JP2000077000A - 電子銃の位置ずれ検査装置 - Google Patents
電子銃の位置ずれ検査装置Info
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- JP2000077000A JP2000077000A JP10243901A JP24390198A JP2000077000A JP 2000077000 A JP2000077000 A JP 2000077000A JP 10243901 A JP10243901 A JP 10243901A JP 24390198 A JP24390198 A JP 24390198A JP 2000077000 A JP2000077000 A JP 2000077000A
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- light
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- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子ビーム透過孔のエッジを明瞭に判別でき
るようにして、電子銃の位置ずれを精度よく検査するこ
とができるとともに、電子銃の検査位置への位置決めを
正確且つ簡便に行うことができる電子銃の位置ずれ検査
装置を提供する。 【解決手段】 位置測定機構30により支持ステージ1
0上における電子銃2の位置を測定し、得られた電子銃
2の位置データに基づいて支持ステージ10を駆動して
電子銃2を所定の検査位置に位置決めするとともに、位
置ずれ検出機構40により、直線偏光の光を電子銃2に
照射し、この電子銃2により反射された反射光を偏光手
段を介して観察することにより電子銃2のグリッド間に
おける位置ずれを検出する。
るようにして、電子銃の位置ずれを精度よく検査するこ
とができるとともに、電子銃の検査位置への位置決めを
正確且つ簡便に行うことができる電子銃の位置ずれ検査
装置を提供する。 【解決手段】 位置測定機構30により支持ステージ1
0上における電子銃2の位置を測定し、得られた電子銃
2の位置データに基づいて支持ステージ10を駆動して
電子銃2を所定の検査位置に位置決めするとともに、位
置ずれ検出機構40により、直線偏光の光を電子銃2に
照射し、この電子銃2により反射された反射光を偏光手
段を介して観察することにより電子銃2のグリッド間に
おける位置ずれを検出する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、組み立てられた電
子銃のグリッド間における位置ずれを検査する電子銃の
位置ずれ検査装置に関する。
子銃のグリッド間における位置ずれを検査する電子銃の
位置ずれ検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】テレビジョン受像機等に用いられる陰極
線管内に配設されて、蛍光面に向け電子ビームを出射す
る電子銃は、電子ビームを放出するカソードと、電極を
構成する複数のグリッドとを有している。
線管内に配設されて、蛍光面に向け電子ビームを出射す
る電子銃は、電子ビームを放出するカソードと、電極を
構成する複数のグリッドとを有している。
【0003】この電子銃は、複数のグリッドが同一軸線
上に並ぶように組み立てられ、これら複数のグリッドの
うち最下位に位置するグリッド(第1グリッド)内にカ
ソードが配設されてなる。そして、電子銃は、カソード
から放出された電子ビームが、各グリッドを通過するこ
とで、制御、加速、集束され、蛍光面の所定の蛍光体を
照射して、この蛍光体を発光させるようになされてい
る。
上に並ぶように組み立てられ、これら複数のグリッドの
うち最下位に位置するグリッド(第1グリッド)内にカ
ソードが配設されてなる。そして、電子銃は、カソード
から放出された電子ビームが、各グリッドを通過するこ
とで、制御、加速、集束され、蛍光面の所定の蛍光体を
照射して、この蛍光体を発光させるようになされてい
る。
【0004】この電子銃は、例えば単電子銃型(ワンガ
ンスリービーム方式)の場合には、第1グリッドが例え
ばインラインに配置された3個の有底円筒状のグリッド
単体からなり、これらグリッド単体の内方に、赤色蛍光
体を発光させる電子ビームを放出するカソード、緑色蛍
光体を発光させる電子ビームを放出するカソード、青色
蛍光体を発光させる電子ビームを放出するカソードがそ
れぞれ個別に配設されている。
ンスリービーム方式)の場合には、第1グリッドが例え
ばインラインに配置された3個の有底円筒状のグリッド
単体からなり、これらグリッド単体の内方に、赤色蛍光
体を発光させる電子ビームを放出するカソード、緑色蛍
光体を発光させる電子ビームを放出するカソード、青色
蛍光体を発光させる電子ビームを放出するカソードがそ
れぞれ個別に配設されている。
【0005】第1グリッドを構成する3個のグリッド単
体には、その底面の略中央部に、それぞれ収容したカソ
ードから放出される電子ビームを透過するための微小な
電子ビーム透過孔が設けられている。また、この第1グ
リッドに隣接して配置されるグリッド(第2グリッド)
には、第1グリッドとの対向面に3つの微小な電子ビー
ム透過孔が設けられている。そして、3個のグリッド単
体に設けられた電子ビーム透過孔と第2グリッドに設け
られた電子ビーム透過孔とが一致するように、第1グリ
ッドの底面と第2グリッドの対向面とが突き合わされて
両者の相対的な位置決めが図られている。
体には、その底面の略中央部に、それぞれ収容したカソ
ードから放出される電子ビームを透過するための微小な
電子ビーム透過孔が設けられている。また、この第1グ
リッドに隣接して配置されるグリッド(第2グリッド)
には、第1グリッドとの対向面に3つの微小な電子ビー
ム透過孔が設けられている。そして、3個のグリッド単
体に設けられた電子ビーム透過孔と第2グリッドに設け
られた電子ビーム透過孔とが一致するように、第1グリ
ッドの底面と第2グリッドの対向面とが突き合わされて
両者の相対的な位置決めが図られている。
【0006】このワンガンスリービーム方式の電子銃
は、各カソードから放出される電子ビームを電子ビーム
透過孔を通過させて、複数のグリッドにより構成される
主レンズの中心で交差させ、その後3方向に離散する各
電子ビームを静電偏光板で屈折させて、蛍光面上でコン
バーセンスさせるようになされている。
は、各カソードから放出される電子ビームを電子ビーム
透過孔を通過させて、複数のグリッドにより構成される
主レンズの中心で交差させ、その後3方向に離散する各
電子ビームを静電偏光板で屈折させて、蛍光面上でコン
バーセンスさせるようになされている。
【0007】したがって、このように構成される電子銃
は、各グリッドの組立精度が悪いと、出射する電子ビー
ムの形状や軌道がずれてしまう。特に、第1グリッドG
1と第2グリッドG2とは、上述したように微小な電子
ビーム透過孔100,101が一致するように位置決め
されているので、これらに図9に示すような許容限度を
越えた位置ずれが生じると、カソード102から放出さ
れる電子ビームが電子ビーム透過孔を適切に透過せず、
その形状や軌道に大きなずれが生じてしまう。
は、各グリッドの組立精度が悪いと、出射する電子ビー
ムの形状や軌道がずれてしまう。特に、第1グリッドG
1と第2グリッドG2とは、上述したように微小な電子
ビーム透過孔100,101が一致するように位置決め
されているので、これらに図9に示すような許容限度を
越えた位置ずれが生じると、カソード102から放出さ
れる電子ビームが電子ビーム透過孔を適切に透過せず、
その形状や軌道に大きなずれが生じてしまう。
【0008】そして、このように電子ビームの形状や軌
道がずれた電子銃が陰極線管内に取り付けられると、陰
極線管は、蛍光面の適切な位置に適切な形状で電子ビー
ムが照射されずに、画像の劣化を招いてしまう。
道がずれた電子銃が陰極線管内に取り付けられると、陰
極線管は、蛍光面の適切な位置に適切な形状で電子ビー
ムが照射されずに、画像の劣化を招いてしまう。
【0009】そこで、電子銃は、陰極線管内に取り付け
られる前に、組立精度を評価して、グリッド間に許容範
囲を越える位置ずれが生じた電子銃を陰極線管の生産ラ
インから外して、不良の陰極線管を製造してしまうこと
を防止する必要がある。
られる前に、組立精度を評価して、グリッド間に許容範
囲を越える位置ずれが生じた電子銃を陰極線管の生産ラ
インから外して、不良の陰極線管を製造してしまうこと
を防止する必要がある。
【0010】このような電子銃の位置ずれの検査は、従
来より、図10に示すような位置ずれ検査装置110を
用いて行われていた。この図10に示す位置ずれ検査装
置110は、電子銃120をX軸方向及びY軸方向に移
動可能に支持するXYステージ111と、このXYステ
ージ111に支持された電子銃120を側方から照明す
るファイバー照明機112と、ファイバー照明機112
により照明された電子銃120をその最上位のグリッド
の上方から各グリッドを通して最下位のグリッドの内部
に配設されているカソードを覗くように観察する顕微鏡
113とを備えている。
来より、図10に示すような位置ずれ検査装置110を
用いて行われていた。この図10に示す位置ずれ検査装
置110は、電子銃120をX軸方向及びY軸方向に移
動可能に支持するXYステージ111と、このXYステ
ージ111に支持された電子銃120を側方から照明す
るファイバー照明機112と、ファイバー照明機112
により照明された電子銃120をその最上位のグリッド
の上方から各グリッドを通して最下位のグリッドの内部
に配設されているカソードを覗くように観察する顕微鏡
113とを備えている。
