JP2000071692A - 転写シート及びそれを用いた化粧板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ベースフィルム１上に紫外線硬化樹脂からな
る転写層２が設けられ、ベースフィルム１側から紫外線
が照射されて転写層２が硬化しクリヤ層となる転写シー
トにおいて、耐温水試験や耐熱水試験におけるブリスタ
ー等の発生を低減させることができる転写シート及びそ
れを用いた化粧板の製造方法を得る。 【解決手段】 ベースフィルム１として、ヘイズ値が５
以上であるフィルムを用いることを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線硬化樹脂か
らなる転写層を備える転写シート及びそれを用いた化粧
板の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】住宅やビルディングなどの建築物の内装
材及び外装材として、近年、タイルやパネルなどの化粧
板が多用されてきている。

【０００３】このような化粧板においては、表面に光沢
性を付与し、かつ耐久性や耐傷つき性などを付与するた
めに、硬化性樹脂からなるクリヤ層が形成される場合が
多い。このようなクリヤ層は、塗料を塗布することによ
って形成することができるが、紫外線硬化樹脂などから
クリヤ層を形成する場合には転写シートを用いて転写に
より形成する場合が多い。このような転写シートは、一
般にベースフィルム上に紫外線硬化樹脂などからなる転
写層が設けられ、この転写層の上に保護フィルムが設け
られた構造を有している。

【０００４】転写シートを用いて化粧板の表面にクリヤ
層を形成する際には、保護フィルムを剥離し、転写層が
化粧板の上に重なるようにベースフィルムと共に化粧板
の上に熱圧着した後、紫外線を照射して転写層を硬化さ
せクリヤ層とする。ベースフィルムは、クリヤ層を形成
した後、クリヤ層から剥離して除去される。ベースフィ
ルムとしてはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フ
ィルム等が一般的に用いられ、保護フィルムとしては扱
いやすさ及びコスト面から低密度ポリエチレン（ＬＤＰ
Ｅ）等が一般的に用いられている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、浴室や台所
等に用いられる化粧板は、温水や熱水にさらされる場合
があり、温水や熱水に対して変化しないことが要求され
る。しかしながら、従来の転写シートを用いて化粧板の
表面にクリヤ層を形成した場合、耐温水試験や耐熱水試
験において、ブリスターなどと呼ばれるスポット状の微
小な膨れやへこみを生じることがあった。従って、従来
より、このようなブリスター等の発生を低減させること
のできるクリヤ層の形成方法が強く求められている。

【０００６】本発明の目的は、耐温水試験や耐熱水試験
におけるブリスター等の発生を低減することができる転
写シート及びそれを用いた化粧板の製造方法を提供する
ことにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の転写シートは、
（１）ベースフィルム上に紫外線硬化樹脂からなる転写
層が設けられ、該転写層を硬化させるためベースフィル
ム側から紫外線が照射される転写シートにおいて、前記
ベースフィルムとして、ヘイズ値が５以上であるフィル
ムを用いることを特徴とする転写シートであり、（２）
前記ベースフィルムの３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長に
おける光線透過率が５０％以上であることを特徴とする
（１）に記載の転写シートであり、（３）前記ベースフ
ィルムの紫外線入射側の面に凹凸が形成されていること
を特徴とする（１）または（２）に記載の転写シートで
あり、（４）前記凹凸面がブラスト処理により形成され
ていることを特徴とする（３）に記載の転写シートであ
り、（５）前記凹凸面がフィルム成形の際のマット加工
により形成されていることを特徴とする（３）に記載の
転写シートであり、（６）前記ベースフィルムの転写層
側の面がフラットな面であることを特徴とする（３）〜
（５）のいずれかに記載の転写シートであり、（７）前
記ベースフィルム中にフィルムを形成する樹脂よりも屈
折率の高い粒子が分散して含有されていることを特徴と
する（１）または（２）に記載の転写シートであり、
（８）前記ベースフィルム中に艶消し塗膜層が設けられ
ていることを特徴とする（１）または（２）に記載の転
写シートである。また本発明の転写シートを用いた化粧
板の製造方法は、（９）表面にクリヤ層を有する化粧板
を製造する方法であって、（１）〜（８）のいずれかに
記載の転写シートを、転写層が化粧板の上に重なるよう
に圧着する工程と、ベースフィルムを通して紫外線を転
写層に照射し転写層を重合し硬化させてクリヤ層を形成
する工程と、硬化させることによりクリヤ層とした転写
層からベースフィルムを剥離する工程とを備える化粧板
の製造方法である。

