JP2000033315A - コーティング装置およびコーティング方法 - Google Patents
コーティング装置およびコーティング方法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 装置製造に特に高精度な作業を必要とするこ
となく、より平滑で高精度な塗布面が得られ、かつ充分
な塗工速度が得られて生産性を向上させる。 【解決手段】 第1のブロック33と第2のブロック3
5との間の塗布剤供給流路39に、ポンプ51から塗布
剤が供給され、吐出口43から基材31の表面に塗布剤
が塗布される。塗布剤供給流路39の途中に設けた可撓
板55は、ピストン部材63の進退移動に伴って変位す
る。ピストン部材63の進退移動はカム87の回転によ
ってなされる。可撓板55が実線で示す平面状態では、
吐出口43から塗布剤が吐出されて基材31に塗布され
る。この状態から可撓板55が塗布剤供給流路39から
離れる方向に変位すると、吐出口43付近の塗布剤が内
部に引き込まれ、基材31への塗布剤の供給が停止され
る。基材31への塗布剤の供給および停止が、カム87
の回転によって繰り返しなされて間欠塗工が行われる。
となく、より平滑で高精度な塗布面が得られ、かつ充分
な塗工速度が得られて生産性を向上させる。 【解決手段】 第1のブロック33と第2のブロック3
5との間の塗布剤供給流路39に、ポンプ51から塗布
剤が供給され、吐出口43から基材31の表面に塗布剤
が塗布される。塗布剤供給流路39の途中に設けた可撓
板55は、ピストン部材63の進退移動に伴って変位す
る。ピストン部材63の進退移動はカム87の回転によ
ってなされる。可撓板55が実線で示す平面状態では、
吐出口43から塗布剤が吐出されて基材31に塗布され
る。この状態から可撓板55が塗布剤供給流路39から
離れる方向に変位すると、吐出口43付近の塗布剤が内
部に引き込まれ、基材31への塗布剤の供給が停止され
る。基材31への塗布剤の供給および停止が、カム87
の回転によって繰り返しなされて間欠塗工が行われる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、搬送される基材
の表面に対し搬送方向に沿って間欠的に塗布剤を塗布す
るコーティング装置およびコーティング方法に関する。
の表面に対し搬送方向に沿って間欠的に塗布剤を塗布す
るコーティング装置およびコーティング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】この種のコーティング装置としては、例
えば図7に示すようなものがある。このコーティング装
置は、リチウムイオン2次電池における電極基材に塗布
剤である電極合剤を間欠的に塗布する、いわゆる間欠塗
工を行うもので、ローラ1に巻き付けられて矢印A方向
に搬送される基材3に対し、ローラ1の側方に配置した
スリットダイ5から塗布剤7を供給する。
えば図7に示すようなものがある。このコーティング装
置は、リチウムイオン2次電池における電極基材に塗布
剤である電極合剤を間欠的に塗布する、いわゆる間欠塗
工を行うもので、ローラ1に巻き付けられて矢印A方向
に搬送される基材3に対し、ローラ1の側方に配置した
スリットダイ5から塗布剤7を供給する。
【0003】スリットダイ5は、先端に吐出口を備えた
塗布剤供給流路を備えており、この塗布剤供給流路に、
塗布剤タンク9内の塗布剤をポンプ11の作動によって
スリットダイ5に送り込む。スリットダイ5の上流側の
配管13には、この配管13内の流路を開閉する開閉弁
15が設けられ、この開閉弁15の開閉動作は、制御部
17によってなされる。制御部17は、すでに塗工した
部分における塗工部相互の間の非塗工部をセンサ19に
よって検出することで、開閉弁15を閉じて非塗工部を
形成する。また、スリットダイ5は、支持軸20を中心
に、実線位置からに二点鎖線位置へ回動可能となってい
る。
塗布剤供給流路を備えており、この塗布剤供給流路に、
塗布剤タンク9内の塗布剤をポンプ11の作動によって
スリットダイ5に送り込む。スリットダイ5の上流側の
配管13には、この配管13内の流路を開閉する開閉弁
15が設けられ、この開閉弁15の開閉動作は、制御部
17によってなされる。制御部17は、すでに塗工した
部分における塗工部相互の間の非塗工部をセンサ19に
よって検出することで、開閉弁15を閉じて非塗工部を
形成する。また、スリットダイ5は、支持軸20を中心
に、実線位置からに二点鎖線位置へ回動可能となってい
る。
【0004】一方、図8に示すコーティング装置は、ロ
ーラ21に巻き付けられて矢印B方向に向かって搬送さ
れる基材23に対し、このローラ21とは逆方向に回転
する塗布用ローラ25によって塗布剤を塗布する。塗布
用ローラ25には塗布剤27が供給されるとともに、そ
の上部には、ナイフ29が塗布用ローラ25に対して接
近離反する方向に往復移動可能に配置されている。
ーラ21に巻き付けられて矢印B方向に向かって搬送さ
れる基材23に対し、このローラ21とは逆方向に回転
する塗布用ローラ25によって塗布剤を塗布する。塗布
用ローラ25には塗布剤27が供給されるとともに、そ
の上部には、ナイフ29が塗布用ローラ25に対して接
近離反する方向に往復移動可能に配置されている。
【0005】ナイフ29の先端を塗布用ローラ25の表
面に接触あるいは近接させることで、塗布剤を除去し、
これにより塗布用ローラ25上に塗布剤が間欠的に付着
し、この間欠的に付着した塗布剤を、基材23に転写す
るようにして間欠塗工を行う。
面に接触あるいは近接させることで、塗布剤を除去し、