【0011】電子銃120は、この位置ずれ検査装置1
10のXYステージ111の載置面に、中心軸がこの載
置面と略直交するように載置され、ファイバー照明機1
12により側方から光があてられて、グリッド間が照明
される。
10のXYステージ111の載置面に、中心軸がこの載
置面と略直交するように載置され、ファイバー照明機1
12により側方から光があてられて、グリッド間が照明
される。
【0012】そして、例えば第1グリッドG1と第2グ
リッドG2間の位置ずれを検査する際は、照明された第
1グリッドG1の電子ビーム透過孔100のエッジと、
第2グリッドG2の電子ビーム透過孔101のエッジと
のそれぞれの位置を顕微鏡113により観察して、これ
らの位置ずれを検査するようにしていた。
リッドG2間の位置ずれを検査する際は、照明された第
1グリッドG1の電子ビーム透過孔100のエッジと、
第2グリッドG2の電子ビーム透過孔101のエッジと
のそれぞれの位置を顕微鏡113により観察して、これ
らの位置ずれを検査するようにしていた。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の位置ずれ検査装置110を用いた検査方法は、
電子銃120に側方から光をあててグリッド間を照明す
るようにしていたので、照明光の光量に対する観察可能
な光量が少なく、いわゆる光の利用効率が悪く、視野が
暗くなってしまっていた。そして、視野が暗くなってし
まうために顕微鏡113の倍率を上げてグリッドを観察
することができず、電子銃120の位置ずれを精度よく
検査することができない場合があった。
た従来の位置ずれ検査装置110を用いた検査方法は、
電子銃120に側方から光をあててグリッド間を照明す
るようにしていたので、照明光の光量に対する観察可能
な光量が少なく、いわゆる光の利用効率が悪く、視野が
暗くなってしまっていた。そして、視野が暗くなってし
まうために顕微鏡113の倍率を上げてグリッドを観察
することができず、電子銃120の位置ずれを精度よく
検査することができない場合があった。
【0014】また、従来の位置ずれ検査装置110を用
いた検査方法は、電子銃120に側方から光をあててグ
リッド間を照明するようにしていたので、グリッドの表
面を均一に照射することができず、グリッド全体を均等
に観察することができなかった。
いた検査方法は、電子銃120に側方から光をあててグ
リッド間を照明するようにしていたので、グリッドの表
面を均一に照射することができず、グリッド全体を均等
に観察することができなかった。
【0015】照明光の利用効率を上げるとともに照明光
をグリッドの表面に均等にあてて、位置ずれを精度よく
検査する方法として、落射照明、すなわち照明光を電子
銃120の最上位のグリッド側から中心軸に沿った方向
に照射し、その反射光を観察して位置ずれを検査するこ
とが考えられるが、落射照明により第1グリッドG1と
第2グリッドG2との位置ずれを検査しようとした場
合、照明された第1グリッドG1の電子ビーム透過孔1
00のエッジと、第2グリッドG2の電子ビーム透過孔
101のエッジとのそれぞれが明瞭に観察できず、これ
らの位置ずれの検査が困難であるとの問題点があった。
をグリッドの表面に均等にあてて、位置ずれを精度よく
検査する方法として、落射照明、すなわち照明光を電子
銃120の最上位のグリッド側から中心軸に沿った方向
に照射し、その反射光を観察して位置ずれを検査するこ
とが考えられるが、落射照明により第1グリッドG1と
第2グリッドG2との位置ずれを検査しようとした場
合、照明された第1グリッドG1の電子ビーム透過孔1
00のエッジと、第2グリッドG2の電子ビーム透過孔
101のエッジとのそれぞれが明瞭に観察できず、これ
らの位置ずれの検査が困難であるとの問題点があった。
【0016】すなわち、第1グリッドG1及び第2グリ
ッドG2は、フラットな金属面とされている表面に、電
子ビーム透過孔100,101が打ち抜き加工で形成さ
れており、電子ビーム透過孔100,101のエッジの
近傍は打ち抜き方向に傾斜した状態となっている。した
がって、落射照明による第1グリッドG1及び第2グリ
ッドG2表面からの反射光は、エッジの近傍にて反射さ
れる光の光量が、それ以外の部分からの反射光の光量に
比べて非常に少なくなっている。
ッドG2は、フラットな金属面とされている表面に、電
子ビーム透過孔100,101が打ち抜き加工で形成さ
れており、電子ビーム透過孔100,101のエッジの
近傍は打ち抜き方向に傾斜した状態となっている。した
がって、落射照明による第1グリッドG1及び第2グリ
ッドG2表面からの反射光は、エッジの近傍にて反射さ
れる光の光量が、それ以外の部分からの反射光の光量に
比べて非常に少なくなっている。
【0017】また、電子ビーム透過孔100,101を
通って第1グリッドG1の内部に配設されているカソー
ド102の電子ビーム放出面にて反射される光は、カソ
ード102の電子ビーム放出面が酸化物面とされている
ことから乱反射して光量が少なくなっている。
通って第1グリッドG1の内部に配設されているカソー
ド102の電子ビーム放出面にて反射される光は、カソ
ード102の電子ビーム放出面が酸化物面とされている
ことから乱反射して光量が少なくなっている。
【0018】したがって、落射照明により第1グリッド
G1と第2グリッドG2との位置ずれを検査しようとし
た場合、電子ビーム透過孔100,101のエッジ近傍
にて反射される光とカソード102の電子ビーム放出面
にて反射される光とが暗く混じり合って、第1グリッド
G1及び第2グリッドG2の電子ビーム透過孔100,
101のエッジが明瞭に判別できなくなってしまう。
G1と第2グリッドG2との位置ずれを検査しようとし
た場合、電子ビーム透過孔100,101のエッジ近傍
にて反射される光とカソード102の電子ビーム放出面
にて反射される光とが暗く混じり合って、第1グリッド
G1及び第2グリッドG2の電子ビーム透過孔100,
101のエッジが明瞭に判別できなくなってしまう。
【0019】また、第1グリッドG1と第2グリッドG
2との位置ずれを適切に検査するには、検査対象である
電子銃を所定の検査位置にμmオーダーで正確に位置決
めする必要がある。このように検査対象である電子銃の
正確な位置決めは、非常に煩雑な作業であったため、よ
り簡便に作業が行えることが強く望まれていた。
2との位置ずれを適切に検査するには、検査対象である
電子銃を所定の検査位置にμmオーダーで正確に位置決
めする必要がある。このように検査対象である電子銃の
正確な位置決めは、非常に煩雑な作業であったため、よ
り簡便に作業が行えることが強く望まれていた。
【0020】本発明に係る電子銃の位置ずれ検査装置
は、以上のような従来の実情に鑑みて創案されたもので
あり、光の利用効率を上げて視野を明るくするとともに
グリッド表面からの反射光の光量を少なくすることによ
り、カソードの電子ビーム放出面からの反射光を相対的
に明るくし、電子ビーム透過孔のエッジを明瞭に判別で
きるようにして、電子銃の位置ずれを精度よく検査する
ことができるとともに、電子銃の検査位置への位置決め
を正確且つ簡便に行うことができる電子銃の位置ずれ検
査装置を提供することを目的とする。
は、以上のような従来の実情に鑑みて創案されたもので
あり、光の利用効率を上げて視野を明るくするとともに
グリッド表面からの反射光の光量を少なくすることによ
り、カソードの電子ビーム放出面からの反射光を相対的
に明るくし、電子ビーム透過孔のエッジを明瞭に判別で
きるようにして、電子銃の位置ずれを精度よく検査する
ことができるとともに、電子銃の検査位置への位置決め
を正確且つ簡便に行うことができる電子銃の位置ずれ検
査装置を提供することを目的とする。
【0021】
【課題を解決するための手段】本発明に係る電子銃の位
置ずれ検査装置は、検査対象である電子銃を移動可能に
支持する電子銃支持手段と、この電子銃支持手段上にお
ける電子銃の位置を測定する位置測定手段と、この位置
測定手段により測定された電子銃の位置データに基づい
て電子銃支持手段を駆動して、電子銃を所定の検査位置
に移動させる駆動手段と、所定の検査位置にて電子銃の
グリッド間における位置ずれを検査する位置ずれ検査手
段とを備えている。
置ずれ検査装置は、検査対象である電子銃を移動可能に
支持する電子銃支持手段と、この電子銃支持手段上にお
ける電子銃の位置を測定する位置測定手段と、この位置
測定手段により測定された電子銃の位置データに基づい
て電子銃支持手段を駆動して、電子銃を所定の検査位置
に移動させる駆動手段と、所定の検査位置にて電子銃の
グリッド間における位置ずれを検査する位置ずれ検査手
段とを備えている。
【0022】そして、この電子銃の位置ずれ検査装置
は、位置ずれ検査手段が、電子銃に対して直線偏光の光
を照射し、電子銃により反射された反射光を偏光手段を
介して観察することにより、電子銃のグリッド間におけ
る位置ずれを検査するようにしている。
は、位置ずれ検査手段が、電子銃に対して直線偏光の光
を照射し、電子銃により反射された反射光を偏光手段を
介して観察することにより、電子銃のグリッド間におけ
る位置ずれを検査するようにしている。
【0023】検査対象である電子銃は、位置測定手段に
より電子銃支持手段上における位置が測定される。そし
て、この電子銃の位置データに基づいて駆動手段により
電子銃支持手段が駆動されることにより、電子銃は所定
の検査位置に正確且つ簡便に位置決めされる。
より電子銃支持手段上における位置が測定される。そし
て、この電子銃の位置データに基づいて駆動手段により
電子銃支持手段が駆動されることにより、電子銃は所定
の検査位置に正確且つ簡便に位置決めされる。
【0024】所定の検査位置に位置決めされた電子銃に
