JP2000081621A

JP2000081621A - 液晶表示装置の製造方法

Info

Publication number: JP2000081621A
Application number: JP7208599A
Authority: JP
Inventors: Yasutoshi Tasaka; 泰俊田坂; Hideshi Yoshida; 秀史吉田; Takemune Mayama; 剛宗間山
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1998-07-07
Filing date: 1999-03-17
Publication date: 2000-03-21

Abstract

(57)【要約】【課題】液晶表示装置の製造方法に関し、ラビングな
しに適切な配向処理を行うことができるようにすること
を目的とする。【解決手段】間隔をあけて対向する一対の基板と、一
方の基板に形成される電極及び配向膜と、他方の基板に
形成される電極及び配向膜と、該一対の基板の間に挿入
された液晶とを備えた液晶表示装置の製造方法であっ
て、該基板に垂直配向性を実現するポリマーを含む配向
膜を形成し、該配向膜の垂直配向性を実現するポリマー
の含有量１％当たり３０〜１２０ｍＪ／ｃｍ² の露光量
で、該配向膜の表面に対し４５度以下の斜め方向から該
配向膜に無偏光の紫外線を照射する構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関
し、特に液晶表示装置の配向膜の配向処理技術に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置は、間隔をあけて対向する
一対の基板と、一方の基板に形成される電極及び配向膜
と、他方の基板に形成される電極及び配向膜と、該一対
の基板の間に挿入された液晶とを備えている。一方の基
板の電極は共通電極であり、他方の基板の電極は画素電
極として形成される。画素電極はアクティブマトリクス
とともに設けられることができる。また、電極は一方の
基板のみに設けられることもある（例えば、ＩＰＳモー
ド）。また、いずれかの基板に、ブラックマトリクスや
カラーフィルターが設けられる。

【０００３】従来のＴＮ液晶表示装置では、配向膜がラ
ビングされ、液晶が所定の方向に配向するようになって
いる。しかし、ラビングは配向膜をレーヨン等の布で擦
ることであり、レーヨン等の布をクリーンルームに持ち
込むことにより発塵が生じる。また、ラビングにより静
電気が発生し、アクティブマトリクスのＴＦＴ（薄膜ト
ランジスタ）が破壊される可能性がある。そこで、本願
の先願である特願平９−３５４９４０号では、紫外線照
射により配向処理を行うことを提案している。紫外線照
射により配向処理を行えば、ラビングの問題点を解消す
ることができる。この提案では、垂直配向性の配向膜に
無偏光の紫外線を照射することにより、垂直配向性を実
現するアルキル側鎖の一部を破壊し、一部を残すことに
より、配向膜に配向処理を行っている。水平配向膜の場
合には、紫外線を照射することにより配向処理を実現す
るのは難しい。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】紫外線を照射すること
により、垂直配向性の配向膜の配向処理を行う場合、紫
外線の露光量によって配向性に大きな相違を生じる。検
討の結果、適性な露光量で紫外線を照射することが望ま
しいことが分かった。例えば、露光量が適性値よりも少
ない場合、配向膜が示すプレチルト角は高い（基板面に
対してより垂直に近い）状態になる。これにより、液晶
パネルのセルギャップを維持するためにスペーサを散布
する場合、スペーサの周囲の部分の配向がスペーサによ
り乱されてしまう。このため、表示の際、スペーサを中
心として黒点が発生したような配向になってしまい、表
示不良になる。

【０００５】逆に、露光量が適性値よりも多い場合、配
向膜が示すプレチルト角は低い状態になる。しかし、露
光量が過度になってしまうことによって、逆に水平配向
してしまう部分が生じ、一部で液晶注入時の注入筋が発
生し、痕跡が残ってしまうことがある。また、所望の垂
直配向性を得ることができず、水平配向になってしまう
問題がある。

【０００６】また、紫外線を配向膜の表面に照射する
際、紫外線の照射角度がどの角度でもよいわけではな
く、配向膜の表面に対して垂直に近い角度で照射を行っ
た場合、配向膜のアルキル側鎖の一部分のみを選択的に
残すことができず、所望の方向への配向性を得ることが
できなくなってしまう。本発明の目的は、ラビングなし
で適切な配向処理を行うことのできる液晶表示装置の製
造方法を提供することである。

【０００７】本発明の他の目的は、１回の紫外線照射に
より１画素内に複数のドメインを有する配向膜をもった
液晶表示装置の製造方法を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示装
置の製造方法は、間隔をあけて対向する一対の基板と、
一方の基板に形成される配向膜と、他方の基板に形成さ
れる配向膜と、該一対の基板の間に挿入された液晶とを
備えた液晶表示装置の製造方法であって、該基板に垂直
配向性を実現するポリマーを含む配向膜を形成し、該配
向膜の垂直配向性を実現するポリマーの含有量１％当た
り３０〜１２０ｍＪ／ｃｍ² の露光量で、該配向膜の表
面に対し４５度以下の斜め方向から該配向膜に無偏光の
紫外線を照射することを特徴とするものである。

【０００９】本発明は、垂直配向膜の表面に対し、無偏
光の紫外線を斜めに照射することにより、ラビング工程
なしに、プレチルト角度をともなった配向を実現する。
本発明による無偏光の紫外線の照射においては、紫外線
の照射方向を配向膜の表面に対し４５度以下の斜め方向
とし、配向膜の垂直配向性を実現するアルキル側鎖を有
するポリマーの含有量１％当たり３０〜１２０ｍＪ／ｃ
ｍ² の露光量で、無偏光の紫外線を照射する。つまり、
紫外線の照射量を配向膜の垂直配向性を実現するアルキ
ル側鎖の実際の量に応じて設定する。

【００１０】これにより、スペーサの周囲の配向の乱れ
がなく、かつ、水平配向に転ずることなく、液晶を垂直
配向させるための適切なプレチルト角を配向膜に与える
ことができる。この条件の場合、配向膜中に含有される
垂直配向性を実現するアルキル側鎖を有するポリマーの
量が変化しても、露光量をそれに対応して変更させるこ
とにより、適切なプレチルト角を得ることができる。

【００１１】上記方法において、好ましくは、配向膜表
面に照射する無偏光の紫外線の露光量が４０〜９０ｍＪ
／ｃｍ² の範囲である。また、配向膜表面に照射する無
偏光の紫外線の露光量が８０〜１２０ｍＪ／ｃｍ² の範
囲であるとよい。また、紫外線の露光量は配向膜の表面
に対する液晶のプレチルト角が８９．５度以下であるよ
うにする。好ましくは、液晶のプレチルト角が８９．５
度から８９度の範囲内にあるようにする。

【００１２】好ましくは、配向膜へ照射される紫外線の
波長が２８０ｎｍ以下の成分を含む。さらに、本発明の
もう１つの特徴による液晶表示装置の製造方法は、間隔
をあけて対向する一対の基板と、一方の基板に形成され
る配向膜と、他方の基板に形成される配向膜と、該一対
の基板の間に挿入された液晶とを備えた液晶表示装置の
製造方法であって、基板に配向膜を形成し、本体部分
と、画素ピッチに対応して該本体部分に設けられ、該本
体部分とは異なる屈折率を有する光路変更部分とを有す
るマスクを用いて該配向膜の各々の表面に斜め方向から
紫外線を照射することを特徴とする。

【００１３】この方法によれば、１回の液晶配向処理に
より、１つの画素内で液晶の分子が互いに異なった方向
に配向する配向分割を行うことができる。好ましくは、
該光路変更部分の各々は画素ピッチの長さを底辺とした
２等辺三角形断面の鋸歯状の形状を有し、該光路変更部
分の該２等辺三角形の頂部に位置する部分に遮光膜が形
成されている。あるいは、該光路変更部分の各々は画素
ピッチの長さを底辺とした台形断面の鋸歯状の断面形状
を有し、該台形の上辺に位置する部分に遮光膜が形成さ
れている。

【００１４】この場合、該本体部分の屈折率をｎ₁ 、該
光路変更部分の屈折率をｎ₂ 、鋸歯状の断面形状の頂角
をθ₁ 、該光路変更部分を通って配向膜に照射する紫外
線の入射角度をθ₂ とすると、θ₁ ≦６０の場合、下記
式（１）を満足する。ｎ₁ cos （３θ₁ ／２）＝ｎ₂ ｓｉｎ（θ₂ −θ₁ ／２）（１） θ₁ ＞６０の場合、下記式（２）を満足する。

【００１５】ｎ₁ cos （３θ₁ ／２）＝ｎ₂ ｓｉｎ（θ₁ ／２−θ₂ ）（２）また、該本体部分の屈折率をｎ₁ 、該光路変更部分の屈
折率をｎ₂ 、鋸歯状の断面形状の頂角をθ₁ の間には下
記の関係がある。 cos θ₁ ＞＝ｎ₂ ／ｎ₁ （５）また、該光路変更部分は空気からなることとすることが
できる。

【００１６】好ましくは、該マスクの本体部分は、第１
の平坦な表面と、該第１の表面の反対側の第２の表面
と、該第２の表面に設けられた複数のキャビティとを含
み、各キャビティは、該第１の表面から該第２の表面へ
向かう方向で見て互いに広がるように傾斜する第１及び
第２の斜面を有し、各キャビティは、該第１の斜面及び
該第２の斜面の間に中心線を有し、該光路変更部分は該
キャビティ及び該キャビティ内に含まれる物質により形
成される。該第１の表面から該本体部分に入射し、該第
１の斜面を透過した紫外線が該配向膜に第１の方向から
斜めに照射され、該第２の斜面を透過した紫外線が該配
向膜に該第１の方向とは反対の第２の方向から斜めに照
射されるようにした。

