HK1219569B - 液浸部件、曝光装置及曝光方法、以及器件制造方法 - Google Patents

Description

液浸部件、曝光装置及曝光方法、以及器件制造方法

技术领域

本发明涉及液浸部件、曝光装置及曝光方法、以及器件制造方法的技术领域。

背景技术

作为在光刻工序中使用的曝光装置，已知有使用经由光学部件的射出面与衬底之间的液体而投影的曝光用光对衬底进行曝光的液浸曝光装置(例如，参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：美国专利第7,864,292号

发明内容

在液浸曝光装置中，若例如液体从规定的空间流出或残留在衬底等物体上，则有可能产生曝光不良。其结果为，有可能产生不良器件。

本发明的课题在于提供一种能够抑制产生曝光不良的液浸部件、曝光装置及曝光方法、以及器件制造方法。

第1方式的液浸部件是在曝光装置内形成供从光学部件射出的曝光用光通过的液浸空间的液浸部件，具有：第1部件，其配置在上述光学部件的周围的至少一部分上、且包含与能够在上述光学部件的下方移动的物体相对的第1下表面；以及能够移动的第2部件，其包含相对于上述光学部件的光轴位于上述第1下表面的外侧并且与上述物体相对的第2下表面、和相对于上述光轴位于上述第2下表面的内侧并且至少一部分位于上述第1下表面的至少一部分的上方的第3下表面。

第2方式的液浸部件是在曝光装置内形成供从光学部件射出的曝光用光通过的液浸空间的液浸部件，具有：第1部件，其配置在上述光学部件的周围的至少一部分上；能够移动的第2部件，其至少一部分位于上述第1部件的下方，且具有能够供上述曝光用光通过的第1开口；以及第3部件，其配置在上述第1开口上，并且供上述曝光用光通过。

第3方式的液浸部件是在曝光装置内形成供从光学部件射出的曝光用光通过的液浸空间的液浸部件，具有：第1部件，其配置在上述光学部件的周围的至少一部分上；以及能够移动的第2部件，其至少一部分位于上述第1部件的下方，位于从上述光学部件射出的上述曝光用光的光路上的上述第2部件的至少一部分，是能够供上述曝光用光通过的第3部件。

第1方式的曝光装置是使用经由液浸空间而投影的曝光用光对衬底进行曝光的曝光装置，使用上述的第1、第2或第3方式的液浸部件来形成上述液浸空间。

第1方式的曝光方法是使用经由液浸空间而投影的曝光用光对衬底进行曝光的曝光方法，使用上述的第1、第2或第3方式的液浸部件来形成上述液浸空间。

第1方式的器件制造方法包括：使用上述的第1方式的曝光装置对衬底进行曝光；对曝光后的上述衬底进行显影。

第2方式的器件制造方法包括：使用上述的第1方式的曝光方法对衬底进行曝光；对曝光后的上述衬底进行显影。

附图说明

图1是表示第1实施方式的曝光装置的结构的一例的概略结构图。

图2是第1实施方式的液浸部件的剖视图(与XZ平面平行的剖视图)。

图3是将第1实施方式的液浸部件的从下侧(-Z轴方向侧)观察到的仰视图与第1实施方式的液浸部件的剖视图(与XZ平面平行的剖视图)建立关联来表示的说明图。

图4是表示第2部件的移动方式的第1具体例的剖视图。

图5是表示第2部件的移动方式的第2具体例的剖视图。

图6是表示保持于衬底载台的衬底的一例的俯视图。

图7是表示投影区域的移动轨迹及第2部件的移动轨迹的一个具体例的俯视图。

图8是衬底及第2部件以图7所示的方式移动的情况下的、在衬底上表示第2部件的移动方式的俯视图。

图9是衬底及第2部件以图7所示的方式移动的情况下的、在衬底上表示第2部件的移动方式的俯视图。

图10是表示衬底及第2部件以图7所示的方式移动的情况下的、衬底及第2部件各自的移动速度的曲线图。

图11是表示第1变形例的液浸部件所具有的第1部件的结构的剖视图。

图12是表示第2变形例的液浸部件所具有的第1部件的结构的剖视图。

图13是表示第3变形例的液浸部件的结构的剖视图。

图14是表示第4变形例的液浸部件的结构的剖视图。

图15是表示第5变形例的液浸部件的结构的剖视图。

图16是表示第6变形例的液浸部件的结构的剖视图。

图17是表示第7变形例的液浸部件的结构的剖视图。

图18是表示第8变形例的液浸部件的结构的剖视图。

图19是表示第9变形例的液浸部件的结构的剖视图。

图20是表示第10变形例的液浸部件的结构的剖视图。

图21是表示第11变形例的液浸部件的结构的剖视图。

图22是表示第12变形例的液浸部件的结构的剖视图。

图23是表示第13变形例的液浸部件的结构的剖视图。

图24是表示第2实施方式的曝光装置所具有的液浸部件的剖视图(与XZ平面平行的剖视图)。

图25是表示衬底载台的一例的俯视图。

图26是用于说明器件的制造方法的一例的流程图。

具体实施方式

以下，参照附图说明本发明的实施方式。但是，本发明并不限定于以下说明的实施方式。

在以下的说明中，使用由相互正交的X轴、Y轴及Z轴定义的XYZ正交坐标系，对构成曝光装置的各种结构要素的位置关系进行说明。此外，在以下的说明中，X轴方向及Y轴方向分别为水平方向(即水平面内的规定方向)，Z轴方向为铅垂方向(即与水平面正交的方向，实质上是上下方向)。另外，将绕X轴、Y轴及Z轴的旋转方向(换言之，倾斜方向)分别称为θX方向、θY方向及θZ方向。

(1)第1实施方式

首先，参照图1至图23，说明第1实施方式的曝光装置EX1。

(1-1)第1实施方式的曝光装置EX1的结构

首先，参照图1说明第1实施方式的曝光装置EX1的结构的一例。图1是表示第1实施方式的曝光装置EX1的结构的一例的结构图。

如图1所示，曝光装置EX1具有光罩载台1、照明系统2、投影光学系统3、液浸部件4A、衬底载台5、计测载台6、计测系统7、腔室装置8和控制装置9。

光罩载台1能够保持光罩11。光罩载台1能够将所保持的光罩11释放。

光罩11包含标线片，该标线片上形成有被投影到衬底载台5所保持的衬底51上的器件图案。光罩11可以是透过型光罩，包含例如玻璃板等透明板和在该透明板上使用铬等遮光材料形成的器件图案。但是，光罩11也可以是所谓的反射型光罩。

光罩载台1能够在保持着光罩11的状态下，沿着包含从照明系统2射出的曝光用光EL所照射的区域(即后述的照明区域IR)的平面(例如，XY平面)移动。

例如，光罩载台1可以通过包含平面马达的驱动系统12的动作而移动。此外，包含平面马达的驱动系统12的一例在例如美国专利第6,452,292号中有所公开。但是，驱动系统12也可以在平面马达的基础上或取而代之而包含其他马达(例如，线性马达)。在第1实施方式中，光罩载台1能够通过驱动系统12的动作而沿着X轴方向、Y轴方向及Z轴方向、以及θX方向、θY方向及θZ方向中的至少一个方向移动。此外，“光罩载台1沿着规定方向的移动”包含“光罩载台1仅沿着规定方向的移动”及“光罩载台1沿着包含沿规定方向的方向成分在内的任意方向的移动”这两方或一方。

照明系统2射出曝光用光EL。来自照明系统2的曝光用光EL照射于照明区域IR。来自照明系统2的曝光用光EL照射于配置在照明区域IR中的光罩11的一部分。

曝光用光EL可以是例如从水银灯射出的辉线(例如，g线、h线或i线等)或KrF准分子激光(波长248nm)等远紫外光(DUV光：Deep Ultra Violet光)。曝光用光EL也可以是例如ArF准分子激光(波长193nm)或F₂激光(波长157nm)等真空紫外光(VUV光：Vacuum UltraViolet光)。

投影光学系统3将来自光罩11的曝光用光EL(即形成于光罩11的器件图案的像)对衬底51投影。具体地说，投影光学系统3向投影区域PR投影曝光用光EL。投影光学系统3将器件图案的像投影到配置于投影区域PR的衬底51的一部分(例如，后述的照射区域S的至少一部分)。

在第1实施方式中，投影光学系统3是缩小系统。例如，投影光学系统的投影倍率可以是1/4、1/5、1/8或其他值。但是，投影光学系统3也可以是等倍系统或放大系统。

投影光学系统3可以是不包含反射光学元件的折射系统。投影光学系统3也可以是不包含折射光学元件的反射系统。投影光学系统3还可以是包含反射光学元件及折射光学元件两方的反射折射系统。投影光学系统3可以将器件图案的像作为倒立像而投影。投影光学系统3也可以将器件图案的像作为正立像而投影。

投影光学系统3具有终端光学元件31，终端光学元件31包含射出曝光用光EL的射出面32。射出面32朝向投影光学系统3的像面射出曝光用光EL。终端光学元件31是投影光学系统3所包含的多个光学元件中的最接近投影光学系统3的像面的光学元件。

终端光学元件31的光轴AX与Z轴平行。该情况下，若着眼于与终端光学元件31的光轴AX平行的方向，则从投影光学元件31的入射面朝向射出面32的方向是-Z轴方向，并且从射出面32朝向终端光学元件31的入射面的方向是+Z轴方向。但是，终端光学元件31的光轴AX也可以不与Z轴平行。

此外，投影光学系统3的光轴的至少一部分可以与终端光学元件31的光轴AX一致且与Z轴平行。该情况下，若着眼于Z轴方向，则从投影光学系统3朝向该投影光学系统3的像面的方向是-Z轴方向，并且从投影光学系统3朝向该投影光学系统3的物体面的方向是+Z轴方向。

另外，上述的投影区域PR的中心可以与光轴AX一致，也可以不与其一致。另外，投影区域PR可以不位于光轴AX上。

射出面32朝向-Z轴方向。因此，从射出面32射出的曝光用光EL朝向-Z轴方向行进。射出面32是与XY平面(即水平面)平行的平面。但是，射出面32的至少一部分也可以相对于XY平面倾斜。射出面32的至少一部分也可以是曲面(例如，凹面或凸面)。

终端光学元件31除了朝向-Z轴方向的射出面32以外，还包含配置在该射出面32周围的外表面33。曝光用光EL可以从射出面32射出而不从外表面33射出。外表面33具有随着朝向+Z轴方向侧而逐渐远离光轴AX的形状(即相对于光轴AX倾斜的形状)。但是，外表面33的至少一部分也可以具有其他形状。

投影光学系统3由基准框架37支承。基准框架37支承于配置在该基准框架37的下侧(即-Z轴方向侧)的装置框架38。在基准框架37与装置框架38之间配置有防振装置39。防振装置39抑制振动从装置框架38向基准框架37的传递。防振装置39可以含有例如弹簧装置。作为弹簧装置的一例，例示了包含金属或橡胶等弹性材料的弹簧、或包含空气等气体的弹簧(所谓的空气弹簧：air mount)。

液浸部件4A形成液浸空间LS。液浸空间LS是指被作为例如纯水的液体LQ充满的空间(换言之，部分或区域)。此外，关于液浸部件4A的详细结构，参照图2至图3等在后详述。

衬底载台5具有能够释放地保持衬底51的保持部、和配置于保持部周围的上表面52。上表面52是与衬底51的上表面平行的平面。上表面52与衬底51的上表面配置在同一平面内。但是，上表面52的至少一部分也可以相对于衬底51的上表面倾斜，还可以包含曲面。上表面52的至少一部分也可以不与衬底51的上表面配置在同一平面内。此外，衬底载台5的一例在例如美国专利申请公开第2007/0177125号及美国专利申请公开第2008/0049209号中有所公开。

衬底载台5能够在保持着衬底51的状态下，沿着包含投影区域PR的平面(例如，XY平面)移动。衬底载台5能够在基座部件81的引导面811上移动。此外，引导面811与包含投影区域PR的平面(例如，XY平面)可以实质上平行。

例如，衬底载台5可以通过包含平面马达的驱动系统82的动作而移动。此外，包含平面马达的驱动系统82的一例在例如美国专利第6,452,292号中有所公开。驱动系统82所包含的平面马达可以包括配置于衬底载台5的动子825、和配置于基座部件81的定子828。但是，驱动系统82也可以在平面马达的基础上或取而代之而包含其他马达(例如，线性马达)。在第1实施方式中，衬底载台5能够通过驱动系统82的动作而沿X轴方向、Y轴方向及Z轴方向、以及θX方向、θY方向及θZ方向中的至少一个方向移动。此外，“衬底载台5沿着规定方向的移动”包含“衬底载台5仅沿着规定方向的移动”及“衬底载台5沿着包含沿规定方向的方向成分在内的任意方向的移动”这两方或一方。

衬底51是用于制造器件的衬底。衬底51可以包含例如半导体晶片等基材、和形成在该基材上的感光膜。感光膜是例如感光材料(例如，光致抗蚀剂)的膜。此外，衬底51在感光膜的基础上还可以包含其他膜(例如，防止衬底51的表面上的曝光用光EL的非意图反射的防止反射膜及保护衬底51的表面的保护膜中的两方或一方等)。

计测载台6不保持衬底51，另一方面，能够保持对曝光用光EL进行计测的计测部件(换言之，计测器)61。也就是说，第1实施方式的曝光装置EX1是具有衬底载台5和计测载台6的曝光装置。这样的曝光装置的一例在例如美国专利第6,897,963号及欧洲专利申请公开第1713113号中有所公开。

计测载台6能够在保持着计测部件61的状态下，沿着包含投影区域PR的平面(例如，XY平面)移动。计测载台6与衬底载台5同样地，能够在基座部件81的引导面811上移动。

例如，计测载台6可以与衬底载台5同样地，通过包含平面马达的驱动系统82的动作而移动。包含驱动系统82的平面马达可以包括配置于计测载台6的动子826、和配置于基座部件81的定子828。但是，驱动系统82也可以在平面马达的基础上或取而代之而包含其他马达(例如，线性马达)。在第1实施方式中，计测载台6能够通过驱动系统82的动作，沿着X轴方向、Y轴方向及Z轴方向、以及θX方向、θY方向及θZ方向中的至少一个方向移动。此外，“计测载台6沿着规定方向的移动”包含“计测载台6仅沿着规定方向的移动”及“计测载台6沿着包含沿规定方向的方向成分在内的任意方向的移动”这两方或一方。

计测系统7对衬底载台5及计测载台6的位置进行计测。为了对衬底载台5及计测载台6的位置进行计测，计测系统7可以包含干涉仪系统。干涉仪系统可以通过向配置于衬底载台5的计测镜及配置于计测载台6的计测镜分别照射计测光，并且检测该计测光的反射光，来计测衬底载台5及计测载台6的位置。但是，计测系统7也可以在干涉仪系统的基础上或取而代之而包含对衬底载台5及计测载台6的位置进行计测的编码器系统。此外，编码器系统的一例在例如美国专利申请公开第2007/0288121号中有所公开。

腔室装置8调整空间CS的环境(例如，温度、湿度、压力及洁净度中的至少一种)。在空间CS中至少配置有终端光学元件31、液浸部件4、衬底载台5及计测载台6。但是，光罩载台1及照明系统2中的至少一部分也可以配置于空间CS。

控制装置9控制曝光装置EX1整体的动作。控制装置9包含控制曝光装置EX1整体的动作的控制器91、和与控制器91连接且存储用于曝光装置EX1的动作的各种信息的存储器92。

控制器91在曝光装置EX1使用曝光用光EL对衬底51进行曝光时，基于计测系统7的计测结果，来控制衬底载台5的位置。也就是说，控制器91以使衬底载台5移动的方式控制驱动系统82。控制器91在曝光装置EX1使用曝光用光EL对衬底51进行曝光时，控制光罩载台1的位置。也就是说，控制器91以使光罩载台1移动的方式控制驱动系统12。控制器91在曝光装置EX1使用计测载台6对曝光用光EL进行计测时，基于计测系统7的计测结果，来控制计测载台6的位置。也就是说，控制器91以使计测载台6移动的方式控制驱动系统82。

如在后详述那样，控制器91控制液浸部件4A的至少一部分部件(例如，参照图2详述的第2部件42)的位置。此外，关于液浸部件4A的至少一部分部件的移动方式，参照图4及图5在后详述。

(1-2)第1实施方式的液浸部件4A

接下来，参照图2至图3，说明第1实施方式的液浸部件4A。

(1-2-1)第1实施方式的液浸部件4A的结构

首先，参照图2至图3，说明第1实施方式的液浸部件4A的结构。图2是第1实施方式的液浸部件4A的剖视图(与XZ平面平行的剖视图)。图3是将第1实施方式的液浸部件4A的从下侧(-Z轴方向侧)观察到的仰视图和第1实施方式的液浸部件4A的剖视图(与XZ平面平行的剖视图)建立关联来表示的说明图。

