JP2000191465A - ヘアスプレイ組成物 - Google Patents
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Landscapes
- Cosmetics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 整髪保持効果が強く、自然に仕上がるヘアス
プレイ組成物ヘアスプレイ組成物を提供する。 【解決手段】 ポリアスパラギン酸誘導体と整髪用両性
高分子を配合することを特徴として、整髪保持効果に優
れ、毛髪を自然に仕上げるヘアスプレイ組成物。
プレイ組成物ヘアスプレイ組成物を提供する。 【解決手段】 ポリアスパラギン酸誘導体と整髪用両性
高分子を配合することを特徴として、整髪保持効果に優
れ、毛髪を自然に仕上げるヘアスプレイ組成物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はヘアスプレイ組成
物、さらに詳しくは、整髪保持効果が強く、自然に仕上
がるヘアスプレイ組成物に関する。
物、さらに詳しくは、整髪保持効果が強く、自然に仕上
がるヘアスプレイ組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、ヘアスプレイ組成物には(1)
整髪保持効果が高いこと、(2)仕上がりが自然であり、
軽い感触であることといった2つの相反する性能が望ま
れており、その性能を満足させるために各種検討が行わ
れてきている。しかし、十分性能を満足させる技術は開
発されていない。
整髪保持効果が高いこと、(2)仕上がりが自然であり、
軽い感触であることといった2つの相反する性能が望ま
れており、その性能を満足させるために各種検討が行わ
れてきている。しかし、十分性能を満足させる技術は開
発されていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような事情に鑑
み、整髪保持効果が強くかつ自然な仕上がりを与えるヘ
アスプレイ組成物を得るべく鋭利研究を重ねた結果、意
外にも、セット性を有する一般的なヘアスプレイ組成物
に使用されている高分子とポリアスパラギン酸誘導体を
配合することで、整髪保持効果に優れ、毛髪に自然な仕
上がりを与えるヘアスプレイ組成物を提供するものであ
る。
み、整髪保持効果が強くかつ自然な仕上がりを与えるヘ
アスプレイ組成物を得るべく鋭利研究を重ねた結果、意
外にも、セット性を有する一般的なヘアスプレイ組成物
に使用されている高分子とポリアスパラギン酸誘導体を
配合することで、整髪保持効果に優れ、毛髪に自然な仕
上がりを与えるヘアスプレイ組成物を提供するものであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、以上のよ
うな問題点を解決すべく鋭意検討し、整髪用両性高分子
とポリアスパラギン酸誘導体を組合せることで、整髪保
持効果に優れ、毛髪を自然に仕上げることを見出し、本
発明を完成するに至った。
うな問題点を解決すべく鋭意検討し、整髪用両性高分子
とポリアスパラギン酸誘導体を組合せることで、整髪保
持効果に優れ、毛髪を自然に仕上げることを見出し、本
発明を完成するに至った。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明に用いるポリアスパラギン
酸誘導体は、重量平均分子量5,000〜500,00
0の高分子であって、下式Aに示すモノマー単位5〜9
5重量%、及び下式B(式B−1、式B−1あるいは式
B−3のいずれか)に示すモノマー単位5〜80重量%
からなる。さらに、この範囲の構成比をもつ高分子のモ
ノマーの総量に対して、下式Cに示すモノマー及び/又
は下式Dに示すモノマーをそれぞれ3〜40重量%含有
させてもよい。 式A(以下、モノマーAと称す。):
酸誘導体は、重量平均分子量5,000〜500,00
0の高分子であって、下式Aに示すモノマー単位5〜9
5重量%、及び下式B(式B−1、式B−1あるいは式
B−3のいずれか)に示すモノマー単位5〜80重量%
からなる。さらに、この範囲の構成比をもつ高分子のモ
ノマーの総量に対して、下式Cに示すモノマー及び/又
は下式Dに示すモノマーをそれぞれ3〜40重量%含有
