JP2000066377A - ヒートモード記録画像形成材料及び画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高感度で、保存性が優れたヒートモード記録
画像形成材料を提供すること。 【解決手段】 支持体上に、フェノール性水酸基含有樹
脂と赤外吸収物質を含有する感光層を設け、その上に水
不溶性高分子よりなる第二層を設けたヒートモード記録
画像形成材料及び該ヒートモード記録画像形成材料を用
いた画像形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体レーザを用いて
画像を形成することができるヒートモード記録画像形成
材料及び該ヒートモード記録画像形成材料を用いた画像
形成方法に関する。

【０００２】

【発明の背景】近年、レーザーを用いてデジタル的に像
を形成し平版印刷版を作製することが行われてきてい
る。例えば、ＷＯ９６／２０４２９号には、ｏ−キノン
ジアジドエステル化フェノール樹脂またはｏ−キノンジ
アジドエステル化物とフェノール樹脂の混合物を支持体
上に塗設したヒートモード記録平版印刷版を、紫外線に
て全面露光した後、半導体レーザーまたはＹＡＧレーザ
ーにて画像露光し、レーザー露光部以外を現像液にて除
去するヒートモード記録方法が記載されている。

【０００３】また、特開平７−４３８９４号公報には、
ｏ−キノンジアジド化合物と、分子中に窒素を含有する
特定の化学構造を有し、極大吸収波長が６８０〜１２５
０ｎｍにあるシアニン系色素、アズレニウム系色素、ス
クワリウム系色素、クロコニウム系色素、キノン系色
素、チアジン系色素、キサンテン系色素から選ばれた、
ｏ−キノンジアジド化合物の光反応生成物と加熱により
反応してアルカリ不溶物を形成させる添加物を含有する
組成物を支持体上に設けた画像形成材料に活性光線を用
いて全面露光し、赤外レーザービームを照射し、アルカ
リ性現像液を用いてレーザービームの非照射領域を除去
し、画像を形成する方法が記載されている。

【０００４】また、赤外線及び紫外線により記録可能な
材料として、米国特許第５，３４０，６９９号明細書に
は、光酸発生剤、レゾール樹脂、ノボラック樹脂及び赤
外線吸収色素を含有する感光層を、赤外線レーザー露光
後、アルカリ現像液で現像する画像形成方法が記載され
ている。

【０００５】しかし、これらの画像形成材料は、保存性
が悪いという欠点あったり、また、半導体レーザーやＹ
ＡＧレーザーのような赤外線レーザーに対して感度が実
用的に十分ではなかったりしており、更に保存性が優
れ、高感度な画像形成材料が望まれていた。

【０００６】

【本発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目
的は、高感度で、保存性が優れたヒートモード記録画像
形成材料を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、 （１）支持体上に、フェノール性水酸基含有樹脂と赤外
吸収物質を含有する感光層を設け、その上に水不溶性高
分子よりなる第二層を設けたことを特徴とするヒートモ
ード記録画像形成材料。 （２）感光層が、ｏ−キノンジアジド化合物、ジアゾ化
合物及びアジド化合物から選ばれた感光体を含有するこ
とを特徴とする請求項１に記載のヒートモード記録画像
形成材料。 （３）赤外吸収物質が、分子内に窒素原子を含有しな
い、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、チオールニ
ッケル錯塩色素、メルカプトフェノール錯塩及びメルカ
プトナフトール錯塩色素から選ばれた赤外吸収色素であ
ることを特徴とする上記（１）または（２）に記載のヒ
ートモード記録画像形成材料。 （４）感光層に、光酸発生剤及び酸分解化合物を含有さ
せたことを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに
記載のヒートモード記録画像形成材料。 （５）感光層に、ニトロセルロールを含有させたことを
特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載のヒー
トモード記録画像形成材料。 （６）上記（１）〜（５）のいずれかに記載のヒートモ
ード記録画像形成材料を、レーザー露光後、水系現像液
で現像することを特徴とする画像形成方法。 によって達成された。

【０００８】以下、本発明について詳細に説明する。

【０００９】先ず、本発明に用いられるフェノール性水
酸基含有樹脂について説明する。

【００１０】本発明に用いられるフェノール性水酸基含
有樹脂としては、例えば、ノボラック樹脂、フェノール
性水酸基を有するビニル系重合体、特開昭５５−５７８
４１号公報に記載されている多価フェノールとアルデヒ
ドまたはケトンとの縮合樹脂等が挙げられる。

【００１１】上記ノボラック樹脂としては、例えば、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルム
アルデヒド樹脂、特開昭５５−５７８４１号公報に記載
されているフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド
共重縮合樹脂、特開昭５５−１２７５５３号公報に記載
されているｐ−置換フェノールとフェノールもしくはク
レゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合樹脂等が挙げ
られる。

【００１２】ノボラック樹脂の分子量（ポリスチレン標
準）は、好ましくは、数平均分子量Ｍｎで３．００×ｌ
０²〜７．５０×ｌ０³、重量平均分子量Ｍｗで１．００
×１０³〜３．００×１０⁴であり、より好ましくは、Ｍ
ｎが５，００×ｌ０²〜４．００×１０³、Ｍｗが、３．
００×１０³〜２．００×１０⁴である。

【００１３】上記ノボラック樹脂は単独で用いてもよい
し、２種以上を組合せて用いてもよい。

【００１４】上記ノボラック樹脂の感光性組成物中に占
める割合は５〜９５重量％が好ましい。

【００１５】本発明に用いられる上記フェノール性水酸
基を有するビニル系重合体とは、フェノール性水酸基を
有する単位を分子構造中に有する重合体であり、下記一
般式［Ｉ］〜［Ｖ］の少なくとも１つの構造単位を含む
重合体が好ましい。

【００１６】

【化１】

【００１７】一般式［Ｉ］〜一般式［Ｖ］において、Ｒ
₁及びＲ₂はそれぞれ水素原子、アルキル基またはカルボ
キシル基を表し、好ましくは水素原子である。Ｒ₃は水
素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表し、好まし
くは水素原子またはメチル基、エチル基等のアルキル基
である。Ｒ₄は水素原子、アルキル基、アリール基また
はアラルキル基を表し、好ましくは水素原子である。Ａ
は窒素原子または酸素原子と芳香族炭素原子とを連結す
る置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、ｍは
０〜ｌ０の整数を表し、Ｂは置換基を有していてもよい
フェニレン基または置換基を有してもよいナフチレン基
を表す。