在以下的说明中，在没有特别说明的情况下，“上侧(上方侧)”是指+Z轴方向侧。“下侧(下方侧)”是指-Z轴方向侧。“内侧”是指光轴AX的放射方向的内侧、且接近光轴AX的一侧。“外侧”是指光轴AX的放射方向的外侧、且远离光轴AX的一侧。

如图2所示，液浸部件4A在能够在射出面32及液浸部件4A的下侧移动的物体的至少一部分之上形成液浸空间LS。因此，物体能够与液浸空间LS相面对，同时与射出面32及液浸部件4A双方相对。

物体可以是衬底载台5。该情况下，液浸部件4A在衬底载台5的至少一部分之上形成液浸空间LS。物体也可以是衬底载台5所保持的衬底51。该情况下，液浸部件4A在衬底51的至少一部分之上形成液浸空间LS。物体还可以是计测载台6或计测载台6所保持的计测部件61。该情况下，液浸部件4A在计测载台6的至少一部分之上或计测部件61的至少一部分之上形成液浸空间LS。

液浸部件4A也可以形成跨着两个不同物体的液浸空间LS。例如，液浸部件4A可以形成跨着上表面52和衬底51的液浸空间LS。例如，液浸部件4A也可以形成跨着衬底载台5和计测载台6的液浸空间LS。

此外，在以下的说明中，从简化说明的观点出发，以物体为衬底51的情况而继续说明。

液浸部件4A以曝光用光EL的光路AT被液体LQ充满的方式形成液浸空间LS。例如，液浸部件4A可以以光路AT中的射出面32与衬底51之间的光路ATL被液体LQ充满的方式形成液浸空间LS。液浸部件4A也可以以包含投影区域PR的衬底51的上表面的至少一部分区域被液体LQ覆盖的方式形成液浸空间LS。来自射出面32的曝光用光EL经由液体LQ而投影于衬底51。也就是说，第1实施方式的曝光装置EX1是使用经由液体LQ投影的曝光用光EL对衬底51进行曝光的液浸曝光装置。

液浸部件4A将液浸空间LS的一部分形成于终端光学元件31与衬底51之间的空间。液浸部件4A将液浸空间LS的一部分形成于液浸部件4A与衬底51之间的空间。

为了形成这样的液浸空间LS，如图2及图3所示，液浸部件4A具有第1部件41和第2部件42。以下，按顺序说明第1部件41及第2部件42。

首先，说明第1部件41。

第1部件41配置在光路AT的周围。第1部件41具有能够包围光路AT的形状。在此所说的“光路AT”可以包含上述的光路ATL及终端光学元件31内的曝光用光EL的光路ATO中的两方或一方。在图3所示的例子中，第1部件41具有作为能够包围光路AT的形状的一例的、环状或闭循环状的形状。作为能够包围光路AT的形状的其他一例，可例示例如框状的形状(例如，非圆形或多边形或椭圆等形成框的形状)。

第1部件41以在第1部件41与终端光学元件31之间形成间隙(具体地说，空间SP2)的方式配置。第1部件41以不与终端光学元件31接触的方式配置。

第1部件41配置在终端光学元件31的周围。第1部件41具有能够包围终端光学元件31的形状。该情况下，第1部件41可以作为保护终端光学元件31的保护部件而发挥功能。例如，第1部件41可以作为防止第2部件42与终端光学元件31接触的保护部件而发挥功能。

第1部件41的一部分(例如，后述的下表面4111及内侧面4121的一部分)配置在射出面32的下侧。但是，第1部件41也可以不配置在射出面32的下侧。

第1部件41的一部分(例如，后述的第1部分411的一部分)配置在第2部件42的一部分(例如，后述的第2部分422)的下侧。因此，第1部件41的一部分(例如，后述的下表面4111)与衬底51相对。第1部件41的一部分(例如，后述的第3部分413)配置在第2部件42的一部分(例如，后述的第2部分422的一部分)的上侧。第1部件41的一部分(例如，后述的第1部分411)配置在第2部件42的一部分(例如，后述的第1部分421)的内侧。

第1部件41实质上不移动。也就是说，第1部件41实质上固定。例如，第1部件41可以经由未图示的支承部件而固定在装置框架38上。此外，投影光学系统3及终端光学元件31中的两方或一方也实质上不移动(也就是说，实质上固定)。

这样的第1部件41具有第1部分411、第2部分412和第3部分413。

第1部分411隔着能够成为液浸空间LS的一部分的空间SP1而与衬底51的一部分相对。第1部分411具有沿着XY平面(或与衬底51的表面平行的平面)扩展的板状的(换言之，片状的)形状。

第1部分411具有下表面4111、上表面4112和外侧面4113。

下表面4111是朝向下侧的平面。下表面4111隔着空间SP1与衬底51的一部分相对。下表面4111与上表面4112及外侧面4113中的两方或一方相比配置在下侧。下表面4111与XY平面平行(即与光轴AX垂直)。下表面4111与射出面32相比配置在下侧。

上表面4112是朝向上侧的平面。上表面4112与外侧面4113相比配置在上侧。上表面4112与XY平面平行。因此，通过上表面4112和下表面4111而形成第1部分411的具有板状形状的部分。

上表面4112的至少一部分相对于液体LQ具有疏液性。例如，可能与液浸空间LS相面对的上表面4112的至少一部分相对于液体LQ具有疏液性。为了使上表面4112具有疏液性，例如，上表面4112的至少一部分可以包含含有氟的树脂膜的表面。作为这样的树脂的一例，例示了例如PFA(tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer)或PTFE(Poly Tetra Fluoro Ethylene)。

外侧面4113是朝向外侧的平面。外侧面4113与光轴AX平行。外侧面4113将下表面4111的外侧端部与上表面4112的外侧端部相连(换言之，连结或连接)。因此，外侧面4113的下侧端部与下表面4111的外侧端部一致。外侧面4113的上侧端部与上表面4112的外侧端部一致。

第2部分412的一部分隔着能够成为液浸空间LS的一部分的空间SP2与外表面33相对。

第2部分412具有内侧面4121和外侧面4122。

内侧面4121是朝向内侧的平面。内侧面4121从下表面4111的内侧端部朝向上侧延伸。因此，内侧面4121的下侧端部与下表面4111的内侧端部一致。

内侧面4121的一部分隔着空间SP2与外表面33相对。内侧面4121与外表面33平行。内侧面4121相对于XY平面倾斜。内侧面4121与外表面33同样地，从下侧端部朝向上侧且朝向外侧延伸。

外侧面4122是朝向外侧的平面。外侧面4122从上表面4112的内侧端部朝向上侧延伸。因此，外侧面4122的下侧端部与上表面4112的内侧端部一致。

外侧面4122不与外表面33相对。外侧面4122与内侧面4121平行。外侧面4122相对于XY平面倾斜。外侧面4122与内侧面4121同样地，从下侧端部朝向上侧且朝向外侧延伸。

第3部分413不与衬底51相对。第3部分413可以具有沿着XY平面(或与衬底51的表面平行的平面)扩展的板状的(换言之，片状的)形状。

第3部分413具有上表面4131和下表面4132。

上表面4131是朝向上侧的平面。上表面4131与XY平面平行。上表面4131从内侧面4121的上侧端部朝向外侧延伸。因此，上表面4131的内侧端部与内侧面4121的上侧端部一致。

上表面4131的至少一部分与上表面4112同样地，相对于液体LQ具有疏液性。其结果为，抑制了液体LQ从空间SP2向上表面4131的流出。

下表面4132是朝向下侧的平面。下表面4132从外侧面4122的上侧端部朝向外侧延伸。因此，下表面4132的内侧端部与外侧面4122的上侧端部一致。下表面4132与上表面4131相比配置在下侧。下表面4132与XY平面平行。通过上表面4131和下表面4132而形成第3部分413的板状部分。

第1部件41还具有能够供来自射出面32的曝光用光EL通过的开口415。开口415由内侧面4121的下侧端部规定。在开口415的周围配置有下表面4111。开口415的中心与光轴AX一致。开口415的中心与射出面32的中心一致。沿着XY平面的开口415的直径及面积小于射出面32的直径及面积。XY平面上的开口415的形状可以是例如圆形的形状(参照图3)。

此外，为了便于说明，在上述的说明中，第1部件41具有第1部分411、第2部分412及第3部分413。但是，第1部件41也可以不规定第1部分411、第2部分412及第3部分413中的至少一个。

接下来，说明第2部件42。

第2部件42配置在光路AT的周围。因此，第2部件42具有能够包围光路AT的形状。在图3所示的例子中，第2部件42具有作为能够包围光路AT的形状的一例的、环状或闭循环状的形状。

第2部件42以在第2部件42与终端光学元件31之间配置第1部件41的一部分的方式配置。第2部件42以不与终端光学元件31接触的方式配置。

第2部件42以第2部件42的一部分(例如，后述的下表面4211及下表面4221中的两方或一方的至少一部分)与衬底51相对的方式配置。第2部件42以不与第1部件41接触的方式配置。第2部件42以在第2部件42与第1部件41之间形成有间隙的方式配置。第2部件42的一部分(例如，后述的第2部分422的一部分)配置在第1部件41的一部分(例如，第1部分411的一部分)的上侧。第2部件42的一部分(例如，后述的第1部分421)配置在第1部件41的一部分(例如，第1部分411)的外侧。

第2部件42是可动部件。例如，第2部件42可以通过由控制器91控制的驱动装置451的动作而能够移动。驱动装置451可以经由支承部件453而固定在装置框架38上。但是，也可以不设置支承部件453。驱动装置451可以包含例如马达等。例如，可以使驱动装置451的动子(未图示)与支承部件452连接，并使定子与装置框架38连接。伴随着基于驱动装置451实现的第2部件42的移动而产生的反力的至少一部分可以传递至装置框架38。即使由于伴随着第2部件42的移动产生的反力而导致装置框架38振动，通过防振装置39，投影光学系统3也实质上不会受到其影响。此外，驱动装置451可以具有将伴随着第2部件42的移动产生的反力的至少一部分消除的机构。例如，能够将与搭载于衬底载台5的驱动系统82等的配衡质量(counter mass)方式的反力消除机构相同的机构适用于驱动装置451。

驱动装置451可以使一端与第2部件42连结且另一端与驱动装置451连结的支承部件452移动。与支承部件452连结的第2部件42可以伴随着支承部件452的移动而移动。

第2部件42分别沿着X轴方向及Y轴方向移动。也就是说，第2部件42沿着与光轴AX垂直的方向(即XY平面内的任意方向)移动。此外，“第2部件42沿着规定方向的移动”包含“第2部件42仅沿着规定方向的移动”及“第2部件42沿着包含沿规定方向的方向成分在内的任意方向的移动”中的两方或一方。

第2部件42可以相对于实质上固定的终端光学元件31能够移动。伴随着第2部件42的移动，终端光学元件31与第2部件42之间的相对位置变化。

第2部件42能够在光路AT的外侧移动。

第2部件42相对于第1部件41而相对地移动。伴随着第2部件42的移动，第1部件41与第2部件42之间的相对位置变化。

第2部件42的至少一部分能够在第1部件41的上侧移动。第2部件42的至少一部分能够在第1部件41的外侧移动。第2部件42的至少一部分能够在衬底51的上侧移动。

第2部件42可以在形成了液浸空间LS的状态下移动。例如，第2部件42可以在射出面32与衬底51之间被液体LQ充满的状态下移动。但是，第2部件42也可以在没有形成液浸空间LS的状态下移动。

第2部件42具有第1部分421和第2部分422。

第1部分421的一部分隔着能够成为液浸空间LS的一部分的空间SP1而与衬底51的一部分相对。第1部分421与第1部件41的一部分(例如，第1部分411)相比配置在外侧。第1部分421与第2部分422相比配置在外侧。

第1部分421的厚度(例如，Z轴方向的尺寸)比第1部分411的厚度厚。第1部分421具有在第2部件42移动时能够作为刚体而作用的形状。例如，第1部分421具有在第2部件42移动时能够作为刚体而作用的程度的尺寸(例如，长度及厚度中的两方或一方)。

第1部分421具有下表面4211和内侧面4212。

下表面4211是朝向下侧的平面。下表面4211隔着空间SP1而与衬底51的一部分相对。下表面4211与内侧面4212相比配置在下侧且配置在外侧。下表面4211是与第1部件41的一部分(例如，包含下表面4111的第1部分411)相比配置在外侧的面。下表面4211与XY平面平行。下表面4211与射出面32相比配置在下侧。下表面4211相对于液体LQ具有亲液性。

Z轴方向上的下表面4211与衬底51之间的距离和Z轴方向上的下表面4111与衬底51之间的距离相同。Z轴方向上的下表面4211与衬底51之间的距离小于Z轴方向上的上表面4112与衬底51之间的距离。也就是说，下表面4211与上表面4112相比配置在下侧。

内侧面4212是朝向内侧的平面。内侧面4212与光轴AX平行。内侧面4212与外侧面4113平行。内侧面4212将下表面4211的内侧端部与后述的下表面4221的外侧端部相连。因此，内侧面4212的下侧端部与下表面4211的内侧端部一致。内侧面4212的上侧端部与下表面4221的外侧端部一致。

内侧面4212的一部分沿着与XY平面平行的方向，与外侧面4113相对。内侧面4212的一部分沿着与XY平面平行的方向，与上表面4112和下表面4221之间的间隙(具体地说，空间SP3)相对。

第2部件42以内侧面4212不与外侧面4113接触的方式移动。也就是说，第2部件42以在内侧面4212与外侧面4113之间持续确保间隙的方式移动。

第2部分422与第1部分421相比配置在内侧。

第2部分422的一部分配置在由第1部分411、第2部分412和第3部分413围成的空隙中。其结果为，能够良好地防止伴随着第2部件422的移动而导致第2部件42意外与终端光学元件31接触。

第2部分422的一部分(例如，后述的下表面4221的一部分)配置在第1部件41的一部分(例如，上表面4112的一部分)的上侧。第2部分422的一部分隔着空间SP3而与第1部件41的一部分相对。此外，第2部分422可以具有伴随着第2部件42的移动而有时配置在第1部件41的上侧有时不配置在第1部件41的上侧的部分。

第2部分422具有下表面4221和内侧面4222。

下表面4221是朝向下侧的平面。下表面4221与内侧面4222相比配置在下侧。下表面4221与上表面4112平行。下表面4221与XY平面平行。

下表面4221的一部分隔着空间SP3而与上表面4112的一部分相对。第2部件42以下表面4221的一部分持续配置在上表面4112的上侧的方式移动。第2部件42以持续确保下表面4221的一部分与上表面4112的一部分之间的空间SP3的方式移动。此外，下表面4221可以包含伴随着第2部件42的移动而有时与上表面4112的一部分相对有时不与上表面4112的一部分相对的部分。

Z轴方向上的下表面4221与衬底51之间的距离大于Z轴方向上的下表面4211与衬底51之间的距离。也就是说，下表面4221与下表面4211相比配置在上侧。

Z轴方向上的下表面4221与上表面4112之间的空间SP3的尺寸是能够实现因毛细管现象而使液体LQ从空间SP1逐渐浸透到空间SP3中的程度的尺寸。例如，Z轴方向上的空间SP3的尺寸可以是0.2mm至1.0mm范围内的任意尺寸。

下表面4221相对于液体LQ具有亲液性。但是，下表面4221也可以相对于液体LQ具有疏液性。

内侧面4222是朝向内侧的面。内侧面4222与外侧面4122的一部分相对。内侧面4222与外侧面4122平行。内侧面4222从下侧端部朝向上侧且朝向外侧延伸。内侧面4222的下侧端部与下表面4221的内侧端部一致。内侧面4222从下表面4221的内侧端部朝向上侧延伸。

第2部件42以内侧面4222不与外侧面4122接触的方式移动。第2部件42以在内侧面4222与外侧面4122之间持续确保间隙的方式移动。

第2部件42还具有能够供来自射出面32的曝光用光EL通过的圆形的开口425。开口425由内侧面4222的下侧端部规定。在开口425的周围配置有下表面4221。在开口425的内侧配置有第1部件41的一部分。在第2部件42的所处位置使开口425的中心与光轴AX一致的情况下，如图2所示，下表面4221的内缘部与上表面4112的外缘部相对，形成了环状(循环状)空间SP3。

XY平面中的开口425的直径及面积大于ZY平面中的开口415的直径及面积。

此外，为了便于说明，在上述的说明中，第2部件42具有第1部分421及第2部分422。但是，第2部件42也可以不规定第1部分421及第2部分422中的至少一部分。

液浸部件4A还具有液体供给口431、液体供给口432、流体回收口441和流体回收口442。以下，按顺序说明液体供给口431、液体供给口432、流体回收口441和流体回收口442。