【０００８】具体的な内容は以下の通りである。本発明
において用いられるベースフィルムは、上記のようにヘ
イズ値が５以上のフィルムである。ヘイズ値は、濁度ま
たは曇度とも呼ばれ、積分球式光線透過率測定装置を用
いて、拡散透過率及び全光線透過率を測定し、以下の式
により計算することによって求めることができる。

【０００９】Ｈ＝Ｔｄ／Ｔｉ×１００ （ここで、Ｈはヘイズ値（％）であり、Ｔｄは拡散透過
率（％）であり、Ｔｉは全光線透過率（％）である。） 本発明においてベースフィルムとして用いるフィルムの
ヘイズ値は５以上であり、さらに好ましくは１０以上で
ある。ヘイズ値が低くなり過ぎると、紫外線を散乱する
効果が少なくなり、ブリスター発生の抑制が不十分とな
る場合がある。

【００１０】また、本発明において用いるベースフィル
ムは、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長における光線透過
率が５０％以上であることが好ましく、さらに好ましく
は７０％以上である。光線透過率が低くなり過ぎると、
転写層に到達する紫外線の量が少なくなるため、転写層
の硬化不良を生じる場合がある。

【００１１】なお、光線透過率は、３５０ｎｍ〜４５０
ｎｍの波長領域全体にわたって上記範囲でなくともよ
く、少なくとも使用される紫外線の波長領域において上
記範囲であればよい。

【００１２】本発明者らは、従来のクリヤ層においてブ
リスター等が発生する原因について検討し、その主要な
原因がクリヤ層のスポット的な硬化不良にあることを見
出した。すなわち、紫外線を照射する際、ベースフィル
ム上にゴミや埃等が付着していると、このゴミや埃等に
より紫外線が遮蔽され、その直下の転写層の領域が未硬
化または半硬化の状態のままで残り、これがブリスター
等の発生の原因になっていることを見出した。また、本
発明者らは、ベースフィルムを通過する紫外線を散乱さ
せることにより、ゴミや埃等がベースフィルム上に付着
していても、その影響を受けることなく転写層全体を均
一に紫外線で照射することができ、ブリスター等の発生
を有効に低減できることを見出し、さらに紫外線を散乱
させる方法として、ヘイズ値が５％以上であるベースフ
ィルムを用いる方法が有効であることを見出し、本発明
を完成するに至った。

【００１３】本発明において用いるベースフィルムの材
質は、特に限定されるものではないが、紫外線に対する
透明性（透過性）及び支持フィルムとしての強度が要求
される。このような観点からは、ポリエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ）フィルムが特に好ましく用いられる。
しかしながら、その他の樹脂フィルム、例えば高密度ポ
リエチレン樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂フィルム
などをベースフィルムとして用いてもよい。

【００１４】本発明に従う第１の局面においては、ベー
スフィルムの紫外線入射側の面に凹凸を形成することに
より、ヘイズ値が５以上となるフィルムとする。凹凸を
形成する具体的な方法としては、サンド等をフィルムの
表面に衝突させることにより凹凸を形成するブラスト処
理による方法、及びフィルムの成形の際にロール表面に
凹凸形状を設けるマット加工による方法などが挙げられ
る。

【００１５】上記のブラスト処理及びマット加工の条件
等は、ベースフィルムのヘイズ値が５以上となるように
適宜設定される。本発明に従う第１の局面において、凹
凸は少なくともベースフィルムの紫外線照射側の面に形
成されていればよい。従って、ベースフィルムの転写層
側の面にも凹凸を形成して紫外線をさらに散乱させても
よい。しかしながら、化粧板の表面のクリヤ層として
は、表面が平滑な、すなわちフラットな面であることが
要望される場合が多い。このような場合には、ベースフ
ィルムの転写層側の面をフラットな面にしておく必要が
ある。

