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JP2000008185A - 銅および銅合金の防錆剤 - Google Patents

銅および銅合金の防錆剤

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Publication number
JP2000008185A
JP2000008185A JP10174891A JP17489198A JP2000008185A JP 2000008185 A JP2000008185 A JP 2000008185A JP 10174891 A JP10174891 A JP 10174891A JP 17489198 A JP17489198 A JP 17489198A JP 2000008185 A JP2000008185 A JP 2000008185A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
acid
film
forming
rust inhibitor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10174891A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiaki Furukawa
良昭 古川
Maki Arimura
摩紀 有村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MEC KK
Original Assignee
MEC KK
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Filing date
Publication date
Application filed by MEC KK filed Critical MEC KK
Priority to JP10174891A priority Critical patent/JP2000008185A/ja
Publication of JP2000008185A publication Critical patent/JP2000008185A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 銅に化学的に吸着する有機化合物の被膜を形
成する方法に好適で、より優れた銅との吸着力を有し、
安定な被膜を形成し得る有機化合物を含有した防錆剤を
提供する。 【解決手段】 2−アミノピリジン、2−アミノキノリ
ン、2−アミノピリミジン、6−アミノピリミジン、2
−アミノピラジン、2−アミノキナゾリン、4−アミノ
キナゾリン、2−アミノキノキサリン、8−アミノプリ
ン、2−アミノベンゾイミダゾール、アミノトリアジ
ン、アミノトリアゾールおよびこれらの置換誘導体のう
ちの少なくとも1種を被膜形成成分として0.01〜1
0重量%含有する水溶液からなることを特徴とする銅お
よび銅合金の防錆剤。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は特定のチッ素含有環
式化合物を被膜形成成分として含有する銅および銅合金
の防錆剤に関する。本発明の防錆剤は、特にプリント配
線板の防錆剤として有用である。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板の銅からなるランドを防
錆し、はんだ付け性を維持する方法としては、プリント
配線板を溶融させたはんだ中に浸漬するはんだ被覆法、
ランドを金やパラジウムなどの他の金属からなるめっき
被膜を形成する方法、ロジンなどの熱可塑性樹脂の被膜
を形成する方法(例えば、特開平5−186713号公
報)、ベンゾイミダゾールなどの銅に化学的に吸着する
有機化合物の被膜を形成する方法(例えば、特開平5−
263275号公報、特開平7−54169号公報)な
どが知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前記方法のうち、はん
だ被覆法には、被覆されたはんだの厚さにばらつきが生
じやすいという問題がある。はんだ厚さのばらつきは、
微細な電極を有するQFPやCSP等の半導体素子を実
装する際の接続不良の原因となる。また、金やパラジウ
ムなどのめっき被膜を形成する方法は、コスト高であ
る。さらに、熱可塑性樹脂の被膜を形成する方法は、熱
可塑性樹脂を有機溶剤に溶解させた溶液を塗布するた
