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JP2000063682A - 希土類錯体を含む樹脂組成物及び成形体 - Google Patents

希土類錯体を含む樹脂組成物及び成形体

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Publication number
JP2000063682A
JP2000063682A JP23897398A JP23897398A JP2000063682A JP 2000063682 A JP2000063682 A JP 2000063682A JP 23897398 A JP23897398 A JP 23897398A JP 23897398 A JP23897398 A JP 23897398A JP 2000063682 A JP2000063682 A JP 2000063682A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
rare earth
hydrogen atom
atom
composition according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23897398A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuchika Hasegawa
靖哉 長谷川
Kensaku Sogabe
健作 曽我部
Yuji Wada
雄二 和田
Shozo Yanagida
祥三 柳田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
New Japan Chemical Co Ltd
Original Assignee
New Japan Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by New Japan Chemical Co Ltd filed Critical New Japan Chemical Co Ltd
Priority to JP23897398A priority Critical patent/JP2000063682A/ja
Publication of JP2000063682A publication Critical patent/JP2000063682A/ja
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】希土類錯体をポリマーマトリックス中に含む組
成物及び光機能材料を提供する。 【解決手段】一般式（Ｉ）： 【化１】 〔式中、Ｍ、n1、n2、Ｒｆ1、Ｒｆ2、Ｘ1、Ｘ2、n3、n4
及びＹは、明細書で定義された通りである。〕で表され
る希土類錯体をポリマーマトリクス中に含む組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、希土類錯体をポリ
マーマトリクス中に含む組成物に関する。本発明の組成
物は、光ファイバー、発光材料、レンズなどの光機能材
料として、さらには発光性形成材料として好適である。
【０００２】
【従来の技術およびその課題】電子材料の開発は目覚ま
しく、オプトエレクトロニクスの分野で、光機能材料の
開発が多数行われている。例えば、レーザー光線用電子
デバイスとして、ネオジムを含むガラスが実用化されて
いるが、その製造及び加工が難しく、製造費が高いため
用途が限られている。
【０００３】特開昭６４−２６５８３号には、発光性を
有するポリマー組成物として、チオフェンおよびＣＦ3
を置換基として有するβ−ジケトン／Ｅｕ錯体のアンモ
ニウム塩を含有する樹脂組成物を開示する。
【０００４】しかしながら、該樹脂組成物は、発光特性
が満足できるレベルに達していなかった。
【０００５】本発明は、発光特性がさらに優れた組成物
を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記の組成
物、光機能材料及び成形体に関する。
【０００７】項１． 一般式（Ｉ）：
【０００８】
【化７】
【０００９】〔式中、Ｍは希土類原子を示し、n1は２ま
たは３を示す。n2は２、３または４を示す。Ｒｆ1およ
びＲｆ2は、同一又は異なって水素原子を含まないＣ1〜
Ｃ22の脂肪族基、水素原子を含まない芳香族基または水
素原子を含まないヘテロ環基を示し；Ｘ1およびＸ2は、
同一又は異なってIVＡ族原子、窒素を除くＶＡ族原子、
酸素を除くVIＡ族原子のいずれかを示し、n3及びn4は、
０または１を示す。Ｙは、Ｃ−Ｚ’（Ｚ’は重水素、ハ
ロゲン原子または水素原子を含まないＣ1〜Ｃ22の脂肪
族基を示す）、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ又はＢｉを示す。但
し、Ｘ1が炭素原子のときn3は０であり、Ｘ2が炭素原子
のときn4は０である。
【００１０】但し、Ｘ1とＸ2とが同時に炭素原子の場
合、Ｒｆ1、Ｒｆ2の少なくとも一方は水素原子を含まな
い芳香族基である。〕；または一般式（II）
【００１１】
【化８】
【００１２】〔式中、Ｍ、ｎ1及びｎ2は前記に定義され
た通りである。Ｒｆ3は水素原子を含まないＣ1〜Ｃ22の
脂肪族基、水素原子を含まない芳香族基または水素原子
を含まないヘテロ環基を示し；Ｘ3は、炭素を除くIVＡ
族原子、窒素を除くＶＡ族原子、酸素を除くVIＡ族原子
のいずれかを示す。n5は０又は１を示す。〕で表される
希土類錯体をポリマーマトリクス中に含む組成物。
【００１３】項２． 極性溶媒をさらにポリマーマトリ
クス中に含む項１に記載の組成物。
【００１４】項３． 希土類錯体が一般式（III）：
【００１５】
【化９】
【００１６】〔式中、Ｍ、Ｒｆ1、Ｒｆ2、n1及びn2は前
記に定義された通りである。〕で表される錯体である項
１または２に記載の組成物。
【００１７】項４． 希土類錯体が一般式（IV）：
【００１８】
【化１０】
【００１９】〔式中、Ｍ、Ｒｆ1、Ｒｆ2、n1及びn2は前
記に定義された通りである。〕で表される錯体である項
１または２に記載の組成物。
【００２０】項５． 希土類錯体が一般式（Ｖ）：
【００２１】
【化１１】
【００２２】〔式中、Ｍ、Ｒｆ1、Ｒｆ2、n1、n2及び
Ｚ’は前記に定義された通りである。〕で表される錯体
である項１または２に記載の組成物。
【００２３】項６． 一般式（VI）
【００２４】
【化１２】
【００２５】〔式中、Ｍ、ｎ1及びｎ2は前記に定義され
た通りである。Ｚ''は、水素原子又はＺ’（Ｚ’は前記
に同じ）を示す。Ｒｆ4及びＲｆ5は、同一又は異なって
水素原子を含まないＣ1〜Ｃ22の脂肪族基、水素原子を
含まない芳香族基または水素原子を含まないヘテロ環基
を示す。〕で表される錯体と極性溶媒との分散ないし懸
濁混合物をポリマーマトリクス中に含む組成物。
【００２６】項７． 極性溶媒がＤＭＳＯ−ｄ6である
項２〜６のいずれかに記載の組成物。
【００２７】項８． ポリマーマトリクスが、ポリメチ
ルメタクリレート、含フッ素ポリメタクリレート、ポリ
アクリレート、含フッ素ポリアクリレート、ポリスチレ
ン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン等のポ
リオレフィン、ポリビニルエーテル、含フッ素ポリビニ
ルエーテル及びそれらの共重合体、エポキシ樹脂、ナフ
ィオンからなる群から選ばれる項１〜７のいずれかに記
載の組成物。
【００２８】項９． 項１〜８のいずれかに記載の組成
物を含む光機能材料。
【００２９】項１０． 項１〜８のいずれかに記載の組
成物を含んでなる成形体。
【００３０】
【発明の実施の形態】本発明において、Rf1、Rf2、R
f3、Rf4及びRf5は、同一又は異なって水素原子を含まな
いＣ1〜Ｃ22の脂肪族基、水素原子を含まない芳香族基
または水素原子を含まないヘテロ環基を示す。
【００３１】水素原子を含まないＣ1〜Ｃ22の脂肪族基
としては； ＊ パーフルオロアルキル基（ＣnＦ2n+1；ｎ＝１〜２
２）、パークロロアルキル基（ＣnCl2n+1；ｎ＝１〜２
２）などの直鎖又は分枝を有するパーハロゲン化アルキ
ル基、具体的には、トリクロロメチル、トリフルオロメ
チル、ペンタクロロエチル、ペンタフルオロエチル、ヘ
プタクロロプロピル、ヘプタフルオロプロピル、ヘプタ
クロロイソプロピル、ヘプタフルオロイソプロピル、ノ
ナクロロブチル、ノナフルオロブチル、ノナクロロイソ
ブチル、ノナフルオロイソブチル、ウンデカクロロペン
チル、ウンデカフルオロペンチル、ウンデカクロロイソ
ペンチル、ウンデカフルオロイソペンチル、トリデカク
ロロヘキシル、トリデカフルオロヘキシル、トリデカク
ロロイソヘキシル、トリデカフルオロイソヘキシル、ペ
ンタデカクロロヘプチル、ペンタデカフルオロヘプチ
ル、ペンタデカクロロイソヘプチル、ペンタデカフルオ
ロイソヘプチル、ヘプタデカクロロオクチル、ヘプタデ
カフルオロオクチル、ヘプタデカクロロイソオクチル、
ヘプタデカフルオロイソオクチル、ノナデカクロロノニ
ル、ノナデカフルオロノニル、ノナデカクロロイソノニ
ル、ノナデカフルオロイソノニル、ヘンイコサクロロデ
シル、ヘンイコサフルオロデシル、ヘンイコサクロロイ
ソデシル、ヘンイコサフルオロイソデシル、トリコサク
ロロウンデシル、トリコサフルオロウンデシル、トリコ
