JP2000072675A - 医薬組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】優れたＰＤＥ Ｖ阻害作用を有するイソキノリ
ノン誘導体を有効成分とする医薬組成物を提供するもの
である。 【解決手段】 一般式〔Ｉ〕 【化１】 （式中、環Ａ及び環Ｂは同一または異なって置換もしく
は非置換ベンゼン環、Ｒ¹ は（１）水素原子、（２）
置換もしくは非置換低級アルキル基、（３）置換もしく
は非置換シクロ低級アルキル基、（４）置換もしくは非
置換アリール基、（５）置換もしくは非置換複素環式
基、または（６）モノもしくはジ置換されていてもよい
アミノ基、Ｒ²は式：−ＣＯＯＲ³または式：−ＣＯＮ
（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）で示される基であり、Ｒ³が水素原子ま
たはエステル残基、−Ｎ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）で示される基が
置換もしくは非置換含窒素脂肪族複素環式基または置換
もしくは非置換アミノ基を表す。）で示されるイソキノ
リノン誘導体またはその薬理的に許容し得る塩を有効成
分とする医薬組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は医薬組成物に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に、細胞内セカンドメッセンジャー
であるｃＧＭＰは、生体内の組織に広く分布するホスホ
ジエステラーゼ（ＰＤＥ）により分解され不活性化され
るが、該ＰＤＥ活性を阻害すると、細胞内のｃＧＭＰの
濃度が上昇し、その結果、種々の薬理作用、例えば、血
管平滑筋弛緩作用、気管支平滑筋弛緩作用等が発現する
ことが知られている。

【０００３】また、このようなｃＧＭＰ特異的ＰＤＥ阻
害薬（即ち、ＰＤＥ Ｖ阻害薬）は、血小板凝集抑制作
用、血管拡張作用等を示す〔Ｃ．Ｄ．Ｎｉｃｈｏｌｓｏ
ｎら，トレンズ・イン・ファーマコロジカル・サイエン
シーズ，第１２巻，第１９頁（１９９１）（Ｔｒｅｎｄ
ｓ ｉｎ Ｐｈａｒｍａｃｏｌｏｇｉｃａｌ Ｓｃｉｅ
ｎｃｅｓ）〕ことから、ＰＤＥ Ｖ阻害薬は、気管支喘
息、血栓症、うつ病、脳血管閉塞後の中枢機能低下症、
脳血管痴呆症及び心不全などの治療薬として有用である
と考えられている。

【０００４】また、近年上記のようなＰＤＥ Ｖ阻害作
用を有する縮合ピリダジン系化合物等が、高血圧症、狭
心症、心筋梗塞、慢性及び急性心不全、肺高血圧症等の
予防・治療に有用であることが知られている（特開平８
−２２５５４１号等）。更に、ＰＤＥ Ｖ阻害作用を有
する１−〔４−エトキシ−３−（６，７−ジヒドロ−１
−メチル−７−オキソ−３−プロピル−１Ｈ−ピラゾロ
〔４，３−ｄ〕ピリミジン−５−イル）フェニルスルホ
ニル〕−４−メチルピペラジン〔一般名；シルデナフィ
ル（ＳＩＬＤＥＮＡＦＩＬ）〕が陰茎勃起不全等の疾患
の治療に有用であることも報告されている〔Ｂｏｏｌｅ
ｌｌ Ｍら，ジャーナル・オブ・ウロロジー，第１５５
巻，第５号，第４９５Ａ頁（１９９６）（Ｊｏｕｒｎａ
ｌ ｏｆＵｒｏｌｏｇｙ．），Ｔｅｒｒｅｔｔ Ｎ Ｋ
ら，バイオオルガニック・アンド・メディシナル・ケミ
ストリー・レターズ，第６巻，第１５号，第１８１９−
２４頁（１９９６）（Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ ＆ Ｍｅ
ｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒ
ｓ）及びＢａｌｌａｒｄ Ｓ Ａら，ブリティシュ・ジ
ャーナル・オブ・ファーマコロジー，第１１８巻，第１
５３頁（１９９６）（Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｊｏｕｒｎａｌ
ｏｆ Ｐｈａｒｍａｃｏｌｏｇｙ）〕。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、優れたｃＧ
ＭＰ特異的ホスホジエステラーゼ（ＰＤＥ）阻害作用
［ＰＤＥ Ｖ阻害作用］を有する新規イソキノリノン誘
導体を有効成分としてなる医薬組成物に関するものであ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式〔Ｉ〕

【０００７】

【化１３】

【０００８】（式中、環Ａ及び環Ｂは同一または異なっ
て置換もしくは非置換ベンゼン環、Ｒ¹は（１）水素原
子、（２）置換もしくは非置換低級アルキル基、（３）
置換もしくは非置換シクロ低級アルキル基、（４）置換
もしくは非置換アリール基、（５）置換もしくは非置換
複素環式基、または（６）モノもしくはジ置換されてい
てもよいアミノ基、Ｒ²は式：−ＣＯＯＲ³または式：−
ＣＯＮ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）で示される基であり、Ｒ³が水素
原子またはエステル残基、−Ｎ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）で示され
る基が置換もしくは非置換含窒素脂肪族複素環式基また
は置換もしくは非置換アミノ基を表す。）で示されるイ
ソキノリノン誘導体またはその薬理的に許容し得る塩を
有効成分としてなる医薬組成物を提供するものである。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の有効成分としては、化合
物〔Ｉ〕のうち、一般式〔Ｉ−Ｅ〕

【００１０】

【化１４】

【００１１】（式中、環Ａ及び環Ｂは同一または異なっ
て置換もしくは非置換ベンゼン環、Ｒ¹は（１）水素原
子、（２）置換もしくは非置換低級アルキル基、（３）
置換もしくは非置換シクロ低級アルキル基、（４）置換
もしくは非置換アリール基、（５）置換もしくは非置換
複素環式基、または（６）モノもしくはジ置換されてい
てもよいアミノ基、Ｒ²は式：−ＣＯＯＲ³または式：−
ＣＯＮ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）で示される基であり、Ｒ³が水素
原子またはエステル残基、−Ｎ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）で示され
る基が置換もしくは非置換含窒素脂肪族複素環式基また
は置換もしくは非置換アミノ基を表す。但し、Ｒ¹が水
素原子または置換もしくは非置換低級アルキル基である
場合には、環Ａ及び環Ｂの少なくとも一方が２個以上の
低級アルコキシ基で置換されたベンゼン環である。）で
示されるイソキノリノン誘導体またはその薬理的に許容
し得る塩が好ましい。

【００１２】化合物〔Ｉ〕において、式：−ＣＯＯＲ³
で示される基としては、Ｒ³が水素原子またはベンジル
基、ニトロベンジル基、保護されていてもよいアミノベ
ンジル基、低級アルコキシベンジル基等のアリール低級
アルキル基、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基等の低級アルキル基、シクロペンチル基等のシクロ低
級アルキル基、あるいはトリメチルシリルメチル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリルメチル基等のトリ低級ア
ルキルシリル低級アルキル基の如きエステル残基である
ものが挙げられる。基Ｒ²が式：−ＣＯＮ（Ｒ⁴）
（Ｒ⁵）で示される基である場合、−Ｎ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）
で示される基としては、例えば、ヒドロキシ低級アルキ
ル基置換ピペラジニル基、モルホリノ基、ピロリジニル
基、ピペリジニル基の如き置換もしくは非置換含窒素５
〜６員脂肪族複素環式基、またはイミダゾリル基置換低
級アルキルアミノ基、モノもしくはジ低級アルキルアミ
ノ基、アミノ基の如き置換もしくは非置換アミノ基が挙
げられる。

【００１３】本発明の有効成分である化合物〔Ｉ〕の環
Ａ及び環Ｂとしては、同一または異なる１〜４個の置換
基を有していてもよいベンゼン環であって、当該環Ａ及
び環Ｂ上の置換基が、保護されていてもよい水酸基、低
級アルキレンジオキシ基、ハロゲン原子、低級アルキル
基、モノもしくはジ低級アルキルカルバモイルオキシ基
または式：Ｒ⁶ −（ＣＯ）_n−Ｏ−で示される基であっ
て、Ｒ⁶は置換もしくは非置換低級アルキル基、置換も
しくは非置換低級アルケニル基、置換もしくは非置換シ
クロ低級アルキル基、置換もしくは非置換アリール基、
置換もしくは非置換アリールスルホニル基または置換も
しくは非置換複素環式基であり、ｎは０または１である
ベンゼン環が挙げられる。

【００１４】より具体的には、本発明の有効成分である
化合物〔Ｉ〕の環Ａとしては、同一または異なる１〜４
個の置換基を有していてもよいベンゼン環であって、当
該環Ａ上の置換基が、保護されていてもよい水酸基、低
級アルキレンジオキシ基、ハロゲン原子、低級アルキル
基、モノもしくはジ低級アルキルカルバモイルオキシ基
または式：Ｒ⁶−（ＣＯ）_n−Ｏ−で示される基であっ
て、Ｒ⁶が置換もしくは非置換低級アルキル基、置換も
しくは非置換低級アルケニル基、置換もしくは非置換シ
クロ低級アルキル基、置換もしくは非置換アリール基、
置換もしくは非置換アリールスルホニル基または置換も
しくは非置換複素環式基であり、ｎは０または１である
ベンゼン環が挙げられる。また環Ｂとしては、同一また
は異なる１〜４個の置換基を有していてもよいベンゼン
環であって、当該環Ｂ上の置換基が、保護されていても
よい水酸基、低級アルコキシ基、低級アルキル基、ハロ
ゲン原子または低級アルキレンジオキシ基であるベンゼ
ン環が挙げられる。

【００１５】本発明の有効成分である化合物〔Ｉ〕にお
いて、環Ａが、同一または異なる１〜４個の置換基を有
していてもよいベンゼン環であり、当該環Ａ上の置換基
が、保護されていてもよい水酸基、低級アルキレンジオ
キシ基または式：Ｒ⁶−（ＣＯ）_n−Ｏ−で示される基で
あって、Ｒ⁶は置換もしくは非置換低級アルキル基、置
換もしくは非置換シクロ低級アルキル基、置換もしくは
非置換アリール基または置換もしくは非置換複素環式基
であり、ｎは０または１であり、環Ｂが、同一または異
なる１〜４個の置換基を有していてもよいベンゼン環で
あり、当該環Ｂ上の置換基が、保護されていてもよい水
酸基、低級アルコキシ基、低級アルキル基及びハロゲン
原子から選ばれる基であり、Ｒ¹が水素原子、置換もし
くは非置換低級アルキル基、置換もしくは非置換シクロ
低級アルキル基、置換もしくは非置換アリール基、置換
もしくは非置換複素環式基、またはモノもしくはジ置換
されていてもよいアミノ基であり、Ｒ²が式：−ＣＯＯ
Ｒ³で示される基であり、Ｒ³が水素原子または低級アル
キル基である化合物が挙げられる。

【００１６】本発明の有効成分である化合物〔Ｉ〕にお
ける環Ａ及び環Ｂの好ましい例としては、例えば、環Ａ
が式：

【００１７】

【化１５】

【００１８】（式中、Ａ¹及びＡ²は、同一または異なっ
て、水素原子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン
原子、低級アルキル基、モノもしくはジ低級アルキルカ
ルバモイルオキシ基及び式：Ｒ⁶−（ＣＯ）_n−Ｏ−で示
される基から選ばれる基、またはＡ¹及びＡ²は互いに末
端で結合してなる低級アルキレンジオキシ基を表す。）
で示されるベンゼン環であり、環Ｂが、式：

【００１９】

【化１６】

【００２０】（式中、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³は、同一または
異なって、保護されていてもよい水酸基、低級アルコキ
シ基、低級アルキル基及びハロゲン原子から選ばれる基
又はＢ¹、Ｂ²及びＢ³は、１つが水素であり、２つが互
いに末端で結合してなる低級アルキレンジオキシ基を表
す。）で示されるベンゼン環である化合物が挙げられ
る。

【００２１】環Ａ及び／または環Ｂが、式：Ｒ⁶−（Ｃ
Ｏ）_n−Ｏ−で示される置換基を有する場合、かかる基
Ｒ⁶の具体例としては、（１）水酸基置換低級アルキル
基、低級アルキル基、オキソ基及び低級アルコキシカル
ボニル基から選ばれる同一または異なる１〜４個の基で
置換されていてもよい５〜１０員単環もしくは二環式複
素環式基；低級アルキレンジオキシ基、カルボキシル
基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシ基、
スルファモイル基、カルバモイル基、ニトロ基、保護さ
れていてもよいアミノ基、フェニル基、ハロゲン原子、
モノ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、
低級アルキルピペラジノカルボニル基、水酸基置換低級
アルキル基及び低級アルキル基から選ばれる同一または
異なる１〜４個の基で置換されていてもよい６〜１０員
単環式もしくは二環式アリール基；シアノ基；カルボキ
シル基；モノもしくはジ低級アルキルアミノ基；低級ア
ルコキシ基置換低級アルコキシ基；低級アルコキシ基；
水酸基；カルバモイル基；低級アルコキシカルボニル
基；シクロ低級アルキル基；及びベンゾイル基から選ば
れる同一または異なる１〜２個の基で置換されていても
よい低級アルキル基、または（２）低級アルキル基、シ
アノ基、カルボキシル基、モノもしくはジ低級アルキル
アミノ基、低級アルコキシ基置換低級アルキル基、水酸
基、低級アルコキシ基、カルバモイル基、低級アルコキ
シカルボニル基及びニトロ基から選ばれる同一または異
なる１〜４個の基で置換されていてよい５〜１０員単環
もしくは二環式複素環式基が挙げられる。

【００２２】また当該６〜１０員単環式もしくは二環式
アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基
等が挙げられ、５〜１０員単環もしくは二環式複素環式
基としては、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル
基、ピペリジル基、ピペラジニル基、ピロリジニル基、
イソキノリル基、キノリル基、テトラゾリル基、チエニ
ル基、フリル基、モルホリノ基、ピロリル基、ベンズイ
ミダゾリル基、イミダゾリル基、キナゾリル基、フタラ
ジニル基等が挙げられる。

【００２３】本発明の有効成分である化合物〔Ｉ〕のよ
り好ましい例としては、例えば、環Ａが式：

【００２４】

【化１７】

【００２５】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるベンゼン環であり、環Ｂが、式：

【００２６】

【化１８】

【００２７】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるベンゼン環である化合物（以下、化合
物〔Ｉ−Ｃ〕と称する）が挙げられる。

【００２８】また、環Ａ及び環Ｂのうち、更に好ましい
例としては、例えば、環Ａが式：

【００２９】

【化１９】

【００３０】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるベンゼン環であり、環Ｂが、式：

【００３１】

【化２０】

【００３２】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるベンゼン環である化合物（以下、化合
物〔Ｉ−Ｄ〕と称する）が挙げられる。

【００３３】上記の環Ａ上の置換基（Ａ¹及びＡ²）の具
体例としては、保護されていてもよい水酸基；低級アル
キレンジオキシフェニル基、ベンズイミダゾリル基、低
級アルキル基置換イミダゾリル基、シアノ基、カルボキ
シル基、ピリジル基、Ｎ−オキソピリジル基、水酸基置
換低級アルキル基で置換されたピリジル基、ピロリジニ
ル基、イソキノリル基、ピリミジニル基、ピラジニル
基、キナゾリル基、フタラジニル基、低級アルコキシカ
ルボニル基置換ピペリジル基、ピペリジル基、キノリル
基、テトラゾリル基、チエニル基、フリル基、低級アル
キル基及び低級アルコキシカルボニル基で置換されたピ
ロリル基、モノもしくはジ低級アルキルアミノ基、低級
アルコキシ基置換低級アルコキシ基、低級アルコキシ
基、水酸基、カルバモイル基、低級アルコキシカルボニ
ル基、シクロ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル
基で置換されたフェニル基、カルボキシル基置換フェニ
ル基、低級アルコキシカルボニル基置換フェニル基、ベ
ンゾイル基、モノもしくはジ低級アルコキシ基置換フェ
ニル基、ニトロ基置換フェニル基、ナフチル基、モノも
しくはジハロゲノフェニル基、カルバモイル基置換フェ
ニル基、スルファモイル基置換フェニル基、保護されて
いてもよいアミノ基でモノもしくはジ置換されたフェニ
ル基、ビフェニル基、ハロゲン原子及びニトロ基でジ置
換されたフェニル基、モノ低級アルキルアミノ基置換フ
ェニル基、ジ低級アルキルアミノ基置換フェニル基、低
級アルキルピペラジノカルボニル基置換フェニル基及び
低級アルキル基置換フェニル基から選ばれる基で置換さ
れていてもよい低級アルコキシ基；ハロゲン原子；低級
アルキル基；シクロ低級アルコキシ基；ピリジルオキシ
基；低級アルケニルオキシ基；モルホリノカルボニルオ
キシ基；低級アルキル基置換ピペラジニルカルボニルオ
キシ基；低級アルキル基及びニトロ基で置換されたピロ
リルカルボニルオキシ基；ピロリルカルボニルオキシ
基；モノもしくはジ低級アルキルカルバモイルオキシ
基；低級アルキル基置換フェニルスルホニルオキシ基；
ベンゾイルオキシ基；またはＡ¹及びＡ²は互いに末端で
結合してなる低級アルキレンジオキシ基等が挙げられ
る。

【００３４】化合物〔Ｉ〕のＲ¹が置換もしくは非置換
アリール基である場合、当該アリール基としては、一部
が飽和していてもよい単環、二環もしくは三環式の６〜
１４員アリール基が挙げられる。単環式アリール基とし
てはフェニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロヘキ
セニル基等が挙げられる。二環式アリール基としてはナ
フチル基、インデニル基、インダニル基、アズレニル基
等が挙げられる。また、三環式アリール基としてはフル
オレニル基、フェナントレニル基、アントラセニル基等
が挙げられる。

【００３５】化合物〔Ｉ〕におけるＲ¹が置換もしくは
非置換複素環式基である場合、当該複素環式基として
は、一部が飽和していてもよい単環式または二環式の５
〜１２員の複素環式基が挙げられ、具体的には、一部が
飽和していてもよい単環式または二環式の５〜１２員芳
香族複素環式基あるいは単環もしくは二環式の５〜１２
員脂肪族複素環式基が挙げられる。

【００３６】単環式または二環式の５〜１２員芳香族複
素環式基としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子か
ら選ばれる１〜４個の異項原子を含む単環もしくは二環
式の５〜１０員芳香族複素環式基であるものが好まし
く、例えば、ピラニル基、インダゾリル基、ベンゾトリ
アゾリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、フリル基、
チエニル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、オキ
サゾリル基、オキサゾリニル基、ピラゾリル基、フタラ
ジニル基、キナゾリニル基、チエノピリミジニル基、ピ
リジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニ
ル基、トリアジニル基、テトラゾリル基、キノリル基、
イソキノリル基、キノキサリニル基、インドリル基、ベ
ンゾチエニル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾ
リル基またはベンズイミダゾリル基及びこれらの一部が
飽和している基等が挙げられる。

【００３７】単環もしくは二環式の５〜１２員の脂肪族
複素環式基としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子
から選ばれる１〜４個の異項原子を含む単環式５〜１０
員脂肪族複素環式基であるものが好ましく、例えばピペ
ラジニル基、ピロリジニル基、ピペリジル基、ピラゾリ
ジニル基、キヌクリジニル基、チオモルホリノ基、モル
ホリノ基、ヘキサヒドロピリミジニル基、テトラヒドロ
フラニル基、テトラヒドロピラニル基またはジオキサニ
ル基等が挙げられる。

【００３８】化合物〔Ｉ〕のＲ¹における低級アルキル
基上の置換基としては、例えば、ピペリジル基、ピリジ
ル基、イミダゾリル基、低級アルキル基置換ピペリジル
基、フリル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、
低級アルキル基及びオキソ基で置換されたジヒドロピリ
ジル基、ピペラジニル基、低級アルコキシカルボニル基
置換ピペラジニル基、シクロ低級アルキル基、フェニル
基、低級アルキレンジオキシフェニル基、低級アルコキ
シカルボニル基、水酸基、水酸基置換低級アルコキシ
基、カルボキシル基、低級アルコキシ基、保護されてい
てもよいアミノ基、カルバモイル基、ジ低級アルキルア
ミノ基、ピリジルカルボニルオキシ基等が挙げられる。

【００３９】また、Ｒ¹における低級アルキル基は、上
記置換基を同一または異なって１〜３個有していてもよ
い。

【００４０】化合物〔Ｉ〕のＲ¹におけるシクロ低級ア
ルキル基上の置換基としては、低級アルコキシカルボニ
ル基、水酸基、カルボキシル基、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、水酸基置換低級アルキル基、保護されて
いてもよいアミノ基等が挙げられる。

【００４１】また、Ｒ¹におけるシクロ低級アルキル基
は、上記置換基を同一または異なって１〜３個有してい
てもよい。

【００４２】化合物〔Ｉ〕のＲ¹におけるアリール基上
の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、モノもしく
はジ低級アルキルアミノ基、モルホリノ基、低級アルキ
ル基置換ピリミジニル基、低級アルキル基置換ピラゾリ
ル基、水酸基置換低級アルキル基、保護されていてもよ
いアミノ基、低級アルカノイル基置換アミノ基、低級ア
ルコキシ基、低級アルキル基、保護されていてもよい水
酸基、カルボキシル基置換低級アルキル基、低級アルコ
キシカルボニル基置換低級アルキル基、低級アルコキシ
カルボニル基置換低級アルコキシ基、カルバモイル基、
カルボキシル基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ
カルボニル基、ニトロ基、トリハロゲノ低級アルキル
基、モルホリノカルボニル基、カルボキシル基置換低級
アルコキシ基、ジ（低級アルキルスルホニル）アミノ
基、モルホリノ低級アルキルカルバモイル基置換低級ア
ルコキシ基、スルファモイル基、保護されていてもよい
アミノ基で置換された低級アルキル基、低級アルキル基
及びアミノ基の保護基で置換されたアミノ基、低級アル
キレンジオキシ基、保護されていてもよいアミノ基で置
換されたカルバモイル基、低級アルキルスルフィニル
基、低級アルキルスルホニル基等が挙げられる。

【００４３】また、Ｒ¹におけるアリール基は、上記置
換基を同一または異なって１〜４個有していてもよい。

【００４４】化合物〔Ｉ〕のＲ¹における複素環式基上
の置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、低級アルキ
ル基、フェニル基置換低級アルキル基、水酸基置換低級
アルキル基、オキソ基、低級アルコキシ基、保護されて
いてもよいアミノ基、モノもしくはジ低級アルキルアミ
ノ基、フェニル低級アルコキシカルボニル基、低級アル
コキシカルボニル基、カルボキシル基、カルバモイル基
等が挙げられる。

【００４５】また、Ｒ¹における複素環式基は、上記置
換基を同一または異なって１〜４個有していてもよい。

【００４６】化合物〔Ｉ〕のＲ¹におけるモノもしくは
ジ置換されていてもよいアミノ基の置換基としては、同
一または異なって、アミノ基の保護基、ピリジル基、低
級アルカノイル基、低級アルキル基、水酸基置換低級ア
ルキル基、フェニル基、低級アルカノイルオキシ基置換
低級アルキル基、トリハロゲノ低級アルカノイル基等が
挙げられる。

【００４７】化合物〔Ｉ〕が保護されたアミノ基を有す
る場合は、当該アミノ基の保護基としては、例えば、置
換もしくは非置換低級アルコキシカルボニル基、低級ア
ルカノイル基等が挙げられ、具体的には、ベンジルオキ
シカルボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニ
ル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロ
ロエチルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基等が挙げられる。この
うち好ましいものとしては、置換低級アルコキシカルボ
ニル基及び非置換低級アルコキシカルボニル基が挙げら
れ、例えばベンジルオキシカルボニル基及びｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニル基が挙げられる。

【００４８】更に化合物〔Ｉ〕が保護された水酸基を有
する場合は、当該水酸基の保護基としては、置換もしく
は非置換アリール低級アルキル基、アシル基等の慣用の
保護基を挙げることができる。このうち好ましいものと
しては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等の如き非
置換アリール低級アルキル基、ホルミル基、アセチル
基、プロピオニル基、マロニル基、アクリロイル基、ベ
ンゾイル基等のアシル基が挙げられる。

【００４９】本発明の有効成分である化合物〔Ｉ〕のＲ
¹におけるアリール基としては、フェニル基、インダニ
ル基、フルオレニル基またはナフチル基等の単環、二環
もしくは三環式の６〜１４員アリール基が好ましく、Ｒ
¹における複素環式基としてはピペラジニル基、ピラニ
ル基、モルホリノ基、インダゾリル基、ピロリジニル
基、インドリル基、ベンゾトリアゾリル基、ピラジニル
基、ピリジル基、チオモルホリノ基、ピロリル基、キノ
リル基、イソキノリル基、フタラジニル基、イソオキサ
ゾリル基またはピペリジル基等の単環もしくは二環式の
５〜１２員複素環式基が好ましい。とりわけピペラジニ
ル基またはモルホリノ基等の単環の５〜７員含窒素脂肪
族複素環式基が好ましい。

【００５０】本発明の有効成分である化合物〔Ｉ−Ｃ〕
の好ましい化合物としては、Ａ¹及びＡ²が、同一または
異なって、保護された水酸基、低級アルコキシ基、ピリ
ジル低級アルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基置換
ピリジル低級アルコキシ基、Ｎ−オキソピリジル低級ア
ルコキシ基、ピラジニル低級アルコキシ基、キノリル低
級アルコキシ基、アミノ基置換フェニル基で置換された
低級アルコキシ基、モノもしくはジ低級アルキルアミノ
基置換フェニル基で置換された低級アルコキシ基、低級
アルコキシ基置換フェニル基で置換された低級アルコキ
シ基、ヒドロキシ低級アルキル基置換フェニル基で置換
された低級アルコキシ基、カルボキシル基置換フェニル
基で置換された低級アルコキシ基及びイソキノリル低級
アルコキシ基から選ばれる基であり、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³
が、同一または異なって、ハロゲン原子、低級アルキル
基及び低級アルコキシ基から選ばれる基であり、Ｒ
¹が、保護されていてもよいアミノ基で置換されていて
もよいフェニル基、保護されていてもよいアミノ基で置
換されていてもよいピリジル基及びモルホリノ基から選
ばれる基であり、Ｒ²が低級アルコキシカルボニル基ま
たはフェニル低級アルコキシカルボニル基である化合物
が挙げられる。

【００５１】本発明の有効成分である化合物〔Ｉ〕のう
ち、好ましい化合物としては、Ａ¹がフェニル基、ベン
ズイミダゾリル基、ピリジル基、水酸基置換低級アルキ
ル基で置換されたピリジル基、水酸基置換低級アルキル
基で置換されたフェニル基、イソキノリル基、ピラジニ
ル基、キノリル基、フリル基、カルボキシル基置換フェ
ニル基、モノもしくはジ低級アルコキシ基置換フェニル
基、ニトロ基置換フェニル基、保護されていてもよいア
ミノ基でモノもしくはジ置換されたフェニル基、低級ア
ルキルアミノ基で置換されたフェニル基、低級アルコキ
シカルボニル基置換フェニル基、モノもしくはジ低級ア
ルキルカルバモイル基置換フェニル基、（４−低級アル
キルピペラジニルカルボニル基置換）フェニル基および
Ｎ−オキソピリジル基から選ばれる基で置換されていて
もよい低級アルコキシ基であり、Ａ²が低級アルコキシ
基であり、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³が同一または異なって、ハ
ロゲン原子、低級アルキル基および低級アルコキシ基か
ら選ばれる基であり、Ｒ¹が保護されていてもよいアミ
ノ基で置換されたフェニル基、モルホリノ基またはチオ
モルホリノ基であり、Ｒ²が低級アルコキシカルボニル
基である化合物が挙げられる。

【００５２】本発明の有効成分である化合物〔Ｉ〕のう
ち、更に好ましい化合物としては、一般式〔Ｉ〕におい
て、環Ａが式：

【００５３】

【化２１】

【００５４】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるベンゼン環であり、環Ｂが、式：

【００５５】

【化２２】

【００５６】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるベンゼン環である化合物が挙げられ
る。該化合物のうち、特に好ましいものとして、Ｒ
⁶が、（１）低級アルキル基及び低級アルコキシカルボ
ニル基から選ばれる基で置換されていてもよいピロリル
基；ヒドロキシ低級アルキルで置換されていてもよいピ
リジル基；Ｎ−オキソピリジル基；ピラジニル基；ピペ
ラジニル基；チエニル基；カルボキシル、低級アルコキ
シカルボニル基、ニトロ基、アミノ基、モノもしくはジ
低級アルキルアミノ基、フェニル基、ハロゲン原子、低
級アルコキシ基、水酸基置換低級アルキル基及び低級ア
ルキル基から選ばれる同一又は異なる１〜３個の基で置
換されていてもよいフェニル基；ナフチル基；キノリル
基；イソキノリル基；ベンズイミダゾリル基；及びシク
ロ低級アルキル基から選ばれる基で置換されていてもよ
い低級アルキル基、または（２）低級アルキル基及びニ
トロ基から選ばれる基で置換されていてよいピロリル基
であり、Ａ²が水素原子または低級アルコキシ基であ
り、Ｒ¹がフェニル基、保護されていてもよいアミノ基
で置換されたフェニル基及びモルホリノ基から選ばれる
基であり、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³がハロゲン原子、低級アル
キル基及び低級アルコキシ基から選ばれる同一または異
なる基であり、ｎが０または１である化合物が挙げられ
る。

【００５７】本発明の有効成分である化合物〔Ｉ〕のう
ち、好ましい化合物として、Ａ¹がフェニル基、ベンズ
イミダゾリル基、ピリジル基、水酸基置換低級アルキル
基で置換されたピリジル基、水酸基置換低級アルキル基
で置換されたフェニル基、イソキノリル基、ピラジニル
基、キノリル基、フリル基、カルボキシル基置換フェニ
ル基、モノもしくはジ低級アルコキシ基置換フェニル
基、ニトロ基置換フェニル基、保護されていてもよいア
ミノ基でモノもしくはジ置換されたフェニル基、低級ア
ルキルアミノ基で置換されたフェニル基、低級アルコキ
シカルボニル基置換フェニル基、モノもしくはジ低級ア
ルキルカルバモイル基置換フェニル基、（４−低級アル
キルピペラジニル）カルボニル基置換フェニル基および
Ｎ−オキソピリジル基から選ばれる基で置換されていて
もよい低級アルコキシ基であり、Ａ²が水素原子又は低
級アルコキシ基であり、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³が同一または
異なって、ハロゲン原子、低級アルキル基および低級ア
ルコキシ基から選ばれる基であり、Ｒ¹が保護されてい
てもよいアミノ基で置換されたフェニル基、モルホリノ
基またはチオモルホリノ基であり、Ｒ²が低級アルコキ
シカルボニル基であり、ｎが０または１である化合物が
挙げられる。

【００５８】他のとりわけ好ましい化合物としては、環
Ａが、式：

【００５９】

【化２３】

【００６０】で示されるベンゼン環であり、環Ｂが、
式：

【００６１】

【化２４】

【００６２】で示されるベンゼン環である化合物〔Ｉ−
Ｄ〕において、Ａ¹が、保護されていてもよい水酸基ま
たはピリジル基、ヒドロキシ低級アルキル基置換ピリジ
ル基、Ｎ−オキソピリジル基、ピラジニル基、アミノ基
置換フェニル基、モノもしくはジ低級アルキルアミノ基
置換フェニル基、低級アルコキシ基置換フェニル基、ヒ
ドロキシ低級アルキル基置換フェニル基、イソキノリル
基およびキノリル基から選ばれる基で置換されていても
よい低級アルコキシ基であり、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³が、ハ
ロゲン原子、低級アルキル基及び低級アルコキシ基から
選ばれる同一または異なる基であり、Ｒ¹が、保護され
ていてもよいアミノ基で置換されていてもよいフェニル
基である化合物が挙げられる。

【００６３】本発明の有効成分である化合物〔Ｉ〕のう
ち、好ましい化合物としては、一般式〔Ｉ−Ａ〕

【００６４】

【化２５】

【００６５】（式中、環Ａおよび環Ｂは同一または異な
って、置換もしくは非置換ベンゼン環、Ｒ^1Aは置換もし
くは非置換アリール基または置換もしくは非置換複素環
式基、Ｒ³は水素原子またはエステル残基を表す。）で
示されるイソキノリノン誘導体があげられる。

【００６６】このような化合物〔Ｉ−Ａ〕としては、例
えば、環Ａおよび環Ｂが１〜４個の置換基を有していて
もよいベンゼン環であって、当該置換基は（ｉ）水酸
基；（ｉｉ）ハロゲン原子；（ｉｉｉ）低級アルキル
基；（ｉｖ）シクロ低級アルコキシ基；（ｖ）低級アル
キレンジオキシ基；（ｖｉ）低級アルコキシ基；（ｖｉ
ｉ）ニトロ基、ハロゲン原子、フェニル基、カルボキシ
ル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキル基、
低級アルコキシ基、アミノ基、モノもしくはジ低級アル
キルアミノ基および水酸基置換低級アルキル基からなる
群より選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいフ
ェニル基、水酸基、ベンゾイル基、低級アルコキシカル
ボニル基、カルボキシル基、モノもしくはジ低級アルキ
ルアミノ基、低級アルコキシ置換低級アルキル基、低級
アルコキシ基およびナフチル基からなる群より選ばれる
基で置換された低級アルコキシ基；および（ｖｉｉｉ）
窒素原子、酸素原子および硫黄原子よりなる群より選ば
れる１〜４個の異項原子を有する５〜１０員複素環式基
置換低級アルコキシ基（当該複素環式基はカルボキシル
基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキル基、水
酸基置換低級アルキル基、ニトロ基およびオキソ基から
なる群より選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよ
い）、Ｒ^1Aが保護されていてもよいアミノ基、ハロゲン
原子、モノもしくはジ低級アルキルアミノ基、モルホリ
ノ基、低級アルキル基置換ピリミジニル基、低級アルキ
ル基置換ピラゾリル基、水酸基置換低級アルキル基、低
級アルカノイル基置換アミノ基、低級アルコキシ基、低
級アルキル基、保護されていてもよい水酸基、カルボキ
シル基置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル
置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル置換低
級アルコキシ基、カルバモイル基、カルボキシル基、低
級アルキルチオ基、低級アルコキシカルボニル基、ニト
ロ基、トリハロゲノ低級アルキル基、モルホリノカルボ
ニル基、カルボキシル基置換低級アルコキシ基、ジ（低
級アルキルスルホニル）アミノ基、モルホリノ低級アル
キルカルバモイル基置換低級アルコキシ基、低級アルキ
ル基およびアミノ基の保護基で置換されたアミノ基、低
級アルキレンジオキシ基、保護されていてもよいアミノ
基で置換されたカルバモイル基、低級アルキルスルフィ
ニル基および低級アルキルスルホニル基からなる群より
選ばれる１〜４個の置換基を有していてもよいフェニル
基；または窒素原子、酸素原子および硫黄原子よりなる
群より選ばれる１〜４個の異項原子を有する５〜１０員
複素環式基（当該複素環式基は水酸基、ハロゲン原子、
低級アルキル基、フェニル置換低級アルキル基、水酸基
置換低級アルキル基、オキソ基、低級アルコキシ基、保
護されていてもよいアミノ基、モノもしくはジ低級アル
キルアミノ基、フェニル置換低級アルコキシカルボニル
基、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシル基およ
びカルバモイル基からなる群より選ばれる１〜４個の置
換基を有していてもよい）、およびＲ³が水素原子また
は低級アルキル基である化合物があげられる。

