HK1221071B

HK1221071B - Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method

Info

Publication number: HK1221071B
Application number: HK16109044.9A
Authority: HK
Inventors: Yuichi Shibazaki
Original assignee: Nikon Corporation
Priority date: 2004-02-02
Filing date: 2011-06-07
Publication date: 2018-05-04

Claims

Appareil d'exposition (100) pour exposer un substrat (W) à une lumière d'éclairage (IL) à travers un système optique de projection (P) et à travers un liquide, l'appareil comprenant :
un système de mesure (ALG) configuré pour obtenir des informations de position par irradiation du substrat avec un faisceau de mesure;

un élément de base (12) positionné en dessous du système optique de projection et du système de mesure :
un premier étage (WST) supporté au-dessus de l'élément de base et ayant une surface supérieure et un élément de maintien (H1), la surface supérieure pouvant être agencée pour être en contact avec une zone d'immersion formée en dessous du système optique de projection avec le liquide, l'élément de maintien étant prévu dans une ouverture de la surface supérieure, le premier étage étant configuré de telle sorte que le substrat soit maintenu à l'intérieur de l'ouverture;

un second étage (MST) supporté au-dessus de l'élément de base et ayant une surface supérieure pouvant être agencée pour être en contact avec la zone d'immersion, le second étage étant configuré pour se déplacer par rapport au premier étage ;

un système de transport configuré pour transporter un substrat à une position d'échange de substrat, de telle sorte qu'un substrat maintenu par le premier étage soit apte à être échangé par le substrat au niveau de la position d'échange de substrat;

un système d'entraînement (80, 81, 82, 83, 84, 85, 86, 87) ayant un moteur pour entraîner les premier et second étages alors que les étages sont supportés par lévitation au-dessus de l'élément de base; et

un dispositif de commande (20) configuré pour commander le système d'entraînement,

dans lequel :
le dispositif de commande est configuré pour commander le système d'entraînement pour exécuter un mouvement relatif entre les premier et second étages, alors qu'un certain étage des premier et second étages est agencé en face du système optique de projection afin que l'autre étage soit proche du certain étage, et pour déplacer les premier et second étages proches par rapport au système optique de projection dans une direction prédéterminée qui est orthogonale à un axe optique (AX) du système optique de projection afin que l'autre étage soit agencé en face du système optique de projection à la place du certain étage alors que la zone d'immersion est sensiblement maintenue en dessous du système optique de projection,

le second étage possède une pluralité de capteurs, les surfaces de chacun d'eux étant agencées au niveau de la surface supérieure du second étage, et est configuré pour se déplacer afin que chacun de la pluralité de capteurs soit apte à détecter la lumière d'éclairage à travers le système optique de projection et à travers le liquide de la zone d'immersion, et