首先，说明液体供给口431。

液体供给口431供给用于形成液浸空间LS的液体LQ。液体供给口431形成在内侧面4121上。液体供给口431以与空间SP2相面对的方式形成。液体供给口431也可以以与光路空间SPK相面对的方式形成，并不与外表面33相对。

液体供给口431以断续地分布于终端光学元件31的周围(换言之，光路AT的周围)的方式形成。例如，液体供给口431可以沿着在内侧面4121上定义的假想圆(例如，围绕开口415的中心的假想圆)等间隔或无序地形成多个。

在控制器91的控制下，经由液体供给路向液体供给口431供给洁净且经温度调整了的液体LQ。从液体供给口431对空间SP2供给液体LQ。从液体供给口431对空间SP2供给的液体LQ的至少一部分供给至包含光路ATL的光路空间SPK，从而光路ATL被液体LQ充满。

从液体供给口431对空间SP2供给的液体LQ的至少一部分也可以经由开口415而供给至空间SP1。从液体供给口431对空间SP2供给的液体LQ的至少一部分还可以经由开口415而供给至空间SP3。

接下来，说明液体供给口432。

液体供给口432供给用于形成液浸空间LS的液体LQ。液体供给口432形成于下表面4211。液体供给口432以与空间SP1相面对的方式形成。液体供给口432以与衬底51相面对的方式形成。

液体供给口432以断续地分布在终端光学元件31的周围(曝光用光EL的光路AT的周围)的方式形成。例如，如图3所示，液体供给口432可以沿着在下表面4211上定义的假想圆(例如，围绕开口425的中心的假想圆)，等间隔或无序地形成多个。

在控制器91的控制下，经由与向液体供给口431供给液体LQ的流体供给路相同或不同的液体供给路，向液体供给口432供给洁净且经温度调整了的液体LQ。从液体供给口432对空间SP1供给液体LQ。从液体供给口432对空间SP1供给的液体LQ的至少一部分可以供给至空间SP3。

接下来，说明流体回收口441。

流体回收口441从液浸空间LS(尤其是空间SP1)回收液体LQ。流体回收口441形成在下表面4211的外侧。流体回收口441形成在下表面4211的周围。流体回收口441以与空间SP1相面对的方式形成。流体回收口441以隔着空间SP1与衬底51相对的方式形成。此外，第1部分421的流体回收口441的外侧的下表面(流体回收口441的周围的下表面)相对于液体LQ具有疏液性。

流体回收口441与液体供给口432相比形成在外侧。

流体回收口441以连续地分布在终端光学元件31的周围(换言之，光路AT的周围)的方式形成。例如，流体回收口441可以沿着在下表面4211上定义的假想圆(例如，围绕开口425的中心的假想圆)以连续地分布的方式形成。

在流体回收口441上配置有网眼孔板等多孔部件4411。多孔部件4411包含与衬底51的上表面相对的下表面、与流体回收路相面对的上表面、和将该上表面及该下表面连接的多个孔。液体回收口441经由多孔部件4411从液浸空间LS(尤其是空间SP1)回收液体LQ。但是，也可以不在流体回收口441上配置多孔部件4411。此外，可以将多孔部件4411的多个孔中的一个孔称为流体回收口441。

在控制器91的控制下，从流体回收口441经由配置在流体回收口441上的多孔部件4411来回收液体LQ。例如，可以在控制器91的控制下，调整多孔部件4411的上表面侧的压力与多孔部件4411的下表面侧的压力之差，由此从流体回收口441回收液体LQ。

接下来，说明流体回收口442。

流体回收口442从液浸空间LS(尤其是空间SP3)回收液体LQ。流体回收口442形成于下表面4221。流体回收口442以与空间SP3相面对的方式形成。流体回收口442以隔着空间SP3与上表面4112相对的方式形成。

第2部件42以流体回收口442与空间SP3持续相面对的方式移动。第2部件42以流体回收口442与上表面4112持续相对的方式移动。

流体回收口442与形成于第2部件42的液体供给口432相比形成于内侧。流体回收口442形成在下表面4221中的相对内侧的部位。

流体回收口442以连续地分布于终端光学元件31的周围(换言之，曝光用光EL的光路AT的周围)的方式形成。例如，流体回收口442可以沿着在下表面4221上定义的假想圆(例如，围绕开口425的中心的假想圆)以连续地分布的方式形成。流体回收口442也可以沿着开口425形成于下表面4221。

在控制器91的控制下，从流体回收口442回收液体LQ。

在以上说明的第1实施方式的液浸部件4A中，第2部件42的至少一部分与液浸空间LS相面对，因此，第2部件42的移动能够引起液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动。但是，在第1实施方式中，由于第2部件42与第1部件41相比在外侧移动，所以基于第2部件42的移动产生的液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动难以传递到终端光学元件31。

在第1实施方式的液浸部件4A中，由于内侧面4212朝向内侧，所以内侧面4212中的以接近光路AT的方式移动的部分，以推分开液浸空间LS内的液体LQ的方式移动。但是，在第1实施方式的液浸部件4A中，由于内侧面4212与第1部分411相比配置在外侧，所及基于内侧面4212的移动产生的液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动难以传递到终端光学元件31。

另外，沿着光轴AX的内侧面4212的大小为例如数mm，由于内侧面4212的面积比较小，所以难以因内侧面4212的移动而产生液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动。

另外，第1部件41(例如，外侧面4113)与第2部件42(例如，内侧面4212)之间的液体LQ的至少一部分能够进入到空间SP3。因此，由于液体LQ向空间SP3的流入，而容易消除基于内侧面4212的移动产生的液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动。因此，基于第2部件42的移动产生的液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动更进一步难以传递到终端光学元件31。

像这样，在第1实施方式的液浸部件4A中，因第2部件42的移动引起的液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动难以传递到终端光学元件31。因此，能够良好地抑制终端光学元件31从液浸空间LS内的液体LQ受到的压力的变动。其结果为，能够良好地抑制终端光学元件31的变动。

在第1实施方式的液浸部件4A中，液浸空间LS内的液体LQ的界面LG的一部分形成在第2部件42与衬底51之间。以下，将形成在第2部件42与衬底51之间的界面LG适当称为“界面LG1”。在第1实施方式的液浸部件4A中，例如，与从液体供给口432进行的液体LQ的供给并行地，从流体回收口441回收液体LQ，界面LG1形成在下表面4211和多孔部件4411的下表面中的至少一方与衬底51的上表面之间。

液浸空间LS内的液体LQ的界面LG的一部分形成在终端光学元件31与第1部件41之间。以下，将形成在终端光学元件31与第1部件41之间的界面LG适当称为“界面LG2”。

液浸空间LS内的液体LQ的界面LG的一部分形成在第1部件41与第2部件42之间。以下，将形成在第1部件41与第2部件42之间的界面LG适当称为“界面LG3”。例如，界面LG3形成在下表面4221与上表面4112之间。在第1实施方式的液浸部件4A中，由于经由流体回收口442从空间SP3回收(除去)液体LQ，所以在外侧面4122与内侧面4222之间的空间中几乎或完全不存在液体LQ。其结果为，外侧面4122与内侧面4222之间的空间成为气体空间。因此，第2部件42能够相对顺畅地移动。另外，也可以使下表面4221与上表面4112之间的空间SP3内的液体LQ作为挤压膜阻尼轴承而发挥功能。该情况下，能够使第2部件42更顺畅且稳定地动作。

此外，使用图2及图3说明的液浸部件4A为一例。因此，也可以适当改变液浸部件4A的一部分结构。以下，说明液浸部件4A的一部分结构的改变例。

第1部件41也可以不具有能够包围光路AT及终端光学元件31中的两方或一方的形状。例如，第1部件41也可以具有配置于光路AT及终端光学元件31中的两方或一方的周围的一部分、而不配置于光路AT及终端光学元件31中的两方或一方的周围的另一部分的形状(例如，一部分开放的开循环状的形状)。

第1部件41在上述的支承部件的基础上，也可以经由配置在该支承部件与装置框架38之间的防振装置而支承于装置框架38。该情况下，防振装置与上述的防振装置39同样地，可以包含弹簧装置。

第1部件41的至少一部分也可以是能够通过由控制器91控制的驱动装置(例如，致动器)的动作而移动的可动部件。驱动装置也可以通过使支承第1部件41的支承部件移动来使第1部件41的至少一部分移动。驱动装置可以配置在支承第1部件41的支承部件与装置框架38之间。另外，也可以在支承第1部件41的支承部件与装置框架38之间配置防振装置，并且在该防振装置上搭载驱动机构。

第1部分411也可以具有与板状的(换言之，片状的)形状不同的任意形状。

下表面4111的一部分也可以不与上表面4112及外侧面4113中的两方或一方相比配置在下侧。例如，下表面4111的一部分也可以与上表面4112及外侧面4113中的两方或一方相比配置在上侧。下表面4111的至少一部分也可以不与射出面32相比配置在下侧。例如，下表面4111的至少一部分也可以与射出面32相比配置在上侧。下表面4111的至少一部分也可以相对于XY平面倾斜。下表面4111的至少一部分也可以是曲面。

上表面4112的一部分也可以不与外侧面4113相比配置在上侧。例如，上表面4112的一部分也可以与外侧面4113相比配置在下侧。上表面4112的至少一部分也可以相对于XY平面倾斜。上表面4112的至少一部分也可以是曲面。上表面4112的至少一部分也可以相对于液体LQ具有亲液性。

外侧面4113的至少一部分也可以相对于光轴AX倾斜。外侧面4113的至少一部分也可以是曲面。此外，关于外侧面4113的形状的其他例子(即与图2及图3所示的形状不同的形状的例子)将在后详述(参照图19等)。

内侧面4121的至少一部分也可以相对于外表面33倾斜。内侧面4121也可以包含相对于光轴AX以第1角度倾斜的面、和相对于光轴AX以第2角度倾斜的面。内侧面4121的至少一部分也可以与XY平面平行。内侧面4121的至少一部分也可以与光轴AX平行。内侧面4121的至少一部分也可以是曲面。

外侧面4122的至少一部分也可以相对于内侧面4121倾斜。外侧面4122也可以包含相对于光轴AX以第1角度倾斜的面、和相对于光轴AX以第2角度倾斜的面。外侧面4122的至少一部分也可以与XY平面平行。外侧面4122的至少一部分也可以与光轴AX平行。外侧面4122的至少一部分也可以是曲面。

第3部分413也可以具有与板状的(换言之，片状的)形状不同的任意形状。第3部分413也可以无助于液浸空间LS的形成。

上表面4131及下表面4132中的两方或一方的至少一部分也可以相对于XY平面倾斜。上表面4131及下表面4132中的两方或一方的至少一部分也可以是曲面。上表面4131的至少一部分也可以相对于液体LQ具有亲液性。

第1部件41也可以不具有第3部分413(上表面4131及下表面4132)。

开口415的中心也可以不与光轴AX一致。开口415的中心也可以不与射出面32的中心一致。沿着XY平面的开口415的直径及面积也可以大于射出面32的直径及面积或与其相等。

XY平面上的开口415的形状也可以是与圆形的形状不同的任意形状(例如，多边形、椭圆形、或者几乎或完全不妨碍曝光用光EL的顺畅通过的任意形状)。XY平面上的第1部件41的各面(例如，下表面4111、上表面4112及内侧面4113、内侧面4121及外侧面4122、以及上表面4131及下表面4132)或各端部(例如，外侧端部及内侧端部、以及上侧端部及下侧端部)的形状也可以是圆形的形状或与圆形的形状不同的任意形状。

第2部件42也可以不具有能够包围光路AT的形状。例如，第2部件42也可以具有配置于光路AT的周围的一部分而不配置于光路AT的周围的另一部分的形状(例如，一部分开放的开循环状的形状)。

第2部件42也可以在分别沿着X轴方向及Y轴方向移动的基础上或取而代之，而沿着X轴方向、Y轴方向及Z轴方向、以及θX方向、θY方向及θZ方向中的至少一个方向移动。

下表面4211的一部分也可以不与内侧面4212相比配置在外侧或下侧。例如，下表面4211的一部分也可以与内侧面4212的一部分相比配置在内侧。下表面4211的一部分也可以与内侧面4212的一部分相比配置在上侧。下表面4211的至少一部分也可以不与射出面32相比配置在下侧。例如，下表面4211的至少一部分也可以与射出面32相比配置在上侧。下表面4211的至少一部分也可以相对于XY平面倾斜。例如，下表面4211也可以以从其内侧端部朝向上方且朝向外侧延伸的方式倾斜。另外，下表面4211(例如，流体回收口441)的Z轴方向的位置也可以在开口425的周围不同。例如，开口425的Y轴方向侧的下表面4221(流体回收口441)的一部分也可以配置在与位于开口425的X轴方向侧的下表面4221(流体回收口441)的其他部分相比低的位置。另外，下表面4211的至少一部分也可以是曲面。下表面4211的至少一部分也可以相对于液体LQ具有疏液性。

Z轴方向上的下表面4211与衬底51之间的距离也可以不同于Z轴方向上的下表面4111与衬底51之间的距离。此外，关于Z轴方向上的下表面4211与衬底51之间的距离和Z轴方向上的下表面4111与衬底51之间的距离的关系的其他例子(即与图2所示的关系不同的关系的例子)，将在后详述(参照图22等)。

Z轴方向上的下表面4211与衬底51之间的距离也可以不小于Z轴方向上的上表面4112与衬底51之间的距离。换言之，下表面4211也可以不与上表面4112相比配置在下侧。此外，关于Z轴方向上的下表面4211与衬底51之间的距离和Z轴方向上的上表面4112与衬底51之间的距离的关系的其他例子(即与图2所示的关系不同的关系的例子)，将在后详述(参照图23等)。

内侧面4212也可以不沿着与XY平面平行的方向与外侧面4113相对。内侧面4212也可以不沿着与XY平面平行的方向与空间SP3相对。内侧面4212的至少一部分也可以相对于光轴AX倾斜。内侧面4212的至少一部分也可以是曲面。内侧面4212的至少一部分也可以相对于外侧面4113的至少一部分倾斜。此外，关于内侧面4212的形状的其他例子(即与图2及图3所示的形状不同的形状的例子)，将在后详述(参照图16至图18等)。

下表面4221的一部分也可以不与内侧面4222相比配置在下侧。例如，下表面4221的一部分也可以与内侧面4222的一部分相比配置在上侧。下表面4221的至少一部分也可以相对于XY平面倾斜。下表面4221的至少一部分也可以相对于上表面4112倾斜(即也可以不平行)。下表面4221的至少一部分也可以是曲面。

Z轴方向上的下表面4221与衬底51之间的距离也可以不大于Z轴方向上的下表面4211与衬底51之间的距离。也就是说，下表面4221也可以不与下表面4211相比配置在上侧。Z轴方向上的空间SP3的尺寸既可以小于液体LQ能够因毛细管现象而从空间SP1浸透到空间SP3的程度的尺寸，也可以大于该尺寸。此外，关于Z轴方向上的下表面4221与衬底51之间的距离和Z轴方向上的下表面4211与衬底51之间的距离的关系的其他例子(即与图2所示的关系不同的关系的例子)，将在后详述(参照图20至图21等)。

内侧面4222的至少一部分也可以相对于外侧面4122倾斜。内侧面4222也可以包含相对于Z轴以第1角度倾斜的面、和以第2角度倾斜的面。内侧面4222的至少一部分也可以是曲面。

XY平面上的开口425的形状也可以是与圆形的形状不同的任意形状(例如，多边形、椭圆形、或者几乎或完全不妨碍曝光用光EL的顺畅通过的任意形状)。XY平面上的第2部件42的各面(例如，下表面4211及内侧面4212、以及下表面4221及内侧面4222)或各端部(例如，外侧端部及内侧端部、以及上侧端部及下侧端部)的形状也可以是圆形的形状或与圆形的形状不同的任意形状。

液体供给口431也可以以连续地分布于终端光学元件31的周围的方式形成。也可以取代多个液体供给口431而形成单一的液体供给口431。液体供给口431也可以在内侧面4121的基础上或取而代之，而形成在可能与液浸空间LS相面对的第1部件41的任意面上。此外，关于液体供给口431的形成位置的其他例子(即与图2所示的形成位置不同的形成位置的例子)，将在后详述(参照图12等)。

液体供给口432也可以以连续地分布于终端光学元件31的周围的方式形成。也可以取代多个液体供给口432而形成单一的液体供给口432。液体供给口432也可以在下表面4211的基础上或取而代之，而形成在与液浸空间LS相面对的第2部件42的任意面上。此外，关于液体供给口432的形成位置的其他例子(即与图2所示的形成位置不同的形成位置的例子)，将在后详述(参照图13至图14等)。

液体供给口432所供给的液体LQ的特性(例如，温度及种类中的两方或一方)可以与液体供给口431所供给的液体LQ的特性相同。液体供给口432所供给的液体LQ的特性也可以与液体供给口431所供给的液体LQ的特性不同。