サクロロイソウンデシル、トリコサフルオロイソウンデ
シル、ペンタコサクロロドデシル、ペンタコサフルオロ
ドデシル、ペンタコサクロロイソドデシル、ペンタコサ
フルオロイソドデシル、ヘプタコサクロロトリデシル、
ヘプタコサフルオロトリデシル、ヘプタコサクロロイソ
トリデシル、ヘプタコサフルオロイソトリデシルなど； ＊ パーフルオロアルケニル基（パーフルオロビニル
基、パーフルオロアリル基、パーフルオロブテニル基
等）、パークロロアルケニル基などの直鎖又は分枝を有
するＣ2〜Ｃ22パーハロゲン化アルケニル基、好ましく
は、トリフルオロエチニル、トリクロロエチニル、ペン
タフルオロプロペニル、ペンタクロロプロペニル、ヘプ
タフルオロブテニル、ヘプタクロロブテニルなど； ＊ パーフルオロアルキニル基、パークロロアルキニル
基などの直鎖又は分枝を有するＣ2〜Ｃ22パーハロゲン
化アルキニル基； ＊ パーフルオロシクロアルキル基（ＣnＦ2n-1；ｎ＝
３〜２２、好ましくは３〜８、より好ましくは３〜
６）、パークロロシクロアルキル基（ＣnCl2n-1；ｎ＝
３〜２２、好ましくは３〜８、より好ましくは３〜６）
などのＣ3〜Ｃ22パーハロゲン化シクロアルキル基、好
ましくは、ペンタクロロシクロプロピル、ペンタフルオ
ロシクロプロピル、ヘプタクロロシクロブチル、ヘプタ
フルオロシクロブチル、ノナクロロシクロペンチル、ノ
ナフルオロシクロペンチル、ウンデカクロロシクロヘキ
シル、ウンデカフルオロシクロヘキシル、トリデカクロ
ロシクロヘプチル、トリデカフルオロシクロヘプチル、
ペンタデカクロロシクロオクチル、ペンタデカフルオロ
シクロオクチルなど； ＊ パーフルオロシクロアルケニル基（パーフルオロシ
クロペンテニル基、パーフルオロシクロヘキセニル基な
ど）、パークロロシクロアルケニル基などのＣ3〜
Ｃ22、好ましくはＣ3〜Ｃ8、より好ましくはＣ3〜Ｃ6の
パーハロゲン化シクロアルケニル基；及び ＊ パーフルオロベンジル基、パーフルオロフェネチル
基などのパーハロゲン化アラルキル基が挙げられる。
【００３２】「水素原子を含まない芳香族基」の芳香族
基としては、フェニル、ナフチル、アントラニル、フェ
ナントリル、ピレニル等を；「水素原子を含まないヘテ
ロ環基」のヘテロ環基としてはピリジル、チエニル、ピ
ロリル、ピリミジニル、キノリル、イソキノリル、ベン
ズイミダゾリル、ベンゾピラニル、インドリル、ベンゾ
フラニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ビフェニルなど
が挙げられ、これら芳香族基及びヘテロ環基の全ての水
素原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロ
ゲン原子、ニトロ基、Ｃ1〜Ｃ4のパーハロゲン化アルキ
ル基（トリフルオロメチル等）、Ｃ1〜Ｃ4のパーハロゲ
ン化アルコキシ基（トリフルオロメトキシ等）、Ｃ2〜
Ｃ5のパーハロゲン化アルキルカルボニル基（トリフル
オロアセチル等）、Ｃ1〜Ｃ4のパーハロゲン化アルキレ
ンジオキシ基（ジフルオロメチレンジオキシ等）、Ｃ2
〜Ｃ5のパーハロゲン化アルケニル基（パーハロゲン化
ビニル等）、パーハロゲン化フェノキシ基、Ｃ2〜Ｃ22
パーハロゲン化アルキルカルボニルオキシなどの水素原
子を含まない置換基で置換されている。水素原子を含ま
ない芳香族基の具体例としては、パーフルオロフェニル
基、パークロロフェニル基、パーフルオロナフチル基、
パークロロナフチル基、パーフルオロアントラニル基、
パークロロアントラニル基、パーフルオロフェナントリ
ル基、パークロロフェナントリル基が挙げられ、水素原
子を含まないヘテロ環基としては、パーハロゲン化２−
ピリジル基などが挙げられる。
【００３３】前記パーハロゲン化芳香族基、パーハロゲ
ン化ヘテロ環基、パーハロゲン化アラルキル基の芳香環
又はヘテロ環に結合したハロゲン原子の１または２以上
は、シアノ、ニトロ、ニトロソ、Ｃ1〜Ｃ4パーハロゲン
化アルコキシ、Ｃ2〜Ｃ5パーハロゲン化アルコキシカル
ボニル、Ｃ2〜Ｃ22パーハロゲン化アルキルカルボニル
オキシ等の水素原子を含まない置換基で置換されていて
もよい。
【００３４】また、Ｃ1〜Ｃ22パーハロゲン化アルキル
基、Ｃ2〜Ｃ22パーハロゲン化アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ22
パーハロゲン化アルキニル基の任意の位置のＣ−Ｃ単結
合の間に−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−、を１個または
複数個介在させて、エーテル、エステルまたはケトン構
造としてもよい。
【００３５】Ｍで表される希土類元素としては、Ｌａ、
Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄ
ｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕなどのランタン系列
元素が挙げられ、好ましくはＮｄ、Ｅｕ、ＴｂおよびＹ
ｂが挙げられる。
【００３６】Ｘ1およびＸ2は、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、
ＰｂなどのIVＡ族原子、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉなどの窒
素を除くＶＡ族原子、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐｏなどの酸素
を除くVIＡ族原子のいずれかを示し、好ましくはＣ、
Ｓ、ＰまたはＳｅ、より好ましくはＣまたはＳを示す。
【００３７】Ｘ3は、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、ＰｂなどのIV
Ａ族原子、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉなどの窒素を除くＶＡ
族原子、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐｏなどの酸素を除くVIＡ族
原子のいずれかを示し、好ましくはＳを示す。
【００３８】ＹはＣ−Ｚ’（Ｚ’は前記に同じ）、Ｎ、
Ｐ、Ａｓ、ＳｂまたはＢｉ、好ましくはＣ−Ｚ’（Ｚ’
は前記に同じ）、ＮまたはＰを示す。
【００３９】Ｚ’は重水素、ハロゲン原子または水素原
子を含まないＣ1〜Ｃ22の脂肪族基、好ましくは重水素
または直鎖又は分枝を有するＣ1〜Ｃ22のパーハロゲン
化アルキル基を示す。
【００４０】Ｚ''は、Ｈ又はＺ’を示す。
【００４１】n1は２または３、好ましくは３を示す。
【００４２】n2は２〜４、好ましくは２または３、特に
３を示す。
【００４３】n3、n4、n5は０または１である。特に
Ｘ1、Ｘ2またはＸ3がＳの時、n3、n4またはn5は１が好
ましく、Ｘ1またはＸ2がＣのとき、n3またはn4は０であ
る。
【００４４】本発明の錯体には、配位子が２分子、３分
子又は４分子配位可能であるが、４分子配位した錯体
は、少量成分であり、２分子又は３分子の配位子、特に
３分子の配位子が配位した錯体が主要な成分である。
【００４５】本発明の配位子は、一般式（Ｉ）で示され
るように、配位子の２位の水素又は重水素が脱離した１
価アニオンの配位子として通常希土類イオンに配位する
が、２位の水素又は重水素が脱離していない中性のジケ
トン配位子として配位することもできる。このような中
性のジケトン配位子が配位した錯体も本発明の錯体に包
含される。
【００４６】一般式（Ｉ）で表される希土類錯体のう
ち、より好ましい希土類錯体としては、一般式(III)で
表される希土類錯体、一般式(IV)で表される希土類錯
体、一般式（Ｖ）で表される希土類錯体、一般式（VI）
で表される希土類錯体が挙げられる。
【００４７】本発明の組成物に配合される錯体の配位子
は、公知の化合物であるか、公知の化合物から容易に合
成することができ、例えばJournal of Chemical and En
gineering Data, Vol.16, No.3, (1971)、および、The
Journal of Organic Chemistry, Vol.35, No.4, (1970)
などの文献に記載の方法に従い合成できる。
【００４８】Ｘ1＝Ｘ2＝Ｃである化合物の合成法を、ス
キーム１に示す。
【００４９】スキーム１
【００５０】
【化１３】
【００５１】〔式中、Rf1及びRf2は前記に同じ。Ｚ1は
水素原子を含まないＣ1〜Ｃ22の脂肪族基を示す。Ｘは
臭素原子又はヨウ素原子を示し、Ｚ2はハロゲン原子を
示す。〕 ケトン化合物（１）をエステル化合物（２）と、溶媒中
塩基の存在下に反応させて一般式（３）の化合物を得
る。反応は、ケトン化合物（１）１モルに対し、エステ
ル化合物（２）１〜２モル程度、塩基を１モル〜過剰量
用い、−７８℃から溶媒の還流する温度下に１〜２４時
間反応させることにより、有利に進行する。塩基として
は、ナトリウムアルコキシド、ＮａＨ、ブチルリチウ
ム、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）などが用
いられ、溶媒としては、ＴＨＦ、エーテル等のエーテル
系溶媒、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ホルムアミドなどが挙げら
れる。
【００５２】一般式（３）の化合物を溶媒中塩基の存在