対しては、位置ずれ検査手段から直線偏光の光が照射さ
れる。電子銃に照射された直線偏光の光は、電子銃のグ
リッドの表面及びカソードの電子ビーム放出面にて反射
される。
対しては、位置ずれ検査手段から直線偏光の光が照射さ
れる。電子銃に照射された直線偏光の光は、電子銃のグ
リッドの表面及びカソードの電子ビーム放出面にて反射
される。
【0025】グリッドの表面にて反射された反射光は、
グリッド表面がフラットな金属面とされていることか
ら、直線偏光の状態を保ったまま偏光手段に向かう。そ
して、グリッドの表面にて反射された直線偏光の反射光
は、その偏光軸と偏光手段の偏光軸との向き違いに応じ
て、偏光手段によりその光量の多くが遮断される。
グリッド表面がフラットな金属面とされていることか
ら、直線偏光の状態を保ったまま偏光手段に向かう。そ
して、グリッドの表面にて反射された直線偏光の反射光
は、その偏光軸と偏光手段の偏光軸との向き違いに応じ
て、偏光手段によりその光量の多くが遮断される。
【0026】一方、カソードの電子ビーム放出面にて反
射された光は、カソードの電子ビーム放出面が酸化物の
微少な凹凸面とされていることから、この電子ビーム放
出面で乱反射して偏光状態が崩れた状態で偏光手段に向
かう。そして、カソードの電子ビーム放出面にて反射さ
れた反射光は、偏向状態がランダムであるので、偏光手
段の偏光軸の向きに拘らず、ほぼ一定の光量が偏光手段
を透過する。
射された光は、カソードの電子ビーム放出面が酸化物の
微少な凹凸面とされていることから、この電子ビーム放
出面で乱反射して偏光状態が崩れた状態で偏光手段に向
かう。そして、カソードの電子ビーム放出面にて反射さ
れた反射光は、偏向状態がランダムであるので、偏光手
段の偏光軸の向きに拘らず、ほぼ一定の光量が偏光手段
を透過する。
【0027】したがって、直線偏光の光を電子銃に照射
し、この電子銃により反射された反射光を偏光手段を介
して観察することにより、カソードの電子ビーム放出面
からの反射光が相対的に明るくなり、カソードの電子ビ
ーム放出面とグリッドの表面との境界部分が明瞭に判別
できるようになる。
し、この電子銃により反射された反射光を偏光手段を介
して観察することにより、カソードの電子ビーム放出面
からの反射光が相対的に明るくなり、カソードの電子ビ
ーム放出面とグリッドの表面との境界部分が明瞭に判別
できるようになる。
【0028】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。
を参照して説明する。
【0029】本発明に係る電子銃の位置ずれ検査装置1
は、図1に示すように、電子銃2を移動可能に支持する
支持ステージ10と、この支持ステージ10上における
電子銃2の位置を測定する位置測定機構30と、この位
置測定機構30により測定された電子銃2の位置データ
に基づいて支持ステージ10を駆動して、支持ステージ
10上に支持された電子銃2を所定の検査位置に位置決
めする図示しないコントローラと、所定の検査位置に位
置決めされた電子銃2に直線偏光の光を照射すると共に
その反射光を検出する位置ずれ検出機構40とを備えて
いる。
は、図1に示すように、電子銃2を移動可能に支持する
支持ステージ10と、この支持ステージ10上における
電子銃2の位置を測定する位置測定機構30と、この位
置測定機構30により測定された電子銃2の位置データ
に基づいて支持ステージ10を駆動して、支持ステージ
10上に支持された電子銃2を所定の検査位置に位置決
めする図示しないコントローラと、所定の検査位置に位
置決めされた電子銃2に直線偏光の光を照射すると共に
その反射光を検出する位置ずれ検出機構40とを備えて
いる。
【0030】支持ステージ10は、電子銃2を支持する
支持部11と、支持部11に支持された電子銃2を所定
方向に傾斜させる傾斜ステージ14と、支持部11に支
持された電子銃2を回転させる回転ステージ17と、支
持部11に支持された電子銃2をY軸方向、X軸方向、
Z軸方向にそれぞれ移動させるY軸ステージ18、X軸
ステージ19,Z軸ステージ20とを備え、これらが積
み重ねられて一体の移動ステージとしてベース3上に設
けられている。
支持部11と、支持部11に支持された電子銃2を所定
方向に傾斜させる傾斜ステージ14と、支持部11に支
持された電子銃2を回転させる回転ステージ17と、支
持部11に支持された電子銃2をY軸方向、X軸方向、
Z軸方向にそれぞれ移動させるY軸ステージ18、X軸
ステージ19,Z軸ステージ20とを備え、これらが積
み重ねられて一体の移動ステージとしてベース3上に設
けられている。
【0031】支持部11は、電子銃2が載置される載置
台12と電子銃2の外周部を保持するホルダ13とを有
している。載置台12はZ軸と直交する載置面12aを
有し、この載置面12aにて電子銃2のカソード側の一
端が支持される。そして、ホルダ13により電子銃2の
外周部が保持される。これにより、電子銃2は、その中
心軸がZ軸方向に沿うように、支持ステージ10上に安
定的に支持される。
台12と電子銃2の外周部を保持するホルダ13とを有
している。載置台12はZ軸と直交する載置面12aを
有し、この載置面12aにて電子銃2のカソード側の一
端が支持される。そして、ホルダ13により電子銃2の
外周部が保持される。これにより、電子銃2は、その中
心軸がZ軸方向に沿うように、支持ステージ10上に安
定的に支持される。
【0032】支持部11のベース3と対向する側には、
傾斜ステージ14が連結されている。
傾斜ステージ14が連結されている。
【0033】傾斜ステージ14は、支持部11をX軸に
対して所定の角度をもって傾斜させるX軸傾斜ステージ
15と、支持部11をY軸に対して所定の角度をもって
傾斜させるY軸傾斜ステージ16とを有している。X軸
傾斜ステージ15とY軸傾斜ステージ16とはそれぞれ
図示しないコントローラに接続されており、コントロー
ラの制御により、支持部11及びこれに支持された電子
銃2をX軸方向またはY軸方向に傾斜させる。
対して所定の角度をもって傾斜させるX軸傾斜ステージ
15と、支持部11をY軸に対して所定の角度をもって
傾斜させるY軸傾斜ステージ16とを有している。X軸
傾斜ステージ15とY軸傾斜ステージ16とはそれぞれ
図示しないコントローラに接続されており、コントロー
ラの制御により、支持部11及びこれに支持された電子
銃2をX軸方向またはY軸方向に傾斜させる。
【0034】傾斜ステージ14のベース3と対向する側
には、回転ステージ17が連結されている。この回転ス
テージ17も、図示しないコントローラに接続されてお
り、コントローラの制御により、傾斜ステージ14、支
持部11及びこれに支持された電子銃2をZ軸を回転中
心として回転させる。
には、回転ステージ17が連結されている。この回転ス
テージ17も、図示しないコントローラに接続されてお
り、コントローラの制御により、傾斜ステージ14、支
持部11及びこれに支持された電子銃2をZ軸を回転中
心として回転させる。
【0035】回転ステージ17のベース3と対向する側
には、Y軸ステージ18が連結されている。Y軸ステー
ジ18も、図示しないコントローラに接続されており、
コントローラの制御により、回転ステージ17、傾斜ス
テージ14、支持部11及びこれに支持された電子銃2
をY軸方向に移動させる。
には、Y軸ステージ18が連結されている。Y軸ステー
ジ18も、図示しないコントローラに接続されており、
コントローラの制御により、回転ステージ17、傾斜ス
テージ14、支持部11及びこれに支持された電子銃2
をY軸方向に移動させる。
【0036】Y軸ステージ18のベース3と対向する側
には、X軸ステージ19が連結されている。X軸ステー
ジ19も、図示しないコントローラに接続されており、
コントローラの制御により、Y軸ステージ18、回転ス
テージ17、傾斜ステージ14、支持部11及びこれに
支持された電子銃2をX軸方向に移動させる。
には、X軸ステージ19が連結されている。X軸ステー
ジ19も、図示しないコントローラに接続されており、
コントローラの制御により、Y軸ステージ18、回転ス
テージ17、傾斜ステージ14、支持部11及びこれに
支持された電子銃2をX軸方向に移動させる。
【0037】X軸ステージ19のベース3と対向する側
には、Z軸ステージ20が連結されている。Z軸ステー
ジ20は、ベース3上に取り付けられた固定部21と、
X軸ステージ19に連結された移動部22とを備えてい
る。移動部22は、図示しないコントローラに接続され
ており、コントローラの制御によりZ軸方向に移動操作
され、この移動部22の移動にともない、X軸ステージ
19、Y軸ステージ18、回転ステージ17、傾斜ステ
ージ14、支持部11及びこれに支持された電子銃2が
Z軸方向に移動する。
には、Z軸ステージ20が連結されている。Z軸ステー
ジ20は、ベース3上に取り付けられた固定部21と、
X軸ステージ19に連結された移動部22とを備えてい
る。移動部22は、図示しないコントローラに接続され
ており、コントローラの制御によりZ軸方向に移動操作
され、この移動部22の移動にともない、X軸ステージ
19、Y軸ステージ18、回転ステージ17、傾斜ステ
ージ14、支持部11及びこれに支持された電子銃2が
Z軸方向に移動する。
【0038】支持ステージ10の移動操作を制御するコ
ントローラには、位置測定機構30により測定された電
子銃2の位置データが供給される。コントローラは、こ
の位置測定機構30より供給される電子銃2の位置デー
タに基づいて、支持ステージ10を構成する各ステージ
の移動を制御している。
ントローラには、位置測定機構30により測定された電
子銃2の位置データが供給される。コントローラは、こ
の位置測定機構30より供給される電子銃2の位置デー
