HK1218187B

HK1218187B - Exposure method and apparatus, and device manufacturing method

Info

Publication number: HK1218187B
Application number: HK16106141.7A
Authority: HK
Inventors: Yuichi Shibazaki
Original assignee: Nikon Corporation
Priority date: 2006-08-31
Filing date: 2016-05-31
Publication date: 2018-03-29

Claims

Belichtungsvorrichtung (100) zum Belichten eines Substrats (W) durch ein optisches Projektionssystem (PL), wobei die Vorrichtung umfasst:
ein Objekttischsystem mit einem Objekttisch (WST) zum Halten des Substrats und einem mit dem Objekttisch verbundenen Motor (124) zum Verfahren des Objekttischs in einer Bewegungsebene;

ein Encodersystem in dem eines von einem Gitterabschnitt (39Y₁, 39Y₂, 39X₁, 39X₂) und eine Vielzahl von Köpfen (62A, 62B, 62C, 62D), die jeweils dafür eingerichtet sind, den Gitterabschnitt mit einem Strahl zu bestrahlen, an dem Objekttisch angeordnet sind und welches dafür eingerichtet ist, Positionsinformation des Objekttischs in der Bewegungsebene durch einen dem Gitterabschnitt zugewandten Kopf der Vielzahl von Köpfen zu messen; und

eine Steuereinrichtung (20), die dafür eingerichtet ist, einen Kopf, der bei der Messung der Positionsinformation verwendet wird, zu einem unterschiedlichen Kopf der Vielzahl von Köpfen umzuschalten und die Positionsinformation, die durch den unterschiedlichen Kopf zu messen ist, auf der Grundlage der Positionsinformation, die durch den vor dem Umschalten verwendeten Kopf gemessen worden ist, zu bestimmen, während des Verfahrens des Objekttischs auf der Grundlage der gemessenen Positionsinformation gemessen worden ist, wobei

die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass nach dem Umschalten die Messung durch den unterschiedlichen Kopf unter Verwendung der bestimmten Positionsinformation durchgeführt wird,

der Gitterabschnitt vier Skalen aufweist, in denen jeweils ein Gitter ausgebildet ist,

die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass vor dem Umschalten die Messung durch die Köpfe, die jeweils mindestens drei der vier Skalen zugewandt sind, durchgeführt wird, und

die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass auf der Grundlage der von den mindestens drei Köpfen gemessenen Positionsinformation die Positionsinformation bestimmt wird, die durch den unterschiedlichen Kopf, der sich von den mindestens drei Köpfen unterscheidet, zu messen ist.
Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass die Positionsinformation, die durch den unterschiedlichen Kopf zu messen ist, bestimmt wird, während ein Kopf, der vor dem Umschalten verwendet wird und ein Kopf, der nach dem Umschalten verwendet wird, beide dem Gitterabschnitt zugewandt sind.
Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass die Positionsinformation, die durch den unterschiedlichen Kopf zu messen ist, bei der Umschaltung bestimmt wird.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass die Umschaltung durchgeführt wird, während ein vor dem Umschalten verwendeter Kopf und ein Kopf, der nach dem Umschalten verwendet wird, dem Gitterabschnitt zugewandt sind.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass die Bestimmung und das Umschalten durchgeführt werden, während ein Kopf, der vor dem Umschalten verwendet wird und der unterschiedliche Kopf dem Gitterabschnitt zugewandt sind.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei der die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass während die mindestens drei Köpfe und der unterschiedliche Kopf dem Gitterabschnitt zugewandt sind, die Positionsinformation, die durch den unterschiedlichen Kopf zu messen ist, bestimmt wird und einer der mindestens drei Köpfe auf den unterschiedlichen Kopf umgeschaltet wird, und die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass nach dem Umschalten die Messung durch mindestens drei Köpfe, einschließlich des unterschiedlichen Kopfes, die mindestens drei der vier Skalen zugewandt sind, durchgeführt wird.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, ferner umfassend:
eine Düseneinheit (32), die einen unteren Endabschnitt des optischen Projektionssystems umgebend angeordnet ist und eine Rückgewinnungsöffnung an einer unteren Oberflächenseite, die dem Objekttisch zugewandt ist, aufweist, wobei

