JP2000065753A - 画像取り込み装置 - Google Patents
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- JP2000065753A JP2000065753A JP10240185A JP24018598A JP2000065753A JP 2000065753 A JP2000065753 A JP 2000065753A JP 10240185 A JP10240185 A JP 10240185A JP 24018598 A JP24018598 A JP 24018598A JP 2000065753 A JP2000065753 A JP 2000065753A
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、十分な光量で明るさムラのない照明
を得られるとともに、良質の画像を取り込むことができ
る画像取り込み装置を提供する。 【解決手段】照明部１２により被検査基板１１表面を線
状に照明し、この線状に照明された領域を撮像部１３に
より撮像するもので、照明部１２は、ガラスロッドレン
ズ１２１と、ガラスロッドレンズ１２１周面の軸方向に
沿って形成された線状の反射面１２２を有し、ガラスロ
ッドレンズ１２１の両端面より光源１２１ａ、１２１ｂ
を照射し、ガラスロッドレンズ１２１内部を全反射しな
がら進む光に対して反射面１２２で散乱される光を照明
光としている。
を得られるとともに、良質の画像を取り込むことができ
る画像取り込み装置を提供する。 【解決手段】照明部１２により被検査基板１１表面を線
状に照明し、この線状に照明された領域を撮像部１３に
より撮像するもので、照明部１２は、ガラスロッドレン
ズ１２１と、ガラスロッドレンズ１２１周面の軸方向に
沿って形成された線状の反射面１２２を有し、ガラスロ
ッドレンズ１２１の両端面より光源１２１ａ、１２１ｂ
を照射し、ガラスロッドレンズ１２１内部を全反射しな
がら進む光に対して反射面１２２で散乱される光を照明
光としている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハや液
晶基板などの基板表面の欠陥を検査する欠陥検査装置に
用いられる画像取り込み装置に関するものである。
晶基板などの基板表面の欠陥を検査する欠陥検査装置に
用いられる画像取り込み装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェハや液晶基板などの製造工程
では、膜付け工程やエッチング工程毎に基板表面の画像
を取り込み、画像処理して自動的に欠陥部を検査する欠
陥検査装置が用いられている。
では、膜付け工程やエッチング工程毎に基板表面の画像
を取り込み、画像処理して自動的に欠陥部を検査する欠
陥検査装置が用いられている。
【０００３】しかして、従来、このような欠陥検査装置
として、例えば特開平９−６１３６５号公報に示すもの
があり、同公報中には、図４に示すような画像取り込み
装置が開示されている。図において、１は、被検査基板
で、この被検査基板１は、図示しないスキャンステージ
により図示矢印方向に移動可能にしている。そして、被
検査基板１の表面に対向させて、光ファイバ２を介して
照明光が入射される照明部３およびこの照明部３により
照明される被検査基板１表面を撮像する撮像部４を、そ
れぞれ被検査基板１の移動方向と直交する方向に沿って
配置している。
として、例えば特開平９−６１３６５号公報に示すもの
があり、同公報中には、図４に示すような画像取り込み
装置が開示されている。図において、１は、被検査基板
で、この被検査基板１は、図示しないスキャンステージ
により図示矢印方向に移動可能にしている。そして、被
検査基板１の表面に対向させて、光ファイバ２を介して
照明光が入射される照明部３およびこの照明部３により
照明される被検査基板１表面を撮像する撮像部４を、そ
れぞれ被検査基板１の移動方向と直交する方向に沿って
配置している。
【０００４】この場合、照明部３は、図５に示すように
ラインファイバ３０１の照明光によりシリンドリカルレ
ンズ３０２を介して被検査基板１表面を線状に照明し、
また、撮像部４は、被検査基板１上の線状に照明された
領域をロッドレンズアレイ４０１を介してリニアイメー
ジセンサ４０２上に結像させるようにしており、リニア
イメージセンサ４０２により１ラインずつ撮像された画
像を図示しない画像処理部で再構成することにより、被