タに基づいて、支持ステージ10を構成する各ステージ
の移動を制御している。
【0039】位置測定機構30は、例えば、支持ステー
ジ10に支持された電子銃2の外形位置を測定する手段
として、レーザ変位計31を備える。レーザ変位計31
は、支持ステージ10に支持された電子銃2に対してレ
ーザ光を照射し、電子銃2にて反射された反射光を検出
することにより、電子銃2の外形位置を測定する。
ジ10に支持された電子銃2の外形位置を測定する手段
として、レーザ変位計31を備える。レーザ変位計31
は、支持ステージ10に支持された電子銃2に対してレ
ーザ光を照射し、電子銃2にて反射された反射光を検出
することにより、電子銃2の外形位置を測定する。
【0040】具体的には、位置測定機構30は、支持ス
テージ10の回転ステージ17を駆動して電子銃2を回
転操作しながら、レーザ変位計31により電子銃2に対
してレーザ光を照射し、その反射光を検出する。そし
て、位置測定機構30は、回転ステージ17の回転角、
X軸ステージ19、Y軸ステージ18の現在位置及びレ
ーザ変位計31により測定された電子銃2の外形位置測
定値に基づいて、電子銃2の中心が所定の検査位置に対
して、X軸方向及びY軸方向に関し、どのような位置関
係になっているかをμmオーダーで算出する。
テージ10の回転ステージ17を駆動して電子銃2を回
転操作しながら、レーザ変位計31により電子銃2に対
してレーザ光を照射し、その反射光を検出する。そし
て、位置測定機構30は、回転ステージ17の回転角、
X軸ステージ19、Y軸ステージ18の現在位置及びレ
ーザ変位計31により測定された電子銃2の外形位置測
定値に基づいて、電子銃2の中心が所定の検査位置に対
して、X軸方向及びY軸方向に関し、どのような位置関
係になっているかをμmオーダーで算出する。
【0041】また、位置測定機構30は、レーザ変位計
31により、支持ステージ10に支持された電子銃2の
外形位置をZ軸方向に関して2箇所以上測定し、これら
の外形位置測定値から電子銃2の傾きを算出する。
31により、支持ステージ10に支持された電子銃2の
外形位置をZ軸方向に関して2箇所以上測定し、これら
の外形位置測定値から電子銃2の傾きを算出する。
【0042】位置測定機構30により測定された電子銃
2の位置データは、コントローラに供給される。コント
ローラは、この位置データに基づいて、支持ステージ1
0の各ステージを駆動し、電子銃2を所定の検査位置に
位置決めする。
2の位置データは、コントローラに供給される。コント
ローラは、この位置データに基づいて、支持ステージ1
0の各ステージを駆動し、電子銃2を所定の検査位置に
位置決めする。
【0043】本発明に係る電子銃の位置ずれ検査装置1
は、以上のように、位置測定機構30により測定された
位置データに基づいて支持ステージ10を駆動し、電子
銃2を所定の位置に位置決めするようにしているので、
電子銃2の位置決めを正確且つ簡便に行うことができ
る。
は、以上のように、位置測定機構30により測定された
位置データに基づいて支持ステージ10を駆動し、電子
銃2を所定の位置に位置決めするようにしているので、
電子銃2の位置決めを正確且つ簡便に行うことができ
る。
【0044】支持ステージ10の軸線上には、載置部1
2の載置面12aと対向する位置に、位置ずれ検出機構
40が配設されている。
2の載置面12aと対向する位置に、位置ずれ検出機構
40が配設されている。
【0045】位置ずれ検出機構40は、偏光顕微鏡の原
理を利用して電子銃2のグリッド間における位置ずれを
検出するものであり、図2に示すように、無偏光の光を
出射する光源41と、光源41から出射された無偏光の
光を透過させ直線偏光の光に変える第1の偏光板42
と、第1の偏光板42を透過した直線偏光の光の一部を
透過し他の部分を反射するハーフミラー43と、ハーフ
ミラー43により反射された光を電子銃2に集光させる
対物レンズ44と、電子銃2により反射され対物レンズ
44及びハーフミラー43を透過した反射光の光路上に
配設された第2の偏光板45と、第2の偏光板45を透
過した反射光を画像として取り込むCCDカメラ46と
を備えている。
理を利用して電子銃2のグリッド間における位置ずれを
検出するものであり、図2に示すように、無偏光の光を
出射する光源41と、光源41から出射された無偏光の
光を透過させ直線偏光の光に変える第1の偏光板42
と、第1の偏光板42を透過した直線偏光の光の一部を
透過し他の部分を反射するハーフミラー43と、ハーフ
ミラー43により反射された光を電子銃2に集光させる
対物レンズ44と、電子銃2により反射され対物レンズ
44及びハーフミラー43を透過した反射光の光路上に
配設された第2の偏光板45と、第2の偏光板45を透
過した反射光を画像として取り込むCCDカメラ46と
を備えている。
【0046】光源41は、無偏光の光をZ軸と直交する
方向に出射する。位置ずれ検出機構40は、この光源4
1からの無偏光の光を直接第1の偏光板42に入射させ
るように構成されていても良いが、図2に示すように、
光ファイバー等の光伝送手段47を用い、光源41から
の無偏光の光を光伝送手段47を介して第1の偏光板4
2に入射させるようにしても良い。このように、光源4
1からの無偏光の光を光伝送手段47を介して第1の偏
光板42に入射させるようにした場合は、光源41の設
置位置を自由に選択することが可能となり、省スペース
化を図る上で有利となる。
方向に出射する。位置ずれ検出機構40は、この光源4
1からの無偏光の光を直接第1の偏光板42に入射させ
るように構成されていても良いが、図2に示すように、
光ファイバー等の光伝送手段47を用い、光源41から
の無偏光の光を光伝送手段47を介して第1の偏光板4
2に入射させるようにしても良い。このように、光源4
1からの無偏光の光を光伝送手段47を介して第1の偏
光板42に入射させるようにした場合は、光源41の設
置位置を自由に選択することが可能となり、省スペース
化を図る上で有利となる。
【0047】第1の偏光板42は、一定方向に偏光軸を
有し、光源41から出射された無偏光の光の光路上に配
設されている。そして、第1の偏光板42は、光源41
から出射された光を透過して直線偏光の光に変える。
有し、光源41から出射された無偏光の光の光路上に配
設されている。そして、第1の偏光板42は、光源41
から出射された光を透過して直線偏光の光に変える。
【0048】ハーフミラー43は、第1の偏光板42を
透過した直線偏光の光の光路上にてZ軸に対して45度
の傾斜角をもって傾斜するように配設されている。そし
て、ハーフミラー43は、直線偏光の光の一部を透過
し、他の部分を反射してZ軸に沿った方向に曲折する。
透過した直線偏光の光の光路上にてZ軸に対して45度
の傾斜角をもって傾斜するように配設されている。そし
て、ハーフミラー43は、直線偏光の光の一部を透過
し、他の部分を反射してZ軸に沿った方向に曲折する。
【0049】対物レンズ44は、複数枚のレンズ44
a,44b,44cが組み合わされてなり、ハーフミラ
ー43により反射された直線偏光の光の光路上に配設さ
れている。そして、対物レンズ44は、ハーフミラー4
3により反射された直線偏光の光を集光して、支持ステ
ージ10に支持された電子銃2に照射する。
a,44b,44cが組み合わされてなり、ハーフミラ
ー43により反射された直線偏光の光の光路上に配設さ
れている。そして、対物レンズ44は、ハーフミラー4
3により反射された直線偏光の光を集光して、支持ステ
ージ10に支持された電子銃2に照射する。
【0050】第2の偏光板45は、第1の偏光板42の
偏光軸と異なる方向の偏光軸を有し、支持ステージ10
に支持された電子銃2、対物レンズ44及びハーフミラ
ー43と同一軸線上に並ぶように配設されている。そし
て、この第2の偏光板45は、対物レンズ44及びハー
フミラー43を透過した電子銃2からの反射光を、その
偏光状態に応じて一部を遮断し、他の部分を透過する。
偏光軸と異なる方向の偏光軸を有し、支持ステージ10
に支持された電子銃2、対物レンズ44及びハーフミラ
ー43と同一軸線上に並ぶように配設されている。そし
て、この第2の偏光板45は、対物レンズ44及びハー
フミラー43を透過した電子銃2からの反射光を、その
偏光状態に応じて一部を遮断し、他の部分を透過する。
【0051】CCDカメラ46は、第2の偏光板45と
対向する位置に配設されており、第2の偏光板45を透
過した電子銃2からの反射光を画像として取り込むよう
になされている。このCCDカメラ46には、図1に示
すように、モニタコントローラ48を介して画像表示モ
ニタ49が接続されており、CCDカメラ46により取
り込まれた画像が画像表示モニタ49に表示されるよう
になされている。
対向する位置に配設されており、第2の偏光板45を透
過した電子銃2からの反射光を画像として取り込むよう
になされている。このCCDカメラ46には、図1に示
すように、モニタコントローラ48を介して画像表示モ
ニタ49が接続されており、CCDカメラ46により取
り込まれた画像が画像表示モニタ49に表示されるよう
になされている。
【0052】画像表示モニタ49には、CCDカメラ4
6により取り込まれた画像の他に、位置測定用のミクロ
スケールが表示される。したがって、このミクロスケー
ルを基準にしてCCDカメラ46により取り込まれた画
像を観察することにより、電子銃2のグリッド間の位置
ずれを測定することができる。
6により取り込まれた画像の他に、位置測定用のミクロ
スケールが表示される。したがって、このミクロスケー
ルを基準にしてCCDカメラ46により取り込まれた画
像を観察することにより、電子銃2のグリッド間の位置
ずれを測定することができる。