【００１７】さらに、本発明は、間隔をあけて対向する
一対の基板と、一方の基板に形成される配向膜と、他方
の基板に形成される配向膜と、一方の基板に設けられた
複数のバスラインと、該一対の基板の間に挿入された液
晶とを備えた液晶表示装置の製造方法であって、基板に
配向膜を形成し、本体部分と、画素ピッチに対応して該
本体部分に設けられた複数の光路変更部分とを有するマ
スクを準備し、該マスクの本体部分は、第１の平坦な表
面と、該第１の表面の反対側の第２の表面と、該第２の
表面に設けられた複数のキャビティとを含み、各キャビ
ティは、該第１の表面に対して垂直な垂直面の両側にあ
って、該第１の表面から該第２の表面へ向かう方向で見
て互いに広がるように傾斜する第１及び第２の斜面を有
し、該光路変更部分は該キャビティ及び該キャビティ内
に含まれる物質により形成され、該バスラインを有する
一方の基板については、該第１の斜面と該第２の斜面と
の間の垂直面が該バスライン上にくるようにして該マス
クを該基板に重ね、該基板の該配向膜の表面に該マスク
を介して斜め方向から紫外線を照射することを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法を提供する。

【００１８】このように、紫外線を配向膜に斜め照射す
るときに、マスクの位置と基板の位置を適切に合わせる
ことによって、使用時にバスラインの近傍に位置する液
晶分子の配向がバスラインの電気力線によって影響され
て乱されることがなくなる。さらに、本発明は、間隔を
あけて対向する一対の基板と、一方の基板に形成される
配向膜と、他方の基板に形成される配向膜と、一方の基
板に設けられた複数のバスラインと、該一対の基板の間
に挿入された液晶とを備えた液晶表示装置の製造方法で
あって、基板に配向膜を形成し、本体部分と、画素ピッ
チに対応して該本体部分に設けられた複数の光路変更部
分とを有するマスクを準備し、該マスクの本体部分は、
第１の平坦な表面と、該第１の表面の反対側の第２の表
面と、該第２の表面に設けられた複数のキャビティとを
含み、各キャビティは、該第１の表面に対して垂直な垂
直面の両側にあって、該第１の表面から該第２の表面へ
向かう方向で見て互いに広がるように傾斜する第１及び
第２の斜面を有し、該光路変更部分は該キャビティ及び
該キャビティ内に含まれる物質により形成され、該バス
ラインを有しない他方の基板については、該第１の斜面
の該第２の表面上の端部及び該第２の斜面の該第２の表
面上の端部が該バスラインを通る線上にくるようにして
該マスクを該基板に重ね、該基板の該配向膜の表面に該
マスクを介して斜め方向から紫外線を照射することを特
徴とする液晶表示装置の製造方法を提供する。

【００１９】この場合にも、紫外線を配向膜に斜め照射
するときに、マスクの位置と基板の位置を適切に合わせ
ることによって、使用時にバスラインの近傍に位置する
液晶分子の配向がバスラインの電気力線によって影響さ
れて乱されることがなくなる。そして、上記した、バス
ラインを有する一方の基板についての配向処理と、バス
ラインを有しない他方の基板についての配向処理とは、
組み合わせて利用することができる。あるいは、上記し
た、バスラインを有する一方の基板についての配向処理
と、バスラインを有しない他方の基板についての配向処
理とは、組み合わせることなしに利用することができ
る。

【００２０】好ましくは、該キャビティは、２等辺三角
形断面の鋸歯の形状を有し、該２等辺三角形の頂部に位
置する部分に遮光膜が形成されている。あるいは、該キ
ャビティは、台形断面の鋸歯の形状を有し、該台形の上
辺に位置する部分に遮光膜が形成されている。また、該
配向膜は垂直配向性をもつ。該液晶は、Δε＜０のもの
である。

【００２１】さらに、本発明は、間隔をあけて対向する
一対の基板と、一方の基板に形成される配向膜と、他方
の基板に形成される配向膜と、一方の基板に設けられた
複数のバスラインと、該一対の基板の間に挿入された液
晶とを備えた液晶表示装置の製造方法であって、基板に
配向膜を形成し、本体部分と、画素ピッチに対応して該
本体部分に設けられた複数の光路変更部分とを有するマ
スクを準備し、該マスクの本体部分は、第１の平坦な表
面と、該第１の表面の反対側の第２の表面と、該第２の
表面に設けられた複数のキャビティとを含み、各キャビ
ティは、該第１の表面に対して垂直で且つ互いに垂直な
第１及び第２の垂直面のうち、第１の垂直面の両側にあ
って、該第１の表面から該第２の表面へ向かう方向で見
て互いに広がるように傾斜する第１及び第２の斜面と、
第２の垂直面の両側にあって、該第１の表面から該第２
の表面へ向かう方向で見て互いに広がるように傾斜する
第３及び第４の斜面とを有し、該光路変更部分は該キャ
ビティ及び該キャビティ内に含まれる物質により形成さ
れ、該マスクを該基板に重ね、該基板の該配向膜の表面
に該マスクを介して斜め方向から紫外線を照射すること
を特徴とする液晶表示装置の製造方法を提供するもので
ある。

【００２２】この方法によれば、１回の液晶配向処理に
より、１つの画素内で液晶の分子が４つの互いに異なっ
た方向に配向する配向分割を行うことができる。好まし
くは、該キャビティは、２等辺三角形断面の鋸歯の形状
及び台形断面の鋸歯の形状の少なくとも一方の形状を有
する。実施例においては、該第１及び第２の斜面は２等
辺三角形の斜面であり、第３及び第４の斜面は台形の斜
面である。バスラインを有する一方の基板は上記したス
テップにより紫外線照射を行って配向処理が行われ、バ
スラインを有しない他方の基板は上記したステップによ
り紫外線照射を行わない。

【００２３】

【発明の実施の形態】図１は本発明により得られた液晶
表示装置を示す図である。液晶表示装置１０は、間隔を
あけて対向する一対の透明なガラス基板１２、１４と、
これらの基板１２、１４の間に挟持される液晶層１６と
からなる。一方の基板１２には透明な画素電極１８及び
透明な配向膜２０が形成され、他方の基板１４には透明
な共通電極２２及び透明な配向膜２４が形成されてい
る。基板１４にはさらにカラーフィルター２６が形成さ
れている。偏光子２８、３０が基板１２及び基板１４の
外側に配置される。基板１２の画素電極１８はアクティ
ブマトリクスとともに形成され、図１には、アクティブ
マトリクスのデータバスライン３２が示されている。３
４は絶縁膜である。なお、電極は一方の基板のみに設け
られることもある（例えば、ＩＰＳモードの場合）。

【００２４】この配向膜２０、２４は垂直配向性を示す
配向膜であり、以下に説明するようにラビングなしでプ
レチルト角度を伴った配向が実現されている。図２はこ
の配向膜２０（２４）のための配向処理装置６０を示し
ている。配向処理装置６０は、無偏光の紫外線を照射す
る光源６２と、ミラー６４と、配向膜２０（２４）が設
けられた基板１２（１４）を支持するホルダー６６とか
らなる。ホルダー６６は光軸に対して斜めに基板１２
（１４）を支持する。すなわち、光源６２からの平行な
紫外線が配向膜２０（２４）に対して４５度（あるいは
４５度以下）の角度で入射するようになっている。

【００２５】光源６２は放物面リフレクタ６２ａを含ん
で無偏光の紫外線をほぼ平行に照射する。光源６２の好
ましいスペクトル分布が図３に示されている。このスペ
クトル分布は波長２５０ｎｍ付近にピークをもってい
る。照射される紫外線が波長２８０ｎｍ以下の成分を含
むのが好ましい。配向処理装置６０で処理された配向膜
２０（２４）は、垂直配向性を示す配向膜であり、且つ
斜め方向から無偏光の紫外線を照射することによってプ
レチルト角度を伴った配向が実現される。

【００２６】配向膜２０（２４）は塗布焼成された状態
で垂直配向性を示す配向膜であり、下記に示されるポリ
マーを含む。

【００２７】

【化１】

【００２８】図４は配向処理の原理を示す図であり、図
５は図４を簡単化した図である。上記化学式１に示され
た配向膜２０（２４）は垂直配向性を実現するアルキル
側鎖（アルキル基）Ｒを有するポリマーを含む。アルキ
ル基Ｒが図４に数字７０で示されている。アルキル基７
０は配向膜２０（２４）の表面にランダムに突出してい
ると考えられる。

【００２９】紫外線６８は配向膜２０（２４）に対して
Ｘの方位から斜めに照射され、液晶のプレチルト方向
（方位線）は紫外線６８の入射方位と平行な方位にな
る。無偏光の紫外線６８はＰ波とＳ波の偏光を含むが、
Ｓ波は配向の方向性に寄与しない。つまり、Ｓ波はＸ方
向に対しては全く作用を行わず、Ｙ方向には作用するが
その作用はＹ軸のプラス方向とマイナス方向で作用の大
きさが同じであるので、配向の方向性に寄与しない。

