[go: up one dir, main page]

JP2000173744A - Ion generating substrate, image forming device - Google Patents

Ion generating substrate, image forming device

Info

Publication number
JP2000173744A
JP2000173744A JP34069398A JP34069398A JP2000173744A JP 2000173744 A JP2000173744 A JP 2000173744A JP 34069398 A JP34069398 A JP 34069398A JP 34069398 A JP34069398 A JP 34069398A JP 2000173744 A JP2000173744 A JP 2000173744A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
dielectric layer
bent
insulating substrate
divided electrodes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP34069398A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsukasa Sugano
司 菅野
Shiro Ezaki
史郎 江崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Lighting and Technology Corp
Toshiba AVE Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Lighting and Technology Corp
Toshiba AVE Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Lighting and Technology Corp, Toshiba AVE Co Ltd filed Critical Toshiba Lighting and Technology Corp
Priority to JP34069398A priority Critical patent/JP2000173744A/en
Publication of JP2000173744A publication Critical patent/JP2000173744A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Discharging, Photosensitive Material Shape In Electrophotography (AREA)
  • Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 イオンを斑なく発生させ、第二電極を覆う保
護膜の厚さを均一に維持して劣化を防止するようにす
る。 【解決手段】 誘電体層4を挟んで第一電極3と対向す
る第二電極5は、平行に配列された複数の分割電極5a
と、これらの分割電極5aの端部を接続する接続部5b
とを有し、一部に略直角に屈曲する屈曲部分5dを有す
る形状をもって形成され、屈曲部分5dの内角が滑らか
な曲線により結ばれている。これにより、第二電極5の
形成のために誘電体層4の表面に有機金属化合物を焼成
するときに、屈曲部分5dの内角における歪みの発生を
抑制して表面を平らに維持し、イオンを斑なく発生さ
せ、第二電極5を覆う保護膜の厚さを均一に維持して劣
化を防止するようにする。
(57) Abstract: An ion is generated without unevenness, and the thickness of a protective film covering a second electrode is kept uniform to prevent deterioration. SOLUTION: A second electrode 5 opposed to a first electrode 3 with a dielectric layer 4 interposed therebetween includes a plurality of divided electrodes 5a arranged in parallel.
And a connecting portion 5b connecting the ends of these divided electrodes 5a.
And a part having a bent portion 5d that is bent substantially at a right angle, and the inner angles of the bent portions 5d are connected by a smooth curve. Accordingly, when the organometallic compound is baked on the surface of the dielectric layer 4 for forming the second electrode 5, the occurrence of distortion at the inner angle of the bent portion 5d is suppressed, the surface is kept flat, and ions are removed. It is generated evenly, and the thickness of the protective film covering the second electrode 5 is kept uniform to prevent deterioration.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、イオン発生基板、
帯電装置、転写装置、除電装置、画像形成装置に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an ion generating substrate,
The present invention relates to a charging device, a transfer device, a charge removing device, and an image forming device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、絶縁基板の表面に、第一電極と誘
電体層と第二電極とを順次積層して形成し、第一電極と
第二電極との間に電圧を印加し、これらの電極の間にコ
ロナ放電を生起させてこれらの電極間近傍の空気をイオ
ン化させるようにしたイオン発生基板が知られている。
また、このイオン発生基板を電子写真方式の画像形成装
置の帯電装置、転写装置、除電装置として利用すること
も知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a first electrode, a dielectric layer, and a second electrode are sequentially laminated on the surface of an insulating substrate, and a voltage is applied between the first electrode and the second electrode. There is known an ion generating substrate in which a corona discharge is generated between the electrodes to ionize air near the electrodes.
It is also known to use the ion generating substrate as a charging device, a transfer device, and a static elimination device of an electrophotographic image forming apparatus.

【0003】このようなイオン発生基板において、平行
に配列された複数の分割電極と、これらの分割電極の端
部同士を接続する接続部と、この接続部を給電部に接続
する導電部とを備える第一電極及び第二電極を用いたも
のがある。また、有機金属化合物のペーストを焼成する
ことにより第一電極及び第二電極を形成する方法が知ら
れている。
In such an ion generating substrate, a plurality of divided electrodes arranged in parallel, a connecting portion connecting ends of these divided electrodes, and a conductive portion connecting the connecting portion to a power supply portion are provided. Some use first and second electrodes provided. Further, a method of forming a first electrode and a second electrode by baking an organic metal compound paste is known.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、ガラスによ
る誘電体層の表面に有機金属化合物(Ag、Pt、M
g、ペーストを含む)を焼成する場合、有機金属化合物
と誘電体層とは加熱されて膨張し、常温に下がる過程で
収縮する。この過程で誘電体層及び有機金属化合物が引
っ張られ、誘電体層と有機金属化合物との熱膨張率の
差、或いは、塗布する有機金属化合物のペーストの量の
違いにより、有機金属化合物に歪みが発生する。上記の
ように複数の分割電極と接続部と導電部とを備えた電極
の場合は、例えば分割電極と接続部とが交わる部分等の
ように、引っ張り方向が異なる二辺の交点となる屈曲部
分の内角に歪みによる皺が発生する。
By the way, organometallic compounds (Ag, Pt, M) are formed on the surface of the dielectric layer made of glass.
g and paste), the organometallic compound and the dielectric layer expand when heated and shrink in the process of dropping to room temperature. In this process, the dielectric layer and the organometallic compound are pulled, and the organometallic compound is distorted due to a difference in the coefficient of thermal expansion between the dielectric layer and the organometallic compound or a difference in the amount of the applied organometallic compound paste. appear. In the case of an electrode including a plurality of divided electrodes, a connection portion, and a conductive portion as described above, for example, a bent portion that is an intersection of two sides having different tensile directions, such as a portion where the divided electrode and the connection portion intersect. Wrinkles due to distortion occur in the inner corners of.

【0005】この皺は表面における凹凸形状で現れるた
め、使用時には凸の部分で電界が集中し、被帯電物を帯
電する場合に帯電電位に斑が発生する。また、電極の凸
の部分では電極の表面を覆う保護膜の厚さが薄くなるた
め、保護膜が早期の時点で劣化する。
[0005] Since the wrinkles appear in the form of irregularities on the surface, the electric field concentrates on the convex portions during use, and unevenness occurs in the charged potential when the object to be charged is charged. Further, since the thickness of the protective film covering the surface of the electrode becomes thinner at the convex portion of the electrode, the protective film deteriorates at an early stage.

