JP2000028809A - 紫外域レーザー用ミラー - Google Patents
紫外域レーザー用ミラーInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】
【解決手段】少なくとも、基板上に低屈折率層、高屈折
率層の交互層からなる第１誘電体多層膜層、保護誘電体
多層膜層を順次積層してなる紫外域レーザー用ミラーで
あって、前記第１誘電体多層膜層の構成が基板側からＨ
1／［Ｌ1／Ｈ1］xであり、前記保護誘電体多層膜層の構
成が基板側からＬ2／［Ｈ2／Ｌ2］y又はＨ 2／［Ｌ2／Ｈ
2］yであり、λを設計中心波長として、各層の光学的膜
厚がＨ1（第１高屈折率層）＝0.25λ〜0.35λ、Ｈ2（第
２高屈折率層）＝0.25λ〜1.0λ、Ｌ1（第１低屈折率
層）＝0.25λ〜0.35λ、Ｌ2（第２低屈折率層）＝0.25
λ〜1.0λ ｘ≧3、ｙ=1〜3であり、第１高屈折率層と第１低屈折率
層の屈折率差が０．２７以上であって、いずれかの材料
が、水に対して大きな溶解度を有することを特徴とする
紫外域用ミラー。
率層の交互層からなる第１誘電体多層膜層、保護誘電体
多層膜層を順次積層してなる紫外域レーザー用ミラーで
あって、前記第１誘電体多層膜層の構成が基板側からＨ
1／［Ｌ1／Ｈ1］xであり、前記保護誘電体多層膜層の構
成が基板側からＬ2／［Ｈ2／Ｌ2］y又はＨ 2／［Ｌ2／Ｈ
2］yであり、λを設計中心波長として、各層の光学的膜
厚がＨ1（第１高屈折率層）＝0.25λ〜0.35λ、Ｈ2（第
２高屈折率層）＝0.25λ〜1.0λ、Ｌ1（第１低屈折率
層）＝0.25λ〜0.35λ、Ｌ2（第２低屈折率層）＝0.25
λ〜1.0λ ｘ≧3、ｙ=1〜3であり、第１高屈折率層と第１低屈折率
層の屈折率差が０．２７以上であって、いずれかの材料
が、水に対して大きな溶解度を有することを特徴とする
紫外域用ミラー。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外域レーザー用
ミラーに関するものである。
ミラーに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体素子の集積度を増すため
に、半導体製造用縮小投影露光装置（ステッパー）の高
解像力化の要求が高まっている。このステッパーによる
フォトリソグラフィーの解像力を挙げる一つの方法とし
て、光源波長の短波長化が挙げられる。最近では、水銀
ランプより短波長の光を発振でき、かつ高出力なエキシ
マレーザーを光源としたステッパーの実用化が始まって
いる。このステッパーの光学系は、レンズやミラーなど
の各種光学素子を組み合わせて構成されている。
に、半導体製造用縮小投影露光装置（ステッパー）の高
解像力化の要求が高まっている。このステッパーによる
フォトリソグラフィーの解像力を挙げる一つの方法とし
て、光源波長の短波長化が挙げられる。最近では、水銀
ランプより短波長の光を発振でき、かつ高出力なエキシ
マレーザーを光源としたステッパーの実用化が始まって
いる。このステッパーの光学系は、レンズやミラーなど
の各種光学素子を組み合わせて構成されている。
【０００３】光源の短波長化が進むにつれ、光学薄膜に
使用できる材料も限定され、高屈折物質、低屈折物質と
もに弗素化合物を使用する機会が多くなってきている。
広帯域、高反射率の高精度ミラーを得るためには高屈折
率物質と低屈折物質両者の屈折率差が大きいほど都合が
良い。特に高屈折物質では弗化ランタン（LaF3）、低屈
折物質では弗化アルミニウム（AlF3）、クリオライト
（Na3AlF6）等の使用が有効であることがわかってい
る。
使用できる材料も限定され、高屈折物質、低屈折物質と
もに弗素化合物を使用する機会が多くなってきている。
広帯域、高反射率の高精度ミラーを得るためには高屈折
率物質と低屈折物質両者の屈折率差が大きいほど都合が
良い。特に高屈折物質では弗化ランタン（LaF3）、低屈
