JP2000024444A - Method and apparatus for producing highly purified dry air - Google Patents
Method and apparatus for producing highly purified dry airInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高清浄乾燥空気を効率よく、かつ、安定的に
供給することができる高清浄乾燥空気の製造方法及び装
置を提供する。
【解決手段】 原料空気の圧縮工程と、水素,一酸化炭
素を除去する触媒精製工程と、水分,二酸化炭素を除去
する吸着精製工程とを有し、触媒精製工程を空間速度3
000h-1以下で行い、吸着精製工程を乾燥剤床と気体
不純物除去剤床とで行い、乾燥剤床の空間速度を110
00h-1以下、気体不純物除去剤床の空間速度を600
0h-1以下とする。さらに、吸着精製工程を、切換え使
用する2個の吸着筒で、切換え時間を4〜12時間、再
生温度を100℃以上、再生ガス比率を40%以下とす
る。これにより、原料空気中の一酸化炭素,水素,二酸
化炭素,水分を10ppb以下に除去する。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and an apparatus for producing high-purity dry air which can supply high-purity dry air efficiently and stably. SOLUTION: The method includes a raw air compression step, a catalyst purification step for removing hydrogen and carbon monoxide, and an adsorption purification step for removing moisture and carbon dioxide.
000 h -1 or less, and the adsorption purification step is performed with a desiccant bed and a gas impurity remover bed, and the space velocity of the desiccant bed is 110
00h -1 or less, the space velocity of the gas impurity removing agent bed is 600
0h -1 or less. Further, in the adsorption purification step, the switching time is set to 4 to 12 hours, the regeneration temperature is set to 100 ° C. or more, and the regeneration gas ratio is set to 40% or less by using two adsorption cylinders used for switching. As a result, carbon monoxide, hydrogen, carbon dioxide, and moisture in the raw material air are removed to 10 ppb or less.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、高清浄乾燥空気の
製造方法及び装置に関し、詳しくは、半導体製造工場や
液晶製造工場の製造工程等において使用される乾燥空気
を、水分だけではなく、その他の不純物も含めて極力低
減して供給することができる高清浄乾燥空気の製造方法
及び装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for producing high-purity dry air, and more particularly to a method for producing dry air used not only in water but also in a semiconductor manufacturing plant or a liquid crystal manufacturing plant. The present invention relates to a method and an apparatus for producing high-purity dry air that can be supplied with as little impurities as possible.
【0002】さらに詳しくは、例えば、半導体製造工場
におけるウエハ(薄板状基体又は基板)の保管時及び搬
送時等、外気と接触する可能性のある箇所でのウエハ保
護を目的とするガスとしても使用可能な高清浄乾燥空気
を製造するための方法及び装置に関するものである。More specifically, it is also used as a gas for protecting a wafer at a place where it may come into contact with the outside air, for example, when storing and transporting a wafer (a thin substrate or a substrate) in a semiconductor manufacturing plant. METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING POSSIBLE HIGH CLEAN DRY AIR.
【0003】[0003]
【従来の技術】従来、半導体製造工場や液晶製造工場等
で用いられている乾燥空気の用途は、マシン駆動用,弁
作動用,薬液圧送用,純水タンクパージ用等が主な使用
目的であった。したがって、製造装置や方法も極めて一
般的なものであり、大気を吸入して空気圧縮機により空
気を所定の圧力まで圧縮し、状況によってはフィルター
を用いてパーティクル除去を行ってから、吸着分離又は
膜分離により含有する水分を除去することにより汎用乾
燥空気を製造し、供給している。2. Description of the Related Art Conventionally, dry air used in semiconductor manufacturing factories and liquid crystal manufacturing factories is mainly used for driving a machine, operating a valve, pumping a chemical solution, purging a pure water tank, and the like. there were. Therefore, the manufacturing apparatus and method are also very common, in which the air is sucked, the air is compressed to a predetermined pressure by an air compressor, and, depending on the situation, particles are removed using a filter, and then adsorption separation or separation is performed. General-purpose dry air is produced and supplied by removing water contained by membrane separation.
【0004】通常使用している乾燥空気の仕様は、圧力
0.5〜0.7MPa,露点−70℃,流量1500〜
3000Nm3/hが一般的なものであり、ユーザー
は、上記各機器を自社工場構内に設置して自主管理を行
っている。[0004] The specifications of dry air normally used include a pressure of 0.5 to 0.7 MPa, a dew point of -70 ° C, and a flow rate of 1500 to 1500.
3000 Nm 3 / h is general, and the user installs each of the above-described devices in the premises of the company's factory and performs self-management.
【0005】一方、半導体製造工場や液晶製造工場等の
製造工程におけるウエハ等は、マシン間の移動,保管等
の際に、保護措置が十分に行われていないと、ウエハ等
が空気に暴露され、空気中の水分,酸素分,炭化水素分
等の影響により、不純物がその表面に付着し、これによ
り、特性の低下や洗浄工程の増加等、様々な不具合やコ
ストアップの要因が発生している。[0005] On the other hand, wafers and the like in the manufacturing process of semiconductor manufacturing factories and liquid crystal manufacturing factories are exposed to air if the protective measures are not sufficiently taken when moving or storing between machines. Due to the effects of moisture, oxygen, hydrocarbons, etc. in the air, impurities adhere to the surface, which causes various problems such as deterioration of characteristics and increase in the number of cleaning steps, and causes of cost increase. I have.
【0006】これを防止するため、簡易的なボックスを
製作して窒素ガスパージを行うなどの処置を実施してい
る例もある。In order to prevent this, there is an example in which a simple box is manufactured and measures such as purging with nitrogen gas are performed.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかし、将来の半導体
製造工場や液晶製造工場等における製造技術は、厳しい
品質が要求され、また、価格競争によって製品の更なる
経済的かつ効率的な生産が要求されてきている。However, strict quality is required for manufacturing technology in future semiconductor manufacturing plants and liquid crystal manufacturing plants, and further economic and efficient production of products is required due to price competition. Have been.
【0008】特に、半導体製造工場や液晶製造工場等に
おける製造工程でのウエハ等の保護対策は、製品特性の
維持,コストダウンの観点から重要な項目として捉えら
れている。In particular, protection measures for wafers and the like in a manufacturing process in a semiconductor manufacturing factory, a liquid crystal manufacturing factory, and the like are regarded as important items from the viewpoint of maintaining product characteristics and reducing costs.