検査基板１表面の画像を取り込むようにしている。
ラインファイバ３０１の照明光によりシリンドリカルレ
ンズ３０２を介して被検査基板１表面を線状に照明し、
また、撮像部４は、被検査基板１上の線状に照明された
領域をロッドレンズアレイ４０１を介してリニアイメー
ジセンサ４０２上に結像させるようにしており、リニア
イメージセンサ４０２により１ラインずつ撮像された画
像を図示しない画像処理部で再構成することにより、被
検査基板１表面の画像を取り込むようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
構成のように、線状照明としてラインファイバ３０１と
シリンドリカルレンズ３０２を用いたものでは、被検査
基板１が大型化すると、ラインファイバ３０１の長さ寸
法が大きくなり、これとともに明るさを均一に維持する
ことが難しくなるばかりか、ファイバ損失により光量が
不足し、さらには、ラインファイバ３０１が長くなるほ
どファイバ束も大きくなるため、装置の大型化を招くと
ともに、価格的にも高価になるという問題がある。
構成のように、線状照明としてラインファイバ３０１と
シリンドリカルレンズ３０２を用いたものでは、被検査
基板１が大型化すると、ラインファイバ３０１の長さ寸
法が大きくなり、これとともに明るさを均一に維持する
ことが難しくなるばかりか、ファイバ損失により光量が
不足し、さらには、ラインファイバ３０１が長くなるほ
どファイバ束も大きくなるため、装置の大型化を招くと
ともに、価格的にも高価になるという問題がある。
【０００６】また、被検査基板１表面を撮像するリニア
イメージセンサ４０２は、図６に示すように被検査基板
１面からの光の回折を利用して画像を取り込むようにし
ているが、この時、被検査基板１面からの反射光は広が
っていて、０次回折光、１次回折光、…、３次回折光、
…のように低次の回折光から高次の回折光までを含んで
いるため、欠陥画像を得るのに適した低次の回折光に直
接反射光が重なってしまい、安定した欠陥画像を取り込
むことができないという問題もあった。
イメージセンサ４０２は、図６に示すように被検査基板
１面からの光の回折を利用して画像を取り込むようにし
ているが、この時、被検査基板１面からの反射光は広が
っていて、０次回折光、１次回折光、…、３次回折光、
…のように低次の回折光から高次の回折光までを含んで
いるため、欠陥画像を得るのに適した低次の回折光に直
接反射光が重なってしまい、安定した欠陥画像を取り込
むことができないという問題もあった。
【０００７】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、十分な光量で明るさムラのない照明を得られるとと
もに、良質の画像を取り込むことができる画像取り込み
装置を提供することを目的とする。
で、十分な光量で明るさムラのない照明を得られるとと
もに、良質の画像を取り込むことができる画像取り込み
装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
照明手段により標本表面を線状に照明し、この線状に照
明された領域を撮像手段により撮像することで前記標本
表面の画像を取り込む画像取り込み装置において、前記
照明手段は、ガラスロッドレンズと、該ガラスロッドレ
ンズ周面の軸方向に沿って形成された線状の反射面と、
前記ガラスロッドレンズの少なくとも一方の端面から照
射される光源を有し、前記ガラスロッドレンズ内部を全
反射しながら進む光に対して前記反射面で散乱される光
を線状照明光として出射するようにしている。
照明手段により標本表面を線状に照明し、この線状に照
明された領域を撮像手段により撮像することで前記標本
表面の画像を取り込む画像取り込み装置において、前記
照明手段は、ガラスロッドレンズと、該ガラスロッドレ
ンズ周面の軸方向に沿って形成された線状の反射面と、
前記ガラスロッドレンズの少なくとも一方の端面から照
射される光源を有し、前記ガラスロッドレンズ内部を全
反射しながら進む光に対して前記反射面で散乱される光
を線状照明光として出射するようにしている。
【０００９】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、前記ガラスロッドレンズの線状照明光の出
射面に対向させてシリンドリカルレンズを配置するとと
もに、該シリンドリカルレンズと前記標本面との間に所
定の間隔をおいて線状の平行光を生成するための少なく
とも２個のスリットを配置するようにしている。
