JP2000063327A - Method for producing reactive hemiacetal ester, reactive hemiacetal ester produced by the method, and cured product thereof - Google Patents
Method for producing reactive hemiacetal ester, reactive hemiacetal ester produced by the method, and cured product thereofInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】低粘度で且つ高反応性の反応性ヘミアセタール
エステルを簡便に製造する方法、および塗料、インキ等
の被膜形成材料、または封止剤、成形剤、接着剤、粘着
剤などの樹脂素材として利用できる反応性ヘミアセター
ルおよびその硬化物の提供。
【解決手段】カルボキシル基を有する(メタ)アクリル
系化合物と、2個以上のビニルエーテル基を有するビニ
ルエーテル系化合物(C)とを反応させる反応性ヘミア
セタールエステルの製造方法、該方法で製造される(メ
タ)アクリロイル基を有する反応性ヘミアセタールエス
テル、および該反応性ヘミアセタールエステルに活性エ
ネルギー線を照射してなる硬化物。
(57) Abstract: A method for easily producing a low-viscosity and highly reactive reactive hemiacetal ester, and a film-forming material such as paint and ink, or a sealant, a molding agent, an adhesive, Provide a reactive hemiacetal and a cured product thereof that can be used as a resin material such as an adhesive. A method for producing a reactive hemiacetal ester, which comprises reacting a (meth) acrylic compound having a carboxyl group with a vinyl ether compound (C) having two or more vinyl ether groups, is produced by the method. A reactive hemiacetal ester having a (meth) acryloyl group, and a cured product obtained by irradiating the reactive hemiacetal ester with an active energy ray.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、流動性、硬化性に
優れ、塗料、インキ等の被膜形成材料、または封止剤、
成形剤、接着剤、粘着剤などの原料として広い分野で使
用することができ、熱または活性エネルギー線で硬化物
を得ることのできる反応性ヘミアセタールエステル、そ
の製造方法、およびその硬化物に関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a film forming material such as paint or ink, or a sealant, which has excellent fluidity and curability.
Reactive hemiacetal ester that can be used in a wide range of fields as a raw material for molding agents, adhesives, pressure-sensitive adhesives, etc. and can obtain a cured product by heat or active energy rays, a method for producing the same, and a cured product thereof Is.
【0002】[0002]
【従来の技術】アクリル系化合物は、各種の硬化性樹脂
製品の原料、または塗料、インキ、接着剤用の樹脂エマ
ルジョン合成時の架橋剤等の広い分野で使用されてい
る。特に近年、地球環境、作業環境への関心の高まりか
ら活性エネルギー線硬化系や水系等の無溶剤化への傾向
が顕著になってきている。中でも、紫外線や電子線など
を代表とする活性エネルギー線をトリガーとする活性エ
ネルギー線硬化系は、無溶剤であることに加えて溶剤系
に比べて乾燥時間が非常に短いことから、その有効性が
認められている。しかしながら、無溶剤系の樹脂製品は
低分子量の反応性希釈剤がその主成分となることから、
硬化収縮、基材密着性、耐摩耗性等に課題を残しており
市場の拡大が制限されていることも現実である。この課
題を解決するために、これまで種々の検討がされてき
た。2. Description of the Related Art Acrylic compounds are used in a wide variety of fields such as raw materials for various curable resin products or cross-linking agents when synthesizing resin emulsions for paints, inks and adhesives. In recent years, in particular, due to the growing interest in the global environment and working environment, the tendency toward solvent-free active energy ray curing systems and water systems has become remarkable. Among them, the active energy ray curing system triggered by active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams is a solvent-free one, and the drying time is much shorter than that of the solvent type. Is recognized. However, since solventless resin products have low molecular weight reactive diluents as their main components,
It is a reality that the expansion of the market is limited due to problems such as curing shrinkage, substrate adhesion and abrasion resistance. In order to solve this problem, various studies have been made so far.
【0003】その一部が、各種反応性化合物の開発であ
り、水系の活性エネルギー線硬化型素材の開発である。
特に前者の開発に関しては、ウレタンアクリル系化合
物、エポキシアクリル系化合物、エステルアクリル系化
合物を中心とした多種類の反応性化合物が素材メーカー
から生み出されてきた。しかしながら、従来の反応性化
合物は、高温・長時間の製造工程を余儀なくされてい
た。また、物性的にも、密着性に優れたエポキシアクリ
ル系化合物は、水酸基の存在により高粘度、低耐水性で
あり、耐摩耗性、機械強度等の塗膜物性に優れたウレタ
ンアクリル系化合物は、非常に高粘度であるために、塗
加工性を必要とされる用途の場合には性能が十分活かせ
るまでの配合ができないなど処方上の問題が残ってい
る。Part of this is the development of various reactive compounds and the development of water-based active energy ray-curable materials.
In particular, regarding the former development, many kinds of reactive compounds centering on urethane acrylic compounds, epoxy acrylic compounds, and ester acrylic compounds have been produced by material manufacturers. However, conventional reactive compounds have been forced to undergo a high-temperature, long-time manufacturing process. Further, also in terms of physical properties, the epoxy acrylic compound excellent in adhesiveness has high viscosity due to the presence of a hydroxyl group, low water resistance, and the urethane acrylic compound excellent in coating film physical properties such as abrasion resistance and mechanical strength is However, due to its extremely high viscosity, there are some formulation problems, such as in the case of applications requiring coating processability, it is not possible to formulate the composition until its performance is fully utilized.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、低粘度で且
つ高反応性の反応性ヘミアセタールエステルを簡便に製
造する方法の提供を目的とする。また、本発明は、塗
料、インキ等の被膜形成材料、または封止剤、成形剤、
接着剤、粘着剤などの樹脂素材として利用できる反応性
ヘミアセタールおよびその硬化物の提供を目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method for simply producing a reactive hemiacetal ester having low viscosity and high reactivity. Further, the present invention is a coating, a film forming material such as ink, or a sealing agent, a molding agent,
An object of the present invention is to provide a reactive hemiacetal that can be used as a resin material such as an adhesive and a pressure-sensitive adhesive and a cured product thereof.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ビニルエ
ーテル基とカルボキシル基との反応を利用して、多官能
ビニルエーテル系化合物とカルボキシル基含有(メタ)
アクリル系化合物とを反応させたところ、従来のエポキ
シアクリル系化合物やウレタンアクリル系化合物の合成
とは異なり、非常に穏和な条件下でしかも同程度の分子
量であるにも係わらず低粘度の反応性ヘミアセタールエ
ステルが得られることを見出し、本発明に至った。さら
に、本発明者らは、得られた反応性ヘミアセタールエス
テルを紫外線、電子線等の活性エネルギー線で硬化せし
めたところ、優れた硬化性と塗膜性能を有することを見
出した。Means for Solving the Problems The present inventors have utilized a reaction between a vinyl ether group and a carboxyl group to contain a polyfunctional vinyl ether compound and a carboxyl group-containing (meth) group.
When reacted with an acrylic compound, unlike the conventional synthesis of epoxy acrylic compounds and urethane acrylic compounds, it has a low viscosity reactivity under extremely mild conditions and a similar molecular weight. The inventors have found that a hemiacetal ester can be obtained, and completed the present invention. Furthermore, the present inventors have found that when the obtained reactive hemiacetal ester is cured with active energy rays such as ultraviolet rays and electron rays, it has excellent curability and coating film performance.
【0006】ビニルエーテル基とカルボキシル基との反
応は、アルキルリン酸化合物などのリン酸系触媒の存在
下に25〜50℃程度の温度で数時間以内に終了し、高
収率でヘミアセタールエステルを得ることの可能な公知
反応であり(Chemical Abstract,43,6576d,1949) 、最
近、反応性の高いカルボキシル基をブロックするために
利用されいる。こうして得られたブロックカルボン酸
は、エポキシ化合物と混合され一液型の熱硬化性樹脂組
成物として塗料分野を中心として広く活用されるつつあ
る(Y.Nakane,M.Ishidoya, Progress in Organic Coati
ongs 31,113-120,1997.EP296507,特開平4-68009,特開平
4-72324)。The reaction between the vinyl ether group and the carboxyl group is completed within a few hours at a temperature of about 25 to 50 ° C. in the presence of a phosphoric acid type catalyst such as an alkyl phosphoric acid compound, and the hemiacetal ester can be obtained in high yield. It is a known reaction that can be obtained (Chemical Abstract, 43, 6576d, 1949), and has recently been used to block a highly reactive carboxyl group. The block carboxylic acid thus obtained is being widely used mainly in the coating field as a one-pack type thermosetting resin composition mixed with an epoxy compound (Y.Nakane, M. Ishidoya, Progress in Organic Coati
ongs 31,113-120, 1997.EP296507, JP 4-68009, JP
4-72324).
