JP2000028013A - ゲート式真空遮断弁 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 パーティクルの発生を防止したゲート式真空
遮断弁を提供すること。 【解決手段】 発明のゲート式真空遮断弁は、弁体１４
を開口部１３前面の遮断位置とそこから後退させた後退
位置とで移動させる第１駆動と、遮断位置にて開口部１
３に形成された弁座面１５に対して垂直に当接・離間さ
せる第２駆動との２段階で操作するものであって、弁本
体１０の外部に配設され、シール手段を介して弁本体１
０を貫通して弁体１４に連結された第１駆動用の第１駆
動手段５１を有し、弁体１４は、弁シート２７を保持し
た仕切り板２３が、第１駆動手段５１に対して連結され
た固定部２１に対して摺動支持され、その固定部２１に
画設された気密な加圧室３１，３２内を摺動方向に可動
するダイアフラム２５と一体的に形成されたものであっ
て、加圧室３１，３２内に供給される動作流体にダイア
フラム２５が加圧されて弁体１４が第２駆動を行うもの
である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、開閉動作に伴って
シール部材の擦れによって発生するパーティクルをなく
したゲート式真空遮断弁に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造工程では、真空の雰囲気内で
製造が行われ、その清浄度の高さが要求されている。一
方、作業室内での隔離手段としてはゲート式真空遮断弁
が広く利用され、開閉動作に伴いゴム材などからなるシ
ール部材が擦れてパーティクルが発生しないよう考案さ
れたものが種々提案されている。その一例として特開平
２−２２９９６７号公報に掲載されてものを挙げること
ができる。図９は、当該公報に掲載されたゲート式真空
遮断弁の断面図である。このゲート式真空遮断弁１００
は、中空の弁箱１０１に形成された開口部１０２の遮断
を行うべく構成されたものである。開口部１０２を遮断
する弁体１０３は、この図には示されていないがベロー
ズを介して弁体操作棒１０４の下端に連結されている。
そして、その弁体操作棒１０４が、上下方向に出力する
上下シリンダ１０５のシリンダロッド１０６に連結され
ている。

【０００３】弁体操作棒１０４は、弁箱１０１の頂壁１
０７を貫通して設けられ、弁箱１０１内の気密性を保つ
ように、貫通部分において弁体操作棒１０４がベローズ
１０８によって覆設されている。また、弁体操作棒１０
４は、旋回枠１０９によって揺動自在に構成されてい
る。その旋回枠１０９は、上下シリンダ１０５を挟んで
設けられた一対の揺動シリンダ１１０のシリンダロッド
１１１に軸着された連結部材１１２に固定されている。
揺動シリンダ１１０自身も回転軸１１３を中心に揺動可
能となっている。

【０００４】このようなゲート式真空遮断弁１００は、
上下シリンダ１０５の駆動によって弁体操作棒１０４が
上下し、それに合わせて弁体１０３の位置が上下に移動
する。従って、開口部１０２の遮断時には図示する位置
にまで下降し、開口時には上昇して開口部１０２を大き
く開ける。また、弁体１０３が図示する位置に配置され
たところで、揺動シリンダ１１０の駆動によってシリン
ダロッド１１１が引き込まれる。そのため、シリンダロ
ッド１１１に連結された連結部材１１２が、図示しない
支点を中心に反時計方向に揺動し、それによって旋回枠
１０９及び弁体操作棒１０４が反時計方向に揺動する。
そのため、弁体１０３は、開口部１０２を塞ぐように押
圧され、その弁体１０３に設けられた弁シート１１５が
開口部１０２の周囲に形成された弁座面１１６に押し付
けられてシールが行われる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】よって、このゲート式
真空遮断弁１００は、弁体１０３を上下方向及び水平方
向の２段階で移動させることによって、弁シート１１５
が弁座面１１６を摺動しないよにしてパーティクルの発
生が抑えられている。しかしながら、このような従来の
ゲート式真空遮断弁は、弁シート１１５が弁座面１１６
を摺動しないものの、シールする際の弁体１０３にかか
る力のバランスが悪く、弁シート１１５が弁座面１１６
に擦れたり、ねじれを生じたりすることによってパーテ
ィクルを発生させるという課題を残していた。

