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JP2000161958A - 地中掘進機の位置計測装置 - Google Patents

地中掘進機の位置計測装置

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Publication number
JP2000161958A
JP2000161958A JP34188898A JP34188898A JP2000161958A JP 2000161958 A JP2000161958 A JP 2000161958A JP 34188898 A JP34188898 A JP 34188898A JP 34188898 A JP34188898 A JP 34188898A JP 2000161958 A JP2000161958 A JP 2000161958A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
measurement
light source
measuring
point
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP34188898A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiaki Shimomura
義昭 下村
Takashi Moro
茂呂  隆
Takeshi Kamei
亀井  健
Yasushi Minomoto
泰 美野本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Construction Machinery Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Construction Machinery Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Construction Machinery Co Ltd filed Critical Hitachi Construction Machinery Co Ltd
Priority to JP34188898A priority Critical patent/JP2000161958A/ja
Publication of JP2000161958A publication Critical patent/JP2000161958A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Excavating Of Shafts Or Tunnels (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 計測の際に光を位置検出素子に当てる操作を
要せず、機械的な計測誤差や振動による計測誤差が生じ
にくい地中掘進機の位置計測装置を提供する。 【解決手段】 計測基点、第二の計測基点、一つ以上の
中間計測点及び被計測点を順次設定して計測基点に光源
を設置するとともに、前方、後方の光源41,42から
の拡散光を集光する共通のレンズ411とこの集光した
光の受光位置を検出する位置検出素子412−2,41
2−1とレンズに入射しようとする拡散光を透過しレン
ズで集光した光を各位置検出素子に導く反射プリズム4
13−1,413−2と各反射プリズムで拡散光が前
方、後方に向けられる光源41,42とを有する計測ユ
ニット300を第二の計測基点以降の各計測点に設置
し、予め計測した第二の計測基点の位置と各計測ユニッ
トでの検出結果と別途計測した各計測ユニット間の距離
に基づいて計測基点に対する被計測点の位置を計測す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、曲線経路を掘進す
る地中掘進機における掘進位置の計測に用いられる地中
掘進機の位置計測装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】地下坑を掘削しながら地中を掘進する地
中掘進機でカーブした地下坑を掘削するには、地中掘進
機が計画路線(予め設定された掘進経路)に沿って正し
く掘進しているかどうかを知るため、その掘進位置を確
認しなければならない。この種の地中掘進機としては、
人が入れない小口径の管を地中に埋設する小口径管推進
機、人が入れる大口径の管を地中に埋設するセミシール
ド機さらにはシールド掘進機を挙げることができる。
【0003】地中掘進機の掘進位置を確認するには、通
常、発進立坑等の地中掘進機の掘進の出発点となる地点
及び地中掘進機内にそれぞれ計測基点及び被計測点を設
定するとともに、地中掘進機の掘進の進展に応じてこれ
らの中間位置の掘進経路上に適宜中間計測点を設定す
る。そして、後に詳述するように、これらの計測点間の
各距離を計測するほか、中間計測点とこれに隣接する両
側の計測点とをそれぞれ結ぶ二つの線分同士の角度を順
次計測し、これらの計測結果に基づいて地中掘進機の掘
進位置を演算により求めるようにしている。こうした所
定の計測点を頂点とする二つの線分同士の角度を計測す
るには、両線分同士の内角及び外角の何れを計測しても
よく、その角度関係を一義的に特定できるような角度に
関する値が計測できればその目的が果たせる。この明細
書では、このような二つの線分同士の角度関係を特定し
得るような角度に関する値を偏角と称している。
【0004】地中掘進機の位置計測においては、これま
で、こうした偏角を計測するのに、トランシットを用い
て計測する方法が一般的に採用されている。このトラン
シットによる偏角の計測方法は、人的能力に依存する方
法であるため、熟練技術者等人手を要するだけでなく一
回の測量時間が長くなる。さらに、手狭な坑内で測量し
なければならないため、測量作業に多大の労力と危険が
伴う。こうした問題に対応して、従来、この種の地中掘
進機の掘進位置計測技術として、掘進位置の計測の際
に、偏角をトランシットによらないでレーザビームで光
学的に計測する方法を採り入れたものがある。
【0005】こうした方法を採り入れた地中掘進機の掘
進位置計測技術の代表例として、例えば特開平5ー34
0186号公報に記載された技術を挙げることができ
る。この特開平5ー340186号公報に記載の技術
(以下「従来の技術」という。)は、「カーブする地下
坑内に設定される後方視準点の前方に、測角機能を有す
るレーザ照準機を設置し、シールド掘進機内に、ミニ反
射プリズムを付設した位置検出素子(光電素子)のター
ゲットを設置するとともに、これらの中間位置には、レ
ーザ照準機からのレーザビームを屈折させ屈折させたレ
ーザビームの方向転角を計測できる距離儀付きのウエッ
ジプリズムを、地中掘進機の掘進の進展に応じて適当数
設置するようにした」ものである。
【0006】この従来の技術により地中掘進機の掘進位
置を計測するときは、ウエッジプリズムを遠隔操作で回
動させることにより、レーザ照準機からのレーザビーム
を、ウエッジプリズムを介してシールド掘進機内のター
ゲットに常に当てるようにする。そうすると、ウエッジ
プリズムを経由したレーザ照準機からのレーザビームが
ターゲットの位置検出素子に当てられるため、レーザス
ポットの位置が検出されるとともに、ウエッジプリズム
の設置点の偏角がウエッジプリズムの回動量により計測
