[go: up one dir, main page]

JP2000067646A - Conductive paste - Google Patents

Conductive paste

Info

Publication number
JP2000067646A
JP2000067646A JP11165121A JP16512199A JP2000067646A JP 2000067646 A JP2000067646 A JP 2000067646A JP 11165121 A JP11165121 A JP 11165121A JP 16512199 A JP16512199 A JP 16512199A JP 2000067646 A JP2000067646 A JP 2000067646A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive paste
conductive
conductive powder
structure represented
polyimide precursor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11165121A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yukihiro Shimasaki
幸博 島▲さき▼
Yusuke Ozaki
祐介 尾▲ざき▼
Masao Hasegawa
正生 長谷川
Toshiyuki Kitagawa
俊幸 北川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP11165121A priority Critical patent/JP2000067646A/en
Publication of JP2000067646A publication Critical patent/JP2000067646A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Paints Or Removers (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 抵抗値変化が抑制され、耐摩耗性に優れる導
電体や抵抗体の製造に使用できる導電性ペーストを提供
する。 【解決手段】 モース硬度が5以上であり、その長軸長
が0.15〜0.4μmの範囲であり、前記長軸長と短
軸長との比が10〜40の範囲である非導電性粉末と、
導電性粉末と、バインダーと溶剤とを混合することによ
り、導電性ペーストが得られる。前記導電性ペーストの
固形分のうち、前記非導電性粉末の含有率は5〜15重
量%の範囲が好ましい。また、前記非導電性粉末として
は、酸化鉄、酸化チタンおよび水酸化鉄等が使用でき
る。
(57) [Problem] To provide a conductive paste whose resistance change is suppressed and which can be used for manufacturing a conductor and a resistor excellent in abrasion resistance. SOLUTION: The non-conductive material has a Mohs hardness of 5 or more, a major axis length in a range of 0.15 to 0.4 µm, and a ratio of the major axis length to a minor axis length in a range of 10 to 40. Powder and
By mixing the conductive powder, the binder, and the solvent, a conductive paste is obtained. In the solid content of the conductive paste, the content of the non-conductive powder is preferably in a range of 5 to 15% by weight. Further, as the non-conductive powder, iron oxide, titanium oxide, iron hydroxide and the like can be used.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、電気抵抗
体膜、電気導電体膜等の製造に使用する導電性ペースト
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive paste used for producing, for example, an electric resistor film, an electric conductor film and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、導電性ペーストは、通常、導
電性粉末、非導電性粉末およびバインダーを、溶剤の存
在下で混練することにより調製されており、この導電性
ペーストを用いて、例えば、電気抵抗体膜や電気導電体
膜が製造されている。前記導電性粉末およびバインダー
等の種類やその含量等は、特に制限されず、例えば、前
記電気抵抗体膜等の目的とする抵抗値等に応じて適宜決
定されている。通常、前記導電性粉体としては、導電性
のカーボンブラック、金、銀、銅、ニッケル、パラジウ
ム、アルミニウム等の粉末、またはこれら金属の合金粉
末等が使用され、前記バインダーである結合性樹脂とし
ては、フェノールホルムアルデヒド樹脂、キシレン変性
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、アクリ
ル樹脂等の熱硬化性樹脂が使用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a conductive paste is usually prepared by kneading a conductive powder, a non-conductive powder and a binder in the presence of a solvent. An electric resistor film and an electric conductor film are manufactured. The types and contents of the conductive powder and the binder are not particularly limited, and are appropriately determined according to, for example, a desired resistance value of the electric resistor film or the like. Usually, as the conductive powder, conductive carbon black, gold, silver, copper, nickel, palladium, powder of aluminum or the like, or an alloy powder of these metals is used, as the binder resin as the binder Thermosetting resins such as phenol formaldehyde resin, xylene-modified phenol resin, epoxy resin, melamine resin, and acrylic resin are used.

【0003】ところが近年、前記電気抵抗体膜等の高温
環境下における使用や、素子の小型高容量化による発熱
量の増大等に対応するため、前記電気抵抗体膜等に対す
る耐熱性の要求が高まっている。
However, in recent years, there has been an increasing demand for heat resistance of the electric resistor film and the like in order to cope with the use of the electric resistor film and the like in a high temperature environment and an increase in the amount of heat generated by downsizing and increasing the capacity of the element. ing.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
ような従来の導電性ペーストを用いて作製した抵抗体膜
や導電体膜等を高温環境下で使用した場合、前記結合性
樹脂の硬化反応の進行や変質により、その抵抗値が不安
定であるという課題があった。
However, when a resistor film, a conductor film, or the like prepared using the conventional conductive paste as described above is used in a high-temperature environment, the curing reaction of the binding resin is not performed. There was a problem that the resistance value was unstable due to progress and deterioration.

【0005】また、電極ブラシ等を用いた摺動により、
前記抵抗体膜等が摩耗するという問題が生じたため、非
導電性の無機質フィラーを添加することにより、耐摩耗
性を向上させていた。しかし、このように前記非導電性
無機質フィラーを添加した導電性ペーストは、抵抗体膜
等の耐摩耗性を向上できるが、その一方では、前記電極
ブラシ等の摩耗量が増大し、結果的に抵抗体等の素子の
寿命が低下するという課題も生じた。
[0005] Further, by sliding using an electrode brush or the like,
Since the problem of wear of the resistor film or the like occurs, the wear resistance is improved by adding a non-conductive inorganic filler. However, the conductive paste to which the non-conductive inorganic filler is added as described above can improve the wear resistance of the resistor film and the like, but on the other hand, the wear amount of the electrode brush and the like increases, and as a result, Another problem is that the life of elements such as resistors is shortened.

【0006】そこで、本発明の目的は、抵抗値変化が少
なく、摺動による摩耗も抑制された抵抗体や導電体等を
製造できる導電性ペーストの提供である。
[0006] Therefore, an object of the present invention is to provide a conductive paste capable of producing a resistor, a conductor, or the like with a small change in resistance value and with reduced wear due to sliding.

【0007】[0007]

【課題を解決させるための手段】前記目的を達成するた
めに、本発明の導電性ペーストは、導電性粉末、非導電
性粉末、バインダーおよび溶剤を含む導電性ペーストに
おいて、前記非導電性粉末のモース硬度が5以上であ
り、その長軸長が0.15〜0.4μm、前記長軸長と
短軸長との比(以下、「針状比」ともいう)が10〜4
0であることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a conductive paste of the present invention is a conductive paste containing a conductive powder, a non-conductive powder, a binder and a solvent. Mohs hardness is 5 or more, the major axis length is 0.15 to 0.4 μm, and the ratio of the major axis length to the minor axis length (hereinafter, also referred to as “needle ratio”) is 10 to 4
It is characterized by being 0.

【0008】本発明の導電性ペーストは、このような物
性および形状の非導電性粉末(以下、「針状非導電性粉
末」ともいう)を含有することにより、例えば、高温条
件下の使用においても、抵抗値変化が少ない導電体や抵
抗体等を得ることができる。本発明者の検討によれば、
前述のような針状非導電性粉末を導電性ペーストの材料
に用いれば、使用環境の熱により、前記バインダーが硬
化収縮や変質して寸法が変化することに対し、前記非導
電性粉末が補強効果を発揮して、これにより抵抗値変化
を減少できると推測している。また、通常、摺動に対す
る耐摩耗性を向上させるために導電体等の強度を上げる
と、一方では、電極ブラシ等の摩耗が進んでしまうおそ
れがあった。しかし、本発明の導電性ペーストによれ
ば、非導電性粉末のモース硬度を5以上に設定すること
により、得られる導電体等は充分な強度を有し、また、
前記長軸長と前記針状比とを前記範囲に設定することに
より電極ブラシに対する研磨性(つまり電極ブラシの摩
耗)も抑制することができる。このような本発明の導電
性ペーストを用いれば、傷つきにくく、電極ブラシ等の
摩耗を防止し、使用時における抵抗値変化も抑制された
導電体や抵抗体等を製造できる。
[0008] The conductive paste of the present invention contains a non-conductive powder having such physical properties and shape (hereinafter also referred to as "acicular non-conductive powder"), so that it can be used, for example, under high temperature conditions. Also, it is possible to obtain a conductor, a resistor, or the like with a small change in the resistance value. According to the study of the present inventors,
When the acicular non-conductive powder as described above is used as the material for the conductive paste, the non-conductive powder reinforces the binder due to the heat of the use environment, which causes the binder to cure and shrink or deteriorate to change its dimensions. It is presumed that it exerts an effect and that this can reduce the change in the resistance value. Further, usually, when the strength of the conductor or the like is increased in order to improve the wear resistance against sliding, on the other hand, there is a fear that the wear of the electrode brush or the like may be advanced. However, according to the conductive paste of the present invention, by setting the Mohs hardness of the non-conductive powder to 5 or more, the obtained conductor has sufficient strength,
By setting the major axis length and the needle ratio in the above-described range, the abrasiveness of the electrode brush (that is, the wear of the electrode brush) can be suppressed. By using such a conductive paste of the present invention, it is possible to manufacture a conductor, a resistor, or the like, which is hardly damaged, prevents abrasion of an electrode brush or the like, and suppresses a change in resistance during use.