これにより塗布用ローラ25上に塗布剤が間欠的に付着
し、この間欠的に付着した塗布剤を、基材23に転写す
るようにして間欠塗工を行う。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記図
7に示したコーティング装置においては、次のような問
題がある。
7に示したコーティング装置においては、次のような問
題がある。
【0007】(1)スリットダイ5の上流の配管13で
開閉弁15を開閉して塗布剤の供給遮断を行うので、遮
断した際にスリットダイ5内の塗布剤供給流路における
残圧により、吐出口から液だれが生じ、平滑な塗布面が
得られないものとなる。これを防止するために、スリッ
トダイ5は、二点鎖線位置へ回動可能となっているが、
このような動作を繰り返すと、塗工速度が上がらず、生
産性の低下を招く。
開閉弁15を開閉して塗布剤の供給遮断を行うので、遮
断した際にスリットダイ5内の塗布剤供給流路における
残圧により、吐出口から液だれが生じ、平滑な塗布面が
得られないものとなる。これを防止するために、スリッ
トダイ5は、二点鎖線位置へ回動可能となっているが、
このような動作を繰り返すと、塗工速度が上がらず、生
産性の低下を招く。
【0008】(2)すでに塗工した部分の非塗工部を検
出しての間欠塗工であるため、塗工速度に遅れが生じ、
充分な塗工速度を得ることができない。
出しての間欠塗工であるため、塗工速度に遅れが生じ、
充分な塗工速度を得ることができない。
【0009】(3)スリットダイ5内の塗布剤供給流路
における残圧により、塗布剤を遮断した後の塗工開始部
が、塗布剤が盛り上がった状態となり、平滑な塗布面が
得られない。
における残圧により、塗布剤を遮断した後の塗工開始部
が、塗布剤が盛り上がった状態となり、平滑な塗布面が
得られない。
【0010】一方、図8に示すコーティング装置におい
ては、次のような問題がある。
ては、次のような問題がある。
【0011】(1)回転中の塗布用ローラ25に対し、
ナイフ29の接近離反移動で塗布剤の間欠塗布を行うた
め、塗布用ローラ25とナイフ29との間のギャップ設
定を高精度に行う必要がある。
ナイフ29の接近離反移動で塗布剤の間欠塗布を行うた
め、塗布用ローラ25とナイフ29との間のギャップ設
定を高精度に行う必要がある。
【0012】(2)塗布用ローラ25に供給された塗布
剤が流れるので、平滑な塗布面が得られない。
剤が流れるので、平滑な塗布面が得られない。
【0013】(3)ローラ21に巻き付けられた基材2
3と塗布用ローラ25との間の寸法により、塗布剤の転
写量が変動するので、塗布用ローラ25の高精度化が必
要であり、装置製造に困難を要する。
3と塗布用ローラ25との間の寸法により、塗布剤の転
写量が変動するので、塗布用ローラ25の高精度化が必
要であり、装置製造に困難を要する。
【0014】そこで、この発明は、装置製造に特に高精
度な作業を必要とすることなく、より平滑で高精度な塗
布面が得られ、かつ充分な塗工速度が得られて生産性を
向上させることを目的としている。
度な作業を必要とすることなく、より平滑で高精度な塗
布面が得られ、かつ充分な塗工速度が得られて生産性を
向上させることを目的としている。
【0015】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項1の発明は、搬送される基材の表面に塗布剤
を塗布するためのダイ要素を、前記基材の表面に近接さ
せて配置し、前記ダイ要素は、吐出口が前記基材の表面
に向けて開口する塗布剤供給流路を備え、この塗布剤供
給流路の途中に、流路壁の一部を構成する可撓板を設
け、この可撓板は、基材表面に塗布剤を供給する塗布剤
供給形態と、この塗布剤供給形態に対し塗布剤供給流路
から離れる方向に変位した状態で、塗布剤供給流路に連
通する塗布剤引込空間を形成して基材表面への塗布剤供
給を停止する塗布剤供給停止形態とに変位可能である構
成としてある。
に、請求項1の発明は、搬送される基材の表面に塗布剤
を塗布するためのダイ要素を、前記基材の表面に近接さ
せて配置し、前記ダイ要素は、吐出口が前記基材の表面
に向けて開口する塗布剤供給流路を備え、この塗布剤供
給流路の途中に、流路壁の一部を構成する可撓板を設
け、この可撓板は、基材表面に塗布剤を供給する塗布剤
供給形態と、この塗布剤供給形態に対し塗布剤供給流路
から離れる方向に変位した状態で、塗布剤供給流路に連
通する塗布剤引込空間を形成して基材表面への塗布剤供
給を停止する塗布剤供給停止形態とに変位可能である構
成としてある。
【0016】このような構成のコーティング装置によれ
ば、可撓板が塗布剤供給形態にあるときには、塗布剤供
給流路を流れる塗布剤は、吐出口から吐出されて基材に
供給され塗布される。一方、可撓板が塗布剤供給流路か
ら離れる方向に変位して塗布剤引込空間を形成する塗布
剤供給停止形態にあるときには、塗布剤供給流路を流れ
る塗布剤は、塗布剤引込空間に引き込まれて吐出口へは
流れず、基材への供給が停止される。このように、塗布
剤の基材への供給および供給停止を、可撓板の往復変形
移動によって行うことで、搬送される基材は、その搬送
方向に間欠的に塗布剤が塗布され、間欠塗工がなされる
ことになる。
ば、可撓板が塗布剤供給形態にあるときには、塗布剤供
給流路を流れる塗布剤は、吐出口から吐出されて基材に
供給され塗布される。一方、可撓板が塗布剤供給流路か
ら離れる方向に変位して塗布剤引込空間を形成する塗布
剤供給停止形態にあるときには、塗布剤供給流路を流れ
る塗布剤は、塗布剤引込空間に引き込まれて吐出口へは
