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JP2000080051A - 1,1,9,9―テトラブロモ―[2,2]―パラシクロファンの製造方法 - Google Patents

1,1,9,9―テトラブロモ―[2,2]―パラシクロファンの製造方法

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Publication number
JP2000080051A
JP2000080051A JP11163471A JP16347199A JP2000080051A JP 2000080051 A JP2000080051 A JP 2000080051A JP 11163471 A JP11163471 A JP 11163471A JP 16347199 A JP16347199 A JP 16347199A JP 2000080051 A JP2000080051 A JP 2000080051A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
paracyclophane
bromine
tetrachloroethylene
reaction
tetrabromo
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11163471A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Maruyama
宏 丸山
Takashi Inoue
崇 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daisan Kasei Co Ltd
Original Assignee
Daisan Kasei Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daisan Kasei Co Ltd filed Critical Daisan Kasei Co Ltd
Priority to JP11163471A priority Critical patent/JP2000080051A/ja
Publication of JP2000080051A publication Critical patent/JP2000080051A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】工業的に利用することが困難な四塩化炭素を溶
媒として用いることなく、短時間で効率よく1,1,
9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファン
を製造する方法を提供する。 【解決手段】テトラクロロエチレンを反応溶媒として、
ラジカル発生剤の存在下に、[2,2]−パラシクロフ
ァンを臭素で臭素化することにより1,1,9,9−テ
トラブロモ−[2,2]−パラシクロファンを製造す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は化学蒸着によりコー
ティング膜を形成するために使用される下記構造式(II
I)
【0002】
【化3】
【0003】で表される1,1,9,9−テトラフルオ
ロ−[2,2]−パラシクロファンを製造するための中
間体である1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]
−パラシクロファンの製造方法に関する。
【0004】
【従来の技術】1,1,9,9−テトラフルオロ−
[2,2]−パラシクロファンは、化学蒸着法によって
以下の反応により、基板上にポリ−α,α−ジフルオロ
パラキシリレン被膜を形成する。
【0005】
【化4】
【0006】この被膜は、従来宇宙航空機器や電子部品
のコーティングに広く用いられている下記構造式(IV)
【0007】
【化5】
【0008】で表されるポリパラキシリレンフイルムに
比較して、空気中においてはるかに優れた耐熱性を有す
る。(特開平9−25252号公報) この1,1,9,9−テトラフルオロ−[2,2]−パ
ラシクロファンの製造方法としては、次のような合成方
法が検討された。
【0009】
【化6】
【0010】
【化7】
【0011】しかし、パラシクロファン環やフッ素原子
の反応特異性により、上記(A)の合成ルートしか1,
1,9,9−テトラフルオロ−[2,2]−パラシクロ
ファンは得られていない。このルートにおける中間体で
ある1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラ
シクロファン(構造式II)は、四塩化炭素溶媒中で過酸
化物の存在及び紫外線照射下に、[2,2]−パラシク
ロファン(構造式I)にN−ブロモコハク酸イミド(N
BS)を反応させることにより得られる。[2,2]−
パラシクロファンのNBSによる臭素化反応は四塩化炭
素溶媒以外では好ましい結果は得られていない。例えば
ベンゼン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、
1,1,2−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、
テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、o−ジクロロ
ベンゼン、p−ジクロロベンゼン、ジブロモメタン、テ
トラブロモメタン、1,4−ビス(トリフルオロメチ
