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JP2000169521A - Hydrogenated polymer, resin composition, and molding material for information recording medium substrate - Google Patents

Hydrogenated polymer, resin composition, and molding material for information recording medium substrate

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Publication number
JP2000169521A
JP2000169521A JP10346167A JP34616798A JP2000169521A JP 2000169521 A JP2000169521 A JP 2000169521A JP 10346167 A JP10346167 A JP 10346167A JP 34616798 A JP34616798 A JP 34616798A JP 2000169521 A JP2000169521 A JP 2000169521A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer
hydrogenated
molecular weight
aromatic vinyl
weight
Prior art date
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Application number
JP10346167A
Other languages
Japanese (ja)
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JP4336910B2 (en
Inventor
Teruhiko Suzuki
輝彦 鈴木
Tsutomu Nagamune
勉 長宗
Teiji Obara
禎二 小原
Toshihide Murakami
俊秀 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Zeon Co Ltd filed Critical Nippon Zeon Co Ltd
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Priority to US09/856,156 priority patent/US6433102B1/en
Priority to EP99973297A priority patent/EP1193274B1/en
Priority to DE69931666T priority patent/DE69931666T2/en
Priority to PCT/JP1999/006813 priority patent/WO2000034340A1/en
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】十分に小さな複屈折値と、優れた機械強度とを
兼ね備えた情報記録媒体基板を得ることができる成形材
料、さらに、耐湿性に優れる基板を得ることができ、成
形加工性などにも優れた成形材料としての水素化重合体
及び樹脂組成物ならびにこれら水素化重合体及び水素化
重合体の組成物を成形してなる情報記録媒体基板を提供
すること。 【解決手段】芳香族ビニル系重合体を水素添加して得ら
れる、芳香環の水素添加率が97%以上で、重量平均分
子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/M
n)が2.0以下、重量平均分子量(Mw)が100,
000〜300,000であり、分子量(M)10,0
00以下の成分が重合体全重量中2重量%以下である水
素化重合体、さらに白濁防止剤を含有してなる樹脂組成
物を用いる。
(57) [Summary] A molding material capable of obtaining an information recording medium substrate having both a sufficiently small birefringence value and excellent mechanical strength, and a substrate excellent in moisture resistance can be obtained. Provided are a hydrogenated polymer and a resin composition as a molding material having excellent moldability and the like, and an information recording medium substrate formed by molding the hydrogenated polymer and a composition of the hydrogenated polymer. Kind Code: A1 A hydrogenation rate of an aromatic ring obtained by hydrogenating an aromatic vinyl polymer is 97% or more, and a ratio (Mw / M) between a weight average molecular weight (Mw) and a number average molecular weight (Mn) is obtained.
n) is 2.0 or less, the weight average molecular weight (Mw) is 100,
000-300,000 and a molecular weight (M) of 10,000
A resin composition containing a hydrogenated polymer having a component of 00 or less in an amount of 2% by weight or less based on the total weight of the polymer, and a clouding inhibitor is used.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、芳香族ビニル系重
合体水素添加物、該水素化重合体を含有する樹脂組成
物、及び情報記録媒体用基板に関し、更に詳しくは、複
屈折値が十分に小さく、且つ、機械強度に優れた情報記
録媒体用基板、耐湿性及び成形加工性に優れた樹脂組成
物、及びこれらを得るために好適な芳香族ビニル系重合
体水素添加物に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a hydrogenated aromatic vinyl polymer, a resin composition containing the hydrogenated polymer, and a substrate for an information recording medium. The present invention relates to a substrate for an information recording medium which is small in size and excellent in mechanical strength, a resin composition excellent in moisture resistance and molding processability, and a hydrogenated aromatic vinyl polymer which is suitable for obtaining these.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、複屈折の小さい情報記録媒体基板
用成形材料として、ポリスチレン等の芳香族ビニル系重
合体の芳香環を水素添加して得られる水素化重合体が知
られている。例えば、特開昭63−43910号公報に
は、分子鎖中にビニルシクロヘキサン成分を30重量%
以上含有する重合体を光ディスク基板用成形材料として
使用することが提案され、具体的には芳香環部分の水素
添加率が97%、重量平均分子量(Mw)が92,00
0、分子量分布(Mw/Mn)が1.84の芳香族ビニ
ル系重合体水素添加物や、芳香環部分の水素添加率が8
5%、重量平均分子量(Mw)が150,000、分子
量分布(Mw/Mn)が1.87である芳香族ビニル系
重合体水素添加物を用いて光ディスク基板に成形した例
が開示されている。しかし、これらの光ディスク基板
は、光線透過率が高く、吸水率が小さく、複屈折値は比
較的小さいことが確認されているものの、基板としての
機械強度が十分ではなかったり、複屈折値も十分には満
足するレベルでなかったり、長期耐熱性などの信頼性が
十分でなかったりといった問題を有していた。
2. Description of the Related Art Conventionally, a hydrogenated polymer obtained by hydrogenating an aromatic ring of an aromatic vinyl polymer such as polystyrene has been known as a molding material for an information recording medium substrate having a small birefringence. For example, JP-A-63-43910 discloses that a vinylcyclohexane component is contained in a molecular chain at 30% by weight.
It has been proposed to use the polymer contained above as a molding material for an optical disc substrate. Specifically, the hydrogenation rate of the aromatic ring portion is 97%, and the weight average molecular weight (Mw) is 92,000.
0, a hydrogenated aromatic vinyl polymer having a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.84, and a hydrogenation rate of an aromatic ring portion of 8
An example is disclosed in which an optical disk substrate is formed using a hydrogenated aromatic vinyl polymer having a 5% weight average molecular weight (Mw) of 150,000 and a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.87. . However, although it has been confirmed that these optical disc substrates have a high light transmittance, a low water absorption, and a relatively low birefringence value, the mechanical strength of the substrate is not sufficient, and the birefringence value is also insufficient. Had problems such as not being at a satisfactory level or having insufficient reliability such as long-term heat resistance.

【0003】また、特開平1−318015号公報に
は、数平均分子量が50,000以上であり、軟化点が
150℃以上のポリビニルシクロヘキサン系樹脂からな
る光ディスク基板が提案されており、具体的には芳香環
部分の水素添加率が99%、重量平均分子量が160,
000のポリビニルシクロヘキサンを用いて光ディスク
基板に成形した例が開示されているが、この光ディスク
も複屈折値が満足するレベルにまで低減できていなかっ
た。以上のことから、十分に小さな複屈折値を有し、機
械強度にも優れ、且つ基板に要求される諸特性が高度に
バランスされた基板を得るための成形材料が要望されて
いる。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-318015 discloses an optical disk substrate made of a polyvinylcyclohexane resin having a number average molecular weight of 50,000 or more and a softening point of 150 ° C. or more. Has a hydrogenation ratio of the aromatic ring portion of 99%, a weight average molecular weight of 160,
Although an example in which an optical disk substrate is formed using 2,000 polyvinyl cyclohexane is disclosed, this optical disk has not been able to reduce the birefringence value to a satisfactory level. In view of the above, there is a demand for a molding material having a sufficiently small birefringence value, excellent mechanical strength, and a substrate in which various characteristics required for the substrate are highly balanced.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、十分
に小さな複屈折値と、優れた機械強度とを兼ね備えた情
報記録媒体基板を得ることができる成形材料を提供する
ことにある。本発明の他の目的は、十分小さな複屈折値
を有し、機械強度に優れ、さらに、耐湿性に優れる基板
を得ることができ、成形加工性などにも優れた成形材料
としての水素化重合体及び樹脂組成物ならびにこれら水
素化重合体及び水素化重合体の組成物を成形してなる情
報記録媒体基板を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a molding material capable of obtaining an information recording medium substrate having a sufficiently small birefringence value and excellent mechanical strength. Another object of the present invention is to obtain a substrate having a sufficiently small birefringence value, excellent mechanical strength, and excellent moisture resistance, and a hydrogenation weight as a molding material excellent in molding workability and the like. It is an object of the present invention to provide an information recording medium substrate obtained by molding a united and resin composition, and a hydrogenated polymer and a composition of the hydrogenated polymer.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の範囲の分子
量と狭い分子量分布を有し、且つ芳香環部分が高度に水
素添加された特定の水素化重合体を用いて成形した情報
記録媒体用基板が、十分に小さな複屈折を有するのみな
らず、機械強度にも優れていることを見い出し、さらに
分子量(M)10,000以下の成分含有量が一定量以
下の前記水素化重合体、又は水素化重合体と特定の配合
剤とを含有する樹脂組成物が、上記特性に加えて、高温
高湿環境下における白濁防止性などの耐湿性や表面平滑
性に優れた成形物に成形可能であることを見い出し、さ
らに該成形物が光学部品材料として好適であり、特に情
報記録媒体基板用材料として最適であることを見出し
た。本発明者らは、これらの知見に基づいて本発明を完
成するに至ったものである。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, they have a specific range of molecular weight and a narrow molecular weight distribution, and the aromatic ring portion is highly hydrogenated. It has been found that a substrate for an information recording medium molded using the specified hydrogenated polymer has not only sufficiently small birefringence but also excellent mechanical strength, and further has a molecular weight (M) of 10,000. The following component content is a certain amount or less of the hydrogenated polymer, or a resin composition containing the hydrogenated polymer and a specific compounding agent, in addition to the above properties, anti-white turbidity in a high temperature and high humidity environment It has been found that it can be molded into a molded article having excellent moisture resistance and surface smoothness, and that the molded article is suitable as an optical component material, and is particularly suitable as a material for an information recording medium substrate. . The present inventors have completed the present invention based on these findings.

【0006】かくして本発明によれば、 (1)芳香族ビニル系重合体を水素添加して得られる、
芳香環の水素添加率が97%以上で、重量平均分子量
(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/Mn)
が2.0以下、重量平均分子量(Mw)が100,00
0〜300,000であり、分子量(M)10,000
以下の成分が重合体全重量中2重量%以下である水素化
重合体が提供される。本発明によれば(2)(1)に記
載の水素化重合体に、白濁防止剤を配合してなる樹脂組
成物が提供される。本発明によれば(3)芳香族ビニル
系重合体を水素添加して得られる、芳香環の水素添加率
が97%以上で、重量平均分子量(Mw)と数平均分子
量(Mn)との比(Mw/Mn)が2.0以下であり、
重量平均分子量(Mw)が100,000〜300,0
00である水素化重合体からなる情報記録媒体基板用成
形材料が提供される。本発明によれば(4)(1)に記
載の水素化重合体又は(2)に記載の樹脂組成物からな
る成形材料が提供される。本発明によれば(5)(3)
又は(4)いずれかに記載の成形材料を成形してなる情
報記録媒体基板が提供される。
Thus, according to the present invention, (1) a compound obtained by hydrogenating an aromatic vinyl polymer,
Hydrogenation rate of aromatic ring is 97% or more, ratio of weight average molecular weight (Mw) to number average molecular weight (Mn) (Mw / Mn)
Is 2.0 or less and the weight average molecular weight (Mw) is 100,00
0 to 300,000 and a molecular weight (M) of 10,000
There is provided a hydrogenated polymer wherein the following components are 2% by weight or less based on the total weight of the polymer. According to the present invention, there is provided a resin composition comprising the hydrogenated polymer according to (2) and (1) and an anti-clouding agent. According to the present invention, (3) the ratio of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) obtained by hydrogenating an aromatic vinyl polymer and having a hydrogenation rate of an aromatic ring of 97% or more. (Mw / Mn) is 2.0 or less,
Weight average molecular weight (Mw) of 100,000 to 300,0
A molding material for an information recording medium substrate, comprising a hydrogenated polymer of No. 00. According to the present invention, there is provided (4) a molding material comprising the hydrogenated polymer described in (1) or the resin composition described in (2). According to the present invention, (5) (3)
Or (4) An information recording medium substrate formed by molding the molding material according to any one of (4) and (4).

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】情報記録媒体基板用成形材料 本発明の情報記録媒体基板用成形材料は、(1)芳香族
ビニル系重合体を水素添加して得られる、芳香環の水素
添加率が97%以上で、重量平均分子量(Mw)と数平
均分子量(Mn)との比(Mw/Mn)が2.0以下で
あり、重量平均分子量(Mw)が100,000〜30
0,000である水素化重合体、(2)さらに分子量
(M)が10,000以下の成分が重合体全重量中2重
量%以下である上記(1)の水素化重合体、又は(3)
(2)の水素化重合体に対し、白濁防止剤を配合してな
る樹脂組成物のいずれかからなるものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Molding material for information recording medium substrate The molding material for an information recording medium substrate of the present invention has a hydrogenation rate of an aromatic ring obtained by hydrogenating an aromatic vinyl polymer. 97% or more, the ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) is 2.0 or less, and the weight average molecular weight (Mw) is 100,000 to 30
(2) a hydrogenated polymer of the above (1) wherein the component having a molecular weight (M) of 10,000 or less is 2% by weight or less based on the total weight of the polymer, or (3) )
It consists of any of the resin compositions obtained by blending the anti-clouding agent with the hydrogenated polymer of (2).

【0008】水素化重合体 本発明の水素化重合体は芳香族ビニル系重合体の芳香環
を水素添加して得られるものである。
Hydrogenated Polymer The hydrogenated polymer of the present invention is obtained by hydrogenating an aromatic ring of an aromatic vinyl polymer.

【0009】また、本発明の水素化重合体の芳香環の水
素添加率は、芳香族ビニル重合体の全芳香環の97%以
上、好ましくは98%以上、より好ましくは99%以上
である。芳香環の水素添加率が過度に小さいと、複屈折
が大きくなり好ましくない。尚、芳香環の水素添加率
は、H−NMR測定により求めることができる。
The hydrogenation rate of the aromatic ring of the hydrogenated polymer of the present invention is 97% or more, preferably 98% or more, more preferably 99% or more of the total aromatic rings of the aromatic vinyl polymer. If the hydrogenation rate of the aromatic ring is too small, the birefringence increases, which is not preferable. In addition, the hydrogenation rate of the aromatic ring can be determined by 1 H-NMR measurement.

【0010】本発明においては、芳香族ビニル系重合体
の水素添加物の重量平均分子量(Mw)を、GPCによ
り測定されるポリスチレン換算値で、100,000〜
300,000、好ましくは100,000〜270,
000、より好ましくは100,000〜250,00
0の範囲とし、且つ分子量分布は、ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィー(GPC)で測定されるポリスチ
レン換算の重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(M
n)との比(Mw/Mn)で、2.0以下、好ましくは
1.7以下、より好ましくは1.3以下することが重要
である。芳香族ビニル系重合体の水素添加物のMw/M
nが過度に大きいと機械強度に劣り十分な成形物が得ら
れず、また、複屈折が大きくなる等の問題が生じる。ま
た、重量平均分子量(Mw)が過度に小さいと機械強度
に劣り十分な成形体ができず、逆に、過度に大きいと成
形性に劣り複屈折が大きくなり、いずれも好ましくな
い。
In the present invention, the weight average molecular weight (Mw) of the hydrogenated aromatic vinyl polymer is 100,000 to 100,000 in terms of polystyrene measured by GPC.
300,000, preferably 100,000-270,
000, more preferably 100,000 to 250,000.
0, and the molecular weight distribution is determined by weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).
It is important that the ratio (Mw / Mn) to n) be 2.0 or less, preferably 1.7 or less, more preferably 1.3 or less. Mw / M of hydrogenated aromatic vinyl polymer
If n is excessively large, there will be problems in that the mechanical strength is inferior and a sufficient molded product cannot be obtained, and that the birefringence increases. On the other hand, if the weight average molecular weight (Mw) is excessively small, the resulting molded article is inferior in mechanical strength and a sufficient molded article cannot be obtained.

【0011】さらに本発明において好適な水素添加物
は、水素化重合体中に、分子量(M)10,000以下
の成分含有量が重合体全重量中2重量%以下、好ましく
は1.5重量%以下、より好ましくは1重量%以下にし
たものである。分子量(M)10,000以下の成分の
含有量を上記範囲にすることによって、該重合体水素添
加物を用いて成形した成形物の表面の平滑性が改善さ
れ、光学部品、特には情報記録媒体基板として優れた性
能を示す。
Further, a hydrogenated product suitable in the present invention is such that the content of components having a molecular weight (M) of 10,000 or less in the hydrogenated polymer is 2% by weight or less, preferably 1.5% by weight based on the total weight of the polymer. %, More preferably 1% by weight or less. By adjusting the content of the component having a molecular weight (M) of 10,000 or less to the above range, the smoothness of the surface of a molded product molded by using the polymer hydrogenated product is improved, and the optical component, in particular, information recording is improved. Excellent performance as a medium substrate.

【0012】原料として用いる芳香族ビニル化合物は、
重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比
(Mw/Mn)が通常2.0以下で、重量平均分子量
(Mw)が100,000〜400,000、好ましく
は100,000〜300,000、より好ましくは1
00,000〜280,000のものである。原料であ
る芳香族ビニル系重合体の重量平均分子量(Mw)が過
度に大きいと、芳香環の水素添加反応が困難で、100
%近くまで強制的に水素添加反応を進ませると競争反応
である分子鎖切断反応が進んで分子量分布が大きくな
り、また低分子量成分が増加するため強度特性や耐熱性
が低下し、逆に、過度に小さいと、強度特性に劣り十分
な成形物が成形できず、いずれも好ましくない。
The aromatic vinyl compound used as a raw material is
The ratio (Mw / Mn) between the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) is usually 2.0 or less, and the weight average molecular weight (Mw) is 100,000 to 400,000, preferably 100,000 to 300,000, more preferably 1
00,000 to 280,000. If the weight average molecular weight (Mw) of the aromatic vinyl polymer as the raw material is excessively large, the hydrogenation reaction of the aromatic ring becomes difficult,
When the hydrogenation reaction is forcibly advanced to about%, the molecular chain distribution reaction, which is a competitive reaction, proceeds and the molecular weight distribution increases, and the strength characteristics and heat resistance decrease due to the increase of low molecular weight components. If it is excessively small, it is inferior in strength properties and a sufficient molded product cannot be molded, and both are not preferred.

【0013】原料として用いられる芳香族ビニル系重合
体は、その製造方法において特に制限はないが、好適な
方法として、例えば、芳香族ビニル化合物を、または芳
香族ビニル化合物及びこれと共重合可能な単量体とを、
炭化水素系溶媒中で(共)重合することにより得られ
る。
[0013] The aromatic vinyl polymer used as a raw material is not particularly limited in the production method, but a preferred method is, for example, an aromatic vinyl compound or an aromatic vinyl compound and a copolymerizable with the aromatic vinyl compound. Monomer and
It is obtained by (co) polymerization in a hydrocarbon solvent.

【0014】(芳香族ビニル化合物)芳香族ビニル化合
物は、芳香環を有し且つ重合性のビニル基を有する化合
物であれば格別な限定はない。芳香族ビニル化合物の代
表例として、化1
(Aromatic Vinyl Compound) The aromatic vinyl compound is not particularly limited as long as it is a compound having an aromatic ring and a polymerizable vinyl group. As a representative example of the aromatic vinyl compound,

【0015】[0015]

【化1】 Embedded image

【0016】(化1中、R1は、水素原子またはアルキ
ル基、R2〜R6は、それぞれ独立に水素原子、アルキ
ル基またはハロゲン原子を示す。)
(In the chemical formula 1, R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R2 to R6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom.)

【0017】で表されるものが挙げられる。化1中のR
1のアルキル基は、好ましくは炭素原子数1〜5個の低
級アルキル基であり、具体的には、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、アミル
基などが挙げられる。R2〜R6としては、好ましくは
水素原子またはアルキル基であり、より好ましくは水素
原子またはR1と同様の低級アルキル基である。R2〜
R6のハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
## STR1 ## R in Chemical Formula 1
The 1 alkyl group is preferably a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, Examples include a tert-butyl group and an amyl group. R2 to R6 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom or a lower alkyl group similar to R1. R2
Examples of the halogen atom for R6 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

【0018】芳香族ビニル化合物の具体例としては、例
えば、スチレン、α−メチルスチレン、α−エチルスチ
レン、α−プロピルスチレン、α−イソプロピルスチレ
ン、α−t−ブチルスチレン、2−メチルスチレン、3
−メチルスチレン、4−メチルスチレン、2,4−ジイ
ソプロピルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、4−
t−ブチルスチレン、5−t−ブチル−2−メチルスチ
レン、モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、モノフ
ルオロスチレン等を挙げることができる。
Specific examples of the aromatic vinyl compound include, for example, styrene, α-methylstyrene, α-ethylstyrene, α-propylstyrene, α-isopropylstyrene, α-t-butylstyrene, 2-methylstyrene,
-Methylstyrene, 4-methylstyrene, 2,4-diisopropylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, 4-
Examples thereof include t-butylstyrene, 5-t-butyl-2-methylstyrene, monochlorostyrene, dichlorostyrene, and monofluorostyrene.

【0019】これらの中でも、スチレン、α−メチルス
チレン、α−エチルスチレン、α−プロピルスチレン、
α−イソプロピルスチレン、α−t−ブチルスチレン、
2−メチルスチレン、3−メチルスチレン、4−メチル
スチレン、2,4−ジイソプロピルスチレン、2,4−
ジメチルスチレン、4−t−ブチルスチレン、5−t−
ブチル−2−メチルスチレンなどが好ましく、スチレ
ン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−プ
ロピルスチレン、α−イソプロピルスチレン、α−t−
ブチルスチレン、2−メチルスチレン、3−メチルスチ
レン、4−メチルスチレン、4−t−ブチルスチレンが
特に好ましい。
Among these, styrene, α-methylstyrene, α-ethylstyrene, α-propylstyrene,
α-isopropylstyrene, α-t-butylstyrene,
2-methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 2,4-diisopropylstyrene, 2,4-
Dimethylstyrene, 4-t-butylstyrene, 5-t-
Butyl-2-methylstyrene and the like are preferable, and styrene, α-methylstyrene, α-ethylstyrene, α-propylstyrene, α-isopropylstyrene, α-t-
Butylstyrene, 2-methylstyrene, 3-methylstyrene, 4-methylstyrene, 4-t-butylstyrene are particularly preferred.

【0020】これらの芳香族ビニル化合物は、それぞれ
単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることが
できる。
These aromatic vinyl compounds can be used alone or in combination of two or more.

【0021】(共重合可能な単量体)芳香族ビニル化合
物と共重合可能な単量体としては、ラジカル重合、アニ
オン重合、カチオン重合などの重合法において芳香族ビ
ニル化合物と共重合可能なものであれば特に制限はな
く、例えば1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−
ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエ
ン、1,3−ヘキサジエンなどの共役ジエン系単量体;
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロロア
クリロニトリルなどのニトリル系単量体;メタクリル酸
メチルエステル、アクリル酸メチルエステルなどの(メ
タ)アクリル酸エステル系単量体;アクリル酸、メタク
リル酸、無水マレイン酸などの不飽和脂肪酸系単量体;
エチレン、プロピレンなどのポリオレフィン;フェニル
マレイミド等を挙げることができる。これらの芳香族ビ
ニル化合物と共重合可能な単量体は、それぞれ単独で、
あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Copolymerizable Monomer) Examples of the monomer copolymerizable with the aromatic vinyl compound include those which can be copolymerized with the aromatic vinyl compound in a polymerization method such as radical polymerization, anionic polymerization, or cationic polymerization. Is not particularly limited as long as it is 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-
Conjugated diene monomers such as dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene;
Nitrile monomers such as acrylonitrile, methacrylonitrile and α-chloroacrylonitrile; (meth) acrylate monomers such as methyl methacrylate and methyl acrylate; acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, etc. Unsaturated fatty acid-based monomers;
Polyolefins such as ethylene and propylene; and phenylmaleimide. Monomers copolymerizable with these aromatic vinyl compounds are each independently,
Alternatively, two or more kinds can be used in combination.

【0022】芳香族ビニル系重合体を得るために用いる
芳香族ビニル化合物の量は、使用目的に応じて適宜選択
されるが、全単量体に対して、通常は50重量%以上、
好ましくは70重量%以上、より好ましくは90重量%
以上、最も好ましくは100重量%である。芳香族ビニ
ル系重合体中の芳香族ビニル化合物の割合が多くなるに
つれて水素添加物の複屈折が十分に小さくなる。
The amount of the aromatic vinyl compound used to obtain the aromatic vinyl polymer is appropriately selected according to the purpose of use, but is usually 50% by weight or more based on all monomers.
Preferably 70% by weight or more, more preferably 90% by weight
As described above, the content is most preferably 100% by weight. As the proportion of the aromatic vinyl compound in the aromatic vinyl polymer increases, the birefringence of the hydrogenated product becomes sufficiently small.

【0023】この重合に用いられる開始剤としては、有
機アルカリ金属からなるものや、有機アルカリ金属とル
イス塩基との組み合せからなるもの等が挙げられ、分子
量分布を狭くするためには、有機アルカリ金属とルイス
塩基との組み合せからなるものが好適である。有機アル
カリ金属としては、例えば、n−ブチルリチウム、se
c−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、ヘキシルリ
チウム、フェニルリチウム、スチルベンリチウムなどの
モノ有機リチウム化合物;ジリチオメタン、1,4−ジ
リチオブタン、1,4−ジリチオ−2−エチルシクロヘ
キサン、1,3,5−トリリチオベンゼンなどの多官能
性有機リチウム化合物;ナトリウムナフタレン、カリウ
ムナフタレンなどが挙げられる。これらの中でも、有機
リチウム化合物が好ましく、モノ有機リチウム化合物が
特に好ましい。
Examples of the initiator used in this polymerization include those composed of an organic alkali metal and those composed of a combination of an organic alkali metal and a Lewis base. In order to narrow the molecular weight distribution, an organic alkali metal is used. Those comprising a combination of and a Lewis base are preferred. As the organic alkali metal, for example, n-butyl lithium, se
Monoorganic lithium compounds such as c-butyllithium, t-butyllithium, hexyllithium, phenyllithium, and stilbenelithium; dilithiomethane, 1,4-dilithiobutane, 1,4-dilithio-2-ethylcyclohexane, 1,3,5- Polyfunctional organic lithium compounds such as trilithiobenzene; sodium naphthalene, potassium naphthalene and the like; Among these, organolithium compounds are preferred, and monoorganic lithium compounds are particularly preferred.