流れず、基材への供給が停止される。このように、塗布
剤の基材への供給および供給停止を、可撓板の往復変形
移動によって行うことで、搬送される基材は、その搬送
方向に間欠的に塗布剤が塗布され、間欠塗工がなされる
ことになる。
【0017】請求項2の発明は、請求項1の発明の構成
において、可撓板は、外周縁がダイ要素に固定されると
ともに、中央部分が塗布剤供給流路に対して接近離反す
る方向に移動可能なピストン部材に連結されている。
において、可撓板は、外周縁がダイ要素に固定されると
ともに、中央部分が塗布剤供給流路に対して接近離反す
る方向に移動可能なピストン部材に連結されている。
【0018】上記構成によれば、ピストン部材が塗布剤
供給流路に対して接近離反する方向に移動することで、
可撓板は、外周縁がダイ要素に固定された状態で、塗布
剤供給形態と、この塗布剤供給形態に対し、中央部分が
塗布剤供給流路から離れる方向に変位した塗布剤供給停
止形態との間を変位する。
供給流路に対して接近離反する方向に移動することで、
可撓板は、外周縁がダイ要素に固定された状態で、塗布
剤供給形態と、この塗布剤供給形態に対し、中央部分が
塗布剤供給流路から離れる方向に変位した塗布剤供給停
止形態との間を変位する。
【0019】請求項3の発明は、請求項1の発明の構成
において、ピストン部材は、スプリングによって塗布剤
供給流路から離れる方向に押圧されて移動するととも
に、前記塗布剤供給流路と反対側の端部に摺接しつつ回
転するカムにより前記スプリングに抗して前記塗布剤供
給流路側に移動する構成としてある。
において、ピストン部材は、スプリングによって塗布剤
供給流路から離れる方向に押圧されて移動するととも
に、前記塗布剤供給流路と反対側の端部に摺接しつつ回
転するカムにより前記スプリングに抗して前記塗布剤供
給流路側に移動する構成としてある。
【0020】上記構成によれば、ピストン部材が、カム
によりスプリングの弾力に抗して押されて塗布剤供給流
路側に向けて移動した状態では、可撓板は塗布剤供給形
態となり、このとき塗布剤供給流路を流れる塗布剤が吐
出口を経て基材に供給される。一方、ピストン部材が、
スプリングにより押されて塗布剤供給流路から離れる方
向に移動することで、可撓板も同方向へ変位し、これに
より塗布剤が引き込まれる塗布剤引込空間が形成されて
塗布剤の基材への供給が停止される。
によりスプリングの弾力に抗して押されて塗布剤供給流
路側に向けて移動した状態では、可撓板は塗布剤供給形
態となり、このとき塗布剤供給流路を流れる塗布剤が吐
出口を経て基材に供給される。一方、ピストン部材が、
スプリングにより押されて塗布剤供給流路から離れる方
向に移動することで、可撓板も同方向へ変位し、これに
より塗布剤が引き込まれる塗布剤引込空間が形成されて
塗布剤の基材への供給が停止される。
【0021】請求項4の発明は、搬送される基材の表面
に塗布剤を塗布するためのダイ要素を、前記基材の表面
に近接させて配置し、前記ダイ要素は、吐出口が前記基
材の表面に向けて開口する塗布剤供給流路を備え、この
塗布剤供給流路の途中に、流路壁の一部を構成する可撓
板を設け、この可撓板をほぼ平面状態として基材表面に
塗布剤を供給する一方、前記可撓板を平面状態に対して
塗布剤供給流路から離れる方向に変位させて塗布剤供給
流路に連通する塗布剤引込空間を形成し、この塗布剤引
込空間に塗布剤を引き込んで基材表面への塗布剤供給を
停止し、前記塗布剤供給と塗布剤供給停止とを、交互に
繰り返し行うことで、基材表面に塗布剤が塗布される塗
工部を間欠的に形成するコーティング方法としてある。
に塗布剤を塗布するためのダイ要素を、前記基材の表面
に近接させて配置し、前記ダイ要素は、吐出口が前記基
材の表面に向けて開口する塗布剤供給流路を備え、この
塗布剤供給流路の途中に、流路壁の一部を構成する可撓
板を設け、この可撓板をほぼ平面状態として基材表面に
塗布剤を供給する一方、前記可撓板を平面状態に対して
塗布剤供給流路から離れる方向に変位させて塗布剤供給
流路に連通する塗布剤引込空間を形成し、この塗布剤引
込空間に塗布剤を引き込んで基材表面への塗布剤供給を
停止し、前記塗布剤供給と塗布剤供給停止とを、交互に
繰り返し行うことで、基材表面に塗布剤が塗布される塗
工部を間欠的に形成するコーティング方法としてある。
【0022】上記コーティング方法によれば、可撓板を
往復変形移動させることで、塗布剤の基材への供給およ
び供給停止がなされ、これにより基材の搬送方向に沿っ
て間欠的に塗布剤が塗布され、間欠塗工がなされること
になる。
往復変形移動させることで、塗布剤の基材への供給およ
び供給停止がなされ、これにより基材の搬送方向に沿っ
て間欠的に塗布剤が塗布され、間欠塗工がなされること
になる。
【0023】請求項5の発明は、請求項4の発明のコー
ティング方法において、塗布剤引込空間に引き込まれる
塗布剤の吐出口側の端部を、吐出口の先端から所定距離
だけ塗布剤供給流路内に入り込ませるコーティング方法
としてある。
ティング方法において、塗布剤引込空間に引き込まれる
塗布剤の吐出口側の端部を、吐出口の先端から所定距離
だけ塗布剤供給流路内に入り込ませるコーティング方法
としてある。
【0024】上記コーティング方法によれば、塗布剤
は、塗布剤供給停止時に、吐出口の先端から塗布剤供給
流路内に所定距離入り込んだ状態となるので、吐出口先
端からの塗布剤の液だれが回避される。
は、塗布剤供給停止時に、吐出口の先端から塗布剤供給
流路内に所定距離入り込んだ状態となるので、吐出口先
端からの塗布剤の液だれが回避される。
【0025】請求項6の発明は、請求項4の発明のコー