【0053】ここで、この電子銃の位置ずれ検査装置1
を用いて電子銃のグリッド間における位置ずれを検査す
る方法について説明する。なお、ここでは電子銃2の第
1グリッドと第2グリッド間における位置ずれを検出す
る例について説明するが、この電子銃の位置ずれ検査方
法により、電子銃2の他のグリッド間の位置ずれも検出
することができることは勿論である。
を用いて電子銃のグリッド間における位置ずれを検査す
る方法について説明する。なお、ここでは電子銃2の第
1グリッドと第2グリッド間における位置ずれを検出す
る例について説明するが、この電子銃の位置ずれ検査方
法により、電子銃2の他のグリッド間の位置ずれも検出
することができることは勿論である。
【0054】まず、電子銃2が、支持ステージ10の支
持部11により、カソード側を載置面12aに当接させ
た状態で支持される。そして、位置測定機構30により
電子銃2の支持ステージ10上における位置が測定さ
れ、電子銃2が所定の検査位置にないとき、すなわち第
1グリッドの電子ビーム透過孔の中心が位置ずれ検出機
構40の光軸上に位置していない場合には、コントロー
ラの制御により支持ステージ10が駆動され、電子銃2
の位置の修正が図られる。
持部11により、カソード側を載置面12aに当接させ
た状態で支持される。そして、位置測定機構30により
電子銃2の支持ステージ10上における位置が測定さ
れ、電子銃2が所定の検査位置にないとき、すなわち第
1グリッドの電子ビーム透過孔の中心が位置ずれ検出機
構40の光軸上に位置していない場合には、コントロー
ラの制御により支持ステージ10が駆動され、電子銃2
の位置の修正が図られる。
【0055】次に、位置ずれ検出機構40の光源41か
ら無偏光の光が出射される。光源41から出射された無
偏光の光は、第1の偏光板42を透過することにより直
線偏光の光とされる。そして、この直線偏光の光はハー
フミラー43により一部が透過され、他の部分が反射さ
れる。
ら無偏光の光が出射される。光源41から出射された無
偏光の光は、第1の偏光板42を透過することにより直
線偏光の光とされる。そして、この直線偏光の光はハー
フミラー43により一部が透過され、他の部分が反射さ
れる。
【0056】ハーフミラー43により反射された直線偏
光の光は、対物レンズ44により集光され、電子銃2内
に入射して、第1グリッド及び第2グリッドの表面とカ
ソードの電子ビーム放出面に照射される。
光の光は、対物レンズ44により集光され、電子銃2内
に入射して、第1グリッド及び第2グリッドの表面とカ
ソードの電子ビーム放出面に照射される。
【0057】ところで、第1グリッド及び第2グリッド
は、それぞれフラットな金属面とされている表面に、電
子ビーム透過孔が打ち抜き加工で形成されており、電子
ビーム透過孔のエッジの近傍は打ち抜き方向に傾斜した
状態となっている。したがって、第1グリッド及び第2
グリッドの表面に照射された直線偏光の光は、電子ビー
ム透過孔のエッジの近傍以外の箇所にて強く反射される
のに対して、エッジの近傍では反射光の光量が非常に少
なくなる。
は、それぞれフラットな金属面とされている表面に、電
子ビーム透過孔が打ち抜き加工で形成されており、電子
ビーム透過孔のエッジの近傍は打ち抜き方向に傾斜した
状態となっている。したがって、第1グリッド及び第2
グリッドの表面に照射された直線偏光の光は、電子ビー
ム透過孔のエッジの近傍以外の箇所にて強く反射される
のに対して、エッジの近傍では反射光の光量が非常に少
なくなる。
【0058】そして、これらグリッド表面に照射された
直線偏光の光は、グリッド表面がフラットな金属面とさ
れていることから、直線偏光の状態を保ったままグリッ
ド表面にて反射される。
直線偏光の光は、グリッド表面がフラットな金属面とさ
れていることから、直線偏光の状態を保ったままグリッ
ド表面にて反射される。
【0059】また、カソードの電子ビーム放出面は、酸
化物の微少な凹凸面とされているので、第2グリッド及
び第1グリッドの電子ビーム透過孔を通ってカソードの
電子ビーム放出面に照射される直線偏光の光は、カソー
ドの電子ビーム放出面にて屈折と反射を繰り返し、偏光
状態が崩れたかたちで反射される。
化物の微少な凹凸面とされているので、第2グリッド及
び第1グリッドの電子ビーム透過孔を通ってカソードの
電子ビーム放出面に照射される直線偏光の光は、カソー
ドの電子ビーム放出面にて屈折と反射を繰り返し、偏光
状態が崩れたかたちで反射される。
【0060】グリッドの表面とカソードの電子ビーム放
出面にて反射された反射光は、再度対物レンズ44を透
過して、ハーフミラー43に照射される。ハーフミラー
43は、このグリッド表面及びカソードの電子ビーム放
出面からの反射光の一部を透過して、他の部分を反射す
る。
出面にて反射された反射光は、再度対物レンズ44を透
過して、ハーフミラー43に照射される。ハーフミラー
43は、このグリッド表面及びカソードの電子ビーム放
出面からの反射光の一部を透過して、他の部分を反射す
る。
【0061】ハーフミラー43により透過されたグリッ
ド表面及びカソードの電子ビーム放出面からの反射光
は、第2の偏光板45に入射する。このとき、グリッド
表面及びカソードの電子ビーム放出面からの反射光は、
その偏光状態に応じて一部が第2の偏光板45により遮
断され、他の部分が第2の偏光板45を透過する。
ド表面及びカソードの電子ビーム放出面からの反射光
は、第2の偏光板45に入射する。このとき、グリッド
表面及びカソードの電子ビーム放出面からの反射光は、
その偏光状態に応じて一部が第2の偏光板45により遮
断され、他の部分が第2の偏光板45を透過する。
【0062】例えば、第2の偏光板45をその偏光軸が
第1の偏光板42の偏光軸に対して略90度(クロスニ
コル)となるように配置した場合、グリッド表面からの
反射光は第1の偏光板42により直線偏光とされた状態
が保たれているので、そのほとんどが第2の偏光板45
により遮断され、第2の偏光板45を透過する反射光の
光量は、光源41から出射される光の光量の1/400
程度とされる。すなわち、ハーフミラー43と第2の偏
光板45とを透過した後の光束は、グリッド表面からの
反射光の輝度に比べて1/200程度以下となる。
第1の偏光板42の偏光軸に対して略90度(クロスニ
コル)となるように配置した場合、グリッド表面からの
反射光は第1の偏光板42により直線偏光とされた状態
が保たれているので、そのほとんどが第2の偏光板45
により遮断され、第2の偏光板45を透過する反射光の
光量は、光源41から出射される光の光量の1/400
程度とされる。すなわち、ハーフミラー43と第2の偏
光板45とを透過した後の光束は、グリッド表面からの
反射光の輝度に比べて1/200程度以下となる。
【0063】一方、カソードの電子ビーム放出面からの
反射光は、偏光状態が崩れてランダムになっているため
に、第2の偏光板45により遮断される比率が減り、光
源41から出射される光の光量の1/16程度以下が第
2の偏光板45を透過する。すなわち、ハーフミラー4
3と第2の偏光板45とを透過した後の光束は、カソー
ドの電子ビーム放出面からの反射光の輝度に比べて1/
4程度以下となる。
反射光は、偏光状態が崩れてランダムになっているため
に、第2の偏光板45により遮断される比率が減り、光
源41から出射される光の光量の1/16程度以下が第
2の偏光板45を透過する。すなわち、ハーフミラー4
3と第2の偏光板45とを透過した後の光束は、カソー
ドの電子ビーム放出面からの反射光の輝度に比べて1/
4程度以下となる。
【0064】第2の偏光板45を透過したグリッド表面
及びカソードの電子ビーム放出面からの反射光は、対物
レンズ46を介してCCDカメラ46に取り込まれ、画
像表示モニタ49に表示される。このとき、支持ステー
ジ10のZ軸ステージ20を移動操作しながらフォーカ
ス調整を行うことにより、第1グリッドの電子ビーム透
過孔のエッジ及び第2グリッドの電子ビーム透過孔のエ
ッジが、第1,第2グリッドの表面及びカソードの電子
ビーム放出面からの反射光の光量の違いにより線として
画像表示モニタ49に表示される。
及びカソードの電子ビーム放出面からの反射光は、対物
レンズ46を介してCCDカメラ46に取り込まれ、画
像表示モニタ49に表示される。このとき、支持ステー
ジ10のZ軸ステージ20を移動操作しながらフォーカ
ス調整を行うことにより、第1グリッドの電子ビーム透
過孔のエッジ及び第2グリッドの電子ビーム透過孔のエ
ッジが、第1,第2グリッドの表面及びカソードの電子
ビーム放出面からの反射光の光量の違いにより線として
画像表示モニタ49に表示される。
【0065】そして、画像表示モニタ49に線として表
示された第1グリッドの電子ビーム透過孔のエッジ及び
第2グリッドの電子ビーム透過孔のエッジをミクロスケ
ールを基準に測定することにより、第1グリッドと第2
グリッド間の位置ずれが測定される。
示された第1グリッドの電子ビーム透過孔のエッジ及び
第2グリッドの電子ビーム透過孔のエッジをミクロスケ
ールを基準に測定することにより、第1グリッドと第2
グリッド間の位置ずれが測定される。
【0066】ここで、グリッドの表面にて反射され第2
の偏光板45を透過した反射光の光量と、カソードの電
子ビーム放出面にて反射され第2の偏光板45を透過し
た反射光の光量の違いについて、図3及び図4を参照し
て説明する。なお、ここではグリッドの表面にて反射さ
れる光の光量と、カソードの電子ビーム放出面にて反射
される光の光量とが、それぞれ第2の偏光板45を透過
することによりどれだけ減少するかを明確にするため、
便宜上、グリッドの表面及びカソードの電子ビーム放出
面における反射率を100%と仮定して説明する。特
に、カソードの電子ビーム放出面は上述したように凹凸
