JP2000018932A - 被検物の欠点検査方法および検査装置 - Google Patents
被検物の欠点検査方法および検査装置Info
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Abstract
ン光は被検物2の表面で反射され、反射像が連続的に演
算装置4に入力される。演算装置4は、複数枚の画像に
おける同一位置の画素に関する最大値や最小値を評価値
として、位置が異なる各画素について評価値を比較す
る。
Description
または光透過性を有する物体の微小凹凸等の欠点の検査
や評価に用いられる被検物の欠点検査方法に関する。
ける微小凹凸等の欠点を検査する一般的な方法として、
検査員の目視による方法があるが、目視による方法で
は、検査員の熟練が必要になるとともに、見落としや見
誤りをなくすことが困難である。また、要求される品質
が高くなると、目視検査で対応することが難しくなる。
そこで、種々の自動検査装置が提案されている。
には、被検物からの透過光、透過散乱光、反射光および
反射散乱光のうちの複数の光を用いて欠点を検出する方
法が開示されている。また、特開平1−107103号
公報には、被検物からの正反射光と乱反射光とを用いて
欠点を検出する方法が開示されている。さらに、特開平
4−238207号公報や特開平5−215697号公
報には、複数のセンサを設け各センサの出力にもとづい
て欠点を検出する方法が開示されている。そして、特開
平8−152416号公報や特開平9−49806号公
報には、光源または光源と受光部とを被検物に対して所
定の角度に設定して被検物からの透過光または反射光に
もとづいて欠点を検出する方法が開示されている。
いる方法または1種類の光を用いるものの複数センサを
用いる方法では、検出対象が小さくなって必要な解像度
が高くなるにつれて、センサ間の位置合わせが難しくな
る。同様に、光源または光源と受光部とを被検物に対し
て所定の角度に設定する必要がある方法でも、光源や受
光部の位置合わせが難しくなる。従って、位置ずれによ
る誤動作や検出感度の低下を招いたり、検査装置の調整
や保守に多大の労力がかかるという課題がある。
る際に複数のセンサを用いる必要がなく、また、センサ
等の位置合わせをする必要もなく、かつ、被検物におけ
る微小凹凸等の欠点をほこり等の散乱性欠点と区別して
検出および評価することができる被検物の欠点検査方法
および検査装置を提供することを目的とする。
点検査方法は、互いに位相のみが異なる明暗パターンを
有する複数の光を被検物に照射するステップと、複数の
光の照射にもとづいて反射光または透過光を受光して複
数の画像を得るステップと、複数の画像またはそれらの
画像に微分処理が施された各画像における被検物の同一
位置の画素に関するそれぞれのデータにもとづいて評価
値を決め位置が異なる各画素について評価値を比較して
被検物の微小欠点を検査するステップとを備える。
くは双方、または最大値と最小値との差もしくは和であ
ってもよい。また、明暗パターンは、好ましくは、明暗
ストライプパターンまたは明暗ギザギザパターンであ
る。ギザギザパターンとは、例えば、三角状の山部と谷
部が繰り返すようなパターンである。
づいて得られた複数の画像またはそれらの画像に微分処
理が施された各画像における被検物の同一位置の画素の
周辺にウィンドウを設定するように構成されていてもよ
い。
ザパターンを有する複数の光と透過補助光とを被検物に
照射し、被検物中の泡欠点を検出するように構成されて
いてもよい。
散光源とそれを覆うストライプパターン部などの明暗パ
ターン部とを有し被検物を照射する光源部と、光源部か
らの明暗パターンと被検物との相対位置を移動させる駆
動部と、被検物の反射光または透過光を入力して明暗パ
ターンの位相が異なる複数枚の画像を生成する受光部
と、複数枚の画像における被検物の同一位置の画素に関
するそれぞれのデータにもとづいて評価値を決め位置が
異なる各画素について評価値を比較する演算装置とを備
えたものである。なお、相対位置の移動は、光源部もし
くは明暗パターン部の移動、または被検物の移動によっ
て実現される。
を参照して説明する。図1は、本発明による被検物の欠
点検査方法を実行するための検査装置の第1の実施の形
態を示す構成図である。図に示すように、ガラス等の被
検物2の表面に平行な回転軸の回りを回転する光源1か
らの光は、被検物2の表面で反射され、CCDエリアカ
メラ等の撮像素子3に入力される。光源1は例えば拡散
光源とそれを覆う筒状部とを備え、演算装置4に制御さ
れる回転駆動装置5によって駆動される。そして、撮像
素子3で撮像された被検物2の表面の反射像は連続的に
演算装置4に入力される。
フィルムで覆われている。従って、撮像素子3で撮像さ
れた各反射像は、ストライプパターンの位相が徐々にず
れていく画像となる。演算装置4は、例えば、ストライ
プパターン1位相分進むと16枚の画像が取り込まれる
ように回転駆動装置5を制御する。なお、回転駆動装置
5は、一定速度またはステップ状の速度で光源1を回転
