JP2000023028A - Digital still camera - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高精細な画像取り込みが可能となり、且つ実
用的な画像取り込み速度が得られる、薄膜技術を用いて
製造されたMOS型撮像素子を提供する。
【解決手段】 撮像素子として薄膜技術で製造されるM
OS型撮像素子30が撮像部筺体22内に配置され、こ
のMOS型撮像素子30への被写体側からの光の露光時
間を高速な開閉を行うメカニカルシャッタで制御する。
MOS型撮像素子30に蓄積された電荷を線順次で取り
出すことで撮像が可能となる。このような構成とするこ
とにより、開口率の高いMOS型撮像素子を用いるため
例えば500万画素以上に高精細化しても良好な特性を
維持できる。
(57) [Problem] To provide a MOS type imaging element manufactured by using a thin film technique, which enables high-definition image capturing and obtains a practical image capturing speed. SOLUTION: An M manufactured by a thin film technology as an imaging device is provided.
An OS-type imaging device 30 is disposed in the imaging unit housing 22, and the exposure time of light from the subject to the MOS-type imaging device 30 is controlled by a mechanical shutter that opens and closes at high speed.
By taking out the charges accumulated in the MOS type image pickup device 30 in a line-sequential manner, the image can be picked up. With such a configuration, since a MOS type imaging element having a high aperture ratio is used, good characteristics can be maintained even when the definition is increased to, for example, 5 million pixels or more.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明はデジタルスチルカ
メラに関し、さらに詳しくは、TFT(薄膜トランジス
タ)製造プロセスを用いて製造できる固体撮像素子を用
いた高精細なデジタルスチルカメラに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a digital still camera, and more particularly, to a high-definition digital still camera using a solid-state imaging device which can be manufactured by using a TFT (thin film transistor) manufacturing process.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のデジタルスチルカメラとしては、
光学系を介してCCD(Charge Coupled Device)撮像
素子で被写体画像の取り込みを行い、CCD撮像素子か
らの画像信号を画像処理を施し、圧縮し、内蔵もしくは
カードに搭載したフラッシュメモリ等に記憶させるよう
になっている。表示媒体としては、液晶表示装置(LC
D)、テレビ、パーソナルコンピュータを用いることが
できる。2. Description of the Related Art Conventional digital still cameras include:
The subject image is captured by a CCD (Charge Coupled Device) imaging device via an optical system, and the image signal from the CCD imaging device is subjected to image processing, compressed, and stored in a built-in or a flash memory or the like mounted on a card. It has become. As a display medium, a liquid crystal display device (LC
D), a television, and a personal computer can be used.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
デジタルスチルカメラに用いられるCCD撮像素子で
は、データ転送CCDと画素フォトダイオードとをイメ
ージセンサ領域に作り込んでいるため、500万画素程
度の高精細なCCD撮像素子を得ようとすると、特性の
限界を招くため、それ以上の高精細化は困難であった。However, in a CCD image pickup device used in a conventional digital still camera, a data transfer CCD and a pixel photodiode are formed in an image sensor area, so that a high definition of about 5 million pixels is required. If an attempt is made to obtain a suitable CCD image pickup device, the characteristics will be limited, and it is difficult to achieve higher definition.
【0004】一方、絶縁基板上に形成されたTFT(th
in film transistor)は、ライン順次走査し撮影するた
め動作速度が遅く、実用的なシャッタ速度が得られない
という問題点があった。On the other hand, a TFT (thin film) formed on an insulating substrate
The in-film transistor) has a problem that the operation speed is low because line-sequential scanning and image capturing are performed, and a practical shutter speed cannot be obtained.
【0005】本発明が解決しようとする課題は、高精細
な画像取り込みが可能で、且つ実用的な画像取り込み速
度が得られる、薄膜技術を用いて製造されたMOS型撮
像素子を用いたデジタルスチルカメラを実現することで
ある。The problem to be solved by the present invention is to provide a digital still using a MOS type image pickup device manufactured by using a thin film technology capable of capturing a high-definition image and obtaining a practical image capturing speed. The realization of a camera.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
デジタルスチルカメラであって、上下ゲート電極を備え
たMOS型フォトセンサでなる複数の光電変換部をマト
リクス状に配置したMOS型撮像素子と、前記MOS型
撮像素子の光検出面へ被写体を結像させる光学系と、前
記MOS型撮像素子の光検出面を所定時間、露光させる
シャッタと、を備えることを特徴としている。According to the first aspect of the present invention,
A digital still camera, in which a plurality of photoelectric conversion units each composed of a MOS type photo sensor having upper and lower gate electrodes are arranged in a matrix, and a subject is formed on a light detection surface of the MOS type image sensor. And a shutter for exposing a light detection surface of the MOS type image sensor for a predetermined time.
【0007】従って、請求項1記載の発明では、MOS
型撮像素子からなる全光電変換部が同時に露光すること
ができるのでシャッタの開閉を高速化することができ、
このため、動きの早い被写体でもぶれの少ない画像デー
タを得ることができる。Therefore, according to the first aspect of the present invention, the MOS
Since all the photoelectric conversion units including the image sensor can be exposed at the same time, the opening and closing of the shutter can be accelerated,
For this reason, image data with little blur can be obtained even for a fast-moving subject.