【００１８】本発明に用いられる上記フェノール性水酸
基を有するビニル系重合体としては、共重合体型の構造
を有するものが好ましく、前記一般式［Ｉ］〜［Ｖ］で
それぞれ表される構造単位と共重合させる単量体として
は、例えば、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブ
タジエン、イソプレン等のエチレン系不飽和オフィレン
類、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチ
ルスチレン、ｐ−クロロスチレン等のスチレン類、例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸類、例え
ば、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等の不飽
和脂肪族ジカルボン酸類、例えば、アクリル酸メチル、
アクリル酸エチル、アクリル酸−ｎ−ブチル、アクリル
酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸−２−
クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロアクリ
ル酸メチル、ベンジルメタクリレート、メタクリル酸メ
チル、メタクリル酸エチル、エタクリル酸エチル等のα
−メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル類、例え
ば、アクリロニトリル、メタアクリロニトリル等のニト
リル類、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド等
のアミド類、例えば、アクリルアニリド、ｐ−クロロア
クリルアニリド、ｍ−ニトロアクリルアニリド、ｍ−メ
トキシアクリルアニリド等のアニリド類、例えば、酢酸
ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ベンゾエ酸
ビニル等のビニルエステル類、例えば、メチルビニルエ
ーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエー
テル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエー
テル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、ビニリデ
ンシアナイド、例えば、１−メチル−１−メトキシエチ
レン、１，１−ジメトキシエチレン、１，２−ジメトキ
シエチレン、１，１−ジメトキシカルボニルエチレン、
１−メチル−１−ニトロエチレン等のエチレン誘導体
類、例えば、Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−ビニルカルバゾ
ール、Ｎ−ビニルインドール、Ｎ−ビニルピロリデン、
Ｎ−ビニルピロリドン等のＮ−ビニル系単量体がある。
これらの単量体は、不飽和二重結合が開裂した構造で高
分子化合物中に存在する。

【００１９】上記の単量体のうち脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。

【００２０】これらの単量体は、本発明に用いられる重
合体中にブロックまたはランダムのいずれかの状態で結
合していてもよい。

【００２１】上記フェノール性水酸基を有するビニル系
重合体の感光性組成物中に占める割合は０．５〜７０重
量％が好ましい。

【００２２】フェノール性水酸基を有するビニル系重合
体は、上記重合体を単独で用いてもよいし、また２種以
上組合せて用いてもよい。また、他の高分子化合物等と
組合せて用いることもできる。

【００２３】次に、本発明の感光層に含有させるｏ−キ
ノンジアジド化合物、ジアゾ化合物及びアジド化合物に
ついて説明する。

【００２４】（１）ｏ−キノンジアジド化合物 ｏ−キノンジアジド化合物とは、分子中にｏ−キノンジ
アジド基を有する化合物であり、本発明で使用すること
ができるｏ−キノンジアジド化合物は、特に制限される
ものではない。

【００２５】本発明で使用することができるｏ−キノン
ジアジド化合物としては、例えば、ｏ−キノンジアジド
基を有する重縮合樹脂、例えば、ｏ−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸と、フェノール類及びアルデヒドまたは
ケトンとの重縮合樹脂とのエステル化合物等が挙げられ
る。

【００２６】上記フェノール類及びアルデヒドまたはケ
トンとの重縮合樹脂におけるフェノール類としては、例
えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、
ｐ−クレゾール、３，５−キシレノール、カルバクロー
ル、チモール等の一価フェノール、カテコール、レゾル
シン、ヒドロキノン等の二価フェノール、ピロガロー
ル、フロログルシン等の三価フェノール等が挙げられ
る。アルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、
ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデ
ヒド、フルフラール等が挙げられる。これらのうちで好
ましいものはホルムアルデヒド及びベンズアルデヒドで
ある。ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチ
ルケトン等が挙げられる。

【００２７】フェノール類及びアルデヒドまたはケトン
との重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、ｍ−，ｐ−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。

【００２８】前記ｏ−ナフトキノンジアジド化合物にお
いて、フェノール類のＯＨ基に対するｏ−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸の縮合率（ＯＨ基１個に対する反応
率）は、１５％〜８０％が好ましく、より好ましくは２
０％〜４５％である。

【００２９】更に、本発明に用いられるｏ−キノンジア
ジド化合物としては、特開昭５８−４３４５１号公報に
記載の以下の化合物も挙げることができる。即ち、例え
ば、１，２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、１，２−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、
１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどの
公知の１，２−キノンジアジド化合物、更に具体的に
は、ジェイ・コサール（J.Kosar）著「ライト−センシ
ティブ・システムズ」（Light-Sensitive Systems）第
３３９〜３５２頁（１９６５年）〔ジョン・ウィリー・
アンド・サンズ（John Willey & Sons）社（ニューヨー
ク）〕やダブリュー・エス・ディ・フォレスト（W.S.De
Forest）著「フォトレジスト」（Photoresist）第５０
巻（１９７５年）〔マックローヒル（Mc Graw Hill）社
（ニューヨーク）〕に記載されている１，２−ベンゾキ
ノンジアジド−４−スルホン酸フェニルエステル、１，
２，１′，２′−ジ−（ベンゾキノンジアジド−４−ス
ルホニル）−ジヒドロキシビフェニル、１，２−ベンゾ
キノンジアジド−４−（Ｎ−エチル−Ｎ−β−ナフチ
ル）−スルホンアミド、１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸シクロヘキシルエステル、１−（１，
２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル）−３，５
−ジメチルピラゾール、１，２−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸−４′−ヒドロキシジフェニル−４′
−アゾ−β−ナフトールエステル、Ｎ，Ｎ−ジ−（１，
２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル）−アニリ
ン、２′−（１，２−ナフトキノンジアジド−５−スル
ホニルオキシ）−１−ヒドロキシ−アントラキノン、
１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸−２，
４−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、１，２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホン酸−２，３，４−ト
リヒドロキシベンゾフェノンエステル、１，２−ナフト
キノンジアジド−５−スルホン酸クロリド２モルと４，
４′−ジアミノベンゾフェノン１モルとの縮合物、１，
２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド２
モルと４，４′−ジヒドロキシ−１，１′−ジフェニル
スルホン酸１モルとの縮合物、１，２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸クロリド１モルとプルプロガリ
ン１モルとの縮合物、１，２−ナフトキノンジアジド−
５−（Ｎ−ジヒドロアビエチル）−スルホンアミドなど
の１，２−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。

【００３０】また、特公昭３７−１９５３号、同３７−
３６２７号、同３７−１３１０９号、同４０−２６１２
６号、同４０−３８０１号、同４５−５６０４号、同４
５−２７３４５号、同５１−１３０１３号、特開昭４８
−９６５７５号、同４８−６３８０２号、同４８−６３
８０３号各公報に記載された１，２−キノンジアジド化
合物も挙げることができる。

【００３１】上記ｏ−キノンジアジド化合物のうち、
１，２−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロライドま
たは１，２−ナフトキノンジアジドスルホニルクロライ
ドをピロガロール・アセトン樹脂または２，３，４−ト
リヒドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるｏ−
キノンジアジドエステル化合物が特に好ましい。

【００３２】本発明において、ｏ−キノンジアジド化合
物は、上記化合物を各々単独で用いてもよいし、２種以
上を組合せて用いてもよい。

【００３３】ｏ−キノンジアジド化合物の感光性組成物
中に占める割合は、５〜６０重量％が好ましく、特に好
ましいのは、１０〜５０重量％である。

【００３４】（２）ジアゾ化合物 ジアゾ化合物としては、感光性化合物として機能するも
のであれば、任意のものを用いることができ、例えば、
芳香族ジアゾニウム化合物とカルボニル化合物との縮合
樹脂が挙げられる。

