JP2000080499A - ニッケル系めっき鋼板の化学処理法 - Google Patents
ニッケル系めっき鋼板の化学処理法Info
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- JP2000080499A JP2000080499A JP10246644A JP24664498A JP2000080499A JP 2000080499 A JP2000080499 A JP 2000080499A JP 10246644 A JP10246644 A JP 10246644A JP 24664498 A JP24664498 A JP 24664498A JP 2000080499 A JP2000080499 A JP 2000080499A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ニッケル系めっき鋼板にＣｒＯ3 系浴中での
低温電解処理及び高温低電流密度電解処理により溶接
性、塗料・フィルムとの密着性、耐食性の優れたクロメ
ート被膜を形成する。 【解決手段】 ニッケル系めっき鋼板に少なくともＣｒ
Ｏ3 及びＣｒＯ3 との重量比で１／５０〜１／３００の
Ｈ2 ＳＯ4 を含む浴温４５℃未満の処理浴中で陰極電解
を行い、引き続いて少なくともＣｒＯ3 を含む浴温５０
℃以上の処理浴中で１〜２０Ａ／ｄｍ2 で陰極電解する
ことを特徴とするニッケル系めっき鋼板の化学処理法。
低温電解処理及び高温低電流密度電解処理により溶接
性、塗料・フィルムとの密着性、耐食性の優れたクロメ
ート被膜を形成する。 【解決手段】 ニッケル系めっき鋼板に少なくともＣｒ
Ｏ3 及びＣｒＯ3 との重量比で１／５０〜１／３００の
Ｈ2 ＳＯ4 を含む浴温４５℃未満の処理浴中で陰極電解
を行い、引き続いて少なくともＣｒＯ3 を含む浴温５０
℃以上の処理浴中で１〜２０Ａ／ｄｍ2 で陰極電解する
ことを特徴とするニッケル系めっき鋼板の化学処理法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ニッケル系めっき
鋼板に塗料密着性及び耐食性及び溶接性に優れた化学処
理被膜を形成させる方法に関するものである。
鋼板に塗料密着性及び耐食性及び溶接性に優れた化学処
理被膜を形成させる方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ニッケル系めっき鋼板は、缶詰、乾電池
など種々の金属容器用の材料として広く使用されている
が、缶内外に塗装を施して耐食性を確保するという使わ
れ方が増加している。この場合塗膜密着性の良否が耐食
性を左右する重要な因子となる。ニッケルめっき鋼板の
塗膜密着性を高める方法として硫酸、フッ素化合物など
を助剤として含有する無水クロム酸系処理浴中で陰極電
解することにより、金属クロム（以下、Ｍｅ−Ｃｒとい
う）と水和酸化クロム（以下、Ｏｘ−Ｃｒという）から
なる被膜を形成させる方法や以上の処理後高温洗浄する
方法（特開昭５７−３５６９７号公報、特開昭５７−３
５６９８号公報等）が知られているが、単に無水クロム
酸系浴中で陰極電解処理を行っただけでは下記のような
問題点がある。
など種々の金属容器用の材料として広く使用されている
が、缶内外に塗装を施して耐食性を確保するという使わ
れ方が増加している。この場合塗膜密着性の良否が耐食
性を左右する重要な因子となる。ニッケルめっき鋼板の
塗膜密着性を高める方法として硫酸、フッ素化合物など