下にＲ−Ｚ1と反応させて、一般式（４）の化合物を得
る。反応は、一般式（３）の化合物１モルに対し、Ｒ−
Ｚ1を１モル程度、塩基を１モル〜過剰量用い、−７８
℃から溶媒の還流する温度下に１〜２４時間反応させる
ことにより、有利に進行する。塩基としては、ナトリウ
ムアルコキシド、ＮａＨ、ブチルリチウム、ＬＤＡなど
が用いられ、溶媒としては、ＴＨＦ、エーテル等のエー
テル系溶媒、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ホルムアミドなどが挙
げられる。
【００５３】一般式（３）の化合物を溶媒中塩基の存在
下にハロゲン化剤と反応させて、一般式(５）の化合物
を得る。反応は、一般式（３）の化合物１モルに対し、
ハロゲン化剤を１モル程度用い、氷冷下〜室温程度の温
度下に３０分〜５時間反応させることにより、有利に進
行する。ハロゲン化剤としては、臭素、塩素などの分子
状ハロゲン、Ｎ−ブロムコハク酸イミド、Ｎ−クロロコ
ハク酸イミドなどが用いられ、溶媒としては、クロロホ
ルム、四塩化炭素、塩化メチレン、アセトン、エーテ
ル、ＴＨＦなどが挙げられる。
【００５４】一般式（４）または（５）の化合物は、重
水素化メタノール等で処理することにより容易にジケト
ンの間の水素原子を重水素に置換できる。
【００５５】本発明の化合物はまた、以下のスキーム２
に従い合成することもできる。
【００５６】スキーム２
【００５７】
【化１４】
【００５８】〔式中、Rf1、Rf2、Ｘ1、Ｘ2、Ｙ及びn3は
前記に同じ。〕 化合物（７）をヘキサメチルジシラザンと反応させてト
リメチルシリル（ＴＭＳ）化(7a)した後、化合物（６）
と反応させて目的の一般式（８）の化合物を得る。化合
物（７）１モルに対しヘキサメチルジシラザンを１〜
１．１モル程度、化合物（６）を１モル程度使用し、室
温から溶媒の還流する程度の温度下に１〜５時間程度反
応させることにより、反応は有利に進行する。
【００５９】一般式（Ｉ）〜（VI）で表される錯体は、
対応する配位子と、希土類金属酸化物、希土類金属水酸
化物、希土類金属アルコキシド、希土類金属アミド及び
希土類金属塩からなる群から選ばれる少なくとも１種の
希土類金属化合物を、例えば溶媒中で混合して製造する
ことができる。
【００６０】本発明にかかる希土類錯体は、１種もしく
は２種以上の配位子を用いて作成することが可能であ
り、さらに、錯体を形成する希土類原子は１種もしくは
２種以上の化合物を用いて差し支えない。
【００６１】一般式（Ｉ）〜（VI）で表される希土類錯
体の具体的な製造方法は以下の通りである。
【００６２】即ち、対応する配位子を溶媒に溶かし、さ
らに希土類金属化合物（粉末状、顆粒状等の形態を問わ
ない）を加え、室温〜１００℃の温度下、１時間〜１０
０時間程度撹拌する。次いで生成物を晶析或いは液−液
抽出等の精製手段を行うことにより希土類錯体を得るこ
とができる。更に、クロロホルム、メタノール等の溶媒
を用いて再結晶を行っても差し支えない。
【００６３】希土類金属化合物中、希土類金属酸化物と
しては、３価であるＭ2Ｏ3（Ｍは希土類元子を示す。）
が挙げられるが、ＭＯ、Ｍ4Ｏ7等の他の形態の酸化物を
使用してもよい。同様に希土類金属水酸化物としてはＭ
（ＯＨ）n1が例示され；希土類金属アルコキシドとして
は、Ｍ（ＯＲ1）n1（Ｒ1は、アルキル基）が例示され；
希土類金属アミドとしては、Ｍ（ＮＲaＲb）3（Ｒa及び
Ｒbは同一又は異なって水素、アルキル、フェニル）が
例示され；希土類金属塩としてはＭ3+（Ｚ）n1（Ｚは塩
素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、フッ素イオン、
1/2硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン等のモノカル
ボン酸イオン、1/2（シュウ酸イオン、コハク酸イオ
ン、マロン酸イオンなどのジカルボン酸イオン）、1/3
（クエン酸などのトリカルボン酸イオン）、1/3リン酸
イオン等の陰イオン）が例示される（ｎ1は前記に定義
された通りである）。
【００６４】一般式（Ｉ）〜（VI）で表される錯体を製
造するに際し用いる溶媒としては、特に限定されず、い
ずれの溶媒でも用いることが可能である。具体的にはプ
ロトン性溶媒、非プロトン性溶媒が挙げられる。プロト
ン性溶媒としては、水、メタノール、エタノール糖のア
ルコール性溶媒が挙げられ、非プロトン性溶媒としては
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶
媒、クロロホルム、塩化メチレン等のハロゲン系溶媒、
ＤＭＳＯ、ＤＭＦ等が挙げられる。中でも水が好まし
い。また、用いる溶媒の量としては、配位子と希土類金
属化合物の総量（１重量部とする）に対して１〜１００
重量部程度が例示され、好ましくは１〜２０重量部程度
である。
【００６５】一般式（II）の錯体は、上記の希土類金属
化合物と公知物質であるＲｆ3−Ｘ3（＝Ｏ）n5+1（Ｏ
Ｈ）の当量又は過剰量とを水中で反応させることにより
得ることができる。一般式（II）の錯体は、Ｈ2Ｏが配
位しやすく、Ｈ2Ｏが配位すると光機能材料としての性
質を失うため、一般式（Ｉ）の錯体に比べてＨ2Ｏに対
しより不安定である。
【００６６】一般式（Ｉ）〜（VI）で表される希土類錯
体を製造するに際し用いられる希土類金属化合物の量と
しては、相当する配位子１当量に対し１〜１０当量であ
り、好ましくは１．０５〜３当量である。また、一般式
（II）の希土類錯体も上記と同様の混合比にて製造可能
である。
【００６７】一般式（Ｉ）〜（VI）で表される希土類錯
体が配位水を含む場合、例えば該錯体のサンプルにＭｅ
ＯＤまたはＤ2Ｏ等の重水素化溶媒を加え、サンプル／
重水素化溶媒を凍結させて真空状態にした後、室温で２
４時間程度放置し、次いで重水素化溶媒を留去して配位
しているＨ2ＯをＤ2Ｏに変換することができる。
【００６８】本発明の組成物は、希土類錯体をポリマー
マトリクスに分散ないし懸濁し、必要に応じてＤＭＳＯ
などの極性溶媒を添加して製造することができる。
【００６９】希土類錯体を分散させるポリマーマトリク
スとしては、希土類錯体をブレンドしたときに半透明な
いし透明な組成物となるものが好ましく、例えばポリメ
タクリレート（ＰＭＡ）、ポリメチルメタクリレート
（ＰＭＭＡ）、ポリ（ヘキサフルオロイソプロピルメタ
クリレート）（Ｐ−ｉＦＰＭＡ）、ポリ（ヘキサフルオ
ロ−ｎ−プロピルメタクリレート）（Ｐ−ｎＦＰＭＡ）
等の含フッ素ポリメタクリレート、ポリアクリレート、
ポリフルオロイソプロピルアクリレートを代表とする含
フッ素ポリアクリレート、ポリスチレン、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリブテン等のポリオレフィン、
含フッ素ポリオレフィン、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルエーテル、ポリ（ペルフルオロプロポキシ）ビニ
ルエーテルを代表とする含フッ素ポリビニルエーテル、
ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニルあるいはそれらの共重
合体、セルロース、ポリアセタール、ポリエステル、ポ
リカーボネート、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ
イミド樹脂、ポリウレタン、ナフィオン、石油樹脂、ロ
ジン、ケイ素樹脂等が例示され、好ましくは、ポリメチ
ルメタクリレート、含フッ素ポリメタクリレート、ポリ
アクリレート、含フッ素ポリアクリレート、ポリスチレ
ン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテンなどの
ポリオレフィン、ポリビニルエーテル、含フッ素ポリビ
ニルエーテル及びそれらの共重合体、エポキシ樹脂、ナ
フィオンである。これらのポリマーは、目的、用途に応
じて適宜選択すればよい。
【００７０】希土類錯体をポリマーへ分散ないし懸濁さ
せる方法としては、特に限定されず、(1)溶融樹脂中に
希土類錯体を混合する方法、(2) ポリマー微粉末に希土
類錯体を分散させた後、溶融させる方法、(3) モノマー
と希土類錯体とをＡＩＢＮ、過酸化ラウロイル等の重合
開始剤を用いて共重合させる方法、(4) 高分子膜作成に
有用な、高分子溶液に希土類錯体を混合した後溶媒を除
去することによるキャスト法、(5) スピンコート法、
(6) 共蒸着法等のいずれも可能である。
【００７１】本発明の組成物１００重量部には、希土類
錯体を０．００１〜２０重量部程度、好ましくは０．１
〜１０重量部程度；ポリマーを９９．９９９〜８０重量
部程度、好ましくは９９．９〜９０重量部程度を含む。
【００７２】希土類錯体をポリマーマトリクス中に含む
組成物１００重量部に対し、極性溶媒を０〜２０００重
量部、好ましくは０〜１０００重量部を添加することが
できる。
【００７３】極性溶媒を含有することが可能なポリマー
マトリックスとしては一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される
希土類錯体の他に、一般式（VI)で表される希土類錯体
が挙げられる。一般式(VI)で表される希土類錯体含有ポ
リマーは公知のものを含むが、ポリマーマトリクス中に
希土類錯体の極性溶媒分散液又は懸濁液を添加すること