【００３５】これら縮合樹脂としては、下記一般式
（１）または（２）で表される構造を有するジアゾ樹脂
が好ましい。

【００３６】

【化２】 （式中、Ｒは、水素原子、アルキル基、フェニル基を表
し、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、それぞれ、水素原子、アルコ
キシ基、アルキル基を表し、Ｘは、対アニオンを示す。
Ｙは、−ＮＨ−、−Ｏ−または−Ｓ−を表す。ｎは、整
数を表す。）

【００３７】

【化３】 （式中、Ａは、縮合可能な芳香族性基を表し、Ｒ、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｘ、Ｙ及びｎは、それぞれ上記一般式
（１）のＲ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｘ、Ｙ及びｎと同義であ
る。） 上記一般式（１）及び（２）で表されるジアゾ樹脂の構
造単位となる芳香族ジアゾニウム化合物には、例えば、
特公昭４９−４８００１号公報に挙げられるようなジア
ゾニウム塩を用いることができるが、特に、ジフェニル
アミン−４−ジアゾニウム塩類が好ましい。ジフェニル
アミン−４−ジアゾニウム塩類は、４−アミノジフェニ
ルアミン類から誘導されるが、このような４−アミノジ
フェニルアミン類としては、４−アミノジフェニルアミ
ン、４−アミノ−３−メトキシジフェニルアミン、４−
アミノ−２−メトキシジフェニルアミン、４′−アミノ
−２−メトキシジフェニルアミン、４′−アミノ−４−
メトキシジフェニルアミン、４−アミノ−３−メチルジ
フェニルアミン、４−アミノ−３−エトキシジフェニル
アミン、４−アミノ−３−（β−ヒドロキシエトキシ）
ジフェニルアミン、４−アミノジフェニルアミン−２−
スルホン酸、４−アミノジフェニルアミン−２−カルボ
ン酸、４−アミノジフェニルアミン−２′−カルボン酸
等を挙げることができる。これらのうち、特に好ましい
ものとしては、４−アミノジフェニルアミン、４−アミ
ノ−３−メトキシジフェニルアミンを挙げることができ
る。

【００３８】上記一般式（２）において、Ａで表される
芳香族性基を与えるために用いることができる芳香族化
合物の具体例としては、ｍ−クロロ安息香酸、ジフェニ
ル酢酸、フェノキシ酢酸、ｐ−メトキシフェニル酢酸、
ｐ−メトキシ安息香酸、２，４−ジメトキシ安息香酸、
２，４−ジメチル安息香酸、ｐ−フェノキシ安息香酸、
４−アニリノ安息香酸、４−（ｍ−メトキシアニリノ）
安息香酸、４−（ｐ−メチルベンゾイル）安息香酸、４
−（ｐ−メチルアニリノ）安息香酸、フェノール、クレ
ゾール、キシレノール、レゾルシン、２−メチルレゾル
シン、メトキシフェノール、エトキシフェノール、カテ
コール、フロログルシン、ｐ−ヒドロキシエチルフェノ
ール、ナフトール、ピロガロール、ヒドロキノン、ｐ−
ヒドロキシベンジルアルコール、４−クロロレゾルシ
ン、ビフェニル−４，４′−ジオール、１，２，４−ベ
ンゼントリオール、ビスフェノールＡ、２，４−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、ｐ−ヒドロキシアセトフェノン、４，
４′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４′−ジ
メトキシジフェニルエーテル、４，４′−ジヒドロキシ
ジフェニルアミン、４，４′−ジヒドロキシジフェニル
スルフィド、クミルフェノール、クロロフェノール、ブ
ロモフェノール、サリチル酸、ｐ−ヒドロキシ安息香
酸、２−メチル−４−ヒドロキシ安息香酸、２，４−ジ
ヒドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、
３，５−ジヒドロキシ安息香酸、４−クロロ−２，６−
ジヒドロキシ安息香酸、４−メトキシ−２，６−ジヒド
ロキシ安息香酸、没食子酸、フロログリシンカルボン
酸、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、
桂皮酸、桂皮酸メチル、桂皮酸エチル、ｐ−ヒドロキシ
桂皮酸、スチレン、ヒドロキシスチレン、スチルベン、
４−ヒドロキシスチルベン、４，４′−ジヒドロキシス
チルベン、４−カルボキシスチルベン、４，４′−ジカ
ルボキシスチルベン、ジフェニルエーテル、ジフェニル
アミン、ジフェニルチオエーテル、４−メトキシジフェ
ニルエーテル、４−メトキシジフェニルアミン、４−メ
トキシジフェニルチオエーテル等を挙げることができ
る。

【００３９】本発明の感光性組成物中に含有されるこれ
らのジアゾ化合物のなかでも、分子内にカルボキシル基
を有するジアゾ化合物が特に好ましく用いられる。分子
内にカルボキシル基を有するジアゾ化合物の好ましい例
としては、上記一般式（２）において、Ａで表される芳
香族性基中にカルボキシル基を含有する構造を有するジ
アゾ樹脂が挙げられる。この際、Ａで表される芳香族性
基を与えるために用いることができる芳香族化合物の好
ましい具体例としては、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−
メトキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ桂皮酸、フェノキシ
酢酸が挙げられる。

【００４０】上記ジアゾ樹脂は、公知の方法、例えば、
フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エンジニア
リング（Photo.Sci.Eng.）第１７巻、第３３頁（１９７
３）、米国特許第２，０６３，６３１号、同第２，６７
９，４９８号各明細書、特公昭４９−４８００１号公報
に記載の方法に従い、硫酸や燐酸あるいは塩酸中で芳香
族ジアゾニウム塩、必要に応じて上記一般式（２）にお
いてＡで表される芳香族性基を与える芳香族化合物、及
び活性カルボニル化合物、例えば、パラホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトン、
あるいはアセトフェノン等を重縮合させることによって
得られる。

【００４１】また、一般式（２）においてＡで表される
芳香族性基を与える芳香族化合物と芳香族ジアゾ化合物
及び活性カルボニル化合物はその相互の組み合わせは自
由であり、さらに各々２種以上を混ぜて縮合することも
可能である。

【００４２】また、縮合の際に、Ａで表される芳香族性
基を与える芳香族化合物の仕込のモル数は、芳香族ジア
ゾニウム化合物のモル数に対し、好ましくは０．１〜１
０倍、より好ましくは０．２〜２倍、さらに好ましくは
０．２〜１倍である。また、この場合、Ａで表される芳
香族性基を与える芳香族化合物及び芳香族ジアゾニウム
化合物の合計モル数に対し、活性カルボニル化合物をモ
ル数で通常好ましくは０．５倍〜１．５倍、より好まし
くは０．６〜１．２倍で仕込み、低温で短時間、例え
ば、３時間程度反応させることによりジアゾ樹脂が得ら
れる。