un certain capteur de la pluralité de capteurs est utilisé pour une mesure d'image aérienne.
Appareil d'exposition selon la revendication 1, dans lequel un autre capteur autre que le certain capteur de la pluralité de capteurs est utilisé pour au moins une d'une mesure de front d'onde, d'une mesure d'éclairage et d'une mesure d'éclairage irrégulier.
Appareil d'exposition selon la revendication 1 ou 2, dans lequel le second étage a un élément de repère (FM) ayant une référence qui est différente de la pluralité de capteurs et qui est agencée au niveau de la surface supérieure du second étage.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel le premier étage possède un capteur configuré pour détecter la lumière d'éclairage à travers le système optique de projection et à travers le liquide de la zone d'immersion.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel le premier étage possède une référence agencée au niveau de la surface supérieure du premier étage, et est configuré pour se déplacer de telle sorte que la référence soit détectable par le système de mesure.
Appareil d'exposition selon la revendication 5, dans lequel le premier étage possède un élément de repère (FM1) qui a une surface sur laquelle est formée la référence, et l'élément de repère est prévu de telle sorte que sa surface soit agencée dans une autre ouverture de la surface supérieure du premier étage.
Appareil d'exposition selon la revendication 6, dans lequel l'élément de repère est prévu sur le premier étage de telle sorte que sa surface sur laquelle est formée la référence soit sensiblement coplanaire avec la surface supérieure du premier étage.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel le premier étage est configuré pour maintenir le substrat à l'intérieur de l'ouverture de telle sorte qu'un espace soit formé entre la surface supérieure du premier étage et une surface du substrat, et de telle sorte que sa surface supérieure soit sensiblement coplanaire avec la surface du substrat, et de telle sorte qu'au moins une partie de la zone d'immersion à l'extérieur de la surface du substrat soit maintenue par la surface supérieure du premier étage.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel, dans le procédé d'exposition, le premier étage est entraîné afin que la zone d'immersion se trouve sur une partie du substrat et afin que le substrat soit déplacé par rapport à la zone d'immersion.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel l'appareil est configuré pour exécuter l'exposition du substrat à travers le liquide, et l'appareil est configuré pour exécuter une détection d'une marque du substrat par le système de mesure pas à travers le liquide.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel l'appareil est configuré pour effectuer un processus d'exposition, processus d'exposition dans lequel le substrat est soumis à une exposition de balayage, et le substrat est déplacé lors de l'exposition de balayage dans une direction qui croise la direction prédéterminée dans laquelle les premier et second étages proches sont déplacés.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 11, comprenant en outre :
un système d'immersion local possédant une unité formant buse (21a, 21b, 21c, 22a, 22b, 22c, 23a, 23b, 23c, 24a, 24b, 24c) qui est agencé pour entourer un élément optique (91) du système optique de projection, l'élément optique étant agencé pour être en contact avec le liquide, le système d'immersion local étant configuré pour former la zone d'immersion avec le liquide fourni à travers l'unité formant buse et pour récupérer le liquide de la zone d'immersion à travers l'unité formant buse,

dans lequel l'appareil est configuré pour exécuter, dans au moins le processus d'exposition, la fourniture et la récupération du liquide en parallèle.
Procédé de fabrication de dispositif comprenant :
l'exposition d'un substrat au moyen de l'appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 12 ; et

le développement du substrat exposé.
Procédé d'exposition pour exposer un substrat (W) à une lumière d'éclairage (IL) à travers un système optique de projection (PL) et à travers un liquide, le procédé comprenant :
la fourniture du liquide de sorte à former une zone d'immersion avec le liquide en dessous du système optique de projection ;

le déplacement d'un certain étage des premier et second étages (WST/MST) afin que le certain étage soit agencé en face du système optique de projection, les premier et second étages étant supportés par lévitation au-dessus d'un élément de base (12), l'élément de base étant agencé en dessous du système optique de projection et d'un système de mesure (ALG),

le système de mesure étant configuré pour obtenir des informations de position du substrat en irradiant le substrat avec un faisceau de mesure ;

l'exécution d'un mouvement relatif entre les premier et second étages afin que l'autre étage des premier et second étages soit proche du certain étage agencé en face du système optique de projection ; et

le déplacement des premier et second étages proches par rapport au système optique de projection dans une direction prédéterminée qui est orthogonale à un axe optique (AX) du système optique de projection afin que l'autre étage soit agencé en face du système optique de projection à la place du certain étage alors que la zone d'immersion est sensiblement maintenue en dessous du système optique de projection,

dans lequel le premier étage possède une surface supérieure et un élément de maintien, la surface supérieure étant agencée pour être en contact avec la zone d'immersion, l'élément de maintien étant prévu dans une ouverture de la surface supérieure, le premier étage étant configuré de telle sorte que le substrat soit maintenu à l'intérieur de l'ouverture,

le premier étage est configuré pour se déplacer à une position d'échange de substrat à laquelle un substrat est transporté avec un système de transport pour être échangé avec le substrat maintenu par le premier étage,

le second étage possède une surface supérieure et une pluralité de capteurs, la surface supérieure étant agencée pour être en contact avec la zone d'immersion, chaque surface de la pluralité de capteurs étant agencée au niveau de la surface supérieure du second étage, le second étage étant configuré pour se déplacer par rapport au premier étage et pour se déplacer afin que chacun de la pluralité de capteurs détecte la lumière d'éclairage à travers le système optique de projection et à travers le liquide de la zone d'immersion, et