液浸部件4A也可以不具有形成在第2部件42上的液体供给口432。也就是说，也可以不在第2部件42上形成液体供给口432。

多孔部件4411的下表面的至少一部分也可以与下表面4211相比配置在上侧。多孔部件4411的下表面的至少一部分也可以与下表面4211相比配置在下侧。多孔部件4411的下表面的至少一部分也可以与下表面4211配置在相同高度。

多孔部件4411的下表面可以与下表面4211平行。但是，多孔部件4411的下表面的至少一部分也可以相对于下表面4211倾斜。多孔部件4411的下表面可以是平面。多孔部件4411的下表面的至少一部分也可以是曲面。

流体回收口442也可以形成在第2部件42的下表面4221中的任意部位。此外，在流体回收口442的基础上或取而代之，从空间SP3回收液体LQ的流体回收口也可以形成在第1部件41的上表面4112上。

也可以在流体回收口442上，与流体回收口441同样地，配置有网眼孔板等多孔部件4421。

第2部件42也可以以产生流体回收口442的一部分不与空间SP3相面对的期间的方式移动。第2部件42也可以以产生流体回收口442的一部分不与上表面4112相对的期间的方式移动。

流体回收口441及流体回收口442中的两方或一方也可以以断续地分布于终端光学元件31的周围的方式形成。例如，流体回收口441也可以沿着在下表面4211上定义的假想圆(例如，围绕开口425的中心的假想圆)，等间隔或无序地形成多个。例如，流体回收口442也可以沿着在下表面4221上定义的假想圆(例如，围绕开口425的中心的假想圆)，等间隔或无序地形成多个。也可以取代多个流体回收口441而形成单一的流体回收口441。也可以取代多个流体回收口442而形成单一的流体回收口442。

可以从流体回收口441及流体回收口442中的两方或一方回收液体LQ而不回收气体。经由配置有多孔部件的流体回收口回收液体而不回收气体的技术的一例在例如美国专利第7,292,313号中有所公开。但是，也可以从流体回收口441及流体回收口442中的两方或一方回收液体LQ及气体双方。

从液体供给口431及液体供给口432中的两方或一方进行的液体LQ的供给和从流体回收口441及流体回收口442中的两方或一方进行的液体LQ的回收可以并行地进行。但是，从液体供给口431进行的液体LQ的供给、从液体供给口432进行的液体LQ的供给、从流体回收口441进行的液体LQ的回收、和从流体回收口442进行的液体LQ的回收也可以不全部并行地进行。

第2部件42可以在从液体供给口431供给液体LQ的期间中的至少一部分期间中移动。第2部件42也可以在不从液体供给口431供给液体LQ的期间中的至少一部分期间中移动。第2部件42可以在从液体供给口432供给液体LQ的期间中的至少一部分期间中移动。也可以在不从液体供给口432供给液体LQ的期间中的至少一部分期间中移动。第2部件42可以在从流体回收口441回收液体LQ的期间中的至少一部分期间中移动。但是，第2部件42也可以在不从流体回收口441回收液体LQ的期间中的至少一部分期间中移动。第2部件42可以在从流体回收口442回收液体LQ的期间中的至少一部分期间中移动。但是，第2部件42也可以在不从流体回收口442回收液体LQ的期间中的至少一部分期间中移动。

第1部件41的下表面4111不回收液体LQ。因此，下表面4111在与衬底51之间保持液体LQ。第1部件41的内侧面4121、上表面4112及外侧面4113也不回收液体LQ。

第2部件42的下表面4211不回收液体LQ。因此，下表面4211在与衬底51之间保持液体LQ。第2部件42的下表面4221也不回收液体LQ。因此，下表面4221在与衬底51及上表面4112中的两方或一方之间保持液体LQ。第2部件42的内侧面4212也不回收液体LQ。

(1-2-2)液浸部件所具有的第2部件的移动方式的具体例

接下来，参照图4及图5，说明第2部件42的移动方式的具体例。图4是表示第2部件42的移动方式的第1具体例的剖视图。图5是表示第2部件42的移动方式的第2具体例的剖视图。此外，在图4及图5中，为了简化附图，省略了图2所示的液浸部件4A的结构要件中的一部分。

在第1实施方式中，第2部件42基于衬底51的移动方式而移动。换言之，第2部件42以基于衬底51的移动方式(例如，移动方向、移动速度、加速度及移动距离中的至少一个)而确定的移动方式移动。但是，第2部件42也可以相对于衬底51的移动而独立地移动。

例如，第2部件42可以以衬底51相对于第2部件42的相对速度的绝对值变小的方式移动。第2部件42可以以与第2部件42不移动的情况相比，衬底51相对于第2部件42的相对速度的绝对值变小的方式移动。

例如，第2部件42可以以衬底51相对于第2部件42的相对加速度的绝对值变小的方式移动。第2部件42可以以与第2部件42不移动的情况相比，衬底51相对于第2部件42的相对加速度的绝对值变小的方式移动。

如上所述，第2部件42通过由控制器91控制的驱动装置451的动作而移动。因此，以下说明的第2部件42的移动通过控制器91的控制而实现。

第2部件42不移动的情况下的衬底51相对于第2部件42的相对速度实质上与衬底51相对于第1部件41的相对速度一致。因此，第2部件42可以以衬底51相对于第2部件42的相对速度的绝对值小于衬底51相对于第1部件41的相对速度的绝对值的方式移动。关于相对加速度也是同样地，第2部件42可以以衬底51相对于第2部件42的相对加速度的绝对值小于衬底51相对于第1部件41的相对加速度的绝对值的方式移动。

为了减小衬底51相对于第2部件42的相对速度及相对加速度中的两方或一方的绝对值，第2部件42可以朝向与衬底51的移动方向相同的方向移动。

例如，如图4所示，在衬底51朝向+X轴方向移动的情况下，第2部件42也可以朝向+X轴方向移动。在此，设为衬底51的沿着X轴方向的移动速度为+V51，第2部件42的沿着X轴方向的移动速度为+V42。第2部件42不移动的情况下的衬底51相对于第2部件42的相对速度的绝对值为|V51|。另一方面，第2部件42移动的情况下的衬底51相对于第2部件42的相对速度为|V51-V42|(＜|V51|)。因此，在第2部件42移动的情况下，与第2部件42不移动的情况相比，衬底51相对于第2部件42的相对速度变小。此外，关于衬底51相对于第2部件42的相对加速度，也与衬底51相对于第2部件42的相对速度的情况相同。

例如，如图5所示，在衬底51朝向-X轴方向移动的情况下，第2部件42也可以朝向-X轴方向移动。在此，设为衬底51的沿着X轴方向的移动速度为-V51，第2部件42的沿着X轴方向的移动速度为-V42。第2部件42不移动的情况下的衬底51相对于第2部件42的相对速度的绝对值为|-V51|。另一方面，第2部件42移动的情况下的衬底51相对于第2部件42的相对速度为|-V51+V42|(＜|-V51|)。因此，在第2部件42移动的情况下，与第2部件42不移动的情况相比，衬底51相对于第2部件42的相对速度变小。此外，关于衬底51相对于第2部件42的相对加速度，也与衬底51相对于第2部件42的相对速度的情况相同。

在衬底51朝向+Y轴方向移动的情况下，第2部件42也可以朝向+Y轴方向移动。在衬底51朝向-Y轴方向移动的情况下，第2部件42也可以朝向-Y轴方向移动。在衬底51朝向XY平面内的规定方向移动的情况下，第2部件42也可以朝向该规定方向移动。

第2部件42也可以以衬底51相对于第2部件42的相对速度中的沿着衬底51的移动方向的速度成分的绝对值变小的方式移动。第2部件42也可以在与第2部件42不移动的情况相比，衬底51相对于第2部件42的相对速度中的沿着衬底51的移动方向的速度成分的绝对值变小的方式移动。

第2部件42也可以以衬底51相对于第2部件42的相对加速度中的沿着衬底51的移动方向的加速度成分的绝对值变小的方式移动。第2部件42也可以以与第2部件42不移动的情况相比，衬底51相对于第2部件42的相对加速度中的沿着衬底51的移动方向的加速度成分的绝对值变小的方式移动。

第2部件42也可以以在朝向与衬底51的移动方向相同的方向移动的同时、还朝向与衬底51的移动方向交差或正交的方向移动。也就是说，第2部件42也可以在减小衬底51相对于第2部件42的相对速度及相对加速度中的两方或一方的绝对值时，向包含衬底51的移动方向的成分在内的XY平面内的任意方向移动。例如，在衬底51朝向+X轴方向移动的情况下，第2部件42可以在朝向+X轴方向移动的同时，朝向+Y轴方向或-Y轴方向移动。

如以上说明那样，在第1实施方式中，第2部件42能够以减小衬底51相对于第2部件42的相对速度及相对加速度中的两方或一方的绝对值的方式移动。因此，即使在形成了液浸空间LS的状态下衬底51以相对高的速度移动，也会抑制形成液浸空间LS的液体LQ的一部分在衬底51上分离，并且抑制该分离的液体LQ作为残水而残留在衬底51上。另外，即使在形成了液浸空间LS的状态下衬底51以相对高的速度移动，也会抑制在液浸空间LS中产生气泡。因此，能够抑制曝光不良的产生及不良器件的产生。

(1-3)基于曝光装置EX1进行的衬底51的曝光方法

接下来，参照图6至图10，说明基于曝光装置EX1进行的衬底51的曝光方法。

在曝光装置EX1对衬底51进行曝光的曝光处理之前，首先，控制器91以使衬底载台5移动到从液浸部件4A分开的衬底更换位置的方式，控制驱动系统82。然后，控制器91在位于衬底更换位置的衬底载台5上搬入曝光前的衬底51(即以搬入曝光前的衬底的方式控制未图示的衬底搬入装置)。

在衬底载台5位于从液浸部件4A分开的衬底更换位置的期间，控制器91以使计测载台6配置在与终端光学元件31及液浸部件4A沿着Z轴方向相对的位置的方式，控制驱动系统82。此外，在计测载台6配置于与终端光学元件31及液浸部件4A沿着Z轴方向相对的位置的期间，可以通过计测载台6所保持的计测部件61进行经由液体LQ接受曝光用光EL的计测。

在衬底载台5保持了曝光前的衬底51后，控制器91使曝光前的衬底51所搬入的衬底载台5移动到与终端光学元件31及液浸部件4A沿着Z轴方向相对的位置。

此外，在进行上述的动作的期间，也持续在衬底载台5或计测载台6与终端光学元件31之间形成液浸空间LS。

接着，控制器91开始针对衬底51的曝光处理。具体地说，在控制器91的控制下，照明系统2对光罩11照射曝光用光EL。来自光罩11的曝光用光EL经由投影光学系统3及液浸空间LS而投影到衬底51。其结果为，在衬底51上投影有形成于光罩11的器件图案的像，衬底51被曝光。

在第1实施方式中，曝光装置EX1是曝光时使光罩11及衬底51这两方沿着规定的扫描方向(scan方向)移动的扫描型曝光装置(所谓的扫描步进机(scanning-stepper))。在第1实施方式中，光罩11的扫描方向及衬底51的扫描方向均为Y轴方向。因此，控制器91使衬底51相对于曝光用光EL所投影的投影区域PR沿着Y轴方向移动。控制器91使光罩11相对于曝光用光EL所照射的照明区域IR沿着Y轴方向移动。

在此，参照图6说明衬底51的移动方式。图6是表示保持于衬底载台5的衬底51的一例的俯视图。

如图6所示，在衬底51的上表面上以矩阵状分布有多个照射区域S。照射区域S是在基于曝光用光EL进行的一次曝光处理中被曝光的区域。

例如，在对某一照射区域S1进行曝光处理时，在该照射区域S1的上侧形成有液浸空间LS的状态下，控制器91使衬底51相对于曝光用光EL所投影的投影区域PR沿着Y轴方向移动。而且，控制器91使光罩11相对于曝光用光EL所照射的照明区域IR沿着Y轴方向移动。与衬底51及光罩11的移动并行地，照明系统2对光罩11照射曝光用光EL。其结果为，照射区域S1通过经由投影光学系统3及液浸空间LS投影的曝光用光EL而被曝光。

当照射区域S1到达曝光结束位置时，针对照射区域S1的曝光处理结束。在针对照射区域S1的曝光处理结束后，为了开始针对下一照射区域S2(例如，在+X轴方向侧与照射区域S1相邻的照射区域S2)的曝光处理，进行使下一照射区域S2向曝光开始位置移动的动作。具体地说，在形成了液浸空间LS的状态下，控制器91使衬底51沿着与Y轴方向相交的方向(例如，X轴方向或相对于X轴方向及Y轴方向分别倾斜的方向)移动。在进行使下一照射区域S2向曝光开始位置移动的动作的期间，照明系统2不对光罩11照射曝光用光EL。当下一照射区域S2到达曝光开始位置时，以与针对照射区域S1的曝光用光EL的曝光处理相同的方式，开始针对照射区域S2的曝光用光EL的曝光处理。以后，以衬底51上的多个照射区域为对象进行相同的动作。

在以下的说明中，将为了对照射区域S进行曝光处理而以使照射区域S相对于投影区域PR沿着Y轴方向移动的方式使衬底51沿着Y轴方向移动的动作适当称为“扫描移动动作”。扫描移动动作可以包含从照射区域S位于曝光开始位置的状态到照射区域S位于曝光结束位置的状态为止使衬底51沿着Y轴方向移动的动作。扫描移动动作主要包含使衬底51沿着Y轴方向等速移动的动作。但是，扫描移动动作也可以包含使衬底51沿着Y轴方向加减速移动的动作。此外，如上所述，在进行扫描移动动作的期间，照明系统2对光罩11照射曝光用光EL。在不进行扫描移动动作的期间，也可以形成或持续形成液浸空间LS。

另一方面，将为了在针对某一照射区域S的曝光处理结束后开始针对下一照射区域S的曝光处理，而以使下一照射区域S移动到曝光开始位置的方式使衬底51沿着与Y轴方向相交的方向移动的动作适当称为“步进移动动作”。步进移动动作可以包含从照射区域S位于曝光结束位置的状态到下一照射区域S位于曝光开始位置的状态为止使衬底51沿着与Y轴方向相交的方向移动的动作。步进移动动作主要包含使衬底51沿着与Y轴方向相交的方向加减速移动的动作。例如，步进移动动作可以包含使衬底51沿着X轴方向加减速移动的动作及使衬底51沿着Y轴方向加减速移动的动作中的两方或一方。但是，步进移动动作也可以包含使衬底51沿着与Y轴方向相交的方向等速移动的动作。此外，如上所述，在进行步进移动动作的期间，照明系统2不对光罩11照射曝光用光。在进行步进移动动作的期间，也可以形成或持续形成液浸空间LS。

此外，曝光开始位置也可以包含投影区域RP的前侧端部从某照射区域S的沿着Y轴方向的一端部(例如，投影区域PR的相对于行进方向的后方侧的端部)通过的时刻下的该某一照射区域S的位置(换言之，衬底51的位置)。曝光结束位置也可以包含投影区域RP的后侧端部从照射区域S的沿着Y轴方向的另一端部(例如，投影区域PR的相对于行进方向的前方侧的端部)通过的时刻下的该某一照射区域S的位置(换言之，衬底51的位置)。

另外，在以下的说明中，将为了对某一照射区域S进行曝光处理而进行扫描移动动作的期间适当称为“扫描移动期间”。另一方面，将从针对某一照射区域S的曝光处理结束到为了开始针对下一照射区域S的曝光处理而进行步进移动动作的期间适当称为“步进移动期间”。

控制器91交替地进行扫描移动动作和步进移动动作。其结果为，对衬底51上的多个照射区域S依次进行曝光处理。

在对多个照射区域S进行曝光处理时，控制器91可以基于多个照射区域S的曝光条件使衬底51移动。例如，控制器91可以基于多个照射区域S的曝光条件，来调整衬底51的移动条件(例如，移动速度、加速度、移动距离、移动方向及XY平面内的移动轨迹中的至少一个)。例如，如图6所示，控制器91基于曝光条件，以使投影区域PR相对于衬底51沿着移动轨迹Sr相对移动的方式使衬底51移动。

多个照射区域S的曝光条件由例如被称为曝光配方(recipe)的曝光控制信息规定。曝光控制信息存储在例如存储器92中。曝光控制信息所规定的曝光条件可以包含例如多个照射区域S的排列信息(例如，多个照射区域S各自的位置)。曝光控制信息所规定的曝光条件也可以包含例如多个照射区域S的尺寸(例如，多个照射区域S的Y轴方向上的长度)。