【0006】第二電極は誘電体層の表面に形成されるた
め上記の問題がある。第一電極の場合は、グレーズ基板
等のように、誘電体層(アンダーコート層)が不要な絶
縁基板に形成する場合は問題ないが、絶縁基板上に誘電
体層を形成し、その上に第一電極を形成する場合は第二
電極と同様の問題が発生する。
The second electrode is formed on the surface of the dielectric layer and has the above-mentioned problem. In the case of the first electrode, there is no problem when a dielectric layer (undercoat layer) is formed on an insulative substrate that does not require a dielectric layer, such as a glaze substrate, but a dielectric layer is formed on the insulative substrate. When the first electrode is formed, a problem similar to that of the second electrode occurs.

【0007】また、絶縁基板には電極に電圧を印可する
ための給電部が形成され、この給電部に電極の導電部が
接続されるが、誘電体層の表面に形成された電極は、導
電部が誘電体層の表面から側面に向けて屈曲されて絶縁
基板上の給電部に接続されるため、導電部は絶縁基板に
接触する部分と誘電体層に接触する部分との境界部に断
線が発生し易い。この断線は有機金属化合物を焼成する
際において絶縁基板と誘電体層との熱膨張率の違いによ
るものである。
A power supply portion for applying a voltage to the electrode is formed on the insulating substrate, and a conductive portion of the electrode is connected to the power supply portion. The electrode formed on the surface of the dielectric layer is electrically conductive. Since the part is bent from the surface of the dielectric layer to the side and connected to the power supply part on the insulating substrate, the conductive part is disconnected at the boundary between the part that contacts the insulating substrate and the part that contacts the dielectric layer. Is easy to occur. This disconnection is due to a difference in the coefficient of thermal expansion between the insulating substrate and the dielectric layer when the organometallic compound is fired.

【0008】本発明はこのような点に鑑みなされたもの
で、誘電体層の表面に有機金属化合物を焼成することに
より電極を形成する際における上記問題の発生を防止す
ることを目的とするものである。
[0008] The present invention has been made in view of such a point, and an object of the present invention is to prevent the above-described problem from occurring when an electrode is formed by firing an organometallic compound on the surface of a dielectric layer. It is.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1記載のイオン発
生基板は、絶縁基板と;平行に配列された複数の分割電
極とこれらの分割電極の端部同士を接続する接続部とを
有し、前記絶縁基板の表面に形成された第一電極と;前
記第一電極を覆うように前記絶縁基板の表面に形成され
た誘電体層と;前記第一電極の前記分割電極に対して平
行に配列された複数の分割電極とこれらの分割電極の端
部を接続する接続部とを有し、一部に略直角に屈曲する
屈曲部分を有する形状をもち、前記誘電体層の表面に有
機金属化合物又はそれを主成分とする材料により形成さ
れ、前記屈曲部分の内角が滑らかな曲線により結ばれて
いる第二電極と;前記第二電極を覆う保護膜と;を備え
る。したがって、第二電極の形成のために誘電体層の表
面に有機金属化合物を焼成するときに、第二電極の屈曲
部分の内角における歪みの発生が抑制される。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an ion generating substrate comprising: an insulating substrate; a plurality of divided electrodes arranged in parallel and a connecting portion connecting end portions of these divided electrodes. A first electrode formed on the surface of the insulating substrate; a dielectric layer formed on the surface of the insulating substrate so as to cover the first electrode; It has a plurality of arranged divided electrodes and a connecting portion connecting end portions of these divided electrodes, has a shape having a bent portion bent at a substantially right angle in part, and has an organic metal on the surface of the dielectric layer. A second electrode formed of a compound or a material containing the compound as a main component, wherein an inner angle of the bent portion is connected by a smooth curve; and a protective film covering the second electrode. Therefore, when the organometallic compound is baked on the surface of the dielectric layer for forming the second electrode, generation of distortion at the inner angle of the bent portion of the second electrode is suppressed.

【0010】絶縁基板は表面に誘電体層を備えた絶縁基
板及び誘電体層を備えていない絶縁基板を含む。第一電
極及び第二電極を形成するための材料は、Ag、Pt、
Mg、ペースト等を含んだ有機金属化合物又はそれを主
成分とする材料が適用可能である。第一電極を覆う誘電
体層はガラスを主成分とする誘電体により形成されてい
る。
The insulating substrate includes an insulating substrate having a dielectric layer on the surface and an insulating substrate having no dielectric layer. Materials for forming the first electrode and the second electrode are Ag, Pt,
An organometallic compound containing Mg, a paste, or the like, or a material containing the same as a main component is applicable. The dielectric layer covering the first electrode is formed of a dielectric mainly composed of glass.

【0011】また、第一電極及び第二電極は、平行に配
列された複数の分割電極を接続部によりクランク状に接
続し、そのクランク形状体の一部に導電部を連続させた
形状を含む。
Further, the first electrode and the second electrode include a shape in which a plurality of divided electrodes arranged in parallel are connected in a crank shape by a connection portion, and a conductive portion is connected to a part of the crank shape body. .

【0012】請求項2記載の発明は、請求項1記載のイ
オン発生基板であって、前記絶縁基板は表面に誘電体層
を備え、前記第一電極は前記絶縁基板の前記誘電体層の
表面に前記有機金属化合物又はそれを主成分とする材料
により形成され、一部に略直角に屈曲する屈曲部分を有
する形状をもち、前記屈曲部分の内角は滑らかな曲線に
より結ばれている。したがって、第一電極の形成のため
に誘電体層の表面に有機金属化合物を焼成するときに、
第一電極の屈曲部分の内角における歪みの発生が抑制さ
れる。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the ion generating substrate according to the first aspect, wherein the insulating substrate has a dielectric layer on a surface thereof, and the first electrode is a surface of the dielectric layer of the insulating substrate. And has a shape having a bent portion bent at a substantially right angle in a part thereof, and the inner angles of the bent portions are connected by a smooth curve. Therefore, when firing the organometallic compound on the surface of the dielectric layer for the formation of the first electrode,
The generation of distortion at the inner angle of the bent portion of the first electrode is suppressed.