【0008】請求項2記載の発明は、請求項1記載のデ
ジタルスチルカメラであって、前記光電変換部は、a−
Siを有する半導体層及び当該半導体層に配設されたソ
ース・ドレインを挟んでその両側にそれぞれゲート絶縁
膜を介して前記半導体層と対向するゲート電極が設けら
れると共に、前記一方のゲート電極にセンスゲートバイ
アス及びリセットバイアスが印加され、他方の前記ゲー
ト電極に読み出し選択信号が供給されることを特徴とし
ている。請求項2記載の発明の光電変換部では、可視光
波長域の光に対して短時間の露光でドレイン電流のオン
/オフ比を6桁程度とることができるので極めて高精細
な画像データを取り込むことができる。また、ゲート電
極を上下に有する構造で制御するため、各光電変換部を
高密度実装でき、高精細な画像データを取り込むことが
できる。According to a second aspect of the present invention, there is provided the digital still camera according to the first aspect, wherein the photoelectric conversion unit includes a digital camera.
A gate electrode facing the semiconductor layer is provided on both sides of a semiconductor layer having Si and a source / drain provided in the semiconductor layer via a gate insulating film, and a sense electrode is provided on the one gate electrode. A gate bias and a reset bias are applied, and a read selection signal is supplied to the other gate electrode. In the photoelectric conversion unit according to the second aspect of the present invention, the on / off ratio of the drain current can be set to about six digits by short-time exposure to light in the visible light wavelength range, so that extremely high-definition image data is captured. be able to. In addition, since control is performed with a structure having a gate electrode above and below, each photoelectric conversion unit can be mounted at a high density, and high-definition image data can be captured.
【0009】請求項3記載の発明は、請求項1又は2記
載のデジタルスチルカメラであって、前記MOS型撮像
素子を構成する全光電変換部は、前記シャッタの開閉で
同時に所定時間光の取り込みを行うことを特徴としてい
る。According to a third aspect of the present invention, there is provided the digital still camera according to the first or second aspect, wherein all of the photoelectric conversion units constituting the MOS type image pickup device simultaneously take in light for a predetermined time by opening and closing the shutter. It is characterized by performing.
【0010】請求項4記載の発明は、請求項1〜請求項
3のいずれかに記載のデジタルスチルカメラであって、
前記高速シャッタは、メカニカルシャッタであることを
特徴としている。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the digital still camera according to any one of the first to third aspects,
The high-speed shutter is a mechanical shutter.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るデジタルスチ
ルカメラの詳細を図面に示す典型的な例を示す実施形態
に基づいて説明する。図1は、本実施形態のデジタルス
チルカメラの外観を示す斜視図である。図2は、本実施
形態のデジタルスチルカメラの撮像部の横断面を示す断
面説明図である。図示するように、このデジタルスチル
カメラは、カメラ本体部1とレンズユニットなどの光学
系とMOS型撮像素子を備えた撮像部2とから構成され
ている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The details of a digital still camera according to the present invention will be described below based on a typical example shown in the drawings. FIG. 1 is a perspective view illustrating the appearance of the digital still camera according to the present embodiment. FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view illustrating a cross-section of the imaging unit of the digital still camera according to the present embodiment. As shown in the figure, the digital still camera includes a camera body 1, an optical system such as a lens unit, and an imaging unit 2 having a MOS imaging device.
【0012】カメラ本体部1は、その背面に表示部1
0、モード設定キー12aとを備える。モード設定キー
12aは、画像を撮影し、後述する画像メモリに記録す
る撮影モードと、記録された画像を再生する再生モード
との切り換えを行うためのキーである。表示部10は、
液晶表示装置によって構成され、撮影モード時には撮像
部2が捉えている画像を表示する(モニタリングモー
ド)ためのビューファインダとして機能し、再生モード
時には記録された画像を表示するためのディスプレイと
して機能する。表示部10の構成については後述する。The camera body 1 has a display 1 on its back.
0, a mode setting key 12a. The mode setting key 12a is a key for switching between a photographing mode for photographing an image and recording the image in an image memory described later and a reproduction mode for reproducing the recorded image. The display unit 10
It is configured by a liquid crystal display device, and functions as a viewfinder for displaying an image captured by the imaging unit 2 (monitoring mode) in the shooting mode, and functions as a display for displaying a recorded image in the playback mode. The configuration of the display unit 10 will be described later.
【0013】カメラ本体部1は、その上面に電源キー1
1と、シャッタキー12bと、「+」キー12cと、
「−」キー12dと、シリアル入出力端子13とを備え
る。電源キー11は、スライド操作することによって、
デジタルスチルカメラの電源をオン/オフするためのキ
ーである。The camera body 1 has a power key 1 on its upper surface.
1, a shutter key 12b, a "+" key 12c,
It has a “−” key 12 d and a serial input / output terminal 13. The power key 11 can be operated by sliding.
A key for turning on / off the power of the digital still camera.
【0014】シャッタキー12bは、撮影モード時にM
OS型撮像素子へ画像の取り込みを行うためのメカニカ
ルシャッタの開閉を指示するためのキーである。なお、
MOS型撮像素子及びメカニカルシャッタについては、
後述する。The shutter key 12b is set to M
A key for instructing the opening and closing of a mechanical shutter for taking in an image to the OS-type imaging device. In addition,
About MOS type image sensor and mechanical shutter,
It will be described later.
【0015】「+」キー12c及び「−」キー12d
は、再生モード時に画像メモリに記録されている画像デ
ータから表示部10に表示するための画像データを選択
したり、記録/再生時の条件設定のために用いられる。
シリアル入出力端子13は、外部の装置(パーソナルコ
ンピュータ、プリンタなど)との通信を行うケーブルを
接続するための端子である。"+" Key 12c and "-" key 12d
Is used to select image data to be displayed on the display unit 10 from the image data recorded in the image memory in the reproduction mode, and to set conditions for recording / reproduction.
The serial input / output terminal 13 is a terminal for connecting a cable for communicating with an external device (a personal computer, a printer, or the like).