によりその発光強度、量子収率等を大幅に増加させるこ
とが可能となる。
【００７４】極性溶媒を加える方法としては、特に限定
されない。具体的な方法としては、(1)希土類錯体の極
性溶媒溶液、懸濁液、或いは分散液をあらかじめ調製
し、このものをポリマーマトリックスに混合させる方
法、(2)希土類錯体、極性溶媒、ポリマーマトリックス
を同時に混合する方法、(3)希土類錯体をポリマーマト
リックスと極性溶媒との混合物に加える方法等が挙げら
れる。
【００７５】中でも、希土類錯体の極性溶媒溶液、懸濁
液、或いは分散液をあらかじめ調製し（好ましくは極性
溶媒の溶液、分散液ないし懸濁液の状態で、０．０１〜
４８時間、より好ましくは０．１〜６時間放置）、この
ものをポリマーマトリクス中に混合させる方法が好まし
い。
【００７６】極性溶媒としては、ＤＭＳＯ（ジメチルス
ルホキシド）、ＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）、ホル
ムアミド、アセトアミド、ＨＭＰＡ（ヘキサメチルリン
酸トリアミド）、ニトロメタンなどの水より誘電率の高
い非プロトン性極性溶媒が挙げられ、好ましくはＤＭＳ
Ｏである。更には、重水素置換された極性溶媒、例えば
ＤＭＳＯ−ｄ6がより好ましい。
【００７７】本発明の組成物には、その機能を損なわな
い限り、樹脂の特性を改善する目的で添加剤を添加して
も差し支えない。具体的な添加剤としては、ジブチルフ
タレート、ジオクチルフタレート等のフタル酸ジエステ
ル、アジピン酸ジオクチル等の二塩基酸ジエステル、ペ
ンタエリスリトールテトラベンゾエート等のポリオール
エステル、ロジン酸石鹸、ステアリン酸石鹸、オレイン
酸石鹸、ラウリル硫酸ナトリウム、ナトリウムジエチル
ヘキシルスルフォサクシネート、ナトリウムジオクチル
スルフォサクシネート等の界面活性剤を成分とする分散
剤或いはアルキルスルフォネート、アルキルエーテルカ
ルボン酸等のアニオン性帯電防止剤、ポリエチレングリ
コール誘導体、ソルビタン誘導体等のノニオン性帯電防
止剤、四級アンモニウム塩、アルキルピリジウム等のカ
チオン性帯電防止剤、タルク、脂肪酸金属塩、ソルビト
ール系の結晶化核剤、ブチルヒドロキシフェノール等の
フェノール系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤、
リン系酸化防止剤、顔料、光安定剤、架橋剤、架橋促進
剤、難燃剤、加工助剤等が挙げられる。これらは樹脂１
００重量部に対して０．０１重量部〜１０重量部添加さ
れる。
【００７８】本発明に係る希土類錯体含有樹脂組成物を
成形するに際しては、一旦調製した希土類錯体含有樹脂
組成物を再度溶融させて成形する方法、希土類錯体含有
樹脂組成物を調製する時点で同時に成形する方法があ
る。また、その成形手段としては、射出成形、押出成
形、ブロー成形、圧空成形、回転成形、フィルム成形等
の従来公知の成形方法のいずれをも採用可能である。
【００７９】また、希土類錯体をポリマーマトリクス中
に高濃度に配合して押出成形してマスターバッチとする
ことができる。
【００８０】成形体の形状としては特に限定されず、ロ
ッド状、フィルム状、板状、円筒状、円形、楕円形等あ
るいは玩具、装飾品等特殊な形状のもの、例えば星形、
多角形形状が例示される。
【００８１】上記いずれの成形方法、成形体において
も、本発明に係る樹脂組成物を含んでなる成形体は、発
光特性を有する。
【００８２】
【発明の効果】本発明の組成物は、光の発光強度および
変換効率が高く、発光材料、光ファイバー、レンズなど
の用途に有用であり、ＣＤプレーヤー、光ディスク、フ
ァクシミリ、リモコン、コピー機器、レーザープリンタ
ー、大型ディスプレイ、医療用レーザー、レーザー加工
計測、印刷関連などの光機器に使用でき、具体的には、
レーザー素子、発光ダイオード、液晶、光ファイバー、
光検知器、太陽電池などへの応用が可能である。
【００８３】更には、各種プラスチック製品に適用する
ことにより、内容物、或いは内容構造が透視可能な、発
光性を有する形成材料として用いることが可能である。
又、信号機又は自動車のライト反射板、各種交通標識の
素材として、発光性の装飾品用素材としても有用であ
る。
【００８４】以下、本発明を実施例に基づきより詳細に
説明する。
【００８５】
【実施例】参考例１ Ｃ8Ｆ17ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｃ8Ｆ17（ＰＯＳ）の合成 窒素雰囲気下、１８ｍｍｏｌのＣ8Ｆ17ＳＯ2ＮＨＮａに
〔（ＣＨ3）3Ｓｉ〕2ＮＨ（１８ｍｌ、８６．５ｍｍｏ
ｌ）を滴下した。ジオキサン２mlを添加し、１２０℃で
８時間還流を行った後、〔（ＣＨ3）3Ｓｉ〕2ＮＨを留
去し、１２時間真空乾燥を行った。乾燥アセトニトリル
３０ml及びＣ8Ｆ17ＳＯ2Ｆ（２１ｍｍｏｌ）を添加し、
１００℃で４８時間還流した。その後アセトニトリルを
留去し、硫酸を用いてプロトン化を行った後、エーテル
抽出及び昇華法により、目的物（白色固体、収率１２
％）を得た。
【００８６】ＩＲ(cm-1）：１３７３（Ｓ＝Ｏst．），
１２３７（Ｃ−Ｆst．），１２０６（Ｃ−Ｆst．），１
１５１（Ｓ＝Ｏst．）19 Ｆ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6，標準物質Ｃ6Ｆ6；ｐｐ
ｍ）：−７９．５１（３Ｆ），−１１１．５９（２
Ｆ），−１１８．４３（２Ｆ），−１２０．１０（６
Ｆ），−１２１．０６（２Ｆ），−１２４．５９（２
Ｆ）。
【００８７】参考例２ Ｃ4Ｆ9ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｃ4Ｆ9（ＰＢＳ）の合成 Ｃ6Ｆ13ＳＯ2ＮＨＮａ及びＣ6Ｆ13ＳＯ2Ｆに代えて、各
々Ｃ4Ｆ9ＳＯ2ＮＨＮａ及びＣ4Ｆ9ＳＯ2Ｆを用いた他は
参考例１と同様にしてＣ4Ｆ9ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｃ4Ｆ9（白
色固体、収率２６％）を得た。
【００８８】ＩＲ(cm-1）：１３７３（Ｓ＝Ｏst．），
１２３７（Ｃ−Ｆst．），１２０６（Ｃ−Ｆst．），１
１５１（Ｓ＝Ｏst．）19 Ｆ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6，標準物質Ｃ6Ｆ6；ｐｐ
ｍ）：−７９．３１（６Ｆ），−１１１．４７（４
Ｆ），−１１９．１８（４Ｆ），−１２４．１９（４
Ｆ）。
【００８９】参考例３ Ｎｄ（ＰＯＳ）3錯体の合成 参考例１で得たＣ8Ｆ17ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｃ8Ｆ17（０．８
ｇ、０．８２ｍｍｏｌ）を３０mlの蒸留水に溶かし、Ｎ
ｄ2Ｏ3（４６ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）を加え、室温で
３日間撹拌した。沈殿した固体を濾過、水洗後、メタノ
ールに溶解させて遠心分離し、濾過を行って未反応のＮ
ｄ2Ｏ3を除去した。メタノールを留去して目的の錯体
（Ｎｄ（ＰＯＳ）3；赤紫色固体）を得た。得られた錯
体は、示差熱分析（ＤＳＣ）により、水を有していない
ことを確認した。
【００９０】ＩＲ(cm-1）：３４４９（Ｏ−Ｈst．），
１３６８（Ｓ＝Ｏst．），１２３７（Ｃ−Ｆst．），１
１５０（Ｓ＝Ｏst．）19 Ｆ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6，標準物質Ｃ6Ｆ6；ｐｐ
ｍ）：−７９．３３（３Ｆ），−１１１．２４（２
Ｆ），−１１８．０７（２Ｆ），−１１９．８１（６
Ｆ），−１２０．７８（２Ｆ），−１２４．２９（２
Ｆ）。
【００９１】ＰＯＳの代わりにＰＢＳを用いて同様の操
作を行うことによりＮｄ(ＰＢＳ）３の赤紫色固体を得
た。
【００９２】参考例４ Ｅｕ（ＰＯＳ）３錯体の合成 参考例１で得たＣ8Ｆ17ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｃ8Ｆ17（０．８
ｇ、０．８２ｍｍｏｌ）を３０mlの蒸留水に溶かし、Ｅ
ｕ2Ｏ3（５０ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）を加え、室温で
３日間撹拌した。沈殿した固体を濾過、水洗後、メタノ
ールに溶解させて遠心分離し、濾過を行って未反応のＥ
ｕ2Ｏ3を除去した。メタノールを留去して目的の錯体
（Ｅｕ（ＰＯＳ）3；白色固体）を得た。得られた錯体
は、示差熱分析（ＤＳＣ）により、水を有していないこ
とを確認した。
【００９３】ＩＲ(cm-1）：１３５４（Ｓ＝Ｏst．），
１２３７（Ｃ−Ｆst．），１２０９（Ｓ−Ｆst．）、１
０５６（Ｓ＝Ｏst．）19 Ｆ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6，標準物質Ｃ6Ｆ6；ｐｐ
ｍ）：−７９．２（３Ｆ），−１１１．３３（２Ｆ），
−１１８．１５（２Ｆ），−１１９．８７（４Ｆ），−
１２０．８（２Ｆ），−１２４．２９（２Ｆ）。
【００９４】参考例５ Ｔｂ（ＰＯＳ）3錯体の合成 希土類金属化合物として、Ｔｂ4Ｏ7（６０ｍｇ、０．８
２ｍｍｏｌ）を用いた他は参考例４と同様の方法により
目的の錯体（Ｔｂ（ＰＯＳ）3；白色結晶）を得た。得
られた錯体は、示差熱分析（ＤＳＣ）により、水を有し
ていないことを確認した。
