ES2299335B2 - Metodo para la fabricacion de estructuras opticas con funcionalidad puramente refractivas. - Google Patents
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Abstract
Método para la fabricación de estructuras
ópticas con funcionalidad puramente refractiva.
La presente invención propone un método para la
fabricación de estructuras ópticas con funcionalidad puramente
refractiva de una forma simple y económica. Este método incluye los
siguientes pasos: (a) situar un substrato próximo a un material de
partida, ambos ubicados en el interior de una cámara; (b) irradiar
el substrato de forma que la radiación luminosa lo atraviese; (c)
exponer el material de partida a la radiación transmitida a través
del substrato, de modo que al incidir la radiación sobre el
material de partida se produzca su evaporación o sublimación; (d)
depositar la fase de vapor del material de partida sobre el
substrato; y (e) irradiar el depósito de material de manera
concurrente y uniforme a través del substrato durante el proceso de
deposición, a fin de aumentar la estabilidad de la estructura óptica
a altas intensidades luminosas de trabajo. La estructura óptica
fabricada presenta funcionalidad óptica refractiva a causa de su
composición y perfil, así como un aumento en el umbral de daño a
intensidades luminosas elevadas.
Description
Método para la fabricación de estructuras
ópticas con funcionalidad puramente refractiva.
| US 5,053,171 | 10/1991 | Portney et al. |
| US 5,345,336 | 9/1994 | Aoyama et al. |
| US 5,737,126 | 4/1998 | Lawandy |
| US 6,110,291 | 8/2000 | Haruta et al. |
| US 6,668,588 B1 | 12/2003 | Hilton et al. |
| US 6,924,457 B2 | 8/2005 | Koyama et al. |
\vskip1.000000\baselineskip
J. H. McLeod, "The axicon: a new type
of optical element", J. Opt. Soc. Am. 44 (1954)
592.
A. V. Kolobov y Ka. Tanaka, en
"Photoinduced Phenomena in Amorphous Chalcogenides: From
Phenomenology to Nanoscale", Handbook of Advanced Electronic
and Photonic Materials and Devices, Vol. 5, Hari Singh Nalwa,
ed. (Academic Press, San Diego, 2001), p. 47.
A. Zakery, Y. Ruan, A. V.
Rode, M. Samoc y B.
Luther-Davies, "Low-loss
waveguides in ultrafast laser-deposited As2S3
chalcogenide films ", J. Opt. Soc. Am. B 20 (2003)
1844.
\vskip1.000000\baselineskip
La presente invención se contextualiza en el
campo de las estructuras ópticas con funcionalidad refractiva, y
los métodos para fabricarlas.
Las estructuras ópticas tienen una gran
importancia en todos aquellos campos tecnológicos en los que se
necesita modular la distribución espacial de la luz. Ante tal
demanda, se hace necesaria la optimización de las técnicas de
fabricación de estructuras ópticas simples, así como la producción
de estructuras ópticas con nuevas funcionalidades.
La mayor parte de los métodos empleados para la
fabricación de estructuras ópticas refractivas a media escala de
tamaño utilizan procesos repetitivos de tallado y de pulido, o
procesos de moldeo en caliente [US 6,668,588 B1], previos a
tratamientos posteriores más complejos. Alternativamente, para la
fabricación de estructuras a pequeña escala, se han desarrollado
diferentes procesos basados en múltiples etapas complejas de
micromecanizado superficial, o de fotolitografía [US 5,345,336],
así como métodos más recientes que proponen la ablación de
superficies de plásticos o vidrios [US 5,053,171], o la modificación
estructural, asistida por calor, de superficies de vidrios dopados
con semiconductores [US 5,737,126], mediante el uso de láseres. Por
otro lado, por su relación con la invención aquí expuesta y
reclamada, son de destacar los métodos de deposición asistidos por
luz que se emplean en procesos de producción de tecnologías
planares [US 6,110,291], los cuales persiguen el crecimiento
sobre un substrato, de una capa uniforme de compuestos conductores,
semiconductores o superconductores, con el propósito de integrar
dispositivos ópticos [US 6,924,457 B2] y/o electrónicos planares,
tanto activos como pasivos.