明において、前記ガラスロッドレンズの線状照明光の出
射面に対向させてシリンドリカルレンズを配置するとと
もに、該シリンドリカルレンズと前記標本面との間に所
定の間隔をおいて線状の平行光を生成するための少なく
とも２個のスリットを配置するようにしている。
【００１０】請求項３記載の発明は、請求項１または２
記載の発明において、前記照明手段より前記標本表面に
照射される照明光の入射角度をθ１、前記標本表面より
前記撮像手段に向け反射される角度をθ２とし、これら
の角度θ１、θ２を可変可能にしている。
記載の発明において、前記照明手段より前記標本表面に
照射される照明光の入射角度をθ１、前記標本表面より
前記撮像手段に向け反射される角度をθ２とし、これら
の角度θ１、θ２を可変可能にしている。
【００１１】この結果、請求項１記載の発明によれば、
仮に、標本が大型化して、ガラスロッドレンズの長さ寸
法が大きくなっても、光量不足と照明ムラを解消でき
る。請求項２記載の発明によれば、回折光を用いた欠陥
画像に適した線状の平行光を生成できる。
仮に、標本が大型化して、ガラスロッドレンズの長さ寸
法が大きくなっても、光量不足と照明ムラを解消でき
る。請求項２記載の発明によれば、回折光を用いた欠陥
画像に適した線状の平行光を生成できる。
【００１２】請求項３記載の発明によれば、角度θ１、
θ２を僅かに変化させることで、標本上の欠陥画像を得
るのに適した低次の回折光を撮像手段により撮像するこ
とができる。
θ２を僅かに変化させることで、標本上の欠陥画像を得
るのに適した低次の回折光を撮像手段により撮像するこ
とができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に従い説明する。 （第１の実施の形態）図１は、本発明が適用される画像
取り込み装置の概略構成を示している。
に従い説明する。 （第１の実施の形態）図１は、本発明が適用される画像
取り込み装置の概略構成を示している。
【００１４】図において、１１は被検査基板で、この被
検査基板１１は、図示しないスキャンステージにより図
示矢印方向に移動可能にしている。被検査基板１１の表
面に対向させて、線状の照明部１２を被検査基板１１の
移動方向と直交する方向に沿って配置するとともに、こ
の照明部１２により照明される被検査基板１１表面を撮
像する線状の撮像部１３を被検査基板１１の移動方向と
直交する方向に沿って配置している。この場合、照明部
１２の光軸の角度をθ１、撮像部１３の光軸の角度をθ
２とし、これらの角度θ１、θ２を任意に変えられるよ
うにもなっている。
検査基板１１は、図示しないスキャンステージにより図
示矢印方向に移動可能にしている。被検査基板１１の表
面に対向させて、線状の照明部１２を被検査基板１１の
移動方向と直交する方向に沿って配置するとともに、こ
の照明部１２により照明される被検査基板１１表面を撮
像する線状の撮像部１３を被検査基板１１の移動方向と
直交する方向に沿って配置している。この場合、照明部
１２の光軸の角度をθ１、撮像部１３の光軸の角度をθ
２とし、これらの角度θ１、θ２を任意に変えられるよ
うにもなっている。
【００１５】照明部１２は、図２（ａ）に示すように細
長い円柱状のガラスロッドレンズ１２１を有するととも
に、このガラスロッドレンズ１２１周面の軸方向に沿っ
て線状の反射面１２２を形成し、このようなガラスロッ
ドレンズ１２１の両端面から光源１２１ａ、１２１ｂを
照射するようにしたもので、これら光源１２１ａ、１２
１ｂによるガラスロッドレンズ１２１両端面からの照射
により、ガラスロッドレンズ１２１内部を全反射しなが
ら進む光ａに対して、反射面１２２で散乱される光ｂの
みを照明光として出射するようにしている。
長い円柱状のガラスロッドレンズ１２１を有するととも
に、このガラスロッドレンズ１２１周面の軸方向に沿っ
て線状の反射面１２２を形成し、このようなガラスロッ
ドレンズ１２１の両端面から光源１２１ａ、１２１ｂを
照射するようにしたもので、これら光源１２１ａ、１２
１ｂによるガラスロッドレンズ１２１両端面からの照射
により、ガラスロッドレンズ１２１内部を全反射しなが
ら進む光ａに対して、反射面１２２で散乱される光ｂの
みを照明光として出射するようにしている。
【００１６】また、図２（ｂ）に示すようにガラスロッ
ドレンズ１２１の線状照明光の出射面に対向させてシリ
ンドリカルレンズ１４を配置し、さらにシリンドリカル
レンズ１４と被検査基板１１との間に所定の間隔をおい
て２枚のスリット板１５、１６を配置している。シリン