【0009】前記非導電性粉末のモース硬度は、5〜
7.5の範囲がより好ましく、特に好ましくは、5〜
6.5の範囲である。
The Mohs hardness of the non-conductive powder is 5 to 5.
The range of 7.5 is more preferred, and particularly preferred is 5 to 5.
6.5.

【0010】前記非導電性粉末の長軸長は、0.2〜
0.3μmの範囲がより好ましい。前記長軸長は、0.
15μm以上であれば補強効果が発現するが、0.4μ
mを越えると、例えば、導電体膜自身の研磨性が大きく
なるため、電極ブラシの摩耗が進むおそれがある。
[0010] The major axis length of the non-conductive powder is 0.2 to
A range of 0.3 μm is more preferable. The major axis length is equal to 0.
If it is 15 μm or more, the reinforcing effect is exhibited, but 0.4 μm
If it exceeds m, for example, the abrasion of the conductor film itself becomes large, and the abrasion of the electrode brush may progress.

【0011】前記非導電性粉末の針状比は、10〜30
の範囲がより好ましい。前記針状比が、10より小さい
と、非導電性粉末の短軸長が大きくなり、電極ブラシの
摩耗が進むおそれがある。また、前記針状比が40より
大きいと、バインダー樹脂や導電性粉末との混練分散時
に、前記非導電性粉末が折れやすく、その針状形状を維
持することが困難になるおそれがある。
The needle ratio of the non-conductive powder is 10 to 30.
Is more preferable. When the acicular ratio is less than 10, the short axis length of the non-conductive powder increases, and the abrasion of the electrode brush may progress. On the other hand, if the acicular ratio is larger than 40, the non-conductive powder may be easily broken during kneading and dispersing with a binder resin or a conductive powder, and it may be difficult to maintain the acicular shape.

【0012】前記モース硬度は、常法のモース硬度計に
より測定できる。
The Mohs hardness can be measured by a conventional Mohs hardness meter.

【0013】また、前記非導電性粉末の長軸長および短
軸長の測定方法は、特に制限されず、例えば、前記非導
電性粉末の電子顕微鏡写真を撮り、これを計測してもよ
い。
The method of measuring the major axis length and the minor axis length of the non-conductive powder is not particularly limited. For example, an electron micrograph of the non-conductive powder may be taken and measured.

【0014】本発明の導電性ペーストにおいて、その固
形分のうち、前記非導電性粉末の含有率が、5〜15重
量%の範囲であることが好ましく、より好ましくは、5
〜10重量%の範囲である。
In the conductive paste of the present invention, the content of the non-conductive powder in the solid content is preferably in the range of 5 to 15% by weight, more preferably 5 to 15% by weight.
In the range of 10 to 10% by weight.

【0015】本発明の導電性ペーストにおいて、前記非
導電性粉末は、前述の物性を有していれば、その種類は
特に制限されないが、例えば、非導電性粉末が、酸化
鉄、水酸化鉄、酸化チタン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、
チタン酸カリウム、ホウ酸アルミニウム、塩基性硫酸マ
グネシウム、β−ウォラストナイトおよびゾノトライト
からなる群から選択される少なくとも一つの金属粉末で
あることが好ましい。また、これらの他にも、例えば、
前記非導電性粉末は、ガラス繊維、炭素繊維、アラミド
繊維およびボロン繊維からなる群から選択される少なく
とも一つの繊維を使用してもよい。前記非導電性粉末
は、前述の条件を充たしていれば、一種類でもよいし、
二種類以上を併用してもよい。なお、本発明の導電性ペ
ーストの機能を害さない範囲であれば、前記非導電性粉
末に加えて、他の非導電性物質を含有してもよい。
In the conductive paste of the present invention, the type of the non-conductive powder is not particularly limited as long as it has the above-mentioned physical properties. For example, the non-conductive powder may be iron oxide or iron hydroxide. , Titanium oxide, silicon carbide, silicon nitride,
It is preferably at least one metal powder selected from the group consisting of potassium titanate, aluminum borate, basic magnesium sulfate, β-wollastonite and zonotolite. In addition to these, for example,
The non-conductive powder may use at least one fiber selected from the group consisting of glass fiber, carbon fiber, aramid fiber, and boron fiber. The non-conductive powder may be one type as long as the above-mentioned conditions are satisfied,
Two or more types may be used in combination. In addition, as long as the function of the conductive paste of the present invention is not impaired, other non-conductive substances may be contained in addition to the non-conductive powder.

【0016】本発明の導電性ペーストにおいて、前記バ
インダーは、特に制限されず、目的とする導電体等の性
質に応じて適宜決定できる。前記バインダーとしては、
例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂、アクリル樹脂等の熱硬化性樹脂が使用できる。好ま
しくは、耐熱性に優れることから、ポリイミド前駆体で
あり、前記ポリイミド前駆体の中でもより好ましくは、
溶剤溶解性に優れ、導電性ペーストに使用した場合に、
印刷特性に優れることから、その重量平均重合度nが5
〜20の範囲のポリイミド前駆体である。
In the conductive paste of the present invention, the binder is not particularly limited, and can be appropriately determined according to the intended properties of the conductor and the like. As the binder,
For example, a thermosetting resin such as a phenol resin, an epoxy resin, a melamine resin, and an acrylic resin can be used. Preferably, because it is excellent in heat resistance, it is a polyimide precursor, more preferably among the polyimide precursor,
Excellent solvent solubility, when used for conductive paste,
Because of its excellent printing characteristics, its weight average degree of polymerization n is 5
The polyimide precursor ranges from の 20 to 2020.

【0017】前記重量平均重合度は、例えば、ゲル浸透
クロマトグラフィー(GPC)分析により、ポリイミド
前駆体の重量平均分子量を測定し、前記重量平均分子量
の値を構成繰り返し単位当たりの分子量値で割ることに
より求めることができる。前記GPC分析は、例えば、
GPCカラムとしてGL−S300MDT−5(日立化
成社製)を使用し、溶離液として60mMリン酸および
30mM臭化リチウムを含有するジメチルホルムアミド
溶液を使用し、流速1ml/分の条件で前記ポリイミド
前駆体の溶離を行ない、これを示差屈折率計で検出する
ことにより行なうことができる。
The weight-average degree of polymerization is determined, for example, by measuring the weight-average molecular weight of the polyimide precursor by gel permeation chromatography (GPC) analysis, and dividing the value of the weight-average molecular weight by the molecular weight per constituent repeating unit. Can be obtained by The GPC analysis includes, for example,
GL-S300MDT-5 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was used as a GPC column, a dimethylformamide solution containing 60 mM phosphoric acid and 30 mM lithium bromide was used as an eluent, and the polyimide precursor was used under the conditions of a flow rate of 1 ml / min. And elution of this with a differential refractometer.