【００６７】また、本発明の有効成分として用いられる
化合物としては、一般式〔Ｉ−Ｂ〕

【００６８】

【化２６】

【００６９】（式中、環Ａ₂及び環Ｂ₂は、同一または異
なる１〜４個の置換基を有していてもよいベンゼン環で
あり、当該環Ａ₂及び環Ｂ₂上の置換基が、ホルミル基で
保護されていてもよい水酸基、低級アルキレンジオキシ
基、ハロゲン原子、低級アルキル基、モノもしくはジ低
級アルキルカルバモイルオキシ基又は式：Ｒ^6B−（Ｃ
Ｏ）ｎ−Ｏ−で示される基〔Ｒ^6Bは、（１）水酸基置換
低級アルキル基、低級アルキル基、オキソ基及び低級ア
ルコキシカルボニル基から選ばれる同一または異なる１
〜４個の基で置換されていてもよい複素環式基であっ
て、当該複素環部分が、ピリジル基、ピリミジニル基、
ピラジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、ピロリ
ジニル基、イソキノリル基、キノリル基、テトラゾリル
基、チエニル基、フリル基、モルホリノ基、ピロリル
基、ベンズイミダゾリル基、イミダゾリル基、キナゾリ
ル基及びフタラジニル基から選ばれる基である複素環式
基；フェニル基又はナフチル基（これらの基は、ベンジ
ルオキシカルボニル基、４−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル
基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，２，２−ト
リクロロエチルオキシカルボニル基及び低級アルカノイ
ル基から選ばれる基で保護されていてもよいアミノ基、
低級アルキレンジオキシ基、カルボキシル基、低級アル
コキシカルボニル基、低級アルコキシ基、スルファモイ
ル基、カルバモイル基、ニトロ基、フェニル基、ハロゲ
ン原子、モノ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルア
ミノ基、低級アルキルピペラジノカルボニル基、水酸基
置換低級アルキル基並びに低級アルキル基から選ばれる
同一または異なる１〜４個の基で置換されていてもよ
い）；シアノ基；カルボキシル基；モノもしくはジ低級
アルキルアミノ基；低級アルコキシ基置換低級アルコキ
シ基；低級アルコキシ基；水酸基；カルバモイル基；低
級アルコキシカルボニル基；シクロ低級アルキル基；及
びベンゾイル基から選ばれる同一または異なる１〜２個
の基で置換されていてもよい低級アルキル基、（２）低
級アルキル基、シアノ基、カルボキシル基、モノもしく
はジ低級アルキルアミノ基、低級アルコキシ基置換低級
アルキル基、水酸基、低級アルコキシ基、カルバモイル
基、低級アルコキシカルボニル基及びニトロ基から選ば
れる同一または異なる１〜４個の基で置換されていても
よい複素環式基であって、当該複素環部分が、ピリジル
基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピペリジル基、ピ
ペラジニル基、ピロリジニル基、イソキノリル基、キノ
リル基、テトラゾリル基、チエニル基、フリル基、モル
ホリノ基、ピロリル基、ベンズイミダゾリル基、イミダ
ゾリル基、キナゾリル基及びフタラジニル基から選ばれ
る基である複素環式基；（３）シクロ低級アルキル基；
（４）低級アルケニル基；或いは（５）低級アルキル基
置換フェニルスルホニル基、ｎは０または１〕、Ｒ^1Bは
（ｉ）水素原子、（ｉｉ）ピペリジル基；ピリジル基；
イミダゾリル基；低級アルキル基置換ピペリジル基；フ
リル基；モルホリノ基；テトラヒドロフリル基；低級ア
ルキル基及びオキソ基で置換されたジヒドロピリジル
基；ピペラジニル基；低級アルコキシカルボニル基置換
ピペラジニル基；シクロ低級アルキル基；フェニル基；
低級アルキレンジオキシフェニル基；低級アルコキシカ
ルボニル基；水酸基；水酸基置換低級アルコキシ基；カ
ルボキシル基；低級アルコキシ基；ベンジルオキシカル
ボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、
９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエチ
ルオキシカルボニル基又は低級アルカノイル基で保護さ
れていてもよいアミノ基；カルバモイル基；ジ低級アル
キルアミノ基；及びピリジルカルボニルオキシ基から選
ばれる同一または異なる１〜３個の基で置換されていて
よい低級アルキル基、（ｉｉｉ）ベンジルオキシカルボ
ニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、９
−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエチル
オキシカルボニル基又は低級アルカノイル基で保護され
ていてもよいアミノ基；低級アルコキシカルボニル基；
水酸基；カルボキシル基；低級アルキル基；低級アルコ
キシ基；及び水酸基置換低級アルキル基から選ばれる同
一または異なる１〜３個の基で置換されていてもよいシ
クロ低級アルキル基、（ｉｖ）ハロゲン原子；モノもし
くはジ低級アルキルアミノ基；モルホリノ基；低級アル
キル基置換ピリミジニル基；低級アルキル基置換ピラゾ
リル基；水酸基置換低級アルキル基；ベンジルオキシカ
ルボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル
基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロ
エチルオキシカルボニル基又は低級アルカノイル基で保
護されていてもよいアミノ基；低級アルカノイル基置換
アミノ基；低級アルコキシ基；低級アルキル基；ベンジ
ル基、フェネチル基、ホルミル基、アセチル基、プロピ
オニル基、マロニル基、アクリロイル基又はベンゾイル
基で保護されていてもよい水酸基；カルボキシル基置換
低級アルキル基；低級アルコキシカルボニル基置換低級
アルキル基；低級アルコキシカルボニル基置換低級アル
コキシ基；カルバモイル基；カルボキシル基；低級アル
キルチオ基；低級アルコキシカルボニル基；ニトロ基；
トリハロゲノ低級アルキル基；モルホリノカルボニル
基；カルボキシル基置換低級アルコキシ基；ジ（低級ア
ルキルスルホニル）アミノ基；モルホリノ低級アルキル
カルバモイル基置換低級アルコキシ基；スルファモイル
基；ベンジルオキシカルボニル基、４−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシ
カルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，
２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル基又は低級
アルカノイル基で保護されていてもよいアミノ基で置換
された低級アルキル基；ベンジルオキシカルボニル基、
４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、９−フルオ
レニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカ
ルボニル基及び低級アルカノイル基から選ばれるいずれ
か１つの保護基、及び低級アルキル基で置換されたアミ
ノ基；低級アルキレンジオキシ基；ベンジルオキシカル
ボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、
９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエチ
ルオキシカルボニル基又は低級アルカノイル基で保護さ
れていてもよいアミノ基で置換されたカルバモイル基；
低級アルキルスルフィニル基；及び低級アルキルスルホ
ニル基から選ばれる同一または異なる１〜４個の基で置
換されていてもよいフェニル基又はナフチル基、（ｖ）
水酸基；ハロゲン原子；低級アルキル基；フェニル基置
換低級アルキル基；水酸基置換低級アルキル基；オキソ
基；低級アルコキシ基；ベンジルオキシカルボニル基、
４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、９−フルオ
レニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカ
ルボニル基又は低級アルカノイル基で保護されていても
よいアミノ基；モノもしくはジ低級アルキルアミノ基；
フェニル低級アルコキシカルボニル基；低級アルコキシ
カルボニル基；カルボキシル基；及びカルバモイル基か
ら選ばれる同一または異なる１〜４個の基で置換されて
いてもよい５〜１２員複素単環式基もしくは二環式基、
または（ｖｉ）ベンジルオキシカルボニル基、４−メト
キシベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメ
チルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル
基、ピリジル基、低級アルカノイル基、低級アルキル
基、水酸基置換低級アルキル基、フェニル基、低級アル
カノイルオキシ基置換低級アルキル基又はトリハロゲノ
低級アルカノイル基から選ばれる同一または異なる基で
モノもしくはジ置換されていてもよいアミノ基、Ｒ^2Bは
式：−ＣＯＯＲ^3Bまたは式：−ＣＯＮ（Ｒ^4B）（Ｒ^5B）
で示される基であり、Ｒ^3Bが水素原子、低級アルキル
基、トリ低級アルキルシリル低級アルキル基またはフェ
ニル低級アルキル基、−Ｎ（Ｒ^4B）（Ｒ^5B）で示される
基がヒドロキシ低級アルキル基置換ピペラジニル基、モ
ルホリノ基、ピロリジニル基、イミダゾリル基置換低級
アルキルアミノ基、モノもしくはジ低級アルキルアミノ
基を表す。但し、Ｒ^1Bが水素原子または上記（ｉｉｉ）
で定義される置換基で置換されていてもよい低級アルキ
ル基である場合には、環Ａ₂及び環Ｂ₂の少なくとも一方
が２個以上の低級アルコキシ基で置換されたベンゼン環
である。）で示される化合物があげられる。

【００７０】さらに、本発明の有効成分である化合物の
好ましい例としては、例えば、６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−２−モルホリノ−７−（４−ピリジル
メチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、６−メトキシ−
３−メトキシカルボニル−２−モルホリノ−７−（３−
ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、６−メ
トキシ−３−メトキシカルボニル−２−モルホリノ−７
−（２−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン、６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−フェ
ニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−７
−（４−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン、６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２
−フェニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−７−（３−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）
−イソキノリノンもしくは、６−メトキシ−３−メトキ
シカルボニル−２−フェニル−４−（３，４，５−トリ
メトキシフェニル）−７−（２−ピリジルメチルオキ
シ）−１（２Ｈ）−イソキノリノンが挙げられる。

【００７１】更に、本発明の有効成分である化合物
〔Ｉ〕のうち、他の好ましい化合物としては、２−（４
−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メトキシカル
ボニル−７−（２−ピリジルメチルオキシ）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン、２−（４−アミノフェニル）−７−
（３−アミノベンジルオキシ）−６−メトキシ−３−メ
トキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、２−（４−ア
ミノフェニル）−６−メトキシ−３−メトキシカルボニ
ル−７−（４−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン、２−（４−アミノフェニル）−７−（２−ベ
ンズイミダゾリルメチルオキシ）−６−メトキシ−３−
メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、２−（４−
アミノフェニル）−７−（３，５−ジアミノベンジルオ
キシ）−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン、２−（４−アミノフェニル）−４−
（４−ブロモ−３，５−ジメトキシフェニル）−６−メ
トキシ−３−メトキシカルボニル−７−（２−ピリジル
メチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、２−
（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，５−
ジメトキシフェニル）−６−メトキシ−３−メトキシカ
ルボニル−７−（３−ピリジルメチルオキシ）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン、２−（４−アミノフェニル）−
４−（４−ブロモ−３，５−ジメトキシフェニル）−６
−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７−（４−ピリ
ジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、２
−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル−
７−（２−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン、２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボ
ニル−７−（３−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン、２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシ
カルボニル−７−（４−ピリジルメチルオキシ）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン、２−（４−アミノフェニル）−７−
（２，５−ジメトキシベンジルオキシ）−３−メトキシ
カルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、２−（４−アミノ
フェニル）−７−（３，５−ジメトキシベンジルオキ
シ）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、
２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，
５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
７−（２−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
キノリノン、２−（４−アミノフェニル）−４−（４−
ブロモ−３，５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシ
カルボニル−７−（３−ピリジルメチルオキシ）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン、２−（４−アミノフェニ
ル）−４−（４−ブロモ−３，５−ジメトキシフェニ
ル）−３−メトキシカルボニル−７−（４−ピリジルメ
チルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、７−（３
−アミノベンジルオキシ）−２−（４−アミノフェニ
ル）−４−（４−ブロモ−３，５−ジメトキシフェニ
ル）−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノ
リノン、２−（４−アミノフェニル）−４−（４−クロ
ロ−３，５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカル
ボニル−７−（２−ピリジルメチルオキシ）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン、２−（４−アミノフェニル）−
４−（４−クロロ−３，５−ジメトキシフェニル）−３
−メトキシカルボニル−７−（３−ピリジルメチルオキ
シ）−１（２Ｈ）−イソキノリノン２−（４−アミノフ
ェニル）−７−（３−ジメチルアミノベンジルオキシ）
−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、２−
（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル−７
−ピラジニルメチルオキシ−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、２−
（４−アミノフェニル）−４−（４−クロロ−３，５−
ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−７−
（４−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキノ
リノン、２−（４−アミノフェニル）−７−（３，５−
ジアミノベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン、２−（４−アミノフェニル）−
７−（６−ヒドロキシメチル−２−ピリジルメチルオキ
シ）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、
２−（４−アミノフェニル）−７−（４−カルボキシベ
ンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン、２−（４−アミノフェニル）−７−（３−カ
ルボキシベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン、２−（４−アミノフェニル）−
３−メトキシカルボニル−７−［４−（４−メチルピペ
ラジニルカルボニル）ベンジルオキシ］−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン、２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシ
カルボニル−７−［３−（４−メチルピペラジニルカル
ボニル）ベンジルオキシ］−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、２−
（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル−７
−（３−メチルアミノベンジルオキシ）−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン、２−（４−アミノフェニル）−７−（２−ヒ
ドロキシメチルベンジルオキシ）−３−メトキシカルボ
ニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン、２−（４−アミノフェニ
ル）−３−メトキシカルボニル−７−（Ｎ−オキソ−２
−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、２−
（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル−８
−（２−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン、２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボ
ニル−８−（３−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン、２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシ
カルボニル−８−（４−ピリジルメチルオキシ）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン、２−（４−アミノフェニル）−４−
（４−クロロ−３，５−ジメトキシフェニル）−７−
（６−ヒドロキシメチル−２−ピリジルメチルオキシ）
−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン、２−（４−アミノフェニル）−４−（４−クロロ−
３，５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニ
ル−７−ピラジニルメチルオキシ−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン、２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５
−ジメトキシ−４−メチルフェニル）−３−メトキシカ
ルボニル−７−（４−ピリジルメチルオキシ）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン、２−（４−アミノフェニル）−
４−（３，５−ジメトキシ−４−メチルフェニル）−３
−メトキシカルボニル−７−（３−ピリジルメチルオキ
シ）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、２−（４−アミノ
フェニル）−４−（３，５−ジメトキシ−４−メチルフ
ェニル）−３−メトキシカルボニル−７−（２−ピリジ
ルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、２−
（４−アミノフェニル）−７−（３，５−ジアミノベン
ジルオキシ）−４−（３，５−ジメトキシ−４−メチル
フェニル）−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イ
ソキノリノン、２−（４−アミノフェニル）−４−
（３，５−ジメトキシ−４−メチルフェニル）−７−
（６−ヒドロキシメチル−２−ピリジルメチルオキシ）
−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン、２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメ
トキシ−４−メチルフェニル）−７−（３−メチルアミ
ノベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−１（２
Ｈ）−イソキノリノン、２−（４−アミノフェニル）−
４−（３，５−ジメトキシ−４−メチルフェニル）−７
−（２−ヒドロキシメチルベンジルオキシ）−３−メト
キシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノンもしく
は、２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメ
トキシ−４−メチルフェニル）−３−メトキシカルボニ
ル−７−（２−ピラジニルメチルオキシ）−１（２Ｈ）
−イソキノリノンが挙げられる。

【００７２】本発明の有効成分である化合物〔Ｉ〕は、
環Ａ及び環Ｂ上の置換基及び／またはＲ¹が不斉原子を
有する場合、当該不斉に基づく光学異性体として存在し
うるが、これらの光学異性体及びその混合物のいずれを
も含むものである。

【００７３】本発明の有効成分である化合物〔Ｉ〕また
はその薬理的に許容しうる塩は、ｃＧＭＰ特異的ＰＤＥ
阻害作用、特に優れた選択的ホスホジエステラーゼＶ
（ＰＤＥ Ｖ）阻害作用を有し、ＰＤＥ Ｖ阻害作用に
基づき、優れた血管拡張作用、肺動脈圧低下作用、陰茎
内圧上昇作用、摘出血管弛緩作用、海綿体弛緩作用、血
管平滑筋増殖抑制作用、心肥大抑制作用、血小板凝集抑
制作用等を示す。

【００７４】従って、化合物〔Ｉ〕またはその薬理的に
許容し得る塩を有効成分として用いた本発明の医薬組成
物は、ＰＤＥ Ｖ阻害薬、慢性心不全、狭心症、陰茎勃
起不全、高血圧症、肺高血圧症、動脈硬化、ＰＴＣＡ後
再狭窄等の予防・治療剤として有用であり、かつ、副作
用をほとんど示さず、低毒性であるという特長を有する
ため、医薬として安全性が高いという特長をも有する。

【００７５】狭心症又は高血圧症の予防・治療剤として
は、Ａ¹がフェニル基、ピリジル基および水酸基置換低
級アルキル基で置換されたピリジル基から選ばれる基で
置換されていてもよい低級アルコキシ基であり、Ａ²が
低級アルコキシ基であり、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³が同一また
は異なって、ハロゲン原子、低級アルキル基および低級
アルコキシ基から選ばれる基であり、Ｒ¹が保護されて
いてもよいアミノ基で置換されたフェニル基、モルホリ
ノ基またはチオモルホリノ基であり、Ｒ²が低級アルコ
キシカルボニル基である化合物〔Ｉ−Ｃ〕が好ましい。

【００７６】陰茎勃起不全予防・治療剤としては、Ａ¹
がピリジル基、水酸基置換低級アルキル基で置換された
ピリジル基およびピラジニル基から選ばれる基で置換さ
れていてもよい低級アルコキシ基であり、Ｂ¹、Ｂ²及び
Ｂ³が同一または異なって、ハロゲン原子、低級アルキ
ル基および低級アルコキシ基から選ばれる基であり、Ｒ
¹が保護されていてもよいアミノ基で置換されたフェニ
ル基であり、Ｒ²が低級アルコキシカルボニル基である
化合物〔Ｉ−Ｄ〕が好ましい。

【００７７】慢性心不全又は肺高血圧症の予防・治療剤
としては、Ａ¹が低級アルコキシ基で置換されていても
よいフェニル基、ピリジル基、水酸基置換低級アルキル
基で置換されたピリジル基または保護されていてもよい
アミノ基で置換されていてもよいフェニル基から選ばれ
る基で置換されていてもよい低級アルコキシ基であり、
Ａ²が低級アルコキシ基であり、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³が同一
または異なって、ハロゲン原子、低級アルキル基および
低級アルコキシ基から選ばれる基であり、Ｒ¹が保護さ
れていてもよいアミノ基で置換されたフェニル基、モル
ホリノ基およびチオモルホリノ基から選ばれる基であ
り、Ｒ²が低級アルコキシカルボニル基である化合物
〔Ｉ−Ｃ〕が好ましい。

【００７８】動脈硬化又はＰＴＣＡ後再狭窄の予防・治
療剤としては、Ａ¹およびＡ²が低級アルコキシ基であ
り、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³が同一または異なって、低級アル
コキシ基であり、Ｒ¹がフェニル基または低級アルキル
基であり、Ｒ²が低級アルコキシカルボニル基である化
合物〔Ｉ−Ｃ〕が好ましい。

【００７９】化合物〔Ｉ〕は、遊離の形でも、また、薬
理的に許容し得る塩の形でも本発明の医薬組成物に使用
することができる。化合物〔Ｉ〕の薬理的に許容しうる
塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩又は臭化水素酸塩の
如き無機酸塩、酢酸塩、フマル酸塩、シュウ酸塩、クエ
ン酸塩、メタンスルホン酸塩、トシル酸塩またはマレイ
ン酸塩の如き有機酸塩等が挙げられる。また、カルボキ
シル基等の置換基を有する場合には塩基との塩（例えば
ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩又はカル
シウム塩の如きアルカリ土類金属塩）が挙げられる。

【００８０】化合物〔Ｉ〕またはその塩は、その分子内
塩や付加物、それらの溶媒和物あるいは水和物等をいず
れも含むものである。

【００８１】化合物〔Ｉ〕もしくはその薬理的に許容し
うる塩を有効成分としてなる本発明の医薬組成物は経口
的にも非経口的にも投与することができ、また、錠剤、
顆粒剤、カプセル剤、散剤、注射剤、吸入剤等の慣用の
医薬製剤として用いることができる。

【００８２】本発明の有効成分である化合物〔Ｉ〕又は
その薬理的に許容し得る塩の投与量は、投与方法、患者
の年令、体重、状態によっても異なるが、注射剤とすれ
ば、通常、１日当り約０．０００１〜０．５ｍｇ／ｋ
ｇ、とりわけ約０．０００５〜０．１ｍｇ／ｋｇ程度、
経口剤とすれば、通常、１日当り約０．００１〜３０ｍ
ｇ／ｋｇ、とりわけ約０．０５〜１０ｍｇ／ｋｇ程度と
するのが好ましい。

【００８３】本発明の有効成分である化合物〔Ｉ〕は、
下記〔Ａ法〕〜〔Ｃ法〕によって製造することができ
る。

【００８４】〔Ａ法〕化合物〔Ｉ〕は、一般式〔ＩＩ〕

【００８５】

【化２７】

【００８６】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるイソクマリン誘導体またはその塩と、
一般式〔ＩＩＩ〕

【００８７】

【化２８】

【００８８】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるアミン化合物またはその塩とを反応さ
せることにより製造することができる。

【００８９】〔Ｂ法〕化合物〔Ｉ〕は、一般式〔ＩＩ〕

【００９０】

【化２９】

【００９１】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるイソクマリン誘導体またはその塩を加
水分解反応に付して、一般式〔ＩＶ〕

【００９２】

【化３０】

【００９３】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、次いで、当該生成物〔Ｉ
Ｖ〕と、一般式〔ＩＩＩ〕

【００９４】

【化３１】

【００９５】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるアミン化合物またはその塩とを反応さ
せることにより製造することができる。なお、一般式
〔ＩＶ〕で示される化合物は、溶液中等では次の構造を
有する互変異性体

【００９６】

【化３２】

【００９７】として存在する。

【００９８】〔Ｃ法〕化合物〔Ｉ〕は、一般式〔Ｖ〕

【００９９】

【化３３】

【０１００】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるベンゾイル安息香酸アミド化合物また
はその塩を分子内閉環反応に付して、一般式〔ＶＩ〕

【０１０１】

【化３４】

【０１０２】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、当該生成物を脱水反応に
付すことにより製造することができる。

【０１０３】これら〔Ａ法〕〜〔Ｃ法〕で得られる化合
物〔Ｉ〕は、所望により、その薬理的に許容しうる塩と
することができる。

【０１０４】上記〔Ａ法〕〜〔Ｃ法〕は以下のようにし
て実施することができる。

【０１０５】〔Ａ法〕イソクマリン誘導体〔ＩＩ〕とア
ミン化合物〔ＩＩＩ〕またはその塩との反応は、溶媒中
または無溶媒で実施することができる。溶媒としては、
１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、エチレングリコー
ル、Ｎ−メチルピロリドン、キシレン、ジクロロエタン
等の溶媒を用いることができる。本反応は、２０〜１５
０℃、とりわけ、４０〜１３０℃で好適に進行する。

【０１０６】〔Ｂ法〕イソクマリン誘導体〔ＩＩ〕の加
水分解反応は、強塩基の存在下、溶媒中で実施すること
ができる。強塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩
等を好適に用いることができる。溶媒としては、水また
はメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメチルホルムアミド等と水との混合溶媒を適
宜用いることができる。本反応は、０〜８０℃、とりわ
け５〜６０℃で好適に進行する。

【０１０７】化合物〔ＩＶ〕とアミン化合物〔ＩＩＩ〕
との反応は、脱酸剤の存在下または非存在下、適当な溶
媒中または無溶媒で実施することができる。脱酸剤とし
ては、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミン、ピリ
ジン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリ
ウム等を好適に用いることができる。溶媒としては、本
反応を阻害しない上記〔Ａ法〕で記載の溶媒をいずれも
好適に用いることができる。本反応は、２０〜１４０
℃、とりわけ３０〜１００℃で好適に進行する。

【０１０８】〔Ｃ法〕ベンゾイル安息香酸アミド化合物
〔Ｖ〕の分子内閉環反応は、塩基の存在下または非存在
下、溶媒中で実施することができる。塩基としては１，
５−ジアザビシクロ〔４．３．０〕ノン−５−エン、
１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデセ−７−
エン等のような有機塩基、ナトリウムメトキシド、カリ
ウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水素化ナトリウム、ｎ−ブ
チルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド等のよう
な無機塩基を化合物〔Ｖ〕に対して、通常０．５−５当
量、好ましくは１−２当量を好適に用いることができ
る。溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジメチルホル
ムアミド、ジオキサン、ジメトキシエタン、ベンゼン、
トルエン、ピリジン等を用いることができるが、本反応
を阻害しない上記〔Ａ法〕で記載の溶媒をいずれも好適
に用いることができる。本反応は、−５０〜１００℃、
とりわけ−２０〜８０℃で好適に進行する。

【０１０９】化合物〔ＶＩ〕の脱水反応は、酸性触媒の
存在下、溶媒中で実施することができる。酸性触媒とし
ては、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の
スルホン酸化合物、酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボ
ン酸化合物、塩化水素、臭化水素、硫酸等の無機酸化合
物、三フッ化ホウ素・エチルエーテル、塩化アルミニウ
ム等のルイス酸を化合物〔ＶＩ〕に対して、通常０．１
〜５当量、好ましくは０．２〜２当量用いることができ
る。溶媒としては、クロロホルム、ジオキサン、ベンゼ
ン、トルエン、塩化メチレン等を用いることができる
が、本反応を阻害しない上記〔Ａ法〕で記載の溶媒をい
ずれも好適に用いることができる。本反応は、０〜１５
０℃、とりわけ２０〜１１０℃で好適に進行する。

【０１１０】また上記〔Ａ法〕及び〔Ｂ法〕で用いられ
るアミン化合物〔ＩＩＩ〕のＲ¹がアミノ基或いはアミ
ノ基を含む置換基である場合は、当該アミノ基に保護基
（例えば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基等の如き置換もしくは非置換低級ア
ルコキシカルボニル基、ホルミル、アセチル基、プロピ
オニル基等の如き低級アルカノイル基等）を導入してか
ら本反応を実施するのが望ましい。

【０１１１】上記〔Ａ法〕、〔Ｂ法〕及び〔Ｃ法〕で得
られる化合物〔Ｉ〕の基−ＣＯＯＲ³ がカルボキシル
基である化合物、即ち、一般式〔Ｉ−ａ〕

【０１１２】

【化３５】

【０１１３】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物は常法でエステル化することに
より、一般式〔Ｉ−ｂ〕

【０１１４】

【化３６】

【０１１５】（式中、Ｒ³¹はエステル残基を表し、他の
記号は前記と同一意味を有する。）で示される化合物に
変換することができる。例えば、化合物〔Ｉ−ｂ〕は、
化合物〔Ｉ−ａ〕とアルキル化剤とを、脱酸剤の存在下
または非存在下、溶媒中で反応させることにより製する
ことができる。脱酸剤としては、水酸化アルカリ金属、
炭酸アルカリ金属等の無機塩基、Ｎ−メチルモルホリ
ン、トリエチルアミン、ピリジン、１，５−ジアザビシ
クロ〔４．３．０〕ノン−５−エン、１，８−ジアザビ
シクロ〔５．４．０〕ウンデセ−７−エン等の有機塩基
を好適に用いることができる。アルキル化剤としては、
ジアゾメタン、ジアゾエタン等のジアゾアルカン、硫酸
ジメチル、硫酸ジエチル等の硫酸ジアルキル、ヨウ化メ
チル、臭化メチル、臭化エチル等のアルキルハライド、
トリメチルシリルジアゾメタン等のトリ低級アルキルシ
リルジアゾアルカン、ベンジルクロリド、ベンジルブロ
ミド等のアリール低級アルキルハライド等が挙げられ
る。アルキル化剤として硫酸ジアルキル、アルキルハラ
イドまたはアリール低級アルキルハライドを使用する場
合は、脱酸剤を化合物〔Ｉ−ａ〕に対して、通常１〜５
当量、好ましくは１〜２当量用いることができる。本反
応は、０〜６０℃、とりわけ５〜４０℃で好適に進行す
る。また、アルキル化剤としてジアゾアルカンを使用す
る場合、化合物〔Ｉ−ａ〕に対して、通常１〜５当量、
好ましくは、１〜２当量用いることができる。本反応
は、０〜５０℃、とりわけ５〜３０℃で好適に進行す
る。なお、−ＣＯＯＲ³がメトキシカルボニル基である
化合物〔Ｉ−ａ〕は、前記の方法において、アルキル化
剤としてトリメチルシリルジアゾメタンを用いれば、緩
和な条件下で製造することができる。溶媒としては、水
の他、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル類、アセトン、メチル
エチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル等
のエステル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素
類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水
素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等
のスルホキシド、あるいはこれらの混合溶媒を用いるこ
とができる。

【０１１６】また化合物〔Ｉ−ｂ〕は、化合物〔Ｉ−
ａ〕と酸性条件下、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、ブタノール等の低級アルコールや、ベンジルアル
コール、フェネチルアルコール等のアリール低級アルコ
ールと反応させることにより製することもできる。酸と
しては、硫酸、塩化水素、ｐ−トルエンスルホン酸等を
化合物〔Ｉ−ａ〕に対して、通常、０．０１〜２０当
量、好ましくは、０．１〜１０当量用いることができ
る。本反応は、該アルコール中、加熱還流下で好適に進
行する。

【０１１７】ここで、上記化合物〔Ｉ−ａ〕が、３位カ
ルボキシル基（基Ｒ²）以外に、１個以上のカルボキシ
ル基またはモノ置換もしくは非置換アミノ基を有する化
合物である場合には、同化合物を上記アルキル化剤と反
応させることにより、該カルボキシル基がエステル化さ
れた対応化合物或いは該アミノ基がモノ−もしくはジ低
級アルキルアミノ基に変換された化合物に変換すること
もできる。

【０１１８】また、置換基Ｒ²が、式：−ＣＯＮ（Ｒ⁴）
（Ｒ⁵）で示される基である化合物〔Ｉ〕、即ち、一般
式〔Ｉ−ｃ〕

【０１１９】

【化３７】

【０１２０】（式中、−Ｎ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）は、置換もし
くは非置換含窒素脂肪族複素環式基または置換もしくは
非置換アミノ基を表す。）で示される化合物は、一般式
〔Ｉ−ａ〕で示される化合物と、一般式〔ＶＩＩ〕

【０１２１】

【化３８】

【０１２２】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるアミン化合物とを縮合剤の存在下反応
させるか、或いは、化合物〔Ｉ−ａ〕の反応性誘導体
（酸ハライド、酸無水物、活性アミド、活性エステル、
混合酸無水物等）とアミン化合物〔ＶＩＩ〕とを、塩基
の存在下または非存在下、溶媒中で反応させることによ
り製することもできる。塩基としては、ピリジン、４−
ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、トリ
エチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．
０〕ウンデセ−７−エン等の有機塩基、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基
等を好適に用いることができる。縮合剤としては、１，
３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３
−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸
塩、プロパンホスホン酸無水物等を好適に用いることが
できる。溶媒としては、ジメチルホルムアミド、塩化メ
チレン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチ
ル、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンを用いる
ことができるが、本反応を阻害しない上記〔Ａ法〕で記
載の溶媒をいずれも好適に用いることができる。本反応
は、−２０〜６０℃、とりわけ５〜４０℃で好適に進行
する。

【０１２３】化合物〔Ｉ−ａ〕の活性エステルとして
は、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフ
タル酸イミド、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールまた
はｐ−ニトロフェノールとのエステル等を好適に用いる
ことができる。

【０１２４】化合物〔Ｉ−ａ〕の酸ハライドとしては、
酸塩化物、酸臭化物等を好適に用いることができる。

【０１２５】また化合物〔Ｉ−ａ〕の活性アミドとして
は、イミダゾール等とのアミドを好適に用いることがで
きる。

【０１２６】化合物〔Ｉ〕は、上記の如くして得られる
化合物の環Ａ及び／または環Ｂ上の置換基、置換基Ｒ¹
及び／またはＲ²を目的とする他の置換基へ変換するこ
とによっても製造することができる。このような置換基
の変換方法は、目的とする置換基の種類に応じて適宜選
択すればよいが、例えば次の（ａ法）〜（ｔ法）の如く
実施することができる。

【０１２７】（ａ法）： 一般式〔Ｉ−ｅ〕

【０１２８】

【化３９】

【０１２９】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物は、一般式〔Ｉ−ｄ〕

【０１３０】

【化４０】

【０１３１】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物またはその塩と、一般式〔ＶＩ
ＩＩ−ａ〕

【０１３２】

【化４１】

【０１３３】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物またはその反応性誘導体と反応
させるか、或いは、一般式〔ＶＩＩＩ−ｂ〕

【０１３４】

【化４２】

【０１３５】（式中、Ｘは脱離基を表し、他の記号は前
記と同一意味を有する。）で示される化合物を反応させ
ることにより製造することができる。

【０１３６】化合物〔ＶＩＩＩ−ｂ〕における脱離基
（Ｘ）としては、水酸基、トリフルオロメタンスルホニ
ルオキシ基、ｐ−トシルオキシ基、メタンスルホニルオ
キシ基あるいは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハ
ロゲン原子等が挙げられる。

【０１３７】即ち、化合物〔Ｉ−ｄ〕と化合物〔ＶＩＩ
Ｉ−ａ〕との反応は、カルボン酸とアルコールからエス
テルを製するのに通常用いられる縮合剤（例えば、１，
３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３
−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸
塩、ジエチルリン酸シアニド、ジフェニルリン酸アジド
等）の存在下に実施することができる。化合物〔ＶＩＩ
Ｉ−ａ〕の反応性誘導体（例えば、Ｎ−ヒドロキシコハ
ク酸イミドエステル、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドエス
テル、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールエステル等の
活性エステル、酸塩化物、酸臭化物等の酸ハライド）と
化合物〔Ｉ−ｄ〕との反応は、脱酸剤（例えば、水酸化
ナトリウム等の水酸化アルカリ金属、炭酸水素ナトリウ
ム等の炭酸水素アルカリ金属、炭酸ナトリウム等の炭酸
アルカリ金属、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩
基の存在下に実施することができ、所望により、４−ジ
メチルアミノピリジン等を触媒量加えてもよい。本反応
は、例えば、０〜８０℃、とりわけ、５〜６０℃で好適
に進行する。

【０１３８】更に、化合物〔Ｉ−ｄ〕と化合物〔ＶＩＩ
Ｉ−ｂ〕との反応は、脱離基Ｘが水酸基である場合、例
えば、光延等の方法（シンセシス（Ｓｙｎｔｈｅｓｉ
ｓ），第１〜２８頁，１９８１年）に準じて製造するこ
とができる。具体的には、ジエチルアゾジカルボキシレ
ート及びトリフェニルホスフィンの存在下、化合物〔Ｉ
−ｄ〕と化合物〔ＶＩＩＩ−ｂ〕をテトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、
クロロホルム、塩化メチレン、ベンゼン、トルエン、ジ
メトキシエタン等の溶媒中反応させることにより製する
ことができる。本反応は、例えば、０〜６０℃、とりわ
け、５〜４０℃で好適に進行する。

【０１３９】また、化合物〔Ｉ−ｄ〕と化合物〔ＶＩＩ
Ｉ−ｂ〕との反応は、化合物〔ＶＩＩＩ−ｂ〕の脱離基
Ｘが、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ−ト
シルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、或いは塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子である場
合には、塩基の存在下に実施することができる。本反応
は、上記塩基と銅触媒の存在下或いは非存在下で実施す
ることも可能である。塩基としては、例えば、水素化ナ
トリウム等の如き水素化アルカリ金属、ナトリウムアミ
ド等の如きアルカリ金属アミド、ナトリウムメトキシ
ド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の如きアルカリ金
属アルコキシド、水酸化ナトリウム等の如き水酸化アル
カリ金属、炭酸ナトリウム等の如き炭酸アルカリ金属等
の無機塩基や、Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミ
ン、ピリジン等の有機塩基を挙げることができる。ま
た、塩基の使用量としては、化合物〔Ｉ−ｄ〕に対し
て、通常１〜５当量、好ましくは、１〜２当量用いるこ
とができるが、置換基Ｒ¹がモノ置換されていてもよい
アミノ基或いはモノ置換されていてもよいアミノ基を含
む置換基である場合は、当該アミノ基に保護基（例え
ば、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基の如き低級アルコ
キシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等の如
きアリール低級アルコキシカルボニル基、ホルミル、ア
セチル基、プロピオニル基等の如き低級アルカノイル基
等）を導入してから本反応を実施するのが望ましい。

【０１４０】銅触媒としては、ヨウ化銅（Ｉ）、臭化銅
（Ｉ）、銅粉（０）、酸化銅（Ｉ）、臭化銅（ＩＩ）等
が挙げられる。本反応は、例えば、１０〜１６０℃、と
りわけ、２０〜１２０℃で好適に進行する。

【０１４１】また、環Ａが、低級アルキル基置換ピペラ
ジニルカルボニルオキシ基及びモノもしくはジ低級アル
キルカルバモイルオキシ基から選ばれる基で置換された
ベンゼン環である目的物〔Ｉ〕は、化合物〔Ｉ−ｄ〕に
ホスゲンまたはトリホスゲンを反応させ対応する反応生
成物（クロロホルメート体）を、更に低級アルキル基置
換ピペラジンまたはモノもしくはジ低級アルキルアミン
と塩基（例えば、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホ
リン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、１，８
−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデセ−７−エン
等）の存在下または非存在下に反応させることにより製
することができる。本反応は、例えば、０〜８０℃、と
りわけ、１０〜４０℃で好適に進行する。

【０１４２】（ｂ法）： 一般式〔Ｉ−ｇ〕

【０１４３】

【化４３】

【０１４４】（式中、Ｒ¹²はアミノ基置換低級アルキル
基、アミノ基置換シクロ低級アルキル基、アミノ基置換
アリール基、アミノ基置換複素環式基またはアミノ基を
表し、他の記号は前記と同一意味を有する。）で示され
る目的化合物は、一般式〔Ｉ−ｆ〕

【０１４５】

【化４４】

【０１４６】（式中、Ｒ¹¹は保護されたアミノ基で置換
された低級アルキル基、保護されたアミノ基で置換され
たシクロ低級アルキル基、保護されたアミノ基で置換さ
れたアリール基、保護されたアミノ基で置換された複素
環式基またはアミノ基の保護基で置換されたアミノ基を
表し、他の記号は前記と同一意味を有する。）で示され
る化合物またはその塩における当該アミノ基の保護基を
除去することにより製造することができる。

【０１４７】当該保護基の除去方法は、保護基の種類に
応じて適宜選択すればよく、常法（例えば、酸処理、塩
基処理、接触還元等）によって実施することができる。
本反応は、例えば、０〜１５０℃、とりわけ、５〜１１
０℃で好適に進行する。

【０１４８】（ｃ法）： 一般式〔Ｉ−ｉ〕

【０１４９】

【化４５】

【０１５０】（式中、Ｒ¹³は置換もしくは非置換低級ア
ルキル基を表し、他の記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される目的化合物は、一般式〔Ｉ−ｈ〕

【０１５１】

【化４６】

【０１５２】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物またはその塩と、一般式〔Ｉ
Ｘ〕

【０１５３】

【化４７】

【０１５４】（式中、Ｘ¹はハロゲン原子を表し、他の
記号は前記と同一意味を有する。）で示される化合物を
反応させることにより製造することができる。

【０１５５】即ち、化合物〔Ｉ−ｈ〕と化合物〔ＩＸ〕
との反応は、脱酸剤の存在下で実施することができる。
脱酸剤としては、水酸化ナトリウム等の水酸化アルカリ
金属、炭酸水素ナトリウム等の炭酸水素アルカリ金属、
炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金属、水素化ナトリウ
ム等の水素化アルカリ金属、トリエチルアミン、ピリジ
ン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデセ−
７−エン等の有機塩基等が挙げられる。本反応は、例え
ば、０〜１００℃、とりわけ、２０〜８０℃で好適に進
行する。

【０１５６】（ｄ法）：一般式〔Ｉ〕で示される環Ａ上
の置換基及び／または基Ｒ¹がエステル化されたカルボ
キシル基を含有する置換基（例えば、低級アルコキシカ
ルボニル基置換アリール基、低級アルコキシカルボニル
基置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基置
換シクロ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基
置換低級アルキル基で置換されたアリール基、低級アル
コキシカルボニル基置換低級アルコキシ基で置換された
アリール基等）である化合物〔Ｉ〕は、環Ａ上の置換基
及び／または基Ｒ¹ が遊離カルボキシル基を含有する
置換基である対応化合物〔Ｉ〕をエステル化反応に付す
ことにより製することができる。本反応は、前記した化
合物〔Ｉ −ａ〕のエステル化反応と同様に実施するこ
とができる。

【０１５７】（ｅ法）：一般式〔Ｉ〕で示される環Ａ上
の置換基及び／または基Ｒ¹が遊離カルボキシル基を含
有する置換基（例えば、カルボキシル基置換アリール
基、カルボキシル基置換シクロ低級アルキル基、カルボ
キシ低級アルキル基で置換されたアリール基、カルボキ
シル低級アルキル基、カルボキシル低級アルコキシ基で
置換されたアリール基、カルボキシル基置換低級アルコ
キシ基、カルボキシアリール基置換低級アルキル基等）
である化合物〔Ｉ〕は、環Ａ上の置換基及び／または基
Ｒ¹がエステル化されたカルボキシル基を含有する置換
基である対応化合物〔Ｉ〕を常法により脱エステル化
（例えば、エステル残基の種類に応じて水酸化ナトリウ
ム等の塩基による加水分解、トリフルオロ酢酸、塩化水
素、臭化水素等による酸処理、水素雰囲気下、パラジウ
ム（黒）、パラジウム炭素等を用いた還元等）すること
により製することができる。本脱エステル反応のうち、
塩基による加水分解反応は、例えば、５〜７０℃、酸処
理は、５〜８０℃、還元は、１０〜４０℃で実施するこ
とができる。

