FI66697B - Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt - Google Patents
Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt Download PDFInfo
- Publication number
- FI66697B FI66697B FI810955A FI810955A FI66697B FI 66697 B FI66697 B FI 66697B FI 810955 A FI810955 A FI 810955A FI 810955 A FI810955 A FI 810955A FI 66697 B FI66697 B FI 66697B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- water
- insoluble
- development
- formula
- compound
- Prior art date
Links
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 238000011161 development Methods 0.000 claims abstract description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 claims abstract description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 8
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 8
- -1 glycol ethers Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 5
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 claims abstract description 5
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 4
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 claims abstract 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 241000234282 Allium Species 0.000 claims 1
- 235000002732 Allium cepa var. cepa Nutrition 0.000 claims 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 claims 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 claims 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims 1
- 239000002585 base Substances 0.000 claims 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical class [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 21
- RUOJZAUFBMNUDX-VKHMYHEASA-N (4s)-4-methyl-1,3-dioxolan-2-one Chemical compound C[C@H]1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-VKHMYHEASA-N 0.000 abstract 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 abstract 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 10
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWIPUXXIFQQMKN-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-3-(4-cyanophenyl)propanoate Chemical compound OC(=O)C(N)CC1=CC=C(C#N)C=C1 KWIPUXXIFQQMKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 229940090948 ammonium benzoate Drugs 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N lithium nitrate Chemical compound [Li+].[O-][N+]([O-])=O IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- DHEQXMRUPNDRPG-UHFFFAOYSA-N strontium nitrate Chemical compound [Sr+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O DHEQXMRUPNDRPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEGXEWGKYMMJKP-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxypropyl acetate Chemical compound CCC(O)OC(C)=O VEGXEWGKYMMJKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-M 2,4,6-trimethylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC(C)=C(S([O-])(=O)=O)C(C)=C1 LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC(C)=C(S(O)(=O)=O)C(C)=C1 LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N Tritium Chemical compound [3H] YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001089 [(2R)-oxolan-2-yl]methanol Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 150000004862 dioxolanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 239000001433 sodium tartrate Substances 0.000 description 1
- 229960002167 sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 235000011004 sodium tartrates Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Media Introduction/Drainage Providing Device (AREA)
- Medicinal Preparation (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Undergarments, Swaddling Clothes, Handkerchiefs Or Underwear Materials (AREA)
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
Description
66697
Menetelmä ja kehiteliuos valotettujen, negatiivisesti toimivien diatsoniumsuolakalvojen kehittämiseksi
Keksintö koskee kehiteliuosta, joka soveltuu nega-5 tiivisesti toimivien valotettujen kopiointimateriaalien kehittämiseen, joiden perustana ovat diatsoniumsuola-polykon-densaatiotuotteet.
Mainituntyyppisiä kopiointimateriaaleja käytetään edullisesti painolevyjen, mutta myös valoherkkien päällystei-10 den valmistukseen ja ne koostuvat kalvon kantajarakenteesta ja negatiivisesti toimivasta valonherkästä kopiokalvosta.
Kalvon kantajarakenteena käytetään metalleja, kuten sinkkiä, kromia, kuparia, messinkiä, terästä tai alumiinia, muovikalvoja, paperia tai vastaavia, mahdollisesti tarkoi-i5 tukseen soveltuvan esikäsittelyn jälkeen.
Kopiokalvoina käytetään sellaisia, joiden perustana ovat veteenliukenemattomat diatsoniumsuola-polykondensaa-tiotuotteet ja veteenliukenemattomat hartsit sideaineena, erityisesti hartsit, jotka eivät liukene heikosti happamiin 20 tai emäksisiin vesipitoisiin liuoksiin.
Tämäntyyppisiin valotettuihin kopiokalvoihin käytettävät kehitteet vaativat normaalisti orgaanisten liuottimien lisäystä.
Mutta myöskään silloin ei yleensä saada aikaan käy-25 tettäessä kehitteitä, jotka sisältävät vähemmän kuin 50 paino-% orgaanista liuotinta, valottamattomien kalvoalu-eiden varsinaista liukenemista, vaan ainoastaan irtautuminen kantajarakenteesta enemmän tai vähemmän suurina hiutaleina. Käsin kehitettäessä voidaan yleensä saada käyttä-30 mällä riittävää ylimäärää kehitintä siististi kehitetty kopio. Toisaalta on kalliin, orgaanista liuotinta sisältävän kehitteen kulutus suuri, ja sen poistaminen tai edel-leenkäsittely aiheuttaa lisää vaivaa ja kustannuksia.