ドリカルレンズ１４は、ガラスロッドレンズ１２１より
出射される照明光を平行光に変換するものである。スリ
ット板１５、１６は、ガラスロッドレンズ１２１の反射
面１２２が僅かな幅を有することに原因して、シリンド
リカルレンズ１４による平行光が、図２（ｂ）の破線で
示すように広がりを持った平行光ｃになるのを矯正する
ためのもので、これらスリット板１５、１６を通すこと
で、同図中実線で示すような回折光を用いた欠陥画像に
適した線状の平行光ｄを生成するようにしている。
ドレンズ１２１の線状照明光の出射面に対向させてシリ
ンドリカルレンズ１４を配置し、さらにシリンドリカル
レンズ１４と被検査基板１１との間に所定の間隔をおい
て２枚のスリット板１５、１６を配置している。シリン
ドリカルレンズ１４は、ガラスロッドレンズ１２１より
出射される照明光を平行光に変換するものである。スリ
ット板１５、１６は、ガラスロッドレンズ１２１の反射
面１２２が僅かな幅を有することに原因して、シリンド
リカルレンズ１４による平行光が、図２（ｂ）の破線で
示すように広がりを持った平行光ｃになるのを矯正する
ためのもので、これらスリット板１５、１６を通すこと
で、同図中実線で示すような回折光を用いた欠陥画像に
適した線状の平行光ｄを生成するようにしている。
【００１７】一方、図１に戻って、撮像部１３は、被検
査基板１１の移動方向と直交する方向に沿って配置され
るリニアイメージセンサ１３１と結像レンズ１３２を有
するもので、被検査基板１上の線状に照明された領域
を、結像レンズ１３２を介してリニアイメージセンサ１
３１上に結像させるようにしている。
査基板１１の移動方向と直交する方向に沿って配置され
るリニアイメージセンサ１３１と結像レンズ１３２を有
するもので、被検査基板１上の線状に照明された領域
を、結像レンズ１３２を介してリニアイメージセンサ１
３１上に結像させるようにしている。
【００１８】このような構成によると、いま、図示しな
いスキャンステージにより被検査基板１１を図示矢印方
向に移動可能させ、この状態で、照明部１２のガラスロ
ッドレンズ１２１の両端面より光源１２１ａ、１２１ｂ
を照射すると、ガラスロッドレンズ１２１内部を全反射
しながら進む光ａに対して反射面１２２で散乱される光
ｂが照明光として出射され、シリンドリカルレンズ１４
で平行光に変換されるとともに、スリット板１５、１６
を通って回折光を用いた欠陥画像に適した線状の平行光
が生成され、被検査基板１１に照射される。
いスキャンステージにより被検査基板１１を図示矢印方
向に移動可能させ、この状態で、照明部１２のガラスロ
ッドレンズ１２１の両端面より光源１２１ａ、１２１ｂ
を照射すると、ガラスロッドレンズ１２１内部を全反射
しながら進む光ａに対して反射面１２２で散乱される光
ｂが照明光として出射され、シリンドリカルレンズ１４
で平行光に変換されるとともに、スリット板１５、１６
を通って回折光を用いた欠陥画像に適した線状の平行光
が生成され、被検査基板１１に照射される。
【００１９】そして、この被検査基板１上に線状に照明
された領域は、結像レンズ１３２を介してリニアイメー
ジセンサ１３１上に結像され、１ラインずつ撮像され、
その後、これら１ラインずつの画像は、図示しない画像
処理部で１画面に再構成され、被検査基板１１表面の画
像として再生される。
された領域は、結像レンズ１３２を介してリニアイメー
ジセンサ１３１上に結像され、１ラインずつ撮像され、
その後、これら１ラインずつの画像は、図示しない画像
処理部で１画面に再構成され、被検査基板１１表面の画
像として再生される。
【００２０】従って、このようにすれば、照明部１２
は、ガラスロッドレンズ１２１の両端面より光源１２１
ａ、１２１ｂを照射し、ガラスロッドレンズ１２１内部
を全反射しながら進む光ａに対して反射面１２２で散乱
される光ｂを照明光とするような構成としたので、仮
に、被検査基板１１が大型化して、ガラスロッドレンズ
１２１の長さ寸法が大きくなっても、光量損失が少なく
できることで、光量不足を解消でき、しかも、照明ムラ
も解消できるなど、安定した照明光を得ることができ
る。
は、ガラスロッドレンズ１２１の両端面より光源１２１
ａ、１２１ｂを照射し、ガラスロッドレンズ１２１内部
を全反射しながら進む光ａに対して反射面１２２で散乱
される光ｂを照明光とするような構成としたので、仮
に、被検査基板１１が大型化して、ガラスロッドレンズ
１２１の長さ寸法が大きくなっても、光量損失が少なく
できることで、光量不足を解消でき、しかも、照明ムラ