され、また、各計測点間の距離がウエッジプリズムの距
離儀により計測される。従来の技術では、こうして得ら
れた各計測点間の距離、偏角及びレーザスポットの位置
に基づいて地中掘進機の掘進位置を座標位置により計測
する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】このように、この従来
の技術は、収束度の高いレーザ光であるレーザビームを
位置検出素子に当てるようにウエッジプリズムを回動さ
せて、その回転量によりウエッジプリズムの設置点の偏
角を計測するようにしている。そのため、地中掘進機の
掘進位置を計測する際、レーザビームをレーザビームの
位置検出素子に的確に当てるようにウエッジプリズムを
回転させる操作を要して操作が複雑であるばかりでな
く、ウエッジプリズムを回転させるための回転機構を要
し、これに伴って種々の問題がもたらされることとな
る。例えば、回動機構を要するために機械的な計測誤差
が生じやすく、光学的な誤差に機械的な誤差が加わって
高い計測精度を確保することが困難であるとともに、レ
ーザ照準機が外力によりピッチングやヨーイング方向に
振動すると、大きな計測誤差が生じる。特に、地中掘進
機の掘進位置の計測では、偏角の計測結果が掘進位置の
計測結果に及ぼす度合いが大きいことに加えて、緩やか
なカーブをなす場所の偏角を計測する機会が多く、偏角
を精度よく計測する必要性が高いことから、回動機構に
よる機械的な計測誤差や振動による計測誤差が生じる
と、地中掘進機の掘進位置の計測結果に多大な影響を及
ぼす。
【0008】本発明は、こうした従来の技術にみられる
問題を解消しようとするものであって、その技術課題
は、地中掘進機の掘進位置計測の際に光を位置検出素子
に当てる操作を要せず、機械的な計測誤差や振動による
計測誤差が生じにくい地中掘進機の位置計測装置を提供
することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明のこうした技術課
題は、「地下坑を掘削しながら地中を掘進する地中掘進
機の掘進位置の計測に用いられ、掘進方向前方に配置し
その掘進位置の指標となる被計測点の位置を、掘進方向
後方に配置し計測の基点となる計測基点との位置関係で
計測する地中掘進機の位置計測装置」を構成する場合、
「前方に拡散光を発し計測基点を設定する計測基点設定
用の光源と、前方に拡散光を発する光源と前方及び後方
の光源からの拡散光の少なくとも一部をそれぞれ集光す
る集光手段と集光手段でそれぞれ集光した各光源からの
光をそれぞれ受光してその受光位置を検出する各位置検
出素子とを有し計測基点設定用の光源と隣合うように前
方に配置されて第二の計測基点を設定する第二基点計測
ユニットと、後方に拡散光を発する光源と後方の光源か
らの拡散光の少なくとも一部を集光する集光手段と集光
手段で集光した光源からの光を受光してその受光位置を
検出する位置検出素子とを有し被計測点を設定する被測
点計測ユニットと、前方及び後方に拡散光を発する各光
源と前方及び後方の光源からの拡散光の少なくとも一部
をそれぞれ集光する集光手段と集光手段でそれぞれ集光
した各光源からの光をそれぞれ受光してその受光位置を
検出する各位置検出素子とを有し第二基点計測ユニット
と被測点計測ユニットとの間に配置される少なくとも一
つの中間計測ユニットとを設けて構成し、予め求めた計
測基点に対する第二の計測基点の位置に関するデータと
第二基点計測ユニット及び中間計測ユニットでの検出結
果に基づいて得られる各光源の方向に関するデータと隣
合う各計測ユニット間の距離に関するデータとに基づい
て、計測基点に対する被計測点の相対位置を演算装置で
演算して計測するようにした」ことにより達成される。
【0010】本発明の地中掘進機の位置計測装置は、こ
うした技術手段を採用したことにより、第二基点計測ユ
ニット及び中間計測ユニットは、前方及び後方の各光源
から拡散光を集光手段でそれぞれ集光し、その集光した
各光源からの光を各位置検出素子でそれぞれ受光してそ
の受光位置を検出することにより、前方及び後方の各光
源の方向を検出することができる。また、被測点計測ユ
ニットは、後方の光源から拡散光を集光手段で集光し、
同様にして後方の光源の方向を検出することができる。
その場合、光源として、特に拡散光を発することのでき
る光源を用いて拡がりをもつ光で広い領域を照らせるよ
うにしているため、光源にレーザビームを用いる従来の
技術のように光源からの光を位置検出素子に当てるため
の操作をしなくても済み、ひいては、その操作を可能に
するための回転機構を設ける必要がなく、その回転機構
に起因する機械的な計測誤差も生じない。
【0011】また、第二基点計測ユニット及び中間計測
ユニットにおいては、集光した各光源からの光の受光位
置を各位置検出素子で検出することにより前方及び後方
の双方の光源の方向を検出するようにしているため、そ
の検出された各光源の方向に基づいて、地中掘進機の位
置計測に有用な各光源の光軸同士の偏角を求めることが
できる。この偏角は、第二基点計測ユニット及び中間計
測ユニットや光源がピッチング方向やヨーイング方向に
変位しても変動しないので、これらの計測ユニットが外
力によりピッチング方向やヨーイング方向に振動しても
計測誤差が生じにくい。また、こうしたことから、第二
基点計測ユニット及び中間計測ユニットを計測点に取り
付ける際、位置設定さえ正確に行えば、取付姿勢が不統
一であっても、その取付姿勢の影響を受けることなく地
中掘進機の掘進位置を正しく計測することができる。一
方、被測点ユニットでは、後方の光源からの光の受光位
置を位置検出素子で検出することによりその後方の光源
の方向を検出して、掘削機のピッチング方向及びヨーイ
ング方向の姿勢を検出することができる。
【0012】本発明の地中掘進機の位置計測装置では、
特に、第二の計測基点を設定する第二基点計測ユニット
を設けて、これと隣合うように計測基点設定用の光源を
計測基点に設けるようにしたため、拡散光での計測の出
発点である第二の計測基点でも、前方及び後方の双方の
光源の方向を検出することができて、計測ユニットの取
付姿勢に影響されない偏角を計測することができる。そ
の結果、最初の計測ユニットである第二基点計測ユニッ
トについて、本来必要な取付姿勢の調整を行わなくて
も、第二の計測基点以降での各計測ユニットによる計測
を正常に行うことができる。そして、こうして得られる
データと予め求めた計測基点に対する第二の計測基点の
位置に関するデータとを併用して計測基点に対する被計
測点の相対位置を計測するようにしているので、高い精
度で簡便に計測することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明が実際上どのように
具体化されるのかを示す具体化例を図1乃至図4に基づ
いて説明することにより、本発明の実施の形態を明らか
にする。図1は、本発明の具体化例の地中掘進機の位置
計測装置により地中掘進機の掘進位置を計測している状
態の全体像を概略的に示す図、図2は、図1の地中掘進
機の位置計測装置に使用する中間計測ユニットの例を示
す斜視図、図3は、図2の中間計測ユニットを用いて地
中掘進機の掘進位置を計測するときの態様を部分的に示
す斜視図、図4は、図1の地中掘進機の位置計測装置で
地中掘進機の掘進位置を演算する基本的な手法を説明す
るための概念図である。
【0014】本発明の地中掘進機の位置計測装置では、
