JP2000044541A - １，３−ジアルキルピラゾール−４−カルボン酸エステルの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 医薬、農薬の中間体として有用な１，３−ジ
アルキルピラゾール−４−カルボン酸エステルを従来の
方法に比べて安全に、かつ効率的に製造する方法を提供
する。 【解決手段】 ３−アルキルピラゾール−４−カルボン
酸エステルと炭酸ジエチルを塩基の存在下加熱、反応し
て１，３−ジアルキルピラゾール−４−カルボン酸エス
テルを製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、医薬、農薬の合成
中間体として有用な１，３−ジアルキルピラゾール−４
−カルボン酸エステルの製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】Synthesis,vol.5,P.382-383,1986におい
てＭａｎｆｒｅｄ Ｌｉｓｓｅｌらは、イミダゾール及
びベンズイミダゾールの炭酸ジメチルによるＮ−メチル
化について記載している。これは炭酸ジメチルとイミダ
ゾール類とを、炭酸カリウムと相間移動触媒であるクラ
ウンエーテル（１８−クラウン−６）存在下に加熱して
反応させ、Ｎ−メチル化する方法であり、収率も８０％
以上と高い。しかしながら、記載のイミダゾール及びベ
ンズイミダゾールは対称な無置換体または２位置換体で
あるため、生成物は単一の１−メチル体しか与えないた
め、反応の選択性について記載されていない。

【０００３】また、特開平１−１０６８６６号公報に
は、ジメチル硫酸と塩基を用いた１，３−ジアルキルピ
ラゾール−４−カルボン酸エステルの製造法が記載され
ている。上記記載の方法は、３−アルキルピラゾール−
４−カルボン酸エステルからジメチル硫酸と塩基を用い
て８０％の収率で１，３−ジアルキルピラゾール−４−
カルボン酸エステルを得る方法である。しかしながら、
ジメチル硫酸の反応では、温度条件が若干上昇するだけ
で収率が低下する問題があるので、多量の反応熱が発生
するこの反応では反応のために冷却装置が必要である。
また、この反応では、反応器の容積効率を上げるために
溶媒量を減らすと収率が低下すること、反応後に多量の
塩を生成するため操作が煩雑となるだけでなく多量の産
業廃棄物を生じること等の問題がある。さらには、ジメ
チル硫酸は発ガン性等安全性に問題がある物質なので、
取り扱う作業者を危険に曝すことになり問題である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、医薬、農薬
の合成中間体として有用な１，３−ジアルキルピラゾー
ル−４−カルボン酸エステルを、安全かつ簡便な操作で
製造することを課題とする。

【０００５】

【問題を解決するための手段】前記課題を解決すべく鋭
意検討した結果、アルキル化剤として炭酸ジエステル類
を用いることにより、毒性物質を取り扱わない安全で、
簡便に１，３−ジアルキルピラゾール−４−カルボン酸
エステルが高収率で得られることを見出し、本発明を完
成した。

【０００６】即ち、本発明は、一般式（１）（化４）

【０００７】

【化４】 （式中、Ｒ₁はＣ１〜Ｃ６のアルキル基、ハロアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基を
示し、ＲはＣ１〜Ｃ４のアルキル基またはシクロアルキ
ル基を示す）で表される３−アルキルピラゾール−４−
カルボン酸エステルと一般式（２）（化５）

【０００８】

【化５】（Ｒ₂）₂ＣＯ₃ （２） （式中、Ｒ₂はＣ１〜Ｃ６のアルキル基またはシクロア
ルキル基を示す）で表される炭酸ジエステルを塩基の存
在下、反応させることを特徴とする一般式（３）（化
６）

【０００９】

【化６】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒは前記と同様の意味を示す）で表
される１，３−ジアルキルピラゾール−４−カルボン酸
エステルの製造方法である。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下に本発明の製造法について詳
しく説明する。本発明の製造方法は反応式（Ａ）（化
７）に示された経路により行われる。 反応式（Ａ）

【００１１】

【化７】 出発物質である３−アルキルピラゾール−４−カルボン
酸エステルはＡｕｓｔ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．３６巻、１３５
〜１４７ページに記載された方法及び薬学雑誌ｖｏｌ．
７９，８３８ページに記載された方法、即ち次に示す反
応式Ｂ（化８）に従いβ−ケト酸エステルから製造する
ことができる。