させる。また、画像取り込みの間に、[(16×n±
1)/16]位相(nは自然数)進むように一定速度で
回転させてもよい。
いて図2〜図4を参照して説明する。演算装置4に取り
込まれる画像は、被検物2の表面における同一領域の反
射像であるが、図2(A)の(a)〜(d)に示すよう
にストライプパターンの位相がずれていく画像である。
ここで、被検物2の表面に微小凹凸7,9とほこり6,
8がある場合を考える。なお、図2(A)では一部分に
のみ符号が付されているが、(a)〜(d)における対
応位置にある微小凹凸およびほこりは、それぞれ同じも
のを示す。
ずれる。そのために、背景が白である明視野では、反射
角がずれて視野が黒ストライプの部分にかかることによ
って反射像の画像が暗くなる。逆に、背景が黒である暗
視野では、光量が多い光源1の白ストライプからの光も
反射することによって明るくなる。明視野での暗くなり
かたの程度と、暗視野での明るくなりかたの程度とは、
基本的に同じである。一方、小さなほこりは散乱要素で
あるから、明視野でも暗視野でも、光源1の白ストライ
プからくる光を広く散乱する。よって、反射像の画像に
おいて、暗視野での明るさが微小凹凸の場合に比べて強
くなり、明視野では微小凹凸の場合に比べてそれほど暗
くならない。
像おける微小凹凸7,9を含むI−I断面の光量を示
し、図2(C)は図2(A)に示された各画像おけるほ
こり6,8を含むII−II断面の光量を示す説明図であ
る。図2(B)において、微小凹凸7の部分での光量
は、山又は谷部71〜74に現れ、微小凹凸9の部分で
の光量は、山又は谷部91〜94に現れている。また、
図2(C)において、ほこり6の部分での光量は、山又
は谷部61〜64に現れ、ほこり8の部分での光量は、
山又は谷部81〜84に現れている。
凹凸7および(c)における微小凹凸9のように、背景
が白ストライプ(明視野)である場合には、各画像にお
ける微小凹凸は黒点となるが、光量は黒ストライプ部分
の光量(Imin)に比べると大きな値になる。逆に、
図2(A)の(a)における微小凹凸9および(b),
(c)における微小凹凸7のように、背景が黒ストライ
プ(暗視野)である場合には、各画像における微小凹凸
は白点となるが、光量はストライプ部分の光量(I
max)に比べると小さな値になる。また、図2(A)
の(b),(d)における微小凹凸9のように白黒の境
界近傍にある場合には、白黒を含む点になるが、白部分
も黒部分も光量はImaxに比べると小さくIminに
比べると大きな値になる。
るほこり8および(c)におけるほこり6のように、明
視野である場合には、ほこりはわずかに黒い点になる
が、その光量はIminに比べるとかなり大きな値にな
る。逆に、図2(A)の(a)おけるほこり6および
(c),(d)におけるほこり8のように、暗視野であ
る場合には強い白点となり、その光量はImaxに近い
値になる。また、図2(A)の(b),(d)おけるほ
こり6のように白黒の境界近傍にある場合には、光量が
Imaxに近い値の白点になる。
明視野における光量および暗視野における光量を、I
maxおよびIminと比較することによって、微小凹
凸とほこりとを検出できることがわかる。そして、図2
(B),(C)からわかるように、各画素の光量の最大
値および最小値と、ImaxおよびIminと比較する
ことによって、微小凹凸とほこりとを区別して検出でき
ることがわかる。そこで、本発明では、白黒パターンの
位相がずれるように被検物2に照射し、得られる複数
(例えば16)枚の反射像の画像を対象に、各画素につ
いて最大値および最小値を求め、得られた最大値および
最小値をImaxおよびIminと比較する。
は、演算装置4の信号処理の一例を示すフローチャート
である。演算装置4は、回転駆動装置5によって光源1
を回転させつつ撮像素子3からk枚の画像A1 〜Ak を
取り込む(ステップS1)。そして、k枚の画像A1 〜
Ak に関して、(0,0)〜(m,n)の全画素につい
て同一の画素ごとに画像間の光量の最大値MAX(0,
0)〜MAX(m,n)を求める(ステップS2)。
ついて同一の画素ごとに画像間の光量の最小値MIN
(0,0)〜MIN(m,n)を求める(ステップS
3)。そして、各画素の最大値MAX(0,0)〜MA
X(m,n)および最小値MIN(0,0)〜MIN
(m,n)を用いて微小凹凸とほこりとを区別して検出
する(ステップS4)。なお、ステップS2とステップ
S3の処理の順は逆でもよい。
S2,S3の処理によって得られる最大値によって形成
される画像((a))と最小値によって形成される画像
((b))とを示す模式図である。また、図4(B)の
(a),(b)は、微小凹凸7,9の光量の最大値
((a))と最小値((b))を示す説明図であり、図
4(C)の(a),(b)は、ほこり6,8の部分の光
量の最大値(図(a))と最小値(図(b))を示す説
明図である。
は、最大値はImaxとなり、最小値はIminとな
る。しかし、微小凹凸の欠点のある部分では、明視野の
場合には周囲の光量よりも小さくIminよりも大きな
