、さらに好ましくは100〜140
℃である。現像時間としては1〜180秒が好ましく、10〜
90秒がさらに好ましい。
The photothermographic material of the present invention may be developed by any method. Generally, the photosensitive material exposed imagewise is heated and developed. As a preferred embodiment of the heat developing machine to be used, a type in which the photothermographic material is brought into contact with a heat source such as a heat roller or a heat drum is disclosed in Japanese Patent Publication No. 5-56499, Japanese Patent No. 684453, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-292695.
No. 9-297385 and the thermal developing machine described in International Patent Publication No. WO95 / 30934.
4, International Patents WO97 / 28489, 97/28488 and 9
There is a heat developing machine described in 7/28487. A particularly preferred embodiment is a non-contact type thermal developing machine. The preferred development temperature is 80 to 250 ° C, more preferably 100 to 140 ° C.
° C. The development time is preferably from 1 to 180 seconds, from 10 to 180 seconds.
90 seconds is more preferred.

【0240】本発明の熱現像感光材料の前述の熱現像時
の寸法変化による処理ムラを防止する方法として、80℃
以上115℃未満(好ましくは113℃以下)の温度で画像が
出ないようにして5秒以上加熱した後、110℃以上(好ま
しくは130℃以下)で熱現像して画像形成させる方法
(いわゆる多段階加熱方法)が有効である。
As a method for preventing processing unevenness due to the dimensional change during the heat development of the photothermographic material of the present invention, a temperature of 80 ° C.
A method of forming an image by heating at a temperature of at least 115 ° C. (preferably 113 ° C. or less) for 5 seconds or more so as not to form an image, and then thermally developing at 110 ° C. or more (preferably 130 ° C. or less) (so-called multi Step heating method) is effective.

【0241】本発明の感光材料はいかなる方法で露光さ
れても良いが、露光光源としてレーザー光が好ましい。
本発明によるレーザー光としては、ガスレーザー、YAG
レーザー、色素レーザー、半導体レーザーなどが好まし
い。また、半導体レーザーと第2高調波発生素子などを
用いることもできる。
The light-sensitive material of the present invention may be exposed by any method, but a laser beam is preferred as an exposure light source.
As the laser beam according to the present invention, gas laser, YAG
Laser, dye laser, semiconductor laser and the like are preferable. Further, a semiconductor laser and a second harmonic generation element can be used.

【0242】本発明の感光材料は露光時のヘイズが低
く、干渉縞が発生しやすい傾向にある。この干渉縞発生
防止技術としては、特開平5-113548号などに開示されて
いるレーザー光を感光材料に対して斜めに入光させる技
術や、WO95/31754号などに開示されているマルチモード
レーザーを利用する方法が知られており、これらの技術
を用いることが好ましい。
The light-sensitive material of the present invention has a low haze upon exposure and tends to cause interference fringes. Examples of this interference fringe prevention technology include a technology for obliquely entering a laser beam into a photosensitive material as disclosed in JP-A-5-113548 and a multi-mode laser disclosed in WO95 / 31754 and the like. Are known, and it is preferable to use these techniques.

【0243】本発明の感光材料を露光するにはSPIE vo
l.169 Laser Printing 116-128頁(1979)、特開平4-5104
3号、WO95/31754号などに開示されているようにレーザ
ー光が重なるように露光し、走査線が見えないようにす
ることが好ましい。
For exposing the light-sensitive material of the present invention, SPIE vo
l.169 Laser Printing 116-128 (1979), JP-A-4-5104
No. 3, WO95 / 31754, etc., it is preferable to expose the laser beams so that they overlap each other so that the scanning lines are not visible.

【0244】本発明の熱現像感光材料の熱現像処理に用
いられる熱現像機の一構成例を図1に示す。図1は熱現
像機の側面図を示したものである。内部に加熱手段の熱
源として、ハロゲンランプ1を収納した円筒状のヒート
ドラム2の周面に複数個の送りローラー3に懸架された
搬送用のエンドレスベルト4が圧接され、エンドレスベ
ルト4とヒートドラム2との間に熱現像感光材料5が挟
まれて搬送される。搬送される間に熱現像感光材料5
は、現像温度まで加熱され、熱現像が行われる。この場
合、ランプの配向は最適化され、幅方向の温度制御が精
度良く行われる。
FIG. 1 shows an example of the construction of a heat developing machine used for the heat development of the photothermographic material of the present invention. FIG. 1 is a side view of the heat developing machine. As a heat source of the heating means, an endless belt 4 for conveyance suspended by a plurality of feed rollers 3 is pressed against the peripheral surface of a cylindrical heat drum 2 containing a halogen lamp 1, and the endless belt 4 and the heat drum 2, the photothermographic material 5 is conveyed. Photothermographic material 5 while transported
Is heated to a development temperature and thermal development is performed. In this case, the orientation of the lamp is optimized, and the temperature control in the width direction is performed accurately.

【0245】ヒートドラム2とエンドレスベルト4の間
から熱現像感光材料5が送り出される出口6付近に、ヒ
ートドラム2の周面の湾曲から開放された熱現像形成材
料5を平面状に矯正する矯正ガイド板7が設けられてい
る。この矯正ガイド板7付近において、熱現像感光材料
5の温度が所定の温度以下にならないように雰囲気温度
を調整してある。
In the vicinity of the outlet 6 from which the photothermographic material 5 is sent out between the heat drum 2 and the endless belt 4, the heat development forming material 5 released from the curvature of the peripheral surface of the heat drum 2 is flattened. A guide plate 7 is provided. In the vicinity of the correction guide plate 7, the ambient temperature is adjusted so that the temperature of the photothermographic material 5 does not fall below a predetermined temperature.