地中掘進機の掘進位置の指標となる被計測点の位置を計
測の基点となる計測基点との位置関係で計測する。その
使用態様の一例を図1に基づいて概説する。1は地中掘
進機の主要部をなす掘削機、2はシールド掘進機で掘削
した坑道又は管推進機で掘削した管渠等の地下坑、3は
地中掘進機の掘進の出発点となる発進立坑、4は後述す
る計測基点設定用の光源100、第二基点計測ユニット
200、中間計測ユニット300−1〜300−3、被
測点計測ユニット400及びトータルステーション50
0とそれぞれ通信ラインで接続され地中掘進機の掘進位
置を演算する中央演算処理装置、5は中央演算処理装置
4での演算結果やその演算結果に基づいて得られる情報
をオペレータの操縦の便のために数値やグラフで表示す
る表示装置である。掘削機1は、管推進機及びシールド
掘進機等、地下坑を掘削しながら地中を掘進する地中掘
進機の掘削機であれば、何れのものでもよい。地下坑2
は、管推進機であれば、ヒューム管、鋼管等の埋設管で
坑壁が形成され、シールド掘進機であれば、鋼製又はコ
ンクリート製のセグメントで坑壁が形成される。
【0015】100は前方に拡散光を発し計測基点を設
定する計測基点設定用の光源、200は地下坑2内にこ
の光源100と隣合うように前方に配置され第二の計測
基点を設定する第二基点計測ユニット、300−1〜3
00−3は地下坑2内における第二基点計測ユニット2
00と後記被測点計測ユニット400との間に設定され
た中間計測点に配置される中間計測ユニット、400は
被計測点を設定する被測点計測ユニット、500は計測
基点に対する第二の計測基点の相対位置を計測するため
の測角・測距機能を備えたトータルステーションであ
る。中間計測ユニットは、地中掘進機の掘進の進展に応
じて一つ以上所望の数配置するが、ここでは、説明の便
宜上、三つの中間計測ユニット300−1〜300−3
を配置した例を示している。これらの中間計測ユニット
300−1〜300−3は、特に区別しないときや総称
するときには符号300を付けて表す。第二基点計測ユ
ニット200、中間計測ユニット300及び被測点計測
ユニット400は、大別すると、隣合う計測ユニットに
対して拡散光を発する光源と、隣合う計測ユニットの光
源乃至は計測基点設定用の光源100から拡散光を受け
てその光の方向を検出するように構成された光源方向検
出手段とからなっていて、何れも基本的な構造は変わら
ない。
【0016】地中掘進機の掘進位置を光で計測する場
合、その計測の基点となる計測基点と掘進中の地中掘進
機の現在位置を表す指標となり得るような被計測点を設
定する必要があるが、計測基点設定用の光源100は、
計測基点を設定する役割を果たし、被測点計測ユニット
400は、被計測点を設定する役割を果たす。計測基点
設定用の光源100は、通常、発進立坑3に設置し、被
測点計測ユニット400は、通常、掘削機1(シールド
工事ではシールド掘進機、管推進工事では先導体)にそ
れぞれ設置する。従来は、計測点として計測基点、中間
計測点及び被計測点を設定していたが、本発明では、特
に拡散光により光源の方向を検出する独自の構成を採用
していることとの関連上、これらの計測点のほか、計測
基点と隣合うように前方に特に第二の計測基点を新たに
設定し、これに関連して計測基点設定用の光源100、
第二基点計測ユニット200及びトータルステーション
500を設けることにより、後に詳述するように計測精
度の一層の向上が図れるようにしている。第二基点計測
ユニット200は、拡散光により光源の方向を検出する
ための計測基点となる第2の計測基点を設定する役割を
果たす。
【0017】前述したように、各計測ユニット200,
300,400は、何れも基本的な構造は変わらないの
で、各計測ユニット200,300,400を代表して
中間計測ユニット300の構造を図2及び図3に基づい
て説明し、併せて、他の計測ユニット200,400の
構造も明らかにする。まず、この中間計測ユニット30
0の概要を、図3中の中間計測ユニット300(k)を
例にして説明する。図3において、中間計測ユニット3
00(K)は、第二基点計測ユニット200から数えて
K番目の計測ユニットを表し、中間計測ユニット300
(K+1)、300(K−1)は、これと隣合う前後の
中間計測ユニットを表わす。中間計測ユニット300
(k)は、前方の中間計測ユニット300(k+1)及
び後方の中間計測ユニット300(k−1)に対してそ
れぞれ拡散光を発する前方光源41及び後方光源42
と、隣合う前方の中間計測ユニット300(k+1)の
後方光源42及び後方の中間計測ユニット300(k−
1)の前方光源41から拡散光を受けて各光源42,4
1の方向を検出するための、レンズ411、位置検出素
子412−1,412−2及び反射プリズム413−
1,413−2を有する光源方向検出手段とでユニット
をなすように構成されている。また、他の中間計測ユニ
ット300(K+1)、300(K−1)も同様に構成
されている。
【0018】次に、図2に基づいて中間計測ユニット3
00の詳細を説明すると、411は前方の計測ユニット
の後方光源42及び後方の計測ユニットの前方光源41
の拡散光をそれぞれ集光する(収束させて集める)両光
源41,42に共通の集光手段としてのレンズ、412
−1は、このレンズ411で集められた後方の計測ユニ
ットの前方光源41からの拡散光を受光しその受光位置
を検出する光センサとしての位置検出素子、412−2
はレンズ411で集められた前方の計測ユニットの後方
光源42からの拡散光を受光しその受光位置を検出する
同様の位置検出素子、413−1はレンズ411で集光
する後方の計測ユニットの前方光源41からの拡散光を
位置検出素子412−1に導くように光の方向を転換す
る光方向転換手段としての反射プリズム、413−2は
レンズ411で集光する前方の計測ユニットの後方光源
42からの拡散光を位置検出素子412−2に導くよう
に光の方向を転換する同様の反射プリズムである。
【0019】中間計測ユニット300は、大別すると、
以上述べた光源41,42とレンズ411と位置検出素
子412−1,412−2と反射プリズム413−1,
413−2とで構成される。光源41,42には、例え
ば発光ダイオードのような拡散光を発するいわゆる点光
源のようなものを用いる。すなわち、レーザビームのよ
うな収束度の高い光線を発するものは用いることができ
ないが、基本的には、微小なエリアから放射状に拡がる
拡散光を発するようなものであれば、設計上、適宜選択
して使用することができる。
【0020】位置検出素子412−1及び位置検出素子
412−2は、隣合う計測ユニットの後方光源42及び
前方光源41からレンズ411に入射しようとする拡散
光を遮断しない位置にそれぞれ配置することとする。こ
こに示す例では、位置検出素子412−1は、その受光
面をレンズ411の光軸C(レンズ411の中心を通り
これに直交する軸線)と直交する方向に向けて側方に配
置し、位置検出素子412−2は、その受光面をレンズ
411の光軸Cと直交する方向に向けて上方に配置して
いる。位置検出素子412−1,412−2には、フォ
トダイオードをマトリックス状に配置したMOS型撮像
素子やCCD(Charge−Coupled−Dev
ice)撮像素子等の二次元光センサを用いることとし
ている。また、フォトダイオードの表面抵抗を利用して
光スポットの位置を検出することのできるPSD(Po