【００９５】ＩＲ(cm-1）：１３５３（Ｓ＝Ｏst．），
１２４３（Ｃ−Ｆst．），１２０８（Ｃ−Ｆst．）、１
０５６（Ｓ＝Ｏst．）19 Ｆ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6，標準物質Ｃ6Ｆ6；ｐｐ
ｍ）：−７９．３（３Ｆ），−１１１．１（２Ｆ），−
１１８．０（２Ｆ），−１１９．９（４Ｆ），−１２
０．９（２Ｆ），−１２４．４（２Ｆ）。
【００９６】参考例６ Ｎｄ（Ｏ3ＳＣＦ3）3の合成 ＣＦ3ＳＯ3Ｈ（２モル）の水溶液にＮｄ2Ｏ3（１モル）
を加え、室温で放置して結晶を析出させた。得られた赤
紫色の針状晶を濾取し、２日間真空乾燥して目的とする
Ｎｄ（Ｏ3ＳＣＦ3）3を得た。得られた結晶は、ＴＧ−
ＤＴＡ測定の結果から、６水和物であることが確認され
た。
【００９７】 ＩＲ（cm-1）：３４４９（Ｏ−Ｈst．），１６３８（Ｏ
−Ｈδ），１２６３（Ｃ−Ｆst．），１１８０（Ｓ−Ｏ
st．），19 Ｆ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6，標準物質Ｃ6Ｆ6；ｐｐ
ｍ）：−７７．０３ Ｎｄ2Ｏ3の代わりにＥｕ2Ｏ3を用いて同様の操作を行う
ことにより、Ｅｕ（Ｏ3ＳＣＦ3）3を得た。
【００９８】参考例７ Ｎｄ（Ｏ3ＳＣ8Ｆ17）3・６Ｄ2Ｏの合成 ０．３４Ｍのペンタフルオロオクタンスルホン酸水溶液
３０mlを０．５６ｇ（１．７２ｍｍｏｌ）のＮｄ2Ｏ3に
添加した後、２４時間室温で撹拌し、紫色固体を得た。
これを濾過、水洗しクロロホルム、メタノールの混合溶
媒で再結晶を行い、紫色針状結晶を得た。得られた結晶
を５ｍｍＨｇで２日間乾燥した。収率３０％。得られた
結晶は、ＴＧ−ＤＴＡ測定の結果から、６水和物である
ことが確認された。
【００９９】ＩＲ(cm-1）：３４３２（Ｏ−Ｈst．），
１６３７（Ｏ−Ｈδ），１２４１（Ｃ−Ｆst．），１２
０４（Ｃ−Ｆst．），１１５２（Ｓ−Ｏst．）19 Ｆ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6，標準物質Ｃ6Ｆ6；ｐｐ
ｍ）：−７９．６１（３Ｆ），−１１２．８５（２
Ｆ），−１１９．１６（２Ｆ），−１２０．３０（６
Ｆ），−１２１．１９（２Ｆ），−１２４．６７（２
Ｆ） 得られたＮｄ（Ｏ3ＳＣ8Ｆ17）3・６Ｈ2Ｏ（80ｍｇ）を
ＣＤ3ＯＤ（２．０ｍｌ）に溶解し、−７８℃で脱気
し、更に室温で２４時間放置した。次いでＣＤ3ＯＤを
留去することにより、Ｎｄ（Ｏ3ＳＣ8Ｆ17）3・６Ｄ2Ｏ
を得た。本化合物をＨ−ＮＭＲで測定することにより、
Ｈ2ＯがＤ2Ｏに置換されていることを確認した。
【０１００】参考例８ Ｎｄ（ＰＤＤＨ）3の合成 Journal of Chemical and Engineering Data, Vol.16,
No.3 (1971) の記載に従い、4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,
10,10,10-ヘ゜ンタテ゛カフルオロ-1-ヘ゜ンタフルオロフェニル-1,3-テ゛カンシ゛オン
（以下、”ＰＤＤＨ”と略す）を製造した。ＰＤＤＨ
（０．５２ｇ）をエーテルに溶かし、硝酸ネオジム六水
和物（８８０ｍｇ）の水溶液を加え、室温で３日間激し
く撹拌した。沈殿した固体を濾過、水洗後、メタノール
に溶解させて遠心分離し、濾過を行って未反応の硝酸ネ
オジムを除去した。メタノールを留去して目的の錯体
（Ｎｄ（ＰＤＤＨ）3；赤紫色固体）を得た。得られた
錯体は、示差熱分析（ＤＳＣ）により、水を有していな
いことを確認した。
【０１０１】ＩＲ(cm-1）：３４１０（Ｏ−Ｈ）、１６
２３（Ｃ＝Ｏ）、１５１３（Ｃ−Ｈ）、１２４３、１２
１１（Ｃ−Ｆ）、１１４８（Ｃ−Ｏ）。
【０１０２】19Ｆ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6，標準物質
Ｃ6Ｆ6；ｐｐｍ）：−１６１（ｄ，２Ｆ，ｍ−Ｆ）、−
１５３（ｄ，１Ｆ，ｐ−Ｆ）、−１４０（ｄ，２Ｆ，ｏ
−Ｆ）、−１２４〜−１１４（ｍ，１２Ｆ，ＣＦ2）、
−７９．４（ｄ，３Ｆ，ＣＦ3）。
【０１０３】1Ｈ−ＮＭＲ δ６．００ｐｐｍ （１
Ｈ，Ｓ，Ｃ−Ｈ）。
【０１０４】参考例９ ＴＢＳＡの合成 冷却管付きの３つ口フラスコ（１００ｍｌ）中に、窒素
気流下で、ＴＨＦ３０ｍｌを加え、引き続き、ＣＦ3Ｃ
ＯＮＨ2（６．４４ｇ、５７ｍｍｏｌ）（和光純薬社
製）、及びトリエチルアミン（１１．５ｇ、１１４ｍｍ
ｏｌ）を溶解し、６５℃にて１時間撹拌した。引き続
き、Ｃ4Ｆ9ＳＯ2Ｆ（１７．２ｇ、５７ｍｍｏｌ）（東
京化成社製）を滴下し、常圧下、３０時間還流を行っ
た。続いて、減圧下、ＴＨＦを留去したのち、残渣をエ
ーテルに溶解し、イオン交換水にてエーテル層を洗浄し
た。更に、硫酸マグネシウム上でエーテルを乾燥した
後、エーテルを減圧下で留去した。引き続き、減圧蒸留
（２２０℃、３ｍｍＨｇ）することにより、淡黄色液体
状の［Ｃ4Ｆ9ＳＯ2ＮＣＯＣＦ3］- Ｅｔ3ＮＨ+（以下、
ＴＢＳＡと略す）を２４．６ｇ、８７％の収率で得た。
【０１０５】ＩＲ（塗りつけ）：３１１０、２８２２、
１６６８、１３２６、１２３６、１１９７、１１４１ｃ
ｍ-1．19 Ｆ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6、標準化合物 ヘキサフ
ルオロベンゼン、δ、ｐｐｍ）−７４．２０（３Ｆ）、
−７９．３７（３Ｆ）、−１１２．４２（２Ｆ）、−１
１９．２３（２Ｆ）、−１２４．１９（２Ｆ）。
【０１０６】1Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6、δ、ｐｐ
ｍ）：１．４（３Ｈ×３）、３．５（２Ｈ×３）、８．
０（ＮＨ）。
【０１０７】13Ｃ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6、δ、ｐｐ
ｍ）：１０８〜１２４（Ｃ３Ｆ８）、１４１．２６（Ｃ
Ｆ２）、１３７．４６（ＣＦ２）、１６２．７８（Ｃ
Ｏ）。
【０１０８】元素分析値 Ｃ12Ｈ16Ｏ3Ｎ2Ｆ12Ｓ： 理論値（％）Ｃ：２９．０３、Ｈ：３．２６、Ｎ：５．
６４。
【０１０９】実測値（％）Ｃ：２８．８９、Ｈ：３．３
５、Ｎ：５．８１。
【０１１０】ＵＶ（λmax）：３３４ｎｍ（アセト
ン）。
【０１１１】参考例１０ ＨＢＳＢの合成 冷却管付きの３つ口フラスコ（１００ｍｌ）中に、窒素
気流下で、ＴＨＦ（３０ｍｌ）を加え、引き続き、Ｃ4
Ｆ9ＳＯ2Ｆ（１７．２ｇ、５７ｍｍｏｌ）（東京化成社
製）、及びトリエチルアミン（１１．５ｇ、１１４ｍｍ
ｏｌ）を溶解し、室温にて１時間撹拌した。引き続き、
Ｃ3Ｆ7ＣＯＮＨ2（１１．８６ｇ、５７ｍｍｏｌ）（東
京化成社製）を滴下し、常圧下、３０時間室温にて撹拌
を行った。続いて、減圧下、ＴＨＦを留去したのち、残
渣をエーテルに溶解し、イオン交換水にてエーテル層を
洗浄した。更に、硫酸マグネシウム上でエーテルを乾燥
した後、エーテルを減圧下で留去した。引き続き、減圧
蒸留（２６０℃、３ｍｍＨｇ）することにより、淡黄色
液体状の［Ｃ4Ｆ9ＳＯ2ＮＣＯＣ3Ｆ7］- Ｅｔ3ＮＨ
+（以下、ＨＢＳＢと略す）を２２．７５ｇ、８１％の
収率で得た。
【０１１２】ＩＲ（塗りつけ）：３１０２、２８２１、
１６６７、１３２５、１２１７、１１３９ｃｍ-1．19 Ｆ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6、δ、ｐｐｍ）−７９．
２９（３Ｆ、３Ｆ）、−１１２．５０（２Ｆ）、−１１
５．７５（２Ｆ）、−１１９．１０（２Ｆ）、−１２
４．１５（２Ｆ）、−１２４．７３（２Ｆ）。
【０１１３】1Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6、δ、ｐｐ
ｍ）：１．４（３Ｈ×３）、３．４（２Ｈ×３）、７．
８（ＮＨ）。
【０１１４】ＵＶ（λmax）：３３４ｎｍ（アセト
ン）。
【０１１５】参考例１１ Ｎｄ（ＰＭＳ）3の製造 市販のＣＦ3ＳＯ2ＮＨＳＯ2ＣＦ3（ｇ、１．１２ｍｍｏ
ｌ）（fluka社製)を３０ｍｌの蒸留水に溶かしＮｄ2Ｏ3
（４６ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）を加え、室温で３日間
撹拌した。水を留去の後、沈殿した固体を塩化メチレン
で洗浄し、得られた固体を更にメタノールに溶解、濾過
を行って未反応のＮｄ2Ｏ3を除去した。メタノールを留
去して目的とするＮｄ（ＰＭＳ）3・ｎＨ2Ｏ：赤紫固体
を得た。
【０１１６】19 Ｆ−ＮＭＲ：−７７．５３（ｍ，６Ｆ，ＣＦ3）1 Ｈ−ＮＭＲ：none（結晶水として２．０６ｐｐｍ） ＵＶ（ＭｅＯＨ）：３５２、５２２、５７６、７４４、
８０１、８６５ｎｍ 参考例１２ 同様の方法によりＥｕ（ＰＭＳ）3：白色固体を得た。
【０１１７】19 Ｆ−ＮＭＲ：−７７．５１（ｍ，６Ｆ，ＣＦ3）1 Ｈ−ＮＭＲ：none（結晶水として２．０６ｐｐｍ） ＵＶ（ＭｅＯＨ）：３６２、３７６、３９４、４６５、
５２７ｎｍ 参考例１３ Ｎｄ（ＰＥＳ）3の製造例 原料としてＣ2Ｆ5ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｃ2Ｆ5を用い上記と同
様の方法によりＥｕ（ＰＥＳ）3：白色固体、Ｎｄ（Ｐ
ＥＳ）3：赤紫固体を得た。
【０１１８】参考例１４ Ｎｄ（ＴＢＳＡ）3の合成 参考例９で得られたＴＢＳＡ（１０．２ｇ、２５．６ｍ