【００１６】本発明に従う第２の局面においては、ベー
スフィルム中に、フィルムを形成する樹脂よりも屈折率
の高い粒子を分散して含有させることにより、ヘイズ値
が５以上に設定される。フィルムを形成する樹脂よりも
屈折率の高い粒子としては、無機物粒子及び有機物粒子
の何れでもよい。一般に無機物粒子は高い屈折率を有す
るので、無機物粒子が通常用いられる。第２の局面にお
いてフィルム中に分散して含有させる粒子の具体例とし
ては、酸化チタン、タルク、硫酸バリウム、ポリカーボ
ネート、ワックスなどの有機粒子がある。

【００１７】使用する粒子の種類、粒子径及び配合量等
は、ベースフィルムのヘイズ値が５以上となるように適
宜設定される。第２の局面において、粒子は、フィルム
を形成する樹脂と溶融混練することにより分散し含有さ
せることができる。

【００１８】本発明に従う第３の局面においては、ベー
スフィルム中に艶消し塗膜層を設けることによりヘイズ
値が５以上に設定される。このような艶消し塗膜層は、
上記ベースフィルムと同様のＰＥＴフィルム等のフィル
ムの上に艶消し塗料を塗布することにより形成すること
ができる。このような艶消し塗膜層は、一般に紫外線照
射側のフィルム面の上に設けられる。しかしながら、必
要に応じて、フィルムの転写層側の面の上、すなわちフ
ィルムと転写層の間に艶消し塗膜層を設けてもよい。こ
のような場合、転写層と艶消し塗膜層とが接するので、
艶消し塗膜層は、転写層を硬化した後のクリヤ層に対し
て剥離性を有することが好ましい。

【００１９】艶消し塗膜層を形成するための艶消し塗料
としては、シリカ等の艶消し材料を、ウレタン樹脂に
０．５〜２０重量％程度添加混合して得られる塗料が挙
げられる。

【００２０】艶消し塗膜層を形成するための塗料の配合
割合や塗膜の膜厚等は、ベースフィルムのヘイズ値が５
以上となるように適宜設定される。艶消し塗膜層の一般
的な厚みは、０．１〜５μｍ程度である。

【００２１】本発明における転写層は、紫外線硬化樹脂
から形成される。これらの樹脂としては、例えば、エチ
レン性不飽和二重結合を分子内に１個以上有する化合物
の単体または混合物、カチオン重合性基を分子内に１個
以上有する化合物の単体または混合物などが挙げられ
る。具体的には、不飽和ポリエステル樹脂、ポリエステ
ルポリアクリレート樹脂、ポリエステルポリメタクリレ
ート樹脂、エポキシポリアクリレート樹脂、エポキシポ
リメタクリレート樹脂、ウレタンポリアクリレート樹
脂、ウレタンポリメタクリレート樹脂、アクリルポリア
クリレート樹脂、アクリルポリメタクリレート樹脂など
が挙げられる。これらの樹脂には、粘着性を低下させる
ことを目的として、例えば、飽和アクリル樹脂、飽和ポ
リエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアリルフタレ
ート樹脂、セルロース樹脂、ブチラール樹脂、合成ゴ
ム、ポリスチレン樹脂、スチレン−マレイン酸樹脂、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体樹脂などが含まれていても
よい。

【００２２】また、紫外線硬化させる場合、一般に光重
合開始剤が配合される。光重合開始剤としては、例え
ば、紫外線硬化樹脂用として通常用いられる公知の光重
合開始剤を用いることができる。

【００２３】本発明において転写層は、一般にベースフ
ィルム上に塗装することにより塗膜として形成すること
ができる。このような塗料としては、溶剤系、水系、エ
マルジョン系などのいずれの塗料形態であってもよい。

【００２４】また、本発明において転写層が、例えば化
粧板の表面にクリヤ層を形成するための転写層である場
合には、一般に無色透明な層として形成される。しかし
ながら、必要に応じて着色されていてもよい。

【００２５】本発明において転写層の厚みは、転写層が
用いられる用途に応じて適宜設定されるものであるが、
一般には１〜２００μｍ程度が好ましく、さらに好まし
くは１０〜１００μｍ程度である。転写層を化粧板の表
面のクリヤ層として用いる場合、転写層の厚みが薄すぎ
ると、外観上の光沢感等が減少し意匠としての高級感が
無くなり、また耐久性及び耐傷つき防止性等が不十分と
なる場合がある。逆に、転写層が厚すぎると、転写層を
形成する際の乾燥工程等において時間を要したり、また
内部歪みによりクラック等が生じる場合がある。