如图6所示，在扫描移动期间及步进移动期间中的至少一部分期间中，液浸空间LS的至少一部分可以形成在上表面52上。在扫描移动期间及步进移动期间中的至少一部分期间中，液浸空间LS的至少一部分可以以跨着衬底51和上表面52的方式形成。在以计测载台6与衬底载台5相邻或接触的状态对衬底51进行曝光处理的情况下，在扫描移动期间及步进移动期间中的至少一部分期间中，液浸空间LS的至少一部分可以以跨着衬底载台5和计测载台6的方式形成。

第2部件42可以在步进移动期间中的至少一部分期间中移动。第2部件42可以在照明系统2不照射曝光用光EL(即不从终端光学元件31射出曝光用光EL)的期间中的至少一部分期间中移动。第2部件42可以在衬底51沿着X轴方向移动的期间中的至少一部分期间中移动。但是，第2部件42也可以在步进移动期间中不移动。第2部件42也可以在照明系统2不照射曝光用光EL的期间中不移动。第2部件42也可以在衬底51沿着X轴方向移动的期间中不移动。

第2部件42可以在扫描移动期间中的至少一部分期间中移动。第2部件42可以在照明系统2照射曝光用光EL(即从终端光学元件31射出曝光用光EL)的期间中的至少一部分期间中移动。第2部件42可以在衬底51沿着Y轴方向移动的期间中的至少一部分期间中移动。但是，第2部件42也可以在扫描移动期间中不移动。第2部件42也可以在照明系统2照射曝光用光EL的期间中不移动。第2部件42也可以在衬底51沿着Y轴方向移动的期间中不移动。

依据这样的第2部件42的移动方式，参照图7至图10，说明衬底51的具体的移动方式与第2部件42的具体的移动方式之间的关系的一例。图7是表示投影区域PR的移动轨迹Sr及第2部件42的移动轨迹Sr’的一个具体例的俯视图。图8及图9分别是表示以图7所示的方式衬底51及第2部件42移动了的情况下的第2部件42的移动方式的剖视图。图10是表示以图7所示的方式衬底51及第2部件42移动了的情况下的衬底51及第2部件42各自的移动速度的曲线图。

如图7的(a)所示，列举对沿着X轴方向相邻的两个照射区域S(即照射区域Sa及照射区域Sb)进行曝光处理的情况为例。该情况下，控制器91以使投影区域PR沿着实线所示的移动轨迹Sr相对于衬底51相对移动的方式使衬底51移动。

具体地说，控制器91以使投影区域PR沿着从照射区域Sa上的-Y轴方向侧的端部位置d1至照射区域Sa上的+Y轴方向侧的端部位置d2的路径Tp1相对于衬底51相对移动的方式，使衬底51移动。也就是说，在投影区域PR沿着路径Tp1相对于衬底51相对移动的情况下，控制器91进行使衬底51沿着Y轴方向(例如，朝向-Y轴方向)移动的扫描移动动作。因此，在投影区域PR沿着路径Tp1相对于衬底51相对移动的期间，照射区域Sa被曝光。

然后，控制器91以使投影区域PR沿着从照射区域Sa上的端部位置d2至照射区域Sb上的+Y轴方向侧的端部位置d3的路径Tp2相对于衬底51相对移动的方式，使衬底51移动。也就是说，在投影区域PR沿着路径Tp2相对于衬底51相对移动的情况下，控制器91进行使衬底51沿着与Y轴方向相交的方向移动的步进移动动作。在投影区域PR沿着路径Tp2相对于衬底51相对移动的期间，衬底51不被曝光。例如，在投影区域PR从图7的(a)中的端部位置d2向中间位置d2.5移动的期间，控制器91使衬底51朝向-X轴方向移动并且朝向-Y轴方向移动。另外，投影区域PR从图7的(a)中的中间位置d2.5向端部位置d3移动的期间，控制器91使衬底51朝向-X轴方向移动并且朝向+Y轴方向移动。

然后，控制器91以使投影区域PR沿着从照射区域Sb上的端部位置d3至照射区域Sb上的-Y轴方向侧的端部位置d4的路径Tp3相对于衬底51相对移动的方式，使衬底51移动。也就是说，在投影区域PR沿着路径Tp3相对于衬底51相对移动的情况下，控制器91进行使衬底51沿着Y轴方向(例如，朝向+Y轴方向)移动的扫描移动动作。因此，在投影区域PR沿着路径Tp3相对于衬底51相对移动的期间，照射区域Sb被曝光。

然后，控制器91以使投影区域PR沿着从照射区域Sb上的端部位置d4至照射区域Sc上的-Y轴方向侧的端部位置d5的路径Tp4相对于衬底51相对移动的方式，使衬底51移动。也就是说，在投影区域PR沿着路径Tp4相对于衬底51相对移动的情况下，控制器91进行使衬底51沿着与Y轴方向相交的方向移动的步进移动动作。在投影区域PR沿着路径Tp4相对于衬底51相对移动的期间，衬底51不被曝光。例如，在投影区域PR从图7的(a)中的端部位置d4向中间位置d4.5移动的期间，控制器91使衬底51朝向-X轴方向移动并且朝向+Y轴方向移动。另外，在投影区域PR从图7的(a)中的中间位置d4.5向端部位置d5移动的期间，控制器91使衬底51朝向-X轴方向移动并且朝向-Y轴方向移动。

在投影区域PR位于照射区域Sc上的端部位置d5后，重复进行与投影区域PR从端部位置d1到达端部位置d5为止进行的动作相同的动作。

在衬底51以图7的(a)所示的方式移动的情况下，第2部件42进行包含与衬底51的移动方向相同的方向成分的移动。例如，在以投影区域PR于路径Tp1、路径Tp2、路径Tp3及路径Tp4依次移动的方式使衬底51移动的情况下，如图7的(b)所示，第2部件42于路径Tp1’、路径Tp2’、路径Tp3’及路径Tp4’依次移动。

具体地说，在进行投影区域PR沿着路径Tp1移动的扫描移动动作的情况下，第2部件42沿着从位置d1’朝向位置d2’的路径Tp1’移动。

位置d1’表示投影区域PR位于端部位置d1的时刻下的、第2部件42的中心(例如，开口425的中心)相对于投影区域PR的相对位置。例如，如图8的(a)所示，位置d1’是从投影区域PR向-X轴方向及+Y轴方向位移后的位置。

位置d2’表示投影区域PR位于端部位置d2的时刻下的、第2部件42的中心相对于投影区域PR的相对位置。例如，如图8的(b)所示，位置d2’是从投影区域PR向+X轴方向及-Y轴方向位移后的位置。

如图7的(b)所示，路径Tp1’是包含朝向-Y轴方向的成分及朝向+X轴方向的成分在内的路径。路径Tp1’是第2部件42朝向+X轴方向移动的同时朝向-Y轴方向移动的路径。路径Tp1’是包含朝向扫描移动动作中的衬底51的移动方向的成分、及朝向步进移动动作中的衬底51的移动方向的相反方向的成分在内的路径。

然后，在进行投影区域PR沿着路径Tp2移动的步进移动动作的情况下，第2部件42沿着从位置d2’经由位置d2.5’朝向位置d3’的路径Tp2’移动。

位置d2.5’表示投影区域PR位于中间位置d2.5的时刻下的、第2部件42的中心相对于投影区域PR的相对位置。例如，如图8的(c)所示，位置d2.5’是从投影区域PR向-Y轴方向位移后的位置。

位置d3’表示投影区域PR位于端部位置d3的时刻下的、第2部件42的中心相对于投影区域PR的相对位置。例如，如图8的(d)所示，位置d3’是从投影区域PR向-X轴方向及-Y轴方向位移后的位置。

如图7的(b)所示，路径Tp2’是包含将朝向-Y轴方向的成分及朝向-X轴方向的成分包含在内的路径、以及将朝向+Y轴方向的成分及朝向-X轴方向的成分包含在内的路径双方的路径。路径Tp2’是第2部件42在朝向-Y轴方向移动的同时朝向-X轴方向移动后，朝向+Y轴方向移动的同时朝向-X轴方向移动的路径。路径Tp2’是第2部件42沿着Y轴方向的移动方向反转且朝向-X轴方向移动的路径。路径Tp2’是包含朝向步进移动动作中的衬底51的移动方向的成分、及沿着扫描移动动作中的衬底51的移动方向的成分在内的路径。

但是，路径Tp2’也可以是不包含沿着Y轴方向的成分(即沿着扫描移动动作中的衬底51的移动方向的成分)的路径。也就是说，路径Tp2’也可以是第2部件42仅朝向-X轴方向移动的路径。

然后，在进行投影区域PR沿着路径Tp3移动的扫描移动动作的情况下，第2部件42沿着从位置d3’朝向位置d4’的路径Tp3’移动。

位置d4’是投影区域PR位于端部位置d4的时刻下的、第2部件42的中心相对于投影区域PR的相对位置。例如，如图9的(a)所示，位置d4’是从投影区域PR向+X轴方向及+Y轴方向位移后的位置。

如图7的(b)所示，路径Tp3’是包含朝向+Y轴方向的成分及朝向+X轴方向的成分在内的路径。路径Tp3’是第2部件42朝向+X轴方向移动的同时朝向+Y轴方向移动的路径。路径Tp3’是包含朝向扫描移动动作中的衬底51的移动方向的成分、及朝向步进移动动作中的衬底51的移动方向的相反方向的成分在内的路径。

然后，在进行投影区域PR沿着路径Tp4移动的步进移动动作的情况下，第2部件42沿着从位置d4’经由位置d4.5’朝向位置d5’的路径Tp4’移动。

位置d4.5’表示投影区域PR位于端部位置d4.5的时刻下的、第2部件42的中心的位置。例如，如图9的(b)所示，位置d4.5’是从投影区域PR向+X轴方向位移后的位置。

位置d5’表示投影区域PR位于端部位置d5的时刻下的第2部件42的中心的位置。例如，如图9的(c)所示，位置d5’是从投影区域PR向-X轴方向及+Y轴方向位移后的位置。此外，投影区域PR与位置d5’之间的位置关系可以实质上和投影区域PR与位置d1’之间的位置关系相同。

如图7的(b)所示，路径Tp4’是包含将朝向+Y轴方向的成分及朝向-X轴方向的成分包含在内的路径、以及将朝向-Y轴方向的成分及朝向-X轴方向的成分包含在内的路径双方的路径。路径Tp4’是在第2部件42朝向+Y轴方向移动的同时朝向-X轴方向移动后，朝向-Y轴方向移动的同时朝向-X轴方向移动的路径。路径Tp4’是第2部件42沿着Y轴方向的移动方向反转且朝向-X轴方向移动的路径。路径Tp4’是包含朝向步进移动动作中的衬底51的移动方向的成分、及沿着扫描移动动作中的衬底51的移动方向的成分在内的路径。

但是，路径Tp4’也可以是不包含沿着Y轴方向的成分(即沿着扫描移动动作中的衬底51的移动方向的成分)的路径。也就是说，路径Tp4’也可以是第2部件42仅朝向-X轴方向移动的路径。

于上述的路径Tp1’、路径Tp2’、路径Tp3’及路径Tp4’移动的第2部件42，如图7的(b)所示，实质上以描绘阿拉伯数字“8”的方式移动。

在以使投影区域PR沿着图7的(a)所示的移动轨迹Sr移动的方式而衬底51移动且第2部件42沿着图7的(b)所示的移动轨迹Sr’移动的情况下，衬底51及第2部件42的移动速度以图10所示的方式变化。此外，图10的第一层的曲线图示出衬底51的沿着X轴方向的移动速度。图10的第二层的曲线图示出衬底51的沿着Y轴方向的移动速度。图10的第三层的曲线图示出第2部件42的沿着X轴方向的移动速度。图10的第四层的曲线图示出第2部件42的沿着Y轴方向的移动速度。

此外，图10的曲线图为一例，图10的第一层及第二层的曲线图所示的衬底51的移动方式能够适当变更。图10的第三层及第四层的曲线图所示的第2部件42的移动方式也能够适当变更。因此，第2部件42也可以在与图7的(b)所示的路径不同的路径上移动。

例如，在图10的第三层的曲线图中，扫描移动期间中的移动速度的绝对值的变化与步进移动期间中的移动速度的绝对值的变化相同，但也可以不同。例如，也可以以使扫描移动期间(例如，从端部位置d1’向端部位置d2’的移动期间)中的移动速度的绝对值的最大值小于步进移动期间(例如，从端部位置d2’向端部位置d3’的移动期间)中的移动速度的绝对值的最大值的方式，控制第2部件42向X轴方向的移动。或者，也可以在扫描移动期间(例如，从端部位置d1’向端部位置d2’的移动期间)的至少一部分中，以使第2部件42沿X轴方向等速移动的方式，控制第2部件42向X轴方向的移动。

另外，在图10的第四层的曲线图中，在扫描移动期间中，第2部件42沿Y轴方向等速移动，但也可以以在扫描移动期间(例如，从端部位置d1’向端部位置d2’的移动期间)的至少一部分中使移动速度变化的方式，控制第2部件42向Y轴方向的移动。例如，可以在扫描移动期间(例如，从端部位置d1’朝向端部位置d2’的移动期间)中，以在开始扫描移动动作后开始第2部件42的移动的方式，控制第2部件42向Y轴方向的移动。例如，也可以在投影区域PR从照射区域S的中间位置(例如，端部位置d1与端部位置d2的中间位置)通过的时刻，开始第2部件42向Y轴方向的移动。

(1-4)液浸部件4A的变形例

接下来，参照图11至图23，说明液浸部件4A的各种变形例。此外，对与液浸部件4A的结构要素相同的结构要素，标注相同的附图标记，从而省略其详细的说明。

(1-4-1)第1变形例

参照图11说明第1变形例的液浸部件4Aa。图11是表示第1变形例的液浸部件4Aa所具有的第1部件41a的结构的剖视图。

如图11所示，在第1变形例中，第1部件41a具有液体供给口431a和流体回收口443a。

液体供给口431a向液浸空间LS(尤其是空间SP2)供给液体LQ。流体回收口443a从液浸空间LS(尤其是空间SP2)回收液体LQ。液体供给口431a及流体回收口443a形成在内侧面4121上。液体供给口431a及流体回收口442以与空间SP2相面对的方式形成。此外，液体供给口431a及流体回收口443a中的一方或两方也可以以与光路空间SPK相面对的方式形成。液体供给口431a配置在光轴AX的一侧，流体回收口443a形成在光轴AX的另一侧。在图11中，相对于光轴AX，液体供给口431a形成在-X轴方向侧，流体回收口443a形成在+X轴方向侧。流体回收口443a的从衬底51的高度与液体供给口431a的从衬底51的高度相同。

此外，也可以是，相对于光轴AX，液体供给口431a形成在-Y轴方向侧，流体回收口443a形成在+Y轴方向侧。另外，液体供给口431a的从衬底51的高度也可以与流体回收口443a的从衬底51的高度不同。

液体供给口431a也可以在内侧面4121上形成多个。例如，也可以沿着XY平面等间隔或无序地形成多个液体供给口431a。流体回收口443a也可以在内侧面4121上形成多个。例如，可以沿着XY平面等间隔或无序地形成多个流体回收口443a。

在控制器91的控制下，进行从液体供给口431a进行的液体供给及从流体回收口443a进行的液体回收。可以从流体回收口443a回收液体LQ而不回收气体。但是，也可以从流体回收口443a回收液体LQ及气体双方。

在具有第1变形例的液浸部件4Aa的曝光装置EX1中，也可良好地享有具有上述液浸部件4A的曝光装置EX1能够享有的各种效果。例如能够抑制曝光不良的产生。

此外，流体回收口443a的从衬底51的高度既可以小于也可以大于液体供给口431a的从衬底51的高度。也可以在流体回收口443a上配置有多孔部件。此外，配置在流体回收口443a上的多孔部件可以与配置在流体回收口441上的多孔部件4411相同。

液浸部件4A也可以在第1部件41的下表面4111上具有流体回收口。或者，液浸部件4Aa也可以在第1部件41a的下表面4111上具有流体回收口。

(1-4-2)第2变形例

参照图12说明第2变形例的液浸部件4Ab。图12是表示第2变形例的液浸部件4Ab所具有的第1部件41b的结构的剖视图。

如图12所示，在第2变形例中，第1部件41Ab在下表面4111上具有液体供给口431b。

在具有第2变形例的液浸部件4Ab的曝光装置EX1中，也可良好地享有具有上述液浸部件4A的曝光装置EX1能够享有的各种效果。例如能够抑制曝光不良的产生。

此外，与第1变形例同样地，液浸部件4A也可以在第1部件41的下表面4111上具有流体回收口。或者，液浸部件4Aa也可以在第1部件41a的下表面4111上具有流体回收口。

(1-4-3)第3变形例

参照图13说明第3变形例的液浸部件4Ac。图13是表示第3变形例的液浸部件4Ac的结构的剖视图。

如图13所示，在第3变形例中，液体供给口432c形成在下表面4221上。液体供给口432c以不与空间SP3(上表面4112)相对的方式形成，但也可以以与空间SP3相面对的方式形成。