【0007】すなわち、本発明は、カルボキシル基を有
する(メタ)アクリル系化合物と、2個以上のビニルエ
ーテル基を有するビニルエーテル系化合物(C)とを反
応させる反応性ヘミアセタールエステルの製造方法に関
する。また、本発明は、カルボキシル基を有する(メ
タ)アクリル系化合物が、環状酸無水物(A)と水酸基
を有する(メタ)アクリレート化合物(B)とを反応さ
せてなるハーフエステルである上記反応性ヘミアセター
ルエステルの製造方法に関する。That is, the present invention relates to a method for producing a reactive hemiacetal ester by reacting a (meth) acrylic compound having a carboxyl group with a vinyl ether compound (C) having two or more vinyl ether groups. Further, the present invention is the above-mentioned reactivity, wherein the (meth) acrylic compound having a carboxyl group is a half ester obtained by reacting a cyclic acid anhydride (A) with a (meth) acrylate compound (B) having a hydroxyl group. The present invention relates to a method for producing a hemiacetal ester.
【0008】また、本発明は、上記方法で製造され、下
記一般式(1)で示される反応性ヘミアセタールエステ
ルに関する。The present invention also relates to a reactive hemiacetal ester represented by the following general formula (1) produced by the above method.
【化5】
(式中、R1は水素原子またはメチル基、R2は直接結
合、炭素数2〜15のアルキレン基、または下記一般式
(2−1)または(2−2)で示される有機残基、R3
は下記一般式(3−1)〜(3−7)で示される有機残
基、x1は1または2、x2は1〜3の整数、x3は1
〜4の整数、x4は1〜6の整数をそれぞれ示す。)[Chemical 5] (In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 is a direct bond, an alkylene group having 2 to 15 carbon atoms, or an organic residue represented by the following general formula (2-1) or (2-2), R 3
Is an organic residue represented by the following general formulas (3-1) to (3-7), x1 is 1 or 2, x2 is an integer of 1 to 3, and x3 is 1.
Is an integer of 4 and x4 is an integer of 1 to 6, respectively. )
【0009】[0009]
【化6】
(式中、R4 は下記一般式(a)〜(g)から選ばれる
有機残基、pは2〜15の整数、qは2〜15の整数、
mは1〜20の整数、nは0〜10の整数、rは1〜1
0の整数をそれぞれ示す。)[Chemical 6] (In the formula, R 4 is an organic residue selected from the following general formulas (a) to (g), p is an integer of 2 to 15, q is an integer of 2 to 15,
m is an integer of 1 to 20, n is an integer of 0 to 10, and r is 1 to 1.
An integer of 0 is shown. )
【0010】[0010]
【化7】
(式中、R5 、R5'は水素原子または炭素数1〜25の
飽和または不飽和の炭化水素基を示す。)[Chemical 7] (In the formula, R 5 and R 5 ′ represent a hydrogen atom or a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms.)
【0011】[0011]
【化8】
(式中、x1は1または2、x2は1〜3の整数、x3
は1〜4の整数、x4は1〜6の整数、y2は0〜2の
整数、y3は0〜3の整数、y4は0〜5の整数sは2
〜25の整数をそれぞれ示す。)
さらに、本発明は、上記反応性ヘミアセタールエステル
に活性エネルギー線を照射してなる硬化物に関する。[Chemical 8] (In the formula, x1 is 1 or 2, x2 is an integer of 1 to 3, x3
Is an integer of 1 to 4, x4 is an integer of 1 to 6, y2 is an integer of 0 to 2, y3 is an integer of 0 to 3, y4 is an integer of 0 to 5, and s is 2
Each represents an integer of -25. Further, the present invention relates to a cured product obtained by irradiating the reactive hemiacetal ester with an active energy ray.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】本発明の製造方法に用いられるカ
ルボキシル基を有する(メタ)アクリル系化合物は、カ
ルボキシル基と(メタ)アクリロイル基を有する化合物
であり、例えば、フタル酸β−(メタ)アクリロキシエ
チルモノエステル、イソフタル酸β−(メタ)アクリロ
キシエチルモノエステル、テレフタル酸β−(メタ)ア
クリロキシエチルモノエステル、コハク酸β−(メタ)
アクリロキシエチルモノエステル、β−カルボキシエチ
ル(メタ)アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸な
どを挙げることができる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The (meth) acrylic compound having a carboxyl group used in the production method of the present invention is a compound having a carboxyl group and a (meth) acryloyl group, for example, β- (meth) phthalate. Acryloxyethyl monoester, isophthalic acid β- (meth) acryloxyethyl monoester, terephthalic acid β- (meth) acryloxyethyl monoester, succinic acid β- (meth)
Examples thereof include acryloxyethyl monoester, β-carboxyethyl (meth) acrylate, acrylic acid, methacrylic acid and the like.
【0013】また、カルボキシル基を有する(メタ)ア
クリル系化合物は、環状酸無水物(A)と水酸基を有す
る(メタ)アクリレート化合物(B)とを、必要に応じ
て3級アミン触媒の存在下に、公知の方法で反応させて
得ることもできる。環状酸無水物(A)はジカルボン酸
の環状酸無水物であり、例えば、シュウ酸、マロン酸、
こはく酸、アルキルまたはアルケニルこはく酸、グルタ
ル酸、マレイン酸などの脂肪族系ジカルボン酸の環状酸
無水物、シクロヘキシルジカルボン酸無水物、シクロヘ
キセニルジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキシルジ
カルボン酸無水物、ビシクロヘキシルジカルボン酸無水
物、ビシクロヘキセニルジカルボン酸無水物などの脂環
系ジカルボン酸の環状酸無水物、無水フタル酸などの芳
香族環状酸無水物を挙げることができる。The (meth) acrylic compound having a carboxyl group is prepared by adding the cyclic acid anhydride (A) and the (meth) acrylate compound having a hydroxyl group (B), if necessary, in the presence of a tertiary amine catalyst. It can also be obtained by reacting with a known method. The cyclic acid anhydride (A) is a cyclic acid anhydride of dicarboxylic acid, and includes, for example, oxalic acid, malonic acid,
Succinic acid, alkyl or alkenyl succinic acid, cyclic acid anhydride of aliphatic dicarboxylic acid such as glutaric acid, maleic acid, cyclohexyldicarboxylic acid anhydride, cyclohexenyldicarboxylic acid anhydride, methylcyclohexyldicarboxylic acid anhydride, bicyclohexyldicarboxylic acid Examples thereof include acid anhydrides, cyclic acid anhydrides of alicyclic dicarboxylic acids such as bicyclohexenyl dicarboxylic acid anhydride, and aromatic cyclic acid anhydrides such as phthalic anhydride.
【0014】また、水酸基を有する(メタ)アクリレー
ト化合物(B)は、水酸基と(メタ)アクリロイル基を
有する(メタ)アクリレート化合物であり、下記一般式
(4)で示される化合物を用いることができる。The (meth) acrylate compound (B) having a hydroxyl group is a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group, and a compound represented by the following general formula (4) can be used. .
【化9】
(式中、R1は水素原子またはメチル基、pは2〜15
の整数、qは1〜15の整数、mは1〜20の整数、n
は0〜10の整数をそれぞれ示す。)[Chemical 9] (In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, and p is 2 to 15
Of n, q is an integer of 1 to 15, m is an integer of 1 to 20, n
Represents an integer of 0 to 10, respectively. )
【0015】一般式(4)で示される化合物は、ヒドロ
キシアルキル(メタ)アクリレート化合物、アルキレン
グリコールモノ(メタ)アクリレート化合物、およびラ
クトン変性系(メタ)アクリレート化合物に大別され
る。ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート化合物の
具体例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどが挙げられ
る。The compound represented by the general formula (4) is roughly classified into a hydroxyalkyl (meth) acrylate compound, an alkylene glycol mono (meth) acrylate compound, and a lactone-modified (meth) acrylate compound. Specific examples of the hydroxyalkyl (meth) acrylate compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate and 2-
Examples thereof include hydroxybutyl (meth) acrylate.