【００２６】ベースフィルムの厚みは、特に限定される
ものではないが、一般には１０〜１５０μｍ程度が好ま
しく、さらに好ましくは２０〜１００μｍ程度である。
ベースフィルムの厚みが薄すぎると、剥離する際に破断
するおそれがあり、またベースフィルム上に塗装して転
写層を形成する場合には剛性が不十分となり、その取り
扱いが困難になる。逆に厚みが厚すぎる場合には、それ
に比例した効果が得られず経済的でない。また、ベース
フィルムを通して紫外線を照射する場合には、転写層に
到達する紫外線の量が減少するため好ましくない。

【００２７】本発明の化粧板の製造方法は、表面にクリ
ヤ層を有する化粧板を製造する方法であり、上記本発明
の転写シートを、転写層が化粧板の上に重なるように圧
着する工程と、ベースフィルムを通して紫外線を転写層
に照射し、転写層を硬化させてクリヤ層を形成する工程
と、硬化させることによりクリヤ層とした転写層からベ
ースフィルムを剥離する工程とを備えることを特徴とし
ている。

【００２８】本発明の製造方法においては、上記本発明
の転写シートを用い化粧板上に圧着した後、ベースフィ
ルム側から紫外線を照射し転写層を硬化させる。ベース
フィルムは５以上のヘイズ値を有しているので、ベース
フィルム内を紫外線が通過する際、紫外線が適当に散乱
される。従ってベースフィルム上にゴミや埃等が付着し
ていても、それらの影響を受けるこなく、転写層全体を
均一に照射し硬化することができる。従って、従来のよ
うな硬化不良の部分を生じることがなく、ブリスター等
の発生を低減させることができる。

【００２９】化粧板は、一般に基材の上にベースコート
層を形成し、この上に図柄層を形成することにより調製
することができる。基材としては、特に限定されるもの
ではなく、例えば、住宅やビルディングなどの建築物に
おける内装材や外壁材などに用いられる基材が挙げられ
る。具体的な基材としては、例えば、石膏ボードなどの
石膏系基材類、パルプセメント板や木片セメント板など
の繊維セメント板類、コンクリート類、鉄やアルミニウ
ムなどの金属板類、板紙や石膏ボード紙などの紙類、ポ
リエチレンフィルムやポリプロピレンフィルム等の各種
樹脂フィルム類、木や合板などの木質基材類等が挙げら
れる。これらの基材は、板状であってもよいし、任意の
形状に成形されていてもよい。また、石膏ボード、珪酸
カルシウム板、ストレート板などの基材などの場合、一
般的に施されるシーラー材の塗布やサイジングシーラー
材の塗布及び表面平滑化などの表面調整が行われたもの
であってもよいことはいうまでもない。

【００３０】ベースコート層は、このような基材の上に
塗装または転写によって形成することができる。ベース
コート層を形成する樹脂としては特に限定されるもので
はないが、一般には熱硬化樹脂から形成される。ベース
コート層は、一般に図柄層の下地となるものであり、必
要に応じて顔料等の着色剤が含有される。

【００３１】図柄層は、転写または印刷等の方法により
形成することができる。転写は、フィルムや、剥離剤を
コーティングした紙などの基材の上に、グラビア印刷、
オフセット印刷、スクリーン印刷などの印刷方法によっ
て所望の図柄を印刷して転写シートを作製し、この転写
シートを図柄が下になるようにしてベースコート層の上
に載せ加熱や加圧することにより行うことができる。ま
た、印刷による場合は、ベースコート層の上にグラビア
印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷などの印刷方法
によって図柄層を直接形成することができる。

【００３２】以上のようにして調製した化粧板の上に、
本発明の転写シートを用いて転写層を転写しクリヤ層を
形成することができる。なお、本発明の転写シートが用
いられる化粧板は、上記の構成のものに限定されるもの
ではなく、表面にクリヤ層を形成する化粧板であればい
ずれのものにも適用することができる。