ティング方法において、塗布剤は、塗布剤供給手段によ
って一定量継続して塗布剤供給流路に供給され、前記塗
布剤供給手段は、塗工部における規定の塗工膜厚を形成
する際に必要な供給量から、塗布剤引込空間に引き込ま
れる塗布剤の量を差し引いた量の塗布剤を供給量として
供給するコーティング方法としてある。
ティング方法において、塗布剤は、塗布剤供給手段によ
って一定量継続して塗布剤供給流路に供給され、前記塗
布剤供給手段は、塗工部における規定の塗工膜厚を形成
する際に必要な供給量から、塗布剤引込空間に引き込ま
れる塗布剤の量を差し引いた量の塗布剤を供給量として
供給するコーティング方法としてある。
【0026】上記コーティング方法によれば、塗布剤を
吐出口から基材に向けて吐出する際には、塗布剤は、塗
布剤供給手段により供給する分と、塗布剤引込空間に引
き込んだ分とが、吐出口から吐出されるので、塗布剤供
給手段による供給量を、前記塗布剤引込空間に引き込ん
だ分を差し引いたものとすることで、規定の塗工膜厚が
得られる。
吐出口から基材に向けて吐出する際には、塗布剤は、塗
布剤供給手段により供給する分と、塗布剤引込空間に引
き込んだ分とが、吐出口から吐出されるので、塗布剤供
給手段による供給量を、前記塗布剤引込空間に引き込ん
だ分を差し引いたものとすることで、規定の塗工膜厚が
得られる。
【0027】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づき説明する。
面に基づき説明する。
【0028】図1は、この発明の実施の一形態を示すコ
ーティング装置の正面断面図、図2は図1のC−C断面
図である。ここにおける基材31は、リチウムイオン2
次電池の、アルミニウム箔または銅箔からなる電極基材
であり、この基材31の両面に電極合剤である塗布剤を
塗布すべく、図1中で右から左方向へ水平状態で搬送さ
れる。なお、ここでは基材31に対し図1中で上面にの
み塗布剤を塗布する構成としてあるが、同下面にも同様
の構成部材を上下対称に配置して、基材31の両面に塗
布剤を塗布する構成としてもよい。
ーティング装置の正面断面図、図2は図1のC−C断面
図である。ここにおける基材31は、リチウムイオン2
次電池の、アルミニウム箔または銅箔からなる電極基材
であり、この基材31の両面に電極合剤である塗布剤を
塗布すべく、図1中で右から左方向へ水平状態で搬送さ
れる。なお、ここでは基材31に対し図1中で上面にの
み塗布剤を塗布する構成としてあるが、同下面にも同様
の構成部材を上下対称に配置して、基材31の両面に塗
布剤を塗布する構成としてもよい。
【0029】ダイ要素を構成する第1のブロック33と
第2のブロック35とは、ボルト37によって相互に結
合され、この各ブロック33,35相互間に塗布剤供給
流路39が形成されている。各ブロック33,35は、
図2に示すように、両側部に固定されたサポート部材4
0によって支持されている。
第2のブロック35とは、ボルト37によって相互に結
合され、この各ブロック33,35相互間に塗布剤供給
流路39が形成されている。各ブロック33,35は、
図2に示すように、両側部に固定されたサポート部材4
0によって支持されている。
【0030】上記塗布剤供給流路39は、第2のブロッ
ク35側に凹部となって形成されている容積部41と、
容積部41に一端が連通し、他端が基材31の表面に対
向して吐出口43となって開口する流路部45とを有
し、図2に示すように、流路部45の幅Lは基材31の
幅Wより狭くなっている。すなわち、基材31は、吐出
口43に対応する中央部位に塗布剤が塗布され、幅方向
両側縁には塗布剤が塗布されないものとなる。
ク35側に凹部となって形成されている容積部41と、
容積部41に一端が連通し、他端が基材31の表面に対
向して吐出口43となって開口する流路部45とを有
し、図2に示すように、流路部45の幅Lは基材31の
幅Wより狭くなっている。すなわち、基材31は、吐出
口43に対応する中央部位に塗布剤が塗布され、幅方向
両側縁には塗布剤が塗布されないものとなる。
【0031】第1のブロック33には、容積部41に一
端が連通する塗布剤入口流路47が形成され、塗布剤入
口流路47の他端は、外部に開口して塗布剤供給配管4
9を介して塗布剤供給手段としてのポンプ51に接続さ
れている。ポンプ51は、塗布剤を一定量継続して塗布
剤供給流路39に送り込む。
端が連通する塗布剤入口流路47が形成され、塗布剤入
口流路47の他端は、外部に開口して塗布剤供給配管4
9を介して塗布剤供給手段としてのポンプ51に接続さ
れている。ポンプ51は、塗布剤を一定量継続して塗布
剤供給流路39に送り込む。
【0032】流路部45は、容積部41側の絞り部45
aと、吐出口43側の絞り部45bと、これら両絞り部
45a,45b相互間に形成される拡大部45cとを備
えている。拡大部45cに対応する第1のブロック33
には、図2に示すように、吐出口43の幅Lと同幅の凹
部33aが形成され、凹部33aの中央には外部に連通
する貫通孔33bが形成されている。上記凹部33aの
第2のブロック35側の開口を閉塞するように、塗布剤
供給流路39の流路壁の一部を構成する可撓性のステン
レス板やテフロン(商標登録)板などからなる可撓板5
5が設けられている。この可撓板55は、拡大部45c
の形状に適合する形状となっている。
aと、吐出口43側の絞り部45bと、これら両絞り部
45a,45b相互間に形成される拡大部45cとを備
えている。拡大部45cに対応する第1のブロック33
には、図2に示すように、吐出口43の幅Lと同幅の凹