【0018】前記重量平均重合度が5〜20の範囲であ
るポリイミド前駆体としては、例えば、その構成繰り返
し単位の化学構造が、その直鎖に芳香環を少なくとも3
個以上有し、かつ芳香環3個当たりに、芳香族環同士を
結合するエーテル結合を少なくとも1つ以上の割合で有
しているものが使用できる。つまり、例えば、構成繰り
返し単位当たり芳香環が3個以上6個未満であれば、前
記エーテル結合を構成繰り返し単位当たり1個以上、ま
た、芳香環6個以上9個未満であれば、前記エーテル結
合を構成繰り返し単位当たり二個以上有することが好ま
しいということである。なお、前記芳香環同士を結合す
るエーテル結合の位置は、特に制限されず、例えば、前
記エーテル結合を二個以上有する場合でも、構成繰り返
し単位内のいずれの箇所にエーテル結合を有しても良い
(つまり、構成繰り返し単位内において、直鎖上に連続
して前記エーテル結合を有しても良いし、離れた箇所に
有していても良い)。構成繰り返し単位がこのような化
学構造であるポリイミド前駆体は、前記ポリイミド前駆
体分子中のエーテル結合の比率が比較的高くなり、この
エーテル結合によって、ポリイミド前駆体の分子内に折
れ曲がった構造が与えられることから、分子間の相互作
用が小さくなる。このため、ポリイミド前駆体の溶剤溶
解性をさらに向上することができ、また、溶液粘度も低
下でき、導電性ペーストに有用である。
Examples of the polyimide precursor having a weight-average degree of polymerization in the range of 5 to 20 include, for example, a compound having a repeating unit whose chemical structure has at least three aromatic rings in the straight chain.
And those having at least one ether bond per three aromatic rings for bonding aromatic rings can be used. That is, for example, if the number of aromatic rings per structural repeating unit is 3 or more and less than 6, the number of ether bonds is 1 or more per structural repeating unit, and if the number of aromatic rings is 6 or more and less than 9, the number of ether bonds is Is preferably two or more per constitutional repeating unit. The position of the ether bond bonding the aromatic rings to each other is not particularly limited. For example, even if the ether bond has two or more ether bonds, the ether bond may have an ether bond at any position in the structural repeating unit. (That is, in the constitutional repeating unit, the ether bond may be continuously provided on a straight chain or may be provided at a remote place). A polyimide precursor having a structural repeating unit having such a chemical structure has a relatively high ratio of ether bonds in the polyimide precursor molecule, and this ether bond gives a folded structure in the molecule of the polyimide precursor. Therefore, the interaction between molecules is reduced. For this reason, the solvent solubility of the polyimide precursor can be further improved, and the solution viscosity can be reduced, which is useful for a conductive paste.

【0019】前記重量平均重合度のポリイミド前駆体の
具体的な例を以下に示す。例えば、前記式(化1)に示
す化学構造および前記式(化2)に示す化学構造の少な
くとも一方の化学構造である構成繰り返し単位から構成
されているポリイミド前駆体が使用できる。前記式(化
1)および式(化2)に示す化学構造は異性体の関係で
あり、このポリイミド前駆体における各異性体の割合
は、特に制限されない。以下、このような構造のポリイ
ミド前駆体を「ポリイミド前駆体A」という。
Specific examples of the polyimide precursor having the above weight average polymerization degree are shown below. For example, a polyimide precursor composed of a structural repeating unit having at least one of the chemical structure represented by the chemical formula (Formula 1) and the chemical structure represented by the chemical formula (Formula 2) can be used. The chemical structures shown in the above formulas (Formula 1) and Formula (Formula 2) are related to isomers, and the ratio of each isomer in the polyimide precursor is not particularly limited. Hereinafter, the polyimide precursor having such a structure is referred to as “polyimide precursor A”.

【0020】また、例えば、前記式(化3)に示す化学
構造および前記式(化4)に示す化学構造の少なくとも
一方の化学構造である構成繰り返し単位と、前記式(化
5)に示す化学構造および前記式(化6)に示す化学構
造の少なくとも一方の化学構造である構成繰り返し単位
とから構成されているポリイミド前駆体も使用できる。
以下、このような構造のポリイミド前駆体を「ポリイミ
ド前駆体B」という。
Further, for example, a structural repeating unit having at least one of the chemical structure represented by the chemical formula (Chemical formula 3) and the chemical structure represented by the chemical formula (Chemical formula 4), and a chemical compound represented by the chemical formula (Chemical formula 5) A polyimide precursor having a structure and a structural repeating unit that is a chemical structure of at least one of the chemical structures represented by the above formula (Formula 6) can also be used.
Hereinafter, the polyimide precursor having such a structure is referred to as “polyimide precursor B”.

【0021】前記ポリイミド前駆体Bの重量平均重合度
において、前記式(化3)に示す化学構造および前記式
(化4)に示す化学構造の少なくとも一方の化学構造で
ある構成繰り返し単位についての割合が、25%以上1
00%未満の範囲であり、前記式(化5)に示す化学構
造および前記式(化6)に示す化学構造の少なくとも一
方の化学構造である構成繰り返し単位についての割合
が、0%より大きく75%以下の範囲であることが好ま
しい。例えば、前記ポリイミド前駆体Bの重量平均重合
度nが10であり、前記式(化3)および(化4)に示
す構成繰り返し単位の割合が40%であり、前記式(化
5)および(化6)に示す構成繰り返し単位の割合が6
0%の場合、前記ポリイミド前駆体B1分子中の前記式
(化3)および(化4)に示す構成繰り返し単位の繰り
返し数(重合度)が4であり、前記式(化5)および
(化6)に示す構成繰り返し単位の繰り返し数が6とい
うことである。なお、このポリイミド前駆体Bにおい
て、各構成繰り返し単位の重合順序は、特に制限されな
い。また、前記式(化3)と(化4)とに示す化学構
造、および前記式(化5)と(化6)とに示す化学構造
は、それぞれ異性体の関係にあり、前記ポリイミド前駆
体Bにおいて、これら異性体同士の割合は特に制限され
ない。
In the weight average degree of polymerization of the polyimide precursor B, the ratio of the structural repeating unit having at least one of the chemical structure represented by the formula (Chemical formula 3) and the chemical structure represented by the formula (Chemical formula 4) But more than 25% 1
And the proportion of the structural repeating unit that is at least one of the chemical structure represented by the formula (Chem. 5) and the chemical structure represented by the formula (Chem. 6) is greater than 0% and 75%. % Is preferable. For example, the weight average degree of polymerization n of the polyimide precursor B is 10, the ratio of the constitutional repeating units represented by the formulas (Chem. 3) and (Chem. 4) is 40%, and the formulas (Chem. 5) and (Chem. The proportion of the structural repeating unit shown in Chemical formula 6) is 6
In the case of 0%, the number of repeats (degree of polymerization) of the structural repeating units represented by the formulas (Chem. 3) and (Chem. 4) in the polyimide precursor B1 molecule is 4, and the formulas (Chem. 5) and (Chem. This means that the number of repetitions of the structural repeating unit shown in 6) is 6. In addition, in this polyimide precursor B, the polymerization order of each structural repeating unit is not particularly limited. Further, the chemical structures represented by the formulas (Chem. 3) and (Chem. 4) and the chemical structures represented by the formulas (Chem. 5) and (Chem. 6) are isomers, respectively, and the polyimide precursor In B, the ratio between these isomers is not particularly limited.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】本発明の導電性ペーストは、例え
ば、前述のように、前記非導電性粉末、導電性粉末、バ
インダーおよび溶剤を含む。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The conductive paste of the present invention contains, for example, the above-mentioned non-conductive powder, conductive powder, binder and solvent as described above.

【0023】前述のように、前記非導電性粉末は、モー
ス硬度が5以上であり、その長軸長が0.15〜0.4
μmの範囲であり、前記長軸長と短軸長との比が10〜
40の範囲であればよい。また、前記非導電性粉末の原
料としては、前述のような金属粉末や繊維が使用でき、
その中でも、好ましくは、酸化鉄、水酸化鉄であり、特
に好ましくは水酸化鉄である。
As described above, the non-conductive powder has a Mohs hardness of 5 or more and a major axis length of 0.15 to 0.4.
μm, and the ratio between the major axis length and the minor axis length is 10 to 10 μm.
A range of 40 is sufficient. Further, as a raw material of the non-conductive powder, metal powders and fibers as described above can be used,
Among them, iron oxide and iron hydroxide are preferable, and iron hydroxide is particularly preferable.