【0024】これらの有機アルカリ金属は、それぞれ単
独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることがで
きる。有機アルカリ金属の使用量は、要求される生成重
合体の分子量によって適宜選択され、通常、単量体10
0重量部当り、0.05〜100ミリモル、好ましくは
0.10〜50ミリモル、より好ましくは0.15〜2
0ミリモルの範囲である。
These organic alkali metals can be used alone or in combination of two or more. The amount of the organic alkali metal used is appropriately selected depending on the required molecular weight of the produced polymer.
0.05 to 100 mmol, preferably 0.10 to 50 mmol, more preferably 0.15 to 2 per 100 parts by weight.
The range is 0 mmol.

【0025】ルイス塩基は分子量分布の狭い芳香族ビニ
ル系重合体を得る上で有用である。ルイス塩基として
は、溶液重合で通常使用されるものであれば特に制限は
なく、例えば、エーテル化合物;テトラメチルエチレン
ジアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリ
ジンなどの第3級アミン化合物;カリウム−t−アミル
オキシド、カリウム−t−ブチルオキシドなどのアルカ
リ金属アルコキシド化合物;トリフェニルホスフィンな
どのホスフィン化合物;などが挙げられる。これらの中
でも、特にエーテル化合物が、得られる芳香族ビニル系
重合体の分子量分布(Mw/Mn)を充分に狭くできる
ので好適である。
The Lewis base is useful for obtaining an aromatic vinyl polymer having a narrow molecular weight distribution. The Lewis base is not particularly limited as long as it is commonly used in solution polymerization, and examples thereof include an ether compound; a tertiary amine compound such as tetramethylethylenediamine, trimethylamine, triethylamine, and pyridine; potassium-t-amyloxide; Alkali metal alkoxide compounds such as potassium-t-butyl oxide; phosphine compounds such as triphenylphosphine; and the like. Among them, ether compounds are particularly preferable because the molecular weight distribution (Mw / Mn) of the obtained aromatic vinyl polymer can be sufficiently narrowed.

【0026】エーテル化合物としては、特に限定はない
が、炭素数が、通常2〜100、好ましくは4〜50、
より好ましくは4〜20のものが好適に用いられる。具
体例としては、例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、
ジアミルエーテル、ジイソアミルエーテル、メチルエチ
ルエーテル、メチルプロピルエーテル、メチルイソプロ
ピルエーテル、メチルブチルエーテル、メチルイソアミ
ルエーテル、エチルプロピルエーテル、エチルイソプロ
ピルエーテル、エチルブチルエーテルなどの脂肪族モノ
エーテル類;アニソール、フェネトール、ジフェニルエ
ーテル、ジベンジルエーテルなどの芳香族モノエーテル
類;テトラヒドロフラン、テトラヒドロピランなどの環
状モノエーテル類;
The ether compound is not particularly limited, but usually has 2 to 100 carbon atoms, preferably 4 to 50 carbon atoms.
More preferably, those having 4 to 20 are suitably used. Specific examples include, for example, dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether,
Aliphatic monoethers such as diamyl ether, diisoamyl ether, methyl ethyl ether, methyl propyl ether, methyl isopropyl ether, methyl butyl ether, methyl isoamyl ether, ethyl propyl ether, ethyl isopropyl ether, ethyl butyl ether; anisole, phenetole, diphenyl ether , Dibenzyl ethers and other aromatic monoethers; tetrahydrofurans, tetrahydropyrans and other cyclic monoethers;

【0027】エチレングリコールジメチルエーテル、エ
チレングリコールメチルエチルエーテル、エチレングリ
コールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピ
ルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エ
チレングリコールジアミルエーテル、エチレングリコー
ルジオクチルエーテル、プロピレングリコールジメチル
エーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プ
ロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリ
コールジブチルエーテル、イソプロピレングリコールジ
メチルエーテル、イソプロピレングリコールジエチルエ
ーテル、ブチレングリコールジメチルエーテル、ブチレ
ングリコールジエチルエーテル、ブチレングリコールジ
ブチルグリコールなどのアルキレングリコールジアルキ
ルエーテル類;エチレングリコールメチルフェニルエー
テルなどのアルキレングリコールアルキルアリールエー
テル類;エチレングリコールジフェニルエーテルなどの
アルキレングリコールジアリールエーテル類;エチレン
グリコールジベンジルエーテルなどのアルキレングリコ
ールジアラルキルエーテル類;などが挙げられる。
Ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol methyl ethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dipropyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol diamyl ether, ethylene glycol dioctyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol Alkylene glycol dialkyl ethers such as diethyl ether, propylene glycol dibutyl ether, isopropylene glycol dimethyl ether, isopropylene glycol diethyl ether, butylene glycol dimethyl ether, butylene glycol diethyl ether, butylene glycol dibutyl glycol; Alkylene glycol alkyl aryl ethers such as glycol methyl ether, alkylene glycol diaryl ethers such as ethylene glycol diphenyl ether, alkylene glycol di aralkyl ethers such as ethylene glycol dibenzyl ether; and the like.

【0028】これらのルイス塩基は、それぞれ単独で、
あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらのルイス塩基の使用量は、開始剤として用いる有
機アルカリ金属1モルに対して0.001〜10.0ミ
リモル、好ましくは0.01〜5.0ミリモル、より好
ましくは0.1〜2.0ミリモルの範囲である。
Each of these Lewis bases, alone,
Alternatively, two or more kinds can be used in combination.
These Lewis bases are used in an amount of 0.001 to 10.0 mmol, preferably 0.01 to 5.0 mmol, more preferably 0.1 to 2.0 mmol, per 1 mol of the organic alkali metal used as the initiator. The range is 0 mmol.

【0029】重合において用いられる炭化水素系溶媒と
しては、ポリマーを溶解できるもので開始剤を失活させ
ないものであれば格別な制限はなく、例えば、n−ブタ
ン、n−ペンタン、iso−ペンタン、n−ヘキサン、
n−ヘプタン、iso−オクタンなどの脂肪族炭化水素
類;シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペ
ンタン、メチルシクロヘキサン、デカリンなどの脂環式
炭化水素類;ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素
類;などが挙げられる。これらの中でも、脂肪族炭化水
素類や脂環式炭化水素類を用いると、水素添加反応をそ
のまま行うことができるので好ましい。これらの炭化水
素系溶媒は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み
合わせて、通常、単量体濃度が1〜30重量%になる量
比で用いられる。
The hydrocarbon solvent used in the polymerization is not particularly limited as long as it can dissolve the polymer and does not deactivate the initiator. For example, n-butane, n-pentane, iso-pentane, n-hexane,
aliphatic hydrocarbons such as n-heptane and iso-octane; alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane, cyclohexane, methylcyclopentane, methylcyclohexane and decalin; aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene; No. Among these, the use of aliphatic hydrocarbons and alicyclic hydrocarbons is preferable because the hydrogenation reaction can be carried out as it is. These hydrocarbon solvents are used singly or in combination of two or more kinds, and are usually used in a ratio such that the monomer concentration becomes 1 to 30% by weight.

【0030】重合反応は、等温反応、断熱反応のいずれ
でもよく、通常は0〜150℃、好ましくは20〜12
0℃の重合温度範囲で行われる。重合時間は、0.01
〜20時間、好ましくは0.1〜10時間の範囲であ
る。
The polymerization reaction may be either an isothermal reaction or an adiabatic reaction, usually at 0 to 150 ° C., preferably at 20 to 12 ° C.
It is carried out in a polymerization temperature range of 0 ° C. The polymerization time is 0.01
-20 hours, preferably 0.1-10 hours.

【0031】重合反応後は、スチームストリッピング
法、直接脱溶媒法、アルコール凝固法等の公知の方法で
重合体を回収できる。また、本発明においては、重合時
に水素添加反応に不活性な溶媒を用いた場合は、重合溶
液から重合体を回収せず、そのまま水素添加工程に供す
ることができる。
After the polymerization reaction, the polymer can be recovered by a known method such as a steam stripping method, a direct desolvation method, or an alcohol coagulation method. In the present invention, when a solvent inert to the hydrogenation reaction is used during the polymerization, the polymer can be directly used for the hydrogenation step without recovering the polymer from the polymerization solution.

【0032】上記芳香族ビニル系重合体の水素添加方法
は、芳香族環の水素添加率が高く、且つ重合体鎖切断の
少ない水素添加方法であれば格別な制限はない。例え
ば、有機溶媒中で、ニッケル、コバルト、鉄、チタン、
ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム及びレニウム
から選ばれる少なくとも1種の金属を含む水素化触媒を
用いて行う方法を挙げることができる。前記水素化触媒
の中でも、特にニッケル触媒は、Mw/Mnの小さい水
素添加物を得ることができるので好適である。水素化触
媒は、不均一系触媒、均一系触媒のいずれでもよい。
The hydrogenation method of the aromatic vinyl polymer is not particularly limited as long as the hydrogenation rate of the aromatic ring is high and the polymer chain is hardly broken. For example, in an organic solvent, nickel, cobalt, iron, titanium,
A method using a hydrogenation catalyst containing at least one metal selected from rhodium, palladium, platinum, ruthenium and rhenium can be mentioned. Among the hydrogenation catalysts, a nickel catalyst is particularly preferable because a hydrogenated product having a small Mw / Mn can be obtained. The hydrogenation catalyst may be either a heterogeneous catalyst or a homogeneous catalyst.

【0033】不均一系触媒は、金属または金属化合物の
まま、または適当な担体に担持して用いることができ
る。担体としては、例えば、活性炭、シリカ、アルミ
ナ、炭酸カルシウム、チタニア、マグネシア、ジルコニ
ア、ケイソウ土(珪藻土)、炭化珪素等が挙げられる。
これらの中でも、ケイソウ土を使用すると、分子量分布
をより狭くすることができて好適である。この場合の担
体上の上記金属の担持量は、通常0.01〜80重量%
の範囲、好ましくは0.05〜60重量%の範囲であ
る。
The heterogeneous catalyst can be used as it is as a metal or a metal compound, or supported on a suitable carrier. Examples of the carrier include activated carbon, silica, alumina, calcium carbonate, titania, magnesia, zirconia, diatomaceous earth (diatomaceous earth), and silicon carbide.
Among them, the use of diatomaceous earth is preferable because the molecular weight distribution can be narrowed. In this case, the amount of the metal supported on the carrier is usually 0.01 to 80% by weight.
, Preferably in the range of 0.05 to 60% by weight.

【0034】均一系触媒として、ニッケル、コバルト、
チタンまたは鉄の化合物と有機アルミニウム化合物や有
機リチウム化合物等の有機金属化合物とを組み合わせた
触媒;ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、レニ
ウム等の有機金属錯体等を用いることができる。均一系
触媒に用いられるニッケル、コバルト、チタンまたは鉄
の化合物としては、例えば、各種金属のアセチルアセト
ン塩、ナフテン酸塩、シクロペンタジエニル化合物、シ
クロペンタジエニルジクロロ化合物等が挙げられる。有
機アルミニウム化合物としては、トリエチルアルミニウ
ム、トリイソブチルアルミニウム等のアルキルアルミニ
ウム;ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニ
ウムジクロリド等のハロゲン化アルキルアルミニウム;
ジイソブチルアルミニウムハイドライド等の水素化アル
キルアルミニウム;などが挙げられる。有機金属錯体の
例としては、上記各金属のγ−ジクロロ−π−ペンゼン
錯体、ジクロロ−トリス(トリフェニルホスフィン)錯
体、ヒドリッド−クロロ−トリス(トリフェニルホスフ
ィン)錯体等が挙げられる。
As a homogeneous catalyst, nickel, cobalt,
A catalyst obtained by combining a compound of titanium or iron with an organic metal compound such as an organic aluminum compound or an organic lithium compound; an organic metal complex such as rhodium, palladium, platinum, ruthenium, or rhenium can be used. Examples of the nickel, cobalt, titanium or iron compound used for the homogeneous catalyst include acetylacetone salts, naphthenates, cyclopentadienyl compounds and cyclopentadienyl dichloro compounds of various metals. Examples of the organic aluminum compound include alkyl aluminum such as triethyl aluminum and triisobutyl aluminum; alkyl aluminum halide such as diethyl aluminum chloride and ethyl aluminum dichloride;
Alkyl aluminum hydride such as diisobutyl aluminum hydride; and the like. Examples of the organometallic complex include a γ-dichloro-π-pentene complex, a dichloro-tris (triphenylphosphine) complex, and a hydride-chloro-tris (triphenylphosphine) complex of each of the above metals.

【0035】これらの水素化触媒は、それぞれ単独で、
あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
水素化触媒の使用量は、芳香族ビニル系重合体100重
量部当り、通常0.03〜50重量部、好ましくは0.
16〜33重量部、より好ましくは0.33〜15重量
部の範囲である。
Each of these hydrogenation catalysts can be used alone.
Alternatively, two or more kinds can be used in combination.
The amount of the hydrogenation catalyst to be used is generally 0.03 to 50 parts by weight, preferably 0.1 to 100 parts by weight, per 100 parts by weight of the aromatic vinyl polymer.
It is in the range of 16 to 33 parts by weight, more preferably 0.33 to 15 parts by weight.

【0036】水素添加方法において用いられる有機溶媒
としては、例えば、前記脂肪族炭化水素類;前記脂環式
炭化水素類;テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエー
テル類;アルコール類;エステル類などが挙げられる。
これらの有機溶媒は、それぞれ単独で、あるいは2種以
上を組み合わせて用いることができる。有機溶媒の使用
量は、芳香族ビニル系重合体の濃度が、通常1〜50重
量%、好ましくは3〜40重量%、より好ましくは5〜
30重量%の範囲で用いられる。
Examples of the organic solvent used in the hydrogenation method include the above-mentioned aliphatic hydrocarbons; the above-mentioned alicyclic hydrocarbons; ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; alcohols;
These organic solvents can be used alone or in combination of two or more. The amount of the organic solvent used is such that the concentration of the aromatic vinyl polymer is usually 1 to 50% by weight, preferably 3 to 40% by weight, more preferably 5 to 5% by weight.
It is used in the range of 30% by weight.

【0037】水素添加反応は、温度を通常、10〜25
0℃、好ましくは50〜200℃、より好ましくは80
〜180℃の範囲にし、水素圧力を、通常、1〜300
kg/cm、好ましくは10〜250kg/cm
より好ましくは20〜200kg/cmの範囲にして
行われる。
The hydrogenation reaction is usually carried out at a temperature of 10 to 25.
0 ° C, preferably 50-200 ° C, more preferably 80 ° C.
To 180 ° C. and the hydrogen pressure is usually 1 to 300
kg / cm 2 , preferably 10 to 250 kg / cm 2 ,
More preferably, it is performed in the range of 20 to 200 kg / cm 2 .

【0038】樹脂組成物 本発明の樹脂組成物は、上記の特定な芳香族ビニル系重
合体水素添加物の中で、分子量分布が2.0以下で、且
つ分子量(M)10,000以下の成分が重合体全重量
中2重量%以下であるものに白濁防止剤を配合してなる
ものである。上記樹脂組成物を成形材料として使用する
ことにより、白濁防止効果や成形加工性に優れた成形物
を得ることができる。白濁防止効果とは、高温高湿度環
境下や耐スチーム試験において、成形物の白濁を生じさ
せないような特性をいい、成形加工性とは、成形物表面
の凹凸等の欠陥、シルバーストリーク、ボイド等の表面
不良等が少ない表面の平滑性に優れる成形物を得ること
が可能な特性等をいう。
Resin Composition The resin composition of the present invention has a molecular weight distribution of 2.0 or less and a molecular weight (M) of 10,000 or less among the above specific hydrogenated aromatic vinyl polymer polymers. The composition comprises 2% by weight or less of the total weight of the polymer and an anti-clouding agent. By using the resin composition as a molding material, it is possible to obtain a molded product excellent in white turbidity prevention effect and molding processability. The clouding prevention effect refers to a property that does not cause clouding of a molded product in a high-temperature and high-humidity environment or in a steam resistance test. Refers to the property of obtaining a molded article having excellent surface smoothness with few surface defects.

【0039】白濁防止剤 本発明で使用する白濁配合剤は、芳香族ビニル系重合体
水素添加物に一定量配合した場合に、上記白濁防止効
果、すなわち、高温高湿度環境下や耐スチーム試験にお
いて、該水素化重合体からなる成形物の白濁を防止する
機能をを付与し得るような物質である。このような白濁
防止剤としては、例えば該水素化重合体以外の重合体、
多価アルコールの部分エーテル化合物、多価アルコール
の部分エステル化合物、及び微粒子充填剤からなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の物質が挙げられる。
The cloudiness-inhibiting agent used in the present invention, when blended in a fixed amount with a hydrogenated aromatic vinyl polymer, has the above-mentioned effect of preventing cloudiness, that is, in a high-temperature high-humidity environment or a steam resistance test. And a substance capable of imparting a function of preventing white turbidity of a molded article comprising the hydrogenated polymer. Examples of such an anti-opacity agent include polymers other than the hydrogenated polymer,
Examples include at least one substance selected from the group consisting of a partial ether compound of a polyhydric alcohol, a partial ester compound of a polyhydric alcohol, and a fine particle filler.

【0040】(該水素化重合体以外の重合体)本発明に
おいて、上記芳香族ビニル系重合体水素添加物に配合す
ることができる該水素化重合体以外の重合体は、本発明
の芳香族ビニル系重合体水素添加物に配合した場合に、
上記白濁防止効果を付与するような重合体であれば特に
限定はないが、上記耐湿性を付与するためには、該重合
体を芳香族ビニル系重合体水素添加物に配合する際に、
該重合体の配合前の形状が変化して、例えばミクロドメ
イン状態を形成して水素化重合体中に分散し得るような
ものである。
(Polymer other than the hydrogenated polymer) In the present invention, the polymer other than the hydrogenated polymer which can be blended with the above-mentioned hydrogenated aromatic vinyl polymer is the aromatic polymer of the present invention. When blended with hydrogenated vinyl polymer,
There is no particular limitation as long as it is a polymer that imparts the clouding prevention effect, but in order to impart the moisture resistance, when blending the polymer with a hydrogenated aromatic vinyl polymer,
It is such that the shape of the polymer prior to compounding changes such that it can form, for example, a microdomain state and be dispersed in the hydrogenated polymer.

【0041】そのような重合体として、ゴム質重合体や
熱可塑性エラストマーなどの軟質重合体や樹脂などが挙
げられる。樹脂の具体例としては、ポリフェニレンスル
フィド、ポリフェニレンエーテル、などのポリエーテル
またはポリチオエーテル;芳香族ポリエステル、ポリア
リレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルケト
ンなどのポリエステル系重合体;ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリ4‐メチル−ペンテン−1などの鎖状ポ
リオレフィン系重合体;ポリメチルメタクリレート、シ
クロヘキシルメタクリレートとメチルメタクリレート共
重合体、ポリアクリロニトリルスチレン(AS樹脂)な
どの汎用の透明樹脂;アクリル樹脂;MS樹脂;液晶プ
ラスチックなどが挙げられる。
Examples of such polymers include soft polymers such as rubbery polymers and thermoplastic elastomers, and resins. Specific examples of the resin include polyethers or polythioethers such as polyphenylene sulfide and polyphenylene ether; polyester polymers such as aromatic polyester, polyarylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate and polyether ketone; polyethylene, polypropylene Polyolefin-based polymers such as polystyrene, poly-4-methyl-pentene-1, general-purpose transparent resins such as polymethyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate and methyl methacrylate copolymer, polyacrylonitrile styrene (AS resin); acrylic resins; MS resins Liquid crystal plastics and the like;

【0042】本発明に使用される軟質重合体は、ガラス
転移温度が通常40℃以下の重合体であって、通常のゴ
ム質重合体および熱可塑性エラストマーが含まれる。な
お、ブロック共重合したゴム質重合体などでガラス転移
温度が2点以上ある場合は、最も低いガラス転移温度が
40℃以下であれば軟質重合体として用いることができ
る。
The soft polymer used in the present invention is a polymer having a glass transition temperature of usually 40 ° C. or lower, and includes a usual rubbery polymer and a thermoplastic elastomer. When the glass transition temperature of a block copolymerized rubbery polymer or the like has two or more points, it can be used as a soft polymer if the lowest glass transition temperature is 40 ° C. or lower.

【0043】ゴム質重合体の具体例としては、イソプレ
ンゴム及びその水素添加物;クロロプレンゴム及びその
水素添加物;エチレン・プロピレン共重合体、エチレン
・α−オレフィン共重合体、プロピレン・α−オレフィ
ン共重合体などの飽和ポリオレフィンゴム;エチレン・
プロピレン・ジエン共重合体、α−オレフィン・ジエン
共重合体、ジエン共重合体、イソブチレン・イソプレン
共重合体、イソブチレン・ジエン共重合体などのジエン
系共重合体及びそれらのハロゲン化物、ならびに前記ジ
エン系重合体及びジエン系重合体ハロゲン化物の水素添
加物;アクリロニトリル・ブタジエン共重合体及びその
水素添加物;フッ化ビニリデン・三フッ化エチレン共重
合体、フッ化ビニリデン・六フッ化プロピレン共重合
体、フッ化ビニリデン・六フッ化プロピレン・四フッ化
エチレン共重合体、プロピレン・四フッ化エチレン共重
合体などのフッ素ゴム;ウレタンゴム、シリコーンゴ
ム、ポリエーテル系ゴム、アクリルゴム、クロルスルホ
ン化ポリエチレンゴム、エピクロルヒドリンゴム、プロ
ピレンオキサイドゴム、エチレンアクリルゴムなどの特
殊ゴム;ノルボルネン系単量体とエチレンまたはα−オ
レフィンとの共重合体、ノルボルネン系単量体とエチレ
ンとα−オレフィンとの三元共重合体、ノルボルネン系
単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体の開環重合
体水素添加物などのノルボルネン系ゴム質重合体;乳化
重合または溶液重合で得られたスチレン・ブタジエン・
ゴム、ハイスチレンゴムなどのランダム系共重合体及び
これらの水素添加物等が挙げられる。
Specific examples of the rubbery polymer include isoprene rubber and its hydrogenated product; chloroprene rubber and its hydrogenated product; ethylene / propylene copolymer, ethylene / α-olefin copolymer, propylene / α-olefin Saturated polyolefin rubber such as copolymer; ethylene
Diene copolymers such as propylene / diene copolymer, α-olefin / diene copolymer, diene copolymer, isobutylene / isoprene copolymer, isobutylene / diene copolymer, and halides thereof, and the diene Acrylonitrile-butadiene copolymer and hydrogenated product thereof; vinylidene fluoride / ethylene trifluoride copolymer, vinylidene fluoride / propylene hexafluoride copolymer Fluorinated rubber such as vinylidene fluoride / propylene hexafluoride / ethylene tetrafluoride copolymer, propylene / tetrafluoroethylene copolymer; urethane rubber, silicone rubber, polyether rubber, acrylic rubber, chlorosulfonated polyethylene Rubber, epichlorohydrin rubber, propylene oxide rubber Special rubbers such as ethylene acrylic rubber; copolymers of norbornene monomers and ethylene or α-olefins; terpolymers of norbornene monomers and ethylene and α-olefins; norbornene monomers Ring-opening polymers, norbornene-based rubbery polymers such as hydrogenated ring-opening polymers of norbornene-based monomers; styrene-butadiene obtained by emulsion polymerization or solution polymerization;
Examples include random copolymers such as rubber and high styrene rubber, and hydrogenated products thereof.

【0044】又、熱可塑性エラストマーの具体例として
は、スチレン・ブタジエン・スチレン・ゴム、スチレン
・イソプレン・スチレン・ゴム、スチレン・エチレン・
ブタジエン・スチレン・ゴムなどの芳香族ビニル系モノ
マー・共役ジエンの直鎖状または放射状ブロック共重合
体、それらの水素添加物のごときスチレン系熱可塑性エ
ラストマー;ウレタン系熱可塑性エラストマー;ポリア
ミド系熱可塑性エラストマー;1,2−ポリブタジエン
系熱可塑性エラストマー;塩化ビニル系熱可塑性エラス
トマー;フッ素系熱可塑性エラストマー;等が挙げられ
る。
Specific examples of the thermoplastic elastomer include styrene / butadiene / styrene / rubber, styrene / isoprene / styrene / rubber, and styrene / ethylene / styrene.
Styrene thermoplastic elastomers such as linear or radial block copolymers of aromatic vinyl monomers such as butadiene, styrene and rubber, and conjugated dienes, and hydrogenated products thereof; urethane thermoplastic elastomers; polyamide thermoplastic elastomers 1,2-polybutadiene-based thermoplastic elastomer; vinyl chloride-based thermoplastic elastomer; fluorine-based thermoplastic elastomer;

【0045】これらの中でも、芳香族ビニル系モノマー
と共役ジエン系モノマーの共重合体、およびその水素添
加物は、芳香族ビニル系重合体水素添加物との分散性が
良いので好ましい。芳香族ビニル系モノマーと共役ジエ
ン系モノマーの共重合体はブロック共重合体でもランダ
ム共重合体でも良い。耐候性の点から芳香環以外の部分
を水素添加しているものがより好ましい。具体的には、
スチレン・ブタジエンブロック共重合体、スチレン・ブ
タジエン・スチレン・ブロック共重合体、スチレン・イ
ソプレン・ブロック共重合体、スチレン・イソプレン・
スチレン・ブロック共重合体、およびこれらの水素添加
物、スチレン・ブタジエン・ランダム共重合体およびこ
れらの水素添加物などが挙げられる。
Among these, a copolymer of an aromatic vinyl monomer and a conjugated diene monomer and a hydrogenated product thereof are preferable because of good dispersibility of the hydrogenated aromatic vinyl polymer. The copolymer of the aromatic vinyl monomer and the conjugated diene monomer may be a block copolymer or a random copolymer. From the viewpoint of weather resistance, those in which a portion other than the aromatic ring is hydrogenated are more preferable. In particular,
Styrene / butadiene block copolymer, styrene / butadiene / styrene / block copolymer, styrene / isoprene / block copolymer, styrene / isoprene /
Styrene / block copolymers and their hydrogenated products, styrene / butadiene / random copolymers and their hydrogenated products, and the like.