【0009】上記目的のため、保護雰囲気ガスとして高
清浄乾燥空気が相当高度なニーズとして求められてい
る。現在,半導体製造工場,液晶製造工場で雰囲気ガス
として求められている高清浄乾燥空気の仕様は、空気中
に含まれる不純物,例えば,水分,一酸化炭素,二酸化
炭素,水素等の不純物をそれぞれ10ppb以下にして
供給するという厳しいものである。For the above purpose, highly purified dry air is required as a protective atmosphere gas as a highly sophisticated need. At present, high-purity dry air, which is required as an atmospheric gas in semiconductor manufacturing factories and liquid crystal manufacturing factories, specifies that impurities contained in air, for example, impurities such as moisture, carbon monoxide, carbon dioxide, and hydrogen are each 10 ppb. It is a strict thing to supply in the following.
【0010】したがって、このような仕様をクリアする
ためには、精製方法としても、各工程における精製条件
は厳しい値が必要とされる。Therefore, in order to satisfy such specifications, the purification conditions in each step require strict values even in the purification method.
【0011】そこで本発明は、この高清浄乾燥空気を効
率よく、かつ、安定的に供給することができる高清浄乾
燥空気の製造方法及び装置を提供することを目的として
いる。Accordingly, an object of the present invention is to provide a method and apparatus for producing high-purity dry air that can supply the high-purity dry air efficiently and stably.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の高清浄乾燥空気の製造方法は、原料空気を
圧縮する圧縮工程と、該原料空気中の水素,一酸化炭素
を除去する触媒精製工程と、水分,二酸化炭素を除去す
る吸着精製工程とによって高清浄乾燥空気を製造する方
法であり、第1の構成は、前記触媒精製工程を、空間速
度3000h-1以下、好ましくは2000〜3000h
-1で行うことを特徴としている。In order to achieve the above object, a method for producing highly purified dry air according to the present invention comprises a compression step of compressing raw air, and removing hydrogen and carbon monoxide in the raw air. This is a method for producing highly purified dry air by a catalyst refining step and an adsorption refining step for removing water and carbon dioxide. In the first configuration, the catalyst refining step is performed at a space velocity of 3000 h -1 or less, preferably 2,000 h. ~ 3000h
-1 .
【0013】また、第2の構成は、前記吸着精製工程
を、原料空気をその流れ方向に乾燥剤床と気体不純物除
去剤床とを通過させることにより行い、前記乾燥剤床の
空間速度を11000h-1以下、好ましくは9000〜
11000h-1とし、気体不純物除去剤床の空間速度を
6000h-1以下、好ましくは4000〜6000h-1
としてそれぞれ行うことを特徴としている。[0013] In the second configuration, the adsorption and purification step is performed by passing the raw material air in the flow direction through a desiccant bed and a gas impurity removing agent bed, and the space velocity of the desiccant bed is set to 11000 h. -1 or less, preferably 9000
And 11000H -1, the space velocity of the gaseous scavenger bed 6000h -1 or less, preferably 4000~6000H -1
It is characterized in that each is performed.
【0014】さらに、第3の構成は、前記吸着精製工程
を、切換え使用する2個の吸着筒により行い、その切換
え時間を4〜12時間、好ましくは6〜10時間、再生
温度を100℃以上、好ましくは120℃以上、再生ガ
ス比率を40%以下、好ましくは20%以下とすること
を特徴としている。Further, in a third configuration, the adsorption / purification step is performed by using two adsorption cylinders that are switched, and the switching time is 4 to 12 hours, preferably 6 to 10 hours, and the regeneration temperature is 100 ° C. or higher. , Preferably at 120 ° C. or higher, and the regeneration gas ratio at 40% or lower, preferably 20% or lower.
【0015】特に、本発明の高清浄乾燥空気の製造方法
は、原料空気を圧縮する圧縮工程と、該原料空気中の水
素,一酸化炭素を除去する触媒精製工程と、水分,二酸
化炭素を除去する吸着精製工程とを有し、前記触媒精製
工程を空間速度3000h-1以下で行い、前記吸着精製
工程を原料空気をその流れ方向に乾燥剤床と気体不純物
除去剤床とを通過させることにより行い、かつ、該乾燥
剤床の空間速度を11000h-1以下とし、気体不純物
除去剤床の空間速度を6000h-1以下としてそれぞれ
行い、さらに、該吸着精製工程を切換え使用する2個の
吸着筒により、その切換え時間を4〜12時間、再生温
度を100℃以上、再生ガス比率を40%以下として行
うことにより、前記原料空気中の含有一酸化炭素,水
素,二酸化炭素,水分をそれぞれ10ppb以下とする
ことを特徴としている。In particular, the method for producing highly purified dry air of the present invention comprises a compression step of compressing raw air, a catalyst purification step of removing hydrogen and carbon monoxide in the raw air, and a step of removing water and carbon dioxide. The catalyst purification step is performed at a space velocity of 3000 h -1 or less, and the adsorption purification step is performed by passing the raw material air through a desiccant bed and a gas impurity removing agent bed in the flow direction. And the space velocity of the desiccant bed is set to 11000 h -1 or less, and the space velocity of the gas impurity removing agent bed is set to 6000 h -1 or less. The switching time is 4 to 12 hours, the regeneration temperature is 100 ° C. or more, and the regeneration gas ratio is 40% or less, so that the carbon monoxide, hydrogen, carbon dioxide, water It is characterized in that less 10ppb each.
【0016】また、本発明の高清浄乾燥空気の製造方法
は、上記構成において、前記吸着精製工程を経た高清浄
乾燥空気を製品として採取するとともに、その一部を空
気液化分離装置へ供給すること、前記使用設備で使用後
の高清浄乾燥空気を回収して昇圧し、前記触媒精製工程
の前の原料空気、前記吸着精製工程の前又は後の原料空
気のいずれかに混入することを特徴としている。In the method for producing highly purified dry air according to the present invention, the highly purified dry air which has undergone the above-mentioned adsorption purification step is collected as a product and a part thereof is supplied to an air liquefaction / separation apparatus. Collecting and purifying high-purity dry air after use in the used equipment, increasing the pressure, and mixing it into either the raw air before the catalyst purification step or the raw air before or after the adsorption purification step. I have.