【0024】前記導電性粉末としては、例えば、導電性
のカーボンブラック、金、銀、銅、ニッケル、パラジウ
ム、アルミニウム等の粉末や、これら金属の合金粉末等
が使用できる。これらの金属粉末は、一種類でもよい
し、二種類以上を併用してもよい。
As the conductive powder, for example, conductive carbon black, gold, silver, copper, nickel, palladium, aluminum and the like, and alloy powders of these metals can be used. One type of these metal powders may be used, or two or more types may be used in combination.

【0025】前記溶剤としては、特に制限されず、使用
する各材料の種類やその含有量等により適宜決定され
る。使用できる溶剤としては、例えば、極性溶剤、非極
性溶剤、または前記極性溶剤と前記非極性溶剤との混合
溶剤等があげられる。
The solvent is not particularly limited and is appropriately determined depending on the type of each material used, its content, and the like. Examples of the solvent that can be used include a polar solvent, a nonpolar solvent, and a mixed solvent of the polar solvent and the nonpolar solvent.

【0026】前記極性溶剤としては、例えば、N−メチ
ル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルスルホキシド、
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホル
ムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジ
エチルアセトアミド、ヘキサメチレンホスホアミド、ブ
チロラクトン、プロピレンカーボネート等が使用でき
る。前記非極性溶剤としては、例えば、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチル
エーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレング
リコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコール
モノエチルエーテル、イソホロン、ジアセトンアルコー
ル、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、アジピン
酸ジメチル等が使用できる。混合溶剤として用いる場
合、前記極性溶剤と非極性溶剤との組合わせおよびその
混合割合は、特に制限されず、また、これらの溶剤は、
二種類以上を併用してもよい。
Examples of the polar solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylsulfoxide,
N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, hexamethylenephosphamide, butyrolactone, propylene carbonate and the like can be used. As the non-polar solvent, for example, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, isophorone, diacetone alcohol, dimethyl succinate, dimethyl glutarate And dimethyl adipate. When used as a mixed solvent, the combination of the polar solvent and the non-polar solvent and the mixing ratio thereof are not particularly limited, and these solvents are
Two or more types may be used in combination.

【0027】例えば、前記バインダーが、前記重量平均
重合度のポリイミド前駆体の場合、前記極性溶剤と非極
性溶剤との混合溶剤が好ましく、その混合割合は、体積
比10:0〜0.5:9.5の範囲が好ましく、より好
ましくは7:3〜1:9の範囲であり、特に好ましくは
5:5〜1:9の範囲である。また、前記重量平均重合
度のポリイミド前駆体の場合、前記混合溶剤の中でも、
N−メチル−2−ピロリドンとジエチレングリコールジ
メチルエーテルとの混合溶媒が好ましく、N−メチル−
2−ピロリドンとジエチレングリコールジメチルエーテ
ルとの混合割合は、例えば、体積比2:8〜9:1の範
囲が好ましく、より好ましくは、体積比2:8〜7:3
の範囲であり、特に好ましくは、体積比2:8〜3:7
の範囲である。
For example, when the binder is a polyimide precursor having the weight average polymerization degree, a mixed solvent of the polar solvent and the non-polar solvent is preferable, and the mixing ratio is 10: 0 to 0.5: It is preferably in the range of 9.5, more preferably in the range of 7: 3 to 1: 9, and particularly preferably in the range of 5: 5 to 1: 9. Further, in the case of the polyimide precursor having the weight average polymerization degree, among the mixed solvents,
A mixed solvent of N-methyl-2-pyrrolidone and diethylene glycol dimethyl ether is preferred.
The mixing ratio of 2-pyrrolidone and diethylene glycol dimethyl ether is, for example, preferably in a range of 2: 8 to 9: 1 by volume, more preferably 2: 8 to 7: 3.
And particularly preferably in a volume ratio of 2: 8 to 3: 7.
Range.

【0028】本発明の導電性ペーストは、前記非導電性
粉末、前記導電性粉末、前記バインダーおよび前記溶剤
の他に、例えば、その他の成分として各種添加剤を含有
してもよい。
The conductive paste of the present invention may contain, for example, various additives as other components in addition to the non-conductive powder, the conductive powder, the binder and the solvent.

【0029】前記添加剤としては、例えば、消泡剤、カ
ップリング剤、分散剤等が使用でき、その添加割合は、
本発明の導電性ペーストの機能を害さない範囲であれ
ば、特に制限されない。
As the additives, for example, an antifoaming agent, a coupling agent, a dispersant and the like can be used.
There is no particular limitation as long as the function of the conductive paste of the present invention is not impaired.

【0030】前記バインダーは、特に制限されず、前述
のような各種樹脂等が使用できる。また、前記バインダ
ーは、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよ
い。
The binder is not particularly limited, and various resins as described above can be used. The binder may be used alone or in combination of two or more.

【0031】また、前記バインダーは、例えば、市販の
ものを使用したり、常法により製造できる。
The binder can be, for example, a commercially available binder or can be produced by a conventional method.

【0032】例えば、前記ポリイミド前駆体の製造方法
も、特に制限されず、常法により製造できる。以下に、
原料としてオキシジフタル酸無水物および4,4’−ジ
アミノジフェニルエーテルを用いて、重量平均重合度n
が5〜6のポリイミド前駆体Aを製造する方法の一例を
示す。
For example, the method for producing the polyimide precursor is not particularly limited, and it can be produced by a conventional method. less than,
Using oxydiphthalic anhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether as raw materials, the weight average degree of polymerization n
1 shows an example of a method for producing a polyimide precursor A having 5 to 6.

【0033】例えば、冷却コンデンサー、温度計、攪拌
機およびガス吹き込み管等を備えた反応フラスコに、
N,N−ジメチルアセトアミドとジエチレングリコール
モノメチルエーテルとの混合溶剤(重量比6:4〜5:
5)と、第1の原料オキシジフタル酸無水物とを重量比
10:1〜12:1の範囲になるように添加する。そし
て、前記フラスコ内に窒素ガスを封入し、前記溶剤と第
1の原料とを、窒素雰囲気中、温度40〜50℃の条件
で攪拌溶解する。溶解後、これを冷却し、温度約10℃
の条件下、前記溶解物に、第2の原料4,4’−ジアミ
ノジフェニルエーテルを前記第1の原料に対して重量比
98:100〜99:100の範囲になるように添加す
る。そして、これらを室温で約20時間熟成させた後、
氷水中に注入して固形物を析出させる。得られた固形物
を粉砕し、この粉体を体積比9:1〜5:5の範囲のメ
タノール/水溶媒に約15時間浸漬した後、前記粉体を
濾取し、乾燥機を用いて温度約80℃で乾燥させる。こ
のような方法により、重量平均重合度nが5〜6のポリ
イミド前駆体Aを製造することができる。具体的には、
N,N−ジメチルアセトアミド1500g、オキシジフ
タル酸無水物186g、4,4’−ジアミノジフェニル
エーテル118gを使用し、前記条件で製造することに
より、重量平均重合度nが5〜6のポリイミド前駆体A
約300gを得ることができる。なお、重量平均重合度
は、例えば、前記条件において、前記混合溶剤の混合比
を変化することにより調整できる。具体的には、例え
ば、前記混合溶剤中のN,N−ジメチルアセトアミドの
含有率を大きくするほど、重合度を大きくできる。
For example, a reaction flask equipped with a cooling condenser, a thermometer, a stirrer, a gas injection pipe, and the like is
Mixed solvent of N, N-dimethylacetamide and diethylene glycol monomethyl ether (weight ratio 6: 4 to 5:
5) and the first raw material oxydiphthalic anhydride are added in a weight ratio of 10: 1 to 12: 1. Then, nitrogen gas is sealed in the flask, and the solvent and the first raw material are stirred and dissolved in a nitrogen atmosphere at a temperature of 40 to 50 ° C. After dissolution, it is cooled and the temperature is about 10 ° C.
The second raw material 4,4′-diaminodiphenyl ether is added to the melt under the conditions of (1) and (2) in a weight ratio of 98: 100 to 99: 100 with respect to the first raw material. And after aging these at room temperature for about 20 hours,
Pour into ice water to precipitate solids. The obtained solid is pulverized, and the powder is immersed in a methanol / water solvent having a volume ratio of 9: 1 to 5: 5 for about 15 hours. Then, the powder is filtered and dried using a drier. Dry at a temperature of about 80 ° C. By such a method, a polyimide precursor A having a weight average degree of polymerization n of 5 to 6 can be produced. In particular,
By using 1500 g of N, N-dimethylacetamide, 186 g of oxydiphthalic anhydride and 118 g of 4,4′-diaminodiphenyl ether under the above-mentioned conditions, a polyimide precursor A having a weight average polymerization degree n of 5 to 6 is obtained.
About 300 g can be obtained. The weight average degree of polymerization can be adjusted, for example, by changing the mixing ratio of the mixed solvent under the above conditions. Specifically, for example, the degree of polymerization can be increased as the content of N, N-dimethylacetamide in the mixed solvent is increased.