【００１２】

【化８】 本発明は、一般式（１）で表される３−アルキルピラゾ
ール−４−カルボン酸エステル類、塩基と一般式（２）
で表される炭酸ジエステル類を加えて行う。

【００１３】一般式（１）で表される３−アルキルピラ
ゾール−４−カルボン酸エステル類のＲ₁で表される基
としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基、モノクロロメチル基、ジクロロメチル基、トリ
クロロメチル基、ペンタクロロエチル基、ヘプタクロロ
プロピル基、モノブロモメチル基、ジブロモメチル基、
トリブロモメチル基、ペンタブロモエチル基、モノフル
オロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチ
ル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロプロピ
ル基などが挙げられる。一般式（２）で表されるジアル
キル炭酸のＲ₂で表されれる基としては、メチル基、エ
チル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基などが挙げられ
る。

【００１４】一般式（２）で表される炭酸ジエステルは
最初に全量加えても撹拌下に加えても良い。反応は塩基
が無くてもわずかに進行するが、塩基が存在すると極め
て容易に進行し、１．３−ジアルキル体の生成比が向上
する。反応は開放または密封された反応器のどちらでも
行い得るが、反応中炭酸ガスが発生するので開放容器が
望ましい。反応温度は５０℃〜２５０℃、望ましくは７
０〜１２０℃である。

【００１５】使用する塩基としては、アルカリ金属ある
いはアルカリ土類金属の酸化物、水酸化物及び炭酸塩、
有機アミン類がよく、具体的には水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸
化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸カルシウム、ト
リエチルアミン、ピリジン、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ノン−７−エン、４−（ジメチルアミ
ノ）ピリジンなどが挙げられる。これら塩基は液体もし
くは固体の状態で使用することができる。望ましくは水
酸化カリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸
ナトリウムである。その使用量は一般式（１）で表され
る３−アルキルピラゾール−４−カルボン酸エステル類
１モルに対し０．０１モル〜１０モルであり好ましくは
０．５モルから３．０モルである。０．５モル以下であ
れば反応時間が長くなる。また、３．０モル以上の場合
は何ら収率の低下等に影響しないが、経済性及び操作性
から３．０モル以下が工業的には望ましい。本発明にお
いて使用されるアルキル化剤は、炭酸ジメチル、炭酸ジ
エチル、炭酸ジイソプロピル等である。その使用量は一
般式（１）で表される３−アルキルピラゾール−４−カ
ルボン酸エステル類１モルに対し０．５モル以上である
が、収率及び経済性等から１．０〜１０．０モルが望ま
しく、さらに炭酸ジエステルをアルキル化剤及び反応溶
媒として用いることのできる３．０〜５．０モルがより
望ましい。

【００１６】本発明において使用される溶媒は、炭化水
素類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エス
テル類、非プロトン性極性溶媒が挙げられる。具体的に
は、炭化水素類としてはヘプタン、オクタン、シクロヘ
キサンなどが、芳香族炭化水素類としてはベンゼン、ト
ルエン、キシレン、エチルベンゼンなどが、エーテル類
としてはテトラヒドロフラン、ジオキサンなどが、ケト
ン類としてはメチルエチルケトン、２−ペンタノン、３
−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケト
ンなどが、エステル類としては酢酸エチル、酢酸ブチル
などが、非プロトン性極性溶媒としてはＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ’−ジ
メチルイミダゾリジノンなどが挙げられる。

【００１７】本発明において相間移動触媒を用いると反
応速度に良い結果を与える場合がある。使用される相間
移動触媒は、４級アンモニウム塩、４級ホスホニウム
塩、クラウンエーテル類である。具体的には、４級アン
モニウム塩としては、ベンジルトリエチルアンモニウム
クロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、
テトラメチルアンモニウムクロリドなどが、４級ホスホ
ニウムとしては、テトラブチルホスホニウムクロリド、
テトラクロロホスホニウムブロミド、ベンジルトリホス
ホニウムブロミドなどが、クラウンエーテル類として
は、１２−クラウン−４、１５−クラウン−５、１８−
クラウン−６などが挙げられる。これらの相間移動触媒
は液体、もしくは固体状態でも使用することができ。

【００１８】本発明においては、一般式（２）で表され
る炭酸ジエステルから副生するアルコールと一般式
（３）で表される１，３−ジアルキルピラゾール−４−
カルボン酸エステルとの塩基存在下の反応によりエステ
ル混合物を得ることがある。これは目的物の単離を難し
くするが、反応後に一般式（２）の炭酸ジエステルのア
ルキル基と同じ式一般（４）（化９）