を助剤として含有する無水クロム酸系処理浴中で陰極電
解することにより、金属クロム（以下、Ｍｅ−Ｃｒとい
う）と水和酸化クロム（以下、Ｏｘ−Ｃｒという）から
なる被膜を形成させる方法や以上の処理後高温洗浄する
方法（特開昭５７−３５６９７号公報、特開昭５７−３
５６９８号公報等）が知られているが、単に無水クロム
酸系浴中で陰極電解処理を行っただけでは下記のような
問題点がある。
【０００３】すなわち、塗料密着性向上を得るのに必要
なＭｅ−Ｃｒ量を生成させた場合、同時に生成するＯｘ
−Ｃｒ量が多くなり過ぎる傾向にあり、シーム溶接性を
損なうとともに、Ｏｘ−Ｃｒ生成量の不均一による外観
ムラが生じやすい。また、錫めっき鋼板においても塗料
密着性向上のために無水クロム酸系浴中での陰極電解処
理を行う処理法が使用されているがニッケルと錫では水
素過電圧が異なるため水素発生を必要条件とするＭｅ−
Ｃｒ，Ｏｘ−Ｃｒの析出においては最適処理条件も異な
ってくる。
なＭｅ−Ｃｒ量を生成させた場合、同時に生成するＯｘ
−Ｃｒ量が多くなり過ぎる傾向にあり、シーム溶接性を
損なうとともに、Ｏｘ−Ｃｒ生成量の不均一による外観
ムラが生じやすい。また、錫めっき鋼板においても塗料
密着性向上のために無水クロム酸系浴中での陰極電解処
理を行う処理法が使用されているがニッケルと錫では水
素過電圧が異なるため水素発生を必要条件とするＭｅ−
Ｃｒ，Ｏｘ−Ｃｒの析出においては最適処理条件も異な
ってくる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで、発明者らは誠
意検討した結果、請求項記載の前段無水クロム酸系浴で
の陰極電解処理浴温度を低下するほどＭｅ−Ｃｒの被覆
性は良好で、また、後段無水クロム酸系浴での陰極電解
処理温度を上昇させ、かつ、低電流密度で電解するほど
Ｏｘ−Ｃｒ皮膜の均一被覆性は向上し、またＯｘ−Ｃｒ
の皮膜中への硫酸イオンの共析量が少ないため塗料・フ
ィルム密着性に優れたＯｘ−Ｃｒ皮膜を生成でき、ライ
ンスピードが変化しても通電量を設定することにより一
定量のＯｘ−Ｃｒ量を確保できることを見いだした。
意検討した結果、請求項記載の前段無水クロム酸系浴で
の陰極電解処理浴温度を低下するほどＭｅ−Ｃｒの被覆
性は良好で、また、後段無水クロム酸系浴での陰極電解
処理温度を上昇させ、かつ、低電流密度で電解するほど
Ｏｘ−Ｃｒ皮膜の均一被覆性は向上し、またＯｘ−Ｃｒ
の皮膜中への硫酸イオンの共析量が少ないため塗料・フ
ィルム密着性に優れたＯｘ−Ｃｒ皮膜を生成でき、ライ
ンスピードが変化しても通電量を設定することにより一
定量のＯｘ−Ｃｒ量を確保できることを見いだした。
【０００５】すなわち、本発明は前段無水クロム酸系の
低温浴での陰極電解によるＭｅ−Ｃｒの被覆性向上、さ
らに後段無水クロム酸系高温浴中において陰極電解で生
成したＯｘ−Ｃｒを溶解しながら低電流密度陰極電解に
よりＯｘ−Ｃｒ量を確保するもので、これにより、半田
性、溶接性、外観均一性の向上、連続製造ラインでの生
産性向上を図り、さらに塗料密着性に対しても著しい効
果をもたらすニッケル系めっき鋼板の化学処理方法を提
供することを目的としている。
低温浴での陰極電解によるＭｅ−Ｃｒの被覆性向上、さ
らに後段無水クロム酸系高温浴中において陰極電解で生
成したＯｘ−Ｃｒを溶解しながら低電流密度陰極電解に
よりＯｘ−Ｃｒ量を確保するもので、これにより、半田
性、溶接性、外観均一性の向上、連続製造ラインでの生
産性向上を図り、さらに塗料密着性に対しても著しい効