【０００６】即ち、弁体１０３が開口部１０２を塞ぐ水
平方向の移動は、弁体操作棒１０４の揺動動作によって
行われるため、弁体１０３にかかる力には傾きが生じる
こととなる。そのため、弁シート１１５が弁座面１１６
対して斜めに当たってしまい、各部分において弁座面１
１６への接触に時間差が生じ、加わる荷重変化やねじれ
によって弁シート１１５が弁座面１１６を擦れることと
なる。また、弁体操作棒１０４は、上部に設けられた揺
動シリンダ１１０によって操作されるため、駆動手段で
ある揺動シリンダ１１０の位置が弁体１０３から遠くな
ってしまう。そのため、弁体１０３を弁座面に対して垂
直に移動させようとする動力の伝達に誤差が生じやす
く、弁シート１１５を弁座面１１６に対して垂直に当接
させることがより困難となっている。

【０００７】そこで本発明は、かかる問題点を解消すべ
く、パーティクルの発生を防止したゲート式真空遮断弁
を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明のゲート式真空遮
断弁は、弁本体に形成された開口部の開閉を行う弁体
を、開口部前面の遮断位置とその遮断位置から後退させ
た後退位置とで移動させる第１駆動と、前記遮断位置に
て前記開口部に形成された弁座面に対して垂直に当接・
離間させる第２駆動との２段階で操作するものであっ
て、前記弁本体の外部に配設され、前記弁本体内部の気
密性を保つシール手段を介して前記弁本体を貫通して前
記弁体に連結された前記第１駆動用の第１駆動手段を有
し、前記弁体は、前記開口部をシールする弁シートを保
持した仕切り板が、前記第１駆動手段に対して連結され
た固定部に対して摺動支持され、その固定部に画設され
た気密な加圧室内を前記摺動方向に可動するダイアフラ
ムと一体的に形成されたものであって、前記加圧室内に
供給される動作流体に前記ダイアフラムが加圧されて前
記弁体が前記第２駆動を行うものであることを特徴とす
る。

【０００９】よって、第１駆動手段の駆動によって弁体
が第１駆動を行い、後退位置から遮断位置までの移動も
しくはその逆の移動を行い、また遮断位置にある弁体
は、加圧室へ供給される動作流体によって、ダイアフラ
ムが加圧され、その加圧力によって摺動支持された仕切
り板が移動して、開口部の弁座面に対してその弁シート
が垂直に当接・離間する第２駆動が行われる。従って、
本発明のゲート式真空遮断弁では、弁体を弁座面へ当接
・離間させるための駆動源として流体を用いるため、遮
断時の付勢力が均一に加わり、仕切り板の弁座面に対す
る平行移動を確実なものとしている。これにより、弁シ
ートが弁座面に対して均等に当たり、そのことによるパ
ーティクルの発生を防止している。

【００１０】また、本発明のゲート式真空遮断弁は、前
記弁体の固定部がロッドを介して前記第１駆動手段に連
結されたものであって、前記ロッドには動作流体の供給
源に対して配管するためのポートが設けられ、当該ポー
ト部分からロッド及び前記固定部内を通って前記加圧室
へ連通する流路が形成されたものであることを特徴とす
る。よって、弁体の第２駆動を行わせる動作流体を通す
流路を第１駆動を行わせるロッドを介して設けたため、
弁本体内の気密性を損なうことなく、また給排気管など
を必要としないために構造の簡素化を図ることができ
る。

【００１１】

【発明の実施の形態】次に、本発明のゲート式真空遮断
弁にかかる一実施の形態について図面を参照して説明す
る。ゲート式真空遮断弁は、例えば図８に示すようなマ
ルチチャンバ装置１に使用される。これは、作業対象物
であるウェハＷが何段かに重ねて配置されたウェハカセ
ット室２に対して第１〜第３のチャンバ室３が搬送室４
を介して構成されている。搬送室４内には、ウェハカセ
ット室２及びチャンバ室３との間でウェハＷ出し入れす
るためのウェハ搬送ロボット５が設けられている。ま
た、搬送室４からウェハＷが送られるチャンバ室３に
は、それぞれの処理装置が設けられている。そして、搬
送室４とチャンバ室３との隔離を行うべく本実施の形態
のゲート式真空遮断弁６がそれぞれ設けられている。