【0013】絶縁基板が表面に備えた誘電体層は、ガラ
スを主成分とする誘電体により形成されている。
The dielectric layer provided on the surface of the insulating substrate is made of a dielectric mainly composed of glass.

【0014】請求項3記載の発明は、請求項1又は2記
載のイオン発生基板であって、前記誘電体層の表面に形
成された前記第一電極、前記第二電極は前記接続部を給
電部に接続する導電部を有し、前記導電部と前記接続部
とが連続する屈曲部の内角が滑らかな曲線により結ばれ
ている。したがって、第一電極、第二電極の形成のため
に誘電体層の表面に有機金属化合物を焼成するときに、
導電部と接続部とが連続する屈曲部分の内角における歪
みの発生が抑制される。
According to a third aspect of the present invention, in the ion generating substrate according to the first or second aspect, the first electrode and the second electrode formed on the surface of the dielectric layer feed the connection portion. A conductive portion connected to the connecting portion, wherein the conductive portion and the connecting portion are connected to each other by a smooth curve at an inner angle of a continuous bent portion. Therefore, when firing the organometallic compound on the surface of the dielectric layer for the formation of the first electrode and the second electrode,
The generation of distortion at the inner angle of the bent portion where the conductive portion and the connection portion are continuous is suppressed.

【0015】請求項4記載の画像形成装置は、請求項1
ないし3記載のイオン発生基板を感光体の周囲に備え
る。したがって、画像形成装置における被帯電物を斑な
く帯電させることが可能となる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the image forming apparatus according to the first aspect.
The ion generating substrate according to any one of (3) to (3) is provided around the photoconductor. Therefore, it is possible to charge the object to be charged in the image forming apparatus without unevenness.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明の第一の実施の形態を図1
及び図2に基づてい説明する。図1はイオン発生基板の
主要部を示す平面図、図2は図1におけるX−X線部の
縦断側面図である。
FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
A description will be given based on FIG. FIG. 1 is a plan view showing a main part of the ion generating substrate, and FIG. 2 is a vertical sectional side view of the XX line part in FIG.

【0017】イオン発生基板1は、絶縁基板2と、この
絶縁基板2の表面に形成された第一電極3と、この第一
電極3を覆う誘電体層4と、この誘電体層4の表面に形
成された第二電極5と、この第二電極5を覆う保護膜6
と、絶遠基板2の下面に形成されたヒータ(図示せず)
とにより形成されている。
The ion generating substrate 1 includes an insulating substrate 2, a first electrode 3 formed on the surface of the insulating substrate 2, a dielectric layer 4 covering the first electrode 3, and a surface of the dielectric layer 4. Electrode 5 formed on the substrate and a protective film 6 covering the second electrode 5
And a heater (not shown) formed on the lower surface of the telephoto substrate 2
Are formed.

【0018】本実施の形態において、例えばアルミナを
材料とする絶縁基板2はその表面にアンダーコートとし
て誘電体層8が形成されている。誘電体層8はガラスを
主成分とする誘電体をスクリーン印刷することにより形
成されている。
In the present embodiment, a dielectric layer 8 is formed as an undercoat on the surface of an insulating substrate 2 made of, for example, alumina. The dielectric layer 8 is formed by screen-printing a dielectric mainly composed of glass.

【0019】第一電極3を覆う誘電体層4もガラスを主
成分とする誘電体をスクリーン印刷することにより形成
されている。この際、スクリーン印刷を二回に分けて行
い、30μmの厚みを確保している。また、一回目のス
クリーン印刷後に焼成を行うことにより、内部に含む気
泡を逃がすことができる。第二電極5を覆う保護膜6も
ガラスを主成分とする誘電体をスクリーン印刷すること
により形成されているが、このときに使用する誘電体
は、誘電体層4,8を形成するときの材料よりさらに軟
化点が低く流れや易い材料を用いている。第一電極3及
び第二電極5は、有機金属化合物(Ag、Pt、Mg、
ペーストを含む)を誘電体層8又は4の表面に焼成する
ことにより形成されている。
The dielectric layer 4 covering the first electrode 3 is also formed by screen-printing a dielectric mainly composed of glass. At this time, screen printing is performed twice, and a thickness of 30 μm is secured. By baking after the first screen printing, air bubbles contained in the inside can be released. The protective film 6 covering the second electrode 5 is also formed by screen-printing a dielectric mainly composed of glass. The dielectric used at this time is the same as that used when the dielectric layers 4 and 8 are formed. A material having a lower softening point than the material and easy to flow is used. The first electrode 3 and the second electrode 5 are made of an organometallic compound (Ag, Pt, Mg,
(Including a paste) on the surface of the dielectric layer 8 or 4.

【0020】第一電極3は、図1に示すように、平行に
配列された複数の分割電極3aと、これらの分割電極3
aの端部を接続する接続部3bと、この接続部3bを給
電部(図示せず)に接続する導電部3cとを連続してな
り、分割電極3aと接続部3bとの連続部分及び接続部
3bと導電部3cとの連続部分に略直角に屈曲する屈曲
部分3dが形成される形状をもつ。
As shown in FIG. 1, the first electrode 3 includes a plurality of divided electrodes 3a arranged in parallel, and these divided electrodes 3a.
a connecting portion 3b for connecting the end of the connecting portion 3a and a conductive portion 3c for connecting the connecting portion 3b to a power feeding portion (not shown). It has a shape in which a bent portion 3d bent at a substantially right angle is formed at a continuous portion of the portion 3b and the conductive portion 3c.

【0021】同様に、第二電極5は、第一電極3の分割
電極3aに対して平行に配列された複数の分割電極5a
と、これらの分割電極5aの端部を接続する接続部5b
と、この接続部5bを給電部(図示せず)に接続する導
電部5cとを連続してなり、分割電極5aと接続部5b
との連続部分及び接続部5bと導電部5cとの連続部分
に略直角に屈曲する屈曲部分5dが形成される形状をも
つ。
Similarly, the second electrode 5 includes a plurality of divided electrodes 5a arranged in parallel with the divided electrodes 3a of the first electrode 3.
And a connecting portion 5b connecting the ends of these divided electrodes 5a.
And a conductive portion 5c for connecting the connection portion 5b to a power supply portion (not shown). The divided electrode 5a and the connection portion 5b
And a continuous portion between the connecting portion 5b and the conductive portion 5c.