【０１５８】（ｆ法）：一般式〔Ｉ〕で示される基Ｒ¹
が保護されていてもよいアミノ基で置換されたカルバモ
イル基で置換されたアリール基またはモルホリノカルボ
ニル基で置換されたアリール基である化合物〔Ｉ〕は、
置換基Ｒ¹がカルボキシル基置換アリール基である対応
化合物〔Ｉ〕と一般式：

【０１５９】

【化４８】

【０１６０】（式中、Ｒ^a及びＲ^bは一方が水素原子で、
他方が保護されていてもよいアミノ基であるか、或いは
両者が互いに末端で結合して隣接する窒素原子と共にモ
ルホリノ基を形成していることを表す。）で示されるア
ミン化合物とを縮合剤の存在下反応させることができ
る。縮合剤としては、カルボン酸とアミンからアミド結
合形成反応に通常用いられる、１，１−カルボニルジイ
ミダゾール、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）
カルボジイミド塩酸塩、クロロギ酸イソブチル又はＮ−
メチルモルホリン等慣用のものを用いることができる。
本反応は、例えば、０〜５０℃で実施することができ
る。また当該生成物の基Ｒ^aまたはＲ^bが保護されたアミ
ノ基である場合には、所望により、当該保護基を慣用の
方法により除去することができる。

【０１６１】基Ｒ¹がモルホリノ低級アルキルカルバモ
イル基置換低級アルコキシ基で置換されたアリール基で
ある化合物〔Ｉ〕は、基Ｒ¹がカルボキシル基置換低級
アルコキシ基で置換されたアリール基である対応化合物
〔Ｉ〕とモルホリノ低級アルキルアミンとを上記と同様
に反応させて得ることができる。

【０１６２】環Ａがカルバモイル基で置換された低級ア
ルコキシ基置換ベンゼン環である化合物〔Ｉ〕は、環Ａ
がカルボキシル基置換低級アルコキシ基で置換されたベ
ンゼン環である対応化合物〔Ｉ〕とアンモニアとを上記
と同様に反応させて得ることができる。

【０１６３】（ｇ法）：一般式〔Ｉ〕で示される環Ａ上
の置換基及び／または基Ｒ¹がアミノ基を含有する置換
基（例えば、アミノ低級アルキル基置換アリール基、ア
ミノ基置換アリール基で置換された低級アルキル基等）
である化合物〔Ｉ〕は、環Ａ上の置換基及び／または基
Ｒ¹ がモノもしくはジ低級アルカノイルアミノ基また
は保護されたアミノ基を含有する置換基である対応化合
物〔Ｉ〕から、低級アルカノイル基またはアミノ基の保
護基を除去することにより製することができる。当該保
護基または低級アルカノイル基の除去は常法（例えば、
酸処理、塩基処理、接触還元等）によって実施すること
ができる。本反応のうち、酸処理による反応は、例え
ば、５〜１２０℃、塩基処理による反応は、５〜４０
℃、接触還元による反応は、１０〜４０℃で実施するこ
とができる。

【０１６４】（ｈ法）：一般式〔Ｉ〕で示される環Ａ上
の置換基及び／または基Ｒ¹が、例えばピペラジニル
基、ピペリジル基またはピロリジニル基等の複素環式基
を含有する置換基である化合物〔Ｉ〕は、環Ａ上の置換
基及び／または基Ｒ¹が当該複素環式基中のＮ位に低級
アルコキシカルボニル基及びフルオレニル低級アルコキ
シカルボニル基、フェニル低級アルキコキシカルボニル
基等のアリール低級アルコキシカルボニル基から選ばれ
る置換基を有する対応化合物〔Ｉ〕から、前記のＮ位置
換基（低級アルコキシカルボニル基、またはアリール低
級アルコキシカルボニル基）を除去することにより製す
ることができる。本除去反応は、上記（ｇ法）と同様に
実施することができる。

【０１６５】（ｉ法）：一般式〔Ｉ〕で示される基Ｒ¹
がモノ低級アルカノイルアミノ基、ジ低級アルカノイル
アミノ基またはモノもしくはジ低級アルカノイルアミノ
基置換アリール基である化合物〔Ｉ〕は、基Ｒ¹がアミ
ノ基またはアミノ基で置換されたアリール基である対応
化合物〔Ｉ〕と低級アルカン酸またはその反応性誘導体
とを反応させることにより製することができる。低級ア
ルカン酸としては炭素数１〜６個のアルカン酸（例え
ば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等）が挙げられ、その反
応性誘導体としては、対応する酸ハライド（例えば、酸
クロリド、酸ブロミド等）、酸無水物または混合酸無水
物等が挙げられる。遊離の低級アルカン酸を用いる場
合、本反応は縮合剤（例えば、１，３−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルア
ミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、ジエチルリン酸
シアニド、ジフェニルリン酸アジド等）の存在下に実施
することができる。上記アルカン酸の反応性誘導体を用
いる場合、本反応は脱酸剤（例えば、トリエチルアミ
ン、ピリジン等の有機塩基、水酸化アルカリ金属、炭酸
水素アルカリ金属、炭酸アルカリ金属等）の存在下に実
施することができる。また、上記反応において、基Ｒ¹
がアミノ基である化合物〔Ｉ〕から基Ｒ¹がモノ低級ア
ルカノイルアミノ基である対応化合物〔Ｉ〕への変換
は、使用する低級アルカン酸またはその反応性誘導体の
量を出発化合物に対し、０．８〜１当量に調節すること
により実施でき、また基Ｒ¹がアミノ基である化合物
〔Ｉ〕から基Ｒ¹がジ低級アルカノイルアミノ基である
対応化合物〔Ｉ〕への変換は、使用する低級アルカン酸
またはその反応性誘導体の量を出発化合物に対し、２〜
３当量に調節することにより実施できる。本反応は、例
えば、−３０〜８０℃、とりわけ、−２０〜５０℃で好
適に進行する。

【０１６６】（ｊ法）：一般式〔Ｉ〕で示される基Ｒ¹
が低級アルキル基及び水酸基置換低級アルキル基から選
ばれる基でモノもしくはジ置換されたアミノ基である化
合物〔Ｉ〕は、基Ｒ¹がモノもしくは非置換アミノ基で
ある対応化合物〔Ｉ〕を脱酸剤の存在下または非存在
下、アルキル部分が水酸基で置換されていてもよい低級
アルキルハライド（低級アルキルクロリド、低級アルキ
ルブロミド、ヒドロキシ低級アルキルクロリド、ヒドロ
キシ低級アルキルブロミド等）またはアルキル部分が水
酸基で置換されていてもよい低級アルキル低級アルカン
スルホネート（低級アルキルメタンスルホネート等）、
低級アルキルアリールスルホネート（低級アルキルｐ−
トルエンスルホネート等）等のアルキル化剤と反応させ
ることにより製することができる。脱酸剤としては、水
酸化ナトリウム等の水酸化アルカリ金属、炭酸水素ナト
リウム等の炭酸水素アルカリ金属、炭酸ナトリウム等の
炭酸アルカリ金属、トリエチルアミン、ピリジン等の有
機塩基等が挙げられる。また、基Ｒ¹が低級アルキル基
及び水酸基置換低級アルキル基から選ばれる基でモノ置
換されたアミノ基である化合物〔Ｉ〕は、基Ｒ¹が非置
換アミノ基である対応化合物〔Ｉ〕と、アルキル部分が
水酸基で置換されていてもよい低級アルキルアルデヒド
とを反応させた後、生成物を還元反応に付すことにより
製することができる。還元剤としては、水素化シアノホ
ウ素ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリ
アセトキシホウ素ナトリウム、ギ酸等を好適に用いるこ
とができる。溶媒としては、水、酢酸、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、クロロホルム、塩化メチレン、メタ
ノール、エタノール等、或いはそれらの混合溶媒が挙げ
られる。本反応は、例えば、０〜７０℃、とりわけ、５
〜５０℃で好適に進行する。更に、基Ｒ¹が低級アルカ
ノイルオキシ低級アルキル基で置換されたアミノ基であ
る化合物〔Ｉ〕は、化合物〔Ｉ−ａ〕から化合物〔Ｉ−
ｂ〕を得るエステル化反応と同様に実施できるが、例え
ば、基Ｒ¹が水酸基置換低級アルキル基で置換されたア
ミノ基である対応化合物〔Ｉ〕と低級アルカン酸とを縮
合剤（例えば、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）
カルボジイミド塩酸塩、ジエチルリン酸シアニド、ジフ
ェニルリン酸アジド等）の存在下に反応させるか、ある
いは上記低級アルカン酸の反応性誘導体（例えば、Ｎ−
ヒドロキシコハク酸イミドエステル、Ｎ−ヒドロキシフ
タルイミドエステル、１−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ルエステル等の活性エステル、対応酸ハライド、対応混
合酸無水物）を脱酸剤（例えば、水酸化ナトリウム等の
水酸化アルカリ金属、炭酸水素ナトリウム等の炭酸水素
アルカリ金属、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金属、
トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基の存在下に反
応させることにより製することができる。本反応は、例
えば、−３０〜８０℃、とりわけ、−２０〜５０℃で好
適に進行する。

【０１６７】（ｋ法）：一般式〔Ｉ〕で示される基Ｒ¹
が、ジ（低級アルキルスルホニル）アミノ基で置換され
たアリール基である化合物〔Ｉ〕は、基Ｒ¹がアミノ基
置換アリール基である化合物〔Ｉ〕と低級アルキルスル
ホニルハライド（例えば、低級アルキルスルホニルクロ
リド、低級アルキルスルホニルブロミド等）とを上記
（ｊ法）で用いられる脱酸剤（例えば、トリエチルアミ
ン、ピリジン等の有機塩基等）の存在下に反応させるこ
とにより製することができる。本反応は、例えば、０〜
８０℃、とりわけ、１０〜６０℃で好適に進行する。

【０１６８】（ｌ法）：一般式〔Ｉ〕で示される基Ｒ¹
が水酸基置換アリール基である化合物〔Ｉ〕または環Ａ
及び／または環Ｂ上の置換基が水酸基である化合物
〔Ｉ〕は、基Ｒ¹が保護された水酸基で置換されたアリ
ール基である対応化合物〔Ｉ〕または環Ａ及び／または
環Ｂ上の置換基が保護された水酸基である対応化合物
〔Ｉ〕から当該保護基を除去することにより製すること
ができる。当該保護基の除去は、保護基の種類に応じて
酸処理、塩基処理、接触還元等の常法によって実施する
ことができる。本反応は、例えば、０〜８０℃、とりわ
け、５〜５０℃で好適に進行する。

【０１６９】（ｍ法）：一般式〔Ｉ〕で示される環Ｂ上
の基Ｂ²が水酸基である化合物〔Ｉ〕は、基Ｂ²が低級ア
ルコキシ基である対応化合物〔Ｉ〕を酸処理等の常法で
処理して製することができる。本反応は、例えば、１０
〜１５０℃、とりわけ、２０〜１２０℃で好適に進行す
る。

【０１７０】（ｎ法）：一般式〔Ｉ〕で示される基Ｒ¹
が低級アルキルスルフィニル基及び低級アルキルスルホ
ニル基から選ばれる基で置換されたアリール基である化
合物〔Ｉ〕は、基Ｒ¹が低級アルキルチオ基で置換され
たアリール基である対応化合物〔Ｉ〕を酸化することに
より製することができる。本酸化反応は酸化剤を用いて
実施でき、このような酸化剤としては、３−クロロ過安
息香酸、過酢酸、過酸化水素、過トリフルオロ酢酸等の
過酸化物、過ヨウ素酸ナトリウム、四酸化オスミウム、
亜臭素酸ナトリウム等が挙げられる。また、酸化剤を出
発化合物に対し、０．８〜１当量使用すれば、基Ｒ¹が
低級アルキルスルフィニル基で置換されたアリール基で
ある対応化合物〔Ｉ〕を得ることができ、酸化剤を出発
化合物に対し、２〜３当量使用すれば、基Ｒ¹が低級ア
ルキルスルホニル基で置換されたアリール基である対応
化合物〔Ｉ〕を得ることができる。本反応は、例えば、
−１０〜６０℃、とりわけ、５〜４０℃で好適に進行す
る。

【０１７１】（ｏ法）：一般式〔Ｉ〕で示される基Ｒ¹
がオキソ基でモノもしくはジ置換された複素環式基（例
えば、オキソ基でモノもしくはジ置換されたチオモルホ
リノ基）である化合物〔Ｉ〕は、基Ｒ¹が複素環式基で
ある対応化合物〔Ｉ〕を上記（ｎ法）と同様に処理して
得ることができる。

【０１７２】（ｐ法）：一般式〔Ｉ〕で示される基Ｒ¹
がモノもしくはジ低級アルキルアミノ基で置換されたア
リール基またはモノもしくはジ低級アルキルアミノ基で
置換された低級アルキル基である化合物〔Ｉ〕は、上記
（ｊ法）と同様に実施できるが、例えば、基Ｒ¹がアミ
ノ基置換アリール基またはアミノ基置換低級アルキル基
である対応化合物〔Ｉ〕を脱酸剤の存在下または非存在
下、低級アルキルハライド（低級アルキルクロリド、低
級アルキルブロミド等）等を反応させることにより得る
ことができる。脱酸剤としては、水酸化アルカリ金属、
炭酸水素アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、トリエチル
アミン、ピリジン等の有機塩基等が挙げられる。また、
アルキル化剤を出発化合物に対し、０．８〜１当量使用
すれば、基Ｒ¹がモノ低級アルキルアミノ基で置換され
たアリール基（もしくは低級アルキル基）である対応化
合物〔Ｉ〕が得られ、アルキル化剤を出発化合物に対
し、２〜３当量使用すれば、基Ｒ¹がジ低級アルキルア
ミノ基で置換されたアリール基（もしくは低級アルキル
基）である対応化合物〔Ｉ〕が得ることができる。本反
応は、例えば、０〜６０℃、とりわけ、５〜４０℃で好
適に進行する。また、基Ｒ¹が低級アルキル基及びアミ
ノ基の保護基でジ置換されたアミノ基で置換されたアリ
ール基である化合物〔Ｉ〕は、基Ｒ¹がアミノ基の保護
基でモノ置換されたアミノ基で置換されたアリール基で
ある対応化合物〔Ｉ〕を上記と同様に処理することによ
り製することができる。更に、基Ｒ¹が低級アルキル基
及びアミノ基の保護基でジ置換されたアミノ基で置換さ
れたアリール基は当該アミノ基の保護基を慣用の方法に
従って除去することにより、基Ｒ¹がモノ低級アルキル
アミノ基置換アリール基である化合物〔Ｉ〕を得ること
ができる。

【０１７３】（ｑ法）：一般式〔Ｉ〕で示される基Ｒ¹
がピリジルカルボニルオキシ低級アルキル基である化合
物〔Ｉ〕は、基Ｒ¹が水酸基置換低級アルキル基である
対応化合物〔Ｉ〕とピリジンカルボン酸とを縮合剤（例
えば、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−
エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジ
イミド塩酸塩、ジエチルリン酸シアニド、ジフェニルリ
ン酸アジド等）の存在下に反応させるか、或いはピリジ
ンカルボン酸の反応性誘導体（例えば、Ｎ−ヒドロキシ
コハク酸イミドエステル、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド
エステル、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールエステル
等の活性エステル、ピリジンカルボン酸ハライド）を脱
酸剤（例えば、水酸化ナトリウム等の水酸化アルカリ金
属、炭酸水素ナトリウム等の炭酸水素アルカリ金属、炭
酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金属、水素化ナトリウム
等の水素化アルカリ金属、トリエチルアミン、ピリジン
等の有機塩基等の存在下に反応させることにより得るこ
とができる。本反応は、例えば、０〜６０℃、とりわ
け、５〜４０℃で好適に進行する。

【０１７４】（ｒ法）：一般式〔Ｉ〕で示される環Ａが
テトラゾリル低級アルコキシ基で置換されたベンゼン環
である化合物〔Ｉ〕は、環Ａがシアノ低級アルコキシ基
である対応化合物〔Ｉ〕と例えば、アジ化ナトリウム、
アジ化トリブチルスズ等のアジ化金属を反応させること
により製造することができる。本反応は、例えば、３０
〜１２０℃、とりわけ、５０〜１００℃で好適に進行す
る。

【０１７５】（ｓ法）：一般式〔Ｉ〕で示される環Ａ上
の置換基がオキソ基で置換された複素環式基を含有する
基（例えば、オキソ基で置換されたピリジル基置換低級
アルキル基等）である化合物〔Ｉ〕は、環Ａ上の置換基
が複素環式基を含有する基である対応化合物〔Ｉ〕を酸
化剤（例えば、３−クロロ過安息香酸、過酸化水素、過
酢酸等）で処理することにより得ることができる。本反
応は、上記（ｎ法）と同様に実施することができる。

【０１７６】（ｔ法）：一般式〔Ｉ〕で示される基Ｒ¹
が、例えば、ピペラジニル基等の複素環式基であり、当
該複素環式基中のＮ位にヒドロキシ低級アルキル基を有
する化合物〔Ｉ〕は、基Ｒ¹が、複素環式基である対応
化合物〔Ｉ〕を上記〔ｊ法〕で用いられる脱酸剤（例え
ば、炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金属等）の存在下
または非存在下、アルキル部分が水酸基で置換された低
級アルカリハライド（ヒドロキシ低級アルキルクロリ
ド、ヒドロキシ低級アルキルブロミド等）と反応させる
ことにより製することができる。本反応は、例えば、４
０〜１２０℃、とりわけ、５０〜１００℃で好適に進行
する。

【０１７７】上記（ａ法）〜（ｔ法）に記載の反応に用
いる溶媒は、反応を阻害しない溶媒であれば、特に限定
されず、例えばジオキサン、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムア
ミド、ヘキサメチルホスホラミド、ベンゼン、テトラヒ
ドロフラン、トルエン、酢酸エチル、低級アルコール、
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，３−ジ
メチル−２−イミダゾリジノン、酢酸、ジエチルエーテ
ル、ジメトキシエタン、ジメチルスルホキシド、水また
はそれらの混合溶媒を適宜選択して用いることができ
る。

【０１７８】前記化合物〔Ｉ〕の製造に際しては、化合
物〔Ｉ−ａ〕、〔Ｉ−ｄ〕、〔Ｉ−ｆ〕、〔Ｉ−ｈ〕、
〔ＩＩ〕、〔ＩＩＩ〕、〔ＩＶ〕、〔Ｖ〕、〔ＶＩ〕及
び〔ＶＩＩ〕は塩の形でも使用することができ、このよ
うな塩としては、例えば、ナトリウム、カリウム、リチ
ウムの如きアルカリ金属塩、ピリジン、トリエチルアミ
ン、Ｎ−メチルモルホリン等の有機塩基との塩、塩化水
素、臭化水素、硫酸等の無機酸との塩、酢酸、ギ酸、シ
ュウ酸、クエン酸、マロン酸等の有機酸との塩等が挙げ
られる。

【０１７９】原料化合物〔ＩＩ〕は、例えば、一般式
〔ｉ〕

【０１８０】

【化４９】

【０１８１】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるベンゾイル安息香酸化合物と一般式
〔ｉｉ〕

【０１８２】

【化５０】

【０１８３】（式中、Ｘ²は脱離基、Ｚ¹はカルボキシル
基の保護基を表す。）で示されるマロン酸化合物とを塩
基の存在下反応させた後に、生成物から保護基を除去す
ることにより、一般式〔ｉｉｉ〕

【０１８４】

【化５１】

【０１８５】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、次いで該生成物を酸の存
在下または非存在下、脱炭酸反応及び脱水反応に付し
て、一般式〔ｉｖ〕

【０１８６】

【化５２】

【０１８７】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とした後、要すれば、当該生成
物の３位カルボキシル基を常法によりエステル化または
アミド化することにより置換基Ｒ²に変換することによ
り製することができる。

【０１８８】更に、原料化合物〔Ｖ〕は、例えば、前記
化合物〔ｉ〕と一般式〔ｖ〕

【０１８９】

【化５３】

【０１９０】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とを化合物〔Ｉ−ａ〕とアミン
化合物〔ＶＩＩ〕との縮合反応と同様に反応させて製す
ることができる。

【０１９１】なお、ベンゾイル安息香酸化合物〔ｉ〕
は、慣用の方法に従って製することができ、例えば、一
般式〔ｖｉ〕

【０１９２】

【化５４】

【０１９３】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるベンズアルデヒド化合物をハロゲン
（臭素等）で処理し、得られるｏ−ハロゲノベンズアル
デヒド化合物を酸触媒（例えば、強酸性イオン交換樹脂
等）の存在下、アセタール化剤、例えば、オルトギ酸低
級アルキル（オルトギ酸メチル等）と反応させて、ホル
ミル基をアセタール化により保護した後、次いで、塩基
（ｎ−ブチルリチウム等）の存在下、一般式〔ｖｉｉ〕

【０１９４】

【化５５】

【０１９５】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示されるアルデヒド化合物と反応させ、生成物
を更に酸化（二酸化マンガン等の酸化剤で処理）して、
一般式〔ｖｉｉｉ〕

【０１９６】

【化５６】

【０１９７】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物を得た後、次いで、酸（塩酸、
トリフルオロ酢酸、強酸性イオン交換樹脂等）で処理し
て脱アセタール化した後、更に酸化剤（次亜塩素酸ナト
リウム等）で処理して製することができる。

【０１９８】また、上記化合物〔ｉ〕の製造において
は、化合物〔ｖｉｉ〕に代えて、一般式〔ｉｘ〕

【０１９９】

【化５７】

【０２００】（式中、Ｗはジ低級アルキル基置換カルバ
モイル基、低級アルコキシカルボニル基、或いはナトリ
ウム、カリウム等のアルカリ金属と塩を形成しているカ
ルボキシル基を表し、他の記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される安息香酸誘導体を使用することもでき
る。

【０２０１】更に、原料化合物〔ｉ〕は、一般式〔ｘ〕

【０２０２】

【化５８】

【０２０３】（但し、式：

【０２０４】

【化５９】

【０２０５】は低級アルキル基等から選ばれる基で置換
されていてもよい複素環式基を表し、他の記号は前記と
同一意味を有する。）で示される化合物を塩基（ｎ−ブ
チルリチウム等）の存在下、化合物〔ｖｉｉ〕と反応さ
せて、一般式〔ｘｉ〕

【０２０６】

【化６０】

【０２０７】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、次いで、該化合物を酸
（塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸）の存在下、加熱
処理して、一般式〔ｘｉｉ〕

【０２０８】

【化６１】

【０２０９】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、生成物を更に、塩基（水
酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸
化物）で加水分解し、次いで、酸化反応に付すことによ
り製することができる。

【０２１０】また、化合物〔ｘｉｉ〕は、一般式〔ｘｉ
ｉｉ〕

【０２１１】

【化６２】

【０２１２】（但し、Ｙはモノ−もしくはジ低級アルキ
ルアミノ基を表し、他の記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物を塩基（ｓｅｃ−ブチルリチウ
ム等）の存在下、化合物〔ｖｉｉ〕と反応させて、一般
式〔ｘｉｖ〕

【０２１３】

【化６３】

【０２１４】（但し、記号は前記と同一意味を有す
る。）で示される化合物とし、次いで、該化合物を酸
（塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸）の存在下、加熱
処理することにより製することができる。

【０２１５】なお、本発明の有効成分である化合物にお
いて、アルキル基とは、炭素数１〜１６のアルキル基を
表わし、このうち、とりわけ炭素数１〜８の直鎖状又は
分岐鎖状のものが好ましい。低級アルキル基、低級アル
コキシ基及び低級アルキレン基とは、炭素数１〜６のア
ルキル基、アルコキシ基及びアルキレン基を表し、この
うち、とりわけ１〜４のものが好ましい。また、低級ア
ルケニル基、低級アルキニル基とは、炭素数２〜７のア
ルケニル基及びアルキニル基を表し、このうち、とりわ
け２〜５の直鎖状又は分岐鎖状のものが好ましい。低級
アルキレンジオキシ基、低級アルカノイル基とは、炭素
数１〜７のアルキレンジオキシ基及びアルカノイル基を
表し、このうち、とりわけ、１〜５の直鎖状または分岐
鎖状のものが好ましい。更に、シクロ低級アルキル基と
は、炭素数３〜８のシクロアルキル基を表し、このう
ち、とりわけ３〜６のものが好ましい。

【０２１６】

【実験例】実験例 １（ホスホジエステラーゼＶ阻害作
用） （ホスホジエステラーゼＶの調製法）雑種雄性イヌより
摘出した肺のホモジェネートを遠心分離して得られた上
清を陰イオン交換カラムクロマトグラフィーにて分画
し、以下１．〜５．の条件全てを満たす画分を混合し
て、ホスホジエステラーゼＶの部分精製標品とした。

【０２１７】１．ｃＧＭＰを選択的に水解すること ２．そのｃＧＭＰ分解活性がＥＧＴＡ又はカルモジュリ
ンによって影響を受けないこと ３．ホスホジエステラーゼＩＩＩ選択的阻害薬であるＣ
Ｉ９３０で阻害されないこと ４．ホスホジエステラーゼＩＶ選択的阻害薬であるロリ
プラム（Ｒｏｌｉｐｒａｍ）により阻害されないこと。

【０２１８】５．ホスホジエステラーゼＶ選択的阻害薬
であるＥ−４０２１で阻害されることここで、ＥＧＴＡ
とは、式［ｘｖ］

【０２１９】

【化６４】

【０２２０】で示されるカルシウムキレート剤であり、
酵素液からカルシウムキレートすることでＰＤＥ Ｉの
活性を阻害する。

【０２２１】ＣＩ９３０とは、式［ｘｖｉ］

【０２２２】

【化６５】

【０２２３】で示されるＰＤＥ ＩＩＩ選択的阻害剤で
ある。ＰＤＥ Ｖの酵素液の中にＰＤＥ ＩＩＩが混入
していないことを確認するために使用する。

【０２２４】ロリプラムとは、式［ｘｖｉｉ］

【０２２５】

【化６６】

【０２２６】で示されるＰＤＥ ＩＶ選択的阻害剤であ
る。ＰＤＥ Ｖの酵素液の中にＰＤＥＩＶが混入してい
ないことを確認するために使用する。

【０２２７】Ｅ−４０２１とは、式［ｘｖｉｉｉ］

【０２２８】

【化６７】

【０２２９】で示されるＰＤＥ Ｖ選択的阻害剤であ
る。

【０２３０】（ホスホジエステラーゼＶ活性の測定）ト
ンプソンらの方法（アドバンス・イン・サイクリック・
ヌクレオチド・リサーチ〔Ａｄｖａｎｃｅｓ ｉｎ Ｃ
ｙｃｌｉｃ Ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅ Ｒｅｓｅａｒｃ
ｈ〕、１０巻、ラベン・プレス、ニューヨーク、６９〜
９２頁、１９７９年）を一部改変して行った。すなわ
ち、５０ｍＭ Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ、ｐＨ８．０で全基質
の約１０％を水解するように希釈したホスホジエステラ
ーゼＶ部分精製標品１００μｌをガラス製試験管に加え
た。該試験管に、反応用緩衝溶液（５０ｍＭ Ｔｒｉｓ
−ＨＣｌ、ｐＨ ８．０、１２．５ｍＭ ＭｇＣｌ₂、
１０ｍＭ ２−メルカプトエタノール）を２００μｌ加
えた後、ジメチルスルフォキサイドに溶解した検体化合
物（後記製造例で得た化合物）（１００倍濃度）を５μ
ｌ加えた。この溶液を３７℃で５分間プレインキュベー
トした後、２．５μＭ ［³Ｈ］ｃＧＭＰ（３．７ｋＢ
ｑ／２００μｌ）を２００μｌ加え、反応を開始した
（終濃度５０ｍＭ Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ、ｐＨ ８．０、
５ｍＭ ＭｇＣｌ₂、４ｍＭ ２−メルカプトエタノー
ル）。３７℃で３０分間の反応後、試験管を沸騰水浴中
に移し、反応を停止した。９０秒後、試験管を氷水浴中
に移し、反応液の温度を室温まで下げた。３７℃、５分
間のプレインキュベートの後、試験管に１ｍｇ／ｍｌヘ
ビ毒水溶液１００μｌを添加し、３７℃で３０分間反応
させた。該試験管にメタノール５００μｌを添加するこ
とにより反応を停止させた後、ダウエックス樹脂（商品
名：Ｄｏｗｅｘ １ｘ８、シグマ社製）２００μｌを予
め加えておいたカラムに反応液１ｍｌを供した。続いて
メタノール１ｍｌを加えることにより、該樹脂を洗浄し
た。反応液のカラム通過液と洗浄液とを合し、該液中の
［³Ｈ］グアノシン（Ｇｕａｎｏｓｉｎｅ）の放射活性
を測定しホスホジエステラーゼＶ（ＰＤＥ Ｖ）阻害活
性を求めた。

【０２３１】酵素標品を加えずに緩衝溶液のみを加えた
ものをブランク、酵素標品を加えるが検体溶液の代わり
にジメチルスルフォキシドのみを加えたものをコントロ
ールとし、各検体のコントロールに対する阻害率を計算
した。ＰＤＥ Ｖ阻害作用は、ＩＣ５０（各検体のコン
トロールに対する阻害率が５０％となる各検体の投与
量；ｎＭ）で評価した。ここで、各検体のＩＣ５０値の
計算は、３点以上の検体濃度における阻害率を求め、リ
ニア・リグレッション（ｌｉｎｅｒ ｒｅｇｒｅｓｓｉ
ｏｎ）により行った。

【０２３２】結果は下記第１表の通りである。

【０２３３】

【表１】

【０２３４】

【表２】

【０２３５】

【表３】

【０２３６】実験例 ２（ラット摘出大動脈における弛
緩作用） （標本作成）体重３１０〜４５０ｇ，１０〜１５週令の
雄性ＳＤ（Ｓｐｒａｇｕｅ−Ｄｏｗｌｅｒｙ）系ラット
を用いた。該ラットの、胸部大動脈を摘出し、脂肪及び
結合組織を取り除いて、長さ５ｍｍのリング標本を作成
した。標本は１０ｍｌの栄養液を満たしたマグヌス管に
約１．２ｇの静止張力をかけて懸垂し、３７±０．５℃
で９５％Ｏ₂、５％ＣＯ₂混合ガスを通気した栄養液中で
約１２０分間安定化させた。等尺性張力はＵゲージを介
して歪計（Ａ６０００シリーズ）で測定し、ペン書きレ
コーダー（ＧＲＡＰＨＴＥＣ ＭＵＬＴＩＣＯＲＤＥＲ
ＭＣ ６６２１）上に記録した。

【０２３７】栄養液組成（ｍＭ）：ＮａＣｌ １１８、
ＫＣｌ ４．７、ＣａＣｌ₂・Ｈ₂Ｏ２．５、ＫＨ₂ＰＯ₄
１．２、ＭｇＳＯ₄ １．２、ＮａＨＣＯ₃ ２５、ｇ
ｌｕｃｏｓｅ １１ （実験プロトコール）標本を１２０分安定化させ、４０
ｍＭＫＣｌで収縮することを確認した。該標本を約６０
分間洗浄した後、３μＭフェニレフリン添加により収縮
させ持続相になってから検体（１０ｎＭ〜１００μＭ）
を累積添加した。各検体の弛緩作用は、パパベリン１０
０μＭによる弛緩を１００％として求めた。弛緩作用
は、ＥＣ５０（パパベリンによる弛緩に対し弛緩が５０
％となる検体の濃度；ｎＭ）で評価した。

【０２３８】結果は下記第２表の通りである。

【０２３９】

【表４】

【０２４０】実験例 ３（ウサギ摘出海綿体弛緩作用） （標本作成）体重３．１６〜４．０ｋｇ、１７〜２０週
令の雄性ＮＺＷ系ウサギ（ニュージーランド白色ウサ
ギ）を用いた。該ウサギの陰茎海綿体を摘出し、陰茎海
綿体から結合組織を取り除いて、長さ約５ｍｍのストリ
ップ標本を作成した。標本は、１０ｍｌの栄養液を満た
したマグヌス管に約１．５ｇの静止張力をかけて懸垂
し、３７±０．５℃で９５％Ｏ₂、５％ＣＯ₂混合ガスを
通気した栄養液中で約６０分間安定化させた後、１２０
ｍＭ ＫＣｌで収縮することを確認した。等尺性張力は
Ｕゲージ及び歪みアンプ（ＡＰ６００シリーズ、日本光
電）を介して測定し、ペン書きレコーダー（ＧＲＡＰＨ
ＴＥＣ ＭＵＬＴＩＣＯＲＤＥＲ ＭＣ ６６２１）上
に記録した。栄養液組成（ｍＭ）：ＮａＣｌ １１８、
ＫＣｌ ４．７、ＣａＣｌ₂−Ｈ₂Ｏ １．５、ＫＨ₂Ｐ
Ｏ₄ １．２、ＭｇＳＯ₄ １．２、ＮａＨＣＯ₃ ２
５、ｇｌｕｃｏｓｅ １１、ＥＤＴＡ ０．０２３
（３）。

【０２４１】（実験プロトコール） （フェニレフリン収縮に対する作用）ストリップ標本に
５μＭフェニレフリンを添加して収縮させ、持続相にな
ってから薬物を０．００１、０．０１、０．１、１μＭ
と累積添加した。薬物処理時間は各濃度での弛緩作用が
最大に達するまでとした（０．００１μＭで３０分、
０．０１μＭで４０分、０．１μＭで４０分、１μＭで
４０分）。なお、フェニレフリン添加３０分前から予め
５μＭグアネチジン及び１μＭアトロピンを処置してお
いた。各検体の各濃度における弛緩作用は、１００μＭ
パパベリンによる弛緩を１００％として求めた。弛緩作
用は、ＥＣ３０（パパベリンによる弛緩に対し弛緩が３
０％となる検体の濃度；ｎＭ）で評価した。

【０２４２】結果は下記第３表の通りである。

【０２４３】

【表５】

【０２４４】

【製造例】上記例示の各方法で合成される本発明化合物
〔Ｉ〕の具体例（製造例）を下記第４〜５１表に示す
が、これにより本発明が限定されるものではない。

【０２４５】

【表６】

【０２４６】

【表７】

【０２４７】

【表８】

【０２４８】

【表９】

【０２４９】

【表１０】

【０２５０】

【表１１】

【０２５１】

【表１２】

【０２５２】

【表１３】

【０２５３】

【表１４】

【０２５４】

【表１５】

【０２５５】

【表１６】

【０２５６】

【表１７】

【０２５７】

【表１８】

【０２５８】

【表１９】

【０２５９】

【表２０】

【０２６０】

【表２１】

【０２６１】

【表２２】

【０２６２】

【表２３】

【０２６３】

【表２４】

【０２６４】

【表２５】

【０２６５】

【表２６】

【０２６６】

【表２７】

【０２６７】

【表２８】

【０２６８】

【表２９】

【０２６９】

【表３０】

【０２７０】

【表３１】

【０２７１】

【表３２】

【０２７２】

【表３３】

【０２７３】

【表３４】

【０２７４】

【表３５】

【０２７５】

【表３６】

【０２７６】

【表３７】

【０２７７】

【表３８】

【０２７８】

【表３９】

【０２７９】

【表４０】

【０２８０】

【表４１】

【０２８１】

【表４２】

【０２８２】

【表４３】

【０２８３】

【表４４】

【０２８４】

【表４５】

【０２８５】

【表４６】

【０２８６】

【表４７】

【０２８７】

【表４８】

【０２８８】

【表４９】

【０２８９】

【表５０】

【０２９０】

【表５１】

【０２９１】

【表５２】

【０２９２】

【表５３】

【０２９３】

【表５４】

【０２９４】

【表５５】

【０２９５】

【表５６】

【０２９６】

【表５７】

【０２９７】

【表５８】

【０２９８】

【表５９】

【０２９９】

【表６０】

【０３００】

【表６１】

【０３０１】

【表６２】

【０３０２】

【表６３】

【０３０３】

【表６４】

【０３０４】

【表６５】

【０３０５】

【表６６】

【０３０６】

【表６７】

【０３０７】

【表６８】

【０３０８】

【表６９】

【０３０９】

【表７０】

【０３１０】

【表７１】

【０３１１】

【表７２】

【０３１２】

【表７３】

【０３１３】

【表７４】

【０３１４】

【表７５】

【０３１５】製造例 １ ７−ベンジルオキシ−６−メトキシ−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）イソクマリン−３−カルボン
酸５．０ｇ、４−アミノモルホリン６．２ｇを１，３−
ジメチル−２−イミダゾリジノン２０ｍｌに溶解し、１
００℃で終夜撹拌する。反応液にクロロホルム及び水を
加えて抽出し、抽出液（クロロホルム層）を洗浄、乾燥
後、溶媒を留去することにより、７−ベンジルオキシ−
３−カルボキシ−６−メトキシ−２−モルホリノ−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノンを得る。本品をジメチルホルムアミド１
５ｍｌに溶解し、炭酸カリウム２．１ｇ、ヨウ化メチル
１．２７ｍｌを加え、室温で３０分撹拌する。酢酸エチ
ル及び水を加えて抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶
媒を留去する。残渣にジエチルエーテルを加え結晶化す
ることにより、第４表記載の７−ベンジルオキシ−６−
メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−モルホリノ−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン３．４ｇを得る。

【０３１６】製造例 ２ 製造例１の目的化合物２．８ｇにメタノール１００ｍ
ｌ、ジメチルホルムアミド１００ｍｌ、パラジウム炭素
１００ｍｇを加え水素雰囲気下（１気圧）、室温で１．
５時間撹拌する。触媒を濾去した後、濾液を濃縮する。
析出晶を濾取して、ジエチルエーテルで洗浄することに
より、第４表記載の７−ヒドロキシ−６−メトキシ−３
−メトキシカルボニル−２−モルホリノ−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン２．２６ｇを得る。

