HK1218187B

HK1218187B - Exposure method and apparatus, and device manufacturing method

Info

Publication number: HK1218187B
Application number: HK16106141.7A
Authority: HK
Inventors: Yuichi Shibazaki
Original assignee: Nikon Corporation
Priority date: 2006-08-31
Filing date: 2016-05-31
Publication date: 2018-03-29

Claims

Appareil d'exposition (100) pour exposer un substrat (W) par le biais d'un système optique de projection (PL), l'appareil comprenant :
un système d'étage ayant un étage (WST) pour maintenir le substrat et un moteur (124), couplé à l'étage, pour entraîner l'étage dans un plan de mouvement ;

un système de codeur dans lequel l'une d'une section de grille (39Y₁, 39Y₂, 39X₁, 39X₂) et d'une pluralité de têtes (62A, 62B, 62C, 62D), chacune étant configurée pour irradier la section de grille avec un faisceau, est agencée au niveau de l'étage, et qui est configuré pour mesurer des informations de position de l'étage dans le plan de mouvement par une tête qui fait face à la section de grille de la pluralité de têtes ; et

un dispositif de commande (20) configuré pour commuter une tête utilisée dans la mesure des informations de position à une tête différente de la pluralité de têtes et pour déterminer les informations de position à mesurer par la tête différente sur la base des informations de position mesurées par la tête utilisée avant la commutation, durant l'entraînement de l'étage sur la base des informations de position mesurées, dans lequel

l'appareil est configuré de manière à ce qu'après la commutation, la mesure par la tête différente soit effectuée en utilisant les informations de position déterminées,

la section de grille comporte quatre échelles dans chacune desquelles une grille est formée,

l'appareil est configuré de manière à ce qu'avant la commutation, la mesure par les têtes qui font face à au moins trois des quatre échelles, respectivement, soit effectuée, et

l'appareil est configuré de manière à ce que sur la base des informations de position mesurées par les au moins trois têtes, les informations de position à mesurer par la tête différente qui est différente des au moins trois têtes soient déterminées.
Appareil d'exposition selon la revendication 1, dans lequel l'appareil est configuré de manière à ce que les informations de position à mesurer par la tête différente soient déterminées alors qu'une tête utilisée avant la commutation et une tête à utiliser après la commutation font face toutes deux à la section de grille.
Appareil d'exposition selon la revendication 1 ou 2, dans lequel l'appareil est configuré de manière à ce que les informations de position à mesurer par la tête différente soient déterminées lors de la commutation.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel l'appareil est configuré de manière à ce que la commutation soit effectuée alors qu'une tête utilisée avant la commutation et une tête à utiliser après la commutation font face toutes deux à la section de grille.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel l'appareil est configuré de manière à ce que la détermination et la commutation soient effectuées alors qu'une tête utilisée avant la commutation et la tête différente font face à la section de grille.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel l'appareil est configuré de manière à ce qu'alors que les au moins trois têtes et la tête différente font face à la section de grille, les informations de position à mesurer par la tête différente soient déterminées et l'une des au moins trois têtes soit commutée à la tête différente, et l'appareil est configuré de manière à ce qu'après la commutation, la mesure par au moins trois têtes comportant la tête différente qui font face à au moins trois des quatre échelles, respectivement, soit effectuée.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, comprenant en outre :
une unité de buse (32) agencée pour entourer une partie d'extrémité inférieure du système optique de projection et ayant un orifice de récupération sur un côté de surface inférieur face auquel l'étage est placé, dans lequel

l'appareil est configuré de manière à ce qu'une région d'immersion de liquide (14) puisse être formée sous le système optique de projection par un liquide délivré par le biais de l'unité de buse, et