値になり、暗視野の場合には周囲の光量よりも大きくI
maxよりも小さな値になるので、最大値は欠点のない
部分よりも小さな値になり、最小値は欠点のない部分よ
りも大きな値になる。例えば、図4(B)の(a)に示
すように、微小凹凸7,9の最大値711,911は、
周囲の光量よりも小さくIminよりも大きな値になっ
ている。また、(b)に示すように、微小凹凸7,9の
最小値712,912は、周囲の光量よりも大きくI
maxよりも小さな値になっている。
は光量はImaxよりも小さいがI maxに近い値にな
り、暗視野でもImaxよりも小さいがImaxに近い
値になるので、最大値は欠点のない部分の値に近い値に
なり、最小値は欠点のない部分よりもずっと大きな値に
なる。例えば、図4(C)の(a)に示すように、ほこ
り6,8が付着している部分では、最大値611,81
1は欠点のない部分の値に近い値になっている。また、
(b)に示すように、ほこり6,8が付着している部分
では、最小値612,812は欠点のない部分よりもず
っと大きな値になっている。
minよりも大きくなっている箇所では、微小凹凸やほ
こりが存在していると認識できる。また、最小値がI
minよりも大きくなっている箇所のうち最大値がI
maxに近い値になっている箇所ではほこりが付着して
いると検出できる。
を区別して検出できる処理を示すフローチャートであ
る。この方法では、図3に示されたステップS1〜S3
の処理によって得られた最大値と最小値との差が、ある
値以下である各画素に相当する部分を微小凹凸欠点の候
補とし、さらに、候補画素の最大値+最小値がある値以
下で、かつ、最大値がある値以下であれば、微小凹凸欠
点の候補を微小凹凸欠点であると判定する。
値−最小値)で形成される画像の模式図が示され、
(d)には、各画素の(最大値+最小値)で形成される
画像の模式図が示されている。また、図4(B)の
(c)には、微小凹凸7,9の(最大値−最小値)の値
713,913が示され、(d)には、微小凹凸7,9
の(最大値+最小値)の値が示されている。図4(C)
の(c)には、ほこり6,8の(最大値−最小値)の値
613,813が示され、(d)には、ほこり6,8の
(最大値+最小値)の値614,814が示されてい
る。
とで示されるように、微小凹凸7,9の(最大値−最小
値)の値713,913とほこり6,8の(最大値−最
小値)の値613,813とは欠点のない部分の値より
もかなり小さいので、各画素の(最大値−最小値)を調
べることによって、高い精度(SN比)でそれらの存在
は検出される。しかし、微小凹凸7,9の(最大値−最
小値)の値713,913とほこり6,8の(最大値−
最小値)の値613,813とは比較的近いので、(最
大値−最小値)によって微小凹凸7,9とほこり6,8
を区別すると、区別の精度はあまりよくない。
視野での暗くなりかたと暗視野での明るくなりかたはほ
ぼ同じであるから、図4(B)の(d)に示されるよう
に微小凹凸欠点の(最大値+最小値)の値は、欠点のな
い部分の値に対してほとんど差がない。それに対して、
ほこりは明視野での暗くなりかたが小さく暗視野での明
るくなりかたが大きいので、(最大値+最小値)の値
は、図4(C)の(d)に示されるように欠点のない部
分の値よりも大きくなる。よって、(最大値+最小値)
の値を調べることによって、高いSN比で微小凹凸欠点
とほこりを区別することができる。
部分の最大値よりもかなり小さいので、最大値も微小凹
凸欠点であるか否かの評価の指標に含めれば、検出の精
度はさらに上がる。
のフローチャートに示されたステップS1〜S3の処理
によって各画素の最大値および最小値が得られたら、演
算装置4は、各画素の(最大値−最小値)の値であるD
IF(i,j)を求める(ステップS41)。ここで、
i=0〜m,j=0〜nである。そして、各画素の(最
大値−最小値)の値DIF(i,j)をしきい値thr
eshold(DIF)と比較し、DIF(i,j)が
threshold(DIF)よりも小さければ、その
画素に相当する部分を微小凹凸欠点候補とする(ステッ
プS42)。しきい値threshold(DIF)
は、欠点のない部分の(最大値−最小値)の値よりも小
さく、ほこりの(最大値−最小値)の値よりも大きい値
である。
について、(最大値+最小値)の値であるSUM(i,
j)を求める。そして、SUM(i,j)をしきい値t
hreshold(SUM)と比較し(ステップS4
3)、SUM(i,j)がthreshold(SU
M)よりも小さければ、その画素に相当する部分を微小
凹凸欠点とする(ステップS44)。しきい値thre
shold(SUM)は、欠点のない部分の(最大値+
最小値)の値よりも大きく、ほこりの(最大値+最小
値)の値よりも小さい値である。
AX(i,j)をしきい値threshold(MA
X)と比較し、最大値MAX(i,j)がしきい値th
reshold(MAX)よりも小さいことを条件に加
えることによって検出の精度はさらに上がる。
点の位置と大きさが高いSN比で検出される。また、図
3に示された処理によって得られた最大値もしくは最小