【００１２】ゲート式真空遮断弁６は、主にチャンバ室
の３入口に設けられた弁部と、その弁部と一体に形成さ
れ、弁の開閉動作の一部を操作するための駆動部とから
構成されている。ここで、図１及び図２は、搬送室４側
から見たゲート式真空遮断弁６の断面図である。特に、
これらの図は、請求項１に記載の第１駆動による移動位
置を示したものであり、図１は後退位置を、図２は遮断
位置を示したものである。そして、このゲート式真空遮
断弁６の弁部が、搬送室４とチャンバ室３との間に配置
され、両者を仕切る弁本体１０内に弁機構が設けられて
いる。ここで図３は、図１で示したゲート式真空遮断弁
６のＡ−Ａ断面を示した図である。

【００１３】弁本体１０は、図１に示すように内部に空
間が形成された箱形をなすものであり、搬送室４側の壁
１１には大きい開口部１２が形成され、チャンバ室３側
には小さい開口部１３が開設されている。そして、開口
部１３が設けられた壁の内面が、弁体１４が当接・離間
する弁座面１５として形成されている。開口部１３は、
ウェハＷの出し入れが可能な広さをもつように横広に形
成され、弁体１４は、その開口部１３を遮断できるよう
に長円形状をなして形成されている。

【００１４】弁体１４は、２本の操作ロッド４１，４２
の下端に固定して垂設されている。その操作ロッド４
１，４２には固定板２１が直接固定され、弁体１４を支
持するよう構成されている。弁体１４は、主にこの固定
板２１と、固定板２１の２箇所の摺動位置Ｘ１，Ｘ２に
固定して設けられた摺動支持ブロック２２と、その摺動
支持ブロック２２に対して摺動自在に設けられた仕切り
板２３とから構成されている。なお、摺動位置Ｘ１，Ｘ
２は、ともに同じ構成及び作用をなすため、一方のみを
示して説明する。操作ロッド４１，４２に固定された固
定板２１は、図１及び図２に示すように長方形状をな
し、開口部１３側に摺動支持ブロック２２を取り付ける
ための図３に示すような断面の取付面が形成されたもの
である。

【００１５】摺動支持ブロック２２は、中央が隆起した
段付きの円盤形状をなすものであり、その中心に貫通孔
２２ａが穿設され、そこには摺動軸２４が摺動自在には
め込まれている。また、固定板２１と摺動支持ブロック
２２との間にはダイアフラム２５が挟み込まれ、そのダ
イアフラム２５を介して固定板２１側の第１加圧室３１
と摺動支持ブロック２２側の第２加圧室３２とが設けら
れている。そして、このようなダイアフラム２５の中心
には摺動軸２４が一体に設けられている。摺動軸２４及
びダイアフラム２５は、第２加圧室３２に装填された板
バネ２６に摺動軸２４のフランジ部が当接し、第１加圧
室３５側への付勢力が作用するように構成されている。

【００１６】更に、このような摺動軸２４には、摺動支
持ブロック２３から突出した先端に仕切り板２３が固定
されている。その仕切り板２３は、摺動支持ブロック２
２に対して摺動すべく、摺動支持ブロック２２の突部形
状に合わせた円形の凹部２３ａが形成されてはめ込まれ
ている。そして、その仕切り板２３には、弁座面１５に
当接して開口部１３を気密に閉塞させるべく、弁シート
２７が環状に保持されている。

【００１７】ところで、固定板２１には、仕切り板２３
を駆動させる動作流体である圧縮エアを通すための給排
気孔３３，３４が穿設されている。ここで、図４は、弁
体１４を示した一部断面図であり、図５は、そのＢ−Ｂ
断面を示す図である。給排気孔３３，３４は、操作ロッ
ド４１，４２にそれぞれ形成された２本の流路４３，４
４（図６及び図７参照）と連通し、一方の給排気孔３３
が第１加圧室３１へ、他方の給排気孔３４が第２加圧室
３２へと開通するよう形成されている。また、ダイアフ
ラム２５と一体に設けられた摺動軸２４には、その軸心
を通って一方が第１加圧室３１に、他方が摺動支持ブロ
ック２２と仕切り板２３との間に開通するように軸孔３
５が穿設されている。

【００１８】次に、ゲート式真空遮断弁６の駆動部につ
いて説明する。駆動部は、図１及び図２に示すよに弁本
体１０上一体に形成れた駆動ボックス５０内に設けられ
ている。この駆動部における駆動源はシリンダ５１であ
り、そのシリンダ５１が駆動ボックス５０の床部分に固
定され、シリンダロッド５２が上方に突設されている。
シリンダロッド５２の先端には、連結板５３が水平に固
定され、その連結板５３の両端に操作ロッド４１，４２
が対称的な位置に固定されている。操作ロッド４１，４
２は、その下端を前述した弁体１４に固定すべく、駆動
ボックス５０の床部分及び、駆動ボックス５０内の中段
に形成された梁５４を貫通して設けられている。

