JP2000081514A - 光学部材、セル基板及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 セル基板に樹脂基板を用いた液晶セルが薄型
あるいは大型である場合にも、接着ミス時等に液晶セル
やそのセル基板を損傷させずに剥離できて液晶セルを再
利用でき、かつ接着した状態では安定した接着特性を示
して剥離や浮きや発泡等の欠点を生じにくい光学部材及
びセル基板の開発。 【解決手段】 樹脂基板に対する９０度剥離に基づく初
期接着力が４００ｇ／25mm以上であり、７０℃で５時間
加熱後の接着力が１０００ｇ／25mm以下の粘着層（３）
を、光学素材（２）の片面又は両面に有する光学部材、
光学素材に設けた粘着層との９０度剥離に基づく初期接
着力が４００ｇ／25mm以上で、かつ７０℃で５時間加熱
後の接着力が１０００ｇ／25mm以下である樹脂基板から
なるセル基板、及びそのセル基板を用いてなる液晶セル
の片側又は両側に、前記の光学部材がその粘着層を介し
接着されてなる液晶表示装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、接着ミス時等に液晶セル
を損傷させずに剥離でき、接着状態の耐久性に優れて液
晶表示装置の形成等に好適な粘着層付設型の光学部材及
びその樹脂系セル基板に関する。

【０００２】

【発明の背景】液晶表示装置（ＬＣＤ）に用いる光学素
材、例えば偏光板や位相差板やそれらを積層した楕円偏
光板等は、ＬＣＤのキーデバイスであり品質のバラツキ
防止やＬＣＤ組立の効率化などを目的に、アクリル系粘
着剤等からなる粘着層を予め付設した光学部材の状態で
液晶セルに接着する方法が採られている。

【０００３】前記において、光学部材を液晶セルに接着
する際に、汚染物や気泡等の異物が混入するとその部分
が視認障害となるため接着ミスとして光学部材が液晶セ
ルより剥離除去され、その液晶セルは再利用される。前
記の接着ミスは通例、光学部材接着後の後続過程におけ
る各検査工程などで発見されるものであることより、光
学部材が液晶セルより剥離されるまでにはその接着処理
より少なくとも数時間経過した後が一般的であり、場合
によっては１ヵ月以上経過することもある。

【０００４】しかしながら、従来の光学部材にあって
は、セル基板に樹脂基板を用いた液晶セルより光学部材
を剥離する際にセル基板の可撓性等に起因してセルギャ
ップが変化したり、セル基板が破損するなどの損傷を与
える問題点があった。良剥離性の付与を目的に接着力を
低下させると液晶表示装置等の実用時に湿度や熱の影響
で光学部材の剥離や浮きを生じたり、接着界面に発泡痕
が生じたりする問題を発生する。

【０００５】

【発明の技術的課題】本発明は、セル基板に樹脂基板を
用いた液晶セルが薄型あるいは大型である場合にも、接
着ミス時等に液晶セルやそのセル基板を損傷させずに剥
離できて液晶セルを再利用でき、かつ接着した状態では
安定した接着特性を示して剥離や浮きや発泡等の欠点を
生じにくい光学部材及びセル基板の開発を課題とする。

【０００６】

【課題の解決手段】本発明は、樹脂基板に対する９０度
剥離に基づく初期接着力が４００ｇ／25mm以上であり、
７０℃で５時間加熱後の接着力が１０００ｇ／25mm以下
の粘着層を、光学素材の片面又は両面に有することを特
徴とする光学部材、光学素材に設けた粘着層との９０度
剥離に基づく初期接着力が４００ｇ／25mm以上で、かつ
７０℃で５時間加熱後の接着力が１０００ｇ／25mm以下
である樹脂基板からなることを特徴とするセル基板、及
びそのセル基板を用いてなる液晶セルの片側又は両側
に、前記の光学部材がその粘着層を介し接着されてなる
ことを特徴とする液晶表示装置を提供するものである。