le substrat peut être positionné face au système optique de projection par l'étage, et peut être exposé par le biais du système optique de projection et du liquide de la région d'immersion de liquide.
Appareil d'exposition selon la revendication 7, dans lequel l'autre de la section de grille et de la pluralité de têtes est agencée sur un côté extérieur de l'unité de buse par rapport au système optique de projection.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel le système de codeur est configuré pour mesurer des informations de position de l'étage au moins dans des directions de trois degrés de liberté (X, Y, θZ) comportant une direction parallèle à un plan prédéterminé orthogonal à un axe optique (AX) du système optique de projection, l'appareil est configuré de manière à ce qu'avant et après la commutation, la mesure par trois ou quatre têtes qui font face à la section de grille soit effectuée, et l'appareil est configuré de manière à ce que le nombre des têtes qui font face à la section de grille soit changé d'un de trois et quatre à l'autre de trois et quatre, durant l'entraînement de l'étage.
Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel le dispositif de commande est configuré pour commander l'entraînement de l'étage sur la base d'informations de correction utilisées pour compenser une erreur de mesure du système de codeur qui se produit à cause d'au moins une de la section de grille et de la tête.
Appareil d'exposition selon la revendication 10, dans lequel l'appareil est configuré de manière à ce qu'au moins une d'une erreur de mesure du système de codeur qui se produit à cause d'au moins un d'un déplacement et d'une propriété optique de la tête, d'une erreur de mesure du système de codeur qui se produit à cause d'au moins une d'une planéité et d'une erreur de formation de la section de grille, d'une erreur de mesure du système de codeur qui se produit à cause d'un déplacement de l'étage dans une direction différente de la direction parallèle au plan prédéterminé lors de la détermination, et d'une erreur de mesure du système de codeur qui se produit à cause d'une inclinaison et d'une rotation de l'étage soit compensée.
Appareil d'exposition selon la revendication 11, dans lequel la direction différente comporte au moins l'une d'une direction orthogonale au plan prédéterminé, d'une direction de rotation autour d'un axe orthogonal au plan prédéterminé et d'une direction de rotation autour d'un axe parallèle au plan prédéterminé.
Procédé d'exposition pour exposer un substrat (W) par le biais d'un système optique de projection (PL), le procédé comprenant :
la mesure d'informations de position dans un plan de mouvement d'un étage (WST) qui maintient le substrat par une tête (62A, 62B, 62C, 62D) qui fait face à une section de grille (39X₁, 39X₂ 39Y₁, 39Y₂), parmi une pluralité de têtes dans un système de codeur, une de la section de grille et de la pluralité de têtes étant agencée au niveau de l'étage, et la pluralité de têtes irradiant chacune la section de grille avec un faisceau ; et

la commutation d'une tête utilisée dans la mesure des informations de position à une tête différente, parmi la pluralité de têtes, durant l'entraînement de l'étage sur la base des informations de position mesurées, dans lequel

pour la commutation, les informations de position à mesurer par la tête différente sont déterminées sur la base des informations de position mesurées par la tête utilisée avant la commutation, et

après la commutation, la mesure par la tête différente est effectuée en utilisant les informations de position déterminées,

la section de grille comporte quatre échelles dans chacune desquelles une grille est formée,

avant la commutation, la mesure par les têtes qui font face à au moins trois des quatre échelles, respectivement, est effectuée, et

sur la base des informations de position mesurées par les au moins trois têtes, les informations de position à mesurer par la tête différente qui est différente des au moins trois têtes sont déterminées.
Procédé d'exposition selon la revendication 13, dans lequel les informations de position à mesurer par la tête différente sont déterminées alors qu'une tête utilisée avant la commutation et une tête à utiliser après la commutation font face toutes deux à la section de grille.
Procédé d'exposition selon la revendication 13 ou 14, dans lequel les informations de position à mesurer par la tête différente sont déterminées lors de la commutation.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 13 à 15, dans lequel la commutation est effectuée alors qu'une tête utilisée avant la commutation et une tête à utiliser après la commutation font face toutes deux à la section de grille.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 13 à 16, dans lequel la détermination et la commutation sont effectuées alors qu'une tête utilisée avant la commutation et la tête différente font face à la section de grille.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 13 à 17, dans lequel alors que les au moins trois têtes et la tête différente font face à la section de grille, les informations de position à mesurer par la tête différente sont déterminées et l'une des au moins trois têtes est commutée à la tête différente, et après la commutation, la mesure par au moins trois têtes comportant la tête différente qui font face à au moins trois des quatre échelles, respectivement, est effectuée.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 13 à 18, dans lequel le système de codeur mesure des informations de position de l'étage au moins dans des directions de trois degrés de liberté comportant une direction parallèle à un plan prédéterminé orthogonal à un axe optique du système optique de projection, avant et après la commutation, la mesure par trois ou quatre têtes qui font face à la section de grille est effectuée, et le nombre des têtes qui font face à la section de grille est changé d'un de trois et quatre à l'autre de trois et quatre, durant l'entraînement de l'étage.
Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 13 à 19, dans lequel l'entraînement de l'étage est commandé sur la base d'informations de correction utilisées pour compenser une erreur de mesure du système de codeur qui se produit à cause d'au moins une de la section de grille et de la tête.
Procédé d'exposition selon la revendication 20, dans lequel au moins une d'une erreur de mesure du système de codeur qui se produit à cause d'au moins un d'un déplacement et d'une propriété optique de la tête, d'une erreur de mesure du système de codeur qui se produit à cause d'au moins une d'une planéité et d'une erreur de formation de la section de grille, d'une erreur de mesure du système de codeur qui se produit à cause d'un déplacement de l'étage dans une direction différente de la direction parallèle au plan prédéterminé lors de la détermination, et d'une erreur de mesure du système de codeur qui se produit à cause d'une parmi une inclinaison et une rotation de l'étage est compensée.
Procédé d'exposition selon la revendication 21, dans lequel la direction différente comporte au moins l'une d'une direction orthogonale au plan prédéterminé, d'une direction de rotation autour d'un axe orthogonal au plan prédéterminé et d'une direction de rotation autour d'un axe parallèle au plan prédéterminé.
Procédé de fabrication de dispositif, comportant l'exposition d'un substrat en utilisant le procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 13 à 22; et le développement du substrat qui a été exposé.