JP2000075105A - 反射防止膜および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低屈折率層の屈折率を上昇させることなく、
低屈折率層の表面を汚れから保護し、さらに耐傷性も改
善する。 【解決手段】 透明支持体および透明支持体よりも低い
屈折率と３乃至５０体積％の空隙率とを有する低屈折率
層が積層されている反射防止膜において、低屈折率層の
上に含フッ素化合物を含むオーバーコート層をさらに積
層させ、オーバーコート層の材料が低屈折率層の空隙を
占有している割合を７０体積％未満とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体、低屈
折率層およびオーバーコート層が、この順で積層されて
いる反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレク
トロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表
示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けら
れている。反射防止膜としては、金属酸化物の透明薄膜
を積層させた多層膜が従来から普通に用いられている。
複数の透明薄膜を用いるのは、様々な波長の光の反射を
防止するためである。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸
着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着
法の一種である真空蒸着法により形成されている。金属
酸化物の透明薄膜は、反射防止膜として優れた光学的性
質を有しているが、蒸着による形成方法は、生産性が低
く大量生産に適していない。蒸着法に代えて、透明支持
体上に光学的機能層を塗布により形成して反射防止膜を
製造する方法も提案されている。

【０００３】反射防止機能のためには、透明支持体の屈
折率よりも低い屈折率を有する層（低屈折率層）を設け
る必要がある。透明支持体上に複数の光学的機能層を設
ける場合、低屈折率層は透明支持体から最も遠い側に設
けられる。塗布層の屈折率を低下させるためには、低屈
折率層内に空隙を導入する方法が有効である。空気の屈
折率は１．００であって、空隙中に空気を含む層は、非
常に低い屈折率を有する。低屈折率層に微粒子を含ま
せ、微粒子間または微粒子内に空隙を形成する方法が提
案されている。特公昭６０−５９２５０号公報は、微細
空孔と微粒子状無機物とを有する反射防止層を開示して
いる。反射防止層は、塗布により形成される。微細空孔
は、層の塗布後に活性化ガス処理を行ない、ガスが層か
ら離脱することによって形成される。

【０００４】特開平２−２４５７０２号公報は、二種類
以上の超微粒子（例えば、ＭｇＦ₂とＳｉＯ₂ ）を混在
させて、膜厚方向にその混合比を変化させた反射防止膜
を開示している。混合比を変化させることにより屈折率
を変化させ、高屈折率層と低屈折率層を設けた反射防止
膜と同様の光学的性質を得ている。超微粒子は、エチル
シリケートの熱分解で生じたＳｉＯ₂ により接着してい
る。エチルシリケートの熱分解では、エチル部分の燃焼
によって、二酸化炭素と水蒸気も発生する。同公報の第
１図に示されているように、二酸化炭素と水蒸気が層か
ら離脱することにより、超微粒子の間に間隙が生じてい
る。特開平７−４８５２７号公報は、多孔質シリカより
なる無機微粉末とバインダーとを含有する反射防止膜を
開示している。特開平９−２８８２０１号公報は、含フ
ッ素ポリマーからなる微粒子を二個以上積み重ねること
により、微粒子間に空隙を形成した低屈折率層を有する
反射防止膜を開示している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】空隙を有する低屈折率
層は、空隙中の空気によって非常に低い屈折率が得られ
るとの特徴がある。一方、低屈折率層は、低屈折率層は
透明支持体から最も遠い側、すなわち反射防止膜の表面
側に設けられる。そのため、低屈折率層の表面は汚れや
すく、傷も付きやすい。汚れや傷により、低屈折率層の
反射防止機能が低下する。表面側の層を汚れから保護
し、耐傷性を向上させるためには、含フッ素化合物を含
むオーバーコート層を表面側の層の上に設ける対策が、
反射防止膜の技術分野に限らず一般に、良く知られてい
る。しかし、本発明者が研究したところ、空隙を有する
低屈折率層の上に、含フッ素化合物を含むオーバーコー
ト層を設けようとすると、オーバーコート層の塗布液が
低屈折率層の空隙に浸入して、低屈折率層の空隙率が低
下する問題が認められた。低屈折率層の空隙率が低下す
れば、低屈折率層の屈折率は上昇してしまう。本発明の
目的は、低屈折率層の屈折率を上昇させることなく、低
屈折率層の表面が汚れから保護され、かつ耐傷性も改善
されている反射防止膜を提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（８）の反射防止膜および下記（９）の画像表
示装置により達成された。 （１）透明支持体および透明支持体の屈折率よりも低い
屈折率と３乃至５０体積％の空隙率とを有する低屈折率
層が積層されている反射防止膜であって、低屈折率層の
上に含フッ素化合物を含むオーバーコート層がさらに積
層されており、オーバーコート層の材料が低屈折率層の
空隙を占有している割合が７０体積％未満であることを
特徴とする反射防止膜。 （２）オーバーコート層が粒径が１０ｎｍ以上の含フッ
素化合物の微粒子を含む（１）に記載の反射防止膜。 （３）オーバーコート層の塗布量が、低屈折率層の空隙
の量の８０体積％以下である（１）に記載の反射防止
膜。

【０００７】（４）含フッ素化合物が重量平均分子量２
万以上の含フッ素ポリマーであることを特徴とする
（１）に記載の反射防止膜。 （５）含フッ素化合物が含フッ素ポリマーであり、含フ
ッ素ポリマーがオーバーコート層の形成後に架橋してい
る（１）または（４）に記載の反射防止膜。 （６）含フッ素ポリマーが放射線照射により架橋してい
る（５）に記載の反射防止膜。 （７）低屈折率層が微粒子を含み、微粒子間または微粒
子内に空隙が形成されている（１）に記載の反射防止
膜。 （８）透明支持体の屈折率よりも高い屈折率を有する高
屈折率層が、透明支持体と低屈折率層との間に設けられ
ている（１）に記載の反射防止膜。 （９）画像表示面上に、透明支持体および透明支持体よ
りも低い屈折率と３乃至５０体積％の空隙率とを有する
低屈折率層がこの順に積層されている反射防止膜であっ
て、該低屈折率層の上に含フッ素化合物を含むオーバー
コート層がさらに積層されており、オーバーコート層の
材料が低屈折率層の空隙を占有している割合が７０体積
％未満であることを特徴とする画像表示装置。本明細書
において、低屈折率層の空隙と空隙率は、オーバーコー
ト層の材料が占有している部分を含めた空隙とその割合
を意味する。

【０００８】

【発明の効果】本発明者の研究により、空隙を有する低
屈折率層の上に含フッ素化合物を含むオーバーコート層
を設けても、オーバーコート層の材料が低屈折率層の空
隙を占有している割合が７０体積％未満とすることが可
能であることが判明した。第１に、オーバーコート層中
の含フッ素化合物を、粒径が１０ｎｍ以上の含フッ素化
合物の微粒子とすれば、微粒子が空隙の開口を塞ぐこと
になり、低屈折率層の空隙が維持される。第２に、オー
バーコート層の塗布量を、低屈折率層の空隙の８０体積
％以下となるように調整することによっても、低屈折率
層の空隙を維持することができる。第３に、オーバーコ
ート層中の含フッ素ポリマーの重量平均分子量を２万以
上にすることにより、ポリマーの溶液中での回転二乗半
径（Ｒｇ）の二倍が空隙のサイズ以上となり、空隙中に
拡散しなくなるため、低屈折率層の空隙が維持される。
以上の結果、本発明の反射防止膜では、低屈折率層の屈
折率を上昇させることなく、低屈折率層の表面が汚れか
ら保護され、耐傷性も改善されている。このような反射
防止膜を用いることで、画像表示装置の画像表示面にお
ける光の反射を有効に防止することができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜の基本的な構
成を図面を引用しながら説明する。図１は、反射防止膜
の主な層構成を示す断面模式図である。図１の（ａ）に
示す態様は、透明支持体（１）、低屈折率層（３）、そ
してオーバーコート層（３）の順序の層構成を有する。
透明支持体（１）と低屈折率層（２）は、以下の関係を
満足する屈折率を有する。低屈折率層の屈折率＜透明支
持体の屈折率図１の（ｂ）に示す態様は、透明支持体
（１）、ハードコート層（４）、低屈折率層（２）、そ
してオーバーコート層（３）の順序の層構成を有する。
透明支持体（１）と低屈折率層（２）の屈折率の関係
は、上記（ａ）と同様である。図１の（ｃ）に示す態様
は、透明支持体（１）、ハードコート層（４）、高屈折
率層（５）、低屈折率層（２）、そしてオーバーコート
層（３）の順序の層構成を有する。透明支持体（１）、
高屈折率層（５）および低屈折率層（２）は、以下の関
係を満足する屈折率を有する。低屈折率層の屈折率＜透
明支持体の屈折率＜高屈折率層の屈折率図１の（ｄ）に
示す態様は、透明支持体（１）、ハードコート層
（４）、中屈折率層（６）、高屈折率層（５）、低屈折
率層（２）、そしてオーバーコート層（３）の順序の層
構成を有する。透明支持体（１）、中屈折率層（６）、
高屈折率層（５）および低屈折率層（２）は、以下の関
係を満足する屈折率を有する。低屈折率層の屈折率＜透
明支持体の屈折率＜中屈折率層の屈折率＜高屈折率層の
屈折率図２は、本発明の好ましい態様における低屈折率
層とオーバーコート層の断面模式図である。図２に示す
低屈折率層（２）は、微粒子（２１）およびバインダー
（２２）を含む。そして、微粒子（２１）間に空隙（２
３）が形成されている。空隙は、微粒子の内部に存在し
ていてもよい。オーバーコート層（３）は、粒径が１０
ｎｍ以上の含フッ素化合物の微粒子（３１）を含む。含
フッ素化合物の微粒子（３１）により、低屈折率層
（２）の空隙（２３）の開口が塞がれるため、オーバー
コート層（３）の形成後も、低屈折率層（２）の空隙
（２３）が維持されている。