【0022】図2に示すように、第一電極3の分割電極
3aは、第二電極5の隣接する分割電極5aの間の隙間
と対向する位置に配置されている。
As shown in FIG. 2, the split electrode 3a of the first electrode 3 is arranged at a position facing the gap between the adjacent split electrodes 5a of the second electrode 5.

【0023】ここで、第一電極3の屈曲部分3dの内角
は滑らかな曲線により結ばれている。具体的には、分割
電極3aと接続部3bとが連続する内角はR1なる半径
の曲線により結ばれ、接続部3bと導電部3cとが連続
する内角はR2なる半径の曲線により結ばれている。
Here, the inner angles of the bent portions 3d of the first electrode 3 are connected by a smooth curve. Specifically, the inner angle at which the divided electrode 3a and the connecting portion 3b are continuous is connected by a radius curve R1, and the inner angle at which the connecting portion 3b and the conductive portion 3c are continuous is connected by a radius curve R2. .

【0024】また、第一電極5の屈曲部分5dの内角は
滑らかな曲線により結ばれている。具体的には、分割電
極5aと接続部5bとが連続する内角はR1なる半径の
曲線により結ばれ、接続部5bと導電部5cとが連続す
る内角はR2なる半径の曲線により結ばれている。
The inner angles of the bent portions 5d of the first electrode 5 are connected by a smooth curve. Specifically, the inner angle at which the divided electrode 5a and the connecting portion 5b are continuous is connected by a radius curve R1, and the inner angle at which the connecting portion 5b and the conductive portion 5c are continuous is connected by a radius curve R2. .

【0025】この場合、分割電極3a,5aの間隔を
a、接続部3b,5bの幅をbとしたとき、この例では
R1の半径はa/2、R2の半径はb/4に定められて
いるが、この値に限られるものではない。
In this case, assuming that the distance between the divided electrodes 3a and 5a is a and the width of the connecting portions 3b and 5b is b, in this example, the radius of R1 is a / 2 and the radius of R2 is b / 4. But it is not limited to this value.

【0026】本実施の形態においては、さらに、第一電
極3の屈曲部分3dの外角が滑らかな曲線により結ばれ
ている。具体的には、分割電極3aと接続部3bとが連
続する外角はR3なる半径により結ばれている。さら
に、分割電極3aの接続部3bとは反対側の先端はR4
なる半径で滑らかな曲線を描くように形成されている。
In this embodiment, the outer angles of the bent portions 3d of the first electrode 3 are connected by a smooth curve. Specifically, the outer angles at which the divided electrodes 3a and the connecting portions 3b are continuous are connected by a radius of R3. Further, the tip of the split electrode 3a on the side opposite to the connection portion 3b is R4
It is formed so as to draw a smooth curve with a given radius.

【0027】同様に、第二電極5の屈曲部分5dの外角
が滑らかな曲線により結ばれている。具体的には、分割
電極5aと接続部5bとが連続する外角はR3なる半径
の曲線により結ばれている。さらに、分割電極5aの接
続部5bとは反対側の先端はR4なる半径で滑らかな曲
線を描くように形成されている。
Similarly, the outer angles of the bent portions 5d of the second electrode 5 are connected by a smooth curve. Specifically, the outer angle at which the divided electrode 5a and the connecting portion 5b are continuous is connected by a radius curve of R3. Further, the tip of the split electrode 5a on the side opposite to the connection portion 5b is formed so as to draw a smooth curve with a radius of R4.

【0028】この場合、R3の半径はb/4に定めら
れ、分割電極3a,5aの幅をcとしたとき、R4の半
径はc/2に定められているが、この値に限られるもの
ではない。
In this case, the radius of R3 is determined to be b / 4, and the width of divided electrodes 3a, 5a is assumed to be c, and the radius of R4 is determined to be c / 2, but is limited to this value. is not.

【0029】このようなイオン発生基板1では、絶縁基
板2の裏面に設けたヒータを駆動して絶縁基板2を加温
した状態で、第一電極3と第二電極5とに高周波、高電
圧の交流電圧を印加すると、第二電極5の分割電極5a
間の隙間に高い交番電界が集中的に発生し、高密度のイ
オンが発生する。イオン発生のメカニズムは、空気中に
発生している空間電荷が分割電極5aの間の電界で加速
されて、順次空気中を気体分子と衝突しつつ移動するに
従って正負イオンが増倍され、交番電界により増倍した
各イオンの動きが逆となり、さらにイオンを増倍させる
ものである。
In such an ion generating substrate 1, the heater provided on the back surface of the insulating substrate 2 is driven to heat the insulating substrate 2, and the high frequency and high voltage are applied to the first electrode 3 and the second electrode 5. Is applied, the divided electrode 5a of the second electrode 5
A high alternating electric field is intensively generated in the gaps between the gaps, and high-density ions are generated. The mechanism of the ion generation is that the space charge generated in the air is accelerated by the electric field between the divided electrodes 5a, and the positive and negative ions are multiplied as they move while colliding with the gas molecules in the air in sequence. The movement of each of the multiplied ions is reversed, and the ions are further multiplied.