折物質では弗化アルミニウム（AlF3）、クリオライト
（Na3AlF6）等の使用が有効であることがわかってい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、弗素化合物の
中には水に対して高い溶解度を持つものがある。例えば
上記弗化アルミニウムは100gの水に対して約0.5gの溶解
度（25℃）を持っている。 この様に水に対して大きな
溶解度を持つと室内の湿度によって膜が溶けてしまい、
ミラーとしての性能を失ってしまうことがある。また、
例えば使用する環境を乾燥窒素などを用いて水分を少な
くすることは可能であるが、完全に水分０の環境を達成
するのは容易ではない。従って、光学薄膜材料は、１０
０ｇの水に対して約０．０１ｇより小さい溶解度である
ことが好ましい。
中には水に対して高い溶解度を持つものがある。例えば
上記弗化アルミニウムは100gの水に対して約0.5gの溶解
度（25℃）を持っている。 この様に水に対して大きな
溶解度を持つと室内の湿度によって膜が溶けてしまい、
ミラーとしての性能を失ってしまうことがある。また、
例えば使用する環境を乾燥窒素などを用いて水分を少な
くすることは可能であるが、完全に水分０の環境を達成
するのは容易ではない。従って、光学薄膜材料は、１０
０ｇの水に対して約０．０１ｇより小さい溶解度である
ことが好ましい。
【０００５】しかし、このように水に対して大きな溶解
度（水に対する溶解度：０．０１ｇ以上）を有するもの
であっても、屈折率の関係から、光学的特性を満足させ
るために使用せざるを得ない事もある。以下にその例を
示す。図５に、光学的膜厚０．２５λで、水に対して不
溶な弗化ランタン（高屈折率層）と、光学的膜厚０．２
５λで、水に対して難溶な弗化マグネシウム（低屈折率
層）とからなる中心波長１９３．４ｎｍの多層膜ミラー
（第１の例）の分光特性図を示す。また、図６に、光学
的膜厚０．２５λの弗化ランタン（高屈折率層）と、光
学的膜厚０．２５λで、水に対して可溶な弗化アルミニ
ウム（低屈折率層）とからなる中心波長１９３．４ｎｍ
の多層膜ミラー（第２の例）の分光特性図を示す。図５
より、１９３．４ｎｍにおいて、反射率が９８％であ
り、図６より、１９３．４ｎｍにおいて、反射率が９９
％以上であることから分かるように、水に可溶な材料を
用いた時の方が分光反射率が高い場合がある。
度（水に対する溶解度：０．０１ｇ以上）を有するもの
であっても、屈折率の関係から、光学的特性を満足させ
るために使用せざるを得ない事もある。以下にその例を
示す。図５に、光学的膜厚０．２５λで、水に対して不
溶な弗化ランタン（高屈折率層）と、光学的膜厚０．２
５λで、水に対して難溶な弗化マグネシウム（低屈折率
層）とからなる中心波長１９３．４ｎｍの多層膜ミラー
（第１の例）の分光特性図を示す。また、図６に、光学
的膜厚０．２５λの弗化ランタン（高屈折率層）と、光
学的膜厚０．２５λで、水に対して可溶な弗化アルミニ
ウム（低屈折率層）とからなる中心波長１９３．４ｎｍ
の多層膜ミラー（第２の例）の分光特性図を示す。図５
より、１９３．４ｎｍにおいて、反射率が９８％であ
り、図６より、１９３．４ｎｍにおいて、反射率が９９
％以上であることから分かるように、水に可溶な材料を
用いた時の方が分光反射率が高い場合がある。
【０００６】しかし、この弗化ランタン（高屈折率層）
と弗化アルミニウム（低屈折率層）からなるミラーを湿
気を含んだ環境下で使用し続けると、例えば図７に示す
様な反射率特性になることが予想され、このようなミラ
ーがステッパーの光学系中に用いられることは露光効率
の低下につながる。そこで、本発明は、従来のこのよう
な問題点に鑑みてなされたものであり、耐湿性を有し、
かつ１５０ｎｍ〜３００ｎｍの紫外線領域において良好
な反射特性を長期間維持することが可能な紫外域レーザ
ー用ミラーを提供することを目的とする。
と弗化アルミニウム（低屈折率層）からなるミラーを湿