部33aが形成され、凹部33aの中央には外部に連通
する貫通孔33bが形成されている。上記凹部33aの
第2のブロック35側の開口を閉塞するように、塗布剤
供給流路39の流路壁の一部を構成する可撓性のステン
レス板やテフロン(商標登録)板などからなる可撓板5
5が設けられている。この可撓板55は、拡大部45c
の形状に適合する形状となっている。
【0033】凹部33aの第2のブロック35側の開口
周縁には、段部33cが全周にわたり形成され、この段
部33cに嵌め込まれた枠体57により可撓板55の周
縁が挟持され、第1のブロック33に挿入したボルト5
9を枠体57にねじ込むことで、可撓板55が固定され
る。このとき、段部33cと可撓板55との間にはパッ
キン61が介装されてこれら両者間がシールされる。
周縁には、段部33cが全周にわたり形成され、この段
部33cに嵌め込まれた枠体57により可撓板55の周
縁が挟持され、第1のブロック33に挿入したボルト5
9を枠体57にねじ込むことで、可撓板55が固定され
る。このとき、段部33cと可撓板55との間にはパッ
キン61が介装されてこれら両者間がシールされる。
【0034】可撓板55の第2のブロック35と反対側
の面には、前記貫通孔33bを通して外部に突出するピ
ストン部材63が連結されている。ピストン部材63
は、図3および図3の平面図である図4に示すように、
可撓板55の中央に複数のリベット65により固定され
る支持板67と、支持板67の可撓板55と反対側の中
央に固定される軸69とから構成されている。
の面には、前記貫通孔33bを通して外部に突出するピ
ストン部材63が連結されている。ピストン部材63
は、図3および図3の平面図である図4に示すように、
可撓板55の中央に複数のリベット65により固定され
る支持板67と、支持板67の可撓板55と反対側の中
央に固定される軸69とから構成されている。
【0035】軸69の周囲を囲むように、第1のブロッ
ク33には、軸保持部材71がボルト73により固定さ
れている。軸保持部材71は、下部が貫通孔33bに挿
入され、この挿入された部分および外部の突出した部分
に、それぞれブッシュ75および77がそれぞ嵌入され
ている。軸69からなるピストン部材63は、各ブッシ
ュ75,77にガイドされつつ塗布剤供給流路39に対
して接近離反する方向に移動する。
ク33には、軸保持部材71がボルト73により固定さ
れている。軸保持部材71は、下部が貫通孔33bに挿
入され、この挿入された部分および外部の突出した部分
に、それぞれブッシュ75および77がそれぞ嵌入され
ている。軸69からなるピストン部材63は、各ブッシ
ュ75,77にガイドされつつ塗布剤供給流路39に対
して接近離反する方向に移動する。
【0036】軸69の可撓板55と反対側の端部は、ロ
ーラ保持具79に固定され、ローラ保持具79には、支
持軸81を介してローラ83が回転可能に保持されてい
る。ローラ保持具79の第1のブロック33側の端部外
周には、フランジ79aが形成され、このフランジ79
aと軸保持部材71との間には、ローラ保持具79を第
1のブロック33から離れる方向に付勢するスプリング
85が介装されている。
ーラ保持具79に固定され、ローラ保持具79には、支
持軸81を介してローラ83が回転可能に保持されてい
る。ローラ保持具79の第1のブロック33側の端部外
周には、フランジ79aが形成され、このフランジ79
aと軸保持部材71との間には、ローラ保持具79を第
1のブロック33から離れる方向に付勢するスプリング
85が介装されている。
【0037】一方、ローラ83の軸69と反対側には、
ローラ83に対して接触しつつ回転するカム87がカム
軸89に固定された状態で配置されている。カム軸89
は、第1のブロック33上にボルト91によって固定さ
れたカム保持部材93に、ベアリング95を介して回転
可能に保持されている。カム軸89の一端には、カップ
リング97を介してACサーボモータ99が連結されて
いる。ACサーボモータ99は、ブラケット101を介
して第1のブロック33に固定されている。
ローラ83に対して接触しつつ回転するカム87がカム
軸89に固定された状態で配置されている。カム軸89
は、第1のブロック33上にボルト91によって固定さ
れたカム保持部材93に、ベアリング95を介して回転
可能に保持されている。カム軸89の一端には、カップ
リング97を介してACサーボモータ99が連結されて
いる。ACサーボモータ99は、ブラケット101を介
して第1のブロック33に固定されている。
【0038】図5は、カム87およびローラ83の一部
を拡大して示したもので、カム87は矢印D方向に回転
する。カム87は、点Pにてローラ83に接触する状態
で、ローラ83を実線位置まで移動させ、これに伴いピ
ストン部材63を介して同方向に変位する可撓板55
は、図1および図2に示すように、ほぼ平面状態となっ
ている。この状態で、ポンプ51によって供給される塗
布剤が、塗布剤供給流路39を経て吐出口43から吐出
される。したがって、可撓板55は上記平面状態のとき
が塗布剤供給形態となる。
を拡大して示したもので、カム87は矢印D方向に回転
する。カム87は、点Pにてローラ83に接触する状態
で、ローラ83を実線位置まで移動させ、これに伴いピ
ストン部材63を介して同方向に変位する可撓板55
は、図1および図2に示すように、ほぼ平面状態となっ
ている。この状態で、ポンプ51によって供給される塗
布剤が、塗布剤供給流路39を経て吐出口43から吐出
される。したがって、可撓板55は上記平面状態のとき
が塗布剤供給形態となる。