【0046】上記の重合体を添加すると、多くの場合、
成形品に多数の分散したミクロドメインが形成される。
電子顕微鏡で観察したミクロドメインの平均粒径(電子
顕微鏡観察により、無作為に選ばれたミクロドメイン1
00個それぞれの長径と短径を測定し、測定値を式
[(長径+短径)/2]によってミクロドメイン径を計
算し、その計算値の平均を求めたもの。)は、通常0.
001〜0.5μm、好ましくは0.005〜0.3μ
m、特に好ましくは0.01〜0.2μmの大きさであ
る。このようなミクロドメインを形成させると成形品の
透明性と、高温高湿環境下での白濁防止効果が高度にバ
ランスされ好適である。
The addition of the above polymers often leads to
A large number of dispersed microdomains are formed in the molded article.
Average particle size of microdomains observed by electron microscope (microdomain 1 randomly selected by electron microscope observation)
The major axis and minor axis of each of the 00 pieces were measured, and the measured values were used to calculate the microdomain diameter according to the formula [(major axis + minor axis) / 2], and the average of the calculated values was obtained. ) Is usually 0.
001 to 0.5 μm, preferably 0.005 to 0.3 μm
m, particularly preferably 0.01 to 0.2 μm. When such microdomains are formed, the transparency of the molded article and the effect of preventing white turbidity in a high-temperature and high-humidity environment are highly balanced, which is preferable.

【0047】(部分エーテル化合物、部分エステル化合
物)本発明に使用される、部分エーテル化合物は、少な
くとも1個のアルコール性水酸基と少なくとも1個のエ
ーテル結合を有する化合物であり、部分エステル化合物
は、少なくとも1個のアルコール性水酸基と少なくとも
1個のエステル結合とを有する有機化合物である。部分
エーテル化合物又は部分エステル化合物を芳香族ビニル
系重合体水素添加物に配合することで、高温高湿度環境
下での白濁を防止でき、高い透明性を維持することが可
能である。少なくとも1個のアルコール性水酸基と少な
くとも1個のエーテル結合を有する化合物とは、フェノ
ール性の水酸基ではないアルコール性の水酸基を少なく
とも1個と、分子中にエーテル結合単位を少なくとも1
個有する有機化合物であれば特に限定はされない。該部
分エーテル化合物は、多価アルコールの中の水酸基の少
なくとも1つがエーテル化されたものである。多価アル
コールは、水酸基が2個以上、好ましくは3個以上、さ
らに好ましくは3〜8個を有するものである。
(Partial ether compound and partial ester compound) The partial ether compound used in the present invention is a compound having at least one alcoholic hydroxyl group and at least one ether bond. An organic compound having one alcoholic hydroxyl group and at least one ester bond. By blending the partial ether compound or the partial ester compound with the hydrogenated aromatic vinyl polymer, it is possible to prevent cloudiness in a high-temperature and high-humidity environment, and to maintain high transparency. A compound having at least one alcoholic hydroxyl group and at least one ether bond includes at least one alcoholic hydroxyl group that is not a phenolic hydroxyl group and at least one etheric bond unit in the molecule.
There is no particular limitation as long as it has an organic compound. The partial ether compound is obtained by etherifying at least one of the hydroxyl groups in the polyhydric alcohol. The polyhydric alcohol has two or more, preferably three or more, more preferably three to eight hydroxyl groups.

【0048】また、少なくとも1個のアルコール性水酸
基と少なくとも1個のエステル結合を有する化合物と
は、フェノール性の水酸基ではないアルコール性の水酸
基を少なくとも1個と、分子中にエステル結合単位を少
なくとも1個有する有機化合物であれば特に限定はされ
ない。該部分エステル化合物は、多価アルコールの中の
水酸基の少なくとも1つがエステル化されたものであ
る。多価アルコールは、水酸基が2個以上、好ましくは
3個以上、さらに好ましくは3〜8個を有するものであ
る。
The compound having at least one alcoholic hydroxyl group and at least one ester bond includes at least one alcoholic hydroxyl group other than a phenolic hydroxyl group and at least one ester bond unit in the molecule. There is no particular limitation as long as it has an organic compound. The partial ester compound is obtained by esterifying at least one of the hydroxyl groups in the polyhydric alcohol. The polyhydric alcohol has two or more, preferably three or more, more preferably three to eight hydroxyl groups.

【0049】多価アルコールとしては例えば、ポリエチ
レングリコール、グリセロール、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、トリグリ
セロール、ジペンタエリスリトール、1,6,7−トリ
ヒドロキシ−2,2−ジ(ヒドロキシメチル)−4−オ
キソヘプタン、ソルビトール、2−メチル−1,6,7
−トリヒドロキシ−2−ヒドロキシメチル−4−オキソ
ヘプタン、1,5,6−トリヒドロキシ−3−オキソヘ
キサンペンタエリスリトール、トリス(2−ヒドロキシ
エチル)イソシアヌレートなどが挙げられるが、これら
のうち、特に3価以上の多価アルコール、さらには3〜
8個の水酸基を有する多価アルコールが好ましい。また
部分エステル化合物を得る場合には、α、β−ジオール
を含む部分エステル化合物が合成可能なグリセロール、
ジグリセロール、トリグリセロールなどが好ましい。
Examples of the polyhydric alcohol include polyethylene glycol, glycerol, trimethylolpropane, pentaerythritol, diglycerol, triglycerol, dipentaerythritol, 1,6,7-trihydroxy-2,2-di (hydroxymethyl) -4-oxoheptane, sorbitol, 2-methyl-1,6,7
-Trihydroxy-2-hydroxymethyl-4-oxoheptane, 1,5,6-trihydroxy-3-oxohexanepentaerythritol, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate and the like. Trihydric or higher polyhydric alcohol,
Polyhydric alcohols having eight hydroxyl groups are preferred. When obtaining a partial ester compound, glycerol from which a partial ester compound containing α, β-diol can be synthesized,
Diglycerol, triglycerol and the like are preferred.

【0050】このような部分エーテル化合物、部分エス
テル化合物の具体的として、グリセリンモノステアレー
ト、グリセリンモノラウレート、グリセリンモノベヘネ
ート、ジグリセリンモノステアレート、グリセリンジス
テアレート、グリセリンジラウレート、ペンタエリスリ
トールモノステアレート、ペンタエリスリトールモノラ
ウレート、ペンタエリスリトールモノベヘレート、ペン
タエリスリト^ルジステアレート、ペンタエリスリトー
ルジラウレート、ペンタエリスリトールトリステアレー
ト、ジペンタエリスリトールジステアレートなどの多価
アルコールのエーテル化物、エステル化物;
Specific examples of such partial ether compounds and partial ester compounds include glycerin monostearate, glycerin monolaurate, glycerin monobehenate, diglycerin monostearate, glycerin distearate, glycerin dilaurate, and pentaerythritol monoester. Etherified products and esterified products of polyhydric alcohols such as stearate, pentaerythritol monolaurate, pentaerythritol monobeherate, pentaerythritol peristearate, pentaerythritol dilaurate, pentaerythritol tristearate, and dipentaerythritol distearate ;

【0051】3−(オクチルオキシ)−1,2−プロパ
ンジオール、3−(デシルオキシ)−1,2−プロパン
ジオール、3−(ラウリルオキシ)−1,2−プロパン
ジオール、3−(4−ノニルフェニルオキシ)−1,2
−プロパンジオール、1,6−ジヒドロオキシ−2,2
−ジ(ヒドロキシメチル)−7−(4−ノニルフェニル
オキシ)−4−オキソヘプタン、p−ノニルフェニルエ
ーテルとホルムアルデヒドの縮合体とグリシドールの反
応により得られるエーテル化合物、p−オクチルフェニ
ルエーテルとホルムアルデヒドの縮合体とグリシドール
の反応により得られるエーテル化合物、p−オクチルフ
ェニルエーテルとジシクロペンタジエンの縮合体とグリ
シドールの反応により得られるエーテル化合物などが挙
げられる。
3- (octyloxy) -1,2-propanediol, 3- (decyloxy) -1,2-propanediol, 3- (lauryloxy) -1,2-propanediol, 3- (4-nonyl) Phenyloxy) -1,2
-Propanediol, 1,6-dihydroxy-2,2
-Di (hydroxymethyl) -7- (4-nonylphenyloxy) -4-oxoheptane, an ether compound obtained by reacting a condensate of p-nonylphenyl ether and formaldehyde with glycidol, and a compound of p-octylphenyl ether and formaldehyde Examples include ether compounds obtained by reacting a condensate with glycidol, and ether compounds obtained by reacting a condensate of p-octylphenyl ether and dicyclopentadiene with glycidol.

【0052】これら多価アルコールの部分エーテル化合
物または部分エステル化合物は単独でまたは2種以上を
組み合わせて使用される。これらの多価アルコールの部
分エーテル化合物または部分エステル化合物の分子量は
特に限定されないが、通常500〜2000、好ましく
は800〜1500のものが、透明性の低下も少なく好
ましい。
These partial ether compounds or partial ester compounds of polyhydric alcohols are used alone or in combination of two or more. Although the molecular weight of the partial ether compound or partial ester compound of these polyhydric alcohols is not particularly limited, those having a molecular weight of usually from 500 to 2,000, preferably from 800 to 1,500 are preferable because they do not decrease the transparency.

【0053】(微粒子充填剤)本発明に使用される微粒
子充填剤としては、有機、または無機のフィラーなどが
挙げられるが、高分子工業で通常使用されるものであれ
ば、特に限定はされない。これらの微粒子充填剤は、水
素化重合体に配合する際に形状を変化させることなく、
配合前の微粒子状態で該水素化重合体中に分散し得るよ
うなものである。よって、前述の水素化重合体以外の重
合体と、組成が同一のものであっても、配合前の微粒子
形状を維持して水素化重合体中に分散し得るものは当該
微粒子充填剤である。
(Fine Particle Filler) Examples of the fine particle filler used in the present invention include organic and inorganic fillers, but are not particularly limited as long as they are commonly used in the polymer industry. These fine particle fillers do not change shape when blended into the hydrogenated polymer,
It is one that can be dispersed in the hydrogenated polymer in the form of fine particles before blending. Therefore, polymers other than the hydrogenated polymer described above, even if the composition is the same, those that can be dispersed in the hydrogenated polymer while maintaining the fine particle shape before blending are the fine particle fillers. .

【0054】有機フィラーとしては、通常の有機重合体
粒子または架橋有機重合体粒子を用いることができる。
具体的には、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリメチル‐1‐ブテン、ポリ4‐メチル‐1−ペンテ
ン、ポリ1−ブテンなどのポリオレフィン; ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリ
フッ化ビニリデン、ポリクロロプレン、塩素化ゴムなど
のハロゲン含有ビニル重合体; ポリアリレート、ポリ
メタクリレート、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニ
トリル、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重
合体、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル・スチ
レン・アクリル酸エステル(共)重合体などのα,β‐
不飽和酸またはその誘導体から誘導された(共)重合
体;ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリステ
アリン酸ビニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレイン酸
ビニル、ポリビニルビチラール、ポリアリルフタレー
ト、ポリアリルメラミン、エチレン・酢酸ビニル共重合
体などの不飽和アルコール及びアミンまたはそのアシル
誘導体またはアセタールから誘導された重合体;
As the organic filler, ordinary organic polymer particles or crosslinked organic polymer particles can be used.
Specifically, for example, polyethylene, polypropylene,
Polyolefins such as polymethyl-1-butene, poly-4-methyl-1-pentene and poly1-butene; halogen-containing vinyls such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, polychloroprene, and chlorinated rubber Polymers: α, β- such as polyarylate, polymethacrylate, polyacrylamide, polyacrylonitrile, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, polyacrylonitrile, acrylonitrile-styrene-acrylate (co) polymer, etc.
(Co) polymers derived from unsaturated acids or their derivatives; polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polyvinyl stearate, polyvinyl benzoate, polyvinyl maleate, polyvinyl bityral, polyallyl phthalate, polyallyl melamine, ethylene A polymer derived from an unsaturated alcohol and an amine or an acyl derivative or acetal thereof, such as a vinyl acetate copolymer;

【0055】ポリエチレンオキシド、またはビスグリシ
ジルエーテルからから誘導された重合体; ポリフェニ
レンオキシド; ポリカーボネート; ポリスルフォ
ン;ポリウレタン; 及び尿素樹脂; ナイロン6、ナ
イロン66、ナイロン11、ナイロン12などのポリア
ミド; ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテ
レフタレート、ポリ1,4−ジメチロール・シクロヘキ
サンテレフタレートなどのポリエステル; フェノール
・ホルムアルデヒド樹脂、尿素・ホルムアルデヒド樹
脂、メラミン・ホルムアルデヒド樹脂などのアルデヒド
とフェノール、尿素またはメラミンとから誘導された架
橋構造を有する重合体、例えば、酢酸セルロース、プロ
ピオン酸セルロース、セルロースエーテルなどの天然高
分子化合物; などの粒子または架橋粒子を挙げること
ができる。
A polymer derived from polyethylene oxide or bisglycidyl ether; polyphenylene oxide; polycarbonate; polysulfone; polyurethane; and urea resins; polyamides such as nylon 6, nylon 66, nylon 11, nylon 12, polyethylene terephthalate; Polyesters such as polybutylene terephthalate and poly 1,4-dimethylol / cyclohexane terephthalate; polyhydric compounds having a crosslinked structure derived from aldehydes such as phenol / formaldehyde resin, urea / formaldehyde resin, melamine / formaldehyde resin and phenol, urea or melamine Coalesce, for example, cellulose acetate, cellulose propionate, natural polymer compounds such as cellulose ethers; Mention may be made of the bridge particles.

【0056】無機フィラーとしては、1族、2族、4
族、6族、7族、8〜10族、11族、12族、13
族、14族元素の酸化物、水酸化物、硫化物、窒素化
物、ハロゲン化物、炭酸塩、硫酸塩、酢酸塩、燐酸塩、
亜燐酸塩、有機カルボン酸塩、珪酸塩、チタン酸塩、硼
酸塩およびそれらの含水化合物、もしくは複合化合物、
及び天然鉱物粒子が挙げられる。具体的には、フッ化リ
チウム、硼砂(硼酸ナトリウム含水塩)などの1族元素
化合物;炭酸マグネシウム、燐酸マグネシウム、酸化マ
グネシウム、塩化マグネシウム、酢酸マグネシウム、フ
ッ化マグネシウム、チタン酸マグネシウム、珪酸マグネ
シウム、珪酸マグネシウム含水塩(タルク)、炭酸カル
シウム、燐酸カルシウム、亜燐酸カルシウム、硫酸カル
シウム(石膏)、酢酸カルシウム、テレフタル酸カルシ
ウム、水酸化カルシウム、珪酸カルシウム、フッ化カル
シウム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウ
ム、炭酸バリウム、燐酸バリウム、硫酸バリウム、亜燐
酸バリウムなどの2族元素化合物;
Examples of the inorganic filler include Group 1 and Group 2 and 4
Tribe, 6th, 7th, 8th to 10th, 11th, 12th, 13th
Oxides, hydroxides, sulfides, nitrides, halides, carbonates, sulfates, acetates, phosphates, and salts of Group 14 and 14 elements
Phosphites, organic carboxylates, silicates, titanates, borates and their hydrated or complex compounds,
And natural mineral particles. Specifically, Group 1 element compounds such as lithium fluoride and borax (sodium borate hydrate); magnesium carbonate, magnesium phosphate, magnesium oxide, magnesium chloride, magnesium acetate, magnesium fluoride, magnesium titanate, magnesium silicate, and silicate Magnesium hydrate (talc), calcium carbonate, calcium phosphate, calcium phosphite, calcium sulfate (gypsum), calcium acetate, calcium terephthalate, calcium hydroxide, calcium silicate, calcium fluoride, calcium titanate, strontium titanate, carbonate Group 2 element compounds such as barium, barium phosphate, barium sulfate and barium phosphite;

【0057】二酸化チタン(チタニア)、一酸化チタ
ン、窒化チタン、二酸化ジルコニウム(ジルコニア)、
一酸化ジルコニウムなどの4族元素化合物;二酸化モリ
ブデン、三酸化モリブデン、硫化モリブデンなどの6族
元素化合物;塩化マンガン、酢酸マンガンなどの7族元
素化合物;塩化コバルト、酢酸コバルトなどの8〜10
族元素化合物;沃化第一銅などの11族元素化合物;酸
化亜鉛、酢酸亜鉛などの12族元素化合物;酸化アルミ
ニウム(アルミナ)、フッ化アルミニウム、アルミノシ
リケート(珪酸アルミナ、カオリン、カオリナイト)な
どの13族元素化合物;酸化珪素(シリカ、シリカゲ
ル)、石墨、カーボン、グラファイト、ガラスなどの1
4族元素化合物;カーナル石、カイナイト、雲母(マイ
カ、キンウンモ)、バイロース鉱などの天然鉱物の粒子
が挙げられる。
Titanium dioxide (titania), titanium monoxide, titanium nitride, zirconium dioxide (zirconia),
Group 4 element compounds such as zirconium monoxide; Group 6 element compounds such as molybdenum dioxide, molybdenum trioxide, and molybdenum sulfide; Group 7 element compounds such as manganese chloride and manganese acetate; 8-10 such as cobalt chloride and cobalt acetate
Group 11 element compounds such as cuprous iodide; Group 12 element compounds such as zinc oxide and zinc acetate; aluminum oxide (alumina), aluminum fluoride, aluminosilicate (alumina silicate, kaolin, kaolinite), etc. Group 13 element compounds of silicon; silicon oxide (silica, silica gel), graphite, carbon, graphite, glass, etc.
Group 4 element compound; particles of natural minerals such as kernalite, kainite, mica (mica, kinmo) and virose ore.

【0058】無機フィラーの平均粒径は、電子顕微鏡な
どにより、3000〜5000個の粒子の直径から測定
される平均粒径で、0.05〜50μm、好ましくは
0.1〜30μmの範囲である。また針状粒子よりも長
辺と短辺の長さの比(=長径/短径)が2以下である球
状粒子が好ましい。フィラーの大きさがこの範囲にある
時に、透明性と高温高湿度環境下での白濁防止効果との
高度なバランスが得られる。
The average particle diameter of the inorganic filler is 0.05 to 50 μm, preferably 0.1 to 30 μm, which is the average particle diameter measured from the diameter of 3000 to 5000 particles by an electron microscope or the like. . Spherical particles having a ratio of the length of the long side to the length of the short side (= major axis / minor axis) of 2 or less than the acicular particles are preferable. When the size of the filler is in this range, a high balance between transparency and the effect of preventing white turbidity in a high temperature and high humidity environment can be obtained.

【0059】これらの白濁防止剤の中でも、軟質重合
体、部分エーテル化合物、部分エステル化合物が、透明
性、耐熱性、成形加工性、および高温高湿度環境下にお
ける白濁防止効果とを高度にバランスさせることができ
好適である。
Among these anti-opacity agents, soft polymers, partial ether compounds and partial ester compounds have a high balance of transparency, heat resistance, moldability, and anti-opacity effect under high temperature and high humidity environment. It can be preferred.

【0060】本発明においては上記の白濁防止剤は芳香
族ビニル系重合体水素添加物に適量配合する。配合量は
芳香族ビニル系重合体水素添加物と白濁防止剤の組み合
わせによって決まるが、一般に、配合量が多すぎれば、
樹脂組成物のガラス転移温度や透明性が大きく低下し、
光学材料として使用するのに不適である。また配合量が
少なすぎれば、高温高湿下において成形物の白濁を生じ
る場合がある。白濁防止剤の量は、芳香族ビニル系重合
体水素添加物100重量部に対して、通常0.01〜1
0重量部、好ましくは0.02〜5重量部、特に好まし
くは0.05〜2重量部である。配合量が上記範囲にあ
る場合に、成形品の耐熱性、透明性と、高温高湿度環境
下における白濁防止効果が高度にバランスされて好適で
ある。
In the present invention, the above-mentioned anti-clouding agent is blended in an appropriate amount with the hydrogenated aromatic vinyl polymer. The amount is determined by the combination of the hydrogenated aromatic vinyl polymer and the anti-opacity agent. Generally, if the amount is too large,
The glass transition temperature and transparency of the resin composition are greatly reduced,
Unsuitable for use as an optical material. If the amount is too small, the molded product may become cloudy under high temperature and high humidity. The amount of the clouding inhibitor is usually 0.01 to 1 with respect to 100 parts by weight of the hydrogenated aromatic vinyl polymer.
0 parts by weight, preferably 0.02 to 5 parts by weight, particularly preferably 0.05 to 2 parts by weight. When the amount is within the above range, the heat resistance and transparency of the molded article and the effect of preventing white turbidity in a high-temperature and high-humidity environment are highly balanced, which is preferable.

【0061】また、上記白濁防止剤の中で、部分エーテ
ル化合物又は部分エステル化合物を配合した樹脂組成物
を用いて情報記録媒体基板を成形し、当該基板に情報記
録用の記録膜層を形成した場合、上記高温高湿下におけ
る白濁防止効果に加えて、高温高湿環境下における記録
膜層の密着性低下や、フクレなどの部分剥離現象、記録
膜層の腐食等が防止できるため有効である。
An information recording medium substrate was formed by using a resin composition containing a partial ether compound or a partial ester compound among the above whitening preventing agents, and a recording film layer for information recording was formed on the substrate. In this case, in addition to the effect of preventing turbidity under high temperature and high humidity, it is effective because it can prevent the adhesion of the recording film layer under a high temperature and high humidity environment, a partial peeling phenomenon such as blister, corrosion of the recording film layer, and the like. .

【0062】(酸化防止剤)本発明の芳香族ビニル系重
合体水素添加物は及び樹脂組成物は、成形時の酸化によ
る劣化、分解等の防止、使用環境における酸化等の防止
を目的として、酸化防止剤を配合するのが好ましい。酸
化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸
化防止剤、イオウ系酸化防止剤などが挙げられるが、こ
れらの中でも、フェノール系酸化防止剤が好ましく、ア
ルキル置換フェノール系酸化防止剤が特に好ましい。
(Antioxidant) The hydrogenated aromatic vinyl polymer of the present invention and the resin composition are used for the purpose of preventing deterioration, decomposition and the like due to oxidation during molding, and preventing oxidation and the like in a use environment. It is preferable to add an antioxidant. Examples of the antioxidant include a phenolic antioxidant, a phosphorus-based antioxidant, and a sulfur-based antioxidant. Among these, a phenol-based antioxidant is preferable, and an alkyl-substituted phenol-based antioxidant is particularly preferable. preferable.

【0063】フェノール系酸化防止剤としては、従来公
知のものが使用でき、例えば、2−t−ブチル−6−
(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジ
ル)−4−メチルフェニルアクリレート、2,4−ジ−
t−アミル−6−(1−(3,5−ジ−t−アミル−2
−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニルアクリレート
などの特開昭63−179953号公報や特開平1−1
68643号公報に記載されるアクリレート系化合物;
オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオネート、2,2’−メチレ
ン−ビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、
1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5
−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチ
ル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス(メチレ
ン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロ
キシフェニルプロピオネート)メタン[すなわち、ペン
タエリスリメチル−テトラキス(3−(3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオネー
ト)]、トリエチレングリコール ビス(3−(3−t
−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロ
ピオネート)などのアルキル置換フェノール系化合物;
6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリ
ノ)−2,4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリア
ジン、4−ビスオクチルチオ−1,3,5−トリアジ
ン、2−オクチルチオ−4,6−ビス−(3,5−ジ−
t−ブチル−4−オキシアニリノ)−1,3,5−トリ
アジンなどのトリアジン基含有フェノール系化合物;な
どが挙げられる。
As the phenolic antioxidant, those conventionally known can be used. For example, 2-t-butyl-6-
(3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 2,4-di-
t-Amyl-6- (1- (3,5-di-t-amyl-2)
-Hydroxyphenyl) ethyl) phenyl acrylate and the like.
Acrylate compounds described in 68643;
Octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,2′-methylene-bis (4-methyl-6-t-butylphenol),
1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5
-T-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4)
-Hydroxybenzyl) benzene, tetrakis (methylene-3- (3 ′, 5′-di-tert-butyl-4′-hydroxyphenylpropionate) methane [namely, pentaerythrimethyl-tetrakis (3- (3,5 -Di-t
-Butyl-4-hydroxyphenylpropionate)], triethylene glycol bis (3- (3-t
Alkyl-substituted phenolic compounds such as -butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionate);
6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) -2,4-bisoctylthio-1,3,5-triazine, 4-bisoctylthio-1,3,5-triazine, 2- Octylthio-4,6-bis- (3,5-di-
triazine group-containing phenolic compounds such as t-butyl-4-oxyanilino) -1,3,5-triazine;

【0064】リン系酸化防止剤としては、一般の樹脂工
業で通常使用される物であれば格別な限定はなく、例え
ば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシル
ホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、ト
リス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニ
ルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−
ブチルフェニル)ホスファイト、10−(3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジ
ヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−
10−オキサイドなどのモノホスファイト系化合物;
4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブ
チルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト)、4,
4’イソプロピリデン−ビス(フェニル−ジ−アルキル
(C12〜C15)ホスファイト)などのジホスファイ
ト系化合物などが挙げられる。これらの中でも、モノホ
スファイト系化合物が好ましく、トリス(ノニルフェニ
ル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスフ
ァイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホ
スファイトなどが特に好ましい。イオウ系酸化防止剤と
しては、例えば、ジラウリル3,3−チオジプロピオネ
ート、ジミリスチル3,3’−チオジプロピピオネー
ト、ジステアリル 3,3−チオジプロピオネート、ラ
ウリルステアリル3,3−チオジプロピオネート、ペン
タエリスリトール−テトラキス−(β−ラウリル−チオ
−プロピオネート、3,9−ビス(2−ドデシルチオエ
チル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ
[5,5] ウンデカンなどが挙げられる。
The phosphorus-based antioxidant is not particularly limited as long as it is generally used in the general resin industry. For example, triphenylphosphite, diphenylisodecylphosphite, phenyldiisodecylphosphite, tris ( Nonylphenyl) phosphite, tris (dinonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-t-
Butylphenyl) phosphite, 10- (3,5-di-
t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-
Monophosphite compounds such as 10-oxide;
4,4'-butylidene-bis (3-methyl-6-t-butylphenyl-di-tridecyl phosphite), 4,
Diphosphite-based compounds such as 4′-isopropylidene-bis (phenyl-di-alkyl (C12-C15) phosphite); Among these, a monophosphite compound is preferable, and tris (nonylphenyl) phosphite, tris (dinonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite and the like are particularly preferable. Examples of the sulfur-based antioxidants include dilauryl 3,3-thiodipropionate, dimyristyl 3,3′-thiodipropionate, distearyl 3,3-thiodipropionate, lauryl stearyl 3,3-thiodipropionate. Pionate, pentaerythritol-tetrakis- (β-lauryl-thio-propionate, 3,9-bis (2-dodecylthioethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro
[5,5] undecane and the like.