【０３１７】製造例 ３ 製造例２の目的化合物３００ｍｇのジメチルホルムアミ
ド溶液３ｍｌに、２−ピコリルクロリド・塩酸塩１１８
ｍｇ、炭酸カリウム１８２ｍｇを加え５０℃で終夜撹拌
する。酢酸エチル及び水を加えて抽出する。抽出液を洗
浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣（化合物名：６−メ
トキシ−３−メトキシカルボニル−２−モルホリノ−７
−（２−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン）を酢酸エチルに溶解し、４Ｎ塩化水素−酢酸エチル
溶液１５０μｌを加え室温で３０分間撹拌する。析出晶
を濾取し、酢酸エチルで洗浄することにより、第４表記
載の６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−モル
ホリノ−７−（２−ピリジルメチルオキシ）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩２７９ｍｇを得る。

【０３１８】製造例 ４ ７−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシ−６−メトキシ−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−３，４−
ジヒドロイソクマリン−３−カルボン酸（参考例７１の
目的化合物）１２．８ｇに１，３−ジメチル−２−イミ
ダゾリジノン６０ｍｌ、Ｎ−メチルモルホリン４．１５
ｍｌ、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−ｐ−フェニ
レンジアミン６．７８ｇを加え８０℃で終夜撹拌する。
反応液を室温まで冷却した後、飽和クエン酸水溶液及び
酢酸エチルを加えて抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、
溶媒を留去することにより、７−ベンジルオキシ−２−
〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニ
ル〕−３−カルボキシ−６−メトキシ−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノンを得る。本品をジメチルホルムアミド６０ｍｌに溶
解し、氷冷下で炭酸カリウム４．１４ｇ、ヨウ化メチル
１．８７ｍｌを加え室温で終夜撹拌した後、水および酢
酸エチルを加えて抽出する。酢酸エチル層を洗浄、乾燥
後、溶媒を留去し、残渣をジエチルエーテルで結晶化す
ることにより、第５表記載の７−ベンジルオキシ−２−
〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニ
ル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン１４．２ｇを得る。

【０３１９】製造例 ５ 製造例４の目的化合物１７．０ｇのテトラヒドロフラン
（１５０ｍｌ）−メタノール（１００ｍｌ）混合溶液
に、パラジウム炭素１．０ｇを窒素雰囲気下で加えた
後、１時間接触還元（３気圧）する。パラジウム炭素を
濾去し、溶媒を留去後残渣をジエチルエーテルで結晶化
することにより、第５表記載の２−〔４−ｔｅｒｔ−ブ
トキシカルボニルアミノ）フェニル〕−７−ヒドロキシ
−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン１３．３ｇを得る。

【０３２０】製造例 ６ （１）製造例５の目的化合物２００ｍｇをジメチルホル
ムアミド２０ｍｌに溶解し、炭酸カリウム９２ｍｇ、２
−ピコリルクロリド・塩酸塩５５ｍｇを加え、６０℃で
終夜撹拌した後、水および酢酸エチルを加えて抽出す
る。酢酸エチル層を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１：２）で精製することにより、２−
〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニ
ル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７−
（２−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン２
０７ｍｇを得る。

【０３２１】（２）本品をクロロホルム５ｍｌに溶解
し、４Ｎ塩化水素−酢酸エチル溶液８ｍｌを加え室温で
５分間撹拌し、生じた懸濁液にメタノール１ｍｌを加え
た後、終夜撹拌する。ジエチルエーテルを加えて析出し
た結晶を濾取することにより、第５表記載の２−（４−
アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−７−（２−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン・２塩酸塩１８０ｍｇを得る。

【０３２２】製造例 ７ （１）製造例５の目的化合物２５０ｍｇ、３−ヒドロキ
シメチルキノリン９８ｍｇ、トリフェニルホスフィン２
１５ｍｇをＴＨＦ１０ｍｌに溶解した後、アゾジカルボ
ン酸ジエチル９７．３μｌを加えて室温で１０分間撹拌
する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）で
精製することにより、２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニルアミノ）フェニル〕−６−メトキシ−３−メ
トキシカルボニル−７−（３−キノリルメチルオキシ）
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０３２３】（２）本品をクロロホルム３ｍｌに溶解
し、４Ｎ塩化水素−酢酸エチル溶液５ｍｌを加えて室温
で５分間撹拌し、生じた懸濁液にメタノール１ｍｌを加
えた後、終夜撹拌する。反応液にジエチルエーテルを加
えて、析出晶を濾取することにより、第５表記載の２−
（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メトキシ
カルボニル−７−（３−キノリルメチルオキシ）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・２塩酸塩１４０ｍｇを得る。

【０３２４】製造例 ８ （１）製造例５の目的化合物１０．０ｇをクロロホルム
２０ｍｌに溶解し、４Ｎ塩化水素−酢酸エチル溶液６０
ｍｌを加えて室温で終夜撹拌する。生じた懸濁液に氷冷
下で２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液１２０ｍｌを加えて中
和した後、酢酸エチルを加えて抽出する。抽出液を洗
浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣を少量の酢酸エチル
に溶解した後、ジエチルエーテルで結晶化することによ
り、２−（４−アミノフェニル）−７−ヒドロキシ−６
−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン５．４７ｇを得る。

【０３２５】（２）本品５．４７ｇをアセトニトリル５
０ｍｌと１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン５ｍ
ｌの混合溶媒に溶解し、クロロぎ酸−９−フルオレニル
メチル２．８ｇを加えて室温で１０分間撹拌する。反応
液に水および酢酸エチルを加えて抽出する。抽出液を洗
浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：
２）で精製することにより、第５表記載の２−〔４−
（９−フルオレニルメチルオキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−ヒドロキシ−６−メトキシ−３−メトキ
シカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン３．３８ｇを得る。

【０３２６】製造例 ９ （１）製造例８−（２）の目的化合物４１８ｍｇ、２−
ヒドロキシメチルチオフェン９７．６μｌ、トリフェニ
ルホスフィン２７０ｍｇをテトラヒドロフラン１０ｍｌ
に溶解した後、アゾジカルボン酸ジエチル１６２μｌを
加えて室温で１０分間撹拌する。反応終了後、溶媒を留
去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製することに
より、２−〔４−（９−フルオレニルメチルオキシカル
ボニルアミノ）フェニル〕−６−メトキシ−３−メトキ
シカルボニル−７−（２−チエニルメチルオキシ）−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノンを得る。

【０３２７】（２）本品をジメチルホルムアミド１０ｍ
ｌに溶解し、ピペリジン５０μｌを加え室温で終夜撹拌
する。水及び酢酸エチルを加えて抽出する。抽出液を洗
浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝
１：４）で精製することにより、２−（４−アミノフェ
ニル）−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７−
（２−チエニルメチルオキシ）−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン１
８７ｍｇを得る。ｍ．ｐ．２０５−２０６℃ （３）本品１５５ｍｇをクロロホルム５ｍｌに溶解し、
該溶液に４Ｎ塩化水素−酢酸エチル溶液６６μｌを加
え、室温で３０分間撹拌する。反応液にジエチルエーテ
ルを加え、析出晶を濾取することにより、第５表記載の
２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（２−チエニルメチルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩７６ｍｇを得る。

【０３２８】製造例 １０ （１）６，７−ジメトキシ−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）イソクマリン−３−カルボン酸（参考
例５０の目的化合物）２．０ｇ、アニリン２．６１ｇを
１−メチル−２−ピロリジノン５ｍｌに溶解し、１２０
℃で終夜加熱撹拌する。反応溶液に酢酸エチル及び水を
加えて抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去す
ることにより、３−カルボキシ−２−フェニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン１．９８ｇを得る。

【０３２９】（２）本品１．９７ｇをジメチルホルムア
ミド２０ｍｌに溶解し、炭酸カリウム１．１６ｇ、ヨウ
化メチル１．５９ｇを加えて室温で終夜撹拌する。反応
液にクロロホルム及び水を加えて抽出する。抽出液を洗
浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルで結晶化
することにより、第６表記載の３−メトキシカルボニル
−２−フェニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン１．６９ｇを得
る。

【０３３０】製造例 １１−１３，１１−ａ−１３−ａ 対応原料化合物を製造例１０−（２）と同様に処理する
ことにより第６表記載の下記各化合物を得る。

【０３３１】３−エトキシカルボニル−２−フェニル−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン（製造例１１） ３−ベンジルオキシカルボニル−２−フェニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン（製造例１２） ３−ｎ−ブトキシカルボニル−２−フェニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン（製造例１３） ３−エトキシカルボニル−４−（４−エトキシ−３，５
−ジメトキシフェニル）−２−フェニル−１（２Ｈ）−
イソキノリノン（製造例１１−ａ） ３−ベンジルオキシカルボニル−４−（４−ベンジルオ
キシ−３，５−ジメトキシフェニル）−２−フェニル−
１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１２−ａ）３−ｎ
−ブトキシカルボニル−４−（４−ｎ−ブトキシ−３，
５−ジメトキシフェニル）−２−フェニル−１（２Ｈ）
−イソキノリノン（製造例１３−ａ） 製造例 １４−１５ ４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）イソクマリ
ン−３−カルボン酸（参考例５１の目的化合物）と対応
原料化合物とを製造例１と同様に処理することにより、
第７表記載の下記各化合物を得る。

【０３３２】２−（２−クロロフェニル）−３−メトキ
シカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１４） ３−メトキシカルボニル−２−（２−ナフチル）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン（製造例１５） 製造例 １６−１８ 参考例５１の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
と同様に処理することにより、第７表記載の下記各化合
物を得る。

【０３３３】２−（４−ｎ−ブチルフェニル）−３−メ
トキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１６） ２−〔３，５−ビス（メトシキカルボニル）フェニル〕
−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造
例１７） ３−メトキシカルボニル−２−（３−ニトロフェニル）
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン（製造例１８） 製造例 １９ 参考例５１の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
と同様に処理することにより、第７表記載の２−ジメチ
ルアミノ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ンを得る。

【０３３４】製造例 ２０ 参考例５１の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
と同様に処理することにより、第７表記載の３−メトキ
シカルボニル−２−（４−メトキシカルボニルフェニ
ル）−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０３３５】製造例 ２１ （１）製造例２０の目的化合物１．５１ｇにメタノール
１５０ｍｌ及び１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液３ｍｌを加
え、６０℃で終夜撹拌する。該反応液に更に１Ｎ水酸化
ナトリウム水溶液１．５ｍｌを２回に分けて添加し、１
２時間還流する。反応液を放冷後、水および酢酸エチル
を加えて分液する。水層を塩酸酸性とした後、酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、
残渣をジエチルエーテルで結晶化することにより、第７
表記載の２−（４−カルボキシフェニル）−３−メトキ
シカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン２４５ｍｇを得る。

【０３３６】（２）本品２４５ｍｇに１Ｎ水酸化ナトリ
ウム水溶液０．５０ｍｌを加えて加熱溶解する。水を留
去した後、ジエチルエーテルを加えて結晶を濾取するこ
とにより、第７表記載の２−（４−カルボキシフェニ
ル）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・
ナトリウム塩２４５ｍｇを得る。

【０３３７】製造例 ２２ 製造例２１の目的化合物２００ｍｇ、１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール６９ｍｇ及び１−（３−ジメチルアミ
ノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩８６ｍ
ｇの塩化メチレン（１０ｍｌ）溶液を室温で３０分間撹
拌した後、更にモルホリン７１ｍｇの塩化メチレン溶液
（２ｍｌ）を加えて、室温で終夜撹拌する。反応終了
後、当該混合物に水及び酢酸エチルを加えて抽出する。
抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をジエチル
エーテルで結晶化することにより、第７表記載の３−メ
トキシカルボニル−２−〔４−（モルホリノカルボニ
ル）フェニル〕−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン２１０ｍｇを得
る。

【０３３８】製造例 ２３ 製造例２１の目的化合物とｔｅｒｔ−ブチルカルバゼー
トを製造例２２と同様に処理することにより、第７表記
載の２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルヒドラ
ジノカルボニル）フェニル〕−３−メトキシカルボニル
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０３３９】製造例 ２４ 製造例２３の目的化合物をジオキサン２ｍｌに溶解し、
４Ｎ塩化水素−ジオキサン溶液５ｍｌを加え、室温で撹
拌する。当該混合物に更に４Ｎ塩化水素−ジオキサン溶
液５ｍｌを添加し、３時間撹拌する。反応液から溶媒を
留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶媒；クロロホルム：メタノール＝３０：１）で精製
することにより、第７表記載の３−メトキシカルボニル
−２−〔４−（ヒドラジノカルボニル）フェニル〕−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０３４０】製造例 ２５−２６ ３−ヒドロキシ−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−３，４−ジヒドロイソクマリン−３−カルボン
酸（参考例７５の目的化合物）１．８７ｇ、１，４−ジ
アミノシクロヘキサン１．１４ｇおよびＮ−メチルモル
ホリン０．５５ｍｌの１，３−ジメチル−２−イミダゾ
リジノン（１０ｍｌ）溶液を１００℃で３０分間撹拌す
る。反応液を冷却し、塩酸酸性とした後、該溶液に酢酸
エチル２０ｍｌを加える。水層に炭酸カリウムを加えて
ｐＨ９とした後、メタノール３０ｍｌ、テトラヒドロフ
ラン１００ｍｌおよびジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネ
ート５．４４ｇを加えて、室温で６時間撹拌する。反応
液に１０％クエン酸水を加えて酸性とした後、酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去す
る。残渣にメタノール５０ｍｌ、酢酸エチル１００ｍｌ
及び２Ｍトリメチルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液
２．５ｍｌを加えて、室温で１時間撹拌する。反応液か
ら溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶媒；クロロホルム：酢酸エチル＝１０：１）
で精製することにより、第７表記載の下記化合物を得
る。

【０３４１】２−〔シス−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニルアミノ）シクロヘキシル〕−３−メトキシカル
ボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例２５） ２−〔トランス−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
アミノ）シクロヘキシル〕−３−メトキシカルボニル−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン（製造例２６） 製造例 ２７−２８ 製造例２５−２６の目的化合物を製造例２４と同様に処
理することにより、第７表記載の下記化合物を得る。

【０３４２】２−（シス−４−アミノシクロヘキシル）
−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸
塩（製造例２７） ２−（トランス−４−アミノシクロヘキシル）−３−メ
トキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造
例２８） 製造例 ２９ ３−ヒドロキシ−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−３，４−ジヒドロイソクマリン−３−カルボン
酸（参考例７５の目的化合物）と対応原料化合物とを製
造例２５記載の方法と同様に処理することにより、第７
表記載の２−〔３−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ル）ピロリジニル〕−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノンを得る。

【０３４３】製造例 ３０ 製造例２９の目的化合物を製造例２４と同様に処理する
ことにより、第７表記載の３−メトキシカルボニル−２
−（３−ピロリジニル）−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩
を得る。

【０３４４】製造例 ３１ ３−ヒドロキシ−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−３，４−ジヒドロイソクマリン−３−カルボン
酸（参考例７５の目的化合物）５００ｍｇに１，３−ジ
メチル−２−イミダゾリジノン５ｍｌ、４−アミノベン
ゼンスルホンアミド９２０ｍｇを加え９０℃で３時間撹
拌し、さらに１２０℃にて終夜撹拌する。反応液を放冷
後、５％炭酸カリウム水溶液２０ｍｌ及び酢酸エチル１
０ｍｌを加えて分液する。水層に１０％クエン酸水溶液
を加えて酸性に調整した後、酢酸エチルで抽出する。抽
出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去することにより、２−
（４−スルファモイルフェニル）−３−カルボキシ−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノンを得る。本品をメタノール５ｍｌ−酢
酸エチル２０ｍｌ混液に溶解する。該溶液に２Ｍトリメ
チルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液０．６７ｍｌを
加え、室温で３０分間撹拌する。反応液から溶媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
媒；クロロホルム：アセトン＝９：１）で精製すること
により、第７表記載の２−（４−スルファモイルフェニ
ル）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン８
８ｍｇを得る。

【０３４５】製造例３２ 参考例７５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
もしくは３１と同様に処理することにより、第７表記載
の３−メトキシカルボニル−２−〔４−（Ｎ−ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニル）ピペリジル〕−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノンを得る。

【０３４６】製造例 ３３ （１）製造例３２の目的化合物を製造例２４と同様に処
理することにより、３−メトキシカルボニル−２−（４
−ピペリジル）−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０３４７】（２）本品１．１０ｇに１０％炭酸カリウ
ム水溶液及び酢酸エチルを加え抽出する。抽出液を水
洗、乾燥後、溶媒を留去することにより、第７表記載の
３−メトキシカルボニル−２−（４−ピペリジル）−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノンを得る。

【０３４８】製造例 ３４ 参考例７５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
又は３１と同様に処理することにより、第７表記載の２
−〔３−アミノ−５−（メトキシカルボニル）フェニ
ル〕−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを
得る。

【０３４９】製造例 ３５ 製造例３４の目的化合物を製造例２１と同様に処理する
ことにより、第７表記載の２−（３−アミノ−５−カル
ボキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノンを得る。

【０３５０】製造例 ３６−３８ 参考例５１の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
と同様に処理することにより、第７表記載の下記各化合
物を得る。

【０３５１】２−（２−インダニル）−３−メトキシカ
ルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例３６） ２−（５−インダニル）−３−メトキシカルボニル−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン（製造例３７） ３−メトキシカルボニル−２−〔（Ｎ−メチル−４−ピ
ペリジル）メチル〕−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例３
８） 製造例 ３９ （１）４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）イソ
クマリン−３−カルボン酸（参考例５１の目的化合物）
１．４２ｇ、Ｎ−アセチル−ｐ−フェニレンジアミン
１．８０ｇを１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン
３ｍｌに溶解し、１３０℃で４時間撹拌する。反応液に
氷冷下０．１Ｎ塩酸を加えてｐＨ２に調整する。該混合
物を氷冷下撹拌し、析出晶をろ取して、水及びクロロホ
ルムで順次洗浄することにより、２−（４−アセチルア
ミノフェニル）−３−カルボキシ−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
１．０２ｇを得る。

【０３５２】（２）本品０．５０ｇをメタノール１０ｍ
ｌ−クロロホルム１０ｍｌ混液に溶解し、２Ｍトリメチ
ルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液２ｍｌを加え、室
温で３時間撹拌した後、反応液を濃縮する。残渣に水及
びクロロホルムを加えて抽出する。抽出液を炭酸水素ナ
トリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄、乾燥後、溶媒を留
去する。残渣をジエチルエーテルで結晶化することによ
り、第７表記載の３−メトキシカルボニル−２−（４−
アセチルアミノフェニル）−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン４４０
ｍｇを得る。

【０３５３】製造例 ４０ 製造例３９−（１）の目的化合物０．５０ｇを２Ｎ塩酸
１０ｍｌに加え、１２時間加熱還流する。反応液に氷冷
下、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加えて、ｐＨを６〜
７に調整する。析出晶をろ取し、水洗することにより、
２−（４−アミノフェニル）−３−カルボキシ−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン０．４０ｇを得る。次いで、本品を製造
例３９−（２）と同様に処理することにより、２−（４
−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン０．３０ｇを得る。更に、本品のクロロ
ホルム溶液に４Ｎ塩化水素−ジオキサン溶液０．１６ｍ
ｌを加えた後、濃縮し、残渣を酢酸エチルで結晶化する
ことにより、第７表記載の２−（４−アミノフェニル）
−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸
塩０．２８ｇを得る。

【０３５４】製造例 ４１−４２ 参考例５１の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
又は３９と同様に処理することにより、第７表記載の下
記各化合物を得る。

【０３５５】２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３
−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例４
１） ２−（３，５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカ
ルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例４２） 製造例 ４３ （１）参考例５１の目的化合物と対応原料化合物とを製
造例３９と同様に処理することにより、２−（３−アミ
ノ−４−メトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０３５６】（２）本品を酢酸エチルに溶解し、該溶液
に４Ｎ塩化水素−ジオキサン溶液を加えた後、溶媒を留
去し、残渣を酢酸エチルで結晶化することにより、第７
表記載の２−（３−アミノ−４−メトキシフェニル）−
３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩
を得る。

【０３５７】製造例 ４４−４５ 参考例７５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
又は３１と同様に処理することにより、第７表記載の下
記各化合物を得る。

【０３５８】３−メトキシカルボニル−２−〔３−（２
−オキソテトラヒドロフリル）〕−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例４４） ３−メトキシカルボニル−２−〔３−（２−オキソピロ
リジニル）〕−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例４５） 製造例 ４６ （１）参考例７５の目的化合物と対応原料化合物とを製
造例４又は３１と同様に処理することにより、２−（６
−インドリニル）−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノンを得る。

【０３５９】（２）本品を製造例４３−（２）と同様に
処理することにより、第７表記載の２−（６−インドリ
ニル）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
・塩酸塩を得る。

【０３６０】製造例 ４７−５０ 参考例７５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
又は３１と同様に処理することにより、第７表記載の下
記各化合物を得る。

【０３６１】２−シクロプロピル−３−メトキシカルボ
ニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例４７） ２−（トランス−４−ヒドロキシシクロヘキシル）−３
−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例４
８） ２−エチル−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン（製造例４９） ２−〔４−（１−ベンジル）ピペリジル〕−３−メトキ
シカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例５０） 製造例 ５１−５３ 参考例５１の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
又は３９と同様に処理することにより、第７表記載の下
記各化合物を得る。

【０３６２】３−メトキシカルボニル−２−（３−トリ
フルオロメチルフェニル）−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造
例５１） ２−（５（１Ｈ）−インダゾリル）−３−メトキシカル
ボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例５２） ３−メトキシカルボニル−２−ピペリジノ−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン（製造例５３） 製造例 ５４ 参考例７５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
もしくは３１と同様に処理することにより、第７表記載
の２−（３−ヒドロキシ−ｎ−プロピル）−３−メトキ
シカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０３６３】製造例 ５５ （１）参考例７５の目的化合物と対応原料化合物とを製
造例４又は３１と同様に処理することにより、２−〔１
−（４−ベンジルオキシカルボニル）ピペラジニル〕−
３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る
（本品は精製することなく、次行程へ供した）。

【０３６４】（２）本品２６０ｍｇを２５％臭化水素−
酢酸３ｍｌに溶解し、室温で３０分間撹拌する。反応液
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルを
加えて抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去す
る。残渣のクロロホルム溶液に４Ｎ塩化水素−酢酸エチ
ル溶液７５μｌを添加し、析出晶をろ取することによ
り、第７表記載の３−メトキシカルボニル−２−（１−
ピペラジニル）−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩９５ｍｇ
を得る。

【０３６５】製造例 ５６−５８ 参考例７５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
又は３１と同様に処理することにより、第７表記載の下
記各化合物を得る。

【０３６６】３−メトキシカルボニル−２−モルホリノ
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン（製造例５６） ３−メトキシカルボニル−２−（３−ピリジル）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン（製造例５７） ２−〔４−（ベンジルオキシカルボニルアミノメチル）
フェニル〕−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン（製造例５８） 製造例 ５９ 製造例５８の目的化合物３００ｍｇを２５％臭化水素−
酢酸１０ｍｌに溶解し、室温で終夜撹拌する。析出晶を
ろ取して洗浄後、該結晶にクロロホルム及び炭酸水素ナ
トリウム水溶液を加えて抽出する。抽出液を洗浄、乾燥
後、濃縮する。残渣を酢酸エチル３ｍｌに溶解し、４Ｎ
塩化水素−酢酸エチル溶液１５０μｌを加える。析出晶
をろ取することにより、第７表記載の２−（４−アミノ
メチルフェニル）−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩２１５ｍｇを得る。

【０３６７】製造例 ６０−６１ 参考例７５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
又は３１と同様に処理することにより、第７記載の下記
各化合物を得る。

【０３６８】３−メトキシカルボニル−２−〔（６−メ
チル−２−ピリジノン−３−イル）メチル〕−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン（製造例６０） ３−メトキシカルボニル−２−（３，４−メチレンジオ
キシベンジル）−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例６１） 製造例 ６２−６３ 参考例７５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
６と同様に処理することにより、第７記載の下記各化合
物を得る。

【０３６９】２−（３−ジメチルアミノフェニル）−３
−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩
（製造例６２） ３−メトキシカルボニル−２−〔３−（６−メトキシ）
ピリジル〕−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例６
３） 製造例 ６４ 参考例７５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
もしくは３１と同様に処理することにより、第７表記載
の３−メトキシカルボニル−２−（３−メトキシカルボ
ニルフェニル）−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０３７０】製造例 ６５ 製造例６４の目的化合物を製造例２１と同様に処理する
ことにより、第７表記載の２−（３−カルボキシフェニ
ル）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを
得る。

【０３７１】製造例 ６６ 参考例５１の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
０−（１）と同様に処理することにより、第８表記載の
２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−３−カ
ルボキシ−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０３７２】製造例 ６７ 製造例６６の目的化合物１．０ｇ、ジメチルアミノピリ
ジン２６ｍｇ及び１−（３−ジメチルアミノプロピル）
−３−エチルカルボジイミド塩酸塩４４８ｍｇを塩化メ
チレン（２０ｍｌ）−メタノール（３４０ｍｌ）混液に
溶解する。該溶液を室温で１０分間撹拌した後、更に１
−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボ
ジイミド塩酸塩４１ｍｇ及びジメチルアミノピリジン２
６ｍｇを加えて、室温で終夜撹拌する。反応液に水及び
酢酸エチルを加えて抽出し、抽出液を洗浄、乾燥後、溶
媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）にて精製
することにより、第９表記載の２−（ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルアミノ）−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン４３８ｍｇを得る。

【０３７３】製造例 ６８ 製造例６７の目的化合物２００ｍｇに４Ｎ塩化水素−酢
酸エチル溶液１０ｍｌを加え、室温で１時間放置する。
反応液を減圧濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え、該溶液
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄、乾燥後、溶媒
を留去することにより、第９記載の２−アミノ−３−メ
トキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン１４６ｍｇを得
る。

【０３７４】製造例 ６９ 製造例６８の目的化合物２００ｍｇ及びピリジン１２０
ｍｇのテトラヒドロフラン（１５ｍｌ）溶液に、氷冷
下、アセチルクロリド６１．３ｍｇのテトラヒドロフラ
ン（５ｍｌ）溶液を滴下し、氷冷下で１時間撹拌後、更
に室温で終夜撹拌する。反応液に酢酸エチル及び水を加
え、洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣をヘキサン−
ジエチルエーテル混液で結晶化することにより、第９表
記載の２−アセチルアミノ−３−メトキシカルボニル−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン１１６ｍｇを得る。

【０３７５】製造例 ７０ 製造例６８の目的化合物２００ｍｇ及びトリエチルアミ
ン１４５μｌのテトラヒドロフラン（１５ｍｌ）溶液を
−２０℃に冷却し、アセチルクロリド６１ｍｇのテトラ
ヒドロフラン（５ｍｌ）溶液を加える。該混合物を同温
で１時間撹拌した後、室温まで昇温させ、アセチルクロ
リド１２２ｍｇ及びトリエチルアミン２９０μｌを加
え、室温で終夜撹拌する。反応液に酢酸エチル及び水を
加えて抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製することに
より、第９表記載の２−ジアセチルアミノ−３−メトキ
シカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン７５ｍｇを得る。

【０３７６】製造例 ７１ 製造例６７の目的化合物１．００ｇをジメチルホルムア
ミド１０ｍｌに溶解し、炭酸カリウム３８２ｍｇ、ヨウ
化メチル３９２ｍｇを加え室温で終夜撹拌する。反応液
にクロロホルム及び水を加えて抽出する。抽出液を洗
浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をジエチルエーテルで
結晶化することにより、第９表記載の３−メトキシカル
ボニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニルアミノ）−４−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る（本品は
精製することなく、製造例７２の出発化合物として用い
た）。

【０３７７】製造例 ７２ 製造例７１の目的化合物を製造例２４と同様に処理する
ことにより、第９表記載の３−メトキシカルボニル−２
−メチルアミノ−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０３７８】製造例 ７３ 製造例６７の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
０−（２）と同様に処理することにより、第９表記載の
２−〔Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−（２−
ヒドロキシエチル）アミノ〕−３−メトキシカルボニル
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノンを得る（本品は精製することな
く、製造例７４の出発化合物として用いた）。

【０３７９】製造例 ７４ 製造例７３の目的化合物１７０ｍｇのジオキサン溶液
（１ｍｌ）に４Ｎ塩化水素−ジオキサン溶液１０ｍｌを
加え、室温で３時間撹拌する。反応液から溶媒を留去
し、残渣を酢酸エチルに溶解後、水洗、乾燥する。該溶
液から溶媒を留去し、残渣をクロマトトロン（溶媒；ク
ロロホルム：アセトン＝５：１）で精製した後、ジエチ
ルエーテルで結晶化することにより、第９表記載の２−
〔Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミノ〕−３−メトキ
シカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０３８０】製造例 ７５ 製造例７４の目的化合物２１０ｍｇの酢酸エチル溶液
（１０ｍｌ）に、４Ｎ塩化水素−酢酸エチル溶液１０ｍ
ｌを加え、室温で５時間撹拌する。反応から溶媒を留去
し、残渣を酢酸エチルに溶解後、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液及び水で順次洗浄し、乾燥する。該溶液から溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製後、
ジエチルエーテルで結晶化することにより、第９表記載
の２−（２−アセトキシエチルアミノ）−３−メトキシ
カルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０３８１】製造例 ７６ （１）参考例５１の目的化合物と対応原料化合物を製造
例１０（１）及び（２）と同様に処理することにより、
２−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−ｎ−プ
ロピルアミノ）−３−メトキシカルボニル−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノンを得る。（本品は精製することな く、次工程へ供した）（２）本品を製造例２４と同様に
処理することにより、第９表記載の３−メトキシカルボ
ニル−２−ｎ−プロピルアミノ−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを
得る。

【０３８２】製造例 ７７ 参考例５１の目的化合物と対応原料化合物とを製造例７
６と同様に処理することにより、第９表記載の２−エチ
ルアミノ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ンを得る。

【０３８３】製造例 ７８ 参考例７５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
もしくは３１と同様に処理することにより、第９表記載
の２−〔（１Ｓ）−１−ベンジルオキシカルボニル−２
−フェニルエチル〕−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノンを得る（本品は精製することなく、製造
例７９の出発化合物として用いた）。

【０３８４】製造例 ７９ 製造例７８の目的化合物を製造例２と同様に処理するこ
とにより、第９表記載の２−〔（１Ｓ）−１−カルボキ
シ−２−フェニルエチル〕−３−メトキシカルボニル−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０３８５】製造例 ８０ 参考例７５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
もしくは３１と同様に処理することにより、第９表記載
の２−（１Ｈ−１−メチルベンズトリアゾール−６−イ
ル）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを
得る。

【０３８６】製造例 ８１−８５ ６，７−ジメトキシ−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−３−カルボン酸（参考例５０の目的化合
物）と対応原料化合物とを製造例１もしくは３１と同様
に処理することにより、第１０表記載の下記各化合物を
得る。

【０３８７】６，７−ジメトキシ−２−（４−フルオロ
フェニル）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン（製造例８１） ６，７−ジメトキシ−２−（３−メトキシ−４−アミノ
フェニル）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン（製造例８２） ６，７−ジメトキシ−２−〔４−（２−ヒドロキシエチ
ル）フェニル〕−３−メトキシカルボニル−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン（製造例８３） ６，７−ジメトキシ−２−（３−ヒドロキシフェニル）
−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造
例８４） ２−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル
アミノ）−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニ
ル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例８５）（本品は精製
することなく、製造例８６の出発化合物として用いた） 製造例 ８６ 製造例８５の目的化合物を製造例２４と同様に処理する
ことにより、第１０表記載の６，７−ジメトキシ−３−
メトキシカルボニル−２−メチルアミノ−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノンを得る。

【０３８８】製造例 ８７ 参考例５０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
もしくは３９と同様に処理することにより、第１０表記
載の６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２
−〔シス−（４−メトキシカルボニル）シクロヘキシ
ル〕−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０３８９】製造例 ８８ 製造例８７の目的化合物を製造例２１と同様に処理する
ことにより、第１０表記載の２−（４−カルボキシシク
ロヘキシル）−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカル
ボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０３９０】製造例 ８９−９１ 参考例５０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
もしくは３９と同様に処理することにより、第１０表記
載の下記各化合物を得る。

【０３９１】６，７−ジメトキシ−２−（２−フリルメ
チル）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例８９） ６，７−ジメトキシ−２−（２，３−ジメチルフェニ
ル）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例９０） ６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン（製造例９１） 製造例 ９２ （１）参考例５０の目的化合物と対応原料化合物とを製
造例４３と同様に処理することにより、第１０表記載の
２−（４−アミノフェニル）−６，７−ジメトキシ−３
−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０３９２】（２）本品を製造例９−（３）と同様に処
理して、第１０表記載の２−（４−アミノフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０３９３】製造例 ９３ 製造例９２−（１）の目的化合物１５６ｍｇの塩化メチ
レン溶液（２ｍｌ）に氷冷下、トリエチルアミン１３８
μｌ及びメチルスルホニルクロリド７８μｌを３回に分
けて滴下し、１５分間撹拌する。反応液を室温まで昇温
し、水及びクロロホルムを加えて抽出する。抽出液を洗
浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルで結晶化
することにより、第１０表記載の６，７−ジメトキシ−
２−｛４−〔Ｎ，Ｎ−ビス（メチルスルホニル）アミ
ノ〕フェニル｝−３−メトキシカルボニル−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノンを得る。

【０３９４】製造例 ９４ ギ酸３４μｌの塩化メチレン溶液（２ｍｌ）に氷冷下、
無水酢酸８５μｌを滴下し、３０分間撹拌する。該溶液
に製造例９２−（１）の目的化合物３１２ｍｇの塩化メ
チレン溶液（１ｍｌ）を滴下し、２時間撹拌する。反応
液を室温まで昇温し、水及び塩化メチレンを加えて抽出
する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をジ
エチルエーテルで結晶化することにより、第１０表記載
の２−（４−アセチルアミノフェニル）−６，７−ジメ
トキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
２７０ｍｇを得る。

【０３９５】製造例 ９５ 製造例９４の目的化合物２６０ｍｇのテトラヒドロフラ
ン溶液（３ｍｌ）に氷冷下、６０％水素化ナトリウム２
８ｍｇを加えた後、室温で３０分間撹拌する。反応液に
ヨウ化メチル５８μｌを滴下し、５時間撹拌する。反応
に希塩酸及びクロロホルムを加えて抽出する。抽出液を
洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣にメタノール−２Ｎ
塩酸（１：１）混液１０ｍｌを加え、１６時間加熱還流
する。反応液を室温まで冷却し、メタノールを減圧留去
する。得られる水層に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え
てｐＨ８に調製後、クロロホルムで抽出する。抽出液を
水洗、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をジエチルエーテル
で結晶化することにより、第１０表記載の６，７−ジメ
トキシ−３−メトキシカルボニル−２−〔４−（メチル
アミノ）フェニル〕−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン１７０ｍｇを
得る。

【０３９６】製造例 ９６−９８ 参考例５０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
又は３９と同様に処理することにより、第１０表記載の
下記各化合物を得る。

【０３９７】６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−２−ピペリジノ−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例９
６） ６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（３，４−メチレンジオキシベンジル）−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン（製造例９７） ６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（３，４−メチレンジオキシフェニル）−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン（製造例９８） 製造例 ９９ （１）６，７−ジメトキシ−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）イソクマリン−３−カルボン酸（参考
例５０の目的化合物）２．４ｇのメタノール（５０ｍ
ｌ）溶液及び５．５Ｎアンモニア−メタノール溶液（５
０ｍｌ）の混合物を、室温にて終夜撹拌する。反応液を
減圧下に付し、アンモニアを留去した後、更に溶媒を減
圧留去する。残渣をクロロホルムで抽出し、水洗、乾燥
後、溶媒を留去する。当該残渣に４Ｎ塩化水素−酢酸エ
チル溶液（３０ｍｌ）を加え、室温にて終夜撹拌する。
溶媒を減圧留去し、得られた残渣をクロロホルム抽出
し、水洗、乾燥後、溶媒を留去することにより、第１１
表記載の３−カルボキシ−６，７−ジメトキシ−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン１．８９ｇを得る。

【０３９８】（２）本品１．５０ｇに２Ｎ水酸化ナトリ
ウム水溶液１．８ｍｌ及び水２０ｍｌを加えて加熱溶解
する。室温にて放置し、析出晶をろ取することにより、
第８表記載の３−カルボキシ−６，７−ジメトキシ−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン・ナトリウム塩を得る。

【０３９９】製造例 １００ 参考例５０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例９
９−（１）と同様に処理することにより、第１１表記載
の３−カルボキシ−６，７−ジメトキシ−２−（２−ピ
ペリジノエチル）−４−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４００】製造例 １０１−１０６ 参考例５０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
又は３９と同様に処理することにより、第１２表記載の
下記各化合物を得る。

【０４０１】６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−２−（４−メチル−１−ピペラジニル）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン（製造例１０１） ６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−フ
ェニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１０２） ２−（４−クロロフェニル）−６，７−ジメトキシ−３
−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１
０３） ２−（３−クロロフェニル）−６，７−ジメトキシ−３
−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１
０４） ２−シクロペンチル−６，７−ジメトキシ−３−メトキ
シカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１０５） ２−ベンジル−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカル
ボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１０６） 製造例 １０７−１０８ 参考例５０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
３と同様に処理することにより、第１２表記載の下記各
化合物を得る。

【０４０２】６，７−ジメトキシ−２−（４−ジメチル
アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩（製造例１０７） ６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（４−モルホリノフェニル）−４−（３，４，５−トリ
メトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩
酸塩（製造例１０８） 製造例 １０９−１１１ 参考例５０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
もしくは３９と同様に処理することにより、第１２表記
載の下記各化合物を得る。

【０４０３】６，７−ジメトキシ−２−〔３−（１−イ
ミダゾリル）プロピル〕−３−メトキシカルボニル−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン（製造例１０９） ６，７−ジメトキシ−２−〔３−（ヒドロキシメチル）
フェニル〕−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン（製造例１１０） ６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
〔４−（メトキシカルボニルメチル）フェニル〕−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン（製造例１１１） 製造例 １１２ （１）製造例１１１の目的化合物を製造例２１と同様に
処理することにより、２−〔４−（カルボキシメチル）
フェニル〕−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４０４】（２）本品を製造例９９−（２）と同様に
処理することにより、第１２表記載の２−〔４−（カル
ボキシメチル）フェニル〕−６，７−ジメトキシ−３−
メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・ナトリウム
塩を得る。