も解消できるなど、安定した照明光を得ることができ
る。
【００２１】また、ガラスロッドレンズ１２１から出射
される線状照明光は、シリンドリカルレンズ１４で平行
光に変換された後、さらに、スリット板１５、１６を通
して回折光を用いた欠陥画像に適した線状の平行光とし
ているので、この状態から、照明部１２の光軸の角度θ
１と撮像部１３の光軸の角度θ２を僅かに変化させるこ
とで、被検査基板１１上の欠陥画像を得るのに適した低
次の回折光を撮像部１３のリニアイメージセンサ１３１
で撮像することができ、良質の画像を取り込むことがで
きる。
される線状照明光は、シリンドリカルレンズ１４で平行
光に変換された後、さらに、スリット板１５、１６を通
して回折光を用いた欠陥画像に適した線状の平行光とし
ているので、この状態から、照明部１２の光軸の角度θ
１と撮像部１３の光軸の角度θ２を僅かに変化させるこ
とで、被検査基板１１上の欠陥画像を得るのに適した低
次の回折光を撮像部１３のリニアイメージセンサ１３１
で撮像することができ、良質の画像を取り込むことがで
きる。
【００２２】さらに、照明部１２は、ガラスロッドレン
ズ１２１の両端面から光源１２１ａ、１２１ｂを照射し
ているので、被検査基板１１に対して、十分な照明光量
を確保でき、安定した欠陥画像を取り込むことができ
る。
ズ１２１の両端面から光源１２１ａ、１２１ｂを照射し
ているので、被検査基板１１に対して、十分な照明光量
を確保でき、安定した欠陥画像を取り込むことができ
る。
【００２３】なお、上述した実施の形態では、ガラスロ
ッドレンズ１２１の両端面から光源１２１ａ、１２１ｂ
を照射するようにしたが、一方端面からのみ光源を照射
するようにしてもよい。 （第２の実施の形態）図３は、本発明の第２の実施の形
態の概略構成を示すもので、図１と同一部分には同符号
を付している。
ッドレンズ１２１の両端面から光源１２１ａ、１２１ｂ
を照射するようにしたが、一方端面からのみ光源を照射
するようにしてもよい。 （第２の実施の形態）図３は、本発明の第２の実施の形
態の概略構成を示すもので、図１と同一部分には同符号
を付している。
【００２４】この場合、被検査基板１１表面を撮像する
撮像部１３は、リニアイメージセンサ１３１の前に干渉
フィルタ１７を挿入している。ここで、θ１＝θ２とす
る。このようにすると、干渉フィルタ１７の働きにより
光の干渉を利用した欠陥画像を得ることができる。つま
り、光の干渉を利用すると、被検査基板１１表面に塗布
された薄膜の膜厚のムラなどの欠陥も観察することが可
能になる。
撮像部１３は、リニアイメージセンサ１３１の前に干渉
フィルタ１７を挿入している。ここで、θ１＝θ２とす
る。このようにすると、干渉フィルタ１７の働きにより
光の干渉を利用した欠陥画像を得ることができる。つま
り、光の干渉を利用すると、被検査基板１１表面に塗布
された薄膜の膜厚のムラなどの欠陥も観察することが可
能になる。
【００２５】また、被検査基板１１のスキャンを往復動
可能とし、往路と復路で照明部１２の角度を変化させる
ことにより、欠陥の回折画像と干渉画像をそれぞれ取り
込むこともできる。
可能とし、往路と復路で照明部１２の角度を変化させる
ことにより、欠陥の回折画像と干渉画像をそれぞれ取り
込むこともできる。
【００２６】なお、上述した実施の形態では、図示しな
いステージにより被検査基板１１側をスキャンさせるよ
うにしたが、照明部１２と撮像部１３を１つのユニット
で構成し、このユニットを被検査基板１１上に沿ってス
キャンさせるような構成にしてもよい。こうすれば、さ
らに小スペースの装置が実現できる。
いステージにより被検査基板１１側をスキャンさせるよ
うにしたが、照明部１２と撮像部１３を１つのユニット
で構成し、このユニットを被検査基板１１上に沿ってス
キャンさせるような構成にしてもよい。こうすれば、さ
らに小スペースの装置が実現できる。
【００２７】
【発明の効果】以上のべたように、本発明によれば、仮
に、標本が大型化して、ガラスロッドレンズの長さ寸法
が大きくなっても、光量不足と照明ムラを解消できるな
ど、安定した照明光を得ることができる。
に、標本が大型化して、ガラスロッドレンズの長さ寸法
が大きくなっても、光量不足と照明ムラを解消できるな
ど、安定した照明光を得ることができる。
【００２８】また、回折光を用いた欠陥画像に適した線
状の平行光を生成でき、さらに、角度θ１、θ２を僅か
に変化させることで、標本上の欠陥画像を得るのに適し
た低次の回折光を撮像手段により撮像することができる
ので、良質の画像を取り込むことができる。