【0039】一方、図5の状態から、カム87が矢印D
方向に角度αだけ回転し、点Qでローラ83に接触する
と、ローラ83は二点鎖線で示す位置まで移動し、これ
に伴いスプリング85の付勢力によりピストン部材63
を介して可撓板55が、塗布剤供給流路39から離れる
方向に変位する。この可撓板55の変位により塗布剤供
給流路39に連通する塗布剤引込空間Kが形成され、こ
の塗布剤引込空間Kに、塗布剤供給流路39内の塗布剤
が引き込まれて基材31表面への塗布剤供給が停止され
る。したがって、可撓板55は、塗布剤供給流路39か
ら離れる方向に変位した状態が塗布剤供給停止形態とな
る。
方向に角度αだけ回転し、点Qでローラ83に接触する
と、ローラ83は二点鎖線で示す位置まで移動し、これ
に伴いスプリング85の付勢力によりピストン部材63
を介して可撓板55が、塗布剤供給流路39から離れる
方向に変位する。この可撓板55の変位により塗布剤供
給流路39に連通する塗布剤引込空間Kが形成され、こ
の塗布剤引込空間Kに、塗布剤供給流路39内の塗布剤
が引き込まれて基材31表面への塗布剤供給が停止され
る。したがって、可撓板55は、塗布剤供給流路39か
ら離れる方向に変位した状態が塗布剤供給停止形態とな
る。
【0040】カム87の半径は、上記点Pでの半径r1
より点Q(および点R)での半径r2が小さく、点Rか
らカム87の回転方向と反対方向に沿って徐々に大きく
なって点Pで最大となる。したがって、カム87が、点
Pと点Qとでそれぞれ接触するときのローラ83の移動
距離Sが、ピストン部材63のストロークとなり、この
ストローク分だけ可撓板55が変位する。
より点Q(および点R)での半径r2が小さく、点Rか
らカム87の回転方向と反対方向に沿って徐々に大きく
なって点Pで最大となる。したがって、カム87が、点
Pと点Qとでそれぞれ接触するときのローラ83の移動
距離Sが、ピストン部材63のストロークとなり、この
ストローク分だけ可撓板55が変位する。
【0041】次に、上記したコーティング装置の動作を
説明する。まず、図1および図2に示すように、可撓板
55が平面状態にあるとき、ポンプ51から吐出された
塗布剤は、塗布剤供給配管49および塗布剤入口流路4
7を経て塗布剤供給流路39に流入し、吐出口43から
吐出されて基材31の表面に塗布剤が塗布される。図6
(a)は、このときの吐出口43周辺の概略図で、塗布
剤が吐出口43から吐出されて基材31の表面に塗布さ
れている状態を示す。このときカム87は、ローラ83
への接触位置が点RからD方向に回転して点Pに至る範
囲にある。これにより、基材31上には塗布剤が塗布さ
れる塗工部Eが形成される。
説明する。まず、図1および図2に示すように、可撓板
55が平面状態にあるとき、ポンプ51から吐出された
塗布剤は、塗布剤供給配管49および塗布剤入口流路4
7を経て塗布剤供給流路39に流入し、吐出口43から
吐出されて基材31の表面に塗布剤が塗布される。図6
(a)は、このときの吐出口43周辺の概略図で、塗布
剤が吐出口43から吐出されて基材31の表面に塗布さ
れている状態を示す。このときカム87は、ローラ83
への接触位置が点RからD方向に回転して点Pに至る範
囲にある。これにより、基材31上には塗布剤が塗布さ
れる塗工部Eが形成される。
【0042】一方、カム87が、図5に示す点Pがロー
ラに接触する位置から、点Qがローラ83に接触する位
置までD方向に回転すると、ローラ83が二点鎖線位置
となり、これに伴いピストン部材63も同方向に移動し
て可撓板55が二点鎖線位置となり、塗布剤引込空間K
を形成する。
ラに接触する位置から、点Qがローラ83に接触する位
置までD方向に回転すると、ローラ83が二点鎖線位置
となり、これに伴いピストン部材63も同方向に移動し
て可撓板55が二点鎖線位置となり、塗布剤引込空間K
を形成する。
【0043】塗布剤引込空間Kが形成されることで、塗
布剤供給流路39に継続して供給されている塗布剤の一
部が、塗布剤引込空間Kに引き込まれ、これに伴い図6
(b)に示すように、吐出口43周辺の塗布剤が塗布剤
供給流路39内に入り込んだ状態となり、吐出口43か
らの塗布剤の塗布が停止される。これにより、塗布剤が
塗布されない非塗工部Fが、カム87の点Pから点Rに
至るまでの間に形成される。
布剤供給流路39に継続して供給されている塗布剤の一
部が、塗布剤引込空間Kに引き込まれ、これに伴い図6
(b)に示すように、吐出口43周辺の塗布剤が塗布剤
供給流路39内に入り込んだ状態となり、吐出口43か
らの塗布剤の塗布が停止される。これにより、塗布剤が
塗布されない非塗工部Fが、カム87の点Pから点Rに
至るまでの間に形成される。
【0044】このようにカム87が回転することで、可
撓板55が変位し、これに伴いカム87の点Rから点P
までの間は塗布剤が図6(a)のように吐出される状態
と、図6(b)のようにカム87の点Pから点Rまでの
間は確実に吐出されない状態とが繰り返し交互に発生
し、この結果基材31上には、塗工部Eと非塗工部Fと
が交互に形成される間欠塗工がなされるものとなる。
撓板55が変位し、これに伴いカム87の点Rから点P
までの間は塗布剤が図6(a)のように吐出される状態
と、図6(b)のようにカム87の点Pから点Rまでの
間は確実に吐出されない状態とが繰り返し交互に発生
し、この結果基材31上には、塗工部Eと非塗工部Fと
が交互に形成される間欠塗工がなされるものとなる。
【0045】上記したコーティング装置によれば、非塗
工部Fを形成するときには、塗布剤供給流路39内の塗
布剤が塗布剤引込空間Kに引き込まれ、引き込まれた塗