【0016】また、アルキレングリコールモノ(メタ)
アクリレート化合物の具体例としては、ジエチレングリ
コールモノ(メタ)アクリレート、トリエチレングチコ
ールモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコ
ールモノ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコ
ール(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコー
ル(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコールモ
ノ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコー
ルモノ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。Further, alkylene glycol mono (meth)
Specific examples of the acrylate compound include diethylene glycol mono (meth) acrylate, triethylene glycol mono (meth) acrylate, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, tripropylene glycol (meth) acrylate, tetrapropylene glycol (meth) acrylate, Examples include dipropylene glycol mono (meth) acrylate, tripropylene glycol mono (meth) acrylate, tetrapropylene glycol mono (meth) acrylate, and polytetramethylene glycol mono (meth) acrylate.
【0017】また、ラクトン変性系(メタ)アクリレー
ト化合物の具体例としては、2-(メタ)アクリロイル
オキシエチルハイドロジェンカプロラクトネート 、2-
(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェンジカ
プロラクトネート、 2-(メタ)アクリロイルオキシエ
チルハイドロジェンポリ(重合度3〜5)カプロラクト
ネート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−
ヒドロキシ−6ヘーサノラクトネートなどが挙げられ
る。Further, specific examples of the lactone-modified (meth) acrylate compound include 2- (meth) acryloyloxyethyl hydrogencaprolactonate, 2-
(Meth) acryloyloxyethyl hydrogen dicaprolactonate, 2- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen poly (polymerization degree 3-5) caprolactonate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-
Hydroxy-6 hesanolactonate and the like can be mentioned.
【0018】更に、水酸基を有する(メタ)アクリレー
ト化合物(B)としては、一般式(4)で示される化合
物以外にも、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル2
−ヒドロキシプロピルフタレート、3−クロロ−2−ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキ
シ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレートがあ
り、またグリセロールモノ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、エチレン
オキサイド変性ペンタエリスリトールモノ(メタ)アク
リレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリ
レート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパ
ンモノ(メタ)アクリレートなどを用いることができ
る。Further, as the (meth) acrylate compound (B) having a hydroxyl group, in addition to the compound represented by the general formula (4), 2- (meth) acryloyloxyethyl 2
-Hydroxypropyl phthalate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, pentaerythritol mono (meth) acrylate, ethylene Oxide-modified pentaerythritol mono (meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane mono (meth) acrylate, etc. can be used.
【0019】また、本発明の製造方法に用いられるビニ
ルエーテル系化合物は、2個以上のビニルエーテル基を
有する化合物であり、ジビニルエーテル系化合物、3官
能以上のポリビニルエーテル系化合物を用いることがで
きる。ジビニルエーテル系化合物の具体例としては、エ
チレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコ
ールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニ
ルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテ
ル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、プロピレ
ングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコー
ルジビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニ
ルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテ
ル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、1,6
−ヘキサンジオールジビニルエーテル、グリセロールジ
ビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエー
テル、1,4−ジヒドロキシシクロヘキサンジビニルエ
ーテル、1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサンジ
ビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、ハ
イドロキノンジエトキシジビニルエーテル、レゾルシン
ジエトキシジビニルエーテル、ビスフェンノールAジエ
トキシジビニルエーテル、ビスフェノールSジエトキシ
ジビニルエーテルなどが挙げられる。The vinyl ether compound used in the production method of the present invention is a compound having two or more vinyl ether groups, and a divinyl ether compound or a trifunctional or higher functional polyvinyl ether compound can be used. Specific examples of the divinyl ether compound include ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, pentaerythritol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, and tripropylene glycol. Divinyl ether, neopentyl glycol divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, 1,6
-Hexanediol divinyl ether, glycerol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, 1,4-dihydroxycyclohexane divinyl ether, 1,4-dihydroxymethylcyclohexane divinyl ether, hydroquinone divinyl ether, hydroquinone diethoxydivinyl ether, resorcin diethoxydivinyl ether , Bisphenol A diethoxydivinyl ether, bisphenol S diethoxydivinyl ether, and the like.
【0020】3官能以上のポリビニルエーテル系化合物
の具体例としては、グリセロールトリビニルエーテル、
ソルビトールテトラビニルエーテル、トリメチロールプ
ロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリ
ビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエ
ーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテ
ル、ジペンタエリスリトールポリビニルエーテル、ジト
リメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ジトリメ
チロールプロパンポリビニルエーテル、ポリエステルポ
リビニルエーテル、ポリウレタンポリビニルエーテルな
どが挙げられる。Specific examples of the trifunctional or higher functional polyvinyl ether compound include glycerol trivinyl ether,
Sorbitol tetravinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether, dipentaerythritol polyvinyl ether, ditrimethylolpropane tetravinyl ether, ditrimethylolpropane polyvinyl ether, polyester polyvinyl ether, polyurethane polyvinyl Examples include ether.
【0021】本発明の製造方法により得られる反応性ヘ
ミアセタールエステルは、(メタ)アクリロイル基を有
するヘミアセタールエステルであり、その化学構造は使
用する原料により多様であるが、代表的な構造は上記一
般式(1)で示される。上記一般式(1)中、R1 は水
素原子またはメチル基であるが、高反応性を必要とする
場合には、アクリル系化合物となる水素原子である方が
好ましい。また、R2 は直接結合、炭素数2〜15、好
ましくは2〜8のアルキレン基、または上記一般式(2
−1)または(2−2)で示される有機残基である。上
記一般式(2−1)で示される有機残基は、上記一般式
(4)で示される環状酸無水物(A)と水酸基含有(メ
タ)アクリレート化合物(B)とから得られるカルボキ
シル基を有する(メタ)アクリレート化合物に由来す
る。The reactive hemiacetal ester obtained by the production method of the present invention is a hemiacetal ester having a (meth) acryloyl group, and its chemical structure varies depending on the starting materials used, but a typical structure is as described above. It is represented by the general formula (1). In the general formula (1), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, but when high reactivity is required, it is preferably a hydrogen atom which becomes an acrylic compound. R 2 is a direct bond, an alkylene group having 2 to 15 carbon atoms, preferably 2 to 8 carbon atoms, or the above general formula (2
-1) or an organic residue represented by (2-2). The organic residue represented by the general formula (2-1) has a carboxyl group obtained from the cyclic acid anhydride (A) represented by the general formula (4) and the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound (B). It is derived from the (meth) acrylate compound that it has.
【0022】上記一般式(2−1)および(2−2)
中、pは2〜15、好ましくは2〜6の整数であり、こ
れより大きいと反応性が低下する。qは2〜15、好ま
しくは4〜7の整数であり、原料の汎用性や物性面から
この範囲が適当である。mは1〜20、好ましくは1〜
5の整数であり、これより大きいと反応性が低下する。
nは0〜10、好ましくは1〜5の整数、rは1〜1
0、好ましくは1〜5の整数であり、これより大きいと
反応性が低下する。また、R4 は、環状酸無水物(A)
に由来し、上記一般式(a)〜(g)で示される有機残
基である。一般式(a)〜(g)中、R5 、R5'は水素
原子または炭素数1〜25の飽和または不飽和の炭化水
素基を示す。なかでも、低粘性が必要とされる場合には
(a)または(b)で示される構造が好ましく、密着性
が必要とされる場合には(c)〜(g)で示される環状
構造が好ましい。The above general formulas (2-1) and (2-2)
Among them, p is an integer of 2 to 15, preferably 2 to 6, and if it is larger than this, the reactivity decreases. q is an integer of 2 to 15, preferably 4 to 7, and this range is suitable from the viewpoint of versatility of raw materials and physical properties. m is 1 to 20, preferably 1 to
It is an integer of 5, and if it is larger than this, the reactivity decreases.
n is an integer of 0 to 10, preferably 1 to 5, r is 1 to 1
It is an integer of 0, preferably 1 to 5, and if it is larger than this, the reactivity decreases. R 4 is a cyclic acid anhydride (A)
And an organic residue represented by the above general formulas (a) to (g). In formulas (a) to (g), R 5 and R 5 ′ represent a hydrogen atom or a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms. Above all, the structure represented by (a) or (b) is preferable when low viscosity is required, and the cyclic structure represented by (c) to (g) is represented when adhesion is required. preferable.