【0016】次に、図2を用いて撮像部2の構成を説明
する。撮像部2は、撮影すべき画像を結像するレンズ2
1を含む光学系を、撮像部筺体22に形成された鏡筒部
23内に備えている。また、撮像部筺体22内には、レ
ンズ21で画像が結像される位置にMOS型撮像素子3
0が配置されている。また、鏡筒部23のレンズ21の
内側には、開閉によりMOS型撮像素子30への光入射
(露光)を所定時間行わせるメカニカルシャッタ24が
設けられている。なお、この撮像部2は、カメラ本体部
1に結合した軸を中心に上下方向に360°回動可能に
取り付けられている。Next, the configuration of the imaging section 2 will be described with reference to FIG. The imaging unit 2 includes a lens 2 that forms an image to be captured.
1 is provided in a lens barrel 23 formed in the imaging unit housing 22. In the imaging unit housing 22, a MOS type imaging device 3 is provided at a position where an image is formed by the lens 21.
0 is arranged. In addition, a mechanical shutter 24 is provided inside the lens 21 of the lens barrel 23 so as to perform light incidence (exposure) to the MOS image sensor 30 for a predetermined time by opening and closing. The imaging unit 2 is attached so as to be rotatable up and down 360 ° around an axis connected to the camera body 1.
【0017】MOS型撮像素子30の構成を図3及び図
4を用いて説明する。図3は、MOS型撮像素子30の
1画素を構成する光電変換素子31を示す断面図であ
る。図4は、MOS型撮像素子30の回路図である。The structure of the MOS type image pickup device 30 will be described with reference to FIGS. FIG. 3 is a cross-sectional view showing the photoelectric conversion element 31 constituting one pixel of the MOS type imaging element 30. FIG. 4 is a circuit diagram of the MOS image sensor 30.
【0018】本実施形態で用いるMOS型撮像素子30
に設けられた光電変換素子31は、図3に示すように、
絶縁性基板32の上に、下部ゲート電極33が形成され
ており、この下部ゲート電極33を含む絶縁性基板32
を覆うように下部ゲート絶縁膜34が形成されている。
下部ゲート絶縁膜34の上には、下部ゲート電極33と
対向する位置に、真性のアモルファスシリコンでなる半
導体薄膜35が形成されている。この半導体薄膜35の
両側には、同図に示すように、ソース電極36とドレイ
ン電極37とが設けられている。これらソース電極36
及びドレイン電極37は、n+シリコン層38、39を
介して半導体薄膜35とオーミック接続されている。こ
れら半導体薄膜35、下部ゲート絶縁膜34、下部ゲー
ト電極33、ソース電極36及びドレイン電極37など
で、逆スタガー型の下部MOSトランジスタが構成され
ている。The MOS type image pickup device 30 used in this embodiment
As shown in FIG. 3, the photoelectric conversion element 31 provided in
A lower gate electrode 33 is formed on the insulating substrate 32, and the insulating substrate 32 including the lower gate electrode 33 is formed.
A lower gate insulating film 34 is formed so as to cover.
On the lower gate insulating film 34, a semiconductor thin film 35 made of intrinsic amorphous silicon is formed at a position facing the lower gate electrode 33. On both sides of the semiconductor thin film 35, a source electrode 36 and a drain electrode 37 are provided as shown in FIG. These source electrodes 36
The drain electrode 37 is ohmically connected to the semiconductor thin film 35 via n + silicon layers 38 and 39. The semiconductor thin film 35, the lower gate insulating film 34, the lower gate electrode 33, the source electrode 36, the drain electrode 37, and the like constitute an inverted staggered lower MOS transistor.
【0019】また、上記のようにソース電極36、ドレ
イン電極37、半導体薄膜35などが形成された絶縁性
基板32は透明な上部ゲート絶縁膜40で覆われてい
る。この上部ゲート絶縁膜40の上には、下部ゲート電
極33と対向する位置に、可視光に対し透過性を示す上
部ゲート電極41が形成されている。このように上部ゲ
ート電極41、上部ゲート絶縁膜40、半導体薄膜3
5、ソース電極36、及びドレイン電極37などで、コ
プラナー型の上部MOSトランジスタが構成されてい
る。このような構成の光電変換素子31では、上部ゲー
ト電極41へ被写体側からの光が入射され、この入射光
が上部ゲート電極41及び上部ゲート絶縁膜40を透過
して、半導体薄膜35へ入射するようになっている。す
なわち、光電変換素子31は、レンズ21に上部ゲート
電極41が対向するように配置されている。このよう
に、本実施形態のMOS型撮像素子30の光電変換素子
31は、所謂ダブルゲート構造のMOS型フォトセンサ
でなる。The insulating substrate 32 on which the source electrode 36, the drain electrode 37, the semiconductor thin film 35 and the like are formed as described above is covered with a transparent upper gate insulating film 40. On the upper gate insulating film 40, an upper gate electrode 41 that is transparent to visible light is formed at a position facing the lower gate electrode 33. Thus, the upper gate electrode 41, the upper gate insulating film 40, the semiconductor thin film 3
5, a source electrode 36, a drain electrode 37 and the like constitute a coplanar type upper MOS transistor. In the photoelectric conversion element 31 having such a configuration, light from the subject side is incident on the upper gate electrode 41, and this incident light is transmitted through the upper gate electrode 41 and the upper gate insulating film 40 and is incident on the semiconductor thin film 35. It has become. That is, the photoelectric conversion element 31 is arranged such that the upper gate electrode 41 faces the lens 21. As described above, the photoelectric conversion element 31 of the MOS imaging device 30 according to the present embodiment is a so-called double gate MOS photosensor.