La presente invención describe un método
sencillo para la fabricación de estructuras ópticas refractivas,
que tiene su base en el control, asistido por luz, del perfil de un
material semiconductor que será depositado sobre un substrato que
es transparente a la radiación de trabajo a la que va destinada la
estructura óptica que se pretende fabricar. El método permite
extender la funcionalidad de las estructuras ópticas fabricadas, a
altas intensidades luminosas.
Al entender de los firmantes, las patentes
citadas en esta sección son, hasta donde ha alcanzado nuestra
búsqueda, aquellas que recogen las actividades inventivas más
relevantes en el contexto de la que aquí se presenta, y sobre ellas
puede demostrarse la actividad inventiva que los firmantes reclaman
para la presente invención.
\newpage
La presente invención describe un método
sencillo, aunque no obvio, para la fabricación asistida por luz de
estructuras ópticas, que se sustenta en las siguientes evidencias
físicas:
1. Fragmentos estructurales de los elementos
constituyentes de compuestos semiconductores pueden ser eyectados
de un sólido al irradiarlos con luz de energía fotónica comparable
(del orden de magnitud) a su gap óptico, con una intensidad lo
suficientemente elevada. Esta intensidad depende del tipo de
material semiconductor.
2. La fase de vapor generada, o pluma de
plasma, se condensa sobre un substrato ubicado en las proximidades
del material de partida, dando lugar a un depósito de este material
sobre el substrato.
3. La morfología del depósito está relacionada
con las características de la pluma o fase de vapor, las cuales
dependen de la distribución espacial de la intensidad de la
radiación luminosa sobre el material blanco, la radiancia espectral
de la fuente luminosa, la distancia entre el material blanco y el
substrato, la presión y la atmósfera en la cámara, la temperatura
del material de partida, la temperatura del substrato, y el tiempo
de irradiación.
4. La iluminación concurrente sobre el depósito
en crecimiento puede afectar las propiedades
físico-químicas del material que forma dicho
depósito, como consecuencia de su efecto sobre la estructura en
formación.
Sobre la base de las anteriores evidencias, los
firmantes de la presente patente proponen un método sencillo, no
obvio, para la fabricación de estructuras ópticas con funcionalidad
puramente refractiva, según se define en la reivindicación
independiente 1.
Un escenario preferido para la invención, no
exclusivo en lo que se refiere al material usado, ni a la
configuración del sistema de fabricación, es aquel en el que un haz
láser continuo, con una longitud de onda de 532 nm, y con una
distribución gaussiana de la intensidad luminosa, atraviesa
perpendicularmente un substrato transparente de caras planoparalelas
antes de alcanzar un material blanco situado a pocos milímetros del
substrato. Tal material blanco es un disco (pastilla) de alrededor
de 1 cm de diámetro y 2 mm de espesor, formado por polvo compactado
de una aleación de un semiconductor amorfo V-VI (por
ejemplo, una aleación de As y S), que es sensible a la energía
fotónica de la radiación luminosa procedente de una fuente láser de
Nd:YAG (2.33 eV). Las caras enfrentadas del substrato y de la
pastilla son paralelas.
La configuración descrita produce un depósito
con un perfil asférico que genera una función óptica como la
ilustrada en la Figura 1, y que es característica de las estructuras
ópticas denominadas axicons [McLeod]. Los axicons, como se
representa en la Figura 2, a diferencia de las lentes con perfiles
esféricos convencionales, se caracterizan por concentrar la energía
luminosa a lo largo de un segmento focal extendido sobre el eje
óptico, y mantener la resolución lateral invariante frente a la
propagación sobre este segmento focal.
La transparencia de los semiconductores
V-VI en la región espectral infrarroja (IR)
[Kolobov y Tanaka] garantiza la estabilidad de las estructuras
ópticas fabricadas en esta ventana espectral, lo que la convierte
pues en la región espectral de trabajo preferida.