値、またはその両者を用いても被検物2の欠点を検出で
きることは既に述べた。しかし、それらの方法以外で
も、最大値、最小値、(最大値−最小値)および(最大
値+最小値)のうちの複数を組み合わせて、様々な欠点
を区別して検出できる。
は欠点のない部分の最大値とさほど変わらないので(図
4(C)の(a)参照)、(最大値−最小値)によって
欠点候補を抽出し、最大値のみによっても、ほこりが付
着している部分を特定することができる。また、ガラス
粉が付着していると最小値が極端に大きくなるので、
(最大値−最小値)によって欠点候補を抽出し、最小値
によってガラス粉が付着している部分を特定することが
できる。その他、目的に応じて、種々の組み合わせを用
いて欠点を抽出することができる。
値)および(最大値+最小値)のうちの複数を組み合わ
て欠点を検出する処理を示すフローチャートである。図
に示すように、求めたDIF(i,j)がthresh
old(DIF)よりも小さければ、その画素に相当す
る部分を微小凹凸欠点候補とし(ステップS41,S4
2)、微小凹凸欠点候補についてSUM(i,j)を求
める。そして、SUM(i,j)、最大値、最小値を、
それぞれのしきい値threshold1(SUM)お
よびthreshold2(SUM)、thresho
ld(MAX)、threshold(MIN)と比較
する(ステップS45)。その後、目的応じた比較結果
を用いて、欠点の位置と大きさを決定する(ステップS
46)。
値threshold1(SUM)および上のthre
shold2(SUM)と比較することによって、微小
凹凸と、散乱性のほこりよりもやや大きい遮光性のよご
れとを区別することができる。遮光性のよごれでは、暗
視野で光らず明視野で暗くなるので、(最大値+最小
値)が微小凹凸での(最大値+最小値)よりも小さくな
るからである。
等の散乱性欠点および遮光性の欠点と区別して検出する
場合について説明した。しかし、ほこり等の影響を除去
して被検物2の表面の微小凹凸欠点を検出するのに本発
明を適用できるだけでなく、欠点ではない微小凹凸を有
する被検物2の表面におけるきずなどの散乱性欠点を検
出するために、本発明を適用することもできる。
大きさとを検出できるので、表面に凹凸が施された被検
物2の凹凸むらを、ほこり等の影響をうけずに評価する
こともできる。さらに、被検物2の凹凸むらの評価と、
きずなどの欠点の検出とを同時に行うこともできる。
反射光学系を用いたが、図7に示すような透過光学系を
用いても、反射光学系の場合と同様の効果を得ることが
できる。
を取り込む間にストライプパターンが1位相分進む一定
速度またはステップ状の速度で光源1を回転させたり、
画像取り込みの間に[(16×n±1)/16]位相
(nは自然数)進むように一定速度で回転させたが、パ
ターンのピッチによってはそれよりも少ない枚数の画
像、例えば4枚の画像を用いてもよい。また、パターン
の位相がずれている複数の画像を取り込むのであれば、
光源1の回転と画像の取り込みとを同期させずに、ラン
ダムに画像を取り込んでもよい。
模様のフィルムで覆われた筒状部が回転する光源1を例
示したが、黒白のストライプパターンの位相がずれてい
くものであればよく、例えば、黒白のストライプが配さ
れた平面状の光源を往復運動させてもよい。または、ベ
ルト状の黒白のストライプ模様のフィルムを回転駆動し
てもよい。さらに、白黒パターンの位相がずれる光を被
検物2に照射できれば、チェッカーパターンや斜めスト
ライプパターン等の他のパターンを用いてもよい。光源
1の構成としては、光源1全体を運動させる構成でもよ
いし、拡散光源を固定してパターンの部分のみを運動さ
せる構成でもよい。
がひとまとまりになった構成にすることもできる。そし
て、光源1および撮像素子3と被検面との角度を一定に
保ちつつ被検物2の形状に沿って検査装置を移動させる
ことによって、撮像素子3の視野を越える広い範囲の検
査を容易に行うことができる。
ブラウン管用ガラスの外面を検査対象とし、反射光学系
を用い、被検面の法線と撮像素子3の光軸とを10°傾
けた。そして、ガラス面上で1画素が0.033mm×
0.033mmとなるように撮像素子3を設定した。ま
た、光源1のパターンとして、白黒が等ピッチで白+黒
の幅が3mmのストライプパターンを用い、画像上で1
ピッチが40画素に相当するように設定した。
小凹凸欠点(A)、弱い微小凹凸欠点(B)、ほこり
(C)およびガラス粉(D)の検出状況を示す説明図で
ある。図8におけるA〜Dのそれぞれにおいて、左か
ら、最大値(MAX)、最小値(MIN)、差(MAX
−MIN)、和(MAX+MIN)が示されている。縦
軸のS/Nは、その画素における信号と欠点のない通常
部分での信号の差を、通常部分の信号のばらつきで割っ
た値を示し、通常部分では0となる。
MIN)は低い値になっている。また、和(MAX+M
IN)は通常部分の値とほぼ同じになっている。ほこり
(C)に関しては、差(MAX−MIN)は微小凹凸欠
点の場合と同程度の低い値であるが、和(MAX+MI