【0020】そして、本実施形態のMOS型撮像素子3
0は、図4に示すように、多数の光電変換素子31がマ
トリクス状に配置されている。同図に示すように、各光
電変換素子31は、その下部ゲート電極33が下部ゲー
ト側ドライバ42に下部ゲート駆動線43を介して接続
され、そのドレイン電極37が信号線44に接続されて
いる。Then, the MOS type image pickup device 3 of this embodiment
0 indicates that a large number of photoelectric conversion elements 31 are arranged in a matrix as shown in FIG. As shown in the figure, each photoelectric conversion element 31 has a lower gate electrode 33 connected to a lower gate driver 42 via a lower gate drive line 43, and a drain electrode 37 connected to a signal line 44. .
【0021】また、このMOS型撮像素子30は、セン
サアレイブロック45とデータセレクトブロック46の
2つの領域から構成されている。上記した光電変換素子
31は、センサアレイブロック45に配置されている。
また、データセレクトブロック46内では、スイッチン
グ素子Qの一端が信号線44と接続されている。このス
イッチング素子Qの他端は、ドレインドライバ48に接
続されている。上記したスイッチング素子Qは、TFT
プロセス技術で作成されたMOSトランジスタでなり、
そのゲートがデータセレクタ49に接続され、このデー
タセレクタ49から選択的に出力された電圧がスイッチ
ング素子Qのゲートに印加されることにより、ドレイン
ドライバ48から所定値の電圧が信号線44に供給され
る。また、光電変換素子31の上部ゲート電極41は、
上部ゲート駆動線51に接続され、この上部ゲート駆動
線51は、上部ゲート側ドライバ52に接続されてい
る。さらに、光電変換素子31のソース電極36は、図
3及び図4に示すように接地されている。ドレインドラ
イバ48は、データセレクタ49からのオン信号により
信号線44に所定値の電圧を供給する。その後データセ
レクタ49のオフ信号によりスイッチング素子Qが開い
た状態で、選択された1行の光電変換素子31が入射光
の光量に応じたドレイン電流を流す。そしてこのドレイ
ン電流により減衰された信号線44の電圧を再びデータ
セレクタ49からのオン信号によりドレインドライバ4
8に取り込み、内部のバッファ回路で増幅し出力端子V
outに出力する。The MOS type image pickup device 30 is composed of two areas, a sensor array block 45 and a data select block 46. The above-described photoelectric conversion element 31 is disposed in the sensor array block 45.
In the data select block 46, one end of the switching element Q is connected to the signal line 44. The other end of the switching element Q is connected to the drain driver 48. The switching element Q is a TFT
It is a MOS transistor created by process technology,
The gate is connected to the data selector 49, and a voltage selectively output from the data selector 49 is applied to the gate of the switching element Q, whereby a predetermined voltage is supplied from the drain driver 48 to the signal line 44. You. The upper gate electrode 41 of the photoelectric conversion element 31 is
The upper gate drive line 51 is connected to an upper gate driver 52. Further, the source electrode 36 of the photoelectric conversion element 31 is grounded as shown in FIGS. The drain driver 48 supplies a voltage of a predetermined value to the signal line 44 according to an ON signal from the data selector 49. Thereafter, in a state where the switching element Q is opened by the OFF signal of the data selector 49, the selected one row of the photoelectric conversion elements 31 flows a drain current corresponding to the amount of incident light. Then, the voltage of the signal line 44 attenuated by the drain current is again changed by the ON signal from the data selector 49 to the drain driver 4.
8 and amplified by an internal buffer circuit and output terminal V
Output to out.
【0022】本実施形態で用いるMOS型撮像素子30
では、下部ゲート電極33に供給する読み出し選択信号
に同期して、上部ゲート電極41にオフセットバイアス
を印加するようにしたものである。このようにオフセッ
トバイアスを印加することにより、下部ゲート電極33
をゲートとする下部MOSトランジスタのチャネルが形
成されるようにし、被写体からの光の入射量に応じてチ
ャネルに蓄積した電荷に応じてドレイン電流が流れるこ
とで光電変換が可能となる。このMOS型撮像素子30
では、データセレクタ49で順次選択することにより、
全画素からのデータをアドレスライン毎に順次ドレイン
ドライバ48から出力電圧Voutとして取り出すこと
ができる。なお、全画素をリセットするには、センスゲ
ートである上部ゲート電極41の全ラインにリセット電
圧を印加すれば蓄積された電荷を放出してリセット状態
となる。The MOS type imaging device 30 used in this embodiment
In this example, an offset bias is applied to the upper gate electrode 41 in synchronization with a read selection signal supplied to the lower gate electrode 33. By applying the offset bias in this manner, the lower gate electrode 33
Is formed, and a drain current flows according to the charge accumulated in the channel in accordance with the amount of incident light from the subject, thereby enabling photoelectric conversion. This MOS type imaging device 30
Then, by sequentially selecting with the data selector 49,
Data from all the pixels can be sequentially extracted from the drain driver 48 as the output voltage Vout for each address line. In order to reset all the pixels, if a reset voltage is applied to all the lines of the upper gate electrode 41 which is a sense gate, the accumulated charges are released to be in a reset state.
【0023】なお、本実施形態では、メカニカルシャッ
タ24を開き、その後メカニカルシャッタ24で閉まる
までの間にデータ取り込みができる。また、この出力電
圧Voutの読み出しは、前述したようにTFTプロセ
ス技術で形成したTFTを用いているため、低速な読み
出しとなるが、本実施形態のようなMOS型撮像素子3
0に蓄積されるキャリアは光励起によるものが圧倒的に
多く、熱励起によるキャリアは室温で20秒程度は十分
無視できるため、低速な読み出しでもデータが変化しな
い。このため、TFTプロセス技術で製造しても十分な
機能を有する撮像素子が成立する。In this embodiment, data can be taken in between the time when the mechanical shutter 24 is opened and the time when the mechanical shutter 24 is closed. The reading of the output voltage Vout is performed at a low speed because the TFT formed by the TFT process technique is used as described above.
