JP2000183009A - Substrate-processing device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板、液晶
表示器のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、光
ディスク用の基板等(以下、単に基板と称する)を回転
させて、基板に洗浄処理や塗布液の塗布処理などの所定
の処理を施す基板処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning process for a substrate by rotating a semiconductor substrate, a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for a photomask, a substrate for an optical disk, etc. (hereinafter simply referred to as a substrate). The present invention relates to a substrate processing apparatus that performs a predetermined process such as a coating process of a coating liquid or a coating liquid.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のこの種の基板処理装置として、例
えば、特開平10−112453号公報に示すようなも
のがある。2. Description of the Related Art As a conventional substrate processing apparatus of this type, for example, there is one as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-112453.
【0003】この装置は、中空部を有する回転子と、こ
の回転子と同芯状に設けられ、中空部を有するステータ
とを備えた回転モータと、回転子に設けられ、基板を支
持する支持部材とを備えている。回転子には複数個の永
久磁石を一定の間隔で極性を反転させた状態でリング状
に埋設してあり、ステータにはリング状に複数個のコイ
ルが配置されている。これらのコイルは、各々に流す電
流の方向を切り換えて極性を反転可能に構成されている
とともに、ある個数ごとにブロック化されており、各コ
イルブロックごとに極性が反転されるようになってい
る。This device comprises a rotor having a hollow part, a rotary motor provided concentrically with the rotor and having a stator having a hollow part, a support provided on the rotor and supporting a substrate. And a member. A plurality of permanent magnets are embedded in the rotor in a ring shape at regular intervals with their polarities inverted, and a plurality of coils are arranged in the stator in a ring shape. These coils are configured to be able to reverse the polarity by switching the direction of the current flowing through each of them, and are also divided into blocks each having a certain number, so that the polarity is reversed for each coil block. .
【0004】上記のように構成されている装置によって
基板を処理する際には、支持部材に基板を支持させ、各
コイルブロックの極性を一定の順序で切り換える。する
と回転子の永久磁石が各コイルブロックと反発・吸引す
るため、極性の切り換え順序の方向に回転子が回転され
て基板がその方向に回転されるようになっている。[0004] When processing a substrate by the apparatus configured as described above, the substrate is supported by a support member, and the polarity of each coil block is switched in a certain order. Then, since the permanent magnet of the rotor repels and attracts each coil block, the rotor is rotated in the direction of the polarity switching order, and the substrate is rotated in that direction.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、ステータとの反発・吸引力を大きくす
るために回転子には十分な磁束が得られる永久磁石など
の強磁性体を配設する必要があるので、回転子の重量が
重くなり、装置自体が大きくなるという問題がある。However, the prior art having such a structure has the following problems. That is, it is necessary to arrange a ferromagnetic material such as a permanent magnet capable of obtaining a sufficient magnetic flux in the rotor in order to increase the repulsion / attraction force with the stator. There is a problem that becomes large.
【0006】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、回転子の軽量化を図って装置の小型化
を図ることができる基板処理装置を提供することを目的
とする。The present invention has been made in view of such circumstances, and has as its object to provide a substrate processing apparatus capable of reducing the weight of a rotor and reducing the size of the apparatus.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の発明は、基板を回転させてその基
板に所定の処理を施す基板処理装置において、導電性の
材料で円板状に形成された回転子と、前記回転子と同芯
状に設けられ、多相交流を供給させることにより発生す
る磁界が前記回転子を横切るとともに前記回転子の円周
方向に配置された複数個の誘導コイルを有する固定子と
を備えた誘導回転モータと、前記回転子に設けられて基
板を保持する基板保持手段と、を備えたことを特徴とす
るものである。The present invention has the following configuration in order to achieve the above object. In other words, the invention according to claim 1 is a substrate processing apparatus for rotating a substrate and performing a predetermined process on the substrate, wherein the rotor is formed of a conductive material in a disk shape, and the same as the rotor. A stator provided with a core and having a plurality of induction coils arranged in a circumferential direction of the rotor while a magnetic field generated by supplying a polyphase alternating current traverses the rotor; A motor is provided, and substrate holding means provided on the rotor for holding a substrate is provided.
【0008】また、請求項2に記載の発明は、請求項1
に記載の基板処理装置において、前記回転子の周縁部
に、回転中心から外周部に向かう放射状のフィンを備え
たことを特徴とするものである。[0008] The invention described in claim 2 is the first invention.
In the substrate processing apparatus described in (1), radial fins extending from a center of rotation to an outer peripheral portion are provided on a peripheral portion of the rotor.
【0009】また、請求項3に記載の発明は、請求項1
または請求項2に記載の基板処理装置において、前記誘
導回転モータの固定子に対して前記回転子を静圧気体軸
受けにより軸受けしたことを特徴とするものである。[0009] The invention described in claim 3 is the first invention.
Alternatively, in the substrate processing apparatus according to claim 2, the rotor is supported by a static pressure gas bearing with respect to a stator of the induction rotary motor.
【0010】また、請求項4に記載の発明は、基板を回
転させてその基板に所定の処理を施す基板処理装置にお
いて、円板状に形成され、円周側の全周にわたってター
ビン翼を有する回転体と、前記回転体と同芯状に設けら
れ、前記回転体の周方向を囲い、前記タービン翼に流体
を供給するノズルを有するケーシングとを備えた流体モ
ータと、前記回転体に設けられて基板を保持する基板保
持手段と、を備えたことを特徴とするものである。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus for performing predetermined processing on a substrate by rotating the substrate, the substrate processing apparatus having a disk shape and having turbine blades all around the circumference. A fluid motor including a rotating body, a casing provided concentrically with the rotating body, surrounding a circumferential direction of the rotating body, and having a nozzle having a nozzle for supplying a fluid to the turbine blade; and a fluid motor provided with the rotating body. And substrate holding means for holding the substrate.
【0011】また、請求項5に記載の発明は、請求項4
に記載の基板処理装置において、前記回転体の周縁部
に、回転中心から外周部に向かう放射状のフィンを備え
たことを特徴とするものである。[0011] The invention described in claim 5 is the same as in claim 4.