【０００７】

【発明の効果】本発明によれば、セル基板に樹脂基板を
用いた液晶セルが薄型ないし大型のものである場合に
も、適度な接着力を有して接着ミス時等に液晶セルやそ
の樹脂基板を損傷させずに容易に剥離できて液晶セルを
再利用でき、かつ接着状態では安定した接着特性を示し
て剥離や浮きや発泡等の欠点を生じにくい光学部材や樹
脂系のセル基板を得ることができ、高品質で耐久性に優
れる液晶表示装置を得ることができる。

【０００８】

【発明の実施形態】本発明による光学部材は、樹脂基板
に対する９０度剥離に基づく初期接着力が４００ｇ／25
mm以上であり、７０℃で５時間加熱後の接着力が１００
０ｇ／25mm以下の粘着層を、光学素材の片面又は両面に
有するものからなる。その例を図１、図２に示した。２
が光学素材、３が粘着層である。また図２において、２
１は偏光板、２２は位相差板であり、これらが粘着層３
１を介し積層されて光学素材２としての楕円偏光板を形
成している。なお１は保護フィルム、４はセパレータで
ある。

【０００９】光学素材としては、例えば偏光板や位相差
板、あるいは偏光板と位相差板を積層した楕円偏光板、
さらには反射型偏光板やそれを用いた前記楕円偏光板な
どの液晶表示装置等の形成に用いられるものが使用さ
れ、その種類について特に限定はない。なお前記の楕円
偏光板の如き積層タイプの光学素材の場合、その積層に
は本発明における粘着層やそれ以外の粘着層等の適宜な
接着手段を用いうる。

【００１０】ちなみに前記した偏光板の具体例として
は、ポリビニルアルコール系フィルムや部分ホルマール
化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビ
ニル共重合体系部分ケン化フィルムの如き親水性高分子
フィルムにヨウ素及び／又は二色性染料を吸着させて延
伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ
塩化ビニルの脱塩酸処理物の如きポリエン配向フィルム
などがあげられる。フィルムからなる偏光板の厚さは通
例５〜８０μmであるが、これに限定されない。

【００１１】なお反射型の偏光板は、視認側（表示側）
からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装
置などを形成するためのものであり、バックライト等の
光源の内蔵を省略できて液晶表示装置の薄型化をはかり
やすいなどの利点を有する。

【００１２】反射型偏光板の形成は、必要に応じ透明樹
脂層等を介して偏光板の片面に金属等からなる反射層を
付設する方式などの適宜な方式で行うことができる。前
記の偏光板、就中、偏光フィルムの片面又は両面に必要
に応じて設けられる透明樹脂層は、図例の如き保護フィ
ルム１に兼ねさせることもできる。

【００１３】反射型偏光板の具体例としては、必要に応
じマット処理した保護フィルム等の透明樹脂層の片面
に、アルミニウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を
付設して反射層を形成したものなどがあげられる。また
前記の透明樹脂層に微粒子を含有させて表面微細凹凸構
造とし、その上に微細凹凸構造の反射層を有するものな
どもあげられる。なお反射層は、その反射面が透明樹脂
層や偏光板等で被覆された状態の使用形態が、酸化によ
る反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続の
点や、保護層の別途付設の回避の点などより好ましい。

【００１４】前記した微細凹凸構造の反射層は、入射光
を乱反射により拡散させて指向性やギラギラした見栄え
を防止し、明暗のムラを抑制しうる利点などを有する。
また微粒子含有の透明樹脂層は、入射光及びその反射光
がそれを透過する際に拡散されて明暗ムラをより抑制し
うる利点なども有している。透明樹脂層の表面微細凹凸
構造を反映させた微細凹凸構造の反射層の形成は、例え
ば真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタ
リング方式等の蒸着方式やメッキ方式などの適宜な方式
で金属を透明樹脂層の表面に直接付設する方法などによ
り行うことができる。

【００１５】なお保護フィルムや透明保護層の形成に
は、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性等に優
れるポリマーなどが好ましく用いられる。その例として
は、ポリエステル系樹脂やアセテート系樹脂、ポリエー
テルサルホン系樹脂やポリカーボネート系樹脂、ポリア
ミド系樹脂やポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂
やアクリル系樹脂、あるいはアクリル系やウレタン系、
アクリルウレタン系やエポキシ系やシリコーン系等の熱
硬化型、ないし紫外線硬化型の樹脂などがあげられる。