【００３０】Ｐ波は紫外線６８の入射方向と平行な平面
においてアルキル基７０を含んだ部分に作用し、配向の
方向性を左右する。図５は紫外線６８の入射方向と平行
な平面、すなわちＰ波の振動面と平行な平面に沿ってと
った図４の一部である。図５において、アルキル基７０
を紫外線６８のＰ波の振動方向に関して互いに逆方向に
傾いた２つに分けて考えことができる。

【００３１】アルキル基７０のうちの成分ａはＰ波の振
動方向に対して垂直に近くなるように傾いているもので
あり、アルキル基７０のうちの成分ｂはＰ波の振動方向
に対して水平に近くなるように傾いている。一般に、紫
外線によりアルキル基自体が壊されるとは考えにくい。
アルキル基を支えている部分あるいはアルキル基を傾け
ている部分が紫外線で壊されると考えると分り易い。Ｐ
波の振動方向に対して垂直に近くなるようにアルキル基
を傾けさせている部分ａ（成分ａに対応）と、Ｐ波の振
動方向に対して平行に近くなるようにアルキル基を傾け
させている部分ｂ（成分ｂに対応）とは、紫外線により
壊される比率が異なる。

【００３２】アルキル基を傾けさせている部分ｂはエネ
ルギーを受け易く、紫外線のエネルギーにより壊され易
い。従って、紫外線の照射により、成分ｂは減少し、成
分ａは壊されずに残る。従って、配向膜２０（２４）を
液晶表示装置１０で使用すると、液晶分子は配向膜２０
（２４）のアルキル基７０のうちの成分ａの傾きに従っ
てプレチルトするようになる。

【００３３】図６は図５の変形例を示す図である。図５
においては、アルキル基７０の成分ａ、ｂはそれぞれ一
様に紫外線照射の作用を受けると仮定したが、図６はア
ルキル基７０の成分ａ、ｂのうちのそれぞれ一部ａａ、
ｂｂが特に強く紫外線照射の作用を受ける場合である。
これらの部分ａａ、ｂｂはそれぞれアルキル基７０の成
分ａ、ｂの大部分に対して反対に屈曲している。

【００３４】従って、部分ａａは紫外線のエネルギーに
より壊されやすいが、部分ｂｂは紫外線のエネルギーに
より壊されにくい。従って、部分ｂｂをもった成分ｂが
残り、配向膜２０（２４）を液晶表示装置１０で使用す
ると、液晶分子は配向膜２０（２４）のアルキル基７０
のうちの成分ｂの傾きに従ってプレチルトするようにな
る。図５の場合、及び図６の場合、いずれの場合にも、
液晶分子は一定のプレチルト角度をもって配向するよう
になる。従って、垂直配向膜であれば、ラビングをしな
くても、無偏光の紫外線を斜めに照射することによって
プレチルト角度を伴った配向を実現できる。

【００３５】ただし、図５及び図６において、ａ成分及
びｂ成分のどちらが壊され易いか紫外線照射前に断定す
ることが難しいことがある。しかし、紫外線を斜めに照
射すれば、ａ成分及びｂ成分の一方が壊され、他方が残
り、それによって液晶表示装置１０として使用するとき
に、液晶分子はラビングなしでプレチルト角度を伴って
配向するようになる。

【００３６】本発明の特徴として、紫外線を照射する際
の紫外線の露光量が、配向膜２０、２４の垂直配向性を
実現するポリマーの含有量１％当たり（１重量パーセン
ト当り）３０〜１２０ｍＪ／ｃｍ² の範囲内で定められ
る。上記した化学式（１）は配向膜２０、２４の垂直配
向性を実現するポリマーの一例を示し、配向膜は化学式
（１）で示したポリマー以外のその他のポリマーを含ん
でいる。その他のポリマーは例えばアルキル基７０のよ
うに垂直配向性を実現する成分を含んでいず、例えばア
ルキル基７０が水素基に置換されたような構造を有す
る。本発明では、配向膜２０、２４を構成する全ポリマ
ーに対する垂直配向性を実現するポリマーの含有量を調
べ、その含有量１％当たりについて紫外線の照射量を設
定するものである。

【００３７】実施例においては、配向膜２０、２４の垂
直配向性を実現するポリマーを２５パーセント含有する
サンプルと、６５パーセント含有するサンプルとを準備
し、配向膜２０、２４とした。まず、垂直配向膜２０
（２４）の材料をスピンコートにより基板１２（１４）
に１５００ｒｐｍで塗布した。このときの配向膜２０
（２４）の膜厚は約５００オングストロームである。こ
れを１８０℃で１時間焼成した。次に、図２の配向処理
装置６０を用いて、配向膜２０（２４）の表面に対して
４５度の角度にて、配向膜２０（２４）に紫外線を照射
した。このとき、光源６２としてウシオ電機製のディー
プＵＶ照射装置を用いた。この光源６２では紫外線発光
部位の大きさは約５ｍｍであり、リフレクタ６２ａによ
りほぼ平行な紫外線を得た。

【００３８】ここで、配向膜２０、２４の垂直配向性を
実現するアルキル基７０を有するポリマーの含有量１％
当たり３０〜１２０ｍＪ／ｃｍ² の範囲内にある幾つか
の紫外線の露光量で照射した複数のサンプルを作り、液
晶表示装置として組み立てた。第１グループはポリマー
の含有量が２５パーセントのサンプルであり、第２グル
ープは６５パーセントのサンプルであった。

【００３９】図７はこうして作製したサンプルの露光量
とプレチルト角との関係を示す図である。第１グループ
のサンプルは曲線Ｘでプロットされている。第１グルー
プのサンプルは５００〜２５００ｍＪ／ｃｍ² の範囲内
の露光量で紫外線を照射されたものである。第２グルー
プのサンプルは曲線Ｙでプロットされている。第２グル
ープのサンプルは１２００〜６０００ｍＪ／ｃｍ² の範
囲内の露光量で紫外線を照射されたものである。

【００４０】以上のサンプルについて液晶の配向性の観
察を行うと、概して、露光量が少ない場合（図７の左端
側の領域）においてはセルギャップを維持するために挿
入されたスペーサの周囲の配向乱れによる黒点が発生
し、露光量が多い場合（図７の右端側の領域）において
は液晶注入時の注入筋が表れた。黒点や注入筋のないも
のが液晶の配向性良好と判断される。

【００４１】第１グループのサンプルについては図７の
範囲Ｐのものが液晶の配向性良好と判断された。第１グ
ループのサンプルについては、範囲Ｐのものは１０００
〜２２００ｍＪ／ｃｍ² の範囲内の露光量で紫外線を照
射されたものである。第２グループのサンプルについて
は図７の範囲Ｑのものが配向性良好と判断された。第２
グループのサンプルについては、範囲Ｑのものは２４０
０〜５５００ｍＪ／ｃｍ² の範囲内の露光量で紫外線を
照射されたものである。

【００４２】図８は露光量を垂直配向性を実現するアル
キル基を有するポリマー１％当たりの値に変換した図７
の関係を示す図である。つまり、第１のサンプルについ
ては図７の露光量を２５で割り、第２のサンプルについ
ては図７の露光量を６５で割り、ポリマー１％当たりの
露光量とした。図７の第１グループのサンプルの関係を
示す曲線Ｘは図８では曲線Ｘ′でプロットされている。
液晶の配向性良好な結果を得る露光量Ｐ′は、垂直配向
性を実現するアルキル基を有するポリマー１％当たり４
０〜８８ｍＪ／ｃｍ² の範囲内のものであった。図７の
第２グループのサンプルの関係を示す曲線Ｙは図８では
曲線Ｙ′でプロットされている。液晶の配向性良好な結
果を得る露光量Ｑ′は、垂直配向性を実現するアルキル
基を有するポリマー１％当たり３７〜８５ｍＪ／ｃｍ²
の範囲内のものであった。

【００４３】この結果から、配向膜２０、２４の材料中
の垂直配向性を実現するアルキル基を有するポリマーの
含有量が変わっても、垂直配向性を実現するアルキル基
を有するポリマー１％当たりの露光量が所定の範囲内に
あれば、液晶の配向性良好な結果を得ることができるこ
とが分かる。好ましい露光量は４０〜９０ｍＪ／ｃｍ ²
の範囲内にあることが分かった。

【００４４】液晶表示装置の組み立てにおいて、液晶１
６を一対の基板１２、１４間に注入し、注入口を封栓す
る。上記の実施例はこの状態で液晶表示装置として電極
１８、２２間に電圧を印加して試験した結果である。液
晶１６を一対の基板１２、１４間に注入、封栓した後、
液晶パネルに熱をかけてアニーリングを行うと、液晶の
配列が良くなる。その結果、上記した露光量の範囲より
も広い露光量の範囲で液晶の配向性良好な結果を得るこ
とができる。下記の表１はこの場合の結果を示す図であ
る。

