HK1095921B - Methods for fabricating isolated micro-and nano-structures using soft or imprint lithography - Google Patents

Claims (12)

1. Verfahren zur Herstellung monodisperser Teilchen mit einer Größe im Mikro- oder Nanometerbereich, welches Folgendes aufweist:

   Einbringen eines Materials in eine strukturierte Schablone, wobei die strukturierte Schablone in sich mehrere Vertiefungen definiert, wobei jede Vertiefung von den mehreren Vertiefungen eine im Wesentlichen äquivalente dreidimensionale ausgearbeitete Form aufweist und die strukturierte Schablone nicht befeuchtend ist und ein lösungsmittelbeständiges Elastomermaterial mit einer Oberflächenenergie von weniger als 18 mN/m aufweist,

   Behandeln des Materials, während sich das Material in Kontakt mit den Vertiefungen der strukturierten Schablone befindet, um mehrere im Wesentlichen äquivalente ausgearbeitete Strukturen zu bilden, wobei die Strukturen Teilchen mit einer Größe im Mikro- oder Nanometerbereich sind, wobei die Teilchen im Wesentlichen frei von einer Rückstandsschicht sind, und

   Entfernen der Teilchen aus den Vertiefungen der strukturierten Schablone, um mehrere isolierte monodisperse Teilchen mit einer Größe im Mikro- oder Nanometerbereich bereitzustellen, die im Wesentlichen frei von einer Rückstandsschicht sind.
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Elastomermaterial ein Fluorpolymer ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Elastomermaterial Perfluorpolyether ist.
4. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Oberflächenenergie des Elastomermaterials kleiner als 15 mN/m ist.
5. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Oberflächenenergie des Elastomermaterials kleiner als 12 mN/m ist.
6. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Vertiefung eine größte Abmessung von weniger als 10 Mikrometer aufweist oder wobei die Vertiefung eine größte Abmessung von weniger als 3 Mikrometer aufweist oder wobei die Vertiefung eine größte Abmessung von weniger als 1 Mikrometer aufweist oder wobei die Vertiefung eine größte Abmessung von weniger als 750 Nanometer aufweist oder wobei die Vertiefung eine größte Abmessung von weniger als 500 Nanometer aufweist oder wobei die Vertiefung eine größte Abmessung von weniger als 250 Nanometer aufweist oder wobei die Vertiefung eine größte Abmessung von weniger als 200 Nanometer aufweist oder wobei die Vertiefung eine größte Abmessung von weniger als 100 Nanometer aufweist oder wobei die Vertiefung eine größte Abmessung von weniger als 90 Nanometer aufweist oder wobei die Vertiefung eine größte Abmessung von weniger als 70 Nanometer aufweist oder wobei die Vertiefung eine größte Abmessung von weniger als 50 Nanometer aufweist.
7. Monodisperse Anzahl isolierter Teilchen mit einer Größe im Mikro- oder Nanometerbereich, die im Wesentlichen frei von einer Rückstandsschicht sind, welche durch das Verfahren nach Anspruch 1 erhaltbar sind, wobei ein therapeutisches Mittel in die isolierten Teilchen aufgenommen ist.
8. Verfahren zur Herstellung mehrerer monodisperser Teilchen mit einer Größe im Mikro- oder Nanometerbereich, welches Folgendes aufweist:

   Einbringen eines Materials in eine Form, wobei die Form ein Elastomermaterial mit einer Oberflächenenergie von weniger als 18 mN/m aufweist,

   Behandeln des Materials, während das Material in Kontakt mit der Form steht, um mehrere Teilchen zu bilden, wobei die Teilchen im Wesentlichen frei von einer Rückstandsschicht sind, und

   Entfernen der Teilchen aus der Form, um mehrere freistehende monodisperse Teilchen bereitzustellen.
9. Verfahren nach Anspruch 8, wobei das Elastomermaterial ein Fluorelastomermaterial einschließt.
10. Verfahren nach Anspruch 9, wobei das Fluorelastomermaterial Perfluorpolyether einschließt.
11. Verfahren nach Anspruch 8, wobei das Elastomermaterial eine Oberflächenenergie von weniger als 15 mN/m aufweist.
12. Verfahren nach Anspruch 8, wobei das Elastomermaterial eine Oberflächenenergie von weniger als 12 mN/m aufweist.