させてもよい。 式A(以下、モノマーAと称す。):
【0006】
【化7】
【0007】[式中、R1及びR2は、それぞれ水素原子
又は炭素数1〜24のアルキル基、アルキルエーテル
基。アルキルアルコ−ル基の何れかを示す。] 式B(式B−1、B−2あるいは式B−3のいずれか)
(以下、モノマーBと称す。):
又は炭素数1〜24のアルキル基、アルキルエーテル
基。アルキルアルコ−ル基の何れかを示す。] 式B(式B−1、B−2あるいは式B−3のいずれか)
(以下、モノマーBと称す。):
【0008】
【化8】
【0009】
【化9】
【0010】
【化10】
【0011】[式B中、R3は、それぞれ水素原子又は
炭素数1〜6のアルキル基、R4、R5、R6、R7及びR
8は炭素数1〜24のアルキル基の何れかを示す。Xは
塩素、臭素、ヨウ素、炭素数1〜4の硫酸アルキル残基
を示す。] 式C(以下、モノマーCと称す。):
炭素数1〜6のアルキル基、R4、R5、R6、R7及びR
8は炭素数1〜24のアルキル基の何れかを示す。Xは
塩素、臭素、ヨウ素、炭素数1〜4の硫酸アルキル残基
を示す。] 式C(以下、モノマーCと称す。):
【0012】
【化11】
【0013】式D(以下、モノマーDと称す。):
【0014】
【化12】
【0015】[式中、R9は、それぞれ水素原子又は炭
素数1〜6のアルキル基、R10、R11、R12は炭素数1
〜24のアルキル基の何れかを示す。]
素数1〜6のアルキル基、R10、R11、R12は炭素数1
〜24のアルキル基の何れかを示す。]
【0016】又、本発明では、式A 、式B −1、式B −
2、式B −3、式D で示されるモノマ−は、それぞれ下
式の式A1、式B1−1、式B1−2、式B1−3、および
式D1で示されるものをも含むものとする。
2、式B −3、式D で示されるモノマ−は、それぞれ下
式の式A1、式B1−1、式B1−2、式B1−3、および
式D1で示されるものをも含むものとする。
【0017】
【化13】
【0018】
【化14】
【0019】
【化15】
【0020】
【化16】
【0021】
【化17】
【0022】これらポリアスパラギン酸誘導体は、欧州
特許0767191号に記載されている公知の製法によ
り得られたポリコハク酸イミドを出発物質として温度が
0℃〜150℃の溶媒中でイミド環を開化しジアミンや
両性構造を有するアミン類を結合させることにより製造
することができる。これらのポリアスパラギン酸誘導体
は一般的にはエタノール又はエタノール/水混合液など
に希釈されて使用される。
特許0767191号に記載されている公知の製法によ
り得られたポリコハク酸イミドを出発物質として温度が
0℃〜150℃の溶媒中でイミド環を開化しジアミンや
両性構造を有するアミン類を結合させることにより製造
することができる。これらのポリアスパラギン酸誘導体
は一般的にはエタノール又はエタノール/水混合液など
に希釈されて使用される。
【0023】本発明に用いるポリアスパラギン酸誘導体
中のモノマーAの比率は5〜95重量%が好ましく、そ
の比率が5重量%に満たなければ、感触が硬くなりヘア
スプレイの使用感が損なわれ、95重量%を超えると高
分子にベタツキ感が出てくる。また、モノマーBの比率
は、5〜80重量%が好ましく、その比率が5重量%に
満たなければ、高分子の洗い落ち性が悪くなり、また8
0重量%を超えるとセットの保持力が弱くなる。
中のモノマーAの比率は5〜95重量%が好ましく、そ
の比率が5重量%に満たなければ、感触が硬くなりヘア
スプレイの使用感が損なわれ、95重量%を超えると高
分子にベタツキ感が出てくる。また、モノマーBの比率
は、5〜80重量%が好ましく、その比率が5重量%に
満たなければ、高分子の洗い落ち性が悪くなり、また8
0重量%を超えるとセットの保持力が弱くなる。
【0024】さらに、本発明に用いるポリアスパラギン
酸誘導体では、モノマーA及びモノマーBからなる構成
に、モノマーC及び/またはモノマーDを構成モノマー
として加えることができる。
酸誘導体では、モノマーA及びモノマーBからなる構成
に、モノマーC及び/またはモノマーDを構成モノマー
として加えることができる。
【0025】本発明では、これらポリアスパラギン酸誘
