JP2000173030A

JP2000173030A - 磁気ディスク装置

Info

Publication number: JP2000173030A
Application number: JP10343138A
Authority: JP
Inventors: Yuji Tsukamoto; 雄二塚本
Original assignee: NEC Corp
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1998-12-02
Filing date: 1998-12-02
Publication date: 2000-06-23

Abstract

(57)【要約】【課題】ヘッドロードアンロード（ＨＬＵ）機構を搭
載した磁気ディスク装置の問題点である磁気ヘッドスラ
イダ空気軸受け面とその近傍の汚染に起因する、スライ
ダ浮上特性の変化、および浮上特性の変化に起因する記
録再生特性の変化を解決する。【解決手段】ＨＬＵ動作時に、相対する２つの磁気ヘ
ッドスライダ２２Ａ、２２Ｂの間に汚染物除去機構３０
が挿入される。この汚染物除去機構３０に設けた合成繊
維層３４に液状付着物や固体汚染物を付着させ、磁気ヘ
ッドスライダ２２Ａ、２２Ｂの空気軸受け面の汚染物を
除去する。また、汚染物除去機構３０を振動させる振動
機構４０を設ける。磁気ヘッドスライダ２２Ａ、２２Ｂ
が汚染物除去機構３０に接触した状態で、汚染物除去機
構３０を振動させることにより、より積極的な汚染物除
去を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＨＬＵ機構を搭載
した磁気ディスク装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、磁気ディスク装置の起動停止
方式は、磁気ヘッドスライダを磁気ディスクに接触させ
た女体で起動停止するコンタクト・スタート・ストップ
（以下、ＣＳＳと略称する）方式と、装置停止時に磁気
ヘッドスライダを磁気ディスクと分離させ、磁気ヘッド
スライダ支持系全体をロードおよびアンロードする（以
下、ＨＬＵと略称する）方式の２つに大別される。

【０００３】ＣＳＳ方式は従来方式であるのに対して、
ＨＬＵ方式は近年の高密度磁気ディスク装置に適用され
てきた新しい起動停止方式であり、ＣＳＳ方式に対して
ＨＬＵ方式は以下のような利点を有している。１）装置の起動・停止時に、ＣＳＳ方式のようなヘッド
スライダとディスクとの間で機械的な接触摺動を伴わ
ず、ヘッドと媒体を自動的に分離するため、摩耗等によ
って装置寿命を低減させる確率が低下する。２）ヘッドスライダとディスクを分離させた状態におく
ため、ヘッド吸着防止用にディスク表面にテクスチャと
呼ばれる傷を設ける必要がない。したがって、ＨＬＵ方
式の磁気ディスク装置に使用できるディスクの表面は、
ＣＳＳ方式のそれに比較してより平滑化が可能である。
この平滑化は、より低い浮上量の磁気ヘッドスライダを
装置に搭載できるという点で記録密度の向上にも有効で
ある。

【０００４】以上のような利点があるものの、下記に詳
述するような欠点も顕在化してきている。すなわち、近
年の磁気ディスク装置分野では、年率５０〜６０％の激
しい記録密度向上競争が展開されているが、この競争を
支えている１つの技術が磁気ヘッドスライダの低浮上化
技術である。現在の量産機種の記録密度である平方イン
チ当たり３〜４ギガビット（以下、３〜４Ｇｂ／ｓｉの
ように略す）での磁気ヘッドスライダの浮上量（なお、
ここで言う浮上量とは、磁気ヘッドの記録再生部である
記録／再生ギャップ部が設けられている部分の浮上量で
あり、通常ギャップ浮上量と呼ばれる値に相当する）
は、４０ｎｍ前後であり、次世代の１０Ｇｂ／ｓｉを越
える記録密度領域では、２０ｎｍ以下と予測されてい
る。