【００１９】

【化９】Ｒ₂ＯＨ （４） で表されるアルコールを加え加熱する事により、一般式
（３）で表される１，３−ジアルキルピラゾール−４−
カルボン酸エステルのアルキル基をＲからＲ₂に交換で
きる。炭酸ジメチルの反応では、反応後メタノールを添
加することによりＲをメチル基に９５％以上交換でき
る。

【００２０】反応終了後は蒸留、再結晶又はカラムクロ
マトグラフィーによって容易に目的とする１，３−ジア
ルキルピラゾール−４−カルボン酸エステルを精製する
ことができる。

【００２１】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明の製造法を説明
する。 実施例１ １，３−ジメチルピラゾール−４−カルボン
酸エチルの合成 ジメチルホルムアミド１０ｍｌに水酸化カリウム０．８
ｇ（０．０１４３モル）、３−メチルピラゾール−４−
カルボン酸エチル１．０ｇ（０．００６５モル）と炭酸
ジメチル１．０ｇ（０．０１１１モル）を装入する。撹
拌下に９０℃に昇温し、同温度で５時間撹拌して反応を
終了した。反応物を室温まで冷却し、減圧下濃縮した。
残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製した。
ヘキサン−酢酸エチル系より溶出し目的の１，３−ジメ
チルピラゾール−４−カルボン酸エチル０．９２ｇを得
た。収率８４％。

【００２２】油状¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／ＴＭＳ；δｐｐｍ）：１．３
５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），２．４８（３Ｈ，
ｓ），３．８６（３Ｈ，ｓ），４．２５（２Ｈ，ｑ，Ｊ
＝７．０Ｈｚ），７．８１（３Ｈ，ｓ）

【００２３】実施例２ １−メチル−３−トリフルオロ
メチル−４−ピラゾールカルボン酸エチルの合成 ３−トリフルオロメチル−４−ピラゾールカルボン酸エ
チル１００ｇ（０．４８０モル）、無水炭酸カリウム６
６．３ｇ（０．４８０モル）と炭酸ジメチル２００ｇ
（２．２２０モル）を装入する。撹拌下に８５℃に昇温
し、同温度で３時間撹拌して反応を終了した。反応物を
室温まで冷却し、反応液に水４００ｍｌを加え撹拌し塩
を溶解した。水層を除去後、減圧蒸留し１００℃〜１１
０℃／３〜５ｍｍＨｇの留分として１−メチル−３−ト
リフルオロメチル−４−ピラゾールカルボン酸エチル
８６．５ｇ(０．３８９モル）を得た。収率８５％。

【００２４】ｍ．ｐ． ６２．６〜６３．７℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／ＴＭＳ；δｐｐｍ）：１．３
５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．９７（３Ｈ，
ｓ），４．３０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．９
５（１Ｈ，ｓ）

【００２５】実施例３ １−エチル−３−トリフルオロ
メチル−４−ピラゾールカルボン酸エチルの合成 ３−トリフルオロメチル−４−ピラゾールカルボン酸エ
チル ５．０ｇ（０．０２４モル）、無水炭酸カリウム
３．３ｇ（０．０２４モル）と炭酸ジエチル１０ｇ
（０．０８５モル）を装入する。撹拌下、９０℃まで昇
温し、同温度で５時間撹拌して反応を終了させた。反応
物を室温まで冷却し、水２０ｍｌを加え、撹拌して塩を
溶解させた。分液後、水層を酢酸エチル２０ｍｌで１回
抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄、次に芒硝
で乾燥した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製した。ヘキサン−酢
酸エチルで溶出し、目的の１−エチル−３−トリフルオ
ロメチル−４−ピラゾールカルボン酸エチルを５．１ｇ
得た。収率 ９０％。

【００２６】ｍ．ｐ． ４９．３〜５１．２℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／ＴＭＳ；δｐｐｍ）：１．３
５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．５４（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），４．２３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．
４Ｈｚ），４．３２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），
８．００（１Ｈ，ｓ）