【００１９】駆動ボックス５０の床部分には、操作ロッ
ド４１，４２が貫通する広径の貫通孔５０ａ，５０ａが
形成されており、操作ロッド４１，４２を内包したベロ
ーズ５７，５８が、その貫通孔５０ａ，５０ａを通って
設けられている。そのベローズ５７，５８は、その下端
が弁体１４の固定板２１に連結され、上端が梁５４に連
結されている。一方、梁５４の貫通孔５４ａ，５４ａ
は、操作ロッド４１，４２が摺動するよう形成され、そ
の内にスラスト軸受け５５，５５が装填されている。ま
た、その梁５４の中央にはシリンダ５１が貫通して気密
に固定されている。従って、チャンバ室３などの真空部
は駆動ボックス５０の梁５４によって大気側と遮断さ
れ、特に操作ロッド４１，４２が摺動して真空漏れの生
じ得る部分にはベローズ５７，５８が設けられて、気密
性が保たれている。

【００２０】また、操作ロッド４１，４２には、その上
端に位置する流路４３，４４の開口部に継手４５，４６
（図６及び図７参照）が設けられ、図１及び図２に示す
ように駆動ボックス５０のポート６１，６２との間にチ
ューブ６３，６４が接続されている。なお、図１及び図
２には、ポート６１，６２及びチューブ６５，６６が操
作ロッド４１，４２に対してそれぞれ１組づつしか示し
ていないが、実際には、操作ロッド４１，４２にそれぞ
れ形成された流路４３，４４に対応して２本づつ、図面
垂直方向に重なるよにして設けられている。

【００２１】このような構成からなる本実施の形態のゲ
ート式真空遮断弁６では、以下のような動作によって開
口部１３の開閉が行われる。ゲート式真空遮断弁６は、
第１駆動と第２駆動との２段階の動作によって開閉を行
うものであり、第１駆動によって弁体１４が上下に移動
し、下降した遮断位置で、続く第２駆動によって弁体１
４を弁座面１５に当接・離間させる平行移動を行う。そ
こで先ず、図１及び図３に示す状態、即ち弁体１４が上
昇した後退位置にある状態で、ウェハＷが、ウェハ搬送
ロボット５によってウェハカセット室２から取り出さ
れ、弁本体１０の開口部１２及び開口部１３を通ってチ
ャンバ室３内に搬入される。

【００２２】そして、ウェハＷの搬入が終了すると、シ
リンダ５１が駆動してシリンダロッド５２が下がり、弁
体１４が開口部１３前面の遮断位置にまで下ろされて図
２に示す状態となる。このとき、シリンダ５１の駆動に
よる出力は、シリンダロッド５２に連結板５３を介して
操作ロッド４１、４２に伝達され、その操作ロッド４
１，４２の位置を軸方向に下げ、ベローズ５７，５８の
蛇腹を伸ばすとともに、弁体１４を遮断位置にまで下降
させることとなる。このように、弁体１４を遮断位置に
配置する第１駆動に続いて、弁体１４（正確には、仕切
り板２３に保持された弁シート２７）を弁座面１５に当
接・離間させる第２駆動が行われる。

【００２３】ここで、図６及び図７は、遮断位置におけ
る面体１４の断面を示した図であり、特に図６は、図４
のＣＱＰＯＣ断面を、図７は、図４のＣ−Ｃ断面を示し
た図である。第１駆動によって遮断位置に送られた弁体
１４は、その時点では図６に示す状態にあり、弁シート
２７が弁座面１５から離れているためにチャンバ室３と
搬送室４とが完全には遮断されていない。そして、次い
で弁体１４の駆動による開口部１３の遮断が行われる。
遮断位置に弁体１４が配置されると、操作ロッド４１，
４２に連結されたチューブ６３，６４を介して、流路４
３側に動作流体である圧縮エアが供給される一方、流路
４４側は大気開放される。そのため、供給された圧縮エ
アは、流路４３から給排気孔３３を通って加圧室３１へ
と流れ、ダイアフラム２５が図面右方から左方へと加圧
される。