【0030】ところで、誘電体層8又は4の表面に有機
金属化合物をスクリーン印刷等の手段により製膜し、こ
れを焼成することにより第一電極3,第二電極5を形成
するが、このときに加熱された誘電体層8,4と有機金
属化合物とは収縮するため引っ張られる。このときに、
分割電極3a,5aのようにストレートの部分では、そ
の長手方向に引張力が作用するが、屈曲部分3d,5d
では互いに直交する二方向に引張力が作用する。このた
め、屈曲部分3d,5dの内角の部分が直角の場合には
内角を二分する直線に沿って応力が集中するが、内角が
R1,R2なる半径をもつ曲線で結ばれているため、歪
みの発生が抑制される。これにより第一電極3、第二電
極5の表面に歪みによる凹凸が形成されることはない。
したがって、第一電極3と第二電極5の一部に電界が集
中することがなく、これにより、イオンを斑なく発生さ
せることができる。また、第二電極5を覆う保護膜6
は、第二電極5に凹凸が生じないため膜厚を均一にして
劣化を防止することができる。
By the way, an organic metal compound is formed on the surface of the dielectric layer 8 or 4 by means of screen printing or the like, and this is fired to form the first electrode 3 and the second electrode 5. The heated dielectric layers 8 and 4 and the organometallic compound are contracted and pulled. At this time,
In a straight portion like the divided electrodes 3a and 5a, a tensile force acts in the longitudinal direction, but the bent portions 3d and 5d
Then, tensile forces act in two directions orthogonal to each other. For this reason, when the inside angles of the bent portions 3d and 5d are right angles, stress concentrates along a straight line that bisects the inside angles, but since the inside angles are connected by curves having radii of R1 and R2, distortion occurs. Is suppressed. Thus, no irregularities due to distortion are formed on the surfaces of the first electrode 3 and the second electrode 5.
Therefore, the electric field does not concentrate on a part of the first electrode 3 and the second electrode 5, whereby ions can be generated without unevenness. Further, a protective film 6 covering the second electrode 5
Since no irregularities are formed on the second electrode 5, the film thickness can be made uniform to prevent deterioration.

【0031】また、屈曲部3d,5dの外角の部分、分
割電極3a,5aの先端は応力が集中する度合いが少な
いが、この部分もR3又はR4の半径をもって曲線形状
に形成されているため、歪みが発生するおそれはない。
The outer corners of the bent portions 3d and 5d and the tips of the divided electrodes 3a and 5a are less likely to concentrate stress, but these portions are also formed in a curved shape with a radius of R3 or R4. There is no risk of distortion.

【0032】なお、本実施の形態では、誘電体層8を有
する絶縁基板2に第一電極3を形成したので、第一電極
3の屈曲部分3dの内角をR1,R2なる半径の曲線で
結んだが、誘電体層8を具備しない絶縁基板に第一電極
3を形成する場合には、有機金属化合物を焼成する際に
絶縁基板がガラスのように収縮しないので、屈曲部分3
dの内角に歪みが生ずることはない。これにより、屈曲
部分3dの内角を曲線で結ぶ必要はない。
In this embodiment, since the first electrode 3 is formed on the insulating substrate 2 having the dielectric layer 8, the inner angles of the bent portions 3d of the first electrode 3 are connected by a curve having a radius of R1, R2. However, when the first electrode 3 is formed on an insulating substrate having no dielectric layer 8, the insulating substrate does not shrink like glass when the organometallic compound is fired.
No distortion occurs in the interior angle of d. Thus, it is not necessary to connect the inner angles of the bent portions 3d with a curve.

【0033】次に、本発明の第二の実施の形態を図3及
び図4に基づいて説明する。前記実施の形態と同一部分
は同一符号を用い説明も省略する。図3は第二電極5の
導電部5cと給電部との接続関係を示す平面図、図4は
図3におけるY−Y線部において第二電極5の導電部5
cと給電部との接続関係を示す縦断側面図である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The same parts as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. FIG. 3 is a plan view showing the connection relationship between the conductive portion 5c of the second electrode 5 and the power supply portion. FIG. 4 is a plan view showing the conductive portion 5 of the second electrode 5 in the YY line portion in FIG.
It is a vertical side view which shows the connection relationship between c and a feed part.

【0034】絶縁基板7には導電膜9により囲まれたス
ルホール10が形成されている。場合、導電膜9は、銀
/パラジウム、銀/白金、等の合金をスクリーン印刷す
ることにより形成されている。図2に示すように、第一
電極3はスクリーン印刷を二回に分けて形成された誘電
体層4a,4bに覆われている。誘電体層4bの表面と
絶縁基板7の表面とは高さレベルが異なるため、誘電体
層4bの表面に形成された第二電極5を導電膜9に接続
するために導電部5cには高低差のある段差部分5eが
形成されている。
A through hole 10 surrounded by a conductive film 9 is formed in the insulating substrate 7. In this case, the conductive film 9 is formed by screen printing an alloy such as silver / palladium or silver / platinum. As shown in FIG. 2, the first electrode 3 is covered with dielectric layers 4a and 4b formed by performing screen printing twice. Since the surface of the dielectric layer 4b and the surface of the insulating substrate 7 have different height levels, the conductive portion 5c has a high level to connect the second electrode 5 formed on the surface of the dielectric layer 4b to the conductive film 9. A step portion 5e having a difference is formed.

【0035】誘電体層4bの上に第二電極5を形成する
には、前記実施の形態と同様に有機金属化合物を焼成す
ることにより形成するが、加熱後の収縮により第二電極
5は引っ張られる。このとき、導電部5cの段差部分5
eは誘電体層4bに接触する部分と絶縁基板7に接触す
る部分とがあり、この二つの部分の境界には誘電体層4
bと絶縁基板7との熱膨張率の違いによる歪みが発生す
る。しかも、段差部分5eは固形化するまでの間に材料
が下方に流れるため膜厚が薄くなる。
The second electrode 5 is formed on the dielectric layer 4b by sintering the organometallic compound in the same manner as in the above embodiment, but the second electrode 5 is pulled by the shrinkage after heating. Can be At this time, the step portion 5 of the conductive portion 5c
e has a portion that contacts the dielectric layer 4b and a portion that contacts the insulating substrate 7, and the boundary between the two portions is the dielectric layer 4b.
Distortion occurs due to the difference in the coefficient of thermal expansion between b and the insulating substrate 7. Moreover, the thickness of the step portion 5e becomes thin because the material flows downward before it is solidified.

【0036】しかしながら、段差部分5eの幅を分割電
極5a(図1参照)の幅よりも太い幅に設定することに
より、段差部分5eの強度を補強し、断線を防止するこ
とができる。
However, by setting the width of the step portion 5e to be larger than the width of the divisional electrode 5a (see FIG. 1), the strength of the step portion 5e can be reinforced and disconnection can be prevented.