【００４３】本発明においてより好ましく用いることの
できる、分子内にカルボキシル基を有するジアゾ樹脂を
合成する手段は任意だが、代表的な手段としては、
（Ａ）芳香族ジアゾニウム塩、芳香族カルボン酸、及び
活性カルボニル化合物の重縮合反応、（Ｂ）カルボキシ
ル基を有する芳香族ジアゾニウム塩と活性カルボニル化
合物の重縮合反応、（Ｃ）芳香族ジアゾニウム塩とカル
ボキシル基を有する活性カルボニル化合物の重縮合反応
の３通りが挙げられる。これらの方法のうち、（Ａ）の
手段が合成手法上と合成原料の入手しやすさの点で好ま
しい。

【００４４】上記ジアゾ樹脂の対アニオンは、該ジアゾ
樹脂と安定に塩を形成し、かつ、該樹脂を有機溶媒に可
溶となすアニオンが好ましい。このようなアニオンを形
成する酸としては、デカン酸及び安息香酸等の有機カル
ボン酸、フェニル燐酸等の有機燐酸、有機スルホン酸を
含み、典型的な例としては、メタンスルホン酸、クロロ
エタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸、ベンゼンスル
ホン酸、トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、
アントラキノンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ア
ルキル置換ナフタレンスルホン酸等の脂肪族スルホン酸
並びに芳香族スルホン酸、ヘキサフルオロ燐酸、テトラ
フルオロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、過塩素酸、過
ヨウ素酸等の過ハロゲン酸等を挙げることができる。た
だし、これに限られるものではない。これらの中で、特
に好ましいのは、ヘキサフルオロ燐酸、テトラフルオロ
ホウ酸である。

【００４５】本発明において、用いるジアゾ樹脂の分子
量には特に限定はなく、例えば、上記のジアゾ樹脂は、
各単量体のモル比及び縮合条件を種々変えることによ
り、その分子量は任意の値として得ることができるが、
本発明においては一般に、好ましくは、分子量が約４０
０〜１０，０００のものが有効に使用でき、より好まし
くは、約８００〜５，０００のものが適当である。

【００４６】また、本発明の感光性組成物中に含有され
るこれらのジアゾ化合物の量は０〜３０重量％が好まし
いが、より好ましくは０．５〜２０重量％である。

【００４７】（３）アジド化合物 本発明に用いることができるアジド化合物としては、下
記化合物を具体的に挙げることができる。

【００４８】

【化４】

【００４９】

【化５】

【００５０】

【化６】

【００５１】

【化７】 但し、当然のことであるが、本発明に使用できるアジド
化合物は、上記した具体例にのみ限られるものではな
い。

【００５２】次に、本発明で用いられる赤外吸収物質に
ついて説明する。

【００５３】赤外線吸収剤としては、波長７００ｎｍ以
上に吸収を持つ赤外吸収色素、カーボンブラック、磁性
粉等を使用することができる。特に好ましい赤外線吸収
剤は７００〜１２００ｎｍに吸収ピークを有し、ピーク
でのモル吸光係数εが１０⁵以上である赤外吸収色素で
ある。

【００５４】上記赤外吸収色素としては、シアニン系色
素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チ
オピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アン
トラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分
子間ＣＴ色素、アミニウム色素、ジイモニウム色素、ピ
リリウム色素、チオピリリウム色素、チオールニッケル
錯塩色素、メルカプトフェノール錯塩色素、メルカプト
ナフトール錯塩色素等が挙げられる。

【００５５】上記赤外吸収色素としては、更に、特開昭
６３−１３９１９１号公報、同６４−３３５４７号公
報、特開平１−１６０６８３号公報、同１−２８０７５
０号公報、同１−２９３３４２号公報、同２−２０７４
号公報、同３−２６５９３号公報、同３−３０９９１号
公報、同３−３４８９１号公報、同３−３６０９３号公
報、同３−３６０９４号公報、同３−３６０９５号公
報、同３−４２２８１号公報、同３−１０３４７６号公
報等に記載の化合物が挙げられる。

【００５６】赤外線吸収剤としては、下記一般式（３）
で表されるシアニン染料が好ましく用いられる。

【００５７】

【化８】 一般式（３）において、（Ｘ）は、分子の電荷を相殺す
るのに必要なイオンを表し、ｎは、分子の総電荷を中和
させるのに必要な数を表す。分子内塩を形成している場
合、ｎは０である。対イオンの例としては、

【００５８】

【化９】 ｔ−ブチルトリフェニルホウ素等のアルキルホウ素等が
挙げられる。

【００５９】一般式（３）において、Ａは５ないし１３
の共役炭素原子を表す。共役炭素原子における炭素原子
数は、画像露光の光源として赤外線を放射するレーザー
が使用される場合、該レーザーの発振波長に合わせて有
効な数を選択することが好ましい。例えば、発振波長１
０６０ｎｍのＹＡＧレーザーを使用する場合は、炭素数
が９〜１３の共役炭素原子が好ましい。この共役炭素原
子は水素原子または任意の置換基を有している。また、
共役結合部分は置換基により環を形成させてもよい。

【００６０】一般式（３）において、Ｚ₁で形成される
環及びＺ₂で形成される環は縮合環を有していてもよ
く、また、任意の置換基を有することができる。置換基
としてハロゲン原子、炭素原子数１〜５のアルキル基、
炭素原子数１〜５のアルコキシ基、−ＳＯ₃Ｍ及び一Ｃ
ＯＯＭ（Ｍは水素原子またはアルカリ金属原子）から選
ばれる基が好ましい。

【００６１】Ｙ₁及びＹ₂は任意の置換基を表し、好まし
い置換基としては、炭素原子数１〜５のアルキル基もし
くはアルコキシ基；−〔（ＣＨ₂）_n−Ｏ〕_k−（ＣＨ₂）
_mＯＲ（ｎ及びｍは各々１〜３の整数、ｋは０または
１、Ｒは炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。）；−
Ｒ−ＳＯ₃Ｍ（Ｒは炭素原子数１〜５のアルキレン基、
Ｍはアルカリ金属原子を表す。）；−Ｒ−ＣＯＯＭ（Ｒ
は炭素原子数１〜５のアルキレン基、Ｍはアルカリ金属
原子を表す。）が挙げられる。Ｙ₁及びＹ₂は、感度及び
現像性の点から、分子内塩を形成する上記−Ｒ−ＳＯ₃
Ｍまたは−Ｒ−ＣＯＯＭであることが好ましい。

【００６２】本発明において、赤外線吸収剤の添加量
は、０．５〜１５重量％の範囲が好ましい。添加量が１
５重量％を越えると非画像部（露光部）の現像性が低下
し、０．５重量％未満では画像部の耐現像性が低下す
る。