在具有第3变形例的液浸部件4Ac的曝光装置EX1中，也可良好地享有具有上述液浸部件4A的曝光装置EX1能够享有的各种效果。例如能够抑制曝光不良的产生。

此外，在液浸部件4Ac中，也可以在下表面4211上设置液体供给口432。

(1-4-4)第4变形例

参照图14说明第4变形例的液浸部件4Ad。图14是表示第4变形例的液浸部件4Ad的结构的剖视图。

如图14所示，在第4变形例中，液体供给口432d形成在内侧面4212上。

在具有第4变形例的液浸部件4Ad的曝光装置EX1中，也可享有具有上述液浸部件4A的曝光装置EX1能够享有的各种效果。例如能够抑制曝光不良的产生。

此外，液体供给口432d可以与上表面4112及下表面4111中的两方或一方相比形成于上侧，也可以形成于下侧。液体供给口432d还可以形成于与上表面4112或下表面4111相同的高度。

液体供给口432d可以沿着与XY平面平行的方向与外侧面4113相对，也可以不相对。液体供给口432可以沿着与XY平面平行的方向与空间SP3相对，也可以不相对。

另外，在液浸部件4Ad中，在液体供给口432d的基础上，还可以设有在下表面4211上设置的液体供给口432、和在下表面4221上设置的液体供给口432b中的一方或两方。

(1-4-5)第5变形例

参照图15说明第5变形例的液浸部件4Ae。图15是表示第5变形例的液浸部件4Ae的结构的剖视图。

如图15所示，在第5变形例中，第2部件42e在流体回收口442的基础上还具有流体回收口444e。

流体回收口444e从内侧面4222、外侧面4122与上表面4112之间的空间回收液体LQ及气体中的一方或两方。流体回收口444e形成在第2部件42e的内侧面4222上。在控制器91的控制下进行从流体回收口444e进行的液体LQ的回收。

流体回收口444e在终端光学元件31的周围(换言之，曝光用光EL的光路AT的周围)断续或连续地形成。例如，多个流体回收口444e可以等间隔或无序地形成。

在具有第5变形例的液浸部件4Ae的曝光装置EX1中，也可良好地享有具有上述液浸部件4A的曝光装置EX1能够享有的各种效果。例如能够抑制曝光不良的产生。

在第5变形例中，即使在液体LQ流出到比空间SP3靠内侧的空间中的情况下，也能够回收该液体LQ。

此外，流体回收口444e也可以形成在与内侧面4222与外侧面4122之间的空间相面对的任意面上。例如，流体回收口444e也可以形成在上表面4112上。例如，流体回收口444e也可以形成在外侧面4122上。例如，流体回收口444e也可以形成在下表面4221中的比流体回收口442靠内侧的部分上。例如，流体回收口444e也可以形成在下表面4132上。

也可以在流体回收口444e上配置有多孔部件。此外，配置在流体回收口444e上的多孔部件可以与配置在流体回收口441上的多孔部件4411相同。

上述的各种液浸部件(4A及4Aa至4Ad)也可以具有流体回收口444e。在上述的各种液浸部件(4A及4Aa至4Ae)具有流体回收口444e的情况下，也可以不具有流体回收口442。

上述的各种液浸部件(4A及4Aa至4Ae)也可以具有从第2部件42与衬底51(或物体)之间的空间SP1的外侧的空间(例如，比流体回收口441靠外侧的空间)回收液体LQ及气体中的一方或两方的流体回收口。这样的流体回收口可以形成在第2部件42上，也可以设在与第1部件41及第2部件42不同的部件上。

上述的各种液浸部件(4A及4Aa至4Ae)还可以具有从空间SP2的外侧的空间(例如，比内侧面4121靠外侧的或比上表面4131靠上侧的空间)回收液体LQ及气体中的一方或两方的流体回收口。这样的流体回收口可以形成在第2部件(例如，上表面4131)上，也可以设在与第1部件41及第2部件42不同的部件上。

(1-4-6)第6变形例

参照图16说明第6变形例的液浸部件4Af。图16是表示第6变形例的液浸部件4Af的结构的剖视图。

如图16所示，在第6变形例中，第2部件42f的内侧面4212f相对于光轴AX倾斜。内侧面4212f从下表面4211的内侧端部朝向上侧且朝向内侧延伸。内侧面4212f从下表面4221的外侧端部朝向下侧且朝向外侧延伸。

在具有第6变形例的液浸部件4Af的曝光装置EX1中，也可良好地享有具有上述液浸部件4A的曝光装置EX1能够享有的各种效果。例如能够抑制曝光不良的产生。

在第6变形例中，与内侧面4212f平行于光轴AX的情况相比，基于内侧面4212f的移动产生的液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动相对减小。因此，例如，能够良好地抑制终端光学元件31从液浸空间LS内的液体LQ受到的压力的变动。其结果为，能够良好地抑制终端光学元件31的变动。

此外，基于内侧面4212f的移动产生的液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动随着内侧面4212f的投影面积(具体地说，相对于与第2部件42f的移动方向正交的面的投影面积)减小而变小。因此，内侧面4212f可以具有内侧面4212f的投影面积极小这样的形状。

在第6变形例中，与内侧面4212f平行于光轴AX的情况相比，界面LG1能够在第2部件42的下侧顺畅地移动。例如，在图16中，在界面LG1形成于内侧面4212f与衬底51之间的状态下，例如，即使在由于衬底51与第2部件42的相对移动而界面LG1向-X轴方向移动的情况下，界面LG1也能够不在下表面4211的内侧端部被抑制动作而从内侧面4121f向下表面4211顺畅地移动。在界面LG1从下表面4211向内侧面4121f移动的情况下也是同样的。因此，能够抑制空间SP1的液体LQ的一部分分离并向空间SP1的外侧的空间移动或残留。

内侧面4212f的整体也可以不相对于光轴AX倾斜。例如，内侧面4212f的一部分也可以与光轴AX平行。

内侧面4212f也可以包含以各自不同的倾斜角度(例如，相对于XY平面的倾斜角度或相对于光轴AX的倾斜角度)倾斜的多个倾斜面。例如，内侧面4212f也可以包含以第1倾斜角度倾斜的第1倾斜面、和以与第1倾斜角度不同的第2倾斜角度倾斜的第2倾斜面。

此外，在上述的各种液浸部件(4A及4Aa至4Ae)中，也可以采用倾斜的内侧面4212f。

(1-4-7)第7变形例

参照图17说明第7变形例的液浸部件4Ag。图17是表示第7变形例的液浸部件4Ag的结构的剖视图。

如图17所示，在第7变形例中，第2部件42g的内侧面4212g与第6变形例的内侧面4212f同样地，相对于光轴AX倾斜。而且，在第7变形例中，内侧面4212g与下表面4211连接的部分及内侧面4212g与下表面4221连接的部分中的两方或一方是曲面。

在具有第7变形例的液浸部件4Ag的曝光装置EX1中，也可享有具有上述液浸部件4A的曝光装置EX1能够享有的各种效果。例如能够抑制曝光不良的产生。

在第7变形例中，与内侧面4212g平行于光轴AX的情况相比，基于内侧面4212g的移动产生的液浸空间LS内的液体LQ的压力变动也相对减小。

另外，在第7变形例中，界面LG1能够在第2部件42g的下侧更顺畅地移动。即，即使在从界面LG1形成于下表面4211与衬底51之间的状态及界面LG形成于内侧面4121g与衬底51之间的状态中的一个状态向另一个状态转变的情况下，界面LG也能够顺畅地移动。因此，能够抑制空间SP1的液体LQ的一部分分离并向空间SP1的外侧的空间移动或残留。

此外，在上述的各种液浸部件(4A及4Aa至4Ae)中，也能够采用倾斜的内侧面4212g，并且内侧面4212g与下表面4212及下表面4222连接的部分中的两方或一方是曲面。

此外，不限于内侧面4212g，上述的各面的端部或上述的各面相互连接的部分也可以是曲面。

(1-4-8)第8变形例

参照图18说明第8变形例的液浸部件4Ah。图18是表示第8变形例的液浸部件4Ah的结构的剖视图。

如图18所示，在第8变形例中，第2部件42h的内侧面4212h相对于光轴AX倾斜。而且在第8变形例中，内侧面4212h从下表面4211的内侧端部朝向上侧且朝向外侧延伸。内侧面4212h从下表面4221的外侧端部朝向下侧且朝向内侧延伸。

在具有第8变形例的液浸部件4Ah的曝光装置EX1中，也可享有具有上述液浸部件4A的曝光装置EX1能够享有的各种效果。例如能够抑制曝光不良的产生。

在第8变形例中，与内侧面4212h平行于光轴AX的情况相比，由于内侧面4212h的移动而推分出的液体LQ难以朝向衬底51。因此，能够抑制因基于内侧面4212h的移动产生的液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动而引起的、衬底51的变动。另外，基于内侧面4212h的移动产生的液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动更进一步难以传递到终端光学元件31。

此外，内侧面4212h的整体也可以不相对于光轴AX倾斜。例如，内侧面4212h的一部分也可以与光轴AX平行。

内侧面4212h也可以包含以各自不同的倾斜角度倾斜的多个倾斜面。例如，内侧面4212h也可以包含以第1倾斜角度倾斜的第1倾斜面、和以与第1倾斜角度不同的第2倾斜角度倾斜的第2倾斜面。

此外，在上述的各种液浸部件(4A及4Aa至4Ae)中，也可以采用倾斜的内侧面4212h。

(1-4-9)第9变形例

参照图19说明第9变形例的液浸部件4Ai。图19是表示第9变形例的液浸部件4Ai的结构的剖视图。

如图19所示，在第9变形例中，第1部件41i的外侧面4113i相对于光轴AX倾斜。在第9变形例中，外侧面4113i从下表面4111的外侧端部朝向上侧且朝向内侧延伸。外侧面4113i从上表面4112的外侧端部朝向下侧且朝向外侧延伸。

在具有第9变形例的液浸部件4Ai的曝光装置EX1中，也可享有具有上述液浸部件4A的曝光装置EX1能够享有的各种效果。例如能够抑制曝光不良的产生。

在第9变形例中，与外侧面4113i平行于光轴AX的情况相比，液体LQ容易朝向空间SP3。另外，与外侧面4113i平行于光轴AX的情况相比，基于内侧面4212的移动产生的液浸空间LS内的液体LQ的压力难以变动。因此，能够抑制因液体LQ的压力变动引起的影响(终端光学元件31的变动、衬底51的变动等)。

此外，外侧面4113i也可以从下表面4111的外侧端部朝向上侧且朝向外侧延伸。即，外侧面4113i也可以从上表面4112的外侧端部朝向下侧且朝向内侧延伸。

另外，外侧面4113i的整体也可以不相对于光轴AX倾斜。外侧面4113i的一部分也可以与光轴AX平行。

另外，外侧面4113i也可以包含以各自不同的倾斜角度倾斜的多个倾斜面。例如，外侧面4113i可以包含以第1倾斜角度倾斜的第1倾斜面、和以与第1倾斜角度不同的第2倾斜角度朝向外侧并向下方倾斜的第2倾斜面。例如，可以是以第1倾斜面从下表面4111的外侧端部朝向上侧且朝向外侧延伸、第2倾斜面从上表面4112的外侧端部朝向下侧且朝向外侧延伸的方式倾斜。该情况下，第1倾斜面的外侧端部与第2倾斜面的外侧端部可以一致。

另外，上述的各种液浸部件(4A及4Aa至4Ai)也可以不具有外侧面。例如，从下表面4111的外侧端部朝向外侧面4122的下侧端部延伸的面可以定义成上表面4112。

(1-4-10)第10变形例

参照图20说明第10变形例的液浸部件4Aj。图20是表示第10变形例的液浸部件4Aj的结构的剖视图。

如图20所示，在第10变形例中，下表面4211的从衬底51的高度与下表面4221的从衬底51的高度相同。在第10变形例中，第2部件42j不具有内侧面4212。

在具有第10变形例的液浸部件4Aj的曝光装置EX1中，也可良好地享有具有上述液浸部件4A的曝光装置EX1能够享有的各种效果。例如能够抑制曝光不良的产生。

在第10变形例中，与第2部件42j具有内侧面4212的情况相比，基于第2部件42j的移动产生的液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动相对减小。因此，能够良好地抑制终端光学元件31从液浸空间LS内的液体LQ受到的压力的变动。其结果为，能够良好地抑制因液体LQ的压力变动引起的影响(终端光学元件31的变动、衬底51的变动等)。

(1-4-11)第11变形例

参照图21说明第11变形例的液浸部件4Ak。图21是表示第11变形例的液浸部件4Ak的结构的剖视图。

如图21所示，在第11变形例中，下表面4211的从衬底51的高度大于下表面4221的从衬底51的高度。

在具有第11变形例的液浸部件4Ak的曝光装置EX1中，也可良好地享有具有上述液浸部件4A的曝光装置EX1能够享有的各种效果。例如能够抑制曝光不良的产生。

(1-4-12)第12变形例

参照图22说明第12变形例的液浸部件4Al。图22是表示第12变形例的液浸部件4Al的结构的剖视图。

如图22所示，在第12变形例中，下表面4211的从衬底51的高度大于下表面4111的从衬底51的高度。

在具有第12变形例的液浸部件4Al的曝光装置EX1中，也可良好地享有具有上述液浸部件4A的曝光装置EX1能够享有的各种效果。例如能够抑制曝光不良的产生。

在第12变形例中，与下表面4211的从衬底51的高度不大于下表面4111的从衬底51的高度的情况相比，能够抑制基于第2部件42的移动产生的液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动。因此，能够抑制因液体LQ的压力的变动引起的影响(终端光学元件31的变动、衬底51的变动等)。

(1-4-13)第13变形例

参照图23说明第13变形例的液浸部件4Am。图23是表示第13变形例的液浸部件4Am的结构的剖视图。

如图23所示，在第13变形例中，下表面4211的从衬底51的高度大于上表面4112的从衬底51的高度。

在具有第13变形例的液浸部件4Am的曝光装置EX1中，也可良好地享有具有上述液浸部件4A的曝光装置EX1能够享有的各种效果。例如能够抑制曝光不良的产生。

在第13变形例中，与下表面4211的从衬底51的高度不大于上表面4112的从衬底51的高度的情况相比，能够抑制基于第2部件42的移动产生的液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动。因此，能够抑制因液体LQ的压力的变动引起的影响(终端光学元件31的变动、衬底51的变动等)。

此外，与第10变形例的液浸部件4Aj至第13变形例的液浸部件4Am不同，在上述的各种液浸部件(4A及4Aa至4Ai)中，下表面4211的从衬底51的高度小于下表面4221的从衬底51的高度。其结果为，在上述的各种液浸部件(4A及4Aa至4Ah)中，容易形成稳定的界面LG1，能够抑制液体LQ从空间SP1流出。因此，在第1实施方式中，也可以在考虑了形成稳定的界面LG1的效果和液浸空间LS内的液体LQ的压力变动的效果这两方的基础上，将下表面4211的从衬底51的高度设定为适当的高度。

另外，在上述的各种液浸部件(4A及4Aa至4Am)中，也可以在流体回收口441的外侧设置供给气体的气体供给口。这样的气体供给口可以设在例如第2部件42等上，也可以设在与第1部件41等及第2部件42等不同的部件上。另外，供给的气体可以与液浸空间LS的周围空间的气体实质上相同，也可以不同。例如，供给的气体可以是空气、氮气或二氧化碳。从气体供给口进行的气体供给可以以抑制液体LQ从空间SP1流出(维持界面LG1)为目的而进行，也可以为了实现其他目的进行，还可以为了实现抑制流出的目的和其他目的这两方而进行。例如，可以通过在流体回收口441的外侧供给二氧化碳，而抑制了液体LQ的流出，并且抑制了液浸空间LS的液体LQ中的气泡的产生。

(2)第2实施方式

接下来，说明第2实施方式的曝光装置EX2。此外，第2实施方式的曝光装置EX2与第1实施方式的曝光装置EX1相比，在液浸部件4B所具有的结构要素的一部分与第1实施方式的液浸部件4A所具有的结构要素的一部分不同的方面上有所不同。第2实施方式的曝光装置EX2所具有的其他结构要素可以与第1实施方式的曝光装置EX1所具有的其他结构要素相同。因此，以下，参照图24，着眼于第2实施方式的液浸部件4B中的与第1实施方式的液浸部件4A不同的结构要素进行说明。图24是第2实施方式的曝光装置EX2所具有的液浸部件4B的剖视图(与XZ平面平行的剖视图)。此外，对与第1实施方式的曝光装置EX1所具有的结构要素相同的结构要素，标注相同的附图标记，从而省略其详细的说明。