ｍｏｌ）を、硝酸ネオジム六水和物（２．８ｇ、６．４
ｍｍｏｌ）のアセトン溶液（２０ｍｌ）に加え、室温で
３日間激しく撹拌した。続いて、減圧下アセトンを留去
した後に、残渣をエーテルに溶解し、イオン交換水にて
エーテル層を洗浄した。エーテルを減圧下で留去した
後、残渣にクロロホルム・ヘキサン溶液を加えて沈殿さ
せることにより目的の錯体（Ｎｄ（ＴＢＳＡ）3：青紫
色固体、１８０ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ、収率２．２
％）を得た。
【０１１９】ＩＲ（ＫＢｒ）：１６２６（Ｃ＝Ｏ）、１
３１７（Ｓ＝Ｏ）、１２３４（Ｃ−Ｆ）、１２０２（Ｃ
−Ｆ）、１１６６（Ｃ−Ｆ）ｃｍ-1。
【０１２０】19Ｆ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6、δ、ｐｐ
ｍ）−７３．６７（ｔ、３Ｆ、ＣＦ3）、−７９．４０
（ｔ、３Ｆ、ＣＦ3）、−１１２．８６（ｔ、２Ｆ、Ｃ
Ｆ2）、−１１９．４９（ｂｒ、２Ｆ、ＣＦ2）、−１２
４．３５（ｂｒ、２Ｆ、ＣＦ2）。
【０１２１】13Ｃ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6、δ、ｐｐ
ｍ）：１０８〜１２７（Ｃ３Ｆ８）、１４１．１５（Ｃ
Ｆ２）、１３７．２１（ＣＦ２）、１６７．６７（Ｃ
Ｏ）。
【０１２２】参考例１５ Ｎｄ（ＨＢＳＢ）3の合成 参考例１０で得られたＨＢＳＢ（２．９２ｇ、４．９ｍ
ｍｏｌ）を、硝酸ネオジム六水和物（０．８０ｇ、１．
８ｍｍｏｌ）のアセトン溶液（８ｍｌ）に加え、室温で
３日間激しく撹拌した。続いて、減圧下アセトンを留去
した後に、残渣をエーテルに溶解し、イオン交換水にて
エーテル層を洗浄した。エーテルを減圧下で留去した
後、残渣にクロロホルム・ヘキサン溶液を加えて沈殿さ
せることにより目的の錯体（Ｎｄ（ＨＢＳＢ）3：青紫
色固体、６０ｍｇ、０．０４ｍｍｏｌ、収率２．３％）
を得た。
【０１２３】19Ｆ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6、δ、ｐｐ
ｍ）−７９．１３（ｔ、３Ｆ、ＣＦ3）、−７９．４２
（ｔ、３Ｆ、ＣＦ3）、−１１２．８８（ｂｒ、２Ｆ、
ＣＦ2）、−１１５．５８（ｂｒ、２Ｆ、ＣＦ2）、−１
１９．９３（ｂｒ、２Ｆ、ＣＦ2）、−１２４．３９
（ｔ、２Ｆ、ＣＦ2）、−１２４．６２（ｔ、２Ｆ、Ｃ
Ｆ2）。
【０１２４】参考例１６ Ｅｕ（ＴＢＳＡ）3の合成 参考例９で得られたＴＢＳＡ（６．９ｇ、１３．９ｍｍ
ｏｌ）を、硝酸ユーロピウム六水和物（２．１ｇ、４．
６ｍｍｏｌ）のアセトン溶液（１０ｍｌ）に加え、室温
で３日間激しく撹拌した。続いて、減圧下アセトンを留
去した後に、残渣をエーテルに溶解し、イオン交換水に
てエーテル層を洗浄した。エーテルを減圧下で留去した
後、残渣にクロロホルム・ヘキサン溶液を加えて沈殿さ
せることにより目的の錯体（Ｅｕ（ＴＢＳＡ）3：白色
固体、２４０ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ、収率１０．２
％）を得た。
【０１２５】19Ｆ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ6、δ、ｐｐ
ｍ）：−７４．２０（ｔ、３Ｆ、ＣＦ3）、−７９．３
１（ｔ、３Ｆ、ＣＦ3）、−１１２．２１（ｔ、２Ｆ、
ＣＦ2）、−１１８．９２（ｂｒ、２Ｆ、ＣＦ2）、−１
２４．１１（ｂｒ、２Ｆ、ＣＦ2）。
【０１２６】試験例１ 参考例で得られたNd(POS)3、Eu(POS)3、Nd(PBS)3、Nd(O
3SCF3)3、Nd(O3SC8F17)3、Nd(PMS)3、Nd(PES)3、Nd(TBS
A)3、Nd(HBSB)3、Eu(TBSA)3、文献公知のNd(HFA-H)3、E
u(HFA-D)3及びNd(HFA-D)3の各種溶液中での量子収率、
発光寿命を表１に示す。溶液の濃度は、０．０５モル／
リットルである。なお、各錯体の励起波長(nm)及び発光
波長（μｍ）は、それぞれNd錯体が585nm及び1.06μ
ｍ、Eu錯体が394nm及び0.618μｍである。検出は、Nd錯
体がＧｅフォトダイオード、Eu錯体がフォトマルチプラ
イヤーを用いて行った。
【０１２７】
【表１】 以下において、ポリマーの量子収率、発光強度は以下の
方法にて評価した。即ち、各ポリマーをフォトマルチプ
ライヤー（Eu錯体の場合）またはＧｅフォトダイオード
（Nd錯体の場合）を用いてスペクトルを測定し、量子収
率を得た。また、スペクトルの強度から発光性のないも
のを”△”、発光するものを”○”、よく発光するもの
を”◎”、非常によく発光するものを”◎◎”とした。
【０１２８】実施例１ 下記式
【０１２９】
【化１５】
【０１３０】で表される公知の希土類錯体Eu(HFA-H)3を
文献（Hasegawa Y.; Murakoshi K.; Wada, Y.; Yanagid
a S.; Kim J.; Nakashima N.; Yamanaka T. Chem. Phy
s. Lett. 1996, 248, 8)に記載の方法により製造した。
該錯体Ｅｕ（ＨＦＡ−Ｈ）3・２Ｈ2Ｏ（０．０５ｍｍｏ
ｌ）をDMSO-D6（６６μｌ）中に懸濁させ、室温にて２
時間放置した。次いで、精製した無水メチルメタクリレ
ート（ＭＭＡ）（１．０ｍｌ）、ＡＩＢＮ（０．５ｍ
ｇ）及びＥｕ（ＨＦＡ−Ｈ）3・２Ｈ2Ｏ（０．０５ｍｍ
ｏｌ）のＤＭＳＯ−ｄ6懸濁液をＰｙｒｅｘチューブ
（内径４ｍｍ、長さ１５ｃｍ）に移し、脱気後該Ｐｙｒ
ｅｘチューブを密閉した。６０℃で５時間反応させてＭ
ＭＡの重合を行った。得られたＥｕ（ＨＦＡ−Ｈ）3及
びＤＭＳＯ−ｄ6を含むＰＭＭＡチューブをＰｙｒｅｘ
チューブから取り出し、ロッド状のポリマー組成物を得
た。
【０１３１】本ロッド状ポリマー組成物の量子収率及び
発光特性を表２に示す。
【０１３２】実施例２ 下記式
【０１３３】
【化１６】
【０１３４】で表される公知の希土類錯体Ｅｕ（ＨＦＡ
−Ｈ）3を文献(Hasegawa Y.; Murakoshi K.; Wada, Y.;
Yanagida S.; Kim J.; Nakashima N.; Yamanaka T. Ch
em. Phys. Lett. 1996, 248, 8)に記載の方法により製
造した。該錯体Ｅｕ（ＨＦＡ−Ｈ）3・２Ｈ2ＯをＣＤ3
ＯＤ（２ｍｌ）に溶解した。該溶液を脱気した後、減圧
下に６時間ＣＤ3ＯＤ中で撹拌して、ケト−エノール互
変異性による重水素置換反応を行った。減圧下に溶媒を
留去し、得られたＥｕ（ＨＦＡ−Ｄ）3・２Ｄ2Ｏ（０．
０５ｍＭ）をＤＭＳＯ−ｄ6（６６μｌ）中に懸濁さ
せ、室温にて２時間放置した。次いで、精製した無水メ
チルメタクリレート（ＭＭＡ）（１ｍｌ）、ＡＩＢＮ
（０．５ｍｇ）及び希土類錯体のＤＭＳＯ−ｄ6懸濁液
を混合し、Ｐｙｒｅｘチューブに移し、脱気後該Ｐｙｒ
ｅｘチューブを密閉した。６０℃で５時間反応させてＭ
ＭＡの重合を行った。得られたＥｕ（ＨＦＡ−Ｄ）3及
びＤＭＳＯ−ｄ6を含むＰＭＭＡチューブをＰｙｒｅｘ
チューブから取り出し、ロッド状のポリマー組成物を得
た。
【０１３５】本ロッド状ポリマー組成物をフォトマルチ
プライヤーにより量子収率を測定した。結果を表２に示
す。
【０１３６】さらに、ポリマーの発光強度を表２に示
す。
【０１３７】実施例３〜９ 表２に示す錯体、ポリマーマトリックスを用い実施例１
と同様にしてロッド状ポリマー組成物を得た。各々のポ
リマーの量子収率及び発光強度を表２に示す。
【０１３８】なお、実施例３のポリマー組成物の発光ス
ペクトルを図１に、実施例４及び５のポリマーの発光ス
ペクトルを図２に示す。
【０１３９】比較例１ DMSO-d6を加えない他は実施例４と同様の方法によりロ
ッド状ポリマー組成物を得た。そのものの量子収率及び
発光強度を表２に示す。
【０１４０】実施例４と比較例１を比較すると、実施例
４は量子収率が５倍に増加し、また、発光強度も向上し
ているのがわかる。
【０１４１】比較例２ DMSO-d6を加えない他は、実施例２と同様の方法により
ロッド状ポリマー組成物を得た。そのものの量子収率及
び発光強度を表２に示す。実施例２と比較例２を比較す
ると、実施例２はDMSO-d6を加えることにより量子収率
が２倍増加し、また、発光強度も向上しているのがわか
る。
【０１４２】
【表２】 希土類錯体 ポリマー DMSO-d6 ホ゜リマーの量子 発光強度 の有無 収率（％） 実施例１ Eu(HFA-H)3 PMMA 有 １１ ○ 実施例２ Eu(HFA-D)3 PMMA 有 ４４ ◎ 実施例３ Eu(HFA-D)3 iFPMA 有 ７２ ◎◎ 実施例４ Nd(HFA-D)3 PMMA 有 ０．５ ○ 実施例５ Nd(HFA-D)3 PMMA 有 ０．７ ◎ 実施例６ Eu(PMS)3 PMMA 有 ２６ ◎◎ 実施例７ Nd(PMS)3 PMMA 有 １．３ ◎◎ 実施例８ Eu(PMS)3 PMMA 有 ４０以上 ◎◎ 実施例９ Nd(PMS)3 PMMA 有 １．５ ◎◎ 比較例１ Nd(HFA-D)3 PMMA 無 ０．１ △比較例２ Eu(HFA-D) 3 PMMA 無 ２１ △ 実施例１０〜２１ 表３に記載の希土類錯体あるいは希土類錯体のＤＭＳＯ
−ｄ6懸濁液を用い実施例１と同様にしてロッド状ポリ
マー組成物を得た。発光強度を表３に示す。
【０１４３】