【0065】これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、
あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
酸化防止剤の配合量は、本発明の目的を損なわれない範
囲で適宜選択されるが、本発明の芳香族ビニル系重合体
水素添加物100重量部に対して通常0.001〜5重
量部、好ましくは0.01〜1重量部の範囲である。
These antioxidants are each used alone,
Alternatively, two or more kinds can be used in combination.
The compounding amount of the antioxidant is appropriately selected within a range not to impair the object of the present invention. , Preferably in the range of 0.01 to 1 part by weight.

【0066】(その他の配合剤)本発明の芳香族ビニル
系重合体水素添加物及び、樹脂組成物には、必要に応じ
て、紫外線吸収剤、光安定剤、近赤外線吸収剤、染料や
顔料などの着色剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、蛍光増
白剤などのその他の配合剤を単独であるいは2種以上混
合して用いることができ、その配合量は本発明の目的を
損ねない範囲で適宜選択される。
(Other Compounding Agents) The hydrogenated aromatic vinyl polymer and the resin composition of the present invention may contain, if necessary, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a near infrared absorber, a dye or a pigment. Other compounding agents such as coloring agents, lubricants, plasticizers, antistatic agents, fluorescent whitening agents and the like can be used alone or in combination of two or more, and the compounding amount does not impair the object of the present invention. It is appropriately selected within the range.

【0067】情報記録媒体基板 本発明の情報記録媒体用基板は、上記情報記録媒体基板
用成形材料を従来の成形方法によって成形して得ること
ができる。使用できる成形方法としては、射出成形法
(射出圧縮成形法)、圧縮成形法、プレス成形法、押出
成形法、キャスト成形法などが挙げられるが、複屈折が
十分に小さく、機械強度及び表面平滑性に優れる基板を
得るためには射出成形法(射出圧縮成形法を含む)を用
いるのが好ましい。
Information Recording Medium Substrate The information recording medium substrate of the present invention can be obtained by molding the above-mentioned information recording medium substrate molding material by a conventional molding method. Examples of the molding method that can be used include an injection molding method (injection compression molding method), a compression molding method, a press molding method, an extrusion molding method, a cast molding method, and the like. In order to obtain a substrate having excellent properties, it is preferable to use an injection molding method (including an injection compression molding method).

【0068】具体的な射出成形方法としては、上記本発
明の成形材料を、例えば加熱シリンダー等を用いて加熱
溶融させ、溶融した成形用材料を金型内に充填させた後
に冷却する方法が挙げられる。使用する金型内面には、
スタンパーが取り付けられ、ピット、グルーブ等が転写
される。基板の形状は、その基板の規格に応じて変えら
れ、厚みは通常0.05〜10mm、基板径は通常30
mm〜300mmである。成形条件は、特に限定されな
いが、成形機のシリンダ設定温度を200〜400℃、
好ましくは220〜380℃、最も好ましくは240〜
360℃の範囲、金型温度を、50〜180℃にするの
が好ましい。温度が低すぎると、いずれの場合も転写性
が低下したり、複屈折がおおきくなる。温度が高すぎる
と、成形サイクルが延びたり、バリが発生したり、樹脂
の分解が起こる場合がある。スプルー部を別個の温度、
例えば30〜100℃、に調整をすることも可能であ
る。
As a specific injection molding method, a method in which the molding material of the present invention is heated and melted using, for example, a heating cylinder or the like, and the molten molding material is filled in a mold and then cooled. Can be Inside the mold to be used,
A stamper is attached, and pits and grooves are transferred. The shape of the substrate is changed according to the standard of the substrate, the thickness is usually 0.05 to 10 mm, and the substrate diameter is usually 30.
mm to 300 mm. Molding conditions are not particularly limited, the cylinder set temperature of the molding machine 200 ~ 400 ℃,
Preferably 220-380 ° C, most preferably 240-
The mold temperature is preferably in the range of 360 ° C and the mold temperature is 50 to 180 ° C. If the temperature is too low, the transferability is lowered in any case, and the birefringence becomes large. If the temperature is too high, the molding cycle may be extended, burrs may occur, or the resin may be decomposed. Separate temperature of sprue,
For example, the temperature can be adjusted to 30 to 100 ° C.

【0069】上記成形の際には、シリンダー内で溶融し
た成形用材料の酸化、分解等を防止する目的で、(A)
シリンダー内及び金型内を低酸素濃度状態にする方法
や、(B)成形前に成形材料中の溶存酸素除去する方法
を用いることができ、それによって、成形物の表面平滑
性等がさらに向上する。これらの成形方法は、本発明の
芳香族ビニル系重合体水素添加物及び該組成物だけでは
なく、従来から知られている水素化ポリスチレン、水素
化ポリビニルシクロヘキセン、ポリビニルシクロヘキサ
ンなどの脂環構造を有するポリマーにも適用できる。
At the time of the above molding, (A)
A method in which the inside of the cylinder and the mold is in a low oxygen concentration state and a method (B) of removing dissolved oxygen in the molding material before molding can be used, thereby further improving the surface smoothness of the molded product. I do. These molding methods have not only the hydrogenated aromatic vinyl polymer of the present invention and the composition, but also have an alicyclic structure such as conventionally known hydrogenated polystyrene, hydrogenated polyvinylcyclohexene, and polyvinylcyclohexane. Also applicable to polymers.

【0070】(A)(成形時にシリンダーおよび金型内
を低酸素濃度状態にする方法) 成形時にシリンダーおよび金型内を低酸素濃度状態にす
るための具体的方法としては、(1)溶融樹脂の成形機
への供給を低酸素濃度ガスの雰囲気中で行う方法、
(2)溶融樹脂を射出装置に供給して射出成形するに際
して、射出装置の内部を減圧状態にして該溶融樹脂を金
型内に溶融射出して成形体を製造する方法などを挙げる
ことができる。
(A) (Method of Making Cylinder and Mold Inside Low Oxygen Concentration State during Molding) As a concrete method for making the cylinder and mold inside a low oxygen concentration state during molding, (1) molten resin The method of supplying the molding machine in a low oxygen concentration gas atmosphere,
(2) When the molten resin is supplied to the injection device for injection molding, a method in which the inside of the injection device is depressurized and the molten resin is melt-injected into a mold to produce a molded article can be exemplified. .

【0071】(1)成形機への供給を低酸素濃度ガスの
雰囲気中で行う方法 成形機への供給を低酸素濃度ガスの雰囲気中で行う方法
は、熱溶融式成形機を用いて成形品を成形するに当た
り、芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂の該成形機へ
の供給を低酸素濃度ガスの雰囲気中で行うものである。
その結果、酸化、分解等による分子量の低下、成形品の
着色、シルバーストリークの発生、さらに成形金型への
芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂の付着による成形
物表面の剥離などの不良現象が著しく改善される。上記
の低酸素濃度ガスは、芳香族ビニル系重合体水素添加物
樹脂に対して不活性なガスであって、含有される酸素の
量が通常2容量%以下、好ましくは1容量%以下、さら
に好ましくは0.1容量%以下、特に好ましくは0.0
5容量%以下のものであり、具体例として、ヘリウム、
ネオン、窒素、アルゴン、キセノン、クリプトンおよび
二酸化炭素などが挙げられる。
(1) Method of Supplying to Molding Machine in Low Oxygen Concentration Gas Atmosphere The method of supplying to the molding machine in a low oxygen concentration gas atmosphere is performed by using a hot-melt molding machine. In molding, the hydrogenated aromatic vinyl polymer resin is supplied to the molding machine in an atmosphere of a low oxygen concentration gas.
As a result, poor phenomena such as a decrease in molecular weight due to oxidation, decomposition, etc., coloring of molded products, generation of silver streaks, and peeling of the molded product surface due to adhesion of an aromatic vinyl polymer hydrogenated resin to a molding die. Is significantly improved. The low oxygen concentration gas is an inert gas with respect to the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin, and usually contains 2% by volume or less, preferably 1% by volume or less of oxygen. Preferably 0.1% by volume or less, particularly preferably 0.0% by volume.
5% by volume or less, and specific examples include helium,
Neon, nitrogen, argon, xenon, krypton, carbon dioxide and the like.

【0072】さらに、本発明で使用される不活性ガス
は、−100℃以下の沸点を有することが望ましい。即
ち、沸点が−100℃を超える不活性ガスを使用する
と、この不活性ガスが芳香族ビニル系重合体水素添加物
樹脂中に溶存されて、成形体を製造する際に溶存してい
るガスが気化することにより、芳香族ビニル系重合体水
素添加物樹脂が発泡することがあり、成形体がシルバー
ストリークあるいは気泡を有するようになることがある
ので、ヘリウム、ネオン、窒素、アルゴン、キセノンが
特に好ましい。低酸素濃度ガスの使用量は、好ましくは
成形機へ供給される芳香族ビニル系重合体水素添加物樹
脂の量1kg当たり30リットル以上、さらに好ましく
は60リットル以上、特に好ましくは120リットル以
上の流量で低酸素濃度ガスを供給し、低酸素濃度ガス雰
囲気下とする。
Further, the inert gas used in the present invention desirably has a boiling point of -100 ° C. or less. That is, when an inert gas having a boiling point exceeding -100 ° C. is used, the inert gas is dissolved in the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin, and the gas dissolved when producing a molded article is removed. By vaporization, the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin may foam, and the molded article may have silver streaks or bubbles, so helium, neon, nitrogen, argon, and xenon are particularly preferable. preferable. The amount of the low oxygen concentration gas used is preferably a flow rate of 30 liters or more, more preferably 60 liters or more, particularly preferably 120 liters or more per 1 kg of the amount of the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin supplied to the molding machine. To supply a low-oxygen-concentration gas to be in a low-oxygen-concentration gas atmosphere.

【0073】本発明において、水素化重合体の供給を低
酸素濃度ガス雰囲気中で行うということは、成形機の加
熱シリンダーへ供給された芳香族ビニル系重合体水素添
加物樹脂が空気を伴って熱溶融することを防止するため
に、空気を低酸素濃度ガスで置換し、該空気量を極力少
なく、または無くすることである。
In the present invention, supplying the hydrogenated polymer in a low oxygen concentration gas atmosphere means that the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin supplied to the heating cylinder of the molding machine is accompanied by air. In order to prevent heat melting, the air is replaced with a low oxygen concentration gas, and the amount of the air is reduced or eliminated as much as possible.

【0074】すなわち、本発明における水素化重合体の
成形機への供給は、該樹脂を熱溶融式成形機の加熱シリ
ンダーへの供給をいう。水素化重合体に随伴される空気
を低酸素濃度ガスで置換するために、低酸素濃度ガス雰
囲気を作る方法としては、例えば、成形機に付帯してい
る芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂の供給ホッパー
に低酸素濃度ガスを送入し、シリンダー内を低酸素濃度
ガス雰囲気とする方法、成形機の加熱シリンダーにおい
て、芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂が熱溶融され
るまでのシリンダーの任意な位置からシリンダー内へ低
酸素濃度ガスを挿入し、シリンダー内あるいはシリンダ
ー内と上記ホッパー内を低酸素濃度ガス雰囲気とする方
法、別途、低酸素濃度ガス置換した芳香族ビニル系重合
体水素添加物樹脂をシリンダーへ供給する方法などが挙
げられる。低酸素状態で成形する方法に用いられる熱溶
融式成形機としては特に限定するものではないが、例え
ば、射出成形機、押し出し成形機が挙げられる。
That is, the supply of the hydrogenated polymer to the molding machine in the present invention means the supply of the resin to a heating cylinder of a hot-melt molding machine. In order to replace the air accompanying the hydrogenated polymer with a low oxygen concentration gas, a method of creating a low oxygen concentration gas atmosphere includes, for example, an aromatic vinyl polymer hydrogenated resin attached to a molding machine. A low oxygen concentration gas is fed into the supply hopper, and the inside of the cylinder is set to a low oxygen concentration gas atmosphere. A method of inserting a low oxygen concentration gas into the cylinder from an arbitrary position to make the inside of the cylinder or the inside of the cylinder and the above hopper a low oxygen concentration gas atmosphere. A method of supplying the additive resin to the cylinder is exemplified. The hot-melt molding machine used in the method of molding in a low oxygen state is not particularly limited, and examples thereof include an injection molding machine and an extrusion molding machine.

【0075】(2)溶融樹脂を射出装置に供給して射出
成形するに際して、この射出装置の内部を減圧状態にし
て該溶融樹脂を金型内に溶融射出して成形体を製造する
方法 芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂を、射出装置に供
給して射出成形するに際して、この射出装置の内部を減
圧状態にして芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂を金
型内に溶融射出して成形体を製造する方法の詳細を以下
に記載する。
(2) When supplying the molten resin to the injection device for injection molding, the inside of the injection device is depressurized to melt and inject the molten resin into a mold to produce a molded article. When supplying the vinyl polymer hydrogenated resin to the injection device for injection molding, the interior of the injection device is depressurized to melt and inject the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin into the mold. Details of the method for producing the molded article are described below.

【0076】この方法の場合には、まず射出装置のシリ
ンダー後方部、あるいは樹脂の供給ホッパー部などに設
けられたベント孔から気体を排出することにより射出成
形機(シリンダー)内部を減圧状態にする。シリンダー
内部の圧力を通常15torr以下、好ましくは8to
rr以下、さらに好ましくは1torr以下、特に好ま
しくは0.5torr以下の減圧状態にする。このよう
に減圧下に芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂を溶融
して射出することにより、例えば芳香族ビニル系重合体
水素添加物樹脂ペレットから気体成分が発生したり、ペ
レットの乾燥が不十分である場合でも、分解による分子
量の低下や、成形品の着色、シルバーストリークの発
生、さらに成形金型への芳香族ビニル系重合体水素添加
物樹脂の付着による成形物表目の剥離などの、成形体外
観の不良発生を抑制することができる。
In the case of this method, first, the inside of the injection molding machine (cylinder) is depressurized by discharging gas from a vent hole provided in a rear portion of the cylinder of the injection device or a resin supply hopper portion. . The pressure inside the cylinder is usually 15 torr or less, preferably 8 to
The pressure is reduced to not more than rr, more preferably not more than 1 torr, particularly preferably not more than 0.5 torr. By melting and injecting the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin resin under reduced pressure in this manner, for example, a gas component is generated from the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin pellets, and drying of the pellets is not possible. Even if it is sufficient, the degradation of the molecular weight due to decomposition, the coloring of the molded product, the occurrence of silver streaks, the peeling of the surface of the molded product due to the adhesion of the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin to the molding die, etc. In addition, the occurrence of defects in the appearance of the molded article can be suppressed.

【0077】さらに、射出装置内部の空気を排出して、
ホッパーおよびシリンダー内を上記の低酸素濃度ガスで
パージした後に減圧を行うことが好ましい。このように
低酸素濃度ガスでパージすることにより、得られる成形
体の透明性などの光学的特性がさらに向上する。上記の
ようにして減圧状態で行われる射出成形の条件は、本発
明の水素化重合体以外の重合体を成形する場合において
も同様である。
Further, the air inside the injection device is discharged,
It is preferable to reduce the pressure after purging the inside of the hopper and the cylinder with the low oxygen concentration gas. By purging with a low oxygen concentration gas in this manner, optical properties such as transparency of the obtained molded body are further improved. The conditions for injection molding performed under reduced pressure as described above are the same when molding a polymer other than the hydrogenated polymer of the present invention.

【0078】(B)(成形前に成形材料中の溶存酸素除
去する方法) また、上記成形の前処理として、上記成形材料を成形前
に加熱処理や減圧処理、不活性ガス雰囲気下での置換処
理、及びそれらの併用処理等の方法を用いて、成形材料
中の溶存酸素濃度を低くすることによっても、溶融した
成形材料の酸化、分解等を防止することができ、上記の
ような成形時処理と同様な効果を得ることができる。
(B) (Method for Removing Dissolved Oxygen in Molding Material Before Molding) As a pretreatment for the molding, the molding material is subjected to a heat treatment, a pressure reduction treatment, or a replacement under an inert gas atmosphere before the molding. By reducing the dissolved oxygen concentration in the molding material by using a method such as a treatment, and a combination treatment thereof, it is possible to prevent oxidation, decomposition, and the like of the molten molding material. The same effect as the processing can be obtained.

【0079】成形材料中の溶存酸素濃度を低くする方法
の具体例としては、例えば、芳香族ビニル系重合体水素
添加物樹脂のガラス転移温度(Tg−60) ℃以上
で、かつ(Tg−5) ℃以下の温度範囲で0.1〜1
00時間、芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂を加熱
処理した後に溶融成形する方法が挙げられる。加熱処理
とは上記温度範囲の雰囲気に樹脂を置くことを示し、必
ずしも樹脂中の水分の除去を目的とはしない。
As a specific example of the method of lowering the dissolved oxygen concentration in the molding material, for example, the glass transition temperature (Tg−60) ° C. of the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin and (Tg−5) ) 0.1 to 1 in the temperature range below ℃
For example, a method of subjecting an aromatic vinyl-based polymer hydrogenated resin to heat treatment for 00 hours, followed by melt molding. Heat treatment refers to placing the resin in an atmosphere in the above temperature range, and is not necessarily intended to remove moisture in the resin.

【0080】上記温度範囲に保持することで溶存酸素量
は低減するが、同時に低酸素濃度雰囲気下で行うことが
好ましい。低酸素濃度雰囲気とは、通常酸素濃度が5容
量%以下、好ましくは3容量%以下、さらに好ましくは
1容量%以下の低酸素濃度ガス雰囲気のこと、あるいは
通常15torr以下、好ましくは8torr以下、さ
らに好ましくは1torr以下の減圧状態にすることで
あるり、いずれの方法でも良い。
Although the amount of dissolved oxygen is reduced by maintaining the temperature within the above range, it is preferable to conduct the treatment in a low oxygen concentration atmosphere at the same time. The low oxygen concentration atmosphere means a low oxygen concentration gas atmosphere having an oxygen concentration of usually 5% by volume or less, preferably 3% by volume or less, more preferably 1% by volume or less, or usually 15 torr or less, preferably 8 torr or less, and Preferably, the pressure is reduced to 1 torr or less, or any method may be used.

【0081】低酸素濃度ガスとしては、芳香族ビニル系
重合体水素添加物樹脂に対して不活性なガスであって、
例えばヘリウム、ネオン、窒素、アルゴン、キセノン、
クリプトンおよび二酸化炭素などが挙げられ、また酸素
濃度が上記範囲になるように前記不活性ガスで希釈した
希釈空気雰囲気などを例示できるる。加熱処理に用いる
乾燥器は特に限定されず、通常の樹脂ペレットの乾燥に
用いられている熱風循環式棚型乾燥器、ホッパードライ
ヤー、棚型真空乾燥器や撹拌型真空乾燥器を用いること
が出来る。
The low oxygen concentration gas is a gas that is inert to the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin,
For example, helium, neon, nitrogen, argon, xenon,
Examples thereof include krypton and carbon dioxide, and examples thereof include a diluted air atmosphere diluted with the inert gas so that the oxygen concentration is in the above range. The dryer used for the heat treatment is not particularly limited, and a hot air circulation-type shelf dryer, a hopper dryer, a shelf-type vacuum dryer, or a stirring-type vacuum dryer used for drying ordinary resin pellets can be used. .

【0082】加熱処理後の樹脂ペレットは、時間をおか
ず速やかに溶融成形に供されることが望ましい。加熱乾
燥の後、成形を行うまでの時間は、通常12時間以内、
好ましくは6時間以内、さらに好ましくは3時間以内、
特に好ましくは1時間以内である。また、その間樹脂ペ
レットは低酸素濃度雰囲気下で保持されることが好まし
い。
It is desirable that the resin pellets after the heat treatment be promptly subjected to melt molding without any time. After heating and drying, the time until molding is usually within 12 hours,
Preferably within 6 hours, more preferably within 3 hours,
Particularly preferably, it is within one hour. In addition, it is preferable that the resin pellet is kept under a low oxygen concentration atmosphere during that time.

【0083】加熱処理に加えて、加熱処理を行う前に樹
脂ペレットを低酸素濃度雰囲気下に保存する方法をとる
とさらに効果的である。すなわち酸素濃度が通常5容量
%以下、好ましくは3容量%以下、さらに好ましくは1
容量%以下の低酸素濃度ガス雰囲気下、あるいは通常1
5torr以下、好ましくは8torr以下、さらに好
ましくは1torr以下の減圧状態で、あるいはこれら
の方法を組み合わせ、例えば低酸素濃度ガスで希釈した
希釈空気を減圧にした雰囲気下で保存する。そのような
低酸素濃度雰囲気下での保存時間は1時間以上である
が、より好ましくは2時間以上である。なお、低酸素濃
度雰囲気下にする時間は長時間であっても問題なく、例
えばペレット製造後、樹脂を包装する際に包装に酸素透
過量の少ない袋または容器を用い、低酸素濃度雰囲気下
に充填し、包装内を低酸素濃度雰囲気下のまま長期間保
管し、そのまま乾燥することも本発明に含まれる。
In addition to the heat treatment, it is more effective to store the resin pellets in a low oxygen concentration atmosphere before performing the heat treatment. That is, the oxygen concentration is usually 5% by volume or less, preferably 3% by volume or less, more preferably 1% by volume or less.
In a low oxygen concentration gas atmosphere of volume% or less, or
The storage is performed under a reduced pressure of 5 torr or less, preferably 8 torr or less, more preferably 1 torr or less, or a combination of these methods, and for example, dilute air diluted with a low oxygen concentration gas is stored under reduced pressure. The storage time under such a low oxygen concentration atmosphere is 1 hour or more, and more preferably 2 hours or more. It should be noted that the time for the low oxygen concentration atmosphere may be long without any problem.For example, after pellet production, when packing the resin, use a bag or a container with a small amount of oxygen permeation for the packaging, and then use the low oxygen concentration atmosphere The present invention includes filling, storing the package in a low oxygen concentration atmosphere for a long period of time, and drying it as it is.

【0084】なお、上記(A)及び(B)の方法は、前
述の如く、本発明における特定の芳香族ビニル系重合体
水素添加物の成形に限らず、従来公知の芳香族ビニル系
重合体水素添加物や脂環構造を有するポリマーの成形に
用いた場合、成形用材料の酸化、分解等による分子量の
低下、成形品の着色、シルバーストリークの発生、さら
に成形金型への芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂の
付着による成形物表面の剥離などの不良現象を防止する
ことができるため有効である。また、その効果は特に情
報記録媒体基板を成形する際に顕著である。
As described above, the methods (A) and (B) are not limited to the molding of the specific hydrogenated aromatic vinyl polymer in the present invention, but may be any of the conventionally known aromatic vinyl polymer. When used for molding hydrogenated products or polymers having an alicyclic structure, reduction of molecular weight due to oxidation and decomposition of molding materials, coloring of molded products, generation of silver streaks, and aromatic vinyl-based molding molds This is effective because it is possible to prevent defective phenomena such as peeling of the molded product surface due to adhesion of the polymer hydrogenated resin. The effect is particularly remarkable when the information recording medium substrate is formed.

【0085】すなわち、以上の(A)芳香族ビニル系重
合体もしくは不飽和化合物の重合体を水素添加してなる
水素化重合体または飽和脂環式ビニル化合物の重合体を
含有する成形材料を、低酸素濃度雰囲気下で成形する成
形方法、(B)(A)に記載の成形材料を、加熱処理お
よび/または減圧処理し、その後成形する成形方法、を
用いることにより、芳香族ビニル系重合体もしくは不飽
和化合物の重合体を水素添加してなる水素化重合体また
は飽和脂環式ビニル化合物の重合体を含有する材料を成
形してなるもので、複屈折が小さく、透過率が高く、A
FM観察による表面欠陥数が少ない成形物、好適には情
報記録媒体基板、が提供される。
That is, a molding material containing (A) a hydrogenated polymer obtained by hydrogenating an aromatic vinyl polymer or a polymer of an unsaturated compound or a polymer of a saturated alicyclic vinyl compound, By using a molding method of molding under a low oxygen concentration atmosphere, a molding method of subjecting the molding material described in (B) or (A) to a heat treatment and / or a reduced pressure treatment, and then molding, the aromatic vinyl polymer Alternatively, it is formed by molding a material containing a hydrogenated polymer obtained by hydrogenating an unsaturated compound polymer or a polymer of a saturated alicyclic vinyl compound, and has a small birefringence, a high transmittance, and a
A molded article having a small number of surface defects by FM observation, preferably an information recording medium substrate is provided.

【0086】(記録膜層)本発明においては、情報記録
媒体基板に記録膜層を設けることにより情報記録媒体と
して使用することができる。記録膜層は上記方法により
得られた基板の表面に、アルミ反射膜層や、光の反射率
を非可逆的または可逆的に局所的に変化しうるように設
けたものであり、記録膜層は数百〜数千オングストロ−
ム、厚くても10,000オングストロ−ム以下の厚み
である。
(Recording Film Layer) In the present invention, an information recording medium can be used by providing a recording film layer on an information recording medium substrate. The recording film layer is provided on the surface of the substrate obtained by the above method, an aluminum reflective film layer, or a film provided so that the reflectance of light can be locally changed irreversibly or reversibly. Is hundreds to thousands of angstros
The thickness is not more than 10,000 angstroms at most.

【0087】音楽用CDや、CD−ROM等では、情報
自体は射出成型時の金型のスタンパー部分に刻んであ
り、基板にそれに対応した微細なグルーブが形成されて
いるから、このグルーブを含む面の表面にアルミニウム
または金などの反射膜層をスパッタリング法等で形成す
ればグルーブと反射膜層とで記録膜層になる。
In a music CD, a CD-ROM, or the like, the information itself is cut on a stamper portion of a mold at the time of injection molding, and a fine groove corresponding to the information is formed on the substrate. If a reflective film layer such as aluminum or gold is formed on the surface by sputtering or the like, the groove and the reflective film layer form a recording film layer.