気を含んだ環境下で使用し続けると、例えば図７に示す
様な反射率特性になることが予想され、このようなミラ
ーがステッパーの光学系中に用いられることは露光効率
の低下につながる。そこで、本発明は、従来のこのよう
な問題点に鑑みてなされたものであり、耐湿性を有し、
かつ１５０ｎｍ〜３００ｎｍの紫外線領域において良好
な反射特性を長期間維持することが可能な紫外域レーザ
ー用ミラーを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、第一に「少な
くとも、基板上に低屈折率層、高屈折率層の交互層から
なる第１誘電体多層膜層、保護誘電体多層膜層を順次積
層してなる紫外域レーザー用ミラーであって、前記第１
誘電体多層膜層の構成が基板側からＨ1／［Ｌ1／Ｈ1］x
であり、前記保護誘電体多層膜層の構成が基板側からＬ
2／［Ｈ2／Ｌ2］y又はＨ2／［Ｌ2／Ｈ2］yであり、λを
設計中心波長として、各層の光学的膜厚が Ｈ1（第１高屈折率層）＝0.25λ〜0.35λ Ｈ2（第２高屈折率層）＝0.25λ〜1.0λ Ｌ1（第１低屈折率層）＝0.25λ〜0.35λ Ｌ2（第２低屈折率層）＝0.25λ〜1.0λ ｘ≧3 ｙ=1〜3であり、第１高屈折率層と第１低屈折率層の屈
折率差が０．２７以上であって、いずれかの材料が、水
に対して大きな溶解度を有することを特徴とする紫外域
用ミラー（請求項１）」を提供する。
くとも、基板上に低屈折率層、高屈折率層の交互層から
なる第１誘電体多層膜層、保護誘電体多層膜層を順次積
層してなる紫外域レーザー用ミラーであって、前記第１
誘電体多層膜層の構成が基板側からＨ1／［Ｌ1／Ｈ1］x
であり、前記保護誘電体多層膜層の構成が基板側からＬ
2／［Ｈ2／Ｌ2］y又はＨ2／［Ｌ2／Ｈ2］yであり、λを
設計中心波長として、各層の光学的膜厚が Ｈ1（第１高屈折率層）＝0.25λ〜0.35λ Ｈ2（第２高屈折率層）＝0.25λ〜1.0λ Ｌ1（第１低屈折率層）＝0.25λ〜0.35λ Ｌ2（第２低屈折率層）＝0.25λ〜1.0λ ｘ≧3 ｙ=1〜3であり、第１高屈折率層と第１低屈折率層の屈
折率差が０．２７以上であって、いずれかの材料が、水
に対して大きな溶解度を有することを特徴とする紫外域
用ミラー（請求項１）」を提供する。
【０００８】また、本発明は第二に「前記第１又は第２
高屈折率層の材料が弗化ネオジム（NdF3）、弗化ランタ
ン（LaF3）、弗化ガドリニウム（GdF3）、弗化ディスプ
ロシウム（DyF3）、酸化アルミニウム（Al2O3）、弗化
鉛（PbF2）、酸化ハフニウム（HfO2）及び、これらの混
合物または化合物の群より選ばれた1つ以上の成分であ
り、前記第１低屈折率層の材料が弗化アルミニウム（Al
F3）、クリオライト（Na3AlF6）、前記第２低屈折層の
材料が弗化マグネシウム（MgF2）、弗化ナトリウム（Na
F）、弗化リチウム（LiF）、弗化カルシウム（CaF）、
弗化バリウム（BaF2）、弗化ストロンチウム（SrF3)、
酸化シリコン（SiO2）、チオライト（Na5Al3F14）及び
これらの混合物又は化合物の群より選ばれた1つ以上の
成分であることを特徴とする請求項１記載の紫外域レー
ザー用ミラー（請求項２）」を提供する。
高屈折率層の材料が弗化ネオジム（NdF3）、弗化ランタ
ン（LaF3）、弗化ガドリニウム（GdF3）、弗化ディスプ
ロシウム（DyF3）、酸化アルミニウム（Al2O3）、弗化
鉛（PbF2）、酸化ハフニウム（HfO2）及び、これらの混
合物または化合物の群より選ばれた1つ以上の成分であ
り、前記第１低屈折率層の材料が弗化アルミニウム（Al
F3）、クリオライト（Na3AlF6）、前記第２低屈折層の
材料が弗化マグネシウム（MgF2）、弗化ナトリウム（Na
F）、弗化リチウム（LiF）、弗化カルシウム（CaF）、
弗化バリウム（BaF2）、弗化ストロンチウム（SrF3)、
酸化シリコン（SiO2）、チオライト（Na5Al3F14）及び