sition−Sensitive−Device)の
ようなものを用いてもよく、要は、集光レンズで集めら
れた光を受光しその受光した光の位置を検出できるもの
であればよく、その種類は限定されない。
【0021】反射プリズム413−1及び反射プリズム
413−2は、それぞれ、レンズ411の前方位置及び
後方位置に配置され、隣合う前方の計測ユニットの後方
光源42及び後方の計測ユニットの前方光源41からレ
ンズ411に入射しようとする各拡散光の少なくとも一
部をそれぞれ透過させ、レンズ411で集光した前方光
源41及び後方光源42からの光の少なくとも一部をそ
れそれ反射面で反射させて位置検出素子412−1及び
位置検出素子412−2の受光面に導くように方向転換
させる働きをする。また、これらの反射プリズム413
−1及び反射プリズム413−2は、それぞれ、中間計
測ユニット300それ自体にユニットとして組み込まれ
ている前方光源41及び後方光源42の拡散光の少なく
とも一部をそれぞれ反射面で反射させて隣合う前方の計
測ユニット及び後方の計測ユニットに向けるように方向
転換させる働きもする。
【0022】こうした反射プリズム413−1,413
−2に一般的なものを用いると、レンズ411に入射し
ようとする各光源41,42からの拡散光が、それぞ
れ、その入射前に、反射プリズム413−1,413−
2で一部反射されて減少するため、各位置検出素子41
2−2,412−1に導かれる光量が損失する。こうし
た問題を解消するため、レンズ411に入射しようとす
る各光源41,42からの拡散光を、互いに振動方向の
直交する直線偏光の拡散光になるようにするとともに、
各反射プリズム413−1,413−2として、レンズ
411に入射しようとする一方の直線偏光の拡散光を透
過させかつレンズ411で集光される過程の他方の直線
偏光の拡散光を位置検出素子412−2,412−1に
導くように反射する偏光光反射プリズムを用いるとよ
い。反射プリズム413−1,413−2にこうした偏
光反射プリズムを用いると、レンズ411に入射しよう
とする光源41,42からの拡散光を、その光量を損失
させることなく透過させるとともに、レンズ411で集
光される過程の光源41,42からの拡散光を、位置検
出素子412−2,412−1に導くように全反射させ
ることができ、レンズ411で集光した光の受光位置を
位置検出素子412−1,412−2で明確に検出する
ことができる。
【0023】中間計測ユニット300を構成する場合、
こうした反射プリズム413−1,413−2を設けな
いで、中間計測ユニット300の前部及び後部にそれぞ
れレンズ411を配置して、各レンズ411の背後にそ
れぞれ位置検出素子412−1,412−2を配置する
とともに、レンズ411の前方位置及び後方位置にそれ
ぞれ光源41及び光源42を配置して構成してもよい。
しかしながら、ここに示すように反射プリズム413−
1,413−2を設けると、隣合う前方の計測ユニット
の後方光源42及び後方の計測ユニットの前方光源41
からの拡散光がレンズ411に入射するのを阻止しない
位置にそれぞれ位置検出素子412−1及び位置検出素
子412−2を配置することが可能となるため、拡散光
を集めるためのレンズ411を前記の前方光源41及び
後方光源42に対応して別々に設ける必要はなくなっ
て、これらの光源41,42からの拡散光を共に集光す
るように共通化することができる。
【0024】このように光源41,42からの拡散光を
集光するレンズを共通化すると、隣合う前方の計測ユニ
ットの後方光源42及び後方の計測ユニットの前方光源
41の各方向に基づいて当該中間計測ユニット300で
計測される偏角は、これら前方光源41及び後方光源4
2の各光軸D同士のなす角度(光源41,42の拡散光
が前後方向に直進するときの各出発点の中心位置とレン
ズ411の中心位置とをそれぞれ結ぶ各線同士のなす角
度)と正確に合致して、共通のレンズ411の中心位置
を頂点とする各光源41,42の光軸D同士のなす偏角
が計測されることとなるため、その計測される偏角は、
当該中間計測ユニット300がピッチング方向及びヨー
イング方向に傾斜しても、その影響を受けることなく常
に一定に保たれる。そのため、レンズ411を前記のよ
うに前方光源41及び後方光源42に対応して別々に設
ける場合に比べて、当該中間計測ユニット300の取付
時の取付姿勢や計測時の姿勢に一層影響されなくなっ
て、より一層正確な偏角の計測が可能となる。
【0025】中間計測ユニット300は、前記のよう
に、これに組み込まれる光源41,42の拡散光を反射
プリズム413−1,413−2で隣合う前後の計測ユ
ニットに向けるように構成しているため、光源41,4
2とレンズ411と反射プリズム413−1,413−
2との位置関係を適切に定めることにより、光源41,
42をレンズ411の中心に配置したのと等価の構造に
なるように構成することができる。こうした構造を得る
には、中間計測ユニット300を次の条件を満たすよう
に構成すればよい。 イ)反射プリズム413−1(反射プリズム413−
2)の反射面の傾斜方向にに対して直交する平面上に、
光源41(光源42)とレンズ411の中心が共に位置
する。 ロ)反射プリズム413−1(反射プリズム413−
2)の反射面に対するレンズ411の光軸Cの交点と光
源41(光源42)との間の距離が同交点とレンズ41
1の中心との間の距離に等しい。
【0026】1個の中間計測ユニット300を構成する
前後の光源41,42及びレンズ411の各中心位置が
異なる点に位置して一点に集中しないと、計測ユニット
間で授受される光の光軸Dが後述の見通し線(隣合う計
測ユニットの基準点(レンズ411の中心)同士を結ぶ
直線)と完全には一致しなくなり、地中掘進機の掘進位
置を高い精度で精密に計測することはできなくなる。そ
のため、一層精度の高い地中掘進機の位置計測が必要な
場合には、こうした光の光軸Dと見通し線との不一致に
起因する計測誤差をなくすように、中間計測ユニット3
00の基準点と光源41,42との位置関係や中間計測
ユニット300のピッチング及びヨーイングによる姿勢
傾斜値に基づいて、光源41,42の方向に関する検出
結果につき補正をする必要がある。
【0027】一方、前述したように、中間計測ユニット
300をイ)及びロ)の条件を満たすように構成して光
源41,42をレンズ411の中心に配置したのと等価
の構造になるように中間計測ユニット300を構成すれ
ば、計測ユニット間で授受される光の光軸Dを見通し線
と正確に一致させることができるので、前記のような検
出結果の補正をしなくても、地中掘進機の掘進位置を一
層高い精度できわめて精密に計測することができる。し
たがって、こうした効果と光源41,42の拡散光を集
光するレンズを共通化した点の前述の効果とが相俟っ
て、中間計測ユニット300が地中掘進機のピッチング
やヨーイングによって傾斜したときでも、前記のような
補正を要することなく、地中掘進機の掘進位置をきわめ
て精密に計測することができ、そのため、こうした高精
度の地中掘進機の位置計測を行う場合でも、掘進時に中
間計測ユニット300の姿勢を逐一計測して管理する手
間を要しない。
【0028】以上の構造を備えた中間計測ユニット30
0の作用を、図3中の中間計測ユニット300(k)を
例にとって説明する。前方の中間計測ユニット300
(k+1)の後方光源42から発せられる拡散光は、中
間計測ユニット300(k)の前方の反射プリズム41