N)が通常部分よりも高い値になっている。よって、和
(MAX+MIN)によって微小凹凸欠点と区別するこ
とができる。ガラス粉(D)に関しては、差(MAX−
MIN)は微小凹凸欠点の場合と同程度の低い値であ
り、和(MAX+MIN)は通常部分の値とほぼ同じに
なっている。しかし、最小値(MIN)は微小凹凸に比
べて大きい値になっているので、最小値(MIN)によ
って微小凹凸欠点と区別することができる。
/Nという形で表示したが、実際の検査では、単純に、
得られた値としきい値とを比較すればよい。
法を実行するための検査装置の第2の実施の形態を示す
構成図である。図に示すように、ストライプ模様のフィ
ルムによって光源部が覆われた光源1Aからの光は、被
検物2の表面で反射され、CCDエリアカメラ等の撮像
素子3に入力される。この実施の形態では、光源1は静
止している。また、被検物2は、駆動装置(図示せず)
によって、図9における矢印方向に等速で移動する。そ
して、撮像素子3で撮像された被検物2の表面の反射像
は連続的に演算装置4に入力される。
0(A)に示すように、それぞれ同じパターンで被検物
2の位置がずれた画像となる。この実施の形態では、演
算装置4は、被検物2がストライプパターンの1位相相
当分進む間に8枚の画像を取り込む。
いて図10,11を参照して説明する。演算装置4に取
り込まれる画像は図10(A)に示すようにストライプ
上を被検物が移動していくような画像であるが、演算装
置4は、画像を被検物2の移動量に相当する量だけずら
し、全ての画像における被検物2の反射点の位置を一致
させる。よって、例えば、図11(A)に示すような各
画像が得られる。図10(A)に示された各画像におい
て欠点の位置はずれているが、図11(A)に示された
各画像では同一位置になる。なお、図10(B)は、図
10(A)に示された各画像のI−I断面の光量を示
し、図11(B)は図11(A)に示された各画像のI
−I断面の光量を示す説明図である。
は、両端部を除けば、第1の実施の形態で得られた各画
像と同じものになる。よって、第1の実施の形態の処理
と同様の処理によって、被検物2の表面の微小凹凸を精
度よく検出することができる。
27、微小凹凸28および散乱性のほこり29がある場
合を考える。なお、図10(A),図11(A)では一
部分にのみ符号が付されているが、(a)〜(d)にお
ける対応位置にある微小凹凸およびほこりは、それぞれ
同じものを示す。
すように、背景がストライプの白(以下、明視野とい
う。)である場合には黒点となるが、ストライプの黒部
分(I min)に比べると大きな値となる。逆に、図10
(A)(d)に示すように、背景がストライプの黒(以
下、暗視野という。)である場合は白点となるが、スト
ライプの白部分(Imax)に比べると小さな値となる。
に、白黒の境界にある場合は、白と黒を含む点となる
が、白も黒もImaxに比べると小さく、Iminに比べると
大きな値となる。
野の場合には黒い点となってImaxに比べるとかなり大
きな値となる。暗視野の場合にはわずかに白点となる
が、I maxに近い値となる。そして、散乱性のほこり2
9に関しては、明視野ではほとんど背景と変わらず、暗
視野では強い白点となる。
よって、高い感度で遮光性の汚れ27、微小凹凸28お
よび散乱性のほこり29を検出することができ、(最大
値+最小値)によって、遮光性の汚れ27、微小凹凸2
8および散乱性のほこり29を弁別することが可能にな
る。
も、第1の実施の形態の場合と同様に精度よく欠点を検
出することができる。そして、この実施の形態では、よ
り簡略化された装置で検査を行うことができる。
反射光学系を用いたが、図12に示すような透過光学系
を用いても、反射光学系の場合と同様の効果を得ること
ができる。
実施の形態について説明する。図13は、平坦な被検物
2に対する本発明の実施の形態の一例の構成を示す構成
図である。図13において、31,32はラインカメ
ラ、112は暗視野に挟まれたストライプの半ピッチ相
当の線状の明視野光源、13は明視野に挟まれたストラ
イプの半ピッチ相当の線状の暗視野光源を示す。
ラインカメラ31,32の視野を横切る方向に進む。演
算装置4は、被検物2を移動させる駆動装置(図示せ
ず)を駆動する。ラインカメラ31,32で得られた被
検物2の同一位置に対する信号は、第2の実施の形態に
おけるストライプの白部分および黒部分の中心で得られ
る信号に相当する。すなわち、位相の異なる複数画像間
の最小値および最大値に相当する信号が得られる。演算
装置4は、例えば駆動装置の駆動量から、ラインカメラ
31が撮像した位置と同位置のラインカメラ32の出力
信号を決定することができる。
1,32で得られた被検物2の同一位置に対する信号の
差および和をとることによって、(最大値+最小値)お
よび(最大値−最小値)を得ることができる。上述した
各実施の形態の場合と同様に、得られた(最大値+最小
値)および(最大値−最小値)から、欠点を検出したり
弁別したりすることができる。
った形態に比べて、視野部分と視野外とのコントラスト