【0037】なお、二回目に形成する誘電体層4bの面
積を一回目に形成する誘電体層4aの端部を覆う大きさ
に定め、その誘電体層4bの材料として軟化点の低いガ
ラス等の誘電体を用いることにより、誘電体層4bをス
クリーン印刷するときにその誘電体を流れ易くし、誘電
体層4a,4bの側面をなだらかな形状にすることがで
きる。これにより、第二電極5の段差部分5eをなだら
かな形状に維持して導電膜9に接続することができる。
The area of the second dielectric layer 4b to be formed is determined so as to cover the end of the first dielectric layer 4a, and the material of the dielectric layer 4b is glass or the like having a low softening point. When the dielectric layer 4b is used for screen printing, the dielectric layer 4b can easily flow through the dielectric layer, and the side surfaces of the dielectric layers 4a and 4b can be formed in a gentle shape. Thereby, the step portion 5e of the second electrode 5 can be connected to the conductive film 9 while maintaining a gentle shape.

【0038】誘電体層4a,4bを二回に分けてスクリ
ーン印刷する場合に、二回目の誘電体層4bの大きさ
を、その端部より一回目の誘電体層4aの端部が外側に
位置する程度により小さくすることによっても、段差部
分5eをなだらかな形状にすることができる。
When the dielectric layers 4a and 4b are screen printed in two separate steps, the size of the second dielectric layer 4b is adjusted so that the end of the first dielectric layer 4a is located outside the end. The step portion 5e can be formed in a gentle shape also by making the position smaller.

【0039】なお、図2に示すように、絶縁基板7の誘
電体層8の上に第一電極3を形成する場合には、誘電体
層8の表面と絶縁基板7の表面とは高さレベルが異なる
ため、第一電極3を導電膜9に接続するために導電部3
cには高低差のある段差部分が形成されることになる。
この場合にはその段差部分の幅を分割電極3aの幅より
広くすることにより、焼成時における断線を防止するこ
とができる。
When the first electrode 3 is formed on the dielectric layer 8 of the insulating substrate 7 as shown in FIG. 2, the height of the surface of the dielectric layer 8 and the surface of the insulating substrate 7 are Since the levels are different, the conductive portion 3 is required to connect the first electrode 3 to the conductive film 9.
A step portion having a height difference is formed in c.
In this case, by making the width of the step portion wider than the width of the divided electrode 3a, disconnection during firing can be prevented.

【0040】次に、本発明の第三の実施の形態を図5に
基づいて説明する。図5は画像形成装置の概略構成を示
す正面図である。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a front view illustrating a schematic configuration of the image forming apparatus.

【0041】図中、20は時計方向に回転駆動される感
光体である。この感光体20の周囲には、感光体20の
表面を帯電する帯電装置21と、感光体20の電荷を除
電する除電装置22と、感光体20に静電潜像を書き込
む露光装置(図示せず)と、現像装置23と、感光体2
0上の画像を転写用紙Sに転写する転写装置24と、転
写用紙Sを感光体20から剥離する剥離装置25と、感
光体20の表面を清掃するクリーニングユニット26と
が配列されている。27は多数枚の転写用紙Sを積層状
態で収納する給紙カセットで、この給紙カセット27か
ら定着装置28に至る用紙通路29には、給紙カセット
27内の転写用紙Sを一枚ずつ給紙する給紙ローラ30
と、感光体20上での画像形成プロセスに同期して回転
するレジストローラ31とが配列されている。
In the figure, reference numeral 20 denotes a photosensitive member which is driven to rotate clockwise. Around this photoreceptor 20, a charging device 21 for charging the surface of the photoreceptor 20, a static eliminator 22 for removing charges from the photoreceptor 20, and an exposure device (not shown) for writing an electrostatic latent image on the photoreceptor 20 are provided. ), The developing device 23 and the photoconductor 2
A transfer device 24 that transfers the image on the transfer paper S to the transfer paper S, a peeling device 25 that peels the transfer paper S from the photoconductor 20, and a cleaning unit 26 that cleans the surface of the photoconductor 20 are arranged. Reference numeral 27 denotes a paper feed cassette for storing a large number of transfer papers S in a stacked state, and feeds the transfer papers S in the paper feed cassette 27 one by one to a paper passage 29 extending from the paper feed cassette 27 to the fixing device 28. Paper feed roller 30 for paper
And a registration roller 31 that rotates in synchronization with an image forming process on the photoconductor 20 are arranged.

【0042】このような構成において、感光体20は時
計方向に回転駆動される過程で帯電装置21により表面
が帯電され、その帯電部分には画像信号に基づいて変調
されたレーザー光32が露光装置から照射されるため静
電潜像が形成される。この静電潜像は現像装置23によ
り現像される。一方、給紙ローラ30により給紙された
転写用紙Sはレジストローラ30のニップに達して待機
しており、画像形成プロセスに同期してレジストローラ
31が駆動されると、転写用紙Sが感光体20と転写装
置24との間に給紙される。感光体20上の現像画像は
転写装置24により転写用紙Sに転写され、その転写画
像は転写用紙Sが定着装置28に達したときにこの定着
装置28により定着される。定着された転写用紙Sは排
紙トレイ(図示せず)に排紙される。感光体20上に残
る残存トナーはクリーニングユニット26により払拭さ
れる。
In such a configuration, the surface of the photoconductor 20 is charged by the charging device 21 in the process of being driven to rotate clockwise, and a laser beam 32 modulated based on an image signal is applied to the charged portion of the exposure device. , An electrostatic latent image is formed. This electrostatic latent image is developed by the developing device 23. On the other hand, the transfer paper S fed by the paper feed roller 30 reaches the nip of the registration roller 30 and stands by, and when the registration roller 31 is driven in synchronization with the image forming process, the transfer paper S Paper is fed between the transfer device 20 and the transfer device 24. The developed image on the photoconductor 20 is transferred to the transfer sheet S by the transfer device 24, and the transferred image is fixed by the fixing device 28 when the transfer sheet S reaches the fixing device 28. The fixed transfer sheet S is discharged to a discharge tray (not shown). The remaining toner remaining on the photoconductor 20 is wiped by the cleaning unit 26.