3−1に入射後、その少なくとも一部が同反射プリズム
413−1を透過してレンズ411で集光され、しかる
後、その背後の反射プリズム413−2で反射されて方
向転換をし、中間計測ユニット300(k)の後方の位
置検出素子412−2上に結像する。同様にして、後方
の中間計測ユニット300(k−1)の前方光源41か
らの拡散光は、その少なくとも一部が中間計測ユニット
300(k)の手前の反射プリズム413−2を透過し
てレンズ411で集光され、しかる後、その背後の反射
プリズム413−1で反射されて中間計測ユニット30
0(k)の前方の位置検出素子412−1上に結像す
る。この間、中間計測ユニット300(k)に組み込ま
れた前方光源41及び後方光源42の拡散光は、それぞ
れ、反射プリズム413−1及び反射プリズム413−
2の作用により前方の中間計測ユニット300(k+
1)及び後方の中間計測ユニット300(k−1)に向
けて出射される。
【0029】各位置検出素子412−1,412−2
は、各受光面にX−Y平面座標が予め設定されているた
め、光源41,42からの拡散光が結像すると、その結
像位置すなわち集光した拡散光の受光位置をX,Y軸の
座標点として検出する。こうして拡散光の受光位置が検
出されると、その検出結果に基づいて各光源41,42
の方向を演算により検出することができる。各光源4
1,42の方向は、中間計測ユニット300(k)の基
準線(通常はレンズ411の光軸Cに合わせるように設
定)に対して各光源41,42の光軸D(光源41,4
2の拡散光が前後方向に直進するときの各出発点の中心
位置とレンズ411の中心位置とをそれぞれ結ぶ各線)
のなす角度で表すことができ、具体的には、光源41,
42の方向の水平方向の成分(レンズ411の光軸Cと
光源41,42の光軸Dを水平面上へ正投影した線同士
のなす角度、例えば、図4中のφ1 ,ψ1 )と垂直方向
の成分(これらの各光軸C,Dをレンズ411の光軸C
と平行な垂直面上へ正投影した線同士のなす角度)とで
特定することができる。
【0030】これら光源41,42の方向の水平方向の
成分及び垂直方向の成分は、レンズ411の光軸C上を
通る光源41,42の光軸Dがレンズ411に入射後、
レンズ411の中心位置から位置検出素子412−1,
412−2に到達するまでの過程にたどる距離の総和
(この値は中間計測ユニット300の仕様により定まる
既知の値である。)と、位置検出素子412−1,41
2−2への光源41,42の拡散光の結像位置のX軸方
向の成分及びY軸方向の成分との関係から、それぞれ演
算により求めることができる。こうした演算は、中央演
算装置4で行ってもよいが、光源41,42の方向の水
平方向の成分及び垂直方向の成分は、前記の拡散光の結
像位置のX軸方向の成分及びY軸方向の成分が検出され
れば、一義的に定まる値であるので、ここに示す例では
中間計測ユニット300で行っている。
【0031】中間計測ユニット300は、以上述べたよ
うに前後の光源41,42と集光手段としてのレンズ4
11と前後の位置検出素子412−1,412−2と光
方向転換手段としての前後の反射プリズム413−1,
413−2とを有し、これらをケース内に組み込んでユ
ニット状に一体構成している。これに対し、第二基点計
測ユニット200は、中間計測ユニット300から後方
側の光源42を省いたものであり、また、被測点計測ユ
ニット400は、中間計測ユニット300から前方側の
光源41及び後方側の位置検出素子412−2を省いた
ものであり、前方側の位置検出素子412−1をレンズ
411の背後に配置すれば、前方側の反射プリズム41
3−1も省くことができる。
【0032】具体的に述べると、第二基点計測ユニット
200は、前方に拡散光を発する光源41と、後方の計
測基点設定用の光源100及び前方の中間計測ユニット
300の後方光源42からの拡散光をそれぞれ集光する
レンズ411と、レンズ411でそれぞれ集光した光を
受光してその受光した各光の位置を検出することにより
これらの各光源100,42の方向を検出できるように
配置された位置検出素子412−1,412−2と、レ
ンズ411に入射しようとする各光源42,100から
の拡散光の少なくとも一部をそれぞれ透過しかつレンズ
411で集光する各光源100,42からの光をそれぞ
れ各位置検出素子412−1,412−2に導くように
方向転換させる反射プリズム413−1,413−2と
を有していればよい。また、被測点計測ユニット400
は、後方に拡散光を発する光源42と、後方の中間計測
ユニット300の前方光源41からの拡散光を集光する
レンズ411と、レンズ411で集光した光を受光しそ
の受光した光の位置を検出することにより前方光源41
の方向を検出できるように配置された前方側の位置検出
素子412−1と、レンズ411に入射しようとする前
方光源42からの拡散光の少なくとも一部を透過する後
方側の反射プリズム413−2を有していればよく、前
方側の反射プリズム413−1は、必要に応じて設けて
ればよい。
【0033】こうした第二基点計測ユニット200や被
測点計測ユニット400に必要な構造は、図2の中間計
測ユニット300が備えているので、第二基点計測ユニ
ット200や被測点計測ユニット400に中間計測ユニ
ット300をそのまま使用して、中間計測ユニット30
0を第二の計測基点や被計測点にセットするときに必要
な構造だけをソフト上活かすようにしてもよい。このよ
うに中間計測ユニット300を第二基点計測ユニット2
00や被測点計測ユニット400に兼用するようにすれ
ば、製作する機器の種類を少なくできてそれらの製作を
省力化することができるだけでなく、使用する機器の種
類も少なくできて機器の使用上の便もよい。
【0034】次に、中間計測ユニット300を第二基点
計測ユニット200や被測点計測ユニット400に兼用
した場合を例にして、本発明の地中掘進機の位置計測装
置の具体化例を、図1、図3及び図4を用いて説明す
る。図3は、当該計測点に設置した中間計測ユニット3
00(k)とこれと隣合う前後の中間計測ユニット30
0(k+1),300(k−1)との間で相互に拡散光
を照射しながら地中掘進機の掘進位置を計測するときの
態様を示している。図3において、Vk は中間計測ユニ
ット300(k)と中間計測ユニット300(k+1)
の基準点同士を結ぶ直線を、また、Vk-1 は中間計測ユ
ニット300(k−1)と中間計測ユニット300
(k)の基準点同士を結ぶ直線を表し、この明細書で
は、こうした直線を見通し線と称する。これらの中間計
測ユニット300(k−1),300(k),300
(k+1)は、光源41,42をレンズ411の中心位
置に配置したのと等価の構造をしているものとし、それ
ゆえ、それらの中間計測ユニット300の各基準点は、
何れも同じレンズ411の中心に位置するものとする。
【0035】計測ユニット200,300,400、計
測基点設定用の光源100及びトータルステーション5
00を図1に示すように設置した例を基に、地中掘進機
の掘進位置の基本的な演算手法を図4に基づいて説明す
る。なお、図1には、第二基点計測ユニット200と被
測点計測ユニット400との間に三つの中間計測ユニッ
ト300−1〜300−3を設置した例を示している
が、これらの計測ユニット200,400の間には、地
中掘進機の掘進距離や地下坑2のカーブの状態等を考慮
しながら、一つ以上所望の数の中間計測ユニット300