【０００５】この低浮上化技術にとって、ＨＬＵ方式が
有利であることは前述したが、低浮上領域の信頼性問題
として新たに“Fly-Stiction”と呼ばれる問題が明らか
となった。この“Fly-Stiction”の問題は、ペンウェル
社発行のデータストレージ1998年７月号（DATA STORAG
E,July 1998,Vol.5 No.8,PennWell社発行）にも説明さ
れている。この“Fly-Stiction”の機構は、十分に解明
された状況ではないが、次のように考えられている。す
なわち、潤滑剤のような液状物質が、浮上状態にある磁
気ヘッドスライダの空気浮上面や、空気浮上面の段差部
に付着する。この付着現象をもたらす駆動力は以下のよ
うなものが考えられる。

【０００６】１）磁気ヘッドスライダの浮上量が低く、
磁気ディスク媒体が許容する浮上量（一般に、グライド
高さと呼ばれる）とスライダ浮上量との間に十分なマー
ジンが確保されていない条件では、安定し、かつ完全な
浮上状態を維持することが困難で、間欠的な接触摺動状
態が不可避である。この間欠的な接触摺動状態のもとで
スライダの空気軸受け面やその近傍に液状物質が付着す
る。２）前記のような間欠的な接触摺動状態が存在しなくて
も、現在のスライダ形状の主流である負圧型スライダの
段差部には相対的に圧力が低くなる負圧部が発生し、こ
の負圧部に液状物質、塵埃等が吸引、集積する。なお、“Fly-Stiction”によって形成された液状付着物
は、通常の潤滑剤に比較すると、スライダ表面への付着
力が高く、粘着性が変化していることから、液状付着物
は潤滑剤が磁気ディスク装置内の気体成分と反応し、化
学的変成を受けている可能性が高いことも指摘されてい
る。

【０００７】さて、“Fly-Stiction”による液状付着物
を含めて、磁気ヘッドスライダの空気軸受け面やその近
傍への付着物の形成は、以下のような影響を装置の記録
再生特性や信頼性に及ぼすことになる。まず、付着物の
形成は、一般に磁気ヘッドスライダの浮上特性を変化さ
せ、付着位置や付着量に依存して、ロ−ル角やピッチ角
の変化、浮上量の増加、または低下をもたらす。そし
て、ギャップ浮上量の増加は、再生信号出力の低下をま
ねき、許容値を越えた最悪の場合には、記録再生不能の
状態に陥ることもある。また、最小浮上量の低下は接触
摺動頻度の増加につながることから、機械的耐久性や装
置寿命の低下をもたらす原因となる。また、ＣＣＳ方式
の磁気ディスク装置では、装置停止時にヘッドスライダ
とディスクとが接触状態におかれるため、停止時に液状
付着物がヘッドスライダとディスク間のすきまに再展開
し、スライダをディスク表面に吸着（Stiction）させ、
装置の再起動を不可能にするといった問題点も指摘され
ている。

【０００８】ここで、磁気ディスク装置内でのスライダ
表面への付着物に対する対処法としては、以下の２点が
挙げられる。１）付着物が液状であれ、固体であれ、スライダの浮上
特性に著しく影響する空気軸受け面やその近傍にできる
だけ付着させない。２）何らかの動作により、付着物をスライダから除去す
る。

【０００９】そして、１）の従来技術としては、スライ
ダの空気軸受け面の形状を塵埃が付着しにくい形状とす
るといったスライダ設計が主流であり、その公知例とし
ては特開平１０−１４４０２６号や特開昭５８−２４８
１７９号に開示されるものがある。これら２つの公知例
は、磁気ヘッドスライダの空気軸受け面に塵埃を空気流
に沿って系外へ排出する溝や塵埃や、塵埃防御壁を空気
軸受け面に配置することによって塵埃の付着防止を意図
したものである。また、２）の付着物を除去する手段と
しては、ＣＳＳ動作やシーク動作によりスライダとディ
スクとを意図的に接触摺動させ、その接触摺動により付
着物を除去するといった考えが主である。例えば、ＣＳ
Ｓ動作による公知例としては、特願平０８−３４０７７
９号が挙げられる。この特願平０８−３４０７７９号で
は、ＨＬＵ領域に磁気ヘッドスライダを移動させた後に
ＣＳＳ動作を行い、このＣＳＳ動作により塵埃を除去す
ることが明示されている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来か
ら、磁気ヘッドスライダの付着物の形成を防止する、あ
るいは付着物を除去する発明が各種提案されているが、
それぞれの発明は以下のような問題点を抱えている。例
えば、スライダの空気軸受け面形状により、付着物形成
を防止しようとする発明では、空気軸受け面に沿って流
れる空気流に混在して流動している塵埃の付着防止には
有効であるが、ディスク面との直接的な接触もしくは空
気軸受け面の負圧吸引力によってスライダ面に付着する
変成潤滑剤からなると考えられる液状付着物の形成を防
止するという点では、その効果が著しく抑制されること
が課題である。