【0017】さらに、前記吸着精製工程の再生用ガスと
して前記使用後の高清浄乾燥空気あるいは前記空気液化
分離装置の排ガスを用いることを特徴としている。Further, the present invention is characterized in that the used highly purified dry air or the exhaust gas of the air liquefaction / separation apparatus is used as a regeneration gas in the adsorption / purification step.
【0018】また、本発明の高清浄乾燥空気の製造装置
は、原料空気を圧縮する空気圧縮機と、該原料空気中の
水素及び一酸化炭素を酸素と反応させる触媒精製器と、
含有する水分及び二酸化炭素等の不純物を除去する吸着
精製器とを備えた高清浄乾燥空気の製造装置において、
前記触媒精製器で使用する触媒が、Pd,Pt,Au,
Fe,Cr,Ni,Co,Mn,Cu,Sn,Zn等の
金属を単体又は複数個を組合わせたもの若しくはこれら
の金属の何れかの組合わせでなる合金を主成分とした金
属系触媒であり、かつ、該金属系触媒が前記触媒精製器
中に単位空気量当たり0.33リットル以上充填されて
いることを特徴としている。Further, the apparatus for producing highly purified dry air of the present invention comprises an air compressor for compressing raw air, a catalyst purifier for reacting hydrogen and carbon monoxide in the raw air with oxygen,
An apparatus for producing high-purity dry air comprising an adsorption purifier for removing impurities such as water and carbon dioxide contained therein,
The catalyst used in the catalyst purifier is Pd, Pt, Au,
A metal catalyst mainly composed of one or a combination of a plurality of metals such as Fe, Cr, Ni, Co, Mn, Cu, Sn and Zn, or an alloy composed of any combination of these metals. And the metal catalyst is filled in the catalyst purifier in an amount of 0.33 liter or more per unit air amount.
【0019】さらに、本発明の高清浄乾燥空気の製造装
置は、原料空気を圧縮する空気圧縮機と、該原料空気中
の水素及び一酸化炭素を酸素と反応させる触媒精製器
と、含有する二酸化炭素等の不純物を除去する吸着精製
器とを備えた高清浄乾燥空気の製造装置において、前記
吸着精製器が切換え使用する少なくとも2筒を備え、そ
の入口部から順に、活性アルミナ及び/又はシリカゲル
を単位空気量(1Nm3)当たり、0.09リットル以
上充填した乾燥剤床と、合成ゼオライトを単位空気量当
たり、0.17リットル以上充填した気体不純物除去剤
床とを有していることを特徴としている。Further, the apparatus for producing high-purity dry air of the present invention comprises an air compressor for compressing raw air, a catalyst purifier for reacting hydrogen and carbon monoxide in the raw air with oxygen, and An apparatus for producing high-purity dry air, comprising: an adsorption purifier for removing impurities such as carbon, comprising: at least two cylinders used by the adsorption purifier for switching, wherein activated alumina and / or silica gel are sequentially supplied from the inlet. It has a desiccant bed filled with 0.09 liter or more per unit air amount (1 Nm 3 ) and a gas impurity removing agent bed filled with 0.17 liter or more of synthetic zeolite per unit air amount. And
【0020】また、前記合成ゼオライトが、Na−X型
ゼオライト,Ca−X型ゼオライト,Ca−A型ゼオラ
イトを単一あるいは複数組合わせたものであることを特
徴としている。Further, the synthetic zeolite is characterized in that it is a single or a combination of a plurality of Na-X-type zeolites, Ca-X-type zeolites, and Ca-A-type zeolites.
【0021】さらに、前記吸着精製器を導出した高清浄
乾燥空気を製品として使用設備へ供給する経路と、該使
用設備で使用後の高清浄乾燥空気を回収する経路と、該
回収高清浄乾燥空気を昇圧する手段と、該昇圧した回収
高清浄乾燥空気を、前記触媒精製器の前,前記吸着精製
器の前又は後の少なくとも一箇所の原料空気に混入する
経路と、これらの経路にそれぞれ設けられた弁とを備え
たことを特徴とし、前記触媒精製器の出口経路の原料空
気と、前記吸着精製器の出口経路から分岐した経路の高
清浄乾燥空気とを熱交換させる熱交換器を設けたことを
特徴としている。Further, a path for supplying high-purity dry air derived from the adsorption purifier as a product to a facility to be used, a path for recovering the high-purity dry air after use in the facility, and a path for recovering the high-purity dry air Means for increasing the pressure, and a path for mixing the recovered high-purity dry air into the raw material air in at least one place before or after the catalyst purifier, before or after the adsorption purifier, and provided in each of these paths. A heat exchanger for exchanging heat between the raw material air in the outlet path of the catalyst purifier and the highly purified dry air in a path branched from the outlet path of the adsorption purifier. It is characterized by that.
【0022】[0022]
【発明の実施の形態】図1は、本発明の高清浄乾燥空気
の製造装置の一形態例を示す系統図である。この高清浄
乾燥空気の製造装置は、原料空気を圧縮する空気圧縮機
1と、該原料空気中の水素及び一酸化炭素を酸素と反応
させる触媒精製器2と、含有する二酸化炭素等の不純物
を除去する吸着精製器3と有するものであり、空気圧縮
機1で圧縮した原料空気中の水素,一酸化炭素を触媒精
製器2で酸素と反応させて除去した後、吸着精製器3で
原料空気中の水分や二酸化炭素を除去することにより、
一酸化炭素,水素,二酸化炭素,水分をそれぞれ10p
pb以下に除去した高清浄乾燥空気を製造し、これを製
品高清浄乾燥空気として使用設備4に供給するものであ
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a system diagram showing one embodiment of the apparatus for producing highly purified dry air of the present invention. The apparatus for producing high-purity dry air includes an air compressor 1 for compressing raw air, a catalyst purifier 2 for reacting hydrogen and carbon monoxide in the raw air with oxygen, and an impurity such as carbon dioxide contained therein. The catalyst purifier 2 removes hydrogen and carbon monoxide from the raw material air compressed by the air compressor 1 by reacting with oxygen in the catalytic purifier 2. By removing water and carbon dioxide in the
10p each of carbon monoxide, hydrogen, carbon dioxide and water
The high-purity dry air removed to pb or less is produced and supplied to the use equipment 4 as the product high-clean dry air.