【００３３】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を説
明する。図１は、本発明の第１の局面に従う実施例の転
写シートを示す断面図ある。ＰＥＴフィルムなどからな
るベースフィルム１の面１ａには、凹凸が形成されてい
る。面１ａの凹凸により、ベースフィルム１が、本発明
おいて規定するヘイズ値となるように調整されている。
このような凹凸は、例えばサンドを衝突させて表面を粗
面化するブラスト処理や、フィルムを成形する際のマッ
ト加工等により形成することができる。本実施例におい
て、ベースフィルム１の反対側の面１ｂには凹凸が形成
されておらず、フラットな面となっている。このフラッ
トな面１ｂ上に、紫外線硬化樹脂からなる転写層２が設
けられている。転写層２の上には、保護フラット３が設
けられている。保護フィルム３は、転写層２にゴミ等が
付着するのを防止すると共に、転写シートの取扱いを容
易にするため設けられるものであり、通常、低密度ポリ
エチレン（ＬＤＰＥ）などのポリオレフィン系樹脂等か
らなるフィルムが用いられる。

【００３４】しかしながら、本発明の転写シートは、こ
のような保護フィルム３を用いないものであってもよ
い。すなわち、転写シートをロール状に巻取り運搬及び
保管を行ってもよい。図１に示す実施例においては、転
写シートをロール状に巻き取ると、ベースフィルム１の
凹凸が形成された面１ａと転写層２が接するようにして
ロール状に巻き取られる。従って、凹凸面１ａと接する
転写層２の面に、凹凸が形成される場合がある。このよ
うな凹凸面の形成が好ましくない場合は、後述する図２
及び図３に示す本発明の第２の局面及び第３の局面に従
う転写シートを用いることができる。転写シートをロー
ル状に巻取って取り扱う場合、ロール状に巻き取った際
転写層２が接するベースフィルム１の面には、剥離を容
易にするため剥離性の処理が施されていることが好まし
い。

【００３５】図１に示す実施例では、ベースフィルム１
の面１ａにのみ凹凸が形成されているが、必要に応じて
転写層２と接する面１ｂに凹凸を形成してもよい。この
ように面１ｂにも凹凸を形成することにより、さらに紫
外線散乱の効果を高めることができ、より均一に転写層
２に紫外線を照射することができる。しかしながら、面
１ｂに凹凸を形成すると、転写層２にも同様の凹凸が形
成されるため、このような転写シートから形成されるク
リヤ層は、マット調のものになる。クリヤ層の表面をフ
ラットにするためには、図１に示す実施例のように転写
層２と接する面１ｂをフラットな面とすることが好まし
い。

【００３６】図２は、本発明の第２の局面に従う実施例
の転写シートを示す断面図である。ベースフィルム４に
は、ベースフィルム４を形成する樹脂よりも屈折率の高
い粒子５が分散して含有されている。例えば、酸化チタ
ンなどの粒子が分散されている。粒子５は、ベースフィ
ルム４を成形する際に樹脂と溶融混練することにより含
有させることができる。このような粒子５を分散して含
有することにより、本発明において規定するヘイズ値と
なるように調整されている。

【００３７】図３は、本発明の第３の局面に従う実施例
の転写シートを示す断面図である。図３に示す実施例に
おいては、図１及び図２に示す実施例のベースフィルム
と同様のフィルム７の面７ａの上に、艶消し塗膜８を形
成することにより、ベースフィルム６が構成されてい
る。フィルム７は、例えば、ＰＥＴフィルムなどから構
成される。艶消し塗膜８は、シリカなどの艶消し材を含
有するウレタン塗料をフィルム７の面７ａの上に塗布し
た後乾燥することにより形成することができる。本実施
例において、ベースフィルム６は、フィルム７の上に艶
消し塗膜８を設けることにより、本発明に規定するヘイ
ズ値となるように調整されている。

【００３８】図４は、表面にクリヤ層が形成される化粧
板を示す断面図である。このような化粧板の上に、図１
〜図３に示す各実施例の転写シートを用いて転写層を転
写しクリヤ層を形成することができる。