導体の1種または2種以上をヘアスプレイ組成物全量に
対して、固形分として0.1〜10重量%配合でき、特
に0.5〜6重量%配合するのが好ましい。その配合量
が0.1重量%未満であると仕上がり感への自然な風合
いの付与効果が十分得られない。また、配合量が10重
量%を超えるとべたつき感が強くなりすぎる。
導体の1種または2種以上をヘアスプレイ組成物全量に
対して、固形分として0.1〜10重量%配合でき、特
に0.5〜6重量%配合するのが好ましい。その配合量
が0.1重量%未満であると仕上がり感への自然な風合
いの付与効果が十分得られない。また、配合量が10重
量%を超えるとべたつき感が強くなりすぎる。
【0026】本発明に用いる両性高分子は特に限定され
るものではないが、ジアルキルアミノエチルメタクリレ
ート重合物のモノクロル酢酸両性化物(例えば三菱化学
製の「ユカフォーマー」)、オクチルアクリルアミド/
ブチルアミノメチルメタクリレート/アクリル酸/アク
リル酸エステル重合物(例えばNSC製の「アンフォマ
ー」)から選ばれるものであり、その配合量は、組成物
全量に基づいて0.5〜6重量%、好ましくは0.5〜
4重量%である。これらの高分子は、必要に応じてアミ
ノメチルプロパノ−ル、水酸化カリウムのようなアルカ
リ剤を用いて、任意の割合で中和してから使用するのが
好ましい。
るものではないが、ジアルキルアミノエチルメタクリレ
ート重合物のモノクロル酢酸両性化物(例えば三菱化学
製の「ユカフォーマー」)、オクチルアクリルアミド/
ブチルアミノメチルメタクリレート/アクリル酸/アク
リル酸エステル重合物(例えばNSC製の「アンフォマ
ー」)から選ばれるものであり、その配合量は、組成物
全量に基づいて0.5〜6重量%、好ましくは0.5〜
4重量%である。これらの高分子は、必要に応じてアミ
ノメチルプロパノ−ル、水酸化カリウムのようなアルカ
リ剤を用いて、任意の割合で中和してから使用するのが
好ましい。
【0027】本発明のヘアスプレイ組成物における、噴
射剤としては液化石油ガス、ジメチルエーテルなどか
ら、1種又は2種以上を選んで用いることができ、その
配合原液と噴射剤の比率は、原液(重量%)/噴射剤
(重量%)で30/70〜80/20が好ましい。ま
た、噴射剤として窒素、炭酸ガスなどの圧縮ガスを用い
る場合のそれは99/1〜99.5/0.5が好まし
い。
射剤としては液化石油ガス、ジメチルエーテルなどか
ら、1種又は2種以上を選んで用いることができ、その
配合原液と噴射剤の比率は、原液(重量%)/噴射剤
(重量%)で30/70〜80/20が好ましい。ま
た、噴射剤として窒素、炭酸ガスなどの圧縮ガスを用い
る場合のそれは99/1〜99.5/0.5が好まし
い。
【0028】本発明のヘアスプレイ組成物には、上記必
須成分の他に、その他の公知成分を効果を損なわない範
囲で添加することができる。例えば、ノニオン性界面活
性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、
両性界面活性剤界面活性剤としては、ノニオン性界面活
性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、
両性界面活性剤があげられる。ノニオン性界面活性剤と
して、ポリオキシエチレンセチルエーテル等のポリオキ
シエチレンアルキルエーテル、モノオレイン酸ポリオキ
シエチレングリコール等のポリオキシエチレン脂肪酸エ
ステル、モノラウリン酸ソルビタン、モノステアリン酸
ポリオキシエチレンソルビタン、テトラオレイン酸ポリ
オキシエチレンソルビット、モノオレイン酸グリセリ
ン、モノステアリン酸ポリオキシエチレングリセリン等
の脂肪酸エステル、及びその他ポリオキシエチレン硬化
ヒマシ油、ショ糖脂肪酸エステル、ヤシ油脂肪酸ジエタ
ノールアミド、アルキルジメチルアミンオキシド、ジメ
チルシロキサン・メチル(ポリオキシエチレン)シロキ
サン共重合体などが例示できる。アルキル4級アンモニ
ウム塩型カチオン性界面活性剤として、塩化セチルトリ
メチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモ
ニウム、塩化ステアリルジメチルベンジルアンモニウ
ム、塩化ステアリルトリメチルアンモウニム、塩化ラウ