【0023】前記空気圧縮機1は、大気を吸入して必要
圧力まで昇圧するものであり、圧縮圧力や流量に応じて
任意の形式のものを用いることができる。例えば、所要
圧力が0.75MPaで、流量が5000Nm3/hの
場合は、ターボ式のものを用いることができる。The air compressor 1 sucks the atmosphere and raises the pressure to a required pressure. Any type can be used according to the compression pressure and the flow rate. For example, when the required pressure is 0.75 MPa and the flow rate is 5000 Nm 3 / h, a turbo type can be used.
【0024】前記触媒精製器2は、筒内に金属系触媒を
充填したものであって、使用する金属系触媒としては、
Pd,Pt,Au,Fe,Cr,Ni,Co,Mn,C
u,Sn,Zn等の金属を単体又は複数個を組合わせて
主成分としたもの、又はこれらの金属の何れかの組合わ
せでなる合金を主成分としたものを用いることができ
る。The catalyst purifier 2 has a cylinder filled with a metal-based catalyst.
Pd, Pt, Au, Fe, Cr, Ni, Co, Mn, C
Metals such as u, Sn, Zn and the like can be used as a main component by a single substance or a combination of a plurality of metals, or an alloy mainly composed of an alloy composed of any combination of these metals can be used.
【0025】貴金属系触媒剤、例えばPd系触媒剤を使
用する場合は、該Pd系触媒剤を、空気量1Nm3に対
して0.33リットル以上充填し、空間速度を3000
h-1以下、好ましくは好ましくは2000〜3000h
-1に設定することにより、原料空気中の水素,一酸化炭
素を触媒反応で水、二酸化炭素に酸化することができ、
水素,一酸化炭素の含有量をそれぞれ10ppb以下ま
で低減することができる。このとき、空間速度が高すぎ
ると、除去効率が低下することがあり、低すぎると、処
理量の低下や触媒量の増加となり不経済を招く。When a noble metal-based catalyst, for example, a Pd-based catalyst is used, the Pd-based catalyst is filled in at least 0.33 liter per 1 Nm 3 of air, and the space velocity is increased to 3000.
h -1 or less, preferably 2000 to 3000 h
By setting to -1 , hydrogen and carbon monoxide in the raw material air can be oxidized to water and carbon dioxide by catalytic reaction,
The contents of hydrogen and carbon monoxide can each be reduced to 10 ppb or less. At this time, if the space velocity is too high, the removal efficiency may decrease. If the space velocity is too low, the treatment amount decreases and the catalyst amount increases, resulting in uneconomic.
【0026】上記触媒反応は、水素,一酸化炭素の除去
の場合は150℃〜190℃で行うことができ、極微量
のメタン,エタン,プロパン等も同時に除去する場合は
350℃程度まで昇温して行えばよい。The above-mentioned catalytic reaction can be carried out at 150 ° C. to 190 ° C. in the case of removing hydrogen and carbon monoxide, and when the trace amount of methane, ethane, propane, etc. is also removed simultaneously, the temperature is raised to about 350 ° C. And do it.
【0027】原料空気の温度を上述の触媒反応温度に昇
温するための手段として、本形態例では、触媒精製器2
の前後に、加熱器5及び熱交換器6を設けている。In the present embodiment, as a means for raising the temperature of the raw material air to the above-mentioned catalytic reaction temperature, the catalyst purifier 2
Before and after, a heater 5 and a heat exchanger 6 are provided.
【0028】すなわち、触媒反応温度が、前記空気圧縮
機1の圧縮熱による温度より高い場合は、触媒精製器2
の入口空気と出口空気とを熱交換器6で熱交換させるこ
とにより、反応後の高温空気の有する熱の回収を行い、
さらに、不足分を加熱器5で加熱するようにしている。
このように形成することにより、熱効率を向上させて装
置を運転することができる。That is, when the catalyst reaction temperature is higher than the temperature due to the compression heat of the air compressor 1, the catalyst purifier 2
The heat of the hot air after the reaction is recovered by exchanging heat between the inlet air and the outlet air in the heat exchanger 6.
Further, the shortage is heated by the heater 5.
With such a configuration, the device can be operated with improved thermal efficiency.
【0029】一方、吸着精製器3の上流側には、予冷設
備7が設けられている。この予冷設備7は、吸着精製器
3の入口空気を5〜10℃に冷却するためのものであ
る。予冷設備7は、例えば、水冷却器とドレンセパレー
タ(図示せず)とにより形成されており、原料空気を冷
却することによって水分を凝縮させ、事前にドレインと
して除去することにより、吸着精製器3内への持込み水
分量を低減するようにしている。これにより、吸着精製
器3の運転効率を高めることができる。On the other hand, a pre-cooling facility 7 is provided upstream of the adsorption purifier 3. This precooling equipment 7 is for cooling the inlet air of the adsorption purifier 3 to 5 to 10 ° C. The pre-cooling equipment 7 is formed by, for example, a water cooler and a drain separator (not shown). The pre-cooling equipment 7 cools the raw material air to condense the water and removes the water as a drain in advance, so that the adsorption purifier 3 is removed. The amount of water brought into the interior is reduced. Thereby, the operation efficiency of the adsorption purifier 3 can be improved.
【0030】このときの原料空気の冷却温度は、低いほ
どドレイン量が増加し、吸着精製器3の負荷を軽減でき
るが、冷却温度は、前記温度範囲内であればよく冷却方
法も特に限定されるものではない。At this time, the lower the cooling temperature of the raw material air, the higher the drain amount increases and the load on the adsorption purifier 3 can be reduced. However, the cooling temperature may be within the above temperature range, and the cooling method is not particularly limited. Not something.
【0031】吸着精製器3は、筒内に水分や二酸化炭素
を吸着除去する吸着剤を充填したものである。吸着剤
は、筒内全体に適宜な吸着剤を単一であるいは複数種を
混合して充填することできるが、前記原料空気の入口部
から順に、活性アルミナやシリカゲル等の水分除去剤を
充填した水分を吸着除去するための乾燥剤床と、Na−
X型ゼオライト,Ca−X型ゼオライト,Ca−A型ゼ
オライトを単一あるいは複数組合わせた合成ゼオライト
を充填した気体不純物除去剤床とを設けることが好まし
い。The adsorption purifier 3 has a cylinder filled with an adsorbent for adsorbing and removing moisture and carbon dioxide. The adsorbent can be filled with a suitable adsorbent singly or in a mixture of plural kinds in the entire cylinder, but in order from the inlet of the raw material air, a water removing agent such as activated alumina or silica gel is filled. A desiccant bed for absorbing and removing moisture;
It is preferable to provide a gas impurity removing agent bed filled with a synthetic zeolite in which a single zeolite or a combination of a plurality of X-type zeolites, Ca-X-type zeolites and Ca-A-type zeolites are provided.