【0034】また、ポリイミド前駆体Bは、例えば、原
料としてオキシジフタル酸無水物と、4,4’−ジアミ
ノジフェニルエーテルと、ピロメリット酸二無水物とを
使用でき、その配合割合は、例えば、99:99:1〜
1:99:99の範囲である。また、ポリイミド前駆体
Bの製造方法は、特に制限されず、例えば、前述のポリ
イミド前駆体Aの製造方法と同様にして製造できる。な
お、ポリイミド前駆体Bのように二種類(異性体は除
く)の構成繰り返し単位を有する場合、前記両構成繰り
返し単位の比率は、例えば、質量分析を行ない、窒素元
素に対する炭素元素や水素元素のモル比から、求めるこ
とができる。
For the polyimide precursor B, for example, oxydiphthalic anhydride, 4,4′-diaminodiphenyl ether, and pyromellitic dianhydride can be used as raw materials. 99: 1
The range is 1:99:99. The method for producing the polyimide precursor B is not particularly limited, and for example, can be produced in the same manner as the above-mentioned method for producing the polyimide precursor A. In the case of having two types of structural repeating units (excluding isomers) as in the case of the polyimide precursor B, the ratio of the two structural repeating units may be determined, for example, by performing mass spectrometry and analyzing the ratio of the carbon element or the hydrogen element to the nitrogen element. It can be determined from the molar ratio.

【0035】つぎに、本発明の導電性ペーストの製造
は、例えば、前記非導電性粉末、前記導電性粉末、前記
バインダーおよび前記溶剤を、三本ロールミル、サンド
ミル等を用いて溶練混合することにより製造できる。
Next, in the production of the conductive paste of the present invention, for example, the non-conductive powder, the conductive powder, the binder and the solvent are kneaded and mixed using a three-roll mill, a sand mill or the like. Can be manufactured.

【0036】本発明の導電性ペーストにおいて、前記非
導電性粉末の溶剤に対する混合割合は、特に制限されな
いが、例えば、溶剤100重量部に対して、4〜27重
量部の範囲が好ましく、より好ましくは、4〜9重量部
の範囲である。
In the conductive paste of the present invention, the mixing ratio of the non-conductive powder to the solvent is not particularly limited, but is, for example, preferably in the range of 4 to 27 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the solvent. Ranges from 4 to 9 parts by weight.

【0037】また、前記導電性粉末の混合割合は、特に
制限されないが、例えば、前記非導電性粉末100重量
部に対して、180〜640重量部の範囲であり、好ま
しくは、300〜640重量部の範囲である。
The mixing ratio of the conductive powder is not particularly limited, but is, for example, 180 to 640 parts by weight, preferably 300 to 640 parts by weight, based on 100 parts by weight of the non-conductive powder. Range of parts.

【0038】また、前記バインダーの混合割合は、特に
制限されないが、例えば、前記非導電性粉末100重量
部に対して、360〜1280重量部の範囲であり、好
ましくは、600〜1280重量部の範囲である。
The mixing ratio of the binder is not particularly limited, but is, for example, in the range of 360 to 1280 parts by weight, preferably 600 to 1280 parts by weight, per 100 parts by weight of the non-conductive powder. Range.

【0039】また、本発明の導電性ペーストの使用方法
としては、例えば、電極を形成した絶縁基板上に、前記
導電性ペーストをスクリーン印刷し、乾燥した後、温度
270〜350℃で1〜2時間、加熱処理を施し、硬化
させればよい。
As a method of using the conductive paste of the present invention, for example, the conductive paste is screen-printed on an insulating substrate on which electrodes are formed, dried, and then dried at a temperature of 270 to 350 ° C. for 1 to 2 times. A heat treatment may be performed for a time, and the composition may be cured.

【0040】[0040]

【実施例】つぎに、本発明の実施例について、比較例と
併せて説明する。
Next, examples of the present invention will be described together with comparative examples.

【0041】(実施例1)各種非導電性粉末を用いて、
導電性ペーストを調製した。そして、これを用いて導電
体試料を作製し、その各種特性を調べた。以下に、使用
した材料、導電性ペーストの組成比、導電性ペーストお
よび導電体試料の作製方法、各種特性の測定方法を示
す。
Example 1 Using various nonconductive powders,
A conductive paste was prepared. Then, a conductor sample was prepared using this, and various characteristics thereof were examined. The materials used, the composition ratio of the conductive paste, the method for preparing the conductive paste and the conductive sample, and the method for measuring various characteristics are described below.

【0042】(バインダー) フェノール樹脂(ミレックスXL−225、三井化学社
製)
(Binder) Phenol resin (Mirex XL-225, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.)

【0043】(導電性粉末) カーボンブラック (電化工業株式会社製:アセチレン
ブラック)
(Conductive powder) Carbon black (Acetylene black manufactured by Denka Kogyo Co., Ltd.)

【0044】(溶剤) イソホロン(Solvent) Isophorone

【0045】(非導電性粉末) 針状非導電性粉末A:α−酸化鉄(長軸長0.15μ
m、針状比10、モース硬度5.5〜6.5) 針状非導電性粉末B:γ−酸化鉄(長軸長0.40μ
m、針状比15、モース硬度6) 針状非導電性粉末C:水酸化鉄(長軸長0.3μm、針
状比30、モース硬度5)
(Non-conductive powder) Needle-shaped non-conductive powder A: α-iron oxide (major axis length 0.15μ)
m, needle ratio 10, Mohs hardness 5.5 to 6.5) needle non-conductive powder B: γ-iron oxide (major axis length 0.40 μm)
m, needle-like ratio 15, Mohs hardness 6) Needle-like non-conductive powder C: iron hydroxide (major axis length 0.3 μm, needle-like ratio 30, Mohs hardness 5)

【0046】 (導電性ペーストの組成比) バインダー(固形) 100重量部 カーボンブラック 50重量部 溶剤 190重量部 各種非導電性粉末 下記表1に示す所定量(Composition ratio of conductive paste) Binder (solid) 100 parts by weight Carbon black 50 parts by weight Solvent 190 parts by weight Various nonconductive powders Predetermined amounts shown in Table 1 below

【0047】なお、下記表1に示す前記非導電性粉末の
添加量とは、導電性ペーストの固形分における非導電性
粉末の含有率であり、前記組成においては、バインダー
とカーボンブラックと非導電性粉末との合計重量を10
0重量%とした場合の、非導電性粉末の含有率(重量
%)である。
The amount of the non-conductive powder shown in Table 1 below is the content of the non-conductive powder in the solid content of the conductive paste. 10
The content (% by weight) of the non-conductive powder when 0% by weight is used.

【0048】(導電性ペーストの調製方法)前記材料を
前記組成比となるように配合し、これらを3本ロールミ
ルを用いて混練分散した。
(Method for Preparing Conductive Paste) The above-mentioned materials were blended so as to have the above-mentioned composition ratio, and these were kneaded and dispersed using a three-roll mill.