Carriers accumulated in 0 are predominantly due to optical excitation, and carriers due to thermal excitation can be sufficiently ignored for about 20 seconds at room temperature, so that data does not change even at low speed reading. For this reason, an imaging device having a sufficient function can be realized even when manufactured by the TFT process technology.
【0024】図5は、図1のデジタルスチルカメラの回
路構成を示すブロック図である。図示するように、この
デジタルスチルカメラの回路は、表示部10と、キー入
力部12a、12b、12c、12dと、マトリクス状
に複数の光電変換部(撮像画素)31が配列され、受光
した光の強度に応じて電荷を蓄積するMOS型撮像素子
30と、サンプルホールド回路53と、A/D変換器5
4と、駆動ドライバ55と、タイミングジェネレータ5
6と、カラープロセス回路57と、DMA(Direct Mem
ory Access)コントローラ58と、DRAM59と、記
録用メモリ60と、キー入力部12a、12b、12
c、12dからのコマンドに従って格納されたプログラ
ムを実行し、デジタルスチルカメラの各回路部を制御す
るCPU(Central Processing Unit)61と、画像圧
縮伸長回路62と、VRAMコントローラ63と、VR
AM64と、デジタルビデオエンコーダ65とを備え
る。FIG. 5 is a block diagram showing a circuit configuration of the digital still camera of FIG. As shown in the figure, the circuit of the digital still camera includes a display unit 10, key input units 12a, 12b, 12c, and 12d, and a plurality of photoelectric conversion units (imaging pixels) 31 arranged in a matrix. MOS-type image pickup device 30 that accumulates electric charges in accordance with the intensity of sample, sample-and-hold circuit 53, and A / D converter 5
4, a drive driver 55, and a timing generator 5
6, a color process circuit 57, and a DMA (Direct Mem
ory Access) controller 58, DRAM 59, recording memory 60, key input units 12a, 12b, 12
c, a CPU (Central Processing Unit) 61 that executes the stored program in accordance with the commands from the 12d and controls each circuit unit of the digital still camera, an image compression / decompression circuit 62, a VRAM controller 63, and a VR.
An AM 64 and a digital video encoder 65 are provided.
【0025】撮影モードにおける上記回路の動作状態を
説明する。撮影モードには2つの動作モードがあり、撮
影した画像を表示部10にて表示するモニタリングモー
ドと、撮影した画像を画像データとして記録する画像記
録モードと、に分けられる。The operation of the above circuit in the photographing mode will be described. There are two operation modes in the photographing mode, which are divided into a monitoring mode for displaying a photographed image on the display unit 10 and an image recording mode for recording a photographed image as image data.
【0026】モニタリングモードでは、CPU61が予
め設定された撮像周期毎にタイミングジェネレータ56
及びカラープロセス回路57を制御によりMOS型撮像
素子30を駆動し、MOS型撮像素子30は駆動ドライ
バ55から出力された駆動信号Spに基づいて撮影した
画像の光量に応じて変換された電気信号Seをサンプル
フォールド回路53に順次出力する。サンプルフォール
ド回路53は、この電気信号Seのうちの実効部分S
e'をA/D変換器54に出力する。A/D変換器54
は実効部分Se'をデジタルデータSdに変換し、カラ
ープロセス回路57に出力し、カラープロセス回路57
はデジタルデータSdから輝度/色差デジタルデータで
あるYUVデータをDMAコントローラ58に出力す
る。DMAコントローラ58は、YUVデータをDRA
M59に記録・更新する。In the monitoring mode, the CPU 61 operates the timing generator 56 every predetermined imaging cycle.
In addition, the MOS type image pickup device 30 is driven by controlling the color process circuit 57, and the MOS type image pickup device 30 converts the electric signal Se converted according to the light amount of the image captured based on the drive signal Sp output from the drive driver 55. Are sequentially output to the sample fold circuit 53. The sample fold circuit 53 generates an effective part S of the electric signal Se.
e ′ is output to the A / D converter 54. A / D converter 54
Converts the effective portion Se ′ into digital data Sd and outputs it to the color process circuit 57,
Outputs YUV data, which is luminance / color difference digital data, from the digital data Sd to the DMA controller 58. The DMA controller 58 converts the YUV data into a DRA
Record and update in M59.
【0027】CPU61は、DMAコントローラ58か
ら転送された1フレーム分のYUVデータをDRAM5
9から読み出し、VRAMコントローラ63を介してV
RAM64に書き込む。また、デジタルビデオエンコー
ダ65は、一定周期毎にVRAMコントローラ63を介
してVRAM64より1フレーム分のYUVデータを線
順次で読み出してアナログビデオ信号Saを表示部10
に出力する。The CPU 61 transfers one frame of YUV data transferred from the DMA controller 58 to the DRAM 5.
9 and read out from VRAM controller 63
Write to RAM64. Further, the digital video encoder 65 reads out one frame of YUV data from the VRAM 64 in a line-sequential manner via the VRAM controller 63 at regular intervals, and displays the analog video signal Sa on the display unit 10.
Output to
【0028】シリアル入出力端子13は、CPU61が
外部機器とのデータのシリアル転送を行うための入出力
端子である。The serial input / output terminal 13 is an input / output terminal for the CPU 61 to perform serial transfer of data with an external device.
【0029】キー入力部12a、12b、12c、12
dは、それぞれカメラ本体1に配されたモード設定キー
12a、シャッターキー12b、「+」キー12c及び
「−」キー12dから構成され、これらの各キーからの
入力に従ったコマンドをCPU61に投入する。Key input sections 12a, 12b, 12c, 12
d is composed of a mode setting key 12a, a shutter key 12b, a "+" key 12c, and a "-" key 12d arranged on the camera body 1, and inputs a command to the CPU 61 in accordance with an input from each of these keys. I do.