如图24所示，液浸部件4B与液浸部件4A同样地，在能够在终端光学元件31的下侧移动的物体上形成液浸空间LS。液浸部件4B具有第1部件41B和第2部件42B。以下，按顺序说明第1部件41B及第2部件42B。

首先，说明第1部件41B。此外，以下，着眼于第2实施方式的第1部件41B的结构要素中的与第1实施方式的第1部件41的结构要素不同的部分进行说明。因此，对于第2实施方式的第1部件41B的结构要素中的以下没有附注特别说明的结构要素，可以与第1实施方式的第1部件41的结构要素相同。

在第2实施方式中，第1部件41B可以不配置在第2部件42B的一部分的下侧。也就是说，第1部件41B配置在第2部件42B的上侧。因此，在第1部件41B与衬底51之间配置有第2部件42B的一部分。

第1部件41B具有内侧面4121B、外侧面4122B和下表面4111B。

内侧面4121B与上述的内侧面4121同样地，是朝向内侧的面且隔着空间SP2与外表面33的一部分相对。

外侧面4122B与上述的外侧面4122同样地，是朝向外侧的面且不与外表面33相对。外侧面4122B是从下表面4112B的外侧端部朝向上侧延伸的面，在该方面上与外侧面4122不同。此外，外侧面4122B的其他特征可以与上述的外侧面4122的特征相同。

下表面4111B与上述的下表面4111同样地，是朝向下侧的面。下表面4111B可以不隔着空间SP1与衬底51相对，在该方面上与下表面4111不同。下表面4111B隔着空间SP3与第2部件42B的一部分(例如，后述的上表面4231B的一部分)相对，在该方面上与下表面4111不同。此外，下表面4111B的其他特征可以与上述的下表面4111的特征相同。

接下来，说明第2部件42B。此外，以下，着眼于第2实施方式的第2部件42B的结构要素中的与第1实施方式的第2部件42的结构要素不同的部分进行说明。因此，对于第2实施方式的第2部件42B的结构要素中的以下没有附注特别说明的结构要素，可以与第1实施方式的第1部件41的结构要素相同。

在第2实施方式中，第2部件42B可以不配置在第1部件41B的一部分的上侧。也就是说，第2部件42B配置在第1部件41B的下侧。

第2部件42B具有上表面4231B、下表面4211B、内侧面4222B和内侧面4232B。

上表面4231B是朝向上侧的平面。上表面4231B与下表面4211B相比配置在上侧。上表面4231B与内侧面4222B相比配置在内侧。上表面4231B与内侧面4232B相比配置在外侧。上表面4231B与射出面32相比配置在下侧。上表面4231是与XY平面平行的平面。上表面4231B相对于液体LQ具有疏液性。

上表面4231B与第1部件41B相比配置在下侧。上表面4231B的一部分隔着空间SP3与下表面4111B的一部分相对。上表面4231B与下表面4111B之间的空间SP3的高度可以小于光路空间SPK的高度。

下表面4211B与上述的下表面4211同样地，是朝向下侧的平面。下表面4211B在其一部分配置于下表面4111B的下侧的方面上，与下表面4211不同。下表面4211B在其至少一部分可以与第1部件41B的至少一部分(例如，下表面4111B)相比不配置在外侧的方面上，与下表面4211不同。此外，下表面4211B的其他特征可以与上述的下表面4211的特征相同。

内侧面4222B与内侧面4222同样地，是朝向内侧的平面且与外侧面4122B的一部分相对。内侧面4222B从上表面4231B的外侧端部向上侧延伸，在该方面上与内侧面4222不同。此外，内侧面4222B的其他特征可以与上述的内侧面4222的特征相同。

内侧面4232B是朝向内侧的平面。内侧面4232B将上表面4231B的内侧端部和下表面4211B的内侧端部相连。因此，内侧面4232B的上侧端部与上表面4231B的内侧端部一致。内侧面4232B的下侧端部与下表面4211B的内侧端部一致。内侧面4232B与光轴AX平行。

第2部件42B具有能够供来自射出面32的曝光用光EL通过的圆形的开口425B。开口425B没有在开口425B的内侧配置第1部件41B，在该方面上与上述的开口425不同。此外，开口425B的其他特征可以与上述的开口425的特征相同。

液浸部件4B还与液浸部件4同样地，具有液体供给口431、流体回收口441和流体回收口442。此外，在第2实施方式中，流体回收口442不是形成于第2部件42B而是形成于第1部件41B。

第2实施方式的液浸部件4B还具有配置于第2部件42B的开口425B上的第3部件49B。

第3部件49B配置于开口425B的内部。该情况下，第3部件49B可以以与第2部件42B一体化的方式配置于开口425B。例如，第3部件49B可以以通过埋入或嵌入开口425B而与第2部件42B一体化的方式，配置于开口425B。此外，在此所述的“第2部件42B与第3部件49B一体化”的状态可以是指伴随着第2部件42B的移动而第3部件49B也与第2部件42B同样地移动的状态。

第3部件49B是能够供曝光用光EL通过的部件。第3部件49B是能够使可对衬底51进行曝光的程度量的曝光用光EL通过的部件。例如，第3部件49B可以是曝光用光EL的透过率为规定值(例如，80％、90％或100％或其他任意值)的部件。

第3部件49B是构成投影光学系统3的至少一部分的光学元件。例如，第3部件49B可以是与终端光学元件31一起构成投影光学系统3的光学元件。例如，第3部件49B可以是构成终端光学元件31的至少一部分的光学元件。但是，第3部件49B也可以不是构成投影光学系统3的至少一部分的光学元件。

在第3部件49B是构成投影光学系统3的至少一部分的光学元件的情况下，第3部件49B的倾角(也就是说，倾斜(tilt)方向的倾角，例如，沿着θX方向及θY方向中的两方或一方的倾角)很可能导致投影于衬底51的器件图案的像的像位移。因此，在第2实施方式中，第3部件49B可以以调整倾斜方向的倾角的方式移动。例如第3部件49B可以沿着θX方向及θY方向中的两方或一方移动。

在第3部件49B与第2部件42B一体化的情况下，通过第2部件42B的移动，第3部件49B也移动。因此，第2部件42B可以以调整第3部件49B的倾斜方向的倾角的方式移动。例如，可以以调整第3部件49B的倾斜方向的倾角的方式，第2部件42B沿着θX方向及θY方向中的两方或一方移动。

第3部件49B的形状是平板状或片状的形状。XY平面上的第3部件49B的形状与XY平面上的开口425B的形状相同。XY平面上的第3部件49B的外缘与XY平面上的开口425B的外缘一致。第3部件49B的厚度与第2部件42B的厚度相同。例如，第3部件49B的厚度与上表面4231B和下表面4211B之间的Z方向上的长度相同。

第3部件49B具有上表面491B、下表面492B和外侧面493B。

上表面491B是朝向上侧的平面。上表面491B是与XY平面平行的平面。上表面491B与下表面492B及外侧面493B中的两方或一方相比配置在上侧。上表面491B的从衬底51的高度与上表面4231B的从衬底51的高度相同。也就是说，上表面491B与上表面4231B配置在同一平面上。该情况下，上表面491B的外侧端部与上表面4231B的内侧端部及内侧面4232B的上侧端部中的两方或一方一致。

下表面492B是朝向下侧的平面。下表面492B是与XY平面平行的平面。下表面492的从衬底51的高度与下表面4211B的从衬底51的高度相同。也就是说，下表面492B与下表面4211B配置在同一平面上。该情况下，下表面492B的外侧端部可以与下表面4211B的内侧端部及内侧面4232B的下侧端部中的两方或一方一致。

外侧面493B是朝向外侧的平面。外侧面493B是与光轴AX平行的平面。外侧面493是将上表面491B的外侧端部与下表面492B的外侧端部相连的面。因此，外侧面493B的上侧端部与上表面491B的外侧端部一致。例如，外侧面493B的下侧端部与下表面492B的外侧端部一致。外侧面493B的Z方向上的长度与第2部件42B的内侧面4232B的Z方向上的长度相同。外侧面493B可以与内侧面4232B接触或密接。

第2部件42B还具有用于将空间SP2及空间SP3中的两方或一方与空间SP1连结的一个或多个连结孔476B。一个或多个连结孔476B分别是从上表面4231B朝向下表面4211B或从下表面4211B朝向上表面4231B将第2部件42B贯穿的孔。一个或多个连结孔476B分别与流体回收口441及流体回收口442中的两方或一方相比配置在内侧。

空间SP2及空间SP3中的两方或一方内的液体LQ可以经由至少一个连结孔476B而流入到空间SP1。空间SP1内的液体LQ可以经由至少一个连结孔476B流入到空间SP2及空间SP3中的两方或一方。因此，一个或多个连结孔476B各自的内部可以构成液浸空间LS的至少一部分。

根据以上说明的第2实施方式的液浸部件4B，在开口425B上配置有第3部件49B，因此内侧面4232B几乎或完全不会伴随着第2部件42B的移动而以将液浸空间LS内的液体LQ推分出的方式移动。因此，在第2实施方式中，与在开口425B上没有配置第3部件49B的情况相比，难以产生伴随着第2部件42B的移动产生的液浸空间LS内的液体LQ的压力的变动。因此，能够良好地抑制终端光学元件31从液浸空间LS内的液体LQ受到的压力的变动。其结果为，能够良好地抑制终端光学元件31的变动。

此外，图24所示的液浸部件4B的结构仅为一例。例如，液浸部件只要至少具有固定的第1部件和具有开口且能够移动的第2部件即可。在这样的液浸部件中，只要在开口配置有第3部件，就能够相应地享有上述的各种效果。

第2部件42B也可以不具有开口425B。该情况下，第2部件42B的一部分可以是能够供曝光用光EL通过的部件(即如上述第3部件49B那样的部件)。例如，第2部件42B中的与开口425B相当的部分(即用于使曝光用光EL通过的部分)可以是能够供曝光用光EL通过的部件。第2部件42B的整体也可以是能够供曝光用光EL通过的部件。能够供曝光用光EL通过的部件可以具有与上述的第3部件49B相同的特征。该情况下，与第2部件42B具有没有配置第3部件49B的开口425B的情况相比，也能够良好地抑制终端光学元件31的变动。

用于使第2部件42B移动的结构要素(例如，驱动装置451、支承部件452及支承部件453)的至少一部分可以经由沿Z方向将第1部件41B贯穿的贯穿孔而与第2部件42B连结。例如可以是，一端与第2部件42B连结的支承部件452的至少一部分经由沿着Z方向将第1部件41B贯穿的贯穿孔而与第2部件42B连结。

第2部件42B也可以不具有流体回收口441。该情况下，形成于第1部件41B的流体回收口442可以与第2部件42B的外侧端部相比配置在外侧，并且从空间SP1及空间PS3这两方回收液体LQ。

第1部件41B也可以在流体回收口442的基础上或取而代之，而具有向空间SP3供给气体的进气口。进气口可以供给用于形成防止液体LQ向该进气口的外侧溅出的风帘(aircurtain)的气体。也可以取代第1部件41B而第2部件42B具有这样的进气口。

第2部件42B也可以在流体回收口441的基础上或取而代之，而具有向空间SP1供给气体的进气口。进气口可以供给用于形成防止液体LQ向该进气口的外侧溅出的风帘的气体。

上表面4231B的至少一部分也可以相对于XY平面倾斜。上表面4231B的至少一部分也可以是曲面。上表面4231B的至少一部分也可以相对于液体LQ具有亲液性。

内侧面4232B的至少一部分也可以相对于光轴AX倾斜。内侧面4232B的至少一部分也可以是曲面。上表面4231B的至少一部分也可以相对于液体LQ具有亲液性。

开口425B的直径可以大于开口415的直径。该情况下，内侧面4232B的上侧端部及下侧端部中的两方或一方与内侧面4121B的下侧端部相比配置在外侧。开口425B的直径也可以小于开口415的直径。该情况下，内侧面4232B的上侧端部及下侧端部中的两方或一方与内侧面4121B的下侧端部相别配置在内侧。开口425B的直径也可以与开口415的直径相同。该情况下，内侧面4232B的上侧端部及下侧端部中的两方或一方沿着与光轴AX平行的方向，配置在与内侧面4121B的下侧端部相同的位置。

第3部件49B的至少一部分也可以配置在开口425B的外部。第3部件49B也可以不与第2部件42B一体化。

第3部件49B的形状也可以是与平板状或片状的形状不同的形状。XY平面上的第3部件49B的形状也可以不与XY平面上的开口425B的形状相同。XY平面上的第3部件49B的外缘的至少一部分也可以不与XY平面上的开口425B的外缘的至少一部分一致。第3部件49B的至少一部分的厚度也可以小于第2部件42B的厚度。第3部件49B的至少一部分的厚度也可以大于第2部件42B的厚度。

上表面491B的至少一部分也可以相对于XY平面倾斜。上表面491B的至少一部分也可以是曲面。上表面491B的从衬底51的高度也可以大于上表面4231B的从衬底51的高度。上表面491B的从衬底51的高度也可以小于上表面4231B的从衬底51的高度。

下表面492B的至少一部分也可以相对于XY平面倾斜。下表面492B的至少一部分也可以是曲面。下表面492B的从衬底51的高度也可以大于下表面4211B的从衬底51的高度。下表面492B的从衬底51的高度也可以小于下表面4211B的从衬底51的高度。

外侧面493B的Z方向上的长度也可以小于内侧面4232B的Z方向上的长度。外侧面493B的Z方向上的长度也可以大于内侧面4232B的Z方向上的长度。外侧面493B的至少一部分也可以不与内侧面4232B接触或密接。

一个或多个连结孔476B中的至少一部分也可以与流体回收口441及流体回收口442中的两方或一方相比配置在外侧。一个或多个连结孔476B中的至少一部分也可以沿着与光轴AX平行的方向，配置在与流体回收口441及流体回收口442中的两方或一方相同的位置。

此外，在上述的第1实施方式至第2实施方式中，控制器91可以包含具有CPU等的计算机系统。控制器91可以包含用于计算机系统与外部装置之间的通信的接口。在控制器91上可以连接有能够输入输入信号的输入装置。输入装置可以包含具有例如键盘、鼠标及触摸面板等中的至少一个的输入设备等。输入装置可以包含例如能够从外部装置输入数据的通信装置等。在控制器91上可以连接有液晶显示器等显示装置。

存储器92可以包含具有例如RAM(Random Access Memory)、硬盘及CD-ROM等中的至少一个的存储介质。在存储器92中可以安装有用于控制计算机系统的OS(操作系统)。在存储器92中可以存储有用于控制曝光装置EX1(EX2，以下相同)的程序。在存储器92中可以存储有用于为了使用经由充满光路AT的液体LQ投影的曝光用光EL对衬底51进行曝光而控制曝光装置EX1的程序。

存储在存储器92中的程序可以由控制器91读取并执行。其结果为，液浸部件4A(4B)、衬底载台5及计测载台6等的曝光装置EX1所具有的各种结构要素协同动作，进行在形成了液浸空间LS的状态下对衬底51进行曝光的曝光处理等各种处理。

在上述的说明中，例示了终端光学元件31的射出面32侧(即像面侧)的光路AT被液体LQ充满的投影光学系统3。但是，也可以使用终端光学元件31的入射侧(即物体面侧)的光路AT被液体LQ充满的投影光学系统。关于终端光学元件31的入射侧的光路被液体LQ充满的投影光学系统的一例，在例如国际公开第2004/019128号小册子中有所公开。

在上述的说明中，例示了液体LQ为水(例如，纯水)的例子。但是，液体LQ也可以是水以外的液体。液体LQ可以相对于曝光用光EL具有透过性。液体LQ可以相对于曝光用光EL具有高折射率。液体LQ可以具有相对于投影光学系统3或形成衬底51的表面的感光材料(即光致抗蚀剂)等稳定的特性。作为这样的液体LQ的一例，可列举例如氟类液体(例如，氢氟醚(HFE)，过氟聚醚(PFPE)或Fomblin Oil等)。液体LQ可以是各种流体(例如，超临界流体)。

在上述的说明中，例示了衬底51包含半导体器件制造用的半导体晶片的例子。但是，衬底51也可以包含显示器件用的玻璃衬底。衬底51也可以包含薄膜磁头用的陶瓷晶片。衬底51也可以包含曝光装置中使用的光罩或标线片的原版(例如，合成石英或硅晶片)。

在上述的说明中，例示了曝光装置EX1是通过使光罩11和衬底51移动而对形成于光罩11的器件图案进行扫描曝光的步进扫描方式的扫描型曝光装置(所谓的扫描步进机)的例子。但是，曝光装置EX1也可以是在使光罩11和衬底51静止的状态下对形成于光罩11的器件图案一并曝光，并且在该一并曝光每次结束时使衬底51步进移动的步进重复方式的投影曝光装置(所谓的步进机)。步进重复方式的投影曝光装置可以是在使第1光罩11和衬底51大致静止的状态下将形成于第1光罩11的第1器件图案的缩小像曝光于衬底51之后，在使第2光罩11和衬底51大致静止的状态下将形成于第2光罩11的第2器件图案的缩小像与第1器件图案的缩小像重叠地曝光到衬底51的曝光装置(所谓的拼接方式的曝光装置)。拼接方式的曝光装置也可以是在衬底51上对两个以上的器件图案部分重叠地进行曝光，并且使衬底51依次移动的步进拼接方式的曝光装置。