die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass ein flüssiger Immersionsbereich (14) unter dem optischen Projektionssystem durch eine Flüssigkeit, die über die Düseneinheit zugeführt wird, formbar ist, und

das Substrat dem optischen Projektionssystem durch den Objekttisch zugewandt anordbar ist und durch das optische Projektionssystem und die Flüssigkeit des flüssigen Immersionsbereichs belichtet werden kann.
Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 7, wobei der andere Teil des Gitterabschnitts und die Vielzahl von Köpfen auf einer Außenseite der Düseneinheit bezüglich des optischen Projektionssystems angeordnet sind.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei das Encodersystem dafür eingerichtet ist, Positionsinformation des Objekttischs mindestens in Richtungen von drei Freiheitsgraden (X, Y, θZ) einschließlich einer Richtung parallel zu einer vorbestimmten Ebene orthogonal zu einer optischen Achse (AX) des optischen Projektionssystems zu messen, die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass jeweils vor und nach dem Umschalten die Messung durch drei oder vier Köpfe, die dem Gitterabschnitt zugewandt sind, durchgeführt wird, und die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass die Anzahl der dem Gitterabschnitt zugewandten Köpfe von einem von drei und vier zum anderen von drei und vier während des Verfahrens des Objekttischs geändert wird.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei die Steuerung dafür eingerichtet ist, das Verfahren des Objekttischs zu steuern, auf Grundlage der Korrekturinformation, die verwendet wird um einen Messfehler des Encodersystems, der aufgrund des Gitterabschnitts und/oder des Kopfes auftritt, zu kompensieren.
Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 10, wobei die Vorrichtung derart eingerichtet ist, dass mindestens ein Messfehler des Encodersystems, der aufgrund einer Verschiebung und/oder einer optischen Eigenschaft des Kopfes auftritt, ein Messfehler des Encodersystems, der aufgrund von Ebenheit und/oder Formationsfehlers des Gitterabschnitts auftritt, ein Messfehler des Encodersystems, der aufgrund einer Verschiebung des Objekttischs in einer Richtung auftritt, die sich von der Richtung parallel zu der vorbestimmten Ebene bei der Bestimmung unterscheidet und/oder ein Messfehler des Encodersystems, der aufgrund einer Neigung und/oder einer Drehung des Objekttischs auftritt, kompensiert wird.
Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 11, wobei die unterschiedliche Richtung eine Richtung orthogonal zur vorbestimmten Ebene und/oder eine Drehrichtung um eine Achse orthogonal zur vorbestimmten Ebene und/oder eine Drehrichtung um eine Achse parallel zur vorbestimmten Ebene aufweist.
Belichtungsverfahren zum Belichten eines Substrats (W) durch ein optisches Projektionssystem (PL), wobei das Verfahren umfasst:
Messen von Positionsinformation in einer Bewegungsebene eines Objekttischs (WST), der das Substrat hält, durch einen Kopf (62A, 62B, 62C, 62D) einer Vielzahl von Köpfen in einem Encodersystem, welcher einem Gitterabschnitt (39Y₁, 39Y₂, 39X₁, 39X₂) zugewandt ist, wobei der Gitterabschnitt oder die Vielzahl von Köpfen am Objekttisch angeordnet sind und die Vielzahl von Köpfen jeweils den Gitterabschnitt mit einem Strahl bestrahlen; und

Umschalten eines Kopfes, der bei der Messung der Positionsinformation verwendet wird, zu einem unterschiedlichen Kopf der Vielzahl von Köpfen, während dem Verfahren des Objekttischs auf der Grundlage der gemessenen Positionsinformation, wobei

für die Umschaltung die Positionsinformation, die durch den unterschiedlichen Kopf zu messen ist, auf Grundlage der Positionsinformation bestimmt wird, die durch den vor dem Umschalten verwendeten Kopf gemessen wird, und

nach dem Umschalten die Messung durch den unterschiedlichen Kopf unter Verwendung der ermittelten Positionsinformation durchgeführt wird,