In the substrate processing apparatus described in (1), radial fins extending from a center of rotation to an outer peripheral portion are provided on a peripheral portion of the rotating body.
【0012】また、請求項6に記載の発明は、請求項4
または請求項5に記載の基板処理装置において、前記流
体モータのケーシングに対して前記回転体を静圧気体軸
受けにより軸受けしたことを特徴とするものである。[0012] The invention described in claim 6 is the invention according to claim 4.
Alternatively, in the substrate processing apparatus according to claim 5, the rotating body is supported by a hydrostatic gas bearing on a casing of the fluid motor.
【0013】[0013]
【作用】請求項1に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。回転子と固定子とを備えた誘導回転モータの固定子
に多相交流によって回転磁界を発生させると、その磁界
が導電性の回転子を横切って移動するため電磁誘導によ
る誘導起電力が発生し、回転子に渦電流が生じる。この
渦電流は固定子の誘導コイルの磁束と作用し、磁界の移
動方向と同じ方向への回転力を回転子に発生させる。し
たがって、回転子の基板保持手段に保持させた基板を回
転させることができる。回転子は、複数個の誘導コイル
による電磁誘導で誘導起電力が生じればよく、永久磁石
などの強磁性体でなく単に導電性の材料であればよい。The operation of the first aspect of the invention is as follows. When a rotating magnetic field is generated by a polyphase alternating current on a stator of an induction rotary motor having a rotor and a stator, the magnetic field moves across a conductive rotor, so that an induced electromotive force is generated by electromagnetic induction. As a result, an eddy current is generated in the rotor. The eddy current acts on the magnetic flux of the induction coil of the stator to generate a rotating force on the rotor in the same direction as the moving direction of the magnetic field. Therefore, the substrate held by the substrate holding means of the rotor can be rotated. The rotor only needs to generate an induced electromotive force by electromagnetic induction by a plurality of induction coils, and may be a conductive material instead of a ferromagnetic material such as a permanent magnet.
【0014】また、請求項2に記載の発明によれば、周
縁部に放射状のフィンを備えた回転子が回転すると遠心
力による排気ファンとして作動する。したがって、所定
の処理のために基板に供給された洗浄液や塗布液を周囲
に排出することができる。According to the second aspect of the present invention, when the rotor having the radial fins at the periphery rotates, the rotor operates as a centrifugal exhaust fan. Therefore, the cleaning liquid and the coating liquid supplied to the substrate for the predetermined processing can be discharged to the surroundings.
【0015】また、請求項3に記載の発明によれば、固
定子に対する回転子の軸受けを静圧気体軸受けにするこ
とで、回転子が回転する際の固定子に対する摩擦抵抗を
小さくすることができ、高速に回転させることができ
る。また、回転子と固定子の隙間に洗浄液や塗布液が入
り込むことを防止できる。According to the third aspect of the present invention, the bearing of the rotor with respect to the stator is a static pressure gas bearing, so that the frictional resistance with respect to the stator when the rotor rotates can be reduced. Can be rotated at high speed. Further, it is possible to prevent the cleaning liquid or the coating liquid from entering the gap between the rotor and the stator.
【0016】また、請求項4に記載の発明の作用は次の
とおりである。流体モータのケーシングにノズルから流
体を供給すると、タービン翼には衝撃・反動作用が与え
られ、その結果として回転体に回転力が与えられる。し
たがって、回転体の基板保持手段に保持させた基板を回
転させることができる。回転体は、流体による回転力が
付与されればよく、永久磁石などの強磁性体を必要とせ
ず、単に全周にタービン翼を設けておけばよい。The operation of the invention described in claim 4 is as follows. When the fluid is supplied from the nozzle to the casing of the fluid motor, impact / reaction is applied to the turbine blade, and as a result, a rotating force is applied to the rotating body. Therefore, the substrate held by the substrate holding means of the rotating body can be rotated. The rotating body only needs to be given a rotating force by a fluid, does not require a ferromagnetic body such as a permanent magnet, and simply has turbine blades provided on the entire circumference.
【0017】また、請求項5に記載の発明によれば、周
縁部に放射状のフィンを備えた回転体が回転すると排気
ファンとして作動する。したがって、所定の処理のため
に基板に供給された洗浄液や塗布液を周囲に排出するこ
とができる。According to the fifth aspect of the present invention, when the rotating body having the radial fins on the peripheral edge rotates, the rotating body operates as an exhaust fan. Therefore, the cleaning liquid and the coating liquid supplied to the substrate for the predetermined processing can be discharged to the surroundings.
【0018】また、請求項6に記載の発明によれば、ケ
ーシングに対する回転体の軸受けを静圧気体軸受けにす
ることで、回転体が回転する際のケーシングに対する摩
擦抵抗を小さくすることができ、高速に回転させること
ができる。また、回転体とケーシングの隙間に洗浄液や
塗布液が入り込むことを防止できる。According to the sixth aspect of the present invention, the bearing of the rotating body with respect to the casing is a static pressure gas bearing, so that the frictional resistance with respect to the casing when the rotating body rotates can be reduced. Can be rotated at high speed. Further, it is possible to prevent the cleaning liquid or the coating liquid from entering the gap between the rotating body and the casing.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。 <第1実施例>図1は本実施例に係る基板処理装置の概
略構成を示す縦断面図であり、図2は誘導回転モータの
要部を示す縦断面図、図3は回転子に設けられた誘導コ
イルの配置を示す平面図、図4は保持機構の動作説明図
である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. <First Embodiment> FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a substrate processing apparatus according to the present embodiment, FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a main part of an induction rotary motor, and FIG. FIG. 4 is a plan view showing the arrangement of the induced coils, and FIG. 4 is an explanatory view of the operation of the holding mechanism.