【0032】例えば、圧縮空気入口部の筒底付近に水分
除去剤としてアルミナゲルを、出口側にNa−X型合成
ゼオライトを充填することにより、原料空気中の水分及
び二酸化炭素と、前記触媒精製器2での反応により発生
した水分及び二酸化炭素とを効率よく併せて吸着除去す
ることができる。このとき、アルミナゲルと合成ゼオラ
イトとの充填比率は、通常、容積比で1:2程度であ
る。For example, by filling alumina gel as a water removing agent near the bottom of the cylinder at the compressed air inlet and Na-X type synthetic zeolite at the outlet side, the water and carbon dioxide in the raw material air and the catalyst purification can be purified. The water and carbon dioxide generated by the reaction in the vessel 2 can be efficiently adsorbed and removed together. At this time, the filling ratio between the alumina gel and the synthetic zeolite is usually about 1: 2 in volume ratio.
【0033】そして、前記乾燥剤床の空間速度を110
00h-1以下、好ましくは9000〜11000h-1と
し、気体不純物除去剤床の空間速度を6000h-1以
下、好ましくは4000〜6000h-1としてそれぞれ
行うことにより、二酸化炭素,水分をそれぞれ10pp
b以下まで除去することができる。このとき、空間速度
が高すぎると、除去効率が低下することがあり、低すぎ
ると、処理量の低下や吸着剤量の増加を招いて経済的で
はない。Then, the space velocity of the desiccant bed is set to 110
00h -1 or less, preferably a 9000~11000H -1, the space velocity of the gaseous scavenger bed 6000h -1 or less, preferably by performing each as 4000~6000H -1, carbon dioxide, water, respectively 10pp
b or less. At this time, if the space velocity is too high, the removal efficiency may decrease. If the space velocity is too low, the treatment amount is reduced and the adsorbent amount is increased, which is not economical.
【0034】また、吸着精製器3は、上記吸着剤を充填
した2個の吸着筒を備えており、一方の吸着塔が吸着工
程のとき、他方の吸着筒が再生工程を行うように切換え
運転され、連続して原料空気の精製処理を行えるように
形成されている。The adsorption purifier 3 is provided with two adsorption columns filled with the adsorbent, and a switching operation is performed such that when one adsorption column is in the adsorption step, the other adsorption column is in the regeneration step. The raw material air is continuously purified.
【0035】吸着筒の再生工程は、加熱再生段階と冷却
段階とにより行われる。加熱再生段階で用いる加熱再生
ガス及び冷却段階で用いる冷却ガスは、共に吸着工程を
終えた精製ガス(製品高清浄乾燥空気)の一部を使用す
ることを基本とするが、水分,二酸化炭素,水素,一酸
化炭素等を含まないか,あるいは極めて少ないガス、例
えば、使用設備4で使用済みの高清浄乾燥空気や、空気
液化分離装置の排ガスを用いることにより、製品高清浄
乾燥空気を再生に用いないので、その収率を向上させる
ことができる。The regeneration process of the adsorption cylinder is performed by a heating regeneration stage and a cooling stage. The heating and regeneration gas used in the heating and regeneration stage and the cooling gas used in the cooling stage are basically based on a part of the purified gas (product high-purity dry air) that has completed the adsorption process. By using gas containing no or very little hydrogen, carbon monoxide, etc., for example, high-purity dry air used in the use equipment 4 or exhaust gas from the air liquefaction / separation unit, the product high-purity dry air can be regenerated. Since it is not used, the yield can be improved.
【0036】加熱再生段階の再生温度は、加熱再生時間
や加熱再生ガス量等により異なるが、通常は、100〜
150℃である。本形態例装置では、加熱再生ガスをこ
の温度まで昇温するための加熱手段として、熱交換器8
と加熱器9とが設けられている。熱交換器8は、前記熱
交換器6を経た触媒精製器2の出口空気と加熱再生ガス
に用いるガスとを熱交換させ、出口空気が有する熱量を
回収して加熱再生ガスを昇温するものであり、該熱交換
器8での熱交換で所定温度まで昇温しない場合は、加熱
器9で所定温度まで更に昇温するように形成している。The regeneration temperature in the heating regeneration step varies depending on the heating regeneration time, the heating regeneration gas amount, and the like.
150 ° C. In the apparatus of the present embodiment, the heat exchanger 8 is used as a heating means for raising the temperature of the heated regeneration gas to this temperature.
And a heater 9 are provided. The heat exchanger 8 exchanges heat between the outlet air of the catalyst purifier 2 that has passed through the heat exchanger 6 and a gas used for the heating and regeneration gas, recovers the heat of the exit air, and raises the temperature of the heating and regeneration gas. When the temperature is not raised to a predetermined temperature by the heat exchange in the heat exchanger 8, the heater 9 is further heated to the predetermined temperature.
【0037】なお、熱交換器8で所定温度まで昇温でき
る場合は加熱器9は不要であり、熱交換器8を設けずに
加熱器9のみで加熱するように形成することもできる。When the temperature can be raised to a predetermined temperature by the heat exchanger 8, the heater 9 is unnecessary, and the heater 9 can be formed so as to heat only the heater 9 without providing the heat exchanger 8.
【0038】一方、冷却段階の冷却ガスは、熱交換器8
や加熱器9を通さずに直接吸着筒に導入すればよい。On the other hand, the cooling gas in the cooling stage is supplied to the heat exchanger 8
It is sufficient to directly introduce the gas into the adsorption column without passing through the heater 9.
【0039】また、このように2個の吸着筒を吸着工程
と再生工程とに切換えて原料空気の精製を行う場合、両
工程の切換え時間を4〜12時間、好ましくは6〜10
時間、再生温度を100℃以上、好ましくは120℃以
上、再生ガス比率を40%以下、好ましくは20%以下
とすることにより、効率のよい運転を行うことができ
る。When the purification of the raw material air is performed by switching the two adsorption columns between the adsorption step and the regeneration step, the switching time between the two steps is 4 to 12 hours, preferably 6 to 10 hours.