【００１０】図３は、本発明の別の好ましい態様におけ
る低屈折率層とオーバーコート層の断面模式図である。
図３に示す低屈折率層（２）も、微粒子（２１）および
バインダー（２２）を含む。そして、微粒子（２１）間
に空隙（２３）が形成されている。オーバーコート層
（３）の塗布量は、低屈折率層（２）の空隙（２３）の
８０体積％以下に調整されている。言い換えると、オー
バーコート層（３）の塗布量は、低屈折率層（３）の表
面に付着する程度の量に調整されている。そのため、オ
ーバーコート層（３）の塗布液が低屈折率層（２）の空
隙（２３）に浸入する量が少なく、オーバーコート層
（３）の形成後も、低屈折率層（２）の空隙（２３）が
維持されている。図４は、本発明の別の好ましい態様に
おける低屈折率層とオーバーコート層の断面模式図であ
る。図４においても、低屈折率層（２）は、微粒子（２
１）およびバインダー（２２）を含む。そして、微粒子
（２１）間に空隙（２３）が形成されている。オーバー
コート層（３）は重量平均分子量２万以上の含フッ素ポ
リマーからなり、低屈折率層の表面の凹凸は覆うが、低
屈折率層内部の空隙（２３）には浸入しない。従って、
オーバーコート層（３）の形成後も、低屈折率層（２）
の空隙（２３）が維持される。この態様の場合、オーバ
ーコート層（３）の塗布量を低屈折率層（２）の空隙
（２３）の容積以上に塗布しても空隙が維持される。そ
のため、図４に示す態様では、オーバーコート層（３）
が連続層として、低屈折率層（２）の表面を覆ってい
る。

【００１１】［透明支持体］透明支持体としては、プラ
スチックフイルムを用いることが好ましい。プラスチッ
クフイルムを形成するポリマーの例には、セルロースエ
ステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセル
ロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロー
ス、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロー
ス）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエ
タン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテ
レフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチッ
クポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエー
テルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエー
テルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリ
カーボネートおよびポリエチレンテレフタレートが好ま
しい。透明支持体の光透過率は、８０％以上であること
が好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。
透明支持体のヘイズは、２．０％以下であることが好ま
しく、１．０％以下であることがさらに好ましい。透明
支持体の屈折率は、１．４乃至１．７であることが好ま
しい。

【００１２】［ハードコート層］透明支持体に耐傷性を
付与するために、ハードコート層を支持体表面に設ける
ことが好ましい。ハードコート層は、架橋しているポリ
マーを含むことが好ましい。架橋しているポリマーを含
むハードコート層は、多官能モノマーと重合開始剤を含
む塗布液を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーを重
合させることにより形成できる。多官能モノマーは、多
価アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエス
テルであることが好ましい。多価アルコールの例には、
エチレングリコール、１，４−シクロヘキサノール、ペ
ンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、トリメ
チロールエタン、ジペンタエリスリトール、１，２，４
−シクロヘキサノール、ポリウレタンポリオールおよび
ポリエステルポリオールが含まれる。トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトー
ルおよびポリウレタンポリオールが好ましい。二種類以
上の多官能モノマーを併用してもよい。多官能モノマー
の重合反応には、光重合開始剤を用いることが好まし
い。光重合開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾ
フェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、α−
アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサル
ファイドおよびチオキサントン類が含まれる。光重合開
始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の例
には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ
−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサ
ントンが含まれる。

【００１３】光重合開始剤は、多官能モノマー１００重
量部に対して、０．１乃至１５重量部の範囲で使用する
ことが好ましく、１乃至１０重量部の範囲で使用するこ
とがさらに好ましい。光重合反応は、ハードコート層の
塗布および乾燥後、紫外線照射により実施することが好
ましい。ハードコート層には、充填剤を添加することが
好ましい。充填剤はハードコート層の硬度を高くし、多
官能モノマーの硬化収縮を抑える機能がある。充填剤と
しては、無機微粒子または有機微粒子を用いることが好
ましい。無機微粒子の例には、二酸化ケイ素粒子、二酸
チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化錫粒子、炭酸
カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク、カオリン
および硫酸カルシウム粒子が含まれる。有機微粒子の例
には、メタクリル酸−メチルアクリレートコポリマー粉
末、シリコン樹脂粉末、ポリスチレン粉末、ポリカーボ
ネート粉末、アクリル酸−スチレンコポリマー粉末、ベ
ンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン樹脂粉末、ポリオレ
フィン粉末、ポリエステル粉末、ポリアミド粉末、ポリ
イミド粉末およびポリフッ化エチレン粉末が含まれる。
充填剤として使用する微粒子の平均粒子径は、０．０１
乃至２μｍであることが好ましく、０．０２乃至０．５
μｍであることがさらに好ましい。ハードコート層また
はその塗布液には、さらに、着色剤（顔料、染料）、消
泡剤、増粘剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、
酸化防止剤や改質用樹脂を添加してもよい。ハードコー
ト層の厚さは、１乃至１５μｍであることが好ましい。

【００１４】［高屈折率層および中屈折率層］図１の
（ｂ）に示すように、透明支持体と低屈折率層との間
に、高屈折率層を設けてもよい。また、図１の（ｃ）に
示すように、透明支持体と高屈折率層との間に中屈折率
層を設けてもよい。高屈折率層の屈折率は、１．６５乃
至２．４０であることが好ましく、１．７０乃至２．２
０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率
は、透明支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間
の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、
１．５５乃至１．７０であることが好ましい。高屈折率
層および中屈折率層の厚さは、５ｎｍ乃至１００μｍで
あることが好ましく、１０ｎｍ乃至１０μｍであること
がさらに好ましく、３０ｎｍ乃至１μｍであることが最
も好ましい。高屈折率層および中屈折率層のヘイズは、
５％以下であることが好ましく、３％以下であることが
さらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
高屈折率層および中屈折率層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛
筆硬度でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上である
ことがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ま
しい。高屈折率層および中屈折率層は、無機微粒子とポ
リマーとを含むことが好ましい。