が高まるので、暗視野部および明視野部での欠点信号が
ともに大きくなり、高いS/Nでの検出が可能になる。
演算装置4が被検物2の同一位置となる信号を識別して
処理する例を示したが、図14に示すように、白黒エッ
ジを有する光源117を用い、ラインカメラ31,32
が被検物2の同一位置での光源117からの光の反射光
を受光し、かつ、それらの位置および角度をずらすこと
によって、一方の反射後の視野が白部分で他方の反射後
の視野が黒部分となるように2つのラインカメラ31,
32を設置してもよい。
算処理は、図13に示された場合と同じである。ただ
し、この場合には、演算装置4は、ラインカメラ31,
32からの信号を被検物2の同一位置となるようにメモ
リ等を介在させて位置合わせする処理を行わなくてよ
い。
像素子33は、平行に配された複数の線状センサを有し
ている。図15には、ラインセンサ4列を並べた撮像素
子33が例示されている。そして、撮像素子33は、ス
トライプ1ピッチ相当の反射像を撮像できるように設置
されている。演算装置4は、被検物2を移動させる駆動
装置(図示せず)の駆動量から、被検物2上の同一位置
における各ラインセンサからの信号を識別し、反射像信
号における最大値および最小値を算出する。
施の形態の場合と同様に、(最大値+最小値)および
(最大値−最小値)から、欠点を検出したり弁別したり
することができる。なお、撮像素子33におけるライン
センサの列数は2列以上であれば何列でもよいが、数が
増えれば被検物2が平坦でなくても欠点を検出すること
ができる。また、この場合には、図13および図14に
示された実施の形態とは異なり、カメラ33の視野が面
になっているので、被検物2の表面が曲面であっても、
視野内に明視野と暗視野とが含まれる。よって、被検物
2の表面が曲面であっても、精度よく欠点を検出するこ
とができる。
素子33に代えて、複数台のラインカメラを用いてもよ
い。また、ストライプ1ピッチ相当分を撮像するのでは
なく図14に示されたような白黒エッジの光源を用いて
エッジ部分を撮像するようにしてもよい。
インセンサが平行に並べられ各ラインセンサの出力信号
の位置合わせが行われたが、図16に示すように、光路
を曲げるための光学素子を介して、または、ラインセン
サの向きを調整して、同一位置の反射像が同時に取得で
きるような構成としてもよい。その場合には、演算装置
4の演算処理は図15に示された場合と同じであるが、
演算装置4は、各ラインセンサからの信号を被検物2の
同一位置となるようにメモリ等を介在させて位置合わせ
する処理を行わなくてよい。
形態では光学系として反射光学系を用いたが、透過光学
系を用いても、反射光学系の場合と同様の効果を得るこ
とができる。透過光学系を用いた場合には、さらに、被
検物中の泡部分や異物等の欠点も検出可能である。
とを主目的とした実施の形態である泡検査機の一例を示
す説明図である。また、ここでは、被検物2として管球
パネルを例にする。よって、以下、被検物2をパネル2
と呼ぶ。そして、この実施の形態では、位相が異なる明
暗パターンとして、図18(A)に示す三角状の山部と
谷部が繰り返すパターン(以下、ギザギザパターンとい
う。)を用いる。そのようなパターンを用いた場合に
は、図18(B)に示すストライプパターンを用いた場
合に比べて、管球パネル固有の細長い泡の方向性の影響
を低減することができる。
121が形成されたフィルム等を、拡散面光源120上
で定速で往復運動させる。また、パネル2をステップ送
りさせる。そして、CCDカメラ51〜55は、拡散面
光源120およびギザギザパターン121を透過光源と
して、パネル2を透過した透過像を連続的に撮像する。
なお、一般にはCCDカメラ1台の視野ではパネル全面
の検査はできないので、パネル2の短軸方向に例えば5
台のCCDカメラ51〜55が並べて設置される。
ステップ送りされる。各CCDカメラ51〜55が画素
分解能0.16mm、約500*500画素を有してい
るとすると、視野は80mm角相当となる。分解能を上
げると感度は高くなるが、カメラの必要台数が増える。
現状の検査対象泡の大きさ(>0.2mm程度)を考え
ると、この程度の分解能が適当である。
ネル−パターン距離150mm、ギザギザパターンのピ
ッチ7mmであれば、取り込み回数8回で1ピッチの位
相変化に相当する。取り込み回数を増やすとノイズが減
るが、検査時間が長くかかるので、取り込み回数は8回
が適当である。
態の場合と同様に、(最大値+最小値)および(最大値
−最小値)から、欠点を検出したり弁別したりする。
ので、細長く伸びた泡(長泡)が存在することがある。
これらは長短径方向に種々の曲率を有するので、光源の
パターンの方向性の影響を受ける。例えば、光源として
図18(B)に示すようなストライプパターンを用いた
場合には、長泡について、ストライプと直交する方向に
は白黒境界のエッジが存在するので高い信号(S)が得
られるのに対し、平行方向ではエッジが存在しないので
信号は低くなる。この場合、長泡がストライプのエッジ
方向と平行方向にあれば検出されるが、直交方向にある