【０４０５】製造例 １１３ 製造例９９−（１）の目的化合物２ｇをメタノール２０
ｍｌに懸濁し、室温で濃硫酸５ｍｌを加えた後、８時間
加熱還流する。反応液を氷冷下、炭酸カリウム水溶液に
注ぎ、クロロホルムを加えて抽出する。抽出液を洗浄、
乾燥後、濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶媒；クロロホルム）にて精製することによ
り、第１２表記載の６，７−ジメトキシ−３−メトキシ
カルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン１．７５ｇを得る。

【０４０６】製造例 １１４ 製造例１１３の目的化合物１．４ｇのジメチルホルムア
ミド溶液１５ｍｌに４−ピコリルクロリド・塩酸塩５８
８ｍｇ及び炭酸カリウム１．１３ｇを加え、５０℃で２
時間撹拌する。反応終了後、酢酸エチル、水を加え、酢
酸エチル抽出し、抽出液を洗浄、乾燥後溶媒を留去す
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
媒；クロロホルム：アセトン＝１０：１）にて精製後、
残渣を酢酸エチルに溶解し、４Ｎ塩化水素−酢酸エチル
溶液１ｍｌを加える。析出晶を濾取して、酢酸エチルで
洗浄することにより、第１２表記載の６，７−ジメトキ
シ−３−メトキシカルボニル−２−（４−ピリジルメチ
ル）−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩８２０ｍｇを得る。

【０４０７】製造例 １１５ 製造例１１３の目的化合物１．４ｇのジメチルホルムア
ミド溶液１５ｍｌに臭化シクロプロピルメチル４８４ｍ
ｇ、炭酸カリウム１．１３ｇを加え５０℃で１時間撹拌
する。酢酸エチル、水を加え、酢酸エチル抽出後、抽出
液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：ヘキサン：酢
酸エチル＝５：５：１）にて精製することにより、第１
２表記載の２−シクロプロピルメチル−６，７−ジメト
キシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン８
４０ｍｇを得る。

【０４０８】製造例 １１６−１１７ 製造例１１３の目的化合物と対応原料化合物とを製造例
１１４と同様に処理することにより、第１２表記載の下
記各化合物を得る。

【０４０９】６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−２−（３−ピリジルメチル）−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン・塩酸塩（製造例１１６） ６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（２−ピリジルメチル）−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩
（製造例１１７） 製造例 １１８ 参考例５０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
又は３９と同様に処理することにより、第１２表記載の
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−モ
ルホリノ−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４１０】製造例 １１９ 製造例１１８の目的化合物１．３ｇ、濃塩酸１５ｍｌ及
びジオキサン１５ｍｌの混合物を終夜加熱還流する。反
応液を室温まで冷却し、水及びクロロホルムを加えて抽
出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホ
ルム：アセトン＝５０：１）にて精製することにより、
第１３表記載の６，７−ジメトキシ−４−（３，５−ジ
メトキシ−４−ヒドロキシフェニル）−３−メトキシカ
ルボニル−２−モルホリノ−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン５３０ｍｇを得る。

【０４１１】製造例 １２０ ６，７−ジメトキシ−３−ヒドロキシ−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−３，４−ジヒドロイソク
マリン−３−カルボン酸（参考例７４の目的化合物）と
対応原料化合物とを製造例４６と同様に処理することに
より、第１４表記載の６，７−ジメトキシ−３−メトキ
シカルボニル−２−〔（２−ピリジル）アミノ〕−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４１２】製造例 １２１ 参考例５０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
又は３９と同様に処理することにより、第１４表記載の
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（３−メチルチオフェニル）−４−（３，４，５−トリ
メトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得
る。

【０４１３】製造例 １２２ 製造例１２１の目的化合物２００ｍｇのクロロホルム溶
液１５ｍｌに、室温にてメタクロロ過安息香酸１６４ｍ
ｇのクロロホルム溶液１０ｍｌを加え、終夜撹拌する。
反応液を５％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄後、溶媒を
留去することにより、第１４表記載の６，７−ジメトキ
シ−３−メトキシカルボニル−２−（３−メチルスルホ
ニルフェニル）−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン１５０ｍｇを得
る。

【０４１４】製造例 １２３ 製造例１２１の目的化合物２００ｍｇのクロロホルム溶
液（１５ｍｌ）に、室温にて、メタクロロ安息香酸７８
ｍｇのクロロホルム溶液（１０ｍｌ）を加え、１時間撹
拌する。反応液を５％水酸化ナトリウム水溶液にて洗
浄、乾燥後、溶媒を留去することにより、第１４表記載
の６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（３−メチルスルフィニルフェニル）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン１７０ｍｇを得る。

【０４１５】製造例 １２４ 参考例５０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
もしくは３９と同様に処理することにより、第１４表記
載の６，７−ジメトキシ−２−（テトラヒドロ−４Ｈ−
１，４−チアジン−４−イル）−３−メトキシカルボニ
ル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４１６】製造例 １２５ 製造例１２４の目的化合物を製造例１２２と同様に処理
することにより、第１４表記載の６，７−ジメトキシ−
２−（１，１−ジオキソ−テトラヒドロ−４Ｈ−１，４
−チアジン−４−イル）−３−メトキシカルボニル−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノンを得る。

【０４１７】製造例 １２６ 製造例１２４の目的化合物を製造例１２３と同様に処理
することにより、第１４表記載の６，７−ジメトキシ−
２−（１−オキソ−テトラヒドロ−４Ｈ−１，４−チア
ジン−４−イル）−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノンを得る。

【０４１８】製造例 １２７ （１）２−（３，４，５−トリメトキシベンゾイル）−
４，５−ジメトキシ安息香酸（参考例１４の目的化合
物）１０．０ｇ、ザルコシンメチルエステル５．３８ｇ
及び１−ヒドロキシベンゾトリアゾール４．４８ｇのジ
メチルホルムアミド溶液（１００ｍｌ）に氷冷下、１−
（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジ
イミド塩酸塩５．６０ｇ及びトリエチルアミン４．８９
ｍｌを加えた後、室温で終夜撹拌する。反応液に水およ
び酢酸エチルを加えて抽出し、抽出液を洗浄、乾燥後、
溶媒を留去する。得られる残渣をジエチルエーテルで結
晶化することにより、Ｎ−メトキシカルボニルメチル−
Ｎ−メチル−２−（３，４，５−トリメトキシベンゾイ
ル）−４，５−ジメトキシベンゼンカルボキサミド１
０．１ｇを得る。

【０４１９】（２）本品５．７０ｇのテトラヒドロフラ
ン溶液（１３０ｍｌ）に氷冷下、ｔｅｒｔ−ブトキシカ
リウム２．０８ｇを加えて、室温で３０分間撹拌する。
反応液に水及び酢酸エチルを加えて抽出し、抽出液を洗
浄、乾燥後、溶媒を留去する。析出晶をクロロホルム
（１００ｍｌ）に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸４．
７０ｇを添加した後、２時間還流する。反応液を洗浄、
乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）
で精製することにより、第１５表記載の６，７−ジメト
キシ−３−メトキシカルボニル−２−メチル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン２．４６ｇを得る。

【０４２０】製造例 １２８ 製造例１２７の目的化合物を製造例２１と同様に処理す
ることにより、第１５表記載の３−カルボキシ−６，７
−ジメトキシ−２−メチル−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得
る。

【０４２１】製造例 １２９ 製造例１２８の目的化合物１．５０ｇ、１，３−ジシク
ロヘキシルカルボジイミド７９３ｍｇ及び１−ヒドロキ
シベンゾトリアゾール５８８ｍｇのジメチルホルムアミ
ド溶液（３０ｍｌ）を室温で１時間撹拌した後、モルホ
リン３３５ｍｇを加えて２時間撹拌する。更に５０℃で
４時間撹拌する。反応混合物に水及び酢酸エチルを加え
て抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残
渣をジエチルエーテル−酢酸エチルで結晶化することに
より、第１５表記載の６，７−ジメトキシ−２−メチル
−３−モルホリノカルボニル−４−（３，４，５−トリ
メトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン８９
３ｍｇを得る。

【０４２２】製造例 １３０ 製造例１２８の目的化合物１．６６ｇ、１，３−ジシク
ロヘキシルカルボジイミド９６０ｍｇ、１−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール７１０ｍｇを塩化メチレン（１０ｍ
ｌ）−ジメチルホルムアミド（５ｍｌ）混液に加え、室
温で３０分間撹拌する。該混合物に４−（２−アミノエ
チル）イミダゾール８５０ｍｇ及びトリエチルアミン
１．２８ｍｌのジメチルホルムアミド（５ｍｌ）溶液を
加えて３時間撹拌した後、更に５０℃で７時間撹拌す
る。反応混合物に水及び酢酸エチルを加えて抽出する。
抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロホルム：ヘ
キサン＝３０：１）にて精製することにより、第１５表
記載の６，７−ジメトキシ−３−〔２−（４−イミダゾ
リル）エチルアミノカルボニル〕−２−メチル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン１．０ｇを得る。

【０４２３】製造例 １３１ 製造例１２８の目的化合物と対応原料化合物を製造例１
３０と同様に処理することにより、第１５表記載の６，
７−ジメトキシ−３−〔４−（２−ヒドロキシエチル）
ピペラジニルカルボニル〕−２−メチル−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノンを得る。

【０４２４】製造例 １３２ 参考例５０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例３
９と同様に処理することにより、第１５表記載の６，７
−ジメトキシ−２−（３−メトキシ−４−アミノフェニ
ル）−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−３
−トリメチルシリルメチルオキシカルボニル−１（２
Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４２５】製造例 １３３ ６，７−ジエトキシ−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）イソクマリン−３−カルボン酸（参考例５４
の目的化合物）と対応原料化合物とを製造例１又は３９
と同様に処理することにより、第１６表記載の６，７−
ジエトキシ−３−メトキシカルボニル−２−モルホリノ
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４２６】製造例 １３４−１３５ ６，７−ジエトキシ−３−ヒドロキシ−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−３，４−ジヒドロイソク
マリン−３−カルボン酸（参考例７６の目的化合物）と
対応原料化合物とを製造例４又は３１と同様に処理する
ことにより、第１６表記載の下記各化合物を得る。

【０４２７】６，７−ジエトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−２−（４−テトラヒドロピラニル）−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン（製造例１３４） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６，７−ジエトキシ−３−メトキシカルボニ
ル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１３５） 製造例 １３６ （１）製造例１３５の目的化合物を製造例２４と同様に
処理することにより、第１６表記載の２−（４−アミノ
フェニル）−６，７−ジエトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４２８】（２）本品を製造例３３−（２）と同様に
処理することにより、第１６表記載の２−（４−アミノ
フェニル）−６，７−ジエトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４２９】製造例 １３７ 製造例１３５の目的化合物を製造例７１と同様に処理す
ることにより、第１６表記載の６，７−ジエトキシ−３
−メトキシカルボニル−２−〔４−（Ｎ−メチル−Ｎ−
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノンを得る。

【０４３０】製造例 １３８ 製造例１３７の目的化合物を製造例２４と同様に処理す
ることにより、第１６表記載の６，７−ジエトキシ−３
−メトキシカルボニル−２−〔４−（メチルアミノ）フ
ェニル〕−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４３１】製造例 １３９ 参考例７６の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
もしくは３１と同様に処理することにより、第１６表記
載の２−（４−ベンジルオキシフェニル）−６，７−ジ
エトキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ンを得る。

【０４３２】製造例 １４０ 製造例１３９の目的化合物を製造例２と同様に処理する
ことにより、第１６表記載の６，７−ジエトキシ−２−
（４−ヒドロキシフェニル）−３−メトキシカルボニル
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４３３】製造例 １４１−１４７ ５−置換、６−置換、７−置換又は６，７−ジ置換−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）イソクマリン
−３−カルボン酸化合物（参考例５８、５７、５３、５
２、５６、５９又は５５の目的化合物）と対応原料化合
物とを製造例１又は３９と同様に処理することにより、
第１７表記載の下記各化合物を得る。

【０４３４】３−メトキシカルボニル−６−メチル−２
−フェニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１４１） ６−クロロ−３−メトキシカルボニル−２−フェニル−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン（製造例１４２） ３−メトキシカルボニル−６，７−メチレンジオキシ−
２−フェニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１４３） ７−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−フェニル
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン（製造例１４４） ８−クロロ−３−メトキシカルボニル−２−フェニル−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン（製造例１４５） ８−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−フェニル
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン（製造例１４６） ６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−フェニル
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン（製造例１４７） 製造例 １４８ ８−クロロ−３−ヒドロキシ−４−（３，４，５−トリ
メトキシフェニル）−３，４−ジヒドロイソクマリン−
３−カルボン酸（参考例７８の目的化合物）と対応原料
化合物とを製造例４又は３１と同様に処理することによ
り、第１７表記載の２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニルアミノ）フェニル〕−８−クロロ−３−メトキ
シカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４３５】製造例 １４９ 製造例１４８の目的化合物を製造例２４と同様に処理す
ることにより、第１７表記載の２−（４−アミノフェニ
ル）−８−クロロ−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４３６】製造例 １５０ ３−ヒドロキシ−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−６−メトキシ−３，４−ジヒドロイソクマリン
−３−カルボン酸（参考例７７の目的化合物）と対応原
料化合物とを製造例４又は３１と同様に処理することに
より、第１７表記載の２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニルアミノ）フェニル〕−６−メトキシ−３−メ
トキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４３７】製造例 １５１ 製造例１５０の目的化合物を製造例８−（１）と同様に
処理することにより、第１７表記載の２−（４−アミノ
フェニル）−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４３８】製造例 １５２ ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシイソクマリン−３−カルボン酸（参
考例６０の目的化合物）と対応原料化合物とを製造例１
０−（１）と同様に処理することにより、第１８表記載
の４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
３−カルボキシ−６，７−ジメトキシ−２−フェニル−
１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４３９】製造例 １５３ 製造例１５２の目的化合物を製造例１０−（２）と同様
に処理することにより、第１８表記載の４−（３−ブロ
モ−４，５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメトキ
シ−３−メトキシカルボニル−２−フェニル−１（２
Ｈ）−イソキノリノンを得 る。

【０４４０】製造例 １５４−１５５ 製造例１５２の目的化合物と対応原料化合物とを製造例
１２９と同様に処理することにより、第１８表記載の下
記各化合物を得る。

【０４４１】４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフ
ェニル）−３−カルバモイル−６，７−ジメトキシ−２
−フェニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１５
４） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−（Ｎ−メチルカルバモイル）
−２−フェニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例
１５５） 製造例 １５６−１６０ ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−３
−ヒドロキシ−６，７−ジメトキシイソクマリン−３−
カルボン酸（参考例８０の目的化合物）と対応原料化合
物とを製造例４又は３１と同様に処理することにより、
第１９表記載の下記各化合物を得る。

【０４４２】４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフ
ェニル）−２−（４−ブロモ−３−メチルフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−１（２
Ｈ）−イソキノリノン（製造例１５６） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−２
−（４−カルバモイルフェニル）−６，７−ジメトキシ
−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン（製造例１５７） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−２
−（３−カルバモイルフェニル）−６，７−ジメトキシ
−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン（製造例１５８） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−メ
トキシカルボニルメチル−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例１５９） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−２−エトキシカルボニルメチル−
３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例１６０） 製造例 １６１ 製造例１５９の目的化合物を製造例２１と同様に処理す
ることにより、第１９表記載の４−（３−ブロモ−４，
５−ジメトキシフェニル）−２−カルボキシメチル−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−１（２
Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４４３】製造例 １６２−１６４ 参考例８０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
又は３１と同様に処理することにより、第１９表記載の
下記各化合物を得る。

【０４４４】４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフ
ェニル）−６，７−ジメトキシ−２−〔２−（２−ヒド
ロキシエチルオキシ）エチル〕−３−メトキシカルボニ
ル−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１６２） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（１−ピロリル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造
例１６３） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−２
−〔２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）エチ
ル〕−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−
１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１６４） 製造例 １６５ 製造例１６４の目的化合物を製造例２４と同様に処理す
ることにより、第１９表記載の２−（２−アミノエチ
ル）−４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニ
ル）−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４４５】製造例 １６６ 参考例８０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
又は３１と同様に処理することにより、第１９表記載の
４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（５−メチルイソオキサゾール−３−イル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４４６】製造例 １６７ ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシイソクマリン−３−カルボン酸（参
考例６０の目的化合物）と対応原料化合物とを製造例１
又は３９と同様に処理することにより、第１９表記載の
４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（Ｎ−フェニルアミノ）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
を得る。

【０４４７】製造例 １６８−１６９ 参考例８０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
又は３１と同様に処理することにより、第１９表記載の
下記各化合物を得る。

【０４４８】４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフ
ェニル）−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニ
ル−２−（３−ニトロフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン（製造例１６８） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（２−メトキシエチル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例１６９） 製造例 １７０ （１）参考例８０の目的化合物と対応原料化合物とを製
造例４又は３１と同様に処理することにより、４−（３
−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジ
メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−（３−メトキ
シカルボニルフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
を得る。

【０４４９】（２）本品を製造例２１と同様に処理する
ことにより、第１９表記載の４−（３−ブロモ−４，５
−ジメトキシフェニル）−２−（３−カルボキシフェニ
ル）−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−
１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４５０】製造例 １７１ 製造例１７０の目的化合物を製造例１２９と同様に処理
することにより、第１９表記載の４−（３−ブロモ−
４，５−ジメトキシフェニル）−２−｛３−〔２−（ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ヒドラジノカルボニル〕
フェニル｝−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４５１】製造例 １７２ 製造例１７１の目的化合物を製造例６８と同様に処理す
ることにより、第１９表記載の４−（３−ブロモ−４，
５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメトキシ−２−
〔３−（ヒドラジノカルボニル）フェニル〕−３−メト
キシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４５２】製造例 １７３ 参考例８０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
又は３１と同様に処理することにより、第１９表記載の
４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
〔３−（メトキシカルボニルメトキシ）フェニル〕−１
（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４５３】製造例 １７４ 製造例１７３の目的化合物を製造例２１と同様に処理す
ることにより、第１９表記載の４−（３−ブロモ−４，
５−ジメトキシフェニル）−２−〔３−（カルボキシメ
トキシ）フェニル〕−６，７−ジメトキシ−３−メトキ
シカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４５４】製造例 １７５ 製造例１７４の目的化合物を製造例１２９と同様に処理
することにより、第１９表記載の４−（３−ブロモ−
４，５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメトキシ−
３−メトキシカルボニル−２−｛３−〔Ｎ−（３−モル
ホリノプロピル）カルバモイルメチルオキシ〕フェニ
ル｝−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４５５】製造例 １７６ 参考例８０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
又は３１と同様に処理することにより、第１９表記載の
２−（３−アミノフェニル）−４−（３−ブロモ−４，
５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメトキシ−３−
メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得
る。

【０４５６】製造例 １７７ ギ酸３ｍｌに無水酢酸３ｍｌを加え、室温にて４時間撹
拌する。当該溶液に製造例１７６の目的化合物５００ｍ
ｇを加え、室温にて終夜撹拌する。更に６０℃にて終夜
撹拌し、反応終了後、残渣に水、酢酸エチルを加え、酢
酸エチル抽出する。抽出液を水洗、乾燥後、溶媒を留去
し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；
クロロホルム：アセトン＝１０：１）にて精製すること
により、第１９表記載の６，７−ジメトキシ−２−〔３
−（ホルミルアミノ）フェニル〕−４−（３−ブロモ−
４，５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニ
ル−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４５７】製造例 １７８−１８０ 参考例８０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
又は３１と同様に処理することにより、第１９表記載の
下記各化合物を得る。

【０４５８】４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフ
ェニル）−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニ
ル−２−〔３−（２−メチルピリミジン−４−イル）フ
ェニル〕−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１７
８） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
〔３−（１−メチルピラゾール−３−イル）フェニル〕
−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１７９） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−２
−｛２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ピペ
ラジン−１−イル〕エチル｝−６，７−ジメトキシ−３
−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例１８０） 製造例 １８１ 製造例１８０の目的化合物を製造例２４と同様に処理す
ることにより、第１９表記載の４−（３−ブロモ−４，
５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメトキシ−２−
（２−ピペラジノエチル）−３−メトキシカルボニル−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩を得る。

【０４５９】製造例 １８２ 参考例６０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例３
９と同様に処理した後、製造例４３−（２）と同様に処
理することにより、第１９表記載の４−（３−ブロモ−
４，５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメトキシ−
３−メトキシカルボニル−２−（２−モルホリノエチ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４６０】製造例 １８３ 参考例６０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
もしくは３９と同様に処理することにより、第１９表記
載の２−アミノ−４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキ
シフェニル）−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカル
ボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４６１】製造例 １８４ 参考例８０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
もしくは３１と同様に処理することにより、第１９表記
載の４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）
−６，７−ジメトキシ−２−（３−ヒドロキシプロピ
ル）−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノ
リノンを得る。

【０４６２】製造例 １８５ 製造例１８４の目的化合物１９０ｍｇのジメチルホルム
アミド溶液（３ｍｌ）にニコチン酸クロリド６９ｍｇ及
びトリエチルアミン０．１１ｍｌを加え、室温で終夜撹
拌する。更にニコチン酸クロリド６９ｍｇ及びトリエチ
ルアミン０．１１ｍｌを加え終夜撹拌する。反応終了
後、酢酸エチル、水を加え、酢酸エチル抽出する。抽出
液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去することにより、第１９
表記載の４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニ
ル）−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−
２−〔３−（ニコチノイルオキシ）プロピル〕−１（２
Ｈ）−イソキノリノン１７０ｍｇを得る。

【０４６３】製造例 １８６−１９８ 参考例８０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
もしくは３１と同様に処理することにより、第１９表記
載の下記各化合物を得る。

【０４６４】２−ｎ−ブチル−４−（３−ブロモ−４，
５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメトキシ−３−
メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製
造例１８６） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−２
−カルバモイルメチル−６，７−ジメトキシ−３−メト
キシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例
１８７） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（６−キノリル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造
例１８８） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（２−テトラヒドロフリルメチル）−１（２Ｈ）−イソ
キノリノン（製造例１８９） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（３−キノリル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造
例１９０） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−２−〔（１−ヒドロキシメチル−
２−ヒドロキシ）エチル〕−３−メトキシカルボニル−
１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１９１） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−２−（３−ジメチルアミノプロピ
ル）−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノ
リノン（製造例１９２） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−２
−〔３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）プロ
ピル〕−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル
−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１９３） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−
（３−メトキシプロピル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン（製造例１９４） ２−（Ｎ−ベンジルピペリジン−４−イル）−４−（３
−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジ
メトキシ−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソ
キノリノン（製造例１９５） ２−ベンジル−４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシ
フェニル）−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１９６） ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−プ
ロピル−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例１９７） ２−〔３−（６−アミノ）ピリジル〕−４−（３−ブロ
モ−４，５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメトキ
シ−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン（製造例１９８） 製造例 １９９−２０１ 参考例８０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例４
６と同様に処理することにより、第１９表記載の下記各
化合物を得る。

【０４６５】２−（４−アミノプロピル）−４−（３−
ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメ
トキシ−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン・塩酸塩（製造例１９９） ２−（シス−２−アミノ−１−ヘキシル）−４−（３−
ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメ
トキシ−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン（製造例２００） ２−（４−アミノシクロヘキシル）−４−（３−ブロモ
−４，５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメトキシ
−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン・塩酸塩（製造例２０１） 製造例 ２０２ 参考例６０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
もしくは３９と同様に処理することにより、第１９表記
載の２−（４−アセチルアミノフェニル）−４−（３−
ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメ
トキシ−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノンを得る。

【０４６６】製造例 ２０３−２０４ 参考例６０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例１
もしくは３９と同様に処理することにより、第１９表記
載の下記各化合物を得る。

【０４６７】４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフ
ェニル）−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニ
ル−２−モルホリノ−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製
造例２０３） ２−〔（４−ベンジルオキシカルボニル）ピペラジン−
１−イル〕−４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフ
ェニル）−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニ
ル−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例２０４） 製造例 ２０５−２０６ 製造例２０４の目的化合物５５０ｍｇを２５％臭化水素
−酢酸２．５ｍｌに溶解し、室温で１５分間撹拌した
後、酢酸エチル及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加
えて抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去す
る。得られた残渣をアセトニトリル３ｍｌに溶解し、２
−ブロモエタノール９９ｍｇ、炭酸カリウム６５ｍｇを
加え３時間加熱還流する。反応液を室温まで昇温後、酢
酸エチル及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて抽
出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；クロロ
ホルム：メタノール＝２０：１）で精製することによ
り、第１９表記載の４−（３−ブロモ−４，５−ジメト
キシフェニル）−６，７−ジメトキシ−２−〔４−（２
−ヒドロキシエチル）ピペラジン−１−イル〕−３−メ
トキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得
る。更に本品をクロロホルム３ｍｌに溶解後、４規定塩
化水素−酢酸エチル溶液５０μｌを加える。反応液を濃
縮後、得られた結晶をジエチルエーテルを加えてろ取す
ることにより、第１９表記載の４−（３−ブロモ−４，
５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメトキシ−２−
〔４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン−１−イ
ル〕−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノ
リノン・塩酸塩を得る（製造例２０５）。なお、上記反
応（製造例２０４の目的化合物と２−ブロモエタノール
との反応）の際、副生成物として、第１９表記載の２−
（４−ベンジルピペラジン−１−イル）−４−（３−ブ
ロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメト
キシ−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノ
リノンを得る（製造例２０６）。

【０４６８】製造例 ２０７ 製造例１９３の目的化合物を製造例２４と同様に処理す
ることにより、第１９表記載の２−（４−アミノプロピ
ル）−４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニ
ル）−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４６９】製造例 ２０８ ４−（４−ブロモ−３，５−ジメトキシフェニル）−３
−ヒドロキシ−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロ
イソクマリン−３−カルボン酸（参考例８１の目的化合
物）と対応原料化合物とを製造例４もしくは３１と同様
に処理することにより、２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルアミノ）フェニル〕−４−（４−ブロモ−
３，５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメトキシ−
３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン
を得た後、続いて製造例２４と同様に処理することによ
り、第２０表記載の２−（４−アミノフェニル）−４−
（４−ブロモ−３，５−ジメトキシフェニル）−６，７
−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４７０】製造例 ２０９ ４−（３，５−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシ
−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソクマリン
−３−カルボン酸（参考例８３の目的化合物）と対応原
料化合物を製造例４もしくは３１と同様に処理すること
により、２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ）フェニル〕−６，７−ジメトキシ−４−（３，５
−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−１
（２Ｈ）−イソキノリノンを得た後、続いて製造例２４
と同様に処理することにより、第２０表記載の２−（４
−アミノフェニル）−６，７−ジメトキシ−４−（３，
５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４７１】製造例 ２１０−２１１ 対応６，７−ジメトキシ−イソクマリン−３−カルボン
酸化合物（参考例６１又は６３の目的化合物）を製造例
１もしくは３９と同様に処理することにより、第２０表
記載の下記各化合物を得る。

【０４７２】４−（４−ブロモ−３，５−ジメトキシフ
ェニル）−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニ
ル−２−モルホリノ−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製
造例２１０） ６，７−ジメトキシ−４−（３，５−ジメトキシフェニ
ル）−３−メトキシカルボニル−２−モルホリノ−１
（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例２１１） 製造例 ２１２ ６，７−ジメトキシ−４−（２，３，４−トリメトキシ
フェニル）イソクマリン−３−カルボン酸（参考例６４
の目的化合物）と対応原料化合物とを製造例１もしくは
３９と同様に処理することにより、第２０表記載の６，
７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−２−フェニ
ル−４−（２，３，４−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４７３】製造例 ２１３ ７−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシ−６−メトキシ−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−３，４−
ジヒドロイソクマリン−３−カルボン酸（参考例７１の
目的化合物）と対応原料化合物とを製造例４もしくは３
１と同様に処理することにより、第２１表記載の７−ベ
ンジルオキシ−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル
−２−フェニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４７４】製造例 ２１４ 製造例２１３の目的化合物を製造例２と同様に処理する
ことにより、第２１表記載の７−ヒドロキシ−６−メト
キシ−３−メトキシカルボニル−２−フェニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノンを得る。

【０４７５】製造例 ２１５−２１７ 製造例２１４の目的化合物を製造例３と同様に処理する
ことにより、第２１表記載の下記各化合物を得る。

【０４７６】６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−
２−フェニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−７−（４−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２１５） ６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−フェニル
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−７−
（３−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキノ
リノン・塩酸塩（製造例２１６） ６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−フェニル
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−７−
（２−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキノ
リノン・塩酸塩（製造例２１７） 製造例 ２１８ ピロール−２−カルボン酸３８．４ｍｇ及び１−ヒドロ
キシベンゾトリアゾール１水和物５３ｍｇをアセトニト
リル１０ｍｌに溶解し、１−（３−ジメチルアミノプロ
ピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩６６．３ｍｇ
を加えて室温で３０分間撹拌する。当該反応液を、製造
例２１４の目的化合物１６２ｍｇ及び炭酸カリウム４８
ｍｇのジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に加えて室温
で３０分間撹拌する。水及び酢酸エチルを加えて抽出
し、抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、更に、ジエ
チルエーテルにて再結晶化することにより、第２１表記
載の６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−フェ
ニル−７−（２−ピロリルカルボニルオキシ）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン１４５ｍｇを得る。

【０４７７】製造例 ２１９−２２０ 製造例２１４の目的化合物を製造例７−（１）と同様に
処理することにより、第２１表記載の下記各化合物を得
る。

【０４７８】６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−
２−フェニル−７−（２−チエニルメチルオキシ）−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン（製造例２１９） ６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７−｛〔（１
−メチル−２−メトキシカルボニル）ピロール−４−イ
ル〕メチルオキシ｝−２−フェニル−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン（製造例２２０） 製造例 ２２１ ７−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシ−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−３，４−ジヒドロイソク
マリン−３−カルボン酸（参考例７３の目的化合物）と
対応原料化合物とを製造例４もしくは３１と同様に処理
することにより、第２２表記載の２−〔４−（ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕−７−ベンジ
ルオキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ンを得る。

【０４７９】製造例 ２２２ 製造例２２１の目的化合物を製造例２４と同様に処理す
ることにより、第２２表記載の２−（４−アミノフェニ
ル）−７−ベンジルオキシ−３−メトキシカルボニル−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４８０】製造例 ２２３ 製造例２２１の目的化合物を製造例５と同様に処理する
ことにより、第２２表記載の２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブ
トキシカルボニルアミノ）フェニル〕−７−ヒドロキシ
−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得
る。

【０４８１】製造例 ２２４ 製造例２２３の目的化合物を製造例２４と同様に処理す
ることにより、第２２表記載の２−（４−アミノフェニ
ル）−７−ヒドロキシ−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４８２】製造例 ２２５ 製造例２２３の目的化合物を製造例６もしくは７と同様
に処理することにより、第２２表記載の２−（４−アミ
ノフェニル）−３−メトキシカルボニル−７−（２−キ
ノリルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩
を得る。

【０４８３】製造例 ２２６−２２７ 製造例２２３の目的化合物を製造例６もしくは７と同様
に処理することにより、第２２表記載の下記各化合物を
得る。

【０４８４】２−（４−アミノフェニル）−３−メトキ
シカルボニル−７−（４−キノリルメチルオキシ）−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例２２６） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−７−（３−キノリルメチルオキシ）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・２塩酸塩（製造例２２７） 製造例 ２２８ 製造例４の目的化合物を製造例６−（２）と同様に処理
することにより、第２３表記載の２−（４−アミノフェ
ニル）−７−ベンジルオキシ−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４８５】製造例 ２２９ 製造例５の目的化合物を製造例６−（２）と同様に処理
することにより、第２３表記載の２−（４−アミノフェ
ニル）−７−ヒドロキシ−６−メトキシ−３−メトキシ
カルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４８６】製造例 ２３０−２３８ 製造例５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例６と
同様に処理することにより、第２３表記載の下記各化合
物を得る。

【０４８７】２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ）フェニル〕−７−（ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニルメチルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカ
ルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例２３０（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−（カルボキシメチル
オキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２３０（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−シクロペンチルオキシ−６−メトキシ−
３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例
２３１（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−シクロペンチルオキ
シ−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩（製造例２３１（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−〔２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチ
ルオキシ〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン（製造例２３２（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−〔２−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノ）エチルオキシ〕−６−メトキシ−３−メ
トキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製
造例２３２（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−〔２−（２−メトキシエチルオキシ）エチルオキシ〕
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン（製造例２３３（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−〔２−（２−メトキシエチルオキ
シ）エチルオキシ〕−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製
造例２３３（２）） ７−エトキシ−２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
ニルアミノ）フェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシ
カルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例２３４
（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−エトキシ−６−メト
キシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・
塩酸塩（製造例２３４（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（２−メトキシエチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２３５（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（２−メトキシエチルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２３５（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（４−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２３６（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（４−ピリジルメチルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例２３６
（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（３−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２３７（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（３−ピリジルメチルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例２３７
（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（２−キノリルメチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２３８（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（２−キノリルメチルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例２３８
（２）） 製造例 ２３９ （１）製造例５の目的化合物と対応原料化合物とを製造
例６−（１）と同様に処理することにより、第２３表記
載の２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ）フェニル〕−７−（２−ヒドロキシエチルオキシ）
−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノンを得る。

【０４８８】（２）本品を製造例２４と同様に処理する
ことにより、第２３表記載の２−（４−アミノフェニ
ル）−７−（２−ヒドロキシエチルオキシ）−６−メト
キシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・
塩酸塩を得る。

【０４８９】製造例 ２４０−２５３ 製造例５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例６と
同様に処理することにより、第２３表記載の下記各化合
物を得る。

【０４９０】２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ）フェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカ
ルボニル−７−（２−フェニルエチルオキシ）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン（製造例２４０（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（２−フェニルエチルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２４０（２）） ７−ベンゾイルメチルオキシ−２−〔４−（ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕−６−メトキシ
−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメ
トキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造
例２４１（１））２−（４−アミノフェニル）−７−ベ
ンゾイルメチルオキシ−６−メトキシ−３−メトキシカ
ルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２４１
（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（２−ニトロベンジルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２４２（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（２−ニトロベンジルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２４２（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（３−ニトロベンジルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２４３（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（３−ニトロベンジルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２４３（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−シクロヘキシルメチルオキシ−６−メト
キシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２４４（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−シクロヘキシルメチ
ルオキシ−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２４４（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（メトキシカルボニルメチルオキシ）−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン（製造例２４５（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（メトキシカルボニルメチルオキ
シ）−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２４５
（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−（３，４−ジクロロベンジルオキシ）−
６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン（製造例２４６（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−（３，４−ジクロロ
ベンジルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２４６
（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（４−ニトロベンジルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２４７（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（４−ニトロベンジルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２４７（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（４−フェニルベンジルオキシ）−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン（製造例２４８（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（４−フェニルベンジルオキシ）
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２４８（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（３−メトキシカルボニルベンジルオキシ）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン（製造例２４９（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（３−メトキシカルボニルベンジ
ルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２
４９（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−（２−フルオロベンジルオキシ）−６−
メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン（製造例２５０（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−（２−フルオロベン
ジルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２５０（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（１−ナフチルメチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２５１（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（１−ナフチルメチルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２５１（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（２−ナフチルメチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２５２（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（２−ナフチルメチルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２５２（２）） ７−アリルオキシ−２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカ
ルボニルアミノ）フェニル〕−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例２５３
（１）） ７−アリルオキシ−２−（４−アミノフェニル）−６−
メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン・塩酸塩（製造例２５３（２）） 製造例 ２５４ （１）製造例５の目的化合物と対応原料化合物とを製造
例６−（１）と同様に処理することにより、２−〔４−
（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕−
６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７−（４−メ
トキシカルボニルベンジルオキシ）−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ンを得る。

【０４９１】ｍ．ｐ．１９７−１９９℃ （２）本品を製造例２１と同様に処理することにより、
第２３表記載の２−（４−アミノフェニル）−７−（４
−カルボキベンジルオキシ）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４９２】（３）上記（１）で得た化合物を製造例６
−（２）と同様に処理することにより、第２３表記載の
２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（４−メトキシカルボニルベンジ
ルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０４９３】製造例 ２５５ （１）製造例５の目的化合物３００ｍｇ、２−臭化ピリ
ジン５７μｌ、ヨウ化銅１１３ｍｇ及び炭酸カリウム８
２ｍｇのジメチルホルムアミド（５ｍｌ）懸濁液を８０
℃にて５時間撹拌する。反応終了後、反応液に酢酸エチ
ルを加えて、抽出する。抽出液をアンモニア水で洗浄
し、更に水洗する。乾燥後、溶媒を留去し、残渣をクロ
マトトロン（溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で
精製することにより、第２３表記載の２−〔４−（ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕−６−メ
トキシ−３−メトキシカルボニル−７−（２−ピリジル
オキシ）−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
−１（２Ｈ）−イソキノリノン４０ｍｇを得る。

【０４９４】（２）本品を製造例２４と同様に処理する
ことにより、第２３表記載の２−（４−アミノフェニ
ル）−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７−
（２−ピリジルオキシ）−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸
塩を得る。

【０４９５】製造例 ２５６ （１）製造例５の目的化合物と対応原料化合物とを製造
例２１８と同様に処理することにより、第２３表記載の
２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−〔（１−メチル−４−ニトロ）ピロール−２−イル−
カルボニルオキシ〕−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０４９６】（２）本品を製造例６−（２）と同様に処
理することにより、第２３表記載の２−（４−アミノフ
ェニル）−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−〔（１−メチル−４−ニトロ）ピロール−２−イル−
カルボニルオキシ〕−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得
る。

【０４９７】製造例 ２５７ （１）製造例５の目的化合物２００ｍｇをジメチルホル
ムアミド１０ｍｌに溶解し、ベンゾイルクロリド４０μ
ｌ、トリエチルアミン４８μｌ及び４−ジメチルアミノ
ピリジン５ｍｇを加えて室温にて終夜撹拌する。反応終
了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び酢酸エチルを
加えて抽出し、抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；ヘ
キサン：酢酸エチル＝１：１）で精製することにより、
第２３表記載の７−ベンゾイルオキシ−２−〔４−（ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕−６−
メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ンを得る。