め、有機溶剤の使用による環境への悪影響と安全性の問
題がある。これに対し、銅に化学的に吸着する有機化合
物の被膜を形成する方法は、該有機化合物を水溶液化し
て塗布するため、ランドの表面を平滑に保つことがで
き、環境などへの影響も少なく、コスト的にも有利であ
るので、近年注目されてきている方法である。
【0004】本発明はこのような状況に鑑みてさなれた
ものであり、前記の種々の利点を有し、近年特に注目度
の高い銅および銅合金に化学的に吸着する有機化合物の
被膜を形成する方法に好適で、より優れた銅および銅合
金との吸着力を有し、安定な被膜を形成し得る有機化合
物を含有した防錆剤を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明らは、前記目的を
達成するために鋭意研究を重ねた結果、前記防錆剤とし
て有用な有機化合物として新規な有機化合物を見い出
し、本発明に到達した。すなわち、本発明は、2−アミ
ノピリジン、2−アミノキノリン、2−アミノピリミジ
ン、6−アミノピリミジン、2−アミノピラジン、2−
アミノキナゾリン、4−アミノキナゾリン、2−アミノ
キノキサリン、8−アミノプリン、2−アミノベンゾイ
ミダゾール、アミノトリアジン、アミノトリアゾールお
よびこれらの置換誘導体のうちの少なくとも1種を被膜
形成成分として0.01〜10重量%含有する水溶液か
らなる銅および銅合金の防錆剤に関する。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明の防錆剤において、被膜形
成成分として使用される前記化合物は、いずれも環の構
成員にチッ素原子を有し、置換基としてアミノ基、また
は水素原子が他の基で置換されたアミノ基が、環のチッ
素原子に隣接する炭素原子に結合した環式不飽和化合物
である。
【0007】前記2−アミノピリジンの置換誘導体の具
体的としては、例えば2−オクチルアミノピリジン、2
−(1−クロロフェニルブチルアミノ)ピリジン、2−
ナフチルメチルアミノピリジン、2−(p’−トリルア
ミノ)ピリジン、5−メチル−2−(1,1−ジフェニ
ルメチルアミノ)ピリジン、5−クロロ−2−(4−ク
ロロフェニルメチルアミノ)ピリジン、2−ベンジルア
ミノピリジン、2−(1,1−ジフェニルメチルアミ
ノ)ピリジン、2,6−(ジナフチルメチルアミノ)ピ
リジンなどが挙げられる。
【0008】前記2−アミノキノリンの置換誘導体の具
体的としては、例えば5−メチル−2−フェニルエチル
アミノキノリン、2−(5−エチルヘキシルアミノ)キ
ノリン、2−ジフェニルメチルアミノキノリン、2−
(4−メトキシフェニルアミノ)キノリン、2−ブチル
アミノキノリン、7−メチル−2−オクチルアミノキノ
リン、2−オクチルフェニルアミノキノリン、6−クロ
ロ−2−イソブチルアミノキノリン、6−フェニル−2
−アセチルアミノキノリンなどが挙げられる。
【0009】前記2−アミノピリミジンの置換誘導体の
具体例としては、例えば2−ノニルアミノピリミジン、
5−クロロ−2−ナフチルメチルアミノピリミジン、5
−メチル−2−(2’−p−クロロフェニル)エチリル
アミノピリミジン、2−(5−エチルヘキシルアミノ)
ピリミジン、4−メチル−5−アミノ−2−フェニルア
ミノピリミジン、4,6−ジクロロ−2−オクチルアミ
ノピリミジンなどが挙げられる。
【0010】前記6−アミノピリミジンの置換誘導体の
具体例としては、例えば2−メチル−6−ベンジルアミ
ノピリミジン、2,5−ジクロロ−6−イソブチルアミ
ノピリミジンなどが挙げられる。
【0011】前記2−アミノピラジンの置換誘導体の具
体例としては、例えば5−アミノ−2−(2,2,4,
4−テトラメチルブチルアミノ)ピラジン、2−ヘキサ
デカンフルオロオクチルアミノピラジン、2−フェニル
アミノピラジン、2−オクチルアミノピラジン、3−カ
ルボキシル−2−イソブチルアミノピラジン、3,5,
6−トリメチル−2−エチルヘキシルアミノピラジンな
どが挙げられる。
【0012】前記2−アミノキナゾリンの置換誘導体の
具体例としては、例えば2−(p−クロロベンジルアミ
ノ)キナゾリン、2−(2−フェニルエチニレルアミ
ノ)キナゾリン、2−ブチルアミノキナゾリン、2−ヘ
プチルアミノキナゾリン、5−クロロ−2−ナフチルメ
チルアミノキナゾリン、5,6−ジメチル−2−ベンジ
ルアミノキナゾリン、5−アセチル−2−ノニルアミノ
キナゾリンなどが挙げられる。
【0013】前記4−アミノキナゾリンの置換誘導体の