【００１５】高屈折率層および中屈折率層に用いる無機
微粒子は、屈折率が１．８０乃至２．８０であることが
好ましく、１．９０乃至２．８０であることがさらに好
ましい。無機微粒子の一次粒子の重量平均径は、１乃至
１５０ｎｍであることが好ましく、１乃至１００ｎｍで
あることがさらに好ましく、１乃至８０ｎｍであること
が最も好ましい。塗布層中の無機微粒子の重量平均径
は、１乃至２００ｎｍであるることが好ましく、５乃至
１５０ｎｍであることがより好ましく、１０乃至１００
ｎｍであることがさらに好ましく、１０乃至８０ｎｍで
あることが最も好ましい。無機微粒子の比表面積は、１
０乃至４００ｍ² ／ｇであることが好ましく、２０乃至
２００ｍ² ／ｇであることがさらに好ましく、３０乃至
１５０ｍ² ／ｇであることが最も好ましい。

【００１６】無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物
から形成することが好ましい。金属の酸化物または硫化
物の例には、二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナ
ターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化
錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよ
び硫化亜鉛が含まれる。二酸化チタン、酸化錫および酸
化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの
金属の酸化物または硫化物を主成分とし、さらに他の元
素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成
分の中で最も含有量（重量％）が多い成分を意味する。
他の元素の例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆ
ｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａ
ｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、ＰおよびＳが含まれる。無機微粒子を
表面処理してもよい。表面処理は、無機化合物または有
機化合物を用いて実施する。表面処理に用いる無機化合
物の例には、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウムおよ
び酸化鉄が含まれる。アルミナおよびシリカが好まし
い。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオー
ル、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップ
リング剤およびチタネートカップリング剤が含まれる。
シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表
面処理を組み合わせて実施してもよい。無機微粒子の形
状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不
定形状であることが好ましい。二種類以上の無機微粒子
を高屈折率層および中屈折率層内で併用してもよい。

【００１７】高屈折率層および中屈折率層中の無機微粒
子の割合は、５乃至６５体積％である。無機微粒子の割
合は、１０乃至６０体積％であることが好ましく、２０
乃至５５体積％であることがさらに好ましい。無機微粒
子は、分散物の状態で高屈折率層および中屈折率層の形
成に使用する。高屈折率層および中屈折率層の無機微粒
子の分散媒体は、沸点が６０乃至１７０℃の液体を用い
ることが好ましい。分散媒体の例には、水、アルコール
（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブ
タノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エ
チル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素
（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水
素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭
素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシ
レン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、エーテル
（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロ
フラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２
−プロパノール）が含まれる。トルエン、キシレン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノンおよびブタノールが特に好ましい。無機微粒子
は、分散機を用いて媒体中に分散できる。分散機の例に
は、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミ
ル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミ
ル、アトライターおよびコロイドミルが含まれる。サン
ドグラインダーミルおよび高速インペラーミルが特に好
ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分
散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロー
ルミル、ニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。

【００１８】中屈折率層および高屈折率層には、比較的
屈折率が高いポリマーを用いることが好ましい。屈折率
が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレン共重
合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香族）イ
ソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレ
タンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環式、脂
環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原
子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高い。二
重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマーの
重合反応によりポリマーを形成してもよい。

【００１９】［低屈折率層］低屈折率層の屈折率は、
１．２０乃至１．５５であることが好ましく、１．３０
乃至１．５５であることがさらに好ましい。低屈折率層
の厚さは、５０乃至４００ｎｍであることが好ましく、
５０乃至２００ｎｍであることがさらに好ましい。低屈
折率層は、オーバーコート層の形成前に、３乃至５０体
積％の空隙率を有する層として形成する。オーバーコー
ト層の形成前の低屈折率層の空隙率は、５乃至３５体積
％であることがさらに好ましい。低屈折率層の空隙は、
微粒子を用いて微粒子間または微粒子内のミクロボイド
として形成することができる。微粒子の平均粒径は、
０．５乃至２００ｍｍであることが好ましく、１乃至１
００ｎｍであることがより好ましく、３乃至７０ｎｍで
あることがさらに好ましく、５乃至４０ｎｍの範囲であ
ることが最も好ましい。微粒子の粒径は、なるべく均一
（単分散）であることが好ましい。無機微粒子あるいは
有機微粒子を低屈折率層に用いることができる。

【００２０】無機微粒子は、非晶質であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫化物また
はハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物ま
たは金属ハロゲン化物からなることがさらに好ましく、
金属酸化物または金属フッ化物からなることが最も好ま
しい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂ
ａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、
Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、
Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉが
好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、ＢおよびＳｉがさらに好まし
い。二種類の金属を含む無機化合物を用いてもよい。特
に好ましい無機化合物は、二酸化ケイ素、すなわちシリ
カである。

【００２１】無機微粒子内ミクロボイドは、例えば、粒
子を形成するシリカの分子を架橋させることにより形成
することができる。シリカの分子を架橋させると体積が
縮小し、粒子が多孔質になる。ミクロボイドを有する
（多孔質）無機微粒子は、ゾル−ゲル法（特開昭５３−
１１２７３２号、特公昭５７−９０５１号の各公報記
載）または析出法（APPLIED OPTICS、27、3356頁（198
8）記載）により、分散物として直接合成することがで
きる。また、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械的に
粉砕して分散物を得ることもできる。市販の多孔質無機
微粒子（例えば、二酸化ケイ素ゾル）を用いてもよい。
ミクロボイドを有する無機微粒子は、低屈折率層の形成
のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好
ましい。分散媒としては、水、アルコール（例、メタノ
ール、エタノール、イソプロピルアルコール）およびケ
トン（例、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン）が好ましい。

【００２２】有機微粒子も、非晶質であることが好まし
い。有機微粒子は、モノマーの重合反応（例えば乳化重
合法）により合成されるポリマー微粒子であることが好
ましい。有機微粒子のポリマーはフッ素原子を含むこと
が好ましい。ポリマー中のフッ素原子の割合は、３５乃
至８０重量％であることが好ましく、４５乃至７５重量
％であることがさらに好ましい。含フッ素ポリマーを合
成するために用いるフッ素原子を含むモノマーの例に
は、フルオロオレフィン類（例、フルオロエチレン、ビ
ニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキ
サフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチ
ル−１，３−ジオキソール）、アクリル酸またはメタク
リル酸のフッ素化アルキルエステル類およびフッ素化ビ
ニルエーテル類が含まれる。フッ素原子を含むモノマー
とフッ素原子を含まないモノマーとのコポリマーを用い
てもよい。フッ素原子を含まないモノマーの例には、オ
レフィン類（例、エチレン、プロピレン、イソプレン、
塩化ビニル、塩化ビニリデン）、アクリル酸エステル類
（例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類
（例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸ブチル）、スチレン類（例、スチレン、ビニル
トルエン、α−メチルスチレン）、ビニルエーテル類
（例、メチルビニルエーテル）、ビニルエステル類
（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル）、アクリルア
ミド類（例、Ｎ−tert−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シ
クロヘキシルアクリルアミド）、メタクリルアミド類お
よびアクリロニトリル類が含まれる。

【００２３】有機微粒子内ミクロボイドは、例えば、粒
子を形成するポリマーを架橋させることにより形成する
ことができる。ポリマーを架橋させると体積が縮小し、
粒子が多孔質になる。粒子を形成するポリマーを架橋さ
せるためには、ポリマーを合成するためのモノマーの２
０モル％以上を多官能モノマーとすることが好ましい。
多官能モノマーの割合は、３０乃至８０モル％であるこ
とがさらに好ましく、３５乃至５０モル％であることが
最も好ましい。多官能モノマーの例には、ジエン類
（例、ブタジエン、ペンタジエン）、多価アルコールと
アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジア
クリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）、多価ア
ルコールとメタクリル酸とのエステル（例、エチレング
リコールジメタクリレート、１，２，４−シクロヘキサ
ンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
メタクリレート）、ジビニル化合物（例、ジビニルシク
ロヘキサン、１，４−ジビニルベンゼン）、ジビニルス
ルホン、ビスアクリルアミド類（例、メチレンビスアク
リルアミド）およびビスメタクリルアミド類が含まれ
る。