これらの混合物又は化合物の群より選ばれた1つ以上の
成分であることを特徴とする請求項１記載の紫外域レー
ザー用ミラー（請求項２）」を提供する。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。図１は、本発明にかかる第１
実施形態の紫外域レーザー用ミラーの概略断面図であ
る。第１実施形態の紫外域レーザー用ミラーは、精密に
研磨された合成石英ガラス基板１上に、第１誘電体多層
膜層４ａとして光学的膜厚0.25λの弗化ネオジム（第１
高屈折率層、ｎ＝１．７４）２、光 学的膜厚0.25λの
クリオライト（第１低屈折率層、ｎ＝１．３９：100gの
水に対して約0.06gの溶解度）３及び光学的膜厚0.25λ
の弗化ネオジム（第１高屈折率層、ｎ＝１．７４）２か
らなる２０対の交互層が順次形成され、さらにその上
に、保護誘電体多層膜層４ｂとして、光学的膜厚0.25λ
の弗化ランタン（第２高屈折率層、ｎ＝１．６９）５、
光学的膜厚0.25λの弗化マグネシウム（第２低屈折率
層、ｎ＝１．４４）６、光学的膜厚0.25λの弗化ランタ
ン（第２高屈折率層、ｎ＝１．６９）５が順次形成され
た構成である。
を参照しながら説明する。図１は、本発明にかかる第１
実施形態の紫外域レーザー用ミラーの概略断面図であ
る。第１実施形態の紫外域レーザー用ミラーは、精密に
研磨された合成石英ガラス基板１上に、第１誘電体多層
膜層４ａとして光学的膜厚0.25λの弗化ネオジム（第１
高屈折率層、ｎ＝１．７４）２、光 学的膜厚0.25λの
クリオライト（第１低屈折率層、ｎ＝１．３９：100gの
水に対して約0.06gの溶解度）３及び光学的膜厚0.25λ
の弗化ネオジム（第１高屈折率層、ｎ＝１．７４）２か
らなる２０対の交互層が順次形成され、さらにその上
に、保護誘電体多層膜層４ｂとして、光学的膜厚0.25λ
の弗化ランタン（第２高屈折率層、ｎ＝１．６９）５、
光学的膜厚0.25λの弗化マグネシウム（第２低屈折率
層、ｎ＝１．４４）６、光学的膜厚0.25λの弗化ランタ
ン（第２高屈折率層、ｎ＝１．６９）５が順次形成され
た構成である。
【００１０】なお、各層の膜は、抵抗加熱蒸着法、イオ
ンビーム法、スパッタリング法などの公知の技術により
基板上に形成される。また、図２は第一の実施形態の紫
外域レーザー用ミラーの分光反射特性図である。１９
３．４ｎｍにおいて、反射率が９９％以上であり、図６
と比較してもその特性に遜色が無いことがわかる。
ンビーム法、スパッタリング法などの公知の技術により
基板上に形成される。また、図２は第一の実施形態の紫
外域レーザー用ミラーの分光反射特性図である。１９
３．４ｎｍにおいて、反射率が９９％以上であり、図６
と比較してもその特性に遜色が無いことがわかる。
【００１１】図３は、本発明にかかる第２実施形態の紫
外域レーザー用ミラーの概略断面図である。第２実施形
態の紫外域レーザー用ミラーは、精密に研磨された合成
石英ガラス基板１上に、第１誘電体多層膜層４ａとし
て、光学的膜厚0.25λの弗化ランタン（第１高屈折率
層、ｎ＝１．６９）５、光学的膜厚0.25λの弗化アルミ
ニウム（第１低屈折率層：ｎ＝１．３９、100gの水に対
して約0.5gの溶解度（２５℃））７及び光学的膜厚0.25
λの弗化ランタン（第１高屈折率層、ｎ＝１．６９）５
からなる２０対の交互層が順次形成され、さらにその上
に保護誘電体多層膜層４ｂとして、光学的膜厚0.5λの
弗化ランタン（第２高屈折率層、ｎ＝１．６９）５、光
学的膜厚0.5λの弗化マグネシウム（第２低屈折率層、
ｎ＝１．４４）６、光学的膜厚0.5λの弗化ランタン
（第２高屈折率層、ｎ＝１．６９）５が順次形成された
構成である。
外域レーザー用ミラーの概略断面図である。第２実施形
態の紫外域レーザー用ミラーは、精密に研磨された合成
石英ガラス基板１上に、第１誘電体多層膜層４ａとし
て、光学的膜厚0.25λの弗化ランタン（第１高屈折率
層、ｎ＝１．６９）５、光学的膜厚0.25λの弗化アルミ