【００２４】ダイアフラム２５が加圧されて変形するこ
とにより、一体に形成された摺動軸２４が当接された板
バネ２６を撓ませながら、摺動支持ブロック２２の貫通
孔２２ａ内を摺動する。一方、摺動軸２４は、仕切り板
２３に固定されているため、摺動軸２４の移動は仕切り
板２３にも伝達される。そのため、仕切り板２３は、摺
動支持ブロック２２に嵌合した凹部２３ａが摺動しなが
ら摺動軸２４に押されて移動することとなる。このよう
な動作は、弁体１４の摺動位置Ｘ１，Ｘ２の２箇所の位
置で同時に行われ、仕切り板２３が弁座面１５に対して
平行な状態を保ったまま垂直方向に移動することとな
る。従って、図６の位置にあった仕切り板２３が、図４
に示す位置にまで移動し、弁シート２７が弁座面１５に
対して垂直に当接し、開口部１３が弁シート２７にて気
密にシールされて閉じられる。

【００２５】ところで、仕切り板２３が移動して摺動支
持ブロック２２との間が離れると、摺動軸２４の軸孔３
５を通って圧縮エアがその離間した空間に流れ込み、負
圧によって仕切り板２３の動きが制限されないようにな
っている。また、圧縮エアによって仕切り板２３が直接
加圧され、その仕切り板２３の動作が滑らかになる。一
方、第１加圧室３１内に供給された圧縮エアに加圧され
たダイアフラム２５は、第２加圧室３２内の板バネ２６
によって反力をうけるため、そのダイアフラム２５の動
きが安定し、Ｘ１，Ｘ２の２箇所の位置で同時に行われ
る動作のバランスが保たれる。

【００２６】続いて弁を開ける場合には、逆の動作によ
って先ず遮断位置での第２駆動が行われる。即ち、操作
ロッドに４１，４２に連結されたチューブ６３，６４を
介して、流路４４側に圧縮エアが供給され、流路４３側
が大気開放される。そのため、ダイアフラム２５を加圧
していた第１加圧室３１内の圧縮エアが排気され、他方
の第２加圧室３２内に供給された圧縮エアによって、ダ
イアフラム２７が図面左方から右方へと加圧される。従
って、加圧されたダイアフラム２７が変位し、それに伴
って摺動軸２４及び仕切り板２３が摺動支持ブロック２
２を摺動して図７の状態から図６の状態へと移動し、開
口部１３から弁体１４が離間する。

【００２７】このような開弁時の動作も、弁体１４のＸ
１，Ｘ２の２箇所の位置で同時に行われ、仕切り板２３
が弁座面１５に対して平行な状態を保ったまま垂直方向
に移動することとなる。従って、図７の位置にあった仕
切り板２３が、図６に示す離間した位置にまで後退し、
弁シート２７が弁座面１５から垂直に離れる。なお、開
弁動作の際、閉弁時に撓められた板バネ２６の弾性力が
摺動軸２４を移動させる力として働くが、この板バネ２
６の弾性力は、何らかのトラブルによって第２加圧室３
２に内に圧縮エアを供給できない場合に、弁を開けるた
めの補助的な駆動力として特に有効である。

【００２８】このように第２駆動によって弁座面１５か
ら離間した弁体１４は、再びシリンダ５１による第１駆
動によって後退位置まで持ち上げられる。即ち、シリン
ダ５１のシリンダロッド５２が上昇すると、連結板５３
を介して操作ロッド４１，４２が上昇し、更にその下端
に固定された弁体１４が、図２の位置から図１に示す位
置にまで再び持ち上げられて、開口部１３から後退した
位置に戻される。これによって、弁本体１０の開口部１
２，１３が開通し、次のウェハＷのチャンバ室３への搬
入に備えられる。

【００２９】以上のような構成によるゲート式真空遮断
弁６は、前記従来例のものと同様に２段階の操作によっ
て弁の開閉を行うものである。しかし、本実施の形態の
ゲート式真空遮断弁６は、弁シート２７を弁座面１５に
当接・離間させる第２駆動を、弁体１４内に設けたダイ
アフラム２５や摺動軸２４などからなる駆動機構によっ
て直接仕切り板２３を動作させるようにしたので、弁シ
ート２７が弁座面１５に対して確実に垂直方向から当接
・離間するようにできた。そのため、弁シート２７が弁
座面１５との当接及び離間時に擦れたり、或いはその弁
シート２７にねじれを生じさせたりすることがなくな
り、弁シート２７からパーティクルを発生させることが
なくなった。特に、ダイアフラム２５にエア圧をかけて
第２駆動を行わせるようにしたため、ダイアフラム２５
にバランスよく力が加わり、仕切り板２３が安定した動
作を行うことができるようになった。