【0049】(導電体試料の作製方法)予め、銀ペース
トを焼き付けて電極を形成したセラミック製の絶縁基板
上に、各導電性ペーストを、スクリーン印刷機(小型汎
用スクリーン印刷機MR−60、桜井グラフィックシス
テムズ社製)と、200メッシュのスクリーンとを用い
て印刷し、これを乾燥させた。この印刷工程と乾燥工程
とを繰り返して行い、乾燥後の導電性ペースト印刷膜の
厚みを10±1μmにした後、350℃で1時間処理し
て硬化させたものを、導電体試料とした。
(Preparation Method of Conductor Sample) Each conductive paste was screen-printed (small general-purpose screen printer MR-60, Sakurai) on a ceramic insulating substrate in which silver paste was previously baked to form electrodes. (Graphics Systems) and a 200-mesh screen and dried. The printing step and the drying step were repeated to make the thickness of the conductive paste printed film after drying 10 ± 1 μm, and then cured at 350 ° C. for 1 hour to obtain a conductor sample.

【0050】(抵抗値の測定)前記導電体試料の初期抵
抗値、および前記導電体試料の加熱処理後の抵抗値を測
定し、熱処理後の抵抗値変化率(抵抗値減少率)を求め
た。前記抵抗値の測定は、前記導電体試料の電極部に、
テスター(デジタルマルチメーターVP−2662A:
松下電器産業社製)を接触させることにより行なった。
前記加熱処理後の抵抗値は、前記導電体試料を200℃
で500時間加熱処理し、これを30分間放置した後
に、前述と同様にして測定した。この結果を下記表1に
併せて示す。
(Measurement of Resistance Value) The initial resistance value of the conductor sample and the resistance value of the conductor sample after the heat treatment were measured, and the rate of change in the resistance value after the heat treatment (resistance reduction rate) was determined. . The measurement of the resistance value, the electrode portion of the conductor sample,
Tester (Digital Multimeter VP-2662A:
(Manufactured by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.).
The resistance value after the heat treatment was as follows.
For 500 hours and left for 30 minutes, and then measured in the same manner as described above. The results are shown in Table 1 below.

【0051】(摺動試験)前記各導電体試料の表面に銅
製摺動子(ブラシ)をあて、このブラシを1万回往復摺
動させた。なお、摺動条件は、摺動子接点面積0.3m
m×0.5mm、荷重150gである。その後、接触式
表面粗さ計(タリサーフ:ランクテーラーホブソン社
製)を用いて、前記導電体試料の摺動軌跡深さを測定し
た。そして、前記摺動軌跡深さが0.5μm以下の場合
は○、0.5μmより大きく2μm以下の場合は△、2
μmを越える場合は×と評価した。この結果を下記表1
に示す。また、摺動後のブラシの摩耗度は、前記ブラシ
摺動部を電子顕微鏡(走査電子顕微鏡JSM5200L
V:日本電子社製)により観察し、前記ブラシ摺動部の
摺動面に対し垂直方向において、摺動前の長さに対して
減少した長さを測定した。前記減少した長さが0.2μ
m以下の場合は○、0.2μmより大きく0.5μm以
下の場合は△、0.5μmを越える場合は×と評価し
た。この結果を下記表1に示す。
(Sliding Test) A copper slider (brush) was applied to the surface of each conductor sample, and the brush was slid reciprocally 10,000 times. The sliding condition is as follows.
m × 0.5 mm, load 150 g. Thereafter, the depth of the sliding trajectory of the conductor sample was measured using a contact type surface roughness meter (Talysurf: manufactured by Rank Taylor Hobson). When the depth of the sliding trajectory is 0.5 μm or less, ○, and when the depth is larger than 0.5 μm and 2 μm or less, Δ
When it exceeded μm, it was evaluated as x. The results are shown in Table 1 below.
Shown in The degree of wear of the brush after sliding was determined by measuring the brush sliding portion with an electron microscope (scanning electron microscope JSM5200L).
V: manufactured by JEOL Ltd.), and the length reduced in the direction perpendicular to the sliding surface of the brush sliding portion relative to the length before sliding was measured. Said reduced length is 0.2μ
When the particle size is less than m, the evaluation was ○, when the value was more than 0.2 μm and 0.5 μm or less, the evaluation was Δ, and when it exceeded 0.5 μm, the evaluation was ×. The results are shown in Table 1 below.

【0052】(比較例1)非導電性粉末として下記の各
種非導電性粉末を使用した以外は、実施例1と同様にし
て導電性ペーストを調製した。そして、これらを用い
て、前述と同様に導電体試料を作製し、前記導電体試料
の各種特性を調べた。これらの結果を下記表1に示す。
Comparative Example 1 A conductive paste was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following various nonconductive powders were used as the nonconductive powder. Using these, a conductor sample was prepared in the same manner as described above, and various characteristics of the conductor sample were examined. The results are shown in Table 1 below.

【0053】(非導電性粉末) 非導電性粉末D :α−アルミナ(粒子径0.2μ
m、モース硬度8) 針状非導電性粉末E:γ―酸化鉄(長軸長0.4μm、
針状比8、モース硬度6) 非導電性粉末F :シリカ粉末(粒子径0.2μm、
モース硬度5) 非導電性粉末G :炭酸カルシウム(粒子径0.2μ
m、モース硬度2)
(Non-conductive powder) Non-conductive powder D: α-alumina (particle size 0.2 μm)
m, Mohs hardness 8) Acicular non-conductive powder E: γ-iron oxide (major axis length 0.4 μm,
Acicular ratio 8, Mohs hardness 6) Non-conductive powder F: silica powder (particle diameter 0.2 μm,
Mohs hardness 5) Non-conductive powder G: calcium carbonate (particle size 0.2μ)
m, Mohs hardness 2)

【0054】なお、非導電性粉末の添加量(含有率)
は、下記表1に示すとおりである。
The amount (content) of non-conductive powder added
Is as shown in Table 1 below.

【0055】(比較例2)非導電性粉末を添加しない以
外は、実施例1と同様にして導電性ペーストを調製し、
前述と同様に導電体試料を作製した。そして、前記導電
体試料の各種特性を調べた。この結果を下記表1に併せ
て示す。
Comparative Example 2 A conductive paste was prepared in the same manner as in Example 1 except that no nonconductive powder was added.
A conductor sample was prepared in the same manner as described above. Then, various characteristics of the conductor sample were examined. The results are shown in Table 1 below.

【0056】[0056]

【表1】 [Table 1]

【0057】(実施例2)バインダーとして以下に示す
ポリイミド前駆体、溶剤として以下に示す混合溶剤をそ
れぞれ使用した以外は、前記実施例1と同様にして、導
電性ペーストおよび導電体試料を作製した。そして、こ
れらの導電体試料について前述と同様にして、各種特性
を調べた。これらの結果を下記表2に示す。
Example 2 A conductive paste and a conductive sample were prepared in the same manner as in Example 1 except that the following polyimide precursor was used as a binder and the following mixed solvent was used as a solvent. . Various characteristics of these conductor samples were examined in the same manner as described above. The results are shown in Table 2 below.

【0058】(バインダー) ポリイミド前駆体B(重量平均重合度n=5〜6) なお、このポリイミド前駆体Bは、その重量平均重合度
において、前記式(化3)および(化4)に示す構成繰
り返し単位についての割合が40%であり、前記式(化
5)および(化6)に示す構成繰り返し単位についての
割合が60%である。
(Binder) Polyimide precursor B (weight-average degree of polymerization n = 5 to 6) The polyimide precursor B has the weight-average degree of polymerization shown in the above formulas (3) and (4). The proportion of the constitutional repeating unit is 40%, and the proportion of the constitutional repeating units represented by the formulas (Chem. 5) and (Chem. 6) is 60%.