【0030】次に、画像記録モードについて説明する。
まず、モード設定キー12aにより画像記録モードに設
定し、撮像部2で被写体を捉えて表示部10でこの被写
体をモニタリングする。撮影前に全光電変換素子31の
上部ゲート電極41に上部ゲート側ドライバ52からの
0(V)の信号電圧が印加され、同時に全光電変換素子
31の下部ゲート電極33には下部ゲート側ドライバ4
2からの10(V)の信号電圧が印加され、信号線44
には10(V)の電圧が供給される。このため、全光電
変換素子31の半導体薄膜35に蓄積されていたキャリ
アは放出され、リセット状態になる。操作者がデジタル
スチルカメラのシャッタキー12bを押すことにより、
CPU61がタイミングジェネレータ56及びカラープ
ロセス回路57を制御して転送動作が停止されると同時
にメカニカルシャッタ24が開き、被写体に応じた光が
レンズ21を介してMOS型撮像素子30の各光電変換
素子31に入射される。このとき、全光電変換素子31
の上部ゲート電極41、及びドレイン電極37の電位は
それぞれ0(V)、下部ゲート電極33には、正孔蓄積
のため−20(V)に設定してあるので、各光電変換素
子31の受光した光量に応じて生成された正孔が各半導
体薄膜35に蓄積される。その後、即座にメカニカルシ
ャッタ24が閉じる。次いでドレインドライバ48は、
データセレクタ49からのオン信号により各信号線44
に所定値の電圧をプリチャージし、光電変換素子31の
ドレイン電極37に10(V)のドレイン電圧が印加さ
れた後、データセレクタ49からのオフ信号によりスイ
ッチング素子Qが開いた状態になる。そして、各光電変
換素子31の第1行目の光電変換素子31から順次デー
タを検出する。第1行目の光電変換素子31の上部ゲー
ト電極41に上部ゲート側ドライバ52からの−20
(V)の信号電圧Vtが印加され、下部ゲート電極33
には下部ゲート側ドライバ42からの10(V)の信号
電圧Vbが印加され、第1行目の光電変換素子31は選
択状態となる。各信号線44には、データセレクタ49
のオン信号によりドレインドライバ48から10(V)
の信号電圧Vdがチャージされた状態が続いている。同
時に第2行目から最終行の光電変換素子31の上部ゲー
ト電極41及び下部ゲート電極33は、その上部ゲート
電極41の電位は0(V)、下部ゲート電極33には−
20(V)が印加されたままの非選択で正孔が蓄積され
た状態が続く。第1行目の光電変換素子31では、光量
に応じて蓄積された正孔が上部ゲート電極41のゲート
電圧Vtにより局在化してこのゲート電圧Vtを相殺す
るためnチャネルが発生しドレイン電流が流れ、信号線
44の電位は光量に応じてディスチャージされる。第1
行目の光電変換素子31によりディスチャージされた電
圧は、データセレクタ49のオン信号によりスイッチン
グ素子Qが閉じた状態でドレインドライバ48に取り込
まれる。ドレインドライバ48では、取り込んだデータ
電圧を内部のバッファ回路で増幅した電気信号Seを出
力端子Voutに出力する。続いて第2行目の光電変換
素子31を上記の如く選択し、第1行目並びに第3行目
以降の光電変換素子31を非選択状態にしてデータを取
り込み1画面分の電気信号Seを各行毎に出力する。そ
して、最後に転送された1フレーム分の電気信号Seは
モニタリングモードと同様に、サンプルフォールド回路
53、A/D変換器54、及びカラープロセス回路57
を介してYUVデータに変換される。CPU61は、こ
のYUVデータをDMAコントローラ58を介して所定
のフォーマットで読み出し、画像圧縮伸長回路62に入
力し圧縮させる。圧縮されたデータは、記録用メモリ6
0で保存される。この保存が終了後、CPU61は、タ
イミングジェネレータ56及びカラープロセス回路57
を再び起動し、モニタリングモードに自動的に戻る。Next, the image recording mode will be described.
First, the image recording mode is set by the mode setting key 12a, the subject is captured by the imaging unit 2, and the display unit 10 monitors the subject. Before photographing, a signal voltage of 0 (V) from the upper gate driver 52 is applied to the upper gate electrode 41 of all the photoelectric conversion elements 31, and at the same time, the lower gate driver 4 is applied to the lower gate electrode 33 of all the photoelectric conversion elements 31.
The signal voltage of 2 to 10 (V) is applied, and the signal line 44
Is supplied with a voltage of 10 (V). For this reason, the carriers accumulated in the semiconductor thin film 35 of all the photoelectric conversion elements 31 are released and enter a reset state. When the operator presses the shutter key 12b of the digital still camera,
The CPU 61 controls the timing generator 56 and the color process circuit 57 to stop the transfer operation. At the same time, the mechanical shutter 24 is opened, and light corresponding to the subject is transmitted through the lens 21 to each of the photoelectric conversion elements 31 of the MOS type imaging element 30. Is incident on. At this time, all the photoelectric conversion elements 31
Since the potentials of the upper gate electrode 41 and the drain electrode 37 are set to 0 (V) and the lower gate electrode 33 is set to -20 (V) for the accumulation of holes, the light reception of each photoelectric conversion element 31 is performed. The holes generated in accordance with the amount of light thus accumulated are accumulated in each semiconductor thin film 35. Thereafter, the mechanical shutter 24 closes immediately. Next, the drain driver 48
Each signal line 44 is turned on by an ON signal from the data selector 49.