Erityisesti kehitettäessä mainituntyyppisiä suurte-35 hopainolaattoja, on ilmennyt vaikeuksia, jos kehityksen pitäisi tapahtua automaattisessa läpikulkulaitteessa, koska tällöin suhteellisen lyhyen ajan kuluttua kehitteeseen 2 66697 dispergoitunut, liukenematon kalvoaine erottui laitteessa ja mahdollisesti myös kehitettävillä laatoilla ja teki nämä käyttökelvottomiksi.
Tämän johdosta käytettiin mainituntyyppisten jäljen-5 nöskalvojen kehittämiseen kehitteitä, jotka sisälsivät enemmän (esimerkiksi 50 % tai enemmän) orgaanisia liuottimia (saksalainen hakemusjulkaisu nro 20 24 244, esimerkki 57). Myös käytettäessä tätä orgaanisten liuottimien korkeaa pitoisuutta, jää jäljelle kalvoissa, jotka sisältävät suuria 10 määriä veteen liukenemeattomia sideaineita, jäännös ei- liuennutta kiinteää kalvoainetta kehitteeseen dispergoitu-neena. Tosin on voitu saavuttaa lisäämällä suhteellisen suuria määriä kostutusaineita kehitteeseen, täydellinen ja stabiili dispersio ja siisti kehitys, mutta kuitenkaan ei 15 ole mahdollista työstää mainitussa esimerkissä ilmoitetun tyyppisiä kehitteitä automaattisissa kehityslaitteissa, koska nämä kehitteet vaahtoavat liian voimakkaasti.
Toisentyyppisille kalvoille kuvattiin myös kehite-liuoksia, jotka sisältävät vähän tai jopa ei ollenkaan vet-20 tä (saksalainen hakemusjulkaisu nro 20 12 390). Myös nämä kehitteet sisältävät kostutusaineita ja ovat yleensä liian aggressiivisia edellä ilmoitetun koostumuksen omaavien painolaattojen kehittämiseen.
Lopuksi tunnetaan kanadalaisesta patenttijulkaisus-25 ta nro 1 057 105 myös kehitteet keksinnön mukaisesti käsiteltäviä painolaattoja varten ja ne sisältävät korkeintaan 95 % orgaanisia liuottimia, esim. glykoleja tai glykoli-eettereitä, ja kostutusaineita. Kehitteitä käytetään 60-110°C:seen välisessä lämpötilassa (sivu 9, rivit 6-7 ja 30 17-18). Näissä lämpötiloissa kehitteillä on voimakas taipu mus vaahtoamiseen, jos niitä käytetään automaattisissa työs-tölaitteissa.
Keksinnön tehtävänä on asettaa käyttöön kehiteliuos valonherkkiä kalvoja varten, joiden perustana ovat veteen-35 liukenemattomat diatsoniumsuola-polykondensaatiotuotteet ja veteenliukenemattomat sideaineet, ja joka takaa valottamat-tomien kalvoalueiden täydellisen liukenemisen ja joka soveltuu käytettäväksi automaattisissa kehityslaitteissa.
3 66697
Keksintö lähtee kehiteliuoksesta, jota käytetään valotettujen, valonherkkien jäijennösmateriaalien kehittämiseen, jotka sisältävät veteeniiukenematonta sideainetta ja veteenliukenematonta diatsoniumsuola-polykondensaatio-5 tuotetta, jolloin liuos sisältää pääasiallisina aineosina glykolieettereitä, glykoliestereitä ja vettä.
Keksinnön mukainen kehiteliuos on tunnettu siitä, että se sisältää 30-80 % yhdistettä, jolla on kaava, 10 H-(0-CH-CHo-) OC H0 , 2 n m 2m+l ch3 jossa n = 1-4 ja ra - 1-5, 3-30 % yhdistettä, jolla on kaava, 15 R1-0-CH-CH -OR2 ' 3 1
RJ
1 2 jossa R ja R merkitsevät asyyliryhmiä, joissa on 1-4 20 c-atomia tai toinen molemmista tähteistä on vetyatomi ja 3 R on vetyatomi tai metyyliryhmä, 0-15 % 1,3-dioksolan-2-onia tai 4-metyyli-l,3-dioksolan-2-onia, 0-20 % moniarvoista alkoholia, 25 0-10 % orgaanista tai epäorgaanista, liuotinseokseen liu kenevaa suolaa ja 5-45 % vettä.