【0023】上記一般式(1)中、R3 は、ビニルエー
テル系化合物に由来し、上記一般式(3−1)〜(3−
7)で示される有機残基である。一般式(3−1)〜
(3−7)中、x1は1または2、x2は1〜3の整
数、x3は1〜4の整数、x4は1〜6の整数、y2は
0〜2の整数、y3は0〜3の整数、y4は0〜5の整
数をそれぞれ示す。また、一般式(3−1)中、sは2
〜25、好ましくは4〜16の整数を示し、一般式(3
−2)中、pは2〜15、好ましくは2〜6の整数、q
は2〜15、好ましくは4〜7の整数をそれぞれ示す。In the general formula (1), R 3 is derived from a vinyl ether compound and has the general formulas (3-1) to (3-).
It is an organic residue represented by 7). General formula (3-1)-
In (3-7), x1 is 1 or 2, x2 is an integer of 1 to 3, x3 is an integer of 1 to 4, x4 is an integer of 1 to 6, y2 is an integer of 0 to 2, and y3 is 0 to 3. And y4 each represent an integer of 0 to 5. In addition, in the general formula (3-1), s is 2
To 25, preferably an integer of 4 to 16, and represented by the general formula (3
-2), p is 2 to 15, preferably an integer of 2 to 6, q
Represents an integer of 2 to 15, preferably 4 to 7, respectively.
【0024】本発明の製造方法により得られる反応性ヘ
ミアセタールエステルの化学構造は、必要とされる物性
や硬化性に応じて選択される。即硬化性、高硬度が必要
とされる場合には、官能基数が多いビニルエーテル系化
合物を原料とする構造、即ち一般式(1)中のR3 が一
般式(3−3)〜(3−7)で示される有機残基である
構造が好ましい。また、柔軟性が必要とされる場合に
は、ビニルエーテル基を2個有し、比較的長鎖のビニル
エーテル系化合物を原料とする構造、即ち、一般式
(1)中のR3 が一般式(3−1)や(3−2)で示さ
れる有機残基である構造や、R2 が炭素数4〜15、さ
らには8〜12のアルキレン基、または一般式(2−
1)で示される有機残基(式中、mが2〜5、nが1〜
5、rが2〜10)である構造が好ましい。また、カル
ボキシル基を有する(メタ)アクリル系化合物と反応し
ていないビニルエーテル基の存在は、分子中に導入され
た(メタ)アクリロイル基の数より多くなると反応性が
低下するため好ましくないが、同数以下である場合に
は、(メタ)アクリロイル基単独の場合より反応性が向
上する場合もある。The chemical structure of the reactive hemiacetal ester obtained by the production method of the present invention is selected according to the required physical properties and curability. When immediate curing and high hardness are required, a structure using a vinyl ether compound having a large number of functional groups as a raw material, that is, R 3 in general formula (1) is represented by general formulas (3-3) to (3-). A structure which is an organic residue represented by 7) is preferable. Further, when flexibility is required, a structure having two vinyl ether groups and using a relatively long chain vinyl ether compound as a raw material, that is, R 3 in the general formula (1) is represented by the general formula ( 3-1) or a structure which is an organic residue represented by (3-2), an alkylene group in which R 2 has 4 to 15 carbon atoms, further 8 to 12 carbon atoms, or a general formula (2-
1) an organic residue (wherein m is 2 to 5 and n is 1 to
A structure in which 5 and r are 2 to 10) is preferable. In addition, the presence of vinyl ether groups that have not reacted with the (meth) acrylic compound having a carboxyl group is not preferable because the reactivity decreases when the number exceeds the number of (meth) acryloyl groups introduced into the molecule. In the case of the following, the reactivity may be improved as compared with the case of using the (meth) acryloyl group alone.
【0025】本発明の製造方法において、反応性ヘミア
セタールエステルを製造する際に、必要に応じて触媒を
使用することができる。使用できる触媒としては、リン
酸エステル系の酸触媒、例えばリン酸ジ−n−ブチル、
リン酸2−エチルヘキシル、リン酸モノオクチルなどを
挙げることができる。触媒の添加量は、カルボキシル基
を有する(メタ)アクリル系化合物100重量部に対し
て、0.01〜3重量部、さらには0.1〜1.5重量
部であることが好ましい。反応は無溶剤系で行うことが
できるが、反応を制御するために汎用の有機溶剤を使用
することもできる。その場合の有効成分濃度は20〜9
5重量%、さらには30〜90重量%であることが好ま
しい。これより低濃度では反応性が低下するため好まし
くない。In the production method of the present invention, a catalyst can be used, if necessary, when producing the reactive hemiacetal ester. As a catalyst that can be used, a phosphoric acid ester-based acid catalyst, for example, di-n-butyl phosphate,
2-Ethylhexyl phosphate, monooctyl phosphate, etc. can be mentioned. The amount of the catalyst added is preferably 0.01 to 3 parts by weight, more preferably 0.1 to 1.5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the (meth) acrylic compound having a carboxyl group. The reaction can be carried out in a solventless system, but a general-purpose organic solvent can be used to control the reaction. In that case, the active ingredient concentration is 20 to 9
It is preferably 5% by weight, more preferably 30 to 90% by weight. If the concentration is lower than this range, the reactivity is lowered, which is not preferable.
【0026】また、本発明により製造される反応性ヘミ
アセタールエステルの分子量や粘度については特に限定
はないが、数平均分子量200〜5000、さらには2
00〜2000であると、他成分との相溶性や粘性の点
で好ましい場合がある。また、粘度は、反応性ヘミアセ
タールエステルを含む組成物が造膜可能な粘度範囲であ
れば特に制限はないが、取り扱い上、25℃で液体であ
る方が好ましく、さらには20〜50000cpsの粘
度(30℃)を示すことが好ましい。The molecular weight and viscosity of the reactive hemiacetal ester produced by the present invention are not particularly limited, but the number average molecular weight is 200 to 5,000, and further 2
When it is from 00 to 2000, it may be preferable in terms of compatibility with other components and viscosity. The viscosity is not particularly limited as long as the composition containing the reactive hemiacetal ester is in a viscosity range capable of forming a film, but is preferably a liquid at 25 ° C. in terms of handling, and a viscosity of 20 to 50,000 cps. (30 ° C.) is preferable.
【0027】本発明により製造される反応性ヘミアセタ
ールエステルは、単独でも硬化性の無溶剤系の液状樹脂
として塗料、インキ等の皮膜形成材料、成形材料、接着
剤などとして使用できる。また、他の(メタ)アクリル
系化合物、ビニルエーテル系化合物、オキセタン系化合
物などの活性エネルギー線硬化型化合物の1種または2
種以上を配合することにより、粘度を調節したり、造膜
性、被膜性能を調節することができる。また、同様の理
由から、アミノ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド樹
脂、セルロース誘導体、ビニル系樹脂、ポリオレフィ
ン、天然ゴム誘導体、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リエステル、ポリスチレン、ウレタンアクリル樹脂、エ
ポキシアクリル樹脂、アルキド樹脂、ロジン変性アルキ
ド樹脂、アマニ油変性アルキド樹脂などの汎用性樹脂素
材や、アマニ油、桐油、大豆油などの乾性油等を配合し
てもよい。ただし、これらの配合量は、何れも組成物の
全量に対して、好ましくは60重量%以下、さらに好ま
しくは40重量%以下である。The reactive hemiacetal ester produced according to the present invention can be used alone as a curable solventless liquid resin as a coating material, a film forming material such as ink, a molding material and an adhesive. In addition, one or two of active energy ray-curable compounds such as other (meth) acrylic compounds, vinyl ether compounds, and oxetane compounds.
By blending more than one species, it is possible to adjust viscosity, film-forming property and film performance. In addition, for the same reason, amino resin, phenol resin, polyamide resin, cellulose derivative, vinyl resin, polyolefin, natural rubber derivative, acrylic resin, epoxy resin, polyester, polystyrene, urethane acrylic resin, epoxy acrylic resin, alkyd resin, General purpose resin materials such as rosin-modified alkyd resin and linseed oil-modified alkyd resin, and drying oil such as linseed oil, tung oil and soybean oil may be blended. However, the blending amount of each of them is preferably 60% by weight or less, more preferably 40% by weight or less based on the total amount of the composition.