【００２７】実施例４ １−エチル−３−トリフルオロ
メチル−４−ピラゾールカルボン酸メチルの合成 ３−トリフルオロメチル−４−ピラゾールカルボン酸エ
チル ５．０ｇ（０．０２４モル）、無水炭酸カリウム
３．３ｇ（０．０２４モル）と炭酸ジメチル１０ｇ
（０．１１１モル）を装入する。撹拌下、８５℃まで昇
温し同温度で５時間撹拌して反応後、これにメタノール
１０ｍｌを加え６８℃で３時間撹拌した。反応物を室温
まで冷却し、水２０ｍｌを加え、撹拌して塩を溶解させ
た。これを酢酸エチル２０ｍｌで３回抽出し、有機層を
合わせて飽和食塩水で洗浄、次に芒硝で乾燥した後、減
圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製した。ヘキサン−酢酸エチルで溶出
し、目的の１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−
ピラゾールカルボン酸メチルを４．０ｇ得た。収率８０
％。

【００２８】ｍ．ｐ．６２．０〜６３．４℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／ＴＭＳ；δｐｐｍ）：３．８
２（３Ｈ，ｓ），３．９５（３Ｈ，ｓ），７．８０（１
Ｈ，ｓ）

【００２９】比較例１ １−メチル−３−トリフルオロ
メチル−４−ピラゾールカルボン酸エチルの合成 ３−トリフルオロメチル−４−ピラゾールカルボン酸エ
チル１００ｇ（０．４８０モル）、無水炭酸カリウム７
５．６ｇ（０．５７６モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド５００ｍｌを装入する。撹拌下に−１５℃に冷却
し、−１５〜−１０℃の温度でジメチル硫酸１２１ｇ
（０．９６０モル）を１時間で滴下した。滴下終了後、
−１５〜−１０℃で１０時間撹拌して反応を終了した。
反応物を室温まで昇温し、析出した塩を濾別した。濾液
を減圧濃縮し、これに水４００ｍｌを加え撹拌し塩を溶
解し、酢酸エチル２００ｍｌで３回抽出した。抽出した
有機層を硫酸ナトリウム５０ｇで乾燥し、乾燥後残渣を
濾別した。この濾液を減圧蒸留し１００℃〜１１０℃／
３〜５ｍｍＨｇの留分として１−メチル−３−トリフル
オロメチル−４−ピラゾールカルボン酸エチル ８３．
４ｇ(０．３７５モル）を得た。収率８２％。

【００３０】ｍ．ｐ． ６２．８〜６３．３℃

【００３１】比較例２ １−メチル−３−トリフルオロ
メチル−４−ピラゾールカルボン酸エチルの合成 ３−トリフルオロメチル−４−ピラゾールカルボン酸エ
チル１００ｇ（０．４８０モル）、無水炭酸カリウム７
５．６ｇ（０．５７６モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド５００ｍｌを装入する。撹拌下に０℃に冷却し、
０〜５℃の温度でジメチル硫酸１２１ｇ（０．９６０モ
ル）を１時間で滴下した。滴下終了後、０〜５℃で１０
時間撹拌して反応を終了した。反応物を室温まで昇温
し、析出した塩を濾別した。濾液を減圧濃縮し、これに
水４００ｍｌを加え撹拌し塩を溶解し、酢酸エチル２０
０ｍｌで３回抽出した。抽出した有機層を硫酸ナトリウ
ム５０ｇで乾燥し、乾燥後残渣を濾別した。この濾液を
減圧蒸留し１００℃〜１１０℃／３〜５ｍｍＨｇの留分
として１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−ピラ
ゾールカルボン酸エチル ７６．３ｇ(０．３６０モ
ル）を得た。収率７５％。

【００３２】ｍ．ｐ． ６２．７〜６３．５℃

【００３３】比較例３ １−メチル−３−トリフルオロメチル−４−ピラゾール
カルボン酸エチルの合成 ３−トリフルオロメチル−４−ピラゾールカルボン酸エ
チル１００ｇ（０．４８０モル）、無水炭酸カリウム７
５．６ｇ（０．５７６モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド３００ｍｌを装入する。撹拌下に−１５℃に冷却
し、−１５〜−１０℃の温度でジメチル硫酸１２１ｇ
（０．９６０モル）を１時間で滴下した。滴下終了後、
−１５〜−１０℃で１０時間撹拌して反応を終了した。
反応物を室温まで昇温し、析出した塩を濾別した。濾液
を減圧濃縮し、これに水４００ｍｌを加え撹拌し塩を溶
解し、酢酸エチル２００ｍｌで３回抽出した。抽出した
有機層を硫酸ナトリウム５０ｇで乾燥し、乾燥後残渣を
濾別した。この濾液を減圧蒸留し１００℃〜１１０℃／
３〜５mmHgの留分として１−メチル−３−トリフルオロ
メチル−４−ピラゾールカルボン酸エチル ７６．３ｇ
(０．３６０モル）を得た。収率７５％。