ニウム（第１低屈折率層：ｎ＝１．３９、100gの水に対
して約0.5gの溶解度（２５℃））７及び光学的膜厚0.25
λの弗化ランタン（第１高屈折率層、ｎ＝１．６９）５
からなる２０対の交互層が順次形成され、さらにその上
に保護誘電体多層膜層４ｂとして、光学的膜厚0.5λの
弗化ランタン（第２高屈折率層、ｎ＝１．６９）５、光
学的膜厚0.5λの弗化マグネシウム（第２低屈折率層、
ｎ＝１．４４）６、光学的膜厚0.5λの弗化ランタン
（第２高屈折率層、ｎ＝１．６９）５が順次形成された
構成である。
【００１２】なお、各層の膜は、抵抗加熱蒸着法、イオ
ンビーム法、スパッタリング法などの公知の技術により
基板上に形成される。また、図４は第二の実施形態の紫
外域レーザー用ミラーの分光反射特性図である。１９
３．４ｎｍにおいて、反射率が９９％以上であり、図６
と比較してもその特性に遜色が無いことがわかる。本発
明にかかる紫外域レーザー用ミラーの第１又は第２高屈
折率層の材料としては、弗化ネオジム（NdF3）、弗化ラ
ンタン（LaF3）、弗化ガドリニウム（GdF3）、弗化ディ
スプロシウム（DyF3）、酸化アルミニウム（Al2O3）、
弗化鉛（PbF 2）、酸化ハフニウム（HfO2）及び、これら
の混合物または化合物の群より選ばれた1つ以上の成分
であり、第１低屈折率層の材料としては、弗化アルミニ
ウム（AlF3）、クリオライト（Na3AlF6）、第２低屈折
率層の材料としては、弗化マグネシウム（MgF2）、弗化
ナトリウム（NaF）、弗化リチウム（LiF）、弗化カルシ
ウム（CaF）、弗化バリウム（BaF2）、弗化ストロンチ
ウム（SrF3）、酸化シリコン（SiO2）、チオライト（Na
5Al3F14）及びこれらの混合物又は化合物の群より選ば
れた１つ以上の成分が使用される。
ンビーム法、スパッタリング法などの公知の技術により
基板上に形成される。また、図４は第二の実施形態の紫
外域レーザー用ミラーの分光反射特性図である。１９
３．４ｎｍにおいて、反射率が９９％以上であり、図６
と比較してもその特性に遜色が無いことがわかる。本発
明にかかる紫外域レーザー用ミラーの第１又は第２高屈
折率層の材料としては、弗化ネオジム（NdF3）、弗化ラ
ンタン（LaF3）、弗化ガドリニウム（GdF3）、弗化ディ
スプロシウム（DyF3）、酸化アルミニウム（Al2O3）、
弗化鉛（PbF 2）、酸化ハフニウム（HfO2）及び、これら
の混合物または化合物の群より選ばれた1つ以上の成分
であり、第１低屈折率層の材料としては、弗化アルミニ
ウム（AlF3）、クリオライト（Na3AlF6）、第２低屈折
率層の材料としては、弗化マグネシウム（MgF2）、弗化
ナトリウム（NaF）、弗化リチウム（LiF）、弗化カルシ
ウム（CaF）、弗化バリウム（BaF2）、弗化ストロンチ
ウム（SrF3）、酸化シリコン（SiO2）、チオライト（Na
5Al3F14）及びこれらの混合物又は化合物の群より選ば
れた１つ以上の成分が使用される。
【００１３】基板としては石英ガラス等の各種ガラス、
蛍石、弗化マグネシウム等の光学結晶材料のレーザー光
を透過する材料も使用可能であるとともに、熱膨張率、
熱伝導度の観点からセラミックス、シリコン、炭化珪
素、タングステンが使用される。
蛍石、弗化マグネシウム等の光学結晶材料のレーザー光
を透過する材料も使用可能であるとともに、熱膨張率、
熱伝導度の観点からセラミックス、シリコン、炭化珪
素、タングステンが使用される。
【００１４】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明にかかる紫外
域レーザー用ミラーは、湿度に対して耐性を示し、かつ
高反射率、広帯域という特性を有している。従って、本
発明にかかる紫外域レーザー用ミラーをステッパーの光
学系に搭載した場合、湿度に対する膜の溶解という問題
が生じず、露光効率を低下させるという問題も生じな
い。