【００２４】粒子間のミクロボイドは、微粒子を少なく
とも２個以上積み重ねることにより形成することができ
る。なお、粒径が等しい（完全な単分散の）球状微粒子
を最密充填すると、２６体積％の空隙率の微粒子間ミク
ロボイドが形成される。粒径が等しい球状微粒子を単純
立方充填すると、４８体積％の空隙率の微粒子間ミクロ
ボイドが形成される。実際の低屈折率層では、微粒子の
粒径の分布や粒子内ミクロボイドが存在するため、空隙
率は上記の理論値からかなり変動する。空隙率を増加さ
せると、低屈折率層の屈折率が低下する。微粒子を積み
重ねてミクロボイドを形成し、微粒子の粒径を調整する
ことで、粒子間ミクロボイドの大きさも適度の（光を散
乱せず、低屈折率層の強度に問題が生じない）値に容易
に調節できる。さらに、微粒子の粒径を均一にすること
で、粒子間ミクロボイドの大きさも均一である光学的に
均一な低屈折率層を得ることができる。これにより、低
屈折率層は微視的にはミクロボイド含有多孔質膜である
が、光学的あるいは巨視的には均一な膜にすることがで
きる。

【００２５】ミクロボイドを形成することにより、低屈
折率層の巨視的屈折率は、低屈折率層を構成する成分の
屈折率の和よりも低い値になる。層の屈折率は、層の構
成要素の体積当りの屈折率の和になる。微粒子やポリマ
ーのような低屈折率層の構成成分の屈折率は１よりも大
きな値であるのに対して、空気の屈折率は１．００であ
る。そのため、ミクロボイドを形成することによって、
屈折率が非常に低い低屈折率層を得ることができる。粒
子間ミクロボイドは、微粒子およびポリマーによって低
屈折率層内で閉じていることが好ましい。空隙を閉じる
と、オーバーコート層の形成後も空隙が低屈折率層内に
残存する。閉じている空隙には、低屈折率層表面に開か
れた開口と比較して、低屈折率層表面での光の散乱が少
ないとの利点もある。

【００２６】低屈折率層は、５乃至５０重量％の量のポ
リマーを含むことが好ましい。ポリマーは、微粒子を接
着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有
する。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低
屈折率層の強度を維持できるように調整する。ポリマー
の量は、低屈折率層の全量の１０乃至３０重量％である
ことが好ましい。ポリマーで微粒子を接着するために
は、（１）微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させる
か、（２）微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシ
ェルを形成するか、あるいは（３）微粒子間のバインダ
ーとして、ポリマーを使用することが好ましい。（１）
の表面処理剤に結合させるポリマーは、（２）のシェル
ポリマーまたは（３）のバインダーポリマーであること
が好ましい。（２）のポリマーは、低屈折率層の塗布液
の調製前に、微粒子の周囲に重合反応により形成するこ
とが好ましい。（３）のポリマーは、低屈折率層の塗布
液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または
塗布後に、重合反応により形成することが好ましい。
（１）〜（３）を二種類または三種類組み合わせて、実
施することが好ましく、（１）と（３）の二種類の組み
合わせ、または（１）〜（３）の三種類の組み合わせで
実施することが特に好ましい。（１）表面処理、（２）
シェルおよび（３）バインダーについて、順次説明す
る。

【００２７】（１）表面処理 微粒子（特に無機微粒子）には、表面処理を実施して、
ポリマーとの親和性を改善することが好ましい。表面処
理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理
的表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処
理に分類できる。化学的表面処理のみ、または物理的表
面処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが
好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキ
シメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカ
ップリング剤）が好ましく用いられる。微粒子が二酸化
ケイ素からなる場合は、シランカップリング剤による表
面処理が特に有効に実施できる。シランカップリング剤
の例には、オルトケイ酸のアルキルエステル（例、オル
トケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ
−プロピル、オルトケイ酸イソプロピル、オルトケイ酸
ｎ−ブチル、オルトケイ酸sec-ブチル、オルトケイ酸ｔ
−ブチル）およびその加水分解物が含まれる。カップリ
ング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリ
ング剤を加え、室温から６０℃までの温度で、数時間か
ら１０日間分散物を放置することにより実施できる。表
面処理反応を促進するため、無機酸（例、硫酸、塩酸、
硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、
リン酸、炭酸）、有機酸（例、酢酸、ポリアクリル酸、
ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン
酸）、またはこれらの塩（例、金属塩、アンモニウム
塩）を、分散物に添加してもよい。

【００２８】（２）シェル シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖とし
て有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を
主鎖または側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子
を側鎖に含むポリマーがさらに好ましい。ポリアクリル
酸エステルまたはポリメタクリル酸エステルが好まし
く、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸またはポリ
メタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリ
マーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増
加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるた
め、シェルポリマーは３５乃至８０重量％のフッ素原子
を含むことが好ましく、４５乃至７５重量％のフッ素原
子を含むことがさらに好ましい。フッ素原子を含むポリ
マーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの
重合反応により合成することが好ましい。フッ素原子を
含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレ
フィン（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライ
ド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキ
ソール）、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換ア
ルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステル
が含まれる。

【００２９】シェルを形成するポリマーは、フッ素原子
を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し単
位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を含
まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレン
性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好まし
い。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの
例には、オレフィン（例、エチレン、プロピレン、イソ
プレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン）、アクリル酸エ
ステル（例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル
（例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレー
ト）、スチレンおよびその誘導体（例、スチレン、ジビ
ニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレ
ン）、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル）、
ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル、桂皮酸ビニル）、アクリルアミド（例、Ｎ−tertブ
チルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミ
ド）、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが含ま
れる。

【００３０】後述する（３）のバインダーポリマーを併
用する場合は、シェルポリマーに架橋性官能基を導入し
て、シェルポリマーとバインダーポリマーとを架橋によ
り化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶
性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温
度（Ｔｇ）が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、
低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。ただ
し、Ｔｇが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微
粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されな
い（その結果、強度が低下する）場合がある。その場合
は、後述する（３）のバインダーポリマーを併用し、バ
インダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成
することが望ましい。微粒子の周囲にポリマーシェルを
形成して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェル微
粒子中に無機微粒子からなるコアが５乃至９０体積％含
まれていることが好ましく、１５乃至８０体積％含まれ
ていることがさらに好ましい。ポリマーシェルは、ラジ
カル重合法により形成することが好ましい。ラジカル重
合法については、大津隆行・木下雅悦共著、高分子合成
の実験法、化学同人(1972)および大津隆行、講座重合反
応論１ラジカル重合（Ｉ）、化学同人(1971)に記載があ
る。ラジカル重合法は、具体的には、乳化重合法または
分散重合により実施することが好ましい。乳化重合につ
いては、室井宗一、高分子ラテックスの化学、高分子刊
行会(1970)に記載がある。分散重合法については、Barr
ett, Keih E.J.、Dispersion Polymerization in Organ
ic Media、JOHN WILLEY & SONS(1975)に記載がある。

【００３１】乳化重合法に使用する熱重合開始剤の例に
は、無機過酸化物（例、過硫酸カリウム、過硫酸アンモ
ニウム）、アゾニトリル化合物（例、アゾビスシアノ吉
草酸ナトリウム）、アゾアミジン化合物（例、２，２’
−アゾビス（２−メチルプロピオンアミド）塩酸塩）、
環状アゾアミジン化合物（例、２，２’−アゾビス〔２
−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパ
ン塩酸塩）、アゾアミド化合物（例、２，２’−アゾビ
ス｛２−メチル−Ｎ−〔１，１’−ビス（ヒドロキシメ
チル）−２−ヒドロキシエチル〕プロピオンアミド）が
含まれる。無機過酸化物が好ましく、過硫酸カリウムお
よび過硫酸アンモニウムが特に好ましい。分散重合法に
使用する熱重合開始剤の例には、アゾ化合物（例、２，
２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、ジメチル−
２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、ジ
メチル−２，２’−アゾビスイソブチレート）および有
機過酸化物（例、ラウリルパーオキシド、ベンゾイルパ
ーオキシド、tert−ブチルパーオクトエート）が含まれ
る。