After a voltage of a predetermined value is precharged and a drain voltage of 10 (V) is applied to the drain electrode 37 of the photoelectric conversion element 31, the switching element Q is opened by an off signal from the data selector 49. Then, data is sequentially detected from the photoelectric conversion elements 31 in the first row of each photoelectric conversion element 31. -20 from the upper gate driver 52 is applied to the upper gate electrode 41 of the photoelectric conversion element 31 in the first row.
(V) signal voltage Vt is applied and the lower gate electrode 33
, A signal voltage Vb of 10 (V) from the lower gate side driver 42 is applied, and the photoelectric conversion elements 31 in the first row are in a selected state. Each signal line 44 has a data selector 49
10 (V) from the drain driver 48 by the ON signal of
The state where the signal voltage Vd is charged continues. At the same time, the upper gate electrode 41 and the lower gate electrode 33 of the photoelectric conversion element 31 in the second row to the last row have a potential of 0 (V) and a lower gate electrode 33 of −
The state where holes are accumulated in a non-selective manner while 20 (V) is applied continues. In the photoelectric conversion element 31 in the first row, holes accumulated according to the amount of light are localized by the gate voltage Vt of the upper gate electrode 41 and cancel the gate voltage Vt, so that an n-channel is generated and the drain current is reduced. Then, the potential of the signal line 44 is discharged in accordance with the amount of light. First
The voltage discharged by the photoelectric conversion element 31 in the row is taken into the drain driver 48 in a state where the switching element Q is closed by the ON signal of the data selector 49. The drain driver 48 outputs to the output terminal Vout an electric signal Se obtained by amplifying the fetched data voltage by an internal buffer circuit. Subsequently, the photoelectric conversion elements 31 in the second row are selected as described above, the photoelectric conversion elements 31 in the first row and the third and subsequent rows are deselected, data is taken in, and the electric signal Se for one screen is output. Output for each line. Then, similarly to the monitoring mode, the electric signal Se for one frame that has been finally transferred is the sample fold circuit 53, the A / D converter 54, and the color process circuit 57.
Is converted to YUV data via The CPU 61 reads out the YUV data in a predetermined format via the DMA controller 58, and inputs the YUV data to the image compression / expansion circuit 62 for compression. The compressed data is stored in a recording memory 6.
Stored as 0. After this storage is completed, the CPU 61 sets the timing generator 56 and the color process circuit 57
Again to automatically return to monitoring mode.
【0031】再生モードでは、キー入力部12a、12
b、12c、12dでの操作に応じて、記録用メモリ6
0で保存された圧縮データを画像圧縮伸長回路62で伸
長し、この圧縮を解凍された1フレーム分のYUVデー
タを画像圧縮伸長回路62から読み出し、VRAMコン
トローラ63を介してVRAM64に書き込む。VRA
M64に書き込まれた1フレーム分のYUVデータは、
デジタルビデオエンコーダ65で線順次で読み出して変
換され、アナログビデオ信号Saとして表示部10に出
力される。また、画像記録モードで撮影終了直後に、再
生モードに切り替わり、表示部10が撮影した1フレー
ム分の画像を表示するように設定してもよい。In the reproduction mode, the key input units 12a, 12a
b, 12c, and 12d, the recording memory 6
The compressed data stored at 0 is decompressed by the image compression / decompression circuit 62, and one frame of the decompressed YUV data is read from the image compression / decompression circuit 62 and written to the VRAM 64 via the VRAM controller 63. VRA
One frame of YUV data written to M64 is
The digital video encoder 65 reads and converts the data in a line-sequential manner, and outputs the analog video signal Sa to the display unit 10. In addition, it may be set so that the mode is switched to the reproduction mode immediately after the end of shooting in the image recording mode, and the display unit 10 displays an image of one frame shot.
【0032】このような本実施形態のデジタルスチルカ
メラでは、MOS型撮像素子30は、微弱光の短時間照
射でも高感度な検出が可能であるため(上部ゲート電極
41にオフセットバイアスを印加することにより下部ゲ
ート電極33をゲートとする下部MOSトランジスタの
チャネルが形成されるようにして暗い照度の光が入射し
た場合でもこのチャネルにドレイン電流が流れることで
光電変換が可能となるため)、高速なメカニカルシャッ
タ24の開閉で瞬時に撮影することができ、ぶれの少な
い表示データを得ることができる。特に、動きの早い被
写体や、原稿読み取りなどの用途にも高精細に撮影する
ことができる。このように、本実施形態では、TFTプ
ロセス技術を用いて製造したMOS型撮像素子30を用
いて、高精細な撮影が可能なデジタルスチルカメラとす
ることができる。In the digital still camera according to the present embodiment, the MOS type image pickup device 30 can perform highly sensitive detection even with short-time irradiation of weak light (by applying an offset bias to the upper gate electrode 41). Therefore, even when light of dark illuminance is incident on the lower MOS transistor having the lower gate electrode 33 as a gate, photoelectric conversion can be performed by flowing a drain current into this channel. By opening and closing the mechanical shutter 24, an image can be taken instantaneously, and display data with less blur can be obtained. In particular, high-precision shooting can be performed for fast-moving subjects and for applications such as reading originals. As described above, in the present embodiment, a digital still camera capable of high-definition photographing can be provided by using the MOS imaging device 30 manufactured using the TFT process technology.
【0033】以上、実施形態について説明したが、本発
明はこれに限定されるものではなく、構成の要旨に付随
する各種の変更が可能である。例えば、上記した実施形
態では、高速シャッタとしてメカニカルシャッタを適用
して、MOS型撮像素子30の露光時間を略同一にした
が、高分子分散液晶セルその他の各種の液晶セルをシャ
ッタとして用いてもよい。この場合、被写体側からの光
入射を全画素で同時に行えると共に、全画素で同時に遮
光を行えるため全画素での露光時間が同一となる利点が
ある。Although the embodiments have been described above, the present invention is not limited to the embodiments, and various changes accompanying the gist of the configuration are possible. For example, in the above-described embodiment, a mechanical shutter is applied as a high-speed shutter, and the exposure time of the MOS type image sensor 30 is made substantially the same. However, a polymer dispersed liquid crystal cell or other various liquid crystal cells may be used as the shutter. Good. In this case, there is an advantage that the light exposure from all the pixels can be performed simultaneously since all the pixels can simultaneously receive light from the subject side and can simultaneously block light in all the pixels.