面とされているため拡散反射が起こることになるが、こ
こでは便宜上、拡散のない反射が起こるものと仮定す
る。また、ここでは、便宜上、図2に示したハーフミラ
ー43はないものと仮定し、ハーフミラー43における
反射率や透過率は無視するものとする。
の偏光板45を透過した反射光の光量と、カソードの電
子ビーム放出面にて反射され第2の偏光板45を透過し
た反射光の光量の違いについて、図3及び図4を参照し
て説明する。なお、ここではグリッドの表面にて反射さ
れる光の光量と、カソードの電子ビーム放出面にて反射
される光の光量とが、それぞれ第2の偏光板45を透過
することによりどれだけ減少するかを明確にするため、
便宜上、グリッドの表面及びカソードの電子ビーム放出
面における反射率を100%と仮定して説明する。特
に、カソードの電子ビーム放出面は上述したように凹凸
面とされているため拡散反射が起こることになるが、こ
こでは便宜上、拡散のない反射が起こるものと仮定す
る。また、ここでは、便宜上、図2に示したハーフミラ
ー43はないものと仮定し、ハーフミラー43における
反射率や透過率は無視するものとする。
【0067】光源41から出射され、グリッド表面に向
かう無偏光の光は、図3に示すように、第1の偏光板4
2により直線偏光の光とされて、グリッド表面に照射さ
れる。このとき、光源41から出射された無偏光の光
は、第1の偏光板42の偏光軸と直交する偏光成分の光
のほとんど全てがこの第1の偏光板42により吸収さ
れ、残りの50%の光(第1の偏光板42の偏光軸と同
じ方向の偏光成分の光)が第1の偏光板42を透過す
る。すなわち光源41から出射された光の約50%が直
線偏光の光となって第1の偏光板42を透過する。
かう無偏光の光は、図3に示すように、第1の偏光板4
2により直線偏光の光とされて、グリッド表面に照射さ
れる。このとき、光源41から出射された無偏光の光
は、第1の偏光板42の偏光軸と直交する偏光成分の光
のほとんど全てがこの第1の偏光板42により吸収さ
れ、残りの50%の光(第1の偏光板42の偏光軸と同
じ方向の偏光成分の光)が第1の偏光板42を透過す
る。すなわち光源41から出射された光の約50%が直
線偏光の光となって第1の偏光板42を透過する。
【0068】第1の偏光板42を透過し、グリッド表面
にて反射された光は、グリッド表面がフラットな金属面
とされていることから直線偏光の状態が保たれたまま第
2の偏光板45に向かう。
にて反射された光は、グリッド表面がフラットな金属面
とされていることから直線偏光の状態が保たれたまま第
2の偏光板45に向かう。
【0069】そして、第2の偏光板45が、その偏光軸
が第1の偏光板42の偏光軸に対して略90度(クロス
ニコル)となるように配置された場合、通常、偏光板の
消光比が1/100以下であることから、1%以下の光
が第2の偏光板45を透過する。
が第1の偏光板42の偏光軸に対して略90度(クロス
ニコル)となるように配置された場合、通常、偏光板の
消光比が1/100以下であることから、1%以下の光
が第2の偏光板45を透過する。
【0070】一方、光源41から出射され、カソードの
電子ビーム放出面に向かう無偏光の光は、図4に示すよ
うに、第1の偏光板42により直線偏光の光とされて、
カソードの電子ビーム放出面に照射される。このとき、
光源41から出射された無偏光の光は、第1の偏光板4
2の偏光軸と直交する偏光成分の光のほとんど全てがこ
の第1の偏光板42により吸収され、残りの50%の光
(第1の偏光板32の偏光軸と同じ方向の偏光成分の
光)が第1の偏光板42を透過する。すなわち光源41
から出射された光の約50%が直線偏光の光となって第
1の偏光板42を透過する。
電子ビーム放出面に向かう無偏光の光は、図4に示すよ
うに、第1の偏光板42により直線偏光の光とされて、
カソードの電子ビーム放出面に照射される。このとき、
光源41から出射された無偏光の光は、第1の偏光板4
2の偏光軸と直交する偏光成分の光のほとんど全てがこ
の第1の偏光板42により吸収され、残りの50%の光
(第1の偏光板32の偏光軸と同じ方向の偏光成分の
光)が第1の偏光板42を透過する。すなわち光源41
から出射された光の約50%が直線偏光の光となって第
1の偏光板42を透過する。
【0071】第1の偏光板42を透過し、カソードの電
子ビーム放出面にて反射された光は、酸化物の微少な凹
凸面とされている電子ビーム放出面で屈折と反射を繰り
返して、偏光状態が崩れたかたちで第2の偏光板45に
向かう。ここでは、仮定したように、カソードの電子ビ
ーム放出面における反射は、拡散や吸収のないものとし
ているので、光量が変わらず偏光がランダムな光が第2
の偏光板45に向かうことになる。
子ビーム放出面にて反射された光は、酸化物の微少な凹
凸面とされている電子ビーム放出面で屈折と反射を繰り
返して、偏光状態が崩れたかたちで第2の偏光板45に
向かう。ここでは、仮定したように、カソードの電子ビ
ーム放出面における反射は、拡散や吸収のないものとし
ているので、光量が変わらず偏光がランダムな光が第2
の偏光板45に向かうことになる。
【0072】第2の偏光板45に向かうカソードの電子
ビーム放出面からの反射光は、第2の偏光板45の偏光
軸と直交する偏光成分の光のほとんど全てがこの第2の
偏光板45により吸収され、残りの50%の光(第2の
偏光板45の偏光軸と同じ方向の偏光成分の光)、すな
わち光源41から出射された光の約25%が第2の偏光
板45を透過する。
ビーム放出面からの反射光は、第2の偏光板45の偏光
軸と直交する偏光成分の光のほとんど全てがこの第2の
偏光板45により吸収され、残りの50%の光(第2の
偏光板45の偏光軸と同じ方向の偏光成分の光)、すな
わち光源41から出射された光の約25%が第2の偏光
板45を透過する。
【0073】以上、グリッドの表面にて反射される反射
光の光量とカソードの電子ビーム放出面にて反射される
反射光の光量が、偏光を用いることで異なる光量になる
ことを説明した。実際の観察においては、偏光板の偏光
軸と同じ方向の偏光を持つ光であっても偏光板の吸収が
あったり、偏光板の偏光軸と直交する方向の偏光を持つ
光がどれだけ吸収されるかという、いわゆる偏光板の消
光比などの偏光板の性能によって、先の説明と図3及び
図4に示した光量比は変わってくる。
光の光量とカソードの電子ビーム放出面にて反射される
反射光の光量が、偏光を用いることで異なる光量になる
ことを説明した。実際の観察においては、偏光板の偏光
軸と同じ方向の偏光を持つ光であっても偏光板の吸収が
あったり、偏光板の偏光軸と直交する方向の偏光を持つ
光がどれだけ吸収されるかという、いわゆる偏光板の消
光比などの偏光板の性能によって、先の説明と図3及び
図4に示した光量比は変わってくる。
【0074】また、先の説明では便宜上、ハーフミラー
のない場合について説明したが、実際の照明と観察にお
いては、ハーフミラーを介して行うことで、光量はそれ
ぞれ半分となる。また、ハーフミラーの性能によって、
ハーフミラーで透過又は反射した場合の光量は変わる。
さらに、本発明は、ハーフミラーの代わりに偏光ビーム
スプリッタ等を用いても実施可能であるが、このように
ハーフミラーの代わりに偏光ビームスプリッタを用いた
場合も、光量は変わる。
のない場合について説明したが、実際の照明と観察にお
いては、ハーフミラーを介して行うことで、光量はそれ
ぞれ半分となる。また、ハーフミラーの性能によって、
ハーフミラーで透過又は反射した場合の光量は変わる。
さらに、本発明は、ハーフミラーの代わりに偏光ビーム
スプリッタ等を用いても実施可能であるが、このように
ハーフミラーの代わりに偏光ビームスプリッタを用いた
場合も、光量は変わる。
【0075】また、先の説明では、便宜上、グリッドの
表面及びカソードの電子ビーム放出面における反射率を
100%として仮定したが、実際は、それらの反射率は
いずれもある値を持っている。グリッドの表面は金属面
であるので、入射した光の大部分は散乱せずに反射す
る。したがって、グリッドの表面の反射率は高く、時に
は90%以上にも達する。一方、カソードの電子ビーム
放出面はその表面が凹凸面であり、単純な反射ではな
く、光の出射方向にある分布を持つような反射と散乱の
混ざった反射光が観察される。この反射と散乱の混ざっ
た反射光も光の入射方向によっては出射方向に異なる分
布を持つ。よって、照明する光の光量と観察される光量
から求められる反射率は、カソードの電子ビーム放出面
の状態にも依存し、さらには対物レンズの開口数等の光
学性能にも依存する。
表面及びカソードの電子ビーム放出面における反射率を
100%として仮定したが、実際は、それらの反射率は
いずれもある値を持っている。グリッドの表面は金属面
であるので、入射した光の大部分は散乱せずに反射す
る。したがって、グリッドの表面の反射率は高く、時に
は90%以上にも達する。一方、カソードの電子ビーム
放出面はその表面が凹凸面であり、単純な反射ではな
く、光の出射方向にある分布を持つような反射と散乱の
混ざった反射光が観察される。この反射と散乱の混ざっ
た反射光も光の入射方向によっては出射方向に異なる分
布を持つ。よって、照明する光の光量と観察される光量
から求められる反射率は、カソードの電子ビーム放出面
の状態にも依存し、さらには対物レンズの開口数等の光
学性能にも依存する。
【0076】なお、先の説明では、便宜上、カソードの
電子ビーム放出面を100%の反射面と仮定したが、カ
ソードの電子ビーム放出面を酸化物マグネシウムで代用
されるような完全拡散反射面と仮定した場合、反射より
も散乱を主とした反射光が観察される場合の光量比を推
定することもできる。この場合も、顕微鏡の対物レンズ
の開口数等の顕微鏡の光学特性を加味する必要がある。
電子ビーム放出面を100%の反射面と仮定したが、カ
ソードの電子ビーム放出面を酸化物マグネシウムで代用
されるような完全拡散反射面と仮定した場合、反射より
も散乱を主とした反射光が観察される場合の光量比を推
定することもできる。この場合も、顕微鏡の対物レンズ
の開口数等の顕微鏡の光学特性を加味する必要がある。
【0077】このようにして、偏光板やハーフミラー、
対物レンズ等の光学系の各光学素子の性能を適宜調整す
ることで、グリッドの表面にて反射される反射光とカソ
ードの電子ビーム放出面にて反射される反射光とを偏光
状態の違いによって分離し、観察される画像をより明確
にすることができる。
対物レンズ等の光学系の各光学素子の性能を適宜調整す
ることで、グリッドの表面にて反射される反射光とカソ
ードの電子ビーム放出面にて反射される反射光とを偏光
状態の違いによって分離し、観察される画像をより明確
にすることができる。
【0078】本発明に係る電子銃の位置ずれ検査装置1
は、以上説明したように、偏光板を用いることにより、
グリッドの表面にて反射される直線偏光の光の光量を大
幅に減少させて、カソードの電子ビーム放出面を相対的
に明るくし、カソードの電子ビーム放出面とビーム透過
孔のエッジの近傍との明るさのコントラストを向上させ
るようにしているので、ビーム透過孔のエッジを明瞭に
観察することが可能で、電子銃のグリッド間の位置ずれ
を精度よく検出することができる。
は、以上説明したように、偏光板を用いることにより、
グリッドの表面にて反射される直線偏光の光の光量を大
幅に減少させて、カソードの電子ビーム放出面を相対的
に明るくし、カソードの電子ビーム放出面とビーム透過
孔のエッジの近傍との明るさのコントラストを向上させ
るようにしているので、ビーム透過孔のエッジを明瞭に
観察することが可能で、電子銃のグリッド間の位置ずれ
を精度よく検出することができる。
【0079】すなわち、偏光板を用いずに無偏光の光を
そのままグリッド51の表面51a及びカソード52の
電子ビーム放出面52aに照射し、その反射光を観察し
た場合は、図5に示すように、グリッド表面51aの電
子ビーム透過孔53のエッジ54の近傍55以外の部分
にて反射される光の光量が非常に多いのに対して、電子
ビーム透過孔53のエッジ54の近傍55及びカソード
52の電子ビーム放出面52aにて反射される光の光量
はともに少なくなる。したがって、これらを観察する
と、図6に示すように、電子ビーム透過孔53のエッジ
54の近傍55にて反射された光とカソード52の電子
ビーム放出面52aにて反射された光とが暗く混じり合
ってしまい、電子ビーム透過孔53のエッジ54が明瞭
に判別できないために、電子銃のグリッド51間の位置
ずれを精度よく検出することができない。
そのままグリッド51の表面51a及びカソード52の
電子ビーム放出面52aに照射し、その反射光を観察し
た場合は、図5に示すように、グリッド表面51aの電
子ビーム透過孔53のエッジ54の近傍55以外の部分
にて反射される光の光量が非常に多いのに対して、電子
ビーム透過孔53のエッジ54の近傍55及びカソード
52の電子ビーム放出面52aにて反射される光の光量
はともに少なくなる。したがって、これらを観察する
と、図6に示すように、電子ビーム透過孔53のエッジ
54の近傍55にて反射された光とカソード52の電子
ビーム放出面52aにて反射された光とが暗く混じり合
ってしまい、電子ビーム透過孔53のエッジ54が明瞭
に判別できないために、電子銃のグリッド51間の位置
ずれを精度よく検出することができない。
【0080】これに対して、本発明に係る電子銃の位置
ずれ検査装置1を用いてグリッド51の表面51a及び
カソード52の電子ビーム放出面52aからの反射光を
観察した場合は、図7に示すように、グリッド51の表
面51aにて反射される光の光量が大幅に減少し、カソ
ード52の電子ビーム放出面52aにて反射される光の
光量が相対的に多くなるので、図8に示すように、ビー
ム透過孔53のエッジ54を明瞭に判別することがで
き、電子銃のグリッド51間の位置ずれを精度よく検出
することができる。なお、図5及び図7において、グリ
ッド51の表面51a及びカソード52の電子ビーム放
出面52aからの反射光の光量の違いは、図中の矢印の
太さの違いで示している。
ずれ検査装置1を用いてグリッド51の表面51a及び
カソード52の電子ビーム放出面52aからの反射光を
観察した場合は、図7に示すように、グリッド51の表
面51aにて反射される光の光量が大幅に減少し、カソ
ード52の電子ビーム放出面52aにて反射される光の
光量が相対的に多くなるので、図8に示すように、ビー
ム透過孔53のエッジ54を明瞭に判別することがで
き、電子銃のグリッド51間の位置ずれを精度よく検出
することができる。なお、図5及び図7において、グリ
ッド51の表面51a及びカソード52の電子ビーム放
出面52aからの反射光の光量の違いは、図中の矢印の
太さの違いで示している。
【0081】また、本発明に係る電子銃の位置ずれ検査
装置1は、支持ステージ10が、電子銃2をその中心軸
がZ軸方向に沿うように支持し、位置ずれ検出機構40
が支持ステージ10に支持された電子銃2に対して照明
光を中心軸に沿った方向に照射するようにしているの
で、照明光の利用効率が向上し、グリッドの表面及びカ
ソードの電子放出面を明るく均一に照射することができ
る。したがって、この電子銃の位置ずれ検査装置1によ
れば、電子ビーム透過孔のエッジ部分を高倍率で観察す
ることが可能となり、グリッド間の位置ずれを精度よく
検出することができる。
装置1は、支持ステージ10が、電子銃2をその中心軸
がZ軸方向に沿うように支持し、位置ずれ検出機構40
が支持ステージ10に支持された電子銃2に対して照明
光を中心軸に沿った方向に照射するようにしているの
で、照明光の利用効率が向上し、グリッドの表面及びカ
ソードの電子放出面を明るく均一に照射することができ
る。したがって、この電子銃の位置ずれ検査装置1によ
れば、電子ビーム透過孔のエッジ部分を高倍率で観察す
ることが可能となり、グリッド間の位置ずれを精度よく
検出することができる。
【0082】また、本発明に係る電子銃の位置ずれ検査
装置1は、位置測定機構30により測定された位置デー
タに基づいて支持ステージ10を駆動し、電子銃2を所
定の位置に位置決めするようにしているので、電子銃2
の測定位置への位置決めを正確且つ簡便に行うことがで
きる。
装置1は、位置測定機構30により測定された位置デー
タに基づいて支持ステージ10を駆動し、電子銃2を所
定の位置に位置決めするようにしているので、電子銃2
の測定位置への位置決めを正確且つ簡便に行うことがで
きる。
【0083】なお、以上は、位置ずれ検出機構40が無
偏光の光を出射する光源41と第1の偏光板42とを有
し、光源41から出射された無偏光の光を第1の偏光板
42を透過させることにより直線偏光の光として電子銃
に照射するようにした電子銃の位置ずれ検査装置1につ
いて説明したが、本発明に係る電子銃の位置ずれ検査装
置はこの例に限定されるものではなく、例えばレーザの
ように光源が直線偏光の光を出射するものであって、こ
の光を偏光板を透過させずに電子銃に直接照射する構成
としてもよい。
偏光の光を出射する光源41と第1の偏光板42とを有
し、光源41から出射された無偏光の光を第1の偏光板
42を透過させることにより直線偏光の光として電子銃
に照射するようにした電子銃の位置ずれ検査装置1につ
いて説明したが、本発明に係る電子銃の位置ずれ検査装
置はこの例に限定されるものではなく、例えばレーザの
ように光源が直線偏光の光を出射するものであって、こ
の光を偏光板を透過させずに電子銃に直接照射する構成
としてもよい。
【0084】また、本発明に係る電子銃の位置ずれ検査
装置は、直線偏光の光で電子銃を照明して、直線偏光の
反射光と偏向がランダムな状態となった反射光とを見分
けるのみでなく、円偏向のように偏向状態が整えられて
いる光を用いることもできる。例えば、位置ずれ検出機
構の対物レンズと支持ステージに支持された電子銃との
間に1/4波長板を配設し、直線偏光の光をこの1/4
波長板を透過させることにより円偏光の光に変えて電子
銃に照射し、電子銃により反射された円偏光の光を再度
1/4波長板を透過させることにより直線偏光の光に変
えて、この反射光を観察するようにしてもよい。
装置は、直線偏光の光で電子銃を照明して、直線偏光の
反射光と偏向がランダムな状態となった反射光とを見分
けるのみでなく、円偏向のように偏向状態が整えられて
いる光を用いることもできる。例えば、位置ずれ検出機
構の対物レンズと支持ステージに支持された電子銃との
間に1/4波長板を配設し、直線偏光の光をこの1/4
波長板を透過させることにより円偏光の光に変えて電子
銃に照射し、電子銃により反射された円偏光の光を再度
1/4波長板を透過させることにより直線偏光の光に変
えて、この反射光を観察するようにしてもよい。
【0085】
【発明の効果】本発明に係る電子銃の位置ずれ検査装置
は、直線偏光の光を電子銃に照射し、この電子銃により
反射された反射光を偏光手段を介して観察することによ
り、電子銃のグリッド表面からの反射光の光量を減少さ
せて、カソードの電子ビーム放出面からの反射光が相対
的に明るくなるようにしている。したがって、この電子
銃の位置ずれ検査装置によれば、グリッドに設けられた
電子ビーム透過孔のエッジ近傍とカソードの電子ビーム
放出面との明るさのコントラストが向上することによ
り、電子ビーム透過孔のエッジを明瞭に判別でき、電子
銃の位置ずれを精度よく検出することができる。
は、直線偏光の光を電子銃に照射し、この電子銃により
反射された反射光を偏光手段を介して観察することによ
り、電子銃のグリッド表面からの反射光の光量を減少さ
せて、カソードの電子ビーム放出面からの反射光が相対
的に明るくなるようにしている。したがって、この電子
銃の位置ずれ検査装置によれば、グリッドに設けられた
電子ビーム透過孔のエッジ近傍とカソードの電子ビーム
放出面との明るさのコントラストが向上することによ
り、電子ビーム透過孔のエッジを明瞭に判別でき、電子
銃の位置ずれを精度よく検出することができる。
【0086】また、本発明に係る電子銃の位置ずれ検査
装置は、位置測定手段により電子銃の電子銃支持手段上
における位置を測定し、この電子銃の位置データに基づ
いて駆動手段により電子銃支持手段を駆動することによ
り、電子銃を所定の検査位置に位置決めするようにして
いるので、電子銃の検査位置への位置決めを正確且つ簡
便に行うことができる。
装置は、位置測定手段により電子銃の電子銃支持手段上
における位置を測定し、この電子銃の位置データに基づ
いて駆動手段により電子銃支持手段を駆動することによ
り、電子銃を所定の検査位置に位置決めするようにして
いるので、電子銃の検査位置への位置決めを正確且つ簡
便に行うことができる。
【図1】本発明に係る電子銃の位置ずれ検査装置の概略
構成を示す構成図である。
構成を示す構成図である。
【図2】同電子銃の位置ずれ検査装置の位置ずれ検出機
構を示す模式図である。
構を示す模式図である。
【図3】グリッドの表面にて反射される光の偏光状態及
び光量を説明する図である。
び光量を説明する図である。
【図4】カソードの電子ビーム放出面にて反射される光
の偏光状態及び光量を説明する図である。
の偏光状態及び光量を説明する図である。
【図5】無偏光の光をグリッドの表面及びカソードの電
子ビーム放出面に照射し、その反射光をそのまま観察し
た場合のそれぞれの光量の違いを説明する断面図であ
る。
子ビーム放出面に照射し、その反射光をそのまま観察し
た場合のそれぞれの光量の違いを説明する断面図であ
る。
【図6】無偏光の光をグリッドの表面及びカソードの電
子ビーム放出面に照射し、その反射光をそのまま観察し
た場合の観察像を示す平面図である。
子ビーム放出面に照射し、その反射光をそのまま観察し
た場合の観察像を示す平面図である。
【図7】直線偏光の光をグリッドの表面及びカソードの
電子ビーム放出面に照射し、その反射光を偏光板を介し
て観察した場合のそれぞれの光量の違いを説明する断面
図である。
電子ビーム放出面に照射し、その反射光を偏光板を介し
て観察した場合のそれぞれの光量の違いを説明する断面
図である。
【図8】直線偏光の光をグリッドの表面及びカソードの
電子ビーム放出面に照射し、その反射光を偏光板を介し
て観察した場合の観察像を示す平面図である。
電子ビーム放出面に照射し、その反射光を偏光板を介し
て観察した場合の観察像を示す平面図である。
【図9】電子銃のグリッド間に位置ずれが生じた状態を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図10】従来の電子銃の位置ずれ検査装置を示す構成
図である。
図である。
1 電子銃の位置ずれ検査装置、2 電子銃、10 支
持ステージ、30 位置測定機構、31 レーザ変位
計、40 位置ずれ検出機構、41 光源、42第1の
偏光板、44 対物レンズ、45 第2の偏光板、46
CCDカメラ
持ステージ、30 位置測定機構、31 レーザ変位
計、40 位置ずれ検出機構、41 光源、42第1の
偏光板、44 対物レンズ、45 第2の偏光板、46
CCDカメラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 市田 耕資 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 渡辺 譲 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5C012 AA02 BE03
Claims (6)
- 【請求項1】 検査対象である電子銃を移動可能に支持
する電子銃支持手段と、 上記電子銃支持手段上における上記電子銃の位置を測定
する位置測定手段と、 上記位置測定手段により測定された上記電子銃の位置デ
ータに基づいて上記電子銃支持手段を駆動して、上記電
子銃を所定の検査位置に移動させる駆動手段と、 上記検査位置にて上記電子銃のグリッド間における位置
ずれを検査する位置ずれ検査手段とを備え、 上記位置ずれ検査手段は、上記電子銃に対して直線偏光
の光を照射し、上記電子銃により反射された反射光を偏
光手段を介して観察することにより、上記電子銃のグリ
ッド間における位置ずれを検査することを特徴とする電
子銃の位置ずれ検査装置。 - 【請求項2】 上記位置測定手段は、レーザ光を上記電
子銃に照射して、その反射光を検出することにより上記
電子銃支持手段上における上記電子銃の外形位置を測定
するレーザ変位計を備えることを特徴とする請求項1記
載の電子銃の位置ずれ検査装置。 - 【請求項3】 上記電子銃支持手段は、上記電子銃をこ
の電子銃が載置された面に対して略平行な互いに直交す
る2方向に移動させる機構を備えることを特徴とする請
求項1記載の電子銃の位置ずれ検査装置。 - 【請求項4】 上記電子銃支持手段は、上記電子銃をこ
の電子銃が載置された面に対して略直交する方向に移動
させる機構を備えることを特徴とする請求項1記載の電
子銃の位置ずれ検査装置。 - 【請求項5】 上記電子銃支持手段は、上記電子銃が載
置された面をこの面に対して略直交する軸を中心として
回転させる機構を備えることを特徴とする請求項1記載
の電子銃の位置ずれ検査装置。 - 【請求項6】 上記電子銃支持手段は、上記電子銃が載
置された面を傾斜させる機構を備えることを特徴とする
請求項1記載の電子銃の位置ずれ検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10243901A JP2000077000A (ja) | 1998-08-28 | 1998-08-28 | 電子銃の位置ずれ検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10243901A JP2000077000A (ja) | 1998-08-28 | 1998-08-28 | 電子銃の位置ずれ検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000077000A true JP2000077000A (ja) | 2000-03-14 |
Family
ID=17110693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10243901A Withdrawn JP2000077000A (ja) | 1998-08-28 | 1998-08-28 | 電子銃の位置ずれ検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000077000A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1777730A1 (en) * | 2005-10-19 | 2007-04-25 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Arrangement and method for compensating emitter tip vibrations |
| US7939800B2 (en) | 2005-10-19 | 2011-05-10 | ICT, Integrated Circuit Testing, Gesellschaft fur Halbleiterpruftechnik mbH | Arrangement and method for compensating emitter tip vibrations |
-
1998
- 1998-08-28 JP JP10243901A patent/JP2000077000A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1777730A1 (en) * | 2005-10-19 | 2007-04-25 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Arrangement and method for compensating emitter tip vibrations |
| US7633074B2 (en) | 2005-10-19 | 2009-12-15 | Ict, Integrated Circuit Testing Gesellschaft Fur Halbleiterpruftechnik Mbh | Arrangement and method for compensating emitter tip vibrations |
| US7939800B2 (en) | 2005-10-19 | 2011-05-10 | ICT, Integrated Circuit Testing, Gesellschaft fur Halbleiterpruftechnik mbH | Arrangement and method for compensating emitter tip vibrations |
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| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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