【0020】この基板処理装置は、平面視環状の誘導回
転モータ1によって基板Wを回転可能に保持している。
この誘導回転モータ1は、回転子3と固定子5とを備え
ており、回転子3の中空部3a内側に配設された保持機
構7(基板保持手段)により基板Wを水平姿勢に支持し
た状態で回転中心P周りに回転させる。In this substrate processing apparatus, a substrate W is rotatably held by an induction rotation motor 1 having a ring shape in plan view.
The induction rotary motor 1 includes a rotor 3 and a stator 5, and supports a substrate W in a horizontal position by a holding mechanism 7 (substrate holding means) disposed inside the hollow portion 3a of the rotor 3. In this state, it is rotated around the rotation center P.
【0021】回転子3は、導電性の材料(例えば、アル
ミニウム)を円板状に形成したものであり、その中央部
には中空部3aが形成されているとともに、周縁部には
側方に開口した凹部3bを有するガイドリング3cが形
成されている。また、ガイドリング3cの上下面には、
回転中心Pから外周部に向かう放射状のフィン4が複数
個配設されている。The rotor 3 is formed of a conductive material (for example, aluminum) in the shape of a disk, and has a hollow portion 3a formed at the center thereof and a lateral portion formed at the periphery thereof. A guide ring 3c having an open recess 3b is formed. Also, on the upper and lower surfaces of the guide ring 3c,
A plurality of radial fins 4 are provided from the rotation center P toward the outer peripheral portion.
【0022】固定子5は、回転子3の外側に回転子3と
同芯状に配設され、その内側部分が回転子3の凹部3b
に緩挿されている。また、固定子5の内側部分には、複
数個の誘導コイル9が、発生した磁界がガイドリング3
cの上下面を横切るように埋設されている。さらに複数
個の誘導コイル9は、多相交流を供給されることにより
発生する磁界が回転子3の円周に沿って回転するように
グループ化されて配設されており、例えば、図3に示す
ように二個おきに同一位相の交流電源に接続されるよう
にグループ化されている。つまり、第1の誘導コイル群
9aと、第2の誘導コイル群9bと、第3の誘導コイル
群9cがそれぞれ三相交流電源(図示省略)から異なる
位相の交流を供給されるようになっている。本実施例で
は、第1のコイル群9aに印加される交流の位相が最も
進んでおり、次に第2のコイル群9b、その次に第3の
コイル群9cとなっており、平面視で反時計周りに回転
磁界が発生するようになっている。The stator 5 is disposed outside the rotor 3 and concentrically with the rotor 3, and the inner portion thereof has a concave portion 3 b of the rotor 3.
Has been loosely inserted. A plurality of induction coils 9 are provided inside the stator 5 to generate a magnetic field generated by the guide ring 3.
c is buried across the upper and lower surfaces. Further, the plurality of induction coils 9 are grouped and arranged so that a magnetic field generated by the supply of the polyphase alternating current rotates along the circumference of the rotor 3. For example, FIG. As shown, the groups are grouped so that every third unit is connected to an AC power supply having the same phase. That is, the first induction coil group 9a, the second induction coil group 9b, and the third induction coil group 9c are each supplied with alternating currents of different phases from a three-phase alternating current power supply (not shown). I have. In the present embodiment, the phase of the alternating current applied to the first coil group 9a is the most advanced, followed by the second coil group 9b, and then the third coil group 9c, as viewed in plan. A rotating magnetic field is generated counterclockwise.
【0023】このような回転磁界が発生すると、導電性
の材料からなる回転子3のガイドリング3cを磁束が移
動することになり、磁束の変化を妨げる方向に誘導起電
力が生じて回転子3のガイドリング3cに渦電流が発生
する(フレミングの右手の法則)。この渦電流は、誘導
コイル9の磁束と作用して回転子3に反時計方向に回転
力を与える(フレミングの左手の法則)。したがって、
回転子3の回転速度は磁束の周方向への移動速度に依存
するため、各コイル9の配置間隔と交流電源の周波数と
によって決定される。したがって、基板Wの処理のため
に回転数を可変する必要がある場合には、三相交流電源
からの出力をファンクションジェネレータに与え、ここ
で周波数を調節して誘導回転モータ1に与えるようにす
ればよい。When such a rotating magnetic field is generated, the magnetic flux moves through the guide ring 3c of the rotor 3 made of a conductive material, and an induced electromotive force is generated in a direction that obstructs the change of the magnetic flux. An eddy current is generated in the guide ring 3c (Fleming's right-hand rule). The eddy current acts on the magnetic flux of the induction coil 9 to apply a rotating force to the rotor 3 in a counterclockwise direction (Fleming's left-hand rule). Therefore,
Since the rotation speed of the rotor 3 depends on the moving speed of the magnetic flux in the circumferential direction, it is determined by the arrangement interval of each coil 9 and the frequency of the AC power supply. Therefore, when it is necessary to vary the number of revolutions for processing the substrate W, the output from the three-phase AC power supply is supplied to the function generator, where the frequency is adjusted and supplied to the induction rotary motor 1. I just need.
【0024】また、図2に示すように固定子5には、空
気や不活性ガス(例えば、窒素ガス)などの気体を供給
する気体供給源11(図1)に連通接続された気体バッ
ファ部13が形成されており、ここから気体供給路15
を経て、回転子3のガイドリング3c外側の凹部3b
と、固定子5の内側部分との隙間に気体を供給して固定
子5に対して回転子3を静圧気体軸受けで軸受けするよ
うに構成されている。As shown in FIG. 2, the stator 5 has a gas buffer section connected to a gas supply source 11 (FIG. 1) for supplying a gas such as air or an inert gas (eg, nitrogen gas). 13 is formed, and the gas supply path 15
Through the recess 3b outside the guide ring 3c of the rotor 3.
, And a gas is supplied to a gap between the inner portion of the stator 5 and the rotor 3 is supported by the static pressure gas bearing on the stator 5.