果をもたらすニッケル系めっき鋼板の化学処理方法を提
供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は次の通り
である。 （１）ニッケル系めっき鋼板に少なくともＣｒＯ3 及び
ＣｒＯ3 との重量比で１／５０〜１／３００のＨ2 ＳＯ
4 を含む浴温４５℃未満の処理浴中で陰極電解を行い、
引き続いて少なくともＣｒＯ3 を含む浴温５０℃以上の
処理浴中で１〜２０Ａ／ｄｍ2 で陰極電解することを特
徴とするニッケル系めっき鋼板の化学処理法。 （２）陰極電解処理浴中におけるＣｒＯ3 の濃度が１０
〜２００ｇ／ｌであることを特徴とする前記（１）に記
載のニッケル系めっき鋼板の化学処理法。
である。 （１）ニッケル系めっき鋼板に少なくともＣｒＯ3 及び
ＣｒＯ3 との重量比で１／５０〜１／３００のＨ2 ＳＯ
4 を含む浴温４５℃未満の処理浴中で陰極電解を行い、
引き続いて少なくともＣｒＯ3 を含む浴温５０℃以上の
処理浴中で１〜２０Ａ／ｄｍ2 で陰極電解することを特
徴とするニッケル系めっき鋼板の化学処理法。 （２）陰極電解処理浴中におけるＣｒＯ3 の濃度が１０
〜２００ｇ／ｌであることを特徴とする前記（１）に記
載のニッケル系めっき鋼板の化学処理法。
【０００７】（３）浸漬処理浴中におけるＣｒＯ3 の濃
度が１０〜２００ｇ／ｌであることを特徴とする前記
（１）〜（２）に記載のニッケル系めっき鋼板の化学処
理法。 （４）陰極電解処理浴中におけるＣｒＯ3 の濃度が１０
〜５０ｇ／ｌであることを特徴とする前記（１）、
（３）に記載のニッケル系めっき鋼板の化学処理法。 （５）浸漬処理浴中におけるＣｒＯ3 の濃度が１０〜５
０ｇ／ｌであることを特徴とする前記（１）、（２）、
（４）に記載のニッケル系めっき鋼板の化学処理法にあ
る。
度が１０〜２００ｇ／ｌであることを特徴とする前記
（１）〜（２）に記載のニッケル系めっき鋼板の化学処
理法。 （４）陰極電解処理浴中におけるＣｒＯ3 の濃度が１０
〜５０ｇ／ｌであることを特徴とする前記（１）、
（３）に記載のニッケル系めっき鋼板の化学処理法。 （５）浸漬処理浴中におけるＣｒＯ3 の濃度が１０〜５
０ｇ／ｌであることを特徴とする前記（１）、（２）、
（４）に記載のニッケル系めっき鋼板の化学処理法にあ
る。
【０００８】以下、本発明をさらに詳細に説明する。本
発明において、ニッケル系めっき鋼板とはニッケル単体
のめっき鋼板だけでなく、Ｆｅ−Ｎｉめっき鋼板あるい
は、Ｎｉめっきを施しさらに熱拡散処理を施しためっき
鋼板等が対象となり、これらのいずれに対しても本発明
方法の適用が可能である。ニッケル系のめっきを施した
後に、請求項記載の低温無水クロム酸系浴中で陰極電解
処理及び高温無水クロム酸系浴中への浸漬処理によりＭ
ｅ−ＣｒとＯｘ−Ｃｒからなる被膜を形成させるがその
付着量はそれぞれ０．５〜２０ｍｇ／ｍ2及び０．５〜
１５ｍｇ／ｍ2 （いづれも片面当たり）が望ましい。
発明において、ニッケル系めっき鋼板とはニッケル単体
のめっき鋼板だけでなく、Ｆｅ−Ｎｉめっき鋼板あるい
は、Ｎｉめっきを施しさらに熱拡散処理を施しためっき
鋼板等が対象となり、これらのいずれに対しても本発明
方法の適用が可能である。ニッケル系のめっきを施した
後に、請求項記載の低温無水クロム酸系浴中で陰極電解
処理及び高温無水クロム酸系浴中への浸漬処理によりＭ
ｅ−ＣｒとＯｘ−Ｃｒからなる被膜を形成させるがその
付着量はそれぞれ０．５〜２０ｍｇ／ｍ2及び０．５〜
１５ｍｇ／ｍ2 （いづれも片面当たり）が望ましい。
【０００９】この発明の特に重要なポイントは、低温
クロム酸系浴中での陰極電解処理、高温クロム酸系浴
での低電流密度陰極電解処理である。前段陰極電解処理
浴温度の低下によりＭｅ−Ｃｒの均一被覆性が向上す
る。そのため処理浴の浴温は４５℃未満が必要である。
処理浴温の下限については特に設けないがあまり低すぎ
ると強力な冷却器の設置が必要となり不経済であるた
め、１０℃を下限とするのが好ましい。また、上述のよ
うな低付着量のＭｅ−Ｃｒ被膜を生成させる場合、高電
流密度での短時間処理が被膜の均一性に有効であり、２
０Ａ／ｄｍ2 以上の高電流密度処理することが望まし
い。電流密度が高くなりすぎると水素発生増大による電
析効率の低下が見られるので１５０Ａ／ｄｍ2以下で電
解するのが望ましい。
クロム酸系浴中での陰極電解処理、高温クロム酸系浴
での低電流密度陰極電解処理である。前段陰極電解処理
浴温度の低下によりＭｅ−Ｃｒの均一被覆性が向上す
る。そのため処理浴の浴温は４５℃未満が必要である。
処理浴温の下限については特に設けないがあまり低すぎ
ると強力な冷却器の設置が必要となり不経済であるた
め、１０℃を下限とするのが好ましい。また、上述のよ
うな低付着量のＭｅ−Ｃｒ被膜を生成させる場合、高電
流密度での短時間処理が被膜の均一性に有効であり、２
０Ａ／ｄｍ2 以上の高電流密度処理することが望まし
い。電流密度が高くなりすぎると水素発生増大による電
析効率の低下が見られるので１５０Ａ／ｄｍ2以下で電
解するのが望ましい。
【００１０】さらに、このような高電流密度電解で低付
着量の均一なＭｅ−Ｃｒ被膜を形成させるためには、処
理浴中に含まれるＣｒＯ3 濃度を１０ｇ／ｌ以上にする
のが望ましく、あまり高すぎると塗料・フィルム密着性
の低下が生じるため２００ｇ／ｌを上限とするのが望ま
しく、より好ましくは５０ｇ／ｌ以下が望ましい。前段
陰極電解浴への硫酸添加はＭｅ−Ｃｒの生成に不可欠で
あり、無水クロム酸に対する重量比（以下硫酸濃度比と
いう）１／３００〜１／５０とする必要がある。硫酸濃
度比は、高すぎても低すぎてもＭｅ−Ｃｒ電析効率が著
しく低下するので、硫酸濃度比の下限は１／３００、上
限は１／５０とする。なお、上記処理浴はＭｅ−Ｃｒ析
出助剤として、硫酸以外にケイフッ化ナトリウム、ホウ
フッ化ナトリウム、フッ化アンモニウムなどのフッ素化
合物を含有してもかまわない。また、処理浴中への三価
のクロム酸イオンの混入量が０．１〜５ｇ／ｌではクロ
メート被膜の均一化に効果があるので混入してもかまわ
ない。
着量の均一なＭｅ−Ｃｒ被膜を形成させるためには、処
理浴中に含まれるＣｒＯ3 濃度を１０ｇ／ｌ以上にする
のが望ましく、あまり高すぎると塗料・フィルム密着性
の低下が生じるため２００ｇ／ｌを上限とするのが望ま
しく、より好ましくは５０ｇ／ｌ以下が望ましい。前段
陰極電解浴への硫酸添加はＭｅ−Ｃｒの生成に不可欠で
あり、無水クロム酸に対する重量比（以下硫酸濃度比と
いう）１／３００〜１／５０とする必要がある。硫酸濃
度比は、高すぎても低すぎてもＭｅ−Ｃｒ電析効率が著
しく低下するので、硫酸濃度比の下限は１／３００、上
限は１／５０とする。なお、上記処理浴はＭｅ−Ｃｒ析
出助剤として、硫酸以外にケイフッ化ナトリウム、ホウ
フッ化ナトリウム、フッ化アンモニウムなどのフッ素化
合物を含有してもかまわない。また、処理浴中への三価
のクロム酸イオンの混入量が０．１〜５ｇ／ｌではクロ
メート被膜の均一化に効果があるので混入してもかまわ
ない。
【００１１】上記処理条件での前段陰極電解処理に引き
続いて、高温の無水クロム酸系浴中で低電流密度電解に
よりＯｘ−Ｃｒ量を生成させる。この際、後段の低電流
密度電解処理を行う前に後段電解処理浴中で浸漬時間を
確保してもかまわない。１Ａ／ｄｍ2 未満だとＯｘ−Ｃ
ｒが生成せず、２０Ａ／ｄｍ2 を超えるとＭｅ−Ｃｒが
優先的に生成するため、電流密度は下限が１Ａ／ｄｍ
2 、上限が２０Ａ／ｄｍ 2 となる。高い塗料・フィルム
密着性を確保するためには５０℃以上の浴温が必要であ
る。浴温の上限は特に規定しないが、あまり高温にする
と浴のヒューム回収が大がかりとなり不経済であるた
め、８０℃を上限とするのが望ましい。また、無水クロ
ム酸濃度は低すぎても高すぎてもＯｘ−Ｃｒが析出しに
くいので下限を１０ｇ／ｌ、上限を２００ｇ／ｌとする
のが望ましい。好ましくは５０ｇ／ｌ以下が望ましい。
なお、上記処理浴は無水クロム酸以外に三価のクロム酸
イオン、硫酸、ケイフッ化ナトリウム、ホウフッ化ナト
リウム、フッ化アンモニウムなどのフッ素化合物を含有
してもかまわない。
続いて、高温の無水クロム酸系浴中で低電流密度電解に
よりＯｘ−Ｃｒ量を生成させる。この際、後段の低電流
密度電解処理を行う前に後段電解処理浴中で浸漬時間を
確保してもかまわない。１Ａ／ｄｍ2 未満だとＯｘ−Ｃ
ｒが生成せず、２０Ａ／ｄｍ2 を超えるとＭｅ−Ｃｒが
優先的に生成するため、電流密度は下限が１Ａ／ｄｍ
2 、上限が２０Ａ／ｄｍ 2 となる。高い塗料・フィルム
密着性を確保するためには５０℃以上の浴温が必要であ
る。浴温の上限は特に規定しないが、あまり高温にする
と浴のヒューム回収が大がかりとなり不経済であるた
め、８０℃を上限とするのが望ましい。また、無水クロ
ム酸濃度は低すぎても高すぎてもＯｘ−Ｃｒが析出しに
くいので下限を１０ｇ／ｌ、上限を２００ｇ／ｌとする
のが望ましい。好ましくは５０ｇ／ｌ以下が望ましい。
なお、上記処理浴は無水クロム酸以外に三価のクロム酸
イオン、硫酸、ケイフッ化ナトリウム、ホウフッ化ナト
リウム、フッ化アンモニウムなどのフッ素化合物を含有
してもかまわない。
【００１２】以下、本発明の実施例について説明する。
【実施例】冷間圧延、焼鈍及び調質圧延を施した鋼板
に、脱脂・酸洗したのち片面当たり６００ｇ／ｍ2 のニ
ッケルめっきを施した素材α、および脱脂・酸洗したの
ちＮｉとして３００ｍｇ／ｍ2 のＦｅ−Ｎｉめっきを行
った素材βに種々の条件で化学処理を施し、外観均一
性、シーム溶接性、塗膜密着性、耐食性への影響を調べ
た。
に、脱脂・酸洗したのち片面当たり６００ｇ／ｍ2 のニ
ッケルめっきを施した素材α、および脱脂・酸洗したの
ちＮｉとして３００ｍｇ／ｍ2 のＦｅ−Ｎｉめっきを行
った素材βに種々の条件で化学処理を施し、外観均一
性、シーム溶接性、塗膜密着性、耐食性への影響を調べ
た。
【００１３】各処理材について、以下に示す（Ａ）〜
（Ｄ）の各項目について実施し、その性能を評価した。 （Ａ）外観均一性 目視により下記の通り評価した。 〇：色調ムラ無し ×：色調ムラ有り
（Ｄ）の各項目について実施し、その性能を評価した。 （Ａ）外観均一性 目視により下記の通り評価した。 〇：色調ムラ無し ×：色調ムラ有り
【００１４】（Ｂ）シーム溶接性 ラップ代０．５ｍｍ、加圧力４５ｋｇｆ、溶接ワイヤー
スピード１００ｍ／ｍｉｎの条件で、電流を変更して溶
接を実施し十分な溶接強度が得られる最小電流値とチリ
などの溶接欠陥が目立ち始める最大電流値からなる適正
電流範囲の広さから総合的に判断し、３段階（◎：非常
に広い、〇：実用上問題なし、×：狭い）で評価した。
スピード１００ｍ／ｍｉｎの条件で、電流を変更して溶
接を実施し十分な溶接強度が得られる最小電流値とチリ
などの溶接欠陥が目立ち始める最大電流値からなる適正
電流範囲の広さから総合的に判断し、３段階（◎：非常
に広い、〇：実用上問題なし、×：狭い）で評価した。
【００１５】（Ｃ）塗料密着性 試験片の缶内面側に相当する面にエポキシフェノール系
の塗料を５５ｍｇ／ｄｍ2 塗布し、さらに缶外面に相当
する面にクリヤーラッカーを４０ｍｇ／ｄｍ2塗布し、
２９０℃まで１５ｓｅｃの焼き付け条件で乾燥硬化し
た。引き続き、各々の面に１ｍｍ間隔でスクラッチを入
れ、１００個の碁盤目を作製し、速やかにテープ剥離
し、その剥離状況を観察し、３段階（◎：剥離無し、
〇：１〜４個剥離、×：５個以上剥離）で塗料密着性を
評価した。
の塗料を５５ｍｇ／ｄｍ2 塗布し、さらに缶外面に相当
する面にクリヤーラッカーを４０ｍｇ／ｄｍ2塗布し、
２９０℃まで１５ｓｅｃの焼き付け条件で乾燥硬化し
た。引き続き、各々の面に１ｍｍ間隔でスクラッチを入
れ、１００個の碁盤目を作製し、速やかにテープ剥離
し、その剥離状況を観察し、３段階（◎：剥離無し、
〇：１〜４個剥離、×：５個以上剥離）で塗料密着性を
評価した。
【００１６】（Ｄ）ＵＣＣ（アンダーカッティングコロ
ージョン）評価テスト 試験片の缶内面に相当する面の耐食性を評価するため、
缶内面側に相当する面に厚さ１５μｍのＰＥＴ（ポリエ
チレンテレフタレート）系フィルムをラミネートした。
その後地鉄に達するまでクロスカットを入れ、１．５％
クエン酸−１．５％食塩混合液からなる試験液中に大気
開放下５５℃×４日間浸漬した。試験終了後、速やかに
スクラッチ部および平面部をテープで剥離して、スクラ
ッチ部近傍の腐食状況、スクラッチ部のピッティング状
況および平面部のフィルム剥離状況を３段階（◎：剥離
が無く腐食も認められない、〇：僅かな剥離があるが腐
食は認められない、×：大部分で剥離し激しい腐食が認
められる）で総合的に評価した。表１に示すように、本
発明により化学処理されたニッケル系めっき鋼板は、優
れたシーム溶接性、塗料密着性および耐食性を有するこ
とが明らかになった。
ージョン）評価テスト 試験片の缶内面に相当する面の耐食性を評価するため、
缶内面側に相当する面に厚さ１５μｍのＰＥＴ（ポリエ
チレンテレフタレート）系フィルムをラミネートした。
その後地鉄に達するまでクロスカットを入れ、１．５％
クエン酸−１．５％食塩混合液からなる試験液中に大気
開放下５５℃×４日間浸漬した。試験終了後、速やかに
スクラッチ部および平面部をテープで剥離して、スクラ
ッチ部近傍の腐食状況、スクラッチ部のピッティング状
況および平面部のフィルム剥離状況を３段階（◎：剥離
が無く腐食も認められない、〇：僅かな剥離があるが腐
食は認められない、×：大部分で剥離し激しい腐食が認
められる）で総合的に評価した。表１に示すように、本
発明により化学処理されたニッケル系めっき鋼板は、優
れたシーム溶接性、塗料密着性および耐食性を有するこ
とが明らかになった。
【００１７】
【表１】
【００１８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明により化学処
理されたニッケル系めっき鋼板は、極めて優れたシーム
溶接性、塗料密着性および耐食性を有するものである。
理されたニッケル系めっき鋼板は、極めて優れたシーム
溶接性、塗料密着性および耐食性を有するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長谷川 和成 福岡県北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新 日本製鐵株式会社八幡製鐵所内 (72)発明者 横矢 博一 福岡県北九州市戸畑区飛幡町１番１号 新 日本製鐵株式会社八幡製鐵所内 Ｆターム(参考） 4K024 AA02 AB01 AB02 BA03 BB21 CA01 CA04 CA06 GA04 GA12 GA14
Claims (5)
- 【請求項１】 ニッケル系めっき鋼板に少なくともＣｒ
Ｏ3 及びＣｒＯ3 との重量比で１／５０〜１／３００の
Ｈ2 ＳＯ4 を含む浴温４５℃未満の処理浴中で陰極電解
を行い、引き続いて少なくともＣｒＯ3 を含む浴温５０
℃以上の処理浴中で１〜２０Ａ／ｄｍ2 で陰極電解する
ことを特徴とするニッケル系めっき鋼板の化学処理法。 - 【請求項２】 陰極電解処理浴中におけるＣｒＯ3 の濃
度が１０〜２００ｇ／ｌであることを特徴とする請求項
１に記載のニッケル系めっき鋼板の化学処理法。 - 【請求項３】 浸漬処理浴中におけるＣｒＯ3 の濃度が
１０〜２００ｇ／ｌであることを特徴とする請求項１〜
２に記載のニッケル系めっき鋼板の化学処理法。 - 【請求項４】 陰極電解処理浴中におけるＣｒＯ3 の濃
度が１０〜５０ｇ／ｌであることを特徴とする請求項
１、３に記載のニッケル系めっき鋼板の化学処理法。 - 【請求項５】 浸漬処理浴中におけるＣｒＯ3 の濃度が
１０〜５０ｇ／ｌであることを特徴とする請求項１、
２、４に記載のニッケル系めっき鋼板の化学処理法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24664498A JP3670857B2 (ja) | 1998-09-01 | 1998-09-01 | ニッケル系めっき鋼板の化学処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24664498A JP3670857B2 (ja) | 1998-09-01 | 1998-09-01 | ニッケル系めっき鋼板の化学処理法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000080499A true JP2000080499A (ja) | 2000-03-21 |
| JP3670857B2 JP3670857B2 (ja) | 2005-07-13 |
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ID=17151487
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24664498A Expired - Fee Related JP3670857B2 (ja) | 1998-09-01 | 1998-09-01 | ニッケル系めっき鋼板の化学処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3670857B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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1998
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