と検出されない。
ーンを用いると、どの方向にも白黒境界のエッジが存在
するため、方向性の影響は少なくなる。図19は、ギザ
ギザパターンを用いた場合の、長泡(1:0.08mm)
が、90度を5分割したそれぞれの向きにある場合のS
N比を示す説明図である。
いても信号はあまり変わらず、最大値:最小値は1:
0.79となり、長泡の方向性に起因するSN比の変化
の程度は20%程度しかないことがわかる。すなわち、
長泡の向きに依存しない長泡検出を行うことができる。
なお、同様のサンプルに対してストライプパターンを用
いた場合は、1:0.47となり、SN比が最大値の半
分以下になってしまう長泡の向きが存在する。
て、チェッカーパターンや白黒の正三角形が連続するパ
ターンがあるが、それらを移動させて撮像した場合に
は、エッジ部分が連続すること、および、場所によって
白黒の幅が変わるということのために、移動方向と平行
に感度差が生じる。ギザギザパターンを用いた場合に
は、そのような影響も小さい。
図4に示されたように、MAX,MINの信号とも同程
度になる。しかし、透過光学系を用いた場合には、図2
0(a),(b)に示すように、泡の輪郭部に暗い部分
(どの様な透過光を入れても光らない部分)が生ずるた
めに、明視野のMAX信号における泡と周辺の信号差に
比べて、暗視野のMIN信号における信号差が小さくな
る。その結果、遮光性の汚れとの弁別ができないことが
ある。なお、図20において、斜線は、光量が落ちてい
ることを示す。
ように、背景の動くギザギザパターン121による光源
とは別の透過補助光源を用いることが考えられる。図2
1において、符号100は泡を示す。透過補助光源を用
いると、図22に示すように、泡100の一部を強く光
らせることによってMINにおける信号差を大きくする
ことができる。その結果、泡100と遮光性の汚れと弁
別することができる。
向から見た図である。図23に示すように、4つの透過
光源131〜133が設けられ、方向性による影響と死
角をなくすように4方向から透過補助光が照射される。
このような方向性のない透過補助光源を、例えば、向か
い合う2本の蛍光灯と、光線がそれらと直交する2つの
スポットライトとで実現した。そのような透過補助光源
を用いた場合には、遮光性の汚れによる誤検出をなくす
ことができた。
理を示すフローチャートである。図24に示すように、
まず、MAX画像、MIN画像および(MAX−MI
N)画像を算出する(ステップS51,S52)。ステ
ップS51,S52の処理は、既に説明したステップS
1〜S3およびS41(図3および図5参照)の処理と
同様である。
像に対して微分系の例えばSobelフィルタをかけ、
しきい値以上となる点を検出する(ステップS53,S
54)。そして、検出した点の周辺にウィンドウを設定
する(ステップS55)。ウィンドウは、例えば、検出
した点の大きさに対して、縦横それぞれ2倍となるよう
な大きさの長方形である。
(MAX−MIN)画像に対して、ウィンドウ内のヒス
トグラムを算出し、各パラメータ(特徴量)から泡か否
かを判定する(ステップS56,S57)。
3条件であり、3条件をすべて満たす場合に泡であると
判定されたとする。 (1)(MAX−MIN)画像の判別分析によるしきい
値と平均値の差がある値以上であること。 (2)MAX画像の平均値と最小値の差、MIN画像の
最大値と平均値の差がそれぞれ指定する値以上であるこ
と。 (3)MAX画像の平均値と最小値の差と、MIN画像
の最大値と平均値の差の比がある範囲に入ること。
等に起因するノイズによる誤検出を防ぐ。また、
(2),(3)の条件によって、遮光性または散乱性の
付着物による誤検出を防ぐ。
X−MIN)の微分値が、上記の判別分析のためのしき
い値より高い所定のしきい値を越えるものを泡として検
出する。それ以下のものについては、判別分析のための
しきい値でウィンドウ内を2値化し(ステップS5
8)、しきい値以上の箇所を検出し評価する(ステップ
S59,S60)。すなわち、検出された箇所のうち最
大径と最小径の比がある値以上であるもののみ泡として
検出する。そして、そのような評価条件に合うものを泡
欠点とする(ステップS61)。
逃しが防止される。これにより、1×0.1mmという
ような細長い泡の見逃しがなくなった。
ーンを有する複数の光を被検物に照射し、複数の光の照
射にもとづく反射光または透過光を受光して複数の画像
を得、得られた画像にもとづいて被検物の微小凹凸等の
欠点を検出する場合に、得られた各画像に空間微分を施
してもよい。
れらとすると、それぞれに微分フィルタ処理を施された
ものは図25(B)に示すようになる。図25(C)
は、図25(B)に示された微分画像のI−I断面にお
ける光量を示す。各微分画像では、欠点、ほこり、パタ
ーンのエッジ部分で大きな信号となる。図25におい
て、符号7は欠点を示し符号8は矛値を示す。
となる。パターンのエッジによる大きな信号は画像によ
り位置が異なり、ほこり8は背景が黒い場合は大きな値
となるが、背景が白い場合には信号として現れない。ま