By setting the time and the regeneration temperature to 100 ° C. or higher, preferably 120 ° C. or higher, and the regeneration gas ratio to 40% or lower, preferably 20% or lower, efficient operation can be performed.
【0040】なお、使用済みの高清浄乾燥空気や空気液
化分離装置の排ガス等のように、他のプロセスからのガ
スを再生用に使用する場合は、該プロセスの運転バラン
スを勘案して行う。また、前記熱交換器5と熱交換器8
との順序を入替え、触媒精製器2の出口空気を先に熱交
換器8に導入して加熱再生ガスを昇温するようにしても
よい。When a gas from another process, such as a used high-purity dry air or an exhaust gas from an air liquefaction separator, is used for regeneration, the operation balance of the process is taken into consideration. The heat exchanger 5 and the heat exchanger 8
May be exchanged, and the outlet air of the catalyst purifier 2 may be introduced first into the heat exchanger 8 to raise the temperature of the heated regeneration gas.
【0041】吸着精製器3で精製された高清浄乾燥空気
は、経路10を通って半導体製造工場,高密度記録媒体
製造工場又は液晶製造工場等の使用設備4に供給され
る。また、経路10に分岐経路11を設けることによ
り、高清浄乾燥空気の一部を空気液化分離装置の原料と
して供給することもできる。The high-purity dry air purified by the adsorption purifier 3 is supplied through a path 10 to use equipment 4 such as a semiconductor manufacturing plant, a high-density recording medium manufacturing plant, or a liquid crystal manufacturing plant. Further, by providing the branch path 11 in the path 10, a part of the high-purity dry air can be supplied as a raw material of the air liquefaction / separation apparatus.
【0042】さらに、本形態例では、使用設備4で使用
した使用後の高清浄乾燥空気を経路12から回収するよ
うにしている。回収した高清浄乾燥空気は、その汚染度
や回収量に応じて、経路13,弁14を介して加熱再生
ガスに使用したり、経路15,弁16を介して吸着精製
器3の後の高清浄乾燥空気に混入循環させたり、経路1
7,弁18を介して吸着精製器3の前の原料空気に混入
したりすることができる。さらに、経路19,弁20を
介して触媒精製器2の前の原料空気に混入することもで
きる。Further, in the present embodiment, the high-purity dry air used in the use facility 4 after use is recovered from the passage 12. The recovered high-purity dry air is used as a heating / regenerating gas via a path 13 and a valve 14 or is supplied through a path 15 and a valve 16 depending on the degree of contamination and the amount of recovery. Mix and circulate in clean dry air, or route 1
7. It can be mixed into the raw material air before the adsorption purifier 3 through the valve 18. Further, it can be mixed into the raw air before the catalyst purifier 2 via the path 19 and the valve 20.
【0043】これにより、高清浄乾燥空気の利用効率を
高めることができ、高清浄乾燥空気製造装置の小型化や
運転コストの低減が図れる。なお、高清浄乾燥空気を回
収して再利用する場合は、必要に応じて圧縮機21で圧
縮すればよい。As a result, the utilization efficiency of the high-purity dry air can be increased, and the size and the operating cost of the high-purity dry air production apparatus can be reduced. In addition, when highly clean dry air is collected and reused, it may be compressed by the compressor 21 as needed.
【0044】[0044]
【実施例】上記形態例に示した装置構成で、4000N
m3/hの高清浄乾燥空気を製造する高清浄乾燥空気製
造装置を製作した。その運転条件を次に示す。EXAMPLE With the apparatus configuration shown in the above embodiment, 4000N
A high-purity dry air producing apparatus for producing high-purity dry air of m 3 / h was manufactured. The operating conditions are shown below.
【0045】 空気圧縮機 処理量 5000Nm3/h 出口圧力 0.75Mpa 触媒精製器 運転温度 150℃ 触媒剤量 2000リットル/単位処理空気量 空間速度 2500h-1 吸着精製器 入口温度 10℃ 切換時間 8時間 再生温度 120℃ アルミナゲル量 500リットル/単位処理空気量 空間速度 10000h-1 合成ゼオライト量 1000リットル/単位処理空気量 空間速度 5000h-1 再生ガス 製品精製ガス 再生ガス量 1000Nm3/h 高清浄乾燥空気 製品量 4000Nm3/h 圧力 0.7MPaAir compressor Processing amount 5000 Nm 3 / h Outlet pressure 0.75 Mpa Catalyst purifier Operating temperature 150 ° C. Catalytic agent amount 2000 liter / unit treated air amount Space velocity 2500 h −1 Adsorption purifier Inlet temperature 10 ° C. Switching time 8 hours Regeneration temperature 120 ° C Alumina gel amount 500 liter / unit treated air amount Space velocity 10,000 h -1 Synthetic zeolite amount 1000 liter / unit treated air amount Space velocity 5000 h -1 Regenerated gas Product purified gas Regenerated gas amount 1000 Nm 3 / h Highly clean dry air Product amount 4000Nm 3 / h Pressure 0.7MPa
【0046】上記条件で高清浄乾燥空気4000Nm3
/hを連続製造したときの、製品高清浄乾燥空気中の不
純物を15分毎に7000分間連続測定した。その平均
値を次に示す。Under the above conditions, 4000 Nm 3 of highly purified dry air.
/ H was continuously measured for every 7000 minutes every 15 minutes when the / h was continuously manufactured. The average value is shown below.
【0047】 不純物 濃度[ppb] 水 分 2.6 二酸化炭素 2.9 一酸化炭素 5.1 水 素 1.3Impurity concentration [ppb] Water content 2.6 Carbon dioxide 2.9 Carbon monoxide 5.1 Hydrogen 1.3
【0048】このように、前記運転条件で製造装置を運
転した結果、製品である高清浄乾燥空気中の水分,二酸
化炭素,一酸化炭素,水素のいずれもが10ppb以下
に除去されており、ウエハ保護を目的とするガスとして
十分に使用可能な状態に精製されていることが確認され
た。As described above, as a result of operating the manufacturing apparatus under the above operating conditions, all of the water, carbon dioxide, carbon monoxide, and hydrogen contained in the high-purity dry air as products were removed to 10 ppb or less. It was confirmed that the gas was purified so as to be sufficiently usable as a gas for protection.