【0043】ところで、帯電装置21、除電装置22、
転写装置24は、図1ないし図4において説明したイオ
ン発生基板1を具備している。もちろん、剥離装置25
もイオン発生基板1を具備する構成でもかまわない。こ
のため、帯電装置21、除電装置22、転写装置24、
剥離装置25において、イオンを斑なく発生させること
ができる。
By the way, the charging device 21, the static elimination device 22,
The transfer device 24 includes the ion generating substrate 1 described with reference to FIGS. Of course, the peeling device 25
Alternatively, a configuration including the ion generating substrate 1 may be used. For this reason, the charging device 21, the static elimination device 22, the transfer device 24,
In the peeling device 25, ions can be generated without unevenness.

【0044】[0044]

【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、誘電体層
を挟んで第一電極と対向する第二電極は、平行に配列さ
れた複数の分割電極とこれらの分割電極の端部を接続す
る接続部とを有し、一部に略直角に屈曲する屈曲部分を
有する形状をもって形成され、屈曲部分の内角が滑らか
な曲線により結ばれているので、第二電極の形成のため
に誘電体層の表面に有機金属化合物又はそれを主成分と
する材料を焼成するときに、第二電極の屈曲部分の内角
における歪みの発生を抑制することができる。これによ
り、第二電極の表面を平らに維持し、イオンを斑なく発
生させることができる。さらに、第二電極を覆う保護膜
の厚さを均一に維持して劣化を防止することができる。
According to the first aspect of the present invention, the second electrode facing the first electrode with the dielectric layer interposed therebetween is composed of a plurality of divided electrodes arranged in parallel and the ends of these divided electrodes. And a connecting portion to be connected, and is formed in a shape having a bent portion that is bent at a substantially right angle in part, and since the inner angles of the bent portions are connected by a smooth curve, the dielectric is formed for forming the second electrode. When baking an organometallic compound or a material containing the same as a main component on the surface of the body layer, it is possible to suppress the occurrence of distortion at the inner angle of the bent portion of the second electrode. Thereby, the surface of the second electrode can be maintained flat, and ions can be generated without unevenness. Further, the thickness of the protective film covering the second electrode can be maintained uniform to prevent deterioration.

【0045】請求項2記載の発明によれば、絶縁基板が
備える誘電体層に形成されて第二電極と対向する第一電
極は、複数の分割電極とこれらの分割電極の端部を接続
する接続部とを有し、一部に略直角に屈曲する屈曲部分
を有する形状をもち、屈曲部分の内角は滑らかな曲線に
より結ばれているので、第一電極の形成のために誘電体
層の表面に有機金属化合物又はそれを主成分とする材料
を焼成するときに、第一電極の屈曲部分の内角における
歪みの発生を抑制することができる。これにより、第一
電極の表面を平らに維持し、イオンを斑なく発生させる
ことができる。
According to the second aspect of the present invention, the first electrode formed on the dielectric layer provided on the insulating substrate and facing the second electrode connects the plurality of divided electrodes and the ends of these divided electrodes. It has a connection part, and has a shape having a bent portion that is bent at a substantially right angle in part, and the inner angles of the bent portion are connected by a smooth curve, so that the dielectric layer of the dielectric layer for forming the first electrode is formed. When baking an organometallic compound or a material containing the same as a main component on the surface, it is possible to suppress occurrence of distortion at an inner angle of a bent portion of the first electrode. Thereby, the surface of the first electrode can be maintained flat, and ions can be generated without unevenness.

【0046】請求項3記載の発明によれば、誘電体層の
表面に形成された第一電極、第二電極は接続部を給電部
に接続する導電部を有し、導電部と接続部とが連続する
屈曲部の内角が滑らかな曲線により結ばれているので、
第一電極、第二電極の形成のために誘電体層の表面に有
機金属化合物又はそれを主成分とする材料を焼成すると
きに、導電部と接続部とが連続する屈曲部分の内角にお
ける歪みの発生を抑制することができる。
According to the third aspect of the present invention, the first electrode and the second electrode formed on the surface of the dielectric layer have a conductive portion for connecting the connection portion to the power supply portion. Are connected by a smooth curve,
When firing an organometallic compound or a material containing the same as a main component on the surface of the dielectric layer for forming the first electrode and the second electrode, distortion at an inner angle of a bent portion where the conductive portion and the connection portion are continuous. Can be suppressed.

【0047】請求項4記載の画像形成装置は、請求項1
ないし3記載のイオン発生基板を感光体の周囲に備える
ので、画像形成装置における被帯電物を斑なく帯電させ
ることができ、したがって、画像品質を高めることがで
きる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the image forming apparatus according to the first aspect.
Since the ion generating substrate according to any one of the first to third aspects is provided around the photoreceptor, the object to be charged in the image forming apparatus can be charged without unevenness, so that the image quality can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一の実施の形態におけるイオン発生
基板の主要部を示す平面図
FIG. 1 is a plan view showing a main part of an ion generating substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1におけるX−X線部の縦断側面図FIG. 2 is a longitudinal sectional side view of an XX line part in FIG. 1;

【図3】本発明の第二の実施の形態における第二電極の
導電部と給電部との接続関係を示す平面図
FIG. 3 is a plan view showing a connection relationship between a conductive portion of a second electrode and a power supply portion according to a second embodiment of the present invention.