【００４５】表１サンプルの種類２５％のポリマー６５％のポリマー１％当たり露光量黒点注入筋黒点注入筋９．６ ─ ─ × ○ １５．９ ─ ─ ×△ ○ ２２．３ △ ○ △ ○ ３８．２ ○ ○ ○ ○ ５４．１ ○ ○ ○ ○△ ７０．１ ○ ○ ○ ○△ ８６．０ ○ ○△ ○ △ １０１．９ ○ ○△ ○ △ １１７．８ ○ △ ○ △ １３３．８ ○ × ○ × この結果から、配向膜の垂直配向性を実現するポリマー
の含有量１％当たり３０〜１２０ｍＪ／ｃｍ² の露光量
で紫外線を照射すると、液晶の配向性良好な結果を得る
ことができることが分った。さらに、配向膜２０（２
４）の垂直配向性を実現するポリマーの含有量１％当た
り８０〜１２０ｍＪ／ｃｍ² の露光量で紫外線を照射す
ると、液晶分子のプレチルト角が８９度以下になって垂
直配向膜の作用が安定し、横電界によるドメインの発生
を防止することができる。この露光量では、プレチルト
角が概ね約８９．６度〜約８９度の範囲内にあった。

【００４６】ここで横電界によるドメインの発生につい
て説明すると、配向膜２０，２４によって垂直に近いプ
レチルト角で配向されている液晶は、ＴＦＴを有する基
板のバスラインなどからの横電界の影響を受けやすくな
る。横電界の影響を少なくするためには、配向膜表面に
対する配向膜のプレチルト角をできるだけ小さく設定す
る必要がある。しかし、プレチルト角をただ低くすれば
よいと言うものでもなく、プレチルト角がある程度小さ
くなると（例えば８５度程度）、偏光板をクロスニコル
で貼りつけて黒表示をした場合、黒色度が低くなり、コ
ントラストが低下してしまう。

【００４７】図７及び図８に示すように、無偏光の紫外
線を照射した場合のプレチルト角は、照射量が増加する
につれて低下する傾向を示している。また、図９に示す
ように、無偏光の紫外線の照射角度が、配向膜表面に対
して浅くなるほど、プレチルト角は低下する傾向を示し
ている。そこで、あるゆる照射条件にて、アルキル基を
含むポリマーが２５％含まれている配向膜を照射し、Ｔ
ＦＴパネルに適用した場合、照射角度１０度、露光量約
１８００ｍＪ／ｃｍ² の照射条件の場合、ドメインの発
生がきわめて小さい良好な表示を得ることができた。こ
のときのプレチルト角は配向膜表面に対して約８９度で
あった。

【００４８】横電界の影響をできるだけ小さくするため
には、８９度以下のプレチルト角が望まれる。このため
には、配向膜に対する紫外線照射量が配向膜中のアルキ
ル基を含むポリマー１％に対して約８０ｍＪ／ｃｍ² 以
上必要になる。しかし、前述したように、紫外線照射量
が多くなりすぎると、液晶を注入した際の注入筋が発生
し、その痕跡が残ってしまう問題がある。図８では９０
ｍＪ／ｃｍ² 以上で注入筋が残る条件となるが、上記し
たように、注入後のアニーリングを行うことにより、約
８０〜１２０ｍＪ／ｃｍ² の範囲で、注入筋なく、８９
度以下のプレチルト角が得られる照射条件となる。

【００４９】図３に示されるスペクトル分布は２５０ｎ
ｍ付近の波長成分を含んでおり、この成分が有効であっ
た。このように、光源としては、ショートアーク型のラ
ンプを用い、２５０ｎｍ付近の紫外線を主に用い、紫外
線の平行度はリフレクタにより±１０度以下、好ましく
は±３度以下にする。図３に示されるスペクトル分布を
もった光源光をそのまま使用した試験と、この光源光の
うちの３００ｎｍ以上の波長成分をカットした紫外線を
照射した試験を行い、結果を比較したが、同様のプレチ
ルト発現性が確認された。この結果から、垂直配向膜２
０（２４）にプレチルトを発現させるためには、２８０
ｎｍ以下の紫外線を照射するのが有効であることが分か
った。

【００５０】図９は紫外線の照射角度とプレチルト角と
の関係を示す図である。上記した第１グループのサンプ
ル（２５％）及び第１グループのサンプル（６５％）の
配向膜に、露光量が１８００ｍＪ／ｃｍ² の露光量で紫
外線を照射し、照射角度の違いによるプレチルト角の変
化について試験した。配向膜表面に対して４５度以下の
角度で紫外線照射を行うと、良好な配向が得られること
が分かっている。プレチルト角に関しては、配向膜表面
に対する照射角度が低いほどプレチルト角が低い状態を
得られる。この場合、液晶の配向性が良好となる照射角
度におけるプレチルト角は８９．５度以下となってい
る。以上のことから考えると、スペーサによる配向性の
悪影響がないようにするためには８９．５度以下のプレ
チルト角となるようにするのがよい。

【００５１】本実施例では、無偏光の紫外線を使用し
て、垂直配向膜２０（２４）にプレチルト発現性を付与
することができた。実際に有効なのは、無偏光の紫外線
のうちのＰ波だけであるといえるが、それでも無偏光の
紫外線を使用できることのメリットは大きい。従来は水
平配向膜に偏光した紫外線を照射することによりプレチ
ルト発現性を付与する提案があるが、この場合には無偏
光の紫外線を使用してはプレチルト発現性を得ることは
できなかった。そのために、偏光した紫外線を得るため
の偏光子が必要になり、そのような偏光子は、現在では
グランテイラー型の偏光子しかないが、グランテイラー
型の偏光子は自然に産出する方解石を切り出して製造さ
れたものであり、実際の使用には向いていない。従っ
て、無偏光の紫外線を使用して配向処理を行うことがで
きることは、紫外線照射のために偏光子を使用する必要
性がなくなり、きわめて好ましい。

【００５２】本実施例においては、無偏光の紫外線は垂
直配向膜２０（２４）の全面に一様に照射される。従っ
て、１画素内に２つの異なった配向方向のドメインＡ、
Ｂを有する配向分割を行うためには、図１０に示される
ように、分割されたドメインＡ、Ｂ毎に、反対方向から
紫外線６８Ａ、６８Ｂを照射するようにする。こうすれ
ば、図１１に示されるように、中間に位置する液晶分子
が反対方向にチルトする２つのドメインＡ、Ｂが得られ
る。なお、この場合は、２つのドメインＡ、Ｂで液晶分
子のプレチルト角度の差はない。配向分割を行うことに
より、視角特性が改善される。

【００５３】図１２はドメインＡ、Ｂ毎に、反対方向か
ら紫外線６８Ａ、６８Ｂを同時に照射する例を示してい
る。この場合には、開口部７４Ａを有するマスク７４を
使用する。一つの開口部７４Ａから反対方向の紫外線６
８Ａ、６８Ｂが入るが、反対方向の紫外線６８Ａ、６８
Ｂが２つのドメインＡ、Ｂにちょうど振り分けられる条
件は次の通りである。マスク７４の開口部７４Ａのピッ
チ（１画素のピッチ）をＰとし、マスク７４と配向膜２
０（２４）との間隔をＱとし、紫外線６８Ａ、６８Ｂの
入射角をθとするとき、Ｑ＝（Ｐ／４）sin θとする。

【００５４】図１３に示されるように、この原理を応用
すると、４つの方向から紫外線を同時に照射することに
より、１画素内に４つの異なったドメインＡａ、Ａｂ、
Ｂａ、Ｂｂを形成することもできる。この場合、１つの
画素が複数のドメインＡａ、Ａｂ、Ｂａ、Ｂｂに分かれ
ており、複数のドメインＡａ、Ａｂ、Ｂａ、Ｂｂの液晶
の配向方向が矢印で示されるように画素の中心に対して
放射状に向いている。図１３では、液晶の配向方向が矢
印で示されるように画素の中心から外向きに向いてい
る。液晶の配向方向が画素の中心に向かって内向きに向
いているようにすることもできる。このように１画素内
に４つのドメインＡａ、Ａｂ、Ｂａ、Ｂｂを設けること
により、視角特性を向上させることができる。

【００５５】図１４は本発明の他の実施例による配向膜
の配向処理工程を示す図である。この実施例は、図１に
示されるものと同様に、一対の基板１２、１４と、一方
の基板に形成される電極１８、及び配向膜２０と、他方
の基板に形成される電極２２、及び配向膜２４と、一対
の基板１２、１４の間に挿入された液晶１６とを備えた
液晶表示装置に適用できる。配向膜２０、２４は、前の
実施例と同様に紫外線を斜めから照射することにより配
向処理されるが、配向膜２０、２４は、図１１に示され
るように、１画素内に２つのドメインＡ、Ｂを含むもの
である。

【００５６】この実施例では、液晶表示装置の製造に際
し、基板１２（１４）上に配向膜２０（２４）を形成し
た後、紫外線を斜めから照射する際にマスク８０を使用
する。マスク８０は、本体部分８２と、本体部分８２に
埋設され、本体部分８２とは異なる屈折率を有する光路
変更部分８４とを有する。光路変更部分８４の各々は２
等辺三角形断面の鋸歯状の形状を有し、底辺の長さｈは
画素ピッチの長さに対応する。さらに、光路変更部分８
４の２等辺三角形の頂部に位置する部分に遮光膜８６が
形成されている。