【０４９８】（２）本品を製造例６−（２）と同様に処
理することにより、第２３表記載の２−（４−アミノフ
ェニル）−７−ベンゾイルオキシ−６−メトキシ−３−
メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得
る。

【０４９９】製造例 ２５８ （１）製造例５の目的化合物と対応原料化合物とを製造
例２１８と同様に処理することにより、第２３表記載の
２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（２−ピロリルカルボニルオキシ）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノンを得る。（本品は精製することなく、次工程へ供し
た） （２）本品を製造例６−（２）と同様に処理することに
より、第２３表記載の２−（４−アミノフェニル）−６
−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７−（２−ピロ
リルカルボニルオキシ）−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩
を得る。

【０５００】製造例 ２５９−２６８ 製造例５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例７と
同様に処理することにより、第２３表記載の下記各化合
物を得る。

【０５０１】２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ）フェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカ
ルボニル−７−〔２−（２−ピリジル）エチルオキシ〕
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン（製造例２５９（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−〔２−（２−ピリジル）エチルオ
キシ〕−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例２５９
（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−７−（３−
チエニルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２６０（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−７−（３−チエニルメチルオキシ）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２６０（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−７−（４−
キノリルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２６１（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−７−（４−キノリルメチルオキシ）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例２６１
（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（３−メチルベンジルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２６２（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（３−メチルベンジルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２６２（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−〔（２−クロロ−５−ニトロ）ベンジル
オキシ〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン（製造例２６３（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−〔（２−クロロ−５
−ニトロ）ベンジルオキシ〕−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例
２６３（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−７−（３−メトキシベンジル
オキシ）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン（製造例２６４（１））（本品は精製することなく、
次工程へ供した） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−７−（３
−メトキシベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２６４（２）） ７−〔３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）ベ
ンジルオキシ〕−２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニルアミノ）フェニル〕−６−メトキシ−３−メトキ
シカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例２６５
（１））（本品は精製することなく、次工程へ供した） ７−（３−アミノベンジルオキシ）−２−（４−アミノ
フェニル）−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例２６５
（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−シクロペンチルメチルオキシ−６−メト
キシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２６６（１））（本品は精製することなく、次
工程へ供した） ２−（４−アミノフェニル）−７−シクロペンチルメチ
ルオキシ−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２６６（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−〔４−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
ニル）ピペリジルメチルオキシ〕−６−メトキシ−３−
メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例２６
７（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（４−ピペリジルメチルオキシ）
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例２６７
（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（２−ピペリジノエチルオキシ）−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン（製造例２６８（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（２−ピペリジノエチルオキシ）
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例２６８
（２）） 製造例 ２６９ （１）製造例５の目的化合物１００ｍｇ、トリエチルア
ミン５０ｍｇのクロロホルム１０ｍｌ溶液を−１０℃に
冷却し、トリホスゲン４９ｍｇのクロロホルム溶液を滴
下する。室温まで昇温後、３０分間撹拌し、Ｎ−メチル
ピペラジン５０ｍｇ及びトリエチルアミン１７ｍｇのク
ロロホルム溶液を加え、更に２時間撹拌する。反応終了
後、反応液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をジエ
チルエーテルで結晶化することにより、第２３表記載の
２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（４−メチルピペラジニルカルボニルオキシ）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン７３ｍｇを得る。

【０５０２】（２）本品を製造例２４と同様に処理する
ことにより、第２３表記載の２−（４−アミノフェニ
ル）−７−（４−メチルピペラジニルカルボニルオキ
シ）−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・２塩酸塩を得る。

【０５０３】製造例 ２７０ （１）製造例５の目的化合物と対応原料化合物とを製造
例２６９−（１）と同様に処理することにより、第２３
表記載の２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ）フェニル〕−７−ジエチルアミノカルボニルオキ
シ−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノンを得る。

【０５０４】（２）本品を製造例２６９−（２）と同様
に処理することにより、第２３表記載の２−（４−アミ
ノフェニル）−７−ジエチルアミノカルボニルオキシ−
６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン・塩酸塩を得る。

【０５０５】製造例 ２７１ （１）製造例５の目的化合物と対応原料化合物とを製造
例２６９−（１）と同様に処理することにより、第２３
表記載の２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ）フェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−７−モルホリノカルボニルオキシ−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノンを得る。

【０５０６】（２）本品を製造例２６９−（２）と同様
に処理することにより、第２３表記載の２−（４−アミ
ノフェニル）−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル
−７−モルホリノカルボニルオキシ−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン・塩酸塩を得る。

【０５０７】製造例 ２７２ （１）製造例５の目的化合物と対応原料化合物とを製造
例６−（１）と同様に処理することにより、２−〔４−
（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕−
７−シアノメチル−６−メトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。ｍ．ｐ．１３６−１
３８℃ （２）本品３１０ｍｇ、アジ化ナトリウム１５６ｍｇ、
アンモニウムクロリド１２８ｍｇのジメチルホルムアミ
ド溶液（３０ｍｌ）を７０℃で４８時間撹拌した後、水
及び酢酸エチルを加えて抽出する。抽出液を洗浄、乾燥
後、溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル−ジエチルエーテ
ル混液で結晶化することにより、第２３表記載の２−
〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニ
ル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７−
（５−テトラゾリルメチルオキシ）−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン１７８ｍｇを得る。

【０５０８】（３）本品を製造例６−（２）と同様に処
理することにより、第２３表記載の２−（４−アミノフ
ェニル）−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（５−テトラゾリルメチルオキシ）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・塩酸塩を得る。

【０５０９】製造例 ２７３−２７５ （１）製造例６（１）、２３６（１）又は２３７（１）
の目的化合物をメタクロロ過安息香酸で処理することに
より、第２３表記載の下記各化合物を得る。

【０５１０】２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ）フェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカ
ルボニル−７−（Ｎ−オキソ−４−ピリジルメチルオキ
シ）−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例２７３（１）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（Ｎ−オキソ−３−ピリジルメチルオキシ）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン（製造例２７４（１）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−７
−（Ｎ−オキソ−２−ピリジルメチルオキシ）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン（製造例２７５（１）） （２）本品を製造例６−（２）と同様に処理することに
より、第２３表記載の下記各化合物を得る。

【０５１１】２−（４−アミノフェニル）−６−メトキ
シ−３−メトキシカルボニル−７−（Ｎ−オキソ−４−
ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩
（製造例２７３（２）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（Ｎ−オキソ−３−ピリジルメチ
ルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２
７４（２）） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（Ｎ−オキソ−２−ピリジルメチ
ルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２
７５（２）） 製造例 ２７６ （１）製造例２４５−（１）の目的化合物を製造例２１
と同様に処理することにより、２−〔４−（ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕−７−（カルボ
キシメチルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカル
ボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。次いで、本品１５
０ｍｇのジメチルホルムアミド溶液（５ｍｌ）に氷冷下
カルボニルジイミダゾール４０ｍｇを加えた後、室温で
３０分間撹拌する。濃アンモニア水０．５ｍｌを加え、
室温で１時間撹拌する。反応終了後、残渣に水及び酢酸
エチルを加えて抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒
を留去し、残渣をジエチルエーテルにて結晶化すること
により、第２３表記載の２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルアミノ）フェニル〕−７−カルバモイルメ
チルオキシ−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン１４１ｍｇを得る。

【０５１２】（２）本品を製造例２４と同様に処理する
ことにより、第２３表記載の２−（４−アミノフェニ
ル）−７−カルバモイルメチルオキシ−６−メトキシ−
３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩
を得る。

【０５１３】製造例 ２７７ （１）製造例２４９−（１）の目的化合物を製造例２１
と同様に処理することにより、第２３表記載の２−〔４
−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕
−７−（３−カルボキシベンジルオキシ）−６−メトキ
シ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリ
メトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得
る。（本品は精製することなく、次工程へ供した） （２）本品を製造例２４と同様に処理することにより、
第２３表記載の２−（４−アミノフェニル）−７−（３
−カルボキシベンジルオキシ）−６−メトキシ−３−メ
トキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得
る。

【０５１４】製造例 ２７８−２７９ 製造例２の目的化合物と対応原料化合物とを製造例３と
同様に処理することにより、第２４表記載の下記各化合
物を得る。

【０５１５】６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−
２−モルホリノ−７−（４−ピリジルメチルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２７８） ６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−モルホリ
ノ−７−（３−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン・塩酸塩（製造例２７９） 製造例 ２８０ ６−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシ−７−メトキシ−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−３−カル
ボン酸（参考例７２の目的化合物）と対応原料化合物と
を製造例４もしくは３１と同様に処理することにより、
第２５表記載の６−ベンジルオキシ−２−〔４−（ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕−７−メ
トキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
を得る。

【０５１６】製造例 ２８１ 製造例２８０の目的化合物を製造例５と同様に処理する
ことにより、第２５表記載の２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブ
トキシカルボニルアミノ）フェニル〕−６−ヒドロキシ
−７−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノンを得る。

【０５１７】製造例 ２８２−２８３ 製造例２８０−２８１の目的化合物を製造例６−（２）
と同様に処理することにより、第２５表記載の下記各化
合物を得る。

【０５１８】２−（４−アミノフェニル）−６−ベンジ
ルオキシ−７−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２８２） ２−（４−アミノフェニル）−６−ヒドロキシ−７−メ
トキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
・塩酸塩（製造例２８３） 製造例 ２８４−２９１ 製造例２８１の目的化合物と対応原料化合物とを製造例
６と同様に処理することにより、第２５表記載の下記各
化合物を得る。

【０５１９】２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ）フェニル〕−７−メトキシ−３−メトキシカ
ルボニル−６−〔２−（２−メトキシエチルオキシ）エ
チルオキシ〕−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例２８４
（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−６−〔２−（２−メトキシエチルオキ
シ）エチルオキシ〕−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製
造例２８４（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−エトキシ−７−メトキシ−３−メトキシ
カルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例２８５
（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−エトキシ−７−メト
キシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・
塩酸塩（製造例２８５（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−メトキシ−３−メトキシカルボニル−６
−（２−メトキシエチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２８６（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−６−（２−メトキシエチルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２８６（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−（２−ヒドロキシエチルオキシ）−７−
メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン（製造例２８７（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−（２−ヒドロキシエ
チルオキシ）−７−メトキシ−３−メトキシカルボニル
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例２８７（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−メトキシ−３−メトキシカルボニル−６
−（４−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２８８（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−６−（４−ピリジルメチルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例２８８
（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−メトキシ−３−メトキシカルボニル−６
−（３−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２８９（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−６−（３−ピリジルメチルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例２８９
（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−メトキシ−３−メトキシカルボニル−６
−（２−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例２９０（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−６−（２−ピリジルメチルオキシ）−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例２９０
（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−６−シクロペンチルオキシ−７−メトキシ−
３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例
２９１（１）） ２−（４−アミノフェニル）−６−シクロペンチルオキ
シ−７−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩（製造例２９１（２）） 製造例 ２９２ （１）製造例２８１の目的化合物と対応原料化合物とを
製造例７−（１）と同様に処理することにより、第２５
表記載の２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ）フェニル〕−７−メトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−６−〔２−（２−ピリジル）エチルオキシ〕−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノンを得る。

【０５２０】（２）本品を製造例７−（２）と同様に処
理することにより、第２５表記載の２−（４−アミノフ
ェニル）−７−メトキシ−３−メトキシカルボニル−６
−〔２−（２−ピリジル）エチルオキシ〕−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン・２塩酸塩を得る。

【０５２１】製造例２９３−２９４ ６，７−ジメトキシ−４−（３，４−メチレンジオキシ
フェニル）イソクマリン−３−カルボン酸（参考例６５
の目的化合物）又は４−（３，４−ジクロロフェニル）
−６，７−ジメトキシイソクマリン−３−カルボン酸
（参考例６２の目的化合物）と対応原料化合物とを製造
例１もしくは３９と同様に処理することにより、第２６
表記載の下記各化合物を得る。

【０５２２】６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−４−（３，４−メチレンジオキシフェニル）−２
−フェニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例２９
３） ４−（３，４−ジクロロフェニル）−６，７−ジメトキ
シ−３−メトキシカルボニル−２−フェニル−１（２
Ｈ）−イソキノリノン（製造例２９４） 製造例２９５ 製造例２０２の目的化合物を製造例４０と同様に処理す
ることにより、第２７表記載の２−（４−アミノフェニ
ル）−４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニ
ル）−６，７−ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０５２３】製造例２９６ ４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシイソクマリン−３−カルボン酸（参
考例６０の目的化合物）と対応原料化合物とを製造例１
もしくは３９と同様に処理することにより、第２７表記
載の４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）
−６，７−ジメトキシ−２−（６−１Ｈ−インダゾリ
ル）−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノ
リノンを得る。

【０５２４】製造例２９７ ３−ヒドロキシ−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−３，４−ジヒドロイソクマリン−３−カルボン
酸（参考例７５の目的化合物）と対応原料化合物とを製
造例４もしくは３１と同様に処理することにより、第２
７表記載の２−（１−インドリル）−３−メトキシカル
ボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０５２５】製造例２９８ 製造例６７の目的化合物５．６０ｇの塩化メチレン溶液
（１５ｍｌ）に、トリフルオロ酢酸１５ｍｌを加え室温
で３時間放置する。反応終了後、混合物を減圧留去し、
得られた残渣を酢酸エチルに溶解する。当該抽出液を洗
浄、乾燥後、溶媒を留去し、更に残渣を酢酸エチルにて
結晶化することにより、第２７表記載の３−メトキシカ
ルボニル−２−（トリフルオロアセチルアミノ）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノンを得る。

【０５２６】製造例２９９ ４−（３，５−ジブロモ−４−メトキシフェニル）−
６，７−ジメトキシ−３−ヒドロキシ−３，４−ジヒド
ロイソクマリン−３−カルボン酸（参考例８６の目的化
合物）と対応原料化合物とを製造例４もしくは３１と同
様に処理することにより、第２７表記載の４−（３，５
−ジブロモ−４−メトキシフェニル）−６，７−ジメト
キシ−３−メトキシカルボニル−２−フェニル−１（２
Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０５２７】製造例３００−３０８ 製造例８（２）の目的化合物と対応原料化合物とを製造
例９と同様に処理することにより、第２８表記載の下記
化合物を得る。

【０５２８】２−（４−アミノフェニル）−７−（４−
アミノベンジルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシ
カルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例
３００） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（３，４−メチレンジオキシベン
ジルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３
０１） ２−（４−アミノフェニル）−７−（２，４−ジメトキ
シベンジルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカル
ボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３０２） ２−（４−アミノフェニル）−７−（２，５−ジメトキ
シベンジルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカル
ボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３０３） ２−（４−アミノフェニル）−７−（３，５−ジメトキ
シベンジルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカル
ボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３０４） ２−（４−アミノフェニル）−７−（３，４−ジメトキ
シベンジルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカル
ボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３０５） ２−（４−アミノフェニル）−７−（２，３−ジメトキ
シベンジルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカル
ボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３０６） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（２−メトキシベンジルオキシ）
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３０７） ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−７−（４−メトキシベンジルオキシ）
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３０８） 製造例 ３０９−３１６ 製造例２２３の目的化合物と対応原料化合物とを製造例
６もしくは７と同様に処理することにより、第２９表記
載の下記各化合物を得る。

【０５２９】２−（４−アミノフェニル）−７−（２−
ベンズイミダゾリルメチルオキシ）−３−メトキシカル
ボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例３０
９） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−７−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩（製造例３１０） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−３−メトキシカルボニル−７−（４−ピリジ
ルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例３１１
−（１）） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−７−（４−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・２塩酸塩（製造例３１１−（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−３−メトキシカルボニル−７−（３−ピリジ
ルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例３１２
−（１）） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−７−（３−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・２塩酸塩（製造例３１２−（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−３−メトキシカルボニル−７−（２−ピリジ
ルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキシフ
ェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例３１３
−（１）） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−７−（２−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・２塩酸塩（製造例３１３−（２）） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−７−（４−ニトロベンジルオキシ）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・塩酸塩（製造例３１４） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−７−（３−ニトロベンジルオキシ）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・塩酸塩（製造例３１５） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−７−（２−ニトロベンジルオキシ）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・塩酸塩（製造例３１６） 製造例 ３１７ ７−ベンジルオキシ−４−（４−ブロモ−３，５−ジメ
トキシフェニル）−６−メトキシ−３，４−ジヒドロイ
ソクマリン−３−カルボン酸（参考例１０２の目的化合
物）と対応原料化合物とを製造例４もしくは３１と同様
に処理することにより、第３０表記載の７−ベンジルオ
キシ−４−（４−ブロモ−３，５−ジメトキシフェニ
ル）−２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ）フェニル〕−６−メトキシ−３−メトキシカルボニ
ル−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０５３０】製造例 ３１８ 製造例３１７の目的化合物を製造例２４と同様に処理す
ることにより、第３０表記載の２−（４−アミノフェニ
ル）−７−ベンジルオキシ−４−（４−ブロモ−３，５
−ジメトキシフェニル）−６−メトキシ−３−メトキシ
カルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得
る。

【０５３１】製造例 ３１９ （１）製造例３１７の目的化合物３．６６ｇを１，４−
ジオキサン４５ｍｌに溶解し、濃塩酸５０ｍｌ及びメタ
ノール５ｍｌを加え、９０℃で１．５時間撹拌する。氷
冷下、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液２００ｍｌを徐々に
加えた後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え中性と
した後、酢酸エチル抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、
溶媒を留去し、残渣をジエチルエーテルにて結晶化する
ことにより、第３０表記載の２−（４−アミノフェニ
ル）−４−（４−ブロモ−３，５−ジメトキシフェニ
ル）−７−ヒドロキシ−６−メトキシ−３−メトキシカ
ルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン２．５４ｇを得
る。

【０５３２】（２）本品を製造例９−（３）と同様に処
理することにより、第３０表記載の２−（４−アミノフ
ェニル）−４−（４−ブロモ−３，５−ジメトキシフェ
ニル）−７−ヒドロキシ−６−メトキシ−３−メトキシ
カルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得
る。

【０５３３】製造例 ３２０ 製造例３１９−（１）の目的化合物４００ｍｇ、４−ピ
コリルクロリド・塩酸塩１２０ｍｇ及び炭酸カリウム２
５２ｍｇのジメチルホルムアミド１５ｍｌの混合物を６
０℃で３時間撹拌する。水および酢酸エチルを加えて抽
出する。酢酸エチル層を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、
残渣を酢酸エチルにて結晶化する。得られた結晶をクロ
ロホルム２０ｍｌ及びメタノール５ｍｌの混合液に溶解
し、４Ｎ塩化水素−酢酸エチル溶液５ｍｌを加えた後、
ジエチルエーテルで結晶化することにより、第３０表記
載の２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−
３，５−ジメトキシフェニル）−６−メトキシ−３−メ
トキシカルボニル−７−（４−ピリジルメチルオキシ）
−１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩３２８ｍｇを
得る。

【０５３４】製造例 ３２１−３２３ 製造例３１９−（１）の目的化合物と対応原料化合物を
製造例３２０と同様に処理することにより、第３０表記
載の下記各化合物を得る。

【０５３５】２−（４−アミノフェニル）−４−（４−
ブロモ−３，５−ジメトキシフェニル）−６−メトキシ
−３−メトキシカルボニル−７−（３−ピリジルメチル
オキシ）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製
造例３２１） ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，
５−ジメトキシフェニル）−６−メトキシ−３−メトキ
シカルボニル−７−（２−ピリジルメチルオキシ）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例３２２） ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，
５−ジメトキシフェニル）−６−メトキシ−３−メトキ
シカルボニル−７−（２−キノリルメチルオキシ）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例３２３） 製造例 ３２４ ７−ベンジルオキシ−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）イソクマリン−３−カルボン酸（参考例６７
の目的化合物）と対応原料化合物とを製造例１もしくは
３９と同様に処理することにより、第３１表記載の７−
ベンジルオキシ−３−メトキシカルボニル−２−モルホ
リノ−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０５３６】製造例 ３２５ 製造例３２４の目的物を製造例２と同様に処理すること
により、第３１表記載の７−ヒドロキシ−３−メトキシ
カルボニル−２−モルホリノ−４−（３，４，５−トリ
メトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得
る。

【０５３７】製造例 ３２６−３２８ 製造例３２５の目的物と対応原料化合物を製造例６もし
くは７と同様に処理することにより、第３１表記載の下
記各化合物を得る。

【０５３８】３−メトキシカルボニル−２−モルホリノ
−７−（２−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・塩酸塩（製造例３２６） ３−メトキシカルボニル−２−モルホリノ−７−（３−
ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩
（製造例３２７） ３−メトキシカルボニル−２−モルホリノ−７−（４−
ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメト
キシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩
（製造例３２８） 製造例３２９−３３３ 製造例５の目的化合物と対応原料化合物を製造例６もし
くは７と同様に処理することにより、第３２表記載の下
記各化合物を得る。

【０５３９】２−（４−アミノフェニル）−６−メトキ
シ−３−メトキシカルボニル−７−〔（４−メチル）イ
ミダゾール−５−イル−メチルオキシ〕−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノン（製造例３２９） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−シクロプロピルメチルオキシ−６−メト
キシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例３３０−（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−シクロプロピルメチ
ルオキシ−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３３０−（２）） ２−（４−アミノフェニル）−７−〔（２−ヒドロキシ
メチル）ピリジン−６−イル−メチルオキシ〕−６−メ
トキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
・２塩酸塩（製造例３３１） ２−（４−アミノフェニル）−７−（３，５−ジアミノ
ベンジルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・３塩酸塩（製造例３３２） ２−（４−アミノフェニル）−７−（２−ベンズイミダ
ゾリルメチルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカ
ルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
−１（２Ｈ）−イソキノリノン・３塩酸塩（製造例３３
３） 製造例 ３３４ ３−ヒドロキシ−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−３，４−ジヒドロイソクマリン−３−カルボン
酸（参考例７５の目的化合物）と対応原料化合物とを製
造例４もしくは３１と同様に処理することにより、第３
３表記載の２−〔４−（２，６−ジオキソ）ピペリジ
ル〕−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを
得る。

【０５４０】製造例 ３３５ ８−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシ−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−３，４−ジヒドロイソク
マリン−３−カルボン酸（参考例７９の目的化合物）と
対応原料化合物とを製造例４もしくは３１と同様に処理
することにより、第３３表記載の８−ベンジルオキシ−
２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ンを得る。

【０５４１】製造例 ３３６ 製造例３３５の目的化合物５３ｍｇのクロロホルム４ｍ
ｌ溶液を０℃に冷却し、４Ｎ塩化水素−酢酸エチル溶液
２ｍｌを加える。０℃で２時間撹拌した後、反応液に酢
酸エチル及び飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加えて抽出
する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶媒；ヘキサン：
酢酸エチル＝１：２）で精製することにより、第３３表
記載の２−（４−アミノフェニル）−８−ベンジルオキ
シ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリ
メトキシフェニル）−１（２Ｈ）イソキノリノン２０ｍ
ｇを得る。

【０５４２】製造例 ３３７ 製造例３３６の目的化合物を製造例２４と同様に処理す
ることにより、第３３表記載の２−（４−アミノフェニ
ル）−８−ヒドロキシ−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０５４３】製造例 ３３８ ７−ベンジルオキシ−４−（４−ブロモ−３，５−ジメ
トキシフェニル）−３−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロ
イソクマリン−３−カルボン酸（参考例１０４の目的化
合物）と対応原料化合物とを製造例４もしくは３１と同
様に処理することにより、第３４表記載の７−ベンジル
オキシ−２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ）フェニル〕−４−（４−ブロモ−３，５−ジメト
キシフェニル）−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）
−イソキノリノンを得る。

【０５４４】製造例 ３３９ 製造例３３８の目的化合物を製造例２４と同様に処理す
ることにより、第３４表記載の２−（４−アミノフェニ
ル）−７−ベンジルオキシ−４−（４−ブロモ−３，５
−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０５４５】製造例 ３４０ （１）製造例３３８の目的化合物を製造例３１９−
（１）と同様に処理することにより、第３４表記載の２
−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，５
−ジメトキシフェニル）−７−ヒドロキシ−３−メトキ
シカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０５４６】（２）本品を製造例３１９−（２）と同様
に処理することにより、第３４表記載の２−（４−アミ
ノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，５−ジメトキシ
フェニル）−７−ヒドロキシ−３−メトキシカルボニル
−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０５４７】製造例 ３４１ ７−ベンジルオキシ−３−ヒドロキシ−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−３，４−ジヒドロイソク
マリン−３−カルボン酸（参考例７３の目的化合物）と
対応原料化合物とを製造例４もしくは３１と同様に処理
することにより、第３５表記載の７−ベンジルオキシ−
３−メトキシカルボニル−２−フェニル−４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノンを得る。

【０５４８】製造例 ３４２ 製造例３４１の目的化合物を製造例２と同様に処理する
ことにより、第３５表記載の７−ヒドロキシ−３−メト
キシカルボニル−２−フェニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを
得る。

【０５４９】製造例 ３４３−３４７ 製造例３４２の目的化合物と対応原料化合物を製造例６
もしくは７と同様に処理することにより、第３５表記載
の各化合物を得る。

【０５５０】３−メトキシカルボニル−２−フェニル−
７−（２−キノリルメチルオキシ）−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン・塩酸塩（製造例３４３） ３−メトキシカルボニル−２−フェニル−７−（４−キ
ノリルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩
（製造例３４４） ３−メトキシカルボニル−２−フェニル−７−（４−ピ
リジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩
（製造例３４５） ３−メトキシカルボニル−２−フェニル−７−（３−ピ
リジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩
（製造例３４６） ３−メトキシカルボニル−２−フェニル−７−（２−ピ
リジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩
（製造例３４７） 製造例 ３４８対応原料化合物を製造例３と同様に処理
することにより、第３６表記載の３−メトキシカルボニ
ル−２−モルホリノ−７−（２−キノリルメチルオキ
シ）−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０５５１】製造例 ３４９−３５２ 対応原料化合物を製造例９と同様に処理することによ
り、第３７表記載の下記各化合物を得る。

【０５５２】２−（４−アミノフェニル）−７−（３−
ジメチルアミノベンジルオキシ）−３−メトキシカルボ
ニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例３４９） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−７−ピラジニルメチルオキシ−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・
２塩酸塩（製造例３５０） ２−（４−アミノフェニル）−７−（３，５−ジメトキ
シベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩（製造例３５１） ２−（４−アミノフェニル）−７−（２，５−ジメトキ
シベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩（製造例３５２） 製造例 ３５３ ７−ベンジルオキシ−４−（４−クロロ−３，５−ジメ
トキシフェニル）−３−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロ
イソクマリン−３−カルボン酸（参考例１０５の目的化
合物）と対応原料化合物とを製造例４もしくは３１と同
様に処理することにより、７−ベンジルオキシ−２−
〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニ
ル〕−４−（４−クロロ−３，５−ジメトキシフェニ
ル）−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノ
リノンを得る。次いで、本品を製造例２４と同様に処理
することにより、第３８表記載の２−（４−アミノフェ
ニル）−７−ベンジルオキシ−４−（４−クロロ−３，
５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０５５３】製造例 ３５４ 製造例３５３の目的化合物を製造例３１９−（１）と同
様に処理することにより、第３８表記載の２−（４−ア
ミノフェニル）−４−（４−クロロ−３，５−ジメトキ
シフェニル）−７−ヒドロキシ−３−メトキシカルボニ
ル−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０５５４】製造例 ３５５−３５８ 製造例３５４の目的化合物と対応原料化合物とを製造例
３２０と同様に処理するか、或いは製造例９（１）及び
（３）と同様に処理することにより、第３８表記載の下
記各化合物を得る。

【０５５５】２−（４−アミノフェニル）−４−（４−
クロロ−３，５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシ
カルボニル−７−（２−ピリジルメチルオキシ）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例３５５） ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−クロロ−３，
５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
７−（３−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
キノリノン・２塩酸塩（製造例３５６） ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−クロロ−３，
５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
７−（４−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
キノリノン・２塩酸塩（製造例３５７） ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−クロロ−３，
５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
７−（２−キノリルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
キノリノン・２塩酸塩（製造例３５８） 製造例 ３５９−３６４ 製造例３４０（１）の目的化合物と対応原料化合物とを
製造例３２０と同様に処理するか、或いは製造例９
（１）及び（３）と同様に処理することにより、第３９
表記載の下記各化合物を得る。

【０５５６】２−（４−アミノフェニル）−４−（４−
ブロモ−３，５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシ
カルボニル−７−（２−ピリジルメチルオキシ）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例３５９） ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，
５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
７−（３−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
キノリノン・２塩酸塩（製造例３６０） ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，
５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
７−（４−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
キノリノン・２塩酸塩（製造例３６１） ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，
５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
７−（２−キノリルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
キノリノン・２塩酸塩（製造例３６２） ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，
５−ジメトキシフェニル）−７−（３，５−ジメトキシ
ベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３６３） ７−（３−アミノベンジルオキシ）−２−（４−アミノ
フェニル）−４−（４−ブロモ−３，５−ジメトキシフ
ェニル）−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソ
キノリノン・２塩酸塩（製造例３６４） 製造例 ３６５−３６６ 製造例３１９（１）の目的化合物と対応原料化合物とを
製造例９（１）及び（３）と同様に処理することによ
り、第４０表記載の下記各化合物を得る。

【０５５７】２−（４−アミノフェニル）−４−（４−
ブロモ−３，５−ジメトキシフェニル）−７−（３，５
−ジメトキシベンジルオキシ）−６−メトキシ−３−メ
トキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸
塩（製造例３６５） ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，
５−ジメトキシフェニル）−７−（２，５−ジメトキシ
ベンジルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカルボ
ニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３
６６） 製造例 ３６７ 製造例３１９（１）の目的化合物と対応原料化合物とを
製造例３２０と同様に処理することにより、第４０表記
載の２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−
３，５−ジメトキシフェニル）−７−シアノメチルオキ
シ−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０５５８】製造例 ３６８ 製造例３１９（１）の目的化合物と対応原料化合物とを
製造例９（１）及び（３）と同様に処理することによ
り、第４０表記載の２−（４−アミノフェニル）−４−
（４−ブロモ−３，５−ジメトキシフェニル）−７−
（１−イソキノリルメチルオキシ）−６−メトキシ−３
−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン・
２塩酸塩を得る。

【０５５９】製造例３６９ 製造例２２４の目的化合物のクロロホルム懸濁液を氷冷
下、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した後、
酢酸エチルを加えて抽出する。抽出液を洗浄、乾燥した
後、溶媒を留去する。残渣を少量の酢酸エチルに溶解し
た後、ジエチルエーテルを加えて結晶化することによ
り、第４１表記載の２−（４−アミノフェニル）−７−
ヒドロキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノンを得る 製造例３７０ 製造例３６９の目的化合物を製造例８（２）と同様に処
理することにより、第４１表記載の２−〔４−（９−フ
ルオレニルメチルオキシカルボニルアミノ）フェニル〕
−７−ヒドロキシ−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノンを得る。

【０５６０】製造例３７１−３７４ 製造例２２３の目的化合物と対応原料化合物とを製造例
６もしくは７と同様に処理することにより、第４１表記
載の下記各化合物を得る。

【０５６１】２−（４−アミノフェニル）−７−（３，
５−ジアミノベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニ
ル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・３塩酸塩（製造例３７１） ２−（４−アミノフェニル）−７−（６−ヒドロキシメ
チル−２−ピリジルメチルオキシ）−３−メトキシカル
ボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例３７
２） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−（４−メトキシカルボニルベンジルオキ
シ）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例３７３（１）） ２−（４−アミノフェニル）−７−（４−メトキシカル
ボニルベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３７３（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−（３−メトキシカルボニルベンジルオキ
シ）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
（製造例３７４） 製造例３７５−３７６ 製造例３７３（１）または３７４の目的化合物を製造例
２１（１）及び製造例６（２）と同様に処理することに
より、第４１表および第４２表記載の下記化合物を得
る。

【０５６２】２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ）フェニル〕−７−（４−カルボキシベンジル
オキシ）−３−メトキシカルボニル−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン（製造例３７５（１））２−（４−アミノフェニル〕
−７−（４−カルボキシベンジルオキシ）−３−メトキ
シカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３
７５（２）） ２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フ
ェニル〕−７−（３−カルボキシベンジルオキシ）−３
−メトキシカルボニル−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン（製造例３
７６（１））２−（４−アミノフェニル〕−７−（３−
カルボキシベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル
−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３７６（２）） 製造例３７７−３７８ 製造例３７５（１）または３７６（１）の目的化合物と
対応原料化合物とを製造例１２９及び製造例６（２）と
同様に処理することにより、第４２表記載の下記各化合
物を得る。

【０５６３】２−（４−アミノフェニル）−３−メトキ
シカルボニル−７−〔４−（４−メチルピペラジニルカ
ルボニル）ベンジルオキシ〕−４−（３，４，５−トリ
メトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・２
塩酸塩（製造例３７７） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−７−〔３−（４−メチルピペラジニルカルボニル）ベ
ンジルオキシ〕−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造
例３７８） 製造例３７９−３８２ 製造例３６９の目的化合物と対応原料化合物とを製造例
９（１）と同様に処理し、次いで生成物を製造例９
（３）と同様に処理することにより、第４２表記載の下
記各化合物を得る。

【０５６４】２−（４−アミノフェニル）−３−メトキ
シカルボニル−７−〔３−（メチルアミノ）ベンジルオ
キシ〕−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例３７
９） ２−（４−アミノフェニル）−７−（２−ヒドロキシメ
チルベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩（製造例３８０） ２−（４−アミノフェニル）−７−（３−ヒドロキシメ
チルベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩（製造例３８１） ２−（４−アミノフェニル）−７−（４−ヒドロキシメ
チルベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・塩酸塩（製造例３８２） 製造例３８３ 製造例３１２（２）の目的化合物を製造例６９と同様に
処理することにより、第４３表記載の２−〔４−（アセ
チルアミノ）フェニル〕−３−メトキシカルボニル−７
−（２−ピリジルメチルオキシ〕−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
を得る。

【０５６５】製造例３８４ （１）製造例３１３（１）の目的化合物を製造例２７３
と同様に処理することにより、第４３表記載の２−〔４
−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕
−３−メトキシカルボニル−７−（Ｎ−オキソ−２−ピ
リジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０５６６】（２）本品を製造例６（２）と同様に処理
し、次いで生成物を製造例３６９と同様に処理すること
により、第４３表記載の２−（４−アミノフェニル）−
３−メトキシカルボニル−７−（Ｎ−オキソ−２−ピリ
ジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０５６７】製造例３８５〜３８６ 製造例３２５の目的化合物と対応原料化合物とを製造例
６または７と同様に処理することにより、第４３表記載
の下記各化合物を得る。

【０５６８】７−（３−アミノベンジルオキシ）−３−
メトキシカルボニル−２−モルホリノ−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・塩酸塩（製造例３８５） ７−（２−ベンゾイミダゾリルメチルオキシ）−３−メ
トキシカルボニル−２−モルホリノ−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノ
ン（製造例３８６） 製造例３８７ 製造例３３５の目的化合物を製造例８（１）と同様に処
理することにより、第４４表記載の２−（４−アミノフ
ェニル）−８−ヒドロキシ−３−メトキシカルボニル−
４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０５６９】製造例 ３８８−３９２製造例３８７の目
的化合物を製造例６と同様に処理することにより、第４
４表記載の下記各化合物を得る。

【０５７０】２−（４−アミノフェニル）−３−メトキ
シカルボニル−８−（２−ピリジルメチルオキシ）−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例３８８） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−８−（３−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・２塩酸塩（製造例３８９） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−８−（４−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・２塩酸塩（製造例３９０） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−８−（２−キノリルメチルオキシ）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・２塩酸塩（製造例３９１） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−８−（フェニルエチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
・塩酸塩（製造例３９２） 製造例 ３９３ 製造例３６９の目的化合物を、製造例７と同様に処理す
ることにより、２−（４−アミノフェニル）−７−（４
−イミダゾリルメチルオキシ）−３−メトキシカルボニ
ル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩を得る。

【０５７１】製造例 ３９４ 製造例３８２の目的化合物３００ｍｇおよびトリエチル
アミン０．３６ｍｌを塩化メチレン５ｍｌに溶解し、氷
冷下、メシルクロリド０．０８４ｍｌを滴下する。１２
時間後、反応液を水にあけ、塩化メチレンにて抽出、抽
出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣にエタノー
ル５ｍｌおよび濃塩酸１ｍｌを加え、室温にて１２時間
撹拌後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、クロロ
ホルムにて抽出、抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去す
る。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶媒；クロ
ロホルム：アセトン＝３：１）で精製することにより７
−（４−アミノメチルベンジルオキシ）−２−（４−メ
タンスルホニルアミノフェニル）−３−メトキシカルボ
ニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン１０８ｍｇを得る。

【０５７２】製造例 ３９５−３９８ 製造例３５４の目的化合物と対応原料化合物とを製造例
３２０と同様に処理もしくは製造例９（１）、次いで製
造例９（３）と同様に処理することにより、第４５表記
載の下記各化合物を得る。

【０５７３】２−（４−アミノフェニル）−７−（２−
ベンズイミダゾリルメチルオキシ）−４−（４−クロロ
−３，５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボ
ニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例
３９５） ２−（４−アミノフェニル）−７−（３，５−ジメトキ
シベンジルオキシ）−４−（４−クロロ−３，５−ジメ
トキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例３９６） ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−クロロ−３，
５−ジメトキシフェニル）−７−（６−ヒドロキシメチ
ル−２−ピリジルメチルオキシ）−３−メトキシカルボ
ニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例
３９７） ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−クロロ−３，
５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
７−ピラジニルメチルオキシ−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・２塩酸塩（製造例３９８） 製造例 ３９９ 製造例３１９（１）の目的化合物と対応原料化合物を製
造例９（１）と同様に処理し、次いで生成物を製造例９
（３）と同様に処理することにより。第４６表記載の２
−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，５
−ジメトキシフェニル）−７−（２−フリルメチルオキ
シ）−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０５７４】製造例 ４００ ７−ベンジルキオキシ−３−ヒドロキシ−６−メトキシ
−４−（３ ，５−ジメトキシ−４−メチルフェニル）
−３，４−ジヒドロイソクマリン−３−カルボン酸（参
考例１０３の目的物）を製造例４と同様に処理すること
により、第４６表記載の７−ベンジルオキシ−２−〔４
−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕
−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，
５−ジメトキシ−４−メチルフェニル）−１（２Ｈ）−
イソキノリノンを得る。