を、互いに見通すことのできる適当間隔を置いて設置す
ることができる。
【0036】地中掘進機の掘進位置を計測する場合、前
後、上下、左右の3次元の位置座標上における計測基点
に対する被計測点の相対位置を演算して計測するが、こ
こでは、その演算方法の理解を容易にするため、地中掘
進機で水平方向(左右方向)にだけ曲線施工する場合を
例にとり、地中掘進機の掘進位置をX軸及びY軸からな
る2次元の位置座標上における座標点により求めること
とする。そのため、計測基点に設置した計測基点設定用
の光源100の位置が原点となるとともに、X軸が地中
掘進機の発進時の推進基準方向となり、このX軸と直交
するY軸が水平方向(左右方向)となるようにした2次
元座標が図4に示すように設定されている。ここでは、
第二基点計測ユニット200や被測点計測ユニット40
0を、説明の便宜上、中間計測ユニット300とみなし
て第二基点計測ユニット200を300(1)で表し、
この第二基点計測ユニット300(1)から数えてk番
目の中間計測ユニットを300(k)で表すこととす
る。
【0037】前記の基本原理を説明するに当たり、以下
の数式や図4に用いている記号の意味を示すこととす
る。 V0 ;地中掘進機が発進したときの実際の発進方向を表
す発進方向線、 Vk ;中間計測ユニット300(k)と中間計測ユニッ
ト300(k+1)の基準点同士を結ぶ見通し線、換言
すると、隣合った中間計測ユニット300(k)と中間
計測ユニット300(k+1)間で授受する光の光軸、 Gk ;中間計測ユニット300(k)の基準線すなわち
中間計測ユニット300(k)のレンズ411の光軸、 φk ;中間計測ユニット300(k)の基準線Gk とそ
の前方の見通し線Vkとのなす角度、換言すると、隣合
う前方の中間計測ユニット300(k+1)の後方光源
42の方向を表す角度、 ψk ;中間計測ユニット300(k)の基準線Gk とそ
の後方の見通し線Vk- 1 (V0 も見通し線とみなす。)
とのなす角度、換言すると、隣合う後方の中間計測ユニ
ット300(k−1)の前方光源41の方向を表す角
度、 H0 ;発進方向線V0がX軸(地中掘進機の発進時の推
進基準方向)となす角度、 Hk ;中間計測ユニット300(k)の前方の見通し線
k と後方の見通し線Vk-1 とのなす角度(外角)、す
なわち、中間計測ユニット300(k)の基準点を頂点
とする偏角 θk ;見通し線Vk がX軸となす角度、 lk ;中間計測ユニット300(k)と中間計測ユニッ
ト300(k+1)の基準点間の距離、換言すると、見
通し線Vk の長さ、 なお、図4において、(x0 ,y0 )は計測基点の座標
点、(x1 ,y1 )は第二の計測基点の座標点、
(x2 ,y2 )〜(x4 ,y4 )は中間計測点の座標
点、(x5 ,y5 )は被計測点の座標点を表す。
【0038】地中掘進機の掘進位置すなわち被計測点の
座標点(x5 ,y5 )を演算するには、まず、測角・測
距機能を備えたトータルステーション500により計測
基点や第二の計測基点の位置を予め計測しておき、前記
2次元座標上における計測基点の座標点(x0 ,y0
及び第二の計測基点の座標点(x1 ,y1 )を特定して
おく。なお、こうした計測基点や第二の計測基点の位置
計測は、発進立坑3近くの計測であり、計測回数も限ら
れているので、トランシット等を用いて人手により行っ
てもよい。こうして計測基点に対する第二の計測基点の
相対位置すなわち第二の計測基点の座標点(x1
1 )が特定されると、発進方向線V0がX軸となす角
度H0 を次の(1)式により求めることができる。
【0039】
【数1】
【0040】地中掘進機の掘進過程では、中間計測ユニ
ット300(k)(k=1,5)での検出結果に基づい
て隣合う前方の中間計測ユニット300の後方光源42
の方向を表す角度φk や隣合う後方の中間計測ユニット
300の前方光源41の方向を表す角度ψk が検出でき
るので、これらの角度φk ,ψk に基づいて中間計測ユ
ニット300(k)の基準点を頂点とする偏角Hk (k
=1,4)を次の(2)式により求めることができる。 Hk =φk −ψk (2) なお、角度φk 及び角度ψk は、それぞれ、中間計測ユ
ニット300(k)の前方の見通し線Vk (k=1,
4)及び後方の見通し線Vk-1 を座標点(xk ,yk
を中心にして基準線Gk (k=1,5)に重ねるように
回動させる場合に最小の角度で回動させる方向が時計方
向のときに正とする。したがって、例えばφ1 ,ψ1
何れも正の角度である。
【0041】こうして偏角Hk が求められると、見通し
線Vk がX軸となす角度θk は、この偏角Hk を用いて
次の(3)式で表すことができる。
【0042】
【数2】
【0043】なお、(3)においてiを0にしたときの
角度θ0 は、前(1)で求めた角度H0 と等しい。
【0044】一方、地中掘進機の掘進過程では、以上の
ようなデータを得るほか、隣合う中間計測ユニット30
0間の各距離lk (k=1,4)を、後述する方法等適
宜の方法で計測して距離lk に関するデータを得る。こ
うして距離lk に関するデータが得られると、被計測点
の座標点(x5 ,y5 )を次の(4),(5)式により
求めることができる。
【0045】
【数3】
【0046】
【数4】
【0047】以上、地中掘進機の掘進の進展に伴って設
定された各計測点に対応するY軸方向(左右方向)の座
標位置を計測する手法について述べたが、上下方向の座
標位置についても以上に準じた手法で演算により計測す
ることができる。
【0048】このように、地中掘進機の掘進位置すなわ
ち計測基点に対する被計測点の相対位置は、座標点(x
1 ,y1 )のような計測基点に対する第二の計測基点の
位置に関するデータと、第二基点計測ユニット200、
被測点計測ユニット400及び中間計測ユニット300
−1〜300−3での検出結果に基づいて得られる角度
φk ,ψk のような各光源41,42の方向に関するデ
ータと、隣合う各計測ユニット200,300−1〜3
00−3,400間の距離lk に関するデータとに基づ
いて、(1)〜(5)式により演算して計測することが
できる。こうした演算は、各計測ユニット200,30
0−1〜300−3,400から通信ラインを通じて入
力される角度φk ,ψk のような各光源の方向に関する
データや別途入力される距離lk に関するデータに基づ
いて中央演算処理装置4により行われる。この中央演算
処理装置4には表示装置5が接続されているため、中央
演算処理装置4で演算された地中掘進機の現在位置は、
この表示装置5に表示されて、地中掘進機の現在位置に
関する信頼性の高い情報をオペレータにリアルタイムに
提供することができ、地中掘進機の操縦を的確に行うこ
とができる。
【0049】隣合う各計測ユニット200,300−1
〜300−3,400間の距離lkを計測する方法につ
いて述べると、地中掘進機が管推進機である場合には、
例えば、埋設済みの埋設管の数により算出される距離デ
ータと元押しジャッキのストローク計で検出される距離
データとに基づいて計測する方法を挙げることができ
る。また、地中掘進機がシールド掘進機である場合に
は、例えば、セグメントの種類と数に基づいて算出され
る距離データとシールドジャッキのストローク計で検出
される距離データとに基づいて計測する方法を挙げるこ
とができる。これらの方法は、何れも、管推進機やシー
ルドジャッキに通常付設されている元押しジャッキのス