【００６３】本発明に好ましく用いられる赤外線吸収剤
（一般式（３）で表されるシアニン色素を含む）の代表
的具体例を以下に挙げるが、これらに限定されない。

【００６４】

【化１０】

【００６５】

【化１１】

【００６６】

【化１２】

【００６７】

【化１３】

【００６８】

【化１４】

【００６９】

【化１５】

【００７０】

【化１６】

【００７１】

【化１７】

【００７２】

【化１８】

【００７３】

【化１９】

【００７４】

【化２０】

【００７５】

【化２１】

【００７６】

【化２２】

【００７７】

【化２３】

【００７８】これらの色素は公知の方法によって合成す
ることができるが、下記のような市販品を用いることも
できる。 日本化薬：ＩＲ７５０（アントラキノン系）；ＩＲＧ０
０２、ＩＲＧ００３（アミニウム系）；ＩＲ８２０（ポ
リメチン系）；ＩＲＧ０２２、ＩＲＧ０３３（ジイモニ
ウム系）；ＣＹ−２、ＣＹ−４、ＣＹ−９、ＣＹ−２０ 三井東圧：ＫＩＲ１０３、ＳＩＲ１０３（フタロシアニ
ン系）；ＫＩＲ１０１、ＳＩＲ１１４（アントラキノン
系）；ＰＡ１００１、ＰＡ１００５、ＰＡ１００６、Ｓ
ＩＲ１２８（金属錯体系） 大日本インキ化学：Ｆａｓｔｏｇｅｎ ｂｌｕｅ８１２
０ みどり化学：ＭＩＲ−１０１、ＭＩＲ−１０１１、ＭＩ
Ｒ−１０２１ 日本感光色素：ＮＫＸ−１１３（金属錯体系）、ＮＫ−
３５０８，ＮＫ３５０９，ＮＫ−３５１９（ピリリウム
系）、ＮＫ−２５４５（シアニン系） その他、住友化学、富士写真フィルム等の各社からも市
販されている。

【００７９】本発明の感光層に、光酸発生剤及び酸分解
化合物を含有させることが好ましい。

【００８０】光酸発生剤とは、活性光線の照射により酸
を発生し得る化合物をいう。これら光酸発生剤として
は、各種の公知化合物及び混合物が挙げられる。例え
ば、ジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウム及びヨ
ードニウムと、

【００８１】

【化２４】 などとの塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノン−ジア
ジドスルホニルクロリドが挙げられる。また、有機金属
及び有機ハロゲン化合物も活性光線の照射の際に酸を形
成または分離する活性光線感光性成分であり、本発明の
光酸発生剤として使用することができる。原理的には遊
離基形成性の光開始剤として知られるすべての有搬ハロ
ゲン化合物は、ハロゲン化水素酸を形成する化合物で、
本発明の光酸発生剤として使用することができる。

【００８２】ハロゲン化水素酸を形成する化合物の例と
しては、米国特許明細書第３，５１５，５５２号、同第
３，５３６，４８９号、同第３，７７９，７７８号及び
西ドイツ国特許公開公報第２，２４３，６２１号に記載
されている化合物が挙げられる。また、例えば、西ドイ
ツ国特許公開公報第２，６１０，８４２号に記載の光分
解により酸を発生させる化合物も使用することができ
る。

【００８３】また更に、特開昭５４−７４７２８号公
報、特開昭５５−２４１１３号公報、特開昭５５−７７
７４２号公報、特開昭６０−３６２６号公報、特開昭６
０−１３８５３９号公報に記載の２−ハロメチル−１，
３，４−オキサジアゾール系化合物など、具体的には、
２−トリクロロメチル−５−［β（２−ベンゾフリル）
ビニル］−１，３，４−オキサジアゾールを使用するこ
とができる。

【００８４】また、本発明の光酸発生剤の具体例として
は、特開昭５６−１７３４５号公報に記載のものを挙げ
ることができる。

【００８５】また、特開昭５０−３６２０９尋公報に記
載されているｏ−ナフトキノンジアジト−４−スルホン
酸ハロゲニドを用いることができる。本発明において、
特に好ましい酸発生剤は、感度の面から、ジアゾニウム
塩及びオキサジアゾール系有機ハロゲン化合物である。
さらに、平版印刷版として使用される場合には、印刷性
能の面から、ジアゾニウム塩が最も好ましい。

【００８６】有機ハロゲン化合物は、赤外線露光による
画像形成における感度及び画像形成材料の保存性の面か
ら好ましい。該有機ハロゲン化合物としては、ハロゲン
置換アルキル基を有するトリアジン類及びハロゲン置換
アルキル基を有するオキサジアゾール類が好ましく、ハ
ロゲン置換アルキル基を有するｓ−トリアジン類が特に
好ましい。

【００８７】ハロゲン置換アルキル基を有するオキサジ
アゾール類の具体例としては、特開昭５４−７４７２８
号公報、特開昭５５−２４１１３号公報、特開昭５５−
７７７４２号公報、特開昭６０−３６２６号公報及び特
開昭６０−１３８５３９号公報に記載の２−ハロメチル
−１，３，４−オキサジアゾール系化合物が挙げられ
る。これらのうち、２−トリクロロメチル−５−｛β
（２−ベンゾフリル）ビニル｝−１，３，４−オキサジ
アゾール等が好ましい。

【００８８】上記ハロゲン置換アルキル基を有するｓ−
トリアジン類としては、下記一般式（４）で表される化
合物が好ましい。

【００８９】

【化２５】 一般式（４）において、Ｒはアルキル基、ハロゲン置換
アルキル基、アルケニル基、ハロゲン置換アルケニル基
またはアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）
もしくはそれらの置換体を表し、Ｘはハロゲン原子を表
す。（ｍ、ｎは１〜３の整数を表す。） 以下に、一般式（４）で表されるｓ−トリアジン類の具
体例を示す。

【００９０】

【化２６】

【００９１】

【化２７】

【００９２】

【化２８】

【００９３】本発明において、光酸発生剤の添加量は、
その化学的性質及び本発明の画像形成材料の感光層の組
成あるいは物性によって広範囲に変えることができる
が、感光層の固形分の全重量に対して０．１〜２０重量
％の範囲が適当であり、好ましくは０．２〜１０重量％
の範囲である。

【００９４】酸分解化合物とは、感光層において発生す
る酸で分解しうる結合を少なくとも１つ有する化合物を
いう。

【００９５】本発明において酸分解化合物としては、例
えば、特開昭４８−８９００３号公報、同５１−１２０
７１４号公報、同５３−１３３４２９号公報、同５５−
１２９９５号公報、同５５−１２６２３６号公報、同５
６−１７３４５号公報に記載されているＣ−Ｏ−Ｃ結合
を有する化合物、特開昭６０−３７５４９号公報、同６
０−１２１４４６号公報に記載されているＳｉ−Ｏ−Ｃ
結合を有する化合物、特開昭６０−３６２５号公報、同
６０−１０２４７号公報に記載されているその他の酸分
解化合物、特願昭６１−１６６８７号明細書に記載され
ているＳｉ−Ｎ結合を有する化合物、特願昭６１−９４
６０３号明細書に記載されている炭酸エステル、特願昭
６０−２５１７４４号明細書に記載されているオルト炭
酸エステル、特願昭６１−１２５４７３号明細書に記載
されているオルトチタン酸エステル、特願昭６１−１２
５４７４号明細書に記載されているオルトケイ酸エステ
ル、特願昭６１−１５５４８１号明細書に記載されてい
るアセタール及びケタール、特願昭６１−８７７６９号
明細書に記載されているＣ−Ｓ結合を有する化合物など
を用いることができる。