具体例としては、例えば2−クロロ−4−アセチルアミ
ノキナゾリン、2,6−ジエチル−4−デシルアミノキ
ナゾリンなどが挙げられる。
【0014】前記2−アミノキノキサリンの置換誘導体
の具体例としては、例えば2−(9,10−ジブロモデ
シルアミノ)キノキサリン、2−n−プロピルアミノキ
ノキサリン、2,3−ビス(ブチルアミノ)キノキサリ
ン、5−クロロ−2−ノニルアミノキノキサリン、6−
メチル−2−ウンデシルアミノキノキサリンなどが挙げ
られる。
【0015】前記8−アミノプリンの置換誘導体の具体
例としては、例えば8−メチルアミノプリン、8−プロ
ピルアミノプリン、8−フェニルアミノプリンなどが挙
げられる。
【0016】前記2−アミノベンゾイミダゾールの置換
誘導体の具体例としては、例えば5−クロロ−2−フェ
ニルアミノベンゾイミダゾール、2−ベンジルアミノベ
ンゾイミダゾール、2−(ジフェニルメチルアミノ)ベ
ンゾイミダゾール、2−ナフチルメチルアミノベンゾイ
ミダゾール、4−クロロ−6−n−ヘプチル−2−エチ
ルアミノベンゾイミダゾール、4,6−ジエトキシ−2
−イソブチルアミノベンゾイミダゾール、4−メチル−
6−アミノ−2−オクチルベンゾイミダゾールなどが挙
げられる。
【0017】前記アミノトリアジンの置換誘導体の具体
例としては、例えばn−カプリノグアナミン、5−エチ
ルヘキシルアミノグアナミン、2,4−ビス(N,N’
−ジプロピルアミノ)−6−クロロ−1,3,5−トリ
アジン、2−クロロ−4−エチルアミノ−6−イソプロ
ピルアミノ−1,3,5−トリアジン、2,4−ジエチ
ル−6−オクチルアミノ−1,3,5−トリアジンなど
が挙げられる。
【0018】前記アミノトリアゾールの置換誘導体の具
体例としては、例えば3−メチル−5−n−ブチルアミ
ノ−1,2,4−トリアゾール、3−クロロ−5−オク
チルフェニルアミノ−1,2,4−トリアゾール、3−
エトキシ−5−ナフチルメチルアミノ−1,2,4−ト
リアゾールなどが挙げられる。
【0019】前記皮膜形成成分の好ましい含有量は、
0.01〜10%(重量%、以下同様)、好ましくは
0.05〜5%である。前記皮膜形成成分は1種で用い
てもよく、2種以上を併用してもよい。
【0020】本発明の防錆剤には、水溶液中で皮膜形成
成分の安定化を図るため、有機酸および無機酸の少なく
とも1種を配合することが好ましい。前記有機酸として
は、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、オクチル酸、グ
リコール酸、n−酪酸、イソ酪酸、アクリル酸、クロト
ン酸、イソクロトン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク
酸、アジピン酸、マレイン酸、アセチレンジカルボン
酸、モノクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、モノブロモ酢
酸、乳酸、オキシ酪酸、グリセリン酸、酒石酸、リンゴ
酸、クエン酸、L−テアニン、ピログルタミン酸、ピロ
リジン−2,4−ジカルボン酸、葉酸、DL−トレオニ
ン、L−トレオニン,L−トリプトファン、L−フェニ
ルアラニン、キナルジン酸などが挙げられる。前記無機
酸としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸、スルファミン
酸、リン酸等が挙げられる。
【0021】前記有機酸または無機酸の濃度は、0.5
〜15%程度が好ましい。
【0022】本発明の防錆剤には、さらに皮膜形成性、
被膜の耐熱性等を向上させるために、例えば酢酸亜鉛、
水酸化亜鉛、硫化亜鉛、リン酸亜鉛、酸化亜鉛、塩化亜
鉛、ギ酸亜鉛、酢酸鉛、水酸化鉛、塩化鉄、酸化鉄、塩
化銅、酸化銅、水酸化銅、臭化銅、リン酸銅、炭酸銅、
酢酸銅、硫酸銅、シュウ酸銅、ギ酸銅、酢酸ニッケル、
硫化ニッケル等の金属化合物を添加してもよい。また、
従来から銅および銅合金の防錆剤に使用されている種々
の添加剤を必要に応じて添加してもよい。
【0023】本発明の防錆剤の調製方法に特に限定はな
く、皮膜形成成分とその他の成分とを、任意の順序でイ
オン交換水に溶解させればよい。
【0024】本発明の防錆剤の使用方法にも特に限定は
なく、銅または銅合金の表面に防錆剤をスプレーしても
よく、銅または銅合金を防錆剤中に浸漬させてもよい。
【0025】
【実施例】次に実施例に基づき、本発明をさらに具体的
に説明する。
【0026】実施例1 2−オクチルアミノピリジン1.0gを、これを溶解し