状の平行光を生成でき、さらに、角度θ１、θ２を僅か
に変化させることで、標本上の欠陥画像を得るのに適し
た低次の回折光を撮像手段により撮像することができる
ので、良質の画像を取り込むことができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態の概略構成を示す
図。
図。
【図２】第１の実施の形態に用いられる照明部の概略構
成を示す図。
成を示す図。
【図３】本発明の第２の実施の形態の概略構成を示す
図。
図。
【図４】従来の画像取り込み装置の一例の概略構成を示
す図。
す図。
【図５】従来の画像取り込み装置の一例の概略構成を示
す図。
す図。
【図６】従来の画像取り込み装置を説明するための図。
１１…被検査基板 １２…照明部 １２１…ガラスロッドレンズ １２１ａ．１２１ｂ…光源 １２２…反射面 １３…撮像部 １３１…リニアイメージセンサ １３２…結像レンズ １４…シリンドリカルレンズ １５．１６…スリット板 １７…干渉フィルタ
Claims (3)
- 【請求項１】 照明手段により標本表面を線状に照明
し、この線状に照明された領域を撮像手段により撮像す
ることで前記標本表面の画像を取り込む画像取り込み装
置において、 前記照明手段は、ガラスロッドレンズと、該ガラスロッ
ドレンズ周面の軸方向に沿って形成された線状の反射面
と、前記ガラスロッドレンズの少なくとも一方の端面か
ら照射される光源を有し、前記ガラスロッドレンズ内部
を全反射しながら進む光に対して前記反射面で散乱され
る光を線状照明光として出射することを特徴とする画像
取り込み装置。 - 【請求項２】 前記ガラスロッドレンズの線状照明光の
出射面に対向させてシリンドリカルレンズを配置すると
ともに、該シリンドリカルレンズと前記標本面との間に
所定の間隔をおいて線状の平行光を生成するための少な
くとも２個のスリットを配置したことを特徴とする請求
項１記載の画像取り込み装置。 - 【請求項３】 前記照明手段より前記標本表面に照射さ
れる照明光の入射角度をθ１、前記標本表面より前記撮
像手段に向け反射される角度をθ２とし、これらの角度
θ１、θ２を可変可能にしたことを特徴とする請求項１
または２記載の画像取り込み装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10240185A JP2000065753A (ja) | 1998-08-26 | 1998-08-26 | 画像取り込み装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10240185A JP2000065753A (ja) | 1998-08-26 | 1998-08-26 | 画像取り込み装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000065753A true JP2000065753A (ja) | 2000-03-03 |
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|---|---|---|---|---|
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-
1998
- 1998-08-26 JP JP10240185A patent/JP2000065753A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002181730A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-26 | Saki Corp:Kk | 外観検査装置 |
| JP2004333198A (ja) * | 2003-05-01 | 2004-11-25 | Olympus Corp | 基板検査装置 |
| CN114070977A (zh) * | 2016-02-22 | 2022-02-18 | 东京毅力科创株式会社 | 基板拍摄装置 |
| CN114071076A (zh) * | 2016-02-22 | 2022-02-18 | 东京毅力科创株式会社 | 基板拍摄装置 |
| CN114070977B (zh) * | 2016-02-22 | 2024-10-15 | 东京毅力科创株式会社 | 基板拍摄装置 |
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