【0059】(溶剤) N−メチル−2−ピロリドンとジエチレングリコールジ
メチルエーテルとの混合溶剤(体積比7:3)
(Solvent) Mixed solvent of N-methyl-2-pyrrolidone and diethylene glycol dimethyl ether (7: 3 by volume)

【0060】(比較例3)前記比較例1と同じ非導電性
粉末を使用した以外は、前記実施例2と同様にして、導
電性ペーストを調製した。そして、これらの導電性ペー
ストを用いて導電体試料を作製し、前述と同様にして、
前記導電体試料の各種特性を調べた。これらの結果を下
記表2に示す。
Comparative Example 3 A conductive paste was prepared in the same manner as in Example 2 except that the same non-conductive powder as in Comparative Example 1 was used. Then, a conductor sample was prepared using these conductive pastes, and in the same manner as described above,
Various characteristics of the conductor sample were examined. The results are shown in Table 2 below.

【0061】(比較例4)非導電性粉末を添加しない以
外は、実施例2と同様にして導電性ペーストを調製し、
前述と同様に導電体試料を作製した。そして、前記導電
体試料の各種特性を調べた。この結果を下記表2に併せ
て示す。
(Comparative Example 4) A conductive paste was prepared in the same manner as in Example 2 except that no non-conductive powder was added.
A conductor sample was prepared in the same manner as described above. Then, various characteristics of the conductor sample were examined. The results are shown in Table 2 below.

【0062】[0062]

【表2】 [Table 2]

【0063】前記表1および表2に示すように、実施例
1および実施例2の各導電体試料は、前記各種非導電性
粉末を添加することにより、比較例2および比較例4に
おける非導電性粉末無添加の各導電体試料に比べ、それ
ぞれ小さい抵抗値変化率が得られ、安定した抵抗値を維
持できることがわかった。さらに、前記導電性試料は充
分な強度が得られたことから、摺動による導電体の傷付
きもなく、また、摺動ブラシの摩耗も見られなかった。
また、実施例1および実施例2の各導電体試料は、適度
なクリーニング性を有しているため、摺動ブラシに汚れ
は付着しなかった。
As shown in Tables 1 and 2, the conductor samples of Examples 1 and 2 were mixed with the non-conductive powders of Comparative Examples 2 and 4 by adding the various non-conductive powders. It was found that a smaller resistance value change rate was obtained as compared with each conductor sample to which no conductive powder was added, and a stable resistance value could be maintained. Furthermore, since the conductive sample had sufficient strength, the conductive member was not damaged by sliding and the sliding brush was not worn.
In addition, since each of the conductor samples of Example 1 and Example 2 had an appropriate cleaning property, no stain was attached to the sliding brush.

【0064】これに対し、比較例1および比較例3にお
いて、粒子状の非導電性粉末D、Fを使用した導電体試
料は、摺動による傷つきは少なかったが、摺動ブラシの
摩耗量が大きく、また、比較例2および比較例4におけ
る非導電性粉末無添加の各導電体試料に比べ、それぞれ
抵抗値変化率の改善は見られなかった。針状比が8であ
る非導電性粉末Eを添加した導電体試料は、抵抗値変化
率は小さく、傷つきもなかったが、摺動ブラシの摩耗が
大きかった。モース硬度の低い非導電性粉末Gを使用し
た導電体試料は、抵抗値変化率の改善も見られず、摺動
による傷つきが大きかった。また、摺動ブラシの摩耗は
見られなかったが、適度なクリーニング性もなく摺動ブ
ラシの汚れが激しかった。前記非導電性粉末Gのような
粉体は、導電体試料における粉体と樹脂との比率を大き
くするだけで、塗膜の強度を悪化していると推測され
る。
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 3, the conductive samples using the particulate nonconductive powders D and F showed little damage due to sliding, but the sliding brush had a small amount of wear. It was large, and no improvement in the rate of change in resistance was observed in each of the conductor samples without the addition of the non-conductive powder in Comparative Examples 2 and 4. The conductor sample to which the non-conductive powder E having an acicular ratio of 8 was added had a small rate of change in resistance and was not damaged, but the abrasion of the sliding brush was large. The conductor sample using the non-conductive powder G having a low Mohs hardness did not show any improvement in the rate of change of the resistance value, and showed large damage due to sliding. Although the sliding brush was not abraded, the sliding brush was not sufficiently cleaned and was very dirty. It is presumed that the powder such as the non-conductive powder G deteriorates the strength of the coating film only by increasing the ratio between the powder and the resin in the conductor sample.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上のように、前記物性および形状を有
する非導電性粉末を含有する本発明の導電性ペーストに
よれば、抵抗値変化が抑制され、耐摩耗性に優れた導電
体を得ることができる。
As described above, according to the conductive paste of the present invention containing the non-conductive powder having the above-described physical properties and shape, a change in resistance value is suppressed and a conductor excellent in wear resistance is obtained. be able to.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01C 7/00 H01C 7/00 J (72)発明者 長谷川 正生 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 北川 俊幸 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01C 7/00 H01C 7/00 J (72) Inventor Masao Hasegawa 1006 Kazuma Kazuma, Kadoma, Osaka Matsushita Electric Within Sangyo Co., Ltd. (72) Inventor Toshiyuki Kitagawa 1006 Kadoma, Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性粉末、非導電性粉末、バインダー
および溶剤を含む導電性ペーストにおいて、前記非導電
性粉末のモース硬度が5以上であり、その長軸長が0.
15〜0.4μmの範囲であり、前記長軸長と短軸長と
の比が10〜40の範囲であることを特徴とする導電性
ペースト。
1. A conductive paste containing a conductive powder, a non-conductive powder, a binder and a solvent, wherein the non-conductive powder has a Mohs' hardness of 5 or more and a major axis length of 0.
A conductive paste having a range of 15 to 0.4 μm and a ratio of the major axis length to the minor axis length of 10 to 40.
【請求項2】 導電性ペーストの固形分のうち、非導電
性粉末の含有率が5〜15重量%の範囲である請求項1
に記載の導電性ペースト。
2. The solid content of the conductive paste, wherein the content of the non-conductive powder is in the range of 5 to 15% by weight.
4. The conductive paste according to claim 1.
【請求項3】 非導電性粉末が、酸化鉄、水酸化鉄、酸
化チタン、炭化ケイ素、窒化ケイ素、チタン酸カリウ
ム、ホウ酸アルミニウム、塩基性硫酸マグネシウム、β
−ウォラストナイトおよびゾノトライトからなる群から
選択される少なくとも一つの金属粉末である請求項1ま
たは2に記載の導電性ペースト。
3. The non-conductive powder comprises iron oxide, iron hydroxide, titanium oxide, silicon carbide, silicon nitride, potassium titanate, aluminum borate, basic magnesium sulfate, β
The conductive paste according to claim 1 or 2, wherein the conductive paste is at least one metal powder selected from the group consisting of wollastonite and zonotolite.
【請求項4】 非導電性粉末が、ガラス繊維、炭素繊
維、アラミド繊維およびボロン繊維からなる群から選択
される少なくとも一つの繊維である請求項1または2に
記載の導電性ペースト。
4. The conductive paste according to claim 1, wherein the non-conductive powder is at least one fiber selected from the group consisting of glass fiber, carbon fiber, aramid fiber, and boron fiber.
【請求項5】 バインダーが、フェノール樹脂、エポキ
シ樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂からなる群から選
択される少なくとも一つの熱硬化性樹脂である請求項1
〜4のいずれか一項に記載の導電性ペースト。
5. The binder according to claim 1, wherein the binder is at least one thermosetting resin selected from the group consisting of a phenol resin, an epoxy resin, a melamine resin, and an acrylic resin.
5. The conductive paste according to any one of items 4 to 4.
【請求項6】 バインダーが、ポリイミド前駆体であ
り、その重量平均重合度(n)が5〜20の範囲である
請求項1〜4のいずれか一項に記載の導電性ペースト。
6. The conductive paste according to claim 1, wherein the binder is a polyimide precursor, and the weight average degree of polymerization (n) is in the range of 5 to 20.
【請求項7】 ポリイミド前駆体の構成繰り返し単位の
化学構造が、その直鎖に芳香環を3個以上有し、かつ芳
香環同士を結合するエーテル結合を、芳香環3個当たり
に少なくとも1つ以上の割合で有している請求項6に記
載の導電性ペースト。
7. The chemical structure of the constituent repeating unit of the polyimide precursor has at least three aromatic rings in the straight chain thereof, and at least one ether bond per three aromatic rings per aromatic ring. The conductive paste according to claim 6, which has the above ratio.
【請求項8】 ポリイミド前駆体が、下記式(化1)に
示す化学構造および下記式(化2)に示す化学構造の少
なくとも一方の化学構造である構成繰り返し単位から構
成されている請求項6または7に記載の導電性ペース
ト。 【化1】 【化2】
8. The polyimide precursor is composed of a structural repeating unit having at least one of the chemical structure represented by the following chemical formula (Chemical formula 1) and the chemical structure represented by the following chemical formula (Chemical formula 2). Or the conductive paste according to 7. Embedded image Embedded image
【請求項9】 ポリイミド前駆体が、下記式(化3)に
示す化学構造および下記式(化4)に示す化学構造の少
なくとも一方の化学構造である構成繰り返し単位と、下
記式(化5)に示す化学構造および下記式(化6)に示
す化学構造の少なくとも一方の化学構造である構成繰り
返し単位とから構成されている請求項6または7に記載
の導電性ペースト。 【化3】 【化4】 【化5】 【化6】
9. A polyimide precursor comprising a structural repeating unit having at least one of a chemical structure represented by the following chemical formula (Chem. 3) and a chemical structure represented by the following chemical formula (Chem. 4): 8. The conductive paste according to claim 6, comprising a structural repeating unit having at least one of a chemical structure represented by the following chemical formula and a chemical structure represented by the following chemical formula (6). Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image
【請求項10】ポリイミド前駆体の重量平均重合度にお
いて、前記式(化3)に示す化学構造および前記式(化
4)に示す化学構造の少なくとも一方の化学構造である
構成繰り返し単位についての割合が、25%以上100
%未満の範囲であり、前記式(化5)に示す化学構造お
よび前記式(化6)に示す化学構造の少なくとも一方の
化学構造である構成繰り返し単位についての割合が、0
%より大きく75%以下の範囲である請求項9に記載の
導電性ペースト。
10. A ratio of a structural repeating unit having at least one of the chemical structure represented by the formula (Chem. 3) and the chemical structure represented by the formula (Chem. 4) in the weight average polymerization degree of the polyimide precursor. But 25% or more 100
%, And the ratio of the structural repeating unit which is the chemical structure represented by the chemical formula (Chem. 5) or at least one of the chemical structures represented by the formula (Chem. 6) is 0.
The conductive paste according to claim 9, wherein the range is more than 75% and less than 75%.
JP11165121A 1998-06-12 1999-06-11 Conductive paste Pending JP2000067646A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11165121A JP2000067646A (en) 1998-06-12 1999-06-11 Conductive paste