No obstante, los firmantes de la presente
patente han observado que las estructuras ópticas producidas según
el escenario preferido descrito, y posiblemente debido a la
iluminación concurrente y uniforme del material que está siendo
depositado, presentan una mayor transparencia óptica, y un umbral
de daño más elevado a la radiación láser empleada en el proceso de
fabricación, en comparación con el del material de partida. Se ha
observado experimentalmente un aumento en la intensidad de daño de
más de un orden de magnitud en aleaciones de composición
As_{20}S_{80}, con respecto a la intensidad soportada por el
material de partida.
Por otra parte, por su relevancia con la
presente invención, se ha demostrado [Zakery et al.] que el
recubrimiento de un depósito calcogenuro amorfo con una capa de
polimetil metacrilato (PMMA), aumenta varios órdenes de magnitud el
umbral de daño a la radiación para la que la aleación calcogenura,
sin recubrimiento alguno, sería sensible.
Con tales evidencias, propias y reportadas en la
literatura, se infiere que aunque la IR sea la ventana preferida,
no debe considerarse como exclusiva.
Figura 1. Distribución de intensidad luminosa a
lo largo de eje de enfoque correspondiente a un axicon fabricado
mediante la presente invención, a partir de una aleación amorfa de
composición As_{20}S_{80}. Las distancias están medidas respecto
a la posición del axicon. Se alcanza una resolución lateral de
\sim 60 \mum a una distancia de 35 mm del axicon, y se mantiene
hasta los 45 mm, posición a partir de la cual la energía comienza a
acoplarse en modos superiores al de orden cero. La longitud de onda
de la radiación láser utilizada en estas medidas fue de
532 nm.
532 nm.
Figura 2. Esquema ilustrativo del funcionamiento
de una lente de focal extendida (axicon). Esta estructura óptica
asférica presenta una región focal, sobre el eje óptico, con una
alta resolución lateral (del orden de las micras) y una larga
profundidad de foco, \Deltaf a partir de una distancia inicial de
enfoque f_{0}. También se representa la distribución de la
intensidad luminosa a diferentes distancias a lo largo del eje
óptico.
Figura 3. Esquema de la sección transversal de
un sistema de producción de estructuras ópticas refractivas según
el método de la presente invención, en una configuración básica en
la que un haz luminoso incide sobre el material de partida en
incidencia normal, tras atravesar un substrato transparente.
Se distinguen:
- 1.-
- Cámara.
- 2 y 3.-
- Ventanas transparentes practicadas en la cámara.
- 5.-
- Material de partida.
- 6.-
- Substrato.
- 9.-
- Fuente calefactora.
- 10.-
- Fuente de radiación luminosa.
- 11.-
- Medios de control opto-mecánicos.
Figura 4. Esquema de la sección transversal de
un sistema de producción de estructuras ópticas refractivas según
el método de la presente invención, en una configuración básica en
la que inciden dos haces luminosos sobre el material de partida,
uno con incidencia normal al material de partida, y que atraviesa
el substrato, y un segundo haz luminoso que incide oblicuamente
sobre el material, sin atravesar el substrato.
Se distinguen:
- 1.-
- Cámara.
- 2 y 3.-
- Ventanas transparentes practicadas en la cámara.
- 4.-
- Fuente de radiación luminosa.
- 5.-
- Material de partida.
- 6.-
- Substrato.
- 7.-
- Medios de control opto-mecánicos.
- 8.-
- Espejo.
- 9.-
- Fuente calefactora.
- 10.-
- Fuente de radiación luminosa.
- 11.-
- Medios de control opto-mecánicos.
La presente invención propone un método según la
reivindicación independiente 1 para la fabricación de estructuras
ópticas refractivas de una forma simple y económica y una estructura
óptica con funcionalidad puramente refractiva según la
reivindicación independiente 12, obtenida mediante dicho método.