【0088】追記型のCD−Rや、書き換え可能な光磁
気ディスク(MO)などでは、光の反射率または透過率
を可逆的または非可逆的に変化させる記録膜層と、光を
反射する反射膜層と、これらを保護し、また光学的な歪
みを補正するための薄い無機または有機の保護膜層が形
成される。これらの層はスパッタリング法、気層成長
法、化学薬品のコートによる方法などで、単層または組
み合わせて多層構造に形成することにより情報記録層が
形成される。例えば、光磁気ディスク用途では、光磁気
記録媒体(例えば、Tb−Fe−Co,Pt−Tb−F
e−Co等の記録媒体)に;反射層としてアルミニウ
ム、金やその合金類;薄い保護膜層として、SiN、S
iC等を積層した情報記録層が用いられる。相変化型の
ディスクの場合、Te−Ge−Sb,In−Sb−T
e,Te−Ge−Cr,Te−Ge−Zn等やその合金
類に上記と同様の反射膜層や、薄い保護膜層が積層され
た情報記録層が用いられる。
In a write-once type CD-R or a rewritable magneto-optical disk (MO), a recording film layer that reversibly or irreversibly changes light reflectance or transmittance, and a reflection film that reflects light. A film layer and a thin inorganic or organic protective film layer for protecting them and correcting optical distortion are formed. The information recording layer is formed by forming a single layer or a combination of these layers into a multilayer structure by a sputtering method, a gas layer growth method, a method using a chemical coating, or the like. For example, in a magneto-optical disk application, a magneto-optical recording medium (for example, Tb-Fe-Co, Pt-Tb-F) is used.
recording media such as e-Co); aluminum, gold or alloys thereof as a reflective layer; SiN, S as a thin protective film layer
An information recording layer in which iC or the like is laminated is used. In the case of a phase change type disc, Te-Ge-Sb, In-Sb-T
An information recording layer in which a reflective film layer similar to the above or a thin protective film layer is laminated on e, Te-Ge-Cr, Te-Ge-Zn, or an alloy thereof is used.

【0089】これらの情報記録層の厚みや形成方法は各
情報記録媒体基板の種類によって異なり、公知の方法で
規格に沿って形成される。
The thickness and formation method of these information recording layers differ depending on the type of each information recording medium substrate, and are formed according to a standard by a known method.

【0090】(コート層)本発明の情報記録媒体基板を
用い、光ディスクなどの情報記録媒体として使用する場
合には、通常上記情報記録層を水分等から保護するため
のコート層を形成して使用する。
(Coat Layer) When the information recording medium substrate of the present invention is used as an information recording medium such as an optical disk, a coat layer for protecting the information recording layer from moisture and the like is usually used. I do.

【0091】(コート剤)コート層を形成する場合に用
いるコート剤はシリコン系コート剤でも、有機系コート
剤でもよい。シリコーン系のコート剤は、シラン化合物
の部分加水分解物であり、有機系のコート剤には、メラ
ミン系、アルキッド系、ウレタン系およびアクリル系の
塗科を加熱硬化するコート剤と、多官能アクリル系モノ
マ−などを紫外線硬化する紫外線硬化型コート剤があ
る。芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂が熱変形しに
くい条件で硬化でき、十分な硬さと耐候性の点で、紫外
線硬化型コート剤が好ましい。
(Coating Agent) The coating agent used for forming the coating layer may be a silicone coating agent or an organic coating agent. Silicone-based coating agents are partial hydrolysates of silane compounds. There is an ultraviolet curable coating agent that cures an ultraviolet-curable monomer or the like. An ultraviolet-curable coating agent is preferred because it can be cured under conditions in which the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin is unlikely to be thermally deformed, and has sufficient hardness and weather resistance.

【0092】(紫外線硬化型コート剤)本発明の紫外線
硬化型コート剤は、反応性モノマ−および/または反応
性オリゴマーと光重合開始剤、その他の添加剤を含み、
無溶剤または溶剤で希釈したものである。
(Ultraviolet curable coating agent) The ultraviolet curable coating agent of the present invention contains a reactive monomer and / or a reactive oligomer, a photopolymerization initiator, and other additives.
Solvent-free or diluted with a solvent.

【0093】本発明においては、光重合性のモノマーの
内、アクリレート基を有するものをアクリレート基の数
によって、単官能アクリレートモノマー、2官能アクリ
レートモノマー、3官能アクリレートモノマーなどとい
う。また、本発明においては、アクリレート基は、狭義
のアクリレート基のほかに,メタクリレート基、エタク
リレート基なども含む。
In the present invention, of the photopolymerizable monomers, those having an acrylate group are referred to as monofunctional acrylate monomers, difunctional acrylate monomers, and trifunctional acrylate monomers, depending on the number of acrylate groups. In the present invention, the acrylate group includes a methacrylate group, an ethacrylate group and the like in addition to the acrylate group in a narrow sense.

【0094】単官能アクリレートモノマーとしては、例
えば、n一ブチルアクリレート、イソアミルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2一ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタ
クリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキ
シプロピルアクリレートなどが挙げられる。なかでも、
ラジカル酸素により硬化反応が阻害されないように、メ
タクリレート基などを有さず狭義のアクリレート基のみ
を有するものが好ましく、また、紫外線硬化性コート剤
の硬化収縮を減少させるために、炭素数4〜6程度の側
鎖を有するものが好ましい。
Examples of the monofunctional acrylate monomer include n-butyl acrylate, isoamyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, phenoxyethyl acrylate, and phenoxypropyl acrylate. Above all,
In order to prevent the curing reaction from being inhibited by radical oxygen, those having only acrylate groups in a narrow sense without having a methacrylate group or the like are preferable. Those having a certain number of side chains are preferred.

【0095】また、芳香族ビニル系重合体水素添加物樹
脂との接着性をよくするため、後述のように、長鎖脂肪
族単官能アクリレートモノマーや脂環式単官能アクリレ
ートモノマーを用いることも好ましい。長鎖脂肪族単官
能アクリレートモノマーとしては、脂肪族部分の炭素数
が5〜18が好ましく、8〜16のものがより好まし
い。炭素数が小さすぎると接着性が悪く、炭素数が大き
すぎると架橋させにくく、強度に劣る。長鎖脂肪族単官
能アクリレートモノマーとしては,具体的には、ラウリ
ルアクリレート、ステアリルアクリレート、オクチルア
クリレート、イソオクチルアクリレート、デシルアクリ
レート、イソデシルアクリレートなどが例示される。脂
環式単官能アクリレートモノマーとしては、具体的に
は、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカニルアク
リレート、その水素添加物、イソボニルアクリレート、
シクロヘキシルアクリレートなどが例示される。
In order to improve the adhesion to the hydrogenated aromatic vinyl polymer resin, it is also preferable to use a long-chain aliphatic monofunctional acrylate monomer or an alicyclic monofunctional acrylate monomer as described later. . The long-chain aliphatic monofunctional acrylate monomer preferably has 5 to 18 carbon atoms in the aliphatic portion, and more preferably 8 to 16 carbon atoms. If the carbon number is too small, the adhesiveness is poor, and if the carbon number is too large, crosslinking is difficult and the strength is poor. Specific examples of the long-chain aliphatic monofunctional acrylate monomer include lauryl acrylate, stearyl acrylate, octyl acrylate, isooctyl acrylate, decyl acrylate, and isodecyl acrylate. Specific examples of the alicyclic monofunctional acrylate monomer include tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decanyl acrylate, a hydrogenated product thereof, isobonyl acrylate,
Examples include cyclohexyl acrylate.

【0096】2または3官能アクリレートモノマーとし
ては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリプロピレングリコール、ブチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、ヘキサンジオール、トレ
メチロールプロパン、テトラメチロールブロパン、ペン
タエリストール、ジペンタエリスリトール等のポリオー
ル類に2または3個のアクリル酸がエステル化したもの
やビスフェノールF型エポキシアクレートが挙げられ
る。また,芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂との接
着性をよくするため、後述のように、脂環式2官能アク
リレートモノマーを用いることが好ましい。脂環式2官
能アクリレートモノマーとしては、具体的には、トリシ
クロ[5.2.1.02,6]デカニルジアクリレー
ト、その水素添加物、イソボニルジアクリレート、シク
ロヘキシルジアクリレートなどが例示される。
Examples of the bifunctional or trifunctional acrylate monomer include ethylene glycol, diethylene glycol, tripropylene glycol, butylene glycol, neopentyl glycol, hexanediol, tremethylolpropane, tetramethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and the like. And a bisphenol F type epoxy acrylate which is obtained by esterifying two or three acrylic acids to the above polyols. Further, in order to improve the adhesiveness to the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin, it is preferable to use an alicyclic bifunctional acrylate monomer as described later. Specific examples of the alicyclic bifunctional acrylate monomer include tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decanyl diacrylate, a hydrogenated product thereof, isobonyl diacrylate, and cyclohexyl diacrylate. You.

【0097】4官能以上のアクリレートモノマーとして
は、例えば、テトラメチロールプロパン、ペンタエリス
トール、ジペンタエリスリトール等のポリオール類に、
4個以上、好ましくは4〜8個のアクリル酸がエステル
化したものである。特に、一般に入手が容易な4〜6官
能のアクリレートモノマーが好ましい。
The acrylate monomer having four or more functional groups includes, for example, polyols such as tetramethylolpropane, pentaerythritol and dipentaerythritol.
Four or more, preferably four to eight acrylic acids are esterified. In particular, generally available 4- to 6-functional acrylate monomers are preferred.

【0098】反応性オリゴマーとしては、末端にアクロ
イル基を持つポリエステルアクリレート、分子鎖中にエ
ポキシ基かつ末端にアクロイル基を持つエポキシアクリ
レートまたはポリウレタンアクリレート、分子鎖中に二
重結合を持つ不飽和ポリエステル、1,2−ポリブタジ
エン、その他のエポキシ基またはビニルエーテル基を持
つオリゴマーを挙げることができる。
Examples of the reactive oligomer include polyester acrylate having an acroyl group at the terminal, epoxy acrylate or polyurethane acrylate having an epoxy group in the molecular chain and an acroyl group at the terminal, unsaturated polyester having a double bond in the molecular chain, Examples thereof include 1,2-polybutadiene and other oligomers having an epoxy group or a vinyl ether group.

【0099】光重合開始剤としては、2,2−ジメトキ
シ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ
アセトフェノン、塩素化アセトフェノン等のアセトフェ
ノン類;ベンゾフェノン類:ベンジル、メチルオルソベ
ンゾイルベンゾエート、べンゾインアルキルエーテル等
のベンゾイン類:α,α’−アゾビスイソブチロニトリ
ル、2,2’−アゾビスプロパン、ヒドラゾン等のアゾ
化合物;ベンゾイルパーオキサイド、ジターシャリーブ
チルパーオキサイド等の有機パーオキサイド類;ジフェ
ニルジサルファイド、ジベンジルジサルファイド、ジベ
ンゾイルジサルファイド等のジフェニルジサルファイド
類;等を挙げることができる。
Examples of photopolymerization initiators include acetophenones such as 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone and chlorinated acetophenone; benzophenones: benzyl, methylorthobenzoylbenzoate, benzo Benzoins such as in alkyl ethers: azo compounds such as α, α′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobispropane, hydrazone; organic peroxides such as benzoyl peroxide and ditertiary butyl peroxide Diphenyl disulfides such as diphenyl disulfide, dibenzyl disulfide and dibenzoyl disulfide; and the like.

【0100】これらの混合割合は、通常、アクリレート
モノマーと光重合開始剤を合わせた重量に対して、単官
能アクリレートモノマーは15〜65重量%、好ましく
は25〜60重量%、より好ましくは30〜55重量
%、2または3官能アクリレートモノマーは5〜50重
量%、好ましくは6〜40重量%、より好ましくは8〜
30重量%、4官能以上のアクリレートモノマー10〜
60重量%、好ましくは12〜50重量%、より好まし
くは15〜45重量%、反応性オリゴマーは0〜60重
量%、好ましくは10〜50重量%、より好ましくは2
0〜40重量%である。反応性オリゴマーの量が多過ぎ
ると硬化収縮が大きくなったり密着が悪くなる。少なす
ぎると粘度が下がり、均一な膜を形成しにくくなった
り、硬化に時間がかかる場合がある。
The mixing ratio of the monofunctional acrylate monomer is usually 15 to 65% by weight, preferably 25 to 60% by weight, more preferably 30 to 60% by weight, based on the total weight of the acrylate monomer and the photopolymerization initiator. 55% by weight, 5 to 50% by weight of bifunctional or trifunctional acrylate monomer, preferably 6 to 40% by weight, more preferably 8 to 50% by weight.
30% by weight, 4-functional or higher acrylate monomer 10
60% by weight, preferably 12 to 50% by weight, more preferably 15 to 45% by weight, and the reactive oligomer is 0 to 60% by weight, preferably 10 to 50% by weight, more preferably 2% by weight.
0 to 40% by weight. If the amount of the reactive oligomer is too large, curing shrinkage becomes large and adhesion becomes poor. If the amount is too small, the viscosity may decrease, and it may be difficult to form a uniform film, or it may take time to cure.

【0101】光重合開始剤は1〜10重量%、好ましく
は2〜6重量%である。4官能以上のアクリレートモノ
マーが多すぎると、硬化収縮が増大し、少なすぎると硬
化層の硬度が低下し、また硬化速度が低下する。単官能
アクリレートモノマーの量が少ないと粘度が高くなり作
業性が悪い。また、単官能アクリレートモノマーの量が
多いと硬化収縮が減少するほか、2または3官能アクリ
レートモノマーの量が少なくなり、硬化層の柔軟性が低
下し、クラック発生の原因となる。また、接着性を向上
させるためには2または3官能アクリレートモノマーの
量は多いことが好ましい。
The amount of the photopolymerization initiator is 1 to 10% by weight, preferably 2 to 6% by weight. If the amount of the acrylate monomer having four or more functional groups is too large, the curing shrinkage increases. If the amount is too small, the hardness of the cured layer decreases and the curing speed decreases. When the amount of the monofunctional acrylate monomer is small, the viscosity becomes high and the workability is poor. In addition, when the amount of the monofunctional acrylate monomer is large, the curing shrinkage decreases, and in addition, the amount of the bifunctional or trifunctional acrylate monomer decreases, which lowers the flexibility of the cured layer and causes cracks. In order to improve the adhesiveness, the amount of the bifunctional or trifunctional acrylate monomer is preferably large.

【0102】また、本発明の紫外線硬化性コート剤は、
長鎖脂肪族単官能アクリレートモノマー、脂環式単官能
アクリレートモノマー、および脂環式2官能アクリレー
トモノマーから選ばれる1種以上のモノマーを40重量
%以上含有することが好ましく、45重量%以上含有す
ることがより好ましく、50重量%以上含有することが
特に好ましい。長鎖脂肪族単官能アクリレートモノマ
ー、脂環式単官能アクリレートモノマー、および脂環式
2官能アクリレートモノマーから選ばれる1種以上のモ
ノマ一の含量が多いほど、紫外線硬化性コート剤の芳香
族ビニル系重合体水素添加物樹脂への接着性が向上す
る。
The ultraviolet-curable coating agent of the present invention comprises
It preferably contains at least 40% by weight of one or more monomers selected from long-chain aliphatic monofunctional acrylate monomers, alicyclic monofunctional acrylate monomers, and alicyclic bifunctional acrylate monomers, and contains at least 45% by weight. It is more preferable that the content be 50% by weight or more. The higher the content of one or more monomers selected from long-chain aliphatic monofunctional acrylate monomers, alicyclic monofunctional acrylate monomers, and alicyclic bifunctional acrylate monomers, the more the aromatic vinyl-based UV-curable coating agent is used. The adhesion to the polymer hydrogenated resin is improved.

【0103】硬化層の接着性や硬度を損なわない限りに
おいて、紫外線硬化性コート剤に適当な添加物を加えて
もよい。例えば、フッ素系ノニオン界面活性剤を添加す
ることにより、基枚との濡れや硬化後の表面平滑性が改
良できたりする。その他、適当な熱可塑性樹脂を添加す
ることにより、粘度を調整したり、接着性を向上させる
こともできる。接着性を向上させる熱可塑性樹脂として
は、芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂またはそれと
構造が類似の樹脂、例えば、ノルボルネン系単量体の開
環重合体や、ジシクロペンタジエン系、ジエン系、脂肪
族系、ウオーターホワイト系などの石油樹脂またはその
水素添加物などが挙げられる。
As long as the adhesiveness and hardness of the cured layer are not impaired, a suitable additive may be added to the ultraviolet curable coating agent. For example, by adding a fluorine-based nonionic surfactant, the wettability with the base sheet and the surface smoothness after curing can be improved. In addition, by adding a suitable thermoplastic resin, the viscosity can be adjusted and the adhesiveness can be improved. Examples of the thermoplastic resin for improving the adhesiveness include an aromatic vinyl polymer hydrogenated resin or a resin having a structure similar thereto, such as a ring-opened polymer of a norbornene monomer, a dicyclopentadiene-based resin, and a diene-based resin. , Aliphatic and water white petroleum resins and hydrogenated products thereof.

【0104】(帯電防止剤)紫外線硬化性コート剤は、
特に保護コート剤として使用する場合に、硬化層の帯電
防止のために、帯電防止剤を添加することが好ましい。
帯電防止剤としては、特に限定されず、一般の帯電防止
剤でよいが、ノニオン系帯電防止剤がアクリレートモノ
マーが好ましい。ノニオン系帯電防止剤は、アクリレー
トモノマーとの相溶性に優れており、均一の紫外線硬化
性組成物が得られるため、接着性、帯電防止効果にムラ
が生じない。
(Antistatic Agent) The ultraviolet curable coating agent is
Particularly when used as a protective coating agent, it is preferable to add an antistatic agent in order to prevent the cured layer from being charged.
The antistatic agent is not particularly limited, and may be a general antistatic agent, but the nonionic antistatic agent is preferably an acrylate monomer. The nonionic antistatic agent has excellent compatibility with the acrylate monomer, and a uniform ultraviolet curable composition can be obtained.

【0105】硬化層の帯電防止が必要な場合、硬化層の
表面電気抵抗値が5×1013Ω以下、好ましくは2×
1013Ω以下、より好ましくは1013Ω以下にす
る。そのためには、帯電防止剤の添加量を1〜7重量
%、好ましくは1.5〜5重量%添加することにすれば
よい。紫外線硬化性コート剤に帯電防止剤を表面電気抵
抗値を充分に下げる量添加して用いても、芳香族ビニル
系重合体水素添加物樹脂からなる成形品に実用上支障の
ない接着性を有する硬化層が形成できる。仮に接着性が
不十分となる場合は、後述のようにプライマー組成物を
用いてプライマー層を形成することが好ましい。
When it is necessary to prevent the cured layer from being charged, the cured layer has a surface electric resistance of 5 × 10 13 Ω or less, preferably 2 × 10 13 Ω or less.
10 13 Ω or less, more preferably 10 13 Ω or less. For this purpose, the amount of the antistatic agent to be added is 1 to 7% by weight, preferably 1.5 to 5% by weight. Even if an antistatic agent is added to an ultraviolet curable coating agent in an amount sufficient to lower the surface electric resistance value, it has a practically acceptable adhesion to a molded article made of a hydrogenated aromatic vinyl polymer resin. A cured layer can be formed. If the adhesion becomes insufficient, it is preferable to form a primer layer using a primer composition as described below.

【0106】上記コート剤は、このままで用いることも
できるが、操作性の必要等に応じて、トルエン、キシレ
ン、クロルペンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤;シクロ
ヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環族炭化水素系
溶剤;メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、
アセトン等のケトン系溶剤;n−ブチルエーテル、ジエ
チルエーテル等のエーテル系溶剤:等をはじめ、エステ
ル系溶剤、セロソルブ系溶剤、クロル系溶剤等に80重
量%以上の濃度に溶解して用いて、紫外線硬化性コート
剤としてもよい。
The above-mentioned coating agent can be used as it is, but depending on the necessity of operability or the like, an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene, xylene and chloropentene; an alicyclic hydrocarbon such as cyclohexane and methylcyclohexane. System solvent: methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone,
Ketone solvents such as acetone; ether solvents such as n-butyl ether, diethyl ether, etc .; ester solvents, cellosolve solvents, chloro solvents, etc .; It may be a curable coating agent.

【0107】(プライマー及びプライマー層の形成)本
発明においては、光ディスクなどの成形品の表面に特定
の紫外線硬化性コート剤を塗布し、該紫外線硬化性コー
ト剤に紫外線を照射して硬化させ、保護コート層を形成
するが、芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂と保護コ
ート層の密着性をより強固なものとするために、紫外線
硬化性コート剤の塗布に先立ち、プライマーを塗布して
もよい。プライマーとしては、ハロゲン化炭化水素重合
体が好ましい。このようなハロゲン化炭化水素重合体と
しては、エチレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレ
ン、スチレンなどの炭化水素系モノマ一を重合または共
重合して得られた炭化水素系ポリマーをハロゲン化した
もの、あるいは、ビニルクロリド、ビニリデンクロリ
ド、クロロプレンなどのハロゲン含有モノマーを重合ま
たは共重合したものなどである。なかでも、炭化水素系
ポリマーを塩素化したものが好ましく、特に塩素化ポリ
プロピレンが好ましい。
(Formation of Primer and Primer Layer) In the present invention, a specific ultraviolet curable coating agent is applied to the surface of a molded article such as an optical disk, and the ultraviolet curable coating agent is cured by irradiating ultraviolet rays. A protective coat layer is formed, but a primer is applied before the application of the ultraviolet curable coating agent in order to further strengthen the adhesion between the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin and the protective coat layer. Is also good. As the primer, a halogenated hydrocarbon polymer is preferable. Such a halogenated hydrocarbon polymer, ethylene, propylene, butadiene, isoprene, halogenated hydrocarbon polymer obtained by polymerizing or copolymerizing a hydrocarbon monomer such as styrene, or, Examples thereof include those obtained by polymerizing or copolymerizing a halogen-containing monomer such as vinyl chloride, vinylidene chloride, and chloroprene. Among them, those obtained by chlorinating a hydrocarbon polymer are preferable, and chlorinated polypropylene is particularly preferable.

【0108】ハロゲン化炭化水素重合体の分子量は、通
常、5,000〜200,000、好ましくは10,0
00〜150,000、より好ましくは20,000〜
100,000である。分子量が小さすぎるとプライマ
一層の強度が低くなり、大きすぎると粘度が高くなりす
ぎて塗布の作業性が悪い。ハロゲン化炭化水素重合体の
ハロゲン含有量は、通常、15〜55重量%、好ましく
は20〜45重量%、より好ましくは25〜35重量%
である。ハロゲンの含有量が少なすぎても多すぎても、
保護コート層と成形品表面の密着性が悪くなる。
The molecular weight of the halogenated hydrocarbon polymer is generally 5,000 to 200,000, preferably 10,000.
00 to 150,000, more preferably 20,000 to
100,000. If the molecular weight is too small, the strength of the primer layer will be low, and if it is too large, the viscosity will be too high and coating workability will be poor. The halogen content of the halogenated hydrocarbon polymer is usually 15 to 55% by weight, preferably 20 to 45% by weight, more preferably 25 to 35% by weight.
It is. Even if the content of halogen is too small or too large,
Adhesion between the protective coat layer and the surface of the molded article is deteriorated.

【0109】プライマーには、後述の光重合性モノマ
ー、光重合性オリゴマーなどを反応性希釈剤として添加
してもよく、特に単官能アクリレートモノマーを2〜2
0重量%の割合で添加すると、保護コート層とプライマ
ー層との間、及びプライマー層と樹脂成形品表面との間
の密着性が向上し、成形品から保護コート層が剥離しに
くくなるので好ましい。プライマーは、溶剤に溶解して
プライマー溶液として用いるのが好ましい。溶剤は、芳
香族ビニル系重合体水素添加物樹脂に対する実質的な貧
溶媒であれば、特に限定されない。例えば、トルエン
は、芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂の良溶媒であ
るが、メチルイソブチルケトンで70重量%以下に希釈
すれば、芳香族ビニル系重合体水素添加物樹脂成形品に
塗布しても浸食が小さくなるので、プライマーの溶剤と
して用いることができる。
To the primer, a photopolymerizable monomer or a photopolymerizable oligomer described later may be added as a reactive diluent.
Addition at a ratio of 0% by weight is preferable because the adhesion between the protective coat layer and the primer layer and between the primer layer and the surface of the resin molded product is improved, and the protective coat layer is hardly peeled off from the molded product. . The primer is preferably dissolved in a solvent and used as a primer solution. The solvent is not particularly limited as long as it is a substantially poor solvent for the hydrogenated aromatic vinyl polymer resin. For example, toluene is a good solvent for an aromatic vinyl polymer hydrogenated resin, but when diluted to 70% by weight or less with methyl isobutyl ketone, it can be applied to an aromatic vinyl polymer hydrogenated resin molded article. However, since erosion is reduced, it can be used as a primer solvent.

【0110】n−ブチルメタクリレートやイソアミルメ
タクリレートなどの単官能アクリレートも、芳香族ビニ
ル系重合体水素添加物樹脂に対する貧溶媒であり、か
つ、前述のようにプライマーに添加する光重合性モノマ
ーとしての効果を有する反応性希釈剤であるため、好ま
しいものである。プライマー溶液の固形分濃度は、通
常、1〜30重量%、好ましくは1.5〜20重量%、
より好ましくは2〜10重量%である。プライマー層
は、プライマー溶液を芳香族ビニル系重合体水素添加物
樹脂成形品の表面に塗布し、プライマー溶液中の揮発性
成分を十分に除去することにより形成される。ただし、
プライマーの溶剤として、前述のような反応性希釈剤の
みを使用する場合には、揮発性成分の除去操作は不要で
ある。
Monofunctional acrylates such as n-butyl methacrylate and isoamyl methacrylate are also poor solvents for the aromatic vinyl polymer hydrogenated resin and, as described above, have an effect as a photopolymerizable monomer added to the primer. Is a reactive diluent having the formula: The solid concentration of the primer solution is usually 1 to 30% by weight, preferably 1.5 to 20% by weight,
More preferably, it is 2 to 10% by weight. The primer layer is formed by applying the primer solution to the surface of the aromatic vinyl-based polymer hydrogenated resin molded article and sufficiently removing the volatile components in the primer solution. However,
When only the reactive diluent as described above is used as the solvent for the primer, the operation of removing volatile components is not required.