【0025】なお、軸受けとしては、ベアリングなどの
動圧軸受けを採用してもよいが、この場合には、固定子
5に対する回転子3の摩擦抵抗が大きくなるので、高速
回転が困難となる。また、処理液がそれらの隙間に入り
込むことがあるので、動圧軸受けに耐蝕性をもたせる必
要がある。その一方、本実施例のように静圧気体軸受け
を採用すると、ベアリングなどの部材で不要となるとと
もに、隙間から気体が外部に吹き出すので、処理液が入
り込むことを防止することもできる。したがって、高速
回転や処理液を使用する場合には、本実施例のように静
圧気体軸受けを採用することが好ましい。As the bearing, a dynamic pressure bearing such as a bearing may be adopted, but in this case, the friction resistance of the rotor 3 to the stator 5 becomes large, so that high-speed rotation becomes difficult. Further, since the processing liquid may enter these gaps, it is necessary to impart corrosion resistance to the dynamic pressure bearing. On the other hand, if a static pressure gas bearing is employed as in the present embodiment, members such as bearings become unnecessary, and gas is blown out from the gap to the outside, so that it is possible to prevent the processing liquid from entering. Therefore, when high-speed rotation or a processing liquid is used, it is preferable to employ a static pressure gas bearing as in this embodiment.
【0026】保持機構7は、回転子3の中空部3a側に
突出するように、平面視でほぼ均等な角度となるように
回転子3の内側に少なくとも3個取り付けられている。
回転子3の内側には、図2および図4に示すように中空
部3a側に突出した舌片状の取付け凸部3dが形成され
ており、この部分に、縦断面凹状の係止部17aで基板
Wの端縁を係止する係止片17が回転中心P1で回転自
在に取り付けられている。また、係止片17の外周面の
うち尾部17cと、回転子3の中空部3aに臨む内周面
との間には、引張コイルバネ17bが取付けられてい
る。したがって、通常時には、図4(a)に示すように
引張コイルバネ17bが作用して係止部17aが回転中
心P側に突出し、基板の受け渡し時には、図4(b)に
示すように係止片17の尾部17cを図示しない駆動ピ
ンで回転中心P側に移動することにより係止部17aが
外側に移動するようになっている。At least three holding mechanisms 7 are attached to the inside of the rotor 3 so as to protrude toward the hollow portion 3a of the rotor 3 so as to form substantially equal angles in plan view.
As shown in FIGS. 2 and 4, a tongue-shaped mounting projection 3d protruding toward the hollow portion 3a is formed inside the rotor 3, and a locking portion 17a having a concave longitudinal section is formed in this portion. A locking piece 17 for locking the edge of the substrate W is rotatably mounted at the rotation center P1. A tension coil spring 17b is mounted between the tail 17c of the outer peripheral surface of the locking piece 17 and the inner peripheral surface facing the hollow portion 3a of the rotor 3. Therefore, at normal times, the tension coil spring 17b acts as shown in FIG. 4 (a) and the locking portion 17a protrudes toward the rotation center P, and when the substrate is transferred, the locking piece 17a as shown in FIG. 4 (b). The locking portion 17a is moved outward by moving the tail portion 17c of the 17 to the rotation center P side by a drive pin (not shown).
【0027】上記のように構成されている誘導回転モー
タ1は、固定子5の上方と下方をダクト19で囲われて
いる。このうち下部のダクト19には、排出口19aが
形成されており、基板Wに供給された処理液などを排液
したり、フィン4からの空気や静圧気体軸受けからの気
体などを排気するようになっている。In the induction rotary motor 1 configured as described above, the upper part and the lower part of the stator 5 are surrounded by the duct 19. A discharge port 19 a is formed in the lower duct 19, and discharges a processing liquid or the like supplied to the substrate W and exhausts air from the fins 4 and gas from the static pressure gas bearing. It has become.
【0028】また、誘導回転モータ1の上方には、基板
Wの回転中心Pの上方(図1中の実線)と側方(図1中
の二点鎖線)とを移動自在で、洗浄液を供給するための
ノズル21が配備されているとともに、誘導回転モータ
1の下方には位置固定で回転中心Pに向けて洗浄液を供
給するノズル22が配備されている。A cleaning liquid is supplied above the induction rotary motor 1 so as to be movable above the rotation center P of the substrate W (solid line in FIG. 1) and laterally (two-dot chain line in FIG. 1). A nozzle 22 for supplying the cleaning liquid to the rotation center P at a fixed position is provided below the induction rotary motor 1.
【0029】次に、上記のように構成されている装置の
動作について説明する。Next, the operation of the apparatus configured as described above will be described.
【0030】まず、基板Wを保持機構7に保持させる。
図4(a)に示すように係止部17aが回転中心P側に
移動している保持機構7を、図示しない駆動ピンにより
係止片17の尾部17cを回転中心P側に移動して、係
止部17aを外方に揺動させる(図4(b))。この状
態で、図示しない基板搬送機構に支持された基板Wを保
持機構7の高さ位置にまで移動した後、図示しない駆動
ピンを退避させることにより係止部17aを基板Wの周
縁部に当接させて係止する(図4(a))。First, the holding mechanism 7 holds the substrate W.
As shown in FIG. 4A, the holding mechanism 7 in which the locking portion 17a is moving toward the rotation center P is moved to the tail 17c of the locking piece 17 toward the rotation center P by a drive pin (not shown). The locking portion 17a is swung outward (FIG. 4B). In this state, after the substrate W supported by the substrate transport mechanism (not shown) is moved to the height position of the holding mechanism 7, the driving pin (not shown) is retracted so that the locking portion 17a contacts the peripheral edge of the substrate W. It is brought into contact and locked (FIG. 4 (a)).
【0031】次に、ノズル21を図1中の二点鎖線で示
した退避位置から、図1中に実線で示した供給位置にま
で移動する。Next, the nozzle 21 is moved from the retracted position shown by the two-dot chain line in FIG. 1 to the supply position shown by the solid line in FIG.