【００３９】図４に示す化粧板においては、基材１０の
上に着色剤を含有したベースコート層１１が設けられ、
ベースコート層１１の上に所定の模様の図柄層１２が設
けられている。例えば、図１に示す実施例の転写シート
の保護フィルム３を転写層２から剥離し、転写層２をベ
ースコート層１１及び図柄層１２の上に載せ、転写層２
をベースコート層１１及び図柄層１２の上に圧着する。
この際、転写層２は通常、常温で非流動性の樹脂である
ので、化粧板の上に圧着するには、このような転写層２
の樹脂を軟化し、流動性及び接着性を有する状態にする
必要がある。このため、通常、化粧板を予め加熱してお
き、加熱した化粧板に転写シートを貼り付け、熱ロール
を用いて加熱しながら圧着する。化粧板の加熱温度は、
一般に６０〜９０℃程度であり、熱ロールの温度は、一
般に１００〜２５０℃程度である。このようにしてベー
スコート層１１及び図柄層１２の上に転写シートを載
せ、転写層２を熱圧着する。

【００４０】図５は、以上のようにして転写層２をベー
スコート層１１及び図柄層１２の上に熱圧着した状態を
示す断面図である。この状態で、ベースフィルム１の上
方から紫外線を照射する。紫外線は、ベースフィルム１
中を通り転写層２に照射される。

【００４１】図６は、紫外線２０を照射して、転写層を
硬化しクリヤ層１３とした時の状態を示す断面図であ
る。図６に示すように、紫外線２０はベースフィルム１
の凹凸面１ａを通り、ベースフィルム１中を通過して転
写層（クリヤ層１３）に照射される。図７に示すよう
に、紫外線２０は、ベースフィルムの凹凸面１ａに入射
する際散乱され、散乱された状態で転写層（クリヤ層）
に照射される。従って、ベースフィルム１にゴミや埃等
が付着していても、その影響を受けることなく、転写層
（クリヤ層）全体に均一に紫外線を照射することができ
る。

【００４２】なお、図２に示す実施例の転写シートを用
いた場合にも、同様にベースフィルム４中に分散して含
有された粒子５により紫外線が散乱され、散乱された状
態で転写層（クリヤ層）に紫外線が照射される。図３に
示す実施例を用いた場合にも同様に、紫外線が艶消し塗
膜８を通過する際に散乱され、散乱された状態で転写層
（クリヤ層）に照射される。従って、図２及び図３に示
す各実施例の転写シートを用いた場合にも同様に、ベー
スフィルム上にゴミや埃等が付着していても、転写層
（クリヤ層）全体に均一に紫外線を照射し硬化させるこ
とができる。

【００４３】図８は、以上のようにして転写層に紫外線
を照射しクリヤ層１３とした後ベースフィルムを剥離し
た状態を示す断面図である。本発明によれば、転写層に
紫外線を均一に照射し硬化させてクリヤ層１３を形成す
ることができるので、クリヤ層１３に硬化不良の部分が
形成されることがなく、従って耐温水試験や耐熱水試験
においてブリスター等の少ないクリヤ層１３を形成する
ことができる。

【００４４】以上、本発明に従う実施例の転写シートを
用いて、化粧板の表面にクリヤ層を形成する例について
説明したが、本発明の転写シートの用途はこのような化
粧板表面のクリヤ層形成の用途に限定されるものではな
く、その他の用途にも用いることができものである。

【００４５】また、本発明に従う転写シートとして、図
１〜図３に具体的な実施例を示したが、本発明の転写シ
ートはこれに限定されるものではない。また、本発明に
従う転写シートとして、ベースフィルム上に転写層を設
け、この上に図柄層及びベースコート層を形成し、ベー
スコート層、図柄層及び転写層（クリヤ層）を一体的に
転写するような転写シートとしてもよい。この場合、さ
らにベースコート層の上に接着層を設け、この接着層に
より基材上にベースコート層、図柄層及び転写層（クリ
ヤ層）を転写し得るような転写シートとしてもよい。

【００４６】

【実施例】紫外線硬化樹脂の調製 アクリル系ポリマー（日本合成化学工業社製、商品名
「コーポニール１３５５」）６７重量部、ウレタンアク
リレート（新中村化学社製、商品名「ＮＫエステル Ａ
−６ＨＡ」）６０重量部、トルエン８０重量部、酢酸エ
チル５０重量部、及び光重合開始剤（チバガイギー社
製、商品名「イルガキュア１８４」）５重量部を均一に
溶解し、固形分が４０重量％の紫外線硬化樹脂を調製し
た。得られた紫外線硬化樹脂を用いて紫外線硬化樹脂の
塗料溶液を調製した。粘度は、酢酸エチルで２５０ｃｐ
に調整した。