ル)ベンゼン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメ
チルホルムアミド、スルホランを四塩化炭素に代えて使
用し、同一反応条件で反応させても望む結果は得られな
い。また、N,N−ジメチルホルムアミドやスルホラン
のような極性溶媒中では核置換反応が優先し、無極性溶
媒であるテトラクロロエチレン中長時間の反応ではNB
Sの変質が起こり反応物質が黒変する。臭素化剤として
1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントインを用
いた場合も同じである。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】四塩化炭素溶媒中、
[2,2]−パラシクロファンにNBSを作用させるこ
とで1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラ
シクロファンは得られるが、この場合には次のような問
題点がある。 (1)四塩化炭素は、オゾン層破壊物質として生産が中
止されたものであり、工業的に使用することができな
い。 (2)過酸化物の存在及び紫外線照射のもとで50時間
という長時間の反応時間を要するため、生産効率及び経
済性の点できわめて不利である。
【0013】したがって本発明は、工業的に利用するこ
とが困難な四塩化炭素を溶媒として用いることなく、短
時間で効率よく1,1,9,9−テトラブロモ−[2,
2]−パラシクロファンを製造する方法を提供すること
を目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明者は種々検討の結
果、テトラクロロエチレンを反応溶媒として、ラジカル
発生剤の存在下に、[2,2]−パラシクロファンを臭
素で臭素化することにより効率よく、1,1,9,9−
テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファンを得るこ
とができることを見出し、本発明を完成したものであ
る。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明は、テトラクロロエチレンを溶媒としてラ
ジカル発生剤の存在下に、臭素で[2,2]−パラシク
ロファンを臭素化する。溶媒としてのテトラクロロエチ
レンの使用量は、出発原料である[2,2]−パラシク
ロファン及び生成物である1,1,9,9−テトラブロ
モ−[2,2]−パラシクロファンのテトラクロロエチ
レンへの溶解度を考慮して、重量比で[2,2]−パラ
シクロファンの15〜20倍程度使用することが好まし
い。
【0016】本発明で使用するラジカル発生剤としては
特に制限はなく、2,2’−アゾビスイソブチロニトリ
ルのようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイドのよ
うな過酸化物等一般的に使用されているものはいずれも
使用することができる。好適なラジカル発生剤として
は、例えば日本油脂(株)から商品名「ナイパーFF」
として販売されているベンゾイルパーオキサイドが挙げ
られる。「ナイパーFF」は取扱上の安全性を高めるた
めベンゾイルパーオキサイドを特殊希釈剤で希釈し50
%品としたものであり、溶剤に対する溶解性や安全性の
点で好適に使用される。これらのラジカル発生剤は、
[2,2]−パラシクロファンのテトラクロロエチレン
溶液を所定の温度に加熱、撹拌下に臭素と共に反応系に
加える必要がある。加え方は特に指定するものではない
が、一般的にはテトラクロロエチレンに溶解し、臭素と
共に逐次添加(通常は滴下)する。滴下は臭素滴下の全
過程に亘ってもよいが、臭素滴下の初期の一部の過程で
よい。ラジカル発生剤は最初から反応系に加えておくこ
とはできない。ラジカル発生剤を最初から反応系に加え
た場合には、昇温時急激な分解がおこり危険であり、か
つ、発生したラジカルが反応に有効に作用しない。ラジ
カル発生剤の使用量は、ラジカル発生剤の種類に応じて
当然に変わってくるが、「ナイパーFF」の場合にはベ
ンゾイルパーオキサイド換算で2%([2,2]−パラ
シクロファンに対しての重量%)程度でよい。それより
増加しても反応の妨げになることはないが、少なすぎる
と反応が完結せず収量が低下するとともにテトラクロロ
エチレンへの臭素の付加物が多く生成する。
【0017】本発明では臭素化剤としては、臭素を使用
する。臭素は反応の過程で、ラジカル発生剤と共に逐次
添加(通常は滴下)することが好ましい。臭素はそのま
ま滴下することができ、またテトラクロロエチレンで希
釈して滴下してもよい。しかし、テトラクロロエチレン
と臭素を混合すると、テトラクロロエチレンへの臭素の
付加物である1,2−ジブロモテトラクロロエタンが生
成するので、反応量が多い場合には、希釈せずに滴下す
ることが好ましい。臭素の使用量は、一部溶媒への付加
も考慮して[2,2]−パラシクロファン1モルに対
し、約4.8モル〜6.5モル使用することが好まし
い。臭素の使用量が少なすぎると不完全臭素化によるジ
ブロモ体やトリブロモ体が生成し収率の低下をもたら
す。逆に臭素の使用量が過剰の場合には、テトラクロロ
エチレンの臭素付加体が増加するが、その他の副生成物
はあまり増加しない。本発明では、ラジカル発生剤と臭
素とを同一溶液として滴下することもできるが、工業的
には安全性の見地から別々に滴下することが望ましい。
【0018】本発明における反応温度は、110℃から
環流温度(望ましくは環流温度)とすることが好まし
い。それ以下の温度では目的の反応が進行せず、目的と
する化合物を得ることができない。反応では、所定反応
温度でラジカル発生剤及び臭素化剤を滴下終了後、しば
らく攪拌、反応すると溶液の臭素色がほとんど消失す
る。反応時間は反応量等条件により当然に相違するが、
以下に示す実施例のスケールでは2時間程度で、四塩化
炭素を溶媒として使用した場合の反応時間の1/25程
度である。臭素色がほとんど消失したときを反応の終了
とする。反応終了後、冷却しつつ減圧、あるいは窒素を
吹き込むことで反応液中の臭化水素や臭素をできるだけ
除去する。さらに反応液を冷却し、析出する沈殿を濾取
しエーテル、次に塩化メチレンで洗浄する。塩化メチレ
ンでの洗浄で1,1,10,10−テトラブロモ−
[2,2]−パラシクロファン等の副生成物は除去され
る。洗浄後、常法により乾燥し、分解温度222〜22
7℃の範囲のものを製品とする。1,1,10,10−
テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファンの混入等
は目的化合物の分解温度の低下をもたらすが、これらの
不純物が混入したまま次工程のケトン化反応に移り、そ
の段階で不要物を除去することも可能である。
【0019】
【実施例】つぎに、実施例により本発明をさらに説明す
るが、これらの実施例は本発明を限定するものではな
い。 (実施例1)テトラクロロエチレン200gに[2,
2]−パラシクロファン12.0gを加え攪拌下、加
熱、環流した。攪拌、環流下に臭素(49.0g)、ナ
イパーFF(3.0g)及びテトラクロロエチレン(5
0g)からなる溶液を2時間で滴下した。滴下終了後更
に15分間攪拌、環流した後に、冷却しつつ吸引により
可及的に臭化水素や臭素を除去し、更に10℃まで冷却
した。析出した沈殿を濾取し、200mlのエーテルで
洗浄した。この沈殿を乾燥後、340gの塩化メチレン
溶媒に懸濁し、この溶液を環流まで加熱した後に、10
℃まで冷却し沈殿物を濾取し乾燥した。得られた1,
1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラシクロフ
ァンの収量は7.7g、収率は25.3%で、分解温度
は224〜227℃であった。
【0020】(実施例2)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え攪
拌下、加熱、環流した。攪拌、環流下に臭素(50.5
g)と、ナイパーFF(3.0g)のテトラクロロエチ
レン(50g)溶液を、両者の滴下量のバランスを保ち
ながら1時間30分で滴下した。滴下終了後、更に15
分間攪拌、環流した後に、実施例1と同様に処理した。
得られた1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−
パラシクロファンの収量は7.4g、収率は24.4%
で、分解温度は224〜227℃であった。
【0021】(実施例3)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え、
攪拌下、加熱、環流した。攪拌、環流下に臭素(53.
5g)のテトラクロロエチレン(42g)溶液と、アゾ
ビスイソブチロニトリル(1.5g)のテトラクロロエ
チレン(80g)溶液(一部不溶)を、両者の滴下量の
バランスを保ちながら1時間22分で滴下した。滴下終
了後、更に15分間攪拌、環流した後に、実施例1と同
様に処理した。得られた1,1,9,9−テトラブロモ
−[2,2]−パラシクロファンの収量は6.8g、収
率は22.5%で、分解温度は224〜227℃であっ
た。
【0022】(実施例4)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え、
攪拌下、110℃まで加熱した。攪拌、110℃保持下
に、臭素(53.5g)、ナイパーFF(3.0g)及
びテトラクロロエチレン(47.0g)からなる溶液を
3時間20分で滴下した。滴下終了後、更に20分間反
応を続けた後に、実施例1と同様に処理した。得られた
1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラシク
ロファンの収量は6.5g、収率は21.4%で、分解
温度は222〜224℃であった。
【0023】(実施例5)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え、
攪拌、加熱、環流した。攪拌、環流下に臭素(58.5
g)と、ナイパーFF(0.4g)のテトラクロロエチ
レン(20g)溶液を滴下した。両者同時に滴下を開始
し、ナイパーFF溶液は50分で、臭素は2時間10分
で滴下を終了した。滴下終了後、30分間反応を続けた
後、実施例1と同様に処理した。得られた1,1,9,
9−テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファンの収
量は7.1gで、収率は23.5%、分解温度は222
〜225℃であった。
【0024】(参考例1)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0g及びナイ
パーFF(3.0g)を加え攪拌下、加熱、環流した。
攪拌、環流下に臭素(53.4g)及びテトラクロロエ
チレン(52g)からなる溶液を3時間25分で滴下し
た。滴下終了後、更に1時間攪拌、環流した後に、実施
例1と同様な処理を試みたが、テトラクロロエチレン溶
液の冷却の段階で沈殿物は生成しなかった。
【0025】(参考例2)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0g及びナイ
パーFF(3.0g)を加え攪拌下、110℃まで加熱
した。攪拌、110℃保持下に臭素(52.9g)及び
テトラクロロエチレン(49g)からなる溶液を2時間
で滴下した。滴下終了後、更に1時間反応を続けた後
に、実施例1と同様な処理を試みたが沈殿は生成しなか
った。
【0026】(参考例3)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え、
攪拌下100℃まで加熱した。攪拌、100℃保持下に
臭素(52.9g)、ナイパーFF(3.0g)及びテ
トラクロロエチレン(54g)からなる溶液を6時間3
0分で滴下した後に、実施例1と同様に処理した。1g
の生成物を得たが、分解温度が240〜244℃と高く
赤外吸収スペクトルも目的物と相違した。
【0027】(参考例4)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え攪
拌下、100℃まで加熱した。ナイパーFF(3.0
g)を加えたところ液温が105℃まで上昇した。この
時点で臭素(50.0g)及びテトラクロロエチレン
(52g)からなる溶液を滴下しはじめた。反応温度は
100℃を保持し、臭素溶液を4時間で滴下した。滴下
終了後、更に1時間反応を続けた後に、実施例1と同様
の処理を試みたが沈殿物は得られなかった。
【0028】(参考例5)1,1,2−トリクロロエタ
ン(沸点114℃)200gに[2,2]−パラシクロ
ファン12.0gを加え攪拌下、加熱環流した。攪拌、
環流下に臭素(52.7g)、ナイパーFF(3.0
g)及び1,1,2−トリクロロエタン(54g)から
なる溶液を2時間15分で滴下した。滴下終了後、更に
30分間攪拌、環流を続けた後に、実施例1と同様の処
理を試みたが、1,1,2−トリクロロエタン溶液の冷
却の段階で沈殿物は生成しなかった。
【0029】(参考例6)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え撹
拌、加熱、環流した。撹拌、環流下に臭素(54.0
g)と、ナイパーFF(0.1g)のテトラクロロエチ
レン(20g)溶液を滴下した。両者同時に滴下を開始
し、ナイパーFF溶液は45分で、臭素は2時間20分
で滴下を終了した。滴下終了後、30分間反応を続けた
後、実施例1と同様に処理したが、目的物は得られなっ
かた。
【0030】(参考例7)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え撹
拌、加熱、環流した。撹拌、環流下に、ナイパーFF
(0.4g)のテトラクロロエチレン(20g)溶液を
15分間で滴下した。終了後、直ちに臭素(57g)の
滴下を開始し、2時間15分で滴下を終了した。滴下終
了後、30分間反応を続けた後、実施例1と同様に処理
した。得られた目的物は0.1g以下であった。
【0031】
【発明の効果】本発明によれば、オゾン層破壊物質とし
て生産が中止された四塩化炭素を使用せずに、1,1,
9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファン
を効率よく短時間で製造することができる。また、N−
ブロモコハク酸イミドのような高価な臭素化剤を使用す
る必要がないので製造コストを大幅に下げることがで
き、きわめて実用的価値が高いものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記構造式(I) 【化1】 で表される[2,2]−パラシクロファンをテトラクロ
    ロエチレンを反応溶剤として、ラジカル発生剤の存在下
    に臭素により臭素化することを特徴とする、下記構造式
    (II) 【化2】 で表される1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]
    −パラシクロファンの製造方法。
  2. 【請求項2】 ラジカル発生剤及び臭素を逐次添加する
    ことを特徴とする請求項1に記載の1,1,9,9−テ
    トラブロモ−[2,2]−パラシクロファンの製造方
    法。
  3. 【請求項3】 反応温度が110℃から環流温度である
    ことを特徴とする請求項1又は2に記載の1,1,9,
    9−テトラブロモ−[2,22]−パラシクロファンの
    製造方法。
JP11163471A 1998-07-10 1999-06-10 1,1,9,9―テトラブロモ―[2,2]―パラシクロファンの製造方法 Pending JP2000080051A (ja)

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JP10-210270 1998-07-10
JP21027098 1998-07-10
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007083522A1 (ja) 2006-01-18 2007-07-26 Next21 K. K. 医療用ゲル形成組成物,その組成物の投与デバイス及び薬剤放出制御担体

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WO2007083522A1 (ja) 2006-01-18 2007-07-26 Next21 K. K. 医療用ゲル形成組成物,その組成物の投与デバイス及び薬剤放出制御担体

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