【0034】[0034]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、薄膜技術を利用して製造されたMOS型撮像
素子を用いることができ、500万画素以上の高精細な
画像取り込みが可能となり、且つ実用的な画像取り込み
速度が得られるデジタルスチルカメラを実現できる。As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to use a MOS type image pickup device manufactured using a thin film technology, and it is possible to capture a high-definition image of 5 million pixels or more. It is possible to realize a digital still camera capable of realizing a practical image capturing speed.
【図1】本発明に係るデジタルスチルカメラの実施形態
を示す斜視図。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a digital still camera according to the present invention.
【図2】実施形態のデジタルスチルカメラの撮像部の横
断面説明図。FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view of an imaging unit of the digital still camera according to the embodiment.
【図3】実施形態で用いたMOS型撮像素子の光電変換
部を示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a photoelectric conversion unit of the MOS type imaging device used in the embodiment.
【図4】実施形態で用いたMOS型撮像素子の回路図。FIG. 4 is a circuit diagram of a MOS type imaging device used in the embodiment.
【図5】実施形態のデジタルスチルカメラの回路構成を
示すブロック図。FIG. 5 is a block diagram showing a circuit configuration of the digital still camera according to the embodiment.
1 カメラ本体部 2 撮像部 10 表示部 21 レンズ 24 メカニカルシャッタ 30 MOS型撮像素子 31 光電変換部 33 下部ゲート電極 34 下部ゲート絶縁膜 35 半導体薄膜 36 ソース電極 37 ドレイン電極 40 上部ゲート絶縁膜 41 上部ゲート電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Camera main body part 2 Imaging part 10 Display part 21 Lens 24 Mechanical shutter 30 MOS type imaging element 31 Photoelectric conversion part 33 Lower gate electrode 34 Lower gate insulating film 35 Semiconductor thin film 36 Source electrode 37 Drain electrode 40 Upper gate insulating film 41 Upper gate electrode
フロントページの続き Fターム(参考) 2H054 AA01 4M118 AA10 AB01 BA14 CA11 CB06 FA06 HA19 5C022 AA13 AB17 AC03 AC31 AC32 AC42 AC52 AC54 AC69 AC73 AC77 5C024 AA01 BA01 CA11 CA12 DA01 DA02 DA04 DA07 EA04 FA01 FA11 GA02 GA31 HA06 HA14 HA24 HA27 Continued on the front page F term (reference) 2H054 AA01 4M118 AA10 AB01 BA14 CA11 CB06 FA06 HA19 5C022 AA13 AB17 AC03 AC31 AC32 AC42 AC52 AC54 AC69 AC73 AC77 5C024 AA01 BA01 CA11 CA12 DA01 DA02 DA04 DA07 EA04 FA01 FA11 GA02 GA31 HA06 HA12
Claims (4)
センサでなる複数の光電変換部をマトリクス状に配置し
たMOS型撮像素子と、 前記MOS型撮像素子の光検出面へ被写体を結像させる
光学系と、 前記MOS型撮像素子の光検出面を所定時間、露光させ
るシャッタと、 を備えることを特徴とするデジタルスチルカメラ。1. A MOS type image sensor in which a plurality of photoelectric conversion units each composed of a MOS type photo sensor having upper and lower gate electrodes are arranged in a matrix, and an optical element for forming an image of a subject on a light detection surface of the MOS type image sensor. A digital still camera, comprising: a system; and a shutter for exposing a light detection surface of the MOS type imaging device for a predetermined time.
導体層及び当該半導体層に配設されたソース・ドレイン
を挟んでその両側にそれぞれゲート絶縁膜を介して前記
半導体層と対向するゲート電極が設けられると共に、前
記一方のゲート電極にセンスゲートバイアス及びリセッ
トバイアスが印加され、他方の前記ゲート電極に読み出
し選択信号が供給されることを特徴とする請求項1記載
のデジタルスチルカメラ。2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the photoelectric conversion unit comprises a semiconductor layer having a-Si and a gate opposed to the semiconductor layer via a gate insulating film on both sides of a source and a drain provided on the semiconductor layer. 2. The digital still camera according to claim 1, wherein an electrode is provided, a sense gate bias and a reset bias are applied to the one gate electrode, and a read selection signal is supplied to the other gate electrode.
変換部は、前記シャッタの開閉で同時に所定時間光の取
り込みを行うことを特徴とする請求項1又は2記載のデ
ジタルスチルカメラ。3. The digital still camera according to claim 1, wherein all of the photoelectric conversion units constituting the MOS type imaging element simultaneously take in light for a predetermined time when the shutter is opened and closed.
あることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに
記載のデジタルスチルカメラ。4. The digital still camera according to claim 1, wherein said shutter is a mechanical shutter.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10195163A JP2000023028A (en) | 1998-06-26 | 1998-06-26 | Digital still camera |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10195163A JP2000023028A (en) | 1998-06-26 | 1998-06-26 | Digital still camera |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000023028A true JP2000023028A (en) | 2000-01-21 |
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ID=16336485
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP10195163A Pending JP2000023028A (en) | 1998-06-26 | 1998-06-26 | Digital still camera |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000023028A (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1998
- 1998-06-26 JP JP10195163A patent/JP2000023028A/en active Pending
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