布剤の吐出口43側の端部Gが、吐出口43の先端から
所定距離だけ塗布剤供給流路39内に入り込んだ状態と
なるので、吐出口43における塗布剤の残圧に基づく塗
布剤の液だれが確実に回避されるとともに、非塗工部F
の形成後、塗工部Eの形成開始時での塗布面の盛り上が
りも回避され、平滑で高精度な塗布面が得られるものと
なる。
工部Fを形成するときには、塗布剤供給流路39内の塗
布剤が塗布剤引込空間Kに引き込まれ、引き込まれた塗
布剤の吐出口43側の端部Gが、吐出口43の先端から
所定距離だけ塗布剤供給流路39内に入り込んだ状態と
なるので、吐出口43における塗布剤の残圧に基づく塗
布剤の液だれが確実に回避されるとともに、非塗工部F
の形成後、塗工部Eの形成開始時での塗布面の盛り上が
りも回避され、平滑で高精度な塗布面が得られるものと
なる。
【0046】また、カム87の回転によって間欠塗工が
なされるので、塗工速度の遅れは発生せず、効率よい間
欠塗工が行える。さらに、可撓板55をカム87の駆動
によって往復変形移動させる構造であるので、装置製造
に困難を要するほどに高精度が作業を行う必要はない。
なされるので、塗工速度の遅れは発生せず、効率よい間
欠塗工が行える。さらに、可撓板55をカム87の駆動
によって往復変形移動させる構造であるので、装置製造
に困難を要するほどに高精度が作業を行う必要はない。
【0047】ここで、図6(a)に示すように、塗工部
Eと非塗工部Fとの長さの和に相当する塗工ピッチHmm
は、カム87の1回転分に相当し、カム87が図5に示
す角度αだけ回転し、さらに点Rがローラ83に接触す
る位置まで回転する間に、非塗工部Fが形成される。カ
ム87の回転数Nrpmは、基材31の搬送速度をVm/min
とすると、(1000×V)/Hで計算される。
Eと非塗工部Fとの長さの和に相当する塗工ピッチHmm
は、カム87の1回転分に相当し、カム87が図5に示
す角度αだけ回転し、さらに点Rがローラ83に接触す
る位置まで回転する間に、非塗工部Fが形成される。カ
ム87の回転数Nrpmは、基材31の搬送速度をVm/min
とすると、(1000×V)/Hで計算される。
【0048】また、塗工部Eを形成する際には、ポンプ
51から一定量継続して吐出されている塗布剤に加え、
塗布剤引込空間Kに引き込まれた分の塗布剤も、可撓板
55に押されて基材31上に塗布されることとなる。こ
のため、非塗工部Fの形成後、次の1つの塗工部Eを形
成する際に、規定の塗工膜厚を得るためには、ポンプ5
1による吐出量のみによって得られる塗工膜厚に相当す
る塗布剤の量から、塗布剤引込空間Kに引き込まれる塗
布剤の量を差し引いた量を、ポンプ51の吐出量とする
必要がある。
51から一定量継続して吐出されている塗布剤に加え、
塗布剤引込空間Kに引き込まれた分の塗布剤も、可撓板
55に押されて基材31上に塗布されることとなる。こ
のため、非塗工部Fの形成後、次の1つの塗工部Eを形
成する際に、規定の塗工膜厚を得るためには、ポンプ5
1による吐出量のみによって得られる塗工膜厚に相当す
る塗布剤の量から、塗布剤引込空間Kに引き込まれる塗
布剤の量を差し引いた量を、ポンプ51の吐出量とする
必要がある。
【0049】
【発明の効果】以上説明してきたように、請求項1また
は請求項4の発明によれば、間欠塗工を行うための塗布
剤の基材への供給および供給停止を、可撓板の往復変形
移動によって形成する塗布剤引込空間に吐出口付近の塗
布剤を引き込むことで行うようにしたので、吐出口から
の液だれや、塗工部形成開始時での塗工膜の盛り上がり
が発生せず、平滑で高精度な塗布面が得られるととも
に、塗工速度の遅れも発生せず、生産性が向上する。ま
た、可撓板を往復変形移動させる構造であるので、装置
製造に困難を要するほどに高精度な加工を行う必要もな
い。
は請求項4の発明によれば、間欠塗工を行うための塗布
剤の基材への供給および供給停止を、可撓板の往復変形
移動によって形成する塗布剤引込空間に吐出口付近の塗
布剤を引き込むことで行うようにしたので、吐出口から
の液だれや、塗工部形成開始時での塗工膜の盛り上がり
が発生せず、平滑で高精度な塗布面が得られるととも
に、塗工速度の遅れも発生せず、生産性が向上する。ま
た、可撓板を往復変形移動させる構造であるので、装置
製造に困難を要するほどに高精度な加工を行う必要もな
い。
【0050】請求項2の発明によれば、ピストン部材が
塗布剤供給流路に対して接近離反する方向に移動するこ
とで、可撓板は、外周縁がダイ要素に固定された状態
で、塗布剤供給形態と、中央部分が塗布剤供給流路から
離れる方向に変位した塗布剤供給停止形態との間を変位
し、これにより間欠塗工を行うことができる。
塗布剤供給流路に対して接近離反する方向に移動するこ
とで、可撓板は、外周縁がダイ要素に固定された状態
で、塗布剤供給形態と、中央部分が塗布剤供給流路から
離れる方向に変位した塗布剤供給停止形態との間を変位
し、これにより間欠塗工を行うことができる。
【0051】請求項3の発明によれば、可撓板がカムと
スプリングの作用によって確実に往復変形移動し、より
高精度な間欠塗工を行うことができる。
スプリングの作用によって確実に往復変形移動し、より
高精度な間欠塗工を行うことができる。
【0052】請求項5の発明によれば、塗布剤は、塗布
剤供給停止時に、吐出口の先端から塗布剤供給流路内に
所定距離入り込んだ状態となるので、吐出口先端からの
塗布剤の液だれを確実に回避でき、より高精度な間欠塗
工を行うことができる。
剤供給停止時に、吐出口の先端から塗布剤供給流路内に
所定距離入り込んだ状態となるので、吐出口先端からの