【0028】さらに、流動性を制御する目的で、水、有
機溶剤、相溶化剤、界面活性剤または、滑剤等を添加し
てもよい。これらの配合量は、組成物の全量に対して、
好ましくは20重量%、更に好ましくは10重量%以下
である。また、本発明により製造される反応性ヘミアセ
タールエステルに、染料やカーボンブラック、チタンホ
ワイト、フタロシアニン、アゾ色素、キナクリドン等の
顔料からなる着色剤、Si系微粒子、雲母、炭酸カルシ
ウム等の無機充填剤等を適当量添加することにより各種
印刷インキや着色塗料等として用いることができる。ま
た、本発明により製造される反応性ヘミアセタールエス
テルを放射線照射により硬化せしめる場合には、公知の
光重合増感剤や開始剤を添加することができる。Further, water, an organic solvent, a compatibilizer, a surfactant or a lubricant may be added for the purpose of controlling fluidity. These compounding amounts are based on the total amount of the composition.
It is preferably 20% by weight, more preferably 10% by weight or less. In addition, the reactive hemiacetal ester produced by the present invention includes a coloring agent composed of a dye or a pigment such as carbon black, titanium white, phthalocyanine, an azo dye, or quinacridone, an inorganic filler such as Si-based fine particles, mica, or calcium carbonate. It can be used as various printing inks or colored paints by adding an appropriate amount of the above. When the reactive hemiacetal ester produced by the present invention is cured by irradiation with radiation, known photopolymerization sensitizers and initiators can be added.
【0029】本発明により製造される反応性ヘミアセタ
ールエステルは、各種金属、プラスチック、紙、セラミ
ックあるいはこれらの複合材料からなる板、フィルム、
シート状の基材に、ロールコータ、バーコータ、ナイフ
コータなどで塗工方法、またはオフセット印刷、グラビ
ア印刷、凸版印刷、シルクスクリーン印刷などの印刷方
法で、0.1〜500μmの膜厚で造膜あるいは充填す
ることができる。上記方法により造膜または充填せしめ
た被膜は、電子線、紫外線、可視光線、赤外線等の活性
エネルギー線を照射または加熱することにより硬化せし
めることができる。The reactive hemiacetal ester produced according to the present invention is a plate, a film, or a plate made of various metals, plastics, papers, ceramics or composite materials thereof.
A sheet-shaped substrate is coated with a roll coater, a bar coater, a knife coater, or a printing method such as offset printing, gravure printing, letterpress printing, or silk screen printing to form a film having a thickness of 0.1 to 500 μm or Can be filled. The coating film formed or filled by the above method can be cured by irradiating or heating an active energy ray such as electron beam, ultraviolet ray, visible ray or infrared ray.
【0030】電子線照射により硬化せしめる場合には、
好ましくは10〜300kV、さらに好ましくは30〜
100kVの範囲に加速電圧を有する電子線照射装置が
用いられる。100kV以下の加速電圧の電子線照射を
行った場合には、塗膜や基材に対するダメージが少ない
ため好ましい。また、加速電圧30〜70kVの範囲の
低加速電圧の電子線照射装置は、表面にエネルギーが集
中するため酸素による硬化阻害を生じやすい塗工/印刷
表面において集中的に電子線が吸収され、硬化性を向上
させることができることから、薄膜の硬化には効果的で
あり特に好ましい。また、電子線の被照射線量(DOS
E)は、好ましくは1〜1000kGy、更に好ましく
は5〜200kGyの範囲である。これより少ないと充
分な硬化物が得られにくく、またこれより大きいと塗膜
や基材に対するダメージが大きいため好ましくない。When curing by electron beam irradiation,
Preferably 10 to 300 kV, more preferably 30 to
An electron beam irradiation device having an accelerating voltage in the range of 100 kV is used. Irradiation with an electron beam having an accelerating voltage of 100 kV or less is preferable because it causes less damage to the coating film and the substrate. Further, in the electron beam irradiation device having a low accelerating voltage in the range of 30 to 70 kV, the energy is concentrated on the surface, so the curing of oxygen is likely to be inhibited by oxygen. Since it is possible to improve the property, it is effective and particularly preferable for curing the thin film. In addition, the electron beam irradiation dose (DOS
E) is preferably in the range of 1 to 1000 kGy, more preferably 5 to 200 kGy. If it is less than this range, it is difficult to obtain a sufficiently cured product, and if it is more than this range, the coating film or the base material is greatly damaged, which is not preferable.
【0031】熱により硬化せしめる場合には、好ましく
は30〜120℃、更に好ましくは50〜90℃で硬化
せしめる。硬化温度が120℃を越えると、本発明によ
り製造される反応性ヘミアセタールエステルの分解反応
が進行してしまうため好ましくない。また、30℃未満
では硬化反応が進行しにくいため好ましくない。熱硬化
の際には、公知の反応触媒を用いることが好ましい。When it is cured by heat, it is preferably cured at 30 to 120 ° C, more preferably 50 to 90 ° C. When the curing temperature exceeds 120 ° C., the decomposition reaction of the reactive hemiacetal ester produced by the present invention proceeds, which is not preferable. Further, if the temperature is lower than 30 ° C, the curing reaction is difficult to proceed, which is not preferable. It is preferable to use a known reaction catalyst at the time of heat curing.
【0032】[0032]
【実施例】次に、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
◎純度、数平均分子量および粘度の測定方法
1)純度、数平均分子量(Mn):ゲル透過クロマトグ
ラフィー(東ソー社製:SC−8020)
2)粘度(30℃):レオメータ(レオメトリクス社
製:RDS−II、RFS−II)
サンプルの粘度にあわせて、レオメトリクス社製レオメ
ータRDS−II(高粘度タイプ)、またはRFS−I
I(低粘度タイプ)で測定した定常粘度(ズリ速度=1
〜10/secの値)をそれぞれ採用した。EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by way of examples, which should not be construed as limiting the invention thereto. ◎ Purity, number average molecular weight and viscosity measuring method 1) Purity, number average molecular weight (Mn): Gel permeation chromatography (Tosoh Corporation: SC-8020) 2) Viscosity (30 ° C): Rheometer (Rheometrics: RDS-II, RFS-II) Rheometer RDS-II (high viscosity type) manufactured by Rheometrics, or RFS-I according to the viscosity of the sample.
Steady-state viscosity measured by I (low viscosity type) (sliding speed = 1
The value of -10 / sec) was adopted.
【0033】◎電子線照射装置と照射条件
1)エリアビーム型電子線照射装置 Curetron EBC-200
-20-30(日新ハイボルテージ社製)
電子線加速度;150kV
吸収線量(Dose);5〜50kGyの範囲で電流量によ
り調節した。
2)MIN−EB(AIT社製)
電子線加速度;50kV
吸収線量(Dose); 5〜20kGyの範囲で搬送速度に
より調節した。◎ Electron beam irradiation device and irradiation conditions 1) Area beam type electron beam irradiation device Curetron EBC-200
-20-30 (manufactured by Nisshin High Voltage Co., Ltd.) Electron beam acceleration; 150 kV absorbed dose (Dose); Adjusted by the amount of current in the range of 5 to 50 kGy. 2) MIN-EB (manufactured by AIT) Electron beam acceleration; 50 kV absorbed dose (Dose); 5 to 20 kGy was adjusted by the transport speed.