トローク計やシールドジャッキのストローク計を距離l
k の計測にも活用することができて、距離lk の計測の
ために特別の距離計測手段を新設する必要がない。
【0050】本地中掘進機の位置計測装置では、計測基
点設定用の光源100や光源41,42からの拡散光を
各計測ユニット200,300,400においてレンズ
411で集光し、その集光した光を位置検出素子413
−1,413−2で受光してその受光位置を検出するこ
とにより、前方光源41及び後方光源42の方向を検出
するようにしている。その場合、光源として、特に拡散
光を発することのできる光源41,42を用いて拡がり
をもつ光で広い領域を照らせるようにしているため、ウ
エッジプリズムを回動させることによりレーザビームを
位置検出素子に当てる従来の技術で行われているような
操作は行わなくても済む。その結果、こうした操作を可
能にするための回転機構を設ける必要もなくなるため、
従来の技術とは異なり、回転機構に起因する機械的な計
測誤差も生じない。また、拡散光の光源41,42、1
00は、このように照射領域が広いため、各計測ユニッ
ト200,300,400や光源41,42、100が
外力により振動しても、各計測ユニット200,30
0,400を常に照らすことができて計測に支障が生じ
ることもない。
【0051】第二基点計測ユニット200及び中間計測
ユニット300では、位置検出素子413−1,413
−2の受光位置により前方光源41及び後方光源42の
双方の光源の方向を検出するようにしているため、その
検出された光源41,42の方向により各光源41,4
2の光軸同士の偏角を求めることができる。この偏角
は、図4において基準線G1 を回動させても偏角H1
値が変わらないことからも明らかなように、第二基点計
測ユニット200及び中間計測ユニット300や光源4
1,42がピッチング方向やヨーイング方向に変位して
も(上下方向や左右方向に揺動しても)変動しないた
め、本地中掘進機の位置計測装置は、これらの計測ユニ
ット200,300が外力によりピッチング方向やヨー
イング方向に振動しても、計測誤差が生じにくい。ま
た、こうしたことから、第二基点計測ユニット200及
び中間計測ユニット300を計測点に取り付ける際、位
置設定さえ正確に行えば、取付姿勢が不統一であって
も、その取付姿勢の影響を受けることなく地中掘進機の
掘進位置を正しく計測することができる。
【0052】拡散光の光源を用いた計測ユニット20
0,300、400で地中掘進機の位置を計測するとき
には、こうした計測ユニットを、計測基点を出発点にし
て設置しても計測することができる。しかしながら、そ
の場合、計測基点に設置する最初の計測ユニットについ
て、基準線(レンズ411の光軸C)の方向を推進基準
方向(X軸)に合わせるように計測ユニットの取付姿勢
を調整する作業を必要とし、その調整を精度よく行わな
いと、精度の高い計測が行えず、また、その調整を精度
よく行うにはかなりの困難が伴うという拡散光の光源を
用いる計測技術に特有の問題が生じる。本地中掘進機の
位置計測装置は、こうした問題も解消するようにしたも
のであり、この点に大きな特徴がある。
【0053】こうした問題を解消するため、第一に、計
測基点と隣合うように前方に、拡散光で光源の方向を検
出するための計測基点となる第二の計測基点を新たに設
定して、この第二の計測基点に、最初の計測ユニットで
ある第二基点計測ユニット200を設置し、これと関連
して、計測基点に計測基点設定用の光源100を配置す
るようにしている。第二に、計測基点に対する第二の計
測基点の位置をトータルステーション500のような拡
散光によらない適宜の計測手段で予め計測して計測基点
に対する第二の計測基点の位置に関するデータを別途収
集するようにしている。そして、第二基点計測ユニット
200及び中間計測ユニット300での検出結果から得
られるデータや各計測ユニット200,300、400
間の距離データに、こうした第二の計測基点の位置に関
するデータを併用して計測基点に対する被計測点の相対
位置を計測するようにしている。
【0054】このように、拡散光で光源の方向を検出す
るための第二の計測基点を新たに設定して、第二の計測
基点に、最初の計測ユニットである第二基点計測ユニッ
ト200を設置するようにしたことにより、計測基点に
計測基点設定用の光源100を設置することができるた
め、拡散光での計測の出発点である第二の計測基点で
も、前方及び後方の双方の光源の方向を検出することが
できて、計測ユニットの取付姿勢に影響されない偏角を
計測することができる。その結果、第二基点計測ユニッ
ト200について、その基準線の方向を推進基準方向に
合わせるように取付姿勢を調整しなくても、第二の計測
基点以降での各計測ユニット200,300、400に
よる計測を正常に行うことができる。そして、計測基点
に対する被計測点の相対位置は、計測基点に対する第二
の計測基点の位置をトータルステーション500で予め
計測して、その結果得られる第二の計測基点の位置に関
するデータと第二の計測基点以降での計測により得られ
るデータとを併用して計測するようにしているので、高
い精度で簡便に計測することができる。
【0055】計測基点に対する被計測点の相対位置を計
測するには、後方に拡散光を発する光源42を被計測点
に設けさえすれば、被測点ユニット400を被計測点に
設ける必要はない。しかしながら、ここでは、被計測点
に敢えて被測点ユニット400を設けて隣合う中間計測
ユニット300−3の前方光源41の方向を検出するよ
うにしており、これにより、ピッチング計やヨーイング
計等の新たな手段を設けることなく、掘削機1のピッチ
ング方向及びヨーイング方向の姿勢を検出することがで
きる。
【0056】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、光学式
偏角測定装置に関するこの出願の第1番目の発明は、
「地下坑を掘削しながら地中を掘進する地中掘進機の掘
進位置の計測に用いられ、掘進方向前方に配置しその掘
進位置の指標となる被計測点の位置を、掘進方向後方に
配置し計測の基点となる計測基点との位置関係で計測す
る地中掘進機の位置計測装置」を構成する場合、「課題
を解決するための手段」の項に示したように構成してい
るので、本発明によれば、地中掘進機の掘進位置計測の
際に光を位置検出素子に当てる操作を要せず、機械的な
計測誤差や振動による計測誤差が生じにくい地中掘進機
の位置計測装置が得られる。また、第二基点計測ユニッ
ト及び中間計測ユニットを計測点に取り付ける際、位置
設定さえ正確に行えば、取付姿勢が不統一であっても、
その取付姿勢の影響を受けることなく地中掘進機の掘進
位置を正しく計測することができる。
【0057】一方、被測点ユニットでは、後方の光源か
らの光の受光位置を位置検出素子で検出することにより
その後方の光源の方向を検出して、掘削機のピッチング
方向及びヨーイング方向の姿勢を検出することができ
る。本発明では、特に、第二の計測基点を設定する第二
基点計測ユニットを設けて、これと隣合うように計測基
点設定用の光源を計測基点に設けるようにしたため、最
初の計測ユニットである第二基点計測ユニットについ
て、本来必要な取付姿勢の調整を行わなくても、第二の
計測基点以降での各計測ユニットによる計測を正常に行
うことができる。そして、こうして得られるデータと別
途求めた計測基点に対する第二の計測基点の位置に関す