【0032】そして、この状態で上述したように三相交
流電源から複数個のコイル9に所定周波数の三相交流を
供給する。これにより、上述したような原理により回転
子3に回転力が発生して、誘導回転モータ1が回転し、
基板Wが所定の速度で回転する。このように誘導回転モ
ータ1が回転を始めると、周縁部に放射状のフィン4を
備えた回転子3が回転するため遠心力による排気ファン
として作動し、上方から基板Wの上面に流下してきたダ
ウンフローの空気が回転子3の周囲に向けて排出され、
排気口19aを通して排気される。Then, in this state, a three-phase alternating current of a predetermined frequency is supplied to the plurality of coils 9 from the three-phase alternating current power supply as described above. As a result, a rotational force is generated in the rotor 3 according to the principle described above, and the induction rotary motor 1 rotates,
The substrate W rotates at a predetermined speed. When the induction rotary motor 1 starts to rotate in this manner, the rotor 3 having the radial fins 4 at the periphery rotates and operates as an exhaust fan by centrifugal force. The air of the flow is discharged toward the periphery of the rotor 3,
Air is exhausted through the exhaust port 19a.
【0033】所定の速度に達したら、ノズル21とノズ
ル22から洗浄液を供給し、基板Wの両面に洗浄処理を
施す。次いで、ノズル21とノズル22から純水を供給
し、基板Wの両面に対してリンス洗浄を施す。このよう
にして供給された洗浄液も純水も、上述した排気ファン
の効果により回転子3の周囲に排出され、排気口19a
から排液される。When a predetermined speed is reached, a cleaning liquid is supplied from the nozzles 21 and 22 to perform a cleaning process on both surfaces of the substrate W. Next, pure water is supplied from the nozzles 21 and 22 to rinse both surfaces of the substrate W. Both the cleaning liquid and pure water supplied in this manner are discharged around the rotor 3 by the effect of the exhaust fan described above, and the exhaust port 19a
Drained from
【0034】所定時間が経過すると、ノズル21,22
からの純水の供給を停止するとともに、三相交流の周波
数を高めて回転数を上げる。これにより基板Wに付着し
ている洗浄液や純水などを振り切って基板Wを乾燥させ
る。When a predetermined time has elapsed, the nozzles 21 and 22
The supply of pure water from, and increase the frequency of the three-phase AC to increase the rotation speed. As a result, the cleaning liquid, pure water, and the like adhering to the substrate W are shaken off to dry the substrate W.
【0035】乾燥時間が経過して基板Wが乾燥すると、
三相交流電源から複数個のコイル9に対する三相交流の
供給を停止し、誘導回転モータ1の回転を停止させ、基
板Wの回転を停止させる。そして、ノズル21を退避位
置に移動し、図示しない基板搬送機構で基板Wを支持さ
せた後、図示しない駆動ピンにより保持機構7の保持を
解除する。その後、基板搬送機構により基板Wを搬出す
る。After the drying time has elapsed and the substrate W has dried,
The supply of the three-phase AC from the three-phase AC power supply to the plurality of coils 9 is stopped, the rotation of the induction rotary motor 1 is stopped, and the rotation of the substrate W is stopped. Then, the nozzle 21 is moved to the retracted position, and the substrate W is supported by the substrate transport mechanism (not shown), and then the holding of the holding mechanism 7 is released by the drive pin (not shown). Thereafter, the substrate W is unloaded by the substrate transport mechanism.
【0036】上記のような構成の基板処理装置によれ
ば、誘導回転モータ1の固定子5に三相交流によって回
転磁界を発生させ、電磁誘導によって回転子3に回転力
を発生させているので、回転子3を強磁性体でなく単な
る導電性の材料で構成することができる。したがって、
回転子3を軽量化することができ、基板処理装置の小型
化を図ることができる。According to the substrate processing apparatus having the above configuration, a rotating magnetic field is generated by the three-phase alternating current in the stator 5 of the induction rotating motor 1 and a rotating force is generated in the rotor 3 by electromagnetic induction. The rotor 3 can be made of a simple conductive material instead of a ferromagnetic material. Therefore,
The weight of the rotor 3 can be reduced, and the size of the substrate processing apparatus can be reduced.
【0037】また、上記の誘導回転モータ1は、回転子
3に中空部3aを形成してこれと同芯に固定子5を配置
し、この固定子5も中央部を中空に形成してあるので、
基板Wの両面を上下方向から同時に処理することができ
る。したがって、これを用いた基板処理装置では基板W
の両面を洗浄する処理を短時間で効率的に行うことがで
きる。In the induction rotary motor 1 described above, a hollow portion 3a is formed in the rotor 3, and a stator 5 is arranged concentrically with the hollow portion 3a. The stator 5 also has a hollow central portion. So
Both surfaces of the substrate W can be processed simultaneously from above and below. Therefore, in the substrate processing apparatus using this, the substrate W
Can be efficiently performed in a short time.
【0038】なお、誘導回転モータ1は、三相交流によ
り駆動するようにしているが、二相交流により駆動する
ようにしてもよい。その場合には、複数個のコイル9を
一つおきにグループ化し、各グループごとに異なる位相
の交流を印加するようにすればよい。Although the induction rotary motor 1 is driven by three-phase alternating current, it may be driven by two-phase alternating current. In this case, a plurality of coils 9 may be grouped every other coil, and an alternating current having a different phase may be applied to each group.
【0039】また、上述した保持機構7は一例であり、
特開平10−112453号公報に開示されているよう
な基板保持部材を採用してもよく、その他、基板を保持
することができる機構であればどのようなものでもよ
い。The above-described holding mechanism 7 is an example,
A substrate holding member as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-112453 may be adopted, and any other mechanism that can hold a substrate may be used.
【0040】<第2実施例>次に、図5ないし図7を参
照して第2実施例について説明する。<Second Embodiment> Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS.
【0041】図5は本実施例に係る基板処理装置の概略
構成を示す縦断面図であり、図6は流体モータの要部を
示す縦断面図、図7はタービン翼およびノズルの配置を
示す平面図である。なお、第1実施例装置と同じ構成に
ついては同符号を付すことで詳細な説明については省略
する。FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of the substrate processing apparatus according to the present embodiment, FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing a main part of a fluid motor, and FIG. 7 shows an arrangement of turbine blades and nozzles. It is a top view. The same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the detailed description is omitted.