【0034】◎実施例、比較例で使用した以下の化合物
の略号を記す。
1)ビニルエーテル系化合物(C)
HDDV;1,6-ヘキサンジオールジビニルエーテル
TPGDV;トリプロピレングリコールジビニルエーテル
TMPTV;トリメチロールプロパントリビニルエーテル
2)カルボキシル基を有する(メタ)アクリル系化合物
AA;アクリル酸
SA;コハク酸β−アクリロキシエチルモノエステルThe abbreviations of the following compounds used in Examples and Comparative Examples are shown below. 1) Vinyl ether compound (C) HDDV; 1,6-hexanediol divinyl ether TPGDV; tripropylene glycol divinyl ether TMPTV; trimethylolpropane trivinyl ether 2) (meth) acrylic compound AA having a carboxyl group; acrylic acid SA; Succinic acid β-acryloxyethyl monoester
【0035】3)カルボキシル基を有する(メタ)アク
リル系化合物合成時(合成例1〜9)に使用した原料
環状酸無水物(A)
SAH;無水コハク酸
HPAH;cis-1,2シクロヘキサンジカルボン酸無水物
PAH;無水フタル酸
水酸基含有(メタ)アクリレート化合物(B)
4HBA;4-ヒドロキシブチルアクリレート
PPG6A;ポリプロピレングリコール(繰り返し単位=6)
モノアクリレート
PPG2A;ジプロピレングリコールモノアクリレート
FA2;2-(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェ
ンジカプロラクトネート
PE3A;ペンタエリスリトールトリアクリレート3) Raw material cyclic acid anhydride (A) SAH; succinic anhydride HPAH; cis-1,2 cyclohexanedicarboxylic acid used when synthesizing a (meth) acrylic compound having a carboxyl group (Synthesis Examples 1 to 9) Anhydrous PAH; Phthalic anhydride hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound (B) 4HBA; 4-Hydroxybutyl acrylate PPG6A; Polypropylene glycol (repeating unit = 6)
Monoacrylate PPG2A; dipropylene glycol monoacrylate FA2; 2- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen dicaprolactonate PE3A; pentaerythritol triacrylate
【0036】4)比較として合成した単官能ビニルエー
テル、エポキシアクリル、ウレタンアクリルの原料
EVE;エチルビニルエーテル
HDDG;1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル
HMDI;ヘキサメチレンジイソシアネート4) Raw materials for monofunctional vinyl ether, epoxy acryl, urethane acryl, which were synthesized for comparison EVE; ethyl vinyl ether HDDG; 1,6-hexanediol diglycidyl ether HMDI; hexamethylene diisocyanate
【0037】(合成例1〜9)カルボキシル基を有する
(メタ)アクリル系化合物の合成
撹拌装置、窒素導入管、温度センサー、コンデンサーを
備えた四つ口丸底フラスコに、表1に示す環状酸無水物
(A) と水酸基含有(メタ)アクリレート化合物
(B)を等モル仕込み(繰り返し構造のある水酸基含有
(メタ)アクリレート化合物の配合量は水酸基価から算
出した)、更にジメチルベンジルアミン0.5phrを添加
した。これを90℃に設定した湯浴中にセットし、加熱
撹拌を開始した。反応系内が均一になったことを確認で
きたら湯浴温度を700℃に下げ、加熱攪拌を継続し
た。3時間経過後からIRにて酸無水物の特性吸収(18
20cm -1付近)をチェックし、ピークが消失したところ
で湯浴から外し放冷した。得られた生成物は GPCと酸価
の測定により確認した。表1に、環状酸無水物(A)
と水酸基含有(メタ)アクリルレート化合物(B)の種
類と、得られたカルボキシル基を有する(メタ)アクリ
ル系化合物の酸価を示す。(Synthesis examples 1 to 9) having a carboxyl group
Synthesis of (meth) acrylic compounds
Stirrer, nitrogen introduction tube, temperature sensor, condenser
In a four-necked round bottom flask equipped with the cyclic acid anhydride shown in Table 1.
(A) and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound
An equimolar charge of (B) (containing a hydroxyl group with a repeating structure)
The compounding amount of the (meth) acrylate compound is calculated from the hydroxyl value.
Added), and 0.5 phr of dimethylbenzylamine was added.
did. Set this in a hot water bath set at 90 ° C and heat
Stirring was started. Make sure that the reaction system is uniform.
Once the temperature of the hot water bath is lowered to 700 ℃, continue heating and stirring.
It was After 3 hours, the characteristic absorption of acid anhydride by IR (18
20 cm -1(Near) and the peak disappeared
So I removed it from the bath and let it cool down. The obtained product has GPC and acid value.
Was confirmed by the measurement. In Table 1, cyclic acid anhydride (A)
And a seed of a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound (B)
And a (meth) acryl having the obtained carboxyl group
Shows the acid value of the ruthenium compound.
【0038】[0038]
【表1】 [Table 1]
【0039】(実施例1)撹拌装置、窒素導入管、温度
センサー、コンデンサーを備えた四つ口丸底フラスコ
に、HDDVと2モル倍量の合成例1で得られたカルボキシ
ル基を有する(メタ)アクリル系化合物を仕込み、更に
リン酸ジブチル1phr を添加した。これを室温(25
℃)で撹拌した。1時間おきに酸価を測定し、5mgKOH/g
以下になったところで湯浴から外し反応を止めた。得ら
れた化合物は、GPC で測定した分子量および原料の残存
率にて確認した。合成例1で得られたカルボキシル基を
有する(メタ)アクリル系化合物の反応を経時で追った
GPCチャートとそのピークの帰属を図1、2に、これを
用いた反応性ヘミアセタールエステルの合成反応を経時
で追ったGPCチャートとそのピークの帰属を図3、4に
それぞれ示す。Example 1 A four-necked round bottom flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube, a temperature sensor, and a condenser had HDDV and 2 moles of the carboxyl group obtained in Synthesis Example 1 (meta). ) An acrylic compound was charged, and 1 phr of dibutyl phosphate was further added. Room temperature (25
(° C). The acid value is measured every 1 hour, and 5 mgKOH / g
When the temperature became below, the reaction was stopped by removing it from the bath. The obtained compound was confirmed by the molecular weight measured by GPC and the residual ratio of the raw materials. The reaction of the (meth) acrylic compound having a carboxyl group obtained in Synthesis Example 1 was followed with time.
The GPC chart and the attribution of the peak are shown in FIGS. 1 and 2, and the GPC chart and the attribution of the peak in which the synthetic reaction of the reactive hemiacetal ester using the same is followed with time are shown in FIGS.
【0040】(実施例2)撹拌装置、窒素導入管、温度
センサー、コンデンサーを備えた四つ口丸底フラスコに
HDDVと2モル倍量の合成例2で得られたカルボキシル基
を有する(メタ)アクリル系化合物を仕込み、更にリン
酸ジブチルを1phrを添加した。これを室温 (25℃)
で撹拌した。1時間おきに酸価を測定し、5mgKOH/g以下
になったところで湯浴から外し反応を止めた。得られた
化合物は、GPCで測定した分子量および原料の残存率に
て確認した。合成例2で得られたカルボキシル基を有す
る(メタ)アクリル系化合物の反応を経時で追ったGPC
チャートとそのピークの帰属を図5、6に、これを用い
た反応性ヘミアセタールエステルの合成反応を経時で追
ったGPCチャートとそのピークの帰属を図7、8にそれ
ぞれ示す。さらに参考のため、原料の GPCチャートを図
9、10、11に示す。Example 2 A four-neck round bottom flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube, a temperature sensor, and a condenser was used.
HDDV and 2 mole times the amount of the (meth) acrylic compound having a carboxyl group obtained in Synthesis Example 2 were charged, and 1 phr of dibutyl phosphate was further added. Room temperature (25 ℃)
It was stirred at. The acid value was measured every hour, and when the acid value became 5 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by removing from the bath. The obtained compound was confirmed by the molecular weight measured by GPC and the residual ratio of the raw materials. GPC showing the reaction of the (meth) acrylic compound having a carboxyl group obtained in Synthesis Example 2 over time
The chart and the attribution of the peak are shown in FIGS. 5 and 6, and the GPC chart and the attribution of the peak are shown in FIGS. 7 and 8 in which the synthetic reaction of the reactive hemiacetal ester using the same is followed. For reference, GPC charts of raw materials are shown in FIGS.
【0041】(実施例3)撹拌装置、窒素導入管、温度
センサー、コンデンサーを備えた四つ口丸底フラスコ
に、HDDVと2モル倍量の合成例3で得られたカルボキシ
ル基を有する(メタ)アクリル系化合物を仕込み、更に
リン酸ジブチル1phr を添加した。これを室温(25
℃)で撹拌した。1時間おきに酸価を測定し、5mgKOH/g
以下になったところで湯浴から外し反応を止めた。得ら
れた化合物は、GPC で測定した分子量および原料の残存
率にて確認した。合成例3で得られたカルボキシル基を
有する(メタ)アクリル系化合物の反応を経時で追った
GPCチャートとそのピークの帰属を図12、13に、こ
れを用いた反応性ヘミアセタールエステルの合成反応を
経時で追ったGPCチャートとそのピークの帰属を図1
4、15にそれぞれ示す。Example 3 A four-neck round bottom flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube, a temperature sensor, and a condenser had HDDV and 2 mol times the amount of the carboxyl group obtained in Synthesis Example 3 (meta). ) An acrylic compound was charged, and 1 phr of dibutyl phosphate was further added. Room temperature (25
(° C). The acid value is measured every 1 hour, and 5 mgKOH / g
When the temperature became below, the reaction was stopped by removing it from the bath. The obtained compound was confirmed by the molecular weight measured by GPC and the residual ratio of the raw materials. The reaction of the (meth) acrylic compound having a carboxyl group obtained in Synthesis Example 3 was followed with time.