域レーザー用ミラーは、湿度に対して耐性を示し、かつ
高反射率、広帯域という特性を有している。従って、本
発明にかかる紫外域レーザー用ミラーをステッパーの光
学系に搭載した場合、湿度に対する膜の溶解という問題
が生じず、露光効率を低下させるという問題も生じな
い。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる第１実施形態の紫外域レーザー
用ミラーの概略断面図である。
用ミラーの概略断面図である。
【図２】本発明にかかる第１実施形態の紫外域レーザー
用ミラーの０゜入射における分光特性図である。
用ミラーの０゜入射における分光特性図である。
【図３】本発明にかかる第２実施形態の紫外域レーザー
用ミラーの概略断面図である。
用ミラーの概略断面図である。
【図４】本発明にかかる第２実施形態の紫外域レーザー
用ミラーの０゜入射における分光特性図である。
用ミラーの０゜入射における分光特性図である。
【図５】従来の第１の例の紫外域レーザー用ミラーの０
゜入射における分光特性図である。
゜入射における分光特性図である。
【図６】従来の第２の例の紫外域レーザー用ミラーの０
゜入射における分光特性図である。
゜入射における分光特性図である。
【図７】従来の第２の例の紫外域レーザー用ミラーを湿
気を含んだ雰囲気における使用後の０゜入射における分
光特性図である。
気を含んだ雰囲気における使用後の０゜入射における分
光特性図である。
１・・・基板 ２・・・弗化ネオジム（第１高屈折率層） ３・・・クリオライト（第１低屈折率層） ４ａ・・・第１誘電体多層膜層 ４ｂ・・・保護誘電体多層膜層 ５・・・弗化ランタン（第１、２高屈折率層） ６・・・弗化マグネシウム（第２低屈折率層） ７・・・弗化アルミニウム（第１低屈折率層）
Claims (2)
- 【請求項１】少なくとも、基板上に低屈折率層、高屈折
率層の交互層からなる第１誘電体多層膜層、保護誘電体
多層膜層を順次積層してなる紫外域レーザー用ミラーで
あって、前記第１誘電体多層膜層の構成が基板側からＨ
1／［Ｌ1／Ｈ1］xであり、前記保護誘電体多層膜層の構
成が基板側からＬ2／［Ｈ2／Ｌ2］y又はＨ2／［Ｌ2／Ｈ
2］yであり、λを設計中心波長として、各層の光学的膜
厚が Ｈ1（第１高屈折率層）＝0.25λ〜0.35λ Ｈ2（第２高屈折率層）＝0.25λ〜1.0λ Ｌ1（第１低屈折率層）＝0.25λ〜0.35λ Ｌ2（第２低屈折率層）＝0.25λ〜1.0λ ｘ≧3、ｙ=1〜3であり、 第１高屈折率層と第１低屈折率層の屈折率差が０．２７
以上であって、いずれかの材料が、水に対して大きな溶
解度を有することを特徴とする紫外域用ミラー。 - 【請求項２】前記第１又は第２高屈折率層の材料が弗化
ネオジム（NdF3）、弗化ランタン（LaF3）、弗化ガドリ
ニウム（GdF3）、弗化ディスプロシウム（DyF3）、酸化
アルミニウム（Al2O3）、弗化鉛（PbF2）、酸化ハフニ
ウム（HfO2）及び、これらの混合物または化合物の群よ
り選ばれた1つ以上の成分であり、前記第１低屈折率層
の材料が弗化アルミニウム（AlF3）、クリオライト（Na
3AlF6）、前記第２低屈折層の材料が弗化マグネシウム
（MgF2）、弗化ナトリウム（NaF）、弗化リチウム（Li
F）、弗化カルシウム（CaF）、弗化バリウム（BaF2）、
弗化ストロンチウム（SrF3)、酸化シリコン（SiO2）、
チオライト（Na5Al3F14）及びこれらの混合物又は化合
物の群より選ばれた1つ以上の成分であることを特徴と
する請求項１記載の紫外域レーザー用ミラー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10195677A JP2000028809A (ja) | 1998-07-10 | 1998-07-10 | 紫外域レーザー用ミラー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10195677A JP2000028809A (ja) | 1998-07-10 | 1998-07-10 | 紫外域レーザー用ミラー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000028809A true JP2000028809A (ja) | 2000-01-28 |