Este método incluye los siguientes pasos: (a) situar un substrato
(6), que es transparente tanto a la radiación de trabajo a la que va
destinada la estructura óptica fabricada como a la radiación
empleada en la fabricación, próximo a un material de partida (5),
ambos ubicados en el interior de una cámara (1); (b) irradiar el
substrato (6) de forma que la radiación luminosa lo atraviese; (c)
exponer el material de partida (5) a la radiación transmitida a
través del substrato (6), de modo que al incidir la radiación sobre
el material de partida (5) se produzca su evaporación o
sublimación; (d) depositar la fase de vapor del material de partida
(5) sobre el substrato (6); y (e) irradiar el depósito de material
de manera concurrente y uniforme a través del substrato (6) durante
el proceso de deposición, a fin de aumentar la estabilidad de la
estructura óptica a altas intensidades luminosas de trabajo. La
estructura óptica fabricada presenta funcionalidad óptica
refractiva a causa de su composición y perfil, así como un aumento
en el umbral de daño a intensidades luminosas
elevadas.
elevadas.
\newpage
Son objetos de la presente invención:
- a)
- proporcionar un método simple de fabricación de estructuras ópticas con funcionalidad refractiva,
- b)
- proporcionar un método para la fabricación de estructuras ópticas refractivas usando radiación luminosa,
- c)
- proporcionar un método para la fabricación de estructuras ópticas refractivas asféricas,
- d)
- proporcionar un método para la fabricación de estructuras ópticas con funcionalidad refractiva, sin simetría de revolución,
- e)
- proporcionar un método para la fabricación de estructuras ópticas refractivas con extensión de su funcionalidad a altas intensidades luminosas.
La Figura 3 ilustra un escenario preferido según
el método propuesto para la fabricación de estructuras ópticas con
funcionalidad refractiva. Con referencia a esta figura, se sitúan en
una cámara (1) un material de partida (5), y un substrato (6) que
es transparente a la radiación procedente de una fuente de
radiación luminosa (10), y transparente también a la radiación de
trabajo a la que va destinada la estructura óptica que se pretende
fabricar. El haz luminoso procedente de la fuente de radiación
luminosa (10), continua o pulsada, es introducido en la cámara a
través de una ventana (2), y atraviesa el substrato (6) antes de
incidir sobre el material de partida (5), para provocar su
eyección. La generación de esta pluma puede estar asistida por calor
a través de una fuente calefactora (9). La deposición puede estar
también asistida térmicamente mediante el suministro de calor al
substrato, de forma similar a la fuente calefactora (9) (no
representado en la Figura 3). La distribución espacial de
intensidad sobre el material de partida es controlada mediante unos
medios de control opto-mecánicos (11), que consisten
en una combinación de elementos ópticos (lentes, espejos, filtros,
máscaras, moduladores espaciales de luz, de fase y de amplitud) y/o
mecánicos (etapas de posicionamiento lineal, etapas de
posicionamiento angular, moduladores espaciales de luz mecánicos).
La deposición se realiza a presión y atmósfera controladas.
El material de partida (5), ubicado en el
interior de la cámara puede ser un lingote de una aleación
semiconductora, o una pastilla formada a partir del polvo de la
aleación a depositar. La pastilla puede ser una mezcla homogénea o
heterogénea de aleaciones semiconductoras que contengan algún
elemento calcógeno (O, S, Se y/o Te) y otros reactivos, por ejemplo,
Ge, Ga, Si, P, As, Sb, I, Pm, Sm, Eu, Er, que actúen como elementos
tanto pasivos, como activos, para una determinada radiación
luminosa. La aleación amorfa de composición As_{20}S_{80} es el
material de partida empleado en el ejemplo representado en la
Figura 1 de la presente invención. El material de partida está
soportado por medios de soporte mecánicos que le confieren libertad
para moverse en las tres direcciones cartesianas, x, y, z, así como
rotar alrededor de un eje perpendicular a su superficie,
\theta.
El substrato (6) está soportado por medios de
soporte mecánicos que le confieren libertad para moverse en las
tres direcciones cartesianas, x', y', z', así como rotar alrededor
de un eje perpendicular a su superficie, \theta', y alrededor de
un eje paralelo a su superficie, \varphi', de forma no solidaria
con el material de partida.