【0049】[0049]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
半導体製造工場や液晶製造工場等で必要とされる高清浄
乾燥空気、例えば、水素,一酸化炭素,水分,二酸化炭
素等をそれぞれ10ppb以下まで除去精製した不純物
10ppbレベルの高清浄乾燥空気を安定して経済的に
供給することができる。As described above, according to the present invention,
It stabilizes high-purity dry air required at semiconductor manufacturing factories and liquid crystal manufacturing factories, for example, high-purity dry air at the level of 10 ppb of impurities obtained by removing and purifying hydrogen, carbon monoxide, moisture, carbon dioxide, etc. to 10 ppb or less, respectively. And can be supplied economically.
【図1】 本発明の高清浄乾燥空気の製造装置の一形態
例を示す系統図である。FIG. 1 is a system diagram showing an embodiment of the apparatus for producing highly purified dry air of the present invention.
1…空気圧縮機、2…触媒精製器、3…吸着精製器、4
…使用設備、5…加熱器、6…熱交換器、7…予冷設
備、8…熱交換器、9…加熱器DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Air compressor, 2 ... Catalyst refiner, 3 ... Adsorption refiner, 4
... Used equipment, 5 ... Heater, 6 ... Heat exchanger, 7 ... Pre-cooling equipment, 8 ... Heat exchanger, 9 ... Heater
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石原 良夫 東京都港区西新橋1−16−7 日本酸素株 式会社内 Fターム(参考) 4D012 CA01 CA04 CA10 CB16 CD01 CE01 CE02 CE03 CF01 CF02 CF03 CF04 CF05 CG01 CG06 CH05 CK01 CK10 4D052 AA01 AA08 CE00 DA02 DA06 DB01 FA01 FA04 GA02 GA03 GA04 GB01 GB02 GB03 GB04 GB08 HA01 HA02 HA03 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Yoshio Ishihara 1-16-7 Nishi-Shimbashi, Minato-ku, Tokyo F-term in Nippon Sanso Corporation 4D012 CA01 CA04 CA10 CB16 CD01 CE01 CE02 CE03 CF01 CF02 CF03 CF04 CF05 CG01 CG06 CH05 CK01 CK10 4D052 AA01 AA08 CE00 DA02 DA06 DB01 FA01 FA04 GA02 GA03 GA04 GB01 GB02 GB03 GB04 GB08 HA01 HA02 HA03
Claims (14)
空気中の水素,一酸化炭素を除去する触媒精製工程と、
水分,二酸化炭素を除去する吸着精製工程とを有し、前
記触媒精製工程を、空間速度3000h-1以下で行うこ
とを特徴とする高清浄乾燥空気の製造方法。1. A compression step of compressing raw air, a catalyst purification step of removing hydrogen and carbon monoxide in the raw air,
An adsorption purification step for removing water and carbon dioxide, wherein the catalyst purification step is performed at a space velocity of 3000 h -1 or less.
空気中の水素,一酸化炭素を除去する触媒精製工程と、
水分,二酸化炭素を除去する吸着精製工程とを有し、前
記吸着精製工程を、原料空気をその流れ方向に乾燥剤床
と気体不純物除去剤床とを通過させることにより行い、
前記乾燥剤床の空間速度を11000h-1以下とし、気
体不純物除去剤床の空間速度を6000h-1以下として
それぞれ行うことを特徴とする高清浄乾燥空気の製造方
法。2. A compression step of compressing raw air, a catalyst refining step of removing hydrogen and carbon monoxide in the raw air,
An adsorption purification step for removing water and carbon dioxide, wherein the adsorption purification step is carried out by passing the raw material air through a desiccant bed and a gas impurity removal agent bed in the flow direction thereof,
A method for producing high-purity dry air, wherein the space velocity of the desiccant bed is set to 11000 h -1 or less, and the space velocity of the gas impurity removing agent bed is set to 6000 h -1 or less.
個の吸着筒により行い、その切換え時間を4〜12時
間、再生温度を100℃以上、再生ガス比率を40%以
下とすることを特徴とする請求項1又は2記載の高清浄
乾燥空気の製造方法。3. The method according to claim 2, wherein the adsorption purification step is switched and used.
3. The production of high-purity dry air according to claim 1, wherein the switching is performed by four adsorption cylinders, the switching time is 4 to 12 hours, the regeneration temperature is 100 ° C. or more, and the regeneration gas ratio is 40% or less. Method.
空気中の水素,一酸化炭素を除去する触媒精製工程と、
水分,二酸化炭素を除去する吸着精製工程とを有し、前
記触媒精製工程を空間速度3000h-1以下で行い、前
記吸着精製工程を原料空気をその流れ方向に乾燥剤床と
気体不純物除去剤床とを通過させることにより行い、か
つ、該乾燥剤床の空間速度を11000h-1以下とし、
気体不純物除去剤床の空間速度を6000h-1以下とし
てそれぞれ行い、さらに、該吸着精製工程を切換え使用
する2個の吸着筒により、その切換え時間を4〜12時
間、再生温度を100℃以上、再生ガス比率を40%以
下として行うことにより、前記原料空気中の含有一酸化
炭素,水素,二酸化炭素,水分をそれぞれ10ppb以
下とすることを特徴とする高清浄乾燥空気の製造方法。4. A compression step of compressing raw air, a catalyst purification step of removing hydrogen and carbon monoxide in the raw air,
An adsorption purification step for removing water and carbon dioxide, wherein the catalyst purification step is performed at a space velocity of 3000 h -1 or less, and the adsorption purification step is performed by feeding raw material air in the flow direction with a drying agent bed and a gas impurity removal agent bed. And the space velocity of the desiccant bed is 11,000 h -1 or less,
The space velocity of the gaseous impurity removing agent bed is set to 6000 h -1 or less, respectively, and furthermore, the switching time is 4 to 12 hours, and the regeneration temperature is 100 ° C. A method for producing high-purity dry air, wherein the content of carbon monoxide, hydrogen, carbon dioxide, and water contained in the raw material air is reduced to 10 ppb or less by performing the regeneration gas ratio at 40% or less.