Family
ID=16345174
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10195677A Pending JP2000028809A (ja) | 1998-07-10 | 1998-07-10 | 紫外域レーザー用ミラー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000028809A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005345492A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-15 | Canon Inc | 光学素子及びミラー並びに反射防止膜 |
| RU2282222C2 (ru) * | 2002-02-25 | 2006-08-20 | ФРАУНХОФЕР-ГЕЗЕЛЛЬШАФТ ЦУР ФЕРДЕРУНГ ДЕР АНГЕВАНДТЕН ФОРШУНГ э.ф. | Зеркало-монохроматор для жесткого ультрафиолетового излучения |
| US20200301049A1 (en) * | 2019-03-18 | 2020-09-24 | Ricoh Company, Ltd. | Optical deflection element, method for manufacturing optical deflection element, and system including optical deflection element |
| CN114488359A (zh) * | 2020-10-28 | 2022-05-13 | 佳能株式会社 | 光学组件和光学装置 |
-
1998
- 1998-07-10 JP JP10195677A patent/JP2000028809A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2005345492A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-15 | Canon Inc | 光学素子及びミラー並びに反射防止膜 |
| US20200301049A1 (en) * | 2019-03-18 | 2020-09-24 | Ricoh Company, Ltd. | Optical deflection element, method for manufacturing optical deflection element, and system including optical deflection element |
| CN114488359A (zh) * | 2020-10-28 | 2022-05-13 | 佳能株式会社 | 光学组件和光学装置 |
| CN114488359B (zh) * | 2020-10-28 | 2024-12-31 | 佳能株式会社 | 光学组件和光学装置 |
| US12372699B2 (en) | 2020-10-28 | 2025-07-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical component and optical apparatus |
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