うる量のギ酸に加えて溶解させた。得られた溶液とギ酸
亜鉛0.5gとを全量が100mlとなるように水に加
え、防錆剤を調製した。
【0027】1cm×5cm×0.3cmの銅板を脱脂
し、水洗し、ついでマイクロエッチング剤(メック
(株)製のメックブライトCB−801)に30℃で1
分間浸漬し、さらに水洗して表面を清浄にした試験片を
準備した。この試験片を上記防錆剤にて40℃、1分間
の条件で浸漬処理した後、水洗、乾燥した。ついで熱風
乾燥器に入れ、200℃で10分間加熱した。得られた
試験片に、超低残さタイプのポストフラックス(メック
(株)製のAP−4626)を塗布し、メニスコグラフ
法によってはんだ濡れ性を評価した。その結果、200
℃、10分間の加熱後にも関わらず、はんだ濡れ性は良
好であった。
【0028】実施例2 被膜形成成分として2,6−(ジナフチルメチル)アミ
ノピリジン0.3gを用いたほかは、実施例1と同様に
して試験片を処理し、はんだ濡れ性を評価したところ、
良好であった。
【0029】実施例3 被膜形成成分として5−メチル−2−フェニルアチルア
ミノキノリン0.5gを用いたほかは、実施例1と同様
にして試験片を処理し、はんだ濡れ性を評価したとこ
ろ、良好であった。
【0030】実施例4 被膜形成成分として2−(5−エチルヘキシル)アミノ
ピリミジン0.5gを用いたほかは、実施例1と同様に
して試験片を処理し、はんだ濡れ性を評価したところ、
良好であった。
【0031】実施例5 被膜形成成分として2−オクチルアミノピラジン0.5
gを用いたほかは、実施例1と同様にして試験片を処理
し、はんだ濡れ性を評価したところ、良好であった。
【0032】実施例6 被膜形成成分として5−クロロ−2−フェニルアミノベ
ンゾイミダゾール0.2gを用いたほかは、実施例1と
同様にして試験片を処理し、はんだ濡れ性を評価したと
ころ、良好であった。
【0033】実施例7 被膜形成成分としてn−カプリンノグアナミン0.2g
を用いたほかは、実施例1と同様にして試験片を処理
し、はんだ濡れ性を評価したところ、良好であった。
【0034】実施例8 被膜形成成分として3−クロロ−5−オクチルフェニル
アミノ−1,2,4−トリアゾール0.2gを用いたほ
かは、実施例1と同様にして試験片を処理し、はんだ濡
れ性を評価したところ、良好であった。
【0035】実施例9 被膜形成成分として8−メチルアミノプリン0.2gお
よびオクチル酸0.1gを用いたほかは、実施例1と同
様にして試験片を処理し、はんだ濡れ性を評価したとこ
ろ、良好であった。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
優れた防錆性能を有する銅および銅合金の防錆剤が提供
される。また、本発明の防錆剤による処理により、良好
なはんだ濡れ性が得られるために、プリント配線板に電
子部品を表面実装する際に特に顕著な効果を発揮する。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 2−アミノピリジン、2−アミノキノリ
    ン、2−アミノピリミジン、6−アミノピリミジン、2
    −アミノピラジン、2−アミノキナゾリン、4−アミノ
    キナゾリン、2−アミノキノキサリン、8−アミノプリ
    ン、2−アミノベンゾイミダゾール、アミノトリアジ
    ン、アミノトリアゾールおよびこれらの置換誘導体のう
    ちの少なくとも1種を被膜形成成分として0.01〜1
    0重量%含有する水溶液からなることを特徴とする銅お
    よび銅合金の防錆剤。
JP10174891A 1998-06-22 1998-06-22 銅および銅合金の防錆剤 Pending JP2000008185A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001080611A1 (en) * 2000-04-17 2001-10-25 Fujitsu Limited Method for soldering and soldered joint
WO2002000965A1 (fr) * 2000-06-28 2002-01-03 Koito, Tatsuya Agent anticorrosion
CN116376379A (zh) * 2023-05-06 2023-07-04 江苏康爱特环境工程集团有限公司 一种水性自动除锈防锈新材料及其制备方法

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