【００４７】実施例１ ベースフィルムとして、片面をブラスト処理することに
より半透明化したＰＥＴフィルム（厚み５０μｍ、ヘイ
ズ値２５、波長３６５ｎｍにおける光線透過率７７％）
を用い、ブラスト処理していない面の上にリバースロー
ルコーターにより上記紫外線硬化樹脂の塗料溶液を、乾
燥後の厚みが４０μｍとなるように塗装した。２０秒間
セッティングした後、８０℃で５分間乾燥し転写シート
を得た。

【００４８】次に、白色塗料（日本ペイント社製、商品
名「ルリール３１０ＮＳホワイト」）を塗装したスレー
ト板を用意した。このスレート板を８０℃に加熱した
後、その上に転写層が重なるように転写シートを載せ、
表面温度が１４０℃の熱ロールを用いて加熱しながら圧
着した。

【００４９】転写シートを圧着したスレート板を、集光
型反射板を使用した１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯の下を
１０ｍ／分の速度で通過させることにより、ベースフィ
ルムを通して転写シート中の転写層に紫外線を照射し、
転写層を硬化させクリヤ層とした。

【００５０】ベースフィルムを剥離した後、クリヤ層を
形成したスレート板を沸騰水中に４時間浸漬した後、そ
の表面状態を観察した。１０ｃｍ四方のテストピース中
に発生した１ｍｍ以下の微小なブリスターの個数を数え
ることにより、ブリスターの発生について評価した。評
価結果を表１に示す。

【００５１】実施例２ ベースフィルムとして、酸化チタンを含有させることに
より半透明化したＰＥＴフィルム（厚み５０μｍ、ヘイ
ズ値２０、波長３６５ｎｍにおける光線透過率７０％）
を用いる以外は、上記実施例１と同様にして転写シート
を作製し、これを用いてスレート板の上にクリヤ層を形
成して耐熱水試験を行い、ブリスターの発生について評
価した。評価結果を表１に示す。

【００５２】実施例３ ベースフィルムとして、酸化チタンを含有させることに
より半透明化したＰＥＴフィルム（厚み７５μｍ、ヘイ
ズ値３０、波長３６５ｎｍにおける光線透過率６０％）
を用いる以外は、上記実施例１と同様にして転写シート
を作製し、これを用いてスレート板の上にクリヤ層を形
成して耐熱水試験を行い、ブリスターの発生について評
価した。評価結果を表１に示す。

【００５３】実施例４ ベースフィルムとして、表面に艶消し塗料を塗布するこ
とにより半透明化したＰＥＴフィルム（厚み５０μｍ、
ヘイズ値２５、波長３６５ｎｍにおける光線透過率７５
％）を用いる以外は、上記実施例１と同様にして転写シ
ートを作製し、これを用いてスレート板の上にクリヤ層
を形成し、耐熱水試験におけるブリスターの発生につい
て評価した。評価結果を表１に示す。なお、艶消し塗料
としては、艶消し材としてナックスマルチフラットベー
ス（商品名、日本ペイント社製）をウレタン樹脂（固形
分４０重量％）に、３０重量％添加したものを５μｍ塗
布した。

【００５４】実施例５ ベースフィルムとして、表面に艶消し塗料を塗布するこ
とにより半透明化したＰＥＴフィルム（厚み５０μｍ、
ヘイズ値１０、波長３６５ｎｍにおける光線透過率７７
％）を用いる以外は、上記実施例１と同様にして転写シ
ートを作製し、これを用いてスレート板の上にクリヤ層
を形成し、耐熱水試験におけるブリスターの発生につい
て評価した。評価結果を表１に示す。なお、艶消し塗料
としては、艶消し材としてナックスマルチフラットベー
ス（商品名、日本ペイント社製）をウレタン樹脂（固形
分４０重量％）に、１０重量％添加したものを３μｍ塗
布した。

【００５５】比較例１ ベースフィルムとして透明なＰＥＴフィルム（厚み５０
μｍ、ヘイズ値３、波長３６５ｎｍにおける光線透過率
７７％）を用いる以外は、上記実施例１と同様にして転
写シートを作製し、これを用いてスレート板の上にクリ
ヤ層を形成し、耐熱水試験におけるブリスターの発生に
ついて評価した。評価結果を表１に示す。