リルトリメチルアンモニウム、臭化セチルトリメチルア
ンモニウム等が例示できる。
須成分の他に、その他の公知成分を効果を損なわない範
囲で添加することができる。例えば、ノニオン性界面活
性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、
両性界面活性剤界面活性剤としては、ノニオン性界面活
性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、
両性界面活性剤があげられる。ノニオン性界面活性剤と
して、ポリオキシエチレンセチルエーテル等のポリオキ
シエチレンアルキルエーテル、モノオレイン酸ポリオキ
シエチレングリコール等のポリオキシエチレン脂肪酸エ
ステル、モノラウリン酸ソルビタン、モノステアリン酸
ポリオキシエチレンソルビタン、テトラオレイン酸ポリ
オキシエチレンソルビット、モノオレイン酸グリセリ
ン、モノステアリン酸ポリオキシエチレングリセリン等
の脂肪酸エステル、及びその他ポリオキシエチレン硬化
ヒマシ油、ショ糖脂肪酸エステル、ヤシ油脂肪酸ジエタ
ノールアミド、アルキルジメチルアミンオキシド、ジメ
チルシロキサン・メチル(ポリオキシエチレン)シロキ
サン共重合体などが例示できる。アルキル4級アンモニ
ウム塩型カチオン性界面活性剤として、塩化セチルトリ
メチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモ
ニウム、塩化ステアリルジメチルベンジルアンモニウ
ム、塩化ステアリルトリメチルアンモウニム、塩化ラウ
リルトリメチルアンモニウム、臭化セチルトリメチルア
ンモニウム等が例示できる。
【0029】アニオン性界面活性剤としてラウリル硫酸
トリエタノールアミン、セチル硫酸ナトリウム、ラウリ
ル硫酸ナトリウム、ミリスチル硫酸ナトリウム等のアル
キル硫酸塩。ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸
トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンラウリルエ
ーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンココイルエ
ーテル硫酸トリエタノールアミン等のアルキルエーテル
硫酸塩。N−ステアロイル−L−グルタミン酸ナトリウ
ム、N−ミリストイル−L−グルタミン酸ナトリウム、
N−ラウロイル−L−グルタミン酸ナトリウム等のアシ
ルグルタミン酸塩。ラウロイルザルコシンナトリウム、
ラウロイルメチルタウリンナトリウム等のアシルアミノ
酸塩。ポリオキシエチレンココイルスルホコハク酸ナト
リウム、ポリオキシエチレンステアリルアミドスルホコ
ハク酸トリエタノールアミン等のスルホコハク酸塩。ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸ナト
リウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンオレ
イルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンオレイルエー
テルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンステアリル
エーテルリン酸、ポリオキシエチレンセチルエーテルリ
ン酸、ポリオキシエチレンセチルエーテルリン酸ナトリ
ウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテルリン酸ナトリウム等
のアルキルエーテルリン酸塩、パルミチン酸ナトリウ
ム、ミリスチン酸ナトリウム等の脂肪酸塩等を用いるこ
とができる。
トリエタノールアミン、セチル硫酸ナトリウム、ラウリ
ル硫酸ナトリウム、ミリスチル硫酸ナトリウム等のアル
キル硫酸塩。ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸
トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンラウリルエ
ーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンココイルエ
ーテル硫酸トリエタノールアミン等のアルキルエーテル
硫酸塩。N−ステアロイル−L−グルタミン酸ナトリウ
ム、N−ミリストイル−L−グルタミン酸ナトリウム、
N−ラウロイル−L−グルタミン酸ナトリウム等のアシ
ルグルタミン酸塩。ラウロイルザルコシンナトリウム、
ラウロイルメチルタウリンナトリウム等のアシルアミノ
酸塩。ポリオキシエチレンココイルスルホコハク酸ナト
リウム、ポリオキシエチレンステアリルアミドスルホコ
ハク酸トリエタノールアミン等のスルホコハク酸塩。ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸、ポ
リオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸ナト
リウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンオレ
イルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンオレイルエー
テルリン酸ナトリウム、ポリオキシエチレンステアリル
エーテルリン酸、ポリオキシエチレンセチルエーテルリ
ン酸、ポリオキシエチレンセチルエーテルリン酸ナトリ
ウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテルリン酸ナトリウム等
のアルキルエーテルリン酸塩、パルミチン酸ナトリウ
ム、ミリスチン酸ナトリウム等の脂肪酸塩等を用いるこ
とができる。
【0030】両性界面活性剤として、ラウリルジメチル
アミノ酢酸ベタイン等のN,N−ジメチル−N−アルキ
ル−N−カルボキシメチルアンモニウムベタイン、2−
アルキル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロキシエチ
ルイミダゾリニウムベタイン、N,N−ジアルキルアミ
ノアルキレンアンモニウムベタイン、N,N,N−トリ
アルキル−N−スルホアルキレンアンモニウムベタイ
ン、N,N−ジアルキル−N,N−ビス(ポリオキシエ
チレン硫酸)アンモニウムベタイン、アルキルアミドジ
メチルアミノ酢酸ベタイン等などが例示できる。
アミノ酢酸ベタイン等のN,N−ジメチル−N−アルキ
ル−N−カルボキシメチルアンモニウムベタイン、2−
アルキル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロキシエチ
ルイミダゾリニウムベタイン、N,N−ジアルキルアミ
ノアルキレンアンモニウムベタイン、N,N,N−トリ
アルキル−N−スルホアルキレンアンモニウムベタイ
ン、N,N−ジアルキル−N,N−ビス(ポリオキシエ
チレン硫酸)アンモニウムベタイン、アルキルアミドジ
メチルアミノ酢酸ベタイン等などが例示できる。
【0031】また、ヘアスプレイ組成物用高分子として
は両性高分子以外の高分子、さらに、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコー
ル、グリセリン、ソルビトールなどの保湿剤、流動パラ
フィン、ワセリン、固形パラフィン、スクワラン、オレ
フィンオリゴマー等の炭化水素、セチルアルコール、ス
テアリルアルコール等の高級アルコール、イソプロピル
ミリステート、ステアリルステアレート、オレイン酸オ
クチルドデシル、等のエステル、感触向上剤、生薬等の
薬剤、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロース、カチオン化セルロ
ース等のセルロース誘導体、リン脂質、蛋白質、蛋白分
解物及び蛋白質誘導体、シリコン油及び高重合メチルポ
リシロキサン、有機シリコーン樹脂及び変性シリコーン
などのシリコン誘導体、ムコ多糖類、防腐剤、植物抽出
液、pH調製剤、香料等を必要に応じて配合できる
は両性高分子以外の高分子、さらに、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコー
ル、グリセリン、ソルビトールなどの保湿剤、流動パラ
フィン、ワセリン、固形パラフィン、スクワラン、オレ
フィンオリゴマー等の炭化水素、セチルアルコール、ス
テアリルアルコール等の高級アルコール、イソプロピル
ミリステート、ステアリルステアレート、オレイン酸オ