塗布剤の液だれを確実に回避でき、より高精度な間欠塗
工を行うことができる。
【0053】請求項6の発明によれば、塗布剤を吐出口
から基材に向けて供給する際には、塗布剤は、塗布剤供
給手段による供給分と、塗布剤引込空間に引き込んだ分
とが、供給されるので、塗布剤供給手段による供給量
を、塗布剤引込空間に引き込んだ分を差し引いたものと
することで、規定の塗工膜厚を得ることができる。
から基材に向けて供給する際には、塗布剤は、塗布剤供
給手段による供給分と、塗布剤引込空間に引き込んだ分
とが、供給されるので、塗布剤供給手段による供給量
を、塗布剤引込空間に引き込んだ分を差し引いたものと
することで、規定の塗工膜厚を得ることができる。
【図1】この発明の実施の一形態を示すコーティング装
置の正面断面図である。
置の正面断面図である。
【図2】図1のC−C断面図である。
【図3】図1のコーティング装置に使用される可撓板お
よびピストン部材の正面断面図である。
よびピストン部材の正面断面図である。
【図4】図3の平面図である。
【図5】図1のコーティング装置に使用されるカムおよ
びローラの一部を拡大して示した側面図である。
びローラの一部を拡大して示した側面図である。
【図6】(a)は図1のコーティング装置において、塗
布剤が吐出口から吐出されている状態を示す概略図で、
(b)は塗布剤の吐出が停止されている状態を示す概略
図である。
布剤が吐出口から吐出されている状態を示す概略図で、
(b)は塗布剤の吐出が停止されている状態を示す概略
図である。
【図7】従来例を示すコーティング装置の全体構成図で
ある。
ある。
【図8】他の従来例を示すコーティング装置の概略構成
図である。
図である。
31 基材 33 第1のブロック(ダイ要素) 35 第2のブロック(ダイ要素) 39 塗布剤供給流路 43 吐出口 51 ポンプ(塗布剤供給手段) 55 可撓板 63 ピストン部材 85 スプリング 87 カム E 塗工部 F 非塗工部 G 塗布剤の吐出口側の端部 K 塗布剤引込空間
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井出 彰訓 静岡県沼津市大岡2068の3 東芝機械株式 会社沼津事業所内 Fターム(参考) 4D075 AC02 AC86 CA48 DA06 DB02 DC19 EA05 4F041 AA05 AA16 AB01 BA05 BA12 BA17 BA36 BA57 CA02 CA17 5H014 AA01 AA04 BB08 BB17 CC01 CC07 HH06
Claims (6)
- 【請求項1】 搬送される基材の表面に塗布剤を塗布す
るためのダイ要素を、前記基材の表面に近接させて配置
し、前記ダイ要素は、吐出口が前記基材の表面に向けて
開口する塗布剤供給流路を備え、この塗布剤供給流路の
途中に、流路壁の一部を構成する可撓板を設け、この可
撓板は、基材表面に塗布剤を供給する塗布剤供給形態
と、この塗布剤供給形態に対し塗布剤供給流路から離れ
る方向に変位した状態で、塗布剤供給流路に連通する塗
布剤引込空間を形成して基材表面への塗布剤供給を停止
する塗布剤供給停止形態とに変位可能であることを特徴
とするコーティング装置。 - 【請求項2】 可撓板は、外周縁がダイ要素に固定され
るとともに、中央部分が塗布剤供給流路に対して接近離
反する方向に移動可能なピストン部材に連結されている
ことを特徴とする請求項1記載のコーティング装置。 - 【請求項3】 ピストン部材は、スプリングによって塗
布剤供給流路から離れる方向に押圧されて移動するとと
もに、前記塗布剤供給流路と反対側の端部に摺接しつつ
回転するカムにより前記スプリングに抗して前記塗布剤
供給流路側に移動することを特徴とする請求項1記載の
コーティング装置。 - 【請求項4】 搬送される基材の表面に塗布剤を塗布す
るためのダイ要素を、前記基材の表面に近接させて配置
し、前記ダイ要素は、吐出口が前記基材の表面に向けて
開口する塗布剤供給流路を備え、この塗布剤供給流路の
途中に、流路壁の一部を構成する可撓板を設け、この可
撓板をほぼ平面状態として基材表面に塗布剤を供給する
一方、前記可撓板を平面状態に対して塗布剤供給流路か
ら離れる方向に変位させて塗布剤供給流路に連通する塗
布剤引込空間を形成し、この塗布剤引込空間に塗布剤を
引き込んで基材表面への塗布剤供給を停止し、前記塗布
剤供給と塗布剤供給停止とを、交互に繰り返し行うこと
で、基材表面に塗布剤が塗布される塗工部を間欠的に形
成することを特徴とするコーティング方法。 - 【請求項5】 塗布剤引込空間に引き込まれる塗布剤の
吐出口側の端部を、吐出口の先端から所定距離だけ塗布
剤供給流路内に入り込ませることを特徴とする請求項4
記載のコーティング方法。 - 【請求項6】 塗布剤は、塗布剤供給手段によって一定
量継続して塗布剤供給流路に供給され、前記塗布剤供給
手段は、塗工部における規定の塗工膜厚を形成する際に
必要な供給量から、塗布剤引込空間に引き込まれる塗布
剤の量を差し引いた量の塗布剤を供給量として供給する
ことを特徴とする請求項4記載のコーティング方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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- 1998-07-17 JP JP10203868A patent/JP2000033315A/ja active Pending
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