【００３２】分散重合法では、表面処理された微粒子に
ポリマー分散剤を加え、モノマーと重合開始剤を溶解
し、生成するポリマーは不溶である重合媒体中で重合反
応を実施することが好ましい。重合媒体の例には、水、
アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、２−メトキシ−１−プロパノー
ル、ブタノール、ｔ−ブタノール、ペンタノール、ネオ
ペンタノール、シクロヘキサノール、１−メトキシ−２
−プロパノール）、メチルエチルケトン、アセトニトリ
ル、テトラヒドロフラン、酢酸エチルが含まれる。水、
メタノール、エタノールおよびイソプロパノールが好ま
しい。二種類以上の重合媒体を併用してもよい。乳化重
合法または分散重合法において、連鎖移動剤を使用して
もよい。連鎖移動剤の例には、ハロゲン化炭化水素
（例、四塩化炭素、四臭化炭素、二臭化酢酸エチル、三
臭化酢酸エチル、二臭化エチルベンゼン、二臭化エタ
ン、二塩化エタン）、炭化水素（例、ベンゼン、エチル
ベンゼン、イソプロピルベンゼン）、チオエーテル
（例、ジアゾチオエーテル）、メルカプタン（例、ｔ−
ドデシルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ヘ
キサデシルメルカプタン、ｎ−オクタデシルメルカプタ
ン、チオグリセロール）、ジスルフィド（例、ジイソプ
ロピルザントゲンジスルフィド）、チオグリコール酸お
よびその誘導体（例、チオグリコール酸、チオグリコー
ル酸２−エチルヘキシル、チオグリコール酸ブチル、チ
オグリコール酸メトキシブチル、トリメチロールプロパ
ントリス（チオグリコレート））が含まれる。二種類以
上のコアシェル微粒子を併用してもよい。また、シェル
のない無機微粒子とコアシェル粒子とを併用してもよ
い。

【００３３】（３）バインダー バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテ
ルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、
飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが
さらに好ましい。バインダーポリマーは架橋しているこ
とが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマ
ーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得る
ことが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得
るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽
和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メ
タ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレー
ト、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリ
アクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体
（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸
−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニル
シクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルス
ルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリル
アミド）およびメタクリルアミドが含まれる。ポリエー
テルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポキシ化
合物の開環重合反応により合成することが好ましい。

【００３４】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架
橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブ
ロックイソシアナート基のように、分解反応の結果とし
て架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明に
おいて架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分
解した結果反応性を示すものであってもよい。バインダ
ーポリマーの重合反応および架橋反応に使用する重合開
始剤は、（２）シェルポリマーの合成に用いる熱重合開
始剤よりも、光重合開始剤の方が好ましい。光重合開始
剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾ
フェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アン
トラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化
物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィ
ド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニ
ウム類がある。アセトフェノン類の例には、２，２−ジ
エトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノ
ン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４
−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよ
び２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モル
フォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン
類の例には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが
含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノ
ン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロ
ロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含
まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−
トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド
が含まれる。

【００３５】前記（２）のシェルポリマーと併用する場
合、バインダーポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）は、
シェルポリマーのＴｇよりも低いことが好ましい。バイ
ンダーポリマーのＴｇとシェルポリマーのＴｇとの温度
差は、５℃以上であることが好ましく、２０℃以上であ
ることがさらに好ましい。バインダーポリマーは、低屈
折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布
と同時または塗布後に重合反応（必要ならばさらに架橋
反応）により形成することが好ましい。低屈折率層の塗
布液に、少量のポリマー（例、ポリビニルアルコール、
ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリ
メチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセ
チルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、ア
ルキド樹脂）を添加してもよい。

【００３６】［オーバーコート層］オーバーコート層
は、含フッ素化合物を含む塗布液を、低屈折率層の上に
塗布して形成する。本発明では、オーバーコート層の材
料が低屈折率層の空隙を占有している割合を７０体積％
未満とする。オーバーコート層の材料が低屈折率層の空
隙を占有している割合は、５０体積％未満であることが
好ましく、４０体積％未満であることがより好ましく、
３０体積％未満であることがさらに好ましく、２０体積
％未満であることが最も好ましい。低屈折率層の空隙を
残してオーバーコート層を形成するためには、様々な手
段が採用できる。例えば、前述したように低屈折率層の
空隙を微粒子とバインダーポリマーで閉じた状態で形成
すれば、オーバーコート層を塗布により形成しても低屈
折率層の空隙が残存する。また、オーバーコート層の塗
布液が低屈折率層の空隙に浸入しないように塗布液の粘
度を高くしてもよい。具体的には、オーバーコート層中
の含フッ素化合物を粒径１０ｎｍ以上の微粒子とする
か、オーバーコート層の塗布量を低屈折率層の空隙の８
０体積％以下となるように調整するか、あるいはオーバ
ーコート層中の含フッ素化合物を重量平均分子量２万以
上の含フッ素ポリマーとする。重量平均分子量２万以上
の含フッ素ポリマーを用いる方法が特に好ましい。

【００３７】オーバーコート層中の含フッ素化合物を微
粒子とする方法では、微粒子のサイズを低屈折率層の空
隙の開口サイズよりも大きくなるように調製する。これ
により、微粒子は低屈折率層表面の開口部を塞ぎ、オー
バーコート層は低屈折率層の内部の空隙には拡散しな
い。微粒子の粒径は、１０ｎｍ以上であることが好まし
く、１０乃至１００ｎｍであることがより好ましく、１
５乃至７０ｎｍであることがさらに好ましく、２０乃至
５０ｎｍであることが最も好ましい。含フッ素化合物の
微粒子は、含フッ素化合物の溶液を乳化することにより
形成できる。また、含フッ素化合物の溶液から微粒子を
析出してもよい。さらに、含フッ素ポリマーのラテック
スを微粒子として用いてもよい。含フッ素ポリマーのラ
テックスは、含フッ素モノマーを乳化重合させて得るこ
とができる。市販のフッ素系微粒子の分散物も使用でき
る。オーバーコート層の塗布量を低屈折率層の空隙の８
０体積％以下となるように調整する方法では、オーバー
コート層を表面に付着する程度の量とすることで、低屈
折率層の空隙を維持する。オーバーコート層の塗布量
は、オーバーコート層形成前の低屈折率層の空隙の７０
体積％以下であることがさらに好ましく、６０体積％以
下であることが特に好ましい。オーバーコートの塗布量
は、一般に２ｍｇ／ｍ² 以上である。

【００３８】オーバーコート層中の含フッ素化合物を重
量平均分子量２万以上の含フッ素ポリマーとする方法で
は、高分子量のポリマーを用いてオーバーコート層の塗
布液が低屈折率層の内部の空隙中に拡散しないようにす
る。含フッ素ポリマーの重量平均分子量は、４万乃至２
００万であることがさらに好ましく、５万乃至１００万
であることが最も好ましい。

【００３９】オーバーコート層に用いる含フッ素化合物
としては、含フッ素界面活性剤、含フッ素ポリマー、含
フッ素エーテルおよび含フッ素シラン化合物が好ましく
用いられる。含フッ素界面活性剤としては、親水性部が
アニオン性、カチオン性、ノニオン性、および両性のい
ずれでも良い。含フッ素界面活性剤では、疎水性部を構
成する炭化水素の水素原子の一部または全部がフッ素原
子により置換されている。含フッ素ポリマーは、フッ素
原子を含むエチレン性不飽和モノマー（含フッ素モノマ
ー）の重合反応により合成することが好ましい。含フッ
素モノマーの例には、フルオロオレフィン（例、フルオ
ロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロ
エチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプ
ロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−
ジオキソール）、フッ素置換アルコールとアクリル酸ま
たはメタアクリル酸とのエステルおよびフッ素化ビニル
エーテルが含まれる。二種類以上の含フッ素モノマーか
ら得られるコポリマーを用いてもよい。含フッ素モノマ
ーとフッ素原子を含有しないモノマーとのコポリマーを
用いてもよい。フッ素原子を含有しないモノマーの例に
は、オレフィン（例、エチレン、プロピレン、イソプレ
ン、塩化ビニル、塩化ビニリデン）、アクリル酸エステ
ル（例、アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリ
ル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタク
リル酸エステル（例、メタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジ
メタクリレート）、スチレンおよびその誘導体（例、ス
チレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチ
ルスチレン）、ビニルエーテル（例、メチルビニルエー
テル）、ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プロピオン
酸ビニル、桂皮酸ビニル）、アクリルアミド（例、Ｎ−
tert−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアク
リルアミド）、メタクリルアミド、アクリロニトリルお
よびその誘導体が含まれる。