【００５７】図１５は図１４で使用されるマスク８０と
画素との関係を示す図である。第１及び第２の基板１
２、１４のうちの一方の基板はＴＦＴ基板であり、ＴＦ
Ｔ基板は画素電極１８、ドレインバスライン３２、及び
ゲートバスライン３３を有する。ＴＦＴ（図示せず）は
ドレインバスライン３２とゲートバスライン３３との交
差部に設けられる。画素ピッチｈは２つの隣接するドレ
インバスライン３２の中心間の距離であり、光路変更部
分８４の底辺の長さｈは画素ピッチｈに対応する。な
お、画素ピッチｈは２つの隣接するゲートバスライン３
３の中心間の距離とすることもできる。

【００５８】図１４において、マスク８０は光路変更部
分８４の２等辺三角形の底面が配向膜２０（２４）の上
になるように配置され、平行紫外線が矢印で示されるよ
うに配向膜２０に対して垂直な方向にマスク８０に入射
される。入射紫外線は光路変更部分８４の２等辺三角形
の斜面で反射して、隣の光路変更部分８４の２等辺三角
形の斜面に向かい、その斜面から光路変更部分８４に入
射する。

【００５９】ここで、３つの光路変更部分８４Ａ、８４
Ｂ、８４Ｃについてみると、左側の光路変更部分８４Ａ
の右側の斜面で反射した紫外線は中央の光路変更部分８
４Ｂの左側の斜面に向かい、その斜面から光路変更部分
８４Ｂに入射する。一方、右側の光路変更部分８４Ｃの
左側の斜面で反射した紫外線は中央の光路変更部分８４
Ｂの右側の斜面に向かい、その斜面から光路変更部分８
４Ｂに入射する。中央の光路変更部分８４Ｂの左側の斜
面及び右側の斜面から光路変更部分８４Ｂに入射した紫
外線は、配向膜２０（２４）の表面に斜めに入射する。
従って、上記の実施例と同様に、配向膜２０（２４）に
斜めに紫外線を照射することにより、配向膜２０（２
４）に配向処理を行うことができる。

【００６０】光路変更部分８４の２等辺三角形の形状及
び遮光膜８６は、左側の光路変更部分８４Ａの右側の斜
面で反射し、中央の光路変更部分８４Ｂの左側の斜面に
入射した紫外線が、その光路変更部分８４Ｂを通って、
配向膜２０（２４）の１画素の半分の領域に入射するよ
うに形成されている。同様に、右側の光路変更部分８４
Ｃの左側の斜面で反射し、中央の光路変更部分８４Ｂの
右側の斜面に入射した紫外線が、その光路変更部分８４
Ｂを通って、配向膜２０（２４）の１画素の残りの半分
の領域に入射するように形成されている。従って、図１
０及び図１１を参照して説明したように、配向分割が行
われる。

【００６１】ここで、本体部分８２の屈折率をｎ₁ 、光
路変更部分８４の屈折率をｎ₂ 、鋸歯状の断面形状の頂
角（２等辺三角形の頂角）をθ₁ 、光路変更部分８４を
通って配向膜２０に照射する紫外線の入射角度をθ₂ と
すると、θ₁ ≦６０の場合、下記式（１）を満足する。ｎ₁ cos （３θ₁ ／２）＝ｎ₂ ｓｉｎ（θ₂ −θ₁ ／２）（１） θ₁ ＞６０の場合、下記式（２）を満足する。

【００６２】ｎ₁ cos （３θ₁ ／２）＝ｎ₂ ｓｉｎ（θ₁ ／２−θ₂ ）（２）さらに、配向分割が成り立つためには、２等辺三角形断
面の鋸歯状の形状の光路変更部分８４のピッチをｈとす
ると、遮光膜８６は２等辺三角形の頂角部から下記の式
（３）に示す高さｉをもつ。

【００６３】

【数１】

【００６４】図１６はマスク８０の変形例を示す図であ
る。マスク８０は、本体部分８２と、本体部分８２に埋
設され、本体部分８２とは異なる屈折率を有する光路変
更部分８４とを有する。この場合、光路変更部分８４は
台形断面の鋸歯状の断面形状を有し、台形の上辺に位置
する部分に遮光膜８６が形成されている。台形は図１４
の２等辺三角形の頂部を切り取ったものと考えると、台
形の斜面及び遮光膜８６は図１４の実施例と同様に作用
する。

【００６５】この場合、台形の２つの斜線を延長し、延
長線の形成する頂角を鋸歯状の断面形状の頂角θ₁ とす
ると、上記式（１）、式（２）は台形の場合にもあては
まる。頂角θ₁ は延長線の形成しなくても、台形の斜辺
と底辺との間の角度が（π−θ₁ ）／２になることを利
用して求めてもよい。そして、台形の場合には、遮光膜
８６の長さｊは台形の上辺の寸法であり、下記の式
（４）で示される。

【００６６】

【数２】

【００６７】さらに、２等辺三角形の場合にも、台形の
場合にも、本体部分８２の屈折率をｎ₁ 、光路変更部分
８４の屈折率をｎ₂ 、鋸歯状の断面形状の頂角をθ₁ の
間には下記の関係がある。 cos θ₁ ≧＝ｎ₂ ／ｎ₁ （５）ここで、具体的な例について説明する。マスク８０の本
体部分８２の材料は、屈折率ｎ₁ ＝１．５のガラスであ
り、光路変更部分８４は屈折率ｎ₂ ＝１．０の空気であ
った。すなわち、マスク８０の本体部分８２は光路変更
部分８４に相当する凹部形状を有し、その凹部には空気
が入っていた。

【００６８】画素ピッチｈは例えば１００μｍであり、
光路変更部分８４は同様に１００μｍのピッチで連続的
に設けられていた。配向膜２０（２４）を紫外線で照射
するときには、図１５に示されるように、マスク８０の
光路変更部分８４の２等辺三角形の頂部を画素電極１８
の中心に位置合わせし（あるいは２等辺三角形の底角部
をバスライン３２の中心に位置合わせし）、マスク８０
を配向膜２０（２４）が形成された基板１２（１４）に
密着させる。

【００６９】マスク８０を介して平行紫外線を照射した
場合、紫外線がマスク８０の光路変更部分８４の斜面に
最初に入射する際の光と光路変更部分８４の斜面との間
の角度はθ₁ ／２になる。２等辺三角形の頂角の角度θ
₁ を５０度とした場合、平行な紫外線をマスク８０の上
面からマスク８０の上面に対して垂直に照射すると、光
路変更部分８４の斜面に６５度（斜面に対して２５度）
で入射する。この角度で入射した紫外線は入射角が境界
面における臨界角４１．８度（cos θ＝０．６６６）を
越えているため、全反射する。その反射光が隣の光路変
更部分８４の斜面に入射角１５度で入射し、屈折して光
路変更部分８４を入射する。光路変更部分８４を透過し
た紫外線は配向膜２０（２４）の表面に約４７．８度の
角度で入射する。光路変更部分８４の両斜面から入射す
る紫外線がそれぞれちょうど配向膜２０（２４）の表面
の半分ずつを照射するためには、遮光膜８６の高さｉは
２３．９μｍとする必要がある。遮光膜８６はカーボン
ブラックなどで形成する。

【００７０】このように、反射と屈折が本体部分８２と
光路変更部分８４との境界面で発生し、配向膜を約４
７．８度の角度で照射する。これにより、１つの画素内
で、配向膜の半分は約４７．８度の角度で照射され、残
りの半分は逆の方向から約４７．８度の角度で照射され
る。従って、１回の紫外線照射により、配向膜２０（２
４）は相対する方向から約４７．８度の角度で分割して
照射される。このようにして形成した配向膜２０、２４
を有する基板１２、１４を貼り合わせ、液晶を注入して
パネルを形成する。電極は両方の基板に設けられてもよ
く、あるいは一方の基板のみに設けられてもよい。

【００７１】２等辺三角形の頂角の角度θ₁ を４４度と
した場合、配向膜２０（２４）に対する入射角θ₂ は５
９．８度となる。このときは、遮光膜８６の高さｉ＝０
を満たすことになり、遮光膜８６は必要なくなる。図１
７はこの状態を示している。図１４から図１７を参照し
て説明した構成は下記のように言いなおすことができ
る。マスク８０の本体部分８２は、第１の平坦な表面８
２ａと、第１の表面８２ａの反対側の第２の表面８２ｂ
と、第２の表面８２ｂに設けられた複数のキャビティ８
２ｃとを含む。各キャビティ８２ｃは、第１の表面８２
ａから第２の表面８２ｂへ向かう方向で見て互いに広が
るように傾斜する第１及び第２の斜面８２ｄ、８２ｅを
有する。

【００７２】各キャビティ８２ｃは、第１の斜面８２ｄ
及び第２の斜面８２ｅの間に中心線を有し、光路変更部
分８４はキャビティ８２ｃ及びキャビティ８２ｃ内に含
まれる物質（例えば空気）により形成される。従って、
第１の表面８２ａから本体部分８２に入射し、第１の斜
面８２ｄを透過した紫外線が配向膜２０に第１の方向か
ら斜めに照射され、第２の斜面８２ｅを透過した紫外線
が配向膜２０に第１の方向とは反対の第２の方向から斜
めに照射される。