るデータとを併用して計測基点に対する被計測点の相対
位置を計測するようにしているので、高い精度で簡便に
計測することができる。
【0058】この出願の第1番目の発明を具体化する場
合、特に、特許請求の範囲の請求項2に記載のように具
体化すれば、以上のような優れた効果を発揮できること
に加え、前方及び後方の光源からの拡散光を共に集光す
るようにレンズを共通化することができる。また、この
ようにレンズを共通化すると、中間計測ユニットで計測
される偏角は、前方及び後方の光源に対応してレンズを
別々に設ける場合に比べて、中間計測ユニットの取付時
の取付姿勢や計測時の姿勢に一層影響されなくなって、
より一層正確な偏角の計測が可能となる。さらに、特許
請求の範囲の請求項3に記載のように具体化すれば、中
間計測ユニットの各光源をレンズの中心に配置したのと
等価の構造が得られることにより、計測ユニット間で授
受される光の光軸が見通し線と正確に一致することとな
って、両者の不一致に起因する計測誤差をなくすような
補正を光源の方向の検出結果について行わなくても地中
掘進機の掘進位置を一層高い精度できわめて精密に計測
することができる。したがって、こうした効果と前記の
レンズを共通化した点の効果とが相俟って、中間計測ユ
ニットが地中掘進機のピッチングやヨーイングによって
傾斜したときでも、前記の補正を要することなく地中掘
進機の掘進位置をきわめて精密に計測することができ、
そのため、こうした高精度の地中掘進機の位置計測を行
う場合でも、掘進時に中間計測ユニットの姿勢を逐一計
測して管理する手間を要しない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の具体化例の地中掘進機の位置計測装置
により地中掘進機の掘進位置を計測している状態の全体
像を概略的に示す図である。
【図2】図1の地中掘進機の位置計測装置に使用する中
間計測ユニットの例を示す斜視図である。
【図3】図2の中間計測ユニットを用いて地中掘進機の
掘進位置を計測するときの態様を部分的に示す斜視図で
ある。
【図4】図1の地中掘進機の位置計測装置で地中掘進機
の掘進位置を演算する基本的な手法を説明するための概
念図である。
【符号の説明】
1 掘削機 2 地下坑 3 発進立坑 4 中央演算処理装置 5 表示装置 41,42 光源 100 計測基点設定用の光源 200 第二計測基点計測ユニット 300 中間計測ユニット 400 被測点計測ユニット 500 トータルステーション 411 レンズ 412−1,412−2 位置検出素子 413−1,413−2 反射プリズム C レンズの光軸 G 中間計測ユニットの基準線 H 偏角 V 隣合う計測ユニット間の見通し線(光の光軸) V0 発進方向線 l 各計測ユニットの基準点間の距離 φ,ψ 光源の方向を表す角度
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 亀井 健 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 (72)発明者 美野本 泰 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 Fターム(参考) 2D054 AA02 AC18 GA04 GA17 GA65 GA82

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 地下坑を掘削しながら地中を掘進する地
    中掘進機の掘進位置の計測に用いられ、掘進方向前方に
    配置しその掘進位置の指標となる被計測点の位置を、掘
    進方向後方に配置し計測の基点となる計測基点との位置
    関係で計測する地中掘進機の位置計測装置であって、前
    方に拡散光を発し計測基点を設定する計測基点設定用の
    光源と、前方に拡散光を発する光源と前方及び後方の光
    源からの拡散光の少なくとも一部をそれぞれ集光する集
    光手段と集光手段でそれぞれ集光した各光源からの光を
    それぞれ受光してその受光位置を検出する各位置検出素
    子とを有し計測基点設定用の光源と隣合うように前方に
    配置されて第二の計測基点を設定する第二基点計測ユニ
    ットと、後方に拡散光を発する光源と後方の光源からの
    拡散光の少なくとも一部を集光する集光手段と集光手段
    で集光した光源からの光を受光してその受光位置を検出
    する位置検出素子とを有し被計測点を設定する被測点計
    測ユニットと、前方及び後方に拡散光を発する各光源と
    前方及び後方の光源からの拡散光の少なくとも一部をそ
    れぞれ集光する集光手段と集光手段でそれぞれ集光した
    各光源からの光をそれぞれ受光してその受光位置を検出
    する各位置検出素子とを有し第二基点計測ユニットと被
    測点計測ユニットとの間に配置される少なくとも一つの
    中間計測ユニットとを設けて構成し、予め求めた計測基
    点に対する第二の計測基点の位置に関するデータと第二
    基点計測ユニット及び中間計測ユニットでの検出結果に
    基づいて得られる各光源の方向に関するデータと隣合う
    各計測ユニット間の距離に関するデータとに基づいて、
    計測基点に対する被計測点の相対位置を演算装置で演算
    して計測するようにしたこと特徴とする地中掘進機の位
    置計測装置。
  2. 【請求項2】 中間計測ユニットを構成する場合、集光
    手段に、前方及び後方の光源からの拡散光の少なくとも
    一部を共に集光する共通のレンズを用いた上で、レンズ
    に入射しようとする各光源からの拡散光の少なくとも一
    部をそれぞれ透過させかつレンズでそれぞれ集光した各
    光源からの光の少なくとも一部をそれぞれ各位置検出素
    子に導くように方向転換させるとともに中間計測ユニッ
    トの各光源の拡散光の少なくとも一部をそれぞれ反射さ
    せて前方及び後方に向けるように方向転換させる各反射
    プリズムを設け、レンズに入射しようとする各光源から
    の拡散光を遮断しない位置に各位置検出素子を配置して
    構成したことを特徴とする請求項1記載の地中掘進機の
    位置計測装置。
  3. 【請求項3】 中間計測ユニットが、中間計測ユニット
    の各光源をレンズの中心に配置したのと等価の構造にな
    るようにそれらの各光源とレンズと各反射プリズムとの
    位置関係を定めて構成されていることを特徴とする請求
    項2記載の地中掘進機の位置計測装置。
JP34188898A 1998-12-01 1998-12-01 地中掘進機の位置計測装置 Pending JP2000161958A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007033105A (ja) * 2005-07-25 2007-02-08 Sokkia Co Ltd 推進機位置計測システム

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007033105A (ja) * 2005-07-25 2007-02-08 Sokkia Co Ltd 推進機位置計測システム

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