【００３０】なお、本発明のゲート式真空遮断弁は、前
記実施の形態のものに限定されるわけではなく、その趣
旨を逸脱しない範囲で変更が可能である。例えば、前記
実施の形態では、第１駆動手段としてシリンダ５１を用
いたが、ソレノイドやモータ等であってもよい。

【００３１】

【発明の効果】本発明は、弁本体に形成された開口部の
開閉を行う弁体を、開口部前面の遮断位置とその遮断位
置から後退させた後退位置とで移動させる第１駆動と、
前記遮断位置にて前記開口部に形成された弁座面に対し
て垂直に当接・離間させる第２駆動との２段階で操作す
るものであって、前記弁本体の外部に配設され、前記弁
本体内部の気密性を保つシール手段を介して前記弁本体
を貫通して前記弁体に連結された前記第１駆動用の第１
駆動手段を有し、前記弁体は、前記開口部をシールする
弁シートを保持した仕切り板が、前記第１駆動手段に対
して連結された固定部に対して摺動支持され、その固定
部に画設された気密な加圧室内を前記摺動方向に可動す
るダイアフラムと一体的に形成されたものであって、前
記加圧室内に供給される動作流体に前記ダイアフラムが
加圧されて前記弁体が前記第２駆動を行うものとする構
成としたので、パーティクルの発生を防止したゲート式
真空遮断弁を提供することが可能といなった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかるゲート式真空遮断弁の一実施の
形態を示した後退位置における断面図である。

【図２】本発明にかかるゲート式真空遮断弁の第１実施
の形態を示した遮断位置における断面図である。

【図３】図１で示したゲート式真空遮断弁６のＡ−Ａ断
面を示した図である。

【図４】弁体１４を示した一部断面図である。

【図５】図４のＢ−Ｂ断面を示す図である。

【図６】遮断位置における面体１４の断面を示した図４
のＣＱＰＯＣ断面図である。

【図７】遮断位置における面体１４の断面を示した図４
のＣ−Ｃ断面図である。

【図８】ゲート式真空遮断弁を備えたマルチチャンバ装
置を示した図である。

【図９】従来のゲート式真空遮断弁の断面図である。

【符号の説明】

６ ゲート式真空遮断弁 １０ 弁本体 １２，１３ 開口部 １４ 弁体 １５ 弁座面 ２１ 固定板 ２２ 摺動支持ブロック ２３ 仕切り板 ２５ ダイアフラム ２６ 板バネ ２７ 弁シート ３１ 第１加圧室 ３２ 第２加圧室 ３３，３４ 給排気孔 ３２ 弁シート ４１，４２ 操作ロッド ５１ シリンダ ５７，５８ ベローズ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 弁本体に形成された開口部の開閉を行う
   弁体を、開口部前面の遮断位置とその遮断位置から後退
   させた後退位置とで移動させる第１駆動と、前記遮断位
   置にて前記開口部に形成された弁座面に対して垂直に当
   接・離間させる第２駆動との２段階で操作するゲート式
   真空遮断弁において、 前記弁本体の外部に配設され、前記弁本体内部の気密性
   を保つシール手段を介して前記弁本体を貫通して前記弁
   体に連結された前記第１駆動用の第１駆動手段を有し、 前記弁体は、前記開口部をシールする弁シートを保持し
   た仕切り板が、前記第１駆動手段に対して連結された固
   定部に対して摺動支持され、その固定部に画設された気
   密な加圧室内を前記摺動方向に可動するダイアフラムと
   一体的に形成されたものであって、前記加圧室内に供給
   される動作流体に前記ダイアフラムが加圧されて前記弁
   体が前記第２駆動を行うものであることを特徴とするゲ
   ート式真空遮断弁。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のゲート式真空遮断弁に
   おいて、 前記弁体の固定部がロッドを介して前記第１駆動手段に
   連結されたものであって、前記ロッドには動作流体の供
   給源に対して配管するためのポートが設けられ、当該ポ
   ート部分からロッド及び前記固定部内を通って前記加圧
   室へ連通する流路が形成されたものであることを特徴と
   するゲート式真空遮断弁。