【０５７５】製造例 ４０１ 製造例４００の目的化合物を製造例６（２）と同様に処
理することにより、第４６表記載の２−（４−アミノフ
ェニル）−７−ベンジルオキシ−４−（３，５−ジメト
キシ−４−メチルフェニル）−６−メトキシ−３−メト
キシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩
を得る。

【０５７６】製造例 ４０２ 製造例４００の目的化合物を製造例５と同様に処理する
ことにより、第４６表記載の２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブ
トキシカルボニルアミノ）フェニル〕−４−（３，５−
ジメトキシ−４−メチルフェニル）−７−ヒドロキシ−
６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−
イソキノリノンを得る。

【０５７７】製造例 ４０３ 製造例４０２の目的化合物を製造例６（２）と同様に処
理することにより、第４６表記載の２−（４−アミノフ
ェニル）−４−（３，５−ジメトキシ−４−メチルフェ
ニル）−７−ヒドロキシ−６−メトキシ−３−メトキシ
カルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得
る。

【０５７８】製造例 ４０４〜４０７ 製造例４０２の目的化合物と対応原料化合物とを製造例
６と同様に処理することにより、第４６表記載の下記各
化合物を得る。

【０５７９】２−（４−アミノフェニル）−４−（３，
５−ジメトキシ−４−メチルフェニル）−６−メトキシ
−３−メトキシカルボニル−７−（４−ピリジルメチル
オキシ）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製
造例４０４） ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
シ−４−メチルフェニル）−６−メトキシ−３−メトキ
シカルボニル−７−（３−ピリジルメチルオキシ）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例４０５） ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
シ−４−メチルフェニル）−６−メトキシ−３−メトキ
シカルボニル−７−（２−ピリジルメチルオキシ）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例４０６） ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
シ−４−メチルフェニル）−６−メトキシ−３−メトキ
シカルボニル−７−（２−キノリルメチルオキシ）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例４０７） 製造例 ４０８ ７−ベンジルキオキシ−３，４−ジヒドロ−４−（３
，５−ジメトキシ−４−メチルフェニル）−３−ヒド
ロキシイソクマリン−３−カルボン酸（参考例１０６の
目的物）を製造例４と同様に処理することにより、第４
７表記載の７−ベンジルオキシ−２−〔４−（ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕−４−（３，
５−ジメトキシ−４−メチルフェニル）−３−メトキシ
カルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０５８０】製造例 ４０９ 製造例４０８の目的化合物を製造例６（２）と同様に処
理することにより、第４７表記載の２−（４−アミノフ
ェニル）−７−ベンジルオキシ−４−（３，５−ジメト
キシ−４−メチルフェニル）−３−メトキシカルボニル
−１（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０５８１】製造例 ４１０ 製造例４０８の目的化合物を製造例５と同様に処理する
ことにより、第４７表記載の２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブ
トキシカルボニルアミノ）フェニル〕−４−（３，５−
ジメトキシ−４−メチルフェニル）−７−ヒドロキシ−
３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン
を得る。

【０５８２】製造例 ４１１ 製造例４１０の目的化合物を製造例６（２）と同様に処
理することにより、第４７記載の２−（４−アミノフェ
ニル）−４−（３，５−ジメトキシ−４−メチルフェニ
ル）−７−ヒドロキシ−３−メトキシカルボニル−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩を得る。

【０５８３】製造例 ４１２〜４２１ 製造例４１０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例
６または７と同様に処理することにより、第４７または
４８記載の下記各化合物を得る。

【０５８４】２−（４−アミノフェニル）−４−（３，
５−ジメトキシ−４−メチルフェニル）−３−メトキシ
カルボニル−７−（４−ピリジルメチルオキシ）−１
（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例４１２） ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
シ−４−メチルフェニル）−３−メトキシカルボニル−
７−（３−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
キノリノン・２塩酸塩（製造例４１３） ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
シ−４−メチルフェニル）−３−メトキシカルボニル−
７−（２−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
キノリノン・２塩酸塩（製造例４１４） ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
シ−４−メチルフェニル）−３−メトキシカルボニル−
７−（２−キノリルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
キノリノン・２塩酸塩（製造例４１５） ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
シ−４−メチルフェニル）−７−（１−イソキノリルメ
チルオキシ）−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−
イソキノリノン・２塩酸塩（製造例４１６） ２−（４−アミノフェニル）−７−（３，５−ジアミノ
ベンジルオキシ）−４−（３，５−ジメトキシ−４−メ
チルフェニル）−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）
−イソキノリノン・３塩酸塩（製造例４１７） ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
シ−４−メチルフェニル）−７−（６−ヒドロキシメチ
ル−２−ピリジルメチルオキシ）−３−メトキシカルボ
ニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例
４１８） ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
シ−４−メチルフェニル）−７−（３−メチルアミノベ
ンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）
−イソキノリノン・２塩酸塩（製造例４１９） ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
シ−４−メチルフェニル）−７−（２−ヒドロキシメチ
ルベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−１（２
Ｈ）−イソキノリノン・塩酸塩（製造例４２０） ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
シ−４−メチルフェニル）−３−メトキシカルボニル−
７−（２−ピラジニルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イ
ソキノリノン・２塩酸塩（製造例４２１） 製造例 ４２２ （１）製造例３１１（２）の目的化合物１２．２ｇをク
ロロホルム２００ｍｌに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液を加えて１時間撹拌する。クロロホルム層を分
液し、乾燥後濃縮、酢酸エチルを加えて析出した結晶を
ろ取することにより、第４９表記載の２−（４−アミノ
フェニル）−３−メトキシカルボニル−７−（４−ピリ
ジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキシ
フェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン１０．８ｇを
得る。

【０５８５】（２）本品２．００ｇにエタノール１５０
ｍｌを加え、８０℃に加温して結晶を完全に溶解する。
２Ｎ硫酸３．５３ｇを滴下し、滴下終了後、反応液を室
温にもどし、終夜撹拌する。析出結晶をろ取、冷エタノ
ールにて洗浄することにより、第４９表記載の２−（４
−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル−７−
（４−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・
硫酸塩２．１２ｇを得る。

【０５８６】製造例 ４２３ 製造例４２２（１）の目的化合物２．００ｇにエタノー
ル１５０ｍｌを加え、８０℃に加温して結晶を完全に溶
解する。メタンスルホン酸０．４８ｍｌを加えた後、室
温にもどし、３時間撹拌する。析出結晶をろ取、冷エタ
ノールにて洗浄することにより、第４９表記載の２−
（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル−７
−（４−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，５−
トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン
・２メタンスルホン酸塩２．６５ｇを得る。

【０５８７】製造例 ４２４〜４２５ 製造例３１３（２）の目的化合物を製造例４２２または
４２３と同様に処理することにより、第４９表記載の下
記各化合物を得る。

【０５８８】２−（４−アミノフェニル）−３−メトキ
シカルボニル−７−（２−ピリジルメチルオキシ）−４
−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
−イソキノリノン・硫酸塩（製造例４２４） ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
−７−（２−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノン・２メタンスルホン酸塩（製造例４２５） 製造例 ４２６ 参考例８０の目的化合物と対応原料化合物とを製造例９
９（１）と同様に処理することにより、第５０表記載の
４−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシフェニル）３−
カルボキシ−６，７−ジメトキシ−１（２Ｈ）−イソキ
ノリノンを得る。

【０５８９】製造例 ４２７ 製造例４２６の目的化合物を、製造例１０（２）と同様
に処理することにより、第５０表記載の４−（３−ブロ
モ−４，５−ジメトキシフェニル）−６，７−ジメトキ
シ−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソキノリ
ノンを得る。

【０５９０】製造例 ４２８ （１）参考例１０７（５）の目的化合物を、製造例４も
しくは製造例３１と同様に処理することにより、７−ベ
ンジルオキシ−２−〔４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
ニルアミノ）フェニル〕−４−（３，４−ジメトキシ−
５−メトキシメトキシフェニル）−３−メトキシカルボ
ニル−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０５９１】（２）本品を製造例５および製造例６−
（１）と同様に処理することにより、２−〔４−（ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）フェニル〕−４−
（３，４−ジメトキシ−５−メトキシメトキシフェニ
ル）−３−メトキシカルボニル−７−（２−ピリジルメ
チルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキノリノンを得る。

【０５９２】（３）本品をクロロホルム５ｍｌに溶解
し、４Ｎ塩化水素−酢酸エチル溶液２ｍｌを加え室温で
１時間撹拌、生じた懸濁液にメタノール１０ｍｌを加え
た後、４０℃に加温し、３時間撹拌する。反応液を濃縮
し、酢酸エチルを加えて析出した結晶をろ取することに
より、第５１表記載の２−（４−アミノフェニル）−４
−（３，４−ジメトキシ−５−ヒドロキシフェニル）−
３−メトキシカルボニル−７−（２−ピリジルメチルオ
キシ）−１（２Ｈ）−イソキノリノン・２塩酸塩を得
る。

【０５９３】製造例 ４２９ 製造例３１３−（２）の目的化合物１．７０ｇにジオキ
サン３０ｍｌおよび濃塩酸３０ｍｌを加え、終夜加熱還
流した後、ジオキサンを留去、２Ｎ水酸化ナトリウム水
溶液にて中和後酢酸エチルにて抽出、抽出液を洗浄、乾
燥後、溶媒を留去する。残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー（溶媒；クロロホルム：アセトン＝３：２）で精
製することにより、第５１表記載の２−（４−アミノフ
ェニル）−４−（３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ
フェニル）−３−メトキシカルボニル−７−（２−ピリ
ジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキノリノン９２
０ｍｇを得る。

【０５９４】参考例 １ ２−ブロモ−４，５−ジメトキシベンズアルデヒドジメ
チルアセタール７４．０ｇをテトラヒドロフラン４００
ｍｌに溶解し窒素気流下−７８℃に冷却する。この溶液
にノルマルブチルリチウム１９１ｍｌをゆっくり滴下
し、滴下終了後、１５分間撹拌する。この溶液にＮ，Ｎ
−ジメチル−３，４，５−トリメトキシベンズアミド６
１ｇのテトラヒドロフラン溶液を滴下する。反応温度を
−４５℃まで徐々に昇温させた後、反応液を水にあけ酢
酸エチルにて抽出、抽出液を水、飽和食塩水で洗浄し、
乾燥後溶媒を留去する。析出晶をジエチルエーテルにて
濾取することにより、下記第５２表記載の４，５−ジメ
トキシ−６−（３，４，５−トリメトキシベンゾイル）
ベンズアルデヒドジメチルアセタール９０．０ｇを得
る。

【０５９５】参考例 ２−８ Ｎ，Ｎ−ジメチル−３，４，５−トリメトキシベンズア
ミドと対応ブロモベンズアルデヒドジメチルアセタール
化合物とを参考例１と同様に処理することにより、下記
第５２表記載の化合物を得る。

【０５９６】

【表７６】

【０５９７】参考例 ９ ２−ブロモ−４，５−ジメトキシベンズアルデヒドジメ
チルアセタール５．６８ｇをテトラヒドロフラン２０ｍ
ｌに溶解後、−６０℃に冷却する。この溶液にｎ−ブチ
ルリチウム１２．８ｍｌを３０分間かけて滴下する。こ
の溶液に４−ブロモ−３，５−ジメトキシベンズアルデ
ヒド４．７８ｇのテトラヒドロフラン溶液を３０分間か
けて滴下する。反応液に酢酸１．０６ｍｌを加えた後、
水にあけ酢酸エチルにて抽出、抽出液を洗浄、乾燥後溶
媒を留去し油状物質としてアルコール体９．０２ｇを得
る。このアルコール体をトルエン３０ｍｌに溶解し、二
酸化マンガン２６ｇを数回に分けて固体のまま加える。
この懸濁液を８０℃に加温、５時間後不溶物を濾去し、
濾液を濃縮、析出結晶をジイソプロピルエーテルにて濾
取することにより、下記第５３表記載の２−（４−ブロ
モ−３，５−ジメトキシベンゾイル）−４，５−ジメト
キシベンズアルデヒドジメチルアセタール３．６８ｇを
得る。

【０５９８】参考例 １０−１３ 対応化合物を参考例９と同様に処理することにより、下
記第５３表記載の化合物を得る。

【０５９９】

【表７７】

【０６００】参考例 １４ ４，５−ジメトキシ−２−（３，４，５−トリメトキシ
ベンゾイル）ベンズアルデヒドジメチルアセタール１．
０ｇをアセトン１５ｍｌと水０．５ｍｌに加熱溶解し、
酸性イオン交換樹脂（ＩＲ−１２０）５０ｍｇを加えて
室温下、２時間撹拌する。反応終了後、酸性イオン交換
樹脂を濾去し、溶媒を留去する。残渣をジオキサン１２
ｍｌに溶解し、レゾルシノール４５６ｍｇ、酢酸緩衝溶
液（ｐＨ３．８）１２ｍｌを加える。この溶液に亜塩素
酸ナトリウム３７４ｍｇの水溶液をゆっくり滴下し、室
温下、終夜撹拌する。反応後濃塩酸を加えてｐＨ１とし
た後、クロロホルム抽出、クロロホルム層を洗浄、乾燥
後溶媒を留去し、析出する結晶をジエチルエーテルにて
濾取して、下記第５４表記載の４，５−ジメトキシ−２
−（３，４，５−トリメトキシベンゾイル）安息香酸８
１０ｍｇを得る。

【０６０１】参考例 １５−２６ 対応化合物を参考例１４と同様に処理することにより、
下記第５４及び第５５表記載の化合物を得る。

【０６０２】参考例 ２７ ２−ブロモ−４，５−ジメトキシベンズアルデヒドジメ
チルアセタール１４．８ｇのテトラヒドロフラン５０ｍ
ｌ溶液を−７０℃に冷却し窒素雰囲気下で、ｎ−ブチル
リチウムのヘキサン溶液（１．６Ｍ）３３．４ｍｌを２
０分間で滴下する。−６０℃で３０分間反応させた後、
２，３，４−トリメトキシベンズアルデヒド１０．０ｇ
のテトラヒドロフラン３０ｍｌ溶液を１０分間で滴下す
る。１時間反応させた後、反応液に水、酢酸エチル２０
０ｍｌを加えて酢酸エチル層を分取し、洗浄、乾燥す
る。この酢酸エチル溶液に酸性イオン交換樹脂（ＩＲ−
１２０）７．０ｇを加えて室温で１時間反応させた後濾
過し、酢酸エチルを留去する。得られた生成物にピリジ
ン１５０ｍｌ、１．８Ｎ水酸化カリウム水溶液１５０ｍ
ｌを加え８０℃に加温し、過マンガン酸カリウム２４．
１ｇを数回に分けて固体のまま加える。同温で１時間反
応させた後、不溶物をろ別する。ろ液に、氷冷下、濃塩
酸２００ｍｌ、酢酸エチル３００ｍｌを加えて酢酸エチ
ル層を分取し、洗浄、乾燥する。酢酸エチルを留去し、
残渣をジエチルエーテルで結晶化することにより、下記
第５５表記載の４，５−ジメトキシ−２−（２，３，４
−トリメトキシベンゾイル）安息香酸７．７２ｇを得
る。

【０６０３】参考例 ２８ 対応化合物を参考例２７と同様に処理することにより、
下記第５５表記載の４，５−ジメトキシ−２−（３，４
−メチレンジオキシベンゾイル）安息香酸を得る。

【０６０４】

【表７８】

【０６０５】

【表７９】

【０６０６】参考例 ２９ ２−（４−メトキシフェニル）−４，４−ジメチル−２
−オキサゾリン１１．０ｇのテトラヒドロフラン５０ｍ
ｌ溶液を−５０℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウムのヘキ
サン溶液（１．６Ｍ）３６．８ｍｌを２０分間で滴下す
る。−４０℃で３０分間撹拌させた後、同温で３，４，
５−トリメトキシベンズアルデヒド１０．５ｇのテトラ
ヒドロフラン３０ｍｌ溶液を１０分間で滴下する。−３
０℃で１時間撹拌させた後、反応液に水及び酢酸エチル
２００ｍｌを加えて抽出し、洗浄、乾燥する。酢酸エチ
ルを留去し、ジエチルエーテルで結晶化することによ
り、下記第５６表記載の２−｛２−〔ヒドロキシ−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）メチル〕−４−
メトキシフェニル｝−４，４−ジメチル−２−オキサゾ
リン１６．２ｇを得る。

【０６０７】参考例 ３０ 対応化合物を参考例２９と同様に処理することにより、
下記第５６表記載の２−〔２−ヒドロキシ−（３，４，
５−トリメトキシフェニル）メチルフェニル〕−４，４
−ジメチル−２−オキサゾリンを得る。

【０６０８】

【表８０】

【０６０９】参考例 ３１ Ｎ−メチル−２−クロロベンズアミド１３．０ｇのテト
ラヒドロフラン３００ｍｌ溶液を−７０℃に冷却し、ｓ
ｅｃ−ブチルリチウムのシクロヘキサン溶液（１．３
Ｍ）１３０ｍｌを２０分間で滴下する。−６０℃で３０
分間撹拌させた後、３，４，５−トリメトキシベンズア
ルデヒド１５．０ｇのテトラヒドロフラン１００ｍｌ溶
液を１０分間で滴下する。同温で１時間撹拌させた後反
応液に水及び酢酸エチル３００ｍｌを加えて抽出し、洗
浄、乾燥する。酢酸エチルを留去し、ジエチルエーテル
で結晶化することにより、下記第５７表記載のＮ−メチ
ル−２−クロロ−６−〔ヒドロキシ−（３，４，５−ト
リメトキシフェニル）メチル〕ベンズアミド１９．２ｇ
を得る。

【０６１０】参考例 ３２−３５ 対応化合物を参考例３１と同様に処理することにより、
下記第５７表記載の化合物を得る。

【０６１１】

【表８１】

【０６１２】参考例 ３６ 参考例２９で得た化合物９．０ｇにジオキサン３８ｍ
ｌ、濃塩酸１９ｍｌを加え１１０℃で１時間反応させ
る。水及び酢酸エチル１５０ｍｌを加えて抽出し洗浄、
乾燥する。酢酸エチルを留去し、ジエチルエーテルで結
晶化することにより、下記第５８表記載の５−メトキシ
−３−（３，４，５−トリメトキシフェニル）フタライ
ド６．１４ｇを得る。

【０６１３】参考例 ３７−４１ 対応化合物を参考例３６と同様に処理することにより、
下記第５８表記載の化合物を得る。

【０６１４】参考例 ４２ ６−〔ヒドロキシ−（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）メチル〕−２−メトキシメチルオキシ−Ｎ−メチル
ベンズアミド（参考例３５の目的化合物）１７．０ｇに
ジオキサン６８ｍｌ、濃塩酸１７ｍｌを加え１００℃で
２０分間撹拌する。水及び酢酸エチル２００ｍｌを加え
て酢酸エチル抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を
留去し、残渣をジエチルエーテルで結晶化する。更に、
得られた粗結晶をジメチルホルムアミド９０ｍｌ、炭酸
カリウム３．３５ｇ、臭化ベンジル４．１４ｇを加え、
室温で２時間撹拌する。水及び酢酸エチル２００ｍｌを
加えて酢酸エチル抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶
媒を留去し、残渣をジエチルエーテルで結晶化すること
により、下記第５８表記載の７−ベンジルオキシ−３−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）フタライド７．
６８ｇを得る。

【０６１５】

【表８２】

【０６１６】参考例 ４３ 参考例３６で得られた化合物にピリジン４５ｍｌ、２５
％水酸化カリウム水溶液９０ｍｌを加え７０℃に加温
し、過マンガン酸カリウム５．３１ｇを数回に分けて固
体のまま加える。同温で１．５時間撹拌させた後、不溶
物をろ別する。ろ液に氷冷下、濃塩酸１００ｍｌ、酢酸
エチル３００ｍｌを加えて抽出し、抽出液を洗浄、乾燥
する。溶媒を留去し、ジエチルエーテルで結晶化するこ
とにより、下記第５９表記載の４−メトキシ−２−
（３，４，５−トリメトキシベンゾイル）安息香酸７．
３８ｇを得る。

【０６１７】参考例 ４４−４９ 対応化合物を参考例４３と同様に処理することにより、
下記第５９表記載の化合物を得る。

【０６１８】

【表８３】

【０６１９】参考例 ５０ ４，５−ジメトキシ−２−（３，４，５−トリメトキシ
ベンゾイル）安息香酸５ｇのジメチルホルムアミド５０
ｍｌ溶液に炭酸カリウム３．７２ｇ、ブロモマロン酸ジ
エチル２．４８ｍｌを加え室温で終夜撹拌する。反応液
からジメチルホルムアミドを留去後、クロロホルム及び
水を加えて抽出する。抽出液にジオキサン８０ｍｌ、濃
塩酸８０ｍｌを加え３時間加熱環流する。反応液を冷却
して析出晶をろ取、アセトンで洗浄、乾燥することによ
り、下記第６０表記載の６，７−ジメトキシ−４−
（３，４，５−トリメトキシフェニル）イソクマリン−
３−カルボン酸２．８５ｇを得る。

【０６２０】参考例 ５１−５９ 対応原料化合物を参考例５０と同様に処理することによ
り、下記第６０表記載の化合物を得る。

【０６２１】

【表８４】

【０６２２】参考例 ６０ ２−（３−ブロモ−４，５−ジメトキシベンゾイル）−
４，５−ジメトキシ安息香酸６ｇのジメチルホルムアミ
ド１１０ｍｌ溶液に炭酸カリウム４．２９ｇ、ブロモマ
ロン酸ジエチル３．７１ｇを加え、室温で終夜撹拌す
る。反応液からジメチルホルムアミドを留去し、残渣に
酢酸エチル及び水を加えて抽出する。抽出液（酢酸エチ
ル層）を洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣にジオキ
サン３５ｍｌ、濃塩酸３５ｍｌを加え５時間加熱還流す
る。反応液を冷却後、クロロホルム及び水を加えて抽出
する。抽出液（クロロホルム層）を洗浄、乾燥後、溶媒
を留去する。残渣をエーテルより結晶化することによ
り、下記第６１表記載の４−（３−ブロモ−４，５−ジ
メトキシフェニル）−６，７−ジメトキシ−イソクマリ
ン−３−カルボン酸２．５４ｇを得る。

【０６２３】参考例 ６１−６５ 対応化合物を参考例６０と同様に処理することにより、
下記第６１表記載の化合物を得る。

【０６２４】参考例 ６６ ２−（３，５−ジブロモ−４−メトキシベンゾイル）−
４，５−ジメトキシ安息香酸６．３０ｇのジメチルホル
ムアミド５０ｍｌ溶液に炭酸カリウム４．０４ｇ、ブロ
モマロン酸ジメチル３．４３ｇを加え室温で終夜撹拌す
る。反応液に酢酸エチル及び水を加えて抽出する。抽出
液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣にジオキサン
３０ｍｌ、濃塩酸３０ｍｌを加え５時間加熱還流する。
反応液を冷却後、酢酸エチル及び水を加えて抽出し、抽
出液を洗浄する。残りの水層を１０％塩酸で酸性とした
後、さらに酢酸エチルで抽出し、洗浄、乾燥する。抽出
液を合わせて溶媒を留去し、残渣をエーテルより結晶化
することにより、下記第６１表記載の４−（３，５−ジ
ブロモ−４−メトキシフェニル）−６，７−ジメトキシ
イソクマリン−３−カルボン酸１．３２ｇを得る。

【０６２５】

【表８５】

【０６２６】参考例 ６７ ５−ベンジルオキシ−４−メトキシ−２−（３，４，５
−トリメトキシベンゾイル）安息香酸９０ｇのジメチル
ホルムアミド９００ｍｌ溶液に炭酸カリウム６０．５
ｇ、ブロモマロン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル６４．６ｇを
加え室温で３時間撹拌する。反応液に酢酸エチル及び水
を加えて抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去
する。残渣に４Ｎ塩化水素−酢酸エチル溶液５００ｍｌ
を加え、室温で５時間撹拌する。析出晶をろ取し、洗
浄、乾燥する。本結晶を酢酸４０ｍｌ及びジオキサン８
０ｍｌ混液に溶解し、５時間加熱還流する。析出晶をろ
取し、洗浄、乾燥することにより、下記第６２表記載の
７−ベンジルオキシ−６−メトキシ−４−（３，４，５
−トリメトキシフェニル）イソクマリン−３−カルボン
酸７０．０ｇを得る。

【０６２７】参考例 ６８−７０ 対応化合物を参考例６７と同様に処理することにより、
下記第６２表記載の化合物を得る。

【０６２８】

【表８６】

【０６２９】参考例 ７１ 参考例６７で得た化合物１３．９ｇを２Ｎ水酸化ナトリ
ウム水溶液１００ｍｌとメタノール１００ｍｌの混合溶
液に加え、室温で４時間撹拌する。メタノールを留去
後、残る水層を１０％塩酸でｐＨ＝２に調製し、酢酸エ
チル抽出する。抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去す
る。残渣を、ジエチルエーテルで結晶化することによ
り、下記第６３表記載の７−ベンジルオキシ−３−ヒド
ロキシ−６−メトキシ−４−（３，４，５−トリメトキ
シフェニル）−３，４−ジヒドロイソクマリン−３−カ
ルボン酸１２．７８ｇを得る。

【０６３０】参考例 ７２−８６ 対応化合物をそれぞれ参考例７１と同様に処理すること
により、下記第６３表記載の化合物を得る。

【０６３１】

【表８７】

【０６３２】

【表８８】

【０６３３】

【表８９】

【０６３４】参考例 ８７−９１ ５−ベンジルオキシ−２−ブロモ−４−メトキシベンズ
アルデヒドジメチルアセタール又は５−ベンジルオキシ
−２−ブロモベンズアルデヒドジメチルアセタールを参
考例１又は参考例９と同様に処理することにより、下記
第６４表記載の各化合物を得る。

【０６３５】

【表９０】

【０６３６】参考例 ９２−９６ 参考例８７−９１で得られる化合物を参考例１４と同様
に処理することにより、下記第６５表記載の化合物を得
る。

【０６３７】

【表９１】

【０６３８】参考例 ９７−１０１ 参考例９２−９６で得られる化合物を参考例６７と同様
に処理することにより、下記第６６表記載の化合物を得
る。

【０６３９】

【表９２】

【０６４０】参考例 １０２〜１０６ 参考例９７〜１０１で得られる化合物を参考例７１と同
様に処理することにより、下記第６７表記載の化合物を
得る。

【０６４１】参考例 １０７ （１）２−ブロモ−５−ベンジルオキシベンズアルデヒ
ドジメチルアセタール８．１４ｇをテトラヒドロフラン
４０ｍｌに溶解し、窒素気流下、−７８℃に冷却する。
この溶液にノルマルブチルリチウム１６．６ｍｌを滴下
し、滴下終了後、１０分間撹拌する。この溶液に、Ｎ，
Ｎ−ジメチル−３，４−ジメトキシ−５−メトキシメト
キシベンズアミド６．５０ｇのテトラヒドロフラン溶液
を滴下する。反応溶液を氷冷まで徐々に昇温した後、反
応液を飽和塩化アンモニウム水溶液にあけ、酢酸エチル
にて抽出、洗浄、乾燥後、溶媒を留去して２−（３，４
−ジメトキシ−５−メトキシメトキシベンゾイル）−５
−ベンジルオキシベンズアルデヒドジメチルアセタール
の粗体を得る。

【０６４２】（２）本品をテトラヒドロフラン８０ｍｌ
に溶解し、２Ｎ塩酸２０ｍｌを加えて終夜撹拌する。溶
媒を留去後、水および酢酸エチルを加えて分液、有機層
を洗浄、乾燥後、溶媒を留去して２−（３，４−ジメト
キシ−５−メトキシメトキシベンゾイル）−５−ベンジ
ルオキシベンズアルデヒド５．６６ｇを得る。

【０６４３】（３）得られた油状残渣をジオキサン６０
ｍｌに溶解し、レゾルシノール２．１４ｇ、酢酸緩衝液
（ｐＨ３．８）５０ｍｌを加える。この溶液に亜塩素酸
ナトリウム１．７６ｇの水溶液を滴下し、室温下、終夜
撹拌する。反応溶液に、濃塩酸を加えて、ｐＨ１とした
後、クロロホルムで抽出、クロロホルム層を洗浄、乾燥
後、溶媒を留去して５−ベンジルオキシ−２−（３，４
−ジメトキシ−５−メトキシメトキシベンゾイル）安息
香酸を得る。

【０６４４】（４）本品をジメチルホルムアミド３０ｍ
ｌに溶解し、氷冷下、炭酸カリウム１．７９ｇおよびブ
ロモマロン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル３．８３ｇを加えた
後、室温で終夜撹拌する。さらに炭酸カリウム１．７９
ｇを加えて終夜撹拌した後、水にあけ酢酸エチルにて抽
出、抽出液を洗浄、乾燥後、溶媒を留去する。残渣に４
Ｎ塩化水素−酢酸エチル溶液３５ｍｌ加え、終夜撹拌、
反応液を濃縮し、ジオキサンにて共沸する。残渣をジオ
キサン５０ｍｌおよび酢酸３０ｍｌに溶解し、４時間加
熱還流後、濃縮、トルエンにて共沸する。残渣をジメチ
ルホルムアミド５０ｍｌに溶解し、氷冷下、ジイソプロ
ピルエチルアミン９．３ｍｌおよびメトキシメチルクロ
リド４．０ｍｌを加え終夜撹拌する。反応液を水にあ
け、酢酸エチルにて抽出、抽出層を洗浄、乾燥後、溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶
媒；ヘキサン：クロロホルム：酢酸エチル＝５：５：
１）で精製することにより７−ベンジルオキシ−４−
（３，４−ジメトキシ−５−メトキシメトキシフェニ
ル）−３−メトキシメトキシカルボニルオキシイソクマ
リン１．８２ｇを得る。

【０６４５】（５）本品をテトラヒドロフラン１５ｍｌ
およびメタノール５ｍｌに溶解し、氷冷下、２Ｎ水酸化
ナトリウム水溶液３．３９ｍｌを加えた後、濃縮、水お
よび酢酸エチルを加え、分液し、酢酸エチル層を洗浄、
乾燥後、溶媒を留去して下記第６７表記載の７−ベンジ
ルオキシ−３−ヒドロキシ−４−（３，４−ジメトキシ
−５−メトキシメトキシフェニル）−３，４−ジヒドロ
イソクマリン−３−カルボン酸を得る。

【０６４６】

【表９３】

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 31/54 ＡＣＶ Ａ６１Ｋ 31/54 ＡＣＶ Ｃ０７Ｄ 217/26 Ｃ０７Ｄ 217/26 // Ｃ０７Ｄ 401/04 ２０７ 401/04 ２０７ ２０９ ２０９ ２１１ ２１１ ２１３ ２１３ ２１５ ２１５ ２３１ ２３１ 401/06 ２１３ 401/06 ２１３ ２３３ ２３３ 401/10 ２３１ 401/10 ２３１ ２３９ ２３９ 401/12 ２０７ 401/12 ２０７ ２１３ ２１３ ２１５ ２１５ ２３３ ２３３ ２３５ ２３５ ２４１ ２４１ ２５７ ２５７ 405/04 ２１７ 405/04 ２１７ 405/06 ２１７ 405/06 ２１７ 405/12 ２１７ 405/12 ２１７ 409/12 ２１７ 409/12 ２１７ 413/04 ２１７ 413/04 ２１７ 491/056 491/056 Ｆターム(参考） 4C034 AN01 4C063 AA01 AA03 BB02 BB08 CC25 CC34 CC42 CC47 CC51 CC54 CC64 CC73 CC81 CC92 DD03 DD10 DD12 DD14 DD15 EE01 4C086 AA01 AA02 BA03 BA12 BA13 BB02 BC17 BC30 BC60 BC62 BC73 BC88 GA02 GA04 GA07 GA08 GA09 GA10 GA12 MA01 MA04 NA14 ZA36 ZA40 ZA42 ZA45 ZA59 ZA81 ZC20