た、各微分画像の同一画素における最小値を取ると、欠
点7はどの画像でも大きな信号となるので、最小値にも
信号が現れる。しかし、エッジおよびほこり8による信
号は最小値とならないので消えてしまう。従って、欠点
7のみを選択的に検出することが可能になる。
の欠点検査方法を、互いに位相のみが異なる明暗パター
ンを有する複数の光を被検物に照射するステップと、複
数の光の照射にもとづいて反射光または透過光を受光し
て複数の画像を得るステップと、複数の画像における被
検物の同一位置の画素に関するそれぞれのデータにもと
づいて評価値を決め位置が異なる各画素について評価値
を比較して被検物の微小凹凸や内部の泡・異物等の欠点
を検査するステップとを備えた構成にしたので、被検物
の欠点を、ほこりなどの他の欠点や誤検出要因と区別し
て検査することができ、精度のよい確実な検査または評
価を行うことができる効果がある。
とそれを覆うストライプパターン部とを有し被検物を照
射する光源部と、光源部からの明暗パターンと被検物と
の相対位置を移動させる駆動部と、被検物の反射光また
は透過光を入力してストライプパターンの位相が異なる
複数枚の画像を生成する受光部と、複数枚の画像におけ
る被検物の同一位置の画素に関するそれぞれのデータに
もとづいて評価値を決め位置が異なる各画素について評
価値を比較する演算装置とを備えた構成にしたので、複
数センサや光源および受光部の位置合わせを行う必要は
なく、検査装置の調整や保守が容易化される効果があ
る。
実施の形態を示す構成図である。
いく画像、(B)は(A)に示された各画像のI−I断
面の光量、(C)は(A)に示された各画像のII−II断
面の光量を示す説明図である。
ートである。
画像を模式的に示し、(B)は微小凹凸の最大値、最小
値、差および和を示し、(C)はほこりの最大値、最小
値、差および和を示す説明図である。
して検出できる処理を示すフローチャートである。
(最大値+最小値)のうちの複数を組み合わて欠点を検
出する処理を示すフローチャートである。
施の形態を示す構成図である。
検出結果例を示す説明図である。
実施の形態を示す構成図である。
いく各画像、(B)は(A)に示された各画像のI−I
断面の光量を示す説明図である。
た各画像、(B)は(A)に示された各画像のI−I断
面の光量を示す説明図である。
合の形態を示す構成図である。
である。
である。
である。
である。
た実施の形態を示す説明図である。
示す説明図である。
きに応じたSN比を示す説明図である。
るための説明図である。
説明図である。
図である。
見た説明図である。
る。
ていく画像、(B)は微分フィルタ処理を施された画
像、(C)は(B)に示された各画像のI−I断面の光
量を示す説明図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 被検物表面を反射した反射光または被検
物を透過した透過光を受光し、受光して得られた画像を
用いて被検物の欠点を検査する被検物の欠点検査方法で
あって、 互いに位相のみが異なる明暗パターンを有する複数の光
を前記被検物に照射し、 前記複数の光の照射にもとづいて反射光または透過光を
受光して複数の画像を得て、 前記複数の画像またはそれらの画像に微分処理が施され
た各画像における前記被検物の同一位置の画素に関する
それぞれのデータにもとづいて評価値を決め、位置が異
なる各画素について評価値を比較して前記被検物の微小
欠点を検査することを特徴とする被検物の欠点検査方
法。 - 【請求項2】 評価値は、最大値および最小値の一方も
しくは双方、または最大値と最小値との差もしくは和で
ある請求項1記載の被検物の欠点検査方法。 - 【請求項3】 明暗パターンは、明暗ストライプパター
ンまたは明暗ギザギザパターンである請求項1記載の被
検物の欠点検査方法。 - 【請求項4】 光の照射にもとづいて得られた複数の画
像またはそれらの画像に微分処理が施された各画像にお
ける被検物の同一位置の画素の周辺にウィンドウを設定
する請求項1記載の被検物の欠点検査方法。 - 【請求項5】 互いに位相のみが異なる明暗ギザギザパ
ターンを有する複数の光と透過補助光とを被検物に照射
し、被検物中の泡欠点を検出する請求項1記載の被検物
の欠点検査方法。 - 【請求項6】 被検物表面を反射した反射光または被検
物を透過した透過光を受光し、受光して得られた画像を
用いて被検物の欠点を検査する被検物の欠点検査装置で
あって、 拡散光源とそれを覆う明暗パターン部とを有し前記被検
物を照射する光源部と、 前記光源部からの明暗パターンと前記被検物との相対位
置を移動させる駆動部と、 前記被検物の反射光または透過光を入力して明暗パター
ンの位相が異なる複数枚の画像を生成する受光部と、 前記複数枚の画像における前記被検物表面上の同一位置
の画素に関するそれぞれのデータにもとづいて評価値を
決め、位置が異なる各画素について評価値を比較する演
算装置とを備えたことを特徴とする被検物の欠点検査装
置。
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