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ITMI912345A1 - Procedimento per la realizzazione di strutture metrologiche particolarmente per l'analisi dell'accuratezza di strumenti di misura di allineamento su substrati processati. - Google Patents

Procedimento per la realizzazione di strutture metrologiche particolarmente per l'analisi dell'accuratezza di strumenti di misura di allineamento su substrati processati.

Info

Publication number
ITMI912345A1
ITMI912345A1 IT002345A ITMI912345A ITMI912345A1 IT MI912345 A1 ITMI912345 A1 IT MI912345A1 IT 002345 A IT002345 A IT 002345A IT MI912345 A ITMI912345 A IT MI912345A IT MI912345 A1 ITMI912345 A1 IT MI912345A1
Authority
IT
Italy
Prior art keywords
realization
accuracy
analysis
procedure
measuring instruments
Prior art date
Application number
IT002345A
Other languages
English (en)
Inventor
Paolo Canestrari
Carlo Lietti
Giovanni Rivera
Original Assignee
Sgs Thomson Microelectronics
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sgs Thomson Microelectronics filed Critical Sgs Thomson Microelectronics
Priority to ITMI912345A priority Critical patent/IT1251393B/it
Publication of ITMI912345A0 publication Critical patent/ITMI912345A0/it
Priority to EP92114465A priority patent/EP0539686B1/en
Priority to DE69226234T priority patent/DE69226234T2/de
Priority to US07/938,826 priority patent/US5246539A/en
Priority to JP4233605A priority patent/JPH05259152A/ja
Publication of ITMI912345A1 publication Critical patent/ITMI912345A1/it
Application granted granted Critical
Publication of IT1251393B publication Critical patent/IT1251393B/it

Links

Classifications

    • H10P74/277—
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
    • H10P74/203—

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
ITMI912345A 1991-09-04 1991-09-04 Procedimento per la realizzazione di strutture metrologiche particolarmente per l'analisi dell'accuratezza di strumenti di misura di allineamento su substrati processati. IT1251393B (it)

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ITMI912345A IT1251393B (it) 1991-09-04 1991-09-04 Procedimento per la realizzazione di strutture metrologiche particolarmente per l'analisi dell'accuratezza di strumenti di misura di allineamento su substrati processati.
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ITMI912345A0 ITMI912345A0 (it) 1991-09-04
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IT1251393B IT1251393B (it) 1995-05-09

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US (1) US5246539A (it)
EP (1) EP0539686B1 (it)
JP (1) JPH05259152A (it)
DE (1) DE69226234T2 (it)
IT (1) IT1251393B (it)

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