The GPC chart and the attributions of the peaks are shown in FIGS. 12 and 13, and the GPC charts and the attributions of the peaks which follow the synthetic reaction of the reactive hemiacetal ester using the same are shown in FIG.
4 and 15 respectively.
【0042】(実施例4〜16)表2に示した原料を用
いて、実施例1と同様の方法で合成し、反応性ヘミアセ
タールエステルを得た。(Examples 4 to 16) Using the raw materials shown in Table 2, synthesis was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain a reactive hemiacetal ester.
【0043】(比較例1〜3)撹拌装置、窒素導入管、
温度センサー、コンデンサーを備えた四つ口丸底フラス
コに、HDDGと2モル倍量の合成例1〜3で得られたカル
ボキシル基を有する(メタ)アクリル系化合物を仕込
み、ジメチルベンジルアミン0.5phrを添加した。これ
を85℃に設定した湯浴中にセットし、加熱撹拌を開始
した。反応系内が均一になったことを確認できたら更に
湯浴温度を95℃に上げ、加熱攪拌を継続した。1時間
おきに酸価を測定し、5mgKOH/g以下になったところで
湯浴から外し反応を止めた。得られた化合物は、GPC で
測定した分子量および原料の残存率にて確認した。(Comparative Examples 1 to 3) Stirrer, nitrogen introducing pipe,
A four-necked round bottom flask equipped with a temperature sensor and a condenser was charged with HDDG and 2 mole times the amount of the (meth) acrylic compound having a carboxyl group obtained in Synthesis Examples 1 to 3 and dimethylbenzylamine 0.5 phr. Was added. This was set in a hot water bath set at 85 ° C., and heating and stirring was started. When it was confirmed that the inside of the reaction system became uniform, the temperature of the water bath was further raised to 95 ° C., and heating and stirring were continued. The acid value was measured every hour, and when the acid value became 5 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by removing from the bath. The obtained compound was confirmed by the molecular weight measured by GPC and the residual ratio of the raw materials.
【0044】(比較例4)撹拌装置、窒素導入管、温度
センサー、コンデンサーおよび滴下ロートを備えた四つ
口丸底フラスコを用意し、滴下ロートにHDDIを仕込み、
丸底フラスコ内にHDDIの2モル倍量の4HBAを仕込み、更
にジメチルヘキサン酸スズ0.01phrを添加した。これ
を80℃に設定した湯浴中にセットし、加熱撹拌を開始
した。反応系内が75℃なったことを確認できたらHDDI
の滴下を開始し、反応温度が100℃を越えないように
滴下速度を調節しながら加熱攪拌を継続した。滴下終了
後、1時間おきにNCO価を測定し、99.5%以上の反応
率になったところで湯浴から外し反応を止めた。(Comparative Example 4) A four-necked round bottom flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube, a temperature sensor, a condenser and a dropping funnel was prepared, and HDDI was charged in the dropping funnel.
A round bottom flask was charged with 4 mol of 2HBA of 2 mol times of HDDI, and 0.01 phr of tin dimethylhexanoate was further added. This was set in a hot water bath set at 80 ° C., and heating and stirring was started. If it can be confirmed that the temperature inside the reaction system has reached 75 ° C, HDDI
Was started, and heating and stirring were continued while controlling the dropping rate so that the reaction temperature did not exceed 100 ° C. After completion of the dropping, the NCO value was measured every hour, and when the reaction rate reached 99.5% or more, the reaction was stopped by removing it from the hot water bath.
【0045】(比較例5)撹拌装置、窒素導入管、温度
センサー、コンデンサーおよび滴下ロートを備えた四つ
口丸底フラスコを用意し、滴下ロートにHDDIを仕込み、
丸底フラスコ内にHDDIの2モル倍量のPE3A(水酸基当量
から平均分子量を計算し直した)を仕込み、更にジメチ
ルヘキサン酸スズ0.01phrを添加した。これを80℃
に設定した湯浴中にセットし、加熱撹拌を開始した。反
応系内が75℃なったことを確認できたらHDDIの滴下を
開始し、反応温度が100℃を越えないように滴下速度
を調節しながら加熱攪拌を継続した。滴下終了後、1時
間おきにNCO価を測定し、99.5%以上の反応率になっ
たところで湯浴から外し反応を止めた。(Comparative Example 5) A four-necked round bottom flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube, a temperature sensor, a condenser and a dropping funnel was prepared, and HDDI was charged in the dropping funnel.
A round bottom flask was charged with PE3A (the average molecular weight was recalculated from the hydroxyl equivalent) in an amount of 2 mol times that of HDDI, and 0.01 phr of tin dimethylhexanoate was further added. 80 ° C
The mixture was set in a hot water bath set to, and heating and stirring was started. When it was confirmed that the temperature in the reaction system reached 75 ° C, HDDI dropping was started, and heating and stirring were continued while adjusting the dropping rate so that the reaction temperature did not exceed 100 ° C. After the completion of dropping, the NCO value was measured every hour, and when the reaction rate reached 99.5% or more, the reaction was stopped by removing it from the hot water bath.
【0046】(比較例7)撹拌装置、窒素導入管、温度
センサー、コンデンサーを備えた四つ口丸底フラスコに
EVEとアクリル酸を等量仕込み、更にリン酸ジブチルを
1phrを添加した。これを室温(25℃)で撹拌した。1
時間おきに酸価を測定し、5mgKOH/g以下になったとこ
ろで湯浴から外し反応を止めた。得られた化合物は、GP
C で測定した分子量および原料の残存率にて確認した。(Comparative Example 7) A four-neck round bottom flask equipped with a stirrer, a nitrogen inlet tube, a temperature sensor, and a condenser was used.
EVE and acrylic acid were charged in equal amounts, and 1 phr of dibutyl phosphate was further added. This was stirred at room temperature (25 ° C). 1
The acid value was measured every hour, and when the acid value became 5 mgKOH / g or less, the reaction was stopped by removing it from the hot water bath. The obtained compound is GP
It was confirmed by the molecular weight measured by C and the residual ratio of the raw material.
【0047】表2に、実施例および比較例で得られた化
合物の数平均分子量(Mn)、粘度および純度を示す。Table 2 shows the number average molecular weight (Mn), viscosity and purity of the compounds obtained in Examples and Comparative Examples.
【表2】 [Table 2]
【0048】実施例1〜16と比較例1〜6で得られた
反応性ヘミアセタールエステル、エポキシアクリル系化
合物、およびウレタンアクリル系化合物を#6のバーコ
ーターでアルミ板上に塗布し電子線を照射した。表3
に、電子線照射条件(被照射線量、酸素濃度、加速電
圧)により得られた塗膜の硬化特性(タック試験→×:
タック有、△:タック無だが爪で傷付き有、○:タック
無爪による傷つき無、MEKラビング試験→MEKを含ませた
脱脂綿を約500gの荷重で50回こすった後の表面状
態;○:変化なし、△:表面白化、×:下地が見える)
の評価結果を示す。The reactive hemiacetal ester, the epoxy acrylic compound, and the urethane acrylic compound obtained in Examples 1 to 16 and Comparative Examples 1 to 6 were coated on an aluminum plate with a # 6 bar coater to emit an electron beam. Irradiated. Table 3
In addition, the curing characteristics of the coating film obtained by electron beam irradiation conditions (irradiation dose, oxygen concentration, accelerating voltage) (tack test → ×:
With tack, △: Without tack, but with scratches on nails, ○: No scratch with nails, MEK rubbing test → Surface condition after rubbing absorbent cotton containing MEK 50 times with a load of about 500 g; ○: No change, △: surface whitening, ×: base can be seen)
The evaluation results of are shown.