クチルドデシル、等のエステル、感触向上剤、生薬等の
薬剤、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロース、カチオン化セルロ
ース等のセルロース誘導体、リン脂質、蛋白質、蛋白分
解物及び蛋白質誘導体、シリコン油及び高重合メチルポ
リシロキサン、有機シリコーン樹脂及び変性シリコーン
などのシリコン誘導体、ムコ多糖類、防腐剤、植物抽出
液、pH調製剤、香料等を必要に応じて配合できる
【0032】
【実施例】次に、実施例および比較例を挙げて本発明を
さらに詳しく説明する。以下の実施例および比較例にお
いて、[%]はいずれも重量%を意味する。また、言う
までもなく本発明はこれら実施例に限られるものではな
い。以下、下記に示すポリアスパラギン酸誘導体を用い
て検討、評価した。ポリアスパラギン酸誘導体のモノマ
ー構成比及び重量平均分子量を示す。
さらに詳しく説明する。以下の実施例および比較例にお
いて、[%]はいずれも重量%を意味する。また、言う
までもなく本発明はこれら実施例に限られるものではな
い。以下、下記に示すポリアスパラギン酸誘導体を用い
て検討、評価した。ポリアスパラギン酸誘導体のモノマ
ー構成比及び重量平均分子量を示す。
【0033】参考例1 式A:式中( R1=H、R2=(CH2)11CH3 )、
50重量% 式B(B−1):式中( R3=H、R4=(CH2)3、
R5,,R6=CH3 、R7=CH2 )、30重量% 式C:20重量% (重量平均分子量)50,000 20%エタノー
ル溶液である。
50重量% 式B(B−1):式中( R3=H、R4=(CH2)3、
R5,,R6=CH3 、R7=CH2 )、30重量% 式C:20重量% (重量平均分子量)50,000 20%エタノー
ル溶液である。
【0034】参考例2 (モノマー構成比) 式A:式中( R1=H、R2=CH(C2H5)(C
H2)4CH3 )、50重量% 式B(B−1):式中( R3=H、R4=(CH2)4、
R5,R6=CH3 、R7=(CH2)2 )、30重量% 式C:20重量% (重量平均分子量)50,000
H2)4CH3 )、50重量% 式B(B−1):式中( R3=H、R4=(CH2)4、
R5,R6=CH3 、R7=(CH2)2 )、30重量% 式C:20重量% (重量平均分子量)50,000
【0035】参考例3 (モノマー構成比) 式A:式中( R1=H、R2=(CH2)11CH3 )、
50重量% 式B(B−1):式中( R3=H、R4=(CH2)2、
R5,R6=CH3 、R7=CH2 )、10重量% 式D:式中( R9=H、R10=(CH2)2、R11,R
12=(CH2)3CH3)、40重量% (重量平均分子量)60,000
50重量% 式B(B−1):式中( R3=H、R4=(CH2)2、
R5,R6=CH3 、R7=CH2 )、10重量% 式D:式中( R9=H、R10=(CH2)2、R11,R
12=(CH2)3CH3)、40重量% (重量平均分子量)60,000
【0036】参考例4 (モノマー構成比) 式A:式中( R1=H、R2=(CH2)8CH=CH
(CH2)7CH3 )、50重量% 式B(B−1):式中( R3=H、R4=(CH2)2、
R5,R6=CH3 、R7=CH2 )、40重量% 式C:10重量% (重量平均分子量)35,000
(CH2)7CH3 )、50重量% 式B(B−1):式中( R3=H、R4=(CH2)2、
R5,R6=CH3 、R7=CH2 )、40重量% 式C:10重量% (重量平均分子量)35,000
【0037】参考例5 (モノマー構成比) 式A:( R1=H、R2=(CH2)8OCH2CH(C2
H5)(CH2)3CH3)、50重量% 式B(B−3):( R3=H、R4=(CH2)3、
R5,R6=CH2CH3 、R7=CH3、X=Cl )、
5重量% 式C:10重量% 式D:( R9=H、R10=(CH2)3、R11,R12=
(CH2)3CH3 )、35重量% (重量平均分子量)100,000
H5)(CH2)3CH3)、50重量% 式B(B−3):( R3=H、R4=(CH2)3、
R5,R6=CH2CH3 、R7=CH3、X=Cl )、
5重量% 式C:10重量% 式D:( R9=H、R10=(CH2)3、R11,R12=