を製品として採取するとともに、その一部を空気液化分
離装置へ供給することを特徴とする請求項1,2又は4
記載の高清浄乾燥空気の製造方法。5. The high-purity dry air that has passed through the adsorption purification step is collected as a product, and a part of the air is supplied to an air liquefaction / separation apparatus.
The method for producing highly purified dry air as described above.
を製品として使用設備へ供給するとともに、該使用設備
で使用後の高清浄乾燥空気を回収して昇圧し、前記触媒
精製工程の前の原料空気に混入することを特徴とする請
求項1,2又は4記載の高清浄乾燥空気の製造方法。6. The high-purity dry air that has passed through the adsorption purification step is supplied as a product to a use facility, and the high-purity dry air that has been used in the use facility is recovered and pressurized, and the pressure is increased before the catalyst purification step. The method for producing highly purified dry air according to claim 1, 2 or 4, wherein the method is mixed with raw air.
を製品として使用設備へ供給するとともに、該使用設備
で使用後の高清浄乾燥空気を回収して昇圧し、前記吸着
精製工程の前又は後の原料空気に混入することを特徴と
する請求項1,2又は4記載の高清浄乾燥空気の製造方
法。7. The high-purity dry air that has passed through the adsorption / purification step is supplied as a product to a use facility, and the high-purity dry air after use in the use facility is recovered and pressurized, before or before the adsorption / purification step. 5. The method for producing high-purity dry air according to claim 1, 2, or 4, wherein the air is mixed into the raw material air.
記使用後の高清浄乾燥空気を用いることを特徴とする請
求項1,2又は4記載の高清浄乾燥空気の製造方法。8. The method for producing highly purified dry air according to claim 1, wherein the highly purified dry air after use is used as a regeneration gas in the adsorption purification step.
前記空気液化分離装置の排ガスを用いることを特徴とす
る請求項5記載の高清浄乾燥空気の製造方法。9. As a regeneration gas in the adsorption purification step,
The method for producing high-purity dry air according to claim 5, wherein the exhaust gas of the air liquefaction / separation apparatus is used.
原料空気中の水素及び一酸化炭素を酸素と反応させる触
媒精製器と、含有する二酸化炭素等の不純物を除去する
吸着精製器とを備えた高清浄乾燥空気の製造装置におい
て、前記触媒精製器で使用する触媒が、Pd,Pt,A
u,Fe,Cr,Ni,Co,Mn,Cu,Sn,Zn
等の金属を単体又は複数個を組合わせたもの若しくはこ
れらの金属の何れかの組合わせでなる合金を主成分とし
た金属系触媒であり、かつ、該金属系触媒が前記触媒精
製器中に単位空気量当たり0.33リットル以上充填さ
れていることを特徴とする高清浄乾燥空気の製造装置。10. An air compressor for compressing raw air, a catalytic purifier for reacting hydrogen and carbon monoxide in the raw air with oxygen, and an adsorption purifier for removing impurities such as carbon dioxide contained therein. In the apparatus for producing high-purity dry air provided with the catalyst, the catalyst used in the catalyst purifier is Pd, Pt, A
u, Fe, Cr, Ni, Co, Mn, Cu, Sn, Zn
Or a combination of a plurality of such metals or a metal-based catalyst containing an alloy of any combination of these metals as a main component, and the metal-based catalyst is contained in the catalyst purifier. An apparatus for producing high-purity dry air, which is filled with 0.33 liter or more per unit air volume.
原料空気中の水素及び一酸化炭素を酸素と反応させる触
媒精製器と、含有する水分及び二酸化炭素等の不純物を
除去する吸着精製器とを備えた高清浄乾燥空気の製造装
置において、前記吸着精製器が切換え使用する少なくと
も2筒を備え、その入口部から順に、活性アルミナ及び
/又はシリカゲルを単位空気量当たり0.09リットル
以上充填した乾燥剤床と、合成ゼオライトを単位空気量
当たり0.17リットル以上充填した気体不純物除去剤
床とを有していることを特徴とする高清浄乾燥空気の製
造装置。11. An air compressor for compressing raw air, a catalytic purifier for reacting hydrogen and carbon monoxide in the raw air with oxygen, and an adsorption purifier for removing impurities such as water and carbon dioxide contained therein. And at least two cylinders used by the adsorption purifier for switching, and from the inlet thereof, activated alumina and / or silica gel are charged in an amount of 0.09 liter or more per unit air volume. An apparatus for producing high-purity dry air, comprising: a dried desiccant bed; and a gas impurity remover bed filled with synthetic zeolite in an amount of 0.17 liter or more per unit air volume.
オライト,Ca−X型ゼオライト,Ca−A型ゼオライ
トを単一あるいは複数組合わせたものであることを特徴
とする請求項11記載の高清浄乾燥空気の製造装置。12. The highly purified zeolite according to claim 11, wherein said synthetic zeolite is a single or a combination of Na-X type zeolite, Ca-X type zeolite and Ca-A type zeolite. Dry air production equipment.
空気を製品として使用設備へ供給する経路と、該使用設
備で使用後の高清浄乾燥空気を回収する経路と、該回収
高清浄乾燥空気を昇圧する手段と、該昇圧した回収高清
浄乾燥空気を、前記触媒精製器の前,前記吸着精製器の
前又は後の少なくとも一箇所の原料空気に混入する経路
と、これらの経路にそれぞれ設けられた弁とを備えたこ
とを特徴とする請求項10又は11記載の高清浄乾燥空
気の製造装置。13. A path for supplying highly purified dry air derived from said adsorption purifier as a product to a facility for use, a path for collecting highly purified dry air after use in said facility for use, and a path for recovered high clean dry air. Means for increasing the pressure, and a path for mixing the recovered high-purity dry air into the raw material air in at least one place before or after the catalyst purifier, before or after the adsorption purifier, and provided in each of these paths. An apparatus for producing highly purified dry air according to claim 10 or 11, further comprising a valve provided.
と、前記吸着精製器の出口経路から分岐した経路の高清
浄乾燥空気とを熱交換させる熱交換器を設けたことを特
徴とする請求項10又は11記載の高清浄乾燥空気の製
造装置。14. A heat exchanger for exchanging heat between raw air in an outlet path of the catalyst purifier and highly purified dry air in a path branched from the outlet path of the adsorption purifier. Item 12. An apparatus for producing highly purified dry air according to item 10 or 11.
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