【0042】この実施例に係る基板処理装置は、平面視
環状の流体モータ31により基板Wを回転可能に保持し
ており、この流体モータ31は回転体33とケーシング
35とを備えている。In the substrate processing apparatus according to this embodiment, a substrate W is rotatably held by an annular fluid motor 31 in plan view, and this fluid motor 31 includes a rotating body 33 and a casing 35.
【0043】回転体33は、軽量で高い剛性を有する材
料を円板状に形成してなり、その中央部に中空部33a
が形成され、かつ、周縁部には外側面が開口した凹部3
3bを有するガイドリング33cが形成されている。こ
の凹部33bには、高剛性・軽量の材料からなるタービ
ン翼34が所定の間隔で全周にわたって取り付けられて
いる。また、中空部33a内面の取付け凸部33dに
は、第1実施例装置と同様の保持機構7が配備されてお
り、これにより基板Wを水平姿勢に保持するようになっ
ている。The rotating body 33 is made of a lightweight and highly rigid material in the shape of a disc, and has a hollow portion 33a in the center thereof.
And a concave portion 3 having an outer surface opened in the peripheral portion.
A guide ring 33c having 3b is formed. Turbine blades 34 made of a material having high rigidity and light weight are attached to the recess 33b at predetermined intervals over the entire circumference. Further, a holding mechanism 7 similar to that of the first embodiment is provided on the mounting projection 33d on the inner surface of the hollow portion 33a, so that the substrate W is held in a horizontal posture.
【0044】ケーシング35は、内周面に凹部35aを
形成されており、上記の回転体33の周方向を囲うよう
に配設され、回転体33のタービン翼34が凹部35a
内に位置するように配設されている。また、ケーシング
35には、上記第1実施例装置と同様に気体供給源11
に連通接続された気体バッファ部13と気体供給路15
が形成されており、回転体33を静圧気体軸受けで軸受
けする。The casing 35 has a recess 35a formed on the inner peripheral surface thereof. The casing 35 is disposed so as to surround the rotating body 33 in the circumferential direction.
It is arranged to be located inside. Further, the gas supply source 11 is provided in the casing 35 in the same manner as in the first embodiment.
Buffer section 13 and gas supply path 15 connected to
Are formed, and the rotating body 33 is supported by a static pressure gas bearing.
【0045】また、ケーシング35には、図7に示すよ
うに回転体33のタービン翼34に対して気体を噴射し
て回転力を与えるためのノズル37が平面視で90°ご
とに四箇所に配設されている。また、各ノズル37の気
体噴射方向には、気体を排出するための排出口39が形
成されている。各ノズル37には、流速を調節して気体
を供給可能な供給源(図示省略)が連通接続されてお
り、図示しない制御部が処理内容に応じて流速を調節す
るようになっている。As shown in FIG. 7, the casing 35 has nozzles 37 for injecting gas to the turbine blades 34 of the rotating body 33 to apply a rotational force to the turbine blades 34 at four positions every 90 ° in a plan view. It is arranged. Further, a discharge port 39 for discharging gas is formed in the gas injection direction of each nozzle 37. A supply source (not shown) capable of adjusting the flow rate and supplying a gas is connected to each nozzle 37, and a control unit (not shown) adjusts the flow rate according to the processing content.
【0046】次に、このように構成されている装置の動
作について説明する。Next, the operation of the thus configured device will be described.
【0047】まず、上述した第1実施例装置と同様にし
て、保持機構7に基板Wを保持させる。そして、ノズル
21を図5中の二点鎖線で示した退避位置から、図5中
に実線で示した供給位置にまで移動する。First, the substrate W is held by the holding mechanism 7 in the same manner as in the first embodiment. Then, the nozzle 21 is moved from the retreat position shown by the two-dot chain line in FIG. 5 to the supply position shown by the solid line in FIG.
【0048】この状態で、全ノズル37から回転速度に
応じた流速の気体を噴射する。するとタービン翼34に
は気体による衝撃・反動作用が与えられるので、回転体
33に反時計方向の回転力が与えられる。したがって、
基板Wは反時計方向に回転する。この流体モータ31が
回転を始めると、フィン4を備えた回転体33が回転し
て遠心排気ファンとして作動し、上方から基板Wの上面
に流下してきたダウンフローの空気が回転子33の周囲
に向けて排出され、排気口19aから排気される。In this state, a gas having a flow rate corresponding to the rotation speed is injected from all the nozzles 37. Then, since impact / reaction for gas is given to the turbine blade 34, a rotating force in the counterclockwise direction is given to the rotating body 33. Therefore,
The substrate W rotates counterclockwise. When the fluid motor 31 starts rotating, the rotating body 33 provided with the fins 4 rotates and operates as a centrifugal exhaust fan, and the downflow air flowing down from above to the upper surface of the substrate W flows around the rotor 33. The exhaust gas is discharged toward the exhaust port 19a.
【0049】所定の速度に達したら、ノズル21とノズ
ル22から洗浄液を供給して基板Wの両面に洗浄処理を
施し、次にノズル21とノズル22から純水を供給して
基板Wの両面に対してリンス洗浄を施す。これらの洗浄
液も純水も、上述した排気ファンの効果により排気口1
9aから排液される。When the predetermined speed is reached, a cleaning liquid is supplied from the nozzles 21 and 22 to perform a cleaning process on both surfaces of the substrate W. Then, pure water is supplied from the nozzles 21 and 22 to supply both surfaces of the substrate W. Then, rinse cleaning is performed. Both the cleaning liquid and the pure water have an exhaust port 1 due to the effect of the exhaust fan described above.
The liquid is discharged from 9a.
【0050】所定時間が経過すると、純水の供給を停止
するとともに、ノズル37に供給する気体の流速を高め
て回転数を上げる。これにより基板Wに付着している洗
浄液や純水などを振り切って基板Wを乾燥させる。After a lapse of a predetermined time, the supply of pure water is stopped, and the rotational speed is increased by increasing the flow rate of the gas supplied to the nozzle 37. As a result, the cleaning liquid, pure water, and the like adhering to the substrate W are shaken off to dry the substrate W.