(CH2)3CH3 )、35重量% (重量平均分子量)100,000
【0038】参考例6 (モノマー構成比) 式A:( R1=H、R2=(CH2)8CH=CH(CH
2)7CH3 )、50重量% 式B(B−2):( R3=H、R4=(CH2)2、
R5、R6=CH3、R7=CH2、R8=CH2CH3 )、
40重量% 式C:10重量% (重量平均分子量)10,000
2)7CH3 )、50重量% 式B(B−2):( R3=H、R4=(CH2)2、
R5、R6=CH3、R7=CH2、R8=CH2CH3 )、
40重量% 式C:10重量% (重量平均分子量)10,000
【0039】
【実施例】表1の実施例および比較例を調製して、以下
に示す方法で整髪保持効果をセット性持続効果として示
し、毛髪の自然性を評価した。評価方法を示す。 (1)セット性保持効果 専門パネル10名により約2gの試料を毛髪に塗布し、
8時間後に次の基準でセット性を評価した。 評価基準 ◎:10名全員が、セット性が強いと認めた。 ○:10名中8名が、セット性が強いと認めた。 △:10名中4〜7名が、セット性が強いと認めた。 ×:10名中3名だけが、セット性が強いと認めた。
に示す方法で整髪保持効果をセット性持続効果として示
し、毛髪の自然性を評価した。評価方法を示す。 (1)セット性保持効果 専門パネル10名により約2gの試料を毛髪に塗布し、
8時間後に次の基準でセット性を評価した。 評価基準 ◎:10名全員が、セット性が強いと認めた。 ○:10名中8名が、セット性が強いと認めた。 △:10名中4〜7名が、セット性が強いと認めた。 ×:10名中3名だけが、セット性が強いと認めた。
【0040】(2)毛髪の自然な仕上がり感 専門パネル10名により約3gの試料を毛髪に塗布し、
次の基準で塗布乾燥後のごわつき感、すべり感を評価し
た。 評価基準 ◎:10名全員が、ごわつきがなく、すべりありと認めた。 ○:10名中8名が、ごわつきがなく、すべりありと認めた。 △:10名中4〜7名が、ごわつきがなく、すべりありと認めた 。 ×:10名中3名以下が、ごわつきがなく、すべりありと認めた 。
次の基準で塗布乾燥後のごわつき感、すべり感を評価し
た。 評価基準 ◎:10名全員が、ごわつきがなく、すべりありと認めた。 ○:10名中8名が、ごわつきがなく、すべりありと認めた。 △:10名中4〜7名が、ごわつきがなく、すべりありと認めた 。 ×:10名中3名以下が、ごわつきがなく、すべりありと認めた 。
【0041】(4)総合評価 以下の基準により、総合評価した。
【0042】
【表1】
【0043】表1に結果を示す。表1から明らかなごと
く、本発明品では整髪保持効果に優れ、毛髪を自然に仕
上げるのに対して、比較例では整髪保持効果に優れ、毛
髪を自然に仕上げるものは得られなかった。
く、本発明品では整髪保持効果に優れ、毛髪を自然に仕
上げるのに対して、比較例では整髪保持効果に優れ、毛
髪を自然に仕上げるものは得られなかった。
【0044】
【発明の効果】本願発明によれば、ポリアスパラギン酸
誘導体とヘアスプレイ組成物用両性高分子を含有するこ
とを特徴とするヘアスプレイ組成物は、整髪保持効果に
優れ、毛髪に自然な仕上がり感を付与し、従来にはなか
った優れたヘアスプレイ組成物が提供できる。
誘導体とヘアスプレイ組成物用両性高分子を含有するこ
とを特徴とするヘアスプレイ組成物は、整髪保持効果に
優れ、毛髪に自然な仕上がり感を付与し、従来にはなか
った優れたヘアスプレイ組成物が提供できる。
Claims (2)
- 【請求項1】 (A)下式Aに示すモノマー単位5〜95
重量%、及び下式B(式B−1、式B−2あるいは式B
−3のうちいずれか)に示すモノマー単位5〜80重量
%からなる、重量平均分子量5,000〜500,00
0のポリアスパラギン酸誘導体と(B)と両性高分子か
ら選ばれる少なくとも1種以上を配合することを特徴と
するヘアスプレイ組成物。 式A: 【化1】 [式中、R1及びR2は、それぞれ水素原子又は炭素数1
〜24のアルキル基、アルキルエーテル基、アルキルア
ルコ−ル基の何れかを示す。] 式B(式B−1、B−2あるいはB−3のうちいずれ
か): 【化2】 あるいは 【化3】 あるいは 【化4】 [式B中、R3は、それぞれ水素原子又は炭素数1〜6