【００５６】

【表１】

【００５７】表１から明らかなように、本発明に従い、
ヘイズ値５以上のベースフィルムの転写シートを用いて
紫外線を照射しクリヤ層を形成した場合には、ブリスタ
ーの発生が著しく低減されることがわかる。

【００５８】

【発明の効果】本発明の転写シートを用いてクリヤ層を
形成することにより、耐温水試験や耐熱水試験において
ブリスターの発生を著しく低減することができる。

【００５９】本発明の化粧板の製造方法に従い、本発明
の転写シートを用いることにより、化粧板クリヤ層の耐
温水試験や耐熱水試験においてブリスター等の発生を著
しく低減させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に従う一実施例の転写シートを示す断面
図。

【図２】本発明に従う他の実施例の転写シートを示す断
面図。

【図３】本発明に従うさらに他の実施例の転写シートを
示す断面図。

【図４】クリヤ層を転写により形成する化粧板を示す断
面図。

【図５】図４に示す化粧板の上に保護フィルムを剥離し
た転写シートを圧着した状態を示す断面図。

【図６】転写シートに紫外線を照射して硬化させたとき
の状態を示す断面図。

【図７】紫外線がベースフィルムにより散乱される状態
を説明するための模式図。

【図８】転写層を硬化してクリヤ層とした後ベースフィ
ルムを剥離した状態を示す断面図。

【符号の説明】

１…ベースフィルム １ａ…紫外線入射側の凹凸面 １ｂ…転写層側のフラットな面 ２…転写層 ３…保護フィルム ４…ベースフィルム ５…高い屈折率を有する粒子 ６…ベースフィルム ７…ベースフィルムを支持するフィルム ８…艶消し塗膜 １０…基板 １１…ベースコート層 １２…図柄層 １３…クリヤ層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北嶋 義和 大阪府寝屋川市池田中町19番17号 日本ペ イント株式会社内 Ｆターム(参考） 3B005 EB01 EB09 FA04 FA08 FA12 FB13 FB15 FC08Y FE11 FG01X FG04X GA02 GD10

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ベースフィルム上に紫外線硬化樹脂から
   なる転写層が設けられ、該転写層を硬化させるためベー
   スフィルム側から紫外線が照射される転写シートにおい
   て、 前記ベースフィルムとして、ヘイズ値が５以上であるフ
   ィルムを用いることを特徴とする転写シート。
2. 【請求項２】 前記ベースフィルムの３５０ｎｍ〜４５
   ０ｎｍの波長における光線透過率が５０％以上であるこ
   とを特徴とする請求項１に記載の転写シート。
3. 【請求項３】 前記ベースフィルムの紫外線入射側の面
   に凹凸が形成されていることを特徴とする請求項１また
   は２に記載の転写シート。
4. 【請求項４】 前記凹凸面がブラスト処理により形成さ
   れていることを特徴とする請求項３に記載の転写シー
   ト。
5. 【請求項５】 前記凹凸面がフィルム成形の際のマット
   加工により形成されていることを特徴とする請求項３に
   記載の転写シート。
6. 【請求項６】 前記ベースフィルムの転写層側の面がフ
   ラットな面であることを特徴とする請求項３〜５のいず
   れか１項に記載の転写シート。
7. 【請求項７】 前記ベースフィルム中にフィルムを形成
   する樹脂よりも屈折率の高い粒子が分散して含有されて
   いることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記
   載の転写シート。
8. 【請求項８】 前記ベースフィルム中に艶消し塗膜層が
   設けられていることを特徴とする請求項１〜７のいずれ
   か１項に記載の転写シート。
9. 【請求項９】 表面にクリヤ層を有する化粧板を製造す
   る方法であって、 請求項１〜８のいずれか１項に記載の転写シートを、転
   写層が化粧板の上に重なるように圧着する工程と、 ベースフィルムを通して紫外線を転写層に照射し転写層
   を重合し硬化させてクリヤ層を形成する工程と、 硬化させることによりクリヤ層とした転写層からベース
   フィルムを剥離する工程とを備える化粧板の製造方法。