【００９６】上記のうち、前記特開昭５３−１３３４２
９号公報、同５６−１７３４５号公報、同６０−１２１
４４６号公報、同６０−３７５４９号公報、特願昭６０
−２５１７４４号明細書、同６１−１５５４８１号明細
書に記載されているＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、Ｓ
ｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、オルト炭酸エステル、
アセタール類、ケタール類及びシリルエーテル類が好ま
しい。

【００９７】それらの中でも、特開昭５３−１３３４２
９号公報に記載された主鎖中に繰り返しアセタールまた
はケタール部分を有し、現像液中でのその溶解度が酸の
作用によって上昇する有機重合化合物及び特開昭６３−
１０１５３号公報に記載の構造単位、

【００９８】

【化２９】 を有し、酸により分解し得る化合物が特に好ましい。

【００９９】本発明の酸分解化合物の具体的化合物は、
前記各公報及び明細書に記載されており、該化合物の合
成方法は、前記各公報及び明細書中に記載されている。

【０１００】本発明において、酸分解化合物としては、
−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_n−基（ｎは２〜５の整数を表
す。）を有する化合物が、感度及び現像性のバランスの
点から好ましい。該化合物のうちエチレンオキシ基の連
鎖数ｎは３または４の化合物が特に好ましい。

【０１０１】上記化合物の具体例としては、ジメトキシ
シクロヘキサン、ベンズアルデヒド及びそれらの置換誘
導体とジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラエチレングリコール、ペンタエチレングリコ
ールのいずれかとの縮合生成物が挙げられる。

【０１０２】また、本発明において、酸分解化合物とし
て、下記一般式（５）で表される化合物は、感度及び現
像性の点から好ましい。

【０１０３】

【化３０】 一般式（５）で表される化合物のうち、ｍ及びｎが１ま
たは２である化合物が特に好ましい。

【０１０４】酸分解化合物の添加量は、感光層を形成す
る組成物の全固形分に対し、５〜７０重量％が好まし
く、特に好ましくは１０〜５０重量％である。本発明の
酸分解化合物は１種を単独で用いてもよいし、２種以上
を混合して用いてもよい。

【０１０５】本発明のヒートモード記録画像形成材料に
おいて、第二層を構成する水不溶性高分子としては、Ｖ
ＩＣＡＴ軟化温度が０〜１５０℃のものが好ましい。こ
こでいうＶＩＣＡＴ軟化温度は、ＪＩＳ−Ｋ−７２０６
−１９９に示されたＡ法で測定された値をいう。厚さ３
ｍｍの試験片を作成・測定した値をＶＩＣＡＴ軟化温度
とする。

【０１０６】第二層を構成する水不溶性高分子の具体例
としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレ
フィン、エチレンと酢酸ビニルあるいはエチレンとアク
リル酸エステルの共重合体等の如きエチレン共重合体、
ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体
等の如き塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩
化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メ
タ）アクリル酸エステルとの共重合体等の如きスチレン
共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メ
タ）アクリル酸エステルとの共重合体等の如きビニルト
ルエン共重合体、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）
アクリル酸ブチルと酢酸ビニルとの共重合体等の如き
（メタ）アクリル酸エステルの共重合体、酢酸ビニル共
重合体、ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメ
チル化ナイロンの如きポリアミド樹脂、メチルセルロー
ス、エチルセルロース、ブチルセルロース、ヒドロキシ
プロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロ
ース等のセルロース類やこれらのホルマール化物、アセ
タール化物等の誘導体等、アイオノマー樹脂、シリコー
ン樹脂、フッ素樹脂、天然ゴム、合成ゴム等の有機高分
子化合物から選ばれる少なくとも一つの化合物が好まし
いが、さらには「プラスチック性能便覧」（日本プラス
チック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編
著、工業調査会、１９６８年発行）に記載の有機高分子
化合物を使用することができる。また、これらの有機高
分子化合物中には、該化合物と相溶性のある各種の可塑
剤、添加剤を添加することも可能である。

【０１０７】本発明のヒートモード記録平版印刷版は、
前記感光層成分を溶解する溶媒に溶解させ、これらを適
当な支持体の表面に塗布・乾燥し、次いで、第二層成分
を溶解する溶媒に溶解させ、塗布・乾燥することにより
得ることができる。

【０１０８】感光層にニトロセルロールを含有させる
と、感度を上昇させることができるので好ましい。上記
溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、メチル
セロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブアセテート、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、アセト
ン、シクロヘキサノン、トリクロロエチレン、メチルエ
チルケトン等が挙げられる。これら溶媒は、単独である
いは２種以上混合して使用する。

【０１０９】塗布方法としては、従来公知の方法、例え
ば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン
塗布を用いることができる。塗布量は用途により異なる
が、感光層は、例えば、固形分として０．５〜５．０ｇ
／ｍ²が、第二層は、例えば、固形分として０．０５〜
１．０ｇ／ｍ²が好ましい。

【０１１０】支持体としては、アルミニウム、亜鉛、
鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケ
ル、アルミニウム、鉄等がメッキまたは蒸着された金属
板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗
布された紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親
水化処理したプラスチックフィルム等を用いることがで
きる。

【０１１１】支持体には、砂目立て処理、陽極酸化処理
及び必要に応じて封孔処理等の表面処理等を施したアル
ミニウム板（合金板を含む。）を用いることが好まし
い。これらの処理には公知の方法を適用することができ
る。

【０１１２】砂目立て処理の方法としては、例えば、機
械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられ
る。機械的方法としては、例えば、ボール研磨法、ブラ
シ研磨法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等
が挙げられる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の
各種方法を単独であるいは組合わせて用いることができ
る。

【０１１３】電解によるエッチングは、リン酸、硫酸、
塩酸、硝酸等の無機の酸を単独ないし２種以上混合した
浴を用いて行われる。砂目立て処理の後、必要に応じて
アルカリあるいは酸の水溶液によってデスマット処理を
行い中和して水洗する。

【０１１４】陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、ク
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を１種または２
種以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電
解することにより行われる。形成された陽極酸化被膜量
は、１〜５０ｍｇ／ｄｍ²が適当であり、好ましくは１
０〜４０ｍｇ／ｄｍ²であり、特に好ましくは２５〜４
０ｍｇ／ｄｍ²である。陽極酸化被膜量は、例えば、ア
ルミニウム板をリン酸クロム酸溶液（リン酸８５％液：
３５ｍｌ、酸化クロム（ＩＶ）：２０ｇを１ｌの水に溶
解して作製）に浸漬し、陽極酸化被膜を溶解し、陽極酸
化被膜を溶解する前及び溶解した後の重量変化を測定し
て求めることができる。

【０１１５】封孔処理には、沸騰水処理、水蒸気処理、
ケイ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例
として挙げられる。

【０１１６】更に、アルミニウム支持体に対して、水溶
性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶
液による下引き処理を施すこともできる。

【０１１７】本発明のヒートモード記録画像形成材料
は、像様に、例えば、レーザー光にて露光または加熱し
た後、水系現像液にて現像され、画像が形成される。

【０１１８】レーザー光源としては、半導体レーザー、
Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＹＡＧレーザー、炭酸ガスレーザ
ー等が挙げられる。出力は５０ｍＷ以上が適当であり、
好ましくは１００ｍＷ以上である。