【0051】乾燥時間が経過して基板Wが乾燥すると、
ノズル37への気体の供給を停止するとともに排出口3
9からの排気を停止して流体モータ1の回転を停止さ
せ、基板Wの回転を停止させる。そして、ノズル21を
退避させた後に基板Wを搬出する。When the drying time has elapsed and the substrate W has dried,
The supply of gas to the nozzle 37 is stopped and the outlet 3
The rotation of the fluid motor 1 is stopped by stopping the exhaust from the nozzle 9, and the rotation of the substrate W is stopped. Then, after the nozzle 21 is retracted, the substrate W is carried out.
【0052】本実施例のような構成の基板処理装置によ
れば、流体モータ31に気体を供給すると、タービン翼
34には衝撃・反動作用が与えられて回転体33に回転
力を付与することができ、基板Wを回転させることがで
きる。したがって、回転体33は気体による回転力が付
与されればよく、永久磁石などの強磁性体を必要とせ
ず、単に全周にタービン翼34を配備した回転体33で
よい。その結果、回転体33を軽量化することができ、
この流体モータ31を用いることにより基板処理装置の
小型化を図ることができる。According to the substrate processing apparatus having the structure as in the present embodiment, when gas is supplied to the fluid motor 31, the turbine blade 34 is given an impact / reaction operation to apply a rotational force to the rotating body 33. And the substrate W can be rotated. Therefore, the rotating body 33 only needs to be provided with a rotating force by gas, does not require a ferromagnetic body such as a permanent magnet, and may simply be the rotating body 33 in which the turbine blades 34 are provided all around. As a result, the weight of the rotating body 33 can be reduced,
By using this fluid motor 31, the size of the substrate processing apparatus can be reduced.
【0053】なお、本実施例では、気体を供給して回転
体33に回転力を付与したが、気体に代えて液体を供給
して回転させるようにしてもよい。In the present embodiment, the rotating force is applied to the rotating body 33 by supplying the gas, but the rotating body may be rotated by supplying the liquid instead of the gas.
【0054】また、上記の第1/第2実施例では、基板
を洗浄液を供給して洗浄処理する装置を例に採って説明
したが、塗布液を供給して塗布処理する装置などであっ
ても本発明を適用することができる。In the first and second embodiments, an apparatus for supplying a cleaning liquid to a substrate to perform a cleaning process has been described as an example. However, an apparatus for supplying a coating liquid to perform a coating process may be used. The present invention can also be applied to the present invention.
【0055】[0055]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
1に記載の発明によれば、回転子と固定子とを備えた誘
導回転モータの固定子に多相交流によって回転磁界を発
生させ、電磁誘導によって回転子に回転力を発生させて
いるので、回転子を強磁性体でなく単なる導電性の材料
で構成することができる。したがって、回転子を軽量化
することができ、この誘導回転モータを用いることによ
り基板処理装置の小型化を図ることができる。As is apparent from the above description, according to the first aspect of the present invention, a rotating magnetic field is generated by a polyphase alternating current in a stator of an induction rotary motor having a rotor and a stator. Since the rotating force is generated in the rotor by electromagnetic induction, the rotor can be made of a simple conductive material instead of a ferromagnetic material. Therefore, the weight of the rotor can be reduced, and the size of the substrate processing apparatus can be reduced by using the induction rotation motor.
【0056】また、請求項2に記載の発明によれば、回
転子が遠心力による排気ファンとして作動するので、所
定の処理のために基板に供給された洗浄液や塗布液を周
囲に排出することができ、排出機構の構成を簡単化する
ことができる。According to the second aspect of the present invention, since the rotor operates as an exhaust fan by centrifugal force, the cleaning liquid and the coating liquid supplied to the substrate for predetermined processing are discharged to the surroundings. And the configuration of the discharge mechanism can be simplified.
【0057】また、請求項3に記載の発明によれば、静
圧気体軸受けを採用することにより回転子が回転する際
の固定子に対する摩擦抵抗を小さくすることができ、回
転子を高速に回転させることができるとともに、回転子
と固定子の隙間に洗浄液や塗布液が入り込むことを防止
できる。According to the third aspect of the present invention, the friction resistance against the stator when the rotor rotates can be reduced by employing the static pressure gas bearing, and the rotor can be rotated at high speed. The cleaning liquid and the coating liquid can be prevented from entering the gap between the rotor and the stator.
【0058】また、請求項4に記載の発明によれば、流
体モータのケーシングにノズルから流体を供給すると、
タービン翼には衝撃・反動作用が与えられて回転体に回
転力を付与することができ、基板を回転させることがで
きる。したがって、回転体は流体による回転力が付与さ
れればよく、永久磁石などの強磁性体を必要とせず、単
に全周にタービン翼を配備した回転体でよい。その結
果、回転体を軽量化することができ、この流体モータを
用いることにより基板処理装置の小型化を図ることがで
きる。According to the fourth aspect of the present invention, when the fluid is supplied from the nozzle to the casing of the fluid motor,
The turbine blade is given an impact / reaction action to apply a rotational force to the rotating body, thereby rotating the substrate. Therefore, the rotating body only needs to be provided with a rotating force by a fluid, does not need a ferromagnetic body such as a permanent magnet, and may be a rotating body having turbine blades simply arranged all around. As a result, the weight of the rotating body can be reduced, and the size of the substrate processing apparatus can be reduced by using the fluid motor.
【0059】また、請求項5に記載の発明によれば、遠
心力による排気ファンとして作動するので、所定の処理
のために基板に供給された洗浄液や塗布液を周囲に排出
することができ、排出機構の構成を簡単化することがで
きる。Further, according to the fifth aspect of the present invention, since it operates as an exhaust fan by centrifugal force, it is possible to discharge the cleaning liquid and the coating liquid supplied to the substrate for a predetermined process to the surroundings. The configuration of the discharge mechanism can be simplified.