【0049】[0049]
【表3】 [Table 3]
【0050】[0050]
【発明の効果】本発明により、流動性、硬化性に優れ、
塗料、インキ等の被膜形成材料、または封止剤、成形
剤、接着剤、粘着剤などの原料として広い分野で使用す
ることができ、熱または活性エネルギー線で硬化するこ
とのできる反応性ヘミアセタールエステルを容易に製造
できるようになった。According to the present invention, excellent fluidity and curability,
Reactive hemiacetal that can be used in a wide range of fields as a film-forming material such as paints and inks, or as a raw material for sealants, molding agents, adhesives, pressure-sensitive adhesives, and can be cured by heat or active energy rays. The ester can now be easily produced.
【0051】[0051]
【図1】合成例1の反応系の均一化直後のGPCチャート
とピーク帰属FIG. 1 GPC chart and peak assignment immediately after homogenization of the reaction system of Synthesis Example 1
【図2】合成例1の反応系の反応開始2時間後のGPCチ
ャートとピーク帰属2] GPC chart and peak assignment 2 hours after the start of reaction in the reaction system of Synthesis Example 1
【図3】実施例1の反応系の反応開始直後のGPCチャー
トとピーク帰属FIG. 3 is a GPC chart and peak assignment immediately after the start of the reaction of the reaction system of Example 1.
【図4】実施例1の反応系の反応開始3時間後のGPCチ
ャートとピーク帰属FIG. 4 is a GPC chart and peak assignment of the reaction system of Example 1 3 hours after the start of the reaction.
【図5】合成例2の反応系の均一化直後のGPCチャート
とピーク帰属FIG. 5: GPC chart and peak assignment immediately after homogenization of the reaction system of Synthesis Example 2
【図6】合成例2の反応系の反応開始4時間後のGPCチ
ャートとピーク帰属FIG. 6 is a GPC chart and peak assignment 4 hours after the start of reaction in the reaction system of Synthesis Example 2.
【図7】実施例2の反応系の反応開始直後のGPCチャー
トとピーク帰属FIG. 7: GPC chart and peak assignment immediately after the start of reaction of the reaction system of Example 2
【図8】実施例2の反応系の反応開始5時間後のGPCチ
ャートとピーク帰属FIG. 8: GPC chart and peak assignment 5 hours after the start of the reaction in the reaction system of Example 2
【図9】4HBAのGPCチャート[Figure 9] GPC chart of 4HBA
【図10】HPAHのGPCチャート[Figure 10] HPAH GPC chart
【図11】HFFVのGPCチャートFIG. 11: GPC chart of HFFV
【図12】合成例3の反応系の均一化直後のGPCチャー
トとピーク帰属FIG. 12: GPC chart and peak assignment immediately after homogenization of the reaction system of Synthesis Example 3
【図13】合成例3の反応系の反応開始5時間後のGPC
チャートとピーク帰属FIG. 13: GPC of the reaction system of Synthesis Example 3 5 hours after the start of reaction
Charts and peak attribution
【図14】実施例3の反応系の反応開始直後のGPCチャ
ートとピーク帰属FIG. 14: GPC chart and peak assignment immediately after the start of reaction of the reaction system of Example 3
【図15】実施例3の反応系の反応開始3時間後のGPC
チャートとピーク帰属FIG. 15: GPC of the reaction system of Example 3 3 hours after the start of reaction
Charts and peak attribution
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塩野 輝雄 東京都中央区京橋二丁目3番13号東洋イン キ製造株式会社内 Fターム(参考) 4H006 AA01 AA02 AA03 AB46 AC48 BJ20 BJ30 BN10 BP10 KA11 4J038 FA011 GA01 PA17 4J040 DN061 FA141 FA151 FA161 FA271 FA291 GA02 JB07 JB08 LA01 LA11 4J100 AL08P AL65P AL66P AL67P AL74P AL75P AR05P AR11P BA02P BA03P BA08P BA15P BA16P BC04P BC43P CA01 JA01 JA03 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Teruo Shiono Toyo Inn, 2-3-13 Kyobashi, Chuo-ku, Tokyo Ki Manufacturing Co., Ltd. F-term (reference) 4H006 AA01 AA02 AA03 AB46 AC48 BJ20 BJ30 BN10 BP10 KA11 4J038 FA011 GA01 PA17 4J040 DN061 FA141 FA151 FA161 FA271 FA291 GA02 JB07 JB08 LA01 LA11 4J100 AL08P AL65P AL66P AL67P AL74P AL75P AR05P AR11P BA02P BA03P BA08P BA15P BA16P BC04P BC43P CA01 JA01 JA03
Claims (4)
系化合物と、2個以上のビニルエーテル基を有するビニ
ルエーテル系化合物(C)とを反応させる反応性ヘミア
セタールエステルの製造方法。1. A method for producing a reactive hemiacetal ester, which comprises reacting a (meth) acrylic compound having a carboxyl group with a vinyl ether compound (C) having two or more vinyl ether groups.
系化合物が、環状酸無水物(A)と水酸基を有する(メ
タ)アクリレート化合物(B)とを反応させてなるハー
フエステルである請求項1記載の反応性ヘミアセタール
エステルの製造方法。2. The (meth) acrylic compound having a carboxyl group is a half ester obtained by reacting a cyclic acid anhydride (A) with a (meth) acrylate compound (B) having a hydroxyl group. The method for producing the reactive hemiacetal ester of.
下記一般式(1)で示される反応性ヘミアセタールエス
テル。 【化1】 (式中、R1は水素原子またはメチル基、R2は直接結
合、炭素数2〜15のアルキレン基、または下記一般式
(2−1)または(2−2)で示される有機残基、R3
は下記一般式(3−1)〜(3−7)で示される有機残
基、x1は1または2、x2は1〜3の整数、x3は1
〜4の整数、x4は1〜6の整数をそれぞれ示す。) 【化2】 (式中、R4は下記一般式(a)〜(g) から選ばれる
有機残基、pは2〜15の整数、qは2〜15の整数、
mは1〜20の整数、nは0〜10の整数、rは1〜1
0の整数をそれぞれ示す。) 【化3】 (式中、R5 、R5'は水素原子または炭素数1〜25の
飽和または不飽和の炭化水素基を示す。) 【化4】 (式中、x1は1または2、x2は1〜3の整数、x3
は1〜4の整数、x4は1〜6の整数、y2は0〜2の
整数、y3は0〜3の整数、y4は0〜5の整数sは2
〜25の整数をそれぞれ示す。)3. A method manufactured by the method according to claim 1 or 2,
A reactive hemiacetal ester represented by the following general formula (1). [Chemical 1] (In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 is a direct bond, an alkylene group having 2 to 15 carbon atoms, or an organic residue represented by the following general formula (2-1) or (2-2), R 3
Is an organic residue represented by the following general formulas (3-1) to (3-7), x1 is 1 or 2, x2 is an integer of 1 to 3, and x3 is 1.
Is an integer of 4 and x4 is an integer of 1 to 6, respectively. ) [Chemical 2] (In the formula, R 4 is an organic residue selected from the following general formulas (a) to (g), p is an integer of 2 to 15, q is an integer of 2 to 15,
m is an integer of 1 to 20, n is an integer of 0 to 10, and r is 1 to 1.
An integer of 0 is shown. ) [Chemical 3] (In the formula, R 5 and R 5 ′ represent a hydrogen atom or a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms.) (In the formula, x1 is 1 or 2, x2 is an integer of 1 to 3, x3
Is an integer of 1 to 4, x4 is an integer of 1 to 6, y2 is an integer of 0 to 2, y3 is an integer of 0 to 3, y4 is an integer of 0 to 5, and s is 2
Each represents an integer of -25. )
テルに活性エネルギー線を照射してなる硬化物。4. A cured product obtained by irradiating the reactive hemiacetal ester according to claim 3 with an active energy ray.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10230513A JP2000063327A (en) | 1998-08-17 | 1998-08-17 | Method for producing reactive hemiacetal ester, reactive hemiacetal ester produced by the method, and cured product thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10230513A JP2000063327A (en) | 1998-08-17 | 1998-08-17 | Method for producing reactive hemiacetal ester, reactive hemiacetal ester produced by the method, and cured product thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000063327A true JP2000063327A (en) | 2000-02-29 |
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ID=16908940
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP10230513A Pending JP2000063327A (en) | 1998-08-17 | 1998-08-17 | Method for producing reactive hemiacetal ester, reactive hemiacetal ester produced by the method, and cured product thereof |
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|---|---|
| JP (1) | JP2000063327A (en) |
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-
1998
- 1998-08-17 JP JP10230513A patent/JP2000063327A/en active Pending
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