【０１１９】照射されたレーザー光は、光−熱変換され
画像形成層を加熱する。レーザー光にての走査露光に代
えて、サーマルプリンターなどを用いて画像様に加熱
し、画像を形成することも可能である。

【０１２０】本発明のヒートモード記録平版印刷版の現
像に用いられる現像液としては、水系アルカリ現像液が
好適である。水系アルカリ現像液としては、例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウ
ム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等の
アルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。水系アルカリ現
像液における上記アルカリ金属塩の濃度は、０．０５〜
２０重量％の範囲が好適であり、より好ましくは、０．
１〜１０重量％である。

【０１２１】現像液には、必要に応じて、アニオン性界
面活性剤、両性界面活性剤等の界面活性剤、アルコール
等の有機溶剤を加えることができる。

【０１２２】有機溶剤としては、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ンアルコール、ｎ−プロピルアルコール等が有用であ
る。

【０１２３】

【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。 実施例１ 厚さ０．２４mmのアルミニウム板（材質１０５０、調質
Ｈ１６）を５％苛性ソーダ水溶液中で６０℃で１分間脱
脂処理を行った後、０．５モル／Ｌの塩酸水溶液中で温
度；２５℃、電流密度；６０Ａ／ｄｍ²、処理時間；３
０秒の条件で電解エッチング処理を行った。次いで、５
％苛性ソーダ水溶液中で６０℃、１０秒間のデスマット
処理を施した後、２０％硫酸溶液中で温度；２０℃、電
流密度；３Ａ／ｄｍ²、処理時間；１分間の条件で陽極
酸化処理を行った。更に、３０℃の熱水で２０秒間、熱
水封孔処理を行い、アルミニウム支持体を作製した。

【０１２４】このアルミニウム支持体に、下記感光層処
方組成の塗布液を乾燥膜厚が２ｇ／ｍ²になるように塗
布し、９０℃で１分間乾燥し、次いで、下記水不溶性高
分子層処方の塗布液を乾燥膜厚が０．３ｇ／ｍ²になる
ように塗布し、９０℃で１分間乾燥し、ヒートモード記
録平版印刷版試料１を作製した。

【０１２５】 《感光層（下層）処方》 フェノール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール（５：５７：３８）とホムアル デヒド共重縮合樹脂（Ｍｗ３７００） １０部 ＮＫ２６１２（日本感光色素（株）製） １部 メチルセロソルブ ９０部 乾燥膜厚 ２ｇ／ｍ² 乾燥条件 ９０℃ １分

【０１２６】 《水不溶性高分子層（上層）処方》 スチレン−アクリル酸エステル共重合体〔商品名 ＳＢＭ１００（三洋化成（ 株）製）〕 １０部 トルエン ９０部

【０１２７】得られたヒートモード記録平版印刷版試料
１を、半導体レーザー（８３０ｎｍ、出力１５０ｍＷ）
を用い、２０００ｄｐｉで露光し、現像液としてコニカ
ＰＳ版現像液ＳＤＲ−１の６倍希釈液を用い、２７℃、
２５秒（水洗１５秒）の現像条件で現像し、下記によ
り、細線再現性、Ａ２露光時間、印刷汚れ、保存性（印
刷汚れ）を評価した。

【０１２８】《細線再現性、Ａ２露光時間、印刷汚れ、
保存性の評価方法》 〈細線再現性〉再現できる最小の細線の線幅で評価し
た。 〈Ａ２露光時間〉Ａ２サイズの試料に画像が形成し得る
ように露光するに要する露光時間。

【０１２９】〈印刷汚れ〉画像を形成した試料を印刷機
にかけて印刷し、非画像部の汚れを目視により観察し、
下記の評価基準で評価した。 ○ ；非画像部に汚れなし ○△；非画像部の汚れはかなり注意してみなければわか
らない △ ；非画像部の汚れが明らかにわかる △×；非画像部がかなり汚れている × ；印刷物の全面が汚れている

【０１３０】〈保存性（印刷汚れ）〉５５℃で３日間保
存した試料を用いて画像を形成し、画像を形成した試料
を印刷機にかけ印刷し、非画像部の汚れを目視により観
察し、下記の評価基準で評価した。 ○ ；非画像部に汚れなし ○△；非画像部の汚れはかなり注意してみなければわか
らない △ ；非画像部の汚れが明らかにわかる △×；非画像部がかなり汚れている × ；印刷物の全面が汚れている 得られた結果を表１に示す。

【０１３１】

【表１】

【０１３２】実施例２ 実施例１に記載のアルミニウム支持体に、下記感光層処
方組成の塗布液を乾燥膜厚が２ｇ／ｍ²になるように塗
布し、９０℃で１分間乾燥し、次いで、下記水不溶性高
分子層処方の塗布液を乾燥膜厚が０．３ｇ／ｍ²になる
ように塗布し、９０℃で１分間乾燥し、ヒートモード記
録平版印刷版試料２〜１０を作製した。 《感光層（下層）処方》 フェノールとアルデヒド共重縮合樹脂（Ｍｗ１００００） １０部 表２に記載の化合物 １部 表２に記載の赤外吸収色素 １部 メチルセロソルブ ９０部 《水不溶性高分子層（上層）処方》 スチレン−アクリル酸エステル共重合体（商品名 ＳＢＭ１００（三洋化成（ 株）製） １０部 トルエン ９０部

【０１３３】得られたヒートモード記録平版印刷版試料
２〜１０を、半導体レーザー（８３０ｎｍ、出力１５０
ｍＷ）またはＹＡＧレーザー（１０６０ｎｍ、出力５０
０ｍＷ）を用い、２０００ｄｐｉで露光し、現像液とし
てコニカＰＳ版現像液ＳＤＲ−１の６倍希釈液を用い、
２７℃、２５秒（水洗１５秒）の現像条件で現像し、実
施例１と同様にして、細線再現性、Ａ２露光時間、印刷
汚れ、保存性（印刷汚れ）を評価した。用いたレーザー
の種類と共に、得られた結果を表２に示す。

【０１３４】

【表２】

【０１３５】実施例３ 実施例１に記載のアルミニウム支持体に、下記感光層処
方組成の塗布液を乾燥膜厚が２ｇ／ｍ²になるように塗
布し、９０℃で１分間乾燥し、次いで、実施例１に記載
の水不溶性高分子層処方の塗布液を乾燥膜厚が０．３ｇ
／ｍ²になるように塗布し、９０℃で１分間乾燥し、ヒ
ートモード記録平版印刷版試料１１を作製した。

【０１３６】 《感光層（下層）処方》 ノボラック樹脂〔フェノール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール（モル比で２ ０：４８：３２）とホルムアルデヒドとの共縮合化合物（Ｍｎ＝５００、Ｍｗ＝ ２５００）〕 ６０部 アクリル樹脂Ａ １０部 酸分解化合物１ ２５部 酸発生剤（トリアジン） ３部 赤外吸収色素（ＮＫ−２６１２）（日本感光色素（株）製） ２部 ＰＧＭ（プロピレングリコールモノメチルエーテル） １０００部