【0060】また、請求項6に記載の発明によれば、静
圧気体軸受けを採用することにより回転体が回転する際
のケーシングに対する摩擦抵抗を小さくすることがで
き、回転体を高速に回転させることができるとともに、
回転体とケーシングの隙間に洗浄液や塗布液が入り込む
ことを防止できる。According to the sixth aspect of the present invention, the friction resistance against the casing when the rotating body rotates can be reduced by employing the static pressure gas bearing, and the rotating body can be rotated at high speed. While being able to
The cleaning liquid and the coating liquid can be prevented from entering the gap between the rotating body and the casing.
【図1】第1実施例に係る基板処理装置の概略構成を示
す縦断面図である。FIG. 1 is a longitudinal sectional view illustrating a schematic configuration of a substrate processing apparatus according to a first embodiment.
【図2】誘導回転モータの要部を示す縦断面図である。FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a main part of the induction rotary motor.
【図3】回転子に設けられた誘導コイルの配置を示す平
面図である。FIG. 3 is a plan view showing an arrangement of an induction coil provided on a rotor.
【図4】保持機構の動作を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the operation of the holding mechanism.
【図5】第2実施例に係る基板処理装置の概略構成を示
す縦断面図である。FIG. 5 is a longitudinal sectional view illustrating a schematic configuration of a substrate processing apparatus according to a second embodiment.
【図6】流体モータの要部を示す縦断面図である。FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing a main part of the fluid motor.
【図7】タービン翼およびノズルの配置を示す平面図で
ある。FIG. 7 is a plan view showing the arrangement of turbine blades and nozzles.
W … 基板 1 … 誘導回転モータ 3 … 回転子 4 … フィン 5 … 固定子 7 … 保持機構 9 … 誘導コイル 11 … 気体供給源 13 … 気体バッファ部 15 … 気体供給路 19 … ダクト 21,22 … ノズル 31 … 流体モータ 33 … 回転体 34 … タービン翼 35 … ケーシング 37 … ノズル W ... substrate 1 ... induction rotation motor 3 ... rotor 4 ... fins 5 ... stator 7 ... holding mechanism 9 ... induction coil 11 ... gas supply source 13 ... gas buffer unit 15 ... gas supply path 19 ... ducts 21 and 22 ... nozzles 31 ... fluid motor 33 ... rotating body 34 ... turbine blade 35 ... casing 37 ... nozzle
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H02K 17/02 H02K 17/02 B (72)発明者 平得 貞雄 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内 Fターム(参考) 4G075 AA24 AA30 BD08 BD16 BD26 DA02 EA01 EC01 ED01 ED08 5H607 AA00 BB06 BB13 CC01 CC05 FF04 GG13 KK01 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H02K 17/02 H02K 17/02 B (72) Inventor Sadao Hiratoku 4-chome Tenjin 1-1-1 Kitamachi Dai Nippon Screen Manufacturing Co., Ltd. F-term (reference) 4G075 AA24 AA30 BD08 BD16 BD26 DA02 EA01 EC01 ED01 ED08 5H607 AA00 BB06 BB13 CC01 CC05 FF04 GG13 KK01
Claims (6)
を施す基板処理装置において、 導電性の材料で円板状に形成された回転子と、前記回転
子と同芯状に設けられ、多相交流を供給させることによ
り発生する磁界が前記回転子を横切るとともに前記回転
子の円周方向に配置された複数個の誘導コイルを有する
固定子とを備えた誘導回転モータと、 前記回転子に設けられて基板を保持する基板保持手段
と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。1. A substrate processing apparatus for performing a predetermined process on a substrate by rotating the substrate, comprising: a rotor formed of a conductive material in a disk shape; and a rotor coaxially provided with the rotor. An induction rotary motor including a stator having a plurality of induction coils arranged in a circumferential direction of the rotor while a magnetic field generated by supplying a polyphase alternating current traverses the rotor; and And a substrate holding means for holding the substrate provided in the substrate processing apparatus.
て、 前記回転子の周縁部に、回転中心から外周部に向かう放
射状のフィンを備えたことを特徴とする基板処理装置。2. The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising a radial fin extending from a center of rotation to an outer peripheral portion at a periphery of the rotor.
理装置において、 前記誘導回転モータの固定子に対して前記回転子を静圧
気体軸受けにより軸受けしたことを特徴とする基板処理
装置。3. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the rotor is supported by a static pressure gas bearing with respect to a stator of the induction rotation motor.
を施す基板処理装置において、 円板状に形成され、円周側の全周にわたってタービン翼
を有する回転体と、前記回転体と同芯状に設けられ、前
記回転体の周方向を囲い、前記タービン翼に流体を供給
するノズルを有するケーシングとを備えた流体モータ
と、 前記回転体に設けられて基板を保持する基板保持手段
と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。4. A substrate processing apparatus for rotating a substrate and performing predetermined processing on the substrate, wherein the rotating body is formed in a disk shape and has turbine blades over the entire circumference on the circumferential side. A fluid motor provided in a core shape and surrounding a circumferential direction of the rotating body and having a casing having a nozzle for supplying a fluid to the turbine blade; a substrate holding means provided on the rotating body and holding a substrate; A substrate processing apparatus comprising:
て、 前記回転体の周縁部に、回転中心から外周部に向かう放
射状のフィンを備えたことを特徴とする基板処理装置。5. The substrate processing apparatus according to claim 4, wherein a radial fin extending from a center of rotation to an outer peripheral portion is provided on a peripheral portion of the rotating body.
理装置において、 前記流体モータのケーシングに対して前記回転体を静圧
気体軸受けにより軸受けしたことを特徴とする基板処理
装置。6. The substrate processing apparatus according to claim 4, wherein the rotating body is supported by a static pressure gas bearing on a casing of the fluid motor.
Priority Applications (1)
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| JP35735498A JP3731634B2 (en) | 1998-12-16 | 1998-12-16 | Substrate processing equipment |
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