【表３】 希土類錯体 ポリマー DMSO-d6 発光強度 の有無 実施例１０ Eu(PES)3 PMMA 有 ◎◎ 実施例１１ Eu(PES)3 PMMA 無 ◎ 実施例１２ Nd(PES)3 iFPMA 有 ◎◎ 実施例１３ Nd(POS)3 PMMA 無 ◎◎ 実施例１４ Eu(POS)3 PMMA 有 ◎◎ 実施例１５ Tb(POS)3 PMMA 有 ◎◎ 実施例１６ Eu(CF3SO3)3 PMMA 無 ○ 実施例１７ Nd(C8F17SO3)3 PMMA 無 ○ 実施例１８ Nd(PDDD)3 PMMA 無 ○ 実施例１９ Nd(TBSA)3 PMMA 無 ○ 実施例２０ Nd(HBSA)3 PMMA 無 ○実施例２１ Eu(TBSA) 3 PMMA 有 ◎ 実施例２２ Pyrexチューブ中に、DMSO-d6（６０μｌ）で懸濁したEu
(HFA-D)3（１９０ｍｇ）、エポキシ樹脂YD-128(２．５
ｇ、「東都化成社製」）、リカシッドMH-700G（２．３
６ｇ、新日本理化社製）と硬化促進剤TPP-PB（０．０４
ｇ、北興化学社製）を混合し、１５０℃で８時間加熱す
ることにより透明のエポキシ樹脂を得た。このポリマー
の発光強度を実施例１と同様に評価したところ”○”で
あった。
【０１４４】実施例２３ Eu(HFA-D)3の代わりにEu(PMS)3（１９０ｍｇ）を用いた
他は実施例２２と同様にポリマーを作成した。このポリ
マーの発光強度を実施例１と同様に評価したところ”
◎”であった。
【０１４５】実施例２４ DMSO-d6（６０μｌ）で懸濁したEu(HFA-D)3（４０ｍ
ｇ）を５％ナフィオン溶液（２．０ｍｌ、「和光純薬社
製」）に溶解し、キャスト法により溶媒（水、イソプロ
パノール）を留去することによりフィルム状のポリマー
を得た。このものの発光強度を表４に示す。
【０１４６】実施例２５〜２８ 表３に示す希土類錯体、ポリマー、溶媒を用いた他は実
施例２４と同様の方法によりフィルム状のポリマーを得
た。このものの発光強度を表４に示す。
【０１４７】
【表４】 希土類錯体 ポリマー DMSO 溶媒／ｍｌ 発光 -d 6 強度 実施例２４ Eu(HFA-D)3 ナフィオン 有 水／イソフ゜ロハ゜ノール／5.0ml ◎◎ 実施例２５ Nd(HBSB)3 ナフィオン 無 水／イソフ゜ロハ゜ノール／5.0ml ◎◎ 実施例２６ Eu(PMS)3 ナフィオン 有 水／イソフ゜ロハ゜ノール／5.0ml ◎◎ 実施例２７ Eu(HFA-D)3 ホ゜リオレフィン＊ 有 CHCl3/4.0ml ◎実施例２８ Eu(PMS) 3ホ゜リオレフィン＊ 有 CHCl 3/4.0ml ◎ ＊：ポリエチレン−ポリプロピレンラバーＥＰＯ２Ｐ（日本合成ゴム社製） 実施例２９ Pyrexチューブ中に、DMSO-d6（６０μｌ）で懸濁したEu
(HFA-D)3（４０ｍｇ）を、ペルフルオロ,4−メチル-3,6
-ジオキサクト−7-エンスルホニルフルオリド（０．８
ｍｌ、「東京化成社製」）、ＭＭＡ（０．１ｍｌ）、ｉ
ＦＰｒＭＡ（０．１ｍｌ）、過酸化ラウロイル（０．５
ｍｇ、「ナカライテスク社製」）を加え溶解させ、真空
脱気を行い封かんした後、８０℃の恒温槽中で５時間加
熱重合反応を行った。その後、チューブ中からロッド状
の半透明ポリマーを取り出した。このポリマーの発光強
度を表５に示す。
【０１４８】実施例３０〜３８ 表５に示す希土類錯体（４０ｍｇ）、各記載量のモノマ
ー、重合開始剤０．５ｍｇを用い、実施例２９と同様に
ロッド状ポリマーを得た。各々のポリマーの発光強度を
表５に示す。
【０１４９】
【表５】 希土類錯体 モノマー（ｍｌ） 重合 発光強度 MMA iFPMA Ｘ 1〜 5 開始剤 実施例２９ Eu(HFA-D)3 0.1 0.1 0.8 ａ ◎ 実施例３０ Eu(PMS)3 0.1 0.1 0.8 ａ ◎◎ 実施例３１ Eu(HFA-D)3 0.1 0.9 − ｂ ◎◎ 実施例３２ Nd(PMS)3 0.1 0.9 − ｂ ◎◎ 実施例３３ Nd(PES)3 0.1 0.9 − ｂ ◎◎ 実施例３４ Nd(HFA-D)3 0.1 − 0.9 ｂ ◎ 実施例３５ Eu(PMS)3 0.1 − 0.9 ｂ ◎◎ 実施例３６ Eu(HFA-D)3 0.1 − 0.9 ｂ ◎◎ 実施例３７ Nd(PBS)3 0.93 − 0.07 ｂ ◎◎実施例３８ Nd(HBSB) 3 0.6 − 0.4 ｂ ◎ 表５中、 Ｘ1：ヘ゜ルフルオロ,4-メチル-3,6-シ゛オキサクト-7-エンスルホニルフルオリト゛(東京化成社製；実施例29) Ｘ2：ヘ゜ルフルオロフ゜ロホ゜キシヒ゛ニルエーテル(東京化成社製；実施例30) Ｘ3：アクリル酸イソフルオロフ゜ロヒ゜ルエステル(東京化成社製；実施例34) Ｘ4：ｎＦＰＭＡ(実施例３５、３６) Ｘ5：スチレン(実施例３７、３８) 重合開始剤 ａ：過酸化ラウロイル ｂ：ＡＩＢＮ 本発明の好ましい態様としては、以下のものが例示され
る。
【０１５０】項Ａ． Rf1、Rf2、Rf3、Rf4、Rf5が水素
原子を含まないＣ1〜Ｃ22の脂肪族基である項１に記載
の組成物。
【０１５１】項Ｂ． Rf1、Rf2、Rf3、Rf4、Rf5がＣ1〜
Ｃ22のパーフルオロアルキル基又はＣ1〜Ｃ22のパーク
ロロアルキル基である項１に記載の組成物。
【０１５２】項Ｃ． Rf1、Rf2、Rf3、Rf4、Rf5がＣ1〜
Ｃ10のパーフルオロアルキルまたはＣ1〜Ｃ10のパーク
ロロアルキルである項１に記載の組成物。
【０１５３】項Ｄ． Rf1、Rf2、Rf3、Rf4、Rf5がニト
ロ基、Ｃ1〜Ｃ4のパーハロゲン化アルキル基（トリフル
オロメチル等）、Ｃ1〜Ｃ4のパーハロゲン化アルコキシ
基（トリフルオロメトキシ等）、Ｃ2〜Ｃ5のパーハロゲ
ン化アルキルカルボニル基（トリフルオロアセチル
等）、Ｃ1〜Ｃ4のパーハロゲン化アルキレンジオキシ基
（ジフルオロメチレンジオキシ等）、Ｃ2〜Ｃ5のパーハ
ロゲン化アルケニル基（パーハロゲン化ビニル等）、パ
ーハロゲン化フェノキシ基、Ｃ2〜Ｃ20パーハロゲン化
アルキルカルボニルオキシからなる群から選ばれる１又
は２の置換基で置換されていてもよいパーハロゲン化芳
香族基である項Ａ〜項Ｃのいずれかに記載の組成物。
【０１５４】項Ｅ． Rf1、Rf2、Rf3、Rf4、Rf5がニト
ロ基、Ｃ1〜Ｃ4のパーハロゲン化アルキル基（トリフル
オロメチル等）、Ｃ1〜Ｃ4のパーハロゲン化アルコキシ
基（トリフルオロメトキシ等）、Ｃ2〜Ｃ5のパーハロゲ
ン化アルキルカルボニル基（トリフルオロアセチル
等）、Ｃ1〜Ｃ4のパーハロゲン化アルキレンジオキシ基
（ジフルオロメチレンジオキシ等）、Ｃ2〜Ｃ5のパーハ
ロゲン化アルケニル基（パーハロゲン化ビニル等）、パ
ーハロゲン化フェノキシ基、Ｃ2〜Ｃ20パーハロゲン化
アルキルカルボニルオキシからなる群から選ばれる１又
は２の置換基で置換されていてもよいパーハロゲン化フ
ェニル基である項Ａ〜項Ｃのいずれかに記載の組成物。
【０１５５】項Ｆ． Ｚ’が重水素、ハロゲン原子、Ｃ
1〜Ｃ22のパーフルオロ化アルキル基またはＣ1〜Ｃ22の
パーフルオロアルケニル基である項Ａ〜項Ｅのいずれか
に記載の組成物。
【０１５６】項Ｇ． Ｚ’が重水素、ハロゲン原子、Ｃ
1〜Ｃ4のパーフルオロ化アルキル基またはＣ1〜Ｃ4のパ
ーフルオロアルケニル基である項Ｆに記載の組成物。
【０１５７】項Ｈ． Ｚ’が重水素又はハロゲン原子で
ある項Ｇに記載の組成物。
【０１５８】項Ｉ． ＭがＬａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ
ｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔ
ｍ、Ｙｂ、Ｌｕからなる群から選ばれる少なくとも１種
である項１に記載の組成物。
【０１５９】項Ｊ． ＭがＮｄ、Ｅｕ、ＴｂおよびＹｂ
からなる群から選ばれる少なくとも１種である項Ｉに記
載の組成物。
【０１６０】項Ｋ． Rf1、Rf2、Rf3、Rf4、Rf5が任意
の位置のＣ−Ｃ単結合の間に−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ
ＣＯ−、−ＣＯ−を１個または複数個介在させて、エー
テル、エステルまたはケトン構造としたパーハロゲン化
アルキル基またはパーハロゲン化アルケニル基である項
１に記載の組成物。
【０１６１】項Ｌ． Rf1、Rf2、Rf3、Rf4、Rf5がパー
フルオロアルキル基またはパーフルオロアルケニル基で
ある項１に記載の組成物。
【０１６２】項Ｍ． Ｘ1及びＸ2がＳ、ｎ3が１；Ｘ1が
Ｓ、Ｘ2がＣ、ｎ3が１；或いは、Ｘ1及びＸ2がＣ、ｎ3
が１である項１に記載の組成物。
【０１６３】項Ｎ． ＭがＮｄ、Ｙｂ、ＴｂまたはＥｕ
である、項１に記載の組成物。
【０１６４】項Ｏ． ＹがＣ−Ｄ、Ｃ−Ｃｌ、Ｃ−Ｆ、
Ｃ−Ｂｒ、Ｃ−Ｉ、ＮまたはＰである、項１に記載の組
成物。
【０１６５】・Rf1がＣ1〜Ｃ22のパーハロゲン化脂肪族
基を示し、Rf2がパーハロゲン化芳香族基を示し、Ｚ’
は重水素、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ22のパーハロゲン化
脂肪族基を示し、ＭはＬａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、
Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙ
ｂ、Ｌｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を示