【0111】プライマー溶液のコート面への塗布方法
は、特に限定されず、例えぱ、スプレー、浸漬、スピン
コート、ロールコーター等が採用できる。プライマー溶
液中の揮発性成分の除去方法も、特に限定されない.プ
ライマー溶液の溶剤を実質的に除去するのに必要な揮発
温度と時間は、使用する溶剤の種類、プライマー溶液の
塗布量、塗布面の成形品の形状によっても異なるが、芳
香族ビニル系重合体水素添加物樹脂成形品の熱変形が起
こらないように、約100℃以下で、かつ、十分に除去
できるように条件を決定すればよい。具体的には、60
〜100℃で、3〜60分間程度放置しておくのが適当
である。高温で揮発性成分を除去した後は、室温で10
秒〜10分間程度の冷却を行い、ほぼ室温近くまで冷却
することが好ましい。
The method for applying the primer solution to the coated surface is not particularly limited, and for example, spray, dipping, spin coating, roll coater and the like can be employed. The method for removing volatile components in the primer solution is not particularly limited. The volatilization temperature and time required to substantially remove the solvent of the primer solution vary depending on the type of solvent used, the amount of the primer solution applied, and the shape of the molded product on the application surface, but the aromatic vinyl polymer The conditions may be determined so that the hydrogenated resin molded article does not undergo thermal deformation and is not more than about 100 ° C. and is sufficiently removed. Specifically, 60
It is appropriate to leave at 100 ° C. for about 3 to 60 minutes. After removing volatile components at high temperature, 10
It is preferable to perform cooling for about 10 seconds to about 10 minutes, and to cool to near room temperature.

【0112】プライマー溶液の塗布量は、特に限定され
ないが、厚さ1〜10μm程度、特に2〜5μm程度に
なるようにすることが好ましい。プライマー溶液の塗布
後、揮発性成分の除去が必要な場合は、十分に揮発性成
分を除去した後に上記の厚さになるように調整すること
が好ましい。プライマー溶液の塗布量が少ないと、プラ
イマー溶液の効果が小さく、多すぎると揮発性成分の除
去が困難であったり、ハードコ−ト層が成形品から剥離
しやすくなったりする。
The amount of the primer solution applied is not particularly limited, but is preferably about 1 to 10 μm, particularly about 2 to 5 μm. When it is necessary to remove the volatile components after the application of the primer solution, it is preferable to adjust the thickness to the above-mentioned thickness after sufficiently removing the volatile components. If the amount of the primer solution is small, the effect of the primer solution is small.

【0113】(コート層の形成)本発明においては、芳
香族ビニル系重合体水素添加物樹脂成形品の表面に、必
要によりプライマー層を形成し、その上に前記紫外線硬
化性コート剤を塗布し、紫外線を照射して硬化させて、
コート層を形成する。芳香族ビニル系重合体水素添加物
樹脂成形品は、該樹脂単体の成形品であってもよく、あ
るいは、他の材料や成型品との複合体であってもよい。
コート層を形成するのは、芳香族ビニル系重合体水素添
加物樹脂基板表面及び記録膜層であり、該表面全体ある
いは特に耐摩耗性、耐擦傷性が要求される表面部分であ
る。
(Formation of Coat Layer) In the present invention, if necessary, a primer layer is formed on the surface of an aromatic vinyl-based polymer hydrogenated resin molded article, and the ultraviolet curable coating agent is applied thereon. , Irradiate with ultraviolet light and cure,
Form a coat layer. The aromatic vinyl polymer hydrogenated resin molded article may be a molded article of the resin alone, or may be a composite with another material or molded article.
The coat layer is formed on the surface of the aromatic vinyl-based polymer hydrogenated resin substrate and the recording film layer, and is formed on the entire surface or on the surface portion particularly requiring abrasion resistance and scratch resistance.

【0114】塗布方法は特に限定されず、例えば、スプ
レー、浸漬、スピンコート、ロールコーター等が可能で
ある。溶剤を用いた場合は、塗布後、実質的に溶剤が含
まれなくなるように、十分に乾燥する。乾燥方法は特に
限定されない。
The method of application is not particularly limited, and for example, spraying, dipping, spin coating, roll coater and the like are possible. When a solvent is used, it is sufficiently dried after coating so that the solvent is not substantially contained. The drying method is not particularly limited.

【0115】紫外線硬化性コート剤の厚さは、コーティ
ングにおいては2〜300μm、接着においては10〜
400μm程度であることが好ましい。溶剤を用いた場
合は、乾燥後にこの厚さになるようにする。厚さが薄い
場合には、強度の強い硬化層が得られず、十分な表面硬
度の改良効果や接着性が得られない。厚い場合には、乾
燥や硬化反応に時問がかかり、生産性が悪くなり、ま
た、硬化不十分で硬度が低い場合や、硬化層が柔軟性に
欠け、割れることがある。
The thickness of the ultraviolet curable coating agent is 2 to 300 μm for coating and 10 to 10 μm for bonding.
It is preferably about 400 μm. When a solvent is used, the thickness is adjusted to this thickness after drying. When the thickness is small, a hardened layer having high strength cannot be obtained, and a sufficient effect of improving surface hardness and adhesiveness cannot be obtained. When the thickness is too thick, drying and curing reactions take time, resulting in poor productivity. In addition, when the curing is insufficient and the hardness is low, the cured layer may lack flexibility and crack.

【0116】塗装面は必要に応じて、十分に乾燥させる
必要がある。溶剤を多量に含んだまま硬化させると、塗
膜にクラックが発生しやすく、また、高硬度の塗膜が得
られない原因にもなる。溶剤を実質的に除去するのに必
要な乾燥温度と時間は、便用する溶剤の種類、塗布量、
接着面の形状によっても異なるが,基材の熱変形がない
ように、おおむね120℃以下で、かつ、十分に乾燥で
きるように条件を決定すればよい。具体的には60〜1
20℃で,3〜60分程度の乾燥が通当である。高温で
乾燥した後は、室温で10秒〜10分程度の冷却を行
い、ほぼ室温近くまで冷却することが好ましい。なお、
溶剤を用いない場合は、乾燥は不要である。
The painted surface needs to be sufficiently dried if necessary. If the coating is cured while containing a large amount of solvent, cracks are likely to be generated in the coating film, and it also becomes a cause that a coating film with high hardness cannot be obtained. The drying temperature and time required to substantially remove the solvent depends on the type of solvent used,
Although it depends on the shape of the bonding surface, the conditions may be determined so that the substrate is not more than 120 ° C. and sufficiently dried so that the substrate is not thermally deformed. Specifically, 60-1
Drying at 20 ° C. for about 3 to 60 minutes is common. After drying at a high temperature, it is preferable to perform cooling at room temperature for about 10 seconds to 10 minutes, and then cool to almost room temperature. In addition,
If no solvent is used, drying is not required.

【0117】その後、高圧水銀灯などの紫外線を効率的
に発生する光源から紫外線を照射することにより、硬化
が短時間で起こり、硬度の高い硬化層が形成される。紫
外線の照射量は、光重合性モノマーや光重合開始剤の反
応性によっても異なるが、通常、80W/cmの高圧水
銀灯の場合、5〜10秒程度の短時間で硬化させること
ができる。
Thereafter, by irradiating ultraviolet rays from a light source such as a high-pressure mercury lamp that efficiently generates ultraviolet rays, curing occurs in a short time, and a cured layer having high hardness is formed. The irradiation amount of the ultraviolet ray varies depending on the reactivity of the photopolymerizable monomer and the photopolymerization initiator, but usually, in the case of a high-pressure mercury lamp of 80 W / cm, curing can be performed in a short time of about 5 to 10 seconds.

【0118】なお、上記これらのコート層も、本発明に
おける特定の芳香族ビニル系重合体水素添加物からなる
情報記録媒体基板への使用に限られず、従来公知の芳香
族ビニル系重合体水素添加物を成形した情報記録媒体基
板に設けることにより、情報記録媒体の信頼性を一層向
上させることができて好適である。さらに、上記これら
のコート剤は、成形物に塗布した場合の表面の滑りが良
好であり、帯電防止効果に優れ、印刷が可能である等の
効果に優れるために、従来公知の芳香族ビニル系重合体
水素添加物や、その他のビニル系環状炭化水素樹脂を用
いたその他の光学部品などの一般成形品の保護コート
剤、ハードコート剤などとしても有用である。
The above-mentioned coat layers are not limited to use on the information recording medium substrate comprising the specific aromatic vinyl polymer hydrogenated product of the present invention. The provision of the article on the information recording medium substrate is preferable because the reliability of the information recording medium can be further improved. Furthermore, these coating agents have good slippage on the surface when applied to a molded product, have an excellent antistatic effect, and are excellent in effects such as being printable. It is also useful as a protective coating agent, a hard coating agent, and the like for general molded articles such as polymer hydrogenated products and other optical components using a vinyl cyclic hydrocarbon resin.

【0119】このような手法を採用することによって従
来にない優れたコート層を有する情報記録媒体基板、す
なわち、(1)ビニル系環状炭化水素樹脂からなり、碁
盤目剥離試験による密着強度が90%以上であって、か
つ、表面硬度(鉛筆硬度)が2H以上の保護コート層を
有することを特徴とする情報記録媒体基板、(2)保護
コート層が、基板の表面に反応性単量体および/または
反応性オリゴマー、および光重合開始剤からなる紫外線
硬化型コート剤を塗布し、紫外線照射して形成されるも
のである(1)に記載の情報記録媒体基板、(3)紫外
線硬化型コート剤が、長鎖脂肪族単官能アクリレート単
量体、脂環式単官能アクリレート単量体、及び脂環式2
官能アクリレート単量体から選ばれる1種以上の単量体
を40重量%以上含有しているものである(1)または
(2)記載の情報記録媒体基板、が提供される。
By adopting such a method, an information recording medium substrate having an unprecedented superior coating layer, that is, (1) a vinyl-based cyclic hydrocarbon resin, having an adhesion strength of 90% in a cross-cut peel test. And an information recording medium substrate having a protective coat layer having a surface hardness (pencil hardness) of 2H or more, and (2) a protective coat layer comprising a reactive monomer and a reactive monomer on the surface of the substrate. An information recording medium substrate according to (1), which is formed by applying and / or irradiating an ultraviolet ray curable coating agent comprising a reactive oligomer and a photopolymerization initiator, and (3) an ultraviolet ray curable coat The agent is a long-chain aliphatic monofunctional acrylate monomer, an alicyclic monofunctional acrylate monomer, and an alicyclic 2
The information recording medium substrate according to (1) or (2), which contains at least 40% by weight of at least one monomer selected from functional acrylate monomers.

【0120】(表面処理)本発明においては、上記記録
膜層やコート層の基板への密着性を向上させることを主
な目的として、基板表面を、プラズマ処理、コロナ放電
処理、活性ガス処理、溶剤エッチング処理、マイクロサ
ンドブラスト処理、ケミカルエッチング処理などの従来
公知の種々の表面処理を行ってもよい。
(Surface Treatment) In the present invention, the main object of the present invention is to improve the adhesion of the recording film layer or the coat layer to the substrate by plasma treatment, corona discharge treatment, active gas treatment, or the like. Various conventionally known surface treatments such as a solvent etching treatment, a microsand blast treatment, and a chemical etching treatment may be performed.

【0121】(その他の工程など)例えばデジタルビデ
オディスクやレーザーディスクでは、半分の厚みに作っ
たディスクを2枚用い、記録膜層が内側になるように互
いにディスクを貼り合わせたものも可能である。コート
剤の上に更にレーベル等をスクリーン印刷法などで印刷
することも可能である。また、本発明の製造工程で規定
されている各工程は、順番に沿って実施していく必要が
あるが、これらの工程以外の工程を付加することも可能
である。
(Other Steps) For example, in the case of a digital video disk or a laser disk, it is also possible to use two disks each having a half thickness and stick the disks together so that the recording film layer is on the inside. . It is also possible to print a label or the like on the coating agent by a screen printing method or the like. Further, the steps specified in the manufacturing process of the present invention need to be performed in order, but steps other than these steps can be added.

【0122】情報記録媒体 以上のような工程により、情報記録媒体が製造される。
本発明に係る情報記録媒体としては、光学的に読みとり
可能な情報記録媒体などが挙げられる。具体的には音楽
用CD、CD−ROM、レーザーディスク、などの微細
な凹凸による反射光の変化を利用し、書き換え不可能な
もの、CD−R、WORM(追記型光ディスク)、MO
(書き変え可能な光ディスク;光磁気ディスク)、MD
(ミニディスク)、DVD(デジタルビデオディスク)
など、官能性色素や相変化による反射率の変化を利用
し、追記または書き換え可能なものなどがある。特に、
例えば反射膜層として、アルミ、金、鉄等およびこれら
の金属原子を含む化合物等からなる導電性膜層を有する
光学式情報記録媒体ディスクに対しては、導電性膜層を
形成したあとにコロナ放電処理しようとすると放電の危
険があり、そのような処理が不可能であったが、本発明
の製造方法を採用することにより、放電によってコゲた
りヤケたりすることが無く、各層間の接着力を改良でき
るので好適である。
[0122] By the above processes the information recording medium, the information recording medium is manufactured.
Examples of the information recording medium according to the present invention include an optically readable information recording medium. Specifically, non-rewritable ones, such as music CDs, CD-ROMs, laser disks, etc., utilizing changes in reflected light due to minute irregularities, CD-Rs, WORM (write-once optical disks), MOs
(Rewritable optical disk; magneto-optical disk), MD
(Mini disk), DVD (digital video disk)
For example, there is a type which can be additionally written or rewritten using a change in reflectance due to a functional dye or a phase change. In particular,
For example, for an optical information recording medium disk having a conductive film layer made of aluminum, gold, iron or the like and a compound containing these metal atoms as a reflective film layer, a corona is formed after forming the conductive film layer. There was a danger of discharge when performing the discharge treatment, and such a treatment was impossible. However, by employing the manufacturing method of the present invention, there is no scorch or burn due to the discharge, and the adhesive strength between the respective layers is reduced. Can be improved, which is preferable.

【0123】光学部品 本発明の成形材料は、十分小さな複屈折、優れた機械強
度を有し、且つ、耐湿性、成形加工性に優れるため、上
記情報記録媒体基板としてのみならず、これらの特性が
要求されるようなあらゆる光学部品用に好適である。本
発明の成形材料が使用可能な光学部品としては、例え
ば、光学レンズ、プリズム、ミラー、医療用検査セル、
導光板、光学フィルムなど従来公知のプラスチックで成
形可能な光学部品が挙げられる。具体的にはカメラの撮
像系レンズ、ビデオカメラの撮像系レンズ、顕微鏡レン
ズ、内視鏡レンズ、望遠鏡レンズ、双眼鏡レンズ、眼鏡
レンズ、拡大レンズなどの全光線透過型レンズ、CD、
CD−ROM、WORM(追記型光ディスク)、MO
(書き変え可能な光ディスク;光磁気ディスク)、MD
(ミニディスク)などの光ディスクのピックアップレン
ズ、レーザービームプリンターのfθレンズ、センサー
用レンズなどのレーザー走査系レンズ、カメラのファイ
ンダー系のプリズムレンズ、などの幅広い用途に用いら
れる。また、前述の吸収剤や染料、顔料を配合して赤外
線センサーレンズ、オートフォーカスレンズ、バンドパ
スフィルターレンズなど光学レンズ;光学ミラー;プリ
ズム;液晶ディスプレイなどの導光板、医療用の血液検
査セル等の各種検査セル;偏光フィルム、位相差フィル
ム、光拡散フィルムなどの光学フィルムなどが挙げられ
る。
Optical parts The molding material of the present invention has sufficiently small birefringence, excellent mechanical strength, and excellent moisture resistance and molding workability. It is suitable for all optical components that require the following. Examples of optical components that can be used for the molding material of the present invention include optical lenses, prisms, mirrors, medical test cells,
Optical components that can be formed of a conventionally known plastic, such as a light guide plate and an optical film, may be used. Specifically, all light-transmitting lenses such as an imaging lens of a camera, an imaging lens of a video camera, a microscope lens, an endoscope lens, a telescope lens, a binocular lens, an eyeglass lens, a magnifying lens, a CD,
CD-ROM, WORM (write-once optical disk), MO
(Rewritable optical disk; magneto-optical disk), MD
It is used for a wide range of applications, such as pickup lenses for optical disks such as (mini-discs), fθ lenses for laser beam printers, laser scanning lenses such as sensor lenses, and finder prism lenses for cameras. In addition, the aforementioned absorbents, dyes, and pigments are blended to mix optical lenses such as infrared sensor lenses, autofocus lenses, and bandpass filter lenses; optical mirrors; prisms; light guide plates such as liquid crystal displays, and blood test cells for medical use. Various inspection cells; examples include optical films such as polarizing films, retardation films, and light diffusion films.

【0124】本発明の成形物は、さらに厳しい条件であ
る繰り返しスチーム滅菌を必要とするような医療用各種
透明部品としても好適であり、具体的には、注射用の液
体薬品容器、アンプル、プレフィルドシリンジ、輸液用
バッグ、固体薬品容器、点眼薬容器、点滴薬容器などの
液体または粉体、固体の薬品容器;血液検査用のサンプ
リング用試験管、採血試験管、検体容器などのサンプル
容器;注射器などの医療器具;医療器具などの滅菌に用
いる滅菌容器;医薬検査用プラスチックレンズなどの医
療用光学部品などが挙げられる。また、本発明の成形材
料は、電器電子分野において使用される絶縁材、半導体
処理用器材などの用途にも好適である。
The molded product of the present invention is also suitable as various medical transparent parts that require repeated steam sterilization under severer conditions. Specifically, liquid injection containers, ampules, prefilled Liquid or powder or solid drug containers such as syringes, infusion bags, solid drug containers, eye drop containers, and dropper containers; sample containers such as sampling test tubes for blood tests, blood sampling test tubes, and sample containers; syringes Medical instruments such as medical instruments; sterile containers used for sterilization of medical instruments and the like; medical optical components such as plastic lenses for medical tests and the like. The molding material of the present invention is also suitable for applications such as insulating materials and semiconductor processing equipment used in the field of electronic appliances.

【0125】[0125]

【実施例】以下に、製造例、実施例及び比較例を挙げ
て、本発明についてより具体的に説明する。これらの例
中の部及び%は、特に断わりのない限り重量基準であ
る。各種の物性の測定は、下記の方法に従って行った。 (1)分子量は、トルエンを溶媒にしてGPCで測定
し、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)を
求めた。 (2)分子量分布は、トルエンを溶媒にしてGPCで測
定し、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)
と数平均分子量(Mn)を求め、重量平均分子量(M
w)と数平均分子量(Mn)の比(Mw/Mn)を算出
した。 (3)分子量10,000以下の成分量は、トルエンを
溶媒にしてGPCで測定し、標準ポリスチレン換算の分
子量(M)10,000以下の成分の積算量として求め
た。 (4)芳香環の水素添加率は、H−NMRを測定し算
出した。 (5)光ディスク基板の複屈折値は、直径85mmの光
ディスク基板の中央から25mm位置での複屈折値で評
価した。複屈折値は偏光顕微鏡(ニコン社製;546n
mセナルモンコンペンセータ)にて測定した。評価は、
複屈折値が5nm以下である場合を◎、5nmを越え、
10nm以下である場合を○、10nmを越える場合を
×とした。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Production Examples, Examples, and Comparative Examples. Parts and percentages in these examples are on a weight basis unless otherwise specified. Various physical properties were measured according to the following methods. (1) The molecular weight was measured by GPC using toluene as a solvent, and the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polystyrene was determined. (2) The molecular weight distribution is measured by GPC using toluene as a solvent, and the weight average molecular weight (Mw) in terms of standard polystyrene.
And the number average molecular weight (Mn) are determined, and the weight average molecular weight (M
w) and the number average molecular weight (Mn) ratio (Mw / Mn) was calculated. (3) The amount of components having a molecular weight of 10,000 or less was measured by GPC using toluene as a solvent, and determined as the integrated amount of components having a molecular weight (M) of 10,000 or less in terms of standard polystyrene. (4) The hydrogenation rate of the aromatic ring was calculated by measuring 1 H-NMR. (5) The birefringence value of the optical disk substrate was evaluated by the birefringence value at a position 25 mm from the center of the optical disk substrate having a diameter of 85 mm. The birefringence value was measured using a polarizing microscope (Nikon; 546n).
m Senalmon Compensator). Evaluation,
When the birefringence value is 5 nm or less, ◎
The case where it was 10 nm or less was evaluated as ○, and the case where it exceeded 10 nm was evaluated as x.

【0126】(6)曲げ強度は、長さ127mm,幅1
2.7mm,厚さ3mmの射出成形試験片を用いて、A
STM D790に基づいて、ストログラフ(東洋精機
製作所社製;V10−B)にて測定した。評価は、降伏
点強度もしくは破断強度が500kgf/cm以上有
る場合を◎、破断強度が500kgf/cm未満、4
00kgf/cm以上有る場合を○、破断強度が40
0kgf/cm未満の場合を×とした。 (7)光ディスク基板の表面状態の観察は、信号パター
ン側の表面を、光学顕微鏡で倍率100で観察した。 (8)光ディスク基板の表面欠陥の観察は、信号パター
ン側の表面を、AFM(原子間力顕微鏡;セイコー電子
工業社製;SPI3700/SPA−250)により、
5μm×5μmの面部を50ヶ所観察し、長さ或いは幅
が0.3μm以上,深さ10nm以上の凹状欠陥の数を
測定した。 (9)高温高湿度試験Iは、光ディスク基板を恒温恒湿
度試験器内50℃、80%相対湿度の環境下に成形物を
100時間保持し、急激に室温環境(試験器外)に取り
出して、1時間室内に置いた後、波長:830nmの光
線透過率を測定した。結果は、高温高湿に保持する前後
の光線透過率の差で求めた。 (10)高温高湿度試験IIは、恒温恒湿度試験器内条
件を60℃、90%相対湿度に変えて高温高湿度試験I
と同様に行った。
(6) The bending strength is 127 mm in length and 1 in width.
A 2.7 mm, 3 mm thick injection molded test piece
Based on STM D790, it was measured with a strograph (V10-B, manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd.). The evaluation was ◎ when the yield point strength or breaking strength was 500 kgf / cm 2 or more, and the breaking strength was less than 500 kgf / cm 2 .
場合 when it is 00 kgf / cm 2 or more, and the breaking strength is 40
A case of less than 0 kgf / cm 2 was evaluated as x. (7) In observing the surface state of the optical disk substrate, the surface on the signal pattern side was observed with an optical microscope at a magnification of 100. (8) Observation of surface defects on the optical disk substrate was performed by examining the surface on the signal pattern side with an AFM (atomic force microscope; manufactured by Seiko Denshi Kogyo; SPI3700 / SPA-250).
Fifty μm × 5 μm surface portions were observed at 50 locations, and the number of concave defects having a length or width of 0.3 μm or more and a depth of 10 nm or more was measured. (9) In the high-temperature high-humidity test I, the optical disk substrate was kept in an environment of constant temperature and humidity at 50 ° C. and 80% relative humidity for 100 hours, and was rapidly taken out to a room temperature environment (outside the tester). After being left in a room for one hour, the light transmittance at a wavelength of 830 nm was measured. The results were determined by the difference in light transmittance between before and after holding at high temperature and high humidity. (10) High-temperature and high-humidity test II is a high-temperature and high-humidity test I by changing the conditions in a constant-temperature and constant-humidity tester to 60 ° C. and 90% relative humidity.
The same was done.

【0127】(製造例1)(芳香族ビニル系重合体の水
素添加物Aの製造) 十分に乾燥し窒素置換した、撹拌装置を備えたステンレ
ス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン960部、スチレ
ンモノマー240部及びジブチルエーテル3.81部を
仕込み、40℃で撹拌しながらn−ブチルリチウム溶液
(15%含有ヘキサン溶液)0.65部を添加して重合
を開始した。同条件下で3時間重合を行った後、イソプ
ロピルアルコール1.26部を添加して反応を停止させ
た。製造された芳香族ビニル系重合体aの重量平均分子
量(Mw)と分子量分布(Mw/Mn)を測定したとこ
ろ、Mw=180,000、 Mw/Mn=1.04、
分子量10,000以下の成分含量=0.0%であっ
た。なお、成分含量0.0%は分子量10,000以下
の成分含量が検出限界以下であることを表す(以下同
じ)。
(Production Example 1) (Production of hydrogenated product A of aromatic vinyl polymer) In a stainless steel reactor equipped with a stirrer sufficiently dried and purged with nitrogen, 960 parts of dehydrated cyclohexane, styrene monomer 240 parts and 3.81 parts of dibutyl ether were charged, and 0.65 part of an n-butyllithium solution (15% hexane solution) was added with stirring at 40 ° C. to initiate polymerization. After polymerization for 3 hours under the same conditions, 1.26 parts of isopropyl alcohol was added to stop the reaction. When the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the produced aromatic vinyl polymer a were measured, Mw = 180,000, Mw / Mn = 1.04,
The content of components having a molecular weight of 10,000 or less was 0.0%. The component content of 0.0% indicates that the component content having a molecular weight of 10,000 or less is below the detection limit (the same applies hereinafter).