【００１６】透明保護層は、ポリマーの塗布方式やフィ
ルムとしたものの積層方式などの適宜な方式で形成して
よく、厚さは適宜に決定してよい。一般には５００μm
以下、就中１〜３００μm、特に５〜２００μmの厚さと
される。なお表面微細凹凸構造の透明樹脂層の形成に含
有させる微粒子としては、例えば平均粒径が０．５〜２
０μmのシリカやアルミナ、チタニアやジルコニア、酸
化錫や酸化インジウム、酸化カドミウムや酸化アンチモ
ン等からなる、導電性のこともある無機系微粒子、架橋
又は未架橋のポリマー等からなる有機系微粒子などの透
明微粒子が用いられる。微粒子の使用量は、透明樹脂１
００重量部あたり２〜２５重量部、就中５〜２０重量部
が一般的である。

【００１７】一方、上記した光学素材である位相差板の
具体例としては、ポリカーボネートやポリビニルアルコ
ール、ポリスチレンやポリメチルメタクリレート、ポリ
プロピレンやその他のポリオレフィン、ポリアリレート
やポリアミドの如き適宜なポリマーからなるフィルムを
延伸処理してなる複屈折性フィルムや液晶ポリマーの配
向フィルムなどがあげられる。位相差板は、２種以上の
位相差層を積層して位相差等の光学特性を制御したもの
として形成することもできる。

【００１８】また上記した光学素材である楕円偏光板又
は反射型楕円偏光板は、偏光板又は反射型偏光板と位相
差板を適宜な組合せで積層したものである。かかる楕円
偏光板等は、（反射型）偏光板と位相差板の組合せとな
るようにそれらを液晶表示装置の製造過程で順次別個に
積層することによっても形成しうるが、前記の如く予め
楕円偏光板等としたものは、品質の安定性や積層作業性
等に優れて液晶表示装置の製造効率を向上させうる利点
がある。

【００１９】光学素材の片面又は両面に設ける粘着層
は、樹脂基板に対する９０度剥離（常温、剥離速度３０
０mm／分、以下同じ）に基づき、初期接着力が４００ｇ
／25mm以上であり、かつ７０℃で５時間加熱後の接着力
が１０００ｇ／25mm以下のものである。

【００２０】前記により、セル基板が樹脂基板からなる
液晶セルが薄型あるいは大型である場合にも、接着ミス
時等に液晶セルやその樹脂基板を損傷させずに光学部材
を容易に剥離できて液晶セルを再利用でき、かつ接着状
態では安定した接着特性を示して剥離や浮きや発泡等の
欠点を生じにくい光学部材を得ることができる。

【００２１】前記の初期接着力が４００ｇ／25mm未満で
は、接着状態での安定した接着特性に乏しくなり、実用
時に剥離や浮きや発泡等の欠点が生じやすくなる。また
前記した加熱後の接着力が１０００ｇ／25mmを超えると
剥離時に液晶セルやそのセル基板を損傷しやすくなる。

【００２２】剥離時でのセル損傷等の防止性やスムーズ
な作業性、接着状態での安定した接着特性のバランスな
どの点より好ましい粘着層は、当該初期接着力が９００
ｇ／25mm以下、就中４５０〜８００ｇ／25mm、特に５０
０〜７５０ｇ／25mmであり、かつ７０℃で５時間加熱後
の接着力が９５０ｇ／25mm以下、就中９００ｇ／25mm以
下、特に８５０ｇ／25mm以下のものである。

【００２３】粘着層の形成には、例えばアクリル系重合
体やシリコーン系ポリマー、ポリエステルやポリウレタ
ン、ポリエーテルや合成ゴムなどの適宜なポリマーをベ
ースポリマーとする粘着性物質や粘着剤を用いることが
でき、特に限定はない。就中、アクリル系粘着剤の如く
光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の
粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが
好ましく用いうる。

【００２４】また上記に加えて、吸湿による発泡現象や
剥がれ現象の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や
液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる
液晶表示装置の形成性などの点より、吸湿率が低くて耐
熱性に優れる粘着層が好ましい。