Prosenttiluvut tarkoittavat painoprosentteja.
Jäijennösmateriaaleja, jotka voidaan kehittää kek-30 sinnön mukaisilla kehiteliuoksilla, on kuvattu esimerkiksi saksalaisessa patenttijulkaisussa nro 20 24 244 = US-patent-tijulkaisussa nro 3 867 147.
Keksinnön mukaisilla kehitteillä on pitkä käyttöaika kehityskoneissa, koska ne liuottavat käytännöllisesti 35 katsoen täydellisesti kehitettäessä poistetut kalvon aineosat ja koska ne eivät sisällä mitään alhaalla kiehuvia aineosia. Edullisesti on kehitteen orgaanisten aineosien kiehumispiste yli 100°C, erityisesti yli 150°C.
4 66697
Keksinnön mukaisen kehitteen pääaineosana on yhdiste, jolla on kaava H- (0-CH-CH2-) nOCinH2m+ j 5 CH3 jossa symboleilla n ja m on edellä ilmoitettu merkitys. Edullisesti n on 1-3 ja m on 1-3, erityisesti 1. Glykoli-eetterin määrä on yleensä 30-80, edullisesti 45-60 paino-% liuoksesta.
10 Muuna välttämättömänä aineosana sisältää liuos gly- koliesteriä, jolla on kaava R1-0-CH-CH,-0R2 R3 15 . 12 3 jossa symboleilla R , R ja R on edellä ilmoitettu merkitys .
Sopivia esimerkkejä ovat etyleeniglykolimono- ja -diasetaatti, -propionaatti tai propaanidiolimonoasetaatti.
20 Etyleeniglykolimono- ja -diasetaattia pidetään edullisena. Liuos voi sisältää glykoliesteriä määrässä, joka on 3-30, edullisesti 10-20 paino-%.
Muina lisäaineina voi liuos sisältää dioksolaani-johdannaisia, kuten 1,3-dioksolan-2-onia ja 4-metyyli-l,3-25 dioksolan-2-onia määrässä, joka on korkeintaan 15, edullisesti korkeintaan 8 paino-%.
Edelleen soveltuvat lisäliuottimiksi korkeammat alkoholit ja glykolieetterit, esim. tetrahydrofurfuryylial-koholi, bentsyylialkoholi, 3-metoksi-butanoli, diasetoni-30 alkoholi, dietyleeniglykolimonoetyylieetteri, etyleenigly-kolimonofenyylieetteri ja dietyleeniglykolidimetyylieette-ri.
Myös voidaan lisätä moniarvoisia alkoholeja, joilla on pehmentävä vaikutus, esim. glyseriiniä, etyieeniglykolia 35 tai propyleeniglykolia määrässä, joka on 0-20, edullisesti 3-15 paino-%.
5 66697
Kehiteliuos voi sisältää edelleen epäorgaanisia tai orgaanisia suoloja, esim. ammoniumbentsoaattia tai natrium-tartraattia, iitiumnitraattia, strontiumnitraattia tai magnesiumsulfaattia määrässä, joka on yhteensä 0-10 paino-%.
5 Keksinnön mukaisen kehitteen pH-arvo on yleensä 2-12, edullisesti noin 6-8. Tällöin säädetään emäksinen alue jollakin edellä ilmoitetuista suoloista ja hapan alue edullisesti orgaanisella hapolla.
Keksinnön mukainen kehite ei sisällä mitään alhaalla-10 kiehuvia aineosia. Normaalisti on vesi, jota liuos sisältää määrässä 5-45, edullisesti 15-28 paino-%, alhaisimpana kiehuva aineosa.
Kehite muuttaa tämän vuoksi koostumustaan käytön aikana ainoastaan epäoleellisesti ja sillä on suhteellisen 15 pitkä käyttöaika koneessa.
Erityisenä etuna on edelleen pidettävä sitä, että kehite ei tarvitse mitään kostutusainelisäyksiä. Se on täysin tehokas huoneen lämpötilassa, mutta sitä voidaan mahdollisesti käyttää myös vähän kohotetussa lämpötilassa, esi-20 merkiksi 40°C:ssa, ilman että se tulee aggressiiviseksi.