【0128】次いで、上記芳香族ビニル系重合体a含有
の重合溶液1200部を攪拌装置を備えた耐圧反応容器
に移送し、ニッケル−珪藻土触媒(日揮化学工業社製;
N113, ニッケル担持量40%)24部を添加混合
した。仕込み終了後、反応容器内部を水素ガスで置換
し、撹拌しながら150℃で、水素を供給して圧力70
kg/cm2に保ち、6時間水素添加反応を行った。水
素添加反応終了後、反応溶液からろ過により水素添加触
媒を除去した。シクロヘキサン1200部を加えて希釈
した後、クリーン度クラス1000の環境下で、この濾
液をさらに孔径1μmのフィルターにて濾過し、異物を
除去した。この濾液を、クリーン度クラス1000の環
境下で、孔径1μmのフィルターにて濾過した9000
部のイソプロパノール中に注ぎ芳香族ビニル系重合体の
水素添加物Aを析出させた。水素添加物Aをろ過により
分離後、減圧乾燥器により、100℃で48時間乾燥さ
せ芳香族ビニル系重合体水素添加物Aを回収した。得ら
れた水素添加物Aの物性はMw=153,000、Mw
/Mn=1.09、分子量10,000以下の成分含量
=0.0%、水素化率は100.0%であった。
Next, 1200 parts of the polymerization solution containing the above-mentioned aromatic vinyl polymer a was transferred to a pressure-resistant reaction vessel equipped with a stirrer, and a nickel-diatomaceous earth catalyst (manufactured by Nikki Chemical Co., Ltd .;
N113, nickel carrying amount 40%) 24 parts were added and mixed. After completion of the charging, the inside of the reaction vessel was replaced with hydrogen gas, and hydrogen was supplied at 150 ° C. while stirring to obtain a pressure of 70%.
While maintaining the pressure at kg / cm 2 , a hydrogenation reaction was performed for 6 hours. After the completion of the hydrogenation reaction, the hydrogenation catalyst was removed from the reaction solution by filtration. After adding and diluting 1200 parts of cyclohexane, the filtrate was further filtered through a filter having a pore size of 1 μm in an environment of a cleanliness class 1000 to remove foreign substances. This filtrate was filtered through a filter having a pore size of 1 μm under an environment of a cleanliness class of 1,000, 9000.
The mixture was poured into isopropanol to precipitate a hydrogenated product A of an aromatic vinyl polymer. After the hydrogenated product A was separated by filtration, the product was dried at 100 ° C. for 48 hours using a reduced-pressure drier to recover the hydrogenated product A of the aromatic vinyl polymer. The physical properties of the obtained hydrogenated product A were Mw = 153,000, Mw
/Mn=1.09, content of components having a molecular weight of 10,000 or less = 0.0%, and hydrogenation rate was 100.0%.

【0129】(製造例2)(芳香族ビニル系重合体の水
素添加物Bの製造) ニッケル−珪藻土触媒を16.8部、水素添加反応温度
を160℃、圧力を60kg/cm2、反応時間を8時
間とする以外は製造例1と同様にして、芳香族ビニル系
重合体水素添加物Bを製造した。得られた水素添加物B
の物性はMw=122,000、Mw/Mn=1.1
7、分子量10,000以下の成分含量=0.1%、水
素化率は99.9%であった。
(Production Example 2) (Production of hydrogenated product B of aromatic vinyl polymer) 16.8 parts of nickel-diatomaceous earth catalyst, hydrogenation reaction temperature 160 ° C, pressure 60 kg / cm 2 , reaction time Was carried out in the same manner as in Production Example 1 except that the reaction time was changed to 8 hours, to produce a hydrogenated aromatic vinyl polymer B. The obtained hydrogenated product B
Have physical properties Mw = 122,000 and Mw / Mn = 1.1.
7. The content of components having a molecular weight of 10,000 or less was 0.1%, and the degree of hydrogenation was 99.9%.

【0130】(製造例3)(芳香族ビニル系重合体の水
素添加物Cの製造) ジブチルエーテルを3.36部、 n−ブチルリチウム
溶液(15%含有ヘキサン溶液)を0.57部とする以
外は実施例1と同様にして、芳香族ビニル系重合体cを
製造した。芳香族ビニル系重合体cの重量平均分子量
(Mw)と分子量分布(Mw/Mn)を測定したとこ
ろ、Mw=204,000、 Mw/Mn=1.10、
分子量10,000以下の成分含量=0.0%であっ
た。
(Production Example 3) (Production of hydrogenated product C of aromatic vinyl polymer) Dibutyl ether was 3.36 parts, and n-butyllithium solution (hexane solution containing 15%) was 0.57 parts. Except for the above, an aromatic vinyl polymer c was produced in the same manner as in Example 1. When the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the aromatic vinyl polymer c were measured, Mw = 204,000, Mw / Mn = 1.10,
The content of components having a molecular weight of 10,000 or less was 0.0%.

【0131】次いで、得られた芳香族ビニル系重合体c
含有の重合溶液1200部を実施例1と同様の反応容器
に移送し、実施例1と同様のニッケル−珪藻土触媒24
部を添加混合した。水素添加反応温度を160℃、反応
時間を8時間とする以外は製造例1と同様にして、芳香
族ビニル系重合体水素添加物Cを製造した。得られた水
素添加物Cの物性はMw=152,000、Mw/Mn
=1.26、分子量10,000以下の成分含量=0.
3%、水素化率は99.4%であった。
Next, the obtained aromatic vinyl polymer c
1200 parts of the contained polymerization solution was transferred to the same reaction vessel as in Example 1, and the same nickel-diatomaceous earth catalyst 24 as in Example 1 was used.
Parts were added and mixed. Hydrogenated aromatic vinyl polymer C was produced in the same manner as in Production Example 1 except that the hydrogenation reaction temperature was 160 ° C. and the reaction time was 8 hours. The physical properties of the obtained hydrogenated product C were Mw = 152,000, Mw / Mn.
= 1.26, content of components having a molecular weight of 10,000 or less = 0.
The degree of hydrogenation was 99.4%.

【0132】(製造例4)(芳香族ビニル系重合体の水
素添加物Dの製造) 水素添加反応の圧力を50kg/cm2、反応時間を1
0時間とする以外は製造例3と同様にして、芳香族ビニ
ル系重合体水素添加物Dを製造した。得られた水素添加
物Dの物性はMw=140,000、Mw/Mn=1.
67、分子量10,000以下の成分含量=1.2%、
水素化率は99.9%であった。
(Production Example 4) (Production of hydrogenated product D of aromatic vinyl polymer) The pressure of the hydrogenation reaction was 50 kg / cm 2 , and the reaction time was 1
A hydrogenated aromatic vinyl polymer D was produced in the same manner as in Production Example 3 except that the time was 0 hour. The physical properties of the obtained hydrogenated product D were Mw = 140,000 and Mw / Mn = 1.
67, the content of components having a molecular weight of 10,000 or less = 1.2%,
The hydrogenation rate was 99.9%.

【0133】(製造例5)(芳香族ビニル系重合体の水
素添加物Eの製造) ニッケル−珪藻土触媒に代えてニッケル−アルミナ触媒
(日揮化学工業社製;N163, ニッケル担持量40
重量%)を24部、水素添加反応温度を230℃、圧力
を45kg/cm2とする以外は製造例3と同様にし
て、芳香族ビニル系重合体水素添加物Eを製造した。得
られた水素添加物Eの物性はMw=132,000、M
w/Mn=1.82、分子量10,000以下の成分含
量=2.1%、水素化率は99.0%であった。
(Production Example 5) (Production of hydrogenated product E of aromatic vinyl polymer) Nickel-alumina catalyst (manufactured by JGC Chemicals; N163, nickel carrying amount 40) instead of nickel-diatomaceous earth catalyst
% By weight), the hydrogenation reaction temperature was 230 ° C., and the pressure was 45 kg / cm 2, and a hydrogenated aromatic vinyl polymer E was produced in the same manner as in Production Example 3. The physical properties of the obtained hydrogenated product E were Mw = 132,000, M
The w / Mn was 1.82, the content of components having a molecular weight of 10,000 or less was 2.1%, and the hydrogenation ratio was 99.0%.

【0134】(製造例6)(芳香族ビニル系重合体の水
素添加物Fの製造) 実施例1と同様の反応器に、脱水シクロヘキサン280
部、脱水トルエン280部、スチレンモノマー240部
を仕込み、40℃で撹拌しながらアゾビスイソブチロニ
トリル0.12部を添加して重合を開始した。反応系の
温度を70℃とし、24時間重合を行った。反応後製造
された芳香族ビニル系重合体fの重量平均分子量(M
w)と分子量分布(Mw/Mn)を測定したところ、M
w=161,000、 Mw/Mn=2.30、分子量
10,000以下の成分含量=0.8%であった。
(Production Example 6) (Production of hydrogenated product F of aromatic vinyl polymer) In the same reactor as in Example 1, dehydrated cyclohexane 280 was added.
Parts, 280 parts of dehydrated toluene and 240 parts of styrene monomer were charged, and while stirring at 40 ° C., 0.12 parts of azobisisobutyronitrile was added to initiate polymerization. The temperature of the reaction system was set to 70 ° C., and polymerization was performed for 24 hours. Weight average molecular weight of the aromatic vinyl polymer f produced after the reaction (M
w) and the molecular weight distribution (Mw / Mn) were measured.
w = 161,000, Mw / Mn = 2.30, and the content of components having a molecular weight of 10,000 or less = 0.8%.

【0135】重合体fの溶液に脱水シクロヘキサン40
0部を加えて希釈し、製造例5で使用したのと同じニッ
ケル−アルミナ触媒28.8部を添加混合した。水素添
加反応温度230℃、圧力45kg/cm2、反応時間
8時間とし、その他は製造例1と同様にして、芳香族ビ
ニル系重合体水素添加物Fを製造した。得られた水素添
加物Fの物性はMw=116,000、Mw/Mn=
2.63、分子量10,000以下の成分含量=3.4
%、水素化率は98.1%であった。
The solution of the polymer f was added to dehydrated cyclohexane 40
0 part was added for dilution, and 28.8 parts of the same nickel-alumina catalyst as used in Production Example 5 was added and mixed. A hydrogenated aromatic vinyl polymer F was produced in the same manner as in Production Example 1 except that the hydrogenation reaction temperature was 230 ° C., the pressure was 45 kg / cm 2 , and the reaction time was 8 hours. The physical properties of the obtained hydrogenated product F were Mw = 116,000 and Mw / Mn =
2.63, content of components having a molecular weight of 10,000 or less = 3.4
% And the hydrogenation rate were 98.1%.

【0136】(製造例7)(芳香族ビニル系重合体の水
素添加物Gの製造) アゾビスイソブチロニトリルを0.10部、反応温度を
60℃、反応時間を48時間とする以外は製造例6と同
様にして芳香族ビニル系重合体gを製造した。芳香族ビ
ニル系重合体gの重量平均分子量(Mw)と分子量分布
(Mw/Mn)を測定したところ、Mw=195,00
0、 Mw/Mn=1.80、分子量10,000以下
の成分含量=0.5%であった。
(Production Example 7) (Production of hydrogenated product G of aromatic vinyl polymer) Except that 0.10 parts of azobisisobutyronitrile was used, the reaction temperature was 60 ° C, and the reaction time was 48 hours. In the same manner as in Production Example 6, an aromatic vinyl polymer g was produced. When the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the aromatic vinyl polymer g were measured, Mw = 195,00
0, Mw / Mn = 1.80, content of components having a molecular weight of 10,000 or less = 0.5%.

【0137】ニッケル−アルミナ触媒に代えてルテニウ
ム−カーボン触媒(エヌ・イー・ケムキャット社製;
ルテニウム担持量5%)を72部添加混合し、水素添加
反応温度を170℃、反応時間を10時間とする以外は
製造例6と同様にして、芳香族ビニル系重合体水素添加
物Gを製造した。得られた水素添加物Gの物性はMw=
79,000、Mw/Mn=1.65、分子量10,0
00以下の成分含量=1.9%、水素化率は98.5%
であった。
A ruthenium-carbon catalyst (manufactured by NE Chemcat) in place of the nickel-alumina catalyst;
(Amount of ruthenium supported: 5%) was added and mixed, and a hydrogenated aromatic vinyl polymer G was produced in the same manner as in Production Example 6 except that the hydrogenation reaction temperature was 170 ° C. and the reaction time was 10 hours. did. The physical properties of the obtained hydrogenated product G were Mw =
79,000, Mw / Mn = 1.65, molecular weight 10.0
Component content of not more than 00 = 1.9%, hydrogenation rate 98.5%
Met.

【0138】(製造例8)(芳香族ビニル系重合体の水
素添加物Hの製造) 水素添加反応温度を160℃とし、圧力30kg/cm
2で反応時間5時間、引続き圧力を60kg/cm2に高
めて、反応時間を5時間とする以外は製造例5と同様に
して水素添加し、芳香族ビニル系重合体水素添加物Hを
製造した。得られた水素添加物Hの物性はMw=10
6,000、Mw/Mn=1.58、分子量10,00
0以下の成分含量=2.4%、水素化率は99.6%で
あった。
(Production Example 8) (Production of hydrogenated product H of aromatic vinyl polymer) The hydrogenation reaction temperature was set at 160 ° C, and the pressure was 30 kg / cm.
The hydrogenation was performed in the same manner as in Production Example 5 except that the reaction time was increased to 5 hours, the reaction time was increased to 60 kg / cm 2 and the reaction time was increased to 5 hours to produce a hydrogenated aromatic vinyl polymer H. did. The physical properties of the obtained hydrogenated product H were Mw = 10
6,000, Mw / Mn = 1.58, molecular weight 10,000
The component content of 0 or less = 2.4%, and the hydrogenation rate was 99.6%.

【0139】(製造例9)(芳香族ビニル系重合体の水
素添加物Iの製造) 水素添加反応温時間を5時間とする以外は製造例2と同
様にして水素添加し、芳香族ビニル系重合体水素添加物
Iを製造した。得られた水素添加物Iの物性はMw=1
37,000、Mw/Mn=1.12、分子量10,0
00以下の成分含量=0.1%、水素化率は95.0%
であった。
(Production Example 9) (Production of hydrogenated product I of aromatic vinyl polymer) Hydrogenation was carried out in the same manner as in Production Example 2 except that the hydrogenation reaction temperature was changed to 5 hours. Polymer hydride I was prepared. The physical properties of the obtained hydrogenated product I were Mw = 1.
37,000, Mw / Mn = 1.12, molecular weight 10.0
Component content of 00 or less = 0.1%, hydrogenation rate is 95.0%
Met.

【0140】以上、製造例によって得られた水素化重合
体の物性を表1に示す。
Table 1 shows the physical properties of the hydrogenated polymer obtained in the above Production Examples.

【0141】[0141]

【表1】 [Table 1]

【0142】(実施例1〜4)製造例1〜4で製造した
芳香族ビニル系重合体の水素添加物A〜D夫々100部
に軟質重合体(旭化成社製;タフテックH1052)
0.1部、酸化防止剤(チバガイギー社製;イルガノッ
クス1010)0.1部を添加し、2軸混練機(東芝機
械社製;TEM−35B、スクリュー径37mm、L/
D=32、スクリュー回転数150rpm、樹脂温度2
40℃、フィードレート15kg/時間)で混練し、ス
トランド状に押し出した。これを水冷してペレタイザー
で切断し、ペレット化した。
(Examples 1 to 4) A soft polymer (manufactured by Asahi Kasei Corporation; Tuftec H1052) was added to 100 parts of each of the aromatic vinyl polymer hydrogenated products A to D produced in Production Examples 1 to 4.
0.1 parts and 0.1 part of an antioxidant (Ciba Geigy; Irganox 1010) were added, and a twin screw kneader (Toshiba Machine; TEM-35B, screw diameter 37 mm, L / L
D = 32, screw rotation speed 150 rpm, resin temperature 2
The mixture was kneaded at 40 ° C. at a feed rate of 15 kg / hour) and extruded into strands. This was cooled with water, cut with a pelletizer, and pelletized.

【0143】得られた4種類のペレットを、空気を流通
させた熱風乾燥器を用いて70℃で2時間乾燥して水分
を除去し、射出成形機(住友重機械工業社製;DISC
−3)を用いて、光ディスク用スタンパーを取り付けた
金型を使用し、樹脂温度300℃、型温度100℃に設
定して射出成形を行い、85mmφの光ディスク基板を
得た。
The obtained four types of pellets were dried at 70 ° C. for 2 hours using a hot-air drier through which air was circulated to remove water, and were injected with an injection molding machine (Sumitomo Heavy Industries, Ltd .; DISC).
Using -3), injection molding was performed at a resin temperature of 300 ° C. and a mold temperature of 100 ° C. using a mold having an optical disk stamper attached thereto to obtain an 85 mmφ optical disk substrate.

【0144】得られた光ディスク基板の複屈折値はいず
れも5nm以下で評価は◎であった。スタンパーにより
信号パターンの形成された表面を顕微鏡観察した結果で
はいずれも異常は認められなかった。信号パターンの形
成された表面をAFMにより観察したが長さ或いは幅が
0.3μm以上,深さ10nm以上の凹状欠陥は見つか
らなかった。光ディスク基板の高温高湿度試験Iおよび
IIを行い光線透過率の変化を測定したが、変化は認め
られなかった。評価結果をまとめて表2に示す。
Each of the obtained optical disk substrates had a birefringence value of 5 nm or less, and the evaluation was ◎. Microscopic observation of the surface on which the signal pattern was formed by the stamper revealed no abnormality. When the surface on which the signal pattern was formed was observed by AFM, no concave defect having a length or width of 0.3 μm or more and a depth of 10 nm or more was found. The optical disc substrate was subjected to high temperature and high humidity tests I and II to measure the change in light transmittance, but no change was observed. Table 2 summarizes the evaluation results.

【0145】上記4種類のペレットを用いて射出成形機
(ファナック社製;AUTOSHOTO MODEL
30A)を用いて、樹脂温度300℃、型温度100℃
に設定して射出成形を行い、長さ127mm,幅12.
7mm,厚さ3mmの試験片を成形した。試験片の曲げ
強度は500kgf/cm以上で評価は◎であった。
評価結果を表2に示す。
Using the above four types of pellets, an injection molding machine (manufactured by FANUC; AUTOSHOTO MODEL)
30A), resin temperature 300 ° C., mold temperature 100 ° C.
11. Injection molding was performed with a length of 127 mm and a width of 12.
A test piece having a thickness of 7 mm and a thickness of 3 mm was formed. The bending strength of the test piece was 500 kgf / cm 2 or more, and the evaluation was ◎.
Table 2 shows the evaluation results.

【0146】(実施例5)製造例1で製造した芳香族ビ
ニル系重合体の水素添加物A100部当たりに、部分エ
ーテル化合物としてノニルフェノール1分子にグリシド
ール2分子の割合で反応しているポリ(オキシ−2−ヒ
ドロキシルトリメチレン)ノニルフェニルエーテルHO
[CHCH(OH)CHO]19
(nは自然数であり、全分子の平均nは2)0.5部、
老化防止剤(チバガイギー社製イルガノックス101
0)0.1部を添加し、実施例1と同様に2軸混練機で
混練し、押し出し、ペレット化した。
(Example 5) A poly (oxy) reacting as a partial ether compound at a ratio of two molecules of nonylphenol to two molecules of glycidol per 100 parts of the hydrogenated product A of the aromatic vinyl polymer produced in Production Example 1 -2-hydroxyl trimethylene) nonylphenyl ether HO
[CH 2 CH (OH) CH 2 O] n C 6 H 4 C 9 H 19
(N is a natural number, the average n of all molecules is 2) 0.5 part,
Anti-aging agent (Irganox 101 manufactured by Ciba-Geigy)
0) 0.1 part was added and kneaded with a twin-screw kneader in the same manner as in Example 1, extruded and pelletized.

【0147】得られたペレットを用いて実施例1と同様
の評価を行った。得られた光ディスク基板の複屈折値は
5nm以下で評価は◎であった。表面を顕微鏡観察した
結果では異常は認められなかった。AFMによる観察で
も欠陥は見つからなかった。高温高湿度試験IおよびI
Iよる光線透過率の変化も認められなかった。試験片の
曲げ強度は500kgf/cm以上で評価は◎であっ
た。結果を表2に示す。
The same evaluation as in Example 1 was performed using the obtained pellets. The birefringence value of the obtained optical disk substrate was 5 nm or less, and the evaluation was ◎. No abnormalities were observed by microscopic observation of the surface. No defects were found by AFM observation. High temperature and high humidity test I and I
No change in light transmittance due to I was observed. The bending strength of the test piece was 500 kgf / cm 2 or more, and the evaluation was ◎. Table 2 shows the results.

【0148】(実施例6)製造例2で製造した芳香族ビ
ニル系重合体の水素添加物B100部当たりに、部分エ
ーテル化合物としてノニルフェノール1分子にグリシド
ール2.5分子の割合で反応しているポリ(オキシ−2
−ヒドロキシルトリメチレン)ノニルフェニルエーテル
HO[CHCH(OH)CHO]
19(nは自然数であり、全分子の平均nは2.5)
0.5部、老化防止剤(チバガイギー社製イルガノック
ス1010)0.1部を添加し、実施例1と同様に2軸
混練機で混練し、押し出し、ペレット化した。
(Example 6) A poly (nonylphenol) molecule reacting as a partial ether compound at a ratio of 2.5 molecules of glycidol per 100 parts of the hydrogenated product B of the aromatic vinyl polymer produced in Production Example 2 was used. (Oxy-2
- hydroxyl trimethylene) nonylphenyl ether HO [CH 2 CH (OH) CH 2 O] n C 6 H 4 C 9 H
19 (n is a natural number, the average n of all molecules is 2.5)
0.5 part and 0.1 part of an antioxidant (Irganox 1010 manufactured by Ciba Geigy) were added, and the mixture was kneaded with a twin-screw kneader in the same manner as in Example 1, extruded and pelletized.

【0149】得られたペレットを用いて実施例1と同様
の評価を行った。得られた光ディスク基板の複屈折値は
5nm以下で評価は◎であった。表面を顕微鏡観察した
結果では異常は認められなかった。AFMによる観察で
も欠陥は見つからなかった。高温高湿度試験IおよびI
Iよる光線透過率の変化も認められなかった。試験片の
曲げ強度は500kgf/cm以上で評価は◎であっ
た。結果を表2に示す。
The same evaluation as in Example 1 was performed using the obtained pellets. The birefringence value of the obtained optical disk substrate was 5 nm or less, and the evaluation was ◎. No abnormalities were observed by microscopic observation of the surface. No defects were found by AFM observation. High temperature and high humidity test I and I
No change in light transmittance due to I was observed. The bending strength of the test piece was 500 kgf / cm 2 or more, and the evaluation was ◎. Table 2 shows the results.

【0150】(実施例7)製造例3で製造した芳香族ビ
ニル系重合体の水素添加物C100部当たりに、部分エ
ステル化合物としてベヘニン酸1分子にグリセロール1
分子の割合で反応している、ベヘニン酸モノグリセリド
[CH(CH20COOCH(CHOH)CH
OH]0.5部、老化防止剤(チバガイギー社製イル
ガノックス1010)0.1部を添加し、実施例1と同
様に2軸混練機で混練し、押し出し、ペレット化した。
Example 7 One molecule of behenic acid and one molecule of glycerol were used as a partial ester compound per 100 parts of the hydrogenated product C of the aromatic vinyl polymer produced in Production Example 3.
Behenic acid monoglyceride [CH 3 (CH 2 ) 20 COOCH 2 (CHOH) CH reacting at a molecular rate
2 OH] 0.5 parts were added an antioxidant (manufactured by Ciba-Geigy Irganox 1010) 0.1 parts were kneaded in the same biaxial kneader as in Example 1, extruded, and pelletized.

【0151】得られたペレットを用いて実施例1と同様
の評価を行った。得られた光ディスク基板の複屈折値は
5nm以下で評価は◎であった。表面を顕微鏡観察した
結果では異常は認められなかった。AFMによる観察で
も欠陥は見つからなかった。高温高湿度試験IおよびI
Iよる光線透過率の変化も認められなかった。試験片の
曲げ強度は500kgf/cm以上で評価は◎であっ
た。結果を表2に示す。
The same evaluation as in Example 1 was performed using the obtained pellets. The birefringence value of the obtained optical disk substrate was 5 nm or less, and the evaluation was ◎. No abnormalities were observed by microscopic observation of the surface. No defects were found by AFM observation. High temperature and high humidity test I and I
No change in light transmittance due to I was observed. The bending strength of the test piece was 500 kgf / cm 2 or more, and the evaluation was ◎. Table 2 shows the results.

【0152】(実施例8)製造例4で製造した芳香族ビ
ニル系重合体の水素添加物D100部当たりに、部分エ
ステル化合物としてステアリン酸1分子にペンタエリス
リトール1分子の割合で反応している、ペンタエリスリ
トールモノステアレート[CH(CH16COO
CHC(CHOH)]0.7部、老化防止剤(チ
バガイギー社製イルガノックス1010)0.1部を添
加し、実施例1と同様に2軸混練機で混練し、押し出
し、ペレット化した。
(Example 8) Per 100 parts of hydrogenated product D of the aromatic vinyl polymer produced in Production Example 4, one molecule of stearic acid was reacted as a partial ester compound at a ratio of one molecule of pentaerythritol. Pentaerythritol monostearate [CH 3 (CH 2 ) 16 COO
0.7 parts of CH 2 C (CH 2 OH) 4 ] and 0.1 parts of an antioxidant (Irganox 1010 manufactured by Ciba Geigy) were added, kneaded with a twin-screw kneader in the same manner as in Example 1, and extruded. Pelletized.

【0153】得られたペレットを用いて実施例1と同様
の評価を行った。得られた光ディスク基板の複屈折値は
5nm以下で評価は◎であった。表面を顕微鏡観察した
結果では異常は認められなかった。AFMによる観察で
も欠陥は見つからなかった。高温高湿度試験IおよびI
Iよる光線透過率の変化も認められなかった。試験片の
曲げ強度は500kgf/cm以上で評価は◎であっ
た。結果を表2に示す。
The same evaluation as in Example 1 was performed using the obtained pellets. The birefringence value of the obtained optical disk substrate was 5 nm or less, and the evaluation was ◎. No abnormalities were observed by microscopic observation of the surface. No defects were found by AFM observation. High temperature and high humidity test I and I
No change in light transmittance due to I was observed. The bending strength of the test piece was 500 kgf / cm 2 or more, and the evaluation was ◎. Table 2 shows the results.