【００２５】粘着層は、例えば天然物や合成物の樹脂
類、就中、粘着性付与樹脂、ガラス繊維やガラスビー
ズ、金属粉やその他の無機粉末等からなる充填剤や顔
料、着色剤や酸化防止剤などの粘着層に添加されること
のある適宜な添加剤を含有していてもよい。また微粒子
を含有して光拡散性を示す粘着層であってもよい。

【００２６】光学素材の片面又は両面への粘着層の付設
は、適宜な方式で行いうる。その例としては、例えばト
ルエンや酢酸エチル等の適宜な溶剤の単独物又は混合物
からなる溶媒に粘着性物質ないしその組成物を溶解又は
分散させて１０〜４０重量％程度の粘着剤液を調製し、
それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で光学素
材上に直接付設する方式、あるいは前記に準じセパレー
タ上に粘着層を形成してそれを光学素材上に移着する方
式などがあげられる。

【００２７】粘着層は、異なる組成又は種類等のものの
重畳層として光学素材の片面又は両面に設けることもで
きる。また両面に設ける場合に、光学素材の表裏におい
て異なる組成又は種類等の粘着層とすることもできる。
粘着層の厚さは、使用目的等に応じて適宜に決定でき、
一般には１〜５００μmとされる。粘着層が表面に露出
する場合には、実用に供するまでの間その表面を図例の
如くセパレータ４などで被覆保護しておくことが好まし
い。

【００２８】なお上記した偏光板や位相差板、保護フィ
ルムや透明保護層、粘着層等の光学部材を形成する各層
は、例えばサリチル酸エステル系化合物やベンゾフェノ
ール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物やシアノア
クリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線
吸収剤で処理する方式などの適宜な方式により紫外線吸
収能をもたせることもできる。

【００２９】本発明による光学部材は、液晶セルなどの
適宜な装置に接着することができる。就中、セル基板に
樹脂基板、特に光学素材に設けた粘着層との９０度剥離
に基づく初期接着力が４００ｇ／25mm以上で、かつ７０
℃で５時間加熱後の接着力が１０００ｇ／25mm以下であ
る樹脂基板を用いた液晶セルに対して接着する場合に有
利に用いうる。

【００３０】前記の樹脂基板は、熱可塑性樹脂や熱硬化
性樹脂などの適宜な樹脂にて形成することができる。透
明導電膜を付設する際の耐熱性などの点より好ましく用
いうる樹脂基板は、ガラス転移温度が１３０℃以上、就
中１５０℃以上、特に１６０℃以上の樹脂からなるもの
である。

【００３１】また樹脂基板は、透明性や耐衝撃性に優れ
ることが好ましく、就中、光透過率が８０％以上である
ものが好ましい。さらに、液晶の変質の防止や液晶セル
とした場合の耐久性などの点より耐薬品性、光学的等方
性、低吸水性、低透湿性、酸素等のガスバリア性に優れ
るものが好ましい。加えて光学部材の剥離に耐える強度
などの点よりは、引張り弾性率が３×１０⁴〜５×１０⁴
kgf／cm²である樹脂基板が好ましい。

【００３２】ちなみに樹脂基板を形成する樹脂の例とし
ては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテ
ルスルホン、ポリエステル、ポリスルホン、ポリメチル
メタクリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドなど
の熱可塑性樹脂や、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステ
ル、ポリジアリルフタレート、ポリイソボニルメタクリ
レートなどの熱硬化性樹脂などがあげられる。かかる樹
脂は、１種又は２種以上を用いることができ、他成分と
の共重合体や混合物などとしても用いうる。

【００３３】上記した性能の点より特に好ましく用いう
る樹脂基板は、エポキシ系樹脂、就中、脂環式エポキシ
樹脂と酸無水物系硬化剤とリン系硬化触媒を含有するエ
ポキシ系組成物の硬化体からなるものである。その脂環
式エポキシ樹脂としては、種々のものを用いることがで
き、特に限定はない。

【００３４】酸無水物系硬化剤としては、例えば無水フ
タル酸、３．６エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル
酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、ヘキサヒドロ無水
フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒ
ドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸な
どがあげられ、就中ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラ
ヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル
酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸などの無色ないし
淡黄色の酸無水物が好ましく用いうる。酸無水物系硬化
剤の配合量は、エポキシ樹脂における１エポキシ当量あ
たり０．５〜１．３当量が好ましい。