un certain capteur de la pluralité de capteurs est utilisé pour une mesure d'image aérienne.
Procédé d'exposition selon la revendication 14, dans lequel au moins une d'une mesure de front d'onde, d'une mesure d'éclairage et d'une mesure d'éclairage irrégulier est exécutée avec un autre capteur autre que le certain capteur de la pluralité de capteurs.
Procédé d'exposition selon la revendication 14 ou 15, dans lequel le second étage possède un élément de repère (FM) ayant une référence qui est différente de la pluralité de capteurs et est agencée au niveau de la surface supérieure du second étage.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 14 à 16, dans lequel le premier étage possède un capteur, et le premier étage est déplacé de telle sorte que la lumière d'éclairage soit détectée par le capteur à travers le système optique de projection et à travers le liquide de la zone d'immersion.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 14 à 17, dans lequel le premier étage possède une référence (FM1) agencée au niveau de la surface supérieure du premier étage, et est configuré pour se déplacer de telle sorte que la référence soit détectée par le système de mesure.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 14 à 17, dans lequel le premier étage est configuré pour maintenir le substrat à l'intérieur de l'ouverture de telle sorte qu'un espace soit formé entre la surface supérieure du premier étage et une surface du substrat, et de telle sorte que sa surface supérieure soit sensiblement coplanaire avec la surface du substrat, et de telle sorte qu'au moins une partie de la zone d'immersion à l'extérieur de la surface du substrat soit maintenue par la surface supérieure du premier étage.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 14 à 19, dans lequel, dans le procédé d'exposition, le premier étage est entraîné afin que la zone d'immersion se trouve sur une partie du substrat et afin que le substrat soit déplacé par rapport à la zone d'immersion.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 14 à 20, dans lequel l'exposition du substrat est exécutée à travers le liquide, et la détection d'une marque du substrat par le système de mesure est exécutée pas à travers du liquide.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 14 à 21, dans lequel le premier étage est déplacé de telle sorte que, dans la première zone, le substrat doive être exposé à travers le système optique de projection et à travers le liquide de la zone d'immersion, et de telle sorte que, dans la seconde zone, au moins un de la mesure de substrat avec le système de mesure et de l'échange de substrat avec le système de transport doive être exécuté.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 14 à 22, dans lequel, après la mesure du substrat par le système de mesure, le premier étage est déplacé de la seconde zone à la première zone, et le premier étage est déplacé par rapport au second étage agencé en face du système optique de projection afin d'être proche du second étage.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 14 à 23, dans lequel les premier et second étages proches sont déplacés par rapport au système optique de projection de telle sorte que le premier étage soit agencé en face du système optique de projection à la place du second étage, et ensuite le premier étage est déplacé de telle sorte qu'un substrat après la mesure soit exposé sur la base d'un résultat de mesure du système de mesure.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 14 à 24, dans lequel le second étage est déplacé par rapport au premier étage afin d'être proche du premier étage qui est agencé en face du système optique de projection et maintenant le substrat exposé, et les premier et second étages proches sont déplacés par rapport au système optique de projection afin que le second étage soit agencé en face du système optique de projection à la place du premier étage et afin que le premier étage soit écarté d'en dessous du système optique de projection et jusqu'à la seconde zone.
Procédé d'exposition selon la revendication 25, dans lequel, dans la seconde zone, le substrat exposé maintenu sur le premier étage est échangé, et dans la première zone, la lumière d'éclairage est détectée par au moins un de la pluralité de capteurs du second étage.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 14 à 26, dans lequel, dans le procédé d'exposition, le substrat est soumis à une exposition de balayage, et le substrat est déplacé pendant l'exposition de balayage dans une direction qui croise la direction prédéterminée dans laquelle les premier et second étages proches sont déplacés.
Procédé de fabrication de dispositif comprenant :
l'exposition d'un substrat (W) au moyen du procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 14 à 26; et

le développement du substrat exposé.