【0246】出口6の下流には熱現像感光材料5を送る
1対の送りローラー8が設置され、その下流にはローラ
ー対8に隣接して、熱現像感光材料5を平面状に維持し
た状態で案内する1対の平面ガイド板9が設置され、さ
らにその下流には平面ガイド板9に隣接してもう1対の
送りローラー10が設置されている。この平面ガイド板
9は熱現像感光材料5がその間を搬送されている間に熱
現像感光材料5が冷却されるだけの長さを有している。
すなわち、その間に熱現像感光材料5の温度が30℃以
下になるまで冷却される。この冷却手段として、冷却フ
ァン11が設置されている。
A pair of feed rollers 8 for feeding the photothermographic material 5 is provided downstream of the outlet 6, and the downstream side thereof is adjacent to the roller pair 8 and the photothermographic material 5 is maintained in a planar state. And a pair of feed rollers 10 is provided downstream thereof adjacent to the flat guide plate 9. The flat guide plate 9 has a length sufficient to cool the photothermographic material 5 while the photothermographic material 5 is being conveyed therebetween.
That is, during this time, the photothermographic material 5 is cooled until the temperature of the photothermographic material 5 becomes 30 ° C. or less. As this cooling means, a cooling fan 11 is provided.

【0247】以上、図示例に従って説明したが、これに
限らず、例えば特開平7−13294号に記載のものな
ど、本発明に用いられる熱現像機は種々の構成のもので
あってよい。また、本発明において、好ましく用いられ
る多段階加熱方法の場合は、上述のような装置におい
て、加熱温度の異なる熱源を2個以上設置し、連続的に
異なる温度で加熱するようにすればよい。
Although the above has been described with reference to the illustrated example, the invention is not limited to this. For example, the thermal developing machine used in the present invention, such as that described in JP-A-7-13294, may have various structures. In the case of the multi-stage heating method preferably used in the present invention, two or more heat sources having different heating temperatures may be provided in the above-described apparatus, and heating may be performed continuously at different temperatures.

【0248】[0248]

【実施例】以下に実施例をもって本発明の効果を説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例1 《ハロゲン化銀乳剤の調製》 (乳剤A)水700mlにフタル化ゼラチン11gおよび臭化カ
リウム30mg、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム10mgを
溶解して温度55℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.
6gを含む水溶液159mlと臭化カリウムを1モル/リットル
で含む水溶液をpAg7.7に保ちながらコントロールダブル
ジェット法で6分30秒間かけて添加した。ついで、硝酸
銀55.5gを含む水溶液476mlと臭化カリウムを1モル/リッ
トルで含むハロゲン塩水溶液をpAg7.7に保ちながらコン
トロールダブルジェット法で28分30秒間かけて添加し
た。その後pHを下げて凝集沈降させて脱塩処理をし、化
合物Aを0.17g、脱イオンゼラチン(カルシウム含有量
として20ppm以下)を23.7g加え、pH5.9、pAg8.0に調整
した。得られた粒子は平均粒子サイズ0.11μm、投影面
積変動係数8%、(100)面比率93%の立方体粒子であった。
EXAMPLES The effects of the present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 << Preparation of Silver Halide Emulsion >> (Emulsion A) After dissolving 11 g of phthalated gelatin, 30 mg of potassium bromide and 10 mg of sodium benzenethiosulfonate in 700 ml of water and adjusting the pH to 5.0 at a temperature of 55 ° C. , Silver nitrate 18.
An aqueous solution containing 159 ml of an aqueous solution containing 6 g and an aqueous solution containing potassium bromide at 1 mol / liter were added by a control double jet method over 6 minutes and 30 seconds while keeping the pAg at 7.7. Then, 476 ml of an aqueous solution containing 55.5 g of silver nitrate and a halogen salt aqueous solution containing 1 mol / l of potassium bromide were added by a control double jet method over 28 minutes and 30 seconds while keeping the pAg at 7.7. Thereafter, the pH was lowered to cause coagulation and sedimentation, followed by desalting treatment, and 0.17 g of compound A and 23.7 g of deionized gelatin (calculated as 20 ppm or less) were added to adjust the pH to 5.9 and pAg 8.0. The obtained particles were cubic particles having an average particle size of 0.11 μm, a projection area variation coefficient of 8%, and a (100) plane ratio of 93%.

【0249】こうして得たハロゲン化銀粒子を60℃に昇
温して銀1モル当たりベンゼンチオスルホン酸ナトリウ
ム76μモルを添加し、3分後にチオ硫酸ナトリウム154μ
モルを添加して、100分熟成した。
The silver halide grains thus obtained were heated to 60 ° C., and 76 μmol of sodium benzenethiosulfonate was added per 1 mol of silver.
Mole was added and aged for 100 minutes.

【0250】その後、40℃に温度を保ち、ハロゲン化銀
1モルに対して6.4×10-4モルの増感色素A、6.4×10-3
モルの化合物Bを撹拌しながら添加し、20分後に30℃に
急冷してハロゲン化銀乳剤Aの調製を終了した。
Thereafter, the temperature was maintained at 40 ° C.
6.4 × 10 -4 mole of sensitizing dye A per mole, 6.4 × 10 -3
Molar compound B was added with stirring, and after 20 minutes, the mixture was rapidly cooled to 30 ° C. to complete the preparation of silver halide emulsion A.