Claims (33)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式〔Ｉ〕 【化１】 （式中、環Ａ及び環Ｂは同一または異なって置換もしく
   は非置換ベンゼン環、Ｒ¹は（１）水素原子、（２）置
   換もしくは非置換低級アルキル基、（３）置換もしくは
   非置換シクロ低級アルキル基、（４）置換もしくは非置
   換アリール基、（５）置換もしくは非置換複素環式基、
   または（６）モノもしくはジ置換されていてもよいアミ
   ノ基、Ｒ²は式：−ＣＯＯＲ³または式：−ＣＯＮ
   （Ｒ⁴）（Ｒ⁵）で示される基であり、Ｒ³が水素原子ま
   たはエステル残基、−Ｎ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）で示される基が
   置換もしくは非置換含窒素脂肪族複素環式基または置換
   もしくは非置換アミノ基を表す。）で示されるイソキノ
   リノン誘導体またはその薬理的に許容し得る塩を有効成
   分としてなる医薬組成物。
2. 【請求項２】 一般式〔Ｉ−Ｅ〕 【化２】 （式中、環Ａ及び環Ｂは同一または異なって置換もしく
   は非置換ベンゼン環、Ｒ¹は（１）水素原子、（２）置
   換もしくは非置換低級アルキル基、（３）置換もしくは
   非置換シクロ低級アルキル基、（４）置換もしくは非置
   換アリール基、（５）置換もしくは非置換複素環式基、
   または（６）モノもしくはジ置換されていてもよいアミ
   ノ基、Ｒ²は式：−ＣＯＯＲ³または式：−ＣＯＮ
   （Ｒ⁴）（Ｒ⁵）で示される基であり、Ｒ³が水素原子ま
   たはエステル残基、−Ｎ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）で示される基が
   置換もしくは非置換含窒素脂肪族複素環式基または置換
   もしくは非置換アミノ基を表す。但し、Ｒ¹が水素原子
   または置換もしくは非置換低級アルキル基である場合に
   は、環Ａ及び環Ｂの少なくとも一方が２個以上の低級ア
   ルコキシ基で置換されたベンゼン環である。）で示され
   るイソキノリノン誘導体またはその薬理的に許容し得る
   塩を有効成分としてなる医薬組成物。
3. 【請求項３】 エステル残基Ｒ³が低級アルキル基、ト
   リ低級アルキルシリル低級アルキル基またはアリール低
   級アルキル基であり、−Ｎ（Ｒ⁴）（Ｒ⁵）で示される基
   がヒドロキシ低級アルキル基置換ピペラジニル基、モル
   ホリノ基、ピロリジニル基、イミダゾリル基置換低級ア
   ルキルアミノ基またはモノもしくはジ低級アルキルアミ
   ノ基である請求項１または２記載の医薬組成物。
4. 【請求項４】 環Ａ及び環Ｂが、同一または異なる１〜
   ４個の置換基を有していてもよいベンゼン環であり、当
   該環Ａ及び環Ｂ上の置換基が、保護されていてもよい水
   酸基、低級アルキレンジオキシ基、ハロゲン原子、低級
   アルキル基、モノもしくはジ低級アルキルカルバモイル
   オキシ基または式：Ｒ⁶−（ＣＯ）_n−Ｏ−で示される基
   であって、Ｒ⁶は置換もしくは非置換低級アルキル基、
   置換もしくは非置換低級アルケニル基、置換もしくは非
   置換シクロ低級アルキル基、置換もしくは非置換アリー
   ル基、置換もしくは非置換アリールスルホニル基または
   置換もしくは非置換複素環式基であり、ｎは０または１
   である請求項１または２記載の医薬組成物。
5. 【請求項５】 環Ａが、同一または異なる１〜４個の置
   換基を有していてもよいベンゼン環であり、当該環Ａ上
   の置換基が、保護されていてもよい水酸基、低級アルキ
   レンジオキシ基、ハロゲン原子、低級アルキル基、モノ
   もしくはジ低級アルキルカルバモイルオキシ基または
   式：Ｒ⁶−（ＣＯ）_n−Ｏ−で示される基であって、Ｒ⁶
   は置換もしくは非置換低級アルキル基、置換もしくは非
   置換低級アルケニル基、置換もしくは非置換シクロ低級
   アルキル基、置換もしくは非置換アリール基、置換もし
   くは非置換アリールスルホニル基または置換もしくは非
   置換複素環式基であり、ｎは０または１であり、環Ｂ
   が、同一または異なる１〜４個の置換基を有していても
   よいベンゼン環であり、当該環Ｂ上の置換基が、保護さ
   れていてもよい水酸基、低級アルコキシ基、低級アルキ
   ル基、ハロゲン原子及び低級アルキレンジオキシ基から
   選ばれる基である請求項１または２記載の医薬組成物。
6. 【請求項６】 環Ａが、同一または異なる１〜４個の置
   換基を有していてもよいベンゼン環であり、当該環Ａ上
   の置換基が、保護されていてもよい水酸基、低級アルキ
   レンジオキシ基または式：Ｒ⁶−（ＣＯ）_n−Ｏ−で示さ
   れる基であって、Ｒ⁶は置換もしくは非置換低級アルキ
   ル基、置換もしくは非置換シクロ低級アルキル基、置換
   もしくは非置換アリール基または置換もしくは非置換複
   素環式基であり、ｎは０または１であり、環Ｂが、同一
   または異なる１〜４個の置換基を有していてもよいベン
   ゼン環であり、当該環Ｂ上の置換基が、保護されていて
   もよい水酸基、低級アルコキシ基、低級アルキル基及び
   ハロゲン原子から選ばれる基であり、Ｒ¹が水素原子、
   置換もしくは非置換低級アルキル基、置換もしくは非置
   換シクロ低級アルキル基、置換もしくは非置換アリール
   基、置換もしくは非置換複素環式基、またはモノもしく
   はジ置換されていてもよいアミノ基であり、Ｒ²が式：
   −ＣＯＯＲ³で示される基であり、Ｒ³が水素原子または
   低級アルキル基である請求項１または２記載の医薬組成
   物。
7. 【請求項７】 環Ａが、式： 【化３】 （式中、Ａ¹及びＡ²は、同一または異なって、水素原
   子、保護されていてもよい水酸基、ハロゲン原子、低級
   アルキル基、モノもしくはジ低級アルキルカルバモイル
   オキシ基及び式：Ｒ⁶−（ＣＯ）_n−Ｏ−で示される基か
   ら選ばれる基、またはＡ¹及びＡ²は互いに末端で結合し
   てなる低級アルキレンジオキシ基を表す。）で示される
   ベンゼン環であり、環Ｂが、式： 【化４】 （式中、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³は、同一または異なって、保
   護されていてもよい水酸基、低級アルコキシ基、低級ア
   ルキル基及びハロゲン原子から選ばれる基またはＢ¹、
   Ｂ²及びＢ³は、１つが水素であり、２つが互いに末端で
   結合してなる低級アルキレンジオキシ基を表す。）で示
   されるベンゼン環である請求項５記載の医薬組成物。
8. 【請求項８】 Ｒ⁶が、（１）水酸基置換低級アルキル
   基、低級アルキル基、オキソ基及び低級アルコキシカル
   ボニル基から選ばれる同一または異なる１〜４個の基で
   置換されていてもよい５〜１０員単環もしくは二環式複
   素環式基；低級アルキレンジオキシ基、カルボキシル
   基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシ基、
   スルファモイル基、カルバモイル基、ニトロ基、保護さ
   れていてもよいアミノ基、フェニル基、ハロゲン原子、
   モノ低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、
   低級アルキルピペラジノカルボニル基、水酸基置換低級
   アルキル基及び低級アルキル基から選ばれる同一または
   異なる１〜４個の基で置換されていてもよい６〜１０員
   単環式もしくは二環式アリール基；シアノ基；カルボキ
   シル基；モノもしくはジ低級アルキルアミノ基；低級ア
   ルコキシ基置換低級アルコキシ基；低級アルコキシ基；
   水酸基；カルバモイル基；低級アルコキシカルボニル
   基；シクロ低級アルキル基；及びベンゾイル基から選ば
   れる同一または異なる１〜２個基で置換されていてもよ
   い低級アルキル基、または（２）低級アルキル基、シア
   ノ基、カルボキシル基、モノもしくはジ低級アルキルア
   ミノ基、低級アルコキシ基置換低級アルキル基、水酸
   基、低級アルコキシ基、カルバモイル基、低級アルコキ
   シカルボニル基及びニトロ基から選ばれる同一または異
   なる１〜４個基で置換されていてもよい５〜１０員単環
   もしくは二環式複素環式基である請求項７記載の医薬組
   成物。
9. 【請求項９】 環Ａが式： 【化５】 で示されるベンゼン環であり、環Ｂが、式： 【化６】 で示されるベンゼン環である請求項７記載の医薬組成
   物。
10. 【請求項１０】 Ａ¹及びＡ²が同一または異なって、保
    護されていてもよい水酸基；低級アルキレンジオキシフ
    ェニル基、ベンズイミダゾリル基、低級アルキル基置換
    イミダゾリル基、シアノ基、カルボキシル基、ピリジル
    基、Ｎ−オキソピリジル基、水酸基置換低級アルキル基
    で置換されたピリジル基、ピロリジニル基、イソキノリ
    ル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、キナゾリル基、
    フタラジニル基、低級アルコキシカルボニル基置換ピペ
    リジル基、ピペリジル基、キノリル基、テトラゾリル
    基、チエニル基、フリル基、低級アルキル基及び低級ア
    ルコキシカルボニル基で置換されたピロリル基、モノも
    しくはジ低級アルキルアミノ基、低級アルコキシ基置換
    低級アルコキシ基、低級アルコキシ基、水酸基、カルバ
    モイル基、低級アルコキシカルボニル基、シクロ低級ア
    ルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基で置換されたフェ
    ニル基、カルボキシル基置換フェニル基、低級アルコキ
    シカルボニル基置換フェニル基、ベンゾイル基、モノも
    しくはジ低級アルコキシ基置換フェニル基、ニトロ基置
    換フェニル基、ナフチル基、モノもしくはジハロゲノフ
    ェニル基、カルバモイル基置換フェニル基、スルファモ
    イル基置換フェニル基、保護されていてもよいアミノ基
    でモノもしくはジ置換されたフェニル基、ビフェニル
    基、ハロゲン原子及びニトロ基でジ置換されたフェニル
    基、モノ低級アルキルアミノ基置換フェニル基、ジ低級
    アルキルアミノ基置換フェニル基、低級アルキルピペラ
    ジノカルボニル基置換フェニル基及び低級アルキル基置
    換フェニル基から選ばれる基で置換されていてもよい低
    級アルコキシ基；ハロゲン原子；低級アルキル基；シク
    ロ低級アルコキシ基；ピリジルオキシ基；低級アルケニ
    ルオキシ基；モルホリノカルボニルオキシ基；低級アル
    キル基置換ピペラジニルカルボニルオキシ基；低級アル
    キル基及びニトロ基で置換されたピロリルカルボニルオ
    キシ基；ピロリルカルボニルオキシ基；モノもしくはジ
    低級アルキルカルバモイルオキシ基；低級アルキル基置
    換フェニルスルホニルオキシ基；及びベンゾイルオキシ
    基から選ばれる基、又はＡ¹及びＡ²は互いに末端で結合
    してなる低級アルキレンジオキシ基である請求項７、８
    または９いずれか一項記載の医薬組成物。
11. 【請求項１１】 Ｒ¹が（１）水素原子、（２）ピペリ
    ジル基、ピリジル基、イミダゾリル基、低級アルキル基
    置換ピペリジル基、フリル基、モルホリノ基、テトラヒ
    ドロフリル基、低級アルキル基及びオキソ基で置換され
    たジヒドロピリジル基、ピペラジニル基、低級アルコキ
    シカルボニル基置換ピペラジニル基、シクロ低級アルキ
    ル基、フェニル基、低級アルキレンジオキシフェニル
    基、低級アルコキシカルボニル基、水酸基、水酸基置換
    低級アルコキシ基、カルボキシル基、低級アルコキシ
    基、保護されていてもよいアミノ基、カルバモイル基、
    ジ低級アルキルアミノ基及びピリジルカルボニルオキシ
    基から選ばれる基で置換されていてもよい低級アルキル
    基、（３）低級アルコキシカルボニル基、水酸基、カル
    ボキシル基、低級アルキル基、低級アルコキシル基、水
    酸基置換低級アルキル基及び保護されていてもよいアミ
    ノ基から選ばれる基で置換されていてもよいシクロ低級
    アルキル基、（４）ハロゲン原子、モノもしくはジ低級
    アルキルアミノ基、モルホリノ基、低級アルキル基置換
    ピリミジニル基、低級アルキル基置換ピラゾリル基、水
    酸基置換低級アルキル基、保護されていてもよいアミノ
    基、低級アルカノイル基置換アミノ基、低級アルコキシ
    基、低級アルキル基、保護されていてもよい水酸基、カ
    ルボキシル基置換低級アルキル基、低級アルコキシカル
    ボニル基置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニ
    ル基置換低級アルコキシ基、カルバモイル基、カルボキ
    シル基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシカルボニ
    ル基、ニトロ基、トリハロゲノ低級アルキル基、モルホ
    リノカルボニル基、カルボキシル基置換低級アルコキシ
    基、ジ（低級アルキルスルホニル）アミノ基、モルホリ
    ノ低級アルキルカルバモイル基置換低級アルコキシ基、
    スルファモイル基、保護されていてもよいアミノ基で置
    換された低級アルキル基、低級アルキル基及びアミノ基
    の保護基で置換されたアミノ基、低級アルキレンジオキ
    シ基、保護されていてもよいアミノ基で置換されたカル
    バモイル基、低級アルキルスルフィニル基及び低級アル
    キルスルホニル基から選ばれる基で置換されていてもよ
    く、かつ一部が飽和していてもよい単環、二環もしくは
    三環式の６〜１４員アリール基、（５）水酸基、ハロゲ
    ン原子、低級アルキル基、フェニル基置換低級アルキル
    基、水酸基置換低級アルキル基、オキソ基、低級アルコ
    キシ基、保護されていてもよいアミノ基、モノもしくは
    ジ低級アルキルアミノ基、フェニル低級アルコキシカル
    ボニル基、低級アルコキシカルボニル基、カルボキシル
    基及びカルバモイル基から選ばれる基で置換されていて
    もよく、かつ一部が飽和していてもよい単環もしくは二
    環式の５〜１２員複素環式基、（６）アミノ基の保護
    基、ピリジル基、低級アルカノイル基、低級アルキル
    基、水酸基置換低級アルキル基、フェニル基、低級アル
    カノイルオキシ基置換低級アルキル基及びトリハロゲノ
    低級アルカノイル基から選ばれる基でモノもしくはジ置
    換されていてもよいアミノ基である請求項１０記載の医
    薬組成物。
12. 【請求項１２】 単環、二環もしくは三環式の６〜１４
    員アリール基がフェニル基、インダニル基、フルオレニ
    ル基またはナフチル基であり、単環もしくは二環式の５
    〜１２員複素環式基がピペラジニル基、ピラニル基、モ
    ルホリノ基、インダゾリル基、ピロリジニル基、インド
    リル基、ベンゾトリアゾリル基、ピラジニル基、ピリジ
    ル基、チオモルホリノ基、ピロリル基、キノリル基、イ
    ソキノリル基、フタラジニル基、イソオキサゾリル基ま
    たはピペリジル基である請求項１１記載の医薬組成物。
13. 【請求項１３】 Ａ¹及びＡ²が、同一または異なって、
    保護された水酸基、低級アルコキシ基、ピリジル低級ア
    ルコキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基置換ピリジル低
    級アルコキシ基、Ｎ−オキソピリジル低級アルコキシ
    基、ピラジニル低級アルコキシ基、キノリル低級アルコ
    キシ基、アミノ基置換フェニル基で置換された低級アル
    コキシ基、モノもしくはジ低級アルキルアミノ基置換フ
    ェニル基で置換された低級アルコキシ基、低級アルコキ
    シ基置換フェニル基で置換された低級アルコキシ基、ヒ
    ドロキシ低級アルキル基置換フェニル基で置換された低
    級アルコキシ基、カルボキシル基置換フェニル基で置換
    された低級アルコキシ基及びイソキノリル低級アルコキ
    シ基から選ばれる基であり、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³が、同一
    または異なって、ハロゲン原子、低級アルキル基及び低
    級アルコキシ基から選ばれる基であり、Ｒ¹が、保護さ
    れていてもよいアミノ基で置換されていてもよいフェニ
    ル基、保護されていてもよいアミノ基で置換されていて
    もよいピリジル基及びモルホリノ基から選ばれる基であ
    り、Ｒ²が低級アルコキシカルボニル基またはフェニル
    低級アルコキシカルボニル基である請求項９記載の医薬
    組成物。
14. 【請求項１４】 Ａ¹がフェニル基、ベンズイミダゾリ
    ル基、ピリジル基、水酸基置換低級アルキル基で置換さ
    れたピリジル基、水酸基置換低級アルキル基で置換され
    たフェニル基、イソキノリル基、ピラジニル基、キノリ
    ル基、フリル基、カルボキシル基置換フェニル基、モノ
    もしくはジ低級アルコキシ基置換フェニル基、ニトロ基
    置換フェニル基、保護されていてもよいアミノ基でモノ
    もしくはジ置換されたフェニル基、低級アルキルアミノ
    基で置換されたフェニル基、低級アルコキシカルボニル
    基置換フェニル基、モノもしくはジ低級アルキルカルバ
    モイル基置換フェニル基、（４−低級アルキルピペラジ
    ニル）カルボニル基置換フェニル基およびＮ−オキソピ
    リジル基から選ばれる基で置換されていてもよい低級ア
    ルコキシ基であり、Ａ²が低級アルコキシ基であり、
    Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³が同一または異なって、ハロゲン原
    子、低級アルキル基および低級アルコキシ基から選ばれ
    る基であり、Ｒ¹が保護されていてもよいアミノ基で置
    換されたフェニル基、モルホリノ基またはチオモルホリ
    ノ基であり、Ｒ²が低級アルコキシカルボニル基である
    請求項９記載の医薬組成物。
15. 【請求項１５】 環Ａが、式： 【化７】 で示されるベンゼン環であり、環Ｂが、式： 【化８】 で示されるベンゼン環である請求項７記載の医薬組成
    物。
16. 【請求項１６】 Ｒ⁶が、（１）低級アルキル基及び低
    級アルコキシカルボニル基から選ばれる基で置換されて
    いてもよいピロリル基；ヒドロキシ低級アルキルで置換
    されていてもよいピリジル基；Ｎ−オキソピリジル基；
    ピラジニル基；ピペラジニル基；チエニル基；カルボキ
    シル基、低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、アミ
    ノ基、モノもしくはジ低級アルキルアミノ基、フェニル
    基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基、水酸基置換低級
    アルキル基及び低級アルキル基から選ばれる同一又は異
    なる１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル基；
    ナフチル基；キノリル基；イソキノリル基；ベンズイミ
    ダゾリル基；及びシクロ低級アルキル基から選ばれる基
    で置換されていてもよい低級アルキル基、または（２）
    低級アルキル基及びニトロ基から選ばれる基で置換され
    ていてもよいピロリル基であり、Ａ²が、水素原子また
    は低級アルコキシ基であり、Ｒ¹がフェニル基、保護さ
    れていてもよいアミノ基で置換されたフェニル基及びモ
    ルホリノ基から選ばれる基であり、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ
    ³が、同一又は異なって、ハロゲン原子、低級アルコキ
    シ基及び低級アルキル基から選ばれる基であり、ｎが０
    または１である請求項１５記載の医薬組成物。
17. 【請求項１７】 Ａ¹がフェニル基、ベンズイミダゾリ
    ル基、ピリジル基、水酸基置換低級アルキル基で置換さ
    れたピリジル基、水酸基置換低級アルキル基で置換され
    たフェニル基、イソキノリル基、ピラジニル基、キノリ
    ル基、フリル基、カルボキシル基置換フェニル基、モノ
    もしくはジ低級アルコキシ基置換フェニル基、ニトロ基
    置換フェニル基、保護されていてもよいアミノ基でモノ
    もしくはジ置換されたフェニル基、低級アルキルアミノ
    基で置換されたフェニル基、低級アルコキシカルボニル
    基置換フェニル基、モノもしくはジ低級アルキルカルバ
    モイル基置換フェニル基、（４−低級アルキルピペラジ
    ニル）カルボニル基置換フェニル基およびＮ−オキソピ
    リジル基から選ばれる基で置換されていてもよい低級ア
    ルコキシ基であり、Ａ²が水素原子又は低級アルコキシ
    基であり、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³が同一または異なって、ハ
    ロゲン原子、低級アルキル基および低級アルコキシ基か
    ら選ばれる基であり、Ｒ¹が保護されていてもよいアミ
    ノ基で置換されたフェニル基、モルホリノ基またはチオ
    モルホリノ基であり、Ｒ²が低級アルコキシカルボニル
    基であり、ｎが０または１である請求項１５記載の医薬
    組成物。
18. 【請求項１８】 環Ａが、式： 【化９】 で示されるベンゼン環であり、環Ｂが、式： 【化１０】 で示されるベンゼン環であり、Ａ¹が、保護されていて
    もよい水酸基またはピリジル基、ヒドロキシ低級アルキ
    ル基置換ピリジル基、Ｎ−オキソピリジル基、ピラジニ
    ル基、アミノ基置換フェニル基、モノもしくはジ低級ア
    ルキルアミノ基置換フェニル基、低級アルコキシ基置換
    フェニル基、ヒドロキシ低級アルキル基置換フェニル
    基、イソキノリル基およびキノリル基から選ばれる基で
    置換されていてもよい低級アルコキシ基であり、Ｂ¹、
    Ｂ²及びＢ³が、同一または異なって、ハロゲン原子、低
    級アルキル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基であ
    り、Ｒ¹が、保護されていてもよいアミノ基で置換され
    ていてもよいフェニル基である請求項７記載の医薬組成
    物。
19. 【請求項１９】 Ｒ²が低級アルコキシカルボニル基で
    ある請求項１６または１８記載の医薬組成物。
20. 【請求項２０】 一般式〔Ｉ−Ａ〕 【化１１】 （式中、環Ａおよび環Ｂは同一または異なって、置換も
    しくは非置換ベンゼン環、Ｒ^1Aは置換もしくは非置換ア
    リール基または置換もしくは非置換複素環式基、Ｒ³は
    水素原子またはエステル残基を表す。）で示されるイソ
    キノリノン誘導体またはその薬理的に許容し得る塩を有
    効成分としてなる医薬組成物。
21. 【請求項２１】 環Ａおよび環Ｂが１〜４個の置換基を
    有していてもよいベンゼン環であって、当該置換基は
    （ｉ）水酸基；（ｉｉ）ハロゲン原子；（ｉｉｉ）低級
    アルキル基；（ｉｖ）シクロ低級アルコキシ基；（ｖ）
    低級アルキレンジオキシ基；（ｖｉ）低級アルコキシ
    基；（ｖｉｉ）ニトロ基、ハロゲン原子、フェニル基、
    カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、低級ア
    ルキル基、低級アルコキシ基、アミノ基、モノもしくは
    ジ低級アルキルアミノ基および水酸基置換低級アルキル
    基からなる群より選ばれる１〜３個の置換基を有してい
    てもよいフェニル基、水酸基、ベンゾイル基、低級アル
    コキシカルボニル基、カルボキシル基、モノもしくはジ
    低級アルキルアミノ基、低級アルコキシ置換低級アルキ
    ル基、低級アルコキシ基およびナフチル基からなる群よ
    り選ばれる基で置換された低級アルコキシ基；および
    （ｖｉｉｉ）窒素原子、酸素原子および硫黄原子よりな
    る群より選ばれる１〜４個の異項原子を有する５〜１０
    員複素環式基置換低級アルコキシ基（当該複素環式基は
    カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、低級ア
    ルキル基、水酸基置換低級アルキル基、ニトロ基および
    オキソ基からなる群より選ばれる１〜３個の置換基を有
    していてもよい）、Ｒ^1Aが保護されていてもよいアミノ
    基、ハロゲン原子、モノもしくはジ低級アルキルアミノ
    基、モルホリノ基、低級アルキル基置換ピリミジニル
    基、低級アルキル基置換ピラゾリル基、水酸基置換低級
    アルキル基、低級アルカノイル基置換アミノ基、低級ア
    ルコキシ基、低級アルキル基、保護されていてもよい水
    酸基、カルボキシル基置換低級アルキル基、低級アルコ
    キシカルボニル置換低級アルキル基、低級アルコキシカ
    ルボニル置換低級アルコキシ基、カルバモイル基、カル
    ボキシル基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシカル
    ボニル基、ニトロ基、トリハロゲノ低級アルキル基、モ
    ルホリノカルボニル基、カルボキシル基置換低級アルコ
    キシ基、ジ（低級アルキルスルホニル）アミノ基、モル
    ホリノ低級アルキルカルバモイル基置換低級アルコキシ
    基、低級アルキル基およびアミノ基の保護基で置換され
    たアミノ基、低級アルキレンジオキシ基、保護されてい
    てもよいアミノ基で置換されたカルバモイル基、低級ア
    ルキルスルフィニル基および低級アルキルスルホニル基
    からなる群より選ばれる１〜４個の置換基を有していて
    もよいフェニル基；または窒素原子、酸素原子および硫
    黄原子よりなる群より選ばれる１〜４個の異項原子を有
    する５〜１０員複素環式基（当該複素環式基は水酸基、
    ハロゲン原子、低級アルキル基、フェニル置換低級アル
    キル基、水酸基置換低級アルキル基、オキソ基、低級ア
    ルコキシ基、保護されていてもよいアミノ基、モノもし
    くはジ低級アルキルアミノ基、フェニル置換低級アルコ
    キシカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、カル
    ボキシル基およびカルバモイル基からなる群より選ばれ
    る１〜４個の置換基を有していてもよい）、およびＲ³
    が水素原子または低級アルキル基である請求項２０記載
    の医薬組成物。
22. 【請求項２２】 一般式〔Ｉ−Ｂ〕 【化１２】 （式中、環Ａ₂及び環Ｂ₂は、同一または異なる１〜４個
    の置換基を有していてもよいベンゼン環であり、当該環
    Ａ₂及び環Ｂ₂上の置換基が、ホルミル基で保護されてい
    てもよい水酸基、低級アルキレンジオキシ基、ハロゲン
    原子、低級アルキル基、モノもしくはジ低級アルキルカ
    ルバモイルオキシ基又は式：Ｒ^6B−（ＣＯ）ｎ−Ｏ−で
    示される基〔Ｒ^6Bは、（１）水酸基置換低級アルキル
    基、低級アルキル基、オキソ基及び低級アルコキシカル
    ボニル基から選ばれる同一または異なる１〜４個の基で
    置換されていてもよい複素環式基であって、当該複素環
    部分が、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、
    ピペリジル基、ピペラジニル基、ピロリジニル基、イソ
    キノリル基、キノリル基、テトラゾリル基、チエニル
    基、フリル基、モルホリノ基、ピロリル基、ベンズイミ
    ダゾリル基、イミダゾリル基、キナゾリニル基及びフタ
    ラジニル基から選ばれる基である複素環式基；フェニル
    基又はナフチル基（これらの基は、ベンジルオキシカル
    ボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、
    ９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ
    −ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエチ
    ルオキシカルボニル基及び低級アルカノイル基から選ば
    れる基で保護されていてもよいアミノ基、低級アルキレ
    ンジオキシ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボ
    ニル基、低級アルコキシ基、スルファモイル基、カルバ
    モイル基、ニトロ基、フェニル基、ハロゲン原子、モノ
    低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基、低級
    アルキルピペラジノカルボニル基、水酸基置換低級アル
    キル基並びに低級アルキル基から選ばれる同一または異
    なる１〜４個の基で置換されていてもよい）；シアノ
    基；カルボキシル基；モノもしくはジ低級アルキルアミ
    ノ基；低級アルコキシ基置換低級アルコキシ基；低級ア
    ルコキシ基；水酸基；カルバモイル基；低級アルコキシ
    カルボニル基；シクロ低級アルキル基；及びベンゾイル
    基から選ばれる同一または異なる１〜２個の基で置換さ
    れていてもよい低級アルキル基、（２）低級アルキル
    基、シアノ基、カルボキシル基、モノもしくはジ低級ア
    ルキルアミノ基、低級アルコキシ基置換低級アルキル
    基、水酸基、低級アルコキシ基、カルバモイル基、低級
    アルコキシカルボニル基及びニトロ基から選ばれる同一
    または異なる１〜４個の基で置換されていてもよい複素
    環式基であって、当該複素環部分が、ピリジル基、ピリ
    ミジニル基、ピラジニル基、ピペリジル基、ピペラジニ
    ル基、ピロリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、
    テトラゾリル基、チエニル基、フリル基、モルホリノ
    基、ピロリル基、ベンズイミダゾリル基、イミダゾリル
    基、キナゾリニル基及びフタラジニル基から選ばれる基
    である複素環式基；（３）シクロ低級アルキル基；
    （４）低級アルケニル基；或いは（５）低級アルキル基
    置換フェニルスルホニル基、ｎは０または１〕、Ｒ^1Bは
    （ｉ）水素原子、（ｉｉ）ピペリジル基；ピリジル基；
    イミダゾリル基；低級アルキル基置換ピペリジル基；フ
    リル基；モルホリノ基；テトラヒドロフリル基；低級ア
    ルキル基及びオキソ基で置換されたジヒドロピリジル
    基；ピペラジニル基；低級アルコキシカルボニル基置換
    ピペラジニル基；シクロ低級アルキル基；フェニル基；
    低級アルキレンジオキシフェニル基；低級アルコキシカ
    ルボニル基；水酸基；水酸基置換低級アルコキシ基；カ
    ルボキシル基；低級アルコキシ基；ベンジルオキシカル
    ボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、
    ９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ
    −ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエチ
    ルオキシカルボニル基又は低級アルカノイル基で保護さ
    れていてもよいアミノ基；カルバモイル基；ジ低級アル
    キルアミノ基；及びピリジルカルボニルオキシ基から選
    ばれる同一または異なる１〜３個の基で置換されていて
    よい低級アルキル基、（ｉｉｉ）ベンジルオキシカルボ
    ニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、９
    −フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−
    ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエチル
    オキシカルボニル基又は低級アルカノイル基で保護され
    ていてもよいアミノ基；低級アルコキシカルボニル基；
    水酸基；カルボキシル基；低級アルキル基；低級アルコ
    キシ基；及び水酸基置換低級アルキル基から選ばれる同
    一または異なる１〜３個の基で置換されていてもよいシ
    クロ低級アルキル基、（ｉｖ）ハロゲン原子；モノもし
    くはジ低級アルキルアミノ基；モルホリノ基；低級アル
    キル基置換ピリミジニル基；低級アルキル基置換ピラゾ
    リル基；水酸基置換低級アルキル基；ベンジルオキシカ
    ルボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル
    基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅ
    ｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロ
    エチルオキシカルボニル基又は低級アルカノイル基で保
    護されていてもよいアミノ基；低級アルカノイル基置換
    アミノ基；低級アルコキシ基；低級アルキル基；ベンジ
    ル基、フェネチル基、ホルミル基、アセチル基、プロピ
    オニル基、マロニル基、アクリロイル基又はベンゾイル
    基で保護されていてもよい水酸基；カルボキシル基置換
    低級アルキル基；低級アルコキシカルボニル基置換低級
    アルキル基；低級アルコキシカルボニル基置換低級アル
    コキシ基；カルバモイル基；カルボキシル基；低級アル
    キルチオ基；低級アルコキシカルボニル基；ニトロ基；
    トリハロゲノ低級アルキル基；モルホリノカルボニル
    基；カルボキシル基置換低級アルコキシ基；ジ（低級ア
    ルキルスルホニル）アミノ基；モルホリノ低級アルキル
    カルバモイル基置換低級アルコキシ基；スルファモイル
    基；ベンジルオキシカルボニル基、４−メトキシベンジ
    ルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシ
    カルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、２，
    ２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル基又は低級
    アルカノイル基で保護されていてもよいアミノ基で置換
    された低級アルキル基；ベンジルオキシカルボニル基、
    ４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、９−フルオ
    レニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシ
    カルボニル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカ
    ルボニル基及び低級アルカノイル基から選ばれるいずれ
    か１つの保護基、及び低級アルキル基で置換されたアミ
    ノ基；低級アルキレンジオキシ基；ベンジルオキシカル
    ボニル基、４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、
    ９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ
    −ブトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエチ
    ルオキシカルボニル基又は低級アルカノイル基で保護さ
    れていてもよいアミノ基で置換されたカルバモイル基；
    低級アルキルスルフィニル基；及び低級アルキルスルホ
    ニル基から選ばれる同一または異なる１〜４個の基で置
    換されていてもよいフェニル基又はナフチル基、（ｖ）
    水酸基；ハロゲン原子；低級アルキル基；フェニル基置
    換低級アルキル基；水酸基置換低級アルキル基；オキソ
    基；低級アルコキシ基；ベンジルオキシカルボニル基、
    ４−メトキシベンジルオキシカルボニル基、９−フルオ
    レニルメチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシ
    カルボニル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカ
    ルボニル基又は低級アルカノイル基で保護されていても
    よいアミノ基；モノもしくはジ低級アルキルアミノ基；
    フェニル低級アルコキシカルボニル基；低級アルコキシ
    カルボニル基；カルボキシル基；及びカルバモイル基か
    ら選ばれる同一または異なる１〜４個の基で置換されて
    いてもよい５〜１２員複素単環式基もしくは二環式基、
    または（ｖｉ）ベンジルオキシカルボニル基、４−メト
    キシベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメ
    チルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
    ル基、２，２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル
    基、ピリジル基、低級アルカノイル基、低級アルキル
    基、水酸基置換低級アルキル基、フェニル基、低級アル
    カノイルオキシ基置換低級アルキル基又はトリハロゲノ
    低級アルカノイル基から選ばれる同一または異なる基で
    モノもしくはジ置換されていてもよいアミノ基、Ｒ^2Bは
    式：−ＣＯＯＲ^3Bまたは式：−ＣＯＮ（Ｒ^4B）（Ｒ^5B）
    で示される基であり、Ｒ^3Bが水素原子、低級アルキル
    基、トリ低級アルキルシリル低級アルキル基またはフェ
    ニル低級アルキル基、−Ｎ（Ｒ^4B）（Ｒ^5B）で示される
    基がヒドロキシ低級アルキル基置換ピペラジニル基、モ
    ルホリノ基、ピロリジニル基、イミダゾリル基置換低級
    アルキルアミノ基、モノもしくはジ低級アルキルアミノ
    基を表す。但し、Ｒ^1Bが水素原子または上記（ｉｉｉ）
    で定義される置換基で置換されていてもよい低級アルキ
    ル基である場合には、環Ａ₂及び環Ｂ₂の少なくとも一方
    が２個以上の低級アルコキシ基で置換されたベンゼン環
    である。）で示されるイソキノリノン誘導体またはその
    薬理的に許容し得る塩を有効成分としてなる医薬組成
    物。
23. 【請求項２３】 ６−メトキシ−３−メトキシカルボニ
    ル−２−モルホリノ−７−（４−ピリジルメチルオキ
    シ）−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
    （２Ｈ）−イソキノリノン、 ６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−モルホリ
    ノ−７−（３−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，
    ４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
    ノリノン、 ６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−モルホリ
    ノ−７−（２−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，
    ４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
    ノリノン、 ６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−フェニル
    −４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−７−
    （４−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキノ
    リノン、 ６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−フェニル
    −４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−７−
    （３−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキノ
    リノンもしくは、 ６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−２−フェニル
    −４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−７−
    （２−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソキノ
    リノン、またはそれらの薬理的に許容しうる塩を有効成
    分としてなる医薬組成物。
24. 【請求項２４】 ２−（４−アミノフェニル）−６−メ
    トキシ−３−メトキシカルボニル−７−（２−ピリジル
    メチルオキシ）−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
    ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−７−（３−アミノベンジ
    ルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカルボニル−
    ４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
    Ｈ）−イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−６−メトキシ−３−メト
    キシカルボニル−７−（４−ピリジルメチルオキシ）−
    ４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
    Ｈ）−イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−７−（２−ベンズイミダ
    ゾリルメチルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカ
    ルボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）
    −１（２Ｈ）−イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−７−（３，５−ジアミノ
    ベンジルオキシ）−６−メトキシ−３−メトキシカルボ
    ニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１
    （２Ｈ）−イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，
    ５−ジメトキシフェニル）−６−メトキシ−３−メトキ
    シカルボニル−７−（２−ピリジルメチルオキシ）−１
    （２Ｈ）−イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，
    ５−ジメトキシフェニル）−６−メトキシ−３−メトキ
    シカルボニル−７−（３−ピリジルメチルオキシ）−１
    （２Ｈ）−イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，
    ５−ジメトキシフェニル）−６−メトキシ−３−メトキ
    シカルボニル−７−（４−ピリジルメチルオキシ）−１
    （２Ｈ）−イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
    −７−（２−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，
    ５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
    ノン、 ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
    −７−（３−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，
    ５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
    ノン、 ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
    −７−（４−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，
    ５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
    ノン、 ２−（４−アミノフェニル）−７−（２，５−ジメトキ
    シベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−４−
    （３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
    イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−７−（３，５−ジメトキ
    シベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−４−
    （３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
    イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，
    ５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
    ７−（２−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
    キノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，
    ５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
    ７−（３−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
    キノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−ブロモ−３，
    ５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
    ７−（４−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
    キノリノン、 ７−（３−アミノベンジルオキシ）−２−（４−アミノ
    フェニル）−４−（４−ブロモ−３，５−ジメトキシフ
    ェニル）−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）−イソ
    キノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−クロロ−３，
    ５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
    ７−（２−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
    キノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−クロロ−３，
    ５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
    ７−（３−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
    キノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−７−（３−ジメチルアミ
    ノベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−４−
    （３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
    イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
    −７−ピラジニルメチルオキシ−４−（３，４，５−ト
    リメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−クロロ−３，
    ５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
    ７−（４−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
    キノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−７−（３，５−ジアミノ
    ベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−４−
    （３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
    イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−７−（６−ヒドロキシメ
    チル−２−ピリジルメチルオキシ）−３−メトキシカル
    ボニル−４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−
    １（２Ｈ）−イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−７−（４−カルボキシベ
    ンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−４−（３，
    ４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
    ノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−７−（３−カルボキシベ
    ンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−４−（３，
    ４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
    ノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
    −７−［４−（４−メチルピペラジニルカルボニル）ベ
    ンジルオキシ］−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
    ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
    −７−［３−（４−メチルピペラジニルカルボニル）ベ
    ンジルオキシ］−４−（３，４，５−トリメトキシフェ
    ニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
    −７−（３−メチルアミノベンジルオキシ）−４−
    （３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
    イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−７−（２−ヒドロキシメ
    チルベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−４−
    （３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−
    イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
    −７−（Ｎ−オキソ−２−ピリジルメチルオキシ）−４
    −（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）
    −イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
    −８−（２−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，
    ５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
    ノン、 ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
    −８−（３−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，
    ５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
    ノン、 ２−（４−アミノフェニル）−３−メトキシカルボニル
    −８−（４−ピリジルメチルオキシ）−４−（３，４，
    ５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリ
    ノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−クロロ−３，
    ５−ジメトキシフェニル）−７−（６−ヒドロキシメチ
    ル−２−ピリジルメチルオキシ）−３−メトキシカルボ
    ニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（４−クロロ−３，
    ５−ジメトキシフェニル）−３−メトキシカルボニル−
    ７−ピラジニルメチルオキシ−１（２Ｈ）−イソキノリ
    ノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
    シ−４−メチルフェニル）−３−メトキシカルボニル−
    ７−（４−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
    キノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
    シ−４−メチルフェニル）−３−メトキシカルボニル−
    ７−（３−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
    キノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
    シ−４−メチルフェニル）−３−メトキシカルボニル−
    ７−（２−ピリジルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イソ
    キノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−７−（３，５−ジアミノ
    ベンジルオキシ）−４−（３，５−ジメトキシ−４−メ
    チルフェニル）−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）
    −イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
    シ−４−メチルフェニル）−７−（６−ヒドロキシメチ
    ル−２−ピリジルメチルオキシ）−３−メトキシカルボ
    ニル−１（２Ｈ）−イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
    シ−４−メチルフェニル）−７−（３−メチルアミノベ
    ンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−１（２Ｈ）
    −イソキノリノン、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
    シ−４−メチルフェニル）−７−（２−ヒドロキシメチ
    ルベンジルオキシ）−３−メトキシカルボニル−１（２
    Ｈ）−イソキノリノンもしくは、 ２−（４−アミノフェニル）−４−（３，５−ジメトキ
    シ−４−メチルフェニル）−３−メトキシカルボニル−
    ７−（２−ピラジニルメチルオキシ）−１（２Ｈ）−イ
    ソキノリノン、またはそれらの薬理的に許容しうる塩を
    有効成分としてなる医薬組成物。
25. 【請求項２５】 ２−（４−アミノフェニル）−６，７
    −ジメトキシ−３−メトキシカルボニル−４−（３，
    ４，５−トリメトキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキ
    ノリノンまたはそれらの薬理的に許容しうる塩を有効成
    分としてなる医薬組成物。
26. 【請求項２６】 ６，７−ジメトキシ−３−メトキシカ
    ルボニル−２−モルホリノ−４−（３，４，５−トリメ
    トキシフェニル）−１（２Ｈ）−イソキノリノンまたは
    それらの薬理的に許容しうる塩を有効成分としてなる医
    薬組成物。
27. 【請求項２７】 ２−（４−アミノフェニル）−３−メ
    トキシカルボニル−７−（２−ピリジルメチルオキシ）
    −４−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−１（２
    Ｈ）−イソキノリノンまたはそれらの薬理的に許容しう
    る塩を有効成分としてなる医薬組成物。
28. 【請求項２８】 ＰＤＥ Ｖ阻害薬である請求項１〜２
    ７記載の医薬組成物。
29. 【請求項２９】 慢性心不全、狭心症、陰茎勃起不全、
    高血圧症、肺高血圧症、動脈硬化症又はＰＴＣＡ後再狭
    窄の予防・治療剤である請求項１〜２７記載の医薬組成
    物。
30. 【請求項３０】 Ａ¹がフェニル基、ピリジル基および
    水酸基置換低級アルキル基で置換されたピリジル基から
    選ばれる基で置換されていてもよい低級アルコキシ基で
    あり、Ａ²が低級アルコキシ基であり、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³
    が同一または異なって、ハロゲン原子、低級アルキル基
    および低級アルコキシ基から選ばれる基であり、Ｒ¹が
    保護されていてもよいアミノ基で置換されたフェニル
    基、モルホリノ基またはチオモルホリノ基であり、Ｒ²
    が低級アルコキシカルボニル基であり、狭心症又は高血
    圧症の予防・治療剤である請求項９記載の医薬組成物。
31. 【請求項３１】 Ａ¹がピリジル基、水酸基置換低級ア
    ルキル基で置換されたピリジル基およびピラジニル基か
    ら選ばれる基で置換されていてもよい低級アルコキシ基
    であり、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³が同一または異なって、ハロ
    ゲン原子、低級アルキル基および低級アルコキシ基から
    選ばれる基であり、Ｒ¹が保護されていてもよいアミノ
    基で置換されたフェニル基であり、Ｒ²が低級アルコキ
    シカルボニル基であり、陰茎勃起不全予防・治療剤であ
    る請求項１８記載の医薬組成物。
32. 【請求項３２】 Ａ¹が低級アルコキシ基で置換されて
    いてもよいフェニル基、ピリジル基、水酸基置換低級ア
    ルキル基で置換されたピリジル基または保護されていて
    もよいアミノ基で置換されていてもよいフェニル基から
    選ばれる基で置換されていてもよい低級アルコキシ基で
    あり、Ａ²が低級アルコキシ基であり、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³
    が同一または異なって、ハロゲン原子、低級アルキル基
    及び低級アルコキシ基から選ばれる基であり、Ｒ¹が保
    護されていてもよいアミノ基で置換されたフェニル基、
    モルホリノ基およびチオモルホリノ基から選ばれる基で
    あり、Ｒ²が低級アルコキシカルボニル基であり、慢性
    心不全又は肺高血圧症の予防・治療剤である請求項９記
    載の医薬組成物。
33. 【請求項３３】 Ａ¹およびＡ²が低級アルコキシ基であ
    り、Ｂ¹、Ｂ²及びＢ³が同一または異なって、低級アル
    コキシ基であり、Ｒ¹がフェニル基または低級アルキル
    基であり、Ｒ²が低級アルコキシカルボニル基であり、
    動脈硬化症又はＰＴＣＡ後再狭窄の予防・治療剤である
    請求項９記載の医薬組成物。