Tavanomaisissa käyttölämpötiloissa on hajurasitus vähäinen.
Seuraavat esimerkit selventävät keksinnön mukaisen kehitteen eduliisenapidettyjä suoritustapoja. Prosenttiar-25 vot ja määräsuhteet tarkoittavat painoyksiköltä, jos ei toisin ole ilmoitettu.
Esimerkki 1
Alumiinifolio, joka oli karhennettu harjaamalla hion-ta-ainesuspensiolla, upotettiin yhden minuutin ajaksi 30 60C 5C:seen hauteeseen, jossa oli 0,3 % polyvinyylifosfoni- happoa vedessä ja kuivattiin. Se kerrostettiin sitten liuoksella, jossa oli 0,7 paino-osaa polykondensaatiotuotetta, valmistettu 1 moolista 3-metoksi-difenyyliamiini-4-diatsoniumsulfaat-35 tia ja 1 moolista 4,4'-bis-metoksimetyyli-difenyylieette-riä 85-%:isessa fosforihapossa, eristetty mesityleenisul-fonaattina, 6 66697 3,4 paino-osaa 85-%:ista fosforihappoa ja 3.0 paino-osaa epoksidihartsin, - jonka sulamispiste on 70°C ja epoksidi-ekvivalenttipaino 459 - ja suolahapon reaktiotuotetta etyleeniglykolimonometyylieetterissä (vrt.
5 saksalainen patenttijulkaisu nro 20 34 654) 60.0 paino-osassa etyleeniglykolimonometyylieetteriä, 20.0 paino-osassa tetrahydrofuraania, 10.0 paino-osassa dimetyyliformamidia ja 10.0 paino-osassa butyyliasetaattia 10 ja kuivattiin. Valonherkkä materiaali valotettiin kuvanmu-kaisesti ja kehitettiin liuoksella, jossa oli 60 paino-osaa propyleeniglykolimonometyylieetteriä, 10 paino-osaa glyseriiniä, 5 paino-osaa etyleeniglykoliasetaattia (seos, jossa 15 on 50 % mono- ja 50 % diasetaattia), 5 paino-osaa natriumbentsoaattia ja 20 paino-osaa vettä.
Saatiin moitteeton kuva.
Esimerkki 2 20 Elektrolyyttisesti karhennettu ja anodisesti hapetet tu alumiinifolio, joka oli käsitelty, kuten esimerkissä 1, kuvattiin polyvinyylifosfonihapolla, kerrostettiin liuoksella, jossa oli 1,6 paino-osaa polyvinyyliformaalia, 25 0,5 paino-osaa polykondensaatiotuotetta, saatu 1 moo lista 3-metoksi-difenyyliamiini-4-diatsoniumsulfaattia ja 1 moolista 4,4'-bis-metoksimetyylidifenyylieetteriä, valmistettu 85-%:isessa fosforihapossa 40°C:ssa ja eristetty mesityleenisulfonaattina, 30 0,05 paino-osaa fosforihappoa ja 0,3 paino-osaa ^Hostapermsinistä 57 paino-osassa etyleeniglykolimonometyylieetteriä, 30 paino-osassa tetrahydrofuraania ja 8 paino-osassa butyyliasetaattia 35 ja kuivattiin. Saatu laakapainolaatta valotettiin alkuperäiskappaleen alla ja kehitettiin liuoksella, joka koostui 7 66697 50 paino-osasta propyleeniglykolimonometyylieetteriä, 15 paino-osasta etyleeniglykoliasetaattia (mono- ja diase-taatin seos 1:1), 0,5 paino-osasta 1,3-dioksolan-2-onia, 5 1 paino-osasta ammoniumbentsoaattia, 10 paino-osasta glyseriiniä ja 23,5 paino-osasta vettä.
Kuva kehittyi siististi ja virheettömästi ja liukenemattomista kalvonosista ei muodostunut mitään kokkareita.