のアルキル基、R4、R5、R6、R7及びR8は炭素数1
〜24のアルキル基の何れかを示す。Xは塩素、臭素、
ヨウ素、炭素数1〜4の硫酸アルキル残基を示す。] - 【請求項2】 式A、式B(式B−1、式B−2あるい
は式B−3)のモノマー単位の総量に対して、下式C及
び/又は下式Dに示すモノマー単位を3〜40重量%含
有するポリアスパラギン酸誘導体を配合したことを特徴
とする請求項1に記載のヘアスプレイ組成物。 式C: 【化5】 式D: 【化6】 [式中、R9は、それぞれ水素原子又は炭素数1〜6の
アルキル基、R10、R11、R12は炭素数1〜24のアル
キル基の何れかを示す。]
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10377199A JP2000191465A (ja) | 1998-12-29 | 1998-12-29 | ヘアスプレイ組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10377199A JP2000191465A (ja) | 1998-12-29 | 1998-12-29 | ヘアスプレイ組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000191465A true JP2000191465A (ja) | 2000-07-11 |
Family
ID=18508424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10377199A Pending JP2000191465A (ja) | 1998-12-29 | 1998-12-29 | ヘアスプレイ組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000191465A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002097269A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-04-02 | Mitsui Chemicals Inc | 重合体、毛髪化粧料組成物、香粧品組成物、および泡状エアゾール化粧料組成物 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04368317A (ja) * | 1991-06-13 | 1992-12-21 | Shiseido Co Ltd | 毛髪化粧料 |
| JPH0570330A (ja) * | 1991-09-10 | 1993-03-23 | Kao Corp | 毛髪化粧料 |
| JPH0987151A (ja) * | 1995-09-21 | 1997-03-31 | Kanebo Ltd | 整髪化粧料 |
| JPH09208434A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-08-12 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 毛髪処理剤組成物 |
| JPH1025344A (ja) * | 1995-10-05 | 1998-01-27 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 重合体、その製造方法、毛髪処理剤組成物及び香粧品組成物 |
| JPH1087443A (ja) * | 1996-09-18 | 1998-04-07 | Mitsubishi Chem Corp | 毛髪化粧料組成物 |
-
1998
- 1998-12-29 JP JP10377199A patent/JP2000191465A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04368317A (ja) * | 1991-06-13 | 1992-12-21 | Shiseido Co Ltd | 毛髪化粧料 |
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