【００４０】オーバーコート層に滑り性を付与するた
め、含フッ素ポリマーに、ポリオルガノシロキサンから
なる繰り返し単位を導入してもよい。ポリオルガノシロ
キサンからなる繰り返し単位を有する含フッ素ポリマー
は、例えば、末端に反応性基を持つポリオルガノシロキ
サンと含フッ素モノマーとの重合によって得られる。反
応性基は、エチレン不飽和性モノマー（例、アクリル酸
およびそのエステル、メタクリル酸およびそのエステ
ル、ビニルエーテル、スチレンおよび誘導体）をポリオ
ルガノシロキサンの末端に化学的に結合させる。市販の
含フッ素ポリマー、例えば、サイトップ（旭硝子（株）
製）、テフロンＡＦ（デュポン社製）、ルミフロン（旭
硝子（株）製）、オプスター（ＪＳＲ（株）製）を用い
てもよい。含フッ素エーテルは、一般に潤滑剤として使
用されている化合物である。含フッ素エーテルの例に
は、パーフルオロポリエーテルおよびその誘導体が含ま
れる。含フッ素シラン化合物の例には、パーフルオロア
ルキル基を含むシラン化合物（例、ヘプタデカフルオロ
−１，２，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラ
ン）が含まれる。市販の含フッ素シラン化合物、例え
ば、ＫＢＭ−７８０３、ＫＰ−８０１Ｍ（信越化学
（株）製）を用いてもよい。

【００４１】オーバーコート層に用いる含フッ素化合物
は、フッ素原子を３０乃至８０重量％の範囲で含むこと
が好ましく、４０乃至７５重量％の範囲で含むことがさ
らに好ましい。オーバーコート層に含フッ素ポリマーを
用いることが特に好ましい。含フッ素ポリマーは、さら
に架橋していることが好ましい。具体的には、架橋性基
を含フッ素ポリマーに導入するか、あるいは架橋剤を用
いて含フッ素ポリマーを架橋させる。架橋性基は含フッ
素ポリマーに側鎖として導入することが好ましい。含フ
ッ素ポリマーの合成において架橋性基を有するモノマー
を共重合することにより、架橋性基を含フッ素ポリマー
に側鎖として導入できる。また、２以上の架橋性基を有
する化合物（架橋剤）を含フッ素ポリマーの側鎖と反応
させることにより、含フッ素ポリマーを架橋させること
ができる。架橋性基は、光（好ましくは紫外線）や電子
ビーム（ＥＢ）のような放射線の照射あるいは加熱によ
り反応して含フッ素ポリマーを架橋させる官能基である
ことが好ましい。放射線の照射により架橋させる官能基
であることがさらに好ましく、紫外線の照射により架橋
させる官能基であることが最も好ましい。すなわち、架
橋反応の処理温度が低いと、支持体の平面性の悪化が少
なく、製造工程の加熱ラインを短縮できる。また、紫外
線の照射は、比較的安価な設備で実施できるとの利点が
ある。架橋性基の例には、アクリロイル、メタクリロイ
ル、アリル、イソシアナート、エポキシ、アルコキシシ
リル、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボ
ニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロールおよび活
性メチレンが含まれる。オーバーコート層の厚さは、２
乃至５０ｎｍであることが好ましく、５乃至３０ｎｍで
あることがさらに好ましく、５乃至２０ｎｍであること
が最も好ましい。

【００４２】［反射防止膜］反射防止膜には、以上述べ
た以外の層を設けてもよい。例えば、透明支持体の上に
は、ハードコート層に加えて、接着層、シールド層、滑
り層や帯電防止層を設けてもよい。シールド層は、電磁
波や赤外線を遮蔽するために設けられる。反射防止膜
は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していても
よい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を
形成することにより得られる。反射防止膜のヘイズは、
３乃至３０％であることが好ましく、５乃至２０％であ
ることがさらに好ましく、７乃至２０％であることが最
も好ましい。反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロル
ミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置
（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用する。反射防止
膜の透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着す
る。

【００４３】

【実施例】［実施例１］ （ハードコート層用塗布液の調製）市販のハードコート
材料（デソライトＺ７５０３、ＪＳＲ（株）製）のメチ
ルエチルケトン溶液（固形分濃度：７２重量％、シリカ
含量：３８重量％）６２５ｇを、メチルエチルケトンと
シクロヘキサノンとの混合溶媒（重量比：５０／５０）
３７５ｇに混合した。混合物を撹拌した後、孔径０．４
μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコ
ート層の塗布液を調製した。

【００４４】（二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタ
ン（一次粒子重量平均粒径：５０ｎｍ、屈折率：２．７
０）３０重量部、アニオン性ジアクリレートモノマー
（商品名：ＰＭ２１、日本化薬（株）製）４．５重量
部、カチオン性メタクリレートモノマー（商品名：ＤＭ
ＡＥＡ、興人（株）製）０．３重量部およびメチルエチ
ルケトン６５．２重量部を、サンドグラインダーにより
分散し、二酸化チタン分散物を調製した。

【００４５】（中屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１５１．９ｇおよびメチルエチルケトン３７．０
ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）０．１４ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥ
ＴＸ、日本化薬（株）製）０．０４ｇを溶解した。さら
に、上記の二酸化チタン分散物６．１ｇおよびジペンタ
エリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化
薬（株）製）２．４ｇを加え、室温で３０分間攪拌した
後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾
過して、中屈折率層用塗布液を調製した。

【００４６】（高屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１１５２．８ｇおよびメチルエチルケトン３７．
２ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイ
ギー社製）０．０６ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤ
ＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇを溶解した。さ
らに、上記の二酸化チタン分散物１３．１３ｇおよびジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、
日本化薬（株）製）０．７６ｇを加え、室温で３０分間
攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィル
ターで濾過して、高屈折率層用塗布液を調製した。

【００４７】（低屈折率層用塗布液の調製）平均粒径が
１５ｎｍのシリカ微粒子のメタノール分散液（メタノー
ルシリカゾル、日産化学（株）製）２００ｇに、シラン
カップリング剤（ＫＢＭ−５０３、信越シリコーン
（株）製）３ｇおよび０．１Ｎ塩酸２ｇを加え、室温で
５時間攪拌した後、３日間室温で放置して、シランカッ
プリング処理したシリカ微粒子分散物を調製した。分散
物３５．０４ｇに、イソプロピルアルコール５８．３５
ｇおよびジアセトンアルコール３９．３４ｇを加えた。
また、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）１．０２ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥ
ＴＸ、日本化薬（株）製）０．５１ｇを７７２．８５ｇ
のイソプロピルアルコールに溶解した溶液を加え、さら
にジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペン
タエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨ
Ａ、日本化薬（株）製）２５．６ｇを加えて溶解した。
得られた溶液６７．２３ｇを、上記分散液、イソプロピ
ルアルコールおよびジアセトンアルコールの混合液に添
加した。混合物を２０分間室温で撹拌し、孔径０．４μ
ｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率
層用塗布液を調製した。

【００４８】（オーバーコート層用塗布液の調製）熱架
橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２１４、ＪＳＲ（株）
製）にイソプロピルアルコールを加えて、０．６重量％
の粗分散液を調製した。粗分散液を超音波で微細分散
し、オーバーコート層用塗布液を調製した。塗布液中の
含フッ素ポリマー微粒子の平均粒径をコールターカウン
ターで測定したところ、３０ｎｍであった。

【００４９】（反射防止膜の作成）８０μｍの厚さのト
リアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、
富士写真フイルム（株）製）上に、上記のハードコート
層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布し、９０℃で
乾燥した後、紫外線を照射して、塗布層を硬化させ、厚
さ６μｍのハードコート層を形成した。その上に、上記
中屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、６
０℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化さ
せ、中屈折率層（屈折率：１．７２、厚さ：０．０８１
μｍ）を形成した。その上に、上記高屈折率層用塗布液
をバーコーターを用いて塗布し、６０℃で乾燥した後、
紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折
率：１．９２、厚さ：０．０５３μｍ）を形成した。高
屈折率層の上に、上記低屈折率層用塗布液をバーコータ
ーを用いて塗布し、６０℃で乾燥した後、紫外線を照射
して塗布層を硬化させ、低屈折率層（屈折率：１．４
０、厚さ：０．０８５μｍ）を形成した。形成した低屈
折率層の空隙率は、１６体積％であった。低屈折率層の
上に、上記オーバーコート層用塗布液を＃３のバーコー
ターを用いて塗布し、１２０℃で１時間乾燥して、反射
防止膜を形成した。