Claims (6)
1. Kehiteliuos, jota käytetään veteenliukenematon-ta sideainetta ja veteenliukenematonta diatsoniumsuoia-po-5 lykondensaatiotuotetta sisältävien, valotettujen ja valon-herkkien jäijennöskalvojen kehittämiseen, jolloin liuos sisältää pääasiallisina aineosina glykolieettereitä, glykoli-estereitä ja vettä, tunnettu siitä, että se sisältää 10 30-80 % yhdistettä, jolla on kaava H-lO-CH-CHj-^O'yW CBj 15 jossa n = 1-4 ja m = 1-5, 3-30 % yhdistettä, jolla on kaava R1-0-CH-CH -OR2 R3 20 1 2 jossa R ja R merkitsevät asyyliryhmiä, joissa on 1-4 C-atomia tai toinen molemmista tähteistä merkitsee vetyato-3 mia, ja R on vetyatomi tai metyyliryhmä, 0-15 % 1,3-dioksolan-2-onia tai 4-metyyli-l,3-diokso-25 lan-2-onia, 0-20 % moniarvoista alkoholia, 0-10 % orgaanista tai epäorgaanista, liuotinseokseen liukenevaa suolaa ja 5-45 % vettä.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen kehiteliuos, tunnettu siitä, että sen pH-arvo on 12-2.
3. Patenttivaatimuksen 1 mukainen kehiteliuos, tunnettu siitä, että se sisältää 0,5 - 8 % orgaanisen hapon alkali- tai ammoniumsuolaa.
4. Menetelmä negatiivisesti toimivien jäijennöskalvo jen kehittämiseksi joiden perustana ovat veteeniiukenemättomat diatsoniumsuola-polykondensaatiotuotteet ja veteen ja laimennet- 9 66697 tuihin vesipitoisiin emäksiin liukenemattomat sideaineet, jolloin valotettua jäijennöskalvoa käsitellään liuoksella, joka koostuu glykolieettereistä, glykoliestereistä, vedestä ja mahdollisesti moniarvoisista alkoholeista ja suoloista 5 valottamattomien kalvoalueiden liuottamiseksi, tunnettu siitä, että kalvoa käsitellään liuoksella, joka sisältää 30-80 % yhdistettä, jolla on kaava
10 H-(°-?H-CH2->n°SnH2,n+l CH3 jossa n = 1-4 ja m = 1-5, 3-30 % yhdistettä, jolla on kaava 15 R-0-CH-CH,-0R2 R3 1 2 jossa R ja R merkitsevät asyyliryhmiä, joissa on 1-4 3
20 C-atomia tai toinen tähteistä merkitsee vetyatomia/ja R on vetyatomi tai metyyliryhmä, 0-15 % 1,3-dioksolan-2-onia tai 4-metyyli-l,3-diok-solan-2-onia, 0-20 % moniarvoista alkoholia, 25 0-10 % orgaanista tai epäorgaanista, liuotinseokseen liukenevaa suolaa ja 5-45 % vettä. 10 66697
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19803012522 DE3012522A1 (de) | 1980-03-31 | 1980-03-31 | Verfahren und entwicklerloesung zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten |
| DE3012522 | 1980-03-31 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI810955L FI810955L (fi) | 1981-10-01 |
| FI66697B true FI66697B (fi) | 1984-07-31 |
| FI66697C FI66697C (fi) | 1984-11-12 |
Family
ID=6098913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI810955A FI66697C (fi) | 1980-03-31 | 1981-03-27 | Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4416976A (fi) |
| EP (1) | EP0037060B1 (fi) |
| JP (1) | JPS56153341A (fi) |
| AT (1) | ATE6703T1 (fi) |
| AU (1) | AU539890B2 (fi) |
| BR (1) | BR8101905A (fi) |
| CA (1) | CA1168500A (fi) |
| DE (2) | DE3012522A1 (fi) |
| FI (1) | FI66697C (fi) |
| MX (1) | MX159691A (fi) |
| ZA (1) | ZA812100B (fi) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4786580A (en) * | 1983-12-27 | 1988-11-22 | Hoechst Celanese Corporation | Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition |
| EP0164083B1 (de) * | 1984-06-07 | 1991-05-02 | Hoechst Aktiengesellschaft | Positiv arbeitende strahlungsempfindliche Beschichtungslösung |
| US5143814A (en) * | 1984-06-11 | 1992-09-01 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist compositions with o-quinone diazide, novolak and propylene glycol alkyl ether acetate |
| US5066561A (en) * | 1984-06-11 | 1991-11-19 | Hoechst Celanese Corporation | Method for producing and using a positive photoresist with o-quinone diazide, novolak, and propylene glycol alkyl ether acetate |
| US4550069A (en) * | 1984-06-11 | 1985-10-29 | American Hoechst Corporation | Positive photoresist compositions with o-quinone diazide, novolak, and propylene glycol alkyl ether acetate |