【００７３】図１８は図１４を参照して説明した配向処
理をした基板１２を用いた場合の液晶表示装置１０にお
ける液晶分子の配向を示している。例えば図１を参照し
て説明したように、一方の基板（ＴＦＴ基板）１２は画
素電極１８、データバスライン３２、ゲートバスライン
及び配向膜２０を有し、他方の基板（カラーフィルタ基
板）１４は共通電極２２及び配向膜２４を有する。他方
の基板１４はバスラインを有しない。しかし、他方の基
板１４は一方の基板１２のデータバスライン３２及びゲ
ートバスラインに対応する位置にブラックマトリクス等
３２Ｂを有する。従って、他方の基板１４についても、
データバスライン３２及びゲートバスラインに対応する
位置を特定することはできる。

【００７４】図１４においては、配向処理工程におい
て、データバスライン３２はマスク８０の光路変更部分
８４を形成する２等辺三角形又は台形の斜辺の底部（底
辺の両端部）に位置している。２つの隣接するデータバ
スライン３２の間隔が画素ピッチに対応する。バスライ
ンに対応する位置にあるブラックマトリクス３２Ｂもデ
ータバスライン３２を含む垂直面内にある。２等辺三角
形の頂角又は台形の上面の中心は、２つの隣接するデー
タバスライン３２の中間にある。

【００７５】図１４においては１画素内のドメインＡに
は紫外線が左上から右下方向に照射され、ドメインＢに
は紫外線が右上から左下方向に照射される。紫外線の照
射方向は液晶表示装置１０の使用時の液晶分子のプレチ
ルトの方向を決める。その結果、図１８に示されるよう
に、１画素内のドメインＡの液晶分子１６Ａは左上から
右下方向にプレチルトしようとし、ドメインＢの液晶分
子１６Ｂは右上から左下方向にプレチルトしようとす
る。電圧を印加すると、液晶分子はプレチルトしていた
方向に基づいて矢印の方向に倒れる。他方の基板１４の
配向膜の配向処理については示されていないが、他方の
基板１４の配向膜の配向処理は液晶分子が各ドメイン
Ａ、Ｂで同じ挙動をするように一方の基板１２の配向膜
の配向処理に準じて行われる。

【００７６】図１８に示されるように、電圧を印加する
と、画素電極１８と共通電極２２との間の電界が生じる
ばかりでなく、２つの隣接するデータバスライン３２間
（及びゲートバスライン間）で電気力線ＥＬが生じる。
電気力線ＥＬは１つの画素を横に横断するように延び、
データバスライン３２（ゲートバスライン）に隣接する
位置にある液晶分子１６Ｃはこの電気力線ＥＬの影響を
受ける。この液晶分子１６Ｃは電気力線ＥＬに沿って倒
れようとし、これは液晶分子１６Ｃの属するドメインＡ
の液晶分子１６Ａの倒れる方向とは逆になる。従って、
データバスライン３２（ゲートバスライン）に隣接する
部分では、表示にディスクリネーションが生じるという
問題がある。

【００７７】図１９は修正した配向処理をした場合の液
晶分子の配向を示す図である。図１９においては、１画
素内のドメインＡの液晶分子１６Ａは右上から左下方向
にプレチルトしようとし、ドメインＢの液晶分子１６Ｂ
は左上から右下方向にプレチルトしようとする。電圧を
印加すると、液晶分子はプレチルトしていた方向に基づ
いて矢印の方向に倒れる。すなわち、図１９の配向処理
はデータバスライン３２を基準とした１画素内では図１
８の配向処理とは逆方向に実施されている。そのため、
図１９において、データバスライン３２（ゲートバスラ
イン）に隣接する位置にある液晶分子１６Ｃは電気力線
ＥＬに沿った方向に倒れるが、これは液晶分子１６Ｃの
属するドメインＡの液晶分子１６Ａの倒れる方向とは同
じ方向になる。従って、データバスライン３２（ゲート
バスライン）に隣接する部分でも、表示のディスクリネ
ーションが生じなくなる。

【００７８】図２０は図１９の液晶の配向を得るための
バスラインを有しないカラーフィルタ基板１４の配向膜
の配向処理を実施する工程を示す図である。同様に、図
２１は図１９の液晶の配向を得るためのバスラインを有
するＴＦＴ基板１２の配向膜の配向処理を実施する工程
を示す図である。この実施例では、基板１２、１４は配
向膜２０、２４を形成されるが、配向膜２０、２４は図
では省略されている。図１４から図１７を参照して説明
したのと同様に、配向膜２０、２４には紫外線を斜めか
ら照射して配向処理を行う。この実施例では、配向処理
を行うときに、マスク８０とデータバスライン３２（及
びゲートバスライン）及びブラックマトリクス等３２Ｂ
との位置関係を設定する点が前の例と異なっている。

【００７９】図２０及び図２１はマスク８０の光路変更
部分８４が２等辺三角形の場合である。基板１２、１４
に配向膜２０、２４を形成した後、本体部分８２と、画
素ピッチに対応して該本体部分に設けられた複数の光路
変更部分８４とを有するマスク８０を準備する。マスク
８０の本体部分８２は、第１の平坦な表面８２ａと、第
１の表面８２ａの反対側の第２の表面８２ｂと、第２の
表面８２ｂに設けられた複数のキャビティ８２ｃとを含
む。各キャビティ８４ｃは、第１の表面８２ａに対して
垂直な垂直面（図２０で紙面に垂直で２等辺三角形の頂
角を通る平面）の両側にあって、第１の表面８２ａから
第２の表面８２ｂへ向かう方向で見て互いに広がるよう
に傾斜する第１及び第２の斜面８２ｄ、８２ｅを有し、
光路変更部分８４はキャビティ８４ｃ及びキャビティ内
に含まれる物質（空気）により形成される。

【００８０】図２０においては、バスラインを有しない
カラーフィルタ基板１４については、第１の斜面８２ｄ
の第２の表面８２ｂ上の端部（２等辺三角形の底角部）
及び第２の斜面８２ｅの第２の表面８２ｂ上の端部がブ
ラックマトリクス３２ｂ上にくるようにしてマスク８０
を該基板１４にあてがう。つまり、２等辺三角形の頂角
が２つの隣接するデータバスライン３２の中間の位置に
きている。そこで、基板１４の配向膜２４の表面にマス
ク８０を介して斜め方向から紫外線を照射すると、液晶
分子が斜め方向にプレチルトをともなって配向するよう
になる。

【００８１】図２１においては、バスラインを有するＴ
ＦＴ基板１２については、第１の斜面８２ｄと第２の斜
面８２ｅとの間の垂直面がデータバスライン３２上にく
るようにしてマスク８０を基板１２にあてがう。つま
り、２等辺三角形の頂角がデータバスライン３２の上に
重なる位置にくるようにする。そこで、基板１４の配向
膜２４の表面にマスク８０を介して斜め方向から紫外線
を照射すると、液晶分子が斜め方向にプレチルトをとも
なって配向するようになる。この場合の１画素は、２等
辺三角形の底辺で定められる領域ではなく、２つの隣接
するデータバスライン３２で定められる領域である。

【００８２】図２０のカラーフィルタ基板１４と図２１
のＴＦＴ基板１２とを貼り合わせ、液晶１６をこれらの
基板１２、１４の間に注入すると、図１９に示す液晶の
配向が得られる。データバスライン３２とブラックマト
リクス等３２Ｂとは同じ平面内に位置する。もしカラー
フィルタ基板１４にブラックマトリクス等３２Ｂがない
場合でも、組み立てたときにカラーフィルタ基板１４に
データバスライン３２と同一平面内にくる位置決めマー
クを設けておけばよく、露光はステッパ等の精密工具を
使用して行われるので必ずしもそのような位置決めマー
クをデータバスライン３２と同じピッチで設ける必要は
ない。

【００８３】図２２及び図２３はマスク８０の光路変更
部分８４が台形である場合の例である。その他の特徴は
図２０及び図２１の例と同様である。図２２において
は、バスラインを有しないカラーフィルタ基板１４につ
いては、第１の斜面８２ｄの第２の表面８２ｂ上の端部
（台形の底辺の端部）及び第２の斜面８２ｅの第２の表
面８２ｂ上の端部がブラックマトリクス３２ｂ上にくる
ようにしてマスク８０を該基板１４にあてがう。つま
り、台形の中心が２つの隣接するデータバスライン３２
の中間の位置にきている。そこで、基板１４の配向膜２
４の表面にマスク８０を介して斜め方向から紫外線を照
射すると、液晶分子が斜め方向にプレチルトをともなっ
て配向するようになる。

【００８４】図２３においては、バスラインを有するＴ
ＦＴ基板１２については、第１の斜面８２ｄと第２の斜
面８２ｅとの間の垂直面がデータバスライン３２上にく
るようにしてマスク８０を基板１２にあてがう。つま
り、台形の中心がデータバスライン３２の上に重なる位
置にくるようにする。そこで、基板１４の配向膜２４の
表面にマスク８０を介して斜め方向から紫外線を照射す
ると、液晶分子が斜め方向にプレチルトをともなって配
向するようになる。

【００８５】一対の対向する配向膜のうち、一方の配向
膜が適切に配向処理されていれば、他方の配向膜は配向
処理されていないても、液晶分子は配向処理されている
配向膜の配向処理に従って配向することが分かってい
る。従って、図２０に示された配向処理方法で処理され
た配向膜を有する基板１４と図２１に示された配向処理
方法で処理された配向膜を有する基板１２とを組み合わ
せて液晶表示装置１０を作るのは好ましい。しかし、図
２０に示された配向処理方法で処理された配向膜を有す
る基板１４と配向処理されていない配向膜を有する基板
１２とを組み合わせ、あるいは配向処理されていない配
向膜を有する基板１４と図２１に示された配向処理方法
で処理された配向膜を有する基板１２とを組み合わせて
液晶表示装置１０を作っても、図１９に示した特徴を有
する液晶表示装置１０を得ることができる。