La Figura 4 ilustra un segundo escenario
preferido según el método propuesto para la fabricación de
estructuras ópticas con funcionalidad refractiva. Con referencia a
esta figura, y de forma similar a lo descrito en la Figura 3, se
sitúan en una cámara (1) con ventanas transparentes (2) y (3), un
material de partida (5), y un substrato (6) que es transparente a la
radiación procedente de una fuente de radiación luminosa (10), y
transparente también a la radiación de trabajo a la que va
destinada la estructura óptica que se pretende fabricar. El haz
luminoso procedente de una primera fuente de radiación luminosa (4)
es introducido en la cámara a través de una ventana (3), tras
incidir en un espejo (8). El espejo (8) está montado sobre etapas de
posicionamiento de traslación y rotación que le confieren grados de
libertad para, en combinación con unos medios de control
opto-mecánicos (7), controlar la distribución de la
intensidad luminosa sobre el material de partida. El haz luminoso
procedente de una segunda fuente de radiación luminosa (10) es
introducido en la cámara a través de una ventana (2), y atraviesa el
substrato (6) antes de incidir sobre el material de partida (5). El
haz procedente de la fuente de radiación luminosa (4) y el haz
procedente de la fuente de radiación luminosa (10) pueden no incidir
sobre la misma zona del material de partida. La distribución
espacial de intensidad sobre el material de partida es controlada
mediante los medios de control opto-mecánicos (7),
que consisten en una combinación de elementos ópticos (lentes,
espejos, filtros, máscaras, moduladores espaciales de luz, de fase y
de amplitud) y/o mecánicos (etapas de posicionamiento lineal,
etapas de posicionamiento angular, moduladores espaciales de luz
mecánicos), y unos medios de control opto-mecánicos
(11), que consisten en una combinación de elementos ópticos (lentes,
espejos, filtros, máscaras, moduladores espaciales de luz, de fase
y de amplitud) y/o mecánicos (etapas de posicionamiento lineal,
etapas de posicionamiento angular, moduladores espaciales de luz
mecánicos). La generación de la pluma puede estar asistida por calor
a través de una fuente calefactora (9). La deposición puede estar
también asistida térmicamente mediante el suministro de calor al
substrato, de forma similar a la fuente calefactora (9) (no
representado en la Figura 4). La deposición se realiza a presión y
atmósfera controladas.
Los sistemas ilustrados en las Figuras 3 y 4
implican la iluminación uniforme del depósito durante su
crecimiento. Tal irradiación uniforme concurrente puede modificar
las propiedades del material en depósito, dependiendo de su
naturaleza y de las características de la radiación luminosa que
incide sobre él. Esto puede producir, por ejemplo, un material más
estable, con un umbral de daño más elevado, y por consiguiente,
extender su funcionalidad a altas intensidades luminosas, como se
ha descrito anteriormente sobre la base de resultados
experimentales.
A continuación se describe un escenario real con
el fin de ilustrar el uso de la presente invención para la
fabricación de un axicon refractivo, estable, y altamente
transparente en el IR. El material de partida, en este caso, es una
pastilla circular de 13 mm de diámetro, formada con 125 mg de el
polvo compactado, durante 10 minutos y con una carga de 10
toneladas, de una aleación calcogenura amorfa de composición
As_{20}S_{80}, que presenta un gap óptico de 2.1 eV. La presión
en la cámara se reduce por debajo de 10^{-4} mbar. La radiación
luminosa procede de un generador láser continuo de Nd:YAG emitiendo
a 532 nm (2.33 eV), con una potencia de 400 mW. El haz láser induce
la eyección del material de partida, mediante la ablación de la
superficie de la pastilla, generando una distribución de la fase de
vapor en forma de huso (pluma), que es perpendicular a la
superficie irradiada de la pastilla. El substrato transparente se
ubica en la cámara, en el camino del haz luminoso, a 2 mm del
material de partida, de forma que el haz cruza ambas caras del
substrato antes de incidir sobre el material de partida. Sobre la
cara del substrato enfrentada al material de partida, se condensa la
fase de vapor de este material, presentando una distribución
espacial asférica sobre su superficie, que realiza una función
óptica como la ilustrada en la Figura 1.
Las condiciones del sistema pueden ajustarse
para el depósito de un perfil de espesor tanto uniforme como
variable, concentrado en una región localizada del substrato, o bien
extendido de forma arbitraria sobre él. El área cubierta por el
depósito y los perfiles de espesor pueden controlarse desplazando
el haz luminoso sobre la superficie del material de partida y/o el
substrato, vía las etapas de posicionamiento que confieren los
grados de libertad x, y, z, \theta, x', y', z', \theta',
\varphi', respectivamente, al material de partida, y al substrato,
que aparecen esquematizadas en las Figuras 3 y 4.