| US4983490A (en) * | 1985-10-28 | 1991-01-08 | Hoechst Celanese Corporation | Photoresist treating composition consisting of a mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
| US4806458A (en) * | 1985-10-28 | 1989-02-21 | Hoechst Celanese Corporation | Composition containing a mixture of hexa-alkyl disilazane and propylene glycol alkyl ether and/or propylene glycol alkyl ether acetate |
| US4948697A (en) * | 1985-10-28 | 1990-08-14 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist with a solvent mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
| US4692398A (en) * | 1985-10-28 | 1987-09-08 | American Hoechst Corporation | Process of using photoresist treating composition containing a mixture of a hexa-alkyl disilazane, propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate |
| US5039594A (en) * | 1985-10-28 | 1991-08-13 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist containing a mixture of propylene glycol alkyl ethers and propylene glycol alkyl ether acetate |
| ZA87922B (en) * | 1986-02-28 | 1987-09-30 | Macdermid Inc | Photoresist stripper composition |
| US4714670A (en) * | 1986-06-09 | 1987-12-22 | Imperial Metal & Chemical Company | Developer including an aliphatic cyclic carbonate in the oil phase emulsion |
| US4755451A (en) * | 1986-08-28 | 1988-07-05 | Sage Technology | Developer for color proofing film with an alkyl glycol derivative of cyclohexane |
| DE3715792A1 (de) * | 1987-05-12 | 1988-11-24 | Hoechst Ag | Entwickler fuer wasserlos druckende offsetplatten |
| US4822723A (en) * | 1987-11-30 | 1989-04-18 | Hoechst Celanese Corporation | Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates |
| JPH02253265A (ja) * | 1989-03-28 | 1990-10-12 | Nippon Zeon Co Ltd | レジスト剥離剤 |
| US5290665A (en) * | 1989-06-01 | 1994-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for developing PS plate requiring no dampening water wherein the developer comprises, water, a solubilizer and an ethylene glycol mono(alkyl C6 -C8) ether derivative |
| JPH035756A (ja) * | 1989-06-01 | 1991-01-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 水なしｐｓ版用現像液 |
| JPH0785947B2 (ja) * | 1989-08-05 | 1995-09-20 | 東洋インキ製造株式会社 | 平版印刷用湿し水 |
| JPH0418564A (ja) * | 1990-01-22 | 1992-01-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 感光性エラストマー組成物用現像剤 |
| EP0539881B1 (en) * | 1991-10-29 | 1995-08-02 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Single-phase developers for lithographic printing elements |
| JPH10186680A (ja) * | 1996-12-26 | 1998-07-14 | Clariant Internatl Ltd | リンス液 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1572153B2 (de) * | 1966-06-27 | 1971-07-22 | E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) | Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
| GB1220808A (en) * | 1967-05-18 | 1971-01-27 | Howson Algraphy Ltd | Processing of presensitized photolithographic printing plate |
| NL6918761A (fi) | 1968-12-30 | 1970-07-02 | ||
| US3707373A (en) * | 1969-03-17 | 1972-12-26 | Eastman Kodak Co | Lithographic plate developers |
| US3867147A (en) * | 1969-05-20 | 1975-02-18 | Hoechst Co American | Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same |
| US3682641A (en) * | 1970-03-23 | 1972-08-08 | Du Pont | Photoresist developer extender baths containing polyoxyalkylene ethers and esters and process of use |
| US3996054A (en) * | 1971-09-24 | 1976-12-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Color photographic developing solution |
| JPS5027728B2 (fi) * | 1971-11-04 | 1975-09-10 | ||
| US3891439A (en) * | 1972-11-02 | 1975-06-24 | Polychrome Corp | Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates |
| GB1418433A (en) * | 1973-02-10 | 1975-12-17 | Ricoh Kk | Developers for two-component diazotype materials |
| CA1057105A (en) * | 1974-10-08 | 1979-06-26 | Ferdinand J. Gajewski | Developing and stripping of binder-containing presensitized coatings |