【００５０】（反射防止膜の評価）得られたフィルムに
ついて、以下の項目の評価を行った。結果は、第１表に
示す。

【００５１】（１）平均反射率 分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７
８０ｎｍの波長領域において、入射角５゜における分光
反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの平均
反射率を示した。

【００５２】（２）低屈折率層の屈折率 反射率の測定結果から計算して、低屈折率層の屈折率を
フィッティングにより求めた。

【００５３】（３）表面接触角 反射防止膜を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時
間調湿した後、水に対する接触角を測定した。

【００５４】（４）指紋付着性評価 サンプル表面に指紋を付着させて、それを布（ベンコッ
トン、旭化成（株）製）で拭き取った時の状態を観察し
て、以下のように指紋付着製性を評価した。 Ａ：簡単に指紋が拭き取れた Ｂ：しっかり擦れば指紋が拭き取れた Ｃ：指紋の一部が拭き取れずに残った Ｄ：指紋のほとんどが拭き取れずに残った

【００５５】（５）鉛筆硬度評価 耐傷性の指標としてＪＩＳ−Ｋ−５４００が規定する鉛
筆硬度評価を行った。反射防止膜を温度２５℃、湿度６
０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６の
規定に従う２Ｈおよび３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋ
ｇの荷重にて５回試験を行い、３／５以上の試験で傷が
全く認められない硬度を測定した。

【００５６】（６）対傷性試験 ＃００００のスチールウールを用い、１０円硬貨の面積
に４００ｇの荷重をかけ、十往復したときの傷の程度で
評価した。 Ａ：傷が全く付かない。 Ｂ：少し傷が付くが、見えにくい。 Ｃ：顕著に傷が付く。

【００５７】（７）動摩擦係数測定 表面滑り性の指標として動摩擦係数を評価した。動摩擦
係数は試料を温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時
間調湿した後、動摩擦測定機（ＨＥＩＤＯＮ−１４）
で、直径５ｍｍのステンレス鋼球を用い、荷重１００
ｇ、速度６０ｃｍ／分にて測定した値を用いた。

【００５８】［実施例２］下記のフルオロデシルメタク
リレートをフッ素系界面活性剤の存在下で乳化重合し、
ラテックスを得た。 （フルオロデシルメタクリレート） ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ）ＣＯＯＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｃ₈ Ｆ₁₇ ラテックスを透析により界面活性剤を除いた後、水／メ
タノール＝７／３の組成になるように、固形分２％まで
希釈した。ラテックスを室温乾燥し、粒径をＳＥＭで確
認したところ、約１５ｎｍであった。希釈したラテック
スをオーバーコート層用塗布液として用いた以外は、実
施例１と同様にして、反射防止膜を作製して評価した。
結果を第１表に示す。

【００５９】［比較例１］熱架橋性含フッ素ポリマー
（ＪＮ−７２１４、ＪＳＲ（株）製）をメチルイソブチ
ルケトンに溶解して、０．６重量％溶液を調製した。得
られた溶液をオーバーコート層用塗布液として用いた以
外は、実施例１と同様にして反射防止膜を作製して評価
した。結果を第１表に示す。なお、オーバーコート層の
材料は、低屈折率層の空隙の９４体積％を占有してい
た。

【００６０】［比較例２］オーバ−コート層を設けなか
った以外は、実施例１と同様にして反射防止膜を作製し
て評価した。結果を第１表に示す。

【００６１】

【表１】 第１表 ──────────────────────────────────── 反射 空隙 平均 低屈折率 表面 指紋 鉛筆 耐 動摩擦 防止膜 占有率 反射率 層屈折率 接触角 付着性 硬度 傷性 係数 ──────────────────────────────────── 実１ ２５％ ０．４１ １．４２ １００ Ｂ ３Ｈ Ｂ ０．３３ 実２ ３３％ ０．４５ １．４４ ９８ Ｂ ３Ｈ Ｂ ０．３０ 比１ ９４％ ０．８２ １．４７ １０４ Ｂ ３Ｈ Ａ ０．２５ 比２ 空隙なし ０．３０ １．４０ ４５ Ｄ ２Ｈ Ｃ ０．５０ ────────────────────────────────────

【００６２】［実施例３］含フッ素シランカップリング
剤（ＫＰ−８０１Ｍ、信越化学（株）製）をフッ素系溶
剤（フロリナートＦＣ−７、３Ｍ社製）に溶解して、
０．１５重量％溶液を調製した。得られた溶液をオーバ
ーコート層用塗布液として用い、実施例１で作成した低
屈折率層の上に、＃３のワイヤーバーを用いて塗布し、
１２０℃で３分間乾燥して反射防止膜を作成した。オー
バーコート層の塗布量は、低屈折率層の空隙の１９体積
％となるように調整した。オーバーコート層の材料は、
低屈折率層の空隙の６体積％を占有していた。得られた
反射防止膜について、実施例１と同様に評価した。結果
を第２表に示す。

【００６３】［実施例４］熱架橋性含フッ素ポリマー
（ＪＮ−７２１４、ＪＳＲ（株）製）をメチルイソブチ
ルケトンに溶解して、０．３重量％溶液を調製した。得
られた溶液をオーバーコート層用塗布液として用い、実
施例１で作成した低屈折率層の上に、＃３のワイヤーバ
ーを用いて塗布し、１２０℃で１時間乾燥して反射防止
膜を作成した。オーバーコート層の塗布量は、低屈折率
層の空隙の３７体積％となるように調整した。オーバー
コート層の材料は、低屈折率層の空隙の２５体積％を占
有していた。得られた反射防止膜について、実施例１と
同様に評価した。結果を第２表に示す。

【００６４】［実施例５］紫外線架橋性含フッ素ポリマ
ー（ＴＭ−０１１、ＪＳＲ（株）製）０．３重量％、光
重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）
０．０２重量％および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）０．０１重量％を含むメチルイ
ソブチルケトン溶液を調製した。得られた溶液をオーバ
ーコート層用塗布液として用い、実施例１で作成した低
屈折率層上に、＃３のワイヤーバーを用いて塗布し、６
０℃で１分間乾燥した後、直ちに１２Ｗ／ｃｍの高圧水
銀灯を用いて１分間紫外線照射して、反射防止膜を作成
した。オーバーコート層の塗布量は、低屈折率層の空隙
の３７体積％となるように調整した。オーバーコート層
の材料は、低屈折率層の空隙の２５体積％を占有してい
た。得られた反射防止膜について、実施例１と同様に評
価した。結果を第２表に示す。

【００６５】［比較例３］含フッ素シランカップリング
剤（ＫＰ−８０１Ｍ、信越化学（株）製）をフッ素系溶
剤（フロリナートＦＣ−７、３Ｍ社製）に溶解して、
０．１５重量％溶液を調製した。得られた溶液をオーバ
ーコート層用塗布液として用い、実施例１で作成した低
屈折率層の上に、＃３のワイヤーバーを用いて塗布し、
１２０℃で３分間乾燥して反射防止膜を作成した。オー
バーコート層の塗布量は、低屈折率層の空隙の９０体積
％となるように調整した。オーバーコート層の材料は、
低屈折率層の空隙の９４体積％を占有していた。得られ
た反射防止膜について、実施例１と同様に評価した。結
果を第２表に示す。

【００６６】

【表２】 第２表 ──────────────────────────────────── 反射 塗布 空隙 平均 低屈折率 表面 指 鉛筆 耐 動摩擦 防止膜 量 占有率 反射率 層屈折率 接触角 紋 硬度 傷 係数 ──────────────────────────────────── 実３ １９％ ６％ ０．３４ １．４０ １１０ Ｂ ２Ｈ Ｂ ０．３０ 実４ ３７％ ２５％ ０．４０ １．４２ １０４ Ｂ ３Ｈ Ｂ ０．２８ 実５ ３７％ ２５％ ０．３８ １．４２ １０３ Ｂ ３Ｈ Ｂ ０．２３ 比３ ９０％ ９４％ ０．８２ １．４７ １０９ Ｂ ２Ｈ Ｃ ０．３０ ────────────────────────────────────