【０１３７】

【化３１】

【０１３８】〈酸分解化合物１〉シクロヘキサノン
（０．５モル）、フェニルセロソルブ（１０モル）及び
ｐ−トルエンスルホン酸８０ｍｇを撹拌しながら１００
℃で１時間反応させ、その後、１５０℃まで徐々に温度
を上げ、更に１５０℃で４時間反応させた。反応により
生成するメタノールはこの間に留去した。冷却後、テト
ラヒドロフラン５００ｍＬ及び無水炭酸カリウム２．５
ｇを加えて撹拌し、濾過した。濾液から溶媒を減圧留去
し、更に１５０℃、高真空下で低沸点成分を留去し、粘
稠な油状の下記酸分解化合物１を得た。

【０１３９】

【化３２】

【０１４０】得られた試料１１について、実施例１と同
様にして、細線再現性、Ａ２露光時間、印刷汚れ、保存
性（印刷汚れ）を評価した。得られた結果を表３に示
す。

【０１４１】

【表３】

【０１４２】実施例４ 実施例１に記載のアルミニウム支持体に、下記感光層処
方組成の塗布液を乾燥膜厚が２ｇ／ｍ²になるように塗
布し、９０℃で１分間乾燥し、次いで、実施例１に記載
の水不溶性高分子層処方の塗布液を乾燥膜厚が０．３ｇ
／ｍ²になるように塗布し、９０℃で１分間乾燥し、ヒ
ートモード記録平版印刷版試料１２を作製した。

【０１４３】 《感光層（下層）処方》 フェノール、ｍ−クレゾール及びｐ−クレゾール（５：５７：３８）とホムア ルデヒド共重縮合樹脂（Ｍｗ３７００） １０部 ニトロセルロース ２部 ＮＫ２６１２（日本感光色素（株）製） １部 メチルセロソルブ ９０部 得られた試料１２について、実施例１と同様にして、細
線再現性、Ａ２露光時間、印刷汚れ、保存性（印刷汚
れ）を評価した。得られた結果を表４に示す。

【０１４４】

【表４】

【０１４５】比較例１ 実施例１に記載のアルミニウム支持体に、下記感光層処
方組成の塗布液を乾燥膜厚が２ｇ／ｍ²になるように塗
布し、９０℃で１分間乾燥し、ヒートモード記録平版印
刷版試料比較１を作製した。

【０１４６】 《感光層処方》 ｐ−クレゾールノボラック樹脂と１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホ クロライドとのエステル化物（エステル化率５０％） ３４部 フェノル、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール（５：５７：３８）とホムアルデ ヒド共重縮合樹脂（Ｍｗ３７００） ７３部 アクリル樹脂Ａ １５部 メチルセロソルブ ９０６部 また、感光層処方を下記の感光層処方組成に代えた以外
は同様にしてヒートモード記録平版印刷版試料比較２を
作製した。

【０１４７】 《感光層処方》 ｐ−クレゾールノボラック樹脂と１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホ クロライドとのエステル化物（エステル化率５０％） ３４部 フェノル、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール（５：５７：３８）とホムアルデ ヒド共重縮合樹脂（Ｍｗ３７００） ７３部 アクリル樹脂Ａ １５部 シアニン色素（ＣＹ−１０）（日本化薬（株）製） １２部 メチルセロソルブ ９０６部

【０１４８】得られたヒートモード記録平版印刷版試料
比較１及び２を、ＰＳ版露光機（超高圧水銀灯）を用い
て全面露光し、次いで、半導体レーザー（８３０ｎｍ、
出力１５０ｍＷ）を用い、２０００ｄｐｉで露光し、現
像液としてコニカＰＳ版現像液ＳＤＲ−１の６倍希釈液
を用い、２７℃、２５秒（水洗１５秒）の現像条件で現
像し、実施例１と同様にして、細線再現性、Ａ２露光時
間、印刷汚れ、保存性（印刷汚れ）を評価した。得られ
た結果を表５に示す。

【０１４９】

【表５】

【０１５０】比較例２ 実施例１に記載のアルミニウム支持体に、下記感光層処
方組成の塗布液を乾燥膜厚が２ｇ／ｍ²になるように塗
布し、９０℃で１分間乾燥し、ヒートモード記録平版印
刷版試料比較３を作製した。

【０１５１】 《感光層処方》 フェノル、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール（５：５７：３８）とホムアルデ ヒド共重縮合樹脂（ＭＷ３７００） ５０部 レゾール樹脂 ５０部 ｓ−トリアジン ５部 シアニン色素（ＣＹ−１０）（日本化薬（株）製） ３部 メチルセロソルブ １０００部

【０１５２】得られたヒートモード記録平版印刷版試料
比較３を、半導体レーザー（８３０ｎｍ、出力１５０ｍ
Ｗ）を用い、２０００ｄｐｉで露光し、次いで、１２０
℃で２分間加熱処理をし、現像液としてコニカＰＳ版現
像液ＳＤＲ−１の６倍希釈液を用い、２７℃、２５秒
（水洗１５秒）の現像条件で現像し、実施例１と同様に
して、細線再現性、Ａ２露光時間、印刷汚れ、保存性
（印刷汚れ）を評価した。得られた結果を表６に示す。

【０１５３】

【表６】

【０１５４】

【発明の効果】本発明のヒートモード記録画像形成材料
は、高感度で、保存性が優れている。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA02 AA11 AB03 AC08 AD03 BA03 BA06 BE00 BE01 BE10 CB04 CB17 CB28 CB41 CB45 CC11 DA02 FA17 2H096 AA06 BA09 CA20 EA04 GA08 2H114 AA04 BA02 DA21 DA24 DA34 DA43 DA59 EA10 GA26

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体上に、フェノール性水酸基含有樹脂
   と赤外吸収物質を含有する感光層を設け、その上に水不
   溶性高分子よりなる第二層を設けたことを特徴とするヒ
   ートモード記録画像形成材料。
2. 【請求項２】感光層が、ｏ−キノンジアジド化合物、ジ
   アゾ化合物及びアジド化合物から選ばれた感光体を含有
   することを特徴とする請求項１に記載のヒートモード記
   録画像形成材料。
3. 【請求項３】赤外吸収物質が、分子内に窒素原子を含有
   しない、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、チオー
   ルニッケル錯塩色素、メルカプトフェノール錯塩及びメ
   ルカプトナフトール錯塩色素から選ばれた赤外吸収色素
   であることを特徴とする請求項１または２に記載のヒー
   トモード記録画像形成材料。
4. 【請求項４】感光層に、光酸発生剤及び酸分解化合物を
   含有させたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに
   記載のヒートモード記録画像形成材料。
5. 【請求項５】感光層に、ニトロセルロールを含有させた
   ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のヒー
   トモード記録画像形成材料。
6. 【請求項６】請求項１〜５のいずれかに記載のヒートモ
   ード記録画像形成材料を、レーザー露光後、水系現像液
   で現像することを特徴とする画像形成方法。