Claims (12)
1. Método para la fabricación de estructuras
ópticas con funcionalidad puramente refractiva,
caracterizado porque comprende las siguientes fases
operativas:
(a) situar un substrato (6), que es transparente
tanto a la radiación de trabajo a la que va destinada la estructura
óptica fabricada como a la radiación empleada en la fabricación,
próximo a un material de partida (5), ambos ubicados en el interior
de una cámara (1);
(b) irradiar el substrato (6) de forma que la
radiación luminosa lo atraviese;
(c) exponer el material de partida (5) a la
radiación transmitida a través del substrato (6), de modo que al
incidir la radiación sobre el material de partida (5) se produzca su
evaporación o sublimación;
(d) depositar la fase de vapor del material de
partida (5) sobre el substrato (6);
(e) irradiar el depósito de material de manera
concurrente y uniforme a través del substrato (6) durante el
proceso de deposición, a fin de aumentar la estabilidad de la
estructura óptica a altas intensidades luminosas de trabajo.
2. Método para la fabricación de estructuras
ópticas con funcionalidad puramente refractiva según reivindicación
1, caracterizado porque la radiación luminosa implicada en el
proceso es continua o pulsada.
3. Método para la fabricación de estructuras
ópticas con funcionalidad puramente refractiva según
reivindicaciones 1 y 2, caracterizado porque la radiación
luminosa implicada en el proceso es monocromática o
policromática.
4. Método para la fabricación de estructuras
ópticas con funcionalidad puramente refractiva según
reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque la radiación
luminosa implicada en el proceso es coherente o incoherente.
5. Método para la fabricación de estructuras
ópticas con funcionalidad puramente refractiva según
reivindicaciones 1 a 4, caracterizado porque el material de
partida (5) es un lingote o una pastilla formada a partir del polvo
prensado del material a depositar.
6. Método para la fabricación de estructuras
ópticas con funcionalidad puramente refractiva según
reivindicaciones 1 a 5, caracterizado porque el material de
partida (5) es una mezcla homogénea o heterogénea de aleaciones
semiconductoras que contengan algún elemento calcógeno (O, S, Se
y/o Te) y otros reactivos, que actúen como elementos tanto pasivos,
como activos, para una determinada radiación luminosa.
7. Método para la fabricación de estructuras
ópticas con funcionalidad puramente refractiva según
reivindicaciones 1 a 6, caracterizado porque el proceso se
realiza a presión y atmósfera controladas.
8. Método para la fabricación de estructuras
ópticas con funcionalidad puramente refractiva según
reivindicaciones 1 a 7, caracterizado porque la fase de vapor
o plasma presente en el proceso procede de la evaporación y/o
sublimación del material de partida (5) mediante la acción conjunta
del calentamiento y la radiación luminosa.
9. Método para la fabricación de estructuras
ópticas con funcionalidad puramente refractiva según
reivindicaciones 1 a 8, caracterizado porque la temperatura
del substrato (6) es diferente de la temperatura ambiente.
10. Método para la fabricación de estructuras
ópticas con funcionalidad puramente refractiva según
reivindicaciones 1 a 9, caracterizado porque la estructura
óptica refractiva fabricada presenta una función óptica que es la
correspondiente a una lente asférica de tipo axicónico.
11. Método para la fabricación de estructuras
ópticas con funcionalidad puramente refractiva según cualquiera de
las reivindicaciones 1 a 10, caracterizado porque las caras
enfrentadas del material de partida (5) y el substrato (6) son
paralelas.
12. Estructura óptica con funcionalidad
puramente refractiva obtenida mediante el método según cualquiera
de las reivindicaciones 1 a 11.
Priority Applications (5)
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| ES200600592A ES2299335B2 (es) | 2006-03-09 | 2006-03-09 | Metodo para la fabricacion de estructuras opticas con funcionalidad puramente refractivas. |
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