| JPS5217901A (en) * | 1975-07-31 | 1977-02-10 | Mitsubishi Chem Ind | Developer for lithographic press plate |
| US4055515A (en) * | 1975-12-31 | 1977-10-25 | Borden, Inc. | Developer for printing plates |
| JPS5587151A (en) * | 1978-12-25 | 1980-07-01 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Developing solution composition for lithographic printing plate |
| US4308340A (en) * | 1980-08-08 | 1981-12-29 | American Hoechst Corporation | Aqueous 2-propoxyethanol containing processing composition for lithographic printing plates |
-
1980
- 1980-03-31 DE DE19803012522 patent/DE3012522A1/de not_active Withdrawn
-
1981
- 1981-03-18 CA CA000373302A patent/CA1168500A/en not_active Expired
- 1981-03-25 AT AT81102222T patent/ATE6703T1/de not_active IP Right Cessation
- 1981-03-25 EP EP81102222A patent/EP0037060B1/de not_active Expired
- 1981-03-25 DE DE8181102222T patent/DE3162577D1/de not_active Expired
- 1981-03-27 FI FI810955A patent/FI66697C/fi not_active IP Right Cessation
- 1981-03-27 AU AU68831/81A patent/AU539890B2/en not_active Ceased
- 1981-03-30 ZA ZA00812100A patent/ZA812100B/xx unknown
- 1981-03-30 BR BR8101905A patent/BR8101905A/pt not_active IP Right Cessation
- 1981-03-31 MX MX186647A patent/MX159691A/es unknown
- 1981-03-31 JP JP4661281A patent/JPS56153341A/ja active Granted
- 1981-03-31 US US06/249,617 patent/US4416976A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU539890B2 (en) | 1984-10-18 |
| EP0037060B1 (de) | 1984-03-14 |
| MX159691A (es) | 1989-08-07 |
| US4416976A (en) | 1983-11-22 |
| FI810955L (fi) | 1981-10-01 |
| DE3162577D1 (en) | 1984-04-19 |
| AU6883181A (en) | 1981-10-08 |
| EP0037060A1 (de) | 1981-10-07 |
| FI66697C (fi) | 1984-11-12 |
| JPS56153341A (en) | 1981-11-27 |
| ATE6703T1 (de) | 1984-03-15 |
| BR8101905A (pt) | 1981-10-06 |
| ZA812100B (en) | 1982-04-28 |
| JPS6367178B2 (fi) | 1988-12-23 |
| CA1168500A (en) | 1984-06-05 |
| DE3012522A1 (de) | 1981-10-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FI66697B (fi) | Foerfarande och framkallningsloesning foer framkallning av belysta negativt fungerande diazoniumsaltskikt | |
| JPS5935010B2 (ja) | ポジ用フオトレジスト組成物 | |
| CA1140787A (en) | Developer compositon for lithographic plates including ethylene glycol monophenyl ether, and acid and less than 10 weight percent water | |
| FI71024B (fi) | Foerfarande och framkallningsblandning foer framstaellning av exponerande negativt arbetande diaxoniumsaltskikt | |
| TW200731016A (en) | Composition for forming upper film and method for forming photoresist pattern | |
| EP0539881B1 (en) | Single-phase developers for lithographic printing elements | |
| US10248025B2 (en) | Concentrated and working strength aqueous flexographic developers | |
| DE2316089A1 (de) | Entwicklerzusammensetzung und verfahren zum entwickeln von kontrastreichen photographischen diffusionsuebertragungsmaterialien | |
| US4786580A (en) | Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition | |
| JPS63202742A (ja) | 有機溶剤不含の現像剤組成物及び写真素子を処理する方法 | |
| US2940854A (en) | Gelatin silver halide emulsion plasticized with dicarboxylic acid esters | |
| JPS6113218B2 (fi) | ||
| DE69515551T2 (de) | Photographische Bindemittelzusammensetzung für verbesserte Trocknungseigenschaften | |
| KR830006805A (ko) | 감광성조성물(感光性組成物) 및 그것을 사용한 패터언형성방법 | |
| US10216089B2 (en) | Methods of forming flexographic printing members | |
| JPS5936256B2 (ja) | 現像液組成物 | |
| JPS5669628A (en) | Developer composition for lithographic plate | |
| US1494473A (en) | Cellulose-ether solvent and composition | |
| DE10259769A1 (de) | Verfahren zur Herstellung negativ arbeitender Lithographie-Druckplattenvorläufer mit einer Diazoharz enthaltenden Beschichtung | |
| JPS598813B2 (ja) | ジアゾ式複写方法 | |
| JPS60153047A (ja) | 二成分型ジアゾ複写材料用現像液 | |
| JPH04147150A (ja) | 印刷版用修正剤 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM | Patent lapsed |
Owner name: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT |