JP2000080051A - 1,1,9,9―テトラブロモ―[2,2]―パラシクロファンの製造方法 - Google Patents
1,1,9,9―テトラブロモ―[2,2]―パラシクロファンの製造方法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】工業的に利用することが困難な四塩化炭素を溶
媒として用いることなく、短時間で効率よく1,1,
9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファン
を製造する方法を提供する。 【解決手段】テトラクロロエチレンを反応溶媒として、
ラジカル発生剤の存在下に、[2,2]−パラシクロフ
ァンを臭素で臭素化することにより1,1,9,9−テ
トラブロモ−[2,2]−パラシクロファンを製造す
る。
媒として用いることなく、短時間で効率よく1,1,
9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファン
を製造する方法を提供する。 【解決手段】テトラクロロエチレンを反応溶媒として、
ラジカル発生剤の存在下に、[2,2]−パラシクロフ
ァンを臭素で臭素化することにより1,1,9,9−テ
トラブロモ−[2,2]−パラシクロファンを製造す
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は化学蒸着によりコー
ティング膜を形成するために使用される下記構造式(II
I)
ティング膜を形成するために使用される下記構造式(II
I)
【0002】
【化3】
【0003】で表される1,1,9,9−テトラフルオ
ロ−[2,2]−パラシクロファンを製造するための中
間体である1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]
−パラシクロファンの製造方法に関する。
ロ−[2,2]−パラシクロファンを製造するための中
間体である1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]
−パラシクロファンの製造方法に関する。
【0004】
【従来の技術】1,1,9,9−テトラフルオロ−
[2,2]−パラシクロファンは、化学蒸着法によって
以下の反応により、基板上にポリ−α,α−ジフルオロ
パラキシリレン被膜を形成する。
[2,2]−パラシクロファンは、化学蒸着法によって
以下の反応により、基板上にポリ−α,α−ジフルオロ
パラキシリレン被膜を形成する。
【0005】
【化4】
【0006】この被膜は、従来宇宙航空機器や電子部品
のコーティングに広く用いられている下記構造式(IV)
のコーティングに広く用いられている下記構造式(IV)
【0007】
【化5】
【0008】で表されるポリパラキシリレンフイルムに
比較して、空気中においてはるかに優れた耐熱性を有す
る。(特開平9−25252号公報) この1,1,9,9−テトラフルオロ−[2,2]−パ
ラシクロファンの製造方法としては、次のような合成方
法が検討された。
比較して、空気中においてはるかに優れた耐熱性を有す
る。(特開平9−25252号公報) この1,1,9,9−テトラフルオロ−[2,2]−パ
ラシクロファンの製造方法としては、次のような合成方
法が検討された。
【0009】
【化6】
【0010】
【化7】
【0011】しかし、パラシクロファン環やフッ素原子
の反応特異性により、上記(A)の合成ルートしか1,
1,9,9−テトラフルオロ−[2,2]−パラシクロ
ファンは得られていない。このルートにおける中間体で
ある1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラ
シクロファン(構造式II)は、四塩化炭素溶媒中で過酸
化物の存在及び紫外線照射下に、[2,2]−パラシク
ロファン(構造式I)にN−ブロモコハク酸イミド(N
BS)を反応させることにより得られる。[2,2]−
パラシクロファンのNBSによる臭素化反応は四塩化炭
素溶媒以外では好ましい結果は得られていない。例えば
ベンゼン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、
1,1,2−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、
テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、o−ジクロロ
ベンゼン、p−ジクロロベンゼン、ジブロモメタン、テ
トラブロモメタン、1,4−ビス(トリフルオロメチ
ル)ベンゼン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメ
チルホルムアミド、スルホランを四塩化炭素に代えて使
用し、同一反応条件で反応させても望む結果は得られな
い。また、N,N−ジメチルホルムアミドやスルホラン
のような極性溶媒中では核置換反応が優先し、無極性溶
媒であるテトラクロロエチレン中長時間の反応ではNB
Sの変質が起こり反応物質が黒変する。臭素化剤として
1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントインを用
いた場合も同じである。
の反応特異性により、上記(A)の合成ルートしか1,
1,9,9−テトラフルオロ−[2,2]−パラシクロ
ファンは得られていない。このルートにおける中間体で
ある1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラ
シクロファン(構造式II)は、四塩化炭素溶媒中で過酸
化物の存在及び紫外線照射下に、[2,2]−パラシク
ロファン(構造式I)にN−ブロモコハク酸イミド(N
BS)を反応させることにより得られる。[2,2]−
パラシクロファンのNBSによる臭素化反応は四塩化炭
素溶媒以外では好ましい結果は得られていない。例えば
ベンゼン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、
1,1,2−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、
テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、o−ジクロロ
ベンゼン、p−ジクロロベンゼン、ジブロモメタン、テ
トラブロモメタン、1,4−ビス(トリフルオロメチ
ル)ベンゼン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメ
チルホルムアミド、スルホランを四塩化炭素に代えて使
用し、同一反応条件で反応させても望む結果は得られな
い。また、N,N−ジメチルホルムアミドやスルホラン
のような極性溶媒中では核置換反応が優先し、無極性溶
媒であるテトラクロロエチレン中長時間の反応ではNB
Sの変質が起こり反応物質が黒変する。臭素化剤として
1,3−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントインを用
いた場合も同じである。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】四塩化炭素溶媒中、
[2,2]−パラシクロファンにNBSを作用させるこ
とで1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラ
シクロファンは得られるが、この場合には次のような問
題点がある。 (1)四塩化炭素は、オゾン層破壊物質として生産が中
止されたものであり、工業的に使用することができな
い。 (2)過酸化物の存在及び紫外線照射のもとで50時間
という長時間の反応時間を要するため、生産効率及び経
済性の点できわめて不利である。
[2,2]−パラシクロファンにNBSを作用させるこ
とで1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラ
シクロファンは得られるが、この場合には次のような問
題点がある。 (1)四塩化炭素は、オゾン層破壊物質として生産が中
止されたものであり、工業的に使用することができな
い。 (2)過酸化物の存在及び紫外線照射のもとで50時間
という長時間の反応時間を要するため、生産効率及び経
済性の点できわめて不利である。
【0013】したがって本発明は、工業的に利用するこ
とが困難な四塩化炭素を溶媒として用いることなく、短
時間で効率よく1,1,9,9−テトラブロモ−[2,
2]−パラシクロファンを製造する方法を提供すること
を目的とする。
とが困難な四塩化炭素を溶媒として用いることなく、短
時間で効率よく1,1,9,9−テトラブロモ−[2,
2]−パラシクロファンを製造する方法を提供すること
を目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明者は種々検討の結
果、テトラクロロエチレンを反応溶媒として、ラジカル
発生剤の存在下に、[2,2]−パラシクロファンを臭
素で臭素化することにより効率よく、1,1,9,9−
テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファンを得るこ
とができることを見出し、本発明を完成したものであ
る。
果、テトラクロロエチレンを反応溶媒として、ラジカル
発生剤の存在下に、[2,2]−パラシクロファンを臭
素で臭素化することにより効率よく、1,1,9,9−
テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファンを得るこ
とができることを見出し、本発明を完成したものであ
る。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明は、テトラクロロエチレンを溶媒としてラ
ジカル発生剤の存在下に、臭素で[2,2]−パラシク
ロファンを臭素化する。溶媒としてのテトラクロロエチ
レンの使用量は、出発原料である[2,2]−パラシク
ロファン及び生成物である1,1,9,9−テトラブロ
モ−[2,2]−パラシクロファンのテトラクロロエチ
レンへの溶解度を考慮して、重量比で[2,2]−パラ
シクロファンの15〜20倍程度使用することが好まし
い。
する。本発明は、テトラクロロエチレンを溶媒としてラ
ジカル発生剤の存在下に、臭素で[2,2]−パラシク
ロファンを臭素化する。溶媒としてのテトラクロロエチ
レンの使用量は、出発原料である[2,2]−パラシク
ロファン及び生成物である1,1,9,9−テトラブロ
モ−[2,2]−パラシクロファンのテトラクロロエチ
レンへの溶解度を考慮して、重量比で[2,2]−パラ
シクロファンの15〜20倍程度使用することが好まし
い。
【0016】本発明で使用するラジカル発生剤としては
特に制限はなく、2,2’−アゾビスイソブチロニトリ
ルのようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイドのよ
うな過酸化物等一般的に使用されているものはいずれも
使用することができる。好適なラジカル発生剤として
は、例えば日本油脂(株)から商品名「ナイパーFF」
として販売されているベンゾイルパーオキサイドが挙げ
られる。「ナイパーFF」は取扱上の安全性を高めるた
めベンゾイルパーオキサイドを特殊希釈剤で希釈し50
%品としたものであり、溶剤に対する溶解性や安全性の
点で好適に使用される。これらのラジカル発生剤は、
[2,2]−パラシクロファンのテトラクロロエチレン
溶液を所定の温度に加熱、撹拌下に臭素と共に反応系に
加える必要がある。加え方は特に指定するものではない
が、一般的にはテトラクロロエチレンに溶解し、臭素と
共に逐次添加(通常は滴下)する。滴下は臭素滴下の全
過程に亘ってもよいが、臭素滴下の初期の一部の過程で
よい。ラジカル発生剤は最初から反応系に加えておくこ
とはできない。ラジカル発生剤を最初から反応系に加え
た場合には、昇温時急激な分解がおこり危険であり、か
つ、発生したラジカルが反応に有効に作用しない。ラジ
カル発生剤の使用量は、ラジカル発生剤の種類に応じて
当然に変わってくるが、「ナイパーFF」の場合にはベ
ンゾイルパーオキサイド換算で2%([2,2]−パラ
シクロファンに対しての重量%)程度でよい。それより
増加しても反応の妨げになることはないが、少なすぎる
と反応が完結せず収量が低下するとともにテトラクロロ
エチレンへの臭素の付加物が多く生成する。
特に制限はなく、2,2’−アゾビスイソブチロニトリ
ルのようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイドのよ
うな過酸化物等一般的に使用されているものはいずれも
使用することができる。好適なラジカル発生剤として
は、例えば日本油脂(株)から商品名「ナイパーFF」
として販売されているベンゾイルパーオキサイドが挙げ
られる。「ナイパーFF」は取扱上の安全性を高めるた
めベンゾイルパーオキサイドを特殊希釈剤で希釈し50
%品としたものであり、溶剤に対する溶解性や安全性の
点で好適に使用される。これらのラジカル発生剤は、
[2,2]−パラシクロファンのテトラクロロエチレン
溶液を所定の温度に加熱、撹拌下に臭素と共に反応系に
加える必要がある。加え方は特に指定するものではない
が、一般的にはテトラクロロエチレンに溶解し、臭素と
共に逐次添加(通常は滴下)する。滴下は臭素滴下の全
過程に亘ってもよいが、臭素滴下の初期の一部の過程で
よい。ラジカル発生剤は最初から反応系に加えておくこ
とはできない。ラジカル発生剤を最初から反応系に加え
た場合には、昇温時急激な分解がおこり危険であり、か
つ、発生したラジカルが反応に有効に作用しない。ラジ
カル発生剤の使用量は、ラジカル発生剤の種類に応じて
当然に変わってくるが、「ナイパーFF」の場合にはベ
ンゾイルパーオキサイド換算で2%([2,2]−パラ
シクロファンに対しての重量%)程度でよい。それより
増加しても反応の妨げになることはないが、少なすぎる
と反応が完結せず収量が低下するとともにテトラクロロ
エチレンへの臭素の付加物が多く生成する。
【0017】本発明では臭素化剤としては、臭素を使用
する。臭素は反応の過程で、ラジカル発生剤と共に逐次
添加(通常は滴下)することが好ましい。臭素はそのま
ま滴下することができ、またテトラクロロエチレンで希
釈して滴下してもよい。しかし、テトラクロロエチレン
と臭素を混合すると、テトラクロロエチレンへの臭素の
付加物である1,2−ジブロモテトラクロロエタンが生
成するので、反応量が多い場合には、希釈せずに滴下す
ることが好ましい。臭素の使用量は、一部溶媒への付加
も考慮して[2,2]−パラシクロファン1モルに対
し、約4.8モル〜6.5モル使用することが好まし
い。臭素の使用量が少なすぎると不完全臭素化によるジ
ブロモ体やトリブロモ体が生成し収率の低下をもたら
す。逆に臭素の使用量が過剰の場合には、テトラクロロ
エチレンの臭素付加体が増加するが、その他の副生成物
はあまり増加しない。本発明では、ラジカル発生剤と臭
素とを同一溶液として滴下することもできるが、工業的
には安全性の見地から別々に滴下することが望ましい。
する。臭素は反応の過程で、ラジカル発生剤と共に逐次
添加(通常は滴下)することが好ましい。臭素はそのま
ま滴下することができ、またテトラクロロエチレンで希
釈して滴下してもよい。しかし、テトラクロロエチレン
と臭素を混合すると、テトラクロロエチレンへの臭素の
付加物である1,2−ジブロモテトラクロロエタンが生
成するので、反応量が多い場合には、希釈せずに滴下す
ることが好ましい。臭素の使用量は、一部溶媒への付加
も考慮して[2,2]−パラシクロファン1モルに対
し、約4.8モル〜6.5モル使用することが好まし
い。臭素の使用量が少なすぎると不完全臭素化によるジ
ブロモ体やトリブロモ体が生成し収率の低下をもたら
す。逆に臭素の使用量が過剰の場合には、テトラクロロ
エチレンの臭素付加体が増加するが、その他の副生成物
はあまり増加しない。本発明では、ラジカル発生剤と臭
素とを同一溶液として滴下することもできるが、工業的
には安全性の見地から別々に滴下することが望ましい。
【0018】本発明における反応温度は、110℃から
環流温度(望ましくは環流温度)とすることが好まし
い。それ以下の温度では目的の反応が進行せず、目的と
する化合物を得ることができない。反応では、所定反応
温度でラジカル発生剤及び臭素化剤を滴下終了後、しば
らく攪拌、反応すると溶液の臭素色がほとんど消失す
る。反応時間は反応量等条件により当然に相違するが、
以下に示す実施例のスケールでは2時間程度で、四塩化
炭素を溶媒として使用した場合の反応時間の1/25程
度である。臭素色がほとんど消失したときを反応の終了
とする。反応終了後、冷却しつつ減圧、あるいは窒素を
吹き込むことで反応液中の臭化水素や臭素をできるだけ
除去する。さらに反応液を冷却し、析出する沈殿を濾取
しエーテル、次に塩化メチレンで洗浄する。塩化メチレ
ンでの洗浄で1,1,10,10−テトラブロモ−
[2,2]−パラシクロファン等の副生成物は除去され
る。洗浄後、常法により乾燥し、分解温度222〜22
7℃の範囲のものを製品とする。1,1,10,10−
テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファンの混入等
は目的化合物の分解温度の低下をもたらすが、これらの
不純物が混入したまま次工程のケトン化反応に移り、そ
の段階で不要物を除去することも可能である。
環流温度(望ましくは環流温度)とすることが好まし
い。それ以下の温度では目的の反応が進行せず、目的と
する化合物を得ることができない。反応では、所定反応
温度でラジカル発生剤及び臭素化剤を滴下終了後、しば
らく攪拌、反応すると溶液の臭素色がほとんど消失す
る。反応時間は反応量等条件により当然に相違するが、
以下に示す実施例のスケールでは2時間程度で、四塩化
炭素を溶媒として使用した場合の反応時間の1/25程
度である。臭素色がほとんど消失したときを反応の終了
とする。反応終了後、冷却しつつ減圧、あるいは窒素を
吹き込むことで反応液中の臭化水素や臭素をできるだけ
除去する。さらに反応液を冷却し、析出する沈殿を濾取
しエーテル、次に塩化メチレンで洗浄する。塩化メチレ
ンでの洗浄で1,1,10,10−テトラブロモ−
[2,2]−パラシクロファン等の副生成物は除去され
る。洗浄後、常法により乾燥し、分解温度222〜22
7℃の範囲のものを製品とする。1,1,10,10−
テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファンの混入等
は目的化合物の分解温度の低下をもたらすが、これらの
不純物が混入したまま次工程のケトン化反応に移り、そ
の段階で不要物を除去することも可能である。
【0019】
【実施例】つぎに、実施例により本発明をさらに説明す
るが、これらの実施例は本発明を限定するものではな
い。 (実施例1)テトラクロロエチレン200gに[2,
2]−パラシクロファン12.0gを加え攪拌下、加
熱、環流した。攪拌、環流下に臭素(49.0g)、ナ
イパーFF(3.0g)及びテトラクロロエチレン(5
0g)からなる溶液を2時間で滴下した。滴下終了後更
に15分間攪拌、環流した後に、冷却しつつ吸引により
可及的に臭化水素や臭素を除去し、更に10℃まで冷却
した。析出した沈殿を濾取し、200mlのエーテルで
洗浄した。この沈殿を乾燥後、340gの塩化メチレン
溶媒に懸濁し、この溶液を環流まで加熱した後に、10
℃まで冷却し沈殿物を濾取し乾燥した。得られた1,
1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラシクロフ
ァンの収量は7.7g、収率は25.3%で、分解温度
は224〜227℃であった。
るが、これらの実施例は本発明を限定するものではな
い。 (実施例1)テトラクロロエチレン200gに[2,
2]−パラシクロファン12.0gを加え攪拌下、加
熱、環流した。攪拌、環流下に臭素(49.0g)、ナ
イパーFF(3.0g)及びテトラクロロエチレン(5
0g)からなる溶液を2時間で滴下した。滴下終了後更
に15分間攪拌、環流した後に、冷却しつつ吸引により
可及的に臭化水素や臭素を除去し、更に10℃まで冷却
した。析出した沈殿を濾取し、200mlのエーテルで
洗浄した。この沈殿を乾燥後、340gの塩化メチレン
溶媒に懸濁し、この溶液を環流まで加熱した後に、10
℃まで冷却し沈殿物を濾取し乾燥した。得られた1,
1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラシクロフ
ァンの収量は7.7g、収率は25.3%で、分解温度
は224〜227℃であった。
【0020】(実施例2)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え攪
拌下、加熱、環流した。攪拌、環流下に臭素(50.5
g)と、ナイパーFF(3.0g)のテトラクロロエチ
レン(50g)溶液を、両者の滴下量のバランスを保ち
ながら1時間30分で滴下した。滴下終了後、更に15
分間攪拌、環流した後に、実施例1と同様に処理した。
得られた1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−
パラシクロファンの収量は7.4g、収率は24.4%
で、分解温度は224〜227℃であった。
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え攪
拌下、加熱、環流した。攪拌、環流下に臭素(50.5
g)と、ナイパーFF(3.0g)のテトラクロロエチ
レン(50g)溶液を、両者の滴下量のバランスを保ち
ながら1時間30分で滴下した。滴下終了後、更に15
分間攪拌、環流した後に、実施例1と同様に処理した。
得られた1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−
パラシクロファンの収量は7.4g、収率は24.4%
で、分解温度は224〜227℃であった。
【0021】(実施例3)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え、
攪拌下、加熱、環流した。攪拌、環流下に臭素(53.
5g)のテトラクロロエチレン(42g)溶液と、アゾ
ビスイソブチロニトリル(1.5g)のテトラクロロエ
チレン(80g)溶液(一部不溶)を、両者の滴下量の
バランスを保ちながら1時間22分で滴下した。滴下終
了後、更に15分間攪拌、環流した後に、実施例1と同
様に処理した。得られた1,1,9,9−テトラブロモ
−[2,2]−パラシクロファンの収量は6.8g、収
率は22.5%で、分解温度は224〜227℃であっ
た。
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え、
攪拌下、加熱、環流した。攪拌、環流下に臭素(53.
5g)のテトラクロロエチレン(42g)溶液と、アゾ
ビスイソブチロニトリル(1.5g)のテトラクロロエ
チレン(80g)溶液(一部不溶)を、両者の滴下量の
バランスを保ちながら1時間22分で滴下した。滴下終
了後、更に15分間攪拌、環流した後に、実施例1と同
様に処理した。得られた1,1,9,9−テトラブロモ
−[2,2]−パラシクロファンの収量は6.8g、収
率は22.5%で、分解温度は224〜227℃であっ
た。
【0022】(実施例4)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え、
攪拌下、110℃まで加熱した。攪拌、110℃保持下
に、臭素(53.5g)、ナイパーFF(3.0g)及
びテトラクロロエチレン(47.0g)からなる溶液を
3時間20分で滴下した。滴下終了後、更に20分間反
応を続けた後に、実施例1と同様に処理した。得られた
1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラシク
ロファンの収量は6.5g、収率は21.4%で、分解
温度は222〜224℃であった。
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え、
攪拌下、110℃まで加熱した。攪拌、110℃保持下
に、臭素(53.5g)、ナイパーFF(3.0g)及
びテトラクロロエチレン(47.0g)からなる溶液を
3時間20分で滴下した。滴下終了後、更に20分間反
応を続けた後に、実施例1と同様に処理した。得られた
1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラシク
ロファンの収量は6.5g、収率は21.4%で、分解
温度は222〜224℃であった。
【0023】(実施例5)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え、
攪拌、加熱、環流した。攪拌、環流下に臭素(58.5
g)と、ナイパーFF(0.4g)のテトラクロロエチ
レン(20g)溶液を滴下した。両者同時に滴下を開始
し、ナイパーFF溶液は50分で、臭素は2時間10分
で滴下を終了した。滴下終了後、30分間反応を続けた
後、実施例1と同様に処理した。得られた1,1,9,
9−テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファンの収
量は7.1gで、収率は23.5%、分解温度は222
〜225℃であった。
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え、
攪拌、加熱、環流した。攪拌、環流下に臭素(58.5
g)と、ナイパーFF(0.4g)のテトラクロロエチ
レン(20g)溶液を滴下した。両者同時に滴下を開始
し、ナイパーFF溶液は50分で、臭素は2時間10分
で滴下を終了した。滴下終了後、30分間反応を続けた
後、実施例1と同様に処理した。得られた1,1,9,
9−テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファンの収
量は7.1gで、収率は23.5%、分解温度は222
〜225℃であった。
【0024】(参考例1)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0g及びナイ
パーFF(3.0g)を加え攪拌下、加熱、環流した。
攪拌、環流下に臭素(53.4g)及びテトラクロロエ
チレン(52g)からなる溶液を3時間25分で滴下し
た。滴下終了後、更に1時間攪拌、環流した後に、実施
例1と同様な処理を試みたが、テトラクロロエチレン溶
液の冷却の段階で沈殿物は生成しなかった。
gに[2,2]−パラシクロファン12.0g及びナイ
パーFF(3.0g)を加え攪拌下、加熱、環流した。
攪拌、環流下に臭素(53.4g)及びテトラクロロエ
チレン(52g)からなる溶液を3時間25分で滴下し
た。滴下終了後、更に1時間攪拌、環流した後に、実施
例1と同様な処理を試みたが、テトラクロロエチレン溶
液の冷却の段階で沈殿物は生成しなかった。
【0025】(参考例2)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0g及びナイ
パーFF(3.0g)を加え攪拌下、110℃まで加熱
した。攪拌、110℃保持下に臭素(52.9g)及び
テトラクロロエチレン(49g)からなる溶液を2時間
で滴下した。滴下終了後、更に1時間反応を続けた後
に、実施例1と同様な処理を試みたが沈殿は生成しなか
った。
gに[2,2]−パラシクロファン12.0g及びナイ
パーFF(3.0g)を加え攪拌下、110℃まで加熱
した。攪拌、110℃保持下に臭素(52.9g)及び
テトラクロロエチレン(49g)からなる溶液を2時間
で滴下した。滴下終了後、更に1時間反応を続けた後
に、実施例1と同様な処理を試みたが沈殿は生成しなか
った。
【0026】(参考例3)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え、
攪拌下100℃まで加熱した。攪拌、100℃保持下に
臭素(52.9g)、ナイパーFF(3.0g)及びテ
トラクロロエチレン(54g)からなる溶液を6時間3
0分で滴下した後に、実施例1と同様に処理した。1g
の生成物を得たが、分解温度が240〜244℃と高く
赤外吸収スペクトルも目的物と相違した。
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え、
攪拌下100℃まで加熱した。攪拌、100℃保持下に
臭素(52.9g)、ナイパーFF(3.0g)及びテ
トラクロロエチレン(54g)からなる溶液を6時間3
0分で滴下した後に、実施例1と同様に処理した。1g
の生成物を得たが、分解温度が240〜244℃と高く
赤外吸収スペクトルも目的物と相違した。
【0027】(参考例4)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え攪
拌下、100℃まで加熱した。ナイパーFF(3.0
g)を加えたところ液温が105℃まで上昇した。この
時点で臭素(50.0g)及びテトラクロロエチレン
(52g)からなる溶液を滴下しはじめた。反応温度は
100℃を保持し、臭素溶液を4時間で滴下した。滴下
終了後、更に1時間反応を続けた後に、実施例1と同様
の処理を試みたが沈殿物は得られなかった。
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え攪
拌下、100℃まで加熱した。ナイパーFF(3.0
g)を加えたところ液温が105℃まで上昇した。この
時点で臭素(50.0g)及びテトラクロロエチレン
(52g)からなる溶液を滴下しはじめた。反応温度は
100℃を保持し、臭素溶液を4時間で滴下した。滴下
終了後、更に1時間反応を続けた後に、実施例1と同様
の処理を試みたが沈殿物は得られなかった。
【0028】(参考例5)1,1,2−トリクロロエタ
ン(沸点114℃)200gに[2,2]−パラシクロ
ファン12.0gを加え攪拌下、加熱環流した。攪拌、
環流下に臭素(52.7g)、ナイパーFF(3.0
g)及び1,1,2−トリクロロエタン(54g)から
なる溶液を2時間15分で滴下した。滴下終了後、更に
30分間攪拌、環流を続けた後に、実施例1と同様の処
理を試みたが、1,1,2−トリクロロエタン溶液の冷
却の段階で沈殿物は生成しなかった。
ン(沸点114℃)200gに[2,2]−パラシクロ
ファン12.0gを加え攪拌下、加熱環流した。攪拌、
環流下に臭素(52.7g)、ナイパーFF(3.0
g)及び1,1,2−トリクロロエタン(54g)から
なる溶液を2時間15分で滴下した。滴下終了後、更に
30分間攪拌、環流を続けた後に、実施例1と同様の処
理を試みたが、1,1,2−トリクロロエタン溶液の冷
却の段階で沈殿物は生成しなかった。
【0029】(参考例6)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え撹
拌、加熱、環流した。撹拌、環流下に臭素(54.0
g)と、ナイパーFF(0.1g)のテトラクロロエチ
レン(20g)溶液を滴下した。両者同時に滴下を開始
し、ナイパーFF溶液は45分で、臭素は2時間20分
で滴下を終了した。滴下終了後、30分間反応を続けた
後、実施例1と同様に処理したが、目的物は得られなっ
かた。
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え撹
拌、加熱、環流した。撹拌、環流下に臭素(54.0
g)と、ナイパーFF(0.1g)のテトラクロロエチ
レン(20g)溶液を滴下した。両者同時に滴下を開始
し、ナイパーFF溶液は45分で、臭素は2時間20分
で滴下を終了した。滴下終了後、30分間反応を続けた
後、実施例1と同様に処理したが、目的物は得られなっ
かた。
【0030】(参考例7)テトラクロロエチレン200
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え撹
拌、加熱、環流した。撹拌、環流下に、ナイパーFF
(0.4g)のテトラクロロエチレン(20g)溶液を
15分間で滴下した。終了後、直ちに臭素(57g)の
滴下を開始し、2時間15分で滴下を終了した。滴下終
了後、30分間反応を続けた後、実施例1と同様に処理
した。得られた目的物は0.1g以下であった。
gに[2,2]−パラシクロファン12.0gを加え撹
拌、加熱、環流した。撹拌、環流下に、ナイパーFF
(0.4g)のテトラクロロエチレン(20g)溶液を
15分間で滴下した。終了後、直ちに臭素(57g)の
滴下を開始し、2時間15分で滴下を終了した。滴下終
了後、30分間反応を続けた後、実施例1と同様に処理
した。得られた目的物は0.1g以下であった。
【0031】
【発明の効果】本発明によれば、オゾン層破壊物質とし
て生産が中止された四塩化炭素を使用せずに、1,1,
9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファン
を効率よく短時間で製造することができる。また、N−
ブロモコハク酸イミドのような高価な臭素化剤を使用す
る必要がないので製造コストを大幅に下げることがで
き、きわめて実用的価値が高いものである。
て生産が中止された四塩化炭素を使用せずに、1,1,
9,9−テトラブロモ−[2,2]−パラシクロファン
を効率よく短時間で製造することができる。また、N−
ブロモコハク酸イミドのような高価な臭素化剤を使用す
る必要がないので製造コストを大幅に下げることがで
き、きわめて実用的価値が高いものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
Claims (3)
- 【請求項1】 下記構造式(I) 【化1】 で表される[2,2]−パラシクロファンをテトラクロ
ロエチレンを反応溶剤として、ラジカル発生剤の存在下
に臭素により臭素化することを特徴とする、下記構造式
(II) 【化2】 で表される1,1,9,9−テトラブロモ−[2,2]
−パラシクロファンの製造方法。 - 【請求項2】 ラジカル発生剤及び臭素を逐次添加する
ことを特徴とする請求項1に記載の1,1,9,9−テ
トラブロモ−[2,2]−パラシクロファンの製造方
法。 - 【請求項3】 反応温度が110℃から環流温度である
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の1,1,9,
9−テトラブロモ−[2,22]−パラシクロファンの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11163471A JP2000080051A (ja) | 1998-07-10 | 1999-06-10 | 1,1,9,9―テトラブロモ―[2,2]―パラシクロファンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-210270 | 1998-07-10 | ||
| JP21027098 | 1998-07-10 | ||
| JP11163471A JP2000080051A (ja) | 1998-07-10 | 1999-06-10 | 1,1,9,9―テトラブロモ―[2,2]―パラシクロファンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000080051A true JP2000080051A (ja) | 2000-03-21 |
Family
ID=26488899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11163471A Pending JP2000080051A (ja) | 1998-07-10 | 1999-06-10 | 1,1,9,9―テトラブロモ―[2,2]―パラシクロファンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000080051A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007083522A1 (ja) | 2006-01-18 | 2007-07-26 | Next21 K. K. | 医療用ゲル形成組成物,その組成物の投与デバイス及び薬剤放出制御担体 |
-
1999
- 1999-06-10 JP JP11163471A patent/JP2000080051A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007083522A1 (ja) | 2006-01-18 | 2007-07-26 | Next21 K. K. | 医療用ゲル形成組成物,その組成物の投与デバイス及び薬剤放出制御担体 |
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