【0251】[0251]

【化24】 Embedded image

【0252】《有機酸銀分散物の調製》 <有機酸銀A>アラキン酸6.1g、ベヘン酸37.6g、蒸留
水700ml、tert-ブタノール70ml、1N-NaOH水溶液123mlを
混合し、75℃で1時間攪拌し反応させ、65℃に降温し
た。次いで、硝酸銀22gの水溶液112.5mlを45秒かけて添
加し、そのまま5分間放置し、30℃に降温した。その
後、吸引濾過で固形分を濾別し、固形分を濾水の伝導度
が30μS/cmになるまで水洗した。こうして得られた固形
分は、乾燥させないでウエットケーキとして取り扱い、
乾燥固形分100g相当のウエットケーキに対し、ポリビ
ニルアルコール(商品名:PVA-217)5gおよび水を添加
し、全体量を500gとしてからホモミキサーにて予備分
散した。
<Preparation of Organic Acid Silver Dispersion><Organic acid silver A> 6.1 g of arachidic acid, 37.6 g of behenic acid, 700 ml of distilled water, 70 ml of tert-butanol, and 123 ml of a 1N aqueous solution of NaOH were mixed at 75 ° C. The mixture was stirred for an hour to react, and the temperature was lowered to 65 ° C. Then, 112.5 ml of an aqueous solution of 22 g of silver nitrate was added over 45 seconds, left as it was for 5 minutes, and cooled to 30 ° C. Thereafter, the solid content was separated by suction filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of the filtrate became 30 μS / cm. The solid content thus obtained is treated as a wet cake without drying,
To a wet cake having a dry solid content of 100 g, 5 g of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217) and water were added to make the total amount 500 g, and the mixture was predispersed with a homomixer.

【0253】次に予備分散済みの原液を分散機(商品
名:マイクロフルイダイザーM−110S−EH、マイ
クロフルイデックス・インターナショナル・コーポレー
ション製、G10Zインタラクションチャンバー使用)の
圧力を1750kg/cm2に調節して、三回処理し、有機酸
銀分散物Aを得た。こうして得た有機酸銀分散物に含ま
れる有機酸銀粒子は平均短径0.04μm、平均長径0.8μ
m、変動係数30%の針状粒子であった。粒子サイズの測定
は、Malvern Instruments Ltd.製MasterSizerXにて行っ
た。冷却操作は蛇管式熱交換器をインタラクションチャ
ンバーの前後に各々装着し、冷媒の温度を調節すること
で所望の分散温度に設定した。こうして、ベヘン酸銀含
有率85モル%の有機酸銀Aを調製した。
[0253] Next, the pre-dispersed stock solution of a dispersing machine (trade name: Microfluidizer M-110S-EH, Microfluidex International Corporation, G 1 0Z interaction chamber) the pressure of the 1750kg / cm 2 The mixture was adjusted and treated three times to obtain an organic acid silver dispersion A. The organic acid silver particles contained in the organic acid silver dispersion thus obtained have an average minor axis of 0.04 μm and an average major axis of 0.8 μm.
m, needle-like particles having a variation coefficient of 30%. The measurement of the particle size was performed by MasterSizerX manufactured by Malvern Instruments Ltd. In the cooling operation, a coiled heat exchanger was mounted before and after the interaction chamber, and the temperature of the refrigerant was adjusted to a desired dispersion temperature. Thus, organic acid silver A having a silver behenate content of 85 mol% was prepared.

【0254】《1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフ
ェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン(還元剤)の固体微
粒子分散物の調製》1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチ
ルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン20gに対してク
ラレ(株)製MPポリマーのMP-203を3.0gと水77mlを添加
してよく攪拌して、スラリーとして3時間放置した。そ
の後、0.5mmのジルコニアビーズを360g用意してスラリ
ーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1/4Gサンドグラ
インダーミル:アイメックス(株)製)にて3時間分散し
還元剤固体微粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の
80wt%が0.3μm以上1.0μm以下であった。
<< Preparation of Solid Fine Particle Dispersion of 1,1-Bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane (Reducing Agent) >> (Hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane 20g to Kuraray Co., Ltd.MP polymer MP-203 3.0g and water 77ml was added and stirred well, as a slurry Left for 3 hours. After that, 360 g of 0.5 mm zirconia beads are prepared, put into a vessel together with the slurry, and dispersed with a dispersing machine (1 / 4G sand grinder mill: manufactured by IMEX Co., Ltd.) for 3 hours to prepare a solid fine particle dispersion of a reducing agent. did. The particle size is
80 wt% was 0.3 μm or more and 1.0 μm or less.

【0255】《トリブロモメチルフェニルスルホンの固
体微粒子分散物の調製》トリブロモメチルフェニルスル
ホン30gに対してヒドロキシプロピルメチルセルロース
0.5g、化合物C0.5gと、水88.5gを添加し良く攪拌して
スラリーとして3時間放置した。その後、還元剤固体微
粒子分散物の調製と同様にしてトリブロモメチルフェニ
ルスルホンの固体微粒子分散物を調製した。粒子径は、
粒子の80wt%が0.3μm以上1.0μm以下であった。
<< Preparation of Solid Fine Particle Dispersion of Tribromomethylphenyl Sulfone >> 30 g of tribromomethylphenylsulfone was added to hydroxypropylmethylcellulose.
0.5 g, 0.5 g of compound C and 88.5 g of water were added, stirred well, and left as a slurry for 3 hours. Thereafter, a solid fine particle dispersion of tribromomethylphenylsulfone was prepared in the same manner as in the preparation of the reducing agent solid fine particle dispersion. The particle size is
80 wt% of the particles were 0.3 μm or more and 1.0 μm or less.

【0256】《本発明のカブリ防止剤の固体微粒子分散
物の調製》本発明のカブリ防止剤2.5gに対してクラ
レ(株)製MPポリマーのMP-203を1gと水30mlを添加
してよく攪拌して、スラリーとして3時間放置した。そ
の後、還元剤固体微粒子分散物の調製と同様にして、本
発明のカブリ防止剤の固体微粒子分散物を調製した。粒
子径は、粒子の80wt%が0.3μm以上1.0μm以下であっ
た。
<< Preparation of dispersion of solid fine particles of antifoggant of the present invention >> To 2.5 g of the antifoggant of the present invention, 1 g of MP-203 of MP polymer manufactured by Kuraray Co., Ltd. and 30 ml of water were added. The mixture was well stirred and left as a slurry for 3 hours. Thereafter, a solid fine particle dispersion of the antifoggant of the present invention was prepared in the same manner as in the preparation of the reducing agent solid fine particle dispersion. As for the particle diameter, 80 wt% of the particles were 0.3 μm or more and 1.0 μm or less.

【0257】《本発明の硬調化剤の固体微粒子水分散
物、および有機溶媒溶液の調製》 <添加方法A/メタノール溶液>硬調化剤5gをメタノー
ル10ccに溶解した。 <添加方法B/固体微粒子水分散物>硬調化剤5gに対し
てポリビニルアルコール(商品名:PVA-217)2.5g、化合
物C0.5gと、水92gを添加し良く攪拌してスラリーとし
て3時間放置した。その後、還元剤固体微粒子分散物の
調製と同様にして硬調化剤の固体微粒子分散液を調製し
た。粒子径は、粒子の80wt%が0.3μm以上1.0μm以下で
あった(平均粒子径0.5μm )。
<< Preparation of Aqueous Dispersion of Solid Fine Particles of Organic Hardener of the Present Invention and Organic Solvent Solution >><Addition Method A / Methanol Solution> 5 g of the hardener was dissolved in 10 cc of methanol. <Addition method B / aqueous dispersion of solid fine particles> 2.5 g of polyvinyl alcohol (trade name: PVA-217), 0.5 g of compound C, and 92 g of water are added to 5 g of a contrast agent, and the mixture is stirred well and converted into a slurry for 3 hours. I left it. Thereafter, a solid fine particle dispersion of a high contrast agent was prepared in the same manner as in the preparation of the reducing agent solid fine particle dispersion. As for the particle diameter, 80% by weight of the particles was 0.3 μm or more and 1.0 μm or less (average particle diameter 0.5 μm).

【0258】《乳剤層塗布液の調製》上記で作成した有
機酸銀微結晶分散物の銀1モルに対して、以下のバイン
ダー、素材、およびハロゲン化銀乳剤Aを添加して、水
を加えて、乳剤層塗布液とした。 バインダー;ラックスター3307B 固形分として 470g (大日本インキ化学工業(株)製;SBRラテックスでガラス転移温度17℃) 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン 固形分として 110g トリブロモメチルフェニルスルホン 固形分として 25g ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 0.1g ポリビニルアルコール(クラレ(株)製MP-203) 46g 6-iso-ブチルフタラジン 0.12mol 染料A 0.62g ハロゲン化銀乳剤A Ag量として0.05mol 本発明の硬調化剤 表5に添加方法、種類、量(化合物として)を記載 本発明のカブリ防止剤 表5に種類、量(化合物として)を記載
<< Preparation of Emulsion Layer Coating Solution >> The following binder, material, and silver halide emulsion A were added to 1 mol of silver of the organic acid silver microcrystal dispersion prepared above, and water was added. Thus, an emulsion layer coating solution was obtained. Binder; Luck Star 3307B 470 g as solids (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc .; glass transition temperature of 17 ° C. with SBR latex) 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5 , 5-Trimethylhexane 110g as solid content Tribromomethylphenylsulfone 25g as solid content Sodium benzenethiosulfonate 0.1g Polyvinyl alcohol (MP-203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 46g 6-iso-butylphthalazine 0.12mol Dye A 0.62 g Silver halide emulsion A 0.05 mol as Ag content Hardener of the present invention Table 5 shows addition method, type and amount (as compound) Antifoggant of the present invention Table 5 shows type and amount (as compound)

【0259】[0259]

【化25】 Embedded image

【0260】《乳剤面保護層塗布液の調製》固形分27.5
wt%のポリマーラテックス(メチルメタクリレート/ス
チレン/2-エチルヘキシルアクリレート/2-ヒドロキシ
エチルメタクリレート/アクリル酸=59/9/26/5/1
の共重合体でガラス転移温度55℃)109gにH2O 3.75gを
加え、造膜助剤としてベンジルアルコール4.5g、化合物
D 0.45g、化合物E 0.125g、化合物F 0.0125モ
ル、およびポリビニルアルコール(クラレ(株)製,PVA-
217)0.225gを加え、さらにH2Oを加えて、150gとし、塗
布液とした。
<< Preparation of Coating Solution for Emulsion Surface Protective Layer >> Solid Content 27.5
wt% polymer latex (methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 59/9/26/5/1
3.75 g of H 2 O was added to 109 g of a copolymer of the following, and 4.5 g of benzyl alcohol, 0.45 g of compound D, 0.125 g of compound E, 0.0125 mol of compound F, and 0.0125 mol of polyvinyl alcohol (49 g) were added as film forming aids. PVA-, manufactured by Kuraray Co., Ltd.
217) 0.225 g was added, and further H 2 O was added to make 150 g, thereby obtaining a coating solution.

【0261】[0261]

【化26】 Embedded image

【0262】《バック/下塗り層のついたPET支持体の
作成》 (1)支持体 テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従
い、IV(固有粘度)=0.66(フェノール/テトラクロル
エタン=6/4(重量比)中25℃で測定)のPETを得
た。これをペレット化した後、130℃で4時間乾燥し、3
00℃で溶融後T型ダイから押し出して急冷し、熱固定後
の膜厚が120μmになるような厚みの未延伸フイルムを
作成した。
<< Preparation of PET Support with Back / Undercoat Layer >> (1) Support Using terephthalic acid and ethylene glycol, IV (intrinsic viscosity) = 0.66 (phenol / tetrachloroethane = 6 / 4 (measured at 25 ° C. in weight ratio). After pelletizing this, it was dried at 130 ° C for 4 hours,
After being melted at 00 ° C., the film was extruded from a T-die and quenched to prepare an unstretched film having a thickness of 120 μm after heat setting.

【0263】これを周速の異なるロールを用い、3.3倍
に縦延伸、ついでテンターで4.5倍に横延伸を実施し
た。このときの温度はそれぞれ、110℃、130℃であっ
た。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温度で
横方向に4%緩和した。この後、テンターのチャック部を
スリットした後、両端にナール加工を行い、4.8kg/cm2
で巻きとった。このようにして、幅2.4m、長さ3500m、
厚み120μmのロールを得た。
This was longitudinally stretched 3.3 times using rolls having different peripheral speeds, and then horizontally stretched 4.5 times using a tenter. The temperatures at this time were 110 ° C. and 130 ° C., respectively. After that, it was heat-set at 240 ° C. for 20 seconds and relaxed 4% in the lateral direction at the same temperature. Then, after slitting the chuck part of the tenter, knurling is performed on both ends, and 4.8 kg / cm 2
Rolled up. In this way, width 2.4m, length 3500m,
A roll having a thickness of 120 μm was obtained.

【0264】 (2)下塗り層(a) ポリマーラテックス− スチレン/ブタジエン/ヒドロキシエチルメタクリレート/ジビニルベンゼン =67/30/2.5/0.5(重量%) 160mg/m2 2,4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-s-トリアジン 4mg/m2 マット剤(ポリスチレン、平均粒子径2.4μm) 3mg/m2 [0264] (2) Undercoat layer (a) Polymer latex - styrene / butadiene / hydroxyethyl methacrylate / divinylbenzene = 67/30 / 2.5 / 0.5 (wt%) 160 mg / m 2 2,4-dichloro-6-hydroxy - s-Triazine 4mg / m 2 Matting agent (polystyrene, average particle size 2.4μm) 3mg / m 2

【0265】 (3)下塗り層(b) アルカリ処理ゼラチン (Ca2+含量30ppm、ゼリー強度230g) 50mg/m2 染料A 780nmの光学濃度が1.0になる塗布量(3) Undercoat layer (b) Alkali-treated gelatin (Ca 2+ content: 30 ppm, jelly strength: 230 g) 50 mg / m 2 Dye A Coating amount at which the optical density of 780 nm becomes 1.0

【0266】 (4)導電層 ジュリマーET-410(日本純薬(株)製) 96mg/m2 ゼラチン 50mg/m2 化合物A 0.2mg/m2 ポリオキシエチレンフェニルエーテル 10mg/m2 スミテックスレジンM-3 18mg/m2 (水溶性メラミン化合物 住友化学工業(株)製) 染料A 780nmの光学濃度が1.0になる塗布量 SnO2/Sb(9/1重量比、針状微粒子、長軸/短軸=20〜30;石原産業(株)製) 120mg/m2 マット剤(ポリメチルメタクリレート、平均粒子径5μm) 7mg/m2 (4) Conductive layer Julimer ET-410 (manufactured by Nippon Pure Chemical Co., Ltd.) 96 mg / m 2 Gelatin 50 mg / m 2 Compound A 0.2 mg / m 2 Polyoxyethylene phenyl ether 10 mg / m 2 Sumitex Resin M -3 18mg / m 2 (Water-soluble melamine compound manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Dye A Coating amount at which optical density of 780 nm becomes 1.0 SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, needle-like fine particles, long axis / short axis) Axis = 20-30; manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 120 mg / m 2 Matting agent (polymethyl methacrylate, average particle size 5 μm) 7 mg / m 2

【0267】 (5)保護層 ポリマーラテックス− メチルメタクリレート/スチレン/2−エチルヘキシルアクリレート/ 2−ヒドロキシエチルメタクリレート/アクリル酸 =59/9/26/5/1(重量%の共重合体) 1000mg/m2 ポリスチレンスルホン酸塩(分子量1000〜5000) 2.6mg/m2 セロゾール524(中央油脂(株)製) 30mg/m2 スミテックスレジンM-3 218mg/m2 (水溶性メラミン化合物、住友化学工業(株)製)(5) Protective layer Polymer latex-methyl methacrylate / styrene / 2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylic acid = 59/9/26/5/1 (weight% copolymer) 1000 mg / m 2 Polystyrene sulfonate (Molecular weight 1000-5000) 2.6 mg / m 2 Cellosol 524 (manufactured by Chuo Yushi Co., Ltd.) 30 mg / m 2 Sumitex Resin M-3 218 mg / m 2 (Water-soluble melamine compound, Sumitomo Chemical ( Co., Ltd.)

【0268】支持体の片面に下塗り層(a)と下塗り層(b)
を順次塗布し、それぞれ180℃、4分間乾燥した。つい
で、下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布した反対側の面に
導電層と保護層を順次塗布し、それぞれ180℃、30秒間
乾燥してバック/下塗り層のついたPET支持体を作成し
た。
The undercoat layer (a) and the undercoat layer (b) are formed on one side of the support.
Were sequentially applied and dried at 180 ° C. for 4 minutes. Then, a conductive layer and a protective layer are sequentially coated on the opposite side to which the undercoat layer (a) and the undercoat layer (b) have been applied, and dried at 180 ° C. for 30 seconds, respectively, for a PET support having a back / undercoat layer. It was created.

【0269】このようにして作成したバック/下塗り層
のついたPET支持体を150℃に設定した全長30mの熱処理
ゾーンに入れ、張力1.4kg/cm2、搬送速度20m/分で自重
搬送した。その後、40℃のゾーンに15秒間通し、10kg/c
m2の巻き取り張力で巻き取った。
The PET support provided with the back / undercoat layer thus prepared was placed in a heat treatment zone having a total length of 30 m set at 150 ° C., and was transported under its own weight at a tension of 1.4 kg / cm 2 and a transfer speed of 20 m / min. After that, pass through the 40 ° C zone for 15 seconds, 10kg / c
The film was wound with a winding tension of m 2 .

【0270】《熱現像感光材料の調製》前記バック/下
塗り層のついたPET支持体の下塗り層の上に前記の乳剤
層塗布液を塗布銀量1.6g/m2になるように塗布した。さ
らにその上に、前記乳剤面保護層塗布液をポリマーラテ
ックスの固形分の塗布量が2.0g/m2になるように塗布し
た。
<< Preparation of Photothermographic Material >> The above-mentioned emulsion layer coating solution was coated on the undercoat layer of the PET support having the back / undercoat layer so that the coating amount of silver was 1.6 g / m 2 . Further, the coating liquid for the emulsion surface protective layer was applied thereon so that the coating amount of the solid content of the polymer latex was 2.0 g / m 2 .

【0271】《写真性能の評価》 (露光処理)得られた塗布サンプルを780nmにピークを有
する干渉フィルターおよびステップウェッジを介して、
発光時間10-6秒のキセノンフラッシュ光で露光した。
<< Evaluation of Photographic Performance >> (Exposure Processing) The obtained coated sample was passed through an interference filter having a peak at 780 nm and a step wedge.
Exposure was performed with xenon flash light having an emission time of 10-6 seconds.

【0272】(熱現像処理)図1の熱現像機を、特開平7
−13294号の図3に記載の熱現像機と同様の構造
で、熱源を2種類並べた構造のものを作成して、連続し
て2段階の加熱ができるようにした。露光済みのサンプ
ルを、この熱現像機を用いて以下の熱現像処理を行っ
た。105℃10秒処理(画像が出ない条件)後、12
0℃22秒処理。
(Heat Developing Process) The heat developing machine shown in FIG.
No.-13294 having a structure similar to that of the heat developing machine shown in FIG. 3 in which two types of heat sources are arranged, so that two-stage heating can be performed continuously. The exposed sample was subjected to the following thermal development processing using this thermal developing machine. After treatment at 105 ° C. for 10 seconds (condition under which no image appears), 12
Treatment at 0 ° C for 22 seconds.

【0273】(写真性能の評価)得られた画像の評価をマ
クベスTD904濃度計(可視濃度)により行った。測定の結
果は、カブリ(Dmin)、階調(コントラスト)で評価し
た。コントラストは露光量の対数を横軸として、濃度0.
3と3.0の点を結ぶ直線の傾きで表した。
(Evaluation of Photographic Performance) The obtained images were evaluated by Macbeth TD904 densitometer (visible density). The measurement results were evaluated by fog (Dmin) and gradation (contrast). Contrast is expressed as the logarithm of the exposure amount on the horizontal axis, and the density is 0.
Expressed by the slope of the line connecting points 3 and 3.0.

【0274】(乳剤層塗布液の経時安定性の評価)乳剤層
塗布液を完成後、30℃、10時間経時した後、同様に
感光材料を作成した。このサンプルについて同様に熱現
像処理、写真性能(カブリ、階調)の評価を行った。実
用的には、乳剤層塗布液の経時の有無に関らず、カブリ
値は0.15以下、階調は15以上である必要がある。
結果を表5に示す。経時の無いものをフレッシュとして
表す。
(Evaluation of Stability of Emulsion Layer Coating Solution with Time) After the completion of the emulsion layer coating solution, the mixture was aged at 30 ° C. for 10 hours, and a photographic material was similarly prepared. This sample was similarly evaluated for heat development and photographic performance (fog, gradation). Practically, the fog value must be 0.15 or less and the gradation must be 15 or more, regardless of the aging of the emulsion layer coating solution.
Table 5 shows the results. Those without aging are expressed as fresh.

【0275】[0275]

【表5】 [Table 5]

【0276】(結果)本発明の化合物を組み合わせて使
用することにより、超硬調性を満足しながら、乳剤層塗
布液安定性の高い熱現像感光材料が得られた。また、式
(A1)〜式(A3)の化合物と式(H)の化合物とを
併用することによって、これらの化合物の使用量を減少
させることができることがわかった。
(Results) By using the compounds of the present invention in combination, a photothermographic material having high emulsion layer coating solution stability while satisfying super-high contrast property was obtained. It was also found that the combined use of the compounds of the formulas (A1) to (A3) and the compound of the formula (H) can reduce the amount of these compounds used.

【0277】[0277]

【発明の効果】本発明によれば、乳剤層塗布液安定性が
高く、低カブリで硬調な熱現像感光材料が得られる。
According to the present invention, a photothermographic material having high stability in the coating solution of the emulsion layer, low fog and high contrast can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に用いる熱現像機の一構成例を示す側面
図である。
FIG. 1 is a side view showing a configuration example of a heat developing machine used in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ハロゲンランプ 2 ヒートドラム 3 送りローラー 4 エンドレスベルト 5 熱現像感光材料 6 出口 7 ガイド板 8 送りローラー対 9 平面ガイド板 10 送りローラー対 11 冷却ファン REFERENCE SIGNS LIST 1 halogen lamp 2 heat drum 3 feed roller 4 endless belt 5 photothermographic material 6 exit 7 guide plate 8 feed roller pair 9 flat guide plate 10 feed roller pair 11 cooling fan

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体の少なくとも一方の面上に、
(a)感光性ハロゲン化銀、(b)還元可能な銀塩、
(c)還元剤、(d)バインダー、および(e)式
(1)で表わされるカブリ防止剤を有する熱現像感光材
料の製造方法であって、 式(A1)、式(A2)、式(A3)、および式(H)
で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物
を含有させる際、前記化合物を水分散物として塗布液に
添加することを特徴とする熱現像感光材料の製造方法。 【化1】 [式(1)において、Mは水素原子またはk価の陽イオ
ンを表し、Rは置換基を表す。nは1〜4の整数で、n
≧2の時、複数個あるRは、同一でも異なっていてもよ
い。kは1以上の整数であり、Mが水素原子の時k=1
である。] 【化2】 【化3】 【化4】 [式(A1)において、R1、R2およびR3は、それぞれ
独立に水素原子または置換基を表し、Zは電子吸引性基
を表す。式(A1)において、R1とZ、R2とR3、R1
2、およびR3とZは、それぞれ互いに結合して環状構
造を形成していてもよい。式(A2)において、R4は、
置換基を表す。式(A3)において、XおよびYは、それ
ぞれ独立に水素原子または置換基を表し、AおよびB
は、それぞれ独立にアルコキシ基、アルキルチオ基、ア
ルキルアミノ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、
アニリノ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環チオ基、また
はヘテロ環アミノ基を表す。式(A3)において、XとY
およびAとBは、それぞれ互いに結合して環状構造を形
成していてもよい。] 【化5】 [式(H)において、R20は脂肪族基、芳香族基、また
はヘテロ環基を表し、R10は水素原子またはブロック基
を表し、G1は−CO−、−COCO−、−C(=S)
−、−SO2−、−SO−、−PO(R30)−基(R30
10に定義した基と同じ範囲内より選ばれ、R10と異な
っていてもよい。)、またはイミノメチレン基を表す。
1およびA2はそれぞれ水素原子、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、またはアシル基を表し、A
1およびA2のなかの少なくとも一方は水素原子である。
1は0または1であり、m1が0の時、R10は脂肪族
基、芳香族基、またはヘテロ環基を表す。]
1. The method according to claim 1, wherein on at least one surface of the support,
(A) a photosensitive silver halide, (b) a reducible silver salt,
A method for producing a photothermographic material comprising (c) a reducing agent, (d) a binder, and (e) an antifoggant represented by the formula (1), wherein the formula (A1), the formula (A2), the formula (A) A3) and the formula (H)
Wherein at least one compound selected from the compounds represented by formula (1) is contained, the compound is added as an aqueous dispersion to a coating solution. Embedded image [In the formula (1), M represents a hydrogen atom or a k-valent cation, and R represents a substituent. n is an integer of 1 to 4;
When ≧ 2, a plurality of Rs may be the same or different. k is an integer of 1 or more, and when M is a hydrogen atom, k = 1
It is. ] Embedded image Embedded image [In the formula (A1), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Z represents an electron-withdrawing group. In the formula (A1), R 1 and Z, R 2 and R 3 , R 1 and R 2 , and R 3 and Z may be mutually bonded to form a cyclic structure. In the formula (A2), R 4 is
Represents a substituent. In the formula (A3), X and Y each independently represent a hydrogen atom or a substituent;
Are each independently an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylamino group, an aryloxy group, an arylthio group,
Represents an anilino group, a heterocyclic oxy group, a heterocyclic thio group, or a heterocyclic amino group. In the formula (A3), X and Y
And A and B may be bonded to each other to form a cyclic structure. ] [In the formula (H), R 20 represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group, R 10 represents a hydrogen atom or a block group, and G 1 represents -CO-, -COCO-, -C ( = S)
-, - SO 2 -, - SO -, - PO (R 30) - group (. R 30 is selected from the same range as the groups defined in R 10, may be different from R 10), or imino Represents a methylene group.
A 1 and A 2 each represent a hydrogen atom, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, or an acyl group;
At least one of among 1 and A 2 are hydrogen atoms.
m 1 is 0 or 1, and when m 1 is 0, R 10 represents an aliphatic group, an aromatic group, or a heterocyclic group. ]
【請求項2】 式(A1)、式(A2)、および式(A
3)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化
合物、ならびに式(H)で表される少なくとも1種の化
合物の双方を水分散物として塗布液に添加する熱現像感
光材料の製造方法。
2. The formula (A1), the formula (A2), and the formula (A)
A method for producing a photothermographic material, wherein both of at least one compound selected from the compounds represented by the formula (3) and at least one compound represented by the formula (H) are added to a coating solution as an aqueous dispersion.
【請求項3】 式(A1)、式(A2)、式(A3)、
および式(H)で表される化合物から選ばれる少なくと
も1種の化合物が固体微粒子分散状態で水分散物中に含
有される請求項1または2の熱現像感光材料の製造方
法。
3. The formula (A1), the formula (A2), the formula (A3),
3. The method for producing a photothermographic material according to claim 1, wherein at least one compound selected from the group consisting of and a compound represented by the formula (H) is contained in the aqueous dispersion in the form of solid fine particles dispersed therein.
【請求項4】 式(A1)、式(A2)、および式(A
3)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化
合物、ならびに式(H)で表される少なくとも1種の化
合物の双方が固体微粒子分散状態で水分散物中に含有さ
れる請求項1〜3のいずれかの熱現像感光材料の製造方
法。
4. The formula (A1), the formula (A2), and the formula (A)
At least one compound selected from the compounds represented by the formula (3) and at least one compound represented by the formula (H) are both contained in an aqueous dispersion in a solid fine particle dispersed state. 3. The method for producing a photothermographic material according to any one of 3.
【請求項5】 感光性ハロゲン化銀を含有する画像形成
層を有し、この画像形成層のバインダーの50重量%以
上としてポリマーラテックスを用いており、溶媒の60
重量%以上が水である塗布液を用いて画像形成層を塗布
し形成する請求項1〜4のいずれかの熱現像感光材料の
製造方法。
5. An image forming layer containing a photosensitive silver halide, wherein a polymer latex is used as 50% by weight or more of a binder of the image forming layer, and 60% of a solvent is used.
The method for producing a photothermographic material according to any one of claims 1 to 4, wherein the image forming layer is formed by applying a coating liquid containing water in an amount of not less than water by weight.
JP10376544A 1998-12-24 1998-12-24 Production of heat developable photosensitive material Pending JP2000194090A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10376544A JP2000194090A (en) 1998-12-24 1998-12-24 Production of heat developable photosensitive material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10376544A JP2000194090A (en) 1998-12-24 1998-12-24 Production of heat developable photosensitive material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000194090A true JP2000194090A (en) 2000-07-14

Family

ID=18507320

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10376544A Pending JP2000194090A (en) 1998-12-24 1998-12-24 Production of heat developable photosensitive material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000194090A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015010175A (en) * 2013-06-28 2015-01-19 キヤノン株式会社 Pigment-dispersing method, toner-producing method, pigment dispersant, pigment-dispersed liquid
JP2017072691A (en) * 2015-10-06 2017-04-13 東京応化工業株式会社 Resist composition, resist pattern forming method, compound, and acid diffusion control agent

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015010175A (en) * 2013-06-28 2015-01-19 キヤノン株式会社 Pigment-dispersing method, toner-producing method, pigment dispersant, pigment-dispersed liquid
JP2017072691A (en) * 2015-10-06 2017-04-13 東京応化工業株式会社 Resist composition, resist pattern forming method, compound, and acid diffusion control agent

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH11282128A (en) Heat-developable photosensitive material
JPH11282123A (en) Heat-developable photosensitive material
JP2000035631A (en) Heat-developable photosensitive material
JPH11295845A (en) Heat-developable photosensitive material
JP2000284412A (en) Heat developable photographic material
JP2000112070A (en) Heat-developable photosensitive material
JP3311694B2 (en) Image forming method of photothermographic material
JP2000221634A (en) Heat-developable sensitive material
JPH11327077A (en) Heat developable recording material
JPH1165021A (en) Sensitive heat development image recording material
JP2000206642A (en) Photosensitive heat-developable image forming material
JP2000194090A (en) Production of heat developable photosensitive material
JPH11271920A (en) Photosensitive heat-developable image forming material
JP2000098534A (en) Production of heat developable photosensitive material
JP3817038B2 (en) Photothermographic material
JP2000292887A (en) Heat developable image recording material
JP2000112072A (en) Heat-developable photosensitive material
JPH11316438A (en) Heat developing photosensitive material
JPH11305388A (en) Photosensitive heat developable image forming material
JP2000002964A (en) Photosensitive heat developable image forming material
JPH11327079A (en) Heat developable photosensitive material
JP2000347345A (en) Photosensitive heat-developable image forming material
JPH11231459A (en) Heat-developable recording material
JPH11305382A (en) Photosensitive heat developable recording material
JPH11271919A (en) Photosensitive heat-developable image forming material