【図4】図3におけるY−Y線部において第二電極の導
電部と給電部との接続関係を示す縦断側面図
4 is a vertical sectional side view showing a connection relationship between a conductive portion of a second electrode and a power supply portion in a YY line portion in FIG. 3;

【図5】画像形成装置の概略構成を示す正面図FIG. 5 is a front view illustrating a schematic configuration of the image forming apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:イオン発生基板 2,7:絶縁基板 3:第一電極 3a:分割電極 3b:接続部 3c:導電部 3d:屈曲部分 4,4a,4b:誘電体層 5:第二電極 5a:分割電極 5b:接続部 5c:導電部 5d:屈曲部分 5e:段差部分 6:保護膜 20:感光体 1: Ion generation substrate 2, 7: Insulating substrate 3: First electrode 3a: Split electrode 3b: Connection 3c: Conductive portion 3d: Bent portion 4, 4a, 4b: Dielectric layer 5: Second electrode 5a: Split electrode 5b: connection portion 5c: conductive portion 5d: bent portion 5e: stepped portion 6: protective film 20: photoconductor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江崎 史郎 東京都品川区東品川四丁目3番1号 東芝 ライテック株式会社内 Fターム(参考) 2H003 BB11 BB16 CC01 EE08 2H032 AA02 BA13 BA23 2H035 AA03 AA04 AB03  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Shiro Ezaki 4-3-1 Higashishinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Toshiba Lighting & Technology Corporation F-term (reference) 2H003 BB11 BB16 CC01 EE08 2H032 AA02 BA13 BA23 2H035 AA03 AA04 AB03

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁基板と;平行に配列された複数の分
割電極とこれらの分割電極の端部同士を接続する接続部
とを有し、前記絶縁基板の表面に形成された第一電極
と;前記第一電極を覆うように前記絶縁基板の表面に形
成された誘電体層と;前記第一電極の前記分割電極に対
して平行に配列された複数の分割電極とこれらの分割電
極の端部を接続する接続部とを有し、一部に略直角に屈
曲する屈曲部分を有する形状をもち、前記誘電体層の表
面に有機金属化合物又はそれを主成分とする材料により
形成され、前記屈曲部分の内角が滑らかな曲線により結
ばれている第二電極と;前記第二電極を覆う保護膜と;
を備えるイオン発生基板。
A first electrode formed on a surface of the insulating substrate, the insulating substrate having: a plurality of divided electrodes arranged in parallel; and a connecting portion connecting ends of the divided electrodes. A dielectric layer formed on the surface of the insulating substrate so as to cover the first electrode; a plurality of divided electrodes arranged in parallel to the divided electrodes of the first electrode; and ends of these divided electrodes. Having a shape having a bent portion bent at a substantially right angle in part, formed on the surface of the dielectric layer by an organometallic compound or a material containing it as a main component, A second electrode in which the inner angles of the bent portions are connected by a smooth curve; a protective film covering the second electrode;
An ion generating substrate comprising:
【請求項2】 前記絶縁基板は表面に誘電体層を備え、
前記第一電極は前記絶縁基板の前記誘電体層の表面に前
記有機金属化合物又はそれを主成分とする材料により形
成され、一部に略直角に屈曲する屈曲部分を有する形状
をもち、前記屈曲部分の内角は滑らかな曲線により結ば
れている請求項1記載のイオン発生基板。
2. The insulating substrate includes a dielectric layer on a surface,
The first electrode is formed on the surface of the dielectric layer of the insulating substrate from the organometallic compound or a material containing the organometallic compound as a main component, and has a shape having a bent portion that is bent at a substantially right angle in a part thereof. 2. The ion generating substrate according to claim 1, wherein the inner angles of the portions are connected by a smooth curve.
【請求項3】 前記誘電体層の表面に形成された前記第
一電極、前記第二電極は前記接続部を給電部に接続する
導電部を有し、前記導電部と前記接続部とが連続する屈
曲部の内角が滑らかな曲線により結ばれている請求項1
又は2記載のイオン発生基板。
3. The first electrode and the second electrode formed on the surface of the dielectric layer have a conductive part connecting the connection part to a power supply part, and the conductive part and the connection part are continuous. The inner angles of the bent portions are connected by a smooth curve.
Or the ion generating substrate according to 2.
【請求項4】 請求項1ないし3記載のイオン発生基板
を感光体の周囲に備える画像形成装置。
4. An image forming apparatus comprising the ion generating substrate according to claim 1 around a photoreceptor.
JP34069398A 1998-11-30 1998-11-30 Ion generating substrate, image forming device Pending JP2000173744A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34069398A JP2000173744A (en) 1998-11-30 1998-11-30 Ion generating substrate, image forming device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34069398A JP2000173744A (en) 1998-11-30 1998-11-30 Ion generating substrate, image forming device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000173744A true JP2000173744A (en) 2000-06-23

Family

ID=18339416

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34069398A Pending JP2000173744A (en) 1998-11-30 1998-11-30 Ion generating substrate, image forming device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000173744A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7801464B2 (en) 2007-08-06 2010-09-21 Sharp Kabushiki Kaisha Ion generating device with a discharge electrode on a dielectric body coated by a protective layer made of metal

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7801464B2 (en) 2007-08-06 2010-09-21 Sharp Kabushiki Kaisha Ion generating device with a discharge electrode on a dielectric body coated by a protective layer made of metal

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107463075A (en) Fixation unit and the imaging device using the fixation unit
EP0274895B1 (en) Corona charging device
JPH118042A (en) Ion generating substrate and electrophotographic recording device
JP2009042318A (en) Ion generating element, method of manufacturing ion generating element, charging device, and image forming apparatus
JP2000173744A (en) Ion generating substrate, image forming device
JPH09106232A (en) Particle removal apparatus and manufacture of toner removal roll
JP4926872B2 (en) Ion generating element manufacturing method, ion generating element, charging device, and image forming apparatus
JP2001093650A (en) Ion charger and electronic printer
JPH0855674A (en) Heater device, fixing device, and image forming device
KR100715852B1 (en) Heating roller and phase fixing device using same
JP2001015246A (en) Ion generating substrate, charging device, electrophotographic recording device
JP2001093649A (en) Ion generating substrate and electronic printing device
JP2001093648A (en) Ion generating substrate and electronic printing device
JP3251491B2 (en) Image forming device
JP4926873B2 (en) Ion generating element, manufacturing method of ion generating element, charging device, and image forming apparatus
JP2001093647A (en) Ion generating thick film substrate and electronic printing device
KR20060136060A (en) Heating roller and image fixing apparatus using the same
JPH05224507A (en) Ion generator
JP3253849B2 (en) Image forming device
JPH1172990A (en) Ion generator and image forming apparatus
JP3579222B2 (en) Contact charging device
JPS61275877A (en) Fixing device for electrophotographic printer
JPH10294162A (en) Ion generator and electrophotographic recording device
JP2555866B2 (en) Electrophotographic charging device
JP2002251090A (en) Fixing device and image forming apparatus provided with the fixing device