【００３４】ｍ．ｐ． ６２．７〜６３．５℃

【００３５】参考例１ ２−エトキシメチレントリフル
オロアセト酢酸エチルの合成 トリフルオロアセト酢酸エチル１１．４ｇ（０．０６２
モル）と無水酢酸１２．６ｇ（０．１２３モル）とオル
トギ酸トリエチル１８．３ｇ（０．１２３モル）の混合
物を１２０℃に昇温する。同温度で２〜３時間撹拌した
後、低沸点物を除去しながら１１０〜１２０℃で３時間
撹拌を行い反応を終了した。反応物を減圧蒸留し１１８
〜１２０℃／７〜８ｍｍＨｇの留分として２−エトキシ
メチレントリフルオロアセト酢酸エチル１２．０ｇを得
た。 収率 ８１％。

【００３６】油状¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／ＴＭＳ；δｐｐｍ）：１．２
０（３／２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．３２（３／
２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．４１（３／２Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．４５（３／２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．３Ｈｚ），４．２１〜４．４０（４Ｈ，ｍ），７．
７３（１／２Ｈ，ｓ），７．８３（１／２Ｈ，ｓ）

【００３７】参考例２ ３−トリフルオロメチル−４−
ピラゾールカルボン酸エチルの合成 ヒドラジン一水和物２．１ｇ（０．０４２モル）とメタ
ノール５ｍｌの混合物を氷冷下内温２０℃に調製し、２
−エトキシメチレントリフルオロアセト酢酸エチル９．
４ｇ（０．０３９モル）を内温３５℃以下で滴下し、そ
の後１時間撹拌した。反応物を減圧下濃縮し残渣に飽和
食塩水１００ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで３回抽
出した。有機層を合わせて芒硝で乾燥した後、減圧下溶
媒を濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィーで精製
した。ヘキサン−酢酸エチル系より溶出し、目的の３−
トリフルオロメチル−４−ピラゾールカルボン酸エチル
７．４ｇを得た。収率 ９２％。

【００３８】ｍ．ｐ．１４４．５〜１４６．０℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃／ＴＭＳ；δｐｐｍ）：１．３
５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．９７（３Ｈ，
ｓ），４．３２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．９
０（１Ｈ，ｓ），１１．９〜１２．３（１Ｈ，ｂｒｓ）

【００３９】

【発明の効果】本発明の１，３−ジアルキルピラゾール
−４−カルボン酸の製造方法は、高収率を得るための低
温での厳しい温度管理、発ガン性を持つジアルキル硫酸
を用いることによる作業者に対する危険性と、反応後に
生じる多量の無機塩の処理という従来法の欠点を克服
し、高収率で安全にしかも産業廃棄物を著しく減じて目
的物を製造する事を可能とする。

【００４０】また、本発明の製造方法により製造される
１，３−ジアルキルピラゾール−４−カルボン酸エステ
ルの誘導体は、殺菌剤及び除草剤、特に農園芸用殺菌剤
として優れた幅広い防除効果を有するアシルアミノアセ
トニトリル類の製造中間体として特に有用であり、本発
明は産業上極めて有用である。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１）（化１） 【化１】 （式中、Ｒ₁はＣ１〜Ｃ６のアルキル基、ハロアルキル
   基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基を
   示し、ＲはＣ１〜Ｃ４のアルキル基を示す）で表される
   ３−アルキルピラゾール−４−カルボン酸エステルと一
   般式（２）（化２） 【化２】（Ｒ₂）₂ＣＯ₃ （２） （式中、Ｒ₂はＣ１〜Ｃ６のアルキル基、シクロアルキ
   ル基を示す）で表される炭酸ジエステルを塩基の存在
   下、加熱して反応させることを特徴とする一般式（３）
   （化３） 【化３】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒは前記と同様の意味を示す）で表
   される１，３−ジアルキルピラゾール−４−カルボン酸
   エステルの製造方法。
2. 【請求項２】 Ｒ₁がＣ１〜Ｃ６のアルキル基、ハロア
   ルキル基またはシクロアルキル基である請求項１記載の
   製造方法。
3. 【請求項３】 Ｒ₂がエチル基、メチル基、又はイソプ
   ロピル基である請求項１または請求項２記載の製造方
   法。
4. 【請求項４】 Ｒがメチル基、エチル基、又はイソプロ
   ピル基である請求項１から３の何れか一項記載の製造方
   法。