し、ｎ1は２または３を示し、ｎ2は２、３又は４を示す
組成物、 ・Rf1がＣ1〜Ｃ22のパーハロゲン化脂肪族基を示し、Rf
2がパーハロゲン化芳香族基を示し、Ｚ’が重水素、ハ
ロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4のパーフルオロ化アルキル基また
はパーフルオロアルケニル基を示し、ＭはＮｄ、Ｅｕお
よびＹｂからなる群から選ばれる少なくとも１種を示
し、ｎ1は２または３を示し、ｎ2は３を示す組成物。
【０１６６】・Rf1がＣ1〜Ｃ22のパーハロゲン化脂肪族
基を示し、Rf2がパーハロゲン化芳香族基を示し、Ｚ’
が重水素又はハロゲン原子を示し、ＭはＮｄを示し、ｎ
1は３を示し、ｎ2は３を示す組成物。
【０１６７】・Rf1がＣ1〜Ｃ22のパーフルオロ脂肪族基
かつRf2がパーフルオロ芳香族基；Rf1がＣ1〜Ｃ22のパ
ーフルオロ脂肪族基かつRf2がパークロロ芳香族基；Rf1
がＣ1〜Ｃ22のパークロロ脂肪族基かつRf2がパーフルオ
ロ芳香族基；またはRf1がＣ1〜Ｃ22のパークロロ脂肪族
基かつRf2がパークロロ芳香族基を示し、Ｚ’は重水
素、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ22のパーフルオロ脂肪族基
又はＣ1〜Ｃ22のパークロロ脂肪族基を示し、ＭはＬ
ａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔ
ｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕからなる群か
ら選ばれる少なくとも１種を示し、ｎ1は２または３を
示し、ｎ2は２、３又は４を示す組成物。
【０１６８】・Rf1がＣ1〜Ｃ22のパーフルオロ脂肪族基
かつRf2がパーフルオロ芳香族基；Rf1がＣ1〜Ｃ22のパ
ーフルオロ脂肪族基かつRf2がパークロロ芳香族基；Rf1
がＣ1〜Ｃ22のパークロロ脂肪族基かつRf2がパーフルオ
ロ芳香族基；またはRf1がＣ1〜Ｃ22のパークロロ脂肪族
基かつRf2がパークロロ芳香族基を示し、Ｚ’が重水
素、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ4のパーフルオロ化アルキル
基またはパーフルオロアルケニル基を示し、ＭはＮｄ、
ＥｕおよびＹｂからなる群から選ばれる少なくとも１種
を示し、ｎ1は２または３を示し、ｎ2は３を示す組成
物。
【０１６９】・Rf1がＣ1〜Ｃ20のパーフルオロ脂肪族基
かつRf2がパーフルオロ芳香族基；Rf1がＣ1〜Ｃ22のパ
ーフルオロ脂肪族基かつRf2がパークロロ芳香族基；Rf1
がＣ1〜Ｃ22のパークロロ脂肪族基かつRf2がパーフルオ
ロ芳香族基；またはRf1がＣ1〜Ｃ22のパークロロ脂肪族
基かつRf2がパークロロ芳香族基を示し、Ｚ’が重水素
またはハロゲン原子を示し、ＭはＮｄを示し、ｎ1は３
を示し、ｎ2は３を示す組成物。
【０１７０】・Rf1がＣ5〜Ｃ10のパーフルオロアルキル
またはＣ5〜Ｃ10のパークロロアルキルを示し、Rf2がペ
ンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニルまたはそ
の誘導体を示し、Ｚ’が重水素、ハロゲン原子、Ｃ1〜
Ｃ4のパーフルオロ化アルキル基またはパーフルオロア
ルケニル基を示し、ＭはＬａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ
ｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔ
ｍ、Ｙｂ、Ｌｕからなる群から選ばれる少なくとも１種
を示し、ｎ1は２または３を示し、ｎ2は２、３又は４を
示す組成物。
【０１７１】・Rf1がＣ5〜Ｃ10のパーフルオロアルキル
またはＣ5〜Ｃ10のパークロロアルキルを示し、Rf2がペ
ンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニルまたはそ
の誘導体を示し、Ｚ’が重水素、ハロゲン原子、Ｃ1〜
Ｃ4のパーフルオロ化アルキル基を示し、ＭはＮｄ、Ｅ
ｕおよびＹｂからなる群から選ばれる少なくとも１種を
示し、ｎ1は２または３を示し、ｎ2は３を示す組成物。
【０１７２】・Rf1がＣ5〜Ｃ10のパーフルオロアルキル
またはＣ5〜Ｃ10のパークロロアルキルを示し、Rf2がペ
ンタフルオロフェニル、ペンタクロロフェニルまたはそ
の誘導体を示し、Ｚ’が重水素又はハロゲン原子を示
し、ＭはＮｄを示し、ｎ1は３を示し、ｎ2は３を示す組
成物。
【図面の簡単な説明】
【図１】Ｅｕ（ＨＦＡ−Ｄ）3＋ＤＭＳＯ−ｄ6のｉＦＰ
ＭＡ中での発光スペクトルを示す。
【図２】Ｎｄ（ＨＦＡ−Ｄ）3＋ＤＭＳＯ−ｄ6のＰＭＭ
Ａ中での発光スペクトル（点線）及びＮｄ（ＨＦＡ−
Ｄ）3＋ＤＭＳＯ−ｄ6のｉＦＰＭＡ中での発光スペクト
ル（実線）を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 63/00 Ｃ０８Ｌ 63/00 Ｃ Ｃ０９Ｋ 11/06 Ｃ０９Ｋ 11/06 (72)発明者 和田 雄二 大阪府豊中市西緑丘２−２−３豊中東合同 宿舎344 (72)発明者 柳田 祥三 兵庫県川西市鴬台２−10−13 Ｆターム(参考） 4J002 BB031 BB121 BB171 BC021 BE041 BG031 BG061 BG081 CD001 EP017 EV207 EZ006

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（Ｉ）： 【化１】 〔式中、Ｍは希土類原子を示し、n1は２または３を示
    す。n2は２、３または４を示す。Ｒｆ1およびＲｆ2は、
    同一又は異なって水素原子を含まないＣ1〜Ｃ22の脂肪
    族基、水素原子を含まない芳香族基または水素原子を含
    まないヘテロ環基を示し；Ｘ1およびＸ2は、同一又は異
    なってIVＡ族原子、窒素を除くＶＡ族原子、酸素を除く
    VIＡ族原子のいずれかを示し、n3及びn4は、０または１
    を示す。Ｙは、Ｃ−Ｚ’（Ｚ’は重水素、ハロゲン原子
    または水素原子を含まないＣ1〜Ｃ22の脂肪族基を示
    す）、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ又はＢｉを示す。但し、Ｘ1
    が炭素原子のときn3は０であり、Ｘ2が炭素原子のときn
    4は０であり、Ｘ1とＸ2とが同時に炭素原子の場合、Ｒ
    ｆ1、Ｒｆ2の少なくとも一方は水素原子を含まない芳香
    族基である。〕；または一般式（II） 【化２】 〔式中、Ｍ、ｎ1及びｎ2は前記に定義された通りであ
    る。Ｒｆ3は水素原子を含まないＣ1〜Ｃ22の脂肪族基、
    水素原子を含まない芳香族基または水素原子を含まない
    ヘテロ環基を示し；Ｘ3は、炭素を除くIVＡ族原子、窒
    素を除くＶＡ族原子、酸素を除くVIＡ族原子のいずれか
    を示す。n5は０又は１を示す。〕で表される希土類錯体
    をポリマーマトリクス中に含む組成物。
  2. 【請求項２】極性溶媒をさらにポリマーマトリクス中に
    含む請求項１に記載の組成物。
  3. 【請求項３】希土類錯体が一般式（III）： 【化３】 〔式中、Ｍ、Ｒｆ1、Ｒｆ2、n1及びn2は前記に定義され
    た通りである。〕で表される錯体である請求項１または
    ２に記載の組成物。
  4. 【請求項４】希土類錯体が一般式（IV）： 【化４】 〔式中、Ｍ、Ｒｆ1、Ｒｆ2、n1及びn2は前記に定義され
    た通りである。〕で表される錯体である請求項１または
    ２に記載の組成物。
  5. 【請求項５】希土類錯体が一般式（Ｖ）： 【化５】 〔式中、Ｍ、Ｒｆ1、Ｒｆ2、n1、n2及びＺ’は前記に定
    義された通りである。〕で表される錯体である請求項１
    または２に記載の組成物。
  6. 【請求項６】一般式（VI） 【化６】 〔式中、Ｍ、ｎ1及びｎ2は前記に定義された通りであ
    る。Ｚ''は、水素原子又はＺ’（Ｚ’は前記に同じ）を
    示す。Ｒｆ4及びＲｆ5は、同一又は異なって水素原子を
    含まないＣ1〜Ｃ22の脂肪族基、水素原子を含まない芳
    香族基または水素原子を含まないヘテロ環基を示す。〕
    で表される錯体と極性溶媒との分散ないし懸濁混合物を
    ポリマーマトリクス中に含む組成物。
  7. 【請求項７】極性溶媒がＤＭＳＯ−ｄ6である請求項２
    〜６のいずれかに記載の組成物。
  8. 【請求項８】ポリマーマトリクスが、ポリメチルメタク
    リレート、含フッ素ポリメタクリレート、ポリアクリレ
    ート、含フッ素ポリアクリレート、ポリスチレン、ポリ
    エチレン、ポリプロピレン、ポリブテン等のポリオレフ
    ィン、ポリビニルエーテル、含フッ素ポリビニルエーテ
    ル及びそれらの共重合体、エポキシ樹脂、ナフィオンか
    らなる群から選ばれる請求項１〜７のいずれかに記載の
    組成物。
  9. 【請求項９】請求項１〜８のいずれかに記載の組成物を
    含む光機能材料。
  10. 【請求項１０】請求項１〜８のいずれかに記載の組成物
    を含んでなる成形体。
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