der Gitterabschnitt vier Skalen umfasst, in denen jeweils ein Gitter ausgebildet ist,

vor der Umschaltung die Messung durch die Köpfe, die jeweils mindestens drei der vier Skalen zugewandt sind, durchgeführt wird, und

auf Grundlage der von den mindestens drei Köpfen gemessenen Positionsinformation, die Positionsinformation, die durch den unterschiedlichen Kopf zu messen ist, welcher sich von den mindestens drei Köpfen unterscheidet, bestimmt wird.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 13, wobei die durch den unterschiedlichen Kopf zu messenden Positionsinformation bestimmt wird, während ein Kopf, der vor dem Umschalten verwendet wird und ein Kopf, der nach dem Umschalten verwendet wird, beide dem Gitterabschnitt zugewandt sind.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 13 oder 14, wobei die durch den unterschiedlichen Kopf zu messenden Positionsinformation bei der Umschaltung bestimmt wird.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 15, wobei das Umschalten durchgeführt wird, während ein Kopf, der vor dem Umschalten verwendet wird und ein Kopf, der nach dem Umschalten verwendet wird, beide dem Gitterabschnitt zugewandt sind.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 16, wobei die Bestimmung und die Umschaltung durchgeführt werden, während ein Kopf, der vor dem Umschalten verwendet wird und der unterschiedliche Kopf dem Gitterabschnitt zugewandt sind.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 17, wobei während die mindestens drei Köpfe und der unterschiedliche Kopf dem Gitterabschnitt zugewandt sind, die Positionsinformation, die durch den unterschiedlichen Kopf zu messen ist, bestimmt wird und einer der mindestens drei Köpfe zum unterschiedlichen Kopf umgeschaltet wird, und nach dem Umschalten die Messung durch mindestens drei Köpfe, einschließlich des unterschiedlichen Kopfes, die jeweils mindestens drei der vier Skalen zugewandt sind, durchgeführt wird.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 18, wobei das Encodersystem Positionsinformation des Objekttischs mindestens in Richtungen von drei Freiheitsgraden, einschließlich einer Richtung parallel zu einer vorbestimmten Ebene orthogonal zu einer optischen Achse des optischen Projektionssystems, misst, wobei jeweils vor und nach dem Umschalten die Messung von drei oder vier Köpfen, die dem Gitterabschnitt zugewandt sind, durchgeführt wird, und die Anzahl der Köpfe, die dem Gitterabschnitt zugewandt sind, von einem von drei und vier zum anderen von drei und vier während dem Verfahren des Objekttischs gewechselt wird.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 19, wobei das Verfahren des Objekttischs, auf Grundlage der Korrekturinformation, die verwendet wird, um einen Messfehler des Encodersystems zu kompensieren, welcher aufgrund des Gitterabschnitts und/oder des Kopfes auftritt, gesteuert wird.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 20, wobei mindestens ein Messfehler des Encodersystems, der aufgrund einer Verschiebung und/oder einer optischen Eigenschaft des Kopfes auftritt, ein Messfehler des Encodersystems, der aufgrund von Ebenheit und/oder eines Formationsfehlers des Gitterabschnitts auftritt, ein Messfehler des Encodersystems, der aufgrund einer Verschiebung des Objekttischs in einer Richtung auftritt, die sich von der Richtung parallel zur vorbestimmten Ebene bei der Bestimmung unterscheidet und/oder ein Messfehler des Encodersystems, der aufgrund einer Neigung und/oder einer Drehung des Objekttischs auftritt, kompensiert wird.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 21, wobei die unterschiedliche Richtung mindestens eine Richtung orthogonal zur vorbestimmten Ebene und/oder eine Drehrichtung um eine Achse orthogonal zur vorbestimmten Ebene und/oder eine Drehrichtung um eine Achse parallel zur vorbestimmten Ebene aufweist.
Verfahren zur Herstellung einer Einrichtung, beinhaltend Belichten eines Substrats unter Verwendung des Belichtungsverfahrens nach einem der Ansprüche 13 bis 22; und Entwickeln des belichteten Substrats.