【００１１】また、ＣＳＳ動作やシーク動作による意図
的な接触摺動により付着物を除去する発明では、ＨＬＵ
機構の導入が本来接触摺動をできるだけ回避したいとい
う設計思想に立脚していることを考えると、できれば意
図的な接触摺動を期待した動作は避けたいというのが本
質である。また、変成潤滑剤からなる液状付着物は、固
体付着物に比較して強固に付着していること、さらに液
状付着物がＣＳＳ動作等による接触摺動では接触、除去
しえない段差部に形成されていることから、ＣＳＳ等の
付着物除去動作が液状付着物には有効に機能しないこと
が明らかとなった。

【００１２】そこで本発明の目的は、磁気ヘッドスライ
ダの空気軸受け面の汚染物を有効に除去することができ
る磁気ディスク装置を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するため、磁気ヘッドスライダ支持系全体をロードおよ
びアンロードするＨＬＵ動作を行うＨＬＵ機構を有する
磁気ディスク装置において、ＨＬＵ動作時に、磁気ヘッ
ドスライダの空気軸受け面の汚染物を除去する汚染物除
去機構を有し、前記ＨＬＵ機構は、アンロード時に、磁
気ヘッドスライダを前記汚染物除去機構に移動させて接
触させるとともに、ロード時に汚染物除去機構から磁気
ヘッドスライダを離脱させて磁気ディスクのＨＬＵ領域
へ磁気ヘッドスライダを移動させる工程を有し、前記汚
染物除去機構は、前記磁気ヘッドスライダが接触する表
面が、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリエステル、ナ
イロンから選ばれる少なくとも１種類以上の合成繊維で
被覆されていることを特徴とする。

【００１４】また本発明は、磁気ヘッドスライダ支持系
全体をロードおよびアンロードするＨＬＵ動作を行うＨ
ＬＵ機構を有する磁気ディスク装置において、ＨＬＵ動
作時に、磁気ヘッドスライダの空気軸受け面の汚染物を
除去する汚染物除去機構を有し、前記ＨＬＵ機構は、ア
ンロード時に、磁気ヘッドスライダを前記汚染物除去機
構に移動させて接触させるとともに、ロード時に汚染物
除去機構から磁気ヘッドスライダを離脱させて磁気ディ
スクのＨＬＵ領域へ磁気ヘッドスライダを移動させる工
程を有し、前記磁気ヘッドスライダが前記汚染物除去機
構に接触した状態で、前記汚染物除去機構全体を振動さ
せる振動機構を有することを特徴とする。

【００１５】本発明の磁気ディスク装置において、ＨＬ
Ｕ機構は、アンロード時に、磁気ヘッドスライダを汚染
物除去機構に移動させて接触させるとともに、ロード時
に汚染物除去機構から磁気ヘッドスライダを離脱させて
磁気ディスクのＨＬＵ領域へ磁気ヘッドスライダを移動
させる。汚染物除去機構は、ポリエチレン、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ナイロンから選ばれる少なくとも１
種類以上の合成繊維で被覆された表面に、アンロードさ
れた磁気ヘッドスライダを接触させることにより、磁気
ヘッドスライダの空気軸受け面の汚染物を除去する。

【００１６】このように、磁気ヘッドスライダに接触す
る汚染物除去機構の表面に、ポリエチレン、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ナイロンから選ばれる少なくとも１
種類以上の合成繊維で被覆したことから、変成した潤滑
剤からなる液状付着物を、被覆した合成繊維によって有
効に付着させることができ、液状付着物をスライダから
除去する効果を高め、しかも除去した液状付着物が再び
スライダ面に移動、付着するのを有効に防止できる。ま
た、ＨＬＵ時のスライダとの接触摺動や、汚染物除去機
構を振動させることによる、より積極的な付着物除去過
程で二次的に発塵した汚染物が、スライダの空気軸受け
面やその近傍を汚染し難くすることができる。さらに汚
染物除去機構は、アンロード動作終了後、磁気ヘッドス
ライダが前記汚染物除去機構に接触した状態で、振動機
構によって全体が振動することにより、より積極的に磁
気ヘッドスライダの空気軸受け面の汚染物を除去でき
る。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明による磁気ディスク
装置の実施の形態について説明する。上述のように、低
浮上磁気ヘッドスライダでは“Fly-Stiction”と呼ばれ
る現象に起因する空気軸受け面や段差部での付着物形成
以外に、間欠的な接触摺動に伴う付着物形成が生じ得る
が、ＨＬＵ機構を搭載した磁気ディスク装置では積極的
にこの付着物を除去する手段を有していない、そこで、
本実施の形態では、ＨＬＵ動作時に磁気ヘッドスライダ
の空気軸受け面の汚染物を除去する機構を設け、アンロ
ード時に汚染物除去機構を磁気ヘッドスライダの空気軸
受け面に接触させることにより、付着物を除去するもの
である。

【００１８】また、汚染物除去機構を振動させる機構を
付属させ、より積極的に付着物を除去するものである。
さらに、スライダに接触する汚染物除去機構の表面に、
ポリエチレン、ポリウレタン、ポリエステル、ナイロン
から選ばれる少なくとも１種類以上の合成繊維を被覆さ
せる。その理由は、以下の２点によるものである。１）変成した潤滑剤からなる液状付着物を、被覆した合
成繊維に付着させることにより、液状付着物をスライダ
から除去する効果を高め、しかも除去した液状付着物が
再びスライダ面に移動、付着するのを有効に防止でき
る。２）ＨＬＵ時のスライダとの接触摺動や、汚染物除去機
構を振動させることによる、より積極的な付着物除去過
程で二次的に発塵した汚染物が、スライダの空気軸受け
面やその近傍を汚染し難くすることができる。

【００１９】以下、図面を参照して本発明の実施の形態
を具体的に説明する。図１は、本発明の第１の実施の形
態として、汚染物除去機構を設けた磁気ディスク装置の
概要を示す要部斜視図であり、図２は、図１に示す磁気
ディスク装置の汚染物除去機構を示す正面図である。図
１に示すように、磁気ディスク装置は、メカシャーシ１
０上にターンテーブル（図示せず）が設けられ、このタ
ーンテーブル上に磁気ディスク１２が装着されている。
そして、駆動モータ（図示せず）等の作動により、ター
ンテーブルとともに磁気ディスク１２が回転制御され
る。

【００２０】また、この磁気ディスク装置では、磁気デ
ィスク１２の表裏両面に対して２組みの磁気ヘッド（図
示せず）によって情報の記録、再生を行うものであり、
磁気ディスク１２の表裏両面に臨む一対のサスペンショ
ン２０Ａ、２０Ｂの先端に、それぞれ磁気ヘッドを保持
した磁気ヘッドスライダ２２Ａ、２２Ｂが取り付けられ
ている。また、サスペンション２０Ａ、２０Ｂの基端側
は支持機構（図示せず）によって支持されており、支持
機構に設けた駆動系の作動によって、ＨＬＵ動作が実行
される。

【００２１】このような磁気ヘッド、磁気ヘッドスライ
ダ２２Ａ、２２Ｂ、サスペンション２０Ａ、２０Ｂ、お
よび支持機構等を含むアセンブリを全体として磁気ヘッ
ドアセンブリ（以下、ＨＧＡと略す）２０という。ＨＬ
Ｕ動作は、ＨＧＡ２０の各磁気ヘッドスライダ２２Ａ、
２２Ｂの先端に設けたリフトバー２４（図では上側のリ
フトバーのみ示す）が、メカシャーシ１０上に設けられ
たランプカム１４と呼ばれるガイドに沿って昇降するこ
とにより行われる。すなわち、ランプカム１４は、上下
一対の磁気ヘッドスライダ２２Ａ、２２Ｂに対応して、
上下両面にそれぞれガイド面を有し、各ガイド面で各磁
気ヘッドスライダ２２Ａ、２２Ｂのリフトバー２４をガ
イドし、ＨＬＵ動作において、各磁気ヘッドスライダ２
２Ａ、２２Ｂの磁気ディスク面に対する昇降を制御する
ものである。

【００２２】図１に示した状態はアンロード状態であ
る。そして、このアンロード状態で、相対向する上下一
対の磁気ヘッドスライダ２２Ａ、２２Ｂの間に、図２に
示す汚染物除去機構３０が挿入されるようになってい
る。図２に示す例では、汚染物除去機構３０は、ランプ
カム１４に固定した状態で支持されている。すなわち、
汚染物除去機構３０は、ランプカム１４の側方（サスペ
ンション方向）に支持板３２を突設し、この支持板３２
の先端に合成繊維被覆層３４を固着したものである。そ
して、ランプカム１４の各ガイド面には、磁気ヘッドス
ライダ２２Ａ、２２Ｂのアンロード時に、磁気ヘッドス
ライダ２２Ａ、２２Ｂの空気軸受け面が汚染物除去機構
３０の合成繊維被覆層３４の上下面に接触するようガイ
ドする略Ｖ字状の凹部１４Ａが形成されており、この凹
部１４Ａに沿って、ＨＬＵ動作時に、汚染物除去機構３
０の合成繊維被覆層３４と磁気ヘッドスライダ２２Ａ、
２２Ｂの空気軸受け面とが接触摺動し、アンロード期間
に接触状態が持続されることになる。

【００２３】この汚染物除去機構３０の磁気ヘッドスラ
イダ２２Ａ、２２Ｂの空気軸受け面と接触する合成繊維
被覆層３４は、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリエス
テル、ナイロンから選ばれる少なくとも１種類以上の合
成繊維によって支持板３２を被覆したものであり、この
合成繊維により汚染物を有効に除去するものとなってい
る。また、このような合成繊維被覆層３４は、磁気ディ
スク装置停止時等に衝撃が加わった場合に、磁気ヘッド
スライダ２２Ａ、２２Ｂの損傷を防止する衝撃吸収の役
割も果たしている。

【００２４】図３は、本発明の第２の実施の形態とし
て、汚染物除去機構と振動機構とを設けた場合を示す正
面図である。なお、磁気ディスク装置の全体構成として
は、図１に示すものと同様であるものとする。この実施
の形態では、図２に示す構成に加えて、汚染物除去機構
３０を振動させることで、より有効な汚染物の除去を行
うようにしたものである。

【００２５】図３に示すように、ランプカム１４の側部
には振動機構４０が設けられ、振動機構４０から側方
（サスペンション方向）に支持板３２が突設され、この
支持板３２の先端に合成繊維被覆層３４が固着されてい
る。振動機構４０は、ある一定の稼働時間経過後に自動
的に作動するか、あるいは再生信号が基準となる上限値
と下限値の範囲を超えた場合に作動するように設定する
ことができる。この振動機構４０としては、圧電型アク
チュエータ、圧電素子を積層した積層型アクチュエータ
などを用いることができる。また、振動機構４０の振動
振幅や周波数は、それに印加する電圧波形によって制御
する。

【００２６】

【実施例】次に、以上のような実施の形態に対応する試
作例に基づく具体的実施例と、その効果について詳細に
説明する。この試作例による磁気ディスク装置は、３．
５インチＡｌ合金基板磁気ディスク１枚を搭載した記憶
容量２ＧＢの磁気ディスク装置である。また、磁気ヘッ
ドとしては、１対、２本の磁気抵抗効果型磁気ヘッドを
搭載しており、そのギャップ浮上量の平均値は４０ｎｍ
である。磁気ヘッドスライダの寸法は、１．２×１．０
×０．８ｍｍ（ピコスライダ）であり、負圧方式を採用
したスライダである。スライダを支持するサスペンショ
ンの荷重は１．５ｇである。使用した磁気ディスクが許
容する最小浮上量は３５ｎｍであり、見かけの浮上マー
ジンは５ｎｍである。

【００２７】本来、記憶容量２ＧＢの３．５インチ１枚
版の磁気ディスク装置では、より広い浮上マ−ジンが確
保できるものであるが、接触頻度をできるだけ多くする
ことによって、磁気ヘッドスライダの汚染を促進し、汚
染後の汚染物除去機構３０、あるいは、汚染物除去機構
３０と振動機構４０の効果を確認したいという観点か
ら、見かけの浮上マージンを５ｎｍとする構成を選択し
た。したがって、装置組立公差やシーク動作時の磁気ヘ
ッドスライダの浮上量低下を考慮すると、浮上マージン
はほとんど０ｎｍであり、装置稼働状態で間欠的な接触
状態を含むものとなっている。

【００２８】また、磁気ディスク搭載数が１枚であるこ
とから、図２に示した汚染物除去機構３０、または、図
３に示した汚染物除去機構３０と振動機構４０は、１セ
ットだけがランプカム１４に固定されている磁気ディス
ク装置である。磁気ディスクは、厚さ０．８ｍｍであ
り、したがって汚染物除去機構３０の合成繊維を被覆し
た層の厚さは、０．８±０．１ｍｍの範囲で作製した。
合成繊維としては、ポリエチレン、ポリウレタン、およ
びポリエステルの３種類を混合した繊維（実施結果等を
一括して示した図４に示す表１には３種混合と表示し
た）、ポリエステルとナイロンの混合繊維（同様に２種
混合と表示した）、ポリエステルの単独繊維（同様に単
独繊維と表示した）を使用した。

【００２９】合成繊維被覆層３４の形状は、厚さが前述
した０．８±０．１ｍｍ、縦１．８ｍｍ、横１．５ｍｍ
とし、ピコスライダ全体が乗る寸法である。合成繊維を
被覆した支持板３２には、ステンレス板と導電性樹脂基
板を用いた。また、支持板３２の形状は、厚さ０．４ｍ
ｍ、長さ５ｍｍ、幅０．６ｍｍで、その先端に合成繊維
層を被覆し、他端を図２の例ではランプカム１４、図３
の例では振動機構４０に固定した。合成繊維被覆層３４
や支持板３２の固定には、接着剤（例えば、商品名：ア
ラルダイトＡＷ１３６Ｈ）を用いた。図４に示す表１に
おいて、図２に示す汚染物除去機構３０のみを適用した
方式を１とし、図３に示す汚染物除去機構３０と振動機
構４０とを組み合わせた方式を２とした。また、振動機
構４０には積層型圧電アクチュエータを用いた。この積
層型圧電アクチュエータに０〜３０Ｖの電圧を印加する
と、振幅約１０μｍの振動が得られ、スライダ２２Ａ、
２２Ｂの縦方向に沿って合成繊維被覆層３４を周波数１
０Ｈｚで振動させる構造となっている。

【００３０】以上のような、装置および部材を用いて実
施例と比較試料の磁気ディスク装置を組立て、以下の温
湿度環境（°Ｃ、ＲＨ）でサイクル試験を行い、試験前
後のビットエラ−レ−トを測定し、本発明の効果を検証
した。サイクル試験の温湿度条件は、（５０°Ｃ、７０
％ＲＨ（相対湿度）、１２時間）→（１０°Ｃ、２５％
ＲＨ、１２時間）→（３０°Ｃ、８０％ＲＨ、１２時
間）→（５０°Ｃ、４５％ＲＨ、１２時間）であり、こ
のサイクルを１０回繰り返した。なお、ＨＬＵ動作は温
湿度を変化させた各１２時間毎に１回行った。また、磁
気ディスク装置の動作モードは、磁気ヘッドスライダが
磁気ディスクの最内周と最外周を繰り返し往復する、フ
ルリピートシーク条件である。

【００３１】図４に示す表１は、この検証結果を以下の
実施例１〜１２及び比較資料１で一括して一覧表で表し
たものである。実施例１は、汚染物除去機構３０のみを
適用した磁気ディスク装置であり、合成繊維被覆層３４
に用いた合成繊維は３種混合、支持板３２は導電性樹脂
である。実施例２は実施例１の支持板３２をステンレス
に変更したものであり、それ以外は実施例１とまったく
同様である。以下同様に、実施例３〜実施例６は、汚染
物除去機構３０のみを適用し、合成繊維被覆層３４と支
持板３２を表１に示すように変化させた実施例である。

【００３２】また、実施例７は、汚染物除去機構３０と
振動機構４０を適用した磁気ディスク装置であり、合成
繊維被覆層３４に用いた合成繊維は３種混合、支持板３
２は導電性樹脂である。以下同様に、実施例７〜実施例
１２は、汚染物除去機構３０と振動機構４０を適用し、
合成繊維被覆層３４と支持板３２を変化させた実施例で
ある。また、比較試料１は、汚染物除去機構も振動機構
もまったく適用しないＨＬＵ搭載の磁気ディスク装置で
ある。

【００３３】以上の実施例１〜１２と比較試料に対応す
る磁気ディスク装置を各３台作製し、試験前後のビット
エラーレート（ＢＥＲ）の変化を測定した。ＢＥＲ変化
の判定基準としては、 ◎：４×試験前のＢＥＲ≧試験後のＢＥＲ ○：４×試験前のＢＥＲ＜試験後のＢＥＲ≦１０×試験
前のＢＥＲ △：１０×試験前のＢＥＲ＜試験後のＢＥＲ≦１０^-5 ×：１０^-5＜試験後のＢＥＲの４段階を選択した。なお、表１の評価結果の欄に、３
つの判定結果が表示されているのは、各実施例で３台の
磁気ディスク装置について評価結果を示したものであ
る。

【００３４】図４に示す結果に基づいて、試験前後のＢ
ＥＲ評価結果の特徴を以下に列挙する。（１）本発明の実施例１〜１２の磁気ディスク装置で
は、試験後のＢＥＲが試験前の１０倍以上になることは
ほとんどなく、一部の評価結果を除けば、判定は○以上
である。（２）一方、本発明を適用しなかった比較試料１の磁気
ディスク装置は、１台が試験途中でクラッシュし、１台
のＢＥＲが１０^-5を越え、記録再生不能状態に陥った。以上のように、本発明を適用することにより、ＨＬＵ方
式の磁気ディスク装置の欠点である磁気ヘッドスライダ
の汚染に起因する装置性能の劣化を防止することができ
る。

【００３５】

【発明の効果】以上説明したように本発明の磁気ディス
ク装置では、磁気ヘッドスライダのアンロード時に、磁
気ヘッドスライダの空気軸受け面の汚染物を除去する汚
染物除去機構を有し、この汚染物除去機構の磁気ヘッド
スライダが接触する表面を、ポリエチレン、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ナイロンから選ばれる少なくとも１
種類以上の合成繊維で被覆して構成した。このため、磁
気ヘッドスライダの空気軸受け面に付着した汚染物を有
効に除去することができ、しかも除去した汚染物が再び
磁気ヘッドスライダ面に移動、付着するのを有効に防止
できる。

【００３６】また、本発明の磁気ディスク装置では、磁
気ヘッドスライダが汚染物除去機構に接触した状態で、
振動機構によって汚染物除去機構全体を振動させるよう
にした。このため、磁気ヘッドスライダの空気軸受け面
の汚染物を、より積極的に除去できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態として、汚染物除去
機構を設けた磁気ディスク装置の概要を示す要部斜視図
である。

【図２】図１に示す磁気ディスク装置の汚染物除去機構
を示す正面図である。

【図３】本発明の第２の実施の形態として、汚染物除去
機構と振動機構とを設けた場合を示す正面図である。

【図４】本発明を適用した実施例と比較資料の効果の検
証結果を一括して表した一覧表である。

【符号の説明】

１０……メカシャーシ、１２……磁気ディスク、１４…
…ランプカム、２０……磁気ヘッドアセンブリ、２０
Ａ、２０Ｂ……サスペンション、２２Ａ、２２Ｂ……磁
気ヘッドスライダ、２４……リフトバ−、３０……汚染
物除去機構、３２……支持板、３４……合成繊維被覆
層、４０……振動機構。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気ヘッドスライダ支持系全体をロード
およびアンロードするＨＬＵ動作を行うＨＬＵ機構を有
する磁気ディスク装置において、ＨＬＵ動作時に、磁気ヘッドスライダの空気軸受け面の
汚染物を除去する汚染物除去機構を有し、前記ＨＬＵ機構は、アンロード時に、磁気ヘッドスライ
ダを前記汚染物除去機構に移動させて接触させるととも
に、ロード時に汚染物除去機構から磁気ヘッドスライダ
を離脱させて磁気ディスクのＨＬＵ領域へ磁気ヘッドス
ライダを移動させる工程を有し、前記汚染物除去機構は、前記磁気ヘッドスライダが接触
する表面が、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリエステ
ル、ナイロンから選ばれる少なくとも１種類以上の合成
繊維で被覆されている、ことを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項２】前記汚染物除去機構の前記合成繊維が被
覆された部分の厚さが、磁気ディスク装置に使用されて
いる磁気ディスク媒体の厚さにほぼ等しく、また前記合
成繊維が被覆された領域の縦、横の寸法が磁気ヘッドス
ライダの縦と横のそれぞれ１．５倍以上であることを特
徴とする請求項１記載の磁気ディスク装置。
【請求項３】前記汚染物除去機構全体が、磁気ヘッド
スライダへの静電気帯電によって磁気ヘッド素子が破壊
もしくは特性劣化することを防止するために導電性材料
を用い、磁気ヘッドスライダを支持しているヘッドアー
ム部と電気的に同電位としたことを特徴とする請求項１
記載の磁気ディスク装置。
【請求項４】磁気ヘッドスライダ支持系全体をロード
およびアンロードするＨＬＵ動作を行うＨＬＵ機構を有
する磁気ディスク装置において、ＨＬＵ動作時に、磁気ヘッドスライダの空気軸受け面の
汚染物を除去する汚染物除去機構を有し、前記ＨＬＵ機構は、アンロード時に、磁気ヘッドスライ
ダを前記汚染物除去機構に移動させて接触させるととも
に、ロード時に汚染物除去機構から磁気ヘッドスライダ
を離脱させて磁気ディスクのＨＬＵ領域へ磁気ヘッドス
ライダを移動させる工程を有し、前記磁気ヘッドスライダが前記汚染物除去機構に接触し
た状態で、前記汚染物除去機構全体を振動させる振動機
構を有する、ことを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項５】前記振動機構により、前記磁気ヘッドス
ライダに接触している汚染物除去機構全体が、磁気ヘッ
ドスライダへの縦および横方向に±１０μｍ以上、周波
数１Ｈｚ以上で振動することを特徴とする請求項４記載
の磁気ディスク装置。
【請求項６】前記汚染物除去機構は、前記磁気ヘッド
スライダが接触する表面が、ポリエチレン、ポリウレタ
ン、ポリエステル、ナイロンから選ばれる少なくとも１
種類以上の合成繊維で被覆されていることを特徴とする
請求項４記載の磁気ディスク装置。
【請求項７】前記汚染物除去機構の前記合成繊維が被
覆された部分の厚さが、磁気ディスク装置に使用されて
いる磁気ディスク媒体の厚さにほぼ等しく、また前記合
成繊維が被覆された領域の縦、横の寸法が磁気ヘッドス
ライダの縦と横のそれぞれ１．５倍以上であることを特
徴とする請求項６記載の磁気ディスク装置。
【請求項８】前記汚染物除去機構全体が、磁気ヘッド
スライダへの静電気帯電によって磁気ヘッド素子が破壊
もしくは特性劣化することを防止するために導電性材料
を用い、磁気ヘッドスライダを支持しているヘッドアー
ム部と電気的に同電位としたことを特徴とする請求項４
記載の磁気ディスク装置。