【００６７】［実施例６］重量平均分子量が２０万であ
る市販の含フッ素ポリマー（サイトップＣＴＸ−８０９
Ａ、旭硝子（株）製）を、市販のフッ素系溶剤（フロリ
ナートＦＣ７７、住友３Ｍ（株）製）に溶解して、１．
５重量％溶液を調製した。得られた溶液をオーバーコー
ト層用塗布液として用い、実施例１で作成した低屈折率
層の上に、＃３のワイヤーバーを用いて塗布し、、１２
０℃で１時間乾燥して反射防止膜を作成した。オーバー
コート層の塗布量は空隙の１２０体積％となるように調
製した。オーバーコート層の材料は、低屈折率層の空隙
の３７体積％を占有していた。得られた反射防止膜につ
いて、実施例１と同様に評価した。結果を第３表に示
す。

【００６８】［実施例７］実施例４で用いた熱架橋性含
フッ素ポリマー（ＪＮ−７２１４，ＪＳＲ（株）製）の
低分子成分を除去した。得られた含フッ素ポリマーの分
子量は、数平均分子量で５万、重量平均分子量で７万で
あった。得られた含フッ素ポリマーをメチルイソブチル
ケトンに溶解して、１．０重量％溶液を調製した。得ら
れた溶液をオーバーコート層用塗布液として用い、実施
例１で作成した低屈折率層の上に＃３のワイヤーバーを
用いて塗布し、１２０℃で１時間乾燥して反射防止膜を
作成した。オーバーコート層の塗布量は空隙の１２０体
積％となるように調整した。オーバーコート層の材料
は、低屈折率層の空隙の４０体積％を占有していた。得
られた反射防止膜について、実施例１と同様に評価し
た。結果を第３表に示す。

【００６９】［実施例８］下記の含フッ素ポリマーを合
成した。

【００７０】

【化１】

【００７１】含フッ素ポリマーの分子量は、数平均分子
量で２．５万、重量平均分子量で４万であった。含フッ
素ポリマーをメチルイソブチルケトンに溶解して、１．
０重量％溶液を調製した。得られた溶液をオーバーコー
ト層用塗布液として用い、実施例１で作成した低屈折率
層の上に＃３のワイヤーバーを用いて塗布し、１２０℃
で１時間乾燥して反射防止膜を作成した。オーバーコー
ト層の塗布量は空隙の１２０体積％となるように調整し
た。オーバーコート層の材料は、低屈折率層の空隙の４
８体積％を占有していた。得られた反射防止膜につい
て、実施例１と同様に評価した。結果を第３表に示す。

【００７２】［実施例９］実施例５で用いた紫外線架橋
性含フッ素ポリマー（ＴＭ−０１１、ＪＳＲ（株）製）
の低分子成分を除去した。得られた含フッ素ポリマーの
分子量は、数平均分子量で６万、重量平均分子量で８万
であった。得られた含フッ素ポリマーをメチルイソブチ
ルケトンに溶解して、１．０重量％溶液を調製した。得
られた溶液をオーバーコート層用塗布液として用い、実
施例１で作成した低屈折率層の上に＃３のワイヤーバー
を用いて塗布し、６０℃で１分間乾燥した後、直ちに１
２Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて１分間紫外線を照射し
て塗布層を硬化させ、反射防止膜を作成した。オーバー
コート層の塗布量は空隙の１２０体積％となるように調
整した。オーバーコート層の材料は、低屈折率層の空隙
の３７体積％を占有していた。得られた反射防止膜につ
いて、実施例１と同様に評価した。結果を第３表に示
す。

【００７３】［比較例４］分子量が低下するように重合
条件を調整した以外は、実施例８と同様にして含フッ素
ポリマー合成した。得られた含フッ素ポリマーの分子量
は、数平均で７０００、重量平均分子量で１．１万であ
った。得られた含フッ素ポリマーをメチルイソブチルケ
トンに溶解して、１．０重量％溶液を調整した。得られ
た溶液をオーバーコート層用塗布液として用い、実施例
１で作成した低屈折率層の上に＃３のワイヤーバーを用
いて塗布し、１２０℃で１時間乾燥して反射防止膜を作
成した。オーバーコート層の塗布量は空隙の１２０体積
％となるように調整した。オーバーコート層の材料は、
低屈折率層の空隙の９５体積％を占有していた。得られ
た反射防止膜について、実施例１と同様に評価した。結
果を第３表に示す。

【００７４】

【表３】 第３表 ──────────────────────────────────── 反射 分子 空隙 平均 低屈折率 表面 指 鉛筆 耐 動摩擦 防止膜 量 占有率 反射率 層屈折率 接触角 紋 硬度 傷 係数 ──────────────────────────────────── 実６ ２０万 ３７％ ０．４３ １．４４ １１０ Ａ ３Ｈ Ｂ ０．３０ 実７ ７万 ４０％ ０．４２ １．４４ １０４ Ａ ３Ｈ Ａ ０．１２ 実８ ４万 ４８％ ０．４８ １．４５ ９８ Ａ ３Ｈ Ａ ０．２２ 実９ ８万 ３７％ ０．３７ １．４４ １０７ Ａ ３Ｈ Ａ ０．２０ 比４ 1.1万 ９５％ ０．８４ １．４７ ９８ Ｂ ３Ｈ Ｂ ０．２５ ────────────────────────────────────

【図面の簡単な説明】

【図１】反射防止膜の様々な層構成を示す断面模式図で
ある。

【図２】本発明の好ましい態様における低屈折率層とオ
ーバーコート層の断面模式図である。

【図３】本発明の別の好ましい態様における低屈折率層
とオーバーコート層の断面模式図である。

【図４】本発明のさらに別の好ましい態様における低屈
折率層とオーバーコート層の断面模式図である。

【符号の説明】 １ 透明支持体 ２ 低屈折率層 ３ オーバーコート層 ４ ハードコート層 ５ 高屈折率層 ６ 中屈折率層 ２１ 低屈折率層の微粒子 ２２ 低屈折率層のバインダー ２３ 低屈折率層内の空隙 ３１ 含フッ素化合物の微粒子

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明支持体および透明支持体よりも低い
   屈折率と３乃至５０体積％の空隙率とを有する低屈折率
   層が積層されている反射防止膜であって、該低屈折率層
   の上に含フッ素化合物を含むオーバーコート層がさらに
   積層されており、オーバーコート層の材料が低屈折率層
   の空隙を占有している割合が７０体積％未満であること
   を特徴とする反射防止膜。
2. 【請求項２】 オーバーコート層が粒径１０ｎｍ以上の
   含フッ素化合物の微粒子を含む請求項１に記載の反射防
   止膜。
3. 【請求項３】 オーバーコート層の塗布量が、低屈折率
   層の空隙の量の８０体積％以下である請求項１に記載の
   反射防止膜。
4. 【請求項４】 含フッ素化合物が重量平均分子量２万以
   上の含フッ素ポリマーである請求項１に記載の反射防止
   膜。
5. 【請求項５】 含フッ素化合物が含フッ素ポリマーであ
   り、含フッ素ポリマーがオーバーコート層の形成後に架
   橋している請求項１または４に記載の反射防止膜。
6. 【請求項６】 含フッ素ポリマーが放射線照射により架
   橋している請求項５に記載の反射防止膜。
7. 【請求項７】 低屈折率層が微粒子を含み、微粒子間ま
   たは微粒子内に空隙が形成されている請求項１に記載の
   反射防止膜。
8. 【請求項８】 透明支持体の屈折率よりも高い屈折率を
   有する高屈折率層が、透明支持体と低屈折率層との間に
   設けられている請求項１に記載の反射防止膜。
9. 【請求項９】 画像表示面上に、透明支持体および透明
   支持体よりも低い屈折率と３乃至５０体積％の空隙率と
   を有する低屈折率層がこの順に積層されている画像表示
   装置であって、該低屈折率層の上に含フッ素化合物を含
   むオーバーコート層がさらに積層されており、オーバー
   コート層の材料が低屈折率層の空隙を占有している割合
   が７０体積％未満であることを特徴とする画像表示装
   置。