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10-164903 1998-06-12
JP16490398 1998-06-12
JP11165121A JP2000067646A (en) 1998-06-12 1999-06-11 Conductive paste

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000067646A true JP2000067646A (en) 2000-03-03

Family

ID=26489836

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11165121A Pending JP2000067646A (en) 1998-06-12 1999-06-11 Conductive paste

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000067646A (en)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003506820A (en) * 1999-07-29 2003-02-18 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング Screen printing paste for electrical structures on a support substrate
JP2004128411A (en) * 2002-10-07 2004-04-22 Sharp Corp Solar cell and method of manufacturing the same
US7291789B2 (en) * 2002-07-17 2007-11-06 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Copper paste and wiring board using the same
KR100894663B1 (en) * 2006-03-31 2009-04-24 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 Conductive paste composition and printed wiring board
JP2010515238A (en) * 2006-07-29 2010-05-06 ショッキング テクノロジーズ インコーポレイテッド Dielectrically switchable dielectric with conductive or semiconductive organic material
JP2010537429A (en) * 2007-08-20 2010-12-02 ショッキング テクノロジーズ インコーポレイテッド Voltage-switchable dielectric material containing modified high aspect ratio particles
US8206614B2 (en) 2008-01-18 2012-06-26 Shocking Technologies, Inc. Voltage switchable dielectric material having bonded particle constituents
KR20130035233A (en) 2011-09-29 2013-04-08 다이요 홀딩스 가부시키가이샤 Conductive resin composition, conductive resin cured product and conductor circuit
KR101410447B1 (en) 2008-03-06 2014-06-20 김종현 Conductive paste for electronic component mounting having excellent conductivity and method of manufacturing the same
US9208931B2 (en) 2008-09-30 2015-12-08 Littelfuse, Inc. Voltage switchable dielectric material containing conductor-on-conductor core shelled particles
JP2021166268A (en) * 2020-04-08 2021-10-14 株式会社東芝 Superconducting coil

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4843171B2 (en) * 1999-07-29 2011-12-21 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング Screen printing paste for electrical structures on support substrate
JP2003506820A (en) * 1999-07-29 2003-02-18 ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング Screen printing paste for electrical structures on a support substrate
US7291789B2 (en) * 2002-07-17 2007-11-06 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Copper paste and wiring board using the same
JP2004128411A (en) * 2002-10-07 2004-04-22 Sharp Corp Solar cell and method of manufacturing the same
KR100894663B1 (en) * 2006-03-31 2009-04-24 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 Conductive paste composition and printed wiring board
JP2010515238A (en) * 2006-07-29 2010-05-06 ショッキング テクノロジーズ インコーポレイテッド Dielectrically switchable dielectric with conductive or semiconductive organic material
JP2010515239A (en) * 2006-07-29 2010-05-06 ショッキング テクノロジーズ インコーポレイテッド Dielectric material with high aspect ratio particles switchable by voltage
JP2010537429A (en) * 2007-08-20 2010-12-02 ショッキング テクノロジーズ インコーポレイテッド Voltage-switchable dielectric material containing modified high aspect ratio particles
US8206614B2 (en) 2008-01-18 2012-06-26 Shocking Technologies, Inc. Voltage switchable dielectric material having bonded particle constituents
KR101410447B1 (en) 2008-03-06 2014-06-20 김종현 Conductive paste for electronic component mounting having excellent conductivity and method of manufacturing the same
US9208931B2 (en) 2008-09-30 2015-12-08 Littelfuse, Inc. Voltage switchable dielectric material containing conductor-on-conductor core shelled particles
KR20130035233A (en) 2011-09-29 2013-04-08 다이요 홀딩스 가부시키가이샤 Conductive resin composition, conductive resin cured product and conductor circuit
JP2021166268A (en) * 2020-04-08 2021-10-14 株式会社東芝 Superconducting coil
JP7395412B2 (en) 2020-04-08 2023-12-11 株式会社東芝 superconducting coil

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3949658B2 (en) Conductive composition, conductive film and method for forming conductive film
JPH06196304A (en) Composition of polymer thick-film resistor
US6228288B1 (en) Electrically conductive compositions and films for position sensors
JP2005171215A (en) Electrically conductive polymer composition containing zirconia for coating, used for highly abrasion resistant film
JP2000067646A (en) Conductive paste
JP3532749B2 (en) Conductive composition, conductive adhesive using the same
US6083426A (en) Conductive paste
JPWO2003035739A1 (en) Conductive resin composition and electronic component using the same
JP2011034869A (en) Conductive paste
TW200417531A (en) Terminal electrode compositions for multilayer ceramic capacitors
JP2005078967A (en) Conductive paste
JP3299083B2 (en) Method for producing carbon-based conductive paste
JP7556806B2 (en) Conductive paste and its use
JP3917037B2 (en) External electrode and electronic component including the same
JP4396126B2 (en) Conductive copper paste composition
JP2014080555A (en) Thermosetting composition, and thermosetting conductive paste
JP2000164403A (en) Heat-resistant resistor paste, heat-resistant resistor and method for manufacturing heat-resistant resistor
JP2002302625A (en) Carbon black pigment for conductive black paint and conductive black paint containing the carbon black pigment
JPS6058268B2 (en) Conductive copper paste composition
JP2002110402A (en) Low antibody paste and variable resistor
JP7739246B2 (en) Conductive paste and its use
JPH0461703A (en) Electroconductive paste for printing
JPH0149390B2 (en)
JPH0195168A (en) Conductive paint composition
JPH10208547A (en) Conductive copper paste composition