【0154】(実施例9〜12)製造例1、2、5およ
び8で製造した芳香族ビニル系重合体の水素添加物A、
B、EおよびHの夫々100部当たりに、老化防止剤
(チバガイギー社製イルガノックス1010)0.1部
のみを添加し、実施例1と同様に2軸混練機で混練し、
押し出し、ペレット化した。
(Examples 9 to 12) The hydrogenated products A of the aromatic vinyl polymers produced in Production Examples 1, 2, 5 and 8
For each 100 parts of B, E and H, only 0.1 part of an antioxidant (Irganox 1010 manufactured by Ciba Geigy) was added, and kneaded with a twin-screw kneader in the same manner as in Example 1.
Extruded and pelletized.

【0155】得られたペレットを用いて実施例1と同様
の評価を行った。結果を表2に示す。
The same evaluation as in Example 1 was performed using the obtained pellets. Table 2 shows the results.

【0156】(比較例1〜3)製造例6、7および9で
製造した芳香族ビニル系重合体の水素添加物F、G、お
よびIの夫々100部当たりに、老化防止剤(チバガイ
ギー社製イルガノックス1010)0.1部のみを添加
し、実施例1と同様に2軸混練機で混練し、押し出し、
ペレット化した。
(Comparative Examples 1 to 3) Antioxidants (manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) were added to 100 parts of each of the hydrogenated products F, G and I of the aromatic vinyl polymers produced in Production Examples 6, 7 and 9. Irganox 1010) Only 0.1 part was added, kneaded with a twin-screw kneader in the same manner as in Example 1, and extruded.
Pelletized.

【0157】得られたペレットを用いて実施例1と同様
の評価を行った。得られた光ディスク基板の複屈折値
は、比較例1は8nm、比較例2は5nm以下で評価は
○および◎であったが、比較例3では12nmで評価は
×であった。表面を顕微鏡観察した結果ではいずれも異
常は認められなかった。AFMによる観察では比較例例
2および3では欠陥は見つからなかったが、比較例1で
は5個の欠陥が認められた。高温高湿度試験Iによる光
線透過率の変化は認められなかったが、より条件の厳し
い高温高湿度試験IIではいずれも9〜20%の光線透
過率の低下が認められた。試験片の曲げ強度は比較例3
は500kgf/cm以上で評価は◎であったが、比
較例1および2ではいずれも400kgf/cmに満
たず評価は×であった。結果を表2に示す。
The same evaluation as in Example 1 was performed using the obtained pellets. The birefringence value of the obtained optical disk substrate was 8 nm in Comparative Example 1 and 5 nm or less in Comparative Example 2, and the evaluation was お よ び and ◎. In Comparative Example 3, the evaluation was 12 nm and the evaluation was ×. Microscopic observation of the surface showed no abnormality. No defects were found in Comparative Examples 2 and 3 by AFM observation, but five defects were found in Comparative Example 1. No change in light transmittance was observed in the high-temperature and high-humidity test I, but a decrease in light transmittance of 9 to 20% was observed in the more severe high-temperature and high-humidity test II. Comparative Example 3
Was 500 kgf / cm 2 or more, and the evaluation was 、. However, in Comparative Examples 1 and 2, both evaluations were less than 400 kgf / cm 2 and the evaluation was ×. Table 2 shows the results.

【0158】[0158]

【表2】 [Table 2]

【0159】(特殊成形法による成形例)本発明におい
ては、上記詳細な説明中に記載した成形材料の成形方法
として、成形時に射出成形機内を低酸素濃度状態にして
基板を成形する方法や、成形前に成形材料中の溶存酸素
濃度を小さくする処理を行った後に基板を成形する方法
を用いることができる。以下に実施例を記載する。
(Example of molding by special molding method) In the present invention, as a molding method of the molding material described in the above detailed description, a method of molding a substrate with a low oxygen concentration in an injection molding machine at the time of molding, A method of forming a substrate after performing a process for reducing the concentration of dissolved oxygen in a molding material before molding can be used. Examples will be described below.

【0160】(実施例13)(窒素ガス雰囲気での成
形) 射出成形機のホッパー部に、酸素濃度0.1容量%以下
の窒素ガスを10リットル/min.の流量で供給しな
がら行った以外は、実施例12と同様にして光ディスク
基板を得た。得られた光ディスク基板の物性を評価した
結果を以下に示す。なお、評価は実施例1〜12と同様
の評価方法を用い、評価結果の記載も実施例1〜12の
記載と同様の基準を用いた。(以下実施例14〜16に
おいて同じ。) ・機械強度(曲げ強度)は[◎]であった。 ・顕微鏡観察結果は[異常なし]であった。 ・AFM観察の結果は、欠陥数[0/50]であった。 また、実施例12の成形後の光ディスク基板の樹脂の分
子量がMw=55,000、Mw/Mn=2.08であ
ったのに対して、本実施例の場合には成形後でもMw=
78,000、分子量分布はMw/Mn=1.82であ
り、成形後の分子量低下が少なかった。
(Example 13) (Molding in Nitrogen Gas Atmosphere) Nitrogen gas having an oxygen concentration of 0.1% by volume or less was supplied at a rate of 10 liter / min. An optical disk substrate was obtained in the same manner as in Example 12, except that the supply was carried out at a flow rate of. The results of evaluating the properties of the obtained optical disk substrate are shown below. The evaluation was performed using the same evaluation method as in Examples 1 to 12, and the description of the evaluation results was also based on the same criteria as in Examples 1 to 12. (The same applies to Examples 14 to 16 below.) The mechanical strength (bending strength) was [[]. -The result of microscopic observation was [no abnormality]. The result of AFM observation was the number of defects [0/50]. Further, while the molecular weight of the resin of the optical disk substrate after molding in Example 12 was Mw = 55,000 and Mw / Mn = 2.08, in the case of this Example, even after molding, Mw = 55,000.
The molecular weight distribution was 78,000, and the molecular weight distribution was Mw / Mn = 1.82, and the decrease in molecular weight after molding was small.

【0161】(実施例14)(窒素雰囲気下で予備乾
燥) 成形前の樹脂ペレットを、内部を酸素濃度0.1容量%
以下の窒素ガスで満たした熱風乾燥器を用いて、100
℃で3時間乾燥させ、乾燥器から取り出した樹脂ペレッ
トを空気中、室温の環境下で1時間放冷した後に成形機
のホッパーに供給した以外は実施例12と同様にして光
ディスク基板を得た。 ・機械強度(曲げ強度)は[◎]であった。 ・顕微鏡観察結果は[異常なし]であった。 ・AFM観察の結果は、欠陥数[0/50]であった。 また、成形後の光ディスク基板の樹脂の分子量はMw=
76,000、分子量分布はMw/Mn=1.82であ
った。
(Example 14) (Preliminary drying under a nitrogen atmosphere) The resin pellets before molding were filled with an oxygen concentration of 0.1% by volume.
Using a hot air dryer filled with the following nitrogen gas, 100
An optical disc substrate was obtained in the same manner as in Example 12 except that the resin pellets were dried at 3 ° C. for 3 hours, and allowed to cool in the air at room temperature for 1 hour and then supplied to a hopper of a molding machine. . -The mechanical strength (bending strength) was [[]. -The result of microscopic observation was [no abnormality]. The result of AFM observation was the number of defects [0/50]. The molecular weight of the resin of the optical disk substrate after molding is Mw =
76,000, and the molecular weight distribution was Mw / Mn = 1.82.

【0162】(実施例15)(減圧下で予備乾燥) 成形前の樹脂ペレットを、真空乾燥器を用いて、1to
rr、100℃で2時間乾燥させ、乾燥器から取り出し
た樹脂ペレットを空気中、室温の環境下で1時間放冷し
た後に成形機のホッパーに供給した以外は実施例12と
同様にして光ディスク基板を得た。 ・機械強度(曲げ強度)は[◎]であった。 ・顕微鏡観察結果は[異常なし]であった。 ・AFM観察の結果は、欠陥数[0/50]であった。 また、成形後の光ディスク基板の樹脂の分子量はMw=
79,000、分子量分布Mw/Mn=1.78であっ
た。
(Example 15) (Preliminary drying under reduced pressure) The resin pellets before molding were subjected to 1 ton using a vacuum dryer.
The optical disc substrate was dried in the same manner as in Example 12 except that the resin pellets were dried at rr and 100 ° C. for 2 hours, allowed to cool in air at room temperature for 1 hour, and then supplied to a hopper of a molding machine. I got -The mechanical strength (bending strength) was [[]. -The result of microscopic observation was [no abnormality]. The result of AFM observation was the number of defects [0/50]. The molecular weight of the resin of the optical disk substrate after molding is Mw =
79,000, molecular weight distribution Mw / Mn = 1.78.

【0163】(実施例16)(窒素下で予備乾燥+窒素
下で成形) 成形前の樹脂ペレットを、内部を酸素濃度0.1容量%
以下の窒素ガスで満たした熱風乾燥器を用いて、100
℃で3時間乾燥させ、乾燥器から取り出した樹脂ペレッ
トを直ちに成形機のホッパーに供給し、さらに射出成形
機のホッパー部に、酸素濃度0.1容量%以下の窒素ガ
スを10・/min.の流量で供給しながら行った以外
は実施例12と同様にして光ディスク基板を得た。 ・機械強度(曲げ強度)は[◎]であった。 ・顕微鏡観察結果は[異常なし]であった。 ・AFM観察の結果は、欠陥数[0/50]であった。 また、成形後の光ディスク基板の樹脂の分子量はMw=
91,000、分子量分布Mw/Mn=1.65であっ
た。
(Example 16) (Pre-drying under nitrogen + molding under nitrogen) The resin pellets before molding were prepared such that the inside had an oxygen concentration of 0.1% by volume.
Using a hot air dryer filled with the following nitrogen gas, 100
C. for 3 hours, immediately supply the resin pellets taken out of the dryer to a hopper of a molding machine, and further feed a nitrogen gas having an oxygen concentration of 0.1% by volume or less to the hopper of the injection molding machine at a rate of 10 · / min. An optical disk substrate was obtained in the same manner as in Example 12, except that the supply was carried out at a flow rate of. -The mechanical strength (bending strength) was [[]. -The result of microscopic observation was [no abnormality]. The result of AFM observation was the number of defects [0/50]. The molecular weight of the resin of the optical disk substrate after molding is Mw =
91,000, molecular weight distribution Mw / Mn = 1.65.

【0164】(コート剤の使用例)本発明においては、
得られた基板を情報記録媒体として使用する際に、保護
コート剤を使用するのが好ましい。以下に、本発明の光
ディスク基板に、上記好ましい保護コート剤を使用した
例を比較例とともに示す。なお、保護コート膜の評価方
法を以下に記載する。
(Example of use of coating agent) In the present invention,
When using the obtained substrate as an information recording medium, it is preferable to use a protective coating agent. Hereinafter, an example in which the above-mentioned preferable protective coating agent is used for the optical disk substrate of the present invention will be described together with comparative examples. The method for evaluating the protective coat film is described below.

【0165】(11)表面電気抵抗値はJIS K−6
911に従って測定した。 (12)硬化収縮の評価は、ディスク基板の片面に保護
コート剤を塗布・乾燥し、紫外線照射して硬化させた後
に保護コート層を設けた面を上に向けて、基板の中心を
水平面に固定した場合に、基板の最外周と基板の中心を
結ぶ直線と水平面とでなす角度を測定し、その角度で硬
化収縮の大きさを示した。 (13)表面硬度(鉛筆硬度)はJIS K−5400
に従って、1kgの荷重で測定した。 (14)密着性評価(碁盤目剥離試験):基板表面に形
成された保護コート層の上から、カッターナイフにより
1mm間隔で縦、横各11本の切れ目を入れて1mm四
方の碁盤目を100個作り、セロハン粘着テープ(積水
化学社製)を貼る。次いで粘着テープを90゜方向に引
き剥がして、保護コート層が剥離しなかった目の数を%
で示した。 (15)高温高湿度試験は、恒温恒湿度試験器内65
℃、90%相対湿度の環境下に光ディスクを500時間
放置した後に試験器外に取り出して、金属記録膜の状態
を観察して評価した。
(11) Surface electric resistance value is JIS K-6
911. (12) The evaluation of curing shrinkage is performed by applying a protective coating agent to one side of the disk substrate, drying the coating, irradiating the substrate with ultraviolet light, and curing the disk substrate. When fixed, the angle between the horizontal plane and the straight line connecting the outermost periphery of the substrate and the center of the substrate was measured, and the degree of cure shrinkage was indicated by the angle. (13) Surface hardness (pencil hardness) is JIS K-5400
Was measured at a load of 1 kg. (14) Adhesion evaluation (cross-cut peeling test): 11 cuts each in the vertical and horizontal directions were made at intervals of 1 mm with a cutter knife from the top of the protective coat layer formed on the substrate surface to obtain a 1-mm square cross-cut of 100. Make individual pieces and attach cellophane adhesive tape (Sekisui Chemical Co., Ltd.). Next, the adhesive tape was peeled off in the direction of 90 °, and the number of eyes where the protective coat layer was not peeled was%.
Indicated by (15) The high-temperature and high-humidity test is performed in a constant temperature and humidity tester 65
After leaving the optical disk for 500 hours in an environment of 90 ° C. and 90% relative humidity, the optical disk was taken out of the tester, and the state of the metal recording film was observed and evaluated.

【0166】(実施例17)n−ブチルアクリレート1
0重量部。イソアミルアクリレート28重量部、トリメ
チロールプロパントリアクリレート30重量部、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート42重量部、及び
光重合開始剤(チバガイギー製、イルガキュアー65
1)5重量部を混合して、さらにノニオン系帯電防止剤
(東邦化学製、アンスティックスSA−300)2重量
部、及びフッ素系ノニオン界面活性剤(住友スリーエム
社製、フロラードFC−171)を500ppmになる
ように添加し、紫外線硬化性コート剤を調整した。
Example 17 n-butyl acrylate 1
0 parts by weight. 28 parts by weight of isoamyl acrylate, 30 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate, 42 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, and a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Geigy, Irgacure 65
1) 5 parts by weight are mixed, and 2 parts by weight of a nonionic antistatic agent (manufactured by Toho Kagaku, Anstics SA-300); and a fluorinated nonionic surfactant (Fluorad FC-171, manufactured by Sumitomo 3M) Was added so as to be 500 ppm to prepare an ultraviolet curable coating agent.

【0167】実施例1で得られた基板に、日電アネルバ
製ILC−3000を使用して記録膜層の形成を行っ
た。記録膜層の構成は、SiN 100nm,TbFe
Co30nm,SiN 40nm,Al 40nmであ
る。記録膜層は最外周部の幅1.0mmと、内周部で溝
の外側の幅2.0mmには設けなかった。
On the substrate obtained in Example 1, a recording film layer was formed using ILC-3000 manufactured by Nidec Anelva. The configuration of the recording film layer is SiN 100 nm, TbFe
Co is 30 nm, SiN is 40 nm, and Al is 40 nm. The recording film layer was not provided with a width of 1.0 mm at the outermost periphery and a width of 2.0 mm outside the groove at the inner periphery.

【0168】得られた紫外線硬化性コート剤をスピンコ
ーター(5000rpm、10秒)で、上記で得た基板
に塗布し、10分間室温で放置し、十分に乾燥した。乾
燥後の紫外線硬化性コート剤の膜の厚さは6μmであっ
た。この基板に80mWの高圧水銀ランプによる紫外線
照射(基板表面上のピーク照射強度:150mW/cm
、積算光量1500mJ/cm、照射時間10秒)
を行い、紫外線硬化性コート剤を硬化させ、ハードコー
ト層を形成した。
The obtained ultraviolet curable coating agent was applied to the substrate obtained above using a spin coater (5000 rpm, 10 seconds), left at room temperature for 10 minutes, and dried sufficiently. The thickness of the dried ultraviolet curable coating agent film was 6 μm. The substrate was irradiated with ultraviolet light from a high-pressure mercury lamp of 80 mW (peak irradiation intensity on the substrate surface: 150 mW / cm).
2 , integrated light amount 1500 mJ / cm 2 , irradiation time 10 seconds)
To cure the ultraviolet curable coating agent to form a hard coat layer.

【0169】表面電気抵抗値は9.1×1012Ωであ
った。硬化収縮の大きさは3ミリラジアン、コートされ
た基板表面の硬度は鉛筆硬度で3Hであった。反り応力
試験の結果、クラックの発生はなかった。碁盤目剥離試
験の結果は98%、80℃、90%RH、500時間の
高温高湿耐久試験後でも94%であった。また、高温高
湿試験後の記録膜層には異常は観察されなかった。
The surface electric resistance was 9.1 × 10 12 Ω. The degree of cure shrinkage was 3 milliradians, and the hardness of the coated substrate surface was 3H in pencil hardness. As a result of the warp stress test, no crack was generated. The result of the cross-cut peel test was 98%, and was 94% even after a high-temperature high-humidity endurance test at 80 ° C., 90% RH and 500 hours. No abnormality was observed in the recording film layer after the high temperature and high humidity test.

【0170】(実施例18)n−ブチルアクリレート5
重量部。イソアミルアクリレート32重量部、ネオペン
チルグリコールジアクリレート20重量部、ジペンタエ
リストールヘキサアクリレート48重量部、及び光重合
開始剤(チバガイギー製、イルガキュアー651)5重
量部を混合して、さらにフッ素系ノニオン界面活性剤
(住友スリーエム社製、フロラードFC−171)を5
00ppmになるように添加して、コート剤を調整し、
その紫外線硬化性コート剤を用いて前記実施例16と同
様にコート層を形成した。表面電気抵抗値は3.3×1
15Ωであった。硬化収縮の大きさは4ミリラジア
ン、コートされた基板表面の硬度は鉛筆硬度で3Hであ
った。基板に反り応力を加えた時のクラックの発生はな
かった。碁盤目剥離試験の結果は95%で、80℃、9
0%RH、500時間の高温高湿耐久試験後でも94%
であった。また、高温高湿試験後における記録膜層には
異常は観察されなかった。
(Example 18) n-butyl acrylate 5
Parts by weight. 32 parts by weight of isoamyl acrylate, 20 parts by weight of neopentyl glycol diacrylate, 48 parts by weight of dipentaerythrol hexaacrylate, and 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 651 manufactured by Ciba Geigy) were mixed, and further, a fluorine-based nonion was mixed. 5 surfactant (Sumitomo 3M, Florade FC-171)
Add to 00ppm, adjust the coating agent,
A coat layer was formed in the same manner as in Example 16 using the ultraviolet curable coating agent. Surface electric resistance value is 3.3 × 1
0 15 Ω. The curing shrinkage was 4 milliradians, and the hardness of the coated substrate surface was 3H in pencil hardness. No crack was generated when a warp stress was applied to the substrate. The result of the cross-cut peel test was 95%, 80 ° C, 9
0% RH, 94% even after high-temperature, high-humidity endurance test for 500 hours
Met. No abnormality was observed in the recording film layer after the high temperature and high humidity test.

【0171】(比較例4)紫外線硬化性コート剤とし
て、市販のアクリル系コート剤(SD−17、大日本イ
ンキ化学工業製)を用いるほかは、実施例16と同様に
基板にコート層を形成した。
Comparative Example 4 A coat layer was formed on a substrate in the same manner as in Example 16 except that a commercially available acrylic coating agent (SD-17, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was used as the ultraviolet-curing coating agent. did.

【0172】表面電気抵抗値は5.3×1015Ωであ
った。硬化収縮率は3ミリラジアン、コートされた基板
表面の硬度は鉛筆硬度で2Hであった。基板に反り応力
試験の結果クラックの発生はなかった。碁盤目剥離試験
の結果は61%、さらに、80℃、90%RH、500
時間の高温高湿耐久試験後においては、21%であっ
た。また、高温高湿試験後において、記録膜層に腐食が
発生しているのが確認された。
The surface electric resistance was 5.3 × 10 15 Ω. The curing shrinkage was 3 milliradians, and the hardness of the coated substrate surface was 2H in pencil hardness. As a result of the warp stress test, no crack was generated on the substrate. The result of the cross-cut peel test was 61%, and further, 80 ° C., 90% RH, 500%
After 21 hours of high temperature and high humidity endurance test, it was 21%. After the high-temperature and high-humidity test, it was confirmed that corrosion occurred in the recording film layer.

【0173】[0173]

【発明の効果】本発明によれば、十分小さな複屈折を示
し、且つ、機械強度にも優れた情報記録媒体基板として
好適な成形材料、及びその成形材料を成形した情報記録
媒体基板が提供される。また、十分小さな複屈折を示
し、且つ、機械強度にも優れ、さらに高温高湿環境下に
おける白濁防止や記録膜の耐久性などの耐湿性、表面平
滑性等に優れる成形物の成形が可能な成形加工性にも優
れた情報記録媒体基板用成形材料として好適な新規な芳
香族ビニル系重合体水素添加物、及び該芳香族ビニル系
重合体水素添加物からなる樹脂組成物が提供される。本
発明の情報記録媒体基板は、小さな複屈折、機械強度、
耐湿性、成形加工性が要求される情報記録媒体の分野に
おいて、特に光磁気ディスクやデジタルビデオディスク
(DVD)用等の基板として有用である。また本発明の
新規物質は、成形材料として優れた特性を有しているの
で、情報記録媒体分野だけでなく光学分野、(医療品、
化粧品などの)容器分野、電気絶縁分野及びその他の分
野においても有用である。
According to the present invention, there is provided a molding material which exhibits a sufficiently small birefringence and is suitable as an information recording medium substrate having excellent mechanical strength, and an information recording medium substrate formed by molding the molding material. You. In addition, it can exhibit a sufficiently small birefringence, and is excellent in mechanical strength, and can be formed into a molded article excellent in moisture resistance such as prevention of white turbidity and durability of a recording film in a high temperature and high humidity environment, surface smoothness, and the like. A novel aromatic vinyl polymer hydrogenated product suitable as a molding material for an information recording medium substrate having excellent moldability and a resin composition comprising the aromatic vinyl polymer hydrogenated product are provided. The information recording medium substrate of the present invention has a small birefringence, mechanical strength,
It is particularly useful as a substrate for a magneto-optical disk, a digital video disk (DVD), or the like in the field of an information recording medium that requires moisture resistance and moldability. Further, the novel substance of the present invention has excellent properties as a molding material, so that it can be used not only in the information recording medium field but also in the optical field, (medical products,
It is also useful in the container field (for cosmetics, etc.), electrical insulation and other fields.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村上 俊秀 神奈川県川崎市川崎区夜光一丁目2番1号 日本ゼオン株式会社総合開発センター内 Fターム(参考) 4J002 BB033 BB123 BB173 BC031 BC051 BC061 BC063 BC071 BC081 BC091 BC111 BD043 BE023 BE063 BF023 BG103 BG133 CH022 CH023 CH052 DD036 DE096 DE136 DE236 DF016 DG046 DH046 DK006 FD013 FD016 FD202 FD203 FD206 4J100 AA02Q AA03Q AB02P AB03P AB04P AB07P AJ02Q AK32Q AL03Q AM02Q AM03Q AM48Q AS01Q AS02Q AS03Q AS04Q BB01P BB01Q BB07P CA04 CA31 DA01 DA04 FA03 HA05 HB17 HC84 HC89 HC90 5D029 KA13 KC07  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Toshihide Murakami 1-2-1 Yoko, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa F-term in the Zeon Corporation General Development Center 4J002 BB033 BB123 BB173 BC031 BC051 BC061 BC063 BC071 BC081 BC091 BC111 BD043 BE023 BE063 BF023 BG103 BG133 CH022 CH023 CH052 DD036 DE096 DE136 DE236 DF016 DG046 DH046 DK006 FD013 FD016 FD202 FD203 FD206 4J100 AA02Q AA03Q AB02P AB03P AB04P AB07P AJ02Q AK32Q AL03Q AM02Q AM03Q AM48Q AS01Q AS02Q AS03Q AS04Q BB01P BB01Q BB07P CA04 CA31 DA01 DA04 FA03 HA05 HB17 HC84 HC89 HC90 5D029 KA13 KC07

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 芳香族ビニル系重合体を水素添加して得
られる、芳香環の水素添加率が97%以上で、重量平均
分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/
Mn)が2.0以下、重量平均分子量(Mw)が10
0,000〜300,000であり、分子量(M)1
0,000以下の成分が重合体全重量中2重量%以下で
ある水素化重合体。
An aromatic vinyl polymer obtained by hydrogenating an aromatic vinyl polymer has a hydrogenation rate of an aromatic ring of 97% or more, and a ratio (Mw / Mw) between a weight average molecular weight (Mw) and a number average molecular weight (Mn).
Mn) is 2.0 or less and the weight average molecular weight (Mw) is 10
000-300,000 and a molecular weight (M) of 1
A hydrogenated polymer having a content of not more than 000 and not more than 2% by weight based on the total weight of the polymer.
【請求項2】 請求項1に記載の水素化重合体に、白濁
防止剤を配合してなる樹脂組成物。
2. A resin composition comprising the hydrogenated polymer according to claim 1 and an anti-clouding agent.
【請求項3】 芳香族ビニル系重合体を水素添加して得
られる、芳香環の水素添加率が97%以上で、重量平均
分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/
Mn)が2.0以下であり、重量平均分子量(Mw)が
100,000〜300,000である水素化重合体か
らなる情報記録媒体基板用成形材料。
3. A hydrogenation rate of an aromatic ring obtained by hydrogenating an aromatic vinyl-based polymer is 97% or more, and a ratio (Mw / Mw) between a weight average molecular weight (Mw) and a number average molecular weight (Mn) is obtained.
A molding material for an information recording medium substrate comprising a hydrogenated polymer having a Mn of 2.0 or less and a weight average molecular weight (Mw) of 100,000 to 300,000.
【請求項4】 請求項1に記載の水素化重合体又は請求
項2に記載の樹脂組成物からなる成形材料。
4. A molding material comprising the hydrogenated polymer according to claim 1 or the resin composition according to claim 2.
【請求項5】 請求項3又は請求項4いずれかに記載の
成形材料を成形してなる情報記録媒体基板。
5. An information recording medium substrate obtained by molding the molding material according to claim 3 or 4.
JP34616798A 1998-12-04 1998-12-04 Hydrogenated polymer, resin composition, and molding material for information recording medium substrate Expired - Lifetime JP4336910B2 (en)

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JP34616798A JP4336910B2 (en) 1998-12-04 1998-12-04 Hydrogenated polymer, resin composition, and molding material for information recording medium substrate
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