【００８６】同様に、図２２に示された配向処理方法で
処理された配向膜を有する基板１４と図２３に示された
配向処理方法で処理された配向膜を有する基板１２とを
組み合わせて液晶表示装置１０を作るのは好ましい。し
かし、図２２に示された配向処理方法で処理された配向
膜を有する基板１４と配向処理されていない配向膜を有
する基板１２とを組み合わせ、あるいは配向処理されて
いない配向膜を有する基板１４と図２３に示された配向
処理方法で処理された配向膜を有する基板１２とを組み
合わせて液晶表示装置１０を作っても、図１９に示した
特徴を有する液晶表示装置１０を得ることができる。

【００８７】図２４は本発明のさらに他の実施例に関
し、４つのドメインを含む配向処理を行う場合のマスク
８０を示す図である。図２５は図２４のマスク８０の１
つの光路変更部分８４を示す斜視図、図２６は光路変更
部分８４を示す平面図、図２７及び図２８は光路変更部
分８４の断面図である。図１４から図２３の例と同様
に、この実施例のマスク８０は液晶表示装置１０の基板
１２、１４の配向膜２０、２４に紫外線を斜めから照射
するのに使用される。マスク８０は本体部分８２と、複
数の光路変更部分８４とを有する。光路変更部分８４は
本体部分８２のキャビティ８２ｃとして形成されたもの
である。前の実施例では、各キャビティ８２ｃは、第１
の表面８２ａから第２の表面８２ｂへ向かう方向で見て
互いに広がるように傾斜する一対の斜面８２ｄ、８２ｅ
を有するものであったが、この実施例では、各キャビテ
ィ８２ｃは、２対の斜面を有する。

【００８８】すなわち、各キャビティ８２ｃは、第１の
表面８２ａに対して垂直で且つ互いに垂直な第１及び第
２の垂直面８２ｘ、８２ｙのうち、第１の垂直面８２ｘ
の両側にあって、第１の表面８２ａから第２の表面８２
ｂへ向かう方向で見て互いに広がるように傾斜する第１
及び第２の斜面８２ｄ、８２ｅと、第２の垂直面８２ｙ
の両側にあって、第１の表面８２ａから第２の表面８２
ｂへ向かう方向で見て互いに広がるように傾斜する第３
及び第４の斜面８２ｆ、８２ｇとを有する。光路変更部
分８４はキャビティ８２ｃ及びキャビティ８２ｃ内に含
まれる物質（空気）により形成される。このマスク８０
をカラーフィルタ基板１４に重ね、カラーフィルタ基板
１４の配向膜２４の表面にマスク８０を介して斜め方向
から紫外線を照射する。この場合、ＴＦＴ基板１２の配
向膜は配向処理しない方がよい。

【００８９】図２４から図２８に示す実施例において
は、第１及び第２の斜面８２ｄ、８２ｅは前の実施例で
示した２等辺三角形の断面形状を有するマスク８０と等
しい作用を有する。第３及び第４の斜面８２ｆ、８２ｇ
は前の実施例で示した台形の断面形状を有するマスク８
０と等しい作用を有する。１つの画素内では、４つの方
向が紫外線が照射され、第１及び第２の斜面８２ｄ、８
２ｅを通って配向膜に斜めに照射される紫外線により２
つの配向の異なったドメインが形成され、第３及び第４
の斜面８２ｆ、８２ｇを通って配向膜に斜めに照射され
る紫外線により２つの配向の異なったドメインが形成さ
れる。従って、合計で４つの配向の異なったドメインが
形成され、表示をあらゆる方向からかなりの視角で見て
も、表示をかなり良好に見ることができる。

【００９０】図２９及び図３０は光路変更部分８４の変
形例である。図２６の光路変更部分８４はａ×ｅ（ａは
短辺の長さ、ｅは長辺の長さ）の矩形状のベース形状を
有し、台形の上辺に相当するピーク８２ｐを有する。図
２９及び図３０の光路変更部分８４は図２６のピーク８
２ｐの長さを０にしたものに相当する。さらに、図２９
及び図３０の光路変更部分８４を変更し、ａ×ａの正方
形のベース形状を有する光路変更部分８４を使用するこ
ともできる。

【００９１】図３１は図２５及び図２６の光路変更部分
８４に遮光膜８６を設けた例を示す。遮光膜８６の作用
は、第１及び第２の斜面８２ｄ、８２ｅ、及び第３及び
第４の斜面８２ｆ、８２ｇを通って１画素相当の配向膜
の部分に入射した紫外線が、互いに重複することなく、
ちょうど１画素相当の配向膜の部分をカバーするように
することである。

【００９２】遮光膜８６がこの作用を達成するために
は、下記の関係を満足することが望ましい。図３２に示
されるように、台形の上辺に相当するピーク８２ｐの両
端部を点Ａ、Ｂとする。第１及び第２の斜面８２ｄ、８
２ｅ内にあって、ピーク８２ｐと平行に延びる遮光膜８
６の部分の角部を点Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆとする。点Ｃ、Ｄ、
Ｅはピーク８２ｐと垂直で点Ａを通る垂直面内にあり、
点Ｄ、Ｆは点８２ｐと垂直で点Ｂを通る垂直面内にある
ものとする。第３及び第４の斜面８２ｆ、８２ｇ内にあ
って、ピーク８２ｐを含む垂直面内にある遮光膜８６の
部分の角部を点Ｇ、Ｈとする。遮光膜８６は、点Ｃ、
Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈから光路変更部分８４の矩形状のベ
ース形状の角部を線を引くことによって求められる。

【００９３】点Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈを求めるために
は、距離ｄ、ｆを定めればよい。距離ｄはピーク８２ｐ
と各点Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆとの間の第１の表面８２ａと平行
な平面内における（上から見た）距離である。距離ｆは
ピーク８２ｐとを各点Ｇ、Ｈとの間の第１の表面８２ａ
と平行な平面内における（上から見た）距離である。距
離ｄは下記の関係（６）、（７）から求められ、距離ｆ
は下記の関係（８）、（９）から求められる。

【００９４】

【数３】

【００９５】

【数４】

【００９６】ここで、マスク８０の本体部分８２の屈折
率をｎ₁、光路変更部分８４の屈折率をｎ₂、垂直面内
における２等辺三角形の頂角をθ₁、配向膜への紫外線
の照射角度をθ₂、垂直面内における台形の底角をθ₃
とする。なお、下記式（１）、（２）が成立することも
必要である。

【００９７】

【数５】

【００９８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
紫外線照射を用いた配向処理を、基板全体に、配向不良
を発生させることなく行うことができ、従来のラビング
工程を行うことなく、簡便な配向処理を実施できる。ま
た、１回の紫外線照射により、１つの画素内に２つの配
向方向をもった領域（ドメイン）を形成することがで
き、装置のコストを安価にし、且つ製造タクトを早くす
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例による液晶表示装置を示す断面
図である。

【図２】紫外線照射装置を示す側面図である。

【図３】図２の装置で使用される紫外線のスペクトラム
分布を示す図である。

【図４】配向膜の配向処理の原理を示す図である。

【図５】図４を簡単化した図である。

【図６】図４の変形例を示す図である。

【図７】紫外線の露光量とプレチルト角との関係を示す
図である。

【図８】露光量を垂直配向性を実現するアルキル基を有
するポリマー１％当たりの値に変換した図７の関係を示
す図である。

【図９】紫外線の照射角度とプレチルト角との関係を示
す図である。

【図１０】１つの画素に２つのドメインを有する配向処
理をすることを示す図である。

【図１１】図１０の配向処理により達成された配向分割
を示す図である。

【図１２】図１０及び図１１の配向処理を行うマスクを
示す図である。

【図１３】図１０の変形例を示す図である。

【図１４】本発明の他の実施例による配向膜の配向処理
工程を示す図である。

【図１５】図１４で使用されるマスクと画素との関係を
示す図である。

【図１６】図１４のマスクの変形例を示す図である。

【図１７】図１４のマスクの変形例を示す図である。

【図１８】図１４を参照して説明した配向処理をした基
板を用いた場合の液晶表示装置における液晶分子の配向
を示す図である。

【図１９】本発明の他の実施例に関し、修正した配向処
理をした場合の液晶分子の配向を示す図である。

【図２０】図１９の液晶の配向を得るためのカラーフィ
ルタ基板の配向膜の配向処理を実施する工程を示す図で
ある。

【図２１】図１９の液晶の配向を得るためのＴＦＴ基板
の配向膜の配向処理を実施する工程を示す図である。

【図２２】図２０の配向処理の変形例を示す図である。

【図２３】図２１の配向処理の変形例を示す図である。

【図２４】本発明の他の実施例に関し、４つのドメイン
を含む配向処理を行う場合のマスクを示す平面図であ
る。

【図２５】図２４のマスクの１つの光路変更部分を示す
斜視図である。

【図２６】図２５の光路変更部分を示す平面図である。

【図２７】図２６の光路変更部分の線XXVII ─XXVII に
沿った断面図である。

【図２８】図２６の光路変更部分の線XXVIII─XXVIIIに
沿った断面図である。

【図２９】光路変更部分の変形例を示す平面図である。

【図３０】図２９の光路変更部分を示す斜視図である。

【図３１】図２５及び図２６の光路変更部分に遮光膜を
設けた例を示す斜視図である。

【図３２】図３１の光路変更部分を示す平面図及び断面
図である。

【符号の説明】

１２、１４…基板１６…液晶層１８、２２…電極２０、２４…配向膜６０…配向処理装置６２…光源６８…紫外線７０…アルキル基８０…マスク８２…本体部分８４…光路変更部分