【００３５】リン系硬化触媒としては、アルキルホスフ
ィン類、ホスフィンオキサイド類、ホスホニウム塩類な
どがあげられる。その配合量は、酸無水物系硬化剤１０
０重量部あたり、０．２〜１０重量部、就中０．５〜４
重量部が好ましい。

【００３６】樹脂基板の形成は、例えばキャスティング
成形方式、流延成形方式、射出成形方式、ロール塗工成
形方式、押出成形方式、トランスファ成形方式、反応射
出成形方式（ＲＩＭ）などの適宜な方式で行うことがで
きる。その形成に際しては、必要に応じて例えば染料、
変性剤、変色防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型
剤、反応性希釈剤、非反応性希釈剤などの適宜な添加剤
を透明性を損なわない範囲で適宜に配合することができ
る。

【００３７】樹脂基板の厚さは、薄型化や軽量性、強度
や変形防止性などの点より、１mm以下、就中０．８mm以
下、特に０．１〜０．５mmが好ましい。なお樹脂基板
は、単層物や積層物として形成されていてよく、従って
樹脂基板の前記厚さは、同種又は異種の樹脂からなる２
層又は３層以上の積層物として達成されていてもよい。

【００３８】樹脂基板には、基板の湾曲や液晶の変質等
の原因となる水分や酸素の遮蔽を目的に必要に応じてガ
スバリア層を設けることができる。ガスバリア層は通
例、耐久性や良変形性等を目的に高分子皮膜にて形成さ
れる。その高分子としては例えばポリビニルアルコール
やその部分ケン化物、エチレン・ビニルアルコール共重
合体やポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデンなど
の酸素透過係数が小さいポリマーが好ましく用いうる。
特に、ガスバリア性や水分の拡散性ないし吸水度の均一
化などの点より、ビニルアルコール系ポリマーが好まし
い。

【００３９】ガスバリア層の形成は、キャスティング方
式やスピンコート方式等の適宜な塗工方式による高分子
溶液の展開方式などにより行うことができる。ガスバリ
ア層の厚さは、透明性や着色の防止、酸素や水蒸気等の
ガスバリア性などの点より、１５μm以下、就中１〜１
０μmが好ましい。

【００４０】また樹脂基板の粘着層との接着面には、粘
着層との接着力の制御や表面の硬質化による耐擦傷性の
向上などを目的に、必要に応じてコート層を設けること
もできる。樹脂基板が上記したガスバリア層を有する場
合には、そのガスバリア層の上方にコート層は設けられ
る。コート層は、透明な硬質膜を形成する適宜な架橋性
樹脂にて形成でき、就中、多官能性単量体を光触媒等を
介して紫外線照射により三次元架橋しうるようにした、
例えばウレタンアクリレート系やエポキシ系などの紫外
線硬化樹脂が好ましく用いうる。

【００４１】コート層の形成は、キャスティング方式や
スピンコート方式やディッピング方式等の適宜な塗工方
式で樹脂液を樹脂基板ないしガスバリア層等の上に展開
して架橋処理する方法などにより行うことができる。コ
ート層の厚さは、適宜に決定でき一般には２００μm以
下、就中１００μm以下、特に１〜５０μmとされる。

【００４２】さらに樹脂基板の前記コート層の付設側と
は反対側となる透明導電膜の付設側には、その透明導電
膜の密着性の向上などを目的に必要に応じて無機酸化物
層を設けることもできる。その無機酸化物層は、透明層
を形成する公知の無機酸化物にて形成でき、就中、前記
の密着性などの点より金属アルコキシドの加水分解・重
縮合体にて形成することが好ましい。

【００４３】前記の金属アルコキシドとしては、例えば
アルコキシシラン、アルコキシアルミニウム、アルコキ
シチタン、アルコキシアンチモン、アルコキシジルコン
などの、加水分解・重縮合により透明な無機酸化物を形
成する適宜なものを用いうる。就中、反応の容易性等の
点より好ましく用いうる金属アルコキシドは、アルコキ
シシランである。

【００４４】ちなみに前記アルコキシシランの具体例と
しては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシ
シラン、テトラ-ｎ-プロポキシシラン、テトライソプロ
ポキシシラン、テトラ-ｎ-ブトキシシラン、テトラ-sec
-ブトキシシラン、テトラ-tert-ブトキシシランの如き
テトラアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン、
メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラ
ン、エチルトリエトキシシラン、ｎ-プロピルトリメト
キシシラン、ｎ-プロピルトリエトキシシラン、イソプ
ロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシ
シラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、γ-ク
ロロプロピルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロ
ポキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、イソ
プロピルトリイソプロポキシシラン、ｎ-プロピルトリ
イソプロポキシシラン、メチルトリ-ｎ-プロポキシシラ
ン、エチルトリ-ｎ-プロポキシシラン、イソプロピルト
リ-ｎ-プロポキシシラン、ｎ-プロピルトリ-ｎ-プロポ
キシシラン、γ-クロロプロピルトリイソプロポキシシ
ラン、γ-クロロプロピルトリ-ｎ-プロポキシシラン、
メチルジメトキシイソプロポキシシラン、メチルメトキ
シジイソプロポキシシラン、エチルジエトキシイソプロ
ポキシシラン、エチルエトキシジイソプロポキシシラ
ン、メチルジエトキシイソプロポキシシラン、メチルエ
トキシジイソプロポキシシランの如きモノアルキルトリ
アルコキシシランなどがあげられる。

【００４５】無機酸化物層の形成は、例えば金属アルコ
キシドと水をアルコール等の適宜な親水性溶媒に溶解さ
せた溶液を例えばキャスティング方式やスピンコート方
式やディッピング方式などの適宜な方式で樹脂基板の所
定面に展開し、それを必要に応じ加熱処理して水や溶媒
を蒸発させながら金属アルコキシドを加水分解・重縮合
させ、無機酸化物とする方法などにより行うことができ
る。形成する無機酸化物層の厚さは、使用目的等に応じ
て適宜に決定することができ、一般には５０μm以下、
就中２０μm以下、特に０．１〜５μmとされる。

【００４６】前記した展開液の調製に際しては、２種以
上の金属アルコキシドを用いることもできる。また、加
水分解・重縮合反応の促進の点よりは展開液のｐＨを２
〜５に調整することが好ましい。その調整には、硝酸、
塩酸、酢酸などの適宜な酸を用いうる。なお金属アルコ
キシドの加水分解・重縮合反応は、常温にても進行する
が、反応を速やかに行わせる点よりは８０〜２００℃で
３０〜１２０分間加熱することが好ましい。

【００４７】また無機酸化物層には、凹凸構造に基づく
アンカー効果等による透明導電膜等の密着力のより向上
などを目的として、無機酸化物粒子を分散含有させるこ
ともできる。その無機酸化物粒子としては、例えばシリ
カ、アルミナ、酸化チタン、酸化アンチモン、ジルコニ
アなどからなる、無機酸化物層中で透明性を示す適宜な
粒子を用いることができ、就中、アルミナ粒子が好まし
い。

【００４８】上記した本発明による樹脂基板からなるセ
ル基板の例を図３、図４に示した。５が樹脂基板であ
り、５１が必要に応じてのガスバリア層、５２が必要に
応じてのコート層、５３が必要に応じての無機酸化物層
である。また図４において、５４はＳｉＯ_x層、５５は
透明導電膜である。

【００４９】本発明によるセル基板は、液晶表示装置、
就中、液晶セルの形成に好ましく用いうる。特に液晶セ
ルの形成には、厚さ０．４mmの場合に基づいて分光光度
計による波長６００nmの光の透過率が６０％以上、就中
８０％以上の透明性を示すものが好ましく用いられる。

【００５０】液晶セルの形成に際してセル基板は、例え
ば位相差板や偏光板や透明導電膜等の種々の機能層との
重畳物などとして実用に供することができる。図４は、
その透明導電膜５５を重畳したものを例示したものであ
り、図例では密着力の向上等を目的としたＳｉＯ_x層５
４を介して透明導電膜５５が設けられている。

【００５１】透明導電膜の形成には、例えば酸化インジ
ウム、酸化スズ、インジウム・錫混合酸化物、金、白
金、パラジウム、透明導電塗料などの適宜なものを用い
ることができ、公知物のいずれも用いうる。また透明導
電膜の形成も、例えば真空蒸着法やスパッタリング法等
により付設する方式や透明導電塗料を塗布する方式など
の従来に準じた方式にて行うことができる。従って透明
導電膜を所定のパターン状に直接形成することも可能で
ある。

【００５２】本発明においてセル基板の湾曲防止などの
点より好ましい透明導電膜は、ＳｉＯ_x層を介してイン
ジウム・錫混合酸化物を主成分とする膜を設けたもので
ある。なおＳｉＯ_x層の形成は、前記した透明導電膜の
形成方法に準じた方法で行うことができる。

【００５３】液晶セルの形成は、例えば前記の透明導電
膜を電極パターン化したセル基板を対向配置し、その間
に液晶を封入する方法などにより行うことができる。そ
の例を図５に示した。７が液晶セルで、６がその液晶層
である。透明導電膜上に必要に応じて設けられる液晶配
列用の配向膜も同様に従来に準じた方式で行うことがで
きる。形成する液晶セルは、例えばＴＮ型、ＳＴＮ型、
ＴＦＴ型、強誘電性液晶型など任意である。なおセル基
板は、本発明による光学部材をその粘着層を介して予め
樹脂基板に接着したものとして液晶セルの形成に用いる
こともできる。

【００５４】本発明による液晶表示装置は、本発明によ
るセル基板を用いてなる液晶セルの片側又は両側に、本
発明による光学部材がその粘着層を介して接着されたも
のとして形成することができる。その例を図５に示し
た。なお図５に例示の装置は、液晶セル７の視認背面側
に反射層２３を有する偏光板２１を設けた反射型のもの
を示している。

【００５５】液晶表示装置の形成に際し、光学部材は上
記したように予めセル基板に接着されていてもよいし、
液晶セルを形成後そのセルに対して接着してもよい。そ
の接着に際しては、偏光板や位相差板等が所定の配置位
置となるように行われ、その配置位置は従来に準じるこ
とができる。

【００５６】本発明による光学部材は、その光学素材が
ポリマーフィルムからなる場合、柔軟性を有して湾曲面
や大面積面等への適用が容易であり、例えば薄膜トラン
ジスタ型に代表されるアクティブマトリクス駆動型のも
の、ＴＮ型やＳＴＮ型に代表される単純マトリクス駆動
型のものなどの適宜なタイプの液晶セルに適用して種々
の液晶表示装置を形成することができる。

【００５７】

【実施例】実施例１ アクリル酸イソオクチル１００部（重量部、以下同
じ）、６−ヒドロキシヘキシルアクリレート２部、及び
２,２'−アゾビスイソブチロニトリル０．５部を酢酸エ
チル２００部と共に四ツ口フラスコに加えて撹拌下に約
６０℃で反応させて得たポリマー溶液に、その固形分１
００部あたり０．５部のイソシアネート系架橋剤を配合
してアクリル系粘着剤を得、それをシリコーン系剥離剤
の表面コートを設けたポリエステルフィルムからなるセ
パレータに塗工し１５０℃で５分間加熱処理して厚さ２
５μmの粘着層を設けた後、それを偏光フィルムの片面
に接着して光学部材を得た。

【００５８】一方、下式で表される脂環式エポキシ樹脂
１００部とメチルヘキサヒドロ無水フタル酸１２５部と
トリ−ｎ−ブチルオクチルホスホニウムブロマイド１部
からなる混合物を型に注入し、１２０℃で２時間硬化処
理して厚さ０．４mmの樹脂基板を得た。

【００５９】次に、前記樹脂基板の片面にスピンコート
方式で、下式で表されるウレタンアクリレート系樹脂を
塗布し、紫外線を照射して架橋処理し厚さ５μmのコー
ト層を形成し、セル基板を得た。

【００６０】比較例１ アクリル酸イソオクチルと６−ヒドロキシヘキシルアク
リレートに代えて、アクリル酸ブチル１００部とアクリ
ル酸５部を用い、イソシアネート系架橋剤５部を加えた
ほかは実施例１に準じてアクリル系粘着剤を調製して光
学部材を得た。

【００６１】比較例２ 粘着層の厚さを５μmとしたほかは比較例１に準じて光
学部材を得た。

【００６２】評価試験 初期及び加熱接着力 実施例、比較例で得た幅２５mmの光学部材をその粘着層
を介して、実施例１でえた樹脂基板のコート面に２ｋｇ
のゴムローラを一往復させる方式で圧着し、５０℃、５
気圧のオートクレーブ中に１５分間放置して接着状態を
熟成した後、室温に冷却し光学部材の９０度剥離接着力
（剥離速度３００mm／分、２５℃、以下同じ）を調べ
て、それを初期接着力とした。同様に、オートクレーブ
中で接着状態を熟成した後、７０℃で５時間加熱し室温
に冷却して光学部材の９０度剥離接着力を調べ、それを
加熱接着力とした。

【００６３】剥離性 実施例、比較例で得た１２インチサイズの光学部材をそ
の粘着層を介して実施例１で得た樹脂基板のコート面に
ラミネータロールを介し接着し、６０℃、５気圧のオー
トクレーブ中に１５分間放置後、室温に冷却し、その光
学部材を作業者による手作業にて剥離し、樹脂基板の破
断の有無を調べた。

【００６４】耐久性 前記の剥離性試験に準じてオートクレーブ中に１５分間
放置して室温に冷却した後、それを６０℃、９０％R.H.
の恒温恒湿機に５００時間投入して取り出し、光学部材
の剥離や浮き、接着界面での発泡等からなる欠点の発生
の有無を調べ、下記の基準で評価した。 良好：視認に影響する欠点の発生がない場合 不良：視認に影響する欠点が発生した場合

【００６５】前記の結果を次表に示した。なお表中の樹
脂基板の破断割合における０／５、３／５の表記は、５
試験片に対する破断の発生割合を意味する。

【図面の簡単な説明】

【図１】光学部材例の断面図

【図２】他の光学部材例の断面図

【図３】セル基板例の断面図

【図４】他のセル基板例の断面図

【図５】液晶表示装置例の断面図

【符号の説明】

２：光学素材（２１：偏光板 ２２：位相差板 ２３：
反射層） ３：粘着層 ５：樹脂基板（５２：コート層 ５５：透明導電膜） ７：液晶セル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 梅原 俊志 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 須川 浩志 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 樹脂基板に対する９０度剥離に基づく初
   期接着力が４００ｇ／25mm以上であり、７０℃で５時間
   加熱後の接着力が１０００ｇ／25mm以下の粘着層を、光
   学素材の片面又は両面に有することを特徴とする光学部
   材。
2. 【請求項２】 請求項１において、光学素材が反射型若
   しくはその他の偏光板、位相差板又は楕円偏光板である
   光学部材。
3. 【請求項３】 光学素材に設けた粘着層との９０度剥離
   に基づく初期接着力が４００ｇ／25mm以上で、かつ７０
   ℃で５時間加熱後の接着力が１０００ｇ／25mm以下であ
   る樹脂基板からなることを特徴とするセル基板。
4. 【請求項４】 請求項３において、粘着層との接着面を
   ウレタンアクリレート系硬化樹脂にてコート処理した樹
   脂基板からなるセル基板。
5. 【請求項５】 請求項３又は４において、樹脂基板がエ
   ポキシ系樹脂からなるセル基板。
6. 【請求項６】 請求項３〜５において、引張り弾性率が
   ３×１０⁴〜５×１０⁴kgf／cm²であるセル基板。
7. 【請求項７】 請求項３〜６において、請求項１又は２
   に記載の光学部材とその粘着層を介し接着されてなるセ
   ル基板。
8. 【請求項８】 請求項３〜６に記載のセル基板を用いて
   なる液晶セルの片側又は両側に、請求項１又は２に記載
   の光学部材がその粘着層を介し接着されてなることを特
   徴とする液晶表示装置。