曝光装置EX1也可以是经由投影光学系统3将两个光罩11的器件图案在衬底51上合成，并且通过一次扫描曝光对衬底51上的照射区域S几乎同时地进行双重曝光的曝光装置。这样的曝光装置的一例在例如美国专利第6,611,316号中有所公开。曝光装置EX1也可以是接近方式的曝光装置。曝光装置EX1也可以是镜投影对准器等。

曝光装置EX1也可以是具有多个衬底载台5的双载台型或多载台的曝光装置。双载台型的曝光装置的一例在例如美国专利第6,341,007号、美国专利第6,208,407号及美国专利第6,262,796号中有所公开。例如，如图25所示，在曝光装置EX1具有两个衬底载台5A及5B的情况下，以与终端光学元件31的射出面32相对的方式配置的物体可以是一方的衬底载台5A、保持于该一方的衬底载台5A的衬底51A、另一方的衬底载台5B及保持于该另一方的衬底载台5B的衬底51B中的至少一个。

曝光装置EX1也可以是具有多个衬底载台5及计测载台6的双载台型或多载台型的曝光装置。

曝光装置EX1也可以是将半导体元件图案曝光到衬底51的半导体元件制造用的曝光装置。曝光装置EX1也可以是液晶显示元件制造用或显示器制造用的曝光装置。曝光装置EX1还可以是用于制造薄膜磁头、摄像元件(例如，CCD)、微机械、MEMS、DNA芯片及光罩11(或标线片)中的至少一个的曝光装置。

在上述的说明中，例示了光罩11是在光透过性的透明板上形成有规定的遮光图案(或者，移动图案或减光图案)的透过型光罩的例子。但是，光罩11也可以是基于应曝光的器件图案的电子数据来形成透过图案、反射图案或发光图案的可变成形光罩(所谓的电子光罩、主动光罩或图像生成器)。可变成形光罩的一例在美国专利第6,778,257号中有所公开。光罩11也可以取代具有非发光型图像显示元件的可变成形光罩而是具有自发光型图像显示元件的图案形成装置。

在上述的说明中，例示了具有投影光学系统3的曝光装置EX1。但是，对于不具有投影光学系统3的曝光装置及曝光方法，也可以适用上述的各种实施方式。例如，也可以对于在透镜等光学部件与衬底之间形成液浸空间并以经由光学部件投影的曝光用光对衬底进行曝光的曝光装置及曝光方法，适用上述的各种实施方式。

曝光装置EX1可以是通过在衬底51形成干涉条纹来将线与空间图案曝光到衬底51上的曝光装置(所谓的光刻系统)。这样的曝光装置的一例在例如国际公开第2001/035168号小册子中有所公开。

上述的曝光装置EX1可以通过以确保规定的机械精度、电气精度及光学精度的方式组装包含上述的各种结构要素的各种子系统来制造。为了确保机械精度，也可以在组装前后，对各种机械系统进行用于达成机械精度的调整处理。为了确保电气精度，也可以在组装前后，对各种电气系统进行用于达成电气精度的调整处理。为了确保光学精度，也可以在组装前后，对各种光学系统进行用于达成光学精度的调整处理。组装各种子系统的工序可以包含进行各种子系统之间的机械连接的工序。组装各种子系统的工序可以包含进行各种子系统之间的电气回路的布线连接的工序。组装各种子系统的工序可以包含进行各种子系统之间的气压回路的配管连接的工序。此外，在组装各种子系统的工序之前，进行各种子系统各自的组装工序。在组装各种子系统的工序结束之后，通过进行综合调整来确保作为曝光装置EX1整体的各种精度。此外，曝光装置EX1的制造可以在对温度及洁净度等进行了管理的洁净室中进行。

半导体器件等微器件可以经由图26所示的各步骤而制造。用于制造微器件的步骤可以包括：进行微器件的功能及性能设计的步骤S201、基于功能及性能设计来制造光罩(标线片)11的步骤S202、制造作为器件基材的衬底51的步骤S203、根据上述实施方式以来自光罩11的器件图案的曝光用光EL对衬底51进行曝光且将曝光后的衬底51显影的步骤S204、包含器件组装处理(切割处理、接合处理、封装处理等加工处理)的步骤S205及检查步骤S206。

上述的各实施方式的要件能够适当组合。也可以不使用上述的各实施方式的要件中的一部分。另外，只要法令允许，援引在上述的各实施方式中引用的涉及曝光装置等的全部公开公报及美国专利的公开并作为本文记载的一部分。

另外，本发明在不违反可从权利要求书及说明书整体读取的发明要旨或思想的范围内能够适当变更，伴随着这样的变更得到的液浸部件、曝光装置及曝光方法以及器件制造方法也包含于本发明的技术思想。

附图标记说明

1 光罩载台

2 照明系统

3 投影光学系统

31 终端光学元件

32 射出面

33 外表面

4A、4B 液浸部件

41、41B 第1部件

42、42B 第2部件

49B 第3部件

431、432 液体供给口

441、442 流体回收口

5 衬底载台

51 衬底

6 计测载台

7 计测系统

8 腔室装置

9 控制装置

91 控制器

AT、ATO、ATL 光路

AX 光轴

EL 曝光用光

EX1 曝光装置

LQ 液体

LS 液浸空间

Claims (51)

1.一种液浸部件，在曝光装置内形成供从光学部件射出的曝光用光通过的液浸空间，其特征在于，具有：

第1部件，其配置在所述光学部件的周围的至少一部分上、且包含与能够在所述光学部件的下方移动的物体相对的第1下表面；以及

能够移动的第2部件，其包含相对于所述光学部件的光轴位于所述第1下表面的外侧并且与所述物体相对的第2下表面、和相对于所述光轴位于所述第2下表面的内侧并且至少一部分位于所述第1下表面的至少一部分的上方的第3下表面，

在所述第2部件与所述光学部件之间配置有所述第1部件的一部分。

2.根据权利要求1所述的液浸部件，其特征在于，

具有形成在所述第2下表面的至少一部分上的第1液体供给口。

3.根据权利要求1所述的液浸部件，其特征在于，

具有形成在所述第2下表面的至少一部分上的第1液体回收口。

4.根据权利要求1所述的液浸部件，其特征在于，具有：

形成在所述第2下表面的至少一部分上的第1液体供给口；和

形成在所述第2下表面的至少一部分上且相对于所述光轴与所述1液体供给口相比形成在外侧的第1液体回收口。

5.根据权利要求1所述的液浸部件，其特征在于，

具有形成在所述第3下表面的至少一部分上的第2液体供给口。

6.根据权利要求1所述的液浸部件，其特征在于，

具有形成在所述第3下表面的至少一部分上的第2液体回收口。

7.根据权利要求1所述的液浸部件，其特征在于，具有：

形成在所述第3下表面的至少一部分上的第2液体供给口；和

形成在所述第3下表面的至少一部分上且相对于所述光轴与所述2液体供给口相比形成在内侧的第2液体回收口。

8.根据权利要求6所述的液浸部件，其特征在于，

所述第1部件的至少一部分隔着间隙与所述第3下表面的至少一部分相对，

所述第2液体回收口与所述第1部件的至少一部分和所述第3下表面之间的间隙的至少一部分相面对。

9.根据权利要求7所述的液浸部件，其特征在于，

所述第1部件的至少一部分隔着间隙与所述第3下表面的至少一部分相对，

所述第2液体回收口与所述第1部件的至少一部分和所述第3下表面之间的间隙的至少一部分相面对。

10.根据权利要求8所述的液浸部件，其特征在于，

所述第2部件以所述第2液体回收口与所述第1部件的至少一部分和所述第3下表面之间的间隙的至少一部分持续相面对的方式移动。

11.根据权利要求9所述的液浸部件，其特征在于，

所述第2部件以所述第2液体回收口与所述第1部件的至少一部分和所述第3下表面之间的间隙的至少一部分持续相面对的方式移动。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的液浸部件，其特征在于，

所述第2部件具有将所述第2下表面的内侧端部的至少一部分与所述第3下表面的外侧端部的至少一部分相连的第1内侧面。

13.根据权利要求12所述的液浸部件，其特征在于，

所述第1内侧面包含相对于所述光轴朝向外侧并向上方倾斜的面。

14.根据权利要求12所述的液浸部件，其特征在于，

所述第1内侧面包含相对于所述光轴朝向外侧并向下方倾斜的面。

15.根据权利要求12所述的液浸部件，其特征在于，

所述第1部件的至少一部分隔着间隙与所述第3下表面的至少一部分相对，

所述第1内侧面的至少一部分沿着所述第2部件的移动的方向，与所述第1部件的至少一部分和所述第3下表面之间的间隙的至少一部分相对。

16.根据权利要求15所述的液浸部件，其特征在于，

所述第1部件的至少一部分和所述第3下表面之间的间隙的在与所述光轴平行的方向上的长度比所述第1内侧面的在与所述光轴平行的方向上的长度长或与之相同。

17.根据权利要求12所述的液浸部件，其特征在于，

具有形成在所述第1内侧面的至少一部分上的第3液体供给口。

18.根据权利要求1至11中任一项所述的液浸部件，其特征在于，

所述第1部件具有与所述第1下表面的外侧端部的至少一部分相连的第1外侧面。

19.根据权利要求18所述的液浸部件，其特征在于，

所述第1外侧面包含相对于所述光轴朝向外侧并下方倾斜的面。

20.根据权利要求1至11中任一项所述的液浸部件，其特征在于，

所述第2下表面配置在与所述第3下表面相同的高度。

21.根据权利要求1至11中任一项所述的液浸部件，其特征在于，

所述第2下表面与所述第3下表面相比配置在下方。

22.根据权利要求1至11中任一项所述的液浸部件，其特征在于，

所述第2下表面与所述第3下表面相比配置在上方。

23.根据权利要求1至11中任一项所述的液浸部件，其特征在于，

所述第2下表面配置在与所述第1下表面相同的高度或与所述第1下表面相比配置在上方。

24.根据权利要求1至11中任一项所述的液浸部件，其特征在于，

所述第1部件具有至少一部分隔着间隙与所述第3下表面的至少一部分相对的第1上表面。

25.根据权利要求24所述的液浸部件，其特征在于，

所述第2下表面配置在与所述第1上表面相同的高度或与所述第1上表面相比配置在上方。

26.根据权利要求24所述的液浸部件，其特征在于，

所述第1部件具有与所述第1上表面的内侧端部的至少一部分相连的第2外侧面。

27.根据权利要求26所述的液浸部件，其特征在于，

所述第2部件的至少一部分位于由所述第2外侧面及所述第1上表面包围而成的空间。

28.根据权利要求1至11中任一项所述的液浸部件，其特征在于，

所述第1部件具有至少一部分与所述光学部件的至少一部分相对的第2内侧面。

29.根据权利要求28所述的液浸部件，其特征在于，

具有形成在所述第2内侧面的至少一部分上的第4液体供给口。

30.根据权利要求28所述的液浸部件，其特征在于，

具有形成在所述第2内侧面的至少一部分上的第3液体回收口。

31.根据权利要求1至11中任一项所述的液浸部件，其特征在于，

所述第2部件具有与所述第3下表面的内侧端部的至少一部分相连的第3内侧面。

32.根据权利要求1至11中任一项所述的液浸部件，其特征在于，

所述第1部件具有供曝光用光通过的第1开口。

33.根据权利要求1至11中任一项所述的液浸部件，其特征在于，

所述第1下表面与所述物体的上表面所相对的所述光学部件的端面相比配置在下方。

34.一种液浸部件，在曝光装置内形成供从光学部件射出的曝光用光通过的液浸空间，其特征在于，具有：

第1部件，其配置在所述光学部件的周围的至少一部分上；

能够移动的第2部件，其至少一部分位于所述第1部件的下方，且具有能够供所述曝光用光通过的第1开口；以及

第3部件，其配置在所述第1开口上，并且供所述曝光用光通过。

35.一种液浸部件，在曝光装置内形成供从光学部件射出的曝光用光通过的液浸空间，其特征在于，具有：

第1部件，其配置在所述光学部件的周围的至少一部分上；以及

能够移动的第2部件，其至少一部分位于所述第1部件的下方，

位于从所述光学部件射出的所述曝光用光的光路上的所述第2部件的至少一部分，是能够供所述曝光用光通过的第3部件。

36.根据权利要求34所述的液浸部件，其特征在于，

所述第2部件具有将所述第2部件与所述第1部件之间的空间、和所述第2部件与能够在所述第2部件的下方移动的物体之间的空间连结的连结孔，

液体能够从所述第2部件与所述第1部件之间的空间向所述第2部件与能够在所述第2部件的下方移动的物体之间的空间流入。

37.根据权利要求35所述的液浸部件，其特征在于，

所述第2部件具有将所述第2部件与所述第1部件之间的空间、和所述第2部件与能够在所述第2部件的下方移动的物体之间的空间连结的连结孔，

液体能够从所述第2部件与所述第1部件之间的空间向所述第2部件与能够在所述第2部件的下方移动的物体之间的空间流入。

38.根据权利要求36所述的液浸部件，其特征在于，

具有形成在所述第1部件的至少一部分上的第1液体回收口，

所述连结孔相对于所述光学部件的光轴与所述第1液体回收口相比位于内侧。

39.根据权利要求37所述的液浸部件，其特征在于，

具有形成在所述第1部件的至少一部分上的第1液体回收口，

所述连结孔相对于所述光学部件的光轴与所述第1液体回收口相比位于内侧。

40.根据权利要求36所述的液浸部件，其特征在于，

具有形成在所述第2部件的至少一部分上的第2液体回收口，

所述连结孔相对于所述光学部件的光轴与所述第2液体回收口相比位于内侧。

41.根据权利要求37所述的液浸部件，其特征在于，

具有形成在所述第2部件的至少一部分上的第2液体回收口，

所述连结孔相对于所述光学部件的光轴与所述第2液体回收口相比位于内侧。

42.一种曝光装置，使用经由液浸空间而投影的曝光用光对衬底进行曝光，其特征在于，

使用权利要求1至11及34至41中任一项所述的液浸部件来形成所述液浸空间。

43.根据权利要求42所述的曝光装置，其特征在于，

以与所述物体之间的相对速度及相对加速度中的两方或一方减小的方式使所述第2部件移动。

44.根据权利要求42所述的曝光装置，其特征在于，

以所述第2部件与所述物体之间的相对速度小于所述第1部件与所述物体之间的相对速度的方式使所述第2部件移动。

45.根据权利要求42所述的曝光装置，其特征在于，

以所述第2部件与所述物体之间的相对加速度小于所述第1部件与所述物体之间的相对加速度的方式使所述第2部件移动。

46.根据权利要求42所述的曝光装置，其特征在于，

使所述第2部件沿着与所述光学部件的光轴垂直的面内的平行于第1轴的第1方向、及与所述光学部件的光轴垂直的面内的平行于与所述第1轴相交的第2轴的第2方向分别移动。

47.根据权利要求46所述的曝光装置，其特征在于，

所述物体包含所述衬底，

所述衬底在第1路径上移动之后，在第2路径上移动，

所述第1路径上的所述衬底的移动包含沿着所述第1方向的移动，

所述第2路径上的所述衬底的移动包含沿着所述第2方向的移动，

所述第2部件在所述衬底在所述第1路径上移动的期间中的至少一部分中，至少沿着所述第1方向移动，

所述第2部件在所述衬底在所述第2路径上移动的期间中的至少一部分中，至少沿着所述第2方向移动。

48.根据权利要求42所述的曝光装置，其特征在于，

所述物体包含所述衬底，

所述衬底在沿着扫描方向移动之后，沿着步进方向移动，

所述第2部件在所述衬底沿着所述扫描方向移动的期间中的至少一部分中，至少沿着所述扫描方向移动，

所述第2部件在所述衬底沿着所述步进方向移动的期间中的至少一部分中，至少沿着所述步进方向移动。

49.一种曝光方法，使用经由液浸空间的液体而投影的曝光用光对衬底进行曝光，其特征在于，

使用权利要求1至11及34至41中任一项所述的液浸部件来形成所述液浸空间。

50.一种器件制造方法，其特征在于，包括：

使用权利要求42所述的曝光装置对衬底进行曝光，

对曝光后的所述衬底进行显影。

51.一种器件制造方法，其特征在于，包括：

使用权利要求49所述的曝光方法对衬底进行曝光，

对曝光后的所述衬底进行显影。