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者間山剛宗神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番１号富士通株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】間隔をあけて対向する一対の基板と、一
方の基板に形成される配向膜と、他方の基板に形成され
る配向膜と、該一対の基板の間に挿入された液晶とを備
えた液晶表示装置の製造方法であって、該基板に垂直配向性を実現するポリマーを含む配向膜を
形成し、該配向膜の垂直配向性を実現するポリマーの含
有量１％当たり３０〜１２０ｍＪ／ｃｍ² の露光量で、
該配向膜の表面に対し４５度以下の斜め方向から該配向
膜に無偏光の紫外線を照射することを特徴とする液晶表
示装置の製造方法。
【請求項２】配向膜表面に照射する無偏光の紫外線の
露光量が４０〜９０ｍＪ／ｃｍ² の範囲であることを特
徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】配向膜表面に照射する無偏光の紫外線の
露光量が８０〜１２０ｍＪ／ｃｍ² の範囲であることを
特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】紫外線の露光量は配向膜の表面に対する
液晶のプレチルト角が８９．５度以下であるようにする
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造
方法。
【請求項５】配向膜へ照射される紫外線の波長が２８
０ｎｍ以下の成分を含むことを特徴とする請求項１に記
載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】間隔をあけて対向する一対の基板と、一
方の基板に形成される配向膜と、他方の基板に形成され
る配向膜と、該一対の基板の間に挿入された液晶とを備
えた液晶表示装置の製造方法であって、基板に配向膜を形成し、本体部分と、画素ピッチに対応
して該本体部分に設けられ、該本体部分とは異なる屈折
率を有する複数の光路変更部分とを有するマスクを用い
て該配向膜の各々の表面に斜め方向から紫外線を照射す
ることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】該光路変更部分の各々は画素ピッチの長
さを底辺とした２等辺三角形断面の鋸歯状の形状を有
し、該光路変更部分の該２等辺三角形の頂部に位置する
部分に遮光膜が形成されていることを特徴とする請求項
６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】該光路変更部分の各々は画素ピッチの長
さを底辺とした台形断面の鋸歯状の断面形状を有し、該
台形の上辺に位置する部分に遮光膜が形成されているこ
とを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置の製造方
法。
【請求項９】該本体部分の屈折率をｎ₁ 、該光路変更
部分の屈折率をｎ₂、鋸歯状の断面形状の頂角をθ₁ 、
該光路変更部分を通って配向膜に照射する紫外線の入射
角度をθ₂ とすると、θ₁ ≦６０の場合、下記式（１）
を満足し、ｎ₁ cos （３θ₁ ／２）＝ｎ₂ ｓｉｎ（θ₂ −θ₁ ／２）（１） θ₁ ＞６０の場合、下記式（２）を満足する、ｎ₁ cos （３θ₁ ／２）＝ｎ₂ ｓｉｎ（θ₁ ／２−θ₂ ）（２）ことを特徴とする請求項７又は８に記載の液晶表示装置
の製造方法。
【請求項１０】該本体部分の屈折率をｎ₁ 、該光路変
更部分の屈折率をｎ ₂ 、鋸歯状の断面形状の頂角をθ₁
の間には下記の関係がある、 cos θ₁ ＞＝ｎ₂ ／ｎ₁ （５）ことを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置の製造
方法。
【請求項１１】該マスクの本体部分は、第１の平坦な
表面と、該第１の表面の反対側の第２の表面と、該第２
の表面に設けられた複数のキャビティとを含み、各キャ
ビティは、該第１の表面から該第２の表面へ向かう方向
で見て互いに広がるように傾斜する第１及び第２の斜面
を有し、各キャビティは、該第１の斜面及び該第２の斜
面の間に中心線を有し、該光路変更部分は該キャビティ
及び該キャビティ内に含まれる物質により形成され、該第１の表面から該本体部分に入射し、該第１の斜面を
透過した紫外線が該配向膜に第１の方向から斜めに照射
され、該第２の斜面を透過した紫外線が該配向膜に該第
１の方向とは反対の第２の方向から斜めに照射されるよ
うにしたことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装
置の製造方法。
【請求項１２】間隔をあけて対向する一対の基板と、
一方の基板に形成される配向膜と、他方の基板に形成さ
れる配向膜と、一方の基板に設けられた複数のバスライ
ンと、該一対の基板の間に挿入された液晶とを備えた液
晶表示装置の製造方法であって、基板に配向膜を形成し、本体部分と、画素ピッチに対応して該本体部分に設けら
れた複数の光路変更部分とを有するマスクを準備し、該
マスクの本体部分は、第１の平坦な表面と、該第１の表
面の反対側の第２の表面と、該第２の表面に設けられた
複数のキャビティとを含み、各キャビティは、該第１の
表面に対して垂直な垂直面の両側にあって、該第１の表
面から該第２の表面へ向かう方向で見て互いに広がるよ
うに傾斜する第１及び第２の斜面を有し、該光路変更部
分は該キャビティ及び該キャビティ内に含まれる物質に
より形成され、該バスラインを有する一方の基板については、該第１の
斜面と該第２の斜面との間の垂直面が該バスライン上に
くるようにして該マスクを該基板に重ね、該基板の該配向膜の表面に該マスクを介して斜め方向か
ら紫外線を照射することを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項１３】間隔をあけて対向する一対の基板と、
一方の基板に形成される配向膜と、他方の基板に形成さ
れる配向膜と、一方の基板に設けられた複数のバスライ
ンと、該一対の基板の間に挿入された液晶とを備えた液
晶表示装置の製造方法であって、基板に配向膜を形成し、本体部分と、画素ピッチに対応して該本体部分に設けら
れた複数の光路変更部分とを有するマスクを準備し、該
マスクの本体部分は、第１の平坦な表面と、該第１の表
面の反対側の第２の表面と、該第２の表面に設けられた
複数のキャビティとを含み、各キャビティは、該第１の
表面に対して垂直な垂直面の両側にあって、該第１の表
面から該第２の表面へ向かう方向で見て互いに広がるよ
うに傾斜する第１及び第２の斜面を有し、該光路変更部
分は該キャビティ及び該キャビティ内に含まれる物質に
より形成され、該バスラインを有しない他方の基板については、該第１
の斜面の該第２の表面上の端部及び該第２の斜面の該第
２の表面上の端部が該バスラインに対応する線上にくる
ようにして該マスクを該基板に重ね、該基板の該配向膜の表面に該マスクを介して斜め方向か
ら紫外線を照射することを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項１４】該キャビティは、２等辺三角形断面の
鋸歯の形状を有し、該２等辺三角形の頂部に位置する部
分に遮光膜が形成されていることを特徴とする請求項１
２又は１３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１５】該キャビティは、台形断面の鋸歯の形
状を有し、該台形の上辺に位置する部分に遮光膜が形成
されていることを特徴とする請求項１２又は１３に記載
の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】間隔をあけて対向する一対の基板と、
一方の基板に形成される配向膜と、他方の基板に形成さ
れる配向膜と、一方の基板に設けられた複数のバスライ
ンと、該一対の基板の間に挿入された液晶とを備えた液
晶表示装置の製造方法であって、基板に配向膜を形成し、本体部分と、画素ピッチに対応して該本体部分に設けら
れた複数の光路変更部分とを有するマスクを準備し、該
マスクの本体部分は、第１の平坦な表面と、該第１の表
面の反対側の第２の表面と、該第２の表面に設けられた
複数のキャビティとを含み、各キャビティは、該第１の
表面に対して垂直で且つ互いに垂直な第１及び第２の垂
直面のうち、第１の垂直面の両側にあって、該第１の表
面から該第２の表面へ向かう方向で見て互いに広がるよ
うに傾斜する第１及び第２の斜面と、第２の垂直面の両
側にあって、該第１の表面から該第２の表面へ向かう方
向で見て互いに広がるように傾斜する第３及び第４の斜
面とを有し、該光路変更部分は該キャビティ及び該キャ
ビティ内に含まれる物質により形成され、該マスクを該基板に重ね、該基板の該配向膜の表面に該マスクを介して斜め方向か
ら紫外線を照射することを特徴とする液晶表示装置の製
造方法。
【請求項１７】該キャビティは、２等辺三角形断面の
鋸歯の形状及び台形断面の鋸歯の形状の少なくとも一方
の形状を有することを特徴とする請求項１９に記載の液
晶表示装置の製造方法。
【請求項１８】該第１及び第２の斜面は２等辺三角形
の斜面であり、第３及び第４の斜面は台形の斜面